JPH09293223A - 磁気ヘッド用スライダ及び磁気ディスク装置 - Google Patents
磁気ヘッド用スライダ及び磁気ディスク装置Info
- Publication number
- JPH09293223A JPH09293223A JP8106930A JP10693096A JPH09293223A JP H09293223 A JPH09293223 A JP H09293223A JP 8106930 A JP8106930 A JP 8106930A JP 10693096 A JP10693096 A JP 10693096A JP H09293223 A JPH09293223 A JP H09293223A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pad
- slider
- magnetic disk
- rail surface
- rail
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
- G11B5/58—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed with provision for moving the head for the purpose of maintaining alignment of the head relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
- G11B5/60—Fluid-dynamic spacing of heads from record-carriers
- G11B5/6005—Specially adapted for spacing from a rotating disc using a fluid cushion
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
- G11B5/725—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction containing a lubricant, e.g. organic compounds
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
- G11B5/727—Inorganic carbon protective coating, e.g. graphite, diamond like carbon or doped carbon
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/8408—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers protecting the magnetic layer
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/012—Recording on, or reproducing or erasing from, magnetic disks
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/255—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features comprising means for protection against wear
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
- G11B5/3106—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing where the integrated or assembled structure comprises means for conditioning against physical detrimental influence, e.g. wear, contamination
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】起動時に磁気記録媒体面から浮上する磁気ヘッ
ド用スライダを有する磁気ディスク装置に関し、起動時
のパッドの磨耗及び吸着を抑制し、また、スライダと磁
気ディスクとの接触をより確実に防止すること。 【構成】浮上力発生のためのレール面３ａ1 〜３ａ
3 と、前記レール面３ａ1 〜３ａ3 のうち空気流流入端
寄りに少なくとも１個、該空気流流出端寄りに少なくと
も１個とそれぞれ形成し、且つ高さが２５nm以上であっ
て５０nm以下であるパッド７ａとを含む。
ド用スライダを有する磁気ディスク装置に関し、起動時
のパッドの磨耗及び吸着を抑制し、また、スライダと磁
気ディスクとの接触をより確実に防止すること。 【構成】浮上力発生のためのレール面３ａ1 〜３ａ
3 と、前記レール面３ａ1 〜３ａ3 のうち空気流流入端
寄りに少なくとも１個、該空気流流出端寄りに少なくと
も１個とそれぞれ形成し、且つ高さが２５nm以上であっ
て５０nm以下であるパッド７ａとを含む。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク装置
に関し、より詳しくは、駆動時に磁気記録媒体面から浮
上する磁気ヘッド用スライダを有する磁気ディスク装置
に関する。
に関し、より詳しくは、駆動時に磁気記録媒体面から浮
上する磁気ヘッド用スライダを有する磁気ディスク装置
に関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気ディスク装置においては、浮動型ヘ
ッドを用いるＣＳＳ(contact start-stop)方式が採用さ
れている。ＣＳＳ方式は、磁気ディスク装置の停止時に
磁気ヘッド用スライダを磁気ディスク面上のＣＳＳ領域
に載置する一方、駆動時には磁気ヘッド用スライダを磁
気ディスク表面から浮上させるものである。その磁気ヘ
ッド用スライダには、一般に読出し用及び書込み用の磁
気ヘッドが取付けられる。また、磁気ヘッド用のスライ
ダは、サスペンションによって支持され、サスペンショ
ンの操作によって磁気ディスク上を移動する。
ッドを用いるＣＳＳ(contact start-stop)方式が採用さ
れている。ＣＳＳ方式は、磁気ディスク装置の停止時に
磁気ヘッド用スライダを磁気ディスク面上のＣＳＳ領域
に載置する一方、駆動時には磁気ヘッド用スライダを磁
気ディスク表面から浮上させるものである。その磁気ヘ
ッド用スライダには、一般に読出し用及び書込み用の磁
気ヘッドが取付けられる。また、磁気ヘッド用のスライ
ダは、サスペンションによって支持され、サスペンショ
ンの操作によって磁気ディスク上を移動する。
【０００３】磁気ヘッド用のスライダが浮上するのは、
回転している磁気ディスクの表面に生じる空気流の作
用、即ち磁気ディスク表面での動圧空気軸受けの原理に
よるものである。そのような磁気ディスク装置において
は、高記録密度化及び小型化が促進されており、これに
伴い、スライダの浮上高さは低くなる傾向にある。しか
し、スライダの浮上量が小さくなると、磁気ヘッドが磁
気ディスク表面の凸部に接触して損傷を受けるなどの問
題がある。
回転している磁気ディスクの表面に生じる空気流の作
用、即ち磁気ディスク表面での動圧空気軸受けの原理に
よるものである。そのような磁気ディスク装置において
は、高記録密度化及び小型化が促進されており、これに
伴い、スライダの浮上高さは低くなる傾向にある。しか
し、スライダの浮上量が小さくなると、磁気ヘッドが磁
気ディスク表面の凸部に接触して損傷を受けるなどの問
題がある。
【０００４】そこで、スライダの浮上高さを低くしよう
とする場合には、磁気ディスクの表面粗さを小さくして
磁気ディスクと磁気ヘッドの接触を防止することが行わ
れている。しかし、磁気ディスクの表面粗さが小さくな
るほど、磁気ディスクのＣＳＳ領域でのスライダと磁気
ディスクとの接触面積が大きくなるので、スライダが磁
気ディスクに吸着し易くなってしまう。
とする場合には、磁気ディスクの表面粗さを小さくして
磁気ディスクと磁気ヘッドの接触を防止することが行わ
れている。しかし、磁気ディスクの表面粗さが小さくな
るほど、磁気ディスクのＣＳＳ領域でのスライダと磁気
ディスクとの接触面積が大きくなるので、スライダが磁
気ディスクに吸着し易くなってしまう。
【０００５】そのような吸着力が大きければ、磁気ディ
スクを回転させるモータの負荷が大きくなったり、磁気
ディスクの回転起動時に磁気ヘッドを支持しているサス
ペンションが破損し易くなる。そのような吸着力を小さ
くするために、磁気ディスクに対向するスライダの空気
軸受面（浮上面、レール面ともいう）に複数のパッド
（突起ともいう）を設けて磁気ディスクとの接触面積を
小さくすることが、例えば特開昭６３−３７８７４号公
報に記載されている。
スクを回転させるモータの負荷が大きくなったり、磁気
ディスクの回転起動時に磁気ヘッドを支持しているサス
ペンションが破損し易くなる。そのような吸着力を小さ
くするために、磁気ディスクに対向するスライダの空気
軸受面（浮上面、レール面ともいう）に複数のパッド
（突起ともいう）を設けて磁気ディスクとの接触面積を
小さくすることが、例えば特開昭６３−３７８７４号公
報に記載されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかし、パッドをレー
ル面上に形成すると、スライダの荷重がパッドにかかる
ために磁気ディスクとの摩擦により磨耗し易くなるとい
った問題がある。しかも、パッドが磁気ヘッドを磁気デ
ィスク面に近づける際の妨げになるなどの不都合があ
る。
ル面上に形成すると、スライダの荷重がパッドにかかる
ために磁気ディスクとの摩擦により磨耗し易くなるとい
った問題がある。しかも、パッドが磁気ヘッドを磁気デ
ィスク面に近づける際の妨げになるなどの不都合があ
る。
【０００７】本発明はこのような問題に鑑みてなされた
ものであって、起動時のパッドの磨耗及び吸着を抑制
し、また、スライダと磁気ディスクとの接触をより確実
に防止できる磁気ディスク装置を提供することを目的と
する。
ものであって、起動時のパッドの磨耗及び吸着を抑制
し、また、スライダと磁気ディスクとの接触をより確実
に防止できる磁気ディスク装置を提供することを目的と
する。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記した課題は、図５、
図８に例示するように、浮上力発生のためのレール面３
ａ1 〜３ａ3 と、前記レール面３ａ1 〜３ａ3 のうち空
気流流入端寄りに少なくとも１個、該空気流流出端寄り
に少なくとも１個とそれぞれ形成し、且つ高さが２０nm
以上であって５０nm以下であるパッド７ａとを有するこ
とを特徴とする磁気ヘッド用スライダによって解決す
る。
図８に例示するように、浮上力発生のためのレール面３
ａ1 〜３ａ3 と、前記レール面３ａ1 〜３ａ3 のうち空
気流流入端寄りに少なくとも１個、該空気流流出端寄り
に少なくとも１個とそれぞれ形成し、且つ高さが２０nm
以上であって５０nm以下であるパッド７ａとを有するこ
とを特徴とする磁気ヘッド用スライダによって解決す
る。
【０００９】上記磁気ヘッド用スライダにおいて、前記
空気流流出端寄りに形成された前記パッド７ａは、空気
流の方向に長い平面形状を有することを特徴とする。上
記した課題は、図８、図９に例示するように、浮上力発
生のために本体に形成された複数のレール面３ａ1 〜３
ａ3 ，２２ａ，２２ｂと、前記レール面３ａ 1 〜３
ａ3 ，２２ａ，２２ｂのうち前記本体の一方の側部寄り
に形成された第一のレール面３ａ1 ，２２ａと、前記第
一のレール面３ａ1 ，２２ａの空気流流出端寄りに形成
された第一のパッド７ａ，７ｃ，７ｅと、前記レール面
３ａ1 〜３ａ3 ，２２ａ，２２ｂのうち前記本体の他方
の側部寄りに形成された第二のレール面３ａ2 ，２２ｂ
と、前記第二のレール面３ａ2 ，２２ｂ上で前記第一の
パッド７ａ，７ｃ，７ｅの近くに形成され、かつ前記空
気流流出端からの距離が前記第一のパッド７ａ，７ｃ，
７ｅとは異なった位置に形成された第二のパッド７ｂ，
７ａとを有することを特徴とする磁気ヘッド用スライダ
によって解決する。
空気流流出端寄りに形成された前記パッド７ａは、空気
流の方向に長い平面形状を有することを特徴とする。上
記した課題は、図８、図９に例示するように、浮上力発
生のために本体に形成された複数のレール面３ａ1 〜３
ａ3 ，２２ａ，２２ｂと、前記レール面３ａ 1 〜３
ａ3 ，２２ａ，２２ｂのうち前記本体の一方の側部寄り
に形成された第一のレール面３ａ1 ，２２ａと、前記第
一のレール面３ａ1 ，２２ａの空気流流出端寄りに形成
された第一のパッド７ａ，７ｃ，７ｅと、前記レール面
３ａ1 〜３ａ3 ，２２ａ，２２ｂのうち前記本体の他方
の側部寄りに形成された第二のレール面３ａ2 ，２２ｂ
と、前記第二のレール面３ａ2 ，２２ｂ上で前記第一の
パッド７ａ，７ｃ，７ｅの近くに形成され、かつ前記空
気流流出端からの距離が前記第一のパッド７ａ，７ｃ，
７ｅとは異なった位置に形成された第二のパッド７ｂ，
７ａとを有することを特徴とする磁気ヘッド用スライダ
によって解決する。
【００１０】上記磁気ヘッド用スライダにおいて、前記
第一のレール面３ａ1 ，２２ａは、前記空気流流出端で
前記第二のレール面３ａ2 ，２２ｂの前記空気流流出端
よりも低く浮上する形状に形成され、前記第一のレール
面３ａ1 ，２２ａの前記空気流流出端には電磁変換素子
２が取り付けられ、前記第一のパッド７ａ，７ｃ，７ｅ
は前記第二のパッド７ａ，７ｂよりも空気流流入端寄り
に配置されていることを特徴とする。
第一のレール面３ａ1 ，２２ａは、前記空気流流出端で
前記第二のレール面３ａ2 ，２２ｂの前記空気流流出端
よりも低く浮上する形状に形成され、前記第一のレール
面３ａ1 ，２２ａの前記空気流流出端には電磁変換素子
２が取り付けられ、前記第一のパッド７ａ，７ｃ，７ｅ
は前記第二のパッド７ａ，７ｂよりも空気流流入端寄り
に配置されていることを特徴とする。
【００１１】上記磁気ヘッド用スライダにおいて、前記
第一のレール面３ａ1 ，２２ａと前記第二のレール面３
ａ2 ，２２ｂは、空気流入速度が速くなるにつれて前記
第一及び第二のレール面３ａ1 ，２２ａ，３ａ2 ，２２
ｂの空気流流入端の浮上高さが高くなり、且つ、前記空
気流入速度が速くなるにつれて前記第二のレール面３ａ
2 ，２２ｂの前記空気流流出端の浮上高さと前記第一の
レール面３ａ1 ，２２ａの空気流流出端の浮上高さの差
が小さくなる形状を有することを特徴とする。
第一のレール面３ａ1 ，２２ａと前記第二のレール面３
ａ2 ，２２ｂは、空気流入速度が速くなるにつれて前記
第一及び第二のレール面３ａ1 ，２２ａ，３ａ2 ，２２
ｂの空気流流入端の浮上高さが高くなり、且つ、前記空
気流入速度が速くなるにつれて前記第二のレール面３ａ
2 ，２２ｂの前記空気流流出端の浮上高さと前記第一の
レール面３ａ1 ，２２ａの空気流流出端の浮上高さの差
が小さくなる形状を有することを特徴とする。
【００１２】上記磁気ヘッド用スライダにおいて、前記
第一のパッド７ａ，７ｃ，７ｅ又は前記第二のパッド７
ａ，７ｂは、空気流の方向に長い平面形状を有すること
を特徴とする。上記磁気ヘッド用スライダにおいて、前
記第一のレール面３ａ1 ，２２ａ上に形成された前記第
一のパッド７ａ，７ｃ，７ｅは平面形状が円形であり、
前記第二のレール面３ａ2 ，２２ｂ上に形成された前記
第二のパッド７ａ，７ｂは、前記第二のレール面３
ａ2 ，２２ｂの長手方向に長いことを特徴とする。
第一のパッド７ａ，７ｃ，７ｅ又は前記第二のパッド７
ａ，７ｂは、空気流の方向に長い平面形状を有すること
を特徴とする。上記磁気ヘッド用スライダにおいて、前
記第一のレール面３ａ1 ，２２ａ上に形成された前記第
一のパッド７ａ，７ｃ，７ｅは平面形状が円形であり、
前記第二のレール面３ａ2 ，２２ｂ上に形成された前記
第二のパッド７ａ，７ｂは、前記第二のレール面３
ａ2 ，２２ｂの長手方向に長いことを特徴とする。
【００１３】上記した課題は、図７に例示するように、
前記いずれかの磁気ヘッド用スライダ１３，２０と、前
記磁気ヘッドスライダを支持するサスペンション１６
と、前記磁気ヘッド用スライダ１３，２０に対向して配
置される磁気ディスク１４とを有することを特徴とする
磁気ディスク装置によって解決する。上記した課題は、
図１５に例示するように、磁気ディスク１４と、前記磁
気ディスク１４の対向面に突起３４を有し、空気流流出
端に電磁変換素子３５を有するとともに、前記磁気ディ
スク１４面からの該電磁変換素子３５の浮上高さｈtか
ら該突起の浮上高さｈp を引いた値が、前記磁気ディス
ク１４の外周から内周にかけて負から正に変化するスラ
イダ３０とを有することを特徴とする磁気ディスク装置
によって解決する。
前記いずれかの磁気ヘッド用スライダ１３，２０と、前
記磁気ヘッドスライダを支持するサスペンション１６
と、前記磁気ヘッド用スライダ１３，２０に対向して配
置される磁気ディスク１４とを有することを特徴とする
磁気ディスク装置によって解決する。上記した課題は、
図１５に例示するように、磁気ディスク１４と、前記磁
気ディスク１４の対向面に突起３４を有し、空気流流出
端に電磁変換素子３５を有するとともに、前記磁気ディ
スク１４面からの該電磁変換素子３５の浮上高さｈtか
ら該突起の浮上高さｈp を引いた値が、前記磁気ディス
ク１４の外周から内周にかけて負から正に変化するスラ
イダ３０とを有することを特徴とする磁気ディスク装置
によって解決する。
【００１４】（作 用）本発明によれば、磁気ヘッド用
スライダのパッドの高さを２０〜５０nmの範囲に設定し
たので、そのパッドと磁気ディスク面との摩擦係数が小
さくなり、しかもスライダのグライドハイトを低く保つ
ことができる。また、スライダの一方の側部寄りに形成
される第一のレール面と、他方の側部寄りに形成される
第二のレール面の上にそれぞれパッドを形成する場合
に、第一のレール面上のパッドの空気流流出端からの距
離と第二のレール面上のパッドの空気流流出端からの距
離を異なるようにした。これにより、スライダが横方向
に傾いて磁気ディスク上を浮上する場合に、磁気ディス
クからの浮上高さが低い方のレール面上のパッドを空気
流流出端から離すことにより磁気ディスク表面とパッド
との接触が未然に防止される。また、浮上高さの高い側
のレール面上のパッドは、スライダを磁気ディスク上に
安定に載置させるために空気流流出端に近い方が好まし
い。
スライダのパッドの高さを２０〜５０nmの範囲に設定し
たので、そのパッドと磁気ディスク面との摩擦係数が小
さくなり、しかもスライダのグライドハイトを低く保つ
ことができる。また、スライダの一方の側部寄りに形成
される第一のレール面と、他方の側部寄りに形成される
第二のレール面の上にそれぞれパッドを形成する場合
に、第一のレール面上のパッドの空気流流出端からの距
離と第二のレール面上のパッドの空気流流出端からの距
離を異なるようにした。これにより、スライダが横方向
に傾いて磁気ディスク上を浮上する場合に、磁気ディス
クからの浮上高さが低い方のレール面上のパッドを空気
流流出端から離すことにより磁気ディスク表面とパッド
との接触が未然に防止される。また、浮上高さの高い側
のレール面上のパッドは、スライダを磁気ディスク上に
安定に載置させるために空気流流出端に近い方が好まし
い。
【００１５】さらに、定速で回転中の磁気ディスクの表
面では、回転中心から離れるほど周速が速くなるので、
スライダの空気流の速度は回転中心から離れるほど速く
なる。従って、磁気ディスクの回転中心から離れるにつ
れてスライダの空気流流入端の浮上高さが増すので、ス
ライダの空気流流出端寄りのパッドが磁気ディスク面に
接触する可能性が極めて小さくなる。このことから、ス
ライダが回転中心から離れるにつれて、読出又は書込み
用の磁気ヘッド（以下、電磁変換素子という）が取り付
けられていないレール面の浮上高さが低下するような構
造を採用する。その構造として、例えば電磁変換素子に
隣設しているレール面の幅よりも、電磁変換素子に隣設
しないレール面の幅を狭くしたものがある。
面では、回転中心から離れるほど周速が速くなるので、
スライダの空気流の速度は回転中心から離れるほど速く
なる。従って、磁気ディスクの回転中心から離れるにつ
れてスライダの空気流流入端の浮上高さが増すので、ス
ライダの空気流流出端寄りのパッドが磁気ディスク面に
接触する可能性が極めて小さくなる。このことから、ス
ライダが回転中心から離れるにつれて、読出又は書込み
用の磁気ヘッド（以下、電磁変換素子という）が取り付
けられていないレール面の浮上高さが低下するような構
造を採用する。その構造として、例えば電磁変換素子に
隣設しているレール面の幅よりも、電磁変換素子に隣設
しないレール面の幅を狭くしたものがある。
【００１６】また、レール面に形成されるパッドは、レ
ール面の幅によりその面積が規制されるので、レール面
の長さ方向にパッドを長く形成してパッドの面積を大き
くすると、パッドと磁気ディスク面との磨耗が抑制され
る。また、別の発明によれば、磁気ディスク面上で、電
磁変換素子の浮上高さから突起の浮上高さを引いた値
が、磁気ディスクの外周から内周にかけて負から正に変
化するようにしたので、浮上高さが低くなる内周寄りの
領域での電磁変換素子と磁気ディスク表面との接触を防
止できる。
ール面の幅によりその面積が規制されるので、レール面
の長さ方向にパッドを長く形成してパッドの面積を大き
くすると、パッドと磁気ディスク面との磨耗が抑制され
る。また、別の発明によれば、磁気ディスク面上で、電
磁変換素子の浮上高さから突起の浮上高さを引いた値
が、磁気ディスクの外周から内周にかけて負から正に変
化するようにしたので、浮上高さが低くなる内周寄りの
領域での電磁変換素子と磁気ディスク表面との接触を防
止できる。
【００１７】
【実施の形態】そこで、以下に本発明の実施形態を図面
に基づいて説明する。 （第１実施形態）本発明の第１実施形態に係る磁気ヘッ
ドを装着したスライダの製造工程を図１〜図５に基づい
て説明する。なお、図５(a),(b) は、完成した磁気ヘッ
ド用スライダの底面及び断面を示している。
に基づいて説明する。 （第１実施形態）本発明の第１実施形態に係る磁気ヘッ
ドを装着したスライダの製造工程を図１〜図５に基づい
て説明する。なお、図５(a),(b) は、完成した磁気ヘッ
ド用スライダの底面及び断面を示している。
【００１８】まず、図１(a) に示すように、アルミナチ
タンカーバイド（Al2O3TiC）、フェライト或いはチタン
酸カルシウムなどの材料からなるウェハ１の主面に電磁
変換素子２を縦及び横方向に複数個形成する。電磁変換
素子２は、例えば磁気抵抗効果素子、インダクタンス素
子などからなる。次に、ダイシングソーを用いてウェハ
１を図１(a) の一点鎖線に沿って切断することにより、
図１(b) に示すように、電磁変換素子２が一列に並んだ
棒状体３を複数個形成する。
タンカーバイド（Al2O3TiC）、フェライト或いはチタン
酸カルシウムなどの材料からなるウェハ１の主面に電磁
変換素子２を縦及び横方向に複数個形成する。電磁変換
素子２は、例えば磁気抵抗効果素子、インダクタンス素
子などからなる。次に、ダイシングソーを用いてウェハ
１を図１(a) の一点鎖線に沿って切断することにより、
図１(b) に示すように、電磁変換素子２が一列に並んだ
棒状体３を複数個形成する。
【００１９】この棒状体３は、後の工程でさらに複数に
分割されて磁気ヘッド用のスライダとなるので、予め空
気流の流入端側にテーパを形成しておく。なお、棒状体
３のうち、電磁変換素子２の磁極が露出する側の面がス
ライダの浮上面３ａとなる。次に、図１(c) に示すよう
に、スパッタリング、ＣＶＤ、蒸着などの成膜技術を用
いて、棒状体３の浮上面３ａ及び電磁変換素子２の上に
中間膜４を５nmの厚さに形成する。続いて、プラズマＣ
ＶＤ、スパッタリング、蒸着等の成膜技術を用いて、中
間膜４の上にダイアモンドライクカーボン（以下、ＤＬ
Ｃという）よりなる保護膜５を１０nmの厚さに形成す
る。
分割されて磁気ヘッド用のスライダとなるので、予め空
気流の流入端側にテーパを形成しておく。なお、棒状体
３のうち、電磁変換素子２の磁極が露出する側の面がス
ライダの浮上面３ａとなる。次に、図１(c) に示すよう
に、スパッタリング、ＣＶＤ、蒸着などの成膜技術を用
いて、棒状体３の浮上面３ａ及び電磁変換素子２の上に
中間膜４を５nmの厚さに形成する。続いて、プラズマＣ
ＶＤ、スパッタリング、蒸着等の成膜技術を用いて、中
間膜４の上にダイアモンドライクカーボン（以下、ＤＬ
Ｃという）よりなる保護膜５を１０nmの厚さに形成す
る。
【００２０】保護膜５は、浮上面３ａと電磁変換素子２
を保護するものである。また、中間膜４は、保護膜５と
棒状体３の密着性を向上するために形成しているので、
その密着性が良ければ省略してもよい。さらに、保護膜
５の上に、膜厚２〜５nmのシリコン膜６と、膜厚２０〜
５０nmのＤＬＣ膜７を形成する。このＤＬＣ膜７は、後
の工程でパターニングされてパッドとなる。また、シリ
コン膜６はＤＬＣ膜７をパターニングする際のエッチン
グストッパーとなる。
を保護するものである。また、中間膜４は、保護膜５と
棒状体３の密着性を向上するために形成しているので、
その密着性が良ければ省略してもよい。さらに、保護膜
５の上に、膜厚２〜５nmのシリコン膜６と、膜厚２０〜
５０nmのＤＬＣ膜７を形成する。このＤＬＣ膜７は、後
の工程でパターニングされてパッドとなる。また、シリ
コン膜６はＤＬＣ膜７をパターニングする際のエッチン
グストッパーとなる。
【００２１】その後に、図２に示すように、ホルダー８
の上に複数の棒状体３を載置、固定する。この場合、電
磁変換素子２が形成された面を横向きにし、浮上面３ａ
を上向きにする。ホルダー８の内部は、棒状体３の自由
な移動を規制する構造となっている。なお、図２では、
ホルダー８内での棒状体３の配置関係を明確にするため
に中間膜４からＤＬＣ膜７までの層構造は省略してい
る。
の上に複数の棒状体３を載置、固定する。この場合、電
磁変換素子２が形成された面を横向きにし、浮上面３ａ
を上向きにする。ホルダー８の内部は、棒状体３の自由
な移動を規制する構造となっている。なお、図２では、
ホルダー８内での棒状体３の配置関係を明確にするため
に中間膜４からＤＬＣ膜７までの層構造は省略してい
る。
【００２２】次に、図３(a) に示すように、ラミネータ
を用いて第一のフィルムレジスト９をＤＬＣ膜７の上に
積層する。この後に、第一のフィルムレジスト９を露
光、現像することにより、図３(b) に示すように、第一
のフィルムレジスト９をパッド形成部分に残す。パター
ニングされた第一のフィルムレジスト９の平面形状は、
浮上時の空気流を乱さない形状であれば円形、楕円形、
放物線形に限定されるものではない。パターニングされ
た第一のフィルムレジスト９は第一のマスクとして使用
される。
を用いて第一のフィルムレジスト９をＤＬＣ膜７の上に
積層する。この後に、第一のフィルムレジスト９を露
光、現像することにより、図３(b) に示すように、第一
のフィルムレジスト９をパッド形成部分に残す。パター
ニングされた第一のフィルムレジスト９の平面形状は、
浮上時の空気流を乱さない形状であれば円形、楕円形、
放物線形に限定されるものではない。パターニングされ
た第一のフィルムレジスト９は第一のマスクとして使用
される。
【００２３】なお、図中符号１０は、ラミネータのロー
ラを示している。次に、ホルダー８に収納された棒状体
３を反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）装置に入れ、そ
の中で発生させた酸素プラズマによって第一のフィルム
レジスト９に覆われない部分のＤＬＣ膜７をエッチング
する。これにより、ＤＬＣ膜７はパターニングされて図
３(c) に示すようなスライダ上のパッド７ａとなる。そ
のパッド７ａの高さは、ＤＬＣ膜７の膜厚と等しくな
る。
ラを示している。次に、ホルダー８に収納された棒状体
３を反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）装置に入れ、そ
の中で発生させた酸素プラズマによって第一のフィルム
レジスト９に覆われない部分のＤＬＣ膜７をエッチング
する。これにより、ＤＬＣ膜７はパターニングされて図
３(c) に示すようなスライダ上のパッド７ａとなる。そ
のパッド７ａの高さは、ＤＬＣ膜７の膜厚と等しくな
る。
【００２４】このパターニング工程において、酸素プラ
ズマによるシリコン膜６のエッチングレートは極めて小
さいか或いは零であるので、ＤＬＣ膜７のエッチングの
管理が容易になる。しかも、ＤＬＣよりなる保護膜５が
エッチングされずに浮上面３ａと電磁変換素子２を覆っ
ている。この場合、エッチングを時間管理してもよい
が、エッチングの際のプラズマ発光の波長変化に基づい
て終点判定をおこなってもよい。
ズマによるシリコン膜６のエッチングレートは極めて小
さいか或いは零であるので、ＤＬＣ膜７のエッチングの
管理が容易になる。しかも、ＤＬＣよりなる保護膜５が
エッチングされずに浮上面３ａと電磁変換素子２を覆っ
ている。この場合、エッチングを時間管理してもよい
が、エッチングの際のプラズマ発光の波長変化に基づい
て終点判定をおこなってもよい。
【００２５】次に、図３(d) に示すように、再びラミネ
ータを使用して第二のフィルムレジスト１１を棒状体３
上に積層し、これにより第一のフィルムレジスト９、シ
リコン膜６及びパッド７ａを覆う。続いて、第二のフィ
ルムレジスト１１を露光、現像して、図４(a) に示すよ
うに、浮上面３ａをレール状に残そうとする領域以外を
除去する。そのレール状の領域の近傍には電磁変換素子
２が存在するので、その電磁変化素子２も第二のフィル
ムレジスト１１に覆われることになる。
ータを使用して第二のフィルムレジスト１１を棒状体３
上に積層し、これにより第一のフィルムレジスト９、シ
リコン膜６及びパッド７ａを覆う。続いて、第二のフィ
ルムレジスト１１を露光、現像して、図４(a) に示すよ
うに、浮上面３ａをレール状に残そうとする領域以外を
除去する。そのレール状の領域の近傍には電磁変換素子
２が存在するので、その電磁変化素子２も第二のフィル
ムレジスト１１に覆われることになる。
【００２６】これにより、棒状体３のうちスライダの負
圧領域となる部分とスライダ相互間の境界部分が第二の
フィルムレジスト１１に覆われないことになる。次に、
ストライプ状の第二のフィルムレジスト１１を第二のマ
スクとして使用し、シリコン膜６、保護膜５、中間膜４
及び棒状体３をイオンミリングによりエッチングして凹
部１２を形成する。これにより、図４(b) に示すよう
に、棒状体３のうちスライダの負圧部分とスライダの輪
郭部分に凹部１２が形成されることになる。
圧領域となる部分とスライダ相互間の境界部分が第二の
フィルムレジスト１１に覆われないことになる。次に、
ストライプ状の第二のフィルムレジスト１１を第二のマ
スクとして使用し、シリコン膜６、保護膜５、中間膜４
及び棒状体３をイオンミリングによりエッチングして凹
部１２を形成する。これにより、図４(b) に示すよう
に、棒状体３のうちスライダの負圧部分とスライダの輪
郭部分に凹部１２が形成されることになる。
【００２７】この後に、図４(c) に示すように、第一及
び第二のフィルムレジスト９，１１をアセトンにより洗
浄除去する。第一のフィルムレジスト９を予め除去しな
いようにすると、レジストの洗浄が１回で済むのでスル
ープットが向上する。さらに、棒状体３のスライダ相互
間の境界部分を切断することにより、棒状体３から図４
(d) に示すようなスライダ１３を切り分ける。
び第二のフィルムレジスト９，１１をアセトンにより洗
浄除去する。第一のフィルムレジスト９を予め除去しな
いようにすると、レジストの洗浄が１回で済むのでスル
ープットが向上する。さらに、棒状体３のスライダ相互
間の境界部分を切断することにより、棒状体３から図４
(d) に示すようなスライダ１３を切り分ける。
【００２８】以上の工程によって形成される磁気ヘッド
のスライダ１３は、例えば図５(a)に示すような底面形
状となる。なお、図５(a) において符号１３ａは、テー
パ面を示している。このスライダ１３において、その両
側面寄りにはそれぞれ中央が括れたレール状の第一及び
第二の浮上領域３ａ1 、３ａ2 が形成され、さらに、第
一及び第二の浮上領域３ａ1 、３ａ2 の間の空気流流入
端寄りには、島状の第三の浮上領域３ａ3 が形成されて
いる。それらの浮上領域を以下にレール面という。
のスライダ１３は、例えば図５(a)に示すような底面形
状となる。なお、図５(a) において符号１３ａは、テー
パ面を示している。このスライダ１３において、その両
側面寄りにはそれぞれ中央が括れたレール状の第一及び
第二の浮上領域３ａ1 、３ａ2 が形成され、さらに、第
一及び第二の浮上領域３ａ1 、３ａ2 の間の空気流流入
端寄りには、島状の第三の浮上領域３ａ3 が形成されて
いる。それらの浮上領域を以下にレール面という。
【００２９】また、第一、第二及び第三のレール面３ａ
1 〜３ａ3 に囲まれた凹部１２は、負圧領域となってい
る。スライダ１３が浮上している状態で、その負圧領域
は負圧を受けるので、スライダ１３の空気流流出端（後
端）が空気流流入端（前端）よりも低い状態に保持され
る。さらに、第一及び第二のレール面３ａ1 ，３ａ2 の
上の空気流流出端寄りには、上記したパッド７ａが少な
くとも１つずつ形成されている。また、第三のレール面
３ａ3 には１つのパッド７ａが形成されている。
1 〜３ａ3 に囲まれた凹部１２は、負圧領域となってい
る。スライダ１３が浮上している状態で、その負圧領域
は負圧を受けるので、スライダ１３の空気流流出端（後
端）が空気流流入端（前端）よりも低い状態に保持され
る。さらに、第一及び第二のレール面３ａ1 ，３ａ2 の
上の空気流流出端寄りには、上記したパッド７ａが少な
くとも１つずつ形成されている。また、第三のレール面
３ａ3 には１つのパッド７ａが形成されている。
【００３０】それらのパッド７ａは、既に説明したよう
に２５〜５０nmの高さに形成されている。これは、図６
の実験結果に基づいて設定した高さである。即ち、パッ
ドが２５nmよりも低い場合にはパッド７ａと磁気ディス
ク面１４との摩擦係数が大きくなって、パッド７ａが磁
気ディスク面１４を傷つけたり、或いはパッド７ａが磨
耗し易くなるので好ましくない。一方、第一又は第二の
レール面３ａ1 ，３ａ 2 上の空気流流出端寄りのパッド
７ａの高さを５０nm以上にして電磁変換素子２の近傍に
配置すると、そのパッド７ａのグライドハイトが電磁変
換素子２よりも低くなるので磁気ディスク１４の表面の
凸部に接触し易くなるので好ましくない。
に２５〜５０nmの高さに形成されている。これは、図６
の実験結果に基づいて設定した高さである。即ち、パッ
ドが２５nmよりも低い場合にはパッド７ａと磁気ディス
ク面１４との摩擦係数が大きくなって、パッド７ａが磁
気ディスク面１４を傷つけたり、或いはパッド７ａが磨
耗し易くなるので好ましくない。一方、第一又は第二の
レール面３ａ1 ，３ａ 2 上の空気流流出端寄りのパッド
７ａの高さを５０nm以上にして電磁変換素子２の近傍に
配置すると、そのパッド７ａのグライドハイトが電磁変
換素子２よりも低くなるので磁気ディスク１４の表面の
凸部に接触し易くなるので好ましくない。
【００３１】図６においては、パッドの高さが２５nmで
は摩擦係数が約３と比較的小さくなっているが、摩擦係
数を１以下にしたい場合にはパット高さを２７nm以上に
する必要がある。しかし、媒体の表面粗さや潤滑膜厚の
最適な制御でパッド高さの下限は２０nmまで低くでき
る。ところで、上記したパッド７ａはＤＬＣ膜７をパタ
ーニングして得たものであるが、その下のレール面３ａ
は磁気ディスク１４に接触しなくなるので、レール面３
ａ及び電磁変換素子２を覆う保護膜５としては、図７
(a) に示すように、シリコン膜、炭化シリコン膜又は酸
化シリコン膜のいずれかの単層だけで構成してもよい。
即ち、シリコン膜、炭化シリコン膜又は酸化シリコン膜
は、パッド７ａを構成するＤＬＣ膜７とウェハ１との密
着性を向上する機能を有するので、その他のシリコン膜
６、中間膜４を省く。
は摩擦係数が約３と比較的小さくなっているが、摩擦係
数を１以下にしたい場合にはパット高さを２７nm以上に
する必要がある。しかし、媒体の表面粗さや潤滑膜厚の
最適な制御でパッド高さの下限は２０nmまで低くでき
る。ところで、上記したパッド７ａはＤＬＣ膜７をパタ
ーニングして得たものであるが、その下のレール面３ａ
は磁気ディスク１４に接触しなくなるので、レール面３
ａ及び電磁変換素子２を覆う保護膜５としては、図７
(a) に示すように、シリコン膜、炭化シリコン膜又は酸
化シリコン膜のいずれかの単層だけで構成してもよい。
即ち、シリコン膜、炭化シリコン膜又は酸化シリコン膜
は、パッド７ａを構成するＤＬＣ膜７とウェハ１との密
着性を向上する機能を有するので、その他のシリコン膜
６、中間膜４を省く。
【００３２】このような層構成にすると、図７(b) に示
すように、レール面３ａはシリコン、炭化シリコン又は
酸化シリコンよりなる保護膜５ａ膜によって覆われ、そ
の上にはＤＬＣよりなるパッド７ａが形成されることに
なる。そのシリコン、炭化シリコン又は酸化シリコンの
膜厚は例えば５nm程度にする。このような構造によれ
ば、パッド７ａとレール面３ａの間には１つの膜だけが
存在することになるので、成膜時間が短くなってスルー
プットが向上する。
すように、レール面３ａはシリコン、炭化シリコン又は
酸化シリコンよりなる保護膜５ａ膜によって覆われ、そ
の上にはＤＬＣよりなるパッド７ａが形成されることに
なる。そのシリコン、炭化シリコン又は酸化シリコンの
膜厚は例えば５nm程度にする。このような構造によれ
ば、パッド７ａとレール面３ａの間には１つの膜だけが
存在することになるので、成膜時間が短くなってスルー
プットが向上する。
【００３３】上記した電磁変換素子２が取り付けられた
スライダ１３は、図８に示す磁気ディスク装置１５内に
おいてサスペンション１６の先端に取付けられ、サスペ
ンション１６の操作によって磁気ディスク１４の上を移
動できるようになっている。 （第２実施形態）第１実施形態で示したようなラミネー
タを使用して二重にフィルムレジストを使用する方法で
は、レール面の幅によってパッドの直径の上限が規定さ
れる。
スライダ１３は、図８に示す磁気ディスク装置１５内に
おいてサスペンション１６の先端に取付けられ、サスペ
ンション１６の操作によって磁気ディスク１４の上を移
動できるようになっている。 （第２実施形態）第１実施形態で示したようなラミネー
タを使用して二重にフィルムレジストを使用する方法で
は、レール面の幅によってパッドの直径の上限が規定さ
れる。
【００３４】パッドの直径が小さくなって面積が狭くな
ると、磁気ディスクとパッドの摩擦によってパッドの磨
耗が懸念される。そこで、パッドの面積を大きくするた
めには、図９(a),(b) に示すように、第一及び第二のレ
ール面３ａ1,３ａ2 の長手方向にパッド７ｂを長くして
広げることが有効である。図９(a) では、電磁変換素子
２から遠い第二のレール面３ａ2で、後端寄りのパッド
７ｂの面積を広げた状態を示している。また、図９(b)
では、第一及び第二のレール面３ａ1,３ａ2 で、後端寄
りのパッド７ｂ，７ｃの面積を広げた状態を示してい
る。スライダ１３の後端からのパッドの取付け位置は第
１実施形態とは異なっているが、その詳細は次の実施形
態で説明する。
ると、磁気ディスクとパッドの摩擦によってパッドの磨
耗が懸念される。そこで、パッドの面積を大きくするた
めには、図９(a),(b) に示すように、第一及び第二のレ
ール面３ａ1,３ａ2 の長手方向にパッド７ｂを長くして
広げることが有効である。図９(a) では、電磁変換素子
２から遠い第二のレール面３ａ2で、後端寄りのパッド
７ｂの面積を広げた状態を示している。また、図９(b)
では、第一及び第二のレール面３ａ1,３ａ2 で、後端寄
りのパッド７ｂ，７ｃの面積を広げた状態を示してい
る。スライダ１３の後端からのパッドの取付け位置は第
１実施形態とは異なっているが、その詳細は次の実施形
態で説明する。
【００３５】なお、本実施形態では、第一及び第二のレ
ール面３ａ1,３ａ2 の先端寄りにパッド７ｄを形成した
例を示している。 （第３実施形態）第１実施形態で示したスライダが浮上
している状態で、電磁変換素子を磁気ディスクに近づけ
るためには、以下に述べるような構造を採用する。図１
０(a) 〜(c) は、第３実施形態のスライダとその浮上状
態を示している。なお、図１０(a) において、図５と同
じ符号は同じ要素を示している。
ール面３ａ1,３ａ2 の先端寄りにパッド７ｄを形成した
例を示している。 （第３実施形態）第１実施形態で示したスライダが浮上
している状態で、電磁変換素子を磁気ディスクに近づけ
るためには、以下に述べるような構造を採用する。図１
０(a) 〜(c) は、第３実施形態のスライダとその浮上状
態を示している。なお、図１０(a) において、図５と同
じ符号は同じ要素を示している。
【００３６】図１０(a) に示すようなスライダ２０にお
いて、図１０(b) に示すように浮上状態のスライダ２０
の空気流流出端（後端）は空気流流入端（前端）よりも
浮上高さが小さい。したがって、電磁変換素子２に近い
側の第一のレール面２１の浮上量が小さく、電磁変換素
子２に遠い側の第二のレール面２２の浮上量を大きくす
る構造を採用すると、第一のレール面２１の後端が最も
低い浮上高さとなる。これにより、第一のレール面２１
の後端に取付けられた電磁変換素子２を磁気ディスク１
４に極めて近づけても、レール面と磁気ディスク面との
接触が防止されるので、そのようなスライダ２０の構造
は、高密度の情報の読出、書込みに適している。
いて、図１０(b) に示すように浮上状態のスライダ２０
の空気流流出端（後端）は空気流流入端（前端）よりも
浮上高さが小さい。したがって、電磁変換素子２に近い
側の第一のレール面２１の浮上量が小さく、電磁変換素
子２に遠い側の第二のレール面２２の浮上量を大きくす
る構造を採用すると、第一のレール面２１の後端が最も
低い浮上高さとなる。これにより、第一のレール面２１
の後端に取付けられた電磁変換素子２を磁気ディスク１
４に極めて近づけても、レール面と磁気ディスク面との
接触が防止されるので、そのようなスライダ２０の構造
は、高密度の情報の読出、書込みに適している。
【００３７】そのような第一のレール面２１と第二のレ
ール面２２の浮上量を変えるためには、例えば、第一の
レール面２１の中央から後端にかけた領域の幅を第二の
レール面２２よりも狭くした構造を採用する。このよう
な構造においては、第二のレール面２２の浮上高さが高
いので、その上のパッド７ａ，７ｄが磁気ディスク１４
に接触する可能性が小さくなる。しかし、第一のレール
面２１の空気流流出端寄りの領域は磁気ディスクに近い
ので、その領域付近に形成されるパッド７ｅと磁気ディ
スク１４表面との接触を回避する必要がある。
ール面２２の浮上量を変えるためには、例えば、第一の
レール面２１の中央から後端にかけた領域の幅を第二の
レール面２２よりも狭くした構造を採用する。このよう
な構造においては、第二のレール面２２の浮上高さが高
いので、その上のパッド７ａ，７ｄが磁気ディスク１４
に接触する可能性が小さくなる。しかし、第一のレール
面２１の空気流流出端寄りの領域は磁気ディスクに近い
ので、その領域付近に形成されるパッド７ｅと磁気ディ
スク１４表面との接触を回避する必要がある。
【００３８】その回避方法として、パッド７ｅの高さを
小さくすることも考えられるが、第１実施形態で説明し
たように、パッド７ｅの高さを２０nmよりも低くするこ
とは好ましくない。そこで、図１０(a) に示すように、
第一のレール面２１上の空気流流出端寄りのパッド７ｅ
を、第二のレール面２２上の空気流流出端寄りのパッド
７ａよりも空気流流出端から遠くなるようにすると、第
一のレール面２１の空気流流出端を磁気ディスク１４に
近づけても第一のレール面２１上のパッド７ｅと磁気デ
ィスク１４の表面との接触は回避される。
小さくすることも考えられるが、第１実施形態で説明し
たように、パッド７ｅの高さを２０nmよりも低くするこ
とは好ましくない。そこで、図１０(a) に示すように、
第一のレール面２１上の空気流流出端寄りのパッド７ｅ
を、第二のレール面２２上の空気流流出端寄りのパッド
７ａよりも空気流流出端から遠くなるようにすると、第
一のレール面２１の空気流流出端を磁気ディスク１４に
近づけても第一のレール面２１上のパッド７ｅと磁気デ
ィスク１４の表面との接触は回避される。
【００３９】このように、第一のレール面２１上の空気
流流出端寄りのパッド７ａと第二のレール面２２上の空
気流流出端寄りのパッド７ｅをそれぞれ空気流流出端か
ら異なる距離に配置しても、磁気ディスクが停止状態で
は全てのパッド７ａ，７ｅ，７ｄが磁気ディスク面１４
に接触可能な配置であれば不都合はない。 （第４実施形態）スライダの両側部の浮上量は、磁気デ
ィスクの回転中心からの位置によって異なる。これは、
磁気ディスクの回転中心から離れるほど磁気ディスクの
周速が速くなるからである。
流流出端寄りのパッド７ａと第二のレール面２２上の空
気流流出端寄りのパッド７ｅをそれぞれ空気流流出端か
ら異なる距離に配置しても、磁気ディスクが停止状態で
は全てのパッド７ａ，７ｅ，７ｄが磁気ディスク面１４
に接触可能な配置であれば不都合はない。 （第４実施形態）スライダの両側部の浮上量は、磁気デ
ィスクの回転中心からの位置によって異なる。これは、
磁気ディスクの回転中心から離れるほど磁気ディスクの
周速が速くなるからである。
【００４０】スライダが磁気ディスクの外周に近くなる
と、空気流流入端の浮上量は高くなるので、スライダの
空気流流出端が磁気ディスクに接触する可能性は極めて
低くなる。そこで、図１１に示すような浮上設計のスラ
イダを用いることも可能になる。即ち、図１０に示すよ
うなスライダ２０が磁気ディスク１４の回転中心に近づ
いた状態で、電磁変換素子２に近い側の第一のレール面
２１の空気流流出端の浮上高さが低く、電磁変換素子２
に遠い側の第二のレール面２２の空気流流出端の浮上高
さが高くなるように傾くように設計する。また、スライ
ダ２０が回転中心から離れるにつれて、第二のレール面
２２の空気流流出端の浮上高さが低くなって第一のレー
ル面２１の空気流流出端の浮上量に近づくような構造に
設計する。
と、空気流流入端の浮上量は高くなるので、スライダの
空気流流出端が磁気ディスクに接触する可能性は極めて
低くなる。そこで、図１１に示すような浮上設計のスラ
イダを用いることも可能になる。即ち、図１０に示すよ
うなスライダ２０が磁気ディスク１４の回転中心に近づ
いた状態で、電磁変換素子２に近い側の第一のレール面
２１の空気流流出端の浮上高さが低く、電磁変換素子２
に遠い側の第二のレール面２２の空気流流出端の浮上高
さが高くなるように傾くように設計する。また、スライ
ダ２０が回転中心から離れるにつれて、第二のレール面
２２の空気流流出端の浮上高さが低くなって第一のレー
ル面２１の空気流流出端の浮上量に近づくような構造に
設計する。
【００４１】そのような構造は、例えば、磁気ディスク
１４の回転中心に対して第一のレール面２１を外側に配
置し、第二のレール面２２を内側に配置するとともに、
第一のレール面２１の少なくとも一部の幅を第二のレー
ル面２２の幅よりも狭くし、それらの幅の比を調整する
ことによって得られる。図１１のような浮上特性に設定
すれば、浮上状態のスライダ２０のローリングが無くな
って、スライダ２０の浮上が安定するとともに、電磁変
換素子２の浮上高さを低い状態で保持することができ
る。 （第５実施形態）磁気ヘッド用のスライダが小さくなる
につれて、スライダ加工の際に生じる湾曲(camber)や捩
れ(twist) が無視できないことになる。例えば図５に示
すスライダ１３の湾曲量が１５nm、捩れ量が１５nm、パ
ッド７ａの高さが３０nmである場合に、図１２に示すよ
うに、パッド７ａ以外のレール面３ａ1 、３ａ2 が磁気
ディスク１４の表面に接触し易くなる。レール面３
ａ1 、３ａ2 と磁気ディスク１４の表面が接触すると、
それらの吸着力が大きくなるので好ましくない。
１４の回転中心に対して第一のレール面２１を外側に配
置し、第二のレール面２２を内側に配置するとともに、
第一のレール面２１の少なくとも一部の幅を第二のレー
ル面２２の幅よりも狭くし、それらの幅の比を調整する
ことによって得られる。図１１のような浮上特性に設定
すれば、浮上状態のスライダ２０のローリングが無くな
って、スライダ２０の浮上が安定するとともに、電磁変
換素子２の浮上高さを低い状態で保持することができ
る。 （第５実施形態）磁気ヘッド用のスライダが小さくなる
につれて、スライダ加工の際に生じる湾曲(camber)や捩
れ(twist) が無視できないことになる。例えば図５に示
すスライダ１３の湾曲量が１５nm、捩れ量が１５nm、パ
ッド７ａの高さが３０nmである場合に、図１２に示すよ
うに、パッド７ａ以外のレール面３ａ1 、３ａ2 が磁気
ディスク１４の表面に接触し易くなる。レール面３
ａ1 、３ａ2 と磁気ディスク１４の表面が接触すると、
それらの吸着力が大きくなるので好ましくない。
【００４２】したがって、そのような接触を防止するた
めには、図１３(a) に示すように、第三のレール面３ａ
3 だけでなく第一のレール面３ａ1 と第二のレール面３
ａ2の空気流流入端寄りにもパッド２３を形成すること
が有効である。空気流流入端寄りにもパッド２３が存在
すると、設計上で４点以上の支持となるので、スライダ
１３に湾曲や捩れが生じても、停止状態において第一又
は第二のレール面３ａ1 ，３ａ2 が磁気ディスク１４に
接触することが回避される。
めには、図１３(a) に示すように、第三のレール面３ａ
3 だけでなく第一のレール面３ａ1 と第二のレール面３
ａ2の空気流流入端寄りにもパッド２３を形成すること
が有効である。空気流流入端寄りにもパッド２３が存在
すると、設計上で４点以上の支持となるので、スライダ
１３に湾曲や捩れが生じても、停止状態において第一又
は第二のレール面３ａ1 ，３ａ2 が磁気ディスク１４に
接触することが回避される。
【００４３】また、スライダ１３の加工における捩れ量
や湾曲量が大きい場合にはパッド２３の面積を広くする
と、パッド２３が磁気ディスク１４と接触し易くなる。
このように、スライダ１３に湾曲や捩れが生じる場合
に、ＣＣＳ領域において４つ以上のパッド７ａ，２３が
磁気ディスク１４に接触しなくなることは吸着防止の観
点から利点がある。
や湾曲量が大きい場合にはパッド２３の面積を広くする
と、パッド２３が磁気ディスク１４と接触し易くなる。
このように、スライダ１３に湾曲や捩れが生じる場合
に、ＣＣＳ領域において４つ以上のパッド７ａ，２３が
磁気ディスク１４に接触しなくなることは吸着防止の観
点から利点がある。
【００４４】しかし、第一又は第二のレール面３ａ1 ，
３ａ2 に形成された複数のパッド７ａ，２３が、磁気デ
イスク１４のＣＳＳ領域で同じ軌跡を描く場合には次の
ような不都合がある。即ち、スライダ１３の空気流流入
端寄りのパッド２３が磁気ディスク１４上の潤滑層がか
き分けた後に、そのかき分けた部分を空気流流出端寄り
のパッド７ａが通ることになる。従って、空気流流出端
寄りのパッド２３は潤滑効果の低い軌道を通ることにな
るので磨耗し易くなる。
３ａ2 に形成された複数のパッド７ａ，２３が、磁気デ
イスク１４のＣＳＳ領域で同じ軌跡を描く場合には次の
ような不都合がある。即ち、スライダ１３の空気流流入
端寄りのパッド２３が磁気ディスク１４上の潤滑層がか
き分けた後に、そのかき分けた部分を空気流流出端寄り
のパッド７ａが通ることになる。従って、空気流流出端
寄りのパッド２３は潤滑効果の低い軌道を通ることにな
るので磨耗し易くなる。
【００４５】そこで、図１３(b) に示すように、スライ
ダ１３のヨー角を考慮して、ＣＳＳ領域での各パッド２
３，７ａの軌跡が相違するような位置に各パッドを形成
するのが好ましい。 （第６実施形態）浮上型のスライダを有する磁気ディス
ク装置においては、磁気ディスク面とスライダの吸着を
防止するために上記したようなパッドを形成している。
ダ１３のヨー角を考慮して、ＣＳＳ領域での各パッド２
３，７ａの軌跡が相違するような位置に各パッドを形成
するのが好ましい。 （第６実施形態）浮上型のスライダを有する磁気ディス
ク装置においては、磁気ディスク面とスライダの吸着を
防止するために上記したようなパッドを形成している。
【００４６】また、スライダの浮上高さを低くする場合
に、電磁変換素子と磁気ディスク表面の凸部との接触を
防止するために、磁気ディスクの表面粗さを小さくする
と、磁気ディスク表面とパッドとの吸着が生じ易くなる
という不都合が生じる。そこで、磁気ディスクの表面粗
さを余り小さくせずに、電磁変換素子と磁気ディスク面
との接触を防止する手段を以下に説明する。
に、電磁変換素子と磁気ディスク表面の凸部との接触を
防止するために、磁気ディスクの表面粗さを小さくする
と、磁気ディスク表面とパッドとの吸着が生じ易くなる
という不都合が生じる。そこで、磁気ディスクの表面粗
さを余り小さくせずに、電磁変換素子と磁気ディスク面
との接触を防止する手段を以下に説明する。
【００４７】図１４(a),(b) は、本発明の第６実施形態
のスライダの底面図及び側面図、図１５(a) は、スライ
ダの浮上状態を示す側面図、図１５(b) は、スライダと
磁気ディスクの相対速度とスライダの浮上高さとの関係
を示す特性図である。スライダ３０の磁気ディスク対向
面において、その両側部寄りには第一のレール面３１と
第二のレール面３２が形成されている。
のスライダの底面図及び側面図、図１５(a) は、スライ
ダの浮上状態を示す側面図、図１５(b) は、スライダと
磁気ディスクの相対速度とスライダの浮上高さとの関係
を示す特性図である。スライダ３０の磁気ディスク対向
面において、その両側部寄りには第一のレール面３１と
第二のレール面３２が形成されている。
【００４８】第一及び第二のレール面３１，３２の空気
流流入端（前端）にはテーパ面３１ａ，３２ａが形成さ
れ、空気流流出端（後端）寄りの位置にはパッド３３，
３４が形成されている。また、第一のレール面３１の空
気流流出端には電磁変換素子３５が形成されている。こ
のようなスライダ３０は、図８に示す磁気ディスク装置
内でサスペンション１６の先端に取り付けられており、
磁気ディスク１４の回転によって生じる空気流を受けて
浮上するようになっている。
流流入端（前端）にはテーパ面３１ａ，３２ａが形成さ
れ、空気流流出端（後端）寄りの位置にはパッド３３，
３４が形成されている。また、第一のレール面３１の空
気流流出端には電磁変換素子３５が形成されている。こ
のようなスライダ３０は、図８に示す磁気ディスク装置
内でサスペンション１６の先端に取り付けられており、
磁気ディスク１４の回転によって生じる空気流を受けて
浮上するようになっている。
【００４９】浮上状態のスライダ３０の第一及び第二の
レール面３１，３２では、図１５(a) に示すように、そ
の前端にテーパ面３１ａ，３２ａが形成されているの
で、磁気ディスク１４との相対速度ｖが増すにつれて磁
気ディスク１４からの高さが後部よりも前部が高くなっ
てくる。即ち、第一及び第二のレール面３１，３２の傾
斜角（以下、ピッチ角という）θは相対速度ｖの上昇と
ともに大きくなってくる。
レール面３１，３２では、図１５(a) に示すように、そ
の前端にテーパ面３１ａ，３２ａが形成されているの
で、磁気ディスク１４との相対速度ｖが増すにつれて磁
気ディスク１４からの高さが後部よりも前部が高くなっ
てくる。即ち、第一及び第二のレール面３１，３２の傾
斜角（以下、ピッチ角という）θは相対速度ｖの上昇と
ともに大きくなってくる。
【００５０】一方、一定の回転数で回転している磁気デ
ィスク１４の周速は、回転中心から離れるほど大きくな
る。したがって、磁気ディスク１４上を浮上するスライ
ダ３０の第一及び第二のレール面３１，３２は、磁気デ
ィスク１４の外側に移動するほどピッチ角θが大きくな
る。また、ピッチ角θの増加により、磁気ディスク１４
からの電磁変換素子３５の浮上高さｈt は増加し、さら
に磁気ディスク１４からのパッド３３，３４の浮上高さ
ｈp は増加することになる。
ィスク１４の周速は、回転中心から離れるほど大きくな
る。したがって、磁気ディスク１４上を浮上するスライ
ダ３０の第一及び第二のレール面３１，３２は、磁気デ
ィスク１４の外側に移動するほどピッチ角θが大きくな
る。また、ピッチ角θの増加により、磁気ディスク１４
からの電磁変換素子３５の浮上高さｈt は増加し、さら
に磁気ディスク１４からのパッド３３，３４の浮上高さ
ｈp は増加することになる。
【００５１】相対速度ｖの増加につれて、電磁変換素子
３５の浮上高さｈt は比較的緩やかに増加する。ここ
で、電磁変換素子３５の浮上高さｈt は相対速度ｖが変
化してもできるだけ一定の値を保つように設計するのが
一般的であるが、現実には、図１５(b) に示すように、
相対速度ｖの増加とともに僅かに増加してしまうことが
多い。また、パッド３３，３４は、電磁変換素子３５よ
りも前端寄りにあるので、浮上高さｈp は比較的急激に
増加する。
３５の浮上高さｈt は比較的緩やかに増加する。ここ
で、電磁変換素子３５の浮上高さｈt は相対速度ｖが変
化してもできるだけ一定の値を保つように設計するのが
一般的であるが、現実には、図１５(b) に示すように、
相対速度ｖの増加とともに僅かに増加してしまうことが
多い。また、パッド３３，３４は、電磁変換素子３５よ
りも前端寄りにあるので、浮上高さｈp は比較的急激に
増加する。
【００５２】以上のことから、磁気ディスク１４の高記
録密度化に対応させて電磁変換素子３５の浮上高さｈt
を低くする場合には、回転中心寄りの領域における電磁
変換素子３５と磁気ディスク１４表面との接触を確実に
防止する必要がある。そこで、図１５(b) に示すよう
に、電磁変換素子３５の浮上高さｈt が基準値ｈ0 、例
えば３０nm程度以下になる磁気ディスク１４の領域Ｂで
は、パッド３３，３４の浮上高さｈp を電磁変換素子３
５の浮上高さｈt よりも低くなるようにする。そして、
その領域Ｂ内で磁気ディスク１４の表面粗さによる凸部
１４ａが存在する場合に、電磁変換素子３５の僅か前方
のパッド３３，３４が凸部１４ａに優先的に接触するこ
とになる。これにより、凸部１４ａと電磁変換素子３５
の接触が回避され、電磁変換素子３５の損傷が防止され
る。
録密度化に対応させて電磁変換素子３５の浮上高さｈt
を低くする場合には、回転中心寄りの領域における電磁
変換素子３５と磁気ディスク１４表面との接触を確実に
防止する必要がある。そこで、図１５(b) に示すよう
に、電磁変換素子３５の浮上高さｈt が基準値ｈ0 、例
えば３０nm程度以下になる磁気ディスク１４の領域Ｂで
は、パッド３３，３４の浮上高さｈp を電磁変換素子３
５の浮上高さｈt よりも低くなるようにする。そして、
その領域Ｂ内で磁気ディスク１４の表面粗さによる凸部
１４ａが存在する場合に、電磁変換素子３５の僅か前方
のパッド３３，３４が凸部１４ａに優先的に接触するこ
とになる。これにより、凸部１４ａと電磁変換素子３５
の接触が回避され、電磁変換素子３５の損傷が防止され
る。
【００５３】一方、電磁変換素子３５の浮上高さｈt が
基準値ｈ0 以上の高さになる磁気ディスク１４の領域Ａ
では、領域Ａにある凸部１４ａと電磁変換素子３５が接
触する確率は極めて小さいので、パッド３３，３４をの
浮上高さｈp を電磁変換素子３５の浮上高さｈt よりも
高くしてもよくなる。相対速度ｖの関係からスライダ３
０の前方は磁気ディスク１４の外周に近づくほど高くな
るので、パッド３３，３４の浮上高さｈp を電磁変換素
子３５の浮上高さｈt よりも高くすることは容易であ
る。
基準値ｈ0 以上の高さになる磁気ディスク１４の領域Ａ
では、領域Ａにある凸部１４ａと電磁変換素子３５が接
触する確率は極めて小さいので、パッド３３，３４をの
浮上高さｈp を電磁変換素子３５の浮上高さｈt よりも
高くしてもよくなる。相対速度ｖの関係からスライダ３
０の前方は磁気ディスク１４の外周に近づくほど高くな
るので、パッド３３，３４の浮上高さｈp を電磁変換素
子３５の浮上高さｈt よりも高くすることは容易であ
る。
【００５４】以上のことをまとめると次のようになる。
即ち、磁気ディスク装置の通常運転時において、実用回
転数で回転する磁気ディスク１４の内周側から外周側ま
でスライダ３０はシーク動作をするが、領域Ｂの範囲内
での２つの浮上高さｈp 、ｈt の関係をｈp ≦ｈt とす
る。それらの浮上高さの差（ｈt −ｈp ）を大きくし過
ぎると、当然のことながらｈt が大きくなるので、高記
録密度化の要求に応えることができなくなるし、パッド
３３，３４が突起と接触し易くなるので好ましくない。
その差（ｈt −ｈp ）は、３０nm以下であるのが好まし
い。なお、その差（ｈt −ｈp ）の最大値は、装置停止
状態でのパッド３３，３４の底面と電磁変換素子３５の
底面との距離となる。
即ち、磁気ディスク装置の通常運転時において、実用回
転数で回転する磁気ディスク１４の内周側から外周側ま
でスライダ３０はシーク動作をするが、領域Ｂの範囲内
での２つの浮上高さｈp 、ｈt の関係をｈp ≦ｈt とす
る。それらの浮上高さの差（ｈt −ｈp ）を大きくし過
ぎると、当然のことながらｈt が大きくなるので、高記
録密度化の要求に応えることができなくなるし、パッド
３３，３４が突起と接触し易くなるので好ましくない。
その差（ｈt −ｈp ）は、３０nm以下であるのが好まし
い。なお、その差（ｈt −ｈp ）の最大値は、装置停止
状態でのパッド３３，３４の底面と電磁変換素子３５の
底面との距離となる。
【００５５】また、磁気ディスク１４の領域Ａの範囲内
での２つの浮上高さｈp 、ｈt の関係は特に限定される
ものではないが、電磁変換素子３５を低浮上させるため
にはｈp ＞ｈt とするのが好ましい。このような浮上高
さの変化は、パッド３３，３４の厚さ、磁気ディスク１
４の回転数、スライダ３０の負圧領域の大きさ、レール
面３１，３２の面積、テーパ面３１ａ，３２ａの面積な
どを調整することに実現する。
での２つの浮上高さｈp 、ｈt の関係は特に限定される
ものではないが、電磁変換素子３５を低浮上させるため
にはｈp ＞ｈt とするのが好ましい。このような浮上高
さの変化は、パッド３３，３４の厚さ、磁気ディスク１
４の回転数、スライダ３０の負圧領域の大きさ、レール
面３１，３２の面積、テーパ面３１ａ，３２ａの面積な
どを調整することに実現する。
【００５６】そのようなパッド３３，３４は磁気ディス
ク１４の凸部１４ａとの接触を容認することを前提とし
ているので、その磨耗を防止するために比較硬度の硬い
セラミック系の材料などからパッド３３，３４を形成す
るのが好ましい。例えば、パッド３３，３４の少なくと
も表面を、ダイヤモンドライクカーボン、アモルファス
カーボンのような炭素系材料を用いると、高度２５００
程度の硬さにすることができる。また、ホウ化物、炭化
物又は窒化物を用いてもよい。
ク１４の凸部１４ａとの接触を容認することを前提とし
ているので、その磨耗を防止するために比較硬度の硬い
セラミック系の材料などからパッド３３，３４を形成す
るのが好ましい。例えば、パッド３３，３４の少なくと
も表面を、ダイヤモンドライクカーボン、アモルファス
カーボンのような炭素系材料を用いると、高度２５００
程度の硬さにすることができる。また、ホウ化物、炭化
物又は窒化物を用いてもよい。
【００５７】また、磁気ディスク装置においては、磁気
ディスクの表面に潤滑膜を施すことが多い。その潤滑膜
として、ベンゼン環を有するフッ化炭素系の潤滑剤を用
いる場合には、パッド３３，３４の表面を炭素系皮膜で
覆うか或いはパッド３３，３４自身を炭素系材料で形成
すると、その潤滑剤がパッド表面に移り易くなる。ま
た、潤滑膜が水素基を持つフッ化炭素系の液体潤滑剤を
用いる場合には、パッド３３，３４の表面を酸化物系の
材料（例えば、Al2O3 、SiO2）で覆うか或いはパッド３
３，３４自身をその材料で形成すると、潤滑剤がパッド
表面に移り易くなる。
ディスクの表面に潤滑膜を施すことが多い。その潤滑膜
として、ベンゼン環を有するフッ化炭素系の潤滑剤を用
いる場合には、パッド３３，３４の表面を炭素系皮膜で
覆うか或いはパッド３３，３４自身を炭素系材料で形成
すると、その潤滑剤がパッド表面に移り易くなる。ま
た、潤滑膜が水素基を持つフッ化炭素系の液体潤滑剤を
用いる場合には、パッド３３，３４の表面を酸化物系の
材料（例えば、Al2O3 、SiO2）で覆うか或いはパッド３
３，３４自身をその材料で形成すると、潤滑剤がパッド
表面に移り易くなる。
【００５８】パッド３３，３４に潤滑剤が付着すると、
パッド３３，３４の潤滑状態が良好になり、パッド３
３，３４と磁気ディスク１４の摩擦力が低下するので、
磁気ディスク１４の磁気記録媒体面でのパッド接触摺動
による損傷が軽減される。電磁変換素子３５に使用する
磁性材の高度は１００〜８００程度であるので、電磁変
換素子３５を保護するために酸化アルミニウム（硬度約
２０００）で覆うことが多いが、電磁変換素子３５の磁
気ディスク対向面には酸化アルミニウムを形成しないの
が通例である。
パッド３３，３４の潤滑状態が良好になり、パッド３
３，３４と磁気ディスク１４の摩擦力が低下するので、
磁気ディスク１４の磁気記録媒体面でのパッド接触摺動
による損傷が軽減される。電磁変換素子３５に使用する
磁性材の高度は１００〜８００程度であるので、電磁変
換素子３５を保護するために酸化アルミニウム（硬度約
２０００）で覆うことが多いが、電磁変換素子３５の磁
気ディスク対向面には酸化アルミニウムを形成しないの
が通例である。
【００５９】上記した説明では、スライダ３０の第一及
び第二のレール面３１，３２上にパッド３３，３４を形
成する場合に、パッド３３，３４の浮上高さｈp の高さ
を問題にしたが、パッドは必ずしもレール面に形成する
必要はなく、図１６(a),(b)に示すように、レール面３
１，３２以外のディスク対向面にパッドが形成されてい
るものであってもよい。この場合にも、図１５(b) に示
すような浮上高さにすると、電磁変換素子が保護され
る。
び第二のレール面３１，３２上にパッド３３，３４を形
成する場合に、パッド３３，３４の浮上高さｈp の高さ
を問題にしたが、パッドは必ずしもレール面に形成する
必要はなく、図１６(a),(b)に示すように、レール面３
１，３２以外のディスク対向面にパッドが形成されてい
るものであってもよい。この場合にも、図１５(b) に示
すような浮上高さにすると、電磁変換素子が保護され
る。
【００６０】なお、本実施形態では、電磁変換素子と磁
気ディスクとの接触を防止するためパッドを使用してい
る。しかし、電磁変換素子と磁気ディスクとの接近距離
を規制する突起であればよく、パッドに限定されるもの
ではない。
気ディスクとの接触を防止するためパッドを使用してい
る。しかし、電磁変換素子と磁気ディスクとの接近距離
を規制する突起であればよく、パッドに限定されるもの
ではない。
【００６１】
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、磁気
ヘッド用スライダのパッドの高さを２５〜５０nmの範囲
に設定しているので、そのパッドと磁気ディスク面との
摩擦係数が小さくなり、しかもスライダのグライドハイ
トを低く保つことができる。また、スライダの一方の側
部寄りに形成される第一のレール面と、他方の側部寄り
に形成される第二のレール面の上にそれぞれパッドを形
成する場合に、第一のレール面上のパッドの空気流流出
端からの距離と第二のレール面上のパッドの空気流流出
端からの距離を異なるようにしたので、スライダが横方
向に傾いて磁気ディスク上を浮上する場合に、浮上高さ
が低い方のレール面上のパッドを空気流流出端から離す
ことにより磁気ディスク表面とパッドとの接触を未然に
防止できる。また、浮上高さの高い方のレール面上のパ
ッドは、他のレール面上のパッドよりも空気流流出端に
近づけるようにしたので、スライダを磁気ディスク上に
安定に載置させることができる。
ヘッド用スライダのパッドの高さを２５〜５０nmの範囲
に設定しているので、そのパッドと磁気ディスク面との
摩擦係数が小さくなり、しかもスライダのグライドハイ
トを低く保つことができる。また、スライダの一方の側
部寄りに形成される第一のレール面と、他方の側部寄り
に形成される第二のレール面の上にそれぞれパッドを形
成する場合に、第一のレール面上のパッドの空気流流出
端からの距離と第二のレール面上のパッドの空気流流出
端からの距離を異なるようにしたので、スライダが横方
向に傾いて磁気ディスク上を浮上する場合に、浮上高さ
が低い方のレール面上のパッドを空気流流出端から離す
ことにより磁気ディスク表面とパッドとの接触を未然に
防止できる。また、浮上高さの高い方のレール面上のパ
ッドは、他のレール面上のパッドよりも空気流流出端に
近づけるようにしたので、スライダを磁気ディスク上に
安定に載置させることができる。
【００６２】さらに、磁気ディスクの回転中心から離れ
るにつれてスライダの空気流流入端の浮上高さが増す一
方、スライダが回転中心から離れるにつれて、電磁変換
素子に隣設しない側のレール面の後端の浮上高さが低く
なるような構造を採用したので、スライダのローリング
を防止できる。また、レール面の長さ方向にパッドを長
く形成してパッドの面積を大きくするようにしたので、
パッドの磨耗を抑制することができる。この場合、電磁
変換素子に近い側のレール面上のパッドを円形にするこ
とによって、そのパッドの面積を小さくして磁気ディス
クとの接触を防止することができる。
るにつれてスライダの空気流流入端の浮上高さが増す一
方、スライダが回転中心から離れるにつれて、電磁変換
素子に隣設しない側のレール面の後端の浮上高さが低く
なるような構造を採用したので、スライダのローリング
を防止できる。また、レール面の長さ方向にパッドを長
く形成してパッドの面積を大きくするようにしたので、
パッドの磨耗を抑制することができる。この場合、電磁
変換素子に近い側のレール面上のパッドを円形にするこ
とによって、そのパッドの面積を小さくして磁気ディス
クとの接触を防止することができる。
【００６３】また、別の発明によれば、磁気ディスク面
上で、電磁変換素子の浮上高さから突起の浮上高さを引
いた値が、磁気ディスクの外周から内周にかけて負から
正に変化するようにしたので、浮上高さが低くなる内周
寄りの領域での電磁変換素子と磁気ディスク表面との接
触を防止できる。
上で、電磁変換素子の浮上高さから突起の浮上高さを引
いた値が、磁気ディスクの外周から内周にかけて負から
正に変化するようにしたので、浮上高さが低くなる内周
寄りの領域での電磁変換素子と磁気ディスク表面との接
触を防止できる。
【図１】図１(a) は、本発明の第１実施形態の磁気ヘッ
ド用スライダを形成するために使用するウェハの斜視
図、図１(b) は、ウェハを分割した棒状体を示す斜視
図、図１(c) は、図１(b) の棒状体の表面に多層構造の
膜を形成した状態を示すＩ─Ｉ線断面図である。
ド用スライダを形成するために使用するウェハの斜視
図、図１(b) は、ウェハを分割した棒状体を示す斜視
図、図１(c) は、図１(b) の棒状体の表面に多層構造の
膜を形成した状態を示すＩ─Ｉ線断面図である。
【図２】図２は、図１(b) に示す複数の棒状体をホルダ
ーに収納した状態を示す斜視図である。
ーに収納した状態を示す斜視図である。
【図３】図３(a) 〜(d) は、本発明の第１実施形態の磁
気ヘッド用スライダのパターニング工程を示す側面図
（その１）である。
気ヘッド用スライダのパターニング工程を示す側面図
（その１）である。
【図４】図４(a) 〜(d) は、本発明の第１実施例の磁気
ヘッド用スライダのパターニング及び切断工程を示す側
面図（その２）である。
ヘッド用スライダのパターニング及び切断工程を示す側
面図（その２）である。
【図５】図５(a) は、本発明の第１実施例の磁気ヘッド
用スライダの一例を示す上面図、図５(b) は、そのII−
II線断面図である。
用スライダの一例を示す上面図、図５(b) は、そのII−
II線断面図である。
【図６】図６は、本発明の第１実施例の磁気ヘッド用ス
ライダーのパッドの高さと磁気ディスク表面での摩擦係
数との関係との関係を示す図である。
ライダーのパッドの高さと磁気ディスク表面での摩擦係
数との関係との関係を示す図である。
【図７】図７(a),(b) は、本発明の第１実施例の磁気ヘ
ッド用スライダーのパッドとウェハの間の層構造を異な
らせた例を示す断面図である。
ッド用スライダーのパッドとウェハの間の層構造を異な
らせた例を示す断面図である。
【図８】図８は、本発明の第１実施例の磁気ヘッド用ス
ライダを備えた磁気ディスク装置の内部平面図である。
ライダを備えた磁気ディスク装置の内部平面図である。
【図９】図９(a),(b) は、本発明の第２実施例の磁気ヘ
ッド用スライダを示す平面図である。
ッド用スライダを示す平面図である。
【図１０】図１０(a) は、発明の第３実施例の磁気ヘッ
ド用スライダを示す平面図、図１０(b) は、その磁気ヘ
ッド用スライダの浮上状態を示す側面図、図１０(c)
は、その磁気ヘッド用スライダの浮上状態を示す正面図
である。
ド用スライダを示す平面図、図１０(b) は、その磁気ヘ
ッド用スライダの浮上状態を示す側面図、図１０(c)
は、その磁気ヘッド用スライダの浮上状態を示す正面図
である。
【図１１】図１１は、本発明の第４実施形態の磁気ヘッ
ド用スライダによる浮上高さと磁気ディスクの半径との
関係を示す特性図である。
ド用スライダによる浮上高さと磁気ディスクの半径との
関係を示す特性図である。
【図１２】図１２は、磁気ヘッド用スライダに湾曲、捩
れが生じている場合のスライダと磁気ディスクとの接触
状態を示す図である。
れが生じている場合のスライダと磁気ディスクとの接触
状態を示す図である。
【図１３】図１３(a),(b) は、本発明の第５実施形態の
磁気ヘッド用スライダを示す平面図である。
磁気ヘッド用スライダを示す平面図である。
【図１４】図１４(a),(b) は、本発明の第６実施形態の
磁気ヘッド用スライダを示す平面図及び側面図である。
磁気ヘッド用スライダを示す平面図及び側面図である。
【図１５】図１５(a) は、本発明の第６実施形態の磁気
ヘッド用スライダの浮上状態を示す側面図、図１５(b)
は、磁気ヘッド用スライダ・磁気ディスクの相対速度と
磁気ヘッド用スライダの浮上高さとの関係を示す特性図
である。本発明の第４実施形態の磁気ヘッド用スライダ
による浮上高さと磁気ディスクの半径との関係を示す特
性図である。
ヘッド用スライダの浮上状態を示す側面図、図１５(b)
は、磁気ヘッド用スライダ・磁気ディスクの相対速度と
磁気ヘッド用スライダの浮上高さとの関係を示す特性図
である。本発明の第４実施形態の磁気ヘッド用スライダ
による浮上高さと磁気ディスクの半径との関係を示す特
性図である。
【図１６】図１６(a),(b) は、本発明の第６実施形態の
磁気ヘッド用スライダの別の例を示す平面図及び側面図
である。
磁気ヘッド用スライダの別の例を示す平面図及び側面図
である。
２ 電磁変換素子 ３ａ1 ，３ａ2 ，３ａ3 、２１、２２ レール面（空
気軸受け面） ３１、３２ レール面（空気軸受け面） ７ａ〜７ｅ、２３、３３、３４、３６ パッド（突
起） １２ 負圧領域 １３、２０、３０ スライダ １４ 磁気ディスク
気軸受け面） ３１、３２ レール面（空気軸受け面） ７ａ〜７ｅ、２３、３３、３４、３６ パッド（突
起） １２ 負圧領域 １３、２０、３０ スライダ １４ 磁気ディスク
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 豊口 卓 神奈川県川崎市中原区上小田中４丁目１番 １号 富士通株式会社内 (72)発明者 横畑 徹 神奈川県川崎市中原区上小田中４丁目１番 １号 富士通株式会社内 (72)発明者 古石 亮介 神奈川県川崎市中原区上小田中４丁目１番 １号 富士通株式会社内
Claims (9)
- 【請求項１】浮上力発生のためのレール面と、 前記各レール面のうち空気流流入端寄りに少なくとも１
個、該空気流流出端寄りに少なくとも１個とそれぞれ形
成し、且つ高さが２０nm以上であって５０nm以下である
パッドとを有することを特徴とする磁気ヘッド用スライ
ダ。 - 【請求項２】前記パッドは、空気流の方向に長い平面形
状を有することを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッド
スライダ。 - 【請求項３】浮上力発生のために本体に形成された複数
のレール面と、 前記レール面のうち前記本体の一方の側部寄りに形成さ
れた第一のレール面と、 前記第一のレール面の空気流流出端寄りに形成された第
一のパッドと、 前記レール面のうち前記本体の他方の側部寄りに形成さ
れた第二のレール面と、 前記第二のレール面上で前記第一のパッドの近くに形成
され、かつ前記空気流流出端からの距離が前記第一のパ
ッドとは異なった位置に形成された第二のパッドとを有
することを特徴とする磁気ヘッド用スライダ。 - 【請求項４】前記第一のレール面は、前記空気流流出端
で前記第二のレール面の前記空気流流出端よりも低く浮
上する形状に形成され、前記第一のレール面の前記空気
流流出端には電磁変換素子が取り付けられ、 前記第一のパッドは前記第二のパッドよりも空気流流入
端寄りに配置されていることを特徴とする請求項３記載
の磁気ヘッド用スライダ。 - 【請求項５】前記第一のレール面と前記第二のレール面
は、空気流入速度が速くなるにつれて前記第一及び第二
のレール面の空気流流入端の浮上高さが高くなり、且
つ、前記空気流入速度が速くなるにつれて前記第二のレ
ール面の前記空気流流出端の浮上高さと前記第一のレー
ル面の空気流流出端の浮上高さとの差が小さくなる形状
を有することを特徴とする請求項４記載の磁気ヘッド用
スライダ。 - 【請求項６】前記第一のパッド又は前記第二のパッド
は、空気流の方向に長い平面形状を有することを特徴と
する請求項３〜５記載の磁気ヘッドスライダ。 - 【請求項７】前記第一のレール面上に形成された前記第
一のパッドは平面形状が円形であり、 前記第二のレール面上に形成された前記第二のパッド
は、前記第一のレール面の長手方向に長いことを特徴と
する請求項３〜６いずれか記載の磁気ヘッド用スライ
ダ。 - 【請求項８】請求項１〜５いずれか記載の磁気ヘッド用
スライダと、 前記磁気ヘッドスライダを支持するスプリングアーム
と、 前記磁気ヘッド用スライダに対向して配置される磁気デ
ィスクとを有することを特徴とする磁気ディスク装置。 - 【請求項９】磁気ディスクと、 前記磁気ディスクの対向面に突起を有し、空気流流出端
に電磁変換素子を有するとともに、前記磁気ディスクか
らの該電磁変換素子の浮上高さから該突起の浮上高さを
引いた値が、前記磁気ディスクの外周から内周にかけて
負から正に変化するスライダとを有することを特徴とす
る磁気ディスク装置。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10693096A JP3426082B2 (ja) | 1996-04-26 | 1996-04-26 | 磁気ヘッド用スライダ及び磁気ディスク装置 |
| US08/766,967 US6040958A (en) | 1996-04-26 | 1996-12-16 | Magnetic head slider and magnetic disk apparatus having the magnetic head slider |
| DE19716662A DE19716662C2 (de) | 1996-04-26 | 1997-04-22 | Ein Magnetkopfgleitstück und Magnetplattengerät mit dem Magnetkopfgleitstück |
| CNB021199361A CN1221946C (zh) | 1996-04-26 | 1997-04-23 | 磁头滑块和设有磁头滑块的磁盘装置 |
| CN97110792A CN1087463C (zh) | 1996-04-26 | 1997-04-23 | 磁头滑块和没有磁头滑块的磁盘装置 |
| KR1019970015058A KR100284226B1 (ko) | 1996-04-26 | 1997-04-23 | 자기헤드용슬라이더및자기디스크장치 |
| US09/388,391 US6243233B1 (en) | 1995-08-30 | 1999-09-01 | Magnetic head slider and magnetic disk apparatus having the magnetic head slider |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10693096A JP3426082B2 (ja) | 1996-04-26 | 1996-04-26 | 磁気ヘッド用スライダ及び磁気ディスク装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09293223A true JPH09293223A (ja) | 1997-11-11 |
| JP3426082B2 JP3426082B2 (ja) | 2003-07-14 |
Family
ID=14446128
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10693096A Expired - Lifetime JP3426082B2 (ja) | 1995-08-30 | 1996-04-26 | 磁気ヘッド用スライダ及び磁気ディスク装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US6040958A (ja) |
| JP (1) | JP3426082B2 (ja) |
| KR (1) | KR100284226B1 (ja) |
| CN (2) | CN1087463C (ja) |
| DE (1) | DE19716662C2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6301079B1 (en) | 1998-02-23 | 2001-10-09 | Fujitsu Limited | Flying head slider having a splay formed on a flying surface enabling a lower flying height while avoiding collision with a surface of a recording disk |
| US6351346B2 (en) | 1998-07-08 | 2002-02-26 | Fujitsu Limited | Head slider |
| US6396663B1 (en) | 1999-03-15 | 2002-05-28 | Fujitsu Limited | Head slider and recording disk drive |
| US6477013B1 (en) | 2000-11-09 | 2002-11-05 | International Business Machines Corporation | Slider air bearing design and method providing writing of a laser field (WOLF) measurement without substantial fly height affect |
| US6754043B2 (en) | 1997-12-26 | 2004-06-22 | Fujitsu Limited | Head slider |
| US7385786B2 (en) | 1998-04-28 | 2008-06-10 | Hitachi Global Storage Technologies Japan, Ltd. | Magnetic head slider and a magnetic disk device in which the slider is mounted |
| JP2010152991A (ja) * | 2008-12-25 | 2010-07-08 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv | 磁気ヘッドスライダ、磁気ヘッドスライダを搭載した磁気ディスク装置、および磁気ヘッドスライダの製造方法 |
Families Citing this family (35)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5870362A (en) * | 1997-06-20 | 1999-02-09 | Seagate Technology, Inc. | Slider for optical disc data storage system |
| JP4312837B2 (ja) * | 1997-06-27 | 2009-08-12 | シーゲイト テクノロジー エルエルシー | ディスク記憶システムのためのスライダ |
| JP3861387B2 (ja) * | 1997-07-02 | 2006-12-20 | 富士通株式会社 | ヘッドスライダとディスク装置 |
| US6230380B1 (en) * | 1998-02-17 | 2001-05-15 | Seagate Technology Llc | Slider for burnishing a disc |
| US6373658B2 (en) * | 1998-03-19 | 2002-04-16 | Seagate Technology Llc | Optimum location for slider landing pads |
| US6535353B2 (en) * | 1998-03-20 | 2003-03-18 | Seagate Technology Llc | Capped polymeric load/unload pads |
| US6683754B2 (en) | 1998-05-21 | 2004-01-27 | Komag, Inc. | Hard disk drive head-media system having reduced stiction and low fly height |
| US6381090B1 (en) | 1998-05-21 | 2002-04-30 | Komag, Incorporated | Hard disk drive head-media system having reduced stiction and low fly height |
| JP3097663B2 (ja) * | 1998-06-09 | 2000-10-10 | 日本電気株式会社 | 磁気ディスク装置 |
| JP3674347B2 (ja) * | 1998-09-28 | 2005-07-20 | 富士通株式会社 | 負圧ヘッドスライダ |
| US6322431B1 (en) | 1998-10-13 | 2001-11-27 | Seagate Technology Llc | Burnish head with ion milled aerodynamic pads configured in an elliptical pattern |
| US6466410B2 (en) * | 1998-10-13 | 2002-10-15 | Seagate Technology Llc | Slider for a data storage device with head disc interface for contact starts and stops (“CSS”) |
| US6459547B1 (en) | 1998-12-09 | 2002-10-01 | Seagate Technology Llc | Slider with pads and textured landing zone for disc storage system |
| JP3815094B2 (ja) * | 1998-12-24 | 2006-08-30 | 富士通株式会社 | ヘッドアセンブリ及びディスク装置 |
| JP3264895B2 (ja) | 1999-01-12 | 2002-03-11 | 富士通株式会社 | 浮上ヘッドスライダおよびその製造方法 |
| US6304418B1 (en) | 1999-02-11 | 2001-10-16 | Seagate Technology Llc | Enhanced durability ultra-low-flying-height sliders |
| US6538849B1 (en) * | 1999-02-11 | 2003-03-25 | Seagate Technology Llc | Diamond-pattern directed tipping slip magnetic head |
| US6441999B1 (en) * | 1999-08-27 | 2002-08-27 | Seagate Technology Llc | Wear durability using high wear-resistant slip pads |
| US6536265B1 (en) | 1999-12-02 | 2003-03-25 | Seagate Technology Llc | Micro-textured glide sliders for super-smooth media |
| JP3911375B2 (ja) * | 1999-12-17 | 2007-05-09 | 富士通株式会社 | ヘッドスライダ |
| JP2001307313A (ja) * | 2000-04-20 | 2001-11-02 | Fujitsu Ltd | 薄膜ヘッドの製造方法 |
| US6503132B2 (en) | 2000-10-03 | 2003-01-07 | Seagate Technology Llc | Hybrid burnish/glide head with advanced air bearing fly height control rails |
| US6714382B1 (en) * | 2000-10-13 | 2004-03-30 | Hitachi Global Storage Technologies | Self-limiting wear contact pad slider and method for making the same |
| DE10196777T1 (de) | 2000-10-13 | 2003-12-18 | Seagate Technology Llc | Plattenlaufwerk-Gleitstück mit Texturierten Pads |
| JP2002216328A (ja) * | 2001-01-09 | 2002-08-02 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | スライダ、ヘッド・アセンブリおよびディスク・ドライブ装置 |
| US7194802B2 (en) * | 2002-03-26 | 2007-03-27 | Seagate Technology Llc | Tool for certifying a head-gimbal assembly |
| JP2003288710A (ja) * | 2002-03-28 | 2003-10-10 | Fujitsu Ltd | 記録媒体駆動装置およびヘッドスライダ |
| WO2005004152A1 (ja) * | 2003-07-03 | 2005-01-13 | Fujitsu Limited | 磁気ヘッドスライダ及びその製造方法 |
| US8815060B2 (en) * | 2004-08-30 | 2014-08-26 | HGST Netherlands B.V. | Method for minimizing magnetically dead interfacial layer during COC process |
| US7218478B2 (en) * | 2004-09-28 | 2007-05-15 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Disk drive with negative-pitch slider having protrusion pad contacting the disk when the disk is rotating at operating speed |
| JP2006185505A (ja) * | 2004-12-27 | 2006-07-13 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv | 磁気ヘッドスライダ及びディスク装置 |
| US7352532B2 (en) * | 2005-02-01 | 2008-04-01 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Method and apparatus for utilizing a small pad to increase a head to a disk interface reliability for a load/unload drive |
| US7929251B2 (en) * | 2006-01-10 | 2011-04-19 | Hitachi Global Storage Technologies, Netherlands B.V. | Assembly, apparatus and method for fabricating a structural element of a hard disk drive air bearing |
| JP2007242094A (ja) * | 2006-03-06 | 2007-09-20 | Fujitsu Ltd | 磁気ヘッド、その製造方法、および磁気ディスク装置 |
| US8248729B2 (en) * | 2006-11-16 | 2012-08-21 | Hitachi Global Storage Technologies, Netherlands B.V. | Slider with hook-shaped air compression mechanisms near trailing edge corners |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56107363A (en) * | 1980-01-31 | 1981-08-26 | Nec Corp | Floating type magnetic head |
| JP2533091B2 (ja) * | 1986-07-31 | 1996-09-11 | 株式会社東芝 | 磁気デイスク装置 |
| US4757402A (en) * | 1986-10-03 | 1988-07-12 | Censtor Corp. | Slider assembly for supporting a magnetic head |
| EP0518566B1 (en) * | 1991-06-14 | 1997-01-08 | Seagate Technology International | Air bearing slider with relieved trailing edge |
| JP3131792B2 (ja) * | 1991-09-30 | 2001-02-05 | 松下電器産業株式会社 | 磁気ヘッド用スライダ |
| US5267104A (en) * | 1992-04-30 | 1993-11-30 | International Business Machines Corporation | Liquid-bearing data recording disk file with transducer carrier having rear ski pad at the head-disk interface |
| US5841608A (en) * | 1994-08-30 | 1998-11-24 | Fujitsu Limited | Head slider with projections arranged on rails thereof |
| DE19531746C2 (de) * | 1994-08-30 | 2001-05-23 | Fujitsu Ltd | Kopfschieber für ein Magnetplattenlaufwerk |
| US5768055A (en) | 1996-09-19 | 1998-06-16 | Sae Magnetics (H.K.) Ltd. | Magnetic recording head having a carbon overcoat array on slider air bearings surfaces |
-
1996
- 1996-04-26 JP JP10693096A patent/JP3426082B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1996-12-16 US US08/766,967 patent/US6040958A/en not_active Expired - Lifetime
-
1997
- 1997-04-22 DE DE19716662A patent/DE19716662C2/de not_active Expired - Fee Related
- 1997-04-23 CN CN97110792A patent/CN1087463C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1997-04-23 CN CNB021199361A patent/CN1221946C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1997-04-23 KR KR1019970015058A patent/KR100284226B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1999
- 1999-09-01 US US09/388,391 patent/US6243233B1/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6754043B2 (en) | 1997-12-26 | 2004-06-22 | Fujitsu Limited | Head slider |
| US6301079B1 (en) | 1998-02-23 | 2001-10-09 | Fujitsu Limited | Flying head slider having a splay formed on a flying surface enabling a lower flying height while avoiding collision with a surface of a recording disk |
| US7385786B2 (en) | 1998-04-28 | 2008-06-10 | Hitachi Global Storage Technologies Japan, Ltd. | Magnetic head slider and a magnetic disk device in which the slider is mounted |
| US6351346B2 (en) | 1998-07-08 | 2002-02-26 | Fujitsu Limited | Head slider |
| KR100334746B1 (ko) * | 1998-07-08 | 2002-05-04 | 아끼구사 나오유끼 | 헤드 슬라이더 및 디스크 장치 |
| US6396663B1 (en) | 1999-03-15 | 2002-05-28 | Fujitsu Limited | Head slider and recording disk drive |
| US6477013B1 (en) | 2000-11-09 | 2002-11-05 | International Business Machines Corporation | Slider air bearing design and method providing writing of a laser field (WOLF) measurement without substantial fly height affect |
| JP2010152991A (ja) * | 2008-12-25 | 2010-07-08 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv | 磁気ヘッドスライダ、磁気ヘッドスライダを搭載した磁気ディスク装置、および磁気ヘッドスライダの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE19716662A1 (de) | 1997-11-06 |
| JP3426082B2 (ja) | 2003-07-14 |
| DE19716662C2 (de) | 2000-02-17 |
| CN1438627A (zh) | 2003-08-27 |
| US6040958A (en) | 2000-03-21 |
| CN1221946C (zh) | 2005-10-05 |
| CN1170191A (zh) | 1998-01-14 |
| KR100284226B1 (ko) | 2001-03-02 |
| CN1087463C (zh) | 2002-07-10 |
| US6243233B1 (en) | 2001-06-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3426082B2 (ja) | 磁気ヘッド用スライダ及び磁気ディスク装置 | |
| KR0145029B1 (ko) | 자기 기록 디스크 드라이브 및 변환기 조립체 | |
| JP4312837B2 (ja) | ディスク記憶システムのためのスライダ | |
| US6956718B1 (en) | Sandwich diamond-like carbon overcoat for use in slider designs of proximity recording heads | |
| US6466410B2 (en) | Slider for a data storage device with head disc interface for contact starts and stops (“CSS”) | |
| JP3787090B2 (ja) | スティクションを低減させる凹状、溝状のレールを有するディスク・ヘッド・スライダ | |
| US6144528A (en) | Air bearing slider with reduced stiction | |
| US5991118A (en) | Slider for magnetic head and magnetic memory apparatus | |
| US6462909B1 (en) | Disc head slider having wear-resistant pads for enhanced damping | |
| US6304418B1 (en) | Enhanced durability ultra-low-flying-height sliders | |
| US20020089790A1 (en) | Self-flushing trench air bearing for improved slider flyability | |
| US6525909B1 (en) | Disc head slider having deeply recessed corners | |
| US5721650A (en) | Self-loading disc head slider having blunt cross rail | |
| KR20030091958A (ko) | 공기 베어링 슬라이더 | |
| US5561570A (en) | Dynamically loaded suspension for contact recording | |
| US7643251B1 (en) | Slider having fast take-off fluid bearing surface | |
| US6424495B1 (en) | Flying head slider and recording disk drive employing the same | |
| US6608735B1 (en) | Asymmetric tapered air bearing slider | |
| JPH09265750A (ja) | スライダ及びその形成方法並びにシステム | |
| US20020089788A1 (en) | Storage system slider having trailing edge pad and method for making the same | |
| US5910865A (en) | Slider having terminated side rails with trailing edge cuts | |
| CN1139806A (zh) | 磁盘装置用的磁头支撑装置 | |
| JP3255157B2 (ja) | 磁気ヘッドスライダ及びその製造方法 | |
| JPH1125629A (ja) | 磁気ヘッドスライダ及び磁気ディスク記録装置 | |
| JP2000090617A (ja) | 磁気ヘッドスライダ |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20030422 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080509 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090509 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090509 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100509 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100509 Year of fee payment: 7 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100509 Year of fee payment: 7 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100509 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110509 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110509 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120509 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120509 Year of fee payment: 9 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120509 Year of fee payment: 9 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120509 Year of fee payment: 9 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120509 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130509 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130509 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140509 Year of fee payment: 11 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |