JPS61194626A - 磁気記録媒体及びその製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、磁気記録媒体、特に金属薄膜型の磁気記録媒
体及びその製造法に関するものである。

〔従来技術とその問題点〕

磁気記録媒体において、高密度記録が行なえるようにす
るには、磁気記録媒体の磁気特性生保磁力の高いことが
必要である。この為、例えば蒸着法による手段で磁性膜
を構成する金属薄膜型磁気記録媒体の製造に際しては、
磁性粒子の蒸気流が非磁性基材に対して傾いた状態で入
射して着膜されるようにし、これによって高保磁力の磁
性薄膜が形成されるようにしている。

しかし、このような科目蒸着法は、できるだけ高保磁力
の磁性薄膜を得ようとするにはできるだけ前記の傾き角
を大きくしなければならず、このように傾き角を大きく
すると磁性薄膜の成膜能率が著しく低下し、生産性が悪
くなるといった致命的欠点がある。

そこで、小さな入射角（傾き角）でも高保磁力の磁性薄
膜を得ることのできる研究が行なわれ、例えば多層膜化
による手段あるいは蒸着時に酸素ガス導入による手段等
が提案されている。

これらの手段のうち多層膜化による手段は、工程上及び
装置上複雑なものであるが故に低コスト化といった目的
からは問題があり、又、酸素ガス導入法も保磁力向上効
果は多少のアップにしかならず、かつ入射角が小さな場
合には保磁力向上効果は小さく、さらＦζは酸素ガス導
入量が多すぎると保磁力は低下するといった問題がある
。

又、上記のような手段で保磁力向上を図った磁気記録媒
体は、その磁性膜の耐食性が逆に劣下したものとなって
いるといった大きな問題がある。

〔発明の開示〕

本発明者は、磁気記録媒体の磁性膜をコバルト合金磁性
膜で構成した場合、この磁性膜中にクロムが約５．５〜
１５Ｗｔ％、ニッケルが約８〜２０Ｗｔ％、より一層好
ましくはクロムはその酸化度が約５０％以下であって、
しかも８〜１２Ｗｔ％、ニッケルが約１１〜１７Ｗｔ％
含まれている場合には、その磁性膜の保磁力は高く、耐
食性も良いものであることを見い出した。

例えば、クロムの酸化度が約４８％であって、このクロ
ムの含有量が１０Ｗｔ％、ニッケルの含有量が１４Ｗｔ
％のコバルト・ニッケル・クロム合金磁性膜は、酸素ガ
ス導入手段で構成したコバルト・ニッケル合金磁性膜（
Ｃｏ：Ｎ１＝８０：２０）と比べてその保磁力が約２３
％も向上し、かつ磁化減少率が約１以下とその耐食性も
著しく向上し、又、通常のコバルト・ニッケル合金磁ｔ
ｌ［（Ｃｏ　：　Ｎｔ＝ｇｏ：２ｏ）と比べてその保磁
力が約２．５倍にも向上し、かつ磁化減少率が約■とそ
の耐食性も向上するといったように、その磁気特性及び
耐食性に優れているのである。

そして、このよ、うな高保磁力及び高耐食性のコバルト
・ニッケル・クロム合金磁性膜を得るには、真空蒸着法
、スパッタリングといったフィジカルベーパーデポジシ
ョン法によって得られるのであるが、この際蒸発源物質
としてコバルト・ニッケル・クロム合金ヲ用い、かつベ
ーパーデポジション中においてクロムの蒸発速度がコバ
ルト及ヒニッケルの蒸発速度より数倍大きいことから例
えばクロムの蒸発速度を原子吸光式蒸発モニターで観察
して蒸発源部、特に蒸発面部（蒸発表面）にクロム系金
属、特にクロム系合金（例えばＣｏ−Ｎｉ−Ｃｒ合金）
を供給しながらペーパーデポジションを行なうことが大
事であり、又、クロムの酸化度が約５０％以下であって
、かつその含有量が約５．５〜１５Ｗｔ％、ニッケルの
含有量が約８〜２０Ｗｔ％であるように成膜するには、
例えばフィジカルペーパーデポジションをその酸素分圧
が１．５　Ｘ　１０−５Ｔｏｒｒ以下の条件で行なうこ
とが望ましい。

〔実施例〕

第１図は、本発明に係る磁気記録媒体を製造する為に用
いた製造装置の概略説明図である。

同図中、１は真空チャンバー、２は電子ビーム発生装置
、３はルツボ、４はルツボ３に例えばＣ。

−Ｎｉ　−Ｃｒ　（７６：１４：１０　）合金５を供給
する治具であって、ルツボ３に供給されたＣｏ−Ｎｉ−
Ｃｒ合金は電子ビーム発生装置よりの電子ビームで加熱
蒸発させられるようになっている。

又、６は遮蔽板、７は蒸発モニター、８は非磁性基板材
であり、蒸発したＣｏ−Ｎｉ−Ｃｒ合金粒子・が矢印方
向に移動する非磁性基板材８の面にクーリングキャン上
で蒸着するようになっている。

上記のような装置を用いて、真空チャンバー１内をＩ　
Ｘ　１０−５Ｔｏｒｒ以下の高真空度のものになし、そ
して電子ビーム発生装置２でＣｏ　−Ｎ　ｉ　−Ｃｒ　
（７６：１４：１０）合金５を例えば１８００〜２００
０℃に加熱し、そして、蒸発組成が常に一定になるよう
ＣｒがリッチなＣｏ　−Ｎ　ｉ　−Ｃｒ合金を蒸発面部
に供給しながら５０〜１０００人／Ｓの蒸発速度でＣｏ
−Ｎｉ−Ｃｒ合金を蒸発させ、９０°から始まって５０
°で終る入射角で入射する蒸気流の着膜によって、例え
ば１５００　Ａ厚のＣｏ−Ｎｉ−Ｃｒ合金磁性膜を非磁
性基板材８面上に構成して磁気記録媒体を得る。

尚、このようにして得られた磁気記録媒体のコバルト・
ニッケル・クロム合金磁性膜をｘＰＳ分折すると、磁性
膜中のクロムの酸化度は５０％以下のものである。

上記のようにして得られた磁気記録媒体において、コバ
ルト・ニッケル・クロム合金磁性膜中のＣｒ含有量と磁
性膜の 保磁力Ｈｃとの関係を調べると、第２図に示す通りであ
る。

これによれば、Ｃｒが含まれることによって保磁力の向
上が図れており、特にＣｒの含有割合が約５．５〜１５
Ｗｔ％、より一層好ましくは約８〜１２Ｗｔ％の場合に
は保磁力の向上が著しく良くなっている。

そして、上記第２図かられかるように保磁力Ｈｅが略ビ
ーク値を示すＣｒ含有量が１０Ｗｔ％の場合において、
磁性膜の保磁力ＨｃがＮｉ含有量によってどのような影
響を受けるかを調べると、第３図に示す通りである。

これによれば、Ｎｉ含有量が少ない場合には、ＨｃがＮ
ｉ含有量によらずそれ程変化していないのであるが、約
ＳＷｔ％を越えるとＨｅが急激に高くなり始め、そして
約１４Ｗｔ％程度で最高値を示していることがわかり、
従ってＮｉ含有量は約８〜２０Ｗｔ％、より望ましくは
約１１〜１７Ｗｔ％であることが好ましいものである。

又、上記で得た磁気記録媒体（Ｃｒ１０Ｗｔ％）を温度
６０℃、湿度９０％雰囲気下に１６０時間放置し、磁化
減少率を測定して耐食性を調べると第４図に示す通りで
ある。

これによればＮｉ含有量が増すにつれて磁化減少率は小
さく、耐食性に優れていることがわかる。

これに対して、従来のＣｏ−Ｎｉ　（８０：２０）合金
磁性膜の磁気記録媒体は、その保磁力が３９０エルステ
ツドにすぎず、又、耐食性テストにおける磁化減少率は
１９％と大きく、又、酸素ガス導入法で得たＣｏ−Ｎｉ
　（８０：２０）合金磁性膜の磁気記録媒体は、その保
磁力が７８０エルステツドと本発明の場合と同様）Ｃ向
上するものの、耐食性テストにおける磁化減少率は２８
％と極めて大きく、耐食性が著しく劣っている。

〔効果〕

保磁力等の磁気特性及び耐食性に優れたものであり、又
、このような高性能な磁気記録媒体を簡単に得ることが
出来る。

又、製造に際して、高価なＥＢ蒸発源が−っででき、し
かも製造装置は従来のものを使用でき、製造コストも低
置である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る磁気記録媒体を得る為の製造装置
の概略説明図、第２図〜第４図は本発明に係る磁気記録
媒体の特性を示すグラフである。 １・・・真空チャンバー、２・・・電子ビーム発生装置
。 特許出願人　　日本ビクター株式会社 才　１　図 責￥饗＋Ａ＠−＊

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）磁性膜が、約５．５〜１５Ｗｔ％のクロム、約８
   〜２０Ｗｔ％のニッケルを含むコバルト系合金よりなる
   ことを特徴とする磁気記録媒体。
2. （２）特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体におい
   て、クロムの酸化度が約５０％以下であるもの。
3. （３）蒸発源物質としてコバルト・ニッケル・クロム系
   合金を用い、前記コバルト、ニッケル・クロム系合金よ
   りフィジカルペーパーデポジション手段によりコバルト
   、ニッケル、クロム系合金磁性膜を形成するに際して、
   この磁性膜中におけるクロムの酸化度が約５０％以下の
   ものであるよう、かつクロムの含有割合が約５．５〜１
   ５Ｗｔ％であつて、しかもニッケルの含有割合が約８〜
   ２０Ｗｔ％であるよう蒸発源部にクロム系金属を供給し
   ながらフィジカルペーパーデポジションを行なうことを
   特徴とする磁気記録媒体製造法。