JP2013139621A - 搬送製膜装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】搬送中の薄板長尺体の基材に所定の処理を行って、基材表面に薄膜を形成する搬送製膜装置であって、軸回りに回転可能なロールを有し、そのロールの外周面に前記基材が軸方向に所定の間隔で複数回巻き付けられることにより、前記基材が複数列並んだ基材並走部を形成するローラ部と、前記基材並走部に対向して配置され、薄膜を形成する材料を供給する材料供給部と、を備えており、前記材料供給部は、前記基材並走部の複数の基材に対して共通に設けられることにより、基材が同一の材料供給部を複数回通過する構成とする。
【選択図】図1
Description
図1及び図2に示すように、搬送製膜装置は、基材送出リール10と、基材巻取リール20と、製膜処理部30とを有しており、基材送出リール10に巻回された基材2が製膜処理部30を通過することにより基材2上に太陽電池セル4を形成する表面処理が行われ(製膜処理が行われ)、基材巻取リール20に巻き取られることにより、ロール状の太陽電池セル母材4’が形成される。すなわち、基材送出リール10から基材巻取リール20に基材2が連続的に搬送される、いわゆるロール トゥ ロールにより、基材2上に太陽電池に必要な薄膜が積層されて太陽電池セル母材4’が形成される。この太陽電池セル母材4’は、後工程である切断工程により、図9(b)に示す短冊状の太陽電池セル4が形成され、さらに接合工程を経ることにより、太陽電池セル4同士が短手方向に配列して接合された太陽電池モジュール1が形成される(図9(a))。
ここで、ネルソンロールとして使用される主ロール50aと副ロール50bとの位置関係は、この主ロール50aの回転軸と副ロール50bの回転軸とがねじれの位置関係になるように配置されている。このねじれの位置関係とは、それぞれの回転軸が、互いに平行でなく、かつ、交わっていない場合をいい、回転軸同士が同一平面上にない状態をいう。
4 太陽電池セル
5 ローラ部
6 材料供給部
10 基材送出リール
20 基材巻取リール
21 基材並走部
30 製膜処理部
31 チャンバー
50 ロール
Claims (6)
- 搬送中の薄板長尺体の基材に所定の処理を行って、基材表面に薄膜を形成する搬送製膜装置であって、
軸回りに回転可能なロールを有し、そのロールの外周面に前記基材が軸方向に所定の間隔で複数回巻き付けられることにより、前記基材が複数列並んだ基材並走部を形成するローラ部と、
前記基材並走部に対向して配置され、薄膜を形成する材料を供給する材料供給部と、
を備えており、
前記材料供給部は、前記基材並走部の複数の基材に対して共通に設けられることにより、基材が同一の材料供給部を複数回通過することにより基材の表面に薄膜が形成されることを特徴とする搬送製膜装置。 - 前記ローラ部には、ネルソンロールが用いられることを特徴とする請求項1に記載の搬送製膜装置。
- 前記基材並走部の複数の基材と前記材料供給部とは、前記材料供給部の中心線を対称軸として線対称に配置されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の搬送製膜装置。
- 前記材料供給部は、前記基材並走部の基材配列方向に複数配置されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の搬送製膜装置。
- 前記材料供給部は、前記基材並走部の基材走行方向に複数配置されていることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の搬送製膜装置。
- 前記ロールの外周面には、複数本の基材が巻き付けられていることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の搬送製膜装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012156314A JP2013139621A (ja) | 2011-12-09 | 2012-07-12 | 搬送製膜装置 |
PCT/JP2012/077184 WO2013084604A1 (ja) | 2011-12-09 | 2012-10-22 | 搬送製膜装置 |
TW101141486A TW201323310A (zh) | 2011-12-09 | 2012-11-08 | 運送製膜裝置 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011270465 | 2011-12-09 | ||
JP2011270465 | 2011-12-09 | ||
JP2012156314A JP2013139621A (ja) | 2011-12-09 | 2012-07-12 | 搬送製膜装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013139621A true JP2013139621A (ja) | 2013-07-18 |
Family
ID=48573987
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012156314A Pending JP2013139621A (ja) | 2011-12-09 | 2012-07-12 | 搬送製膜装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2013139621A (ja) |
TW (1) | TW201323310A (ja) |
WO (1) | WO2013084604A1 (ja) |
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- 2012-07-12 JP JP2012156314A patent/JP2013139621A/ja active Pending
- 2012-10-22 WO PCT/JP2012/077184 patent/WO2013084604A1/ja active Application Filing
- 2012-11-08 TW TW101141486A patent/TW201323310A/zh unknown
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Publication number | Publication date |
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TW201323310A (zh) | 2013-06-16 |
WO2013084604A1 (ja) | 2013-06-13 |
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