DE3601848C2

DE3601848C2 -

Info

Publication number: DE3601848C2
Application number: DE3601848A
Authority: DE
Inventors: Yasutaka Sagamihara Kanagawa Jp Fukuda; Shigeo Shimizu; Atsushi Yokohama Kanagawa Jp Nakano
Original assignee: Victor Company of Japan Ltd
Current assignee: Victor Company of Japan Ltd
Priority date: 1985-01-22
Filing date: 1986-01-22
Publication date: 1990-08-30
Also published as: DE3601848A1; US4698251A

Description

Die Erfindung bezieht sich auf ein magnetisches Aufzeich nungsmedium sowie auf ein Verfahren zu dessen Herstel lung der in den Oberbegriffen der Patentansprüche 1 und 9 genannten Art.

Magnetplatten, die bei Computer-Peripheriegeräten zu Datenspeicherungszwecken einsetzbar sind, sind in zwei Klassen unterteilbar, d. h. in einen Beschichtungstyp, bei dem eine Magnetschicht auf einem nicht-magnetischen Substrat aufgebracht ist, und einem Plattierungstyp, bei dem eine Magnetschicht mittels einer Naßverfahren- oder Trockenverfahren-Plattierungseinrichtung abgelagert ist. Eine magnetische Platte vom Beschichtungs- oder Plattierungstyp hat eine systembedingte hohe magnetische Packungsdichte für das magnetische Material und ist aus diesem Grund für eine Aufzeichnung mit hoher Dichte geeignet, da die Magnetschicht nicht unter Verwendung eines Bindemittels gebildet wird, sondern mittels einer Beschichtungs- oder Plattierungseinrichtung durch Ablagern einer magnetischen Legierung auf Kobalt-Basis oder mit einer ähnlichen Zusammensetzung auf einem nicht-magnetischen Substrat gebildet wird. Jedoch besteht ein noch ungelöstes Problem bei einer derartigen Magnetplatte vom Plattierungstyp oder Beschichtungstyp darin, daß das Wiedergabeausgangssignal, die Auflösung und andere mit der Platte erzielbare Faktoren begrenzt sind, da die leicht magnetisierbare Richtung innerhalb der durch Beschichtung oder Plattierung aufgebrachten Magnetschicht isotrop ist oder da diese in der radialen Richtung der Platte ausgerichtet ist.

Ein Aufzeichnungmedium sowie ein Verfahren zu seiner Herstellung der in den Oberbegriffen der Patentansprüche 1 und 9 genannten Art sind aus der DE-OS 22 20 544 be kannt.

Darüber hinaus ist es aus der DE-OS 33 32 474 bekannt, die obere Fläche der ersten und auf der oberen Fläche des nicht-magnetischen Substrates aufgebrachten dünnen nicht-magnetischen Schicht zu polieren, um evtl. Unregel mäßigkeiten dieser Oberfläche zu beseitigen.

Dieser Stand der Technik entspricht dabei dem auch in der Beispielsbeschreibung angegebenen Stand der Technik, bei dem eine spiegelglatt bearbeitete Vergleichsmagnetscheibe zu Vergleichsmessungen mit der erfindungsgemäßen Magnet scheibe herangezogen wird.

Aufgabe der Erfindung ist es, ein magnetisches Aufzeich nungsmedium sowie ein Verfahren zu seiner Herstellung der in den Oberbegriffen der Patentansprüche 1 und 9 genann ten Art so weiterzubilden, daß eine magnetische Aufzeich nung hoher Dichte mit einem entsprechend verbesserten Wiedergabeausgangssignal erreicht wird.

Bei einem Aufzeichnungsmedium sowie einem Verfahren zu seiner Herstellung der genannten Art ist diese Aufgabe durch die in den kennzeichnenden Teilen der Patentan sprüche 1 und 9 angegebenen Merkmale gelöst.

Das erfindungsgemäße Aufzeichnungsmedium sowie das zu seiner Herstellung benutzte Verfahren zeichnen sich dadurch aus, daß unterhalb der Magnetschicht auf der Oberfläche des mit einer dünnen nicht-magnetischen Schicht versehenen Substrates Kratzer-Markierungen bestimmter Tiefe und bestimmten radialen Abstandes zueinander in einer solchen Richtung aufgebracht werden, daß diese Markierungen im wesentlichen längs der Aufzeichnungs- und Wiedergabebewegungsrichtung eines Tonkopfes verlaufen. Durch diese Kratzer-Markierungen wird die Aufzeichnungsdichte auf dem Aufzeichnungsmedium und das Wiedergabe-Ausgangssignal verbessert.

Ausgestaltungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen angegeben.

Nachfolgend werden bevorzugte Ausführungsformen der vor liegenden Erfindung unter Bezugnahme auf die beiliegenden Zeichnungen näher beschrieben. Es zeigen:

Fig. 1A eine Draufsicht auf ein magnetisches Aufzeich nungsmedium in Form einer Scheibe, die eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ver körpert, und die mit Kratzern versehen ist;

Fig. 1B eine Querschnitts-Seitenansicht der in Fig. 1A gezeigten Magnetscheibe;

Fig. 2A bis 2D Querschnitte durch die Magnetscheibe bei einer Reihe von Verfahrensschritten zum Herstellen der Magnetscheibe nach der Fig. 1A und 1B;

Fig. 3A und 3B perspektivische Darstellungen jeweils einer speziellen Technik, die verwendet werden kann, um das magnetische Aufzeichnungsmedium gemäß der Erfindung mit Kratzern zu versehen;

Fig. 4A eine Draufsicht auf ein magnetisches Aufzeich nungsmedium in Form einer Scheibe nach einer anderen Ausführungsform gemäß der vorliegenden Erfindung;

Fig. 4B Querschnitts-Seitenansicht der in Fig. 4A gezeigten magnetischen Scheibe;

Fig. 5A bis 5D Querschnitte durch die magnetische Platte zum Darstellen einer Reihe von Herstellungsschritten für die in den Fig. 4A und 4B gezeigte Magnet platte; und

Fig. 6 und 7 Darstellungen von Charakteristika, die der Magnetplatte nach den Fig. 4A und 4B zu eigen sind.

Die Kratzer, die auf dem nicht-magnetischen Substrat vor gesehen sind, sind sehr klein. Die Kratzer-Markierungen - im weiteren nur noch Kratzer genannt - haben eine Tiefe von etwa 0,002 bis 0,1 µm bezüglich der mittleren Rauhig keit der Mittellinie. Der Abstand zwischen benachbarten Kratzern in der radialen Richtung der Scheibe liegt vor zugsweise unterhalb von 50 µm, wobei bevorzugt ein Be reich von 0,1 bis 10 µm ist. Wenn die mittlere Rauhigkeit der Mittellinie erheblich unter 0,02 µm liegt, wird der Orientierungseffekt nur noch schwach. Sollte dieses Maß oberhalb von 0,1 µm liegen, würde ein stabiles Schweben des Wiedergabekopfes nicht möglich sein, was zu einer Kopfzerstörung oder anderen Zwischenfällen führen kann. Unterdessen beschränkt ein Abstand der Kratzer von mehr als 50 µm ebenfalls den erzielbaren Orientierungseffekt. Eine Herstellung der Kratzer-Markierungen wird beispiels weise erzielt, indem ein Schleifmittel, wie beispielswei se Politurpartikel auf der Oberfläche des nicht-magnetischen Substrates aufgebracht werden, worauf hin anschließend das Substrat gedreht wird. Eine Magnet schicht wird auf die auf diese Weise verkratze Fläche des Substrates mittels magnetischer Partikel aufgebracht, um die Magnetscheibe zu vervollständigen, die das magne tische Aufzeichnungsmedium bildet.

Bevorzugte Ausführungsformen des magnetischen Aufzeich nungsmediums sowie des Verfahrens zum Herstellen dessel ben werden nachfolgend detailliert unter Bezugnahme auf die beiliegenden Zeichnungen erläutert.

Zunächst wird eine Trockenverfahren-Plattierungstyp- oder Beschichtungstyp-Ausführungsform näher beschrieben, bei der eine Magnetschicht auf einem nicht-magnetischen Substrat mittels eines Trockenverfahren-Plattierens oder -Beschichtens aufgebracht wird.

In Fig. 1A ist eine Magnetscheibe 10, die Kratzer auf der Oberfläche aufweist, in Draufsicht dargestellt. Die ver kratzte Scheibe 10 ist in einer Querschnittsdarstellung in Fig. 1B gezeigt. Wie gezeigt ist, enthält die Magnet scheibe 10 ein Aluminium-Substrat 12 mit Kratzern 14, die sich im wesentlichen längs der Umfangsrichtung der Schei be 10 erstrecken, d. h. längs der Richtung des Datenlesens durch einen Wiedergabekopf, eine Chrom-Schicht 16, die auf dem Substrat oberhalb der Kratzer 14 aufgebracht ist, und eine Kobalt-Nickel-Schicht 18, die auf die Chrom-Schicht 16 aufgebracht ist. Das Aluminium-Substrat 12 dient als nicht-magnetisches Substrat. Die Kobalt-Nickel-Schicht 18 dient als magnetische Schicht. Das Substrat 12 ist etwa 1,9 mm dick und mit einer Nickel-Phosphor-Plattierung versehen. Bei dem speziellen Ausführungsbeispiel ist der Abstand p der Kratzer 14 in der Größenordnung von 1 µm.

Die Fig. 2A bis 2D zeigen ein Verfahren zum Herstellen der magnetischen Scheibe 10 gemäß dieses speziellen Aus führungsbeispiels. Wie in Fig. 2A gezeigt ist, beginnt das Verfahren mit dem Herrichten eines im wesentlichen 1,9 mm dicken Aluminium-Substrats oder einer Aluminium-Platte 12 mit einer Nickel-Phosphor-Plattierungsschicht. Wie in Fig. 2B ge zeigt ist, wird die obenerwähnte Poliereinrichtung ver wendet, um Kratzer 14 auf der Oberfläche des Substrats 12 derart auszubilden, daß sich die Kratzer 14 im wesentli chen längs der Umfangsrichtung des Substrats 12 erstrek ken, d. h. längs der Datenleserichtung eines Wiedergabe kopfes.

Die Poliereinrichtung kann ein Polierband, wie es in Fig. 3A gezeigt ist, enthalten, sowie freie Politurpartikel und einen in Fig. 3B gezeigten Politurstoff. Wie insbe sondere in Fig. 3A gezeigt ist, wird ein Polierband 20, das in der durch einen Pfeil b angegebenen Richtung mit tels einer Rolle 22 beweglich ist, in Kontakt mit der Oberfläche des Substrates 12 durch das Gewicht der Rolle 22 gebracht, wobei das Substrat 12 in der durch den Pfeil a angegebenen Richtung gedreht wird. Daraufhin wird das Band 20 und die Rolle 22 von der Außenkante zu der Mitte des Substrats 12 oder in der umgekehrten Richtung ge führt, wie es durch den Doppelpfeil c dargestellt ist, wodurch Kratzer 14 auf dem Substrat 12 gebildet werden. Hier sind die Tiefe und der Abstand p sowie weitere Kenn größen der Kratzer 14 dadurch veränderlich, daß das Ge wicht der Rolle 22, die Teilchengröße der auf dem Band 20 vorgesehenen Polierpartikel und die radiale Führungsge schwindigkeit des Bandes 20 und 22 eingestellt werden. Gemäß Fig. 3B wird andererseits eine Drehscheibe 24, de ren Unterseite mit einem Poliermittel bedeckt ist, an stelle des Bandes 20 und der Rolle 22 gem. Fig. 3A ver wendet. Die Scheibe 24 dreht sich in der durch den Pfeil d angegebenen Richtung und berührt aufgrund der Schwer kraftwirkung die Oberfläche des Substrats 12 mit den freien Polierpartikeln 28, die von oben über eine Röhre 29 auf die Oberfläche des Substrats 12 aufgebracht wer den, das sich in der durch den Pfeil a angegebenen Rich tung dreht. Unter diesen Bedingungen wird die Scheibe 24 radial auf dem Substrat 12 von der Außenkante zur Mitte des Substrates oder in der umgekehrten Richtung bewegt, wie es durch den Pfeil c dargestellt ist, so daß Kratzer 14 auf dem Substrat 12 ausgebildet werden. Wiederum wer den die Tiefe, die Abstände p und weitere Kenngrößen der Kratzer 14 wunschgemäß dadurch verändert, daß das Gesamt gewicht der Scheibe 24 und des Politurstoffes 26, die Partikelgröße der Politurpartikel 28 und die radiale Führungsgeschwindigkeit der Scheibe 24 sowie die Menge der zugeführten Partikel 28 eingestellt werden.

Das Aluminiumsubstrat 12 mit den Kratzern 14 wird in ein an sich bekanntes Zerstäubungsgerät eingebracht, um die nicht-magnetische Chrom-Schicht 16 mit einer Dicke von ungefähr 0,4 µm bei vorbestimmten Zerstäubungsbedin gungen auszubilden, wie es in Fig. 2C gezeigt ist. Da raufhin wird die magnetische Kobalt-Nickel-Schicht 18 auf der Oberseite der Chrom-Schicht 16 mit einer Dicke von ungefähr 0,06 µm aufgebracht, wie es in Fig. 2D gezeigt ist. Dies beendet die Herstellung der Magnetscheibe 10.

Bei dem speziellen Ausführungsbeispiel stellt die Ober flächenrauhigkeit der Oberfläche des Aluminiumsubstrats 12, d. h. die mittlere Rauhigkeit der Mittenlinie R _a die Tiefe der Kratzer 14 dar. Die Zerstäubungsbedingungen für die Chrom-Schicht 16 seien 2,7×10^-³ mbar bezüglich des Argon-Gasdruckes. Unter diesen Bedingungen wurden Experi mente ausgeführt, bei denen die Magnetscheibe 10 mit Tie fen R _a von 0,0029 µm bis ungefähr 0,043 µm verwendet wur de, um folgende Größen zu messen: Die Wiedergabe-Ausgangssignale (OUT), die Auflösung (RESOL), die Halbbreiten von isoliert wiedergegebenen Signalver läufen (W₅₀), die C/N-Verhältnisse (C/N), die den halben Ausgangssignalen zugeordneten Frequenzen (D₅₀), die Ko erzitivkraft (Hc) und das Rauschen (NS) (Spitzenwerte mit einer Frequenz von etwa 1,5 MHz, die sich aus einem 5-MHz-Aufzeichnungssignal ergibt. Die Ergebnisse dieser Messungen sind nachfolgend in Tabelle 1 dargestellt.

Tabelle 1

Zusätzlich wurden Magnetscheiben 10 mit Chrom-Schichten bei einem Druck von 6,7×10^-³ mbar bezüglich des Argon-Gasdruckes hergestellt und bezüglich der Wiedergabeausgangssignale, der Auflösungen, des Wertes W₅₀, des Verhältnisses C _N, des Wertes D₅₀, der Koerzitiv kraft und des Rausches vermessen, wie unten in Tabelle 2 angegeben ist, bezüglich der Tiefe R _a in dem Bereich von 0,0036 µm bis ungefähr 0,0419 µm.

Tabelle 2

Wenn man die Tabelle 1 und 2 vergleicht, erkennt man, daß die Magnetscheiben 10, die jeweils eine Magnetschicht 18 auf dem Aluminium-Substrat 12 haben, welche Kratzer 14 längs der Umfangsrichtung aufweisen, d. h. längs der Da tenleserichtung eines Wiedergabekopfes, eine beispiellos hohe Koerzitivfeldstärke Hc, ein hohes Ausgangssignal, eine hohe Auflösung, ein wünschenswertes Verhalten bezüg lich des Wertes W₅₀, und gute C/N-Verhältnisse und gutes Rauschen aufweisen. Dies bedeutet, daß eine Scheibe, auf der im Trockenverfahren eine Magnetschicht auf eine Fläche eines Substrates aufgebracht ist, das längs der Datenleserichtung eines Wiedergabekopfes verkratzt ist, bei dem Ausführungsbeispiel ein verbessertes Wiedergabe ausgangssignal hat. Da die Kratzer im wesentlichen paral lel zu der Datenleserichtung eines Wiedergabekopfes ver laufen, tragen die Kratzer geringfügig zu der Erzeugung eines magnetischen Leckfeldes bei, so daß sich das Gleichstrom-Löschrauschen erhöht. Darüber hinaus ist die Fluktuation des Ausgangssignals vernachlässigbar, da die Kratzer im wesentlichen konstante Abmessungen und Aus richtungen haben.

Nachfolgend wird ein Ausführungsbeispiel der Magnetschei ben beschrieben, die mittels einer Naßverfahren-Plattie rungs- oder Beschichtungsvorrichtung hergestellt werden.

Bezugnehmend auf die Fig. 4A hat ein nicht-magnetisches Substrat eine verkratzte Oberfläche, wie es in der Drauf sicht gezeigt ist. Das Substrat gemäß Fig. 4A ist in einer Querschnittsdarstellung in Fig. 4B gezeigt. Eine Magnetscheibe 30 nach diesem speziellen Ausführungsbei spiel besteht aus einem ungefähr 1,9 mm dicken Aluminium substrat 32, einer dünnen nicht-magnetischen Nickel-Phosphor-Schicht 34, die auf der Oberfläche des Substrats 32 beispielsweise in einer Dicke von 10 bis 20 µm mittels einer nicht-galvanischen Plattierungsvorrich tung oder Beschichtungsvorrichtung aufgebracht ist, und eine ungefähr 0,06 µm dicke Kobalt-Phosphor-Magnetschicht 38, die auf der Oberfläche der Nickel-Phosphor-Schicht 34 abgelagert ist. Die Nickel-Phosphor-Schicht 34 hat Kratzer 36 auf ihrer Oberfläche, die sich im wesentlichen längs des Umfangs der Scheibe 30 erstrecken, d. h. längs der Datenleserichtung eines Wiedergabekopfes. Erneut dient das Aluminiumsubstrat 32 als nicht-magnetisches Substat. Bei dem gezeigten Ausführungsbeispiel beträgt die Tiefe der Kratzer 36 ungefähr 0,007 µm bis ungefähr 0,04 µm bezüglich der mittleren Rauhigkeit der Mitten linie R _a, während der Abstand der Kratzer 36 ungefähr 1 µm beträgt.

Bezugnehmend auf die Fig. 5A bis 5D ist eine Folge von Verfahrensschritten beim Herstellen der Magnetscheibe 30 dargestellt. Wie in Fig. 5A gezeigt ist, wird das Aluminium-Substrat 32, das ungefähr 1,9 mm dick ist, als nicht-magnetisches Substrat vorbereitet. Daraufhin wird, wie in Fig. 5B dargestellt ist, die dünne Nickel-Phosphor-Schicht 34 auf der Oberfläche des Sub strates 32 mit einer Dicke von 10 bis 20 µm unter Verwen dung einer nicht-galvanischen Plattierungsvorrichtung oder Beschichtungsvorrichtung aufgebracht. Diesem Verfah rensschritt folgt, wie in Fig. 5C gezeigt ist, das Ver kratzen der Oberfläche der Nickel-Phosphor-Schicht 34 in der Weise, daß die Kratzer 36 im wesentlichen längs des Umfangs des Substrats 32 verlaufen, d. h. längs der Daten leserichtung des Wiedergabekopfes. Bei dem Verfahrens schritt des Verkratzens kann eine Poliervorrichtung ver wendet werden, wie sie in den Fig. 3A oder 3B gezeigt ist. Letztlich wird, wie in Fig. 5D gezeigt ist, eine Kobalt-Phosphor-Magnetschicht 38 auf die Oberfläche der verkratzten Nickel-Phosphor-Schicht 34 mittels eines an sich bekannten, nicht gezeigten Naßverfahren-Plattierungsgerätes oder Naßverfahren-Beschichtungsgerätes aufgebracht. Das Naßverfahren-Plattierungsgerät arbeitet mit folgendem Zu stand des Bades:

CoSO₄ · 7H₂O
0,05 mol/l
NaH₂PO₂ · H₂O	0,15 mol/l
(NH₄)₂SO₄	0,50 mol/l PH 8,0
Na₂C₄H₄O₆ · H₂O	0,50 mol/l 7°C

Zwei verschiedene Arten von Magnetscheiben wurden mittels verschiedener Methoden und unter verschiedenen Zuständen oder Bedingungen bezüglich jener hergestellt, die bei der Scheibe 50 des beschriebenen Ausführungsbeispiels herrschten. Insbesondere weist eine Vergleichsmagnet scheibe A eine kratzerfreie nicht-magnetische dünne Schicht aus Nickel-Phosphor auf, die spiegelglatt bear beitet wurde, wobei sich die Polierrichtung nach einem Zufallsgesetzt ändert, mit etwa 0,003 µm mittlerer Rauhig keit der Mittenlinie Ra und mit einer magnetischen Kobalt-Phosphor-Schicht, die unter Verwendung einer Naßverfahren-Plattierungsvorrichtung wie bei dem bevor zugten Ausführunsbeispiel aufgebracht ist. Eine weitere Vergleichsmagnetscheibe B hat andererseits eine dünne nicht-magnetische Nickel-Phosphor-Schicht, die nicht längs der Umfangsrichtung verkratzt ist, sondern in iso troper, zufälliger Weise (Ra: von 0,007 bis 0,02 µm), und eine magnetische Kobalt-Phosphor-Schicht, die auf der Nickel-Phosphor-Schicht unter Verwendung einer Naßverfahren-Plattierungsvorrichtung wie bei dem gezeig ten Ausführungsbeispiel aufgebracht ist.

Die magnetische Scheibe A wurde mit der Magnetscheibe 30 des gezeigten Ausführungsbeispiels (Ra sei in der Größen ordnung von 0,015 µm) bezüglich der Frequenzcharakte ristika der wiedergegebenen Ausgangssignal verglichen, wobei ein Mn-Zn-Ferritmagnetkopf mit einer Spaltlänge von 1,2 µm und einer Spurbreite von 50 µm verwendet wird. Die Ergebnisse sind in Fig. 6 dargestellt, in der Kreise die jenigen Daten darstellen, die dem beschriebenen Ausfüh rungsbeispiel zugeordnet sind, und Punkte diejenigen dar stellen, die der Scheibe A zugordnet sind. Die Darstel lung zeigt, daß die Scheibe 30 dieses speziellen Ausfüh rungsbeispiels eine höhere Wiedergabeausgangsspannung als die Scheibe A aufweist. Damit ist bewiesen, daß die Scheibe mit einer Magnetschicht, die auf einer in der Da tenwiedergaberichtung des Wiedergabekopfes verkratzen Oberflächen aufgebracht ist, unvergleichbar hohe Ausgangs signale liefert.

Die Scheibe 30 nach dem Ausführungsbeispiel und die Scheiben A und B, die zu Vergleichszwecken hergestellt worden sind, werden ferner bezüglich des Gleichstrom-Löschrauschens verglichen, wie es in Fig. 7 gezeigt ist. In der Fig. 7 sind Kreise dem Ausführungs beispiel zugeordnet, Punkte der Scheibe A und Kreuze der Scheibe B zugeordnet. Man sieht, daß die Scheibe 30 nach dem Ausführungsbeispiel nicht zu irgendeinem Ansteigen des Gleichstrom-Löschrauschens führt, obwohl Kratzer vor handen sind, vermutlich weil die Kratzer sich in der Da tenleserichtung der Tonköpfe erstrecken. Im Gegensatz hierzu ist das Gleichstrom-Löschrauschen bei der Scheibe B aufgrund der Verkratzungen deutlich erhöht.

Die Scheibe 30 nach dem Ausführungsbeispiel, deren Tiefe R _a bei ungefähr 0,015 µm liegt, wurde unter Verwendung eines maximalen Magnetfeldes von 795,775 KA/m und unter Verwen dung eines VSM zum Bestimmen der magnetostatischen Cha rakteristika getestet. Bei Anlegen des Magnetfeldes in der Umfangsrichtung wurde eine Koerzitivkraft von 55,704 KA/m mit Rs=0,80 und S*=0,90 gemessen. Bei Anlegen des Feldes in der radialen Richtung beträgt die Koerzi tivfeldstärke 51,725 KA/m bei Rs=0,65 und S*=0,80. Dies zeigt, daß sich die weichmagnetische Achse in der Umfangsrichtung der Scheibe erstreckt.

Zusätzlich hat die Scheibe 30 nach dem gezeigten Ausfüh rungsbeispiel eine im wesentlichen konstante Ausrichtung aufgrund der im wesentlichen konstanten Abmessungen der Kratzer, wodurch minimale Ausgangsdriften erreicht wer den.

Zusammengefaßt sieht man, daß jedes Ausführungsbeispiel des Aufzeichnungsmediums eine hoch-dichte Aufzeichnung ermöglicht, wodurch das Wiedergabeausgangssignal verbes sert und das Gleichstrom-Löschrauschen vermindert wird.

Claims

1. Magnetisches Aufzeichnungsmedium, auf das Daten mit tels eines Tonkopfes aufgezeichnet und von dem Daten mit tels des Tonkopfes wiedergegeben werden können, mit
einem nicht-magnetischen Substrat (12; 32);
einer dünnen nicht-magnetischen Schicht (34), die auf dem Substrat (12; 32) derart vorgesehen ist, daß die untere Fläche der nicht-magnetischen Schicht in Kontakt mit der Oberfläche des Substrates steht, und
einer Magnetschicht (18; 38), die auf der oberen Fläche der nicht-magnetischen Schicht (34) aufgebracht ist,
dadurch gekennzeichnet, daß die obere Fläche der nicht-magnetischen Schicht (34) mit Kratzer-Markierung (14; 36) in vorbestimmten radialen Abständen zwischen 0,1 µm und 50 µm und mit einer vorbe stimmten Tiefe zwischen 0,002 µm und 0,1 µm versehen ist, die in einer Richtung verlaufen, die mit der Richtung im wesentlichen übereinstimmt, in der der Tonkopf die Daten liest.

2. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das nicht-magnetische Substrat (12; 32) aus einem 1,9 mm dicken Aluminiumsubstrat be steht.

3. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die nicht-magnetische, dünne Schicht (34) eine ungefähr 10 bis 20 µm dicke nicht-mag netische Nickel-Phosphor-Schicht ist.

4. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach einem der An sprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Kratzer-Markierungen (14; 36) einen Abstand zwischen 0,1 µm und 10 µm haben.

5. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Magnetschicht (18; 38) eine ungefähr 0,06 µm dicke magnetische Kobalt-Phosphor-Schicht ist.

6. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach einem der An sprüche 1 bis 5, gekennzeichet durch eine zweite dünne nicht-magnetische Schicht (16), die zwischen der dünnen, nicht-magnetischen Schicht (34) und der Magnetschicht (18) liegt.

7. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die zweite dünne nicht-magnetische Schicht (16) eine ungefähr 0,4 µm dicke Chrom-Dünnschicht ist.

8. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Magnetschicht (18) eine ungefähr 0,06 µm dicke magnetische Kobalt-Nickel-Schicht ist.

9. Verfahren zum Herstellen eines magnetischen Aufzeich nungsmediums gemäß dem PA1 mit folgenden Verfah rensschritten:

(a) Vorbereiten eines nicht-magnetischen Substrates (12; 32), auf dem vorab eine dünne nicht-magnetische Schicht (34) durch Plattieren oder Beschichten auf gebracht wird, und
(b) Erzeugen einer Magnetschicht (18; 38) auf der zwei ten dünnen nicht-magnetischen Schicht (34),

gekennzeichnet durch den weiteren, zwischen den Verfah rensschritten a) und b) ausgeführten Verfahrensschritt

(c) Erzeugen von Kratzer-Markierungen (14; 36) auf der oberen Fläche der dünnen, nicht-magnetischen Schicht (34) des nicht-magnetischen Substrats (12; 32) mit tels einer Poliervorrichtung, wobei die Kratzer- Markierung (14; 36) in vorbestimmten radialen Ab ständen zwischen 0,1 µm und 50 µm und mit einer vorbe stimmten Tiefe zwischen 0,002 und 0,1 µm in einer Richtung verlaufen, die mit der Richtung im wesent lichen übereinstimmt, in der der Kopf die Daten liest.

10. Verfahren nach Anspruch 9, gekennzeichnet durch den zusätzlichen Verfahrensschritt:

(d) Erzeugen einer zweiten dünnen nicht-magnetischen Schicht (16) auf der die Kratzer-Markierungen tra genden dünnen nicht-magnetischen Schicht (34).

11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Politurvorrichtung eine Polierpartikelzuführeinrichtung (20; 29) und eine Polierpartikelandruckeinrichtung (22; 24; 26) zum Audrük ken der Polierpartikel (28) gegen die Oberfläche auf weist, welche durch die Zuführvorrichtungen auf die Ober fläche der dünnen, nicht-magnetischen Schicht (34) aufge bracht werden, wobei die Andruckvorrichtung in einer vor bestimmten Richtung auf der Oberfläche der nicht-magne tischen dünnen Schicht bewegbar ist.

12. Verfahren nach Anspruch 11, bei dem die Polierpartikelzuführvorrichtung ein Polierband (20) auf weist, auf dem die Polierpartikel angeordnet sind, und eine drehbare Rolle (22) aufweist, um das Band derart an zutreiben, daß sich das Band (20) in der vorbestimmten Richtung bewegt.

13. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß der Verfahrensschritt (c) folgende Teilverfahrens schritte enthält:

(e) Andrücken der Rolle (22) gegen die Oberfläche der dünnen, nicht-magnetischen Schicht (34) mit einer vorbestimmten Last, und
(f) Führen der Rolle in Querrichtung mit einer vorbe stimmten Geschwindigkeit in einer Richtung, die im wesentlichen die vorbestimmte Richtung schneidet.

14. Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß die Polierpartikelzuführvorrichtung eine Röhre (29) zum Zuführen der Partikel (28), ein Po liertuch (26) zum Andrücken der zugeführten Partikel ge gen die dünne nicht-magnetische Schicht (34) und eine drehbare Scheibe (24) aufweist, auf der das Poliertuch (26) an der Unterseite der Scheibe angebracht ist, und die in der Weise angetrieben wird, daß sich das Polier tuch (26) in der vorbestimmten Richtung bewegt.

15. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß der Verfahrensschritt (c) folgende Teilverfahrens schritte aufweist:

(e) Andrücken der drehbaren Scheibe (24) gegen die Oberfläche der dünnen nicht-magnetischen Schicht (34) mit einer vorbestimmten Last und
(f) Führen der drehbaren Scheibe (24) in einer Quer richtung mit einer vorbestimmten Geschwindigkeit, wobei die Querrichtung im wesentlichen die vor bestimmte Richtung schneidet.

16. Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 15, dadurch gekennzeichnet, daß die dünne nicht-magnetische Schicht (34) auf der Oberflä che des Substrates (12; 32) durch nicht-galvanisches Plattieren aufgebracht wird und die Magnetschicht (18; 38) durch Naß-Plattieren aufge bracht wird.