DE2655870C2 - - Google Patents
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines
direktpositiven Bildes aus einem direktpositiven silberhalogenidhaltigen
Aufzeichnungsmaterial, dessen Silberhalogenid
überwiegend innenkornempfindlich ist, durch Belichten
und Entwickeln in Gegenwart einer heterocyclischen quaternären
Verbindung als Verschleierungsmittel.
Es sind bereits verschiedene Verfahren zur Herstellung eines direktpositiven
Bildes aus einem direktpositiven silberhalogenidhaltigen
Aufzeichnungsmaterial, dessen Silberhalogenid überwiegend
innenkornempfindlich ist, bekannt. Derartige Verfahren
und die dafür geeigneten Aufzeichnungsmaterialien sind
beispielsweise in den US-PS 24 56 953, 24 97 875, 24 97 876,
25 88 982, 25 92 250, 26 75 318 und 32 27 552, in den GB-PS
10 11 062 und 11 51 363 sowie in der JP-B-29 405/68 beschrieben.
Bei diesen Verfahren wird die Silberhalogenidemulsionsschicht
belichtet und dann in Gegenwart eines Verschleierungsmittels
entwickelt. Das Verschleierungsmittel kann entweder
der Silberhalogenidemulsionsschicht
oder einer anderen Schicht des Aufzeichnungsmaterials
einverleibt werden, wobei es an der Oberfläche
der Silberhalogenidkörnchen absorbiert wird. Dafür geeignete
Verschleierungsmittel sind beispielsweise die in den US-PS
25 63 785 und 25 88 982 beschriebenen Hydrazinverbindungen.
Diese Hydrazinverbindungen müssen jedoch der Emulsionsschicht
in ziemlich hohen Konzentrationen, beispielsweise in
einer Menge von 2 g pro Mol Silberhalogenid, zugesetzt werden. Da das
Verschleierungsmittel während der Entwicklung von der Emulsionsschicht
in die Entwicklerlösung wandert, ändert sich die
Konzentration des Verschleierungsmittels in der Emulsionsschicht,
was zu einer unerwünschten Änderung der maximalen
Dichte an den unbelichteten Stellen führt. Ferner wird
bei mehrschichtigen lichtempfindlichen farbphotographischen
Aufzeichnungsmaterialien eine ungleichmäßige Verschleierung
der einzelnen Emulsionsschichten bewirkt.
Verschleierungsmittel, welche diese Nachteile nicht haben,
sind die in den US-PS 36 15 615, 37 19 484, 37 34 738 und
37 59 901 beschriebenen heterocyclischen quaternären Verbindungen.
Diese üben zwar eine zufriedenstellende Verschleierung aus,
in Kombination mit einem spektralen Sensibilisierungsfarbstoff
führen sie jedoch zu einer Verschlechterung der
sensitometrischen Eigenschaften, insbesondere der maximalen
Dichte und des Gamma-Wertes.
Aus der US-PS 37 18 470 ist ein Sensibilisierungsfarbstoff
bekannt, der im Farbstoffmolekül einen Substituenten mit
Verschleierungswirkung aufweist. Die Verwendung eines einzigen
Moleküls zur Erzeugung einer Verschleierungswirkung
und einer spektralen Sensibilisierung ist jedoch nicht günstig.
So führt beispielsweise die Verwendung einer für die spektrale Sensibilisierung ausreichenden
Menge zu einer
ungenügenden Verschleierungswirkung, während andererseits
die Verwendung einer zur Erzeugung der gewünschten Verschleierung ausreichenden Menge
für eine spektrale Sensibilisierung
ungeeignet ist.
Aufgabe der Erfindung war es daher, ein Verfahren zur Herstellung
eines direktpositiven Bildes
einzugeben, das direktpositive Bilder mit einer gleichmäßigen
und hohen maximalen Dichte und einem hohen Gamma-
Wert liefert.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß
dadurch gelöst,
daß man als heterocyclische quaternäre
Verbindung eine solche der folgenden allgemeinen Formel
verwendet:
verwendet, in der bedeuten:
R¹ eine aliphatische Gruppe,
R² ein Wasserstoffatom oder eine aliphatische Gruppe,
R³ und R⁴ gleich oder verschieden, jeweils ein Wasserstoff- oder Halogenatom oder eine aliphatische, Alkoxy-, Hydroxy- oder aromatische Gruppe, wobei wenigstens einer der Substituenten R¹ bis R⁴ eine Propargyl-, Propargyloxyalkyl- oder Propargyloxygruppe ist,
Z die zur Vervollständigung eines Thiazolin-, Thiazol-, Benzothiazol-, Naphthothiazol-, Selenazol-, Benzoselenazol-, Naphthoselenazol-, Oxazolin-, Oxazol-, Benzoxazol-, Napthoxazol-, Benzimidazol-, Pyridin-, Chinolin-, Tetrazol- oder Indoleninringes erforderlichen Atome, und
X⊖ ein Anion, das bei Betainstruktur entfällt.
R¹ eine aliphatische Gruppe,
R² ein Wasserstoffatom oder eine aliphatische Gruppe,
R³ und R⁴ gleich oder verschieden, jeweils ein Wasserstoff- oder Halogenatom oder eine aliphatische, Alkoxy-, Hydroxy- oder aromatische Gruppe, wobei wenigstens einer der Substituenten R¹ bis R⁴ eine Propargyl-, Propargyloxyalkyl- oder Propargyloxygruppe ist,
Z die zur Vervollständigung eines Thiazolin-, Thiazol-, Benzothiazol-, Naphthothiazol-, Selenazol-, Benzoselenazol-, Naphthoselenazol-, Oxazolin-, Oxazol-, Benzoxazol-, Napthoxazol-, Benzimidazol-, Pyridin-, Chinolin-, Tetrazol- oder Indoleninringes erforderlichen Atome, und
X⊖ ein Anion, das bei Betainstruktur entfällt.
Die erfindungsgemäße Verbindung der allgemeinen Formel ergibt
eine deutlich höhere Verschleierungswirkung als die bekannten,
bisher als Verschleierungsmittel eingesetzten heterocyclischen
quaternären Verbindungen und zwar sowohl bei
alleiniger Verwendung als auch bei Verwendung in Kombination
mit einem Sensibilisierungsfarbstoff, wie das weiter
unten folgende Vergleichsbeispiel zeigt. Das heißt, zur Erzielung
der gleichen photographischen Eigenschaften kann das
erfindungsgemäß verwendete Verschleierungsmittel in wesentlich
geringerer Menge eingesetzt werden und darüber hinaus
werden die sensitometrischen Eigenschaften bei Verwendung in
Kombination mit einem üblichen Sensibilisierungsfarbstoff
nicht beeinträchtigt.
Die erfindungsgemäße
Verbindung der allgemeinen Formel wird
in einer zur Erzeugung der gewünschten Verschleierungswirkung
ausreichenden Menge eingesetzt.
Eine solche benachbarte
Schicht kann
z. B. eine Zwischen-, Filter-, Schutz- oder eine
Lichthofschutzschicht sein.
Eine Menge von 5 mg bis 1000 mg pro Mol Silberhalogenid ist
brauchbar und eine Menge von 15 mg bis
700 mg pro Mol Silberhalogenid ist bevorzugt.
Vorzugsweise wird sie
in der Silberhalogenidemulsionsschicht oder in einer
hierzu benachbarten Kolloidschicht eingesetzt.
Es ist aber auch möglich, die erfindungsgemäße
Verbindung der Entwicklerlösung
zuzusetzen. Dann ist es zweckmäßig, daß die Entwicklung hiervon 0,05 bis 5 g, insbesondere
0,1 bis 1 g pro Liter enthält.
Beispiele für heterocyclische Ringe, die durch Z in der allgemeinen
Formel vervollständigt werden, sind Thiazoline, wie
2-Methyl-2-thiazolin, 2-p-Hydroxyphenyl-5-methyl-2-thiazolin,
2-Phenyl-2-thiazolin, 2-Äthyl-2-thiazolin, 2-Propyl-2-thiazolin
und 2-Thiazolin; Thiazole, wie Thiazol,
4-Methylthiazol, 4-Phenylthiazol, 4-(p-Hydroxyphenyl)-
thiazol, 5-Methylthiazol, 5-Phenylthiazol, 4,5-Dimethylthiazol
und 4,5-Diphenylthiazol; Benzothiazole, wie Benzothiazol,
5-Hydroxybenzothiazol,
5-Fluorobenzothiazol, 5-Chlorbenzothiazol, 6-Chlorobenzothiazol,
5-Methylbenzothiazol, 6-Methylbenzothiazol, 5,6-Dimethylbenzothiazol,
5-Bromobenzothiazol, 5-Phenylbenzothiazol,
6-Phenylbenzothiazol, 5-Methoxybenzothiazol, 6-Methoxybenzothiazol,
5-Jodobenzothiazol, 5-Äthoxybenzothiazol,
Tetrahydrobenzothiazol, 5,6-Dimethoxybenzothiazol,
5-Hydroxybenzothiazol und 6-Hydroxybenzothiazol;
Naphthothiazole, wie α-Naphtothiazol, β-Naphthothiazol,
5-Methoxy-β-naphthothiazol, 5-Äthoxy-β-
naphtothiazol, 7-Methoxy-α-naphthothiazol, 5-
Hydroxy-β-naphthothiazol, 7-Hydroxy-α-naphthothiazol und
5-Äthyl-β-naphthothiazol; Selenazole, wie Selenazol, 4-Methylselenazol
und 4-Phenylselenazol; Benzoselenazole,
wie Benzoselenazol, 5-Chlorobenzoselenazol, 5-Methoxybenzoselenazol,
5-Hydroxybenzoselenazol und Tetrahydrobenzoselenazol;
Naphthoselenazole, wie α-Naphthoselenazol
und β-Naphthoselenazol; Oxazoline,
wie 2-Oxazolin, 2-Phenyl-5-methyl-2-oxazolin, 2-
Methyl-2-oxazolin, 2-Phenyl-5-carbäthoxy-2-oxazolin
und 2-Phenyl-4-hydroxymethyl-2-oxazolin; Oxazole, wie
Oxazol, 4-Methyloxazol, 5-Methyloxazol, 4-Phenyloxazol,
4,5-Diphenyloxazol, 4-Äthyloxazol, 4,5-Dimethyloxazol
und 5-Phenyloxazol; Benzoxazole, wie Benzoxazol, 5-Chlorobenzoxazol,
5-Methylbenzoxazol, 5-Phenylbenzoxazol,
6-Methylbenzoxazol, 5,6-Dimethylbenzoxazol, 5-Methoxybenzoxazol,
5-Äthoxybenzoxazol, 5-Trifluoromethylbenzoxazol,
5-Hydroxybenzoxazol und 6-Hydroxybenzoxazol;
Naphthoxazole, wie α-Naphthoxazol,
β-Naphtoxazol und 7-Hydroxy-b-naphthoxazol; Benzimidazole,
wie Benzimidazol, 1-Äthylbenzimidazol, 1-Äthyl-
5-chlorbenzimidazol, 1-Äthyl-5,6-dichlorbenzimidazol
und 1-Phenyl-5,6-dichlorbenzimidazol;
Tetrazole, wie Tetrazol, 1-Phenyltetrazol,
2-Phenyltetrazol, 5-Bromotetrazol, 1,5-Dimethyltetrazol,
Pentamethylentetrazol, 1-Carbäthoxytetrazol
und 1-Methyl-5-phenyltetrazol; Pyridine, wie Pyridin, 3-
Äthylpyridin, 4-Decylpyridin, 4-Benzylpyridin, 4-Phenylpyridin,
4-Chloropyridin, 4-Bromopyridin, 4,6-Dichloropyridin,
6-Bromopyridin, 4-Methoxypyridin, 4-Äthoxypyridin
und 6-Methoxypyridin; Chinoline, wie Chinolin, 3-
Methylchinolin, 6-Methylchinolin, 8-Methylchinolin, 6-Chlorochinolin,
8-Chlorochinolin, 8-Fluorochinolin, 6-Methoxychinolin,
6-Äthoxychinolin, 6-Hydroxychinolin und
8-Hydroxychinolin; und Indolenine, wie Indolenin, 3,3-Dimethylindolenin,
5-Hydroxy-3,3-dimethylindolenin, 3,3-
Dimethyl-6-chloroindolenin und 3,3,5-Trimethylindolenin.
Beispiele für aliphatische Gruppen, die durch R¹ dargestellt
werden, sind unsubstituierte Alkylgruppen mit
1 bis 18 Kohlenstoffatomen (z. B. Methyl, Äthyl, Isopropyl,
n-Butyl, t-Butyl und Heptadecyl) und substituierte Alkylgruppen
mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen im Alkylanteil,
deren Gesamtzahl an Kohlenstoffatomen dann 1 bis 18 beträgt,
wie Sulfoalkylgruppen (z. B. 2-Sulfoäthyl, 3-Sulfopropyl,
3-Sulfobutyl, 2-Hydroxy-3-sulfopropyl und 4-Sulfobutyl),
Carboxyalkylgruppen (z. B. 2-Carboxyäthyl, 4-Carboxybutyl und
Carboxymethyl), Hydroxyalkylgruppen (z. B. 2-Hydroxyäthyl und
3-Hydroxypropyl), Alkoxyalkylgruppen
(z. B. 2-Methoxyäthyl,
3-Methoxypropyl, 2-(2-Sulfoäthoxy)äthyl, 2-[2-(3-Sulfopropoxy)äthoxy]äthyl,
Hydroxymethoxymethyl, 2-Hydroxyäthoxymethyl,
2-(2-Hydroxyäthoxy)äthyl, 2-(2-Acetoxyäthoxy)äthyl
und Acetoxymethoxymethyl), Acyloxyalkylgruppen
(z. B. 2-Acetoxyäthyl und 4-Propionyloxybutyl), Dialkylaminoalkylgruppen
(z. B. Dimethylaminoäthyl und Diäthylaminopropyl),
Sulfatoalkylgruppen (z. B. 2-Sulfatoäthyl und 4-
Sulfatobutyl), Aralkylgruppen (z. B. Benzyl, Phenäthyl und
p-Sulfobenzyl), Alkenylgruppen (z. B. Vinylmethyl) und Alkinylgruppen
(z. B. Propargyl und 3-Butinyl).
Beispiele für aliphatische Gruppen, die durch R²
dargestellt werden, sind unsubstituierte Alkylgruppen
mit 1 bis 18 Kohlenstoffatomen (z. B. Methyl, Äthyl,
Isopropyl, n-Butyl und t-Butyl) und substituierte Alkylgruppen
mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen im Alkylanteil mit einer Gesamtzahl
von Kohlenstoffatomen von 1 bis 18, wie Sulfoalkylgruppen
(z. B. 2-Sulfoäthyl, 3-Sulfopropyl, 3-Sulfobutyl, 4-Sulfobutyl
und 2-Hydroxy-3-sulfopropyl), Carboxyalkylgruppen
(z. B. 2-Carboxyäthyl, 4-Carboxybutyl und Carboxymethyl),
Hydroxyalkylgruppen (z. B. 2-Hydroxyäthyl und 3-Hydroxypropyl),
Alkoxyalkylgruppen
(z. B. 2-Methoxyäthyl, 3-Methoxypropyl, 2-(-Sulfoäthoxy)äthyl,
2-[2-(3-Sulfopropoxy)äthoxy]äthyl,
Hydroxymethoxymethyl, 2-Hydroxyäthoxymethyl, 2-(2-Hydroxyäthoxy)äthyl,
2-(2-Acetoxyäthoxy)äthyl, Acetoxymethoxymethyl
und Propargyloxymethyl), Acyloxyalkylgruppen (z. B. 2-Acetoxyäthyl
und 4-Propionyloxybutyl), Dialkylaminoalkylgruppen
(z. B. Dimethylaminoäthyl und Diäthylaminopropyl), Sulfatoalkylgruppen
(z. B. 2-Sulfatoäthyl und 4-Sulfatobutyl), Aralkylgruppen
(z. B. Benzyl, Phenäthyl und p-Sulfobenzyl), Alkenylgruppen
(z. B. Vinylmethyl), Alkinylgruppen (z. B. Propargyl und
3-Butinyl) und mit einem heterocyclischen Ring substituierte
Alkylgruppen (z. B. 4-(3′-Propargylbenzothiazol-2-yl)butyl).
Beispiele für Halogenatome, die durch R³ und R⁴ dargestellt
werden, sind Chlor-, Brom- und Jodatome.
Beispiele für aliphatische Gruppen, die durch R³ und R⁴ dargestellt
werden, sind unsubstituierte Alkylgruppen mit 1 bis 18 Kohlenstoffatomen
(z. B. Methyl, Äthyl, Isopropyl, n-Butyl, t-Butyl und
Heptadecyl) und substituierte Alkylgruppen mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen
im Alkylanteil, deren Gesamtzahl an Kohlenstoffatomen
dann 1 bis 18 beträgt, wie z. B. Sulfoalkylgruppen
(z. B. 2-Sulfoäthyl, 3-Sulfopropyl, 3-Sulfobutyl, 4-Sulfobutyl
und 2-Hydroxy-3-sulfopropyl), Carboxyalkylgruppen (z. B.
2-Carboxyäthyl, 4-Carboxybutyl und Carboxymethyl), Hydroxyalkylgruppen
(z. B. 2-Hydroxyäthyl und 3-Hydroxypropyl), Alkoxyalkylgruppen
(z. B. 2-Methoxyäthyl, 3-Methoxypropyl, Propargyloxymethyl,
2-Propargyloxyäthyl, 2-(2-Sulfoäthoxy)äthyl,
2-[2-(3-Sulfopropoxy)äthoxy]äthyl, Hydroxymethoxymethyl,
2-Hydroxyäthoxymethyl, 2-(2-Hydroxyäthoxy)äthyl, 2-(2-
Acetoxyäthoxy)äthyl und Acetoxymethoxymethyl), Acyloxyalkylgruppen
(z. B. 2-Acetoxyäthyl und 4-Propionyloxybutyl), Dialkylaminoalkylgruppen
(z. B. Dimethylaminoäthyl und Diäthylaminopropyl),
Halogenalkylgruppen (z. B. Trifluoromethyl), Sulfatoalkylgruppen
(z. B. 2-Sulfatoäthyl und 4-Sulfatobutyl), Aralkylgruppen
(z. B. Benzyl, Phenäthyl und p-Sulfobenzyl), Alkenylgruppen
(z. B. Vinylmethyl) und Alkinylgruppen (z. B.
Propargyl und 3-Butinyl).
Beispiele für Alkoxygruppen, die durch R³ und R⁴
dargestellt werden, sind
Methoxy-, Äthoxy-, Propargyloxy-,
Benzyloxy- oder α-Naphthylmethoxygruppen.
Beispiele für aromatische Gruppen, die durch R³ und R⁴ dargestellt
werden, sind vorzugsweise monocyclische, aber auch bicyclische Arylgruppen.
Sie können unsubstituiert
(z. B. Phenyl und Naphthyl) und substituiert
sein,
z. B. mit einer Alkylgruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen
(wie Methyl), einer Alkoxygruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen
(wie Methoxy und Äthoxy), einer Hydroxygruppe,
einem Halogenatom (wie einem Chloratom) oder einer Sulfogruppe, wobei die
Gesamtanzahl der Kohlenstoffatome der substituierten Arylgruppen
bis zu 18 beträgt. Besonders bevorzugte Beispiele
für diese Gruppen sind die p-Tolyl-, p-Methoxyphenyl-, p-Hydroxyphenyl-,
2,4-Dimethoxyphenyl-, p-Chlorphenyl- und p-Sulfophenylgruppe.
Beispiele für die durch X⊖ dargestellten Anionen sind Chlorid,
Bromid, Jodid, p-Toluolsulfonat, Äthylsulfonat, Perchlorat
und Thiocyanat.
Besonders bevorzugte Beispiele für erfindungsgemäß verwendbare
Verbindungen der allgemeinen Formel sind folgende:
1. 3-Propargylbenzothiazoliumbromid
2. 5,6-Dimethyl-3-propargylbenzothiazoliumbromid
3. 5-Methoxy-6-methyl-3-propargylbenzothiazoliumbromid
4. 2-Methyl-3-propargylbenzothiazoliumbromid
5. 5-Chloro-2-methyl-3-propargylbenzothiazoliumbromid
6. 2-Methyl-6-methoxy-3-propargylbenzothiazoliumbromid
7. 2-Methyl-3-propargylnaphtho[1,2-d]thiazoliumbromid
8. 2-Methylthio-3-propargylbenzothiazoliumbromid
9. 2-Methyl-3-propargyl-5-propargyloxybenzothiazoliumbromid
10. 1,4-Bis(3-propargylbenzothiazolium-2)butandibromid
11. 2-Äthyl-3-propargylbenzothiazoliumbromid
12. 3-Methyl-2-propargyloxymethylbenzothiazoliumjodid
13. 3-Propyl-2-propargyloxymethylbenzothiazoliumchlorid
14. 2,3-Dimethyl-5-propargyloxybenzothiazoliumjodid
15. Anhydro-2-methyl-5-propargyloxy-3-sulfopropylbenzothiazoliumbromid
16. 2-Methyl-5-propargyloxy-3-propylbenzothiazoliumchlorid
17. 2-Methyl-6-α-naphthylmethoxy-1-propargylchinoliniumbromid
18. 2,6-Dimethyl-3-propargylbenzothiazoliumbromid
19. 5,6-Dichloro-1-äthyl-2-methyl-3-propargylbenzimidazoliumbromid
20. 2-Propyl-3-propargylbenzothiazoliumbromid
21. 3-(3-Butinyl)benzothiazoliumthiocyanat
22. 2,4-Dimethyl-3-propargylthiazoliumbromid
23. 2-Methoxy-4-methyl-3-propargylthiazoliumbromid
24. 2-Methyl-3-propargylthiazoliumjodid
25. 2,4-Dimethyl-3-propargyloxazoliumjodid
26. 2,5-Methyl-4-carbomethoxy-3-propargyloxazoliumjodid
27. 2-Methyl-4-phenyl-3-propargyloxazoliumjodid
28. 2-Methyl-4,5-diphenyl-3-propargyloxazoliumjodid
29. 2-Methyl-5-phenyl-3-propargylbenzoxazoliumbromid
30. 2-Methyl-5-trifluormethyl-3-propargylbenzoxazoliumbromid
31. 2-Methyl-5-chloro-3-propargylbenzoxazoliumbromid
32. 2,3,3-Trimethyl-1-propargylindoleniniumchlorid
33. 2-Methyl-1-propargylpyridiniumchlorid
34. 2-Methyl-3-propargylbenzoselenazoliumbromid
35. 2-Propargyloxymethyl-3-methylbenzoselenazoliumbromid
36. 2-Methyl-3-propargyl-5-propargyloxybenzoselenazoliumbromid
37. 5-Methyl-1-propargyltetrazoliumbromid.
2. 5,6-Dimethyl-3-propargylbenzothiazoliumbromid
3. 5-Methoxy-6-methyl-3-propargylbenzothiazoliumbromid
4. 2-Methyl-3-propargylbenzothiazoliumbromid
5. 5-Chloro-2-methyl-3-propargylbenzothiazoliumbromid
6. 2-Methyl-6-methoxy-3-propargylbenzothiazoliumbromid
7. 2-Methyl-3-propargylnaphtho[1,2-d]thiazoliumbromid
8. 2-Methylthio-3-propargylbenzothiazoliumbromid
9. 2-Methyl-3-propargyl-5-propargyloxybenzothiazoliumbromid
10. 1,4-Bis(3-propargylbenzothiazolium-2)butandibromid
11. 2-Äthyl-3-propargylbenzothiazoliumbromid
12. 3-Methyl-2-propargyloxymethylbenzothiazoliumjodid
13. 3-Propyl-2-propargyloxymethylbenzothiazoliumchlorid
14. 2,3-Dimethyl-5-propargyloxybenzothiazoliumjodid
15. Anhydro-2-methyl-5-propargyloxy-3-sulfopropylbenzothiazoliumbromid
16. 2-Methyl-5-propargyloxy-3-propylbenzothiazoliumchlorid
17. 2-Methyl-6-α-naphthylmethoxy-1-propargylchinoliniumbromid
18. 2,6-Dimethyl-3-propargylbenzothiazoliumbromid
19. 5,6-Dichloro-1-äthyl-2-methyl-3-propargylbenzimidazoliumbromid
20. 2-Propyl-3-propargylbenzothiazoliumbromid
21. 3-(3-Butinyl)benzothiazoliumthiocyanat
22. 2,4-Dimethyl-3-propargylthiazoliumbromid
23. 2-Methoxy-4-methyl-3-propargylthiazoliumbromid
24. 2-Methyl-3-propargylthiazoliumjodid
25. 2,4-Dimethyl-3-propargyloxazoliumjodid
26. 2,5-Methyl-4-carbomethoxy-3-propargyloxazoliumjodid
27. 2-Methyl-4-phenyl-3-propargyloxazoliumjodid
28. 2-Methyl-4,5-diphenyl-3-propargyloxazoliumjodid
29. 2-Methyl-5-phenyl-3-propargylbenzoxazoliumbromid
30. 2-Methyl-5-trifluormethyl-3-propargylbenzoxazoliumbromid
31. 2-Methyl-5-chloro-3-propargylbenzoxazoliumbromid
32. 2,3,3-Trimethyl-1-propargylindoleniniumchlorid
33. 2-Methyl-1-propargylpyridiniumchlorid
34. 2-Methyl-3-propargylbenzoselenazoliumbromid
35. 2-Propargyloxymethyl-3-methylbenzoselenazoliumbromid
36. 2-Methyl-3-propargyl-5-propargyloxybenzoselenazoliumbromid
37. 5-Methyl-1-propargyltetrazoliumbromid.
Die erfindungsgemäßen Verbindungen
können leicht durch Umsetzung einer entsprechenden
heterocyclischen Verbindung mit einem entsprechenden
Alkylierungsmittel hergestellt werden. Typische Alkylierungsmittel
sind Methyljodid, Äthylbromid, Propylchlorid,
Propargylbromid, Propansulton und Methyl-p-toluolsulfonat.
Diese Reaktion benötigt keinen Katalysator und läuft durch
Erhitzen auf 50 bis 140°C während 30 Minuten bis zu
einigen Stunden ab. Lösungsmittel, wie Alkohole (z. B. Methylalkohol
und Äthylalkohol), Aceton, Methyläthylketon, Benzol
oder Toluol, sind brauchbar, jedoch kann die Reaktion
auch ohne jedes Lösungsmittel durchgeführt werden. Da das
Reaktionsprodukt ausfällt, kann ein reines Produkt einfach
durch Waschen mit einem Lösungsmittel, z. B. wie oben beschrieben,
erhalten werden.
Synthesebeispiele für die erfindungsgemäßen Verbindungen
sind nachstehend angegeben.
Soweit nicht anders vermerkt, sind alle Teile, Prozente
und Verhältnisse auf das Gewicht bezogen.
13,5 g Benzothiazol wurden mit 13,1 g Propargylbromid gemischt.
Das Gemisch wurde 1 Stunde lang auf einem Heißwasserbad
auf 80 bis 100°C bis zum Erstarren erhitzt. Nach Abkühlen auf
20 bis 30°C wurde der Festkörper mit
Aceton gewaschen und ergab 21 g 3-Propargylbenzothiazoliumbromid,
F: 209 bis 210°C.
14,9 g 2-Methylbenzothiazol und 12,5 g Propargylbromid wurden
auf einem Heißwasserbad 3 Stunden lang auf 80 bis 100°C erhitzt.
Die ausgefallenen Kristalle wurden mit Aceton gewaschen
und ergaben 18,5 g 2-Methyl-3-propargylbenzothiazoliumbromid,
F: 214 bis 215°C.
20,4 g 2-Methyl-5-propargyloxybenzothiazol und 12,5 g Propargylbromid
wurden auf einem Heißwasserbad 3 Stunden lang
auf 80 bis 100°C erhitzt. Die ausgefallenen Kristalle wurden
mit Aceton gewaschen und ergaben 17,5 g 2-Methyl-3-propargyl-
5-propargyloxybenzothiazoliumbromid, F: 244°C.
Insbesondere kann eine Emulsion vom Typ des latenten
Innenbilds zur Verwendung im Rahmen der Erfindung folgendermaßen
hergestellt werden:
Zuerst wird eine Silberchloridemulsion gebildet und dann durch
Zusatz von wasserlöslichen Bromid- und gegebenenfalls etwas Jodidsalzen
ein Halogenidaustausch durchgeführt.
Erhöhte Empfindlichkeit kann man erreichen, indem man vor
dem Abschluß des Umwandlungsschritts Edelmetallsalze zusetzt,
wie in der US-PS 37 03 584 beschrieben. Eine gewisse
zusätzliche Verbesserung kann durch Schwefel- und Goldsensibilisierung
der Silberchloridemulsion, durch Umwandlung
mit Bromid und/oder etwas Jodid und anschließend leichte Schwefel-
und Goldsensibilisierung der Oberfläche erhalten werden.
Die Bildung von Sensibilisierungsflecken oder -pünktchen im Innern der Silberhalogenidkörner
wird durch rasche Einführung von Thiocyanat nach Ausfällung
von 20 bis 35% des Silberhalogenids beschleunigt.
Es werden Silberhalogenidkörner mit darin eingeschlossenen
Fremdionen als Dotierung hergestellt, wobei die Körner an
der Oberfläche nur in geringem Ausmaße
chemisch sensibilisiert werden.
Beispiele für Dotierungen sind
Iridium, Gold und Platin.
Man fällt dazu einen geringen Teil des Silberhalogenids in Anwesenheit des Metallions oder lagert vorzugsweise
das Metall auf dem Silberhalogenidkern ab. Dann erst bildet man weiteres
Silberhalogenid, das sich als Schale am dotierten Kern anlagert
und diesen umschließt.
Bei dem erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmaterial
können neben Gelatine verschiedene andere Kolloide als Bindemittel verwendet
werden.
Für das erfindungsgemäße Aufzeichnungsmaterial können
verschiedene Schichtträger verwendet werden, wobei die Silberhalogenidemulsion
auf diesen ein- oder beidseitig
aufgetragen sein kann.
Die Silberhalogenidemulsion kann die üblichen Zusätze enthalten, wie Härte, Gleitmittel,
chemische und spektrale Sensibilisatoren, Stabilisatoren, lichtabsorbierende Farbstoffe und
Weichmacher, aber auch Farbkoppler und Entwicklersubstanzen.
Zur Entwicklung des erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmaterials
können verschiedene Entwicklungsmittel
verwendet werden. Wichtig ist, daß die Entwicklerlösung eine typische
Oberflächenentwicklerlösung darstellt,
durch die die Entwicklung
im wesentlichen durch ein latentes Bild oder Schleierkeime
auf der Oberfläche der Silberhalogenidkörner erfolgt.
Vorzugsweise enthält die Entwicklerlösung kein Lösungsmittel
für Silberhalogenid, z. B. Thiocyanate.
Ein geringer Gehalt von 5 bis 10 g/l Natriumsulfit kann toleriert werden.
Der pH-Wert der Entwicklerlösung wird 10 bis 13, vorzugsweise
11 bis 12,5, eingestellt.
Das folgende Beispiel wie auch das danach folgende Vergleichsbeispiel dient zur besseren Veranschaulichung der
Erfindung.
Entsprechend der in der US-PS 25 92 250 beschriebenen Halogenid-
Umwandlungsmethode wurde eine Silberhalogenidemulsion, deren Silberhalogenid überwiegend innenkornempfindlich ist,
auf folgende Weise hergestellt:
Lösung Nr. 1 (hergestellt bei 50°C)
Inerte Gelatine: 20 g
Natriumchlorid: 3,5 g
Wasser: 2000 ml
Inerte Gelatine: 20 g
Natriumchlorid: 3,5 g
Wasser: 2000 ml
Lösung Nr. 2 (hergestellt bei 40°C)
Natriumchlorid: 70 g
Wasser: 520 ml
Natriumchlorid: 70 g
Wasser: 520 ml
Lösung Nr. 3 (hergestellt bei 40°C)
Silbernitrat: 200 g
Ammoniak (25%ige wäßrige Lösung): 2,00 ml
Wasser: 400 ml
Silbernitrat: 200 g
Ammoniak (25%ige wäßrige Lösung): 2,00 ml
Wasser: 400 ml
Lösung Nr. 4 (hergestellt bei 45°C)
Kaliumbromid: 160 g
Kaliumjodid: 20 g
Wasser: 500 ml
Kaliumbromid: 160 g
Kaliumjodid: 20 g
Wasser: 500 ml
Lösungen Nr. 2 und 3 wurden gleichzeitig während eines Zeitraumes
von 90 Sekunden der Lösung Nr. 1 zugegeben und das Gemisch
dann 1 Minute lang bei 45°C reifengelassen. Danach wurde Lösung
Nr. 4 dazugegeben und 20 Minuten bei 45°C reifengelassen. Anschließend
wurden 235 g (Trockenbasis) inerte Gelatine zugegeben
und 15 Minuten lang bei 45°C reifengelassen. Die erhaltene
Emulsion wurde gekühlt, erstarren gelassen und ihre löslichen
Salze wurden mit Wasser ausgewaschen.
Schließlich wurden 150 ml einer 10%igen wäßrigen Kaliumchloridlösung
zugegeben und Wasser bis zu einem Gesamtvolumen
von 4½ l zugesetzt.
Die Emulsion wurde nun in vier Anteile aufgeteilt.
Zu drei Anteilen wurden die erfindungsgemäßen
Verbindungen 4, 9 und 12 in einer Menge von
80 mg pro Mol Silberhalogenid zugegeben, die im folgenden Proben
A, B bzw. C genannt werden. Zu dem anderen Emulsionsteil
wurde kein Verschleierungsmittel zugegeben, es wird im folgenden
Probe D genannt. Die Proben A bis D wurden jeweils
auf Schichtträger aus Cellulosetriacetat mit einem 4g Ag/m² entsprechenden Silberhalogenidauftrag
4 g/m² schichtförmig aufgebracht.
Nach 1 Sekunde dauernden Belichtung durch einen
optischen Keil wurden die Proben in der
folgenden Entwicklerlösung 4 Minuten lang bei 20°C entwickelt.
Entwicklerlösung
N-Methyl-p-aminophenolsulfat: 5 g
Hydrochinon: 10 g
Natriumsulfat: 75 g
Natriummetaphosphat: 30 g
Natriumhydroxid: 10 g
Phenylhydrazinhydrochlorid: 0,2 g
Benzotriazol: 0,02 g
Wasser: 1 l
N-Methyl-p-aminophenolsulfat: 5 g
Hydrochinon: 10 g
Natriumsulfat: 75 g
Natriummetaphosphat: 30 g
Natriumhydroxid: 10 g
Phenylhydrazinhydrochlorid: 0,2 g
Benzotriazol: 0,02 g
Wasser: 1 l
Nach der Entwicklung wurden die Proben
auf übliche Weise fixiert, um auswertbare direktpositive
Bilder zu erhalten.
Die sensitometrischen Werte
sind in der folgenden Tabelle angegeben.
Somit wirken die erfindungsgemäßen Verbindungen
als hochwirksames Verschleierungsmittel
und ergeben zufriedenstellende
Direktpositivbilder.
Zum Nachweis der technischen Überlegenheit der erfindungsgemäßen
Verbindungen gegenüber den
aus den US-PS 37 19 494 (1), 37 34 738 (2) und 37 59 901 (3)
bekannten heterocyclischen quaternären Salzen wurden
die nachstehend beschriebenen Vergleichsversuche durchgeführt.
Die dabei erzielten Ergebnisse sind in den weiter
unten folgenden Tabellen zusammengefaßt.
Die verschleiernde Wirkung der erfindungsgemäßen Verbindung 4 wurde
verglichen mit aus den obengenannten US-PS bekannten Verschleierungsmitteln,
nämlich in Probe 1 bis 8 zunächst mit 1,2-Dihydro-3-methyl-4-phenylpyrrido-
[2.1-b]benzothiazoliumbromid (nachstehend als Verbindung A bezeichnet)
(siehe Beispiel 1 der US-PS 37 19 494), ferner in Probe 9 bis 20 mit 3-(2-
Acetylethyl)-2-benzylbenzothiazoliumbromid (nachstehend als
Verbindung B bezeichnet) (Spalte 9, Zeile 26/27, der US-PS
37 34 738) und 3-(2-Formylethyl)-2-methylbenzothiazoliumbromid
(nachstehend als Verbindung C bezeichnet) (Spalte 4,
Zeile 16, der US-PS 37 54 901).
In den Proben wurden außerdem die
Verschleierungsmittel in unterschiedlichen Mengen eingesetzt.
Nun wurden die Proben
belichtet, entwickelt und sensitometrisch ausgewertet.
Die erzielten Ergebnisse
sind in den folgenden Tabellen Ia und Ib zusammengefaßt.
Wie aus den Ergebnissen der vorstehenden Tabellen Ia und Ib hervorgeht,
genügt es die erfindungsgemäße
Verbindung 4 in einer wesentlich geringeren Menge einzusetzen
als die Vergleichsverbindungen A, B und C, um die
gewünschten sensitometrischen Eigenschaften zu erhalten.
Es wurden 8 Proben, als 21 bis 28 bezeichnet, hergestellt
unter Verwendung der erfindungsgemäßen Verbindung
4 und der bekannten Vergleichsverbindung C. Eingesetzt wurde
die gleiche Silberhalogenidemulsion wie im
Versuch 1. Außerdem wurde zusätzlich als Grün
sensibilisierungsfarbstoff 5,5′,6,6′-Tetrachloro-3,3′-bis-
(3-sulfopropyl)benzimidazolocarbocyaninhydroxid-Natriumsalz
verwendet. Nach Belichtung und Entwicklung wurden die Proben sensitometrisch ausgewertet..
Die erzielten
Ergebnisse sind in der folgenden Tabelle II zusammengefaßt.
Die in der vorstehenden Tabelle II zusammengefaßten Ergebnisse zeigen,
daß bei Verwendung der Vergleichsverbindung C in Kombination
mit einem Sensibilisierungsfarbstoff die maximale Dichte drastisch abnimmt
bei steigender Menge des Sensibilisierungsfarbstoffes, während
bei Verwendung der erfindungsgemäßen Verbindung 4
in Kombination mit dem gleichen Sensibilisierungsfarbstoff die maximale Dichte
bei steigender Menge des verwendeten Sensibilisierungsfarbstoffes
nur unwesentlich abnimmt. Diese Ergebnisse zeigen, daß der
Sensibilisierungsfarbstoff aufgrund einer starken Absorptionskonkurrenz
mit der Vergleichsverbindung C an den Silberhalogenidkörnern
eine drastische Abnahme der maximalen Dichte verursacht, wenn
er in einer üblichen Menge (beispielsweise 400 mg/Mol AgX)
eingesetzt wird, um die gewünschte spektrale Sensibilisierung
zu erzielen. Andererseits kann die erfindungsgemäße
Verbindung 4 in Kombination
mit einem Sensibilisierungsfarbstoff verwendet werden, ohne
daß die maximale Dichte dadurch wesentlich beeinflußt wird, d. h. ohne daß
eine konkurrierende Adsorption an den Silberhalogenidkörnern
auftritt.
Claims (3)
1. Verfahren zur Herstellung eines direktpositiven Bildes
aus einem direktpositiven silberhalogenidhaltigen Aufzeichnungsmaterial,
dessen Silberhalogenid überwiegend innenkornempfindlich
ist, durch Belichten und Entwickeln in
Gegenwart einer heterocyclischen quaternären Verbindung als
Verschleierungsmittel, dadurch gekennzeichnet,
daß man als heterocyclische quaternäre Verbindung
eine solche der folgenden allgemeinen Formel
verwendet, in der bedeuten:
R¹ eine aliphatische Gruppe,
R² ein Wasserstoffatom oder eine aliphatische Gruppe,
R³ und R⁴ gleich oder verschieden, jeweils ein Wasserstoff- oder Halogenatom oder eine aliphatische, Alkoxy- Hydroxy- oder aromatische Gruppe, wobei wenigstens einer der Substituenten R¹ bis R⁴ eine Propargyl-, Propargyloxyalkyl- oder Propargyloxygruppe ist,
Z die zur Vervollständigung eines Thiazolin-, Thiazol-, Benzothiazol-, Naphthothiazol-, Selenazol-, Benzoselenazol-, Naphthoselenazol-, Oxazolin-, Oxazol-, Benzoxazol-, Naphthoxazol-, Benzimidazol-, Pyridin-, Chinolin-, Tetrazol- oder Indoleninringes erforderlichen Atome, und
X⊖ ein Anion, das bei Betainstruktur entfällt.
R¹ eine aliphatische Gruppe,
R² ein Wasserstoffatom oder eine aliphatische Gruppe,
R³ und R⁴ gleich oder verschieden, jeweils ein Wasserstoff- oder Halogenatom oder eine aliphatische, Alkoxy- Hydroxy- oder aromatische Gruppe, wobei wenigstens einer der Substituenten R¹ bis R⁴ eine Propargyl-, Propargyloxyalkyl- oder Propargyloxygruppe ist,
Z die zur Vervollständigung eines Thiazolin-, Thiazol-, Benzothiazol-, Naphthothiazol-, Selenazol-, Benzoselenazol-, Naphthoselenazol-, Oxazolin-, Oxazol-, Benzoxazol-, Naphthoxazol-, Benzimidazol-, Pyridin-, Chinolin-, Tetrazol- oder Indoleninringes erforderlichen Atome, und
X⊖ ein Anion, das bei Betainstruktur entfällt.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
man die heterocyclische quaternäre Verbindung in der Silberhalogenidemulsionsschicht
oder einer hierzu benachbarten Kolloidschicht
einsetzt.
3. Verfahren nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet,
daß man als heterocyclische Verbindung der allgemeinen
Formel die folgenden Verbindungen verwendet:
3-Propargylbenzothiazoliumbromid, 5,6-Dimethyl-3-propargylbenzothiazoliumbromid, 5-Methoxy-6-methyl-3-propargylbenzothiazoliumbromid, 2-Methyl-3-propargylbenzothiazoliumbromid, 5-Chloro-2-methyl-3-propargylbenzothiazoliumbromid, 2-Methyl-6-methoxy-3-propargylbenzothiazoliumbromid, 2-Methyl-3-propargylnaphtho[1,2-d]thiazoliumbromid, 2-Me thylthio-3-propargylbenzothiazoliumbromid, 2-Methyl-3-propargyl- 5-propargyloxybenzothiazoliumbromid, 1,4-Bis(3-pro pargylbenzothiazolium-2-butan)dibromid, 2-Äthyl-3-propar gylbenzothiazoliumbromid, 2-Methyl-6-α-naphthylmethoxy-1-pro pargylchinoliniumbromid, 2,6-Dimethyl-3-propargylbenzothiazoliumbromid, 5,6-Dichloro-1-äthyl-2-methyl-3-propargyl benzimidazoliumbromid, 2-Propyl-3-propargylbenzothiazoliumbromid, 3-(3-Butinyl)benzothiazoliumthiocyanat, 2,4-Di methyl-3-propargylthiazoliumbromid, 2-Methoxy-4-methyl-3- propargylthiazoliumbromid, 2-Methyl-3-propargylthiazoliniumjodid, 2,4-Dimethyl-3-propargyloxazoliumjodid, 2,5-Dimethyl- 4-carbomethoxy-3-propargyloxazoliumjodid, 2-Methyl-4-phe nyl-3-propargyloxazoliumjodid, 2-Methyl-4,5-diphenyl-3-pro pargyloxazoliumjodid, 2-Methyl-5-phenyl-3-propargylbenzoxazoliumbromid, 2-Methyl-5-trifluoromethyl-3-propargylbenzoxazoliumbromid, 2-Methyl-5-chloro-3-propargylbenzoxazoliumbromid, 2,3,3-Trimethyl-1-propargylindoleniniumchlorid, 2-Methyl-1-propargylpyridiniumchlorid, 2-Methyl-1-propar gylpyridiniumchlorid, 2-Methyl-3-propargylbenzoselenazoliumbromid, 2-Methyl-3-propargyl-5-propargyloxybenzoselenazoliumbromid, 5-Methyl-1-propargyltetrazoliumbromid, 2-Methyl- 3-propargyl-5-propargyloxybenzothiazoliumbromid, 2,3-Dime thyl-5-propargyloxybenzothiazoliumbjodid, Anhydro-2-methyl-5- propargyloxy-3-sulfopropylbenzothiazoliumbromid, 2-Methyl- 5-propargyloxy-3-propylbenzothiazoliumchlorid, 2-Methyl-3- propargyl-5-propargyloxybenzoselenazoliumbromid, 3-Methyl- 2-propargyloxymethylbenzothiazoliumjodid, 3-Propyl-2-propar gyloxymethylbenzothiazoliumchlorid und 2-Propargyloxymethyl- 3-methylbenzoselenazoliumbromid.
3-Propargylbenzothiazoliumbromid, 5,6-Dimethyl-3-propargylbenzothiazoliumbromid, 5-Methoxy-6-methyl-3-propargylbenzothiazoliumbromid, 2-Methyl-3-propargylbenzothiazoliumbromid, 5-Chloro-2-methyl-3-propargylbenzothiazoliumbromid, 2-Methyl-6-methoxy-3-propargylbenzothiazoliumbromid, 2-Methyl-3-propargylnaphtho[1,2-d]thiazoliumbromid, 2-Me thylthio-3-propargylbenzothiazoliumbromid, 2-Methyl-3-propargyl- 5-propargyloxybenzothiazoliumbromid, 1,4-Bis(3-pro pargylbenzothiazolium-2-butan)dibromid, 2-Äthyl-3-propar gylbenzothiazoliumbromid, 2-Methyl-6-α-naphthylmethoxy-1-pro pargylchinoliniumbromid, 2,6-Dimethyl-3-propargylbenzothiazoliumbromid, 5,6-Dichloro-1-äthyl-2-methyl-3-propargyl benzimidazoliumbromid, 2-Propyl-3-propargylbenzothiazoliumbromid, 3-(3-Butinyl)benzothiazoliumthiocyanat, 2,4-Di methyl-3-propargylthiazoliumbromid, 2-Methoxy-4-methyl-3- propargylthiazoliumbromid, 2-Methyl-3-propargylthiazoliniumjodid, 2,4-Dimethyl-3-propargyloxazoliumjodid, 2,5-Dimethyl- 4-carbomethoxy-3-propargyloxazoliumjodid, 2-Methyl-4-phe nyl-3-propargyloxazoliumjodid, 2-Methyl-4,5-diphenyl-3-pro pargyloxazoliumjodid, 2-Methyl-5-phenyl-3-propargylbenzoxazoliumbromid, 2-Methyl-5-trifluoromethyl-3-propargylbenzoxazoliumbromid, 2-Methyl-5-chloro-3-propargylbenzoxazoliumbromid, 2,3,3-Trimethyl-1-propargylindoleniniumchlorid, 2-Methyl-1-propargylpyridiniumchlorid, 2-Methyl-1-propar gylpyridiniumchlorid, 2-Methyl-3-propargylbenzoselenazoliumbromid, 2-Methyl-3-propargyl-5-propargyloxybenzoselenazoliumbromid, 5-Methyl-1-propargyltetrazoliumbromid, 2-Methyl- 3-propargyl-5-propargyloxybenzothiazoliumbromid, 2,3-Dime thyl-5-propargyloxybenzothiazoliumbjodid, Anhydro-2-methyl-5- propargyloxy-3-sulfopropylbenzothiazoliumbromid, 2-Methyl- 5-propargyloxy-3-propylbenzothiazoliumchlorid, 2-Methyl-3- propargyl-5-propargyloxybenzoselenazoliumbromid, 3-Methyl- 2-propargyloxymethylbenzothiazoliumjodid, 3-Propyl-2-propar gyloxymethylbenzothiazoliumchlorid und 2-Propargyloxymethyl- 3-methylbenzoselenazoliumbromid.
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1976
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