JP4971061B2 - 光反射板及びその製造方法及び光反射装置 - Google Patents
光反射板及びその製造方法及び光反射装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4971061B2 JP4971061B2 JP2007190877A JP2007190877A JP4971061B2 JP 4971061 B2 JP4971061 B2 JP 4971061B2 JP 2007190877 A JP2007190877 A JP 2007190877A JP 2007190877 A JP2007190877 A JP 2007190877A JP 4971061 B2 JP4971061 B2 JP 4971061B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light reflecting
- substrate
- light
- reflecting plate
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 64
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 29
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 113
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 43
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 41
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 41
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 40
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 claims description 31
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 30
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 28
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 26
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 24
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 18
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims description 17
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 15
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 claims description 15
- 229910001297 Zn alloy Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 14
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 14
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 12
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 10
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 claims description 10
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims description 8
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims description 8
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 8
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 6
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 6
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims description 6
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 96
- 239000010960 cold rolled steel Substances 0.000 description 18
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 16
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 16
- 230000004313 glare Effects 0.000 description 15
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 14
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 13
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 11
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 11
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 9
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 7
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 6
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 6
- 229910001335 Galvanized steel Inorganic materials 0.000 description 5
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 239000008397 galvanized steel Substances 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 4
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 4
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 3
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 3
- JEGUKCSWCFPDGT-UHFFFAOYSA-N h2o hydrate Chemical compound O.O JEGUKCSWCFPDGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001579 optical reflectometry Methods 0.000 description 3
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 3
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 3
- HAAYBYDROVFKPU-UHFFFAOYSA-N silver;azane;nitrate Chemical compound N.N.[Ag+].[O-][N+]([O-])=O HAAYBYDROVFKPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 2
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 2
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 2
- 238000005246 galvanizing Methods 0.000 description 2
- LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N glyoxal Chemical compound O=CC=O LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZGCHATBSUIJLRL-UHFFFAOYSA-N hydrazine sulfate Chemical compound NN.OS(O)(=O)=O ZGCHATBSUIJLRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000377 hydrazine sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 2
- -1 silver ions Chemical class 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N tellanylidenegermanium Chemical compound [Te]=[Ge] JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N (1,10,13-trimethyl-3-oxo-4,5,6,7,8,9,11,12,14,15,16,17-dodecahydrocyclopenta[a]phenanthren-17-yl) heptanoate Chemical compound C1CC2CC(=O)C=C(C)C2(C)C2C1C1CCC(OC(=O)CCCCCC)C1(C)CC2 TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021626 Tin(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021627 Tin(IV) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 1
- ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N chromate(2-) Chemical compound [O-][Cr]([O-])(=O)=O ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005097 cold rolling Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 229940015043 glyoxal Drugs 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N lithium metasilicate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-][Si]([O-])=O PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052912 lithium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 239000001119 stannous chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011150 stannous chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 239000002335 surface treatment layer Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
- G02B5/0205—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties
- G02B5/021—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place at the element's surface, e.g. by means of surface roughening or microprismatic structures
- G02B5/0221—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place at the element's surface, e.g. by means of surface roughening or microprismatic structures the surface having an irregular structure
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F21—LIGHTING
- F21S—NON-PORTABLE LIGHTING DEVICES; SYSTEMS THEREOF; VEHICLE LIGHTING DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR VEHICLE EXTERIORS
- F21S11/00—Non-electric lighting devices or systems using daylight
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F21—LIGHTING
- F21V—FUNCTIONAL FEATURES OR DETAILS OF LIGHTING DEVICES OR SYSTEMS THEREOF; STRUCTURAL COMBINATIONS OF LIGHTING DEVICES WITH OTHER ARTICLES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- F21V7/00—Reflectors for light sources
- F21V7/22—Reflectors for light sources characterised by materials, surface treatments or coatings, e.g. dichroic reflectors
- F21V7/24—Reflectors for light sources characterised by materials, surface treatments or coatings, e.g. dichroic reflectors characterised by the material
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F21—LIGHTING
- F21V—FUNCTIONAL FEATURES OR DETAILS OF LIGHTING DEVICES OR SYSTEMS THEREOF; STRUCTURAL COMBINATIONS OF LIGHTING DEVICES WITH OTHER ARTICLES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- F21V7/00—Reflectors for light sources
- F21V7/22—Reflectors for light sources characterised by materials, surface treatments or coatings, e.g. dichroic reflectors
- F21V7/28—Reflectors for light sources characterised by materials, surface treatments or coatings, e.g. dichroic reflectors characterised by coatings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
- G02B5/0205—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties
- G02B5/021—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place at the element's surface, e.g. by means of surface roughening or microprismatic structures
- G02B5/0215—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place at the element's surface, e.g. by means of surface roughening or microprismatic structures the surface having a regular structure
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
- G02B5/0205—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties
- G02B5/021—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place at the element's surface, e.g. by means of surface roughening or microprismatic structures
- G02B5/0231—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place at the element's surface, e.g. by means of surface roughening or microprismatic structures the surface having microprismatic or micropyramidal shape
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
- G02B5/0268—Diffusing elements; Afocal elements characterized by the fabrication or manufacturing method
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
- G02B5/0273—Diffusing elements; Afocal elements characterized by the use
- G02B5/0284—Diffusing elements; Afocal elements characterized by the use used in reflection
Description
本発明は、光反射板、及びその製造方法、及び光反射板を用いた光反射装置に関し、より詳しくは、光反射特性に優れた光反射板、及びその製造方法、及び太陽光を光反射板により屋内に導いて照明する光ダクトなどの光反射装置に関する。
従来、光反射板を備えた光反射装置として、太陽光を屋内に導き、照明として利用する光ダクトが知られている（特許文献１、２）。
特許文献１に示す光ダクトは、内側面が鏡面となっている光線案内筒を備え、採光部から太陽光を採光し、採光した光を光線案内筒で反射によって伝送し、放光部から屋内に放光している。
また、特許文献２に示す光ダクトでは、導光部内の光路に特別な形状の光拡散装置を設置している。光拡散装置は、光ダクト内に入射した光を拡散反射させ、光ダクト内の光線が均一に広がるようにする。また、光路の途中に拡散フィルムを挿入した例も開示している。
特開昭５８−９３１０１号公報
特開２０００−１４９６２７号公報
しかしながら、特許文献１に開示された光ダクトでは、図９に示すように、採り込まれる太陽光の光線束の広がりがほぼ採光部１の大きさに限定され、かつ光線案内筒２の鏡面内壁により光線束は採光時の広がりを保ったまま反射伝送されるため、光線案内筒２内を反射伝送してきた光は放光部から一つ又は複数の部分に集中して出射され、よって照明ムラが生じるという問題がある。
また、正反射による光反射率を高くするため光線案内筒２の内壁を鏡面にすればするほど、眩しさが増すという問題がある。
特許文献２に開示された光ダクトに拡散フィルムを設ける方法では、照明ムラや、眩しくなる現象は緩和されるが、光が拡散フィルムを透過する際に一般に光強度が数十％減衰してしまうという問題がある。
また、特別に光の拡散装置などを設ける方法では、多くの付設費用がかかるという問題がある。
本発明は、上記の従来例の問題点に鑑みて創作されたものであり、正反射による光反射率を高く維持しつつ、反射光の眩しさを軽減することができる光反射板、及びその製造方法、及び特別な光拡散装置などを設けずに照明ムラを防止することができる光反射装置を提供するものである。
上記課題を解決するため、第１の発明は光反射板に係り、基体と、前記基体上に形成された、銀或いは銀合金、又はアルミニウム或いはアルミニウム合金からなる光反射層とを備え、前記光反射層の表面において、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１０〜０．３０μｍであり、かつ、算術平均うねり（Ｗａ）が０．３０〜２．５０μｍであることを特徴とする。
なお、光反射板とは、加工前の材料、及び特定の寸法に加工したものの両方を含む。
第２の発明は、第１の発明の光反射板に係り、前記基体は、鉄を主成分とし、クロムを１１％未満含有する鋼板に亜鉛めっき又は亜鉛合金めっきを施してなる基板であり、又は該基板の上にバインダ層が形成されたものであることを特徴とし、
第３の発明は、第１の発明の光反射板に係り、前記基体は、ステンレス基板であり、又はステンレス基板の上にバインダ層が形成されたものであることを特徴とし、
第４の発明は、第１の発明の光反射板に係り、前記基体は、アルミニウム若しくはアルミニウム合金からなる基板であり、又は該基板の上にバインダ層が形成されたものであることを特徴とし、
第５の発明は、第１の発明の光反射板に係り、前記基体は、ガラス基板、或いはプラスチック基板であり、又はこれらの基板の上にバインダ層が形成されたものであることを特徴とし、
第６の発明は、第１乃至第５のいずれか１項の発明の光反射板に係り、前記バインダ層は、有機樹脂材料、或いは無機材料、又はこれらの混合物の膜であることを特徴とし、
第７の発明は、第１乃至第６のいずれか１項の発明の光反射板に係り、前記光反射層の表面が保護膜で被覆されていることを特徴とし、
第８の発明は、第７の発明の光反射板に係り、前記保護膜は、有機樹脂材料、或いは無機材料、又はこれらの混合物の膜であることを特徴とし、
第９の発明は、第７の発明の光反射板に係り、前記保護膜は、有機樹脂材料の膜と、無機材料の膜との２層で構成されていることを特徴とする。
第３の発明は、第１の発明の光反射板に係り、前記基体は、ステンレス基板であり、又はステンレス基板の上にバインダ層が形成されたものであることを特徴とし、
第４の発明は、第１の発明の光反射板に係り、前記基体は、アルミニウム若しくはアルミニウム合金からなる基板であり、又は該基板の上にバインダ層が形成されたものであることを特徴とし、
第５の発明は、第１の発明の光反射板に係り、前記基体は、ガラス基板、或いはプラスチック基板であり、又はこれらの基板の上にバインダ層が形成されたものであることを特徴とし、
第６の発明は、第１乃至第５のいずれか１項の発明の光反射板に係り、前記バインダ層は、有機樹脂材料、或いは無機材料、又はこれらの混合物の膜であることを特徴とし、
第７の発明は、第１乃至第６のいずれか１項の発明の光反射板に係り、前記光反射層の表面が保護膜で被覆されていることを特徴とし、
第８の発明は、第７の発明の光反射板に係り、前記保護膜は、有機樹脂材料、或いは無機材料、又はこれらの混合物の膜であることを特徴とし、
第９の発明は、第７の発明の光反射板に係り、前記保護膜は、有機樹脂材料の膜と、無機材料の膜との２層で構成されていることを特徴とする。
第１０の発明は、光反射板の製造方法に係り、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１０〜０．３０μｍであり、かつ、算術平均うねり（Ｗａ）が０．３０〜２．５０μｍの表面性状を有する基体を用意する工程と、前記基体上に、電解めっき法、無電解めっき法、或いは蒸着法のいずれか一つによって、銀或いは銀合金、又はアルミニウム或いはアルミニウム合金の膜からなる光反射層を形成する工程とを有することを特徴とし、
第１１の発明は、第１０の発明の光反射板の製造方法に係り、前記光反射層を形成する工程の後、該光反射層上に保護膜を形成する工程を有することを特徴とし、
第１２の発明は、第１０又は１１の発明の光反射板の製造方法に係り、前記基体は、鋼板基板、又はアルミニウム基板で構成され、該基板の圧延時に該基板の表面に前記算術平均粗さ（Ｒａ）及び算術平均うねり（Ｗａ）を付与することを特徴とし、
第１３の発明は、第１０又は１１の発明の光反射板の製造方法に係り、前記基体は、ガラス基板、或いはプラスチック基板であり、該基板の形成時に該基板の表面に前記算術平均粗さ（Ｒａ）及び算術平均うねり（Ｗａ）を付与することを特徴とし、
第１４の発明は、第１０又は１１の発明の光反射板の製造方法に係り、前記基体は、基板上にバインダ層が塗布法により形成されてなり、該バインダ層の形成時に塗布液の粘度及び塗布膜の厚さを調整することにより、前記バインダ層の表面に前記算術平均粗さ（Ｒａ）及び算術平均うねり（Ｗａ）を付与することを特徴とし、
第１５の発明は、光反射装置に係り、第１乃至第９の発明のいずれか一つの反射板を備えたことを特徴とし、
第１６の発明は、光反射装置に係り、第１０乃至第１４の発明のいずれか一つの反射板の製造方法で製造した光反射板を備えたことを特徴とし、
第１７の発明は、第１５又は第１６の発明の光反射装置に係り、前記光反射装置は、採光部と導光部と放光部とを有する光ダクトであり、前記光反射板が前記導光部の内壁に設けられたことを特徴とする。
第１１の発明は、第１０の発明の光反射板の製造方法に係り、前記光反射層を形成する工程の後、該光反射層上に保護膜を形成する工程を有することを特徴とし、
第１２の発明は、第１０又は１１の発明の光反射板の製造方法に係り、前記基体は、鋼板基板、又はアルミニウム基板で構成され、該基板の圧延時に該基板の表面に前記算術平均粗さ（Ｒａ）及び算術平均うねり（Ｗａ）を付与することを特徴とし、
第１３の発明は、第１０又は１１の発明の光反射板の製造方法に係り、前記基体は、ガラス基板、或いはプラスチック基板であり、該基板の形成時に該基板の表面に前記算術平均粗さ（Ｒａ）及び算術平均うねり（Ｗａ）を付与することを特徴とし、
第１４の発明は、第１０又は１１の発明の光反射板の製造方法に係り、前記基体は、基板上にバインダ層が塗布法により形成されてなり、該バインダ層の形成時に塗布液の粘度及び塗布膜の厚さを調整することにより、前記バインダ層の表面に前記算術平均粗さ（Ｒａ）及び算術平均うねり（Ｗａ）を付与することを特徴とし、
第１５の発明は、光反射装置に係り、第１乃至第９の発明のいずれか一つの反射板を備えたことを特徴とし、
第１６の発明は、光反射装置に係り、第１０乃至第１４の発明のいずれか一つの反射板の製造方法で製造した光反射板を備えたことを特徴とし、
第１７の発明は、第１５又は第１６の発明の光反射装置に係り、前記光反射装置は、採光部と導光部と放光部とを有する光ダクトであり、前記光反射板が前記導光部の内壁に設けられたことを特徴とする。
以上のように、本発明の光反射板によれば、銀或いは銀合金の膜、又はアルミニウム或いはアルミニウム合金の膜からなる光反射層を備えているので、特に可視光全域にわたって反射効率が優れている。
また、光反射層表面の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１０〜０．３０μｍと小さいため、正反射による光反射率を高く維持することができる。しかも、同じ光反射層の表面に算術平均うねり（Ｗａ）を設け、かつ算術平均うねり（Ｗａ）の範囲を０．３〜２．５μｍとしているため、正反射による光反射率を低下させずに光の拡散反射を起こさせることができる。
これにより、正反射による光反射率を高く維持しつつ、反射光の眩しさを軽減することができる。
本発明の光反射板の製造方法によれば、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１０〜０．３０μｍであり、かつ、算術平均うねり（Ｗａ）が０．３０〜２．５０μｍの表面性状を有する基体上に、無電解めっき法等によって、銀膜等からなる光反射層を形成している。したがって、基体表面の表面性状が光反射層に引き継がれるため光反射層に容易に所望の表面性状を付与することができる。
本発明の光反射装置によれば、上記の光反射板を備えているため、反射光の強度を高く維持しつつ、反射光の眩しさを軽減することができる。
特に、上記の光反射板を光ダクトの導光部内壁に適用することにより、太陽光などを拡散反射により伝送することができるため、屋内での照明ムラを防止することができる。また、特別に光の拡散装置や拡散フィルムなどを設けなくてもよいため、コスト低減を図るとともに、光強度の減衰を防止することができる。
以下に、本発明の実施の形態について図面を参照しながら、次の項目に従って説明する。
（説明項目）
（１）本発明に至った経過の説明
（２）本発明の第１の実施の形態に係る光反射板の説明
（ｉ）光反射板の構成
（ａ）基板の構成
（ｂ）光反射層の構成
（ｃ）保護膜の構成
（ii）光反射板の別の構成
（iii）光反射板の光反射層の表面性状及びその付与方法
（iv）光反射板の製造方法
（v）表面性状の評価
（３）本発明の第２の実施の形態に係る光反射装置の説明
（ｉ）光ダクト
（実施形態の説明）
（１）本発明に至った経過の説明
図６（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、反射面の表面性状と光の反射特性の関係を説明する模式図である。
（１）本発明に至った経過の説明
（２）本発明の第１の実施の形態に係る光反射板の説明
（ｉ）光反射板の構成
（ａ）基板の構成
（ｂ）光反射層の構成
（ｃ）保護膜の構成
（ii）光反射板の別の構成
（iii）光反射板の光反射層の表面性状及びその付与方法
（iv）光反射板の製造方法
（v）表面性状の評価
（３）本発明の第２の実施の形態に係る光反射装置の説明
（ｉ）光ダクト
（実施形態の説明）
（１）本発明に至った経過の説明
図６（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、反射面の表面性状と光の反射特性の関係を説明する模式図である。
図６（ａ）は、反射面２０ａでうねりがなく、算術平均粗さ（Ｒａ）が小さい場合の光の反射特性を示している。符号２１は入射光を示し、２２ａは反射光を示している。この場合、反射面２０ａで正反射が強くなる（正反射率が高くなる）ため、反射光２２ａは眩しく感じられる。一方、図６（ｂ）に示すように、反射面２０ｂの算術平均粗さ（Ｒａ）が大きくなると、反射面２０ｂで拡散反射が強くなる（拡散反射率が高くなる）ため、反射光２２ｂの眩しさは改善されるが受光面に到達する光量は少なくなる。
本願発明者は、反射光の強度を維持しつつ、眩しさを改善できないか、種々の調査や検討を行った。
その結果、図６（ｃ）に示すように、反射面２０ｃで算術平均粗さ（Ｒａ）が図６（ａ）と同等でもＪＩＳＢ０６０１に規定された算術平均うねり（Ｗａ）を加えた場合、反射面２０ｃで正反射とともに拡散反射が生じていることを見出した。そして、算術平均粗さ（Ｒａ）及び算術平均うねり（Ｗａ）の程度を適正に調整することにより、正反射率を高く維持しつつ拡散反射率を高めて、反射光の強度を高く維持し、かつ眩しさを軽減することができることを見出した。
そして、図６（ｃ）に示す表面性状を光ダクト内壁に適用した場合に、光の反射伝送効率を高く維持しながら、照明光の眩しさを軽減することができた。さらに、光を反射伝送する際に拡散反射により光線束がより広範囲に広がるため、放光部での照明ムラを防止できることとなった。
（２）本発明の第１の実施の形態に係る光反射板の説明
（ｉ）光反射板の構成
図１（ａ）は、本発明の第１の実施の形態に係る光反射板１０１の構成を示す断面図である。
（ｉ）光反射板の構成
図１（ａ）は、本発明の第１の実施の形態に係る光反射板１０１の構成を示す断面図である。
光反射板１０１は、図１（ａ）に示すように、基板（基体）１１と、基板１１上の光反射層１３とにより構成される。なお、必要に応じて光反射層１３上に保護膜１４を付与することもできる。
基板１１の表面１１ａは、図６（ｃ）に示すような粗さやうねりを有する。粗さは、ＪＩＳＢ０６０１に算術平均粗さ（Ｒａ）として規定され、この実施形態では０．１０〜０．３０μｍの範囲に設定されている。うねりは、同じく算術平均うねり（Ｗａ）として規定され、この実施形態では０．３０〜２．５０μｍの範囲に設定されている。この表面性状は光反射層１３に引き継がれて、光反射層１３の表面１３ａも基板１１とほぼ同じ表面性状を有する。
（ａ）基板の構成
光反射板１０１を構成する基板１１は、金属からなる板或いは箔（以下、特別に表示する場合を除いて金属板と総称する。）、表面処理金属からなる板或いは箔（以下、特別に表示する場合を除いて表面処理金属板と総称する。）、ガラス板、またはプラスチックからなる板或いはフィルム（以下、特別に表示する場合を除いてプラスチック板と総称する。）を用いる。
光反射板１０１を構成する基板１１は、金属からなる板或いは箔（以下、特別に表示する場合を除いて金属板と総称する。）、表面処理金属からなる板或いは箔（以下、特別に表示する場合を除いて表面処理金属板と総称する。）、ガラス板、またはプラスチックからなる板或いはフィルム（以下、特別に表示する場合を除いてプラスチック板と総称する。）を用いる。
金属板は、鋼板、又はアルミニウム板を用いる。鋼板は、クロム含有量が１１質量％未満の鉄合金の板、又はクロム含有量が１１質量％以上の鉄合金、所謂ステンレスの板を含む。特に、クロム含有量が１１質量％未満の鉄合金鋼板は、アルミニウムやステンレスと比べて安価な材料であるため、製品を広く普及させるのに好適である。アルミニウム板は、この実施形態では、純アルミニウムの板、アルミニウム合金の板を総称したものをいう。アルミニウム合金は、アルミニウムを主成分とし、強度、加工性、耐食性などを付与するためにマグネシウム（Ｍｇ）、マンガン（Ｍｎ）、シリコン（Ｓｉ）などを添加し、合金化したものである。
表面処理金属板は、上記した金属板の表面に各種めっきを施したもの、またはアルミニウム板の表面にアルマイト処理を施したものである。なお、金属板表面への表面処理により形成された層（表面処理層）は光を反射させるためではなく、さび止めなどのために設けられたものである。
めっきに用いる金属としては、亜鉛、亜鉛合金、錫、ニッケル、クロムなどを用いることができる。
次に、表面処理金属板のうち、特に、亜鉛めっき又は亜鉛合金めっきを施した鋼板（以下、亜鉛めっき鋼板と称する。）について詳しく説明する。
亜鉛めっき鋼板にはめっき方法により幾つかの種類がある。例えば、溶融亜鉛めっき鋼板、溶融亜鉛合金めっき鋼板、電気亜鉛めっき鋼板、電気亜鉛合金めっき鋼板などである。
めっきに用いる金属としては、亜鉛や亜鉛合金が用いられる。亜鉛合金として、亜鉛(Ｚｎ)に５或いは５５質量％のアルミニウム(Ａｌ)を含有するもの、亜鉛(Ｚｎ)にコバルト(Ｃｏ), モリブデン(Ｍｏ)を含有するものなどが用いられる。
亜鉛めっき鋼板は基板としてそのまま用いてもよいが、さらに、亜鉛等のめっきの剥がれや変質を防止するため化成処理を施してもよい。化成処理として、例えば、クロメート処理、リン酸塩処理、リチウム−シリケート処理、シランカップリング処理あるいは、ジルコニウム処理などを適用できる。
基板１１の表面１１ａには、後に（iii）項で説明する方法により、０．１０〜０．３０μｍの範囲の算術平均粗さ（Ｒａ）、及び０．３０〜２．５０μｍの範囲の算術平均うねり（Ｗａ）を施すことができる。
（ｂ）光反射層の構成
光反射層１３は、銀或いは銀合金、又はアルミニウム或いはアルミニウム合金の膜を用いることができる。
光反射層１３は、銀或いは銀合金、又はアルミニウム或いはアルミニウム合金の膜を用いることができる。
そのうち、銀或いは銀合金の膜は、銀鏡反応により銀を還元析出させる無電解めっき法、例えばスプレーめっき法により形成することができる。そのほかに、銀イオンを含む水溶液中での電気分解による電気めっき法や、減圧雰囲気下で銀を蒸発させて皮膜を形成する蒸着法などを適用することができる。銀膜等の厚さは、実用的な反射効果が得られる０．０１〜０．３μｍ程度が好適である。
また、アルミニウム膜等の形成には、蒸着法、又はイオンプレーティング法などの乾式めっき法を用いることができる。特に、蒸着法により形成されたものが、高い正反射率を確保できるため好適である。アルミニウム膜等の膜厚は、所謂光沢面を得ることができる０．０１〜０．２μｍ程度が最適である。
銀膜等及びアルミニウム膜等ともに、膜厚が薄すぎると不可避的にピンホールが生じて反射率が低下する。一方で、膜厚が厚すぎても所謂反射率が急激に低下する傾向が見られる。
光反射層１３は、上記膜厚の範囲では基板１１の表面性状がほぼそのまま引き継がれて、基板１１とほぼ同じ表面性状を有する。
（ｃ）保護膜の構成
光反射層１３である銀膜などは、大気に露出されると変色したり、汚れなどを生じ易い。特に、雰囲気がイオウ系ガスを微量でも含む場合に変色し易い。さらに、銀膜に付着した砂塵、埃を洗浄する場合、銀膜は洗剤による変色跡を残し易い。保護膜１４はこれらを防止するために光反射層１３上に設けられている。これにより、長期間において、光反射板としての性能維持及び保守管理が可能となる。
光反射層１３である銀膜などは、大気に露出されると変色したり、汚れなどを生じ易い。特に、雰囲気がイオウ系ガスを微量でも含む場合に変色し易い。さらに、銀膜に付着した砂塵、埃を洗浄する場合、銀膜は洗剤による変色跡を残し易い。保護膜１４はこれらを防止するために光反射層１３上に設けられている。これにより、長期間において、光反射板としての性能維持及び保守管理が可能となる。
保護膜１４は、有機樹脂材料、或いは無機材料、又はこれらの混合物からなる膜を用いる。又は、有機樹脂材料の膜と、無機材料の膜との２層で構成されていてもよい。
有機樹脂材料は、透明、かつ薄いポリエステル樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂などを用いることができ、無機材料は、耐汚染性に優れる酸化チタンなどを用いることができる。有機樹脂材料等の膜は、材料を溶解した塗布液を用いた塗布法により又は材料をフィルム状にして貼り付けることにより作製される。
なお、保護膜１４として、増反射膜を用いてもよい。増反射膜は、大きな屈折率の材料、例えばチタン酸化物などからなる層と、小さな屈折率の材料、例えばシリコン酸化物などからなる層を２層に積層したものであり、それらの各層の光学的厚さ（物理的な膜厚×屈折率）をλ／４（λ：光の波長）として全体の光学的厚さをλ／２としたものである。増反射膜を用いることで、光の正反射率をより一層向上させることができる。
（ii）光反射板の別の構造
次に、本発明の第１の実施の形態に係る光反射板の別の構成について説明する。図１（ｂ）は、その構成を示す断面図である。
次に、本発明の第１の実施の形態に係る光反射板の別の構成について説明する。図１（ｂ）は、その構成を示す断面図である。
図１（ｂ）の光反射板１０２の構成において、図１（ａ）と異なるところは、基板１１と光反射層１３との間に、バインダ層１２を介在させている点である。この場合、基板１１とバインダ層１２とが基体を構成する。
バインダ層１２は、基板１１自体の耐食性を向上させ、さらに、基板１１と光反射層１３の間に介在させて基板１１と光反射層１３との密着性を向上させるために設けられる。特に、基板１１として亜鉛めっき又は亜鉛合金めっきを施した鋼板などを用いる場合、光反射層１３との密着性を強固にするためその鋼板上にバインダ層１２を形成することが望ましい。なお、バインダ層１２の表面に、コロナ放電処理あるいはグロー放電処理を施すことにより、その上に積層される銀膜との密着性がさらに向上する。
この構成では、光反射層１３の表面１３ａに、０．１０〜０．３０μｍの算術平均粗さ（Ｒａ）、及び０．３０〜２．５０μｍの算術平均うねり（Ｗａ）の表面性状を付与するため、下地のバインダ層１２の表面１２ａにこれと同じ表面性状が予め付与される。
バインダ層１２として、種々の材料で構成される塗装膜又はフィルムを用いることができる。塗装膜の材料は、基板１１に対して密着性の良い有機樹脂材料であれば、その種類は特に限定されるものではないが、特に、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、アクリル樹脂、２液硬化型ポリウレタン樹脂などの塗料が好適である。フィルムの材料は、ポリエチレン、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂などを用いることができる。バインダ層１２が塗装膜の場合、材料を溶解した塗料を用いた塗布法により基板１１上に作製することができる。また、バインダ層１２がフィルムの場合、フィルムを接着剤等により基板１１に貼り付けることで基板１１上に作製することができる。バインダ層１２は所望の表面性状を付与し得るような膜厚で形成することを要する。
なお、バインダ層１２の表面性状は、光反射層１３の表面性状に、ひいては光反射板の反射特性に影響を及ぼすため、その作製方法が重要である。バインダ層１２に所定の表面性状を付与するためのより詳細なバインダ層１２の作製方法については後述する。
（iii）光反射板の光反射層の表面性状及びその付与方法
次に、光反射板の反射特性に大きな影響を与える光反射層の表面性状及びその付与方法について説明する。
次に、光反射板の反射特性に大きな影響を与える光反射層の表面性状及びその付与方法について説明する。
光反射板の反射特性は、直接的には光反射層１３の表面性状により決まる。そして、光反射板１０１では、光反射層１３の表面性状は基板１１の表面性状を引き継ぐため、基板１１（表面処理金属板の場合は表面処理層の表面）の表面性状を予め調整する必要がある。また、光反射板１０２では、光反射層１３の表面性状はバインダ層１２の表面１２ａの性状を引き継ぐため、バインダ層１２の表面性状を予め調整する必要がある。
光反射板１０１では、基板１１が表面処理金属板の場合、所望の表面性状を付与するため、図２（ａ）に示すように所定の表面性状であるうねりやさらに微小な凹凸を有する圧延ロール１５を、基板（被圧延体）１１の表面１１ａに当接して仕上げ圧延（調質圧延ともいう）を行う。これにより、圧延ロール１５表面の表面性状が基板１１の表面に転写されて基板１１の表面に表面性状が付与される。
調質圧延で用いる圧延ロール１５の表面１５ａに所定の表面性状を予め付与するために、研磨砥石による研磨加工、ショットダル加工、及び放電ダル加工などを用いる。または、レーザーダル加工、電子ビーム加工などを用いてもよい。
調質圧延において、圧延ロールの被圧延体への圧下荷重、及び被圧延体に加える張力など圧延条件を調整することにより、容易に所望の表面性状を得ることができる。
調質圧延では、表面性状の異なる２対の仕上げ圧延ロールを用いて、前段で鏡面仕上げロール圧延を行って表面を平坦にしておき、後段でショットダル仕上げロール圧延を行って表面性状を付与するとよい。表面性状の異なる鏡面仕上げロールと、ショットダルロールとの組み合わせによって、被圧延体の表面性状を精度よく制御できる。
ただし、溶融亜鉛めっきなど、比較的厚い亜鉛めっきを施した冷間圧延鋼板では、めっき前に表面性状を付与するとめっきにより表面性状が変化するので、めっき後に調質圧延を行うことが望ましい。
また、基板（被圧延体）１１がガラス板の場合、物理的な研削、研磨若しくは酸液による化学的なエッチング（侵食）を行うことにより、基板１１に表面性状を付与する。例えば、平坦な板ガラスを平坦で水平なテーブル上に載せて、板ガラスを研削ヘッドの下を通過させるとともに、研削ヘッドに適切な研磨剤を供給する。好適な研磨剤として砂の水性懸濁液を使用する。通常、研削が進行するにつれて段階的に小さな研磨剤粒子を使用し、表面性状を調整する。基板（被圧延体）１１がプラスチック板（フィルムを含む）の場合、ガラス転移点以上の温度に昇温した状態で、所定の表面性状に仕上げた加熱金属ロールを押し当てて表面性状を転写し、基板１１に表面性状を付与する。
一方、光反射板１０２では、バインダ層１２の表面１２ａの性状については、塗料の粘度の調整と、形成膜の厚さの調整とを組み合わせることにより、容易に所望の範囲に調整することができる。例えば、塗料の希釈度を上げて粘度を低くすると、算術平均粗さ（Ｒａ）を小さくできる。一方、塗料の希釈度を下げて粘度を高くするとともに形成膜の厚さに関係する塗料の量を適宜調整すると、算術平均うねり（Ｗａ）を大きくできる。よって、塗料の粘度の調整と、塗料の量の調整を適正に行うことで所望の表面性状が得られることになる。
具体例をあげると、バインダ層１２の材料に２液硬化型ポリウレタン樹脂を使用した場合、主剤と、硬化剤と、溶剤と、レべリング剤との比率を５：１：２０：２に配合し、塗料粘度を粘度カップＮＫ−２／アネスト岩田製）を９〜１０秒とし、スプレーガンにて乾燥後の厚さが３〜８μｍとなるようにバインダ層１２を成膜することにより算術平均粗さ（Ｒａ）及び算術平均うねり（Ｗａ）を所望の範囲に調整できる。
（iv）光反射板の製造方法
次に、図１及び図２を参照して、上記した光反射板１０１の製造方法について説明する。特に、図２（ａ）、（ｂ）は、基板１１に表面性状を付与する方法について示す斜視図である。
次に、図１及び図２を参照して、上記した光反射板１０１の製造方法について説明する。特に、図２（ａ）、（ｂ）は、基板１１に表面性状を付与する方法について示す斜視図である。
まず、通常の冷間圧延鋼板の製造工程に従って、酸洗、冷間圧延、焼鈍を行って作製した冷間圧延鋼板（基板）１１を用意する。
次に、冷間圧延鋼板１１に対して所望の表面性状を付与するため、図２（ａ）、（ｂ）に示すようにして、圧延機で調質圧延を行う。なお、（iii）項の説明では、２対の圧延ロールによる調質圧延を説明したが、この製造方法の説明では、１対の圧延ロールによる調質圧延を実施することとする。図２（ａ）、（ｂ）では、圧延ロールを一つしか表示していないが、実際には一対の圧延ロールが対向して設置されている。
調質圧延では、所定の表面仕上げに研磨された圧延ロールの間に用意した冷間圧延鋼板１１を挟んで移動させることにより圧延を行い、冷間圧延鋼板１１に表面性状を付与する。この場合、圧延条件（圧下荷重、張力）を適宜調整する。この調質圧延により、図２（ｂ）に示すように、冷間圧延鋼板１１の表面１１ａに、０．１０〜０．３０μｍの算術平均粗さ（Ｒａ）、及び０．３０〜２．５０μｍの算術平均うねり（Ｗａ）が付与される。
以上、めっきを施さない冷間圧延鋼板１１における表面形状付与方法について説明したが、上記の調質圧延を施した後に、耐食性付与のため、亜鉛などのめっきを施すこともできる。一例として、亜鉛めっき又は亜鉛合金めっきを施す方法は、溶融亜鉛めっき法、溶融亜鉛合金めっき法、電気亜鉛めっき法、又は電気亜鉛合金めっき法のうちいずれか一つを利用することができる。
溶融亜鉛めっき法、又は溶融亜鉛合金めっき法は、溶融した亜鉛中、又は溶融した亜鉛合金中に鋼板を浸漬して亜鉛又は亜鉛合金を被着する方法である。また、電気亜鉛めっき法、又は電気亜鉛合金めっき法は、亜鉛などを溶解しためっき液中、又は亜鉛合金などを溶解しためっき液中に鋼板を浸漬し、鋼板と亜鉛アノードとの間に電圧を印加して亜鉛又は亜鉛合金を被覆する方法である。
なお、溶融亜鉛めっきなどで比較的厚いめっきを施した鋼板の場合、めっき前に表面性状を付与するとめっきにより表面粗さなどが変化するため、めっき後に調質圧延を行うようにするとよい。
次に、基板１１表面の脱脂のため、基板１１の表面をアルカリ溶液で洗浄する。続いて、イオン交換水または蒸留水を用いて、上記基板１１を水洗し、乾燥する。なお、バインダ層１２の表面状態によっては、アルカリ溶液による洗浄はしなくてもよい。
次に、銀膜を形成するための前処理を行う。
前処理は、基板１１上に錫を形成する処理であり、その後、銀鏡反応を実施する。
前処理では、まず、基板１１の表面に、塩酸を含有する塩化第二錫、塩化第一錫及び塩化第二鉄を含んだ水溶液（前処理活性剤）を塗布して、触媒としての錫を基板１１の表面に形成する。当前処理溶液はｐＨ２以下に調整するのが好ましい。
次いで、イオン交換水、或いは蒸留水を用いて錫を形成させた基板１１の表面を洗浄し、基板１１表面に残る前処理溶液を除去する。
このように前処理を行った後、基板１１上に銀鏡反応により光反射層１３である銀膜形成工程を施す。
銀膜形成工程では、前処理が施された基板１１表面に、スプレー噴射によりｐＨ１０〜１３のアンモニア性硝酸銀水溶液と、還元剤（例えば、硫酸ヒドラジニウム、グリオキサールなど）を含むｐＨ８〜１２の水溶液とを同時に射出する。還元剤水溶液として、還元剤を水に溶解し、或いは希釈したものに水酸化ナトリウムを加えてアルカリ性にしたものを用いる。これにより、基板１１表面に錫を始動核として銀が析出し、銀膜が形成される。
形成された銀膜は基板１１の表面性状を引き継いで、表面１３ａに、０．１０〜０．３０μｍの算術平均粗さ（Ｒａ）、及び０．３０〜２．５０μｍの算術平均うねり（Ｗａ）の表面性状が付与される。
次いで、イオン交換水又は蒸留水を用いて基板１１を洗浄し、光反射層１３の表面に残存しているアンモニア性硝酸銀水溶液と還元剤水溶液を除去する。
続いて、エアブローにて光反射層１３表面に付着している水滴を吹き飛ばす。その後、基板１１を乾燥させる乾燥工程を行う。乾燥条件は、例えば７０℃の温度で２０分とする。
必要に応じ、光反射層１３の上に保護膜１４を形成する。詳しく述べると、保護膜１４は、無機材料又は有機樹脂材料を溶解した塗布液を用いた塗布法により、又は有機樹脂材料をフィルム状にして貼り付けることにより形成する。
以上により、図１（ａ）に示す光反射板１０１が完成する。
以上のように、この実施形態に係る光反射板の製造方法によれば、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１０〜０．３０μｍであり、かつ、算術平均うねり（Ｗａ）が０．３０〜２．５０μｍの表面性状を有する基板１１上に、無電解めっき法等によって、銀膜等からなる光反射層１３を形成している。したがって、基板１１表面の表面性状が光反射層１３に引き継がれるため光反射層１３に容易に所望の表面性状を付与することができる。
なお、上記した光反射板の製造方法では、基板１１上に直接光反射層１３である銀膜を形成しているが、図１（ｂ）に示すように、光反射層１３の形成前に、基板１１上にこの発明の表面性状を有するバインダ層１２を形成してもよい。この場合、基板１１にはこの発明の表面性状を付与しなくてもよい。
基板１１上にこの発明の表面性状を有するバインダ層１２を形成するには、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、アクリル樹脂、又は２液硬化型ポリウレタン樹脂のいずれか一つからなり、粘度を適正に調整した塗料を基板１１上に塗布する。このとき、塗布量を調整し、所定の膜厚が得られるようにする。このようにして塗料を塗布後、乾燥することにより、表面１２ａに、０．１０〜０．３０μｍの算術平均粗さ（Ｒａ）、及び０．３０〜２．５０μｍの算術平均うねり（Ｗａ）の表面性状を有するバインダ層１２が形成される。
また、銀膜の形成方法としてスプレー噴射方式による無電解めっき法を用いているが、浸漬方式を用いることができる。また、その他、電気めっき法や蒸着法を用いてもよい。
また、銀膜の代わりに、アルミニウム膜を用いてもよい。アルミニウム膜を例えば蒸着法により形成する場合、真空度を約１×１０-3Ｐａとし、基板加熱を約３００Ｋとする。
（v）表面性状の特性評価
次に、種々の表面性状を有する光反射板について作製し、その特性を評価した具体的な実施例について、以下に説明する。
次に、種々の表面性状を有する光反射板について作製し、その特性を評価した具体的な実施例について、以下に説明する。
（光反射板の作製条件）
上記の光反射板の製造方法に従って、特性評価に用いる試料として光反射板を作製した。この場合、保護膜１４は省略している。それらは図３の表にまとめて記載されている。
上記の光反射板の製造方法に従って、特性評価に用いる試料として光反射板を作製した。この場合、保護膜１４は省略している。それらは図３の表にまとめて記載されている。
（実施例１（Ａ１））
算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１μｍで、算術平均うねり（Ｗａ）が０．３μｍの表面性状を付与した冷間圧延鋼板（基板１１、以下同じ）上に、ｐＨ１０程度のアンモニア性硝酸銀水溶液とｐＨ１０程度の還元剤（硫酸ヒドラジニウム）水溶液とを用いた無電解めっき法により厚さ１００ｎｍの銀（Ａｇ）膜（光反射層１３、以下同じ）を形成した。
算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１μｍで、算術平均うねり（Ｗａ）が０．３μｍの表面性状を付与した冷間圧延鋼板（基板１１、以下同じ）上に、ｐＨ１０程度のアンモニア性硝酸銀水溶液とｐＨ１０程度の還元剤（硫酸ヒドラジニウム）水溶液とを用いた無電解めっき法により厚さ１００ｎｍの銀（Ａｇ）膜（光反射層１３、以下同じ）を形成した。
なお、算術平均粗さ（Ｒａ）、算術平均うねり（Ｗａ）は、下記の（特性評価）の項に基づき測定したものである。以下、同じである。また、図３の表では、基板１１の冷間圧延鋼板を単に鋼板と記載した。以下同じである。
（実施例２（Ａ２））
算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１１μｍで、算術平均うねり（Ｗａ）が０．８９μｍの表面性状を付与したアルミニウム（Ａｌ）板（基板１１、以下同じ）上に、実施例１と同じ無電解めっき法により厚さ１００ｎｍの銀（Ａｇ）膜を形成した。
算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１１μｍで、算術平均うねり（Ｗａ）が０．８９μｍの表面性状を付与したアルミニウム（Ａｌ）板（基板１１、以下同じ）上に、実施例１と同じ無電解めっき法により厚さ１００ｎｍの銀（Ａｇ）膜を形成した。
（実施例３（Ａ３））
算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１１μｍで、算術平均うねり（Ｗａ）が２．５μｍの表面性状を付与したアルミニウム（Ａｌ）板上に、実施例１と同じ無電解めっき法により厚さ１００ｎｍの銀（Ａｇ）膜を形成した。
算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１１μｍで、算術平均うねり（Ｗａ）が２．５μｍの表面性状を付与したアルミニウム（Ａｌ）板上に、実施例１と同じ無電解めっき法により厚さ１００ｎｍの銀（Ａｇ）膜を形成した。
（実施例４（Ａ４））
算術平均粗さ（Ｒａ）が０．２１μｍで、算術平均うねり（Ｗａ）が１．１μｍの表面性状を付与した冷間圧延鋼板上に、実施例１と同じ無電解めっき法により厚さ１００ｎｍの銀（Ａｇ）膜を形成した。
算術平均粗さ（Ｒａ）が０．２１μｍで、算術平均うねり（Ｗａ）が１．１μｍの表面性状を付与した冷間圧延鋼板上に、実施例１と同じ無電解めっき法により厚さ１００ｎｍの銀（Ａｇ）膜を形成した。
（実施例５（Ａ５））
冷間圧延鋼板（基板１１）上に、スプレー塗装により算術平均粗さ（Ｒａ）が０．２２μｍで、算術平均うねり（Ｗａ）が１．０μｍの表面性状を付与したアクリル樹脂膜（バインダ層１２）を形成し、アクリル樹脂膜上に実施例１と同じ無電解めっき法により厚さ１００ｎｍの銀（Ａｇ）膜を形成した。
冷間圧延鋼板（基板１１）上に、スプレー塗装により算術平均粗さ（Ｒａ）が０．２２μｍで、算術平均うねり（Ｗａ）が１．０μｍの表面性状を付与したアクリル樹脂膜（バインダ層１２）を形成し、アクリル樹脂膜上に実施例１と同じ無電解めっき法により厚さ１００ｎｍの銀（Ａｇ）膜を形成した。
（実施例６（Ａ６））
算術平均粗さ（Ｒａ）が０．２９μｍで、算術平均うねり（Ｗａ）が０．３３μｍの表面性状を付与した冷間圧延鋼板上に、実施例１と同じ無電解めっき法により厚さ１００ｎｍの銀（Ａｇ）膜を形成した。
算術平均粗さ（Ｒａ）が０．２９μｍで、算術平均うねり（Ｗａ）が０．３３μｍの表面性状を付与した冷間圧延鋼板上に、実施例１と同じ無電解めっき法により厚さ１００ｎｍの銀（Ａｇ）膜を形成した。
（実施例７（Ａ７））
算術平均粗さ（Ｒａ）が０．３μｍで、算術平均うねり（Ｗａ）が２．５μｍの表面性状を付与した冷間圧延鋼板上に、蒸着法により、真空度を約１×１０-3Ｐａとし、基板加熱を約３００Ｋとして、厚さ０．０５μｍのアルミニウム（Ａｌ）膜（光反射層１３）を形成した。
算術平均粗さ（Ｒａ）が０．３μｍで、算術平均うねり（Ｗａ）が２．５μｍの表面性状を付与した冷間圧延鋼板上に、蒸着法により、真空度を約１×１０-3Ｐａとし、基板加熱を約３００Ｋとして、厚さ０．０５μｍのアルミニウム（Ａｌ）膜（光反射層１３）を形成した。
（比較例１（Ｂ１））
算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０５μｍで、算術平均うねり（Ｗａ）が０．１５μｍの表面性状を付与した冷間圧延鋼板上に、実施例１と同じ無電解めっき法により厚さ１００ｎｍの銀（Ａｇ）膜を形成した。
算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０５μｍで、算術平均うねり（Ｗａ）が０．１５μｍの表面性状を付与した冷間圧延鋼板上に、実施例１と同じ無電解めっき法により厚さ１００ｎｍの銀（Ａｇ）膜を形成した。
（比較例２（Ｂ２））
算術平均粗さ（Ｒａ）が０．２μｍで、算術平均うねり（Ｗａ）が３．２μｍの表面性状を付与した冷間圧延鋼板上に、実施例１と同じ無電解めっき法により厚さ１００ｎｍの銀（Ａｇ）膜を形成した。
算術平均粗さ（Ｒａ）が０．２μｍで、算術平均うねり（Ｗａ）が３．２μｍの表面性状を付与した冷間圧延鋼板上に、実施例１と同じ無電解めっき法により厚さ１００ｎｍの銀（Ａｇ）膜を形成した。
（比較例３（Ｂ３））
算術平均粗さ（Ｒａ）が０．４９μｍで、算術平均うねり（Ｗａ）が０．３μｍの表面性状を付与した冷間圧延鋼板上に、実施例１と同じ無電解めっき法により厚さ１００ｎｍの銀（Ａｇ）膜を形成した。
算術平均粗さ（Ｒａ）が０．４９μｍで、算術平均うねり（Ｗａ）が０．３μｍの表面性状を付与した冷間圧延鋼板上に、実施例１と同じ無電解めっき法により厚さ１００ｎｍの銀（Ａｇ）膜を形成した。
（比較例４（Ｂ４））
算術平均粗さ（Ｒａ）が０．６μｍで、算術平均うねり（Ｗａ）が１．１μｍの表面性状を付与した冷間圧延鋼板上に、実施例１と同じ無電解めっき法により厚さ１００ｎｍの銀（Ａｇ）膜を形成した。
算術平均粗さ（Ｒａ）が０．６μｍで、算術平均うねり（Ｗａ）が１．１μｍの表面性状を付与した冷間圧延鋼板上に、実施例１と同じ無電解めっき法により厚さ１００ｎｍの銀（Ａｇ）膜を形成した。
（特性評価）
各試料について、算術平均粗さ（Ｒａ）、算術平均うねり（Ｗａ）を測定し、さらに、正反射率及び光反射投影幅（Ｓ）を測定した。測定結果は図３の表にまとめて記載されている。
各試料について、算術平均粗さ（Ｒａ）、算術平均うねり（Ｗａ）を測定し、さらに、正反射率及び光反射投影幅（Ｓ）を測定した。測定結果は図３の表にまとめて記載されている。
（算術平均粗さ（Ｒａ）、算術平均うねり（Ｗａ）の評価方法及び条件）
算術平均粗さ（Ｒａ）、及び算術平均うねり（Ｗａ）をＪＩＳＢ０６０１に規定された方法により、表１に記載の条件で測定した。
算術平均粗さ（Ｒａ）、及び算術平均うねり（Ｗａ）をＪＩＳＢ０６０１に規定された方法により、表１に記載の条件で測定した。
正反射率は、例えば光ダクト内における光伝送性能を表す指標であり、正反射率が大きいほど光伝送効率は高い。
正反射率は、実測された全反射率から、同じく実測された拡散反射率を差し引いて求められる。その全反射率及び拡散反射率は、分光測色計（ミノルタ社製、型式ＣＭ−３５００ｄ、波長：５５０ｎｍ）を使用し、ＪＩＳＺ８７２２の条件（ｃ）の規定に基づき測定した。実用的な光伝送効率に対応する正反射率が８８％以上を合格とした。
（光反射投影幅（Ｓ）の評価方法及び条件）
光反射投影幅（Ｓ）は眩しさを軽減する指標であり、光反射投影幅（Ｓ）が大きいほど、正反射の一部が拡散反射に移行し反射光の眩しさが軽減されることになる。
光反射投影幅（Ｓ）は眩しさを軽減する指標であり、光反射投影幅（Ｓ）が大きいほど、正反射の一部が拡散反射に移行し反射光の眩しさが軽減されることになる。
光反射投影幅（Ｓ）は、図７に示す測定法により測定することができる。その測定法においては、同図に示すように、測定試料２３の表面に対してレーザ光線２７（測定試料面における投影円２５の長径が５ｍｍ）を角度４５°で照射し、その反射光線を投影円２５から３０ｃｍ離れた位置に垂直に立設した投影スクリーン２６に向けて投影する。
その結果、投影スクリーン２６に、レーザ光線の反射投影楕円２４が測定試料２３の表面性状に対応する反射投影幅（Ｓ：楕円の長径）で投影される。測定試料表面において算術平均うねり（Ｗａ）で表されるうねりが大きくなるに従い、反射投影幅が大きくなるとともにその輪郭が明瞭でなくなる。
本実施形態においては、反射光が眩しく感じられなくなる光反射板について、この光反射投影幅（Ｓ）が１２ｍｍ以上を合格とした。図３の表の評価欄において、正反射率が８８％以上、及び光反射投影幅（Ｓ）が１２ｍｍ以上を満足する試料を合格の記号○で示し、いずれか一つでも満足しない試料を不合格の記号×で示した。
（評価結果）
正反射率により算術平均粗さ（Ｒａ）及び算術平均うねり（Ｗａ）を評価（評価１）し、光反射投影幅（Ｓ）により算術平均粗さ（Ｒａ）及び算術平均うねり（Ｗａ）を評価（評価２）した。
正反射率により算術平均粗さ（Ｒａ）及び算術平均うねり（Ｗａ）を評価（評価１）し、光反射投影幅（Ｓ）により算術平均粗さ（Ｒａ）及び算術平均うねり（Ｗａ）を評価（評価２）した。
（評価１）
図４は、図３の表の測定結果を用いて作成した、算術平均粗さ（Ｒａ）と正反射率との関係を示すグラフである。グラフ中に記入した数字は試料番号を示す。グラフでは各試料ごとに算術平均うねり（Ｗａ）の範囲が分かるように表示してある。白丸（○）は算術平均うねり（Ｗａ）が０．０５〜２．５μｍの範囲にある試料を示し、黒丸（●）は算術平均うねり（Ｗａ）が３．２μｍの試料を示す。
図４は、図３の表の測定結果を用いて作成した、算術平均粗さ（Ｒａ）と正反射率との関係を示すグラフである。グラフ中に記入した数字は試料番号を示す。グラフでは各試料ごとに算術平均うねり（Ｗａ）の範囲が分かるように表示してある。白丸（○）は算術平均うねり（Ｗａ）が０．０５〜２．５μｍの範囲にある試料を示し、黒丸（●）は算術平均うねり（Ｗａ）が３．２μｍの試料を示す。
図４によれば、算術平均うねり（Ｗａ）が０．０５〜２．５μｍの試料では、正反射率は算術平均粗さ（Ｒａ）と概ね一定の関係がある。すなわち、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．３μｍ以下では、正反射率は８８％と十分に大きな値が確保されるが、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．３μｍを超えると正反射率の低下が大きくなる。したがって、十分に大きな、反射による光伝送効率を確保するためには、光反射層１３の膜面の算術平均粗さ（Ｒａ）の上限を０．３μｍとすることが好ましい。
一方、算術平均うねり（Ｗａ）が３．２０μｍの試料（比較例２（●印））では、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．３μｍ以下であっても、正反射率は８５．６％と低く、反射による光伝送効率が良くない。
（評価２）
次に、図５は、図３の表の測定結果を用いて作成した、算術平均うねり（Ｗａ）と光反射投影幅（Ｓ）の関係を示すグラフである。グラフ中に記入した数字は試料番号を示す。
次に、図５は、図３の表の測定結果を用いて作成した、算術平均うねり（Ｗａ）と光反射投影幅（Ｓ）の関係を示すグラフである。グラフ中に記入した数字は試料番号を示す。
図５によれば、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１〜０．３μｍの各試料では、光反射投影幅（Ｓ）は算術平均うねり（Ｗａ）が０．２μｍ付近で大きく上昇し、算術平均うねり（Ｗａ）が０．３μｍ以上で合格値である１２ｍｍ以上となる。
一方、比較例３、４では、光反射投影幅（Ｓ）は２８ｍｍ、３５ｍｍと大きく、眩しさ軽減の点では良好であるが、正反射率は８８％未満であり、光伝送効率が劣る。
また、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ未満である比較例１は、正反射率は高いが、光反射投影幅（Ｓ）が１２ｍｍ未満となっており、眩しさは軽減されない。
また、アルミニウム基板を使用した実施例２及び３、基板１１と光反射層１３の間にバインダ層（アクリル樹脂）１２を介在させた実施例５、及び光反射層１２としてアルミニウム膜を使用した実施例７も、表面性状（算術平均粗さ（Ｒａ）及び算術平均うねり（Ｗａ））を所定の範囲に設定することにより、十分に大きな光反射投影幅（Ｓ）を得ることができ、よって、眩しさの軽減効果がある。
以上のように、本発明の実施の形態の光反射板によれば、銀或いは銀合金の膜、又はアルミニウム或いはアルミニウム合金の膜からなる光反射層１３を備えているので、特に可視光全域にわたって反射効率が優れている。
また、光反射層１３表面の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１０〜０．３０μｍと小さいため、正反射による光反射率を高く維持することができる。しかも、同じ光反射層１３の表面に算術平均うねり（Ｗａ）を設け、かつ算術平均うねり（Ｗａ）の範囲を０．３〜２．５μｍとしているため、正反射による光反射率を低下させずに光の拡散反射を起こさせることができる。
これにより、正反射による光反射率を高く維持しつつ、反射光の眩しさを軽減することができる。
（３）本発明の第２の実施の形態に係る光反射装置の説明
（ｉ）光ダクト
図８は、本発明の第２の実施の形態に係る光ダクトの構成を示す断面図である。図８では、実際に屋内と屋外とを仕切る家の屋根３１に設置された光ダクト１０３を示す。
（ｉ）光ダクト
図８は、本発明の第２の実施の形態に係る光ダクトの構成を示す断面図である。図８では、実際に屋内と屋外とを仕切る家の屋根３１に設置された光ダクト１０３を示す。
光ダクト１０３は、屋外に設けられた採光部３２と、屋内に設けられた放光部３４と、採光部３２と放光部３４とを結ぶ導光部３３とを有する。導光部３３の仕切り壁３３ａの内面は、図６（ｃ）に示すような光反射面を有する。
仕切り壁３３ａは、図１（ａ）に示す光反射板１０１又は図１（ｂ）に示す光反射板１０２を用いて作製されている。例えば、基板１１として、比較的厚い金属板、又はプラスチック板を採用した場合は、光反射層側を内壁面としてこれらの板自体をダクトの形に成形して設置することができる。一方、基板１１として、箔と呼ばれる薄い金属板、又はプラスチックフィルムなどを採用した場合は、剛性の高い別部材で製作した光ダクト成形体の内壁面に貼着施工する。
この実施例の光ダクトによれば、光ダクト内壁の光反射面において算術平均粗さ（Ｒａ）及び算術平均うねり（Ｗａ）の範囲が適正に規定されているため、採光部３２から採りこまれた太陽光線を、光ダクト１０３の内壁で拡散反射させながら高い反射伝送効率を維持して伝播させることができる。図８に示すように、光は、光ダクト内で拡散反射により光線束を広げながら伝播するため、放光部３４では均一に光線が放射されるようになる。これにより、照明ムラを防止できるとともに、照明光の眩しさも軽減することができる。
以上、実施の形態によりこの発明を詳細に説明したが、この発明の範囲は上記実施の形態に具体的に示した例に限られるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の上記実施の形態の変更はこの発明の範囲に含まれる。
本発明の光反射板は、光反射板を構成する光反射層表面の表面性状を所定の範囲に設定することにより、正反射による光伝送効率を高く維持しながら、従来問題となっていた反射光の眩しさを軽減することができる。その光反射板を、日当たりの悪い建造物、地下室などに太陽光などを照明光源として導く光ダクトに使用することで、照明ムラを防止して光ダクトの性能を大幅に向上させることができる。
１１ 基板
１１ａ 表面性状が付与された基板の表面
１２ バインダ層
１２ａ 表面性状が付与されたバインダ層の表面
１３ 光反射層
１３ａ 表面性状が付与された光反射層の表面
１４ 保護膜
２０ｃ 反射面
２２ｃ 反射光
３１ 屋根
３２ 採光部
３３ 導光部
３３ａ 仕切り壁
３４ 放光部
１０１、１０２ 光反射板
１０３ 光ダクト
１１ａ 表面性状が付与された基板の表面
１２ バインダ層
１２ａ 表面性状が付与されたバインダ層の表面
１３ 光反射層
１３ａ 表面性状が付与された光反射層の表面
１４ 保護膜
２０ｃ 反射面
２２ｃ 反射光
３１ 屋根
３２ 採光部
３３ 導光部
３３ａ 仕切り壁
３４ 放光部
１０１、１０２ 光反射板
１０３ 光ダクト
Claims (17)
- 基体と、
前記基体上に形成された、銀或いは銀合金、又はアルミニウム或いはアルミニウム合金からなる光反射層とを備え、
前記光反射層の表面において、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１０〜０．３０μｍであり、かつ、算術平均うねり（Ｗａ）が０．３０〜２．５０μｍであることを特徴とする光反射板。 - 前記基体は、鉄を主成分とし、クロムを１１％未満含有する鋼板に亜鉛めっき又は亜鉛合金めっきを施してなる基板であり、又は該基板の上にバインダ層が形成されたものであることを特徴とする請求項１記載の光反射板。
- 前記基体は、ステンレス基板であり、又は該ステンレス基板の上にバインダ層が形成されたものであることを特徴とする請求項１記載の光反射板。
- 前記基体は、アルミニウム若しくはアルミニウム合金からなる基板であり、又は該基板の上にバインダ層が形成されたものであることを特徴とする請求項１記載の光反射板。
- 前記基体は、ガラス基板、或いはプラスチック基板であり、又はこれらの基板の上にバインダ層が形成されたものであることを特徴とする請求項１記載の光反射板。
- 前記バインダ層は、有機樹脂材料、或いは無機材料、又はこれらの混合物の膜であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の光反射板。
- 前記光反射層の表面が保護膜で被覆されていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の光反射板。
- 前記保護膜は、有機樹脂材料、或いは無機材料、又はこれらの混合物の膜であることを特徴とする請求項７記載の光反射板。
- 前記保護膜は、有機樹脂材料の膜と、無機材料の膜との２層で構成されていることを特徴とする請求項７記載の光反射板。
- 算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１０〜０．３０μｍであり、かつ、算術平均うねり（Ｗａ）が０．３０〜２．５０μｍの表面性状を有する基体を用意する工程と、
前記基体上に、電解めっき法、無電解めっき法、或いは蒸着法のいずれか一つによって、銀或いは銀合金、又はアルミニウム或いはアルミニウム合金の膜からなる光反射層を形成する工程とを有することを特徴とする光反射板の製造方法。 - 前記光反射層を形成する工程の後、該光反射層上に保護膜を形成する工程を有することを特徴とする請求項１０記載の光反射板の製造方法。
- 前記基体は、鋼板基板、又はアルミニウム基板で構成され、該基板の圧延時に該基板の表面に前記算術平均粗さ（Ｒａ）及び算術平均うねり（Ｗａ）を付与することを特徴とする請求項１０又は１１に記載の光反射板の製造方法。
- 前記基体は、ガラス基板、或いはプラスチック基板であり、該基板の形成時に該基板の表面に前記算術平均粗さ（Ｒａ）及び算術平均うねり（Ｗａ）を付与することを特徴とする請求項１０又は１１に記載の光反射板の製造方法。
- 前記基体は、基板上にバインダ層が塗布法により形成されてなり、
該バインダ層の形成時に塗布液の粘度及び塗布液の量を調整することにより、前記バインダ層の表面に前記算術平均粗さ（Ｒａ）及び算術平均うねり（Ｗａ）を付与することを特徴とする請求項１０又は１１に記載の光反射板の製造方法。 - 請求項１乃至９のいずれか１項に記載の光反射板を備えたことを特徴とする光反射装置。
- 請求項１０乃至１４のいずれか１項に記載の光反射板の製造方法で製造した光反射板を備えたことを特徴とする光反射装置。
- 前記光反射装置は、採光部と導光部と放光部とを有する光ダクトであり、前記光反射板が前記導光部の内壁に設けられたことを特徴とする請求項１５又は１６記載の光反射装置。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007190877A JP4971061B2 (ja) | 2007-07-23 | 2007-07-23 | 光反射板及びその製造方法及び光反射装置 |
| CN2008800197525A CN101680975B (zh) | 2007-07-23 | 2008-06-09 | 光反射板及其制造方法、以及光反射装置 |
| EP08765317.6A EP2172793B1 (en) | 2007-07-23 | 2008-06-09 | Light reflection plate, process for producing the light reflection plate, and light reflection apparatus |
| PCT/JP2008/060516 WO2009013944A1 (ja) | 2007-07-23 | 2008-06-09 | 光反射板及びその製造方法及び光反射装置 |
| TW097122143A TWI441944B (zh) | 2007-07-23 | 2008-06-13 | A light reflecting plate, a manufacturing method thereof, and a light reflecting device |
| US12/618,191 US7857470B2 (en) | 2007-07-23 | 2009-11-13 | Light reflecting plate and method of manufacturing the same, and light reflecting device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007190877A JP4971061B2 (ja) | 2007-07-23 | 2007-07-23 | 光反射板及びその製造方法及び光反射装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2009025716A JP2009025716A (ja) | 2009-02-05 |
| JP4971061B2 true JP4971061B2 (ja) | 2012-07-11 |
Family
ID=40281203
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007190877A Active JP4971061B2 (ja) | 2007-07-23 | 2007-07-23 | 光反射板及びその製造方法及び光反射装置 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7857470B2 (ja) |
| EP (1) | EP2172793B1 (ja) |
| JP (1) | JP4971061B2 (ja) |
| CN (1) | CN101680975B (ja) |
| TW (1) | TWI441944B (ja) |
| WO (1) | WO2009013944A1 (ja) |
Families Citing this family (36)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100918246B1 (ko) | 2009-04-22 | 2009-09-18 | 제일설계(주) | 보호 스크린을 가진 등기구 |
| US8603648B2 (en) * | 2010-02-01 | 2013-12-10 | Kobe Steel, Ltd. | Reflective film laminate |
| DE102010007840A1 (de) * | 2010-02-11 | 2011-08-11 | Wieland-Werke AG, 89079 | Elektromechanisches Bauelement oder Gleitelement |
| US8601757B2 (en) * | 2010-05-27 | 2013-12-10 | Solatube International, Inc. | Thermally insulating fenestration devices and methods |
| CN102338896A (zh) * | 2010-07-28 | 2012-02-01 | 盛玉林 | 具有光扩散功能的反射片 |
| JP5609406B2 (ja) * | 2010-08-09 | 2014-10-22 | デクセリアルズ株式会社 | 光学素子およびその製造方法ならびに照明装置、窓材および建具 |
| DE102010039927A1 (de) * | 2010-08-30 | 2012-03-01 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Substrat für Spiegel für die EUV-Lithographie |
| EP2634607A4 (en) * | 2010-10-27 | 2014-03-05 | Konica Minolta Inc | THIN-FILM MIRROR, MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND REFLECTION DEVICE FOR PRODUCING SOLAR ELECTRICITY |
| JP5829028B2 (ja) * | 2011-01-26 | 2015-12-09 | 東洋鋼鈑株式会社 | 光反射板、光反射板の製造方法およびそれを用いた照明用部材 |
| KR20120102443A (ko) | 2011-03-08 | 2012-09-18 | 삼성전자주식회사 | 조명 장치 및 그를 구비하는 디스플레이 장치 |
| JP6023405B2 (ja) * | 2011-06-10 | 2016-11-09 | 東洋鋼鈑株式会社 | 植物工場用の採光装置および植物の育成方法 |
| JP5163792B2 (ja) * | 2011-08-26 | 2013-03-13 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 太陽光反射板および集光集熱装置 |
| CN102590906A (zh) * | 2012-02-29 | 2012-07-18 | 北京化工大学 | 一种高分子基复合结构漫反射材料 |
| JP6243106B2 (ja) * | 2012-07-17 | 2017-12-06 | 東洋鋼鈑株式会社 | 光反射板の製造方法、光反射板およびそれを用いた照明用部材 |
| FR2995245B1 (fr) * | 2012-09-10 | 2015-05-15 | Saint Gobain | Vitrage decoratif a couche reflechissante deposee sur un substrat texture |
| JP2014201801A (ja) * | 2013-04-05 | 2014-10-27 | カヤバ工業株式会社 | 銀メッキ構造体 |
| TWI499692B (zh) * | 2013-06-17 | 2015-09-11 | China Steel Corp | For the use of steel plate hot dip bath immersed roller |
| CN103422128B (zh) * | 2013-08-30 | 2015-10-14 | 集美大学 | 利用超声-脉冲电铸制备高反光度微棱镜反光膜工作模的方法 |
| CN103436922B (zh) * | 2013-08-30 | 2016-05-04 | 集美大学 | 利用超声电铸制备高反光度微棱镜反光膜工作模的方法 |
| DE102013112378B4 (de) * | 2013-11-11 | 2021-04-22 | Thyssenkrupp Rasselstein Gmbh | Reflektor für solarthermische Systeme und Verfahren zur Herstellung eines solchen Reflektors |
| CN104676491A (zh) * | 2013-11-29 | 2015-06-03 | 台达电子工业股份有限公司 | 波长转换装置 |
| MX2016009884A (es) * | 2014-01-30 | 2016-10-31 | Arcelormittal | Metodo para fabricacion de partes con ondulacion baja de una hoja metalica electrogalvanizada, parte y vehiculo correspondiente. |
| JP2016133562A (ja) * | 2015-01-16 | 2016-07-25 | 株式会社 マテリアルハウス | ボイドスペース導光システムおよびそのための光拡散鏡面作用部 |
| KR102601220B1 (ko) * | 2015-03-02 | 2023-11-09 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 방사선 시스템 |
| CN105182463A (zh) | 2015-08-14 | 2015-12-23 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种导光板及显示装置 |
| EP3263649A1 (en) * | 2016-06-27 | 2018-01-03 | Viavi Solutions Inc. | Optical devices |
| JP2020046445A (ja) * | 2017-01-18 | 2020-03-26 | Ａｇｃ株式会社 | Ｃｓｐミラー、およびｃｓｐミラー用の膜付きガラス基板の製造方法 |
| JP2019020484A (ja) * | 2017-07-12 | 2019-02-07 | 株式会社クラレ | ディスプレイ用スクリーン、及びその製造方法 |
| JP6771190B2 (ja) * | 2017-10-30 | 2020-10-21 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 樹脂判定方法及び装置 |
| TWI688129B (zh) * | 2018-07-02 | 2020-03-11 | 安森科技材料股份有限公司 | 鋁合金導線架及其製造方法 |
| CN110690338B (zh) * | 2018-07-04 | 2021-03-23 | 安森科技材料股份有限公司 | 铝合金导线架及其制造方法 |
| CN109192093A (zh) * | 2018-09-17 | 2019-01-11 | 合肥通路光学科技有限公司 | 衣帽用反光警示牌 |
| US11263315B2 (en) | 2018-12-03 | 2022-03-01 | Ebay Inc. | System level function based access control for smart contract execution on a blockchain |
| US11250125B2 (en) | 2018-12-03 | 2022-02-15 | Ebay Inc. | Highly scalable permissioned block chains |
| US11405182B2 (en) | 2018-12-03 | 2022-08-02 | Ebay Inc. | Adaptive security for smart contracts using high granularity metrics |
| JP7363034B2 (ja) * | 2019-01-17 | 2023-10-18 | 三菱ケミカル株式会社 | 硬化物 |
Family Cites Families (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5893101A (ja) * | 1981-11-26 | 1983-06-02 | 日鐵カ−テンオ−ル工事株式会社 | 採光システム |
| JP3249730B2 (ja) * | 1995-10-26 | 2002-01-21 | 松下電工株式会社 | 照明用反射鏡の製造方法 |
| JPH10142407A (ja) * | 1996-11-08 | 1998-05-29 | Nitto Denko Corp | 反射板、面光源装置及び液晶表示装置 |
| DE19708776C1 (de) * | 1997-03-04 | 1998-06-18 | Fraunhofer Ges Forschung | Entspiegelungsschicht sowie Verfahren zur Herstellung derselben |
| US6138490A (en) * | 1998-07-17 | 2000-10-31 | Pechiney Rolled Products Llc | Process for rendering a metal sheet suitable for lighting applications and sheet produced thereby |
| JP4148574B2 (ja) * | 1998-11-02 | 2008-09-10 | 株式会社日建設計 | 光ダクト用光拡散装置 |
| JP2001174803A (ja) * | 1999-12-15 | 2001-06-29 | Mitsumura Printing Co Ltd | 反射型液晶表示装置の反射板製造法 |
| TW594218B (en) * | 2000-07-03 | 2004-06-21 | Alps Electric Co Ltd | Reflector and reflective liquid crystal display device |
| US7146768B2 (en) * | 2001-03-30 | 2006-12-12 | Solatube International, Inc. | Skylight tube with reflective film and surface irregularities |
| WO2005081021A1 (ja) * | 2004-02-24 | 2005-09-01 | Matsushita Electric Works, Ltd. | 光反射体及びこの光反射体を有する照明器具 |
| JP2005275029A (ja) * | 2004-03-25 | 2005-10-06 | Nikon Corp | 裏面反射鏡及びそれを備えるペンタプリズム |
| US20060153979A1 (en) * | 2004-11-30 | 2006-07-13 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Anti-glare and anti-reflection film, polarizing plate using the anti-glare and anti-reflection film, and liquid crystal display device using the polarizing plate |
| JP2006228508A (ja) * | 2005-02-16 | 2006-08-31 | Nikken Sekkei Ltd | 縦型光ダクトの光拡散装置 |
| US20060191241A1 (en) | 2005-02-28 | 2006-08-31 | Deutsch Timothy A | Module wrap removal |
| JP2007140201A (ja) * | 2005-11-18 | 2007-06-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 反射体 |
| JP2007178998A (ja) * | 2005-12-01 | 2007-07-12 | Sekisui Film Kk | 反射フィルム、反射積層フィルム及び反射積層板 |
| JP5011877B2 (ja) * | 2006-08-04 | 2012-08-29 | 凸版印刷株式会社 | 防眩性光拡散部材及び防眩性光拡散部材を有するディスプレイ |
-
2007
- 2007-07-23 JP JP2007190877A patent/JP4971061B2/ja active Active
-
2008
- 2008-06-09 WO PCT/JP2008/060516 patent/WO2009013944A1/ja active Application Filing
- 2008-06-09 CN CN2008800197525A patent/CN101680975B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2008-06-09 EP EP08765317.6A patent/EP2172793B1/en not_active Not-in-force
- 2008-06-13 TW TW097122143A patent/TWI441944B/zh not_active IP Right Cessation
-
2009
- 2009-11-13 US US12/618,191 patent/US7857470B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2009013944A1 (ja) | 2009-01-29 |
| CN101680975A (zh) | 2010-03-24 |
| CN101680975B (zh) | 2012-10-17 |
| EP2172793A1 (en) | 2010-04-07 |
| JP2009025716A (ja) | 2009-02-05 |
| TWI441944B (zh) | 2014-06-21 |
| EP2172793B1 (en) | 2015-04-08 |
| US20100053785A1 (en) | 2010-03-04 |
| US7857470B2 (en) | 2010-12-28 |
| EP2172793A4 (en) | 2012-05-16 |
| TW200916602A (en) | 2009-04-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4971061B2 (ja) | 光反射板及びその製造方法及び光反射装置 | |
| JP5457176B2 (ja) | 光反射板の製造方法 | |
| US9279912B2 (en) | Anti-glare glass article and display system | |
| TWI647488B (zh) | 光學組件與其製造方法、以及窗戶組件與建材 | |
| EP2646382B1 (en) | Anti-glare surface treatment method and articles thereof | |
| KR101116973B1 (ko) | 도장강판, 이 도장강판제의 텔레비전용 패널 및 도장강판의 제조방법 | |
| US8545031B2 (en) | Mirror | |
| US11078590B2 (en) | Plated steel | |
| TW200426025A (en) | Precoated metal sheet for light reflectors | |
| JP5081502B2 (ja) | 光反射板 | |
| WO2018143370A1 (ja) | 反射防止膜、反射防止膜の製造方法、型および型の製造方法 | |
| US20100239754A1 (en) | Mirror | |
| ES2733581T3 (es) | Espejo | |
| US9556069B2 (en) | Mirror with optional protective paint layer, and/or methods of making the same | |
| JP4324096B2 (ja) | 反射性と成形加工性に優れる塗装金属板及びその製造方法 | |
| CN100483162C (zh) | 可见光反射板和装有该反射板的电气电子设备 | |
| JP2008046477A (ja) | 液晶バックライト用反射板 | |
| CN106957153A (zh) | 一种汽车玻璃镀膜的方法 | |
| JP6243106B2 (ja) | 光反射板の製造方法、光反射板およびそれを用いた照明用部材 | |
| JP2002258276A (ja) | 液晶ディスプレイパネルの反射板 | |
| JP2019155871A (ja) | 被覆めっき鋼板 | |
| JP5829028B2 (ja) | 光反射板、光反射板の製造方法およびそれを用いた照明用部材 | |
| JP3818016B2 (ja) | 耐疵付き性に優れた意匠性クリア塗装金属板 | |
| JP2009237002A (ja) | 光反射性アルミニウム材 | |
| JPH07150367A (ja) | 意匠性に優れた表面処理材の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100209 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120403 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120405 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150413 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4971061 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |