JP7240956B2 - 真空処理装置 - Google Patents
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- 真空チャンバと、この真空チャンバ内に設けられてシート状の基材を移送させる基材移送手段とを備える真空処理装置において、
真空チャンバ内に、その内部と隔絶されると共に、間隔を存して配置される一対のガイドローラを有して両ガイドローラ間を移送されるシート状の基材の部分に対する真空処理を可能とする処理空間を有し、
両ガイドローラの間でシート状の基材の部分が移送される方向を上下方向、上下方向に直交する方向を左右方向、真空チャンバの壁面からその内方に向かう方向を前後方向として、
処理空間は、左右方向に間隔を置いて設けられ、ガイドローラを軸支する左右一対のローラプレートと、ローラプレートの前端側に設けられる枠体と、枠体の上枠部と下枠部とに沿って夫々設けられて、ガイドローラの外筒面を部分的に囲うと共に、シート状の基材の通過を許容するスリット孔が設けられた上下一対のローラケーシングと、シート状の基材の部分に対して真空処理を施す処理ユニットが設けられるベースプレートとで画成され、
枠体がこれに対向する真空チャンバの壁部に近接配置され、この壁部が開閉可能に形成されることを特徴とする真空処理装置。 - 前記処理ユニットは、シート状の基材に対してボンバード処理するための電極を有することを特徴とする請求項1記載の真空処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2019101481A JP7240956B2 (ja) | 2019-05-30 | 2019-05-30 | 真空処理装置 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20050011747A1 (en) | 2003-06-26 | 2005-01-20 | Venkat Selvamanickam | Apparatus for consecutive deposition of high-temperature superconducting (HTS) buffer layers |
JP2006104494A (ja) | 2004-09-30 | 2006-04-20 | Canon Anelva Corp | 表面処理装置 |
JP2015206576A (ja) | 2014-04-23 | 2015-11-19 | 旭硝子株式会社 | 脱ガス装置 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3208639B2 (ja) * | 1995-03-10 | 2001-09-17 | ヒラノ光音株式会社 | 連続シート状材料の表面処理方法及び表面処理装置 |
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JP4763165B2 (ja) * | 2001-07-19 | 2011-08-31 | ヒラノ光音株式会社 | 連続シート状材料の表面処理装置及びそのガスシール構造 |
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2019
- 2019-05-30 JP JP2019101481A patent/JP7240956B2/ja active Active
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JP2020193388A (ja) | 2020-12-03 |
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