DE19716662C2

DE19716662C2 - Ein Magnetkopfgleitstück und Magnetplattengerät mit dem Magnetkopfgleitstück

Info

Publication number: DE19716662C2
Application number: DE19716662A
Authority: DE
Inventors: Takayuki Yamamoto; Yoshiharu Kasamatsu; Takashi Toyoguchi; Toru Yokohata; Ryosuke Koishi
Original assignee: Fujitsu Ltd
Current assignee: Toshiba Storage Device Corp
Priority date: 1996-04-26
Filing date: 1997-04-22
Publication date: 2000-02-17
Anticipated expiration: 2017-04-23
Also published as: KR100284226B1; US6243233B1; US6040958A; CN1438627A; DE19716662A1; CN1170191A; JP3426082B2; CN1087463C; CN1221946C; JPH09293223A

Description

ALLGEMEINER STAND DER TECHNIK 1. Gebiet der Erfindung:

Die vorliegende Erfindung bezieht sich allgemein auf ein Gleitstück mit einem Magnetkopf und ein Magnet plattengerät mit dem Gleitstück und insbesondere auf ein Gleit stück, das während einer Antriebszeit eines Magnetplattengeräts über einer Oberfläche eines magnetischen Aufzeichnungsmediums schwebt, und ein Magnetplattengerät mit dem Gleitstück.

2. Beschreibung des Standes der Technik:

Eine Magnetplatte, die gemäß einem Kontakt-Start-Stop(CSS)- Verfahren betrieben wird, bei dem ein Schwebetyp-Kopf verwen det, ist weitgehend eingeführt worden. In dem CSS-Verfahren wird ein Gleitstück mit einem Magnetkopf auf einen CSS-Bereich einer Magnetplattenoberfläche in einer Haltezeit des Magnet plattengeräts gelegt, und in einer Antriebszeit des Magnetplat tengeräts läßt man das Gleitstück über einer Oberfläche einer Magnetplatte hochschweben. Im allgemeinen ist ein lesender und schreibender Magnetkopf an dem Gleitstück angebracht, wird das Gleitstück durch eine Aufhängung getragen, und wird das Gleit stück mit der Bewegung der Aufhängung über die Magnetplatte be wegt.

Der Grund, daß das Gleitstück mit dem Magnetkopf in der An triebszeit über der Magnetplattenoberfläche schwebt, ist, daß ein Luftstrom auf der Magnetplattenoberfläche auftritt, wenn die Magnetplatte gedreht wird. Das heißt, das Magnetkopfgleit stück schwebt gemäß einem Prinzip einer dynamischen Luftlage rung hoch.

In dem obigen Magnetplattengerät ist das Gerät nach und nach verkleinert worden, und Information kann in der Magnet platte bei einer hohen Dichte auf gezeichnet werden. Daher wird eine Flughöhe des Gleitstücks nach und nach verringert. In Fäl len, in denen eine Flughöhe des Gleitstücks verringert ist, gibt es jedoch einen Nachteil, daß das Gleitstück mit Uneben heiten der Magnetplattenoberfläche in Kontakt kommt und beschä digt wird. Um diesen Nachteil zu verhindern, wird die Rauhig keit der Magnetplattenoberfläche verringert, um den Kontakt des Gleitstücks mit der Magnetplatte zu verhindern.

Weil jedoch eine Kontaktfläche zwischen dem Gleitstück und der Magnetplatte in dem CSS-Bereich vergrößert wird, während die Oberflächenrauhigkeit der Magnetplatte verringert wird, haftet das Gleitstück leicht an der Magnetplatte. In diesem Fall gibt es einen anderen Nachteil, daß ein Motordrehmoment, das erforderlich ist, um die Magnetplatte zu drehen, erhöht wird und die den Magnetkopf tragende Aufhängung leicht beschä digt wird, wenn die Drehung der Magnetplatte gestartet wird.

Um die Haftung des Gleitstücks an der Magnetplatte zu redu zieren, ist eine Vielzahl von Polstern (im folgenden auch vor stehende Teile genannt) auf einer Luftlagerebene (im folgenden auch eine Schwebeebene oder eine Schienenebene genannt) des Gleitstücks vorgesehen, die der Magnetplatte zugewandt ist, so daß die Kontaktfläche zwischen dem Gleitstück und der Magnet platte reduziert ist. Diese Technik ist beispielsweise in einer veröffentlichten ungeprüften japanischen Patentanmeldung Nr. S63-37874 (1988) offenbart.

In Fällen jedoch, in denen die Polster auf der Schienen ebene vorgesehen sind, wird die Last des HGA (head-gimbal as sembly = Aufbau aus Kopf und kardanischem Rahmen) auf die Pol ster gelegt, so daß es einen anderen Nachteil gibt, daß die Polster wegen der Reibung zwischen den Polstern und der Magnet platte leicht abgenutzt werden. Es gibt auch einen weiteren Nachteil, daß die Polster verhindern, daß der Magnetkopf nahe der Magnetplattenoberfläche eingestellt wird.

ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG

Eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist, mit angemesse ner Berücksichtigung der Nachteile solch eines herkömmlichen Magnetkopfgleitstücks mit Polstern und eines herkömmlichen Ma gnetplattengeräts mit dem Magnetkopfgleitstück, ein Gleitstück mit einem Magnetkopf zu schaffen, bei dem die Haftung an einer Magnetplatte unterdrückt ist, die Abnutzung der Polster in ei nem CSS (Kontakt-Start-Stop) unterdrückt ist und der Kontakt mit einer Magnetplatte in einer Antriebszeit zuverlässig ver hindert wird.

In der vorliegenden Erfindung ist eine Höhe von Polstern, welche auf einer Schienenebene eines Gleitstücks mit einem Ma gnetkopf vorgesehen sind, in einem Bereich von 20 bis 50 nm eingestellt. In Fällen, in denen die Polsterhöhe auf den Be reich eingestellt ist, kann ein Koeffizient der Reibung zwi schen dem Gleitstück und der Magnetplatte auf einen gewünschten Wert reduziert werden, während eine Dicke eines auf der Magnet plattenoberfläche (oder einer Oberfläche eines magnetischen Aufzeichnungsmediums) aufgetragenen Schmiermittels und eine Rauhigkeit der Magnetplattenoberfläche in Betracht gezogen wer den.

In Fällen, in denen ein Polster auf einer an einem Seiten teil des Gleitstücks angeordneten ersten Schienenebene vorgese hen ist und ein anderes Polster auf einer an einem anderen Sei tenteil des Gleitstücks angeordneten zweiten Schienenebene vor gesehen ist, ist auch ein Abstand von dem auf der ersten Schie nenebene vorgesehenen Polster zu einem hinteren Ende (oder ei nem Luftausströmende) der ersten Schienenebene so eingestellt, daß er sich von einem anderen Abstand von dem auf der zweiten Schienenebene vorgesehenen Polster zu einem Luftausströmende der zweiten Schienenebene unterscheidet. In Fällen, in denen man das Gleitstück über der Magnetplatte hochschweben läßt, während sich das Gleitstück in einer seitlichen Richtung senk recht zu einer Drehrichtung der Magnetplatte neigt, ist daher das Polster der ersten (oder zweiten) Schienenebene, deren Flughöhe von der Magnetplatte niedriger ist als die der zweiten (oder ersten) Schienenebene, unter der Bedingung angeordnet, daß der Abstand von dem Polster der ersten (oder zweiten) Schienenebene zum Luftausströmende der ersten (oder zweiten) Schienenebene kürzer ist als der von dem Polster der zweiten (oder ersten) Schienenebene zu dem Luftausströmende der zweiten (oder ersten) Schienenebene, so daß der Kontakt des Polsters der ersten (oder zweiten) Schienenebene mit der Magnetplat tenoberfläche verhindert werden kann. Um das Gleitstück stabil auf die Magnetplatte zu legen, bevorzugt man in diesem Fall, daß das Polster der zweiten (oder ersten) Schienenebene, deren Flughöhe von der Magnetplatte höher ist als die der ersten (oder zweiten) Schienenebene, dem Luftausströmende der zweiten (oder ersten) Schienenebene näher ist.

Wenn die Magnetplatte bei einer konstanten Geschwindigkeit gedreht wird, wird auch, weil eine Umfangsgeschwindigkeit der Magnetplatte bei einer bestimmten Position hoch wird, weil die bestimmte Position von einem Drehzentrum der Magnetplatte ent fernt ist, eine Geschwindigkeit eines unter dem Gleitstück auf der Oberfläche der Magnetplatte auftretenden Luftstroms hoch, während das Gleitstück von dem Drehzentrum der Magnetplatte entfernt ist. Weil eine Flughöhe des Gleitstücks an dessen vor derem Ende (oder einem Lufteinströmende) erhöht wird, während das Gleitstück von dem Drehzentrum der Magnetplatte entfernt ist, wird daher eine Wahrscheinlichkeit erheblich reduziert, daß das Polster der zweiten (oder ersten) Schienenebene, das so angeordnet ist, daß sie dem Luftausströmende der zweiten (oder ersten) Schienenebene näher ist, mit einer Magnetplattenober fläche in Kontakt kommt.

In der vorliegenden Erfindung ist daher die Konfiguration des Gleitstücks unter der Bedingung bestimmt, daß eine Flughöhe einer Schienenebene, an der kein Magnetkopf (im folgenden ein elektromagnetischer Wandler genannt) für eine Lese- oder Schreiboperation angebracht ist, verringert ist, während das Gleitstück von dem Drehzentrum der Magnetplatte entfernt ist. Als ein Beispiel der Konfiguration des Gleitstücks ist eine Breite der Schienenebene bei einem Teil jeder Schienenebene na he dem elektromagnetischen Wandler so eingestellt, daß sie schmaler ist als die bei einem von dem elektromagnetischen Wandler entfernten Teil jeder Schienenebene.

Eine Breite von jedem der auf den Schienenebenen vorgesehe nen Polster hängt auch von einer Breite jeder Schienenebene ab. Daher wird in Fällen, in denen jedes Polster in der Richtung einer Länge der Schienenebene verlängert ist, um die Größe je des Polsters ausreichend zu vergrößern, eine Kontaktfläche zwi schen jedem Polster und der Magnetplattenoberfläche ausreichend vergrößert, und die Abnutzung der Polster kann verhindert wer den.

In der vorliegenden Erfindung ist auch ein durch Subtrahie ren einer Flughöhe eines auf dem Gleitstück angeordneten Vor sprungs (oder Polsters) von einer Flughöhe des an dem Gleit stück angebrachten elektromagnetischen Wandlers erhaltener Wert so eingestellt, daß er sich von einem negativen Wert bei einem äußeren Umfang der Magnetplatte zu einem positiven Wert bei ei nem inneren Umfang der Magnetplatte ändert. Daher kommt der Vorsprung des Gleitstücks mit der Magnetplatte vorzugsweise bei einem inneren Umfang der Magnetplatte in Kontakt, bevor der elektromagnetische Wandler mit der Magnetplatte in Kontakt kommt, so daß der Kontakt des elektromagnetischen Wandlers mit der Magnetplatte verhindert werden kann.

KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN

Fig. 1A ist eine Schrägansicht eines Wafers, der verwendet wird, um ein Gleitstück mit einem Magnetkopf gemäß einer ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zu bilden;

Fig. 1B ist eine Schrägansicht eines Stabkörpers, der durch Teilen des in Fig. 1A gezeigten Wafers erhalten wird;

Fig. 1C ist eine Schnittansicht, gelegt entlang einer Linie I-I von Fig. 1B, um einen Zustand darzustellen, daß eine Reihe von Filmen mit einer Mehrschichtstruktur auf einer Oberfläche des Stabkörpers gebildet ist;

Fig. 2 ist eine Schnittansicht, die einen Zustand zeigt, daß eine Vielzahl von jeweils in Fig. 1B dargestellten Stabkör pern in einem Halter eingebaut ist;

Fig. 3A bis 3H sind Seitenansichten, die einen Musterprozeß für das Gleitstück mit dem Magnetkopf gemäß der ersten Ausfüh rungsform der vorliegenden Erfindung zeigen;

Fig. 4A ist eine obere Ansicht des Gleitstücks mit dem Ma gnetkopf gemäß der ersten Ausführungsform der vorliegenden Er findung;

Fig. 4B ist eine Schnittansicht, gelegt entlang einer Linie II-II von Fig. 4A;

Fig. 5 zeigt eine Beziehung zwischen einer Höhe eines Pol sters des Gleitstücks mit dem Magnetkopf gemäß der ersten Aus führungsform der vorliegenden Erfindung und einem Koeffizienten einer Reibung an einer Magnetplattenoberfläche;

Fig. 6A und 6B sind Schnittansichten, die eine andere Schichtstruktur zwischen dem Wafer und dem Gleitstück mit dem Magnetkopf gemäß der ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigen;

Fig. 7 ist eine interne Draufsicht eines Magnetplattenge räts mit dem Gleitstück, das den Magnetkopf aufweist, gemäß der ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;

Fig. 8A und 8B sind Draufsichten, die ein Gleitstück mit einem Magnetkopf gemäß einer zweiten Ausführungsform der vor liegenden Erfindung zeigen;

Fig. 9A ist eine Draufsicht, die ein Gleitstück mit einem Magnetkopf gemäß einer dritten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt;

Fig. 9B ist eine Seitenansicht, die einen Schwebezustand des in Fig. 9A gezeigten Magnetkopfgleitstücks zeigt;

Fig. 9C ist eine Vorderansicht, die einen Schwebezustand des in Fig. 9A gezeigten Magnetkopfgleitstücks zeigt;

Fig. 10 zeigt eine Beziehung zwischen einer Flughöhe des Magnetkopfgleitstücks gemäß einer vierten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung und einer Position des Gleitstücks in einer radialen Richtung einer Magnetplatte;

Fig. 11 zeigt einen Kontaktzustand des Magnetplattengleit stücks, das mit der Magnetplatte in Fällen in Kontakt kommt, in denen das Gleitstück gebogen oder verdreht ist;

Fig. 12A und 12B sind Draufsichten, die ein Gleitstück mit einem Magnetkopf gemäß einer fünften Ausführungsform der vor liegenden Erfindung zeigen;

Fig. 13A ist eine Draufsicht, die ein Gleitstück mit einem Magnetkopf gemäß einer sechsten Ausführungsform der vorliegen den Erfindung zeigt;

Fig. 13B ist eine Seitenansicht, die das Magnetkopfgleit stück gemäß der sechsten Ausführungsform der vorliegenden Er findung zeigt;

Fig. 14A ist eine Seitenansicht, die einen Schwebezustand des Magnetkopfgleitstücks gemäß der sechsten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt;

Fig. 14B zeigt eine Beziehung zwischen einer Relativge schwindigkeit des Magnetkopfgleitstücks zur Magnetplatte und einer Flughöhe des Magnetkopfgleitstücks;

Fig. 15A ist eine Draufsicht, die ein Gleitstück mit einem Magnetkopf gemäß einer Modifikation der sechsten Ausführungs form der vorliegenden Erfindung zeigt; und

Fig. 15B ist eine Seitenansicht, die das Gleitstück mit dem Magnetkopf gemäß der Modifikation der sechsten Ausführungsform zeigt.

BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSFORMEN

Bevorzugte Ausführungsformen eines Gleitstücks mit einem Magnetkopf und eines Magnetplattengeräts mit dem Gleitstück ge mäß der vorliegenden Erfindung werden mit Verweis auf die Zeichnungen beschrieben.

(Erste Ausführungsform)

Ein Herstellungsprozeß für ein Gleitstück, an dem ein Ma gnetkopf angebracht wird, gemäß einer ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird beschrieben.

Wie in Fig. 1A dargestellt ist, wird zu Anfang eine Viel zahl elektromagnetischer Wandlereinrichtungen 2 auf einer Hauptebene eines Wafers 1 aus einem Aluminiumtitankarbid (Al₂O₃TiC), Ferrit oder Kalziumtitanat in longitudinalen und seitlichen Richtungen gebildet. Jede elektromagnetische Wand lereinrichtung 2 ist z. B. eine Magnetoresistenzeffekt-Einrich tung oder eine Induktivitätseinrichtung.

Der Wafer 1 wird danach entlang einer strichpunktierten Li nie von Fig. 1A durch Verwenden einer Säge abgeschnit ten, und eine Vielzahl von Stabkörpern 3 wird erhalten, die je weils eine Vielzahl in Reihe angeordneter elektromagnetischer Wandlereinrichtungen 2 aufweisen. Weil in einem späteren Prozeß jeder Stabkörper 3 in eine Vielzahl von Gleitstücken geteilt wird, die jeweils einen Magnetkopf aufweisen, wird vorher an einem Lufteinströmende jedes Gleitstücks eine Schräge gebildet. In diesem Fall ist eine Schwebeebene 3a jedes Gleitstücks auf einer Seite jedes Stabkörpers 3 angeordnet, worauf ein magneti scher Pol der elektromagnetischen Wandlereinrichtung 2 expo niert ist.

Danach wird, wie in Fig. 1C dargestellt ist, ein Zwischen film 4 auf der Schwebeebene 3a und den elektromagnetischen Wandlereinrichtungen 2 jedes Stabkörpers 3 bei einer Dicke von 5 nm durch Verwenden eines Filmbildungsverfahrens gebildet, wie z. B. eines Sputterns, einer chemischen Aufdampfung oder einer Aufdampfung. Danach wird auf dem Zwischenfilm 4 bei einer Dicke von 10 nm ein Schutzfilm 5 aus einem diamantartigen Kohlenstoff (im folgenden DLC genannt) durch Verwenden des Filmbildungsver fahrens gebildet, wie z. B. eines Sputterns, einer chemischen Aufdampfung oder einer Aufdampfung. Der Schutzfilm 5 wird ver wendet, um die Schwebeebene 3a und die elektromagnetischen Wandlereinrichtungen 2 zu schützen. Der Zwischenfilm 4 wird auch verwendet, um die Haftung des Stabkörpers 3 an dem Schutz film 5 zu verbessern. Daher ist in Fällen, in denen die Haftung des Stabkörpers 3 an dem Schutzfilm 5 stärker ist, der Zwi schenfilm 4 nicht erforderlich.

Danach werden ein Siliziumfilm 6 einer von 2 bis 5 nm rei chenden Dicke und ein DLC-Film 7 einer von 20 bis 50 nm rei chenden Dicke auf dem Schutzfilm 5 in dieser Reihenfolge gebil det. Der DLC-Film 7 wird in einem späteren Prozeß gemustert, und eine Vielzahl Polster wird gebildet. Der Siliziumfilm 6 wirkt auch als ein Ätzstopper, wenn der DLC-Film 7 gemustert wird.

Danach wird, wie in Fig. 2 gezeigt ist, die Vielzahl der Stabkörper 3 auf einen Halter gelegt und wird an dem Halter befestigt. In diesem Fall ist eine Oberfläche jedes Stabkörpers 3, auf dem die Vielzahl elektromagnetischer Wandlereinrichtun gen 2 angeordnet ist, in eine Seitenrichtung gerichtet, und die Schwebeebene 3a jedes Gleitstücks ist nach oben gerichtet. Eine innere Struktur des Halters verhindert, daß sich die Stabkör per 3 frei bewegen. Eine Mehrschichtstruktur von dem Zwischen film 4 zu dem DLC-Film 7 ist auch in Fig. 2 weggelassen, um die Anordnung der Stabkörper 3 in dem Halter deutlich zu machen.

Danach wird, wie in Fig. 3A dargestellt ist, durch Verwen den eines "Laminators" (Laminierwerkzeug) ein erstes Filmresist 9 auf dem DLC-Film 7 laminiert. Das erste Filmresist 9 wird da nach belichtet und entwickelt, so daß das erste Filmresist 9 auf einem polsterbildenden Bereich zurückgelassen wird, wie in Fig. 3B dargestellt ist. Eine Ebenenform des gemusterten ersten Filmresists 9 ist nicht auf eine Kreisform, eine elliptische Form oder eine parabolische Form unter der Bedingung be schränkt, daß ein Luftstrom durch das gemusterte erste Film resist 9 nicht gestört wird, wenn ein Gleitstück in die Luft hochschwebt. Das gemusterte erste Filmresist 9 wird als eine erste Maske verwendet. Eine Bezugsziffer 10 gibt eine Rolle des Laminators an.

Die in dem Halter angeordneten Stabkörper 3 werden danach in ein Gerät für reaktives Ionenätzen (RIE) gelegt, und mit dem gemusterten ersten Filmresist 9 nicht bedeckte Teile des DLC- Films 7 werden durch ein in dem RIE-Gerät auftretendes Sauer stoffplasma geätzt. Daher wird der DLC-Film 7 gemustert, und eine Vielzahl von in Fig. 3C gezeigten Polstern 7a ist auf der Mehrfachschicht 4, 5 und 6 gebildet. Eine Höhe jedes Polsters 7a ist gleich einer Filmdicke des DLC-Films 7.

Weil eine Ätzrate des durch das Sauerstoffplasma geätzten Siliziumfilms 6 sehr gering oder Null ist, kann in diesem Mu sterprozeß das Ätzen des DLC-Films 7 einfach gesteuert werden. Der unter dem Siliziumfilm 6 angeordnete Schutzfilm 5 wird ebenfalls nicht geätzt, so daß die Schwebeebene 3a und die elektromagnetischen Wandlereinrichtungen 2 mit dem Schutzfilm 5 bedeckt sind. In diesem Fall wird die Steuerung einer Ätzzeit bevorzugt. Es wird auch bevorzugt, daß eine Zeit zum Beenden der Ätzoperation gemäß einer Änderung einer Wellenlänge des in der Ätzoperation auftretenden Plasmalichts beurteilt wird.

Danach wird, wie in Fig. 3D dargestellt ist, ein zweites Filmresist 11 auf jedem Stabkörper 3 laminiert, indem wieder der Laminator verwendet wird, so daß das erste Filmresist 9, der Siliziumfilm 6 und die Polster 7a mit dem zweiten Filmre sist 11 bedeckt sind.

Danach wird das zweite Filmresist 11 belichtet und entwic kelt, und, wie in Fig. 3 dargestellt ist, werden Teile der Schwebeebene 3a unter der Bedingung entfernt, daß andere Teile der Schwebeebene 3a, die in einer Schienenform gebildet sind, zurückgelassen werden. Weil jede elektromagnetische Wandlerein richtung 2 in der Nachbarschaft eines schienenförmigen Bereichs der Schwebeebene 3a existiert, sind die elektromagnetischen Wandlereinrichtungen 2 mit dem zweiten Filmresist 11 bedeckt.

Daher sind Teile jedes Stabkörpers 3, die jeweils als ein negativer Bereich eines Gleitstücks genutzt werden, und Teile jedes Stabkörpers 3, die jeweils als ein Grenzbereich zwischen Gleitstücken genutzt werden, mit dem zweiten Filmresist 11 nicht bedeckt.

Danach wird das in einer Streifenform gebildete zweite Filmresist 11 als eine zweite Maske verwendet, werden der Sili ziumfilm 6, der Schutzfilm 5, der Zwischenfilm 4 und der Stab körper 3 gemäß einem Ionenfräsen geätzt, so daß eine Vielzahl konkaver Teile 12 gebildet wird. Wie in Fig. 3F dargestellt ist, ist daher ein konkaver Teil 12 in einem negativen Bereich jedes Gleitstücks und jedem Umfangsbereich zwischen Gleitstüc ken angeordnet.

Wie in Fig. 3G dargestellt ist, werden danach die ersten und zweiten Filmresiste 9 und 11 durch Verwenden von Aceton ge waschen und entfernt. In Fällen, in denen das erste Filmresist 9 nicht vorher entfernt wird, kann die Waschung der Resiste zur gleichen Zeit beendet werden, so daß ein Durchsatz das Gleit stück nicht reduziert wird.

Danach wird jeder Grenzteil zwischen Gleitstücken jedes Stabkörpers 3 abgeschnitten, und aus jedem Stabkörper 3 wird eine Vielzahl Gleitstücke 13 erhalten. Ein Gleitstück 13 ist in Fig. 3H dargestellt.

Als ein Beispiel hat das in den obigen Prozessen gebildete Gleitstück 13 für den Magnetkopf eine Bodenform, die in Fig. 4A dargestellt ist. Eine Bezugsziffer 3a in Fig. 4A gibt eine schräge Ebene an.

In diesem Gleitstück 13 sind ein erster Schwebebereich 3a1 und ein zweiter Schwebebereich 3a2, die jeweils in einer Schie nenform gebildet sind, separat auf beiden Seiten einer Boden oberfläche angeordnet, und jeder der Schwebebereiche 3a1 und 3a2 ist in der Mitte eingeschnürt. Wenn eine Magnetplatte ge dreht wird, wird daher eine Schwebekraft zum in die Luft Schwe benlassen des auf die Magnetplatte gelegten Gleitstücks 13 er zeugt. Ein in einer Inselform gebildeter dritter Schwebebereich 3a3 ist auch zwischen den Schwebebereichen 3a1 und 3a2 nahe ei nem Lufteinströmende gebildet. Jeder der Schwebebereiche 3a1, 3a2 und 3a3 wird eine Schienenebene 3a genannt.

Der durch die ersten, zweiten und dritten Schwebebereiche 3a1, 3a2 und 3a3 umgebene konkave Bereich 12 ist auch der nega tive Bereich. Weil der negative Bereich auf einen Unterdruck eingestellt ist, wenn das Gleitstück 13 hochschwebt, ist eine Flughöhe des Gleitstücks 13 an dessen hinterem Ende (oder einem Luftausströmende) geringer als die an dessen vorderem Ende (oder einem Lufteinströmende), wenn das Gleitstück 13 hoch schwebt.

Ferner ist zumindest ein Polster 7a nahe dem hinteren Ende jeder der ersten und zweiten Schienenebenen 3a1 und 3a2 ange ordnet, und ein Polster 7a ist auf der dritten Schienenebene 3a3 angeordnet. Jedes der Polster 7a wird bei einer von 20 bis 50 nm reichenden Höhe wie folgt gebildet.

Nach Fig. 5 ist in Fällen, in denen die Höhe des Polsters 7a geringer als 25 nm ist, ein Koeffizient einer Reibung zwi schen dem Polster 7a und einer Oberfläche einer Magnetplatte 14 erhöht, so daß es eine Wahrscheinlichkeit gibt, daß sich ein Spindelmotor nicht drehen kann. Daher wird eine geringere Höhe des Polsters 7a als 25 nm nicht bevorzugt. In Fällen, in denen die Höhe des nahe dem Luftausströmende von jeder der ersten und zweiten Schienenebenen 3a1 und 3a2 angeordneten Polsters 7a hö her als 50 nm ist und das Polster 7a nahe der elektromagneti schen Wandlereinrichtung 2 angeordnet ist, wird die Flughöhe des Polsters 7a auch niedriger als die der elektromagnetischen Wandlereinrichtung 2, und das Polster 7a kann leicht mit Un ebenheiten der Oberfläche der Magnetplatte 14 in Kontakt kom men. Daher wird eine größere Höhe des Polsters 7a als 50 nm nicht bevorzugt.

Wie in Fig. 5 dargestellt ist, ist der Reibungskoeffizient etwa 3 und ist vergleichsweise niedrig im Falle der Polsterhöhe von 25 nm. Ein Reibungskoeffizient gleich oder geringer als 1 ist erwünscht, und daher ist es erforderlich, die Polsterhöhe auf einen Wert gleich oder größer als 27 nm einzustellen. In Fällen, in denen eine Oberflächenrauhigkeit der Magnetplatte 14 und eine Filmdicke eines auf der Magnetplatte 14 aufgetragenen Schmiermittels auf geeignete Werte eingestellt sind, ist eine untere Grenze der Polsterhöhe als ein geringerer Wert als 20 nm bestimmt.

Das Polster 7a wird durch Mustern des DLC-Films 7 erhalten, und die Schienenebene 3a, auf der das Polster 7a angeordnet ist, kommt nicht mit der Magnetplatte 14 in Kontakt. Wie in Fig. 6A dargestellt ist, ist es daher passend oder angebracht, daß eine einzelne Schicht eines Siliziumfilms, eines Silizium karbidfilms oder eines Siliziumoxidfilms als ein die Schienene bene 3a und die elektromagnetische Wandlereinrichtung 2 bedec kender Schutzfilm 5 angeordnet wird. Das heißt, der Silizium film, der Siliziumkarbidfilm oder der Siliziumoxidfilm wirkt, um die Haftung des das Polster 7a bildenden DLC-Films 7 an dem Wafer 1 zu verbessern, und der Siliziumfilm 6 und die Zwischen schicht 4 können weggelassen werden.

Wie in Fig. 6B dargestellt ist, ist in dieser Filmstruktur die Schienenebene 3a mit einem Schutzfilm 5a aus Silizium, Si liziumkarbid oder Siliziumoxid bedeckt, und das Polster 7a aus dem DLC-Film 7 ist auf dem Schutzfilm 5a angeordnet. Eine Film dicke des Siliziums, des Siliziumkarbids oder Siliziumoxids ist z. B. auf etwa 5 nm eingestellt. Weil nur ein Film zwischen dem Polster 7a und der Schienenebene 3a existiert, kann daher die Filmbildungszeit verkürzt werden, und ein Durchsatz der Gleit stücke kann verbessert werden.

Wie in Fig. 7 dargestellt ist, ist das Gleitstück 13, an dem die elektromagnetische Wandlereinrichtung 2 angebracht ist, an einem oberen Ende einer Aufhängung (oder eines Federarms) 16 in einem Magnetplattengerät 15 befestigt, und das Gleitstück 13 bewegt sich über die Magnetplatte 15 durch Betätigen der Auf hängung 16.

(Zweite Ausführungsform)

In einem Verfahren der ersten Ausführungsform, in dem zwei Filmresiste durch Verwenden des Laminators verwendet werden, ist ein oberer Wert eines Durchmessers des Polsters 7a durch eine Breite der Schienenebene 3a begrenzt. In Fällen, in denen eine Fläche des Polsters 7a vermindert ist, weil der Durchmes ser des Polsters 7a verkürzt ist, wird das Polster 7a wegen der Reibung zwischen der Magnetplatte 14 und dem Polster 7a schnell abgenutzt.

Um die Fläche des Polsters 7a zu erweitern wie in Fig. 8A und 8B dargestellt ist, ist es vorzuziehen, daß ein in einer longitudinalen Richtung der ersten oder zweiten Schienenebene 3a1 oder 3a2 verlängertes Polster 7b oder 7c auf der ersten oder zweiten Schienenebene 3a1 oder 3a2 angeordnet ist. In Fig. 8 A ist ein erweitertes Polster 7b nahe einem hinteren Ende der von der elektromagnetischen Wandlereinrichtung 2 entfernten zweiten Schienenebene 3a2 angeordnet. In Fig. 8B ist ein Paar erweiterter Polster 7b und 7c nahe den hinteren Enden der er sten und zweiten Schienenebenen 3a1 und 3a2 angeordnet. Ein Polster 7d ist auch nahe dem vorderen Ende jeder der ersten und zweiten Schienenebenen 3a1 und 3a2 angeordnet.

Ein Abstand von dem hinteren Ende des Gleitstücks 13 zu dem Polster 7b oder 7c unterscheidet sich von dem in der ersten Ausführungsform, und die Einzelheit des Abstands wird gemäß ei ner nächsten Ausführungsform beschrieben.

(Dritte Ausführungsform)

Um die elektromagnetische Wandlereinrichtung 2 der Magnet platte 14 annähern zu lassen, wenn das Gleitstück gemäß der er sten Ausführungsform in die Luft hochschwebt, wird folgende Struktur eines Gleitstücks übernommen. Fig. 9A bis 9C zeigen ein Gleitstück gemäß der dritten Ausführungsform und einen Zu stand, in dem das Gleitstück in die Luft hochschwebt. In Fig. 9A gezeigte Konstruktionsteile, die mit den in Fig. 4 gezeigten Teilen identisch sind, sind durch die gleichen Bezugsziffern wie die in Fig. 4 gezeigten bezeichnet.

In Fällen, in denen ein in Fig. 9A gezeigtes Gleitstück 20 in die Luft hochschwebt, wie in Fig. 9B dargestellt ist, ist eine Flughöhe des Gleitstücks 20 an dessen hinterem Ende nied riger als die an dessen vorderem Ende. Wie in Fig. 9C darge stellt ist, ist in diesem Fall, wenn die Konfiguration des Gleitstücks 20 unter der Bedingung festgelegt ist, daß eine Flughöhe einer ersten Schienenebene 21 nahe der elektromagneti schen Wandlereinrichtung 2 niedriger als die einer von der elektromagnetischen Wandlereinrichtung 2 entfernten zweiten Schienenebene 22 ist, eine Flughöhe des Gleitstücks 20 an dem hinteren Ende der ersten Schienenebene 21 am niedrigsten. Selbst wenn sich die an dem hinteren Ende der ersten Schienen ebene 21 angebrachte elektromagnetische Wandlereinrichtung 2 der Magnetplatte 14 dicht annähert, kann daher der Kontakt der Schienenebene 21 oder 22 mit der Oberfläche der Magnetplatte 14 verhindert werden. Demgemäß ist die Konfiguration des Gleit stücks 20 geeignet, eine bei hoher Dichte aufgezeichnete Infor mation zu lesen und zu schreiben.

Um einen Unterschied zwischen einer Flughöhe des Gleit stücks 20 bei der ersten Schienenebene 21 und einer Flughöhe des Gleitstücks 20 bei der zweiten Schienenebene 22 zu machen, ist die Konfiguration des Gleitstücks 20 unter der Bedingung bestimmt, daß eine Breite eines von der Mitte zu dem hinteren Ende der ersten Schienenebene 21 reichenden Bereichs schmaler als die der zweiten Schienenebene 22 ist. Weil die Flughöhe der ersten Schienenebene 21 höher als die der zweiten Schienenebene 22 ist, ist in dieser Konfiguration eine Wahrscheinlichkeit verringert, daß die auf der zweiten Schienenebene 22 angeordne ten Polster 7a und 7b mit der Magnetplatte 14 in Kontakt kom men. Weil sich ein beim hinteren Ende der ersten Schienenebene 21 angeordneter bestimmter Bereich der Magnetplatte 14 dicht annähert, ist es jedoch erforderlich, den Kontakt eines in der Nachbarschaft des bestimmten Bereichs angeordneten Polsters 7e mit der Oberfläche der Magnetplatte 14 zu verhindern.

Um den Kontakt des Polsters 7e mit der Oberfläche der Ma gnetplatte 14 zu verhindern, besteht eine Idee darin, die Höhe des Polsters 7e zu verringern. Wie in der ersten Ausführungs form beschrieben ist, wird jedoch nicht bevorzugt, daß die Höhe des Polsters 7e auf einen geringeren Wert als 20 nm eingestellt wird. Wie in Fig. 9A dargestellt ist, kann daher in Fällen, in denen ein Abstand von dem auf der ersten Schienenebene 21 ange ordneten Polster 7e zu dem hinteren Ende der ersten Schienene bene 21 so eingestellt ist, daß er länger als der von dem auf der zweiten Schienenebene 22 angeordneten Polster 7a zu dem hinteren Ende der zweiten Schienenebene 22 ist, selbst wenn sich das hintere Ende der ersten Schienenebene 21 der Magnet platte 14 dicht annähert, der Kontakt des auf der ersten Schie nenebene 21 angeordneten Polsters 7e mit der Oberfläche der Ma gnetplatte 14 verhindert werden. In diesem Fall wird die Anord nung der Polster 7a, 7b, 7d und 7e unter der Bedingung be stimmt, daß das Gleitstück 20 stabil auf die Oberfläche det Ma gnetplatte 14 gelegt ist, wenn die Magnetplatte 14 nicht ge dreht wird. Daher kann jegliche Beschwerlichkeit verhindert werden, selbst wenn der Abstand von dem Polster 7e zu dem hin teren Ende der ersten Schienenebene 21 länger als der von dem Polster 7a zu dem hinteren Ende der zweiten Schienenebene 22 ist.

Demgemäß kann jeglicher Kontakt des Gleitstücks 20 mit der Oberfläche der Magnetplatte 14 verhindert werden, wenn die Ma gnetplatte 14 gedreht wird.

(Vierte Ausführungsform)

Die Flughöhen an beiden Seiten des Gleitstücks ändern sich mit einem Abstand von einer Position des Gleitstücks zu einem Drehzentrum der Magnetplatte 14. Der Grund ist, daß eine Um fangsgeschwindigkeit der Magnetplatte 14 an einer bestimmten Position erhöht wird, während ein Abstand von dem Drehzentrum der Magnetplatte 14 zu der bestimmten Position vergrößert wird, selbst wenn die Magnetplatte 14 bei einer konstanten Geschwin digkeit gedreht wird.

Wenn sich das Gleitstück einem äußeren Umfang der Magnet platte annähert, wird auch eine Wahrscheinlichkeit beträchtlich verringert, daß das hintere Ende (oder das Luftausströmende) des Gleitstücks mit der Magnetplatte in Kontakt kommt, weil die Flughöhe des Gleitstücks an dessen vorderem Ende (oder dem Lufteinströmende) weiter erhöht wird. Wie in Fig. 10 darge stellt ist, kann daher das Gleitstück mit einer bestimmten Schwebecharakteristik verwendet werden, bei der die Flughöhe des Gleitstücks an dem Luftausströmende der ersten Schienenebe ne 21 nahezu die gleiche wie die an dem Luftausströmende der zweiten Schienenebene 22 ist.

Das heißt, die Konfiguration des Gleitstücks 20 ist, wie in Fig. 9B und 9C gezeigt, unter der Bedingung konstruiert, daß die Flughöhe des Gleitstücks 20 an dem hinteren Ende der ersten Schienenebene 21 nahe der elektromagnetischen Wandlereinrich tung 2 niedriger ist als die an dem hinteren Ende der von der elektromagnetischen Wandlereinrichtung 2 entfernten zweiten Schienenebene 22, wenn sich das Gleitstück 20 dem Drehzentrum der Magnetplatte 14 annähert. Die Konfiguration des Gleitstücks 20 ist auch unter der Bedingung konstruiert, daß die Flughöhe des Gleitstücks 20 an dem hinteren Ende der zweiten Schienen ebene 22 verringert ist und sich der Flughöhe des Gleitstücks 20 am hinteren Ende der ersten Schienenebene 21 annähert, wäh rend das Gleitstück 20 vom Drehzentrum der Magnetplatte 14 ent fernt ist.

Um den obigen Bedingungen in der Konfiguration des Gleit stücks 20 zu genügen, ist die erste Schienenebene 21 bezüglich des Drehzentrums der Magnetplatte 14 auf einer äußeren Seite des Gleitstücks 20 angeordnet, ist die zweite Schienenebene 22 bezüglich des Drehzentrums der Magnetplatte 14 auf einer inne ren Seite des Gleitstücks 20 angeordnet, ist eine erste Breite eines Teils der ersten Schienenebene 21 schmaler als eine zwei te Breite der zweiten Schienenebene 22 eingestellt, und ist ein Verhältnis der ersten Breite zur zweiten Breite festgelegt. Da her kann die den obigen Bedingungen genügende Konfiguration des Gleitstücks 20 erhalten werden. Speziell wird eine Breite eines Teils der ersten Schienenebene 21, der unter einem Abstand von dem hinteren Ende des Gleitstücks 20 beabstandet ist, schmaler als eine Breite eines Teils der zweiten Schienenebene 22 fest gelegt, der unter dem gleichen Abstand beabstandet ist.

In Fällen, in denen das Gleitstück 20 so konstruiert ist, daß es der in Fig. 10 gezeigten Schwebecharakteristik genügt, kann das Rollen des Gleitstücks 20 verhindert werden, wenn das Gleitstück 20 in die Luft hochschwebt, kann das Gleitstück 20 stabil in die Luft hochschweben, kann die Flughöhe der elektro magnetischen Wandlereinrichtung 2 bei einem geringen Wert ge halten werden.

(Fünfte Ausführungsform)

Wenn das Magnetkopfgleitstück verkleinert wird, kann eine Überhöhung oder Verdrehung nicht außer acht gelassen werden, die in dem Gleitstück in einem Prozeß zum Herstellen eines Gleitstücks auftreten. In Fällen beispielsweise, in denen ein Überhöhungsgrad des in Fig. 4 gezeigten Gleitstücks 13 15 nm beträgt, ein Verdrehungsgrad des Gleitstücks 13 15 nm beträgt und eine Höhe des Polsters 7a 30 nm ist, wie in Fig. 11 darge stellt, können die Schienenebenen 3a1 und 3a2 mit Ausnahme der Schienenebene 3a3, auf der das nahe dem Lufteinströmende des Gleitstücks 13 angeordnete Polster 7a angeordnet ist, leicht mit der Oberfläche der Magnetplatte 14 in Kontakt kommen. Weil die Schienenebenen 3a1 und 3a2 mit der Oberfläche der Magnet platte 14 in Kontakt kommen und die Haftung der Schienenebenen 3a1 und 3a2 an der Magnetplatte 14 auftritt und erhöht wird, ist es erforderlich, den Kontakt der Schienenebenen 3a1 und 3a2 mit der Oberfläche der Magnetplatte 14 zu verhindern.

Um den Kontakt zu verhindern, ist nicht nur, wie in Fig. 12A dargestellt ist, das nahe dem Lufteinströmende des Gleit stücks 13 angeordnete Polster 7a auf der dritten Schienenebene 3a3 angeordnet, sondern ist auch ein Paar Polster 23, die nahe dem vorderen Ende (oder dem Lufteinströmende) des Gleitstücks 13 angeordnet sind, auf den ersten und zweiten Schienenebenen 3a1 und 3a2 angeordnet. In Fällen, in denen die Polster 23 an der Vorderseite des Gleitstücks 13 existieren, wird das Gleit stück 13 durch die vier oder mehr Polster auf der Magnetplatte 14 getragen, wenn die Magnetplatte 14 nicht gedreht wird, selbst wenn die Krümmung
oder Verdrehung im Gleitstück 13 auftritt, und der Kontakt der Schienenebenen 3a1 und 3a2 mit der Oberfläche der Magnet platte 14 kann verhindert werden, wenn die Magnetplatte 14 nicht gedreht wird.

In Fällen, in denen der Grad der Überhöhung oder Verdre hung, die in dem Gleitstück 13 in dem Prozeß zum Herstellen des Gleitstücks auftritt, groß ist, wird auch eine Fläche jedes Polsters 23 erweitert. In diesem Fall können die Polster 23 mit der Magnetplatte 14 leicht in Kontakt kommen.

Selbst wenn die Überhöhung oder Verdrehung in dem Gleit stück 13 auftritt, besteht ferner ein Vorteil im Hinblick auf die Verhinderung der Haftung vieler Polster an der Magnetplatte 14, weil viele Polster, z. B. vier oder mehr Polster 7a und 23, die in dem CSS-Bereich angeordnet sind, nicht mit der Magnet platte 14 in Kontakt kommen.

Die Vielzahl auf den ersten und zweiten Schienenebenen 3a1 und 3a2 angeordneter Polster 7a und 23 geht jedoch durch die gleiche Route in dem CSS-Bereich der Magnetplatte 14, und daher gibt es folgenden Nachteil. Das heißt, nachdem das nahe dem vorderen Ende des Gleitstücks 13 angeordnete Polster 23 durch eine Route geht, während es eine auf der Magnetplatte 14 ange ordnete Schmiermittelschicht beiseite schiebt, geht das nahe dem hinteren Ende (oder dem Luftausströmende) des Gleitstücks 13 angeordnete Polster 7a durch die gleiche Route, in der die Schmiermittelschicht schon beiseite geschoben worden ist. Weil dem nahe dem hinteren Ende des Gleitstücks 13 angeordneten Pol ster 7a kein Schmiermitteleffekt erteilt wird, wird daher das Polster 7a durch die Magnetplatte 14 leicht abgenutzt.

Um diesen Nachteil zu verhindern, ist die Vielzahl Polster 7a und 23, wie in Fig. 12B dargestellt ist, auf den ersten und zweiten Schienenebenen 3a1 und 3a2 unter der Bedingung angeord net, daß die Polster 7a und 23 durch verschiedene Routen in dem CSS-Bereich der Magnetplatte 14 gehen, während ein Gierwinkel des Gleitstücks 13 betrachtet wird.

(Sechste Ausführungsform)

In einem Magnetplattengerät mit einem Gleitstück vom Schwe betyp sind die oben beschriebenen Polster in dem Gleitstück an geordnet, um die Haftung des Gleitstücks an der Oberfläche der Magnetplatte 14 zu verhindern. In den Fällen, in denen die Flughöhe des Gleitstücks verringert wird, wenn eine Oberflä chenrauhigkeit der Magnetplatte 14 reduziert ist, um den Kon takt des Gleitstücks mit Unebenheiten der Magnetplattenoberflä che zu verhindern, gibt es auch einen Nachteil, daß die Haftung der Polster an der Oberfläche der Magnetplatte 14 leicht auf tritt. Daher wird die Konfiguration des Gleitstücks beschrie ben, die unter der Bedingung bestimmt ist, daß der Kontakt der elektromagnetischen Wandlereinrichtung 2 mit der Oberfläche der Magnetplatte 14 ohne Reduzieren der Oberflächenrauhigkeit der Magnetplatte 14 verhindert wird.

Fig. 13A ist eine Draufsicht, die ein Gleitstück mit einem Magnetkopf gemäß einer sechsten Ausführungsform der vorliegen den Erfindung zeigt, Fig. 13B ist eine Seitenansicht, die das Magnetkopfgleitstück gemäß der sechsten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt, Fig. 14A ist eine Seitenansicht, die einen Schwebezustand des Magnetkopfgleitstücks gemäß der sechsten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt, und Fig. 14B zeigt eine Beziehung zwischen einer Relativgeschwin digkeit des Magnetkopfgleitstücks zur Magnetplatte und einer Flughöhe des Magnetkopfgleitstücks.

Eine erste Schienenebene 31 und eine zweite Schienenebene 32 sind auf beiden Seiten eines Gleitstücks 30 so angeordnet, daß sie der Magnetplatte 14 gegenüberliegen. Ein Paar schräger Ebenen 31a und 32a ist nahe dem vorderen Ende (oder dem Lufteinströmende) der ersten und zweiten Schienenebenen 31 und 32 angeordnet, und ein Paar Polster 33 und 34 ist nahe dem hin teren Ende (oder dem Luftausströmende) der ersten und zweiten Schienenebenen 31 und 32 angeordnet. Eine elektromagnetische Wandlereinrichtung 35 ist auch am hinteren Ende der ersten Schienenebene 31 angeordnet. Das Gleitstück 30 ist an einem oberen Ende der Aufhängung 16 in dem in Fig. 7 gezeigten Ma gnetplattengerät angebracht, und das Gleitstück 30 wird durch Empfangen eines durch die Drehung der Magnetplatte 14 auftre tenden Luftstroms in die Luft angehoben.

Weil die schrägen Ebenen 31a und 32a an dem vorderen Ende der ersten und zweiten Schienenebenen 31 und 32 angeordnet sind, wird die Flughöhe des Gleitstücks 30, wie in Fig. 14A dargestellt ist, an dessen vorderem Ende höher als die Flughöhe des Gleitstücks an dessen hinterem Ende, weil eine Relativge schwindigkeit V der ersten und zweiten Schienenebenen 31 und 32 zur Magnetplatte 14 erhöht wird, wenn das Gleitstück 30 in ei nen Schwebezustand versetzt wird. Das heißt, ein Neigungswinkel (oder ein Steigungswinkel) θ der ersten und zweiten Schienen ebenen 31 und 32 wird erhöht, während die Relativgeschwindig keit V erhöht wird.

Die Umfangsgeschwindigkeit bei einer bestimmten Position der bei einer konstanten Geschwindigkeit gedrehten Magnetplatte 14 wird ebenfalls erhöht, während ein Abstand von dem Drehzen trum der Magnetplatte 14 zu der bestimmten Position erhöht wird. Der Steigungswinkel θ der ersten und zweiten Schienenebe nen 31 und 32 des über der Magnetplatte 14 hochschwebenden Gleitstücks 30 wird daher erhöht, während das Gleitstück 30 zur äußeren Seite der Magnetplatte 14 hin bewegt wird. Weil der Steigungswinkel θ erhöht wird, wird auch eine Flughöhe Ht der elektromagnetischen Wandlereinrichtung 35 von der Magnetplatte 14 erhöht, und eine Flughöhe Hp der nahe dem hinteren Ende der ersten und zweiten Schienenebenen 31 und 32 angeordneten Pol ster 33 und 34 wird erhöht.

In diesem Fall wird die Flughöhe Ht der elektromagnetischen Wandlereinrichtung 35 im Vergleich zur Zunahme der Flughöhe Hp nach und nach erhöht, während die Relativgeschwindigkeit V er höht wird. Obwohl das Gleitstück 30 im allgemeinen unter der Bedingung konstruiert ist, daß die Flughöhe Ht der elektroma gnetischen Wandlereinrichtung 35 bei einem konstanten Wert ge halten wird, selbst wenn sich die Relativgeschwindigkeit V än dert, wie in Fig. 14B gezeigt ist, wird hier die Flughöhe Ht der elektromagnetischen Wandlereinrichtung 35 in der Praxis mit der Zunahme der Relativgeschwindigkeit V geringfügig erhöht. Weil Positionen der Polster 33 und 34 dem vorderen Ende des Gleitstücks 30 näher sind als dem der elektromagnetischen Wand lereinrichtung 35, wird auch die Flughöhe Hp der Polster 33 und 34 im Vergleich zur Zunahme der Flughöhe Ht schnell erhöht.

Wie oben beschrieben ist, ist es in Fällen, in denen das Gleitstück 30 konstruiert ist, um eine Information in der Ma gnetplatte 14 bei einer hohen Dichte aufzuzeichnen, erforder lich, daß die Flughöhe Ht der elektromagnetischen Wandlerein richtung 35 bei einem niedrigen Wert gehalten wird, so daß es erforderlich ist, daß der Kontakt der elektromagnetischen Wandlereinrichtung 35 mit der Oberfläche der Magnetplatte 14 zuverlässig verhindert wird.

Wie in Fig. 14B gezeigt ist, ist daher das Gleitstück 30 so konstruiert, daß die Flughöhe Hp der Polster 33 und 34 auf ei nen Wert eingestellt ist, der gleich oder geringer als die Flughöhe Ht der elektromagnetischen Wandlereinrichtung 35 ist, wenn das Gleitstück 30 über einen Bereich B der Magnetplatte 14 hochschwebt, in dem die Flughöhe Ht der elektromagnetischen Wandlereinrichtung 35 gleich einem oder geringer als ein Refe renzwert h0 von etwa 30 nm ist. In diesem Fall kommen, wenn ei ne durch die Oberflächenrauhigkeit der Magnetplatte 14 erzeugte Unebenheit 14a in dem Bereich B der Magnetplatte 14 existiert, vorzugsweise die etwas vor der elektromagnetischen Wandlerein richtung 35 angeordneten Polster 33 und 34 in Kontakt mit der Unebenheit 14a, so daß der Kontakt der elektromagnetischen Wandlereinrichtung 35 mit der Unebenheit 14a verhindert werden kann, und die Beschädigung der elektromagnetischen Wandlerein richtung 35 kann verhindert werden.

Wenn das Gleitstück 30 über einen Bereich A der Magnetplat te 14 hochschwebt, in dem die Flughöhe Ht der elektromagneti schen Wandlereinrichtung 35 höher als der Referenzwert h0 ist, ist es im Gegensatz dazu erlaubt, daß die Flughöhe Hp der Pol ster 33 und 34 höher als die Flughöhe Ht der elektromagneti schen Wandlereinrichtung 35 ist, weil eine Wahrscheinlichkeit sehr gering ist, daß die elektromagnetische Wandlereinrichtung 35 mit einer in dem Bereich A der Magnetplatte 14 angeordneten Unebenheit 14a in Kontakt kommt. Weil die Vorderseite des Gleitstücks 30 erhöht oder gehoben wird, während sich das Gleitstück 30 dem äußeren Umfang der Magnetplatte 14 annähert, während die Relativgeschwindigkeit V zunimmt, kann das Gleit stück 30 einfach konstruiert sein, um die Flughöhe Hp der Pol ster 33 und 34 auf einen Wert einzustellen, der höher als die Flughöhe Ht der elektromagnetischen Wandlereinrichtung 35 ist, wenn das Gleitstück 30 über dem Bereich A der Magnetplatte 14 hochschwebt.

Zusammengefaßt wird das Gleitstück 30 gemäß einer Such operation von dem inneren Umfang zum äußeren Umfang der Magnet platte 14 bewegt, wenn die Magnetplatte 14 bei einer prakti schen Drehgeschwindigkeit in einer normalen Betriebszeit des Magnetplattengeräts gedreht wird, und die Flughöhen Hp und Ht genügen der Beziehung Hp ≦ Ht in Fällen, in denen das Gleit stück 30 in dem Bereich B der Magnetplatte 14 angeordnet ist. Wenn eine Differenz Ht - Hp der Flughöhen Hp und Ht zu groß wird, weil die Flughöhe Ht erhöht wird, kann in diesem Fall In formation in der Magnetplatte 14 bei einer hohen Dichte nicht aufgezeichnet werden, und die Polster 33 und 34 kommen mit Vor sprüngen (oder Unebenheiten) der Magnetplatte 14 leicht in Kon takt. Es ist daher nicht vorzuziehen, daß die Differenz Ht - Hp zu groß wird, und es ist vorzuziehen, daß die Differenz Ht - Hp gleich oder geringer als 30 nm ist. Ein Maximalwert der Diffe renz Ht - Hp ist gleich einem Abstand zwischen der elektroma gnetischen Wandlereinrichtung 35 und einem Bodenteil von jedem der Polster 33 und 34 in einem Zustand eines Stoppens des Ma gnetplattenantriebs.

Obwohl die Beziehung der Flughöhen Hp und Ht im Fall des Bereichs A der Magnetplatte 14 nicht beschränkt ist, wird auch eine Beziehung Hp < Ht bevorzugt, so daß die elektromagnetische Wandlereinrichtung 35 bei einer geringen Höhe schwebt.

Die Änderung der Flughöhe kann durch Einstellen einer Dicke von jedem der Polster 33 und 34, einer Drehgeschwindigkeit der Magnetplatte 14, einer Größe des negativen Bereichs des Gleit stücks 30, von Flächen der Schienenebenen 31 und 32 und Flächen der schrägen Ebenen 31a und 32a erhalten werden.

Die Polster 33 und 34 sind in dem Gleitstück 30 unter der Annahme angeordnet, daß die Polster 33 und 34 mit den Uneben heiten 14a der Magnetplatte 14 in Kontakt kommen. Es wird daher bevorzugt, daß die Polster 33 und 34 aus einem keramikartigen Material mit einer vergleichsweise hohen Härte hergestellt sind, um zu verhindern, daß die Polster 33 und 34 abgenutzt werden. Beispielsweise ist ein kohlenstoffartiges Material, wie z. B. Diamantkohlenstoff oder amorpher Kohlenstoff, auf Oberflä chen der Polster 33 und 34 angeordnet, und die Polster 33 und 34 mit einer Härte von 2500 können erhalten werden. Es ist auch passend oder angebracht, daß Borid, Karbid oder Nitrid auf Oberflächen der Polster 33 und 34 angeordnet werden.

Ein Schmiermittelfilm wird ebenfalls oft auf die Oberfläche der Magnetplatte 14 in dem Magnetplattengerät aufgetragen. In Fällen, in denen ein Schmiermittel aus einem Kohlenstoffflu orid-Typ mit einem Benzolring verwendet wird, um den Schmier mittelfilm zu bilden, sind Oberflächen der Polster 33 und 34 mit kohlenstoffartigen Filmen bedeckt oder bestehen die Polster 33 und 34 aus kohlenstoffartigem Material, so daß das Schmier mittel leicht an den Oberflächen der Polster 33 und 34 ange bracht werden kann. In Fällen, in denen ein flüssiges Schmier mittel aus einem Kohlenstofffluorid-Typ mit einer Wasserstoff gruppe verwendet wird, um dem Schmiermittelfilm zu bilden, sind die Oberflächen der Polster 33 und 34 mit einem oxidartigen Ma terial bedeckt (z. B. Al₂O₃ oder SiO₂) oder bestehen die Polster 33 und 34 aus dem oxidartigen Material, so daß das Schmiermit tel leicht an den Oberflächen der Polster 33 und 34 angebracht werden kann.

Wenn das Schmiermittel an den Oberflächen der Polster 33 und 34 ange bracht ist, wird ein Schmierzustand der Polster 33 und 34 bevorzugbar, und wird ein Grad der Reibung zwischen der Magnetplatte 14 und einer Gruppe der Polster 33 und 34 verringert. Selbst wenn das Polster 33 oder 34 mit der Oberfläche der Magnetplatte 14 (oder eines magnetischen Aufzeichnungsmedi ums) in Kontakt kommt und das Polster 33 oder 34 durch die Magnetplatte 14 abgenutzt wird, kann daher die Beschädigung des Polsters 33 oder 34 redu ziert werden.

Weil eine Härte eines für die elektromagnetische Wandler einrichtung 35 verwendeten magnetischen Materials von 100 bis 800 reicht, wird die elektromagnetische Wandlereinrichtung 35 oft mit Aluminiumoxid mit einer Härte von etwa 2000 bedeckt, um die elektromagnetische Wandlereinrichtung 35 zu schützen. Eine der Magnetplatte 14 zugewandte Oberfläche der elektromagne tischen Wandlereinrichtung 35 ist jedoch im allgemeinen nicht mit dem Aluminiumoxid bedeckt.

In der obigen Beschreibung wird in Fällen, in denen die Polster 33 und 34 auf den ersten und zweiten Schienenebenen 31 und 32 des Gleitstücks 30 angeordnet sind, die Flughöhe Hp der Polster 33 und 34 eingehend betrachtet. Sie ist jedoch nicht auf die Anordnung der Polster 33 und 34 auf den ersten und zweiten Schienenebenen 31 und 32 beschränkt. Das heißt, es ist angebracht, daß die Polster 33 und 34 auf einer der Magnetplat te 14 zugewandten bestimmten Oberfläche angeordnet sind, und die bestimmte Oberfläche ist nicht auf jeder der Schienenebenen 31 und 32 angeordnet. Wenn die Beziehung der Flughöhen Hp und Ht, die in Fig. 14B dargestellt ist, erfüllt ist, kann in die sem Fall die elektromagnetische Wandlereinrichtung 35 geschützt werden.

In den obigen Ausführungsformen werden ein oder mehr Pol ster verwendet, um den Kontakt der elektromagnetischen Wand lereinrichtung 2 oder 35 mit der Magnetplatte 14 zu verhindern. Die vorliegende Erfindung ist jedoch nicht auf die Polster be grenzt. Das heißt, es ist angebracht, daß anstelle der Polster ein oder mehr Vorsprünge verwendet werden, die wirken, um zu verhindern, daß sich die elektromagnetische Wandlereinrichtung 2 oder 35 der Magnetplatte 14 dicht annähert.

Claims

1. Ein Magnetkopfgleitstück mit:
einem Körper (13);
einer ersten Schienenebene (3a1), die auf einer Seite des Körpers (13) angeordnet ist, zum Erzeugen einer Schwebekraft;
einem ersten Polster (7a), das nahe einem Luftausströmende der ersten Schienenebene (3a1) angeordnet ist;
einer zweiten Schienenebene (3a2), die auf der anderen Sei te des Körpers angeordnet ist, zum Erzeugen der Schwebekraft in Zusammenarbeit mit der ersten Schienenebene (3a1);
einem zweiten Polster (7b), das nahe einem Luftausströmende der zweiten Schienenebene (3a2) unter der Bedingung angeordnet ist, daß sich ein Abstand von dem zweiten Polster (7b) zu dem Luftausströmende der zweiten Schienenebene (3a2) von dem von dem ersten Polster (7a) zu dem Luftausströmende der ersten Schienenebene (3a1) unterscheidet; und
einem Bereich, der an einem Luftausströmende der ersten Schienenebene (3a1) angeordnet ist, zum Anbringen einer elek tromagnetischen Wandlereinrichtung (2).

2. Ein Magnetkopfgleitstück nach Anspruch 1, in dem eine Form der ersten Schienenebene (3a1) unter der Bedingung be stimmt ist, daß eine Flughöhe des Gleitstücks (13) bei dem Lufteinströmende der ersten Schienenebene (3a1) niedriger ist als die bei dem Lufteinströmende der zweiten Schienenebene (3a2) und ein Abstand von dem ersten Polster (7a) zu einem Lufteinströmende der ersten Schienenebene (3a1) kürzer ist als der von dem zweiten Polster (7b) zu einem Lufteinströmende der zweiten Schienenebene (3a2).

3. Ein Magnetkopfgleitstück nach Anspruch 2, in dem eine Breite der ersten Schienenebene (3a1) bei einer ersten Position der ersten Schienenebene (3a1) schmaler ist als eine Breite der zweiten Schienenebene (3a2) bei einer zweiten Position der zweiten Schienenebene (3a2) unter der Bedingung, daß ein Ab stand von der ersten Position zu dem Luftausströmende der er sten Schienenebene (3a1) der gleiche ist wie der von der zwei ten Position zu dem Luftausströmende der zweiten Schienenebene (3a2).

4. Ein Magnetkopfgleitstück nach Anspruch 2, in dem eine Form der ersten Schienenebene (3a1) und eine Form der zweiten Schienenebene (3a2) unter der Bedingung bestimmt sind, daß eine Flughöhe des Gleitstücks bei dem Lufteinströmende der ersten Schienenebene (3a1) und eine andere Flughöhe des Gleitstücks bei dem Lufteinströmende der zweiten Schienenebene (3a2) je weils vergrößert werden, während eine Lufteinströmgeschwindig keit erhöht wird, und eine Differenz zwischen einer Flughöhe des Gleitstücks bei dem Luftausströmende der ersten Schienene bene (3a1) und einer anderen Flughöhe des Gleitstücks bei dem Luftausströmende der zweiten Schienenebene (3a2) verringert wird, während die Lufteinströmgeschwindigkeit erhöht wird.

5. Ein Magnetkopfgleitstück nach Anspruch 1, in dem das er ste Polster (7a) oder das zweite Polster (7b) eine Ebenenform haben, die in einer Richtung eines Luftstroms verlängert ist.

6. Ein Magnetkopfgleitstück nach Anspruch 1, in dem eine Ebenenform des ersten Polsters (7a), das auf der ersten Schie nenebene angeordnet ist, eine kreisförmige Ebenenform hat und das auf der zweiten Schienenebene (3a2) angeordnete zweite Pol ster eine Ebenenform hat, die in einer longitudinalen Richtung der zweiten Schienenebene (3a2) verlängert ist.

7. Ein Magnetkopfgleitstück nach Anspruch 1, in dem das er ste Polster (7a) und das zweite Polster (7b) von 20 bis 50 nm reichen.

8. Ein Magnetkopfgleitstück mit:
einem Vorsprung (34) der auf einer der Magnetplatte (14) zugewandten Oberfläche angeordnet ist,
einer elektromagnetische Wandlereinrichtung (35), die an einem Luftausströmende angeordnet ist,
wobei ein Wert, der durch Subtrahieren einer Flughöhe des Vorsprungs (34) von der Magnetplatte (14) von einer anderen Flughöhe der elektromagnetischen Wandlereinrichtung (35) von der Magnetplatte (14) erhalten wird, in Fällen negativ ist, in denen das Gleitstück (30) über einem äußeren Umfangsteil der Magnetplatte (14) schwebt, und der Wert in Fällen positiv ist, in denen das Gleitstück (30) über einem inneren Umfangsteil der Magnetplatte (14) schwebt.