JPH0719369B2 - 磁気記録媒体及びその製造法 - Google Patents
磁気記録媒体及びその製造法Info
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- JPH0719369B2 JPH0719369B2 JP59016002A JP1600284A JPH0719369B2 JP H0719369 B2 JPH0719369 B2 JP H0719369B2 JP 59016002 A JP59016002 A JP 59016002A JP 1600284 A JP1600284 A JP 1600284A JP H0719369 B2 JPH0719369 B2 JP H0719369B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は磁気記録媒体及びその製造法に係り、特に金属
薄膜型の磁気記録媒体及びその製造法に関するものであ
る。
薄膜型の磁気記録媒体及びその製造法に関するものであ
る。
磁気記録媒体において、高密度記録が行なえるようにす
るには、磁気記録媒体の磁気特性中保磁力の高いことが
必要である。この為、例えば蒸着法による手段で磁性膜
を構成する金属薄膜型磁気記録媒体の製造に際しては、
磁性粒子の蒸気流が非磁性基材に対して傾いた状態で入
射して着膜されるようにし、これによつて高保磁力の磁
性薄膜が形成されるようにしている。
るには、磁気記録媒体の磁気特性中保磁力の高いことが
必要である。この為、例えば蒸着法による手段で磁性膜
を構成する金属薄膜型磁気記録媒体の製造に際しては、
磁性粒子の蒸気流が非磁性基材に対して傾いた状態で入
射して着膜されるようにし、これによつて高保磁力の磁
性薄膜が形成されるようにしている。
しかし、このような斜目蒸着法は、できるだけ高保磁力
の磁性薄膜を得ようとするにはできるだけ前記の傾き角
を大きくしなければならず、このように傾き角を大きく
すると磁性薄膜の成膜能率が著しく低下し、生産性が悪
くなるといつた致命的欠点がある。
の磁性薄膜を得ようとするにはできるだけ前記の傾き角
を大きくしなければならず、このように傾き角を大きく
すると磁性薄膜の成膜能率が著しく低下し、生産性が悪
くなるといつた致命的欠点がある。
そこで、小さな入射角（傾き角）でも高保磁力の磁性薄
膜を得ることのできる研究が行なわれ、例えば多層膜化
による手段あるいは蒸着時に酸素ガス導入による手段等
が提案されている。
膜を得ることのできる研究が行なわれ、例えば多層膜化
による手段あるいは蒸着時に酸素ガス導入による手段等
が提案されている。
これらの手段のうち多層膜化による手段は、工程上及び
装置上複雑なものであるが故に低コスト化といつた目的
からは問題があり、又、酸素ガス導入法も保磁力向上効
果は約40％位のアツプにしかならず、かつ入射角が小さ
な場合には保磁力向上効果は小さく、さらには酸素ガス
導入量が多すぎると保磁力は低下するといつた問題があ
る。
装置上複雑なものであるが故に低コスト化といつた目的
からは問題があり、又、酸素ガス導入法も保磁力向上効
果は約40％位のアツプにしかならず、かつ入射角が小さ
な場合には保磁力向上効果は小さく、さらには酸素ガス
導入量が多すぎると保磁力は低下するといつた問題があ
る。
本発明者は、磁性粒子の蒸着成膜に際して、磁性材料の
みを蒸発させるのではなく、同時にWO3をも蒸発させる
と、出来た磁性膜中にはタングステン酸化物が含まれる
ようになり、このような磁性膜の磁気記録媒体は、角型
比及び保磁力、特に保磁力といつた磁気特性が極めて優
れたものであることを見い出した。
みを蒸発させるのではなく、同時にWO3をも蒸発させる
と、出来た磁性膜中にはタングステン酸化物が含まれる
ようになり、このような磁性膜の磁気記録媒体は、角型
比及び保磁力、特に保磁力といつた磁気特性が極めて優
れたものであることを見い出した。
すなわち、磁性膜中におけるタングステン酸化物WOx
（但し、ｘは０＜ｘ≦３の条件を満たす数）成分が、Ｗ
量に換算して約３〜30Wt％の場合、特に望ましくは約1
2.8Wt％前後の場合には保磁力が向上し、例えばＷ換算
量が約12.8Wt％の場合には保磁力が約2.2倍にもなると
いつたように、酸素ガス導入法の場合より格段に優れて
いる。
（但し、ｘは０＜ｘ≦３の条件を満たす数）成分が、Ｗ
量に換算して約３〜30Wt％の場合、特に望ましくは約1
2.8Wt％前後の場合には保磁力が向上し、例えばＷ換算
量が約12.8Wt％の場合には保磁力が約2.2倍にもなると
いつたように、酸素ガス導入法の場合より格段に優れて
いる。
又、例えばＷ換算量で約12.8Wt％といつた程度WOxを磁
性膜中に含んでいても、角型比の低下は少なく、酸素ガ
ス導入法の場合において生じる低下とほとんど同程度に
すぎず、角型比といつた磁気特性も良好である。
性膜中に含んでいても、角型比の低下は少なく、酸素ガ
ス導入法の場合において生じる低下とほとんど同程度に
すぎず、角型比といつた磁気特性も良好である。
さらに、WO3を磁性材料と共蒸着することによつて磁性
膜を構成し、磁気記録媒体を製造する方法は、従来のフ
イルム送り機構を備えた蒸着装置を用いて実施でき、す
なわち磁気記録媒体製造用の装置を新たに用意する必要
はなく、従つて低コストで実施できるものとなる。
膜を構成し、磁気記録媒体を製造する方法は、従来のフ
イルム送り機構を備えた蒸着装置を用いて実施でき、す
なわち磁気記録媒体製造用の装置を新たに用意する必要
はなく、従つて低コストで実施できるものとなる。
しかも、入射角が小さくても高保磁力の磁性膜が得ら
れ、すなわち生産性を犠牲にしなくても高保磁力の磁性
膜が得られるようになる。
れ、すなわち生産性を犠牲にしなくても高保磁力の磁性
膜が得られるようになる。
第１図は、本発明に係る磁気記録媒体の製造装置の概略
説明図である。
説明図である。
同図中、１は真空チヤンバー、２は、例えばCo−Ni（8
0:20）合金等の磁性材３をセツトした容器であり、この
容器２内の磁性材３は電子ビーム加熱装置で蒸発させら
れるようになつており、又、４は、WO35をセツトした容
器であり、この容器４内のWO35はボート抵抗加熱によつ
て蒸発させられるようになつている。
0:20）合金等の磁性材３をセツトした容器であり、この
容器２内の磁性材３は電子ビーム加熱装置で蒸発させら
れるようになつており、又、４は、WO35をセツトした容
器であり、この容器４内のWO35はボート抵抗加熱によつ
て蒸発させられるようになつている。
６は遮蔽板、７は蒸発モニター、８は非磁性の基板材で
あり、磁性材３及びWO35の蒸発粒子が矢印方向に移動す
る基板材８面にクーリンギキヤン上で蒸着するようにな
つている。
あり、磁性材３及びWO35の蒸発粒子が矢印方向に移動す
る基板材８面にクーリンギキヤン上で蒸着するようにな
つている。
このような装置を用いて、真空チヤンバー１内を５×10
-5torr以下に保持し、そしてCo−Ni磁性合金を例えば約
1800〜2000℃に加熱し、50〜1000Å/sの蒸発速度でCo−
Ni磁性合金を蒸発させると共に、WO3を、例えば800〜15
00℃に加熱し、10〜150Å/sの蒸発速度でWO3を蒸発さ
せ、90゜から始まつて45゜で終る入射角で入射する蒸気
流の着膜によつて磁性膜を基板材上に、例えば約1500Å
厚構成する。
-5torr以下に保持し、そしてCo−Ni磁性合金を例えば約
1800〜2000℃に加熱し、50〜1000Å/sの蒸発速度でCo−
Ni磁性合金を蒸発させると共に、WO3を、例えば800〜15
00℃に加熱し、10〜150Å/sの蒸発速度でWO3を蒸発さ
せ、90゜から始まつて45゜で終る入射角で入射する蒸気
流の着膜によつて磁性膜を基板材上に、例えば約1500Å
厚構成する。
上記のようにして製造された磁気記録媒体の保磁力Hc及
び角型比Rsが磁性膜中のWOxの量（WO3に対する加熱温度
のコントロールによりWO3の蒸発速度が変化し、従つてC
o−Ni合金とWOxとの割合を調整）によつてどのようにな
るかを求めると、第２図及び第３図に示す通りである。
尚、これらのグラフにおいては、Hc及びRs共に、WOxの
含有割合で直接示したものではなく、WOxのＷ換算で示
す。
び角型比Rsが磁性膜中のWOxの量（WO3に対する加熱温度
のコントロールによりWO3の蒸発速度が変化し、従つてC
o−Ni合金とWOxとの割合を調整）によつてどのようにな
るかを求めると、第２図及び第３図に示す通りである。
尚、これらのグラフにおいては、Hc及びRs共に、WOxの
含有割合で直接示したものではなく、WOxのＷ換算で示
す。
これによれば、金属薄膜型磁気記録媒体の製造に際し
て、金属磁性材のみを蒸発させるのではなく、同時にWO
3をも蒸発させ、共蒸着させ、磁性膜中にWOxを含ませる
ことによつて、保磁力の著しい向上を得ることがわか
る。
て、金属磁性材のみを蒸発させるのではなく、同時にWO
3をも蒸発させ、共蒸着させ、磁性膜中にWOxを含ませる
ことによつて、保磁力の著しい向上を得ることがわか
る。
尚、第２図及び第３図からわかるように、磁性膜中にWO
xが含まれる割合は、Ｗ換算で約３〜30Wt％、最も望ま
しくは約12.8Wt％前後であることが好ましい。
xが含まれる割合は、Ｗ換算で約３〜30Wt％、最も望ま
しくは約12.8Wt％前後であることが好ましい。
尚、上記実施例では斜目蒸着の場合で説明しているが、
WO3を用いて共蒸着させることによる保磁力向上は、斜
目蒸着ではなく平面（入射角０゜）蒸着の場合でも認め
られる。すなわち、平面蒸着において、WO3を用いない
場合にはHcが約50〜150エルステツドにすぎないのが、W
O3を用いることによつてHcが約300〜400エルステツドに
もなる。
WO3を用いて共蒸着させることによる保磁力向上は、斜
目蒸着ではなく平面（入射角０゜）蒸着の場合でも認め
られる。すなわち、平面蒸着において、WO3を用いない
場合にはHcが約50〜150エルステツドにすぎないのが、W
O3を用いることによつてHcが約300〜400エルステツドに
もなる。
WO3を主成分とするタングステン酸化物を含む磁気記録
媒体は、保磁力といつた磁気特性が著しく向上し、高密
度記録に適している。
媒体は、保磁力といつた磁気特性が著しく向上し、高密
度記録に適している。
WO3を共蒸着させる磁気記録媒体製造法は、従来の製造
装置の大巾な改変なくして実施でき、それだけ低コスト
で行なえる。
装置の大巾な改変なくして実施でき、それだけ低コスト
で行なえる。
又、蒸着に際しての蒸気流の入射角が低い場合でも保磁
力向上効果は大きく、比較的低い入射角でも充分であ
り、従つて生産性も良い。
力向上効果は大きく、比較的低い入射角でも充分であ
り、従つて生産性も良い。
第１図は本発明に係る磁気記録媒体の製造装置の概略説
明図、第２図及び第３図は本発明に係る磁気記録媒体の
特性を示すグラフである。 ３……磁性材、５……WO3。
明図、第２図及び第３図は本発明に係る磁気記録媒体の
特性を示すグラフである。 ３……磁性材、５……WO3。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き 審判の合議体 審判長 堀 泰雄 審判官 大黒 浩之 審判官 増山 剛 (56)参考文献 特開 昭57−194505（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−29（ＪＰ，Ａ) 特公 昭39−26633（ＪＰ，Ｂ１)
Claims (2)
- 【請求項１】磁性膜中にWO3を主成分とするタングステ
ン酸化物を含有してなり、前記タングステン酸化物の含
有量がタングステン量換算で約３〜30wt％であることを
特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項２】磁性膜中にWO3を主成分とするタングステ
ン酸化物を含有してなり、前記タングステン酸化物の含
有量がタングステン量換算で約３〜30wt％であることを
特徴とする磁気記録媒体の製造法であって、蒸発源に磁
性材とWO3とをセットしてベーパーデポジションするこ
とを特徴とする磁気記録媒体の製造法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59016002A JPH0719369B2 (ja) | 1984-02-02 | 1984-02-02 | 磁気記録媒体及びその製造法 |
| KR1019850000206A KR900001141B1 (ko) | 1984-02-02 | 1985-01-15 | 자기 기록매체 및 그 제조방법 |
| US06/696,581 US4626480A (en) | 1984-02-02 | 1985-01-30 | Magnetic recording medium comprising a vacuum-deposited magnetic film of a magnetic material and a tungsten oxide and method for making the same |
| DE19853503309 DE3503309A1 (de) | 1984-02-02 | 1985-01-31 | Magnetisches aufzeichnungsmedium mit einer im vakuum abgeschiedenen magnetschicht aus einem magnetisierbaren material und einem wolframoxid und verfahren zur herstellung des mediums |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59016002A JPH0719369B2 (ja) | 1984-02-02 | 1984-02-02 | 磁気記録媒体及びその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60163233A JPS60163233A (ja) | 1985-08-26 |
| JPH0719369B2 true JPH0719369B2 (ja) | 1995-03-06 |
Family
ID=11904411
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59016002A Expired - Lifetime JPH0719369B2 (ja) | 1984-02-02 | 1984-02-02 | 磁気記録媒体及びその製造法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4626480A (ja) |
| JP (1) | JPH0719369B2 (ja) |
| KR (1) | KR900001141B1 (ja) |
| DE (1) | DE3503309A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
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| JPH04147435A (ja) * | 1990-10-11 | 1992-05-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 真空蒸着方法 |
| US6251496B1 (en) * | 1997-12-16 | 2001-06-26 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic recording medium method and apparatus for producing the same |
| JP2004348830A (ja) * | 2003-05-21 | 2004-12-09 | Samsung Electronics Co Ltd | 微細構造描画用多層構造体と描画方法、及びそれを利用した光ディスクの原盤作製方法及びマスタリング方法 |
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|---|---|---|---|---|
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| JPS6035733B2 (ja) * | 1977-09-19 | 1985-08-16 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録体 |
| DE2801452C2 (de) * | 1978-01-13 | 1985-03-28 | Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen | Magnetisches Aufzeichnungsmaterial |
| JPS5629A (en) * | 1979-06-15 | 1981-01-06 | Ulvac Corp | Vacuum-evaporated film type magnetic recording substance and its manufacture |
| US4367257A (en) * | 1980-04-16 | 1983-01-04 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Thin magnetic recording medium |
| JPS56165932A (en) * | 1980-05-26 | 1981-12-19 | Tdk Corp | Production of magnetic recording medium |
| JPS5737737A (en) * | 1980-08-15 | 1982-03-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | Magnetic recording medium |
| JPS5774828A (en) * | 1980-10-24 | 1982-05-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | Magnetic recording medium |
| JPS5798133A (en) * | 1980-12-05 | 1982-06-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording medium |
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| JPS57143729A (en) * | 1981-02-27 | 1982-09-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | Magnetic recording medium |
| JPS57183004A (en) * | 1981-05-07 | 1982-11-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | Magnetically recording medium |
| JPS57194505A (en) * | 1981-05-26 | 1982-11-30 | Nippon Gakki Seizo Kk | Magnetic recording tape |
| DE3210351A1 (de) * | 1982-03-20 | 1983-09-22 | Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln | Verfahren und vorrichtung zum herstellen von magnetischen aufzeichnungsschichten |
| DE3278980D1 (en) * | 1982-04-30 | 1988-10-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording medium |
-
1984
- 1984-02-02 JP JP59016002A patent/JPH0719369B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1985
- 1985-01-15 KR KR1019850000206A patent/KR900001141B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1985-01-30 US US06/696,581 patent/US4626480A/en not_active Expired - Fee Related
- 1985-01-31 DE DE19853503309 patent/DE3503309A1/de active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4626480A (en) | 1986-12-02 |
| JPS60163233A (ja) | 1985-08-26 |
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