DE1924695B2

DE1924695B2 - Verfahren zur herstellung eines hologramms

Info

Publication number: DE1924695B2
Application number: DE19691924695
Authority: DE
Inventors: Nicholas K Fairport NY Shendon (VStA)
Original assignee: Xerox Corp
Current assignee: Xerox Corp
Priority date: 1968-05-14
Filing date: 1969-05-14
Publication date: 1977-10-06
Also published as: ES367192A1; BR6908483D0; FR2008465A1; NL6907319A; US3580657A; NL155381B; BE732771A; DE1924695A1; GB1231938A; SE375389B; AR193336A1; JPS4811059B1

Description

Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung eines Hologramms, bei dem eine flächenhafte, fotohärtbare oder fotoerweichbare Aufzeichnungsschicht durch einen Bezugs- und einen Objektlichtstrahl belichtet wird, und bei dem nach der Belichtung die entsprechend der Verteilung der Belichtungsstärke unterschiedlich widerstandsfähigen Oberflächenbereiche durch Lösungsmittel unterschiedlich stark abgetragen werden.

Aus der Literatuistelle RCA REVIEW 27 (1966), Seiten 467 bis 499 ist es bereits bekannt, Phasenhologramme mit fotoempfindlichen, insbesondere fotohärtbaren Aufzeichnungsschichten herzustellen, wobei de Hologramminformation in einer Reliefstruktur fixiert wird. Bei der Herstellung derartiger Hologramme benutzt man eine Aufnahmeanordnung, bei der der Objektstrahl und der Bezugsstrahl auf dieselbe Seite der Aufzeichnungsschicht fällt. Die so hergestellten Hologramme weisen keine Reliefstruktur mit einer Beugungsvorzugsrichtung auf und ihr Wirkungsgrad bei der Bildwiedergabe i;>t relativ gering.

Aus dem Aufsatz von H. Nassenstein, Abbildungsverfahren mit Rekonstruktion des Wellenfeldes (Holografie), in der Zeitschrift für angewandte Physik, Band 22,1966, Seiten 37 bis 50, insbesondere Seite 46 ist bereits ein Aufnahmeverfahren beschrieben, bei dem der Objektstrahl und der Bezugsstrahl von verschiedenen Seiten her auf die Aufzeichnungsschicht gerichtet werden. Bei diesem Verfahren verwendete man jedoch keine fotoempfindlichen Aufzeichnungsschichten, bei denen nach tier Eielichtung die entsprechend der Verteilung der Beliclitungsstärke unterschiedlich widerstandsfähigen Oberflächenbereiche durch Lösungsmittel unterschiedlich abgetragen werden. Eine Reliefstruktur mit einer Beugungsvorzugsrichtung wurde dabei nicht erzielt. Das hergestellte Hologramm besteht aus aufgezeichneten Interferenzmustern, die nahezu parallele Flächen zueinander mit einem Abstand von ungefähr einer halben Wellenlänge des Lichtes haben und nahezu parallel zu den Oberflächen der lichtempfindlichen Schicht verlaufen. Im Gegenstand zu anderen Hologrammen, die eine Phasenmodulation durch Änderung der Brechungszahl, der optischen Dichte oder der Oberflächenstruktur des Hologrammediums erzeugen, wird mit diesem Hologramm eine Phasenmodulation durch die Formen der aufgezeichneten Interferenzflächen, an denen das Licht reflektiert wird, erreicht. Die Lichtausnutzung bei der Bildwiedergabe ist deshalb relativ schwach.

Die bisher bekannten Hologramme haben den gemeinsamen Nachteil, daß ihr Wirkungsgrad bei der Bildwiedergabe relativ niedrig liegt. Insbesondere bei denjenigen Hologrammen, bei denen bei der Aufnahme der Bezugsstrahl und der ObjektstrahJ auf dieselbe Seite der Aufzeichnungsschicht gerichtet wird, liegt der Wirkungsgrad sehr niedrig. Auch bei Phasenmodulationshülogrammen, die in dieser Hinsicht etwas besser sind, liegt der Wirkungsgrad bei weniger als 20%.

Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zum Herstellen eines Hologramms anzugeben, das gegenüber bekannten Hologrammen einen höheren Rekonstruktionswirkungsgrad aufweist, indem eine Beugungsvorzugsrichtung bei der Aufnahme hergestellt wird.

Ausgehend von dem eingangs angegebenen Verfahren wird diese Aufgabe dadurch gelöst, daß zur Erzielung einer Reliefstruktur mit einer Beugungsvorzugsrichtung Objektstrahl und Bezugsstrahl von verschiedenen Seiten her auf die Aufzeichnungsschicht gerichtet werden.

Bei dem obigen Verfahren wird bei der Entwicklung der belichteten fotoempfindlichen Schicht eine Oberflächenreliefstruktur erzielt, wobei entweder die belichteten oder die nicht belichteten Teile aufgelöst (abhängig von der Art des verwendeten Stoffes) werden. Die dabei erreichte Beugungsvorzugsrichtung (Blaze) führt zu einem gegenüber bekannten Hologrammen wesentlich größeren Wiedergabewirkungsgrad.

Weiterbildungen des angegebenen Verfahrens sind den Unteransprüchen zu entnehmen.

Anhand der Zeichnung wird das vorliegende Verfahren näher erläutert. Es zeigt

F i g. 1 ein Schnittbild durch eine Aufzeichnungsschicht mit dem entstehenden Stehwellenmuster;

Fig.2A und 2B Draufsichten auf etwa 2000mal vergrößerte Fotomikrografien der entwickelten Oberfläche einer fotohärtbaren Schicht, und zwar für einen parallelen und einen diffusen Objektstrahl;

Fig.2C eine Darstellung einer etwa 15 000mal vergrößerten Fotomikrografie eines Schnittes einer entwickelten fotohärtbaren Schicht, wobei die dunkle Linie der Oberflächenkontur einer aufgedampften Reflexionsschicht auf der entwickelten Oberfläche darstellt;

Fig.3 eine schematische Darstellung der Rekonstruktion des gemäß F i g. 1 hergestellten Hologramms;

F i g. 4 eine Anordnung zur Rekonstruktion des nach F i g. 1 aufgenommenen Hologramms;

F i g. 5 den Strahlenverlauf für die Rekonstruktion gemäß Beispiel I;

Fig.6 die Konstruktion eines leuchtenden Hologramms unter Verwendung eines teilweise durchsichtigen komplexen Objekts und

pig, 7 die Rekonstruktion des Bildes mit dem gemäß ρ j g. 6 erzeugten Hologramm.

In Fig. 1 ist ein Stehwellenmuster dargestellt, wie es in sichtbarer Form durch die Linien 10 erscheinen würde. Ferner ist eine fotohärtbare Schicht 12 vorgesehen, die wahlweise auf eine Unterlage aufgebracht sein kann, die für die Konstruktionsstrahlung durchlässig sein muß. Die Schicht 12 kann flach oder gekrümmt sein und die Form eines Bandes, eines Zylinders, eines endlosen Bandes, eines Möbiusstreifens oder eine andere Form haben. Die innerhalb der Umrißlinie 14 gezeigten Linien 10 sind ferner Linien einer Vorzugsrichtung der Aushärtung im Schichtvolumen längs den Flächen maximaler Intensität. Dies setzt einen fotohärtbaren Stoff voraus, der durch die aktivierende Strahlung aushärtet, wobei jedoch die Bezeichnung »fotohärtbarer Stoff« für den Fachmann auch diejenigen Stoffe einschließt, die längs den Flächen maximaler Strahlungsstärke erweichen.

Eine vorzugsweise Art zur Erzeugung des Stehwellen-lnterferenzmusters gemäß F i g. 1 besteht darin, den mit dem Objekt modulierten Lichtstrahl mit einem Bezugsstrahl zur Wechselwirkung zu bringen, der derart gerichtet ist, daß seine Vektorrichtung einen Winkel von 90° bis etwa 180° mit praktisch allen Richtungsvektoren des Objektstrahls bildet, wobei der Objektstrahl und der Bezugsstrahl auf einander entgegengesetzte Seiten der fotohärtbaren Schicht gerichtei sind.

Wie schematisch in F i g. 1 dargestellt ist (und an Hand von F i g. 4 eingehender beschrieben wird), kann diese vorzugsweise Konstruktionsbelichtung durch Spaltung eines kohärenten Strahls erzeugt werden, dessen eine Komponente den mit dem Objekt modulierten Strahl 18 bildet, der auf die eine Seite der Schicht 12 gerichtet ist. Die andere Komponente bildet den Bezugsstrahl 16, der auf die andere Seite der Schicht 12 gerichtet ist.

Eine andere Art dieser vorzugsweisen Konstruktionsbelichtung besteht darin, daß ein Strahl kohärenten Lichtes als Bezugsstrahl 16 auf die fotohärtbare Schicht gerichtet wird, durch sie hindurchtritt und auf das Objekt gerichtet wird. Nach Reflexion am Objekt bildet er den Objektstrahl 18, der dann wieder auf die fotohärtbare Schicht 12 gelangt und mit dem Bezugsstrahl zur Wechselwirkung kommt, wodurch das Stehwellen-Interferenzmuster gebildet wird. Dieses Verfahren ist von D e η i s y u k in Soviet Physics 7, Nr. 6, 543,1962 beschrieben.

Laser sind gute Quellen für kohärente Strahlung. Es kann jedoch auch jede andere Quelle ausreichend kohärenter Strahlung verwendet werden. Ferner kann elektromagnetische Strahlung jeder geeigneten Wellenlänge verwendet werden, beispielsweise kohärente Röntgen-, ultraviolette und infrarote Strahlen, Teilchenstrahlen wie Elektronen, Positronen, Protonen, Alphateilchen usw., wenn die fotohärtbare Schicht durch diese Strahlungen Wellen erzeugt, die mehr oder weniger gehärtet oder gegen Entwicklerstoff widerstandsfähig sind und den Wellen der Strahlungsintensität des Interferenz-Stehwellenmusters entsprechen.

Die geätzte Oberfläche 20 der fotohärtbaren Schicht 12 wird durch Einwirkung eines Ätzmittels auf die weniger widerstandsfähigen Teile erzeugt, nachdem die Konstruktionsbelichtung mit einem Objektstrahl und einem Bezugsstrahl durchgeführt wurde. Durch die Ätzung wird Material der fotohärtbaren Schicht an der Oberfläche in den weniger stark belichteten Flächenteilen entfernt.

jeder geeignete fotoliärtbare Stoff kann verwendet werden, wenn seine Eigenschaften der härtenden oder erweichenden Strahlung der jeweils gewählten Quelle kohärenten Lichtes angepaßt sind.

Die Cinnamatester von Polyvinylalkohol und/oder Zellulose, die ferner durch Anthrone und ihre Derivate, polynukleare Chinonderivate und gewisse Ketone wie z. B. Michler's Ketone sensitiviert sein können, sind zur Verwendung im erfindungsgemäßen Verfahren geeignet.

Andere typische fotohärtbare Stoffe sind Systeme, die ein nicht lichtempfindliches Polymer und eine lichtempfindliche Verbindung geringen Molekulargewichtes enthalten und bei Belichtung unlöslich werden. Derartige Stoffe sind beispielsweise Kasein und Gummi in Kombination mit lichtempfindlichen Azidosiilbensulf> nat-Derivaten, Systeme mit einem Monomer, eint m Dimer und/oder einem Polymer geringen Molekulargewichtes sowie einem Füllstoff und einem oder mehreren Polymerisationskatalysatoren, beschrieben in den US-PS 27 60 863 und 27 91 504, Systeme aus einem nicht lichtempfindlichen Polymer und lichtempfindlichen Verbindungen geringen Molekulargewichtes, bei denen der lichtempfindliche Anteil bei Belichtung eine Unlösiichkeit in den belichteten Teilen ergibt, beispielsweise Äthylzellulose, Polymethylmethacrylat und zahlreiche andere kommerzielle Kunststoffe, die lichtempfindliche Chalcon- oder ungesättigte Ketonderivate enthalten und in den US-PS 19 65 710 und 25 44 905 beschrieben sind. Systeme von Chromatverbindungen in Kolloiden wie Gelatine, Albumen und Leim oder Proteinkolloide, sensitiviert beispielsweise mit Kaliumbichromat, oder Zellulosederivate, sensitiviert beispielsweise mit Ammoniumdichromat, oder andere Polyviny-Ie wie Polyvinylalkohol, Polyvinylacetat, Polyvinylmethyläther und Polyvinylpyrrolidon, sensitiviert beispielsweise mit Ammoniumdichromat, oder Polyamide, sensitiviert mit Dichromaten, ferner Diazo-sensitivierte Stoffe u. a.

Andere fotohärtbare Schichten sind dem Fachmann bekannt, beispielsweise Halogensilberemulsionen hohen Auflösungsvermögens, die einen Gerbungsentwickler enthalten und in der kanadischen PS 7 72 105 beschrieben sind. Sie können mit den Stehwellen-Interferenzmustern belichtet und mit einer Alkalilösung entwickelt werden, die die Gelatine in der Umgebung der entwickelten Silberkörner härtet, wodurch die ungehärteten Teile der Außenfläche der Emulsion mittels Auflösung entfernt werden können.

Eine fotohärtbare Schicht erhärtet durch die holografische Belichtung längs den Linien maximaler Strahlungsstärke innerhalb eines großen Teils ihrer Tiefe. Bei Eingabe in eine Entwicklungslösung wird eine Oberflächenstruktur erzeugt, die den Bereichen der Intensitätsflächen folgt, da die Flächenteile geringer Belichtung bei Einwirkung des Ätzmittels beseitigt werden.

Fig. 2A und 2B zeigen 2000fach vergrößerte Fotomikrografien der Draufsicht auf die geätzte Oberfläche einer entwickelten fotohärtbaren Bildplatte. F i g. 2A zeigt ein erfindungsgemäß hergestelltes Hologramm, bei dem der Objektstrahl ein paralleler Strahl ist, der bei Wechselwirkung mit einem gegenüber seiner Achse versetzten Bezugsstrahl, der eine ebene Wellenfront sein kann (deren Achse senkrecht zur fotohärtbaren Schicht verläuft), ein gegenüber der Achse versetztes Stehwellenmuster aus ebenen Wellen erzeugt, wenn der Bezugsstrahl eine ebene Wellenfront ist. Nach der Entwicklung ergibt sich ein regelmäßiges,

sägezahnförmiges Blazemuster der in Fig.2A dargestellten Art. Die dunkleren Teile der Zeichnung kennzeichnen die Spitzen der Sägezähne.

Fig.2B zeigt in Draufsicht ein Hologramm eines unregelmäßigen Objektes, beispielsweise einer Person, eines Hauses, eines Unterseebootes usw., wobei der Objektstrahl durch Reflexion eines Teiles eines Laserstrahls am unregelmäßigen Objekt erzeugt wurde. Die Unregelmäßigkeit der Vertiefungen des Hologramms, dessen dunklere Teile die Spitzen der Sägezähne darstellen, trägt die Objektinformation, die zur Erzeugung eines sichtbaren Bildes rekonstruiert werden kann, wenn ein Rekonstruktionsbezugsstrahl auf das erfindungsgemäß hergestellte Hologramm gerichtet wird.

In Fig.2C ist eine 15 000Fach vergrößerte Elektronenmikrografie einer entwickelten fotohärtbaren Schicht im Querschnitt dargestellt, wobei die schwarze Linie 22 die leuchtende, sägezahnförmige Oberflächenkontur der geätzten Fläche zeigt, auf die wahlweise auch eine Schicht eines reflexionsfähigen Stoffes wie z. B. Aluminium aufgedampft sein kann. Diese Metallschicht hat eine Stärke von 0,2 Mikron. Andere geeignete reflexionsfähige Stoffe können gleichfalls verwendet werden, beispielsweise Silber, Gold, Chrom und dielektrische Stoffe.

Die Höhe der erhabenen Teile des Oberflächenprofils liegt im Bereich zwischen etwa 0,05 Mikron und etwa 10 Mikron bei den vorzugsweise angewendeten Konstruktionsbestrahlungen. Der horizontale Abstand zwischen den erhabenen Teilen kann weitgehend abhängig vom Winkel zwischen Objektstrahl und Bezugsstrahl variieren.

In F i g. 3 ist eine typische Rekonstruktion eines Bildes mit einem gemäß der Erfindung erzeugten Hologramm dargestellt. Das Bild wird erzeugt, indem ein Lichtstrahl 16, der dem zur Herstellung des Hologramms verwendeten Bezugsstrahl in Wellenlänge, Wellenfrontkrümmung und Ausbreitungsrichtung ähnlich ist, auf diejenige Seite der Reflexionsschicht 24 gerichtet wird, die mit der fotohärtbaren Schicht 12 in Berührung steht. Der maximale Rekonstruktionswirkungsgrad ist möglich, wenn dieser Rekonstruktionsstrahl unter demselben Winkel wie der Bezugsstrahl einfällt, in beiden Fällen dieselbe Wellenlänge verwendet wird und dieses Licht durch die fotohärtbare Schicht hindurchfällt. Ein anderes Verfahren ist gleichfalls möglich, wenn die dabei auftretende schwächere Wirkung vertretbar ist. Die Verwendung eines Rekonstruktionsstrahls unterschiedlicher Krümmung verbietet sich hauptsächlich wegen der damit auftretenden Bildfehler.

Es ist zu erkennen, daß bei selbsttragender fotohänbarer Schicht die crfindungsgcmaßcn Oberflächen-liefwirkiingcn auf beiden Flüchen der Schicht erzeugt und damit zwei separate Hologramme hergestellt werden können.

Wie aus Fig.3 hervorgeht, ist die Lichtvcrlcilting zwischen den verschiedenen Bciigungsordnungcn gttnstigcrwcisc stark unsymmetrisch. Die Helligkeit des rekonstruierten Objektes für die Ordnungen 0 und ± 1 (κι ist als Pro/.cntwcrt des reflektierten Lichtes für einen parallelen Objektstrahl (Punktobjekt) und einen durch ein unregelmäßiges Objekt modulierten Objektstrahl (diffuses Objekt) angegeben.

Diese Prozentwerte können bei optimalen Auf/eich <>s nungsparametcrn noch erhöht werden lsi der Strahlen verlauf des Rckonstruktioiisslrnhls sowie die Abmessung der Schicht identisch mil dem Strahlenverlauf der Aufzeichnung, was die vorzugsweise Art der Rekonstruktion für optimale Ergebnisse darstellt, so ist der Wirkungsgrad der Ordnung +1 am höchsten. 1st beispielsweise der Objektstrahl bei der Hologrammherstellung ein paralleler Strahl, so ist das erhaltene Hologramm ein Beugungsgitter mit Beugungsvorzugsrichtung (Blaze), und es ist zu beobachten, daß 73% des reflektierten Lichtes des Bezugsstrahls zur Ordnung 1 gehören, was dem Wirkungsgrad von 80% für handelsübliche Blazemustt. nahekommt. Der Wert von 73% steht einem Wirkungsgrad von 6% gegenüber, wie er mit einem sinusförmigen Absorptions-Durchleuchtungsgitter einer fotografischen Emulsion möglich ist, ferner einem Wert von 11% bis 30%, der bei einem sinusförmigen Phasengitter auf thermoplastischen Stoffen gemäß der Patentanmeldung P 15 47 439.2 möglich ist. Die Phasengitter mit 30% Wirkungsgrad erzeugen sehr schlechte Bilder. Die erfindungsgemäß hergestellten Beugungsgitter-Hologramme beugen theoretisch mehr als 90% des Lichtes von 4880 Angström-Einhehen Wellenlänge in die erste Ordnung, da sie eine einheitliche Flächenstruktur haben.

Tatsächlich wurde gefunden, daß unter Verwendung eines parallelen Objektstrahls ein günstiges Verfahren zur Herstellung von Beugungsgittern einer bestimmten Frequenz möglich ist, die gegenwärtig kommerziell durch mechanisches Linieren von Aluminium oder anderen geeigneten Stoffen hergestellt werden, wobei die Oberflächenvertiefungen mit einem Diamantstift zeitraubend und kostspielig erzeugt werden.

Ein Grund für den viel höheren Wirkungsgrad der erfindungsgemäßen Hologramme ist das geblazete, schrittartig ausgebildete Muster, wobei jede Blazefläche ein sehr kleiner, stark reflektierender Spiegel ist, der reflexionsfähiger ist als beispielsweise die mehr sinusförmigen Muster gemäß der Patentanmeldung P 15 47 439.2 oder die anderen bekannten Hologramme, insbesondere die Beugungsgitter.

Das folgende Beispiel dient der weiteren speziellen Erläuterung des erfindungsgemäßen Verfahrens. Anteile und Prozentwerte beziehen sich auf das Gewicht, falls nicht anders angegeben. Die Erfindung soll durch dieses Beispiel in keiner Weise eingeschränkt werden

Beispiel

In Fig.4 ist eine Glasplatte 26 dargestellt, die mii einer etwa 2 Mikron starken Schicht 12 Ätzschutzstofl überzogen ist. Die Schicht wird folgendermaßen mi dem Licht eines Argonlasers mit kontinuierlicher Wellen bei eiwa 30 Milliwatt optischer Leistimf belichtet: Der Laserstrahl wird durch die Streuungslins( 32 und die Sammellinse 34 auf den Strahlenteiler 3( geleitet, so daß zwei Strahlen entstehen, deren erste mit den Spiegeln 38 und 40 auf die Unterseile de Glasplatte, deren zweiter mit dem Spiegel 36 auf dii Schicht !2 iiuf der Glasplatte reflektiert *vird. Dc /.weite Strahl ist ein paralleler Lichtstrahl und schneide die Ätzschutzschicht 12 unter einem Winkel von ctwi 15" zur Pkiltcnnormulcn. Der erste Strahl ist gleichfall ein paralleler Strahl und schneidet die entgegengesetzt Glasfläche der Platte 26 unter einem Winkel von etw 40" zur Plntlcunormalcn. Beide Strahlen überlappt sich im Bereich der Schicht und erzeugen Inlerfercn/.flll dien, deren Abstand etwa 0,1b Mikron betrügt und di einen Winkel von etwa 9" zurSchichloberflUchc bilden.

Die Schicht wird mit diesen Lichtstrahlen kontituiici lieh belichtet, bis eine Gcxnintlichtcnernie von etwa Ionic pro cm' empfangen ist. Die Platte 28 wird dann mi

der Belichtungsvorrichtung herausgenommen und in einen Entwickler für etwa 20 Sekunden eingetaucht. Die Platte wird dann sofort etwa 5 Sekunden lang in destilliertes Wasser eingetaucht und ihre Oberflnche mit Druckluft getrocknet. Die Oberfläche der Schicht wird dann bei Vakuum mit einer fast undurchsichtigen Schicht stark reflektierenden Aluminiums überzogen.

Die Oberfläche des Hologramms besteht nun aus Teilen des während der Belichtung in der Schicht vorhandenen Interferenzmusters. Dies hat die Form von Stufen, deren Erhöhungen etwa 0,16 Mikron hoch sind und deren Breite etwa 1,15 Mikron beträgt.

In F i g. 5 ist. die Rekonstruktion des Hologramms durch Richtung des zweiten Strahls auf das Hologramm wie bei der Konstruktion dargestellt.

F i g. 6 zeigt die Konstruktion eines Hologramms mit Beugungsvorzugsrichtung (Blaze) unter Verwendung CiV.is zumindest teilweise komplexen Objektes.

F i g. 7 zeigt die Rekonstruktion des Bildes eines komplexen Objektes unter Verwendung eines Hologramms mit Blaze.

Hierzu 2 BbU Zeichnungen

Claims

Patentansprüche:

1. Verfahren zur Herstellung eines Hologramms, bei dem eine flächenhafte, fotohärtbare oder fotoerweichbare Aufzeichnungsschicht durch einen Bezugs- und einen Objektlichtstrahl belichtet wird, und bei dem nach der Belichtung die entsprechend der Verteilung der Belichtungsstärke unterschiedlich widerstandsfähigen Oberflächenbereiche durch Losungsmittel unterschiedlich stark abgetragen werden, dadurch gekennzeichnet, daß zur Erzielung einer Reliefstruktur mit einer Beugungsvorzugsrichtung Objektstrah! und Bezugsstrahl von verschiedenen Seiten her auf die Aufzeichnungsschicht gerichtet werden.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Richtung des Bezugstrahls nicht senkrecht zur Aufzeichnungsschicht gewählt wird und mit allen Richtungen der Teilstrahlen des Objektstrahls Winkel zwischen 90° und 180° bildet.

3. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 2, dadurch gekennzeichnet, daß auf die das Hologramm tragende Schicht eine dünne Schicht eines reflektierenden Materials in Anpassung an die Reliefstruktur aufgebracht wird.

4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß das reflektierende Material ein Metall ist, das in einem Vakuumaufdampfprozeß auf die das Hologramm tragende Schicht aufgebracht wird.