DE2161407C3 - Verfahren zur Ätzbleichbehandlung von belichteten und entwickelten Photoplatten und Filmen - Google Patents

Verfahren zur Ätzbleichbehandlung von belichteten und entwickelten Photoplatten und Filmen

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    • G03C5/40—Chemically transforming developed images
    • G03C5/44—Bleaching; Bleach-fixing
    • G—PHYSICS
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Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Ätzbleichbehandlung von belichteten und entwikkelten Photoplatten und Filmen in einer Ätzbleichlösung.
Es ist bekannt, belichtete und entwickelte Filme einer Ätzbleichbehandlung zu unterziehen. Die Ätzbleichbehandlung dient in der Photographic zum Ausbleichen von Silberbildern und zum selektiven Abbau der in den belichteten Bezirken vorhandenen Bindemittel. Häufig werden jedoch bei den bisher bekannten Verfahren die beim Ätzbleichen herauszulösenden Gelatineteilchen nicht vollständig entfernt. Deswegen wird üblicherweise zu einer mechanischen Unterstützung des Lösungsvorganges gegriffen. Die angelösten Gelalineteilchen werden mit weichen Lappen weggewischt. Diese Methode führt aber zu stark unterschiedlichen Ergebnissen und ist auch in der Sauberkeit nicht ausreichend.
In der DE-OS 1 772770 wird nun eine verbesserte Ätzbleichlösung angegeben, die die praktisch vollständige Entfernung selbst gehärteter Gelatineteile in kurzer Zeit ermöglichen soll. Hierzu soll die Ätzbleichlösung pro Liier Lösung jeweils 0,1 Mol Kupfer(IIl)kationen und ein unlösliches Silbersalz bildende Anionen enthalten. Es hat sich jedoch ergeben, daß auch eine solche verbesserte Ätzbleichlösung die vollständige Entfernung der Gelatineteilchen ohne Anwendung zusätzlicher mechanischer Mittel nicht gestattet.
Vergleichsversuche nach den Beispielen 1 und 2 der DE-OS 1772770 haben nämlich ergeben, daß allein durch die in dieser Offenlegungsschrift genannten Lösungen weder nach 20 see noch nach 120 see die Gelatine an den bei der Erstbelichtung belichteten Stellen vollständig entfernt wird, wie das für ein Belichtungswerkzeug für Leiterplatten gefordert werden muß.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur Ätzbleichbehandlung von belichteten und entwickelten Photoplatten und Filmen in einer Ätzbleichlösung zu schaffen, das unter Vermeidung des bisher üblichen Wischens die vollständige Entfernung der angelösten Gelatineteilchen gestattet.
Die Lösung dieser Aufgabe besteht darin, daß die Photoplatten bzw. Filme im Ätzbleichbad einer Ultraschallquelle ausgesetzt werden und daß die Ultraschallquelle oder die Platten während der Behandlung bewegt werden. Damit gelingt es im Gegensatz zu den in der DE-OS 1772770 genannten Verfahren die Gelatinereste einwandfrei und sauber zu entfernen. Nach der OffenlegungSDchrift hergestellte Platten wären hingegen wegen der zu erwartenden Häufigkeit von Kurzschlüssen und Unterbrechungen nicht einsetzbar.
Es ist bekannt, bei der Entwicklung von photographischen Aufzeichnungsmaterialien in wäßngen Behandlungslösungen Ultraschall anzuwenden. So wird in dem in der DE-PS 668780 beschriebenen Verfahren zur Verhütung von Entwicklungsstreifen die Anwendung von Ultraschallwellen während der Entwicklung dargelegt. Der DE-PS 761488 liegt ein Verfahren zur Ausbildung eines feinen Kornes in photographischen Schichten zugrunde. Zu diesem
ία Zweck wird der sich beim Entwickeln ausbildende Niederschlag der Einwirkung von Ultraschall ausgesetzt. Schließlich behandelt die DE-PS 832398 ein Feinkorn-Entwicklungsverfahren, wobei die Schichten ebenfalls beim Entwickeln einem Ultraschallfeld ausgesetzt werden. Aus dem Chemie-Lexikon von Römpp,5. Auflage 1962, Band III, Spalte 5302 und 5303 ist schließlich zu entnehmen, daß Ultraschall durch seine hohen Energien allerlei mechanische Wirkungen auslöst und beispielsweise Schmutzteilchen aus Geweben herausklopft.
Die genannten Literaturstellen geben jedoch dem Fachmann keinen Hinweis auf die Verwendung von Ultraschall in Ätzbleichbädern. Außerdem bringt die einfache Übertragung der Anwendung von Ultra-
j5 schall in Verfahren zur Ätzbleichbehandlung nicht den gewünschten Erfolg, da, um einen gleichmäßigen Abtrag der Gelatine sicherzustellen, die Bewegung des lichtempfindlichen Materials oder der Ultraschallquelle erforderlich ist.
■ίο Als vorteilhaft hat es sich erwiesen, bei Verwendung einer Ultraschallquelle diese nicht fest vor der zu beschallenden Fläche aufzustellen, sondern insbesondere parallel zur Oberfläche der Photoplatte bzw. des Filmes zu bewegen. Hierdurch vermeidet man die Ausbildung stehender Wellen und damit einen ungleichmäßigen Abtrag der Gelatine.
Ein ebenfalls vorteilhaftes Ergebnis läßt sich auch erzielen, wenn man mehrere Ultraschallquellen zur Beschallung eines Ätzbleichbades verwendet. Auch hierdurch kann die Ausbildung von stehenden Wellen vermieden werden. Im folgenden werden Ausführungsbeispiele des erfindungsgemäßen Verfahrens beschrieben.
Ausführungsbeispiel 1
Eine Photoplatte wird in gewünschter Weise belichtet. Hierauf erfolgt die Entwicklung in einer Entwicklerflüssigkeit, sodann wird die Photoplatte etwa 1 Minute lang gewässert und gründlich gespült. Als ω nächster Schritt wird die Ultraschallätzhleichbehand-Iung durchgeführt. Als Ätzbleichbad dient eine Mischung aus Teil A: 2OU g Kupferchlorid, 1000 ecm Eisessig, 181 H2O und
Teil B: 1800 ecm H2O2.
Die Teile A und B werden kurz vor Gebrauch gemischt. In das Ätzbleichbad taucht eine Ultraschallquelle, die parallel zu der in das Bad senkrecht eingehängten Photoplatte hin- und herbewegt wird. Die
Photoplatte wird einmal um 180° um die horizontale Achse gedreht. Die Ultraschallätzbleichbehandlung dauert 8 Minuten. Hierauf erfolgt eine weitere Zwischenwässerung und sodann eine Zweitentwicklung, sodann wird die Photoplatte nochmals 1 bis 2 Minuten lang gewässert und anschließend unter Einwirkung von Ultraschall nochmals 20 bis 30 Sekunden lang gewässert. Sodann wird die Photoplatte etwa 30 Minuten lang getrocknet. Die Verfahrensschritte bis einschließlich der Ätzbleichbehandlung erfolgen bei Rotlicht, die anschließenden Schritte bei Tageslicht.
Ausführungsbeispiel 2
Die Verfahrensschritte entsprechen im wesentlichen denen im Ausführungsbeispiel 1. Jedoch wurde als Ätzbleichbad eine Zusammensetzung ?us Teil A aus 2160 g Kupfersulfat, 2700 g Zitronensäure, 135 g Kaliumbromid und 181 H2O sowie Teil B aus 1800 ecm H2O, verwendet, wobei wiederum die Teile A und B kurz vor Gebrauch gemischt wurden. Jo Beide Ausführungsbeispiele ergaben befriedigende Ergebnisse und eine vollständige Herauslösung der Gelatinereste.
Für Vergleichsversuche wurden Photoplatten des Typs Kodak Ortho Typ 3 den drei Behandlungsverfahren Unterworfen. Es werden nachfolgende Abkürzungen verwendet:
USÄB = Ultraschall-Ätzbleichverfahren nach der
Erfindung
B1 /20 = Ansatz nach OS 1 772 770, Beispiel 1,
20 Sekunden
Bl/120 = Ansatz nach OS 1772 770, Beispiel 1,
120 Sekunden
B2/20 = Ansatz nach OS 1772770, Beispiel 2,
20 Sekunden
B2/120 = Ansatz nach OS 1 772770, Beispiel 2,
120 Sekunden
Behandlungstemperatur in allen Fällen ca. 22° C.
Fertigt man Photomasken nach den genannten Verfahren, so erhält man an den transparenten und opaken Stellen der fertigen Maske die in der nachstehenden Tabelle angegebenen Werte der optischen Dichte (Mittelwerte aus je 5 über die Flächen verteilten Messungen).
Verfahren Optische Dichte 2,765
transparenter opaker Bereich 3,816
Bereich 2,876
USÄB 0,04 3,808
B1/20 3,082 2,58
B1/12U 0,474
B2/20 3,448
B2/120 0,162

Claims (3)

Patentansprüche:
1. Verfahren zur Ätzbleichbehandlung von belichteten und entwickelten Photoplatten und Filmen in einer Ätzbleichlösung, dadurch gekennzeichnet, daß Photoplatten bzw. Filme im Ätzbleichbad einer Ultraschallquelle ausgesetzt werden und daß die Ultraschallquelle oder die Platten während der Behandlung bewegt werden.
2. Verfahren nach Anspruch I1 dadurch gekennzeichnet, daß die Ultraschallquelle parallel zur Oberfläche der Photoplatte bzw. des Films bewegt wird.
3. Verfahren nach Anspruch I1 dadurch gekennzeichnet, daß mehere Ultraschallquellen angewendet werden.
DE2161407A 1971-12-10 1971-12-10 Verfahren zur Ätzbleichbehandlung von belichteten und entwickelten Photoplatten und Filmen Expired DE2161407C3 (de)

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NLAANVRAGE7209443,A NL176980C (nl) 1971-12-10 1972-07-06 Werkwijze voor het behandelen van belichte en ontwikkelde fotoplaten en films in een etsbleekvloeistof, alsmede de verkregen behandelde voorwerpen.
GB4930672A GB1366816A (en) 1971-12-10 1972-10-25 Etch bleach treatment of exposed and developed lightsensitive silver halide emulsion photographic plates and films
US00308112A US3849135A (en) 1971-12-10 1972-11-20 Etch-bleaching treatment of exposed and developed photo plates and films
IT32299/72A IT971384B (it) 1971-12-10 1972-11-30 Procedimento per il trattamento chimico di decolorazione di la stre fotografiche e pellicole esposte e sviluppate
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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5230851B2 (de) * 1974-10-11 1977-08-11
JPS5738897B2 (de) * 1974-11-19 1982-08-18
US4207105A (en) * 1975-01-27 1980-06-10 Fuji Photo Film Co., Ltd. Plasma-etching image in exposed AgX emulsion
JPS51105821A (en) * 1975-03-14 1976-09-20 Fuji Photo Film Co Ltd Masukugazono keiseihoho
DE3118884A1 (de) * 1981-05-13 1982-12-02 Hoechst Ag Verfahren zur herstellung von reliefkopien
US4517267A (en) * 1983-01-13 1985-05-14 Archival Color Technologies Processing machine for printing
US4555302A (en) * 1984-08-24 1985-11-26 Urbanik John C Method and apparatus for ultrasonic etching of printing plates
EP3236720A4 (de) * 2014-11-28 2018-10-10 Zeon Corporation Verfahren zur desmear-verarbeitung und herstellungsverfahren für mehrschichtige leiterplatte

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2854386A (en) * 1955-02-07 1958-09-30 Aladdin Ind Inc Method of photographically printing conductive metallic patterns
US3489624A (en) * 1965-03-31 1970-01-13 Westinghouse Canada Ltd Etching techniques for glass
FR1542658A (fr) * 1966-09-30 Ibm Technique de formation de verre photosensible pour faire des trous de contact dans des couches de verre de protection
US3661660A (en) * 1968-02-21 1972-05-09 Grace W R & Co Method for ultrasonic etching of polymeric printing plates

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Publication number Publication date
DE2161407B2 (de) 1979-09-13
FR2162542B1 (de) 1977-12-23
DE2161407A1 (de) 1973-06-20
NL7209443A (de) 1973-06-13
NL176980C (nl) 1985-07-01
LU66615A1 (de) 1973-02-08
BE792499A (fr) 1973-03-30
FR2162542A1 (de) 1973-07-20
IT971384B (it) 1974-04-30
GB1366816A (en) 1974-09-11
US3849135A (en) 1974-11-19

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