DE19708776C1 - Entspiegelungsschicht sowie Verfahren zur Herstellung derselben - Google Patents

Entspiegelungsschicht sowie Verfahren zur Herstellung derselben

Info

Publication number
DE19708776C1
DE19708776C1 DE19708776A DE19708776A DE19708776C1 DE 19708776 C1 DE19708776 C1 DE 19708776C1 DE 19708776 A DE19708776 A DE 19708776A DE 19708776 A DE19708776 A DE 19708776A DE 19708776 C1 DE19708776 C1 DE 19708776C1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
structures
macro
layer
embossing
reflective coating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE19708776A
Other languages
German (de)
English (en)
Inventor
Andreas Dipl Ing Gombert
Hansjoerg Lerchenmueller
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fraunhofer Gesellschaft zur Foerderung der Angewandten Forschung eV
Original Assignee
Fraunhofer Gesellschaft zur Foerderung der Angewandten Forschung eV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fraunhofer Gesellschaft zur Foerderung der Angewandten Forschung eV filed Critical Fraunhofer Gesellschaft zur Foerderung der Angewandten Forschung eV
Priority to DE19708776A priority Critical patent/DE19708776C1/de
Priority to US09/355,871 priority patent/US6359735B1/en
Priority to AT98906800T priority patent/ATE296455T1/de
Priority to PCT/DE1998/000117 priority patent/WO1998039673A1/de
Priority to JP53803498A priority patent/JP2001517319A/ja
Priority to DE59812817T priority patent/DE59812817D1/de
Priority to EP98906800A priority patent/EP0965059B1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE19708776C1 publication Critical patent/DE19708776C1/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/118—Anti-reflection coatings having sub-optical wavelength surface structures designed to provide an enhanced transmittance, e.g. moth-eye structures
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24479—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including variation in thickness
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31—Surface property or characteristic of web, sheet or block
    • Y10T428/315—Surface modified glass [e.g., tempered, strengthened, etc.]

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
  • Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
DE19708776A 1997-03-04 1997-03-04 Entspiegelungsschicht sowie Verfahren zur Herstellung derselben Expired - Fee Related DE19708776C1 (de)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19708776A DE19708776C1 (de) 1997-03-04 1997-03-04 Entspiegelungsschicht sowie Verfahren zur Herstellung derselben
US09/355,871 US6359735B1 (en) 1997-03-04 1998-01-14 Antireflective coating and method of manufacturing same
AT98906800T ATE296455T1 (de) 1997-03-04 1998-01-14 Entspiegelungsschicht sowie verfahren zur herstellung derselben
PCT/DE1998/000117 WO1998039673A1 (de) 1997-03-04 1998-01-14 Entspiegelungsschicht sowie verfahren zur herstellung derselben
JP53803498A JP2001517319A (ja) 1997-03-04 1998-01-14 反射防止膜とその製法
DE59812817T DE59812817D1 (de) 1997-03-04 1998-01-14 Entspiegelungsschicht sowie verfahren zur herstellung derselben
EP98906800A EP0965059B1 (de) 1997-03-04 1998-01-14 Entspiegelungsschicht sowie verfahren zur herstellung derselben

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19708776A DE19708776C1 (de) 1997-03-04 1997-03-04 Entspiegelungsschicht sowie Verfahren zur Herstellung derselben

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE19708776C1 true DE19708776C1 (de) 1998-06-18

Family

ID=7822196

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19708776A Expired - Fee Related DE19708776C1 (de) 1997-03-04 1997-03-04 Entspiegelungsschicht sowie Verfahren zur Herstellung derselben
DE59812817T Expired - Lifetime DE59812817D1 (de) 1997-03-04 1998-01-14 Entspiegelungsschicht sowie verfahren zur herstellung derselben

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE59812817T Expired - Lifetime DE59812817D1 (de) 1997-03-04 1998-01-14 Entspiegelungsschicht sowie verfahren zur herstellung derselben

Country Status (6)

Country Link
US (1) US6359735B1 (enExample)
EP (1) EP0965059B1 (enExample)
JP (1) JP2001517319A (enExample)
AT (1) ATE296455T1 (enExample)
DE (2) DE19708776C1 (enExample)
WO (1) WO1998039673A1 (enExample)

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19845423A1 (de) * 1998-10-02 2000-04-13 Fraunhofer Ges Forschung Heißer Strahler
DE19813690A1 (de) * 1998-03-27 2000-05-04 Fresnel Optics Gmbh Optisch aktives Element und Verfahren zu seiner Herstellung
WO2002012927A2 (de) 2000-08-09 2002-02-14 Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Vefahren und vorrichtung zur herstellung einer optisch antireflektierenden oberfläche
DE10039208A1 (de) * 2000-08-10 2002-04-18 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren zur Herstellung eines Werkzeugs, das zur Schaffung optisch wirksamer Oberflächenstrukturen im sub-mum Bereich einsetzbar ist, sowie ein diesbezügliches Werkzeug
DE10318566A1 (de) * 2003-04-15 2004-11-25 Fresnel Optics Gmbh Verfahren und Werkzeug zur Herstellung transparenter optischer Elemente aus polymeren Werkstoffen
DE102004042983A1 (de) * 2004-09-01 2006-03-09 X3D Technologies Gmbh Anordnung zur dreidimensional wahrnehmbaren Darstellung
EP1857840A2 (en) 2006-05-15 2007-11-21 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Antireflection Structure and Optical Device Including the Same
EP1857839A2 (en) 2006-05-15 2007-11-21 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Antireflection Structure and Optical Device Including the Same
WO2009074688A1 (de) * 2007-12-12 2009-06-18 Boeck Klaus Abdeckfolie für silo
DE102008024678A1 (de) 2008-05-21 2009-11-26 Daimler Ag Lichtschacht mit reflexionshemmender Oberfläche und entsprechendes Herstellungsverfahren
USRE43694E1 (en) 2000-04-28 2012-10-02 Sharp Kabushiki Kaisha Stamping tool, casting mold and methods for structuring a surface of a work piece
DE102014201885A1 (de) * 2014-02-03 2015-08-06 Johnson Controls Automotive Electronics Gmbh Abdeckscheibe für mindestens ein Anzeigeinstrument in einem Fahrzeug
WO2016154647A1 (de) * 2015-04-02 2016-10-06 Zkw Group Gmbh Beleuchtungsvorrichtung
EP2423714A4 (en) * 2009-04-24 2018-05-02 Sharp Kabushiki Kaisha Antireflection film, method for manufacturing antireflection film, and display apparatus

Families Citing this family (106)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100843639B1 (ko) 1999-10-19 2008-07-07 롤리크 아게 위상 구조화 중합체 필름 또는 피막의 제조방법, 당해 방법으로부터 제조된 필름 또는 피막, 및 당해 필름 또는 피막을 포함하는 광학 제품
US6641767B2 (en) 2000-03-10 2003-11-04 3M Innovative Properties Company Methods for replication, replicated articles, and replication tools
US6627356B2 (en) * 2000-03-24 2003-09-30 Kabushiki Kaisha Toshiba Photomask used in manufacturing of semiconductor device, photomask blank, and method of applying light exposure to semiconductor wafer by using said photomask
DE10020877C1 (de) * 2000-04-28 2001-10-25 Alcove Surfaces Gmbh Prägewerkzeug, Verfahren zum Herstellen desselben, Verfahren zur Strukturierung einer Oberfläche eines Werkstücks und Verwendung einer anodisch oxidierten Oberflächenschicht
US7230764B2 (en) * 2000-08-18 2007-06-12 Reflexite Corporation Differentially-cured materials and process for forming same
US20040190102A1 (en) * 2000-08-18 2004-09-30 Mullen Patrick W. Differentially-cured materials and process for forming same
WO2002016106A2 (en) * 2000-08-18 2002-02-28 Reflexite Corporation Differentially cured materials and process for forming same
JP2002122702A (ja) * 2000-10-17 2002-04-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光学フィルム、及び表示素子
EP1412782A4 (en) * 2000-11-03 2006-02-15 Mems Optical Inc ANTI-REFLECTIVE STRUCTURES
US6627892B2 (en) * 2000-12-29 2003-09-30 Honeywell International Inc. Infrared detector packaged with improved antireflection element
HUP0400039A3 (en) * 2001-03-08 2004-10-28 Boehringer Ingelheim Ca Ltd Hcv polymerase inhibitor assay
GB0123744D0 (en) * 2001-10-03 2001-11-21 Qinetiq Ltd Coated optical components
US6958207B1 (en) 2002-12-07 2005-10-25 Niyaz Khusnatdinov Method for producing large area antireflective microtextured surfaces
US6888676B2 (en) * 2003-03-20 2005-05-03 Nokia Corporation Method of making polarizer and antireflection microstructure for mobile phone display and window
DE10318105B4 (de) * 2003-03-21 2007-09-20 Ovd Kinegram Ag Verfahren zur Herstellung von Mikrostrukturen
WO2004083911A1 (de) * 2003-03-21 2004-09-30 Ovd Kinegram Ag Mikrostruktur und verfahren zur herstellung von mikrostrukturen
JP2004303545A (ja) * 2003-03-31 2004-10-28 Toyota Industries Corp 面状発光デバイス及びその製造方法、このデバイスを備えた光学デバイス
JP4495722B2 (ja) * 2003-04-22 2010-07-07 オーファオデー キネグラム アーゲー ミクロ構造の作成方法
JP2006525553A (ja) * 2003-05-02 2006-11-09 リフレキサイト コーポレイション 光再配向光学構造
JP2005135899A (ja) * 2003-10-06 2005-05-26 Omron Corp 面光源装置及び表示装置
US7030506B2 (en) * 2003-10-15 2006-04-18 Infineon Technologies, Ag Mask and method for using the mask in lithographic processing
US7252869B2 (en) * 2003-10-30 2007-08-07 Niyaz Khusnatdinov Microtextured antireflective surfaces with reduced diffraction intensity
US7164514B2 (en) * 2003-11-14 2007-01-16 Dce Aprilis, Inc. Holographic data storage media with structured surfaces
CN100381904C (zh) * 2004-05-10 2008-04-16 辅祥实业股份有限公司 应用面函数控制的直下式背光源模组
CN1950724A (zh) * 2004-05-12 2007-04-18 松下电器产业株式会社 光学元件及其制造方法
KR100898470B1 (ko) 2004-12-03 2009-05-21 샤프 가부시키가이샤 반사 방지재, 광학 소자, 및 표시 장치 및 스탬퍼의 제조 방법 및 스탬퍼를 이용한 반사 방지재의 제조 방법
US7690814B2 (en) * 2005-03-10 2010-04-06 Honeywell International Inc. Luminaire with a one-sided diffuser
DE102005013974A1 (de) * 2005-03-26 2006-09-28 Krauss-Maffei Kunststofftechnik Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung mikro- bzw. nanostrukturierter Bauteile
US20060228892A1 (en) * 2005-04-06 2006-10-12 Lazaroff Dennis M Anti-reflective surface
US20070116934A1 (en) * 2005-11-22 2007-05-24 Miller Scott M Antireflective surfaces, methods of manufacture thereof and articles comprising the same
TW200746123A (en) * 2006-01-11 2007-12-16 Pentax Corp Optical element having anti-reflection coating
JP2007304466A (ja) * 2006-05-15 2007-11-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光吸収性反射防止構造体、それを備えた光学ユニット及びレンズ鏡筒ユニット、並びにそれらを備えた光学装置
US20090190225A1 (en) * 2006-06-30 2009-07-30 Kazuhiro Yamada Optical member and optical device including the optical member
US20080080056A1 (en) * 2006-08-29 2008-04-03 Micron Technology, Inc. Method and apparatus for reducing microlens surface reflection
CN102360092B (zh) * 2007-06-19 2014-05-07 阿尔卑斯电气株式会社 光学元件及其制造方法
JP4971061B2 (ja) * 2007-07-23 2012-07-11 東洋鋼鈑株式会社 光反射板及びその製造方法及び光反射装置
JPWO2009019839A1 (ja) 2007-08-09 2010-10-28 シャープ株式会社 液晶表示装置
JP5512269B2 (ja) * 2007-09-03 2014-06-04 パナソニック株式会社 反射防止構造体、光学ユニット及び光学装置
JP5201913B2 (ja) * 2007-09-03 2013-06-05 パナソニック株式会社 反射防止構造体及びそれを備えた光学装置
US20090071537A1 (en) * 2007-09-17 2009-03-19 Ozgur Yavuzcetin Index tuned antireflective coating using a nanostructured metamaterial
JP5157435B2 (ja) * 2007-12-28 2013-03-06 王子ホールディングス株式会社 凹凸パターンシートの製造方法、及び光学シートの製造方法
EP2091043A1 (en) * 2008-02-07 2009-08-19 DPHI, Inc. A method for examining an optical stamper
WO2009104414A1 (ja) 2008-02-22 2009-08-27 シャープ株式会社 表示装置
FI20080248L (fi) * 2008-03-28 2009-09-29 Savcor Face Group Oy Kemiallinen kaasupinnoite ja menetelmä kaasupinnoitteen muodostamiseksi
WO2009144970A1 (ja) * 2008-05-27 2009-12-03 シャープ株式会社 反射防止膜及び表示装置
RU2431161C1 (ru) * 2008-06-06 2011-10-10 Шарп Кабусики Кайся Антиотражающая пленка, оптический элемент, содержащий антиотражающую пленку, штамп, способ изготовления штампа и способ производства антиотражающей пленки
DE202008017478U1 (de) 2008-07-17 2009-09-17 Schott Ag Photovoltaik-Modul mit teilvorgespannter gläserner Abdeckscheibe mit Innengravur
JP5616009B2 (ja) * 2008-09-22 2014-10-29 アズビル株式会社 反射型光電センサおよび物体検出方法
JP2010078803A (ja) * 2008-09-25 2010-04-08 Canon Inc 光学素子及びそれを有する光学系
TW201023379A (en) * 2008-12-03 2010-06-16 Ind Tech Res Inst Light concentrating module
EP2377970B1 (en) 2008-12-26 2013-02-13 Sharp Kabushiki Kaisha Method for producing mold and method for producing anti-reflection film using mold
JP6174300B2 (ja) * 2008-12-30 2017-08-02 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 反射防止物品及びこれを作製する方法
CN102325719A (zh) 2008-12-30 2012-01-18 3M创新有限公司 纳米结构化制品和制备纳米结构化制品的方法
WO2010087139A1 (ja) 2009-01-30 2010-08-05 シャープ株式会社 型および型の製造方法ならびに型を用いた反射防止膜の製造方法
US8641884B2 (en) 2009-03-05 2014-02-04 Sharp Kabushiki Kaisha Mold manufacturing method and electrode structure for use therein
JP4648995B2 (ja) 2009-04-09 2011-03-09 シャープ株式会社 型およびその製造方法
US8545708B2 (en) 2009-04-30 2013-10-01 Sharp Kabushiki Kaisha Mold and manufacturing method therefor
RU2493574C1 (ru) 2009-06-12 2013-09-20 Шарп Кабусики Кайся Противоотражательная пленка, отображающее устройство и светопропускающий элемент
WO2011027746A1 (ja) 2009-09-04 2011-03-10 シャープ株式会社 陽極酸化層の形成方法、型の製造方法、反射防止膜の製造方法、型、および反射防止膜
US9127371B2 (en) 2009-10-09 2015-09-08 Sharp Kabushiki Kaisha Mold and production method for same, and anti-reflection film
US9416461B2 (en) 2009-10-14 2016-08-16 Sharp Kabushiki Kaisha Die and method for manufacturing die, and anti-reflection coating
US9366785B2 (en) 2009-10-28 2016-06-14 Sharp Kabushiki Kaisha Mold, method for manufacturing a mold, and antireflective film
ES2557883T3 (es) 2009-12-10 2016-01-29 Alcon Research, Ltd. Sonda quirúrgica láser multipunto que utiliza elementos ópticos facetados
EP2540469A1 (en) 2010-02-24 2013-01-02 Sharp Kabushiki Kaisha Die, die production method, and production of antireflection film
CN102791453B (zh) 2010-03-08 2014-08-06 夏普株式会社 脱模处理方法、模具、防反射膜的制造方法、脱模处理装置以及模具的清洗干燥装置
CN102791909B (zh) 2010-03-09 2015-05-20 夏普株式会社 阳极氧化层的形成方法、模具的制造方法以及防反射膜的制造方法
JP5027346B2 (ja) 2010-03-31 2012-09-19 シャープ株式会社 型および型の製造方法ならびに反射防止膜の製造方法
US9664819B2 (en) 2010-04-06 2017-05-30 Sharp Kabushiki Kaisha Optical element, and antireflective structure and process for production thereof
JP5027347B2 (ja) 2010-04-28 2012-09-19 シャープ株式会社 型および型の製造方法
WO2011136229A1 (ja) 2010-04-28 2011-11-03 シャープ株式会社 陽極酸化層の形成方法
CN102893140B (zh) 2010-05-19 2014-10-22 夏普株式会社 模具的检查方法
EP3093694A1 (en) * 2010-06-25 2016-11-16 Andrew Richard Parker Optical effect structures
US8524134B2 (en) 2010-07-12 2013-09-03 Graham J. Hubbard Method of molding polymeric materials to impart a desired texture thereto
KR101250450B1 (ko) * 2010-07-30 2013-04-08 광주과학기술원 마이크로 나노 조합구조의 제조방법 및 마이크로 나노 조합구조가 집적된 광소자의 제조방법
US8999133B2 (en) 2010-08-30 2015-04-07 Sharp Kabushiki Kaisha Method for forming anodized layer and mold production method
JP5595511B2 (ja) 2010-10-08 2014-09-24 シャープ株式会社 陽極酸化膜の製造方法
US9128220B2 (en) 2010-11-29 2015-09-08 Sharp Kabushiki Kaisha Light guide body with continuously variable refractive index, and devices using such body
CN102097535A (zh) * 2010-11-30 2011-06-15 中国科学院半导体研究所 用于太阳电池表面抗反射的蛾眼结构的制备方法
WO2012073820A1 (ja) 2010-11-30 2012-06-07 シャープ株式会社 電極構造、基材保持装置および陽極酸化層の形成方法
US9512535B2 (en) 2011-04-01 2016-12-06 Sharp Kabushiki Kaisha Mold production method
US20120268822A1 (en) * 2011-04-19 2012-10-25 Bee Khuan Jaslyn Law Antireflective hierarchical structures
WO2013099935A1 (ja) * 2011-12-27 2013-07-04 三菱レイヨン株式会社 スタンパとその製造方法、および成形体の製造方法
WO2013146656A1 (ja) 2012-03-26 2013-10-03 シャープ株式会社 離型処理方法および反射防止膜の製造方法
JP5797334B2 (ja) 2012-06-06 2015-10-21 シャープ株式会社 型基材、型基材の製造方法、型の製造方法および型
JP5488667B2 (ja) 2012-09-28 2014-05-14 大日本印刷株式会社 反射防止物品
JP5376029B1 (ja) 2012-09-28 2013-12-25 大日本印刷株式会社 反射防止物品
JP2016001201A (ja) * 2012-10-17 2016-01-07 旭硝子株式会社 反射防止性を有するガラスの製造方法
JP2013083997A (ja) * 2012-12-13 2013-05-09 Oji Holdings Corp 凹凸パターンシート、及び光学装置
US20140200566A1 (en) * 2013-01-15 2014-07-17 Alcon Research, Ltd. Multi-spot laser probe with micro-structured distal surface
JP6201684B2 (ja) * 2013-11-26 2017-09-27 凸版印刷株式会社 Ｅｌ素子、照明装置、ディスプレイ装置、及び液晶ディスプレイ装置
WO2015159797A1 (ja) 2014-04-14 2015-10-22 シャープ株式会社 型、型の製造方法、反射防止膜および反射防止膜の製造方法
JP6059695B2 (ja) * 2014-09-01 2017-01-11 デクセリアルズ株式会社 光学体の製造方法
JP6415590B2 (ja) 2014-11-06 2018-10-31 シャープ株式会社 型の製造方法および反射防止膜の製造方法
US10675788B2 (en) 2014-11-12 2020-06-09 Sharp Kabushiki Kaisha Method for producing mold
JP6689576B2 (ja) 2015-03-31 2020-04-28 デクセリアルズ株式会社 原盤の製造方法、原盤、及び光学体
JP6482120B2 (ja) * 2015-03-31 2019-03-13 デクセリアルズ株式会社 原盤の製造方法、光学体の製造方法、光学部材の製造方法、および表示装置の製造方法
US10967663B2 (en) 2015-12-28 2021-04-06 Sharp Kabushiki Kaisha Printing intaglio, printing intaglio manufacturing method, print-making method, and print
JP6737613B2 (ja) * 2016-03-25 2020-08-12 デクセリアルズ株式会社 光学体及び発光装置
CN109416416A (zh) 2016-11-21 2019-03-01 大冢科技株式会社 反射防止构造体、照相机单元、便携设备及反射防止构造体的制造方法
US11686881B2 (en) * 2017-10-20 2023-06-27 Ii-Vi Delaware, Inc. Partially etched reflection-modification layer
US11491672B2 (en) * 2018-09-21 2022-11-08 Dexerials Corporation Microfabrication device, microfabrication method, transfer mold, and transfer object
DE102018221189A1 (de) 2018-12-07 2020-06-10 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zum Bilden von Nanostrukturen an einer Oberfläche und optisches Element
CN110204981A (zh) * 2019-06-13 2019-09-06 天津市朗威柏丽科技有限公司 消光透明的防水涂料
JP6843400B1 (ja) 2019-10-18 2021-03-17 大塚テクノ株式会社 反射防止構造体
CN119409423A (zh) * 2023-02-24 2025-02-11 重庆鑫景特种玻璃有限公司 一种微晶玻璃及显示玻璃盖板
CN117865498B (zh) * 2023-02-24 2024-11-26 重庆鑫景特种玻璃有限公司 一种具有类蛾眼结构的微晶玻璃及制备方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2422298A1 (de) * 1973-05-10 1974-11-28 Secretary Industry Brit Verfahren zur herstellung einer oberflaeche mit vermindertem reflexionsvermoegen fuer elektromagnetische strahlen eines bestimmten wellenlaengenbereiches
DE3831503C2 (enExample) * 1988-09-16 1992-06-04 Vegla Vereinigte Glaswerke Gmbh, 5100 Aachen, De

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4114983A (en) 1977-02-18 1978-09-19 Minnesota Mining And Manufacturing Company Polymeric optical element having antireflecting surface
DE3121785A1 (de) * 1981-06-02 1982-12-16 Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt Verfahren zum entspiegeln einer glasoberflaeche
US4511614A (en) 1983-10-31 1985-04-16 Ball Corporation Substrate having high absorptance and emittance black electroless nickel coating and a process for producing the same
GB8621468D0 (en) * 1986-09-05 1986-10-15 Philips Nv Display device
US4944986A (en) * 1988-09-23 1990-07-31 Zuel Company Anti-reflective glass surface
US5120605A (en) * 1988-09-23 1992-06-09 Zuel Company, Inc. Anti-reflective glass surface
WO1995031737A1 (en) * 1994-05-18 1995-11-23 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Glare-proof film

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2422298A1 (de) * 1973-05-10 1974-11-28 Secretary Industry Brit Verfahren zur herstellung einer oberflaeche mit vermindertem reflexionsvermoegen fuer elektromagnetische strahlen eines bestimmten wellenlaengenbereiches
DE3831503C2 (enExample) * 1988-09-16 1992-06-04 Vegla Vereinigte Glaswerke Gmbh, 5100 Aachen, De

Cited By (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19813690A1 (de) * 1998-03-27 2000-05-04 Fresnel Optics Gmbh Optisch aktives Element und Verfahren zu seiner Herstellung
DE19845423A1 (de) * 1998-10-02 2000-04-13 Fraunhofer Ges Forschung Heißer Strahler
USRE43694E1 (en) 2000-04-28 2012-10-02 Sharp Kabushiki Kaisha Stamping tool, casting mold and methods for structuring a surface of a work piece
WO2002012927A2 (de) 2000-08-09 2002-02-14 Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Vefahren und vorrichtung zur herstellung einer optisch antireflektierenden oberfläche
WO2002012927A3 (de) * 2000-08-09 2003-10-09 Fraunhofer Ges Forschung Vefahren und vorrichtung zur herstellung einer optisch antireflektierenden oberfläche
US7390531B2 (en) 2000-08-10 2008-06-24 Fraunhofer-Gesellschaft Zur Forderung Der Angewandten Forschung E.V. Method for producing a tool which can be used to create surface structures in the sub-μm range
DE10039208A1 (de) * 2000-08-10 2002-04-18 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren zur Herstellung eines Werkzeugs, das zur Schaffung optisch wirksamer Oberflächenstrukturen im sub-mum Bereich einsetzbar ist, sowie ein diesbezügliches Werkzeug
DE10318566A1 (de) * 2003-04-15 2004-11-25 Fresnel Optics Gmbh Verfahren und Werkzeug zur Herstellung transparenter optischer Elemente aus polymeren Werkstoffen
DE10318566B4 (de) * 2003-04-15 2005-11-17 Fresnel Optics Gmbh Verfahren und Werkzeug zur Herstellung transparenter optischer Elemente aus polymeren Werkstoffen
DE102004042983A1 (de) * 2004-09-01 2006-03-09 X3D Technologies Gmbh Anordnung zur dreidimensional wahrnehmbaren Darstellung
EP1857839A2 (en) 2006-05-15 2007-11-21 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Antireflection Structure and Optical Device Including the Same
EP1857840A3 (en) * 2006-05-15 2010-03-10 Panasonic Corporation Antireflection Structure and Optical Device Including the Same
EP1857839A3 (en) * 2006-05-15 2010-03-10 Panasonic Corporation Antireflection Structure and Optical Device Including the Same
EP1857840A2 (en) 2006-05-15 2007-11-21 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Antireflection Structure and Optical Device Including the Same
WO2009074688A1 (de) * 2007-12-12 2009-06-18 Boeck Klaus Abdeckfolie für silo
DE102008024678A1 (de) 2008-05-21 2009-11-26 Daimler Ag Lichtschacht mit reflexionshemmender Oberfläche und entsprechendes Herstellungsverfahren
EP2423714A4 (en) * 2009-04-24 2018-05-02 Sharp Kabushiki Kaisha Antireflection film, method for manufacturing antireflection film, and display apparatus
DE102014201885A1 (de) * 2014-02-03 2015-08-06 Johnson Controls Automotive Electronics Gmbh Abdeckscheibe für mindestens ein Anzeigeinstrument in einem Fahrzeug
US9827736B2 (en) 2014-02-03 2017-11-28 Johnson Controls Automotive Electronics Gmbh Cover panel for at least one display instrument in a vehicle
WO2016154647A1 (de) * 2015-04-02 2016-10-06 Zkw Group Gmbh Beleuchtungsvorrichtung

Also Published As

Publication number Publication date
DE59812817D1 (de) 2005-06-30
US6359735B1 (en) 2002-03-19
WO1998039673A1 (de) 1998-09-11
ATE296455T1 (de) 2005-06-15
EP0965059A1 (de) 1999-12-22
EP0965059B1 (de) 2005-05-25
JP2001517319A (ja) 2001-10-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE19708776C1 (de) Entspiegelungsschicht sowie Verfahren zur Herstellung derselben
DE3789858T2 (de) Platten für Lichtkontrolle.
EP1851066B1 (de) Herstellverfahren eines mehrschichtkörpers
DE69929596T2 (de) Würfelecken-retroreflektoren und verfahren für ihre herstellung
DE69933455T2 (de) Reflektierende folie und reflektierende/halbdurchlässige folie
WO2007087984A1 (de) Mehrschichtkörper mit mikrolinsen-anordnung
DE69711209T2 (de) Optische durchsichtige scheibe mit diffusiver antireflexionsschicht und verfahren zur herstellung dieser scheibe
DE1924695B2 (de) Verfahren zur herstellung eines hologramms
EP1966769A1 (de) Optisch variables sicherheitselement und verfahren zu seiner herstellung
ITTO950763A1 (it) Superficie anti-riflettente a rugosita' predeterminata, particolarmente per plance di autoveicoli
EP1613987B1 (de) Verfahren und werkzeug zur herstellung transparenter optischer elemente aus polymeren werkstoffen
DE102006030865A1 (de) Transparente Karte mit Hologramm und Vorrichtung zur Erkennung der Transparenten Karte mit Hologramm
EP3606765B1 (de) Sicherheitselement mit reliefstruktur und herstellungsverfahren hierfür
EP2238516B1 (de) Verfahren zur herstellung von sicherheitselementen durch individualisierung von volumenhologrammen und damit hergestellte sicherheitselemente
EP3034315B1 (de) Sicherheitselement, verfahren zum herstellen desselben und mit dem sicherheitselement ausgestatteter datenträger
CN105378514A (zh) 日光管控
DE2655527B1 (de) Projektionsschirm und Verfahren zu dessen Herstellung
DE102006030839B4 (de) Optisches Element mit computergeneriertem Hologramm
WO2002012927A2 (de) Vefahren und vorrichtung zur herstellung einer optisch antireflektierenden oberfläche
DE69028972T2 (de) Verfahren zur Herstellung von Formkörpern
DE102008001680A1 (de) Fahrzeugscheibe
EP2593310A1 (de) Sicherheitselement mit hologrammstrukturen
EP0485780A1 (de) Optisch wirksames Material sowie Verfahren zu seiner Herstellung
EP1580816B1 (de) Verfahren zur Herstellung eines Elements, umfassend ein reflektierendes Substrat und eine Antireflexschicht
DE202024000846U1 (de) Photochromer Glaskörper

Legal Events

Date Code Title Description
8100 Publication of patent without earlier publication of application
D1 Grant (no unexamined application published) patent law 81
8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee