DE19731714C2 - Integrierte Halbleiterschaltungseinrichtung mit Makrozellenlayoutbereichen und Takttreiberschaltungen - Google Patents
Integrierte Halbleiterschaltungseinrichtung mit Makrozellenlayoutbereichen und TakttreiberschaltungenInfo
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Description
Die Erfindung betrifft eine integrierte
Halbleiterschaltungseinrichtung mit Makrozellenlayoutbereichen und Takttreiberschaltungen wie ein Gate-Array oder ein
eingebettetes Zellen-Array (embedded cell array ECA), und
im einzelnen eine in der integrierten
Halbleiterschaltungseinrichtung vorgesehene
Takttreiberschaltung.
Bei einer integrierten
Halbleiterschaltungseinrichtung einschließlich Gate-Arrays
oder eingebetteten Zellen-Arrays umfassen deren
Kernbereiche zwei Arten darin ausgebildeter Makrozellen:
ein Vielzahl von als Logikschaltungen (wie AND- und/oder OR-
Schaltungen) arbeitende Makrozellen und eine Vielzahl von
als interne Schaltungen (wie Flip-Flop-Schaltungen)
arbeitende Makrozellen, wobei jede Art ein Taktsignal
erfordert. Takttreiberschaltungen sind dabei vorgesehen zur
Versorgung der vielen internen Schaltungen mit
entsprechenden Taktsignalen.
Aus der JP 3-276 742 (A) ist eine integrierte Halbleiter
schaltungseinrichtung bekannt, bei der zur Verminderung von
Taktlaufzeitunterschieden und Störungen der Leistungsversorgung
Takttreiberschaltungen in einer Mehrfachzelle zumindest in
einer Linie angeordnet werden, wobei die Größe eines
Transistors und die Breite einer Leistungsversorgungsleitung
der Takttreiberschaltung größer als die Größe anderer
Mehrfachzellen ausgeführt werden.
Aus der JP 7-22 511 (A) ist eine Halbleiterschaltungs
einrichtung bekannt, bei der eine Vortreiberzelle zur
Verteilung eines Takts auf eine Vielzahl von Positionen auf der
Halbleiterschaltungseinrichtung vorgesehen ist. Hierbei werden
Leitungen gleicher Länge bei der Verteilung der Taktsignale
über Haupttakttreiber und eine Verteilungsschaltung verwendet.
Aus der US 5 172 330 ist ferner eine Anordnung von Taktpuffern
im Randbereich einer logischen Schaltungsanordnung bekannt, bei
der die Auslegung der im Randbereich angeordneten Takt
versorgungsschaltungen durchgeführt werden kann, bevor der in
der Mitte der Halbleiterschaltungseinrichtung angeordnete
Bereich der Logikschaltungen fertig ausgelegt ist. Im einzelnen
sind die Taktpuffer im Randbereich angeordnet und mit
entsprechenden Leitungen, teilweise mittels eines
Taktversorgungs-Leitungsbaums mit den ein Taktsignal
benötigenden Logikschaltungen im mittleren Bereich der
Halbleiterschaltungseinrichtung verbunden.
Aus der US 5 045 725 ist eine integrierte Standardzelle
einschließlich Taktversorgungsleitungen bekannt, wobei jede
Standardzelle einen Bereich mit logischen Zellen aufweist und
zwei Versorgungsleitungen, bestehend aus einer Masseleitung und
einer Spannungsversorgungsleitung die Leistungsversorgung zu
dem Logikzellenbereich übernehmen. Parallel zu den Leistungs
versorgungsleitungen sind Taktsignalversorgungsleitungen
vorgesehen, welche zu beiden Seiten der Logikzellen verlaufen
und wobei die Logikzellen nach beiden Richtungen mit beiden
Taktsignalversorgungsleitungen zur Übertragung eines
Taktsignals verbunden sind. Auf diese Weise kann ein
Laufzeitunterschied bei der Taktversorgung der Logikzellen
vorherbestimmt werden.
Aus der JP 4-96 251 (A) ist eine integrierte Halbleiter
schaltungseinrichtung bekannt, bei der eine einheitliche
Belastung der den Logikzellen zugeführten Taktimpulse im
Bereich jeder Standardzellenreihe gewährleistet ist. Am Anfang
jeder Standardzellenreihe sind Taktsignalverstärkerzellen
angeordnet, von welchen aus mittels einer Leitungsverbindung
die Standardzellenreihe mit Taktsignalen versorgt wird.
Sämtliche Taktsignalverstärker sind mit einer zentralen
Taktquelle in Form eines Takttreibers verbunden.
Aus der JP 4-48 778 (A) ist schließlich eine integrierte
Halbleiterschaltungseinrichtung bekannt, bei der zur
Verminderung der Leitungsbelastung und zur Erzielung geringer
Taktlaufzeitunterschiede im voraus Taktsignalversorgungs
leitungen in gleicher Weise wie vorbestimmte
Leistungsversorgungsleitungen angeordnet werden. Die
Taktsignalversorgungsleitungen sind dabei in einem besonderen
reservierten Bereich angeordnet und sind über einen
Taktversorgungsbaum zur Zuführung eines Taktsignals mit den in
den Logikzellen angeordneten Schaltungen verbunden.
In neuerer Zeit wird von den integrierten
Halbleiterschaltungseinrichtungen gefordert, daß sie im
Vergleich zu früheren Entwicklungen höher integriert sind
und eine größere Arbeitsgeschwindigkeit aufweisen.
Diese Anforderungen haben u. a. zu einem Vorschlag
geführt, die Anzahl der internen Schaltungen in jeder
integrierten Halbleiterschaltungseinrichtung zu vergrößern
und die Schaltungen effektiver mit Taktsignalen mit einem
kleineren zeitlichen Versatz des Takts
(Taktlaufzeitunterschied, "skew") zu versorgen. Fig. 14
zeigt eine Draufsicht auf eine bekannte integrierte Halbleiter
schaltungseinrichtung gemäß dem vorstehenden
Vorschlag. Die bekannte integrierte
Halbleiterschaltungseinrichtung ist in der Japanischen
Offenlegungsschrift JP 7-14994 (A) offenbart.
Gemäß Fig. 14 umfaßt ein Halbleitersubstrat 100
eine Gruppe interner integrierter Schaltungen (Kernbereich)
101 und jeweils einander gegenüber angeordnete äußere
Schaltungsgruppen (Pufferbereiche) 102. Eine erste
Signaltreiberschaltung (Takteingangstreiber) 103 ist in
einer der gegenüberliegenden äußeren Schaltungsgruppen 102
angeordnet. Die erste Signaltreiberschaltung verstärkt ein
Referenzsignal (Taktsignal). Eine Vielzahl von zweiten
Signaltreiberschaltungen (Spaltentreiber) 104 ist in einer
anderen der jeweils einander gegenüberliegenden äußeren
Schaltungsgruppen 102 benachbart zur ersten äußeren
Schaltungsgruppe angeordnet. Die zweiten
Signaltreiberschaltungen 104 sind an beiden Enden der
internen integrierten Schaltungsgruppe 101 benachbart zu
den äußeren Schaltungsgruppen 102 angeordnet. Erste
Signalleitungen 105 verbinden die ersten und zweiten
Signaltreiberschaltungen 103 und 104. Zweite
Signalleitungen 106 verbinden die zweiten
Signaltreiberschaltungen 104 mit der internen integrierten
Schaltungsgruppe 101.
Gemäß dem vorstehenden Aufbau verstärkt die erste
Signaltreiberschaltung 103 das Bezugssignal. Das verstärkte
Bezugssignal wird den zweiten Signaltreiberschaltungen 104
über die ersten Signalleitungen 105 zugeführt, die
symmetrisch aus der Sicht der ersten
Signaltreiberschaltungen 103 angeordnet sind. Die zweiten
Signaltreiberschaltungen 104 verstärken das Bezugssignal
und ermöglichen, daß ein einheitliches Bezugssignal den
zweiten, kammförmig angeordneten zweiten Signalleitungen
106 zugeführt wird. Dies führt zu einer Verminderung von
Änderungen im Bezugssignal, das die innere integrierte
Schaltungsgruppe 101 erreicht. Unter Verwendung des mit
verminderten Signalverzögerungen (Laufzeitunterschieden)
bereitgestellten Bezugssignals verarbeitet die interne
integrierte Schaltungsgruppe 101 eine Vielzahl von
Signalen.
Ein weiterer technischer Vorschlag in Verbindung
mit der vorstehend angegebenen integrierten
Halbleiterschaltungseinrichtung umfaßt das Einbauen einer
einfach einbaubaren Takttreiberschaltung mit hoher
Ansteuerungsleistung ohne Vergrößerung der Fläche des
Halbleitersubstrats. Fig. 15 zeigt eine Draufsicht auf eine
weitere bekannte integrierte
Halbleiterschaltungseinrichtung gemäß dem vorstehenden
Vorschlag, die in der Japanischen Offenlegungsschrift JP-6-
236923 offenbart ist.
In Fig. 15 ist ein Makrozellenlayoutbereich 201
auf einem Halbleitersubstrat 100 angeordnet. Eine
Leistungsversorgungsleitung 202a dient zur Versorgung mit
dem Versorgungspotential VDD. Die
Leistungsversorgungsleitung 202a besteht aus einer zweiten
Aluminiumverdrahtungsschicht, die senkrecht zum
Makrozellenlayoutbereich 201 angeordnet ist. Eine
Masseleitung 202b dient zur Versorgung mit dem
Massepotential GND. Die Masseleitung 202b besteht ebenfalls
aus der zweiten Aluminiumverdrahtungsschicht, die senkrecht
zum Makrozellenlayoutbereich 201 parallel zur
Leistungsversorungsleitung 202a angeordnet ist. Die
Masseleitung 202b und die Leistungsversorgungsleitung 202a
bilden ein Leistungsversorgungsleitungspaar. Eine
Leistungsversorgungsleitung 203 ist über dem
Makrozellenlayoutbereich angeordnet. Die
Leistungsversorgungsleitung 203a ist mit der
Leistungsversorgungsleitung 202a über Durchgangslöcher 204a
verbunden und besteht aus einer ersten
Aluminiumverdrahtungsschicht. Eine Masseleitung 203b ist
unterhalb des Makrozellenlayoutbereichs angeordnet. Die
Masseleitung 203b ist über Durchgangslöcher 204b mit der
Masseleitung 202b verbunden und besteht aus der ersten
Aluminiumverdrahtungsschicht.
Ferner ist eine Makrozelle 205 unterhalb der
Leistungsversorgungsleitungen im Makrozellenlayoutbereich
angeordnet und umfaßt Funktionen einschließlich derjenigen
von Treiberschaltungen. Eine Eingangssignalleitung 206 ist
mit dem Eingangsknoten der Makrozelle 205 über ein
Durchgangsloch 207 zur Eingabe eines Signals in die Zelle
verbunden. Die Eingangssignalleitung 206 erstreckt sich
zwischen die Leistungsversorgungsleitung 202a und die
Masseleitung 202b und parallel zu diesen und besteht aus
der zweiten Aluminiumverdrahtungsschicht. Eine
Ausgangssignalleitung 208 ist mit dem Ausgangsknoten der
Makrozelle 205 über Durchgangslöcher 209 zur Ausgabe eines
Signals durch die Zelle verbunden. Die
Ausgangssignalleitung 208 erstreckt sich ebenfalls zwischen
die Leistungsversorgungsleitung 202a und die Masseleitung
202b und parallel zu diesen und besteht aus der zweiten
Aluminiumverdrahtungsschicht. Bei der bekannten
integrierten Halbleiterschaltungseinrichtung des vorstehend
angegebenen Typs ist die Makrozelle 205 mit Funktionen
einschließlich derjenigen von Treiberschaltungen, unterhalb
des Leistungsversorgungsleitungspaars, bestehend aus der
Leitungsversorgungsleitung 202a und der Masseleitung 202b
angeordnet. Diese Anordnung erleichtert die
Leistungsversorgung zur Makrozelle 205 und dient zur
Verminderung der durch die Makrozelle 205 belegten Fläche
auf den Halbleitersubstrat.
Da für integrierte Halbleiterschaltungen weiterhin
eine höhere Integration und eine größere
Verarbeitungsgeschwindigkeit als bisher gefordert wird,
entsteht ein steigender Bedarf an Takttreiberschaltungen
mit einer Treiberfähigkeit, die wesentlich größer als die
bisherige Treiberfähigkeit ist, und wobei die
Takttreiberschaltungen einen kleineren zeitlichen Versatz
der Taktsignale (Laufzeitunterschiede) aufweisen.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde,
eine integrierte Halbleiterschaltungseinrichtung mit Makrozellenlayoutbereichen
wie ein Gate-Array oder ein eingebettetes Zellen-Array
einschließlich einer Vielzahl von internen Schaltungen, die
jeweils ein Taktsignal erfordern, und in jeder der
Vielzahl der Makrozellenlayoutbereich angeordnete
Takttreiberschaltungen derart auszugestalten, daß eine
Versorgung mit einem Taktsignal mit einem minimalen
Laufzeitunterschied gewährleistet ist, ohne daß die für
andere Makrozellen zur Verfügung stehende Fläche
verkleinert wird.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß mit den im
Patentanspruch 1 angegebenen Mitteln gelöst.
Hierbei umfaßt eine integrierte
Halbleiterschaltungseinrichtung ein Halbleitersubstrat mit
einer Vielzahl von in einer ersten Richtung in einer
Hauptebene des Halbleitersubstrats angeordneten
Makrozellenlayoutbereichen.
Eine Vielzahl von Elektrodenpaaren ist in einer
zweiten Richtung senkrecht zur ersten Richtung in jeder der
Vielzahl der Makrozellenlayoutbereiche des
Halbleitersubstrats angeordnet.
Jede der Vielzahl der Makrozellenlayoutbereiche
auf dem Halbleitersubstrat umfaßt eine Vielzahl von jeweils
in der zweiten Richtung angeordneten N-Diffusionsbereichen
und eine Vielzahl von jeweils in der zweiten Richtung
angeordneten P-Diffusionsbereichen, wobei die Vielzahl der
N-Diffusionsbereiche und die Vielzahl der P-
Diffusionsbereiche in der ersten Richtung ausgerichtet ist.
Jedes der Vielzahl der Elektrodenpaare besteht aus
einer ersten und einer zweiten Elektrode. Die erste
Elektrode ist zusammen mit einem dazwischen liegenden
Isolierfilm zwischen zwei benachbarten N-
Diffusionsbereichen der Vielzahl der N-Diffusionsbereiche,
die in jedem der Vielzahl der Makrozellenlayoutbereiche
angeordnet sind, ausgebildet. Die zweite Elektrode ist
zusammen mit einem dazwischen liegenden Isolierfilm
zwischen zwei benachbarten P-Diffusionsbereichen der
Vielzahl der P-Diffusionsbereiche ausgebildet, die entlang
der ersten Elektrode in der ersten Richtung angeordnet sind
und die in dem betreffenden Makrozellenlayoutbereich
vorgesehen sind. Jedes der Vielzahl der Elektrodenpaare und
jeder der N- und P-Diffusionsbereiche, die auf beiden
Seiten des betreffenden Elektrodenpaars angeordnet sind,
bilden eine Grundzelle.
Eine erste Makrozelle, bestehend aus einer
vorbestimmten Anzahl benachbarter Grundzellen
(Basiszellen), die als Logikschaltung arbeitet, ist in
jeder der Vielzahl der Makrozellenlayoutbereiche des
Halbleitersubstrats vorgesehen. Eine zweite Makrozelle,
bestehend aus einer vorbestimmten Anzahl benachbarter
Grundzellen, die als eine interne, ein Taktsignal
erfordernde Schaltung dient, ist in jeder von zumindest
zwei der Vielzahl der Makrozellenlayoutbereiche vorgesehen.
Die integrierte Halbleiterschaltungseinrichtung
umfaßt ferner eine erste Takttreiberschaltung
einschließlich einer Vielzahl von Vortreibern und einer
Vielzahl von Haupttreibern. Die Vielzahl der Haupttreiber
ist in vorbestimmten Abständen zueinander angeordnet und
aus einer vorbestimmten Anzahl von Grundzellen in den
Makrozellenlayoutbereichen ausgebildet, die mit der
Vielzahl der Vortreiber auf dem Halbleitersubstrat
angeordnet sind.
Eine erste gemeinsame Leitung ist linear in der
zweiten Richtung entlang des Makrozellenlayoutbereichs
angeordnet. Der Makrozellenlayoutbereiche umfaßt die
Vielzahl der Vortreiber und die Vielzahl der Haupttreiber.
Die erste gemeinsame Leitung ist elektrisch mit den
Eingangsknoten der Vielzahl der Vortreiber in der ersten
Takttreiberschaltung verbunden.
Eine zweite gemeinsame Leitung ist linear in der
zweiten Richtung entlang dem Makrozellenlayoutbereich
ausgebildet. Der Makrozellenlayoutbereich umfaßt die
Vielzahl der Vortreiber und die Vielzahl der Haupttreiber.
Die zweite gemeinsame Leistung ist elektrisch mit den
Ausgangsknoten der Vielzahl der Vortreiber und ebenfalls
mit den Eingangsknoten der Vielzahl der Haupttreiber in der
ersten Takttreiberschaltung verbunden.
Eine dritte gemeinsame Leitung ist linear in der
zweiten Richtung entlang dem Makrozellenlayoutbereich
ausgebildet. Der Makrozellenlayoutbereich umfaßt die
Vielzahl der Vortreiber und die Vielzahl der Haupttreiber.
Die dritte gemeinsame Leitung ist elektrisch mit den
Ausgangsknoten der Vielzahl der Haupttreiber verbunden.
Die Vielzahl der Makrozellenlayoutbereiche auf dem
Halbleitersubstrat ist aufgeteilt in eine Vielzahl von
Abschnitten in der zweiten Richtung, und jeder der
aufgeteilten Abschnitte ist mit einer Takttreiberschaltung
ausgestattet. Jeder der Takttreiberschaltungen im
entsprechenden aufgeteilten Abschnitt umfaßt eine Vielzahl
von Vortreibern, bestehend aus einer vorbestimmten Anzahl
von benachbarten, in linearer Anordnung vorgesehenen
Grundzellen. Die Vielzahl der Vortreiber ist vorgesehen für
jeden von zumindest zwei der Vielzahl der
Makrozellenlayoutbereiche auf dem Halbleitersubstrat. Eine
Vielzahl von Haupttreibern bestehend aus einer
vorbestimmten Anzahl benachbarter Grundzellen umfaßt
jeweils die Vielzahl der Vortreiber und ist linear
angeordnet. Die Vielzahl der Haupttreiber ist für jede der
zumindest zwei Makrozellenlayoutbereiche vorgesehen, und
für andere Makrozellenlayoutbereiche als diejenigen, die
die Vielzahl von Vortreibern auf dem Halbleitersubstrat
aufweisen.
In jedem der aufgeteilten Abschnitte ist eine
vierte gemeinsame Leitung linear in der ersten Richtung auf
der Vielzahl von Vortreibern und der Vielzahl von
Haupttreibern in der zweiten Takttreiberschaltung der
betreffenden aufgeteilten Abschnitte vorgesehen. Die vierte
gemeinsame Leitung ist elektrisch mit den Eingangsknoten
der Vielzahl der Vortreiber in der zweiten
Takttreiberschaltung der betreffenden aufgeteilten
Abschnitte vorgesehen und ist ferner elektrisch mit der
dritten gemeinsamen Leitung verbunden.
Eine fünfte gemeinsame Leitung ist linear in der
ersten Richtung auf der Vielzahl der Vortreiber und der
Vielzahl der Haupttreiber in der zweiten
Takttreiberschaltung des betreffenden aufgeteilten
Abschnitts vorgesehen. Die fünfte gemeinsame Leitung ist
elektrisch mit den Ausgangsknoten der Vielzahl der
Vortreiber in der zweiten Takttreiberschaltung des
betreffenden aufgeteilten Abschnitts verbunden. Die fünfte
gemeinsame Leitung ist ferner elektrisch mit den
Eingangsknoten der Vielzahl der Haupttreiber in der zweiten
Takttreiberschaltung des betreffenden aufgeteilten
Abschnitts verbunden.
Eine sechste gemeinsame Leitung ist linear in der
ersten Richtung auf der Vielzahl der Vortreiber und der
Vielzahl der Haupttreiber in der zweiten
Takttreiberschaltung des betreffenden aufgeteilten
Abschnitts verbunden. Die sechste gemeinsame Leitung ist
elektrisch mit den Ausgangsknoten der Vielzahl der
Haupttreiber in der zweiten Takttreiberschaltung des
betreffenden aufgeteilten Abschnitts verbunden.
Eine Vielzahl von Taktsignalversorgungsleitungen
entspricht der Vielzahl der Makrozellenlayoutbereiche, die
jeweils die zweite Makrozelle beinhalten. Die Vielzahl der
Taktsignalversorgungsleitungen ist linear in der zweiten
Richtung ausgebildet und elektrisch mit der sechsten
gemeinsamen Leitung verbunden. Die Vielzahl der
Taktsignalversorgungsleitungen ist ferner elektrisch mit
einem Takteingangsknoten einer internen, als zweite
Makrozelle arbeitenden Schaltung verbunden, die im
entsprechenden Makrozellenlayoutbereich vorgesehen ist.
Erfindungsgemäß ist in der integrierten
Halbleiterschaltungseinrichtung der mit der ersten
Takttreiberschaltung ausgestattete Makrozellenlayoutbereich
zentral in der ersten Richtung angeordnet.
In der integrierten
Halbleiterschaltungseinrichtung gemäß der vorliegenden
Erfindung sind die dritte und vierte gemeinsame Leitung
elektrisch miteinander an einem gemeinsamen Schnittpunkt
verbunden.
Erfindungsgemäß umfaßt die integrierte
Halbleiterschaltungseinrichtung fernen einen in der
Hauptebene des Halbleitersubstrats ausgebildeten
Takteingangstreiber. Ein Eingangsknoten des
Takteingangstreibers ist elektrisch über eine
Takteingangsleitung mit einem in der Hauptebene des
Halbleitersubstrats ausgebildeten Takteingangspad
ausgebildet. Ein Ausgangsknoten des Takteingangstreibers
ist elektrisch mit der ersten gemeinsamen Leitung
verbunden.
Bei der integrierten
Halbleiterschaltungseinrichtung gemäß der vorliegenden
Erfindung ist der Takteingangstreiber in dem mit der ersten
Takttreiberschaltung ausgestatteten
Makrozellenlayoutbereich angeordnet.
Bei der integrierten
Halbleiterschaltungseinrichtung gemäß der Erfindung sind
die vierte, fünfte und sechste gemeinsame Leitung zentral
in der zweiten Richtung in dem betreffendem aufgeteilten
Abschnitt angeordnet, und der zentrale Bereich (mittlerer
Bereich) der Vielzahl der Taktsignalversorgungsleitungen
der betreffenden aufgeteilten Abschnitte ist elektrisch mit
der sechsten gemeinsame Leitung verbunden.
Desweiteren umfaßt erfindungsgemäß in der
integrierten Halbleiterschaltungseinrichtung jeder der
aufgeteilten Abschnitte zumindest ein
Leistungsversorgungsleitungspaar. Das
Leistungsversorgungsleitungspaar besteht aus einer
Leistungsversorgungsleitung, der ein Versorgungspotential
zugeführt wird, und einer dazu benachbarten und parallel
zur Leistungversorgungsleitung angeordneten Masseleitung,
der ein Massepotential zugeführt wird. Das
Leistungsversorgungleitungspaar ist linear in der ersten
Richtung in der Hauptebene des Halbleitersubstrats
ausgebildet. Die Vielzahl der Vortreiber und die Vielzahl
der Haupttreiber in jedem der aufgeteilten Abschnitte ist
zwischen der Leistungsversorgungsleitung und der
Masseleitung zur Bildung des
Leistungsversorgungsleitungspaars für den entsprechenden
aufgeteilten Abschnitt angeordnet.
In den Unteransprüchen sind vorteilhafte
Ausgestaltungen der Erfindung gekennzeichnet.
Die Erfindung wird nachstehend anhand von
Ausführungsbeispielen unter Bezugnahme auf die Zeichnungen
näher erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 eine Draufsicht auf einen vorgefertigten
Chip (Masterchip) zur Verwendung bei der integrierten
Halbleiterschaltungseinrichtung gemäß dem vorliegendem
Ausführungsbeispiel,
Fig. 2 eine teilweise vergrößerte Ansicht der in
Fig. 1 schematisch dargestellten Einrichtungen,
Fig. 3 eine Schaltungsanordnung gemäß dem ersten
Ausführungsbeispiel,
Fig. 4 eine Schaltungsanordnung der Vortreiber 15
(1) bis 15 (n) und 22 (1) bis 22 (n) gemäß Fig. 3,
Fig. 5 eine Schaltungsanordnung der Haupttreiber
19 (1) bis 19 (m) und 25 (1) bis 25 (m) gemäß Fig. 3,
Fig. 6 eine Draufsicht auf die integrierte
Halbleiterschaltungseinrichtung gemäß dem ersten
Ausführungsbeispiel,
Fig. 7 eine teilweise vergrößerte Draufsicht auf
die Vortreiber 15 (1) bis 15 (n) der in Fig. 6 gezeigten
ersten Takttreiberschaltung 14,
Fig. 8 eine teilweise vergrößerte Draufsicht auf
die Haupttreiber 19 (1) bis 19 (m) der in Fig. 6 gezeigten
ersten Takttreiberschaltung 14,
Fig. 9 eine teilweise vergrößerte Draufsicht auf
die Vortreiber 22a (1) bis 22a (n), 22b (1) bis 22b (n) und
22c (1) bis 22c (n) der in Fig. 6 gezeigten zweiten
Takttreiberschaltungen 21a bis 21c,
Fig. 10 eine teilweise vergrößerte Draufsicht auf
die Haupttreiber 25a (1) bis 25a (n), 25b (1) bis 25b (n)
und 25c (1) bis 25c (n) der in Fig. 6 gezeigten zweiten
Takttreiberschaltungen 21a bis 21c,
Fig. 11 eine Draufsicht auf die integrierte
Halbleiterschaltungseinrichtung gemäß einem zweiten
Ausführungsbeispiel,
Fig. 12 eine Draufsicht auf die dritten
gemeinsamen Leitungen 22a, 22b und 22c, sowie auf die
Taktsignalversorgungsleitungen 21a (1) bis 21a (s), 21b (1)
bis 21b (s) und 21c (1) bis 21c (s) gemäß der Darstellung
in Fig. 11,
Fig. 13 eine Draufsicht auf die vierten bis
sechsten gemeinsamen Leitungen 23a bis 23c, 24a bis 24c und
28a bis 28c gemäß der Darstellung in Fig. 11,
Fig. 14 eine Draufsicht auf eine bekannte
integrierte Halbleiterschaltungseinrichtung, und
Fig. 15 eine teilweise Draufsicht auf eine weitere
bekannte integrierte Halbleiterschaltungseinrichtung.
Unter Bezugnahme auf die Fig. 1 bis 10 wird
nachstehend ein erstes Ausführungsbeispiel beschrieben.
Nachstehend wird zuerst unter Bezugnahme auf die Fig. 1 und
2 ein Halbleitersubstrat und ein vorgefertigter Chip
(Masterchip) einer integrierten
Halbleiterschaltungseinrichtung wie ein Gate-Array oder ein
eingebettetes Zellen-Array als praktische Ausführung des
ersten Ausführungsbeispiels beschrieben.
Gemäß Fig. 1 umfaßt in dem ersten
Ausführungsbeispiel ein Halbleitersubstrat 1 einen
Zellenbereich (interner Bereich oder Kernbereich) 2 in
einer Hauptebene, die von Pufferbereichen (Außenbereiche) 3
umgeben ist. In dem Zellenbereich 2 (Fig. 2) in der Hauptebene des
Halbleitersubstrats 1 bilden erste Elektroden 4 und zweite
Elektroden 5, die jeweils in der ersten Richtung (in der
Figur in Längsrichtung) angeordnet sind, Elektrodenpaare,
die in einer zweiten Richtung (in Querrichtung in der
Figur) angeordnet sind. Die Elektrodenpaare bilden eine
Vielzahl von in der ersten Richtung angeordneten
Elektrodenpaargruppen.
In dem Zellenbereich in der Hauptebene des
Hautpleitersubstrats 1 ist gemäß Fig. 2 eine Vielzahl von
N-Diffusionsbereichen 6 in der zweiten Richtung
entsprechend den ersten Elektroden 4 jeder
Elektrodenpaargruppe angeordnet. Ferner ist eine Vielzahl
von P-Diffusionsbereichen 7 in der zweiten Richtung
entsprechend den zweiten Elektroden 5 jeder
Elektrodenpaargruppe angeordnet. Diese
Elektrodenpaargruppen sind in der ersten Richtung
angeordnet.
Jede erste Elektrode 4 und die benachbarten beiden
N-Diffusionsbereiche 6 bilden einen N-MOS-Transistor, und
jede zweite Elektrode 5 und die beiden benachbarten P-
Diffusionsbereiche 7 bilden einen P-MOS-Transistor. Ein N-
MOS-Transistor und P-MOS-Transistor, die in der ersten
Richtung angeordnet sind, bilden eine Grundzelle 8. Der
Zellenbereich 2 des Halbleitersubstrats 1 ist mit
Grundzellen 8 gefüllt, wobei jede aus einem N- und einem P-
MOS-Transistor besteht und in der ersten und zweiten
Richtung matrixartig angeordnet ist. Der Zellenbereich 2
des Halbleitersubstrat 1 bildet den sog. vorgefertigten
Chip oder Masterchip, wenn er entsprechende Grundzellen
aufweist.
Logikschaltungen einschließlich AND- oder OR-
Schaltungen und die internen Schaltungen wie Flip-Flop-
Schaltungen, die jeweils ein Taktsignal erfordern, sind in
einer Zellenstruktur angeordnet und bestehen aus einer
vorbestimmten Anzahl von Grundzellen. In der nachfolgenden
Beschreibung werden die Logikschaltungen und die internen
Schaltungen jeweils als erste Makrozelle und zweite
Makrozelle bezeichnet. Somit sind in dem Zellenbereich 2
des Halbleitersubstrats 1 gemäß der Darstellung in Fig. 1
eine Vielzahl von Makrozellenlayoutbereichen 9 in der
ersten Richtung vorgesehen. Zwischen jeweils zwei
Makrozellenlayoutbereichen 9 befindet sich ein
Verdrahtungsbereich 10. Jeder Verdrahtungsbereich 10
verbindet elektrisch die Makrozellen in den
Makrozellenlayoutbereichen 9. Jeder
Makrozellenlayoutbereich 9 besteht aus einer Reihe von in
der zweiten Richtung angeordneten Grundzellen 8. Jeder
Verdrahtungsbereich 10 besteht aus einer Leitung oder einer
Vielzahl von in der zweiten Richtung entsprechend der
Anzahl der Reihen der in der zweiten Richtung angeordneten
Grundzellen ausgebildeten Leitungen. Die Pufferbereiche 3
auf dem Halbleitersubstrat nehmen Schaltungen
einschließlich Eingangspufferschaltungen,
Ausgangspufferschaltungen und
Eingangs/Ausgangspufferschaltungen auf.
Bei den integrierten
Halbleiterschaltungseinrichtungen gemäß dem vorstehend
beschriebenen Aufbau ist jede Takttreiberschaltung in jeder
zweiten Makrozelle zur Bildung einer internen Schaltung wie
Flip-Flop-Schaltungen, die ein Taktsignal erfordern,
ausgebildet. Takttreiberschaltungen werden verwendet zur
Versorgung der integrierten Halbleiterschaltungseinrichtung
mit externen Taktsignalen.
Unter Bezugnahme auf die Fig. 3 wird nachstehend
eine Takttreiberschaltung gemäß dem ersten
Ausführungsbeispiel beschrieben. In Fig. 3 umfaßt eine
Takttreiberschaltung einen elektrisch mit einem
Takteingangspad 12 über eine Takteingangsleitung 13
verbundenen Eingangsknoten. Eine erste Takttreiberschaltung
14 gibt in Abhängigkeit vom Empfang eines Taktsignals vom
Takteingangstreiber 11 ein Taktsignal ab. Die erste
Takttreiberschaltung 14 ist in dem Makrozellenlayoutbereich
9 angeordnet, der mittig in der ersten Richtung im
Zellenbereich 2 des vorgefertigten Chips gemäß Fig. 1
angeordnet ist. Die erste Takttreiberschaltung 14 umfaßt
eine Vielzahl von Vortreibern 15 (1) bis 15 (n) und eine
Vielzahl von Haupttreibern 19 (1) bis 19 (m).
Die Vielzahl der Vortreiber 15 (1) bis 15 (n) zur
Bildung der ersten Takttreiberschaltung 14 weisen
elektrisch mit einer ersten gemeinsamen Leitung 16
verbundene Eingangsknoten IN auf, und ihre Ausgangsknoten
OUT sind elektrisch mit einer zweiten gemeinsamen Leitung
18 verbunden. Die erste gemeinsame Leitung 16 ist
elektrisch mit dem Ausgangsknoten des Takteingangstreibers
11 über eine Taktausgangsleitung 17 verbunden. Gemäß der
Darstellung in Fig. 4 umfaßt jeder Vortreiber zwei in Reihe
geschaltete (kaskadierte) Inverterschaltungen, wobei jede
kaskadierte Inverter einen in Reihenschaltung verbunden P-
MOS-Transistor und einen N-MOS-Transistor umfaßt. Die
Vielzahl der Haupttreiber 19 (1) bis 19 (m) weisen
elektrisch mit der zweiten gemeinsamen Leitung 18
verbundene Eingangsknoten IN sowie elektrisch mit einer
dritten gemeinsamen Leitung 20 verbundene Ausgangsknoten
OUT auf. Gemäß der Darstellung in Fig. 5 umfaßt jeder
Haupttreiber zwei kaskadierte Inverterschaltungen, wobei
jede kaskadierte Inverter einen in Reihe geschalteten P-
MOS-Transistor und einen N-MOS-Transistor umfaßt.
Obwohl die Vortreiber 15 (1) bis 15 (n) und die
Haupttreiber 19 (1) bis 19 (m) jeweils zwei kaskadierte
Inverterschaltungen umfassen, können weitere
Inverterschaltungen zur Bildung jeder Treiberschaltung
entsprechend der Vorgehensweise des Fachmann kombiniert
werden. Vorzugsweise sollte die Anzahl der jeden Vortreiber
bildenden Inverterschaltungen und die Anzahl der jeden
Haupttreiber bildenden Inverterschaltungen bei der Addition
eine gerade Zahl ergeben.
Zweite Takttreiberschaltungen 21a bis 21t
entsprechen einem der Vielzahl der Abschnitte (aufgeteilt
in t Abschnitte) die bei der Vielzahl der
Makrozellenlayoutbereiche 9 aufgeteilt sind. Im einzelnen
sind die Makrozellenlayoutbereiche in einer Vielzahl von
Abschnitten in der zweiten Richtung im Zellenbereich 2 des
in Fig. 1 gezeigten Masterchips aufgeteilt. Jede zweite
Takttreiberschaltung 21a bis 21t führt den Makrozellen im
betreffenden Abschnitt ein Taktsignal zu.
Insbesondere wird den zweiten Makrozellen in jedem
Abschnitt ein Taktsignal der betreffenden zweiten
Takttreiberschaltungen 21a bis 21t zugeführt. Während des
Betriebs empfangen die zweiten Takttreiberschaltungen 21a
bis 21t das Taktsignal der ersten Takttreiberschaltung 14
und führen ihrerseits ein Taktsignal jeder entsprechenden
zweiten Makrozelle zu. Da die zweiten
Takttreiberschaltungen 21a bis 21t jeweils den gleichen
Schaltungsaufbau aufweisen, ist die nachfolgende
Beschreibung auf die zweite Takttreiberschaltung 21a als
repräsentatives Beispiel für diese Schaltungen beschränkt.
In diesem Zusammenhang sind die Zusätze a, b und t der
Bezugszeichen weggelassen, da sie lediglich zur
Identifikation der einzelnen Takttreiberschaltung dienen.
Jeder der Vielzahl der Vortreiber 22 (1) bis 22
(m) umfaßt Eingangsknoten IN, die elektrisch mit einer
vierten gemeinsamen Leitung 23 verbunden sind, und
Ausgangsknoten OUT, die elektrisch mit einer fünften
gemeinsamen Leitung 24 verbunden sind. Die vierte
gemeinsame Leitung 23 ist elektrisch mit der dritten
gemeinsamen Leitung 20 verbunden. Gemäß der Darstellung in
Fig. 4 umfaßt jeder Vortreiber zwei kaskadierte
Inverterschaltungen mit einer Reihenschaltung aus einem P-
MOS-Transistor und einem N-MOS-Transistor.
Jeder Haupttreiber aus der Vielzahl der
Haupttreiber 25 (1) bis 25 (m) umfaßt Eingangsknoten IN,
die elektrisch mit der fünften gemeinsamen Leitung 24
verbunden sind, und Ausgangsknoten OUT, die elektrisch mit
einer sechsten gemeinsamen Leitung 28 verbunden sind. Die
sechste gemeinsame Leitung 28 ist mit einer Vielzahl von
Taktsignalversogungsleitungen 27 (1) bis 27 (s) verbunden,
die ihrerseits elektrisch mit den Takteingangsknoten der
internen Schaltungen (zweite Makrozellen) 26 verbunden
sind, die jeweils ein Taktsignal benötigen. Gemäß Fig. 5
umfaßt jeder Haupttreiber beispielsweise zwei kaskadierte
Inverterschaltungen mit einer Reihenschaltung aus einem P-
MOS-Transistor und einem N-MOS-Transistor.
Obwohl die Vortreiber 22 (1) bis 22 (m) und die
Haupttreiber 25 (1) bis 25 (m) jeweils zwei kaskadierte
Inverterschaltungen umfassen, sind alternative Anordnungen
im Rahmen des vorliegenden Ausführungsbeispiels möglich.
Beispielsweise können wesentlich mehr Inverterschaltungen
zur Bildung einer Treiberschaltung miteinander kombiniert
werden. Dabei sollte jedoch vorzugsweise die Anzahl der
Inverterschaltungen zur Bildung der Vortreiber und die
Anzahl der Inverterschaltungen zur Bildung der Haupttreiber
bei einer Addition eine gerade Zahl ergeben. In einer
weiteren Alternative kann der Takteingangstreiber 11 zwei
kaskadierte Inverterschaltungen in gleicher Weise wie bei
den Vortreibern 15 (1) bis 15 (n) und 22 (1) bis 22 (m),
sowie bei den Haupttreibern 19 (1) bis 19 (m) und 25 (1)
bis 25 (m) gemäß den Fig. 4 und 5 aufweisen.
Nachstehend werden im einzelnen die erste
Takttreiberschaltung 14 und die zweiten
Takttreiberschaltungen 21a bis 21t beschrieben, deren
Schaltungsaufbau in Fig. 3 gezeigt ist und die auf dem in
den Fig. 1 und 2 gezeigten Masterchip angeordnet sind.
Bei dem nachstehend beschriebenen Beispiel sind die
Treiberschaltungen in 3 Abschnitte in der zweiten Richtung
im Zellenbereich 2 des Masterchips aufgeteilt. Jeder der
drei Abschnitte umfaßt die zweiten Takttreiberschaltungen
21a bis 21t. Obwohl bei diesem Beispiel 3 zweite
Takttreiberschaltungen 21a bis 21c in der Beschreibung
veranschaulicht sind, ist der Zusatz t nicht auf ein
Maximum von drei Takttreiberschaltungen beschränkt, sondern
kann eine ganze Zahl größer als 2 sein. Während Fig. 6 im
Hinblick auf eine vereinfachte Darstellung keine
Leistungsversorgungsleitungspaare, bestehend aus einer
Leistungsversorgungsleitung und einer Masseleitung zeigt,
sind die Leistungsversorgungsleitungspaare des ersten
Ausführungsbeispiels linear in vorbestimmten Abständen
zueinander (beispielsweise um 210 Grundzellen BC, wobei
eine Grundzelle eine Breite in der ersten Richtung
aufweist, die gemäß dem vorliegendem Ausführungsbeispiel
2.65 µm beträgt) über dem Zellenbereich 2 in der zweiten
Richtung in der Hauptebene des Halbleitersubstrats 1
angeordnet. Da sich der Zellenbereich 2 auf dem
Halbleitersubstrat 1 bei dem ersten Ausführungsbeispiel in
der zweiten Richtung um 9 mm erstreckt, ist jeder
Aufteilungsabschnitt mit einer Vielzahl von
Leistungsversorgungsleitungspaaren ausgestattet.
Nachstehend wird die erste Takttreiberschaltung 14
beschrieben. Die Vielzahl der Vortreiber 15 (1) bis 15 (n)
mit der ersten Takttreiberschaltung 14 sind in
vorbestimmten Abständen zueinander angeordnet und in eine
der Vielzahl der Makrozellenlayoutbereiche 9, d. h. im
mittig angeordneten Makrozellenlayoutbereich 9 (dem sog.
Treiber-Makrozellenlayoutbereich 9) im Fall des ersten
Ausführungsbeispiels angeordnet. Gemäß der detailierten
Darstellung in Fig. 7 sind die Vortreiber 15 (1) bis 15 (n)
jeweils dort angeordnet, wo der Treiber-
Makrozellenlayoutbereich 9 einen Schnittpunkt mit dem
Leistungsversorgungsleitungspaar, bestehend aus einer
Leistungsversorgungsleitung 31 und einer Masseleitung 32
bildet, d. h. jeder Vortreiber 15 (1) bis 15 (n) ist im
Treiber-Makrozellenlayoutbereich 9 zwischen der
Leistungsversorgungsleitung 31 und der Masseleitung 32, die
das Leistungsversorgungsleitungspaar bilden, angeordnet.
Die Verdrahtung in jedem der Vortreiber 15 umfaßt zumindest
eine erste oder zweite Verdrahtung wie bei der Verdrahtung
der als erste Makrozellen 40 arbeitenden Logikschaltungen,
der Verdrahtung in den als zweite Makrozellen 20
arbeitenden internen Schaltungen, der Verdrahtung zwischen
der Logikschaltungen und der Verdrahtung zwischen der
Logikschaltungen einerseits und den internen Schaltungen
andererseits. Die erste Verdrahtung ist linear in der
zweiten Richtung (in Querrichtung in Fig. 7) ausgebildet,
und die zweite Verdrahtung ist linear in der ersten
Richtung (in Längsrichtung in Fig. 7) ausgebildet. Die
erste Verdrahtung umfaßt die erste elektrische
Leitungsschicht, die zusammen mit einem dazwischen
liegenden Isolierfilm über den Elektrodenpaaren zur Bildung
der Grundzelle 8 angeordnet ist. Die zweite Verdrahtung
umfaßt die zweite elektrische Leitungsschicht, die zusammen
mit einem dazwischen liegenden Isolierfilm über der ersten
elektrischen Leitungsschicht ausgebildet ist. Die
Positionen der ersten und zweiten elektrischen
Leitungsschichten können beispielsweise auch in vertikaler
Richtung vertauscht werden. Die erste und zweite
elektrische Leitungsschicht umfaßt Aluminiumschichten
einschließlich Aluminiumlegierungsschichten.
Der Leistungsversorgungsleitung 31 wird ein
Leistungsversorgungspotential zugeführt, und die
Masseleitung 32 erhält ein Massepotential. Die
Leistungsversorgungsleitung 31 und die Masseleitung 32 zur
Bildung jedes Leistungsversorgungsleitungspaars sind
parallel zueinander angeordnet und mittels der zweiten
elektrischen Leitungsschicht ausgebildet. Die
Leistungsversorgungsleitungspaare umfassen jeweils die
Leistungsversorgungsleitung 31 und die Masseleitung 32 und
sind linear über dem Zellenbereich 2 in der ersten Richtung
in der Hauptebene des Halbleitersubstrats 1 ausgebildet.
Bei dem ersten Ausführungsbeispiel beträgt der Abstand
zwischen dem Außenbereich der Leistungsversorgungsleitung
31 und demjenigen der Masseleitung 32, die jedes
Leistungsversorgungsleitungspaar bilden, 46 BC
(Grundzellen). Dies bedeutet, daß jeder Vortreiber 15
zwischen der Leistungsversorgungsleitung 31 und der
Masseleitung 32 ausgebildet ist.
In Fig. 7 ist die Länge des Vortreibers 15 in der
zweiten Richtung für einen Bereich vom Außenbereich der
Leistungsversorgungsleitung 31 zu demjenigen der paarweise
zugehörigen Masseleitung 32 gezeigt. Es sind jedoch auch
alternative Anordnungen möglich. Beispielsweise kann in
Abhängigkeit vom Aufbau der Vortreiber 15 alternativ kürzer
als der Abstand zwischen dem Außenbereich der
Leistungsversorgungsleitung 31 und demjenigen der paarweise
zugehörigen Masseleitung 32 ausgeführt sein, solange jeder
Vortreiber 15 zwischen der Leistungsversorgungsleitung 31
und der paarweise zugehörigen Masseleitung 32 zur Bildung
des Leistungsversorgungsleitungspaars angeordnet ist.
Gemäß der Darstellung in Fig. 7 wird jedem
Vortreiber 15 das Leistungspotential Vcc mittels der
Leistungsversorgungsleitung 31 über eine weitere
Leistungsversorgungsleitung 29 zugeführt. Den Vortreibern
15 wird ebenfalls das Massepotential GND mittels der
Masseleitung 32 zugeführt, die mit dem Vortreiber über eine
weitere Masseleitung 30 verbunden ist. Die
Leistungsversorgungsleitungen 29 umfassen die erste
elektrische Leitungsschicht und sind elektrisch mit den
Vortreibern 15 über Kontaktlöcher 33 (Durchgangslöcher),
sowie mit den Leistungsversorgungsleitungen 31 über
Kontaktlöcher 34 verbunden. Die Masseleitungen 30 umfassen
die erste elektrische Leitungsschicht und sind elektrisch
mit den Vortreibern 15 über Kontaktlöcher 35 sowie mit den
Masseleitungen 32 über Kontaktlöcher 36 verbunden.
Die Haupttreiber 19 (1) bis 19 (m) mit der ersten
Takttreiberschaltung 14 sind in vorbestimmten Abständen
zueinander angeordnet. Bei dem ersten Ausführungsbeispiel
sind die Haupttreiber 19 und die Vortreiber 15 im Treiber-
Makrozellenlayoutbereich 9 in wechselnder Reihenfolge
(alternierend) angeordnet. Hierbei sind doch alternative
Anordnungen denkbar. Beispielsweise kann die Anordnung der
Treiber in Abhängigkeit davon abgewandelt werden, wie viele
Vortreiber 15 und Haupttreiber 19 vorgesehen sind. Gemäß
der detaillierten Darstellung in Fig. 8 ist jeder
Haupttreiber 19 dort ausgebildet, wo jedes
Leistungsversorgungsleitungspaar, bestehend aus der
Leistungsversorgungsleitung 31 und der Masseleitung 32,
einen Schnittpunkt mit dem Makrozellenlayoutbereich 9
bildet, d. h. jeder Haupttreiber 19 ist im Treiber-
Makrozellenlayoutbereich 9 zwischen der
Leistungsversorgungsleitung 31 und der Masseleitung 32 zur
Bildung jedes Leistungsversorgungsleitungspaars angeordnet.
In gleicher Weise wie bei den Vortreibern 15 ist
die Verdrahtung innerhalb der Haupttreiber 19 durch
zumindest eine der ersten oder zweiten Verdrahtungen
gebildet, wobei die erste Verdrahtung linear in der zweiten
Richtung und die zweite Verdrahtung linear in der ersten
Richtung ausgerichtet ist. Jeder Haupttreiber 19 kann
zwischen der Leistungsversorgungsleitung 31 und der
paarweise zugehörigen Masseleitung 32 angeordnet sein.
Gemäß Fig. 8 erstreckt sich die Länge jedes Haupttreibers
19 in der zweiten Richtung in einen Bereich vom
Außenbereich der Leistungsversorgungsleitung 31 zu
demjenigen der paarweise zugehörigen Masseleitung 32.
Hierbei sind jedoch weitere alternative Anordnungen
denkbar. Beispielsweise können die Haupttreiber in
Abhängigkeit vom Aufbau alternativ kürzer als der Abstand
zwischen dem Außenbereich der Leistungsversorgungsleitung
31 und demjenigen der paarweise zugehörigen Masseleitung 32
ausgeführt sein, solange jeder Haupttreiber 19 zwischen der
Leistungsversorgungsleitung 31 und der paarweise
zugehörigen Masseleitung 32 zur Bildung des
Leistungsversorgungsleitungspaars angeordnet ist.
Gemäß Fig. 8 wird jedem Haupttreiber 19 das
Leistungsversorgungspotential Vcc mittels der
Leistungsversorgungsleitung 31 über eine weitere
Leistungsversorgungsleitung 29 zugeführt. Dem Haupttreiber
19 wird ebenfalls das Massepotential GND mittels der
Masseleitung 32 zugeführt, die mit dem Haupttreiber über
eine weitere Masseleitung 30 verbunden ist. Die
Leistungsversorgungsleitungen 29 sind elektrisch mit den
Haupttreibern 19 über Kontaktlöcher 37, sowie mit den
Leistungsversorgungsleitungen 31 über Kontaktlöcher 38
verbunden. Die Masseleitungen 30 sind elektrisch mit den
Haupttreibern 19 über Kontaktlöcher 39 und mit den
Masseleitungen 32 über Kontaktlöcher 40 verbunden. In den
anderen Bereichen als denen zwischen der
Leistungsversorgungsleitung 31 und der Masseleitung 32 zur
Bildung des Leistungsversorgungsleitungspaars im Treiber-
Makrozellenlayoutbereich 9 sind erste Makrozellen 55 und
zweite Makrozellen 26 in geeigneter Weise angeordnet.
Gemäß Fig. 6 ist die erste gemeinsame Leitung 16
linear in der zweiten Richtung entlang dem Treiber-
Makrozellenlayoutbereich 9 angeordnet. Die erste gemeinsame
Leitung 16 ist mittels der ersten elektrischen
Leitungsschicht gebildet. Gemäß Fig. 7 ist die erste
gemeinsame Leitung 16 elektrisch über eine Verdrahtung 41
mit den Eingangsknoten der Vortreiber 15 (1) bis 15 (n) zur
Bildung eines Kurzschlusses mit diesen Knoten verbunden.
Die Verdrahtung 41 ist mittels der zweiten elektrischen
Leitungsschicht ausgebildet und linear in der ersten
Richtung angeordnet.
Gemäß Fig. 6 ist die zweite gemeinsame Leitung 18
linear in der zweiten Richtung entlang des Treiber-
Makrozellenlayoutbereichs 9 angeordnet. Die zweite
gemeinsame Leitung 18 ist mittels der zweiten elektrischen
Leitungsschicht gebildet. Gemäß Fig. 7 ist die zweite
gemeinsame Leitung 18 elektrisch über eine Verdrahtung 42
mit den Ausgangsknoten der Vortreiber 15 (1) bis 15 (n) zum
Kurzschließen dieser Ausgangsknoten verbunden. Die
Verdrahtung 42 ist mittels der zweiten elektrischen
Leitungsschicht ausgebildet und linear in der ersten
Richtung angeordnet. Ferner ist gemäß Fig. 8 die zweite
gemeinsame Leitung 18 elektrisch durch eine Verdrahtung 43
mit den Eingangsknoten der Haupttreiber 19 (1) bis 19 (m)
zum Kurzschließen dieser Eingangsknoten verbunden. Die
Verdrahtung 43 ist mittels der zweiten elektrischen
Leitungsschicht ausgebildet und linear in der ersten
Richtung angeordnet.
Gemäß Fig. 6 ist die dritte gemeinsame Leitung 20
ebenfalls linear in der zweiten Richtung entlang des
Treiber-Makrozellenlayoutbereichs 9 angeordnet. Die dritte
gemeinsame Leitung 20 ist mittels der ersten elektrischen
Leitungsschicht gebildet. Gemäß Fig. 8 ist die dritte
gemeinsame Leitung 20 elektrisch über eine Verdrahtung 44
mit den Ausgangsknoten der Haupttreiber 19 (1) bis 19 (m)
zum Kurzschließen dieser Ausgangsknoten verbunden. Die
Verdrahtung 44 ist mittels der zweiten elektrischen
Leitungsschicht ausgebildet und linear in der ersten
Richtung angeordnet. Die Leitungsbreite der dritten
gemeinsamen Leitung 20 ist größer als diejenige der ersten
oder zweiten gemeinsamen Leitungen 16 oder 18 entsprechend
den nachfolgenden Gründen ausgeführt.
Die erste gemeinsame Leitung 16 ist mit den
Eingangsknoten der Vielzahl der Vortreiber 15 (1) bis 15
(n) verbunden. Gemäß Fig. 4 sind die Eingangsknoten IN mit
den Gate-Elektroden der P- und N-MOS-Transistoren
verbunden. Daher ist die Anschlußbelastung der ersten
gemeinsamen Leitung 16 gering. Die zweite gemeinsame
Leitung 18 ist mit den Eingangsknoten der Vielzahl der
Haupttreiber 19 (1) bis 19 (m) verbunden. Gemäß der
Darstellung in Fig. 5 sind die Eingangsknoten IN ebenfalls
mit den Gate-Elektroden der P- und N-MOS-Transitoren
verbunden. Somit ist die Anschlußbelastung der zweiten
gemeinsamen Leitung 18 ebenfalls gering. Im Gegensatz
hierzu ist die dritte gemeinsame Leitung 20 über vierte
gemeinsame Leitungen 23a bis 23c mit den Eingangsknoten
einer Vielzahl von Vortreibern 22a (1) bis 22a (m), 22b (1)
bis 22b (m) und 22c (1) bis 22c (m) der
Takttreiberschaltungen 21a bis 21c verbunden. Dies
bedeutet, daß die Anschlußbelastung der dritten gemeinsamen
Leitung 20 größer als diejenige der ersten oder zweiten
gemeinsamen Leitungen 16 oder 18 ist. Ferner ist die zweite
gemeinsame Leitung 18 bezüglich ihrer Leitungsbreite größer
als die erste gemeinsame Leitung 16 in Abhängigkeit von den
unterschiedlichen Anschlußbelastungen ausgeführt.
Nachstehend werden die drei zweiten
Takttreiberschaltungen 21a bis 21c beschrieben. Gemäß Fig.
6 sind die zweiten Takttreiberschaltungen 21a bis 21e
entsprechend der drei Aufteilungsabschnitte, bestehend aus
einer Vielzahl von in der zweiten Richtung (in Querrichtung
in Fig. 6) angeordneten Makrozellenlayoutbereichen 9 im
Zellenbereich 2 des Halbleitersubstrat 1 angeordnet. Die
zweite Takttreiberschaltung 21a ist in der Mitte des linken
Drittels des Aufteilungsabschnitts gemäß Fig. 6 in der
zweiten Richtung angeordnet. Die zweite
Takttreiberschaltung 21b ist mittig in der Mitte des
mittleren Drittels des Aufteilungsabschnitts gemäß Fig. 6
in der zweiten Richtung angeordnet. Die zweite
Takttreiberschaltung 21c ist in der Mitte des rechten
Drittels des Aufteilungsabschnitts gemäß Fig. 6 in der
zweiten Richtung angeordnet. Die drei
Takttreiberschaltungen 21a bis 21c sind somit in der
zweiten Richtung angeordnet.
Jede der zweiten Takttreiberschaltungen 21a bis
21c entspricht dem Makrozellenlayoutbereich 9, der zwischen
der Leistungsversorgungsleitung 31 und der Masseleitung 32
zur Bildung des Leistungsversorgungsleitungspaars mittig in
der zweiten Richtung im betreffenden Aufteilungsabschnitt
angeordnet ist. Der Makrozellenlayoutbereich nimmt die
Vortreiber 22a (1) bis 22a (m), 22b (1) bis 22b (m) und 22c
(1) bis 22c (m) sowie die Haupttreiber 25a (1) bis 25a (m),
25b (1) bis 25b (m) und 25c (1) bis 25c (m) auf.
Obwohl die drei Takttreiberschaltungen 21a bis 21c
an verschiedenen Stellen gemäß der vorstehenden
Beschreibung angeordnet sind, weisen sie denselben
Schaltungsaufbau auf. Daher wird lediglich die zweite
Takttreiberschaltung 21a nachstehend unter Bezugnahme auf
Fig. 6 stellvertretend für die drei zweiten
Takttreiberschaltungen zur Vereinfachung der Darstellung
beschrieben. Die Zusätze a, b und c der Bezugszeichen in
Fig. 6 sind in der nachfolgenden Beschreibung zur
Vereinfachung weggelassen.
Die Vortreiber 22 (1) bis 22 (m) zur Bildung der
zweiten Takttreiberschaltung 21 sind in vorbestimmten
Abständen zueinander und entlang einer einzelnen geraden
Linie in der ersten Richtung angeordnet und in jedem von
zumindest zwei der Vielzahl der Makrozellenlayoutbereiche 9
(n-Bereiche in dem vorliegenden Aufbau) angeordnet. Bei dem
vorliegenden ersten Ausführungsbeispiel ist der Abstand
zwischen jeweils zwei benachbarten Vortreibern 22 gleich
dem Abstand zu jedem anderen Makrozellenlayoutbereich.
Hierbei sind jedoch alternativ Anordnungen im Rahmen dieses
ersten Ausführungsbeispiels denkbar. Beispielsweise kann
der Abstand zwischen den Vortreibern 22 in angemessener
Weise in Abhängigkeit von der Anzahl der vorgesehenen
Vortreibern 22 bestimmt werden.
Im einzelnen ist gemäß Fig. 9 jeder Vortreiber 22
dort ausgebildet, wo das Leistungsversorgungsleitungspaar
bestehend aus der Leistungsversorgungsleitung 31 und der
Masseleitung 32 einen Schnittpunkt mit dem
Makrozellenlayoutbereich 9 bilden, d. h. jeder Vortreiber
ist im Makrozellenlayoutbereich 9 zwischen der
Leistungsversorgungsleitung 31 und der Masseleitung 32 zu
Bildung des Leistungsversorgungsleitungspaars angeordnet.
In gleicher Weise wie die Verdrahtung innerhalb der
Vortreiber 15 der ersten Takttreiberschaltung 14 gemäß Fig.
7 ist die Verdrahtung innerhalb jedes Vortreibers 22 durch
zumindest eine der ersten und zweiten Verdrahtungen
gebildet. Die erste Verdrahtung ist linear in der zweiten
Richtung und die zweite Verdrahtung ist linear in der
ersten Richtung angeordnet. Gemäß Fig. 9 erstreckt sich die
Länge jedes Vortreibers 22 in der zweiten Richtung in
einem Bereich vom Außenbereich der
Leistungsversorgungsleitung 31 zu demjenigen der paarweise
zugehörigen Masseleitung 32. Hierbei sind jedoch weitere
Abwandlungen denkbar. Beispielsweise kann in Abhängigkeit
von seinem Aufbau der Vortreiber 22 alternativ kürzer als
der Abstand zwischen dem Außenbereich der
Leistungsversorgungsleitung 31 und der paarweise
zugehörigen Masseleitung 32 ausgeführt sein, solange jeder
Vortreiber 22 zwischen der Leistungsversorgungsleitung 31
und der paarweise zugehörigen Masseleitung 32 zur Bildung
des Leistungsversorgungsleitungspaars angeordnet ist.
Gemäß der Darstellung in Fig. 9 wird jedem
Vortreiber 22 das Leistungsversorgungspotential Vcc mittels
der Leistungsversorungsleitung 31 über eine weitere
Leistungsversorgungsleitung 29 zugeführt. Dem Vortreiber 22
wird ebenfalls das Massepotential GND mittels der
Masseleitung 32 zugeführt, die mit dem Vortreiber über eine
weitere Masseleitung 30 verbunden ist. Die
Leistungsversorgungsleitungen 29 sind sämtlich in der
zweiten Richtung entlang des Makrozellenlayoutbereichs 9
auf einer Seite desselben (obere Seite in Fig. 9)
angeordnet. Die Leistungsversorgungsleitungen 29 sind
mittels der ersten elektrischen Leitungsschicht ausgebildet
und sind elektrisch mit den Vortreibern 22 über
Kontaktlöcher 33 sowie mit den
Leistungsversorgungsleitungen 31 über Kontaktlöcher 38
verbunden. Die Masseleitungen 30 sind sämtlich in der
zweiten Richtung entlang des Makrozellenlayoutbereichs 9
auf der anderen Seite desselben (untere Seite in Fig. 9)
angeordnet. Die Masseleitungen 30 sind mittels der ersten
elektrischen Leitungsschicht ausgebildet und sind
elektrisch mit den Vortreibern 22 über Kontaktlöcher 35,
sowie mit den Masseleitungen 32 über Kontaktlöcher 36
verbunden. Die Haupttreiber 25 (1) bis 25 (m) sind in
vorbestimmten Abständen zueinander entlang einer einzigen
geraden Linie in der ersten Richtung angeordnet und sind in
jedem von zumindest zwei (bis zu m bei diesem
Ausführungsbeispiel) Makrozellenlayoutbereichen 9 in
anderen als denjenigen, in denen die Vortreiber 22 (1) bis
22 (m) ausgebildet sind, angeordnet. Bei dem ersten
Ausführungsbeispiel ist der vorbestimmte Abstand zwischen
jeweils zwei benachbarten Haupttreibern gleich dem Abstand
zu jedem anderen Makrozellenlayoutbereich. Somit sind die
Haupttreiber 25 und die Vortreiber 22 entlang einer
einzigen geraden Linie in der ersten Richtung in
wechselnder Reihenfolge (alternierend) angeordnet.
Selbstverständlich sind hierbei ebenfalls andere
Anordnungen denkbar. Beispielsweise kann die Anordnung der
Treiber in Abhängigkeit von der vorgesehenen Anzahl der
Haupttreiber 25 geändert werden. Gemäß der detaillierten
Darstellung in Fig. 10 ist jeder Haupttreiber 25 dort
ausgebildet, wo jedes Leistungsversorgungsleitungspaar
bestehend aus einer Leitungsversorgungsleitung 31 und der
Masseleitung 32, einen Schnittpunkt mit dem
Makrozellenlayoutbereich 9 bildet, d. h. jeder Haupttreiber
ist im Makrozellenlayoutbereich 9 zwischen der
Leistungsversorgungsleitung 31 und der Masseleitung 32 zur
Bildung des Leistungsversorgungsleitungspaars angeordnet.
In gleicher Weise wie bei den Vortreibern 22
umfaßt die Verdrahtung innerhalb der Haupttreiber 25
zumindest eine der ersten und zweiten Verdrahtungen. Die
erste Verdrahtung ist linear in der zweiten Richtung und
die zweite Verdrahtung ist linear in der ersten Richtung
angeordnet. Jeder Haupttreiber 25 ist zwischen der
Leistungsversorgungsleitung 31 und der paarweise
zugehörigen Masseleitung 32 vorgesehen. Gemäß Fig. 10
erstreckt sich die Länge jedes Haupttreibers 25 in der
zweiten Richtung gemäß der Darstellung in einen Bereich vom
Außenbereich der Leistungsversorgungsleitung 31 zu
demjenigen der paarweise zugehörigen Masseleitung 32.
Hierbei sind jedoch weitere Abwandlungen denkbar.
Beispielsweise kann der Haupttreiber 25 in Abhängigkeit von
seinem Aufbau alternativ kürzer als der Abstand zwischen
dem Außenbereich der Leistungsversorgungsleitung 31 und
demjenigen der paarweise zugehörigen Masseleitung 32
vorgesehen sein, solange jeder Haupttreiber 25 zwischen der
Leistungsversorgungsleitung 31 und der paarweise
zugehörigen Masseleitung 32 zur Bildung des
Leistungsversorgungsleitungspaars angeordnet ist.
Gemäß Fig. 10 wird jedem Haupttreiber 25 das
Leistungsversorgungspotential Vcc durch die
Leistungsversorgungsleitung 31 über eine weitere
Leistungsversorgungsleitung 29 zugeführt. Dem Haupttreiber
25 wird ebenfalls das Massepotential GND mittels der
Masseleitung 32 zugeführt, die über eine weitere
Masseleitung 30 mit dem Haupttreiber 25 verbunden ist. Die
Leistungsversorgungsleitungen 29 sind elektrisch mit den
Haupttreibern 25 über Kontaktlöcher 37 sowie mit den
Leistungsversorgungsleitungen 31 über Kontaktlöcher 38
verbunden. Die Masseleitungen 30 sind elektrisch mit den
Haupttreibern 25 über Kontaktlöcher 39 sowie mit den
Masseleitungen 32 über Kontaktlöcher 40 verbunden.
Gemäß Fig. 6 ist die vierte gemeinsame Leitung 23
linear in der ersten Richtung über der Vielzahl der
Vortreiber 22 (1) bis 22 (m) und der Vielzahl der
Haupttreiber 25 (1) bis 25 (m) angeordnet. Die vierte
gemeinsame Leitung 23 ist mittels der zweiten elektrischen
Leitungsschicht gebildet und ist zwischen der
Leistungsversorgungsleitung 31 und der paarweise
zugehörigen Masseleitung 32 zur Bildung des
Leistungsversorgungsleitungspaars und parallel zu den
paarweisen angeordneten Leitungen vorgesehen. Wie es in
Fig. 9 dargestellt ist, ist die vierte gemeinsame Leitung
23 elektrisch mit den Eingangsknoten der Vortreiber 22 (1)
bis 22 (m) über Kontaktlöcher 46 zum Kurzschließen dieser
Eingangsknoten verbunden. Ferner ist gemäß Fig. 6 die
vierte gemeinsame Leitung 23 elektrisch über Kontaktlöcher
45 mit der dritten gemeinsamen Leitung 20 an einem
jeweiligen Schnittpunkt derselben verbunden.
Gemäß Fig. 6 ist die fünfte gemeinsame Leitung
linear in der ersten Richtung über der Vielzahl der
Vortreiber 22 (1) bis 22 (m) und der Vielzahl der
Haupttreiber 25 (1) bis 25 (m) angeordnet. Die fünfte
gemeinsame Leitung 24 ist mittels der zweiten elektrischen
Leitungsschicht gebildet und ist zwischen der
Leistungsversorgungsleitung 31 und der Masseleitung 32 zur
Bildung des Leitungsversorgungsleitungspaars und parallel
zur vierten gemeinsamen Leitung 23 angeordnet. Gemäß Fig.
9 ist die fünfte gemeinsame Leitung 24 elektrisch mit den
Ausgangsknoten der Vortreiber 22 (1) bis 22 (m) über
Kontaktlöcher 47 zum Kurzschließen dieser Ausgangsknoten
verbunden. Ferner ist gemäß Fig. 10 die fünfte gemeinsame
Leitung 24 elektrisch mit dem Eingangsknoten der
Haupttreiber 25 (1) bis 25 (m) über Kontaktlöcher 48 zum
Kurzschließen dieser Eingangsknoten verbunden.
Gemäß der Darstellung in Fig. 6 ist die sechste
gemeinsame Leitung 28 linear in der ersten Richtung über
der Vielzahl der Vortreiber 22a (1) bis 22 (m) und der
Vielzahl der Haupttreiber 25 (1) bis 25 (m) angeordnet. Die
sechste gemeinsame Leitung 28 ist mittels der zweiten
elektrischen Leitungsschicht ausgebildet und ist zwischen
der Leistungsversorgungsleitung 31 und der Masseleitung 32
zur Bildung des Leistungsversorgungsleitungspaars und
ebenfalls parallel zur vierten gemeinsamen Leitung 23
angeordnet. Gemäß Fig. 10 ist die sechste gemeinsame
Leitung 28 elektrisch mit den Ausgangsknoten der Vortreiber
25 (1) bis 25 (m) über Kontaktlöcher 49 zum Kurzschließen
dieser Knoten verbunden.
Gemäß Fig. 6 ist die Vielzahl der
Taktsignalversorgungsleitungen 27 (1) bis 27 (s) linear in
der zweiten Richtung entsprechend der Vielzahl der
Makrozellenlayoutbereiche 9 angeordnet, in denen die
zweiten Makrozellen 26 vorgesehen sind. Gemäß dem ersten
Ausführungsbeispiel ist eine Taktsignalversorgungsleitung
27 für jeweils einen Makrozellenlayoutbereich 9 vorgesehen.
Alternativ kann eine Taktsignalversorgungsleitung 27 für
jeweils zwei benachbarte Makrozellenlayoutbereiche 9 in
einem 1 : 2-Verhältnis vorgesehen sein. In einer weiteren
Alternative können die Taktsignalversorgungsleitungen 27
lediglich bei den Makrozellenlayoutbereichen 9 vorgesehen
sein, in denen die zweiten Makrozellen 26 vorgesehen sind.
Im letzteren Fall, bei dem eine zweite Makrozelle 29 in
jeweils zwei benachbarten Makrozellenlayoutbereichen 9
vorgesehen ist, können jeweils zwei benachbarte
Makrozellenlayoutbereiche 9 mit einer
Taktsignalversorgungsleitung 27 ausgestattet sein.
Die Taktsignalversorgungsleitungen 27 (1) bis 27
(s) sind mit der ersten elektrischen Leitungsschicht
ausgebildet und parallel zueinander in den
Verdrahtungsbereichen 10 vorgesehen. Die
Taktsignalversorgungsleitungen 27 (1) bis 27 (s) sind
elektrisch in ihrem mittleren Bereich mit der sechsten
gemeinsamen Leitung 28 über Kontaktlöcher 50 verbunden. Die
Taktsignalversorgungsleitungen 27 (1) bis 27 (s) sind
ebenfalls über eine Verdrahtung 51 mit den
Takteingangsknoten der als zweite Makrozellen 26
arbeitenden internen Schaltungen in den betreffenden
Makrozellenlayoutbereichen 9 verbunden. Die Verdrahtung 51
wird mittels der zweiten elektrischen Leitungsschicht
gebildet.
Die sechste gemeinsame Leitung 28 ist größer in
ihrer Breite als die vierte und fünfte gemeinsame Leitung
23 und 24. Die Gründe für die vergrößerte Breite der
sechsten gemeinsamen Leitung 28 werden nachfolgend
dargestellt. Die vierte gemeinsame Leitung 23 ist mit den
Eingangsknoten der Vielzahl der Vortreiber 22 (1) bis 22
(m) verbunden. Gemäß Fig. 4 sind die Eingangsknoten IN mit
den Gate-Elektroden der P- und N-MOS-Transistoren
verbunden. Daher ist die Anschlußbelastung der vierten
gemeinsamen Leitung 23 gering. Die fünfte gemeinsame
Leitung 24 ist mit den Eingangsknoten der Vielzahl der
Haupttreiber 25 (1) bis 25 (m) verbunden. Gemäß der
Darstellung in Fig. 5 sind die Eingangsknoten IN ebenfalls
mit den Gate-Elektroden der P- und N-MOS-Transistoren
verbunden. Somit ist die Anschlußbelastung der fünfter
gemeinsamen Leitung 24 ebenfalls gering. Im Gegensatz
hierzu ist die sechste gemeinsame Leitung 28 mit der
Vielzahl der Taktsignalversorgungsleitungen 27 (1) bis 27
(s), sowie mit den Takteingangsknoten der Vielzahl der
internen Schaltungen 26 verbunden. Dies bedeutet, daß die
Anschlußbelastung der sechsten gemeinsamen Leitung 28 groß
ist. Ferner ist die Leitungsbreite der fünften gemeinsamen
Leitung 24 größer als diejenige der vierten gemeinsamen
Leistung 23 in Abhängigkeit von der unterschiedlichen
Anschlußbelastung ausgeführt.
Gemäß der Darstellung in Fig. 6 ist der
Takteingangstreiber 11 mittig in der zweiten Richtung im
Makrozellenlayoutbereich 9 zur Aufnahme der ersten
Takttreiberschaltung 14 angeordnet. Bei dem vorliegendem
ersten Ausführungsbeispiel ist der Takteingangstreiber 11
zwischen der Leistungsversorgungsleitung 31 und der
paarweise zugehörigen Masseleitung 32 zur Bildung des
Leistungsversorgungsleitungspaars mittig in der zweiten
Richtung angeordnet. Der Eingangsknoten des
Takteingangstreibers 11 ist elektrisch über die
Takteingangsleitung 13 mit dem in der Hauptebene des
Halbleitersubstrats 1 angeordneten Takteingangspad 12
verbunden. Die Takteingangsleitung 13 wird mittels der
ersten und zweiten Verdrahtung gebildet, wobei die erste
Verdrahtung mittels der ersten elektrischen Leitungsschicht
ausgebildet ist und sich in der zweiten Richtung erstreckt,
während die zweite Verdrahtung mittels der zweiten
elektrischen Leitungsschicht ausgebildet ist und sich in
der ersten Richtung erstreckt.
Der Ausgangsknoten des Takteingangstreibers 11 ist
elektrisch mit der ersten gemeinsamen Leitung 16 über die
Taktausgangsleitung 17 verbunden. Die Taktausgangsleitung
17 wird mittels der ersten und zweiten Verdrahtung
gebildet, wobei die erste Verdrahtung mittels der ersten
elektrischen Leitungsschicht gebildet ist und sich in der
zweiten Richtung erstreckt und die zweite Verdrahtung
mittels der zweiten elektrischen Leitungsschicht gebildet
ist und sich in der ersten Richtung erstreckt. Ein Ende der
Taktausgangsleitung 17 ist elektrisch mit dem
Ausgangsknoten des Takteingangstreibers 11 verbunden, und
das andere Ende der Taktausgangsleitung 17 ist elektrisch
mit dem mittleren Bereich der ersten gemeinsamen Leitung 16
in der zweiten Richtung verbunden.
Gemäß Fig. 6 sind die als Logikschaltungen
arbeitenden ersten Makrozellen 55 und die als interne
Schaltungen mit Bedarf an einem Taktsignal arbeitenden
zweiten Makrozellen 26 in zufälliger Anordnung im Hinblick
auf eine vereinfachte Darstellung gezeigt. In der Praxis
werden die ersten und zweiten Makrozellen 55 und 26 nahe
beieinander in dem Makrozellenlayoutbereich 9 mit Ausnahme
der Flächen zwischen der Leistungsversorgungsleitung 31 und
der Masseleitung 32 zur Bildung des
Leistungsversorgungsleitungspaars angeordnet, obwohl dort
Isolationsbereiche zwischen den Makrozellen im allgemeinen
mit einer Grundzelle vorliegen zur Sicherstellung einer
elektrischen Isolation zwischen jeweils zwei Makrozellen.
Nachstehend wird im einzelnen die Arbeitsweise der
integrierten Halbleiterschaltungseinrichtung mit dem
vorstehend angegebenen Aufbau beschrieben, insbesondere von
dem Zeitpunkt an, zu dem ein Taktsignal am Takteingangspad
12 eingegeben wird bis zu dem Zeitpunkt, bei dem das
Taktsignal die Takteingangsknoten der als interne
Schaltungen arbeitenden zweiten Makrozellen 26 erreicht.
Wird ein Taktsignal von außerhalb am Takteingangspad 12
zugeführt, dann wird das Takteingangssignal zu dem
Takteingangstreiber 11 über die Takteingangsleitung 13
weitergeleitet. Der Takteingangstreiber 11 gibt ein
Taktsignal auf der Basis des eingegebenen Taktsignals
(Eingangstaktsignal) aus. Das derart ausgegebene Taktsignal
wird über die Taktausgangsleitung 17 der ersten gemeinsamen
Leitung 16 zugeführt und erreicht die Vortreiber 15a (1)
bis 15a (n) in der ersten Takttreiberschaltung 14.
Die Eingangsknoten der Vortreiber 15a (1) bis 15a
(n) in der ersten Takttreiberschaltung 14 werden mittels
der ersten gemeinsamen Leitung 16 kurzgeschlossen und die
Anschlußbelastung der Vortreiber ist vorzugsweise gering
bezüglich der ersten gemeinsamen Leitung 16. Daher
entstehen an den Eingangsknoten der Vortreiber 15a (1) bis
15a (n) die gleichen Änderungen (Anstiegsflanken und
Abfallflanken) des Taktsignals. Die Änderung im Taktsignal
sind die gleichen an den Ausgangsknoten der Vortreiber 15a
(1) bis 15a (n) in der ersten Takttreiberschaltung 14.
Ferner ist der gesamte Verlauf der zweiten gemeinsamen
Leitung 18 in verteilter Weise mit den Ausgangsknoten der
Vortreiber 15a (1) bis 15a (n) verbunden, die in
vorbestimmten Abständen zueinander angeordnet sind. Diese
Anordnung bewirkt beim Auftreten des Taktsignals auf der
zweiten gemeinsamen Leitung 18, daß Änderungen in gleicher
Weise entlang des gesamten Verlaufs der zweiten gemeinsamen
Leitung 18 auftreten. Dies trifft ebenfalls für Änderungen
in dem an den Ausgangsknoten der Haupttreiber 19 (1) bis 19
(m) auftretenden Taktsignal zu, wobei die Eingangsknoten
durch die zweite gemeinsame Leitung 18 kurzgeschlossen
werden.
Die Ausgangsknoten der Haupttreiber 19 (1) bis 19
(m) sind in vorbestimmten Abständen zueinander angeordnet
und in verteilter Weise mit dem gesamten Verlauf der
dritten gemeinsamen Leitung 20 verbunden. Diese Anordnung
bewirkt, daß Änderungen in dem auf der dritten gemeinsamen
Leitung anliegenden Taktsignal in gleicher Weise entlang
des gesamten Verlaufs auftreten. Das die dritte gemeinsame
Leitung 20 erreichende Taktsignal wird von dort zu den
vierten gemeinsamen Leitungen 23a bis 23t (nachstehend als
Leitungen 23a bis 23c beschrieben) über Schnittpunkte
zwischen den Leitungen 23a und 23c einerseits und der
dritten gemeinsamen Leitung 20 andererseits weitergeleitet.
Das Taktsignal wird sodann der Vielzahl der Vortreiber 22a
(1) bis 22a (n), . . ., 22t (1) bis 22t (n) (nachstehend als
Vortreiber 22c (1) bis 22c (n) bezeichnet) in den zweiten
Takttreiberschaltungen 21a bis 21t (nachstehend als
Schaltungen 21a bis 21t bezeichnet) zugeführt.
Die Eingangknoten der Vortreiber 22a (1) bis 22a
(n), 22b (1) bis 22b (n) und 22c (1) bis 22c (n) in den
zweiten Takttreiberschaltungen 21a bis 21c werden jeweils
mittels der vierten gemeinsamen Leitungen 23a bis 23c
kurzgeschlossen und die Anschlußbelastung der Vortreiber
ist erheblich geringer bzgl. der vierten gemeinsamen
Leitung 23a bis 23c. Daher entstehen an den Eingangsknoten
der Vortreiber 22a (1) bis 22a (n), 22b (1) bis 22b (n) und
22c (1) bis 22c (n) gleiche Änderungen im Taktsignal.
Die Änderungen im Taktsignal sind dieselben an den
Eingangsknoten der Vortreiber 22a (1) bis 22a (n), 22b (1)
bis 22b (n) und 22c (1) bis 22c (n). Ferner sind die
gesamten Verläufe der ersten gemeinsamen Leitungen 24a bis
24c in verteilter Weise mit den Ausgangsknoten der
Vortreiber 22a (1) bis 22a (n), 22b (1) bis 22b (n) und 22c
(1) bis 22c (n) verbunden, die jeweils in vorbestimmten
Abständen zueinander angeordnet sind. Diese Anordnung
bewirkt, daß die Änderungen in dem auf dem fünften
gemeinsamen Leitungen 24a bis 24c vorliegenden Taktsignal
in gleicher Weise entlang des gesamten Verlaufs auftreten.
Das gleiche betrifft Veränderungen in dem an den
Ausgangsknoten der Haupttreiber 25a (1) bis 25a (m), 25b
(1) bis 25b (m) und 25c (1) bis 25c (m) auftretenden
Taktsignal, wobei die Eingangsknoten mittels der fünften
gemeinsamen Leitungen 24a bis 24c kurzgeschlossen werden.
Die Ausgangsknoten der Haupttreiber 25a (1) bis
25a (m), 25b (1) bis 25b (m) und 25c (1) bis 25c (m) sind
in vorbestimmten Abständen zueinander angeordnet und in
verteilter Weise mit den gesamten Verläufen der sechsten
gemeinsamen Leitungen 28a bis 28c verbunden. Diese
Anordnung führt dazu, daß die Änderung des an den sechsten
gemeinsamen Leitungen 28a bis 28c anliegenden Taktsignals
in gleicher Weise entlang des gesamten Verlaufs auftreten.
Somit treten die Änderungen des am Takteingangspads 12
eingegebenen Taktsignals entlang sämtlicher der sechsten
gemeinsamen Leitungen 28a bis 28c in gleicher Weise auf.
Mit anderen Worten, das Vorliegen von
Taktlaufzeitunterschieden, d. h. von zeitweisen
Unterschieden in dem am Takteingangspad 12 eingegebenen
Taktsigna 21277 00070 552 001000280000000200012000285912116600040 0002019731714 00004 21158l zur Weiterleitung an die sechsten gemeinsamen
Leitungen 28a bis 28c ist entlang des gesamten Verlaufs
begrenzt.
Das zu den sechsten gemeinsamen Leitungen 28a bis
28c übertragene Taktsignal wird mittels der
Taktsignalversorgungsleitungen 27a (1) bis 27a (s), 27b (1)
bis 27b (s) und 27c (1) bis 27c (s) den Takteingangsknoten
der internen Schaltungen (zweite Makrozellen 26), die ein
Taktsignal erfordern, zugeführt. In diesem Fall sind
Änderungen im Taktsignal jeweils die gleichen an den
Verbindungspunkten zwischen den
Taktsignalversorgungsleitungen 27a (1) bis 27a (s), 27b (1)
bis 27b (s) und 27c (1) bis 27c (s) einerseits und den
sechsten gemeinsamen Leitungen 28a bis 28c andererseits,
d. h. in den mittleren Punkten der
Taktsignalversorgungsleitungen. Die Änderungen im
Taktsignal an beiden Enden der
Taktsignalversorgungsleitungen sind jedoch geringfügig
gegenüber denen an den mittleren Punkten verzögert.
Die individuelle Länge der
Taktsignalversorgungsleitungen 27a (1) bis 27a (s), 27b (1)
bis 27b (s) und 27c (1) bis 27c (s) wird auf ein Drittel
der sich in der zweiten Richtung erstreckenden
Makrozellenlayoutbereiche 9 festgesetzt. Der individuelle
Verdrahtungswiderstand und die individuelle
Verdrahtungskapazität der Taktsignalversorgungsleitungen
27a (1) bis 27a (s), 27b (1) bis 27b (s) und 27c (1) bis
27c (s) sind vernachlässigbar. Ferner ist eine relativ
kleine Anzahl von zweiten Makrozellen 26 mit den
Taktsignalversorgungsleitungen 27a (1) bis 27a (s), 27b (1)
bis 27b (s) und 27c (1) bis 27c (s) verbunden. Im Ergebnis
sind Verzögerungen in der Änderung des Taktsignals an
beiden Enden der Taktsignalversorgungsleitungen 27a (1) bis
27a (s), 27b (1) bis 27b (s) und 27c (1) bis 27c (s), die
die größte Verzögerung bzgl. der mittleren Punkte der
Leitungen aufweisen, ebenfalls sehr klein. Somit sind die
Laufzeitunterschiede des Taktsignals in Bezug zu den
zweiten Makrozellen 26 minimiert.
Gemäß der vorstehenden Beschreibung bietet das
erste Ausführungsbeispiel die folgenden hauptsächlichen
Vorteile.
- A) Die Änderungen in dem am Takteingangspad 12 eingegebene Taktsignal treten in gleicher Weise entlang des gesamten Verlaufs der sechsten gemeinsamen Leitungen 28a bis 28c auf. Es treten sehr kleine zeitliche Verzögerungen in Folge der Anordnung der Taktsignalversorgungsleitungen 27a (1) bis 27a (s), 27b (1) bis 27b (s) und 27c (1) bis 27c (s) auf. Dies minimiert jegliche Takt- Laufzeitunterschiede, die zwischen Taktsignalen auftreten, die jeweils sämtlichen zweiten Makrozellen 26, die als interne Schaltungen mit einem Bedarf an einem Taktsignal arbeiten, zugeführt werden.
- B) Die Vielzahl der Vortreiber 15 (1) bis 15 (n) und der Haupttreiber 19 (1) bis 19 (m) zur Bildung der ersten Takttreiberschaltung 14, und die Vielzahl der Vortreiber 22a (1) bis 22a (n), 22b (1) bis 22b (n) und 22c (1) bis 22c (n) sowie die Haupttreiber 25a (1) bis 25a (m), 25b (1) bis 25b (m) und 25c (1) bis 25c (m) zur Bildung der zweiten Takttreiberschaltungen 21a bis 21c sind zwischen der Leistungsversorgungsleitung 31 und der paarweise zugehörigen Masseleitung 32, die das Leistungsversorgungsleitungspaar bilden, angeordnet, wo weder die erste Makrozelle 55 noch die zweite Makrozelle 26 angeordnet ist. Es werden die erste Takttreiberschaltung 14 und die zweiten Takttreiberschaltungen 21a bis 21c innerhalb des Zellenbereichs 2 angeordnet, ohne daß die Anzahl der in diesem Bereich vorgesehenen ersten und zweiten Makrozellen 55 und 26 vermindert wird.
- C) Die Takteingangsleitung 13, die Taktausgangsleitung 17, die ersten bis sechsten gemeinsamen Leitungen 16, 18, 20, 23a bis 23c, 24a bis 24c und 28a bis 28c und die Taktsignalversorgungsleitungen 27a (1) bis 27a (s), 27b (1) bis 27b (s) und 27c (1) bis 27c (s) können mit einer geringen Leitungsbreite vorgesehen sein. Dies verkleinert ebenfalls bzgl. der zweiten Makrozellen 26 die auftretenden Laufzeitunterschiede. Infolge einer erheblichen Verminderung der gesamten Verdrahtungsfläche, die belegt ist durch die Takteingangsleitung 13, die Taktausgangsleitung 17, die ersten bis sechsten gemeinsamen Leitungen 16, 18, 20, 23a bis 23c, 24a bis 24c und 28a bis 28c und durch die Taktsignalversorgungsleitungen 27a (1) bis 27a (s), 27b (1) bis 27b (s) und 27c (1) bis 27c (s) ist die Verdrahtungskapazität ebenfalls vermindert. Dies vermindert wiederum einen unnötigen Energieverbrauch durch die erste Takttreiberschaltung 14 und die zweiten Takttreiberschaltungen 21a bis 21c.
- D) Eine der zweiten Takttreiberschaltungen 21a bis 21c gemäß der Darstellung in Fig. 6 wird als Grundaufbaublock angesehen. Eine einseitige Erweiterung des Zellenbereichs 2, sofern erforderlich, in der zweiten Richtung wird daher kompensiert durch hinzufügen eines Grundaufbaublocks. Dies führt zu einer Vielzahl von integrierten Halbleiterschaltungseinrichtungen mit jeweils äquivalenten Laufzeitunterschieden.
Im Rahmen des ersten Ausführungsbeispiels ist der
Eingangsknoten des Takteingangstreibers 11 mit dem
Takteingangspad 12 über die Takteingangsleitung 13
verbunden. Alternativ kann eine PLL-Schaltung zwischen den
Eingangsknoten des Takteingangstreibers 11 und das
Takteingangspad 12 zur Stabilisierung des dem
Takteingangstreiber 11 zugeführten Taktsignals eingefügt
werden.
Die Fig. 11 bis 13 zeigen eine Draufsicht auf
ein zweites Ausführungsbeispiel der integrierten
Halbleiterschaltungseinrichtung. Das zweite
Ausführungsbeispiel ist ähnlich dem ersten
Ausführungsbeispiel mit Ausnahme der folgenden
Einzelheiten. Während beispielsweise bei dem ersten
Ausführungsbeispiel die ersten bis dritten gemeinsamen
Leitungen 16, 18 und 20 sowie die
Taktsignalversorgungsleitungen 27a (1) bis 27a (s), 27b (1)
bis 27b (s) und 27c (1) bis 27c (s) mittels der ersten
elektrischen Leitungsschicht ausgebildet sind, umfaßt das
zweite Ausführungsbeispiel eine dritte elektrische
Leitungsschicht, die zu den ersten und zweiten elektrischen
Leitungsschichten unterschiedlich ist. Das zweite
Ausführungsbeispiel umfaßt die ersten bis dritten
gemeinsamen Leitungen 16, 18 und 20 sowie die
Taktsignalversorgungsleitungen 27a (1) bis 27a (s), 27b (1)
bis 27b (s) und 27c (1) bis 27c (s), die mittels der
dritten elektrischen Leitungsschicht gebildet sind. Die
dritte elektrische Leitungsschicht ist zusammen mit einem
dazwischen liegenden Isolierfilm über der zweiten
elektrischen Leitungsschicht ausgebildet. Die dritte
elektrische Leitungsschicht besteht aus Aluminiumschichten
einschließlich einer Aluminiumlegierungsschicht.
In gleicher Weise wie beim ersten
Ausführungsbeispiel sind die ersten bis dritten gemeinsamen
Leitungen 16, 18 und 20 linear in der zweiten Richtung
ausgerichtet und über den Vortreibern 15 (1) bis 16 (n) und
den Haupttreibern 19 (1) bis 19 (m) der ersten
Takttreiberschaltung 14 angeordnet. Da die ersten bis
dritten gemeinsamen Leitungen 16, 18 und 20 mittels der
dritten elektrischen Leitungsschicht gebildet sind, können
sie unmittelbar über dem Treiber-Makrozellenlayoutbereich 9
zur Aufnahme der Vielzahl der Vortreiber 15 (1) bis 15 (n)
und der Haupttreiber 19 (1) bis 19 (m) angeordnet werden.
Bei dem zweiten Ausführungsbeispiel sind die ersten bis
dritten gemeinsamen Leitungen 16, 18 und 20 unmittelbar
über dem Treiber-Makrozellenlayoutbereich 9 angeordnet. Die
erste gemeinsame Leitung 16 ist elektrisch mit den
Eingangsknoten der Vielzahl der Vortreiber 15 (1) bis 15
(n) der ersten Takttreiberschaltung 14 über Kontaktlöcher
57 verbunden. Die zweite gemeinsame Leitung 18 ist
elektrisch über Kontaktlöcher 58 mit den Ausgangsknoten der
Vortreiber 15 (1) bis 15 (n) und über Kontaktlöcher 59 mit
den Eingangsknoten der Haupttreiber 19 (1) bis 19 (m) in
der ersten Takttreiberschaltung 14 verbunden. Die dritte
gemeinsame Leitung 20 ist elektrisch über Kontaktlöcher 16
mit den Ausgangsknoten der Haupttreiber 19 (1) bis 19 (m)
in der ersten Takttreiberschaltung 14 verbunden. Die dritte
gemeinsame Leitung 20 ist mit den vierten gemeinsamen
Leitungen 23a bis 23c über Kontaktlöcher 45 wie im Fall des
ersten Ausführungsbeispiels verbunden.
Die Vielzahl der Taktsignalversorgungsleitungen
27a (1) bis 27a (s), 27b (1) bis 27b (s) und 27c (1) bis
27c (s) entspricht jeweils einer Vielzahl von
Makrozellenlayoutbereichen 9, in welchen die zweite
Makrozelle 26 vorgesehen ist, und sind linear in der
zweiten Richtung unmittelbar über den betreffenden
Makrozellenlayoutbereichen 9 angeordnet. Die
Taktsignalversorgungsleitungen 27a (1) bis 27a (s), 27b (1)
bis 27b (s) und 27c (1) bis 27c (s) sind über Kontaktlöcher
56 mit dem Takteingangsknoten der internen Schaltungen (der
zweiten Makrozellen 26) verbunden, die jeweils in den
betreffenden Makrozellenlayoutbereichen 9 vorgesehen sind.
In gleicher Weise wie beim ersten Ausführungsbeispiel sind
die Taktsignalversorgungsleitungen 27a (1) bis 27a (s), 27b
(1) bis 27b (s) und 27c (1) bis 27c (s) elektrisch über
Kontaktlöcher 50 jeweils mit den sechsten gemeinsamen
Leitungen 28a bis 28c verbunden. In Fig. 11 bezeichnen die
Bezugszeichen, die jeweils in Verbindung mit dem ersten
Ausführungsbeispiel verwendet wurden, gleiche oder
gleichartige Teile.
Die vorstehend angegebene integrierte
Halbleiterschaltungseinrichtung gemäß dem zweiten
Ausführungsbeispiel bietet die gleichen Vorteile gemäß den
vorstehend angegebenen Punkten (A) bis (D) des ersten
Ausführungsbeispiels, sowie weitere nachfolgend angegebene
Vorteile.
- A) Da die Taktsignalversorungsleitungen 27a (1) bis 27a (s), 27b (1) bis 27b (s) und 27c (1) bis 27c (s) unmittelbar über den betreffenden Makrozellenlayoutbereichen 9 angeordnet sind, können die Verdrahtungsbereiche 10 in wirksamer Weise verwendet werden. Diese Anordnung trägt ebenfalls zur Verminderung der Fläche des Halbleitersubstrats 1 bei und optimiert die Verdrahtung (die mittels der ersten und zweiten elektrischen Leitungsschichten gebildet ist) zur Verbindung der Makrozellen 55 und 26 in den Verdrahtungsbereichen 10.
- B) Die Taktsignalversorungsleitungen 27a (1) bis 27a (s), 27b (1) bis 27b (s) und 27c (1) bis 27c (s) sind elektrisch mit den Eingangsknoten der zweiten Makrozelle 26 über die Kontaktlöcher 56 verbunden. Dies führt zu einem sehr begrenzten Auftreten von Takt-Laufzeitunterschieden, die aus der elektrischen Verbindung resultieren.
- C) Da die ersten bis dritten gemeinsamen Leitungen 16, 18 und 20 unmittelbar über den betreffenden Makrozellenlayoutbereichen 9 angeordnet sind, können die Verdrahtungsbereiche 10 in wirksamer Weise verwendet werden. Diese Anordnung trägt ebenfalls zur Verminderung der Fläche des Halbleitersubstrats 1 bei.
Obwohl das zweite Ausführungsbeispiel der
integrierten Halbleiterschaltungseinrichtung dargestellt
wurde mit den in gleicher Weise wie beim ersten
Ausführungsbeispiel durch die zweite elektrische
Leitungsschicht gebildeten vierten bis sechsten gemeinsamen
Leitungen 23a bis 23c bis 24a bis 24c und 28a bis 28c, sind
weitere alternative Anordnungen denkbar. Beispielsweise
kann die gleiche Wirkung erzielt werden, falls die vierten
bis sechsten gemeinsamen Leitungen mittels einer vierten
elektrischen Leitungsschicht gebildet werden, die zu den
ersten bis dritten elektrischen Leitungsschichten
unterschiedlich ist. Die vierte elektrische Leitungsschicht
kann zusammen mit einem dazwischen liegenden Isolierfilm
über der dritten elektrischen Leitungsschicht ausgebildet
sein. Die vierte elektrische Leitungsschicht kann dabei aus
Aluminiumsschichten einschließlich einer
Aluminiumlegierungsschicht bestehen. Die dritten und
vierten elektrischen Leitungsschichten können in jeweils in
vertikaler Richtung vertauschten Positionen angeordnet
werden.
Wird die dritte elektrische Leitungsschicht
verwendet oder werden sowohl die dritte als auch die vierte
elektrische Leitungsschicht verwendet, dann können die
ersten bis dritten gemeinsamen Leitungen 16, 18 und 20, die
vierten bis sechsten gemeinsamen Leitungen 23a bis 23c, 24a
bis 24c und 28a bis 28c und die
Taktsignalversorgungsleitungen 27a (1) bis 27a (s), 27b (1)
bis 27b (s) und 27c (1) bis 27c (s) durch die elektrischen
Leitungsschichten in verschiedenen Variationen gemäß der
nachfolgenden Darstellung ausgeführt werden. Diese
Variationen (Abwandlungen) bieten die gleiche Wirkung wie
das vorstehend beschriebene zweite Ausführungsbeispiel.
Die ersten bis dritten gemeinsamen Leitungen 16,
18 und 20 werden mit der ersten elektrischen
Leitungsschicht ausgebildet. Die vierten gemeinsamen
Leitungen 23a bis 23c, die fünften gemeinsamen Leitungen
24a bis 24c und die sechsten gemeinsamen Leitungen 28a bis
28c werden mittels der zweiten elektrischen Leitungsschicht
ausgebildet. Die Taktsignalversorgungsleitungen 27a (1) bis
27a (s), 27b (1) bis 27b (s) und 27c (1) bis 27c (s) werden
mittels der dritten elektrischen Leitungsschicht gebildet.
Die ersten bis dritten gemeinsamen Leitungen 16,
18 und 20 werden mittels der ersten elektrischen
Leitungsschicht gebildet. Die vierten gemeinsamen Leitungen
23a bis 23c und die fünften gemeinsamen Leitungen 24a bis
24c werden mittels der zweiten elektrischen Leitungsschicht
gebildet. Die sechsten gemeinsamen Leitungen 28a bis 28c
und die Taktsignalversorgungsleitungen 27a (1) bis 27a (s),
27b (1) bis 27b (s) und 27c (1) bis 27c (s) sind mittels
der dritten elektrischen Leitungsschicht gebildet.
Die ersten bis dritten gemeinsamen Leitungen 16,
18 und 20 sind mittels der ersten elektrischen
Leitungsschicht gebildet. Die vierten gemeinsamen Leitungen
23a bis 23c und die fünften gemeinsamen Leitungen 24a bis
24c sind mittels der vierten elektrischen Leitungsschicht
gebildet. Die sechsten gemeinsamen Leitungen 28a bis 28c
und die Taktsignalversorgungsleitungen 27a (1) bis 27a (s),
27b (1) bis 27b (s) und 27c (1) bis 27c (s) sind mittels
der dritten elektrischen Leitungsschicht gebildet.
Die erste und zweite gemeinsame Leitung 16 und 18
sind mittels der ersten elektrischen Leitungsschicht
gebildet. Die dritte gemeinsame Leitung und die vierten
gemeinsamen Leitungen 23a bis 23c sind mittels der vierten
elektrischen Leitungsschicht gebildet. Die fünften
gemeinsamen Leitungen 24a bis 24c sind mittels der zweiten
elektrischen Leitungsschicht gebildet. Die sechsten
gemeinsamen Leitungen 28a bis 28c und die
Taktsignalversorgungsleitungen 27a (1) bis 27a (s), 27b (1)
bis 27b (s) und 27c (1) bis 27c (s) sind mittels der
dritten elektrischen Leitungsschicht gebildet.
Die ersten und zweiten gemeinsamen Leitungen 16
und 18 sind mittels der ersten elektrischen Leitungsschicht
gebildet. Die dritte gemeinsame Leitung 20 ist mittels der
vierten elektrischen Leitungssicht gebildet. Die vierten
gemeinsamen Leitungen 23a bis 23c, die fünften gemeinsamen
Leitungen 24a bis 24c und die sechsten gemeinsamen
Leitungen 28a bis 28c sind mittels der zweiten elektrischen
Leitungsschicht gebildet. Die
Taktsignalversorgungsleitungen 27a (1) bis 27a (s), 27b (1)
bis 27b (s) und 27c (1) bis 27c (s) sind mittels der
dritten elektrischen Leitungsschicht gebildet.
Bei den vorstehend angegebenen Abwandlungen werden
insbesondere bei derjenigen Abwandlung, bei der die dritte
gemeinsame Leitung 20 und die vierten gemeinsamen Leitungen
23a bis 23c mittels derselben elektrischen Leitungsschicht
ausgebildet sind, diese Leitungen elektrisch direkt
miteinander ohne Verwendung von Kontaktlöchern
(Durchgangslöchern) verbunden. Diese Anordnung vermindert
einen Anstieg im Widerstand der beteiligten elektrischen
Verbindungen. In gleicher Weise sind bei den Abwandlungen,
bei denen die sechsten gemeinsamen Leitungen 28a bis 28c
und die Taktsignalversorgungsleitungen 27a (1) bis 27a (s),
27b (1) bis 27b (s) und 27c (1) bis 27c (s) mittels
derselben elektrischen Leitungsschicht gebildet sind,
elektrisch mit diesen Leitungen direkt und ohne
Kontaktlöcher verbunden. Dies unterdrückt ebenfalls eine
Vergrößerung im Widerstandswert der beteiligten
elektrischen Verbindungen.
Die Takttreiberschaltung ist somit in einem mittig
angeordneten Makrozellenlayoutbereich vorgesehen. Die
Takttreiberschaltung umfaßt eine Vielzahl von Vortreibern
und eine Vielzahl von Haupttreibern. Die Eingangsknoten und
Ausgangsknoten der Vortreiber werden mittels einer ersten
und einer zweiten gemeinsamen Leitung kurzgeschlossen, und
die Eingangsknoten und Ausgangsknoten der Haupttreiber
werden mittels der zweiten und dritten gemeinsamen Leitung
kurzgeschlossen. Eine Vielzahl der Takttreiberschaltungen
ist in vorbestimmten Abständen zueinander und zur Bildung
eines rechtwinkligen Schnittpunkts mit der
Takttreiberschaltung angeordnet. Jede der
Takttreiberschaltungen umfaßt eine Vielzahl von Vortreibern
und eine Vielzahl von Haupttreibern. Die Eingangsknoten und
Ausgangsknoten der Vortreiber werden mittels einer vierten
und einer fünften gemeinsamen Leitung kurzgeschlossen, und
die Eingangsknoten und Ausgangsknoten der Haupttreiber
werden mittels der fünften und einer sechsten gemeinsamen
Leitung kurzgeschlossen. Die dritten und vierten
gemeinsamen Leitungen sind miteinander verbunden. Die
sechste gemeinsame Leitung ist mit
Taktsignalversorgungsleitungen verbunden, die ihrerseits
mit einer Vielzahl von zweiten Makrozellen verbunden sind.
Claims (14)
1. Integrierte Halbleiterschaltungseinrichtung, mit
einem Halbleitersubstrat (1) mit einer Vielzahl von in einer ersten Richtung in einer Hauptebene des Halbleitersubstrats (1) angeordneten Makrozellenlayoutbereichen (9), und
einer Vielzahl von Elektrodenpaaren (4, 5) in jeder der Vielzahl der Makrozellenlayoutbereiche (9) des Halbleitersubstrats (1), die in einer zweiten, die erste Richtung senkrecht schneidenden Richtung angeordnet sind,
wobei jeder der Vielzahl der Makrozellenlayoutbereiche (9) auf dem Halbleitersubstrat (1) eine Vielzahl von in der zweiten Richtung angeordneten N-Diffusionsbereichen (6) und eine Vielzahl von in der zweiten Richtung angeordneten P- Diffusionsbereichen (7) aufweist, und jede der Vielzahl der N-Diffusionsbereiche (6) und der Vielzahl der P- Diffusionsbereiche (7) in der ersten Richtung ausgerichtet ist,
wobei jedes der Vielzahl der Elektrodenpaare (4, 5) aus einer ersten und zweiten Elektrode (4, 5) besteht, und die erste Elektrode zusammen mit einem dazwischenliegenden Isolierfilm zwischen benachbarten zwei der Vielzahl der N- Diffusionsbereiche (6) in jedem der Makrozellenlayoutbereiche (9) ausgebildet ist, und die zweite Elektrode (5) zusammen mit einem dazwischenliegenden Isolierfilm zwischen benachbarten zwei der Vielzahl der P- Diffusionsbereiche (7) ausgebildet ist, die entlang der ersten Elektrode (4) in der ersten Richtung angeordnet und in dem betreffenden Makrozellenlayoutbereich (9) vorgesehen sind,
wobei jedes der Vielzahl der Elektrodenpaare (4, 5) und der N- und P-Diffusionsbereiche (6, 7) zu beiden Seiten des betreffenden Elektrodenpaars (4, 5) zur Bildung einer Grundzelle (8) angeordnet sind,
wobei eine erste Makrozelle (55), die aus einer vorbestimmten Anzahl benachbarter Grundzellen (8) besteht und die als eine Logikschaltung dient, in jedem der Vielzahl der Makrozellenlayoutbereiche (9) auf dem Halbleitersubstrat (1) vorgesehen ist, und
wobei eine zweite Makrozelle (26), die aus einer vorbestimmten Anzahl benachbarter Grundzellen (8) besteht und die als eine interne, ein Taktsignal erfordernde Schaltung dient, in jedem von zumindest zwei der Vielzahl der Makrozellenlayoutbereiche (9) auf dem Halbleitersubstrat (1) vorgesehen ist,
wobei die integrierte Halbleiterschaltung ferner umfaßt:
eine erste Takttreiberschaltung (14) einschließlich einer Vielzahl von Vortreibern (15) und einer Vielzahl von Haupttreibern (19), wobei die Vielzahl der Vortreiber (15) in vorbestimmten Abständen zueinander angeordnet und mittels einer vorbestimmten Anzahl benachbarter Grundzellen (8) in einer der Vielzahl der Makrozellenlayoutbereiche (9) auf dem Halbleitersubstrat (1) ausgebildet ist, und die Vielzahl der Haupttreiber (19) in vorbestimmten Abständen zueinander angeordnet und mittels einer vorbestimmten Anzahl von benachbarten Grundzellen (8) in den Makrozellenlayoutbereichen (9), die die Vielzahl der Vortreiber (15) aufweisen, auf dem Halbleitersubstrat (1) angeordnet ist,
eine erste gemeinsame Leitung (16), die linear in der zweiten Richtung entlang dem die Vielzahl der Vortreiber (15) und die Vielzahl der Haupttreiber (19) aufweisenden Makrozellenlayoutbereich (9) ausgebildet ist, und die erste gemeinsame Leitung (16) elektrisch mit den Eingangsknoten der Vielzahl der Vortreiber (15) in der ersten Takttreiberschaltung (14) verbunden ist,
eine zweite gemeinsame Leitung (18), die linear in der zweiten Richtung entlang dem die Vielzahl der Vortreiber (15) und die Vielzahl der Haupttreiber (19) aufweisenden Makrozellenlayoutbereich (9) ausgebildet ist, und die zweite gemeinsame Leitung (18) elektrisch mit den Ausgangsknoten der Vielzahl der Vortreiber (15) sowie mit den Eingangsknoten der Vielzahl der Haupttreiber (19) in der ersten Takttreiberschaltung (14) verbunden ist, und
eine dritte gemeinsame Leitung (20), die linear in der zweiten Richtung entlang dem die Vielzahl der Vortreiber (15) und die Vielzahl der Haupttreiber (19) aufweisenden Makrozellenlayoutbereich (9) ausgebildet ist, und die dritte gemeinsame Leitung elektrisch mit den Ausgangsknoten der Vielzahl der Haupttreiber (19) verbunden ist,
wobei die Vielzahl der Makrolayoutbereiche (9) auf dem Halbleitersubstrat (1) in eine Vielzahl von Abschnitten in der zweiten Richtung aufgeteilt ist und jeder aufgeteilte Abschnitt eine zweite Takttreiberschaltung (21) aufweist,
wobei jede der zweiten Takttreiberschaltungen (21) in dem betreffenden Aufteilungsabschnitt umfaßt:
eine Vielzahl von Vortreibern (22), die aus einer vorbestimmten Anzahl benachbarter Grundzellen (8) bestehen und die linear angeordnet sind, wobei die Vielzahl der Vortreiber (22) in jede von zumindest zwei der Vielzahl der Makrozellenlayoutbereiche (9) auf dem Halbleitersubstrat (1) vorgesehen ist, und
eine Vielzahl von Haupttreibern (25), die aus einer vorbestimmten Anzahl benachbarter Grundzellen (8) besteht, die jeweils die Vielzahl der Vortreiber (22) aufweisen und die linear angeordnet sind, wobei die Vielzahl der Haupttreiber (25) in jedem von zumindest zwei der Makrozellenlayoutbereiche (9) auf dem Halbleitersubstrat (1) vorgesehen ist, die nicht die Vielzahl der Vortreiber (22) enthalten,
wobei jeder der Aufteilungsabschnitte umfaßt:
eine linear in der ersten Richtung auf der Vielzahl der Vortreiber (22) und der Vielzahl der Haupttreiber (25) in der zweiten Takttreiberschaltung (21) des betreffenden Aufteilungsabschnitts ausgebildete vierte gemeinsame Leitung (23), die elektrisch mit den Eingangsknoten der Vielzahl der Vortreiber (22) in der zweiten Takttreiberschaltung (21) des betreffenden Aufteilungsabschnitts verbunden ist und die ferner elektrisch mit der dritten gemeinsamen Leitung (20) verbunden ist,
eine linear in der ersten Richtung auf der Vielzahl der Vortreiber (22) und der Vielzahl der Haupttreiber (25) in der zweiten Takttreiberschaltung (21) des betreffenden Aufteilungsabschnitts ausgebildete fünfte gemeinsame Leitung (24), die elektrisch mit den Ausgangsknoten der Vielzahl der Vortreiber (22) in der zweiten Takttreiberschaltung (21) des betreffenden Aufteilungsabschnitts verbunden ist, und die ferner elektrisch mit den Eingangsknoten der Vielzahl der Haupttreiber (25) in der zweiten Takttreiberschaltung (21) des betreffenden Aufteilungsabschnitts verbunden ist,
eine linear in der ersten Richtung auf der Vielzahl der Vortreiber (22) und der Vielzahl der Haupttreiber (25) in der zweiten Takttreiberschaltung (21) des betreffenden Aufteilungsabschnitts angeordnete sechste gemeinsame Leitung (28), die elektrisch mit den Ausgangsknoten der Vielzahl der Haupttreiber (25) in der zweiten Takttreiberschaltung (21) des betreffenden Aufteilungsabschnitts verbunden ist, und
eine Vielzahl von Taktsignalversorgungsleitungen (27) entsprechend der Vielzahl der Makrozellenlayoutbereiche (9), die jeweils eine zweite Makrozelle (26) aufweisen, wobei die Vielzahl der Taktsignalversorgungsleitungen (27) linear in der zweiten Richtung angeordnet und elektrisch mit der sechsten gemeinsamen Leitung (28) verbunden ist, und ferner elektrisch mit einem Takteingangsknoten einer als interne Schaltung arbeitenden und im betreffenden Makrozellenlayoutbereich (9) vorgesehenen zweiten Makrozelle (26) verbunden ist.
einem Halbleitersubstrat (1) mit einer Vielzahl von in einer ersten Richtung in einer Hauptebene des Halbleitersubstrats (1) angeordneten Makrozellenlayoutbereichen (9), und
einer Vielzahl von Elektrodenpaaren (4, 5) in jeder der Vielzahl der Makrozellenlayoutbereiche (9) des Halbleitersubstrats (1), die in einer zweiten, die erste Richtung senkrecht schneidenden Richtung angeordnet sind,
wobei jeder der Vielzahl der Makrozellenlayoutbereiche (9) auf dem Halbleitersubstrat (1) eine Vielzahl von in der zweiten Richtung angeordneten N-Diffusionsbereichen (6) und eine Vielzahl von in der zweiten Richtung angeordneten P- Diffusionsbereichen (7) aufweist, und jede der Vielzahl der N-Diffusionsbereiche (6) und der Vielzahl der P- Diffusionsbereiche (7) in der ersten Richtung ausgerichtet ist,
wobei jedes der Vielzahl der Elektrodenpaare (4, 5) aus einer ersten und zweiten Elektrode (4, 5) besteht, und die erste Elektrode zusammen mit einem dazwischenliegenden Isolierfilm zwischen benachbarten zwei der Vielzahl der N- Diffusionsbereiche (6) in jedem der Makrozellenlayoutbereiche (9) ausgebildet ist, und die zweite Elektrode (5) zusammen mit einem dazwischenliegenden Isolierfilm zwischen benachbarten zwei der Vielzahl der P- Diffusionsbereiche (7) ausgebildet ist, die entlang der ersten Elektrode (4) in der ersten Richtung angeordnet und in dem betreffenden Makrozellenlayoutbereich (9) vorgesehen sind,
wobei jedes der Vielzahl der Elektrodenpaare (4, 5) und der N- und P-Diffusionsbereiche (6, 7) zu beiden Seiten des betreffenden Elektrodenpaars (4, 5) zur Bildung einer Grundzelle (8) angeordnet sind,
wobei eine erste Makrozelle (55), die aus einer vorbestimmten Anzahl benachbarter Grundzellen (8) besteht und die als eine Logikschaltung dient, in jedem der Vielzahl der Makrozellenlayoutbereiche (9) auf dem Halbleitersubstrat (1) vorgesehen ist, und
wobei eine zweite Makrozelle (26), die aus einer vorbestimmten Anzahl benachbarter Grundzellen (8) besteht und die als eine interne, ein Taktsignal erfordernde Schaltung dient, in jedem von zumindest zwei der Vielzahl der Makrozellenlayoutbereiche (9) auf dem Halbleitersubstrat (1) vorgesehen ist,
wobei die integrierte Halbleiterschaltung ferner umfaßt:
eine erste Takttreiberschaltung (14) einschließlich einer Vielzahl von Vortreibern (15) und einer Vielzahl von Haupttreibern (19), wobei die Vielzahl der Vortreiber (15) in vorbestimmten Abständen zueinander angeordnet und mittels einer vorbestimmten Anzahl benachbarter Grundzellen (8) in einer der Vielzahl der Makrozellenlayoutbereiche (9) auf dem Halbleitersubstrat (1) ausgebildet ist, und die Vielzahl der Haupttreiber (19) in vorbestimmten Abständen zueinander angeordnet und mittels einer vorbestimmten Anzahl von benachbarten Grundzellen (8) in den Makrozellenlayoutbereichen (9), die die Vielzahl der Vortreiber (15) aufweisen, auf dem Halbleitersubstrat (1) angeordnet ist,
eine erste gemeinsame Leitung (16), die linear in der zweiten Richtung entlang dem die Vielzahl der Vortreiber (15) und die Vielzahl der Haupttreiber (19) aufweisenden Makrozellenlayoutbereich (9) ausgebildet ist, und die erste gemeinsame Leitung (16) elektrisch mit den Eingangsknoten der Vielzahl der Vortreiber (15) in der ersten Takttreiberschaltung (14) verbunden ist,
eine zweite gemeinsame Leitung (18), die linear in der zweiten Richtung entlang dem die Vielzahl der Vortreiber (15) und die Vielzahl der Haupttreiber (19) aufweisenden Makrozellenlayoutbereich (9) ausgebildet ist, und die zweite gemeinsame Leitung (18) elektrisch mit den Ausgangsknoten der Vielzahl der Vortreiber (15) sowie mit den Eingangsknoten der Vielzahl der Haupttreiber (19) in der ersten Takttreiberschaltung (14) verbunden ist, und
eine dritte gemeinsame Leitung (20), die linear in der zweiten Richtung entlang dem die Vielzahl der Vortreiber (15) und die Vielzahl der Haupttreiber (19) aufweisenden Makrozellenlayoutbereich (9) ausgebildet ist, und die dritte gemeinsame Leitung elektrisch mit den Ausgangsknoten der Vielzahl der Haupttreiber (19) verbunden ist,
wobei die Vielzahl der Makrolayoutbereiche (9) auf dem Halbleitersubstrat (1) in eine Vielzahl von Abschnitten in der zweiten Richtung aufgeteilt ist und jeder aufgeteilte Abschnitt eine zweite Takttreiberschaltung (21) aufweist,
wobei jede der zweiten Takttreiberschaltungen (21) in dem betreffenden Aufteilungsabschnitt umfaßt:
eine Vielzahl von Vortreibern (22), die aus einer vorbestimmten Anzahl benachbarter Grundzellen (8) bestehen und die linear angeordnet sind, wobei die Vielzahl der Vortreiber (22) in jede von zumindest zwei der Vielzahl der Makrozellenlayoutbereiche (9) auf dem Halbleitersubstrat (1) vorgesehen ist, und
eine Vielzahl von Haupttreibern (25), die aus einer vorbestimmten Anzahl benachbarter Grundzellen (8) besteht, die jeweils die Vielzahl der Vortreiber (22) aufweisen und die linear angeordnet sind, wobei die Vielzahl der Haupttreiber (25) in jedem von zumindest zwei der Makrozellenlayoutbereiche (9) auf dem Halbleitersubstrat (1) vorgesehen ist, die nicht die Vielzahl der Vortreiber (22) enthalten,
wobei jeder der Aufteilungsabschnitte umfaßt:
eine linear in der ersten Richtung auf der Vielzahl der Vortreiber (22) und der Vielzahl der Haupttreiber (25) in der zweiten Takttreiberschaltung (21) des betreffenden Aufteilungsabschnitts ausgebildete vierte gemeinsame Leitung (23), die elektrisch mit den Eingangsknoten der Vielzahl der Vortreiber (22) in der zweiten Takttreiberschaltung (21) des betreffenden Aufteilungsabschnitts verbunden ist und die ferner elektrisch mit der dritten gemeinsamen Leitung (20) verbunden ist,
eine linear in der ersten Richtung auf der Vielzahl der Vortreiber (22) und der Vielzahl der Haupttreiber (25) in der zweiten Takttreiberschaltung (21) des betreffenden Aufteilungsabschnitts ausgebildete fünfte gemeinsame Leitung (24), die elektrisch mit den Ausgangsknoten der Vielzahl der Vortreiber (22) in der zweiten Takttreiberschaltung (21) des betreffenden Aufteilungsabschnitts verbunden ist, und die ferner elektrisch mit den Eingangsknoten der Vielzahl der Haupttreiber (25) in der zweiten Takttreiberschaltung (21) des betreffenden Aufteilungsabschnitts verbunden ist,
eine linear in der ersten Richtung auf der Vielzahl der Vortreiber (22) und der Vielzahl der Haupttreiber (25) in der zweiten Takttreiberschaltung (21) des betreffenden Aufteilungsabschnitts angeordnete sechste gemeinsame Leitung (28), die elektrisch mit den Ausgangsknoten der Vielzahl der Haupttreiber (25) in der zweiten Takttreiberschaltung (21) des betreffenden Aufteilungsabschnitts verbunden ist, und
eine Vielzahl von Taktsignalversorgungsleitungen (27) entsprechend der Vielzahl der Makrozellenlayoutbereiche (9), die jeweils eine zweite Makrozelle (26) aufweisen, wobei die Vielzahl der Taktsignalversorgungsleitungen (27) linear in der zweiten Richtung angeordnet und elektrisch mit der sechsten gemeinsamen Leitung (28) verbunden ist, und ferner elektrisch mit einem Takteingangsknoten einer als interne Schaltung arbeitenden und im betreffenden Makrozellenlayoutbereich (9) vorgesehenen zweiten Makrozelle (26) verbunden ist.
2. Integrierte Halbleiterschaltungseinrichtung nach
Anspruch 1, wobei der die erste Takttreiberschaltung (14)
aufweisende Makrozellenlayoutbereich mittig in der ersten
Richtung angeordnet ist.
3. Integrierte Halbleiterschaltungseinrichtung nach
Anspruch 1 oder 2, wobei die dritte und vierte gemeinsame
Leitung (20, 23) elektrisch miteinander jeweils in ihrem
Schnittpunkt verbunden sind.
4. Integrierte Halbleiterschaltungseinrichtung nach
einem der Ansprüche 1 bis 3, mit einem in der Hauptebene
des Halbleitersubstrats (1) ausgebildeten
Takteingangstreiber (11), wobei ein Eingangsknoten des
Takteingangstreibers (11) elektrisch über eine
Takteingangsleitung (13) mit einem in der Hauptebene des
Halbleitersubstrats (1) angeordneten Takteingangspad (12)
verbunden ist und ein Ausgangsknoten des
Takteingangstreibers (11) elektrisch mit der ersten
gemeinsamen Leitung (16) verbunden ist.
5. Integrierte Halbleiterschaltungseinrichtung nach
Anspruch 4, wobei der Takteingangstreiber (11) in einem mit
der ersten Takttreiberschaltung (14) ausgestatteten
Makrozellenlayoutbereich (9) angeordnet ist.
6. Integrierte Halbleiterschaltungseinrichtung nach
einem der Ansprüche 1 bis 5, bei der die vierten bis
sechsten gemeinsamen Leitungen (28) mittig in der zweiten
Richtung des betreffenden Aufteilungsabschnitts angeordnet
sind, und wobei der mittlere Bereich der Vielzahl der im
betreffenden Aufteilungsabschnitt vorgesehenen
Taktsignalversorgungsleitungen (27) elektrisch mit der
sechsten gemeinsamen Leitung (28) verbunden ist.
7. Integrierte Halbleiterschaltungseinrichtung nach
einem der Ansprüche 1 bis 6, bei der jeder
Aufteilungsabschnitt zumindest ein
Leistungsversorgungsleitungspaar (31, 32) bestehend aus
einer Leistungsversorgungsleitung (31), der ein
Versorgungspotential zugeführt wird, und einer parallel und
benachbart zur Leistungsversorgungsleitung (31)
angeordneten Masseleitung (32), der ein Massepotential
zugeführt wird, wobei die Leistungsversorgungsleitung (31)
linear in der ersten Richtung in der Hauptebene des
Halbleitersubstrats (1) ausgebildet ist, und
wobei die Vielzahl der Vortreiber (15, 22) und die
Vielzahl der Haupttreiber (19, 25) in jedem der
Aufteilungsabschnitte zwischen der
Leistungsversorgungsleitung (31) und der Masseleitung (32),
die das Leistungsversorgungsleitungspaar bilden, im
betreffenden Aufteilungsabschnitt angeordnet sind.
8. Integrierte Halbleiterschaltungseinrichtung nach
einem der Ansprüche 1 bis 7, wobei eine Verdrahtung
innerhalb der als erste Makrozelle (55) arbeitenden
Logikschaltungen, eine Verdrahtung innerhalb der als zweite
Makrozelle (26) arbeitenden internen Schaltungen, eine
Verdrahtung zwischen den Logikschaltungen, und eine
Verdrahtung zwischen den Logikschaltungen einerseits und
den internen Schaltungen andererseits zumindest aus der
ersten und zweiten Verdrahtung aufgebaut ist, wobei die
erste Verdrahtung in der zweiten Richtung angeordnet und
mittels einer ersten elektrischen Leitungsschicht auf der
Vielzahl der Elektrodenpaare (4, 5) ausgebildet ist, und
die zweite Verdrahtung in der ersten Richtung angeordnet
und mittels einer zweiten elektrischen Leitungsschicht, die
unterschiedlich zur ersten elektrischen Leitungsschicht
ist, ausgebildet ist,
wobei die ersten bis dritten gemeinsamen Leitungen (16, 18, 20) mittels der ersten elektrischen Leitungsschicht ausgebildet sind,
wobei die vierten bis sechsten gemeinsamen Leitungen (23, 24, 28) mittels der zweiten elektrischen Leitungsschicht ausgebildet sind, und
wobei die Vielzahl der Taktsignalversorgungsleitungen (27) mittels der ersten elektrischen Leitungsschicht ausgebildet ist.
wobei die ersten bis dritten gemeinsamen Leitungen (16, 18, 20) mittels der ersten elektrischen Leitungsschicht ausgebildet sind,
wobei die vierten bis sechsten gemeinsamen Leitungen (23, 24, 28) mittels der zweiten elektrischen Leitungsschicht ausgebildet sind, und
wobei die Vielzahl der Taktsignalversorgungsleitungen (27) mittels der ersten elektrischen Leitungsschicht ausgebildet ist.
9. Integrierte Halbleiterschaltungseinrichtung nach
einem der Ansprüche 1 bis 7, wobei eine Verdrahtung
innerhalb der als erste Makrozelle (55) arbeitenden
Logikschaltungen, eine Verdrahtung innerhalb der als zweite
Makrozelle (26) arbeitenden internen Schaltungen, eine
Verdrahtung zwischen den Logikschaltungen, und eine
Verdrahtung zwischen den Logikschaltungen einerseits und
den internen Schaltungen andererseits zumindest aus einer
ersten und zweiten Verdrahtung besteht, wobei die erste
Verdrahtung in der zweiten Richtung angeordnet und mittels
einer ersten elektrischen Leitungsschicht auf der Vielzahl
der Elektrodenpaare (4, 5) ausgebildet ist, und wobei die
zweite Verdrahtung in der ersten Richtung angeordnet und
mittels einer zweiten elektrischen Leitungsschicht, die
unterschiedlich ist zur ersten elektrischen
Leitungsschicht, ausgebildet ist,
wobei die ersten bis dritten gemeinsamen Leitungen (16, 18, 20) mittels einer dritten elektrischen Leitungsschicht ausgebildet sind, die sich von der ersten und zweiten elektrischen Leitungsschicht unterscheidet und die auf der Vielzahl der Elektrodenpaare (4, 5) ausgebildet ist,
wobei die vierten bis sechsten gemeinsamen Leitungen (22, 24, 28) mittels einer vierten elektrischen Leitungsschicht ausgebildet sind, die sich von der ersten bis dritten elektrischen Leitungsschicht unterscheidet und die auf der Vielzahl der Elektrodenpaare (4, 5) ausgebildet ist, und
wobei die Vielzahl der Taktsignalversorgungsleitungen (27) mittels der dritten elektrischen Leitungsschicht ausgebildet ist, und jede der Vielzahl der Taktsignalversorgungsleitungen (27) unmittelbar über dem betreffendem Makrozellenlayoutbereich (9) angeordnet ist.
wobei die ersten bis dritten gemeinsamen Leitungen (16, 18, 20) mittels einer dritten elektrischen Leitungsschicht ausgebildet sind, die sich von der ersten und zweiten elektrischen Leitungsschicht unterscheidet und die auf der Vielzahl der Elektrodenpaare (4, 5) ausgebildet ist,
wobei die vierten bis sechsten gemeinsamen Leitungen (22, 24, 28) mittels einer vierten elektrischen Leitungsschicht ausgebildet sind, die sich von der ersten bis dritten elektrischen Leitungsschicht unterscheidet und die auf der Vielzahl der Elektrodenpaare (4, 5) ausgebildet ist, und
wobei die Vielzahl der Taktsignalversorgungsleitungen (27) mittels der dritten elektrischen Leitungsschicht ausgebildet ist, und jede der Vielzahl der Taktsignalversorgungsleitungen (27) unmittelbar über dem betreffendem Makrozellenlayoutbereich (9) angeordnet ist.
10. Integrierte Halbleiterschaltungseinrichtung nach
einem der Ansprüche 1 bis 7, wobei eine Verdrahtung
innerhalb der als erste Makrozelle (55) arbeitenden
Logikschaltungen, eine Verdrahtung innerhalb der als zweite
Makrozelle (26) arbeitenden internen Schaltungen, eine
Verdrahtung zwischen den Logikschaltungen und eine
Verdrahtung zwischen den Logikschaltungen einerseits und
den internen Schaltungen andererseits zumindest aus einer
ersten und zweiten Verdrahtung gebildet ist, wobei die
erste Verdrahtung in der zweiten Richtung angeordnet ist
und mittels einer ersten elektrischen Leitungsschicht auf
der Vielzahl der Elektrodenpaare (4, 5) ausbildet ist, und
die zweite Verdrahtung in der ersten Richtung angeordnet
und mittels einer zweiten elektrischen Leitungsschicht, die
unterschiedlich ist zur ersten elektrischen
Leitungsschicht, ausgebildet ist,
wobei die ersten bis dritten gemeinsamen Leitungen (16, 18, 20) mittels der ersten elektrischen Leitungsschicht ausgebildet sind,
wobei die vierten bis sechsten gemeinsamen Leitungen (22, 24, 28) mittels der zweiten elektrischen Leitungsschicht ausgebildet sind, und
wobei die Vielzahl der Taktsignalversorgungsleitungen (27) mittels einer dritten elektrischen Leitungsschicht ausgebildet sind, die zur ersten und zweiten elektrischen Leitungsschicht unterschiedlich ist und die auf der Vielzahl der Elektrodenpaare (4, 5) ausgebildet ist, wobei die Vielzahl der Taktsignalversorgungsleitungen (27) unmittelbar über dem betreffenden Makrozellenlayoutbereich (9) angeordnet ist.
wobei die ersten bis dritten gemeinsamen Leitungen (16, 18, 20) mittels der ersten elektrischen Leitungsschicht ausgebildet sind,
wobei die vierten bis sechsten gemeinsamen Leitungen (22, 24, 28) mittels der zweiten elektrischen Leitungsschicht ausgebildet sind, und
wobei die Vielzahl der Taktsignalversorgungsleitungen (27) mittels einer dritten elektrischen Leitungsschicht ausgebildet sind, die zur ersten und zweiten elektrischen Leitungsschicht unterschiedlich ist und die auf der Vielzahl der Elektrodenpaare (4, 5) ausgebildet ist, wobei die Vielzahl der Taktsignalversorgungsleitungen (27) unmittelbar über dem betreffenden Makrozellenlayoutbereich (9) angeordnet ist.
11. Integrierte Halbleiterschaltungseinrichtung nach
einem der Ansprüche 1 bis 7, wobei eine Verdrahtung
innerhalb der als erste Makrozelle (55) arbeitenden
Logikschaltungen, eine Verdrahtung innerhalb der als
zweiten Makrozellen (26) arbeitenden internen Schaltungen,
eine Verdrahtung zwischen den Logikschaltungen, und eine
Verdrahtung zwischen den Logikschaltungen einerseits und
den internen Schaltungen andererseits zumindest aus einer
ersten und zweiten Verdrahtung gebildet ist, und die erste
Verdrahtung in der zweiten Richtung angeordnet und mittels
einer ersten elektrischen Leitungsschicht auf der Vielzahl
der Elektrodenpaare (4, 5) ausgebildet ist, und die zweite
Verdrahtung in der ersten Richtung angeordnet und mittels
einer zweiten elektrischen Leitungsschicht, die
unterschiedlich ist zur ersten elektrischen Leitungsschicht
ausgebildet ist,
wobei die sechste gemeinsame Leitung (28) mittels einer dritten elektrischen Leitungsschicht ausgebildet ist, die sich von der ersten und zweiten elektrischen Leitungsschicht unterscheidet und auf der Vielzahl der Elektrodenpaare (4, 5) ausgebildet ist,
wobei die vierte und fünfte gemeinsame Leitung (23, 24) mittels einer vierten elektrischen Leitungsschicht gebildet sind, die sich von der ersten bis dritten elektrischen Leitungsschicht unterscheidet und auf der Vielzahl der Elektrodenpaare (4, 5) ausgebildet ist, und
wobei die Vielzahl der Taktsignalversorgungsleitungen (27) mittels der dritten elektrischen Leitungsschicht gebildet ist, und jede der Vielzahl der Taktsignalversorgungsleitungen (27) unmittelbar über dem betreffenden Makrozellenlayoutbereich (9) angeordnet ist.
wobei die sechste gemeinsame Leitung (28) mittels einer dritten elektrischen Leitungsschicht ausgebildet ist, die sich von der ersten und zweiten elektrischen Leitungsschicht unterscheidet und auf der Vielzahl der Elektrodenpaare (4, 5) ausgebildet ist,
wobei die vierte und fünfte gemeinsame Leitung (23, 24) mittels einer vierten elektrischen Leitungsschicht gebildet sind, die sich von der ersten bis dritten elektrischen Leitungsschicht unterscheidet und auf der Vielzahl der Elektrodenpaare (4, 5) ausgebildet ist, und
wobei die Vielzahl der Taktsignalversorgungsleitungen (27) mittels der dritten elektrischen Leitungsschicht gebildet ist, und jede der Vielzahl der Taktsignalversorgungsleitungen (27) unmittelbar über dem betreffenden Makrozellenlayoutbereich (9) angeordnet ist.
12. Integrierte Halbleiterschaltungseinrichtung nach
Anspruch 11, wobei die ersten bis dritten gemeinsamen
Leitungen (16, 18, 20) mittels der ersten elektrischen
Leitungsschicht ausgebildet sind.
13. Integrierte Halbleiterschaltungseinrichtung nach
einem der Ansprüche 1 bis 7, wobei eine Verdrahtung
innerhalb der als erste Makrozelle (55) arbeitenden
Logikschaltungen, eine Verdrahtung innerhalb der als zweite
Makrozelle (26) arbeitenden internen Schaltungen, eine
Verdrahtung zwischen den Logikschaltungen, und eine
Verdrahtung zwischen den Logikschaltungen einerseits und
den internen Schaltungen andererseits zumindest aus einer
ersten und zweiten Verdrahtung gebildet ist, wobei die
erste Verdrahtung in der zweiten Richtung angeordnet und
mittels einer ersten elektrischen Leitungsschicht auf der
Vielzahl der Elektrodenpaare (4, 5) ausgebildet ist, und
die zweite Verdrahtung in der ersten Richtung angeordnet
und mittels einer zweiten elektrischen Leitungsschicht, die
unterschiedlich ist zur ersten elektrischen
Leitungsschicht, ausgebildet ist,
wobei die erste und zweite gemeinsame Leitung (16, 18) mittels der ersten elektrischen Leitungsschicht ausgebildet sind,
wobei die dritte und vierte gemeinsame Leitung (20, 23) mittels einer dritten elektrischen Leitungsschicht ausgebildet sind, die zur ersten und zweiten elektrischen Leitungsschicht unterschiedlich ist und die auf der Vielzahl der Elektrodenpaare (4, 5) ausgebildet ist,
wobei die fünfte gemeinsame Leitung (24) mittels der zweiten elektrischen Leitungsschicht ausgebildet ist,
wobei die sechste gemeinsame Leitung (28) mittels einer vierten elektrischen Leitungsschicht ausgebildet ist, die zur ersten bis dritten elektrischen Leitungsschicht unterschiedlich ist und die auf der Vielzahl der Elektrodenpaare (4, 5) ausgebildet ist, und
wobei die Vielzahl der Taktsignalversorgungsleitungen (27) mittels der vierten elektrischen Leitungsschicht ausgebildet ist und jede der Vielzahl der Taktsignalversorgungsleitungen (27) unmittelbar über dem betreffenden Makrozellenlayoutbereich (9) angeordnet ist.
wobei die erste und zweite gemeinsame Leitung (16, 18) mittels der ersten elektrischen Leitungsschicht ausgebildet sind,
wobei die dritte und vierte gemeinsame Leitung (20, 23) mittels einer dritten elektrischen Leitungsschicht ausgebildet sind, die zur ersten und zweiten elektrischen Leitungsschicht unterschiedlich ist und die auf der Vielzahl der Elektrodenpaare (4, 5) ausgebildet ist,
wobei die fünfte gemeinsame Leitung (24) mittels der zweiten elektrischen Leitungsschicht ausgebildet ist,
wobei die sechste gemeinsame Leitung (28) mittels einer vierten elektrischen Leitungsschicht ausgebildet ist, die zur ersten bis dritten elektrischen Leitungsschicht unterschiedlich ist und die auf der Vielzahl der Elektrodenpaare (4, 5) ausgebildet ist, und
wobei die Vielzahl der Taktsignalversorgungsleitungen (27) mittels der vierten elektrischen Leitungsschicht ausgebildet ist und jede der Vielzahl der Taktsignalversorgungsleitungen (27) unmittelbar über dem betreffenden Makrozellenlayoutbereich (9) angeordnet ist.
14. Integrierte Halbleiterschaltungseinrichtung nach
einem der Ansprüche 1 bis 7, wobei eine Verdrahtung
innerhalb der als erste Makrozelle (55) arbeitenden
Logikschaltungen, eine Verdrahtung innerhalb der als zweite
Makrozelle (26) arbeitenden internen Schaltungen, eine
Verdrahtung zwischen den Logikschaltungen, und eine
Verdrahtung zwischen den Logikschaltungen einerseits und
den internen Schaltungen andererseits aus zumindest der
ersten und zweiten Verdrahtung gebildet ist, wobei die
erste Verdrahtung in der zweiten Richtung angeordnet und
mittels einer ersten elektrischen Leitungsschicht auf der
Vielzahl der Elektrodenpaare (4, 5) ausgebildet ist, und
die zweite Verdrahtung in der ersten Richtung angeordnet
und mittels einer zweiten elektrischen Leitungsschicht, die
unterschiedlich ist zur ersten elektrischen
Leitungsschicht, ausgebildet ist,
wobei die erste und zweite gemeinsame Leitung (16, 18) mittels der ersten elektrischen Leitungsschicht ausgebildet ist,
wobei die dritte gemeinsame Leitung (20) mittels einer dritten elektrischen Leitungsschicht ausgebildet ist, die zur ersten und zweiten elektrischen Leitungsschicht unterschiedlich ist und die auf der Vielzahl der Elektrodenpaare (4, 5) ausgebildet ist, und wobei die dritte gemeinsame Leitung (22) unmittelbar über dem mit der ersten Takttreiberschaltung (14) ausgestatteten Makrozellenlayoutbereich (9) angeordnet ist,
wobei die vierten bis sechsten gemeinsamen Leitungen (22, 24, 28) mittels der zweiten elektrischen Leitungsschicht ausgebildet sind, und
wobei die Vielzahl der Taktsignalversorgungsleitungen (27) mittels der dritten elektrischen Leitungsschicht ausgebildet ist, und jede der Vielzahl der Taktsignalversorgungsleitungen (27) unmittelbar über dem betreffenden Makrozellenlayoutbereich (9) angeordnet und mit einer Vielzahl der zweiten Makrozellen (26) verbunden ist.
wobei die erste und zweite gemeinsame Leitung (16, 18) mittels der ersten elektrischen Leitungsschicht ausgebildet ist,
wobei die dritte gemeinsame Leitung (20) mittels einer dritten elektrischen Leitungsschicht ausgebildet ist, die zur ersten und zweiten elektrischen Leitungsschicht unterschiedlich ist und die auf der Vielzahl der Elektrodenpaare (4, 5) ausgebildet ist, und wobei die dritte gemeinsame Leitung (22) unmittelbar über dem mit der ersten Takttreiberschaltung (14) ausgestatteten Makrozellenlayoutbereich (9) angeordnet ist,
wobei die vierten bis sechsten gemeinsamen Leitungen (22, 24, 28) mittels der zweiten elektrischen Leitungsschicht ausgebildet sind, und
wobei die Vielzahl der Taktsignalversorgungsleitungen (27) mittels der dritten elektrischen Leitungsschicht ausgebildet ist, und jede der Vielzahl der Taktsignalversorgungsleitungen (27) unmittelbar über dem betreffenden Makrozellenlayoutbereich (9) angeordnet und mit einer Vielzahl der zweiten Makrozellen (26) verbunden ist.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31974596A JP3556416B2 (ja) | 1996-11-29 | 1996-11-29 | 半導体集積回路装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19731714A1 DE19731714A1 (de) | 1998-06-04 |
DE19731714C2 true DE19731714C2 (de) | 2001-08-09 |
Family
ID=18113701
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19731714A Expired - Fee Related DE19731714C2 (de) | 1996-11-29 | 1997-07-23 | Integrierte Halbleiterschaltungseinrichtung mit Makrozellenlayoutbereichen und Takttreiberschaltungen |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5945846A (de) |
JP (1) | JP3556416B2 (de) |
KR (1) | KR100261900B1 (de) |
DE (1) | DE19731714C2 (de) |
TW (1) | TW333710B (de) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11191610A (ja) * | 1997-12-26 | 1999-07-13 | Hitachi Ltd | 半導体集積回路装置 |
US6157051A (en) * | 1998-07-10 | 2000-12-05 | Hilevel Technology, Inc. | Multiple function array based application specific integrated circuit |
JP2000077609A (ja) | 1998-08-28 | 2000-03-14 | Hitachi Ltd | 半導体集積回路装置 |
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-
1996
- 1996-11-29 JP JP31974596A patent/JP3556416B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1997
- 1997-06-02 US US08/867,391 patent/US5945846A/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-06-06 TW TW086107814A patent/TW333710B/zh not_active IP Right Cessation
- 1997-07-23 DE DE19731714A patent/DE19731714C2/de not_active Expired - Fee Related
- 1997-08-04 KR KR1019970037189A patent/KR100261900B1/ko not_active IP Right Cessation
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Also Published As
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KR19980041807A (ko) | 1998-08-17 |
TW333710B (en) | 1998-06-11 |
JPH10163328A (ja) | 1998-06-19 |
KR100261900B1 (ko) | 2000-07-15 |
US5945846A (en) | 1999-08-31 |
DE19731714A1 (de) | 1998-06-04 |
JP3556416B2 (ja) | 2004-08-18 |
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Legal Events
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8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |