WO2015159797A1

WO2015159797A1 - 型、型の製造方法、反射防止膜および反射防止膜の製造方法

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Publication number: WO2015159797A1
Application number: PCT/JP2015/061119
Authority: WO
Inventors: 隆裕中原; 美穂山田; 箕浦　潔
Original assignee: シャープ株式会社
Priority date: 2014-04-14
Filing date: 2015-04-09
Publication date: 2015-10-22
Also published as: JPWO2015159797A1; US10549458B2; US20170028591A1; JP6309081B2

Abstract

　型（１００）の製造方法は、Ａｌ－Ｍｇ－Ｓｉ系のアルミニウム合金で形成された円筒状のアルミニウム基材（１２）であって、機械的な鏡面加工が施されたアルミニウム基材（１２）を用意する工程と、アルミニウム基材（１２）の表面をフッ化水素とアンモニウムとの塩を含む水溶液によって梨地処理する工程と、その後で、アルミニウム基材（１２）の表面に無機材料層（１６）を形成し、無機材料層（１６）の上にアルミニウム膜（１８）を形成することによって、型基材（１０）を作製する工程と、型基材（１０）のアルミニウム膜（１８）の表面に対して、陽極酸化とエッチングとを交互に繰り返し、複数のミクロな凹部（１４ｐ）を有する反転されたモスアイ構造を形成する工程とを包含する。

Description

型、型の製造方法、反射防止膜および反射防止膜の製造方法

　本発明は、型、型の製造方法、型を用いて製造される反射防止膜、および反射防止膜の製造方法に関する。ここでいう「型」は、種々の加工方法（スタンピングやキャスティング）に用いられる型を包含し、スタンパということもある。また、印刷（ナノプリントを含む）にも用いられ得る。

　テレビや携帯電話などに用いられる表示装置やカメラレンズなどの光学素子には、通常、表面反射を低減して光の透過量を高めるために反射防止技術が施されている。例えば、空気とガラスとの界面を光が入射する場合のように屈折率が異なる媒体の界面を光が通過する場合、フレネル反射などによって光の透過量が低減し、視認性が低下するからである。

　近年、反射防止技術として、凹凸の周期が可視光（λ＝３８０ｎｍ～７８０ｎｍ）の波長以下に制御されたミクロな凹凸パターンを基板表面に形成する方法が注目されている（特許文献１から３を参照）。反射防止機能を発現する凹凸パターンを構成する凸部の２次元的な大きさは１０ｎｍ以上５００ｎｍ未満である。ここで、凸部の「２次元的な大きさ」とは、表面の法線方向から見たときの凸部の面積円相当径を指し、例えば、凸部が円錐形の場合、凸部の２次元的な大きさは、円錐の底面の直径に相当する。凹部の「２次元的な大きさ」も同様である。

　この方法は、いわゆるモスアイ（Ｍｏｔｈ－ｅｙｅ、蛾の目）構造の原理を利用したものであり、基板に入射した光に対する屈折率を凹凸の深さ方向に沿って入射媒体の屈折率から基板の屈折率まで連続的に変化させることによって反射を防止したい波長域の反射を抑えている。

　モスアイ構造は、広い波長域にわたって入射角依存性の小さい反射防止作用を発揮できるほか、多くの材料に適用でき、凹凸パターンを基板に直接形成できるなどの利点を有している。その結果、低コストで高性能の反射防止膜（または反射防止表面）を提供できる。

　本出願人は、モスアイ構造を有する反射防止膜（または反射防止表面）の製造方法として、アルミニウムを陽極酸化することによって得られる陽極酸化ポーラスアルミナ層を用いる方法を開発してきた（特許文献２および３）。

　陽極酸化ポーラスアルミナ膜を利用することによって、モスアイ構造を表面に形成するための型（以下、「モスアイ用型」という。）を容易に製造することができる。特に、特許文献２および３に記載されているように、アルミニウムの陽極酸化膜の表面をそのまま型として利用すると、製造コストを低減する効果が大きい。モスアイ構造を形成することができるモスアイ用型の表面の構造を「反転されたモスアイ構造」ということにする。

　また、特許文献１から４に記載されているように、モスアイ構造（ミクロ構造）に加えて、モスアイ構造よりも大きな凹凸構造（マクロ構造）を設けることによって、反射防止膜（反射防止表面）にアンチグレア（防眩）機能を付与することができる。アンチグレア機能を発揮する凹凸構造（「アンチグレア構造」ということがある。）を構成する凸部または凹部の２次元的な大きさは２００ｎｍ以上１００μｍ未満である。また、アンチグレア構造を形成することができる型の表面の構造を「反転されたアンチグレア構造」ということにする。特許文献１から４の開示内容の全てを参考のために本明細書に援用する。

　なお、本明細書においては、モスアイ構造（または反転されたモスアイ構造）を構成する凹凸をミクロな凹凸と呼び、アンチグレア構造（または反転されたアンチグレア構造）を構成する凹凸をマクロな凹凸と呼ぶことにする。マクロな凹凸の２次元的な大きさの範囲は、ミクロな凹凸の２次元的な大きさの範囲と部分的に重なっているが、アンチグレア機能を有する反射防止膜（反射防止表面）において、アンチグレア構造を構成する凹凸構造は、反射防止機能を発現するモスアイ構造を構成する凹凸構造よりも大きい。

特表２００１－５１７３１９号公報特表２００３－５３１９６２号公報国際公開第２０１１／０５５７５７号国際公開第２０１３／１４６６５６号

　しかしながら、適度なアンチグレア機能を有する反射防止膜（または反射防止表面）を形成するための型を効率よく製造する方法は確立されたとは言い難い。

　例えば、特許文献１に記載のサンドブラスト法は、アンチグレア機能を付与する所望のマクロな凹凸構造を再現性良く形成することが難しい。また、特許文献３に記載の陰極電解法では、アンチグレア機能を十分に発揮できるマクロな凹凸構造を形成できないことがある。

　さらに、特許文献４に記載されている電着によって形成された樹脂層の平坦部のない連続的なマクロな凹凸構造を反映した表面は、画像がぼやけるという問題がある。近年、表示装置の高精細化が進むにつれて、画像のぼやけが抑制された適度なアンチグレア機能を有する反射防止膜が求められている。

　本発明は、適度なアンチグレア機能と適度な鏡面反射性とを有する反射防止膜（または反射防止表面）を提供すること、そのような反射防止膜を製造する方法を提供すること、そのような反射防止膜を形成するための型を提供すること、およびそのような型を効率よく製造できる方法を提供することを目的とする。

　本発明の実施形態による型の製造方法は、（ａ）Ａｌ－Ｍｇ－Ｓｉ系のアルミニウム合金で形成された円筒状のアルミニウム基材であって、機械的な鏡面加工が施されたアルミニウム基材を用意する工程と、（ｂ）前記アルミニウム基材の表面をフッ化水素とアンモニウムとの塩を含む水溶液によって梨地処理する工程と、（ｃ）前記工程（ｂ）の後で、前記アルミニウム基材の前記表面に無機材料層を形成し、前記無機材料層の上にアルミニウム膜を形成することによって、型基材を作製する工程と、（ｄ）前記工程（ｃ）の後で、前記アルミニウム膜の表面を陽極酸化することによって、複数のミクロな凹部を有するポーラスアルミナ層を形成する工程と、（ｅ）前記工程（ｄ）の後に、前記ポーラスアルミナ層を、エッチング液に接触させることによって、前記ポーラスアルミナ層の前記複数のミクロな凹部を拡大させる工程と、（ｆ）前記工程（ｅ）の後に、さらに陽極酸化することによって、前記複数のミクロな凹部を成長させる工程とを包含する。

　ある実施形態において、前記アルミニウム基材は、冷間引抜き加工が施されたアルミニウム基材である。前記アルミニウム基材は、熱間押出し法によって形成されたアルミニウム基材である。熱間押出し法は、マンドレル法であっても、ボートホール法であってもよい。冷間引抜き加工は省略され得る。冷間引抜き加工を行わない場合には、マンドレル法で形成されたアルミニウム基材を用いることが好ましい。

　ある実施形態において、前記型の製造方法は、前記工程（ｂ）の前に、脱脂工程および水洗工程をさらに包含する。

　ある実施形態において、前記工程（ｂ）は、前記水洗工程の後、１５分を経過する前に行われる。

　ある実施形態において、前記型の製造方法は、前記工程（ｂ）の前に、アルカリ性のエッチング液を用いて、前記アルミニウム基材の前記表面をエッチングする基材表面エッチング工程をさらに包含する。

　ある実施形態において、前記基材表面エッチング工程は、前記脱脂工程を兼ねる。

　ある実施形態において、前記アルカリ性のエッチング液は、無機塩基または有機塩基を０．０３ｍａｓｓ％以上含む。

　ある実施形態において、前記アルカリ性のエッチング液のｐＨは、１０以上１２以下である。

　ある実施形態において、前記アルカリ性のエッチング液は、水酸化カリウムを含む。

　ある実施形態において、前記アルカリ性のエッチング液は、アミノ基を有する有機化合物を含む。

　ある実施形態において、前記基材表面エッチング工程および前記工程（ｂ）によって、前記アルミニウム基材の前記表面の算術平均粗さＲａは５０ｎｍ以上３００ｎｍ以下となる。

　ある実施形態において、前記基材表面エッチング工程において、前記アルミニウム基材の表面から少なくとも１．４μｍが除去される。

　ある実施形態において、前記工程（ｂ）の前に、前処理のための陽極酸化工程およびエッチング工程をさらに包含する。

　ある実施形態において、前記前処理のための前記陽極酸化工程は、電解液として硫酸水溶液を用いる。

　ある実施形態において、前記前処理のための前記エッチング工程は、エッチング液として燐酸水溶液を用いる。

　ある実施形態において、前記工程（ｂ）における、前記フッ化水素とアンモニウムとの塩は、フッ化水素アンモニウムである。ある実施形態において、フッ化水素とアンモニウムとの塩を含む水溶液は、４ｍａｓｓ％以上のフッ化水素アンモニウムを含む。前記工程（ｂ）は、例えば、約１０℃で行われる。このとき、梨地処理の時間は、２分３０秒以上８分以下の範囲にあることが好ましい。

　本発明の実施形態による型は、上記のいずれかに記載の型の製造方法によって製造された型である。

　本発明の他の実施形態による型は、表面の法線方向から見たときの２次元的な大きさが２００ｎｍ以上３０μｍ以下の複数の凸部と、表面の法線方向から見たときの２次元的な大きさが１０ｎｍ以上５００ｎｍ未満の複数のミクロな凹部とを有する、表面構造を備えたポーラスアルミナ層を有する。

　本発明の実施形態による反射防止膜の製造方法は、上記のいずれかの型を用意する工程と、被加工物を用意する工程と、前記型と前記被加工物の表面との間に光硬化樹脂を付与した状態で、前記光硬化樹脂に光を照射することによって前記光硬化樹脂を硬化させる工程と、前記型を硬化させられた光硬化樹脂で形成された反射防止膜から剥離する工程とを包含する。

　本発明の実施形態による反射防止膜は、上記の反射防止膜の製造方法によって製造された反射防止膜である。

　本発明の他の実施形態による反射防止膜は、表面の法線方向から見たときの２次元的な大きさが２００ｎｍ以上３０μｍ以下の複数の凹部と、表面の法線方向から見たときの２次元的な大きさが１０ｎｍ以上５００ｎｍ未満の複数のミクロな凸部とを有する表面構造を備え、入射角を５°とし、受光角を横軸にとり、拡散反射光強度の最大値を８０％として規格化した、相対拡散反射率（％）の常用対数を縦軸にとった配光分布曲線の傾きが不連続に変化する点が、受光角が０°超１０°以下の範囲内にあり、かつ、前記相対拡散反射率（％）が１％以上１０％以下の範囲内に存在する。

　ある実施形態において、前記反射防止膜のヘイズ値が約７以上約２４以下である。

　本発明の実施形態によると、適度なアンチグレア機能と適度な鏡面反射性とを有する反射防止膜（または反射防止表面）を形成するための型およびそのような型を効率よく製造できる方法が提供される。本発明の実施形態による型は、適度なアンチグレア機能および適度な鏡面反射性と優れた反射防止機能とを備える反射防止膜（反射防止表面）を形成することができる。本発明の実施形態による反射防止膜は、適度なアンチグレア機能および適度な鏡面反射性と、優れた反射防止機能とを発現する表面構造を有している。

（ａ）～（ｄ）は、本発明の実施形態によるモスアイ用型１００の製造方法を説明するための模式的な断面図であり、（ａ）は、モスアイ用型１００のアルミニウム基材１２の模式的な断面図であり、（ｂ）は、反転されたアンチグレア構造を有するアルミニウム基材１２の表面構造を模式的に示す断面図であり、（ｃ）は、アルミニウム基材１２の表面に無機材料層１６およびアルミニウム膜１８を形成した型基材１０の模式的な断面図であり、（ｄ）は、反転されたアンチグレア構造と、反転されたアンチグレア構造に重畳された反転されたモスアイ構造とを有するモスアイ用型１００の模式的な断面図である。本発明の実施形態によるモスアイ用型１００の製造方法を説明するフローチャートである。（ａ）は、梨地処理によって形成された反転されたアンチグレア構造を有するアルミニウム基材１２の表面のレーザー顕微鏡像（顕微鏡像中のフルスケール１５μｍ）であり、（ｂ）は、梨地処理によって形成された反転されたアンチグレア構造を有するアルミニウム基材１２の表面を垂直方向から観察したときのＳＥＭ像（ＳＥＭ像中のフルスケール１０μｍ）であり、（ｃ）は、反転されたアンチグレア構造の模式的な平面図であり、（ｄ）は、反転されたアンチグレア構造の模式的な斜視図である。（ａ）は、型基材１０のアルミニウム膜１８の表面を垂直方向から観察したときのＳＥＭ像（ＳＥＭ像中のフルスケール１０μｍ）であり、（ｂ）は、モスアイ用型１００の反転されたモスアイ構造を有するポーラスアルミナ層１４の表面を垂直方向から観察したときのＳＥＭ像（ＳＥＭ像中のフルスケール１０μｍ）である。モスアイ用型１００を用いた反射防止膜の製造方法を説明するための図である。（ａ）および（ｂ）は、本発明の実施形態によるアンチグレア機能を有する反射防止膜のＳＥＭ像であり、（ａ）は反射防止膜の表面を垂直方向から観察したときのＳＥＭ像（ＳＥＭ像中のフルスケール１０μｍ）であり、（ｂ）は反射防止膜の断面および表面を斜め方向から観察したときのＳＥＭ像（ＳＥＭ像中のフルスケール３μｍ）である。（ａ）～（ｃ）は、本発明の実施形態によるアンチグレア機能を有する反射防止膜の模式図であり、（ａ）は反射防止膜の表面を垂直方向から観察したときの模式図であり、（ｂ）は反射防止膜の表面を斜め方向から観察したときの模式図であり、（ｃ）は反射防止膜の断面の模式図である。（ａ）は、アンチグレア機能を有する反射防止膜による拡散反射光の配光分布の測定結果を示すグラフであり、（ｂ）は拡散反射光の配光分布の測定系を示す模式図である。（ａ）～（ｃ）は、フッ化水素アンモニウムを含む水溶液で梨地処理を行ったアルミニウム基材の表面のＳＥＭ像（５０００倍、ＳＥＭ像中のフルスケール１０μｍ）である。梨地処理（処理温度３５℃）の時間が異なるアルミニウム基材（冷間引抜き加工された型基材）を型として用いて作製した試料フィルムの拡散反射光の配光分布を示す図である。アンチグレア機能と鏡面反射性とを評価したモデル計算結果を示す図である。梨地処理（処理温度１０℃）の時間が異なるアルミニウム基材（冷間引抜き加工された型基材）を型として用いて作製した試料フィルムの拡散反射光の配光分布を示す図である。（ａ）および（ｂ）は、梨地処理の前処理としての陽極酸化およびエッチングを行ったアルミニウム基材（冷間引抜き加工されていない型基材）の表面のＳＥＭ像を示す図であり、（ａ）は電解液として蓚酸水溶液を用いた場合、（ｂ）は電解液として硫酸水溶液を用いた場合を示す。（ａ）～（ｄ）は、梨地処理の前処理として硫酸水溶液を用いて陽極酸化した後の燐酸水溶液を用いたエッチングの時間が異なる試料の表面のＳＥＭ像である。梨地処理の前処理として陽極酸化（硫酸水溶液）およびエッチングを行った後、処理の時間を異ならせて梨地処理を行ったアルミニウム基材を型として用いて作製されたフィルムの拡散反射光の配光分布を示す図である。（ａ）は、冷間引抜き加工が施されたアルミニウム基材を用いて作製された型基材のアルミニウム基材に３７秒間梨地処理を行った後の表面のＳＥＭ像であり、（ｂ）は、冷間引抜き加工が施されていないアルミニウム基材を用いて作製された型基材のアルミニウム基材に、前処理としての陽極酸化（硫酸水溶液）およびエッチングを行った後、１２０秒間梨地処理を行った後の表面のＳＥＭ像である。（ａ）および（ｂ）は、従来のアンチグレア構造を形成するためのマクロな凹凸構造と、行方向のドットピッチＰｘとの大きさの関係を模式的に示す図である。（ａ）従来のアンチグレア構造を形成するためのマクロな凹凸の構造を模式的に示す断面図であり、（ｂ）は、マクロな凹凸に重畳された反転されたモスアイ構造を示す模式的な断面図であり、（ｃ）は、反転されたモスアイ構造を拡大した模式的な断面図である。

　以下、図面を参照して、本発明の実施形態による型および型の製造方法を説明する。

　まず、図１６を参照して、従来のアンチグレア構造を構成するマクロな凹凸構造と、行方向のドットピッチＰｘとの大きさの関係を説明する。図１６（ａ）および（ｂ）は、従来のアンチグレア構造を構成するマクロな凹凸構造と、行方向のドットピッチＰｘとの大きさの関係を模式的に示す図であり、図１６（ａ）は、マクロな凹凸構造がドットピッチＰｘよりも大きい場合を示し、図１６（ｂ）は、マクロな凹凸構造がドットピッチＰｘよりも小さい場合を示している。ここで、ドットとは、典型的なカラー液晶表示パネルにおける画素を構成するＲ、Ｇ、Ｂの各ドットを指す。すなわち、カラー液晶表示パネルにおける画素は、行方向に配列された３つのドット（Ｒドット、ＧドットおよびＢドット）で構成されている場合、行方向の画素ピッチは、行方向のドットピッチＰｘの３倍となる。なお、列方向の画素ピッチは、列方向のドットピッチＰｙと等しい。

　図１６（ａ）および（ｂ）に模式的に示すように、従来のアンチグレア構造を構成するマクロな凹凸構造を有する表面２８ｓは、平坦部を有しない連続した波形の表面形状を有する。このような連続した波形の表面形状を有するマクロな凹凸構造は、隣接するマクロな凹部間距離の平均値（平均隣接間距離ＡＤ_int）または凹部の２次元的な大きさＡＤ_pで特徴付けられる。ここでは、マクロな凹部に着目するが、凸部に着目しても同様に特徴づけることができる。

　図１６（ａ）に示すように、凹部の平均隣接間距離ＡＤ_int（凹部の２次元的な大きさＡＤ_pと等しいと考える）が、例えば行方向のドットピッチＰｘ（画素が３つのドット（Ｒ、Ｇ、Ｂ）で構成されている場合、行方向の画素ピッチはドットピッチの３倍）よりも大きいと、十分なアンチグレア機能を得ることができない。アンチグレア機能を十分に発揮させるためには、図１６（ｂ）に示すように、凹部の平均隣接間距離ＡＤ_int（凹部の２次元的な大きさＡＤ_p）が互いにほぼ等しく、かつ、ドットピッチよりも小さいことが好ましい。なお、凹部の２次元的な大きさとは、表面の法線方向から見たときの２次元的な広がりをいい、凹部は典型的には円錐形であり、表面の法線方向から見たときの形状は、ほぼ円形である。このとき、２次元的な大きさは、円の直径に相当する。また、凸部が十分に高い密度で形成されていれば、互いに隣接する２つの凹部の平均隣接間距離ＡＤ_intは、凹部の２次元的な大きさＡＤ_pとほぼ等しい。画素ピッチは、比較的解像度の低いディスプレイ、例えば、１００ｐｐｉのディスプレイでは、２５４μｍである。このディスプレイに用いられる反射防止膜の場合の平均隣接間距離ＡＤ_intは、約８５μｍ（２５４／３）以下であることが好ましい。

　このような平坦部のない連続した波形の表面２８ｓを有するアンチグレア構造に、モスアイ構造を重畳させた反射防止膜の製造方法は、例えば、特許文献４に記載されている。図１７を参照して、特許文献４に記載されているアンチグレア機能を有する反射防止膜を形成するためのモスアイ用型の製造方法を説明する。

　図１７（ａ）は、アンチグレア構造を形成するための反転されたアンチグレア構造を模式的に示す断面図であり、図１７（ｂ）は、反転されたアンチグレア構造に重畳された反転されたモスアイ構造を示す模式的な断面図であり、図１７（ｃ）は、反転されたモスアイ構造を拡大した模式的な断面図である。

　図１７（ａ）に示す、上述の平坦部のない連続した波形の表面２８ｓを有するアンチグレア構造を形成するための、反転されたアンチグレア構造を有する表面１８ｃｓは、円筒状の金属基材の外周面上に、艶消し剤を含む電着樹脂で絶縁層を形成し、絶縁層上にアルミニウム膜１８ｃを形成することによって得られる。すなわち、艶消し剤を含む電着樹脂で形成された絶縁層の表面は、平坦部のない連続した波形の表面形状を有し、絶縁層の上に形成されたアルミニウム膜１８ｃの表面１８ｃｓは、絶縁層の表面の形状を反映して、平坦部のない連続した波形の表面形状を有することになる。なお、アルミニウム膜１８ｃの表面１８ｃｓの形状は反転されたアンチグレア構造を構成するので、アルミニウム膜１８ｃの表面１８ｃｓのマクロな凹凸は、アンチグレア構造を構成する表面２８ｓのマクロな凹凸とは逆の関係にある。

　次に、図１７（ｂ）に示すように、反転されたアンチグレア構造を有するアルミニウム膜１８ｃの表面に対して、陽極酸化とエッチングとを交互に繰り返すことによって、ミクロな凹部１４ｐを有する陽極酸化ポーラスアルミナ層１４ｃを形成する。このようにして、反転されたアンチグレア構造に反転されたモスアイ構造が重畳された表面を有するモスアイ用型２００が得られる。

　ポーラスアルミナ層１４ｃは、図１７（ｃ）に模式的に示すように、ミクロな凹部１４ｐが密に充填されている。ミクロな凹部１４ｐは概ね円錐状であり、階段状の側面を有してもよい。ミクロな凹部１４ｐの２次元的な大きさ（開口部径：Ｄ_p）は１０ｎｍ以上５００ｎｍ未満で、深さ（Ｄ_depth）は１０ｎｍ以上１０００ｎｍ（１μｍ）未満程度であることが好ましい。また、ミクロな凹部１４ｐの底部は尖っている（最底部は点になっている）ことが好ましい。さらに、ミクロな凹部１４ｐは密に充填されていることが好ましく、ポーラスアルミナ層１４ｃの法線方向から見たときのミクロな凹部１４ｐの形状を円と仮定とすると、隣接する円は互いに重なり合い、隣接するミクロな凹部１４ｐの間に鞍部が形成されることが好ましい。なお、略円錐状のミクロな凹部１４ｐが鞍部を形成するように隣接しているときは、ミクロな凹部１４ｐの２次元的な大きさＤ_pは平均隣接間距離Ｄ_intと等しいとする。したがって、反射防止膜を製造するためのモスアイ用型のポーラスアルミナ層１４ｃは、Ｄ_p＝Ｄ_intが１０ｎｍ以上５００ｎｍ未満で、Ｄ_depthが１０ｎｍ以上１０００ｎｍ（１μｍ）未満程度のミクロな凹部１４ｐが密に不規則に配列した構造を有していることが好ましい。ミクロな凹部の配列は、完全にランダムである必要はなく、光の干渉や回折が実質的に起こらない程度に不規則であればよい。なお、ミクロな凹部１４ｐの開口部の形状は厳密には円ではないので、Ｄ_pは表面のＳＥＭ像から求めることが好ましい。ポーラスアルミナ層１４ｃの厚さｔ_pは約１μｍ以下である。ポーラスアルミナ層１４ｃが有する反転されたモスアイ構造についての上記の説明は、本発明の実施形態によるモスアイ用型についても妥当する。

　特許文献４に記載された型の製造方法で製造された型を用いて形成された反射防止膜は、画像がぼやけるという問題がある（後に、図１０Ｂを参照して説明する。）。これは、特許文献４に記載の方法で製造された型が有する反転されたアンチグレア構造は、比較的大きなＡＤ_intおよびＡＤ_pを有するためである。したがって、特許文献４に記載の製造方法では、例えば、３００ｐｐｉを超える高精細のディスプレイ用に好適に用いられるアンチグレア構造を形成することは難しかった。

　以下に説明する本発明の実施形態によると、適度なアンチグレア機能（例えばヘイズ値が約７以上約２４以下）と、適度な鏡面反射性とを有するアンチグレア構造と、優れた反射防止効果を発揮するモスアイ構造とを有する反射防止膜（または反射防止表面）が提供される。また、本発明の実施形態によると、そのような反射防止膜を形成するための型が提供され、さらには、そのような型を効率よく製造する方法が提供される。なお、本発明の実施形態による型の製造方法によって製造される型は、例示するものに限られず、小さなヘイズ値（例えば約１以上約５以下）の拡散反射性能を有する反射防止膜を形成するためにも用いられ得る。

　まず、図１～図４を参照して、本発明の実施形態による型の製造方法およびそのような製造方法によって製造される型の構造を説明する。

　図１（ａ）～（ｄ）は、本発明の実施形態によるモスアイ用型１００の製造方法を説明するための模式的な断面図であり、図２は、本発明の実施形態によるモスアイ用型１００の製造方法を説明するフローチャートである。

　本発明の実施形態によるモスアイ用型１００の製造方法は、図２に示すように、下記の工程（ａ）～（ｆ）を包含する。
　（ａ）Ａｌ－Ｍｇ－Ｓｉ系のアルミニウム合金で形成された円筒状のアルミニウム基材であって、機械的な鏡面加工が施されたアルミニウム基材を用意する工程
　（ｂ）アルミニウム基材の表面をフッ化水素とアンモニウムとの塩を含む水溶液によって梨地処理する工程
　（ｃ）工程（ｂ）の後で、アルミニウム基材の表面に無機材料層を形成し、無機材料層の上にアルミニウム膜を形成することによって、型基材を作製する工程
　（ｄ）工程（ｃ）の後で、アルミニウム膜の表面を陽極酸化することによって、複数のミクロな凹部を有するポーラスアルミナ層を形成する工程
　（ｅ）工程（ｄ）の後に、ポーラスアルミナ層を、エッチング液に接触させることによって、ポーラスアルミナ層の複数のミクロな凹部を拡大させる工程
　（ｆ）工程（ｅ）の後に、さらに陽極酸化することによって、複数のミクロな凹部を成長させる工程

　本明細書において、型基材とは、型の製造工程において、陽極酸化およびエッチングされる対象をいう。また、アルミニウム基材とは、自己支持が可能なバルク状のアルミニウムをいう。

　次に、図１（ａ）～（ｄ）を参照する。図１（ａ）は、モスアイ用型１００のアルミニウム基材１２の模式的な断面図であり、図１（ｂ）は、反転されたアンチグレア構造を有するアルミニウム基材１２の表面構造を模式的に示す断面図であり、図１（ｃ）は、アルミニウム基材１２の表面に無機材料層１６およびアルミニウム膜１８を形成した型基材１０の模式的な断面図であり、図１（ｄ）は、反転されたアンチグレア構造と、反転されたアンチグレア構造に重畳された反転されたモスアイ構造とを有するモスアイ用型１００の模式的な断面図である。

　図１には、モスアイ用型１００の一部を拡大して示すが、本発明の実施形態によるモスアイ用型１００は、円筒状（ロール状）である。本出願人による国際公開第２０１１／１０５２０６号に開示されているように、円筒状のモスアイ用型を用いると、ロール・ツー・ロール方式により反射防止膜を効率良く製造することができる。参考のために、国際公開第２０１１／１０５２０６号の開示内容の全てを本明細書に援用する。

　まず、図１（ａ）に示すように、Ａｌ－Ｍｇ－Ｓｉ系のアルミニウム合金で形成された円筒状のアルミニウム基材１２であって、機械的な鏡面加工が施されたアルミニウム基材１２を用意する。

　機械的な鏡面加工としては、バイト切削が好ましい。アルミニウム基材１２の表面に、例えば砥粒が残っていると、砥粒が存在する部分において、アルミニウム膜１８とアルミニウム基材１２との間で導通しやすくなる。砥粒以外にも、凹凸が存在するところでは、アルミニウム膜１８とアルミニウム基材１２との間で局所的に導通しやすくなる。アルミニウム膜１８とアルミニウム基材１２との間で局所的に導通すると、アルミニウム基材１２内の不純物とアルミニウム膜１８との間で局所的に電池反応が起こる可能性がある。

　後に実験例を示して説明するように、アルミニウム基材１２の材質によって、後の化学的な梨地処理の効果が異なり、上述のマクロな凹凸構造を得るために、Ａｌ－Ｍｇ－Ｓｉ系のアルミニウム合金（例えば、ＪＩＳ　Ａ６０６３）で形成されたアルミニウム基材１２を用いる。

　円筒状のアルミニウム基材１２は、典型的には、熱間押出し法によって形成される。熱間押出し法には、マンドレル法とボートホール法があるが、マンドレル法で形成されたアルミニウム基材１２を用いることが好ましい。ボートホール法で形成された円筒状のアルミニウム基材１２には外周面に継ぎ目（ウェルドライン）が形成され、継ぎ目がモスアイ用型１００に反映される。したがって、モスアイ用型１００に求められる精度によっては、マンドレル法で形成されたアルミニウム基材１２を用いることが好ましい。

　なお、ボートホール法で形成されたアルミニウム基材１２に対して、冷間引抜き加工を施すことにより、継ぎ目の問題を解消することができる。もちろん、マンドレル法で形成されたアルミニウム基材１２に対しても、冷間引抜き加工を施してもよい。

　次に、アルミニウム基材１２の表面をフッ化水素とアンモニウムとの塩を含む水溶液を用いて梨地処理することによって、図１（ｂ）に示すように、アルミニウム基材１２の表面１２ｓに反転されたアンチグレア構造が形成される。梨地処理によって形成される反転されたアンチグレア構造は、複数のマクロな凸部１２ｐと複数のマクロな凹部１２ｇとを有する。マクロな凸部１２ｐは、マクロな凹部１２ｇによって実質的に包囲されており、マクロな凹部１２ｇは、マクロな凸部１２ｐの外周を規定する溝のように存在している。

　フッ化水素とアンモニウムとの塩を含む水溶液は、ピッティングコロージョン（点食）を引き起こす。フッ化水素とアンモニウムとの塩としては、フッ化アンモニウム（正塩または中性塩）と、フッ化水素アンモニウム（水素塩または酸性塩）とがある。フッ化水素とアンモニウムとの塩を含む水溶液は、フッ化水素の水溶液に比べて、人体や環境に与える悪影響が少ないという利点を有している。フッ化水素とアンモニウムとの塩として、フッ化水素アンモニウムを用いる場合、フッ化水素アンモニウムの濃度は、例えば、４ｍａｓｓ％以上である。フッ化水素アンモニウムに加えて、りん酸二水素アンモニウムおよび／または硫酸アンモニウムを加えてもよい。ここでは、以下の実験例を含め、アルミニウムを梨地処理するためのエッチング液として、フッ化水素アンモニウムに少量のりん酸二水素アンモニウムおよび硫酸アンモニウムを添加したものを用いた。このエッチング液を簡単のためにフッ化水素アンモニウムを含む水溶液という。このようなエッチング液は、日本シー・ビー・ケミカル株式会社のケミクリーナーを用いて調製することができる。フッ化水素アンモニウムを含む水溶液による梨地処理の時間は、例えば、処理温度が３５℃のとき、１５秒以上１８０秒以下である。フッ化アンモニウムを含む水溶液は、フッ化水素アンモニウムを含む水溶液よりもアルミニウムのエッチング力が弱いので、濃度、処理温度、時間を適宜調整することによって、フッ化水素アンモニウムを含む水溶液を用いた場合と同等の効果を得ることができる。

　なお、フッ化水素とアンモニウムとの塩を含む水溶液による梨地処理の前に、必要に応じて、脱脂工程および水洗工程を行う。また、梨地処理は、水洗工程の後、１５分を経過する前に行うことが好ましい。また、異なる処理液を用いる工程の間に、必要に応じて、水洗を行うことが好ましい。

　なお、冷間引抜き加工を施すことなく、バイト切削による鏡面加工を行ったアルミニウム基材１２に梨地処理を施すと、アルミニウム基材１２の表面に切削痕が形成されることがあった。アルミニウム基材１２の表面に形成された切削痕は、アルミニウム基材１２の上に形成されたアルミニウム膜１８にも反映された。本明細書では、アルミニウム基材１２の表面だけでなく、アルミニウム基材１２の上に形成されたアルミニウム膜１８に形成された、切削に起因した痕も、「切削痕」ということにする。

　梨地処理の前に、前処理のための陽極酸化工程およびエッチング工程を行うことによって、切削痕を低減させることができる。すなわち、アルミニウム基材１２の表面を一旦陽極酸化し、形成された陽極酸化膜をエッチングにより除去することによって、切削痕を低減させることができる。この前処理のための陽極酸化工程では、電解液として硫酸水溶液を用いることが好ましく、前処理のためのエッチング工程では、エッチング液として燐酸水溶液を用いることが好ましい。もちろん、冷間引抜き加工を施した後にバイト切削による鏡面加工を行ったアルミニウム基材１２についても、前処理のための陽極酸化工程およびエッチング工程を行うことによって、アルミニウム基材１２の表面に切削痕が発生することをさらに確実に抑制することができる。

　なお、上記の切削痕は、バイト切削による鏡面加工によって、アルミニウム基材１２の表面に形成された加工変質層に起因した、エッチングのむらであると考えられる。したがって、梨地処理によって切削痕が形成されるという問題は、バイト切削に限られず、加工変質層の形成を伴う鏡面加工が施されたアルミニウム基材１２を用いる場合に共通の問題であり、上記の前処理のための陽極酸化工程およびエッチング工程を行うことによって解決することができる。鏡面加工の内、切削加工と、研削加工などの機械研磨（Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ　Ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ：ＭＰ）と、化学研磨と機械研磨とを併用する化学機械研磨（Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ　Ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ：ＣＭＰ）は、加工変質層の形成を伴う。本明細書において、「機械的な鏡面加工」は、ＭＰおよびＣＭＰを包含する。

　梨地処理の前に、アルカリ性のエッチング液を用いて、アルミニウム基材１２の表面をエッチングする工程（以下、「基材表面エッチング工程」ということがある。）をさらに行ってもよい。アルカリ性のエッチング液を用いた基材表面エッチング工程によって、切削痕の原因となり得る、アルミニウム基材１２の加工変質層の少なくとも一部を除去することができる。

　アルカリ性のエッチング液は、例えば、無機塩基（無機アルカリ）または有機塩基（有機アルカリ）を含む。無機塩基は、例えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等を含む。有機塩基は、例えば、アミノ基を有する化合物を含む。有機塩基は、例えば、２－アミノエタノール（エタノールアミン）、１級アルカノールアミン、ジメチルビス（２－ヒドロキシ）エチル等を含む。アルカリ性のエッチング液のｐＨは、例えば、１０以上１２以下である。アルカリ性のエッチング液は、上記に限られず、例えば公知のアルカリ性の洗浄液を用いてもよい。

　上記の基材表面エッチング工程は、例えば、前処理のための陽極酸化工程およびエッチング工程の前に行ってもよい。上記の基材表面エッチング工程は、例えば、前処理のための陽極酸化工程およびエッチング工程に代えて、行ってもよい。上記の基材表面エッチング工程は、アルカリ性のエッチング液を用いるので、脱脂工程を兼ねることができる。

　基材表面エッチング工程を、前処理のための陽極酸化工程およびエッチング工程に代えて行うことで、工程数を減らすことができる。基材表面エッチング工程が脱脂工程を兼ねる場合も工程数を減らすことができる。より少ない工程で、むらの少ない表面を有するアルミニウム基材を得ることができる。適度なアンチグレア機能を有する反射防止膜を形成するための型を効率よく製造することができる。適度なアンチグレア機能を有する反射防止膜の製造歩留りが向上し得る。

　次に、図１（ｃ）に示すように、アルミニウム基材１２の表面に無機材料層１６を形成し、無機材料層１６の上にアルミニウム膜１８を形成することによって、型基材１０を作製する。

　アルミニウム膜１８の表面には、アルミニウム基材１２の表面を梨地処理することによって形成された反転されたアンチグレア構造を反映した構造が形成されている。ここでは、アルミニウム膜１８に形成された構造も反転されたアンチグレア構造という。アルミニウム膜１８の表面に形成された反転されたアンチグレア構造は、アルミニウム基材１２の表面に形成された反転されたアンチグレア構造と実質的に同じ構造を有している。したがって、アルミニウム膜１８の表面に形成された反転されたアンチグレア構造は、複数のマクロな凸部１８ｐと複数のマクロな凹部１８ｇとを有する。マクロな凸部１８ｐは、マクロな凹部１８ｇによって実質的に包囲されており、マクロな凹部１８ｇは、マクロな凸部１８ｐの外周を規定する溝のように存在している。

　無機材料層１６の材料としては、例えば酸化タンタル（Ｔａ₂Ｏ₅）または二酸化シリコン（ＳｉＯ₂）を用いることができる。無機材料層１６は、例えばスパッタ法により形成することができる。無機材料層１６として、酸化タンタル層を用いる場合、酸化タンタル層の厚さは、例えば、２００ｎｍである。

　無機材料層１６の厚さは、１００ｎｍ以上５００ｎｍ未満であることが好ましい。無機材料層１６の厚さが１００ｎｍ未満であると、アルミニウム膜１８に欠陥（主にボイド、すなわち結晶粒間の間隙）が生じることがある。また、無機材料層１６の厚さが５００ｎｍ以上であると、アルミニウム基材１２の表面状態によって、アルミニウム基材１２とアルミニウム膜１８との間が絶縁されやすくなる。アルミニウム基材１２側からアルミニウム膜１８に電流を供給することによってアルミニウム膜１８の陽極酸化を行うためには、アルミニウム基材１２とアルミニウム膜１８との間に電流が流れる必要がある。円筒状のアルミニウム基材１２の内面から電流を供給する構成を採用すると、アルミニウム膜１８に電極を設ける必要がないので、アルミニウム膜１８を全面にわたって陽極酸化できるとともに、陽極酸化の進行に伴って電流が供給され難くなるという問題も起こらず、アルミニウム膜１８を全面にわたって均一に陽極酸化することができる。

　また、厚い無機材料層１６を形成するためには、一般的には成膜時間を長くする必要がある。成膜時間が長くなると、アルミニウム基材１２の表面温度が不必要に上昇し、その結果、アルミニウム膜１８の膜質が悪化し、欠陥（主にボイド）が生じることがある。無機材料層１６の厚さが５００ｎｍ未満であれば、このような不具合の発生を抑制することもできる。

　アルミニウム膜１８は、例えば、特許文献３に記載されているように、純度が９９．９９ｍａｓｓ％以上のアルミニウムで形成された膜（以下、「高純度アルミニウム膜」ということがある。）である。アルミニウム膜１８は、例えば、真空蒸着法またはスパッタ法を用いて形成される。アルミニウム膜１８の厚さは、約５００ｎｍ以上約１５００ｎｍ以下の範囲にあることが好ましく、例えば、約１μｍである。

　また、アルミニウム膜１８として、高純度アルミニウム膜に代えて、国際公開第２０１３／０１８３５７６号に記載されている、アルミニウム合金膜を用いてもよい。国際公開第２０１３／０１８３５７６号に記載のアルミニウム合金膜は、アルミニウムと、アルミニウム以外の金属元素と、窒素とを含む。本明細書において、「アルミニウム膜」は、高純度純アルミニウム膜だけでなく、国際公開第２０１３／０１８３５７６号に記載のアルミニウム合金膜を含むものとする。参考のために、国際公開第２０１３／０１８３５７６号の開示内容の全てを本明細書に援用する。

　上記アルミニウム合金膜を用いると、反射率が８０％以上の鏡面を得ることができる。アルミニウム合金膜を構成する結晶粒の、アルミニウム合金膜の法線方向から見たときの平均粒径は、例えば、１００ｎｍ以下であり、アルミニウム合金膜の最大表面粗さＲｍａｘは６０ｎｍ以下である。アルミニウム合金膜に含まれる窒素の含有率は、例えば、０．５ｍａｓｓ％以上５．７ｍａｓｓ％以下である。アルミニウム合金膜に含まれるアルミニウム以外の金属元素の標準電極電位とアルミニウムの標準電極電位との差の絶対値は０．６４Ｖ以下であり、アルミニウム合金膜中の金属元素の含有率は、１．０ｍａｓｓ％以上１．９ｍａｓｓ％以下であることが好ましい。金属元素は、例えば、ＴｉまたはＮｄである。但し、金属元素はこれに限られず、金属元素の標準電極電位とアルミニウムの標準電極電位との差の絶対値が０．６４Ｖ以下である他の金属元素（例えば、Ｍｎ、Ｍｇ、Ｚｒ、ＶおよびＰｂ）であってもよい。さらに、金属元素は、Ｍｏ、ＮｂまたはＨｆであってもよい。アルミニウム合金膜は、これらの金属元素を２種類以上含んでもよい。アルミニウム合金膜は、例えば、ＤＣマグネトロンスパッタ法で形成される。アルミニウム合金膜の厚さも約５００ｎｍ以上約１５００ｎｍ以下の範囲にあることが好ましく、例えば、約１μｍである。

　ここで、図３（ａ）～（ｄ）を参照して、反転されたアンチグレア構造を詳細に説明する。図３（ａ）は、梨地処理によって形成された反転されたアンチグレア構造を有するアルミニウム基材１２の表面のレーザー顕微鏡像（顕微鏡像中のフルスケール１５μｍ）であり、図３（ｂ）は、梨地処理によって形成された反転されたアンチグレア構造を有するアルミニウム基材１２の表面を垂直方向から観察したときのＳＥＭ像（ＳＥＭ像中のフルスケール１０μｍ）である。図３（ａ）は、後述の実験例の陽極酸化温度１０℃、陽極酸化時間５ｍｉｎの条件で梨地処理を行ったアルミニウム基材１２の表面を観察したものであり、図３（ｂ）は、後述の実験例の陽極酸化温度１０℃、陽極酸化時間３ｍｉｎの条件で梨地処理を行ったアルミニウム基材１２の表面を観察したものである。図３（ｃ）は、反転されたアンチグレア構造の模式的な平面図であり、図３（ｄ）は、反転されたアンチグレア構造の模式的な斜視図である。

　図３（ａ）～（ｄ）に示すように、梨地処理によって形成される反転されたアンチグレア構造は、複数のマクロな凸部１８ｐと複数のマクロな凹部１８ｇとを有する。マクロな凸部１８ｐは、マクロな凹部１８ｇによって実質的に包囲されており、マクロな凹部１８ｇは、マクロな凸部１８ｐの外周を規定する溝のように存在している。

　複数のマクロな凸部１８ｐは、表面の法線方向から見たとき、概ね多角形の外形を有しているが、配置に規則性は見られない。マクロな凸部１８ｐの表面の法線方向から見たときの２次元的な大きさ（面積円相当径）は、約２００ｎｍ以上３０μｍ以下である。図３（ａ）の顕微鏡像および図３（ｂ）のＳＥＭ像からは、マクロな凸部１８ｐの表面の法線方向から見たときの２次元的な大きさは、約１μｍ以上約５μｍ以下と見積もれる。また、マクロな凸部１８ｐの上面は、実質的に平坦である。

　マクロな凸部１８ｐを実質的に包囲するマクロな凹部（溝）１８ｇの幅は、マクロな凸部１８ｐの２次元的な大きさの１０分の１～５分の１程度の大きさである。隣接するマクロな凹部１８ｇ間距離の平均値（平均隣接間距離ＡＤ_int）は、マクロな凸部１８ｐの表面の法線方向から見たときの２次元的な大きさの平均値とほぼ等しいと考えることができる。ここで、マクロな凹部１８ｇはマクロな凸部１８ｐを実質的に包囲するように形成されているので、隣接するマクロな凹部１８ｇは、マクロな凸部１８ｐの２次元的な大きさを規定する方向における断面において隣接するマクロな凹部１８ｇを意味することにする。したがって、平均隣接間距離ＡＤ_intは、マクロな凸部１８ｐの２次元的な大きさの平均値とマクロな凹部１８ｇの幅の平均値との和にほぼ等しい。なお、マクロな凹部１８ｇの深さＡＤ_depthは、例えば２０ｎｍ以上５００ｎｍ以下であるが、２０ｎｍ以上５μｍ未満であればよい。

　反転されたアンチグレア構造を形成した後、陽極酸化とエッチングとを交互に繰り返し、反転されたモスアイ構造を形成することによって、図１（ｄ）に示すモスアイ用型１００が得られる。すなわち、反転されたモスアイ構造を形成するプロセスは、アルミニウム膜１８の表面を陽極酸化することによって、複数のミクロな凹部１４ｐを有するポーラスアルミナ層１４を形成する工程と、その後に、ポーラスアルミナ層１４を、エッチング液に接触させることによって、ポーラスアルミナ層１４の複数のミクロな凹部１４ｐを拡大させる工程と、その後に、さらに陽極酸化することによって、複数のミクロな凹部１４ｐを成長させる工程とを包含する。陽極酸化に用いる電解液は、例えば、蓚酸、酒石酸、燐酸、硫酸、クロム酸、クエン酸、リンゴ酸からなる群から選択される酸を含む水溶液である。エッチング液として、蟻酸、酢酸、クエン酸などの有機酸や硫酸の水溶液、クロム酸燐酸混合水溶液、または水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリの水溶液を用いることができる。

　陽極酸化とエッチングとを繰り返す一連の工程は、陽極酸化工程で終わることが好ましい。陽極酸化工程で終わる（その後のエッチング工程を行わない）ことによって、ミクロな凹部１４ｐの底部を小さくすることができる。このような反転されたモスアイ構造を形成する方法は、例えば、本出願人による国際公開第２００６／０５９６８６号に開示されている。参考のために、国際公開第２００６／０５９６８６号の開示内容の全てを本明細書に援用する。

　例えば、陽極酸化工程（電解液：蓚酸水溶液（濃度０．３ｍａｓｓ％、液温１０℃）、印加電圧：８０Ｖ、印加時間：５５秒間）とエッチング工程（エッチング液：燐酸水溶液（１０ｍａｓｓ％、３０℃）、エッチング時間：２０分間）とを交互に複数回（例えば５回：陽極酸化を５回とエッチングを４回）繰り返すことによって、図１（ｄ）に示すように、ミクロな凹部１４ｐを有するポーラスアルミナ層１４を有するモスアイ用型１００が得られる。ここで例示した条件で形成されたポーラスアルミナ層１４は、図１７（ｃ）を参照して説明したように、Ｄ_p＝Ｄ_intが１０ｎｍ以上５００ｎｍ未満で、Ｄ_depthが１０ｎｍ以上１０００ｎｍ（１μｍ）未満程度のミクロな凹部１４ｐが密に不規則に配列した構造を有している。ミクロな凹部１４ｐは略円錐状であり、鞍部を形成するように隣接している。

　ミクロな凹部１４ｐで構成される反転されたモスアイ構造は、アンチグレア構造に重畳されて形成される。したがって、図１（ｄ）に模式的に示したように、アンチグレア構造を構成するマクロな凸部１８ｐに形成されたミクロな凹部１４ｐと、マクロな凹部１８ｇに形成されたミクロな凹部１４ｐとが存在する。マクロな凹部１８ｇに形成されたミクロな凹部１４ｐの方が、マクロな凸部１８ｐに形成されたミクロな凹部１４ｐよりも深い。

　なお、ミクロな凹部１４ｐの下には、バリア層が形成されており、ポーラスアルミナ層１４は、ミクロな凹部１４ｐを有するポーラス層と、ポーラス層の下（アルミニウム膜側）に存在するバリア層（凹部１４ｐの底部）とから構成されている。隣接するミクロな凹部１４ｐの間隔（中心間距離）は、バリア層の厚さのほぼ２倍に相当し、陽極酸化時の電圧にほぼ比例することが知られている。また、ポーラスアルミナ層１４の下には、アルミニウム膜１８のうち、陽極酸化されなかったアルミニウム残存層１８ｒが存在している。

　図４（ａ）に、型基材１０のアルミニウム膜１８の表面を垂直方向から観察したときのＳＥＭ像（ＳＥＭ像中のフルスケール１０μｍ）を示し、図４（ｂ）に、モスアイ用型１００の反転されたモスアイ構造を有するポーラスアルミナ層１４の表面を垂直方向から観察したときのＳＥＭ像（ＳＥＭ像中のフルスケール１０μｍ）を示す。図４（ａ）の型基材１０は、図３（ｂ）に示したアルミニウム基材１２と同じ条件の梨地処理によって形成された反転されたアンチグレア構造を有するアルミニウム基材１２上に、厚さが約２００ｎｍの酸化タンタル層および、厚さが約８００ｎｍでＴｉおよびＮを含むアルミニウム膜（アルミニウム合金膜）１８を形成した型基材１０である。アルミニウム膜１８のＴｉ含有率は約１．０ｍａｓｓ％で、Ｎ含有率は約１．２ｍａｓｓ％以上約２．０ｍａｓｓ％以下であり、残りはＡｌおよび不可避不純物である。図４（ｂ）のモスアイ用型１００は、図４（ａ）に示した型基材１０と同じ条件で作製された型基材１０を用いて、先に例示した条件で、陽極酸化とエッチングとを交互（陽極酸化を５回とエッチングを４回）に繰り返すことによって作製されたモスアイ用型１００である。

　図４（ａ）と図３（ｂ）とを比較すると明らかなように、アルミニウム膜１８の表面に、アルミニウム基材１２の表面の反転されたアンチグレア構造が反映された構造が形成されている。さらに、図４（ｂ）と図４（ａ）とを比較すると明らかなように、モスアイ用型１００のポーラスアルミナ層１４は、反転されたアンチグレア構造に反転されたモスアイ構造が重畳された表面構造を有している。

　このように、本発明の実施形態によるモスアイ用型１００の製造方法によると、アンチグレア機能を有する反射防止膜を形成することが可能なモスアイ用型１００を製造することができる。モスアイ用型１００を用いて形成される反射防止膜が有するアンチグレア機能については、実験例を示して後に詳述する。

　続いて、図５を参照して、モスアイ用型１００を用いた反射防止膜の製造方法を説明する。図５は、ロール・ツー・ロール方式により反射防止膜を製造する方法を説明するための模式的な断面図である。

　まず、円筒状のモスアイ用型１００を用意する。なお、円筒状のモスアイ用型１００は、上述の製造方法で製造される。

　図５に示すように、紫外線硬化樹脂３２’が表面に付与された被加工物４２を、モスアイ用型１００に押し付けた状態で、紫外線硬化樹脂３２’に紫外線（ＵＶ）を照射することによって紫外線硬化樹脂３２’を硬化する。紫外線硬化樹脂３２’としては、例えばアクリル系樹脂を用いることができる。被加工物４２は、例えば、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）フィルムである。被加工物４２は、図示しない巻き出しローラから巻き出され、その後、表面に、例えばスリットコータ等により紫外線硬化樹脂３２’が付与される。被加工物４２は、図５に示すように、支持ローラ４６および４８によって支持されている。支持ローラ４６および４８は、回転機構を有し、被加工物４２を搬送する。また、円筒状のモスアイ用型１００は、被加工物４２の搬送速度に対応する回転速度で、図５に矢印で示す方向に回転される。

　その後、被加工物４２からモスアイ用型１００を分離することによって、モスアイ用型１００の凹凸構造（反転されたモスアイ構造）が転写された硬化物層３２が被加工物４２の表面に形成される。表面に硬化物層３２が形成された被加工物４２は、図示しない巻き取りローラにより巻き取られる。

　図６（ａ）および（ｂ）に、上述のようにして製造された反射防止膜のＳＥＭ像を示す。図６（ａ）および（ｂ）は、本発明の実施形態によるアンチグレア機能を有する反射防止膜のＳＥＭ像であり、図６（ａ）は反射防止膜の表面を垂直方向から観察したときのＳＥＭ像（ＳＥＭ像中のフルスケール１０μｍ）であり、図６（ｂ）は反射防止膜の断面および表面を斜め方向から観察したときのＳＥＭ像（ＳＥＭ像中のフルスケール３μｍ）である。

　図６（ａ）および（ｂ）からわかるように、アンチグレア構造にモスアイ構造が重畳して形成されている。アンチグレア構造は、梨地処理によって形成されたマクロな凸部１８ｐおよびマクロな凹部１８ｇがそれぞれ反転されたマクロな凹部およびマクロな凸部によって構成される。ここで例示するアンチグレア構造を構成するマクロな凹部の表面の法線方向から見たときの２次元的な大きさは、約１μｍ以上約５μｍ以下であり、アンチグレア構造を構成するマクロな凸部の２次元的な大きさの１０分の１～５分の１程度の大きさである。また、アンチグレア構造を構成するマクロな凸部の高さは、約２００ｎｍ以上約５００ｎｍ以下である。モスアイ構造を構成するミクロな凸部については、２次元的な大きさおよび隣接間距離（Ｄ_p＝Ｄ_intに対応）は約２００ｎｍで、高さ（Ｄ_depthに対応）は約２００ｎｍである。

　図７（ａ）～（ｃ）を参照して、本発明の実施形態によるアンチグレア機能を有する反射防止膜３２の構造を説明する。図７（ａ）～（ｃ）は、本発明の実施形態によるアンチグレア機能を有する反射防止膜３２の模式図であり、図７（ａ）は反射防止膜３２の表面を垂直方向から観察したときの模式図であり、図７（ｂ）は反射防止膜３２の表面を斜め方向から観察したときの模式図であり、図７（ｃ）は反射防止膜３２の断面の模式図である。

　図７（ａ）～（ｃ）において、モスアイ構造を構成する複数のミクロな凸部は、ミクロな凸部３２ｐおよび３２ｇを含んでいる。ミクロな凸部３２ｐは、アンチグレア構造を構成するマクロな凹部に形成されており、ミクロな凸部３２ｇは、アンチグレア構造を構成するマクロな凸部に形成されている。したがって、ミクロな凸部３２ｇは、ミクロな凸部３２ｐよりも高く、マクロな凸部に形成されたミクロな凸部３２ｐを実質的に包囲するように配置されている。これは、モスアイ用型１００を製造する過程で、梨地処理によって形成された反転されたアンチグレア構造において、マクロな凸部１８ｐがマクロな凹部１８ｇによって実質的に包囲されていたことに対応している。図６（ａ）および（ｂ）の顕微鏡像を見ると、多数のミクロな凸部を包囲するように、それらよりも高いミクロな凸部が形成されていることが認められる。

　次に、図８を参照して、本発明の実施形態によるアンチグレア機能を有する反射防止膜の拡散反射特性を説明する。図８（ａ）は、アンチグレア機能を有する反射防止膜による拡散反射光の配光分布の測定結果を示すグラフであり、図８（ｂ）は拡散反射光の配光分布の測定系を示す模式図である。なお、拡散反射光は、散乱光を特に排除するものではない。

　図８（ａ）において、ＥＸ．１は、本発明の実施形態によるアンチグレア機能を有する反射防止膜の拡散反射光の配光分布を示す。この反射防止膜は、後述の実験例と同様にフッ化水素アンモニウムを含む水溶液（フッ化水素アンモニウムの濃度は４ｍａｓｓ％）で、１０℃、４分間、梨地処理を行ったアルミニウム基材１２を型として用いて形成したアンチグレア膜である。ＣＮＶ．１は、図１７を参照して上述した、艶消し剤を含む電着樹脂を用いて形成した、平坦部のない連続した波形の表面を有するアンチグレア構造を備える反射防止膜の拡散反射光の配光分布を示す。ＣＮＶ．１のアンチグレア構造は、２次元的な大きさが１０μｍ～３０μｍ、高さが５００ｎｍ～１０００ｎｍである。

　拡散反射光の配光分布は、図８（ｂ）に示すように、試料フィルムに対して、入射角５°で光を照射し、０°～２５°の受光角で拡散反射光の配光分布を測定した。具体的には、各試料フィルムをガラス板に貼り、ゴニオフォトメーターで、配光分布を測定した。ゴニオフォトメーターとしては、村上色彩技術研究所製のＧＰ－２００を用いた。ここでは、入射角を５°とし、受光角を横軸にとり、拡散反射光強度の最大値を８０％として規格化した、相対拡散反射率（％）の常用対数を縦軸にとった配光分布曲線を示す。以下に示す配向分布曲線も特に説明しない限り、同様とする。

　ＣＮＶ．１の配光分布は、受光角５°においてピーク値をとり、受光角０°から１０°の範囲内に収まっている。ＣＮＶ．１の配光分布曲線は、全体的に比較的急峻であり、相対拡散反射率（％）は、受光角５°からずれるにつれて単調に低下している。従来の反射防止膜（ＣＮＶ．１）は、ヘイズ値が約３と低いにも拘わらず、鏡面反射性が低く、画像がぼやける。したがって、特に、高精細な画像表示パネルに用いると、表示品位を低下させる印象を与える。

　一方、ＥＸ．１の配光分布曲線は、受光角５°にピーク値をとり、受光角約３°～約４°および受光角約６°～約７°の範囲におけるＥＸ．１の相対拡散反射率（％）の変化は、ＣＮＶ．１の相対拡散反射率（％）の変化よりも急峻であるが、受光角約３°未満および受光角約７°超におけるＥＸ．１の相対拡散反射率（％）の変化は、ＣＮＶ．１の相対拡散反射率（％）の変化よりも緩やかである。ＥＸ．１は、ヘイズ値が約１５と、ＣＮＶ．１よりも高いにも拘わらず、鏡面反射性に優れている。実験例を示して後述するように、本発明の実施形態によるアンチグレア構造を有する反射防止膜（ＥＸ．１）は、配光分布曲線の傾きが不連続に変化する点が、受光角が０°以上１０°以下の範囲内にあり、かつ、相対拡散反射率（％）が１％以上１０％以下の範囲内に存在するという特徴的な拡散反射特性を有するので、従来の反射防止膜（ＣＮＶ．１）に比べて、鏡面反射性が高く、かつ、適度な拡散反射性能（例えばヘイズ値が約７以上約２４以下）を有する。本発明の実施形態による反射防止膜（ＥＸ．１）は、例えば、３００ｐｐｉを超える高精細のディスプレイに用いても、画像が必要以上にぼやけることが抑制され、高い表示品位で反射が抑制された表示を提供することができる。

　以下に、実験例を示して、本発明の実施形態によるモスアイ用型およびモスアイ用型の製造方法をさらに詳細に説明する。

　［アルミニウム基材の選択］
　Ａｌ－Ｍｇ系のアルミニウム合金
　Ａｌ－Ｍｇ系のアルミニウム合金として、ＪＩＳ　Ａ５０５２を用いた。ＪＩＳ　Ａ５０５２は、下記の組成（ｍａｓｓ％）を有している。
　Ｓｉ：０．２５％以下、Ｆｅ：０．４０％以下、Ｃｕ：０．１０％以下、Ｍｎ：０．１０％以下、Ｍｇ：２．２～２．８％、Ｃｒ：０．１５～０．３５％、Ｚｎ：０．１０％以下、その他：個々は０．０５％以下、全体は０．１５％以下、残部：Ａｌ

　ＪＩＳ　Ａ５０５２のアルミニウム合金で形成された円筒状のアルミニウム基材を用いて型基材を作製した。ここでは、ボートホール法で作製されたアルミニウム基材に冷間引抜き加工を施すことなく、バイト切削による鏡面加工を行ったアルミニウム基材を用いた。なお、型基材は、図１（ａ）を参照して上述した方法によって作製した。無機材料層として、厚さが２００ｎｍの酸化タンタル層を形成し、アルミニウム膜としては、厚さが８００ｎｍの、ＴｉおよびＮを含むアルミニウム合金膜を形成した。アルミニウム合金膜のＴｉ含有率は約１．０ｍａｓｓ％で、Ｎ含有率は約１．２ｍａｓｓ％以上約２．０ｍａｓｓ％以下であり、残りはＡｌおよび不可避不純物である。特に記載しない限り、下記に示す実験例についても同様である。

　アルミニウム基材に化学的な梨地処理を行った。梨地処理のためのエッチング液として、フッ化水素アンモニウムを含む水溶液（フッ化水素アンモニウムの濃度は４ｍａｓｓ％）を用いた。得られたマクロな凹凸構造は、必要以上に粗く、拡散反射性能が高く、適度なアンチグレア機能を得ることができなかった。

　そこで、梨地処理の条件をマイルド（処理の短時間化、処理液の低濃度化、処理温度の低温化）にしたところ、表面にむらが観察された。具体的には、拡散反射性能が低い領域と高い領域とが数ｃｍオーダーで発生した。

　以上のことから、Ａｌ－Ｍｇ系のアルミニウム合金で形成されたアルミニウム基材は、不適であると判断した。

　Ａｌ－Ｍｇ－Ｓｉ系のアルミニウム合金
　Ａｌ－Ｍｇ－Ｓｉ系のアルミニウム合金として、ＪＩＳ　Ａ６０６３を用いた。ＪＩＳ　Ａ６０６３は、下記の組成（ｍａｓｓ％）を有している。
　Ｓｉ：０．２０～０．６０％、Ｆｅ：０．３５％以下、Ｃｕ：０．１０％以下、Ｍｎ：０．１０％以下、Ｍｇ：０．４５～０．９％、Ｃｒ：０．１０％以下、Ｚｎ：０．１０％以下、Ｔｉ：０．１０％以下、その他：個々は０．０５％以下で、全体は０．１５％以下、残部：Ａｌ

　ＪＩＳ　Ａ６０６３のアルミニウム合金で形成された円筒状のアルミニウム基材を用いて型基材を作製した。ここでは、ボートホール法で作製されたアルミニウム基材に冷間引抜き加工を施すことなく、バイト切削による鏡面加工を行ったアルミニウム基材を用いた。

　このアルミニウム基材にフッ化水素アンモニウムを含む水溶液で梨地処理を行った。ボートホール法で作製されたアルミニウム基材の継ぎ目部分を除き、面内にむらがなく、適度なアンチグレア機能を有するマクロな凹凸構造を得ることができた。

　次に、冷間引抜き加工を施した後バイト切削による鏡面加工を行ったアルミニウム基材にフッ化水素アンモニウムを含む水溶液で梨地処理を行ったところ、継ぎ目部分も目立たず、面内にむらがなく、適度なアンチグレア機能を有するマクロな凹凸構造を得ることができた。

　これらのことから、アルミニウム基材としては、Ａｌ－Ｍｇ－Ｓｉ系のアルミニウム合金、特に、ＪＩＳ　Ａ６０６３で形成されているものが好ましい。特に、冷間引抜き加工が施されたアルミニウム基材は、継ぎ目が目立たないので好ましい。なお、熱間押出し法であっても、マンドレル法で作製されたアルミニウム基材には継ぎ目がないので、冷間引抜き法で作製されたアルミニウム基材と同様に、好適に用いることができる。

　図９（ａ）～（ｃ）に、フッ化水素アンモニウムを含む水溶液で梨地処理を行ったアルミニウム基材の表面のＳＥＭ像（５０００倍、ＳＥＭ像中のフルスケール１０μｍ）を示す。ＳＥＭ像は、電界放出型走査電子顕微鏡（日立製Ｓ－４７００）を用いて取得した。以下のＳＥＭ像も同様である。

　図９（ａ）は、冷間引抜き加工が施されたＪＩＳ　Ａ６０６３のアルミニウム基材の表面のＳＥＭ像であり、図９（ｂ）は、冷間引抜き加工が施されていないＪＩＳ　Ａ６０６３のアルミニウム基材の表面のＳＥＭ像であり、図９（ｃ）は、冷間引抜き加工が施されていないＪＩＳ　Ａ５０５２のアルミニウム基材の表面のＳＥＭ像である。いずれも、フッ化水素アンモニウムを含む水溶液による梨地処理の時間は、４５秒である。但し、図９（ａ）については、前処理として、脱脂および水洗を行った。図９（ｂ）および図９（ｃ）については、前処理として、陽極酸化およびエッチングを行った。これら前処理の効果については後述する。

　図９（ａ）および（ｂ）と、図９（ｃ）とを比較すると明らかなように、ＪＩＳ　Ａ５０５２のアルミニウム基材の表面（図９（ｃ））は、ＪＩＳ　Ａ６０６３のアルミニウム基材の表面（図９（ａ）および（ｂ））に比べて、非常に粗い凹凸構造が形成されている。したがって、アルミニウム基材としては、Ａｌ－Ｍｇ－Ｓｉ系のアルミニウム合金、特に、ＪＩＳ　Ａ６０６３が好ましい。

　［脱脂・水洗］
　冷間引抜き加工が施されたＪＩＳ　Ａ６０６３のアルミニウム基材に梨地処理を行うと、アルミニウム基材の表面にマクロなむらが発生することがあった。このマクロなむらの発生を防止するために、梨地処理の前処理として、脱脂と水洗の検討を行った。

　脱脂には、無機アルカリ性洗浄剤（横浜油脂工業株式会社製のＬ．Ｇ．Ｌ）の濃度が３ｍａｓｓ％の水溶液を用い、試料をこの水溶液に４０℃で、１０分間浸漬した。その後、試料を純水中に１０分間浸漬することによって水洗した。水洗後の試料を大気中に放置する時間を異ならせた（０分、５分、１５分、２２時間）試料を用意し、その後に梨地処理を行った。

　水洗後に完全に乾燥させずに梨地処理を行ったアルミニウム基材の表面にはむらが発生しなかったが（下記表１の条件Ｃ１とＣ２）、水洗後に一度乾燥させてから梨地処理を行ったアルミニウム基材の表面の全体にむらが見られた（条件Ｃ４）。放置時間１５分のときはわずかにむらが観察された（条件Ｃ３）。

　脱脂をした後に水洗をして乾燥させると、アルミニウム基材の表面に、固体の水酸化アルミニウムが析出し、固着してしまう。この水酸化アルミニウムによって、処理液がアルミニウム基材の表面に作用するのが阻害される結果、むらが発生すると考えられる。したがって、水洗後、アルミニウム基材の表面が乾燥する前に、梨地処理を行うことが好ましい。もちろん、乾燥した後にもう一度水洗して、その後乾燥する前に梨地処理を行えば、むらの発生を防止することができる。水洗工程の後、１５分を経過する前に梨地処理を行うことが好ましい。

　なお、脱脂の薬剤としては、界面活性剤（日華化学株式会社製のニッカサンクリーン）や硫酸などを用いてもよい。

　［梨地処理の時間］
　アンチグレア機能を有する反射防止膜を形成するためのモスアイ用型を作製するために、梨地処理の時間と拡散反射性能の程度との関係を検討した結果を説明する。以下の実験では、冷間引抜き加工が施されたＪＩＳ　Ａ６０６３のアルミニウム基材を用いた。梨地処理のためのエッチング液として、フッ化水素アンモニウムを含む水溶液（フッ化水素アンモニウムの濃度は４ｍａｓｓ％）を用いた。

　アルミニウム基材に対する梨地処理の時間を５秒～３分で変化させた型試料を作製した。梨地処理温度は３５℃とした。なお、梨地処理を行う前に、界面活性剤を用いて脱脂を行い、水洗後１５分を経過するまでに梨地処理を行った。

　梨地処理が施されたアルミニウム基材の表面に離型剤（ダイキン工業株式会社製のオプツールＤＳＸ）を塗布した後、アクリル系の紫外線硬化樹脂を塗布し、ＰＥＴフィルム上に転写した状態で紫外線を照射して硬化させた。得られたマクロな凹凸構造を有する試料フィルムを用いて、図８（ｂ）を参照して説明した方法で、配光分布を測定した。ここで用いた試料フィルムのように、このように、モスアイ構造を有さず、アンチグレア構造だけを有する膜を、アンチグレア膜ということがある。

　また、参照用の試料フィルムとして、出願人がテレビ用途に用いている種々のアンチグレアフィルム（ＲＥＦ＿Ｎｏ．１～Ｎｏ．４）の配光分布も併せて評価した。ここで用いたアンチグレアフィルムは、微細な粒子が分散されたコート剤（樹脂）をフィルムの表面に塗布することによって形成されたものであり、微細な粒子によって形成されるマクロな凹凸を有する表面による拡散反射と、コート剤と微粒子との界面における拡散反射（散乱を含む）とによって、アンチグレア機能を発現する。一方、図８（ａ）を参照して説明した本発明による実施形態の反射防止膜（ＥＸ．１）や、以下で説明するアンチグレア膜は、マクロな凹凸を有する表面構造のみによってアンチグレア機能を発現する。

　図１０Ａに拡散反射光の配光分布の測定結果を示す。図１０Ａも、図８（ａ）と同様に、入射角を５°とし、受光角を横軸にとり、拡散反射光強度の最大値を８０％として規格化した、相対拡散反射率（％）の常用対数を縦軸にとった配光分布曲線を示す。

　図１０Ａの結果から、梨地処理の時間が長くなるにつれて、受光角の大きい拡散反射光の割合が増加していることが分る。すなわち、梨地処理の時間が長くなるにつれて、アンチグレア機能は高くなる。処理時間が３７秒のときのヘイズ値は約７、４５秒のときのヘイズ値は約１０で、７５秒のときのヘイズ値は約２４で、９０秒のときのヘイズ値は約４０である。ＲＥＦ＿Ｎｏ．１のヘイズ値は２、Ｎｏ．３のヘイズ値が約４０で、ＲＥＦの中で最も大きい。なお、ヘイズ値は、日本電色工業株式会社製のヘーズメーターＮＤＨ２０００を用いて、（拡散透過率／全光線透過率）×１００から求めた。

　梨地処理の時間が３０秒以下では、拡散反射光の配光分布の変化が小さく、アンチグレアの効果がほとんどない。また、梨地処理の時間を９０秒以上にしても、拡散反射光の配光分布にほとんど変化がなく、これ以上は、アンチグレアの効果が増大しない。アンチグレア機能の観点からは、梨地処理の時間は３０秒超９０秒未満が好ましいと言える。

　梨地処理時間が３７秒以上７５秒以下の範囲の試料フィルムの拡散反射光の配光分布は、配光分布曲線の傾きが不連続に変化する点が、受光角が０°以上１０°以下の範囲内にあり、かつ、相対拡散反射率（％）が１％以上１０％以下の範囲内に存在するという特徴を有している。具体的には、これらの試料フィルムの配光分布曲線の傾きは、受光角が約２°～約３°および約７°～約８°において不連続に変化している（傾きの絶対値が不連続に小さくなっている）。これらの試料フィルムは、適度なアンチグレア機能（ヘイズ値が約７以上約２４以下）を有するとともに、適度な鏡面反射性を有していることが分かった。

　図１０Ｂを参照して、アンチグレア機能と鏡面反射性とを評価した結果を説明する。図１０Ｂは、上述の拡散反射光の配光分布の測定結果に基づいて、ＯＲＧで示した白黒のパターンを各試料フィルムを介して観察したときの様子を簡単なモデル計算によって求めた結果を示す。すなわち、図８（ｂ）のガラス板の位置に上記の白黒のパターンが配置された状態における、拡散反射光の配光分布を求めたことに相当する。

　ＣＮＶ．１は、図８（ａ）に示した拡散反射光の配光分布を用いて計算した結果であり、Ｅ３０、Ｅ４５、Ｅ６０およびＥ９０は、それぞれ、図１０Ａに示した拡散反射光の配光分布を用いて計算した結果であり、数字は梨地処理時間を示している。

　図１０ＢのＯＲＧで示した白黒のパターンの各領域は、２３３個のセル（ピクセルに相当）で構成されている。各セルを観察したときに観察者の眼に届く光の強度を以下のようにして求めた。

　例えば、ｎ番目のセルを考える。ｎ番目のセルを観察したときに観察者の眼に届く光の強度は、ｎ番目のセルを出射する光の強度に、上記配光分布曲線の０．０°における相対拡散反射率（％）を掛けた値に、ｎ－１番目およびｎ＋１番目のセルを出射する光の強度に、上記配光分布曲線の０．１°における相対拡散反射率（％）を掛けた値を加え、さらに、ｎ－２番目およびｎ＋２番目のセルを出射する光の強度に、上記配光分布曲線の０．２°における相対拡散反射率（％）を掛けた値を加えるというように、ｎ番目のセルの両側の５０個のセルから出射される光の強度を加えた値として求めた。

　図１０ＢのＣＮＶ．１を見るとわかるように、黒と白との境界線はぼやけて明確に認識することができない。このように、ＣＮＶ．１の拡散反射機能つき反射防止膜は、ヘイズ値が３と小さいにも拘わらず、鏡面反射性は低く、画像がぼやけてしまう。

　一方、図１０ＢのＥ４５～Ｅ６０の試料フィルム（アンチグレアフィルム）については、黒と白との境界線を明確に認識することができる。また、アンチグレア機能という点では、黒の領域に侵入したグレーの領域の幅は、ＣＮＶ．１よりも大きく、アンチグレア機能は高いと言える。

　Ｅ３０の試料フィルムでは、鏡面反射性が高すぎる結果、黒と白との境界線が明確に認識される。また、Ｅ９０の試料フィルムでは、鏡面反射性が低すぎる結果、黒と白との境界線を明確に認識することができない。これは、目視観察による主観評価の結果とよく対応しており、適度なアンチグレア機能と適度な鏡面反射性とを備える反射防止膜（反射防止表面）を得るためには、上記の梨地処理時間が３０秒超９０秒未満が好ましい。

　したがって、梨地処理時間が３０秒超９０秒未満の範囲の試料フィルムは、適度なアンチグレア機能と適度な鏡面反射性とを備えているので、例えば、３００ｐｐｉを超える高精細のディスプレイに用いても、画像が必要以上にぼやけることが抑制される。

　なお、梨地処理の好ましい時間は、処理液の濃度や温度によって、適宜、最適化され得る。例えば、フッ化水素とアンモニウムとを含む水溶液として、フッ化アンモニウムを５ｍａｓｓ％含む水溶液を用いた場合、２５℃で、１２０秒間、梨地処理することによって、上記のフッ化アンモニウムを４ｍａｓｓ％含む水溶液を用いた例（処理時間４５～６０秒）と同等の結果を得ることができる。

　梨地処理時間が短いと、量産安定性に問題を生じる可能性があるので、スループットを必要以上に低下させない範囲で、量産安定性（制御性）を向上させることが好ましい。そこで、梨地処理の温度を下げることによって、梨地処理の時間を長くすることを検討した。

　図１１を参照して、濃度が４ｍａｓｓ％のフッ化水素アンモニウムを含む水溶液を用いて１０℃において梨地処理したときの、梨地処理の時間と拡散反射光の配光分布との関係を説明する。

　図１１からわかるように、処理時間が２分３０秒以上８分以下の範囲の試料フィルムの拡散反射光の配光分布は、ＲＥＦ＿Ｎｏ．１～Ｎｏ．４の拡散反射光の配光分布の範囲内にあり、処理温度を下げても、処理時間を長くすることによって、現在使用している種々のアンチグレアフィルムのアンチグレア性能をほぼカバーするアンチグレア性能を有する表面（アンチグレア構造）を形成できることが分かった。すなわち、処理温度を３５℃から１０℃に下げることによって、適切な処理時間を、３０秒超９０秒未満の範囲から、２分３０秒以上８分以下の範囲に拡大することができる。このように処理温度を下げることによって、梨地処理の時間のマージンを大きくすることができるという利点が得られる。

　なお、フッ化水素アンモニウム水溶液の濃度が４ｍａｓｓ％よりも低いと、結晶粒が目立つようになり、適度なアンチグレア機能を付与することができない場合があった。したがって、梨地処理に用いるフッ化水素アンモニウム水溶液の濃度は４ｍａｓｓ％以上であることが好ましい。

　フッ化アンモニウム水溶液の濃度の上限は特に制限されないが、１９ｍａｓｓ％を超えると適度な拡散反射をもつ表面ができないおそれがあるので、フッ化水素アンモニウム水溶液の濃度は１９ｍａｓｓ％以下であることが好ましい。

　［アルミニウム基材の切削痕の影響の抑制］
　冷間引抜き加工を施すことなく、バイト切削による鏡面加工を行ったアルミニウム基材に梨地処理を施すと、アルミニウム基材の表面に切削痕が形成されることがあった。この切削痕は、バイト切削による鏡面加工によって、アルミニウム基材の表面に形成された加工変質層に起因した、エッチングのむらであると考えられる。したがって、梨地処理によって切削痕が形成されるという問題は、バイト切削に限られず、加工変質層の形成を伴う鏡面加工が施されたアルミニウム基材を用いる場合に共通の問題である。なお、冷間引抜き加工を施すと、アルミニウム基材の全体にわたって塑性変形による加工変質層が形成されるので、その後の鏡面加工による影響が低減されると考えられる。

　種々検討した結果、フッ化水素とアンモニウムとの塩を含む水溶液による梨地処理の前に、前処理のための陽極酸化工程およびエッチング工程を行うことによって、切削痕を低減させることができることがわかった。すなわち、バイト切削による鏡面加工が施された表面を陽極酸化し、形成された陽極酸化膜をエッチングによって除去することによって、アルミニウム基材の表面に形成される切削痕を低減させることができる。

　なお、陽極酸化は、電解液として硫酸水溶液を用いることが好ましい。硫酸水溶液を用いると、蓚酸を用いる場合よりも、柔らかい陽極酸化膜が得られるので、例えば燐酸水溶液によって、容易に除去することができる。硫酸水溶液を用いた陽極酸化は、例えば、２０℃で、定電流１１５Ａ／ｍ²で、２４分３０秒間にわたって行うことが好ましい。これよりも陽極酸化の時間が短いと、切削痕が形成されることがある。

　冷間引抜き加工を施すことなく、バイト切削による鏡面加工を行ったアルミニウム基材（ＪＩＳ　Ａ６０６３）を用いて作製した型基材を用いて行った実験例の結果を以下に示す。

　図１２（ａ）は、蓚酸水溶液（濃度：０．３ｍａｓｓ％）を用いて陽極酸化（８０Ｖ、５℃、１０分）した後、燐酸水溶液（濃度：１０ｍａｓｓ％）を用いてエッチング（３０℃、９０分）した後のアルミニウム基材のＳＥＭ像（５０００倍、ＳＥＭ像中のフルスケール１０μｍ）を示す図であり、図１２（ｂ）は、硫酸水溶液（濃度：１７ｍａｓｓ％）を用いて陽極酸化（定電流１１５Ａ／ｍ²、２０℃、２４分３０秒）した後、燐酸水溶液（濃度：１０ｍａｓｓ％）を用いてエッチング（３０℃、１２分）した後のアルミニウム基材の表面のＳＥＭ像（５０００倍、ＳＥＭ像中のフルスケール１０μｍ）を示す図である。

　図１２（ａ）からわかるように、蓚酸を用いて陽極酸化したアルミニウム基材の表面には、多数の凹部が形成されている。これは、蓚酸を用いた陽極酸化によって形成された酸化膜は硬く、エッチングされ難いので、酸化膜が一部残存した状態で、ゆっくりとエッチングが進行する。このとき、酸化膜が除去された表面にガルバニック腐食が進行し、その結果、多数の凹部が形成されたと考えられる。なお、ガルバニック腐食は、アルミニウム膜に含まれるＴｉとＡｌとの間で起こる。

　一方、図１２（ｂ）からわかるように、硫酸を用いて陽極酸化したアルミニウム基材の表面にはガルバニック腐食によって形成される凹部は見られない。硫酸を用いた陽極酸化によって形成された酸化膜は柔らかく、エッチングによって容易に除去されたためと考えられる。ここで例示したように、硫酸を用いて陽極酸化すると、その後に１２分間にわたってエッチングを行うだけで、陽極酸化膜を除去できる。

　硫酸を用いた陽極酸化によって形成された酸化膜を除去するために必要なエッチング時間を検討した。陽極酸化の条件は上記の条件（定電流１１５Ａ／ｍ²、２０℃、２４分３０秒）と同じとし、燐酸水溶液（濃度：０．３ｍａｓｓ％）を用いて、３０℃で、エッチング時間を、１分、３分、５分、１０分および１２分と変化させ、酸化膜の残存の有無を調べた。その結果、エッチングを５分以上行うことによって、酸化膜を除去できることが分かった。実験結果の例を以下に示す。

　図１３（ａ）～（ｄ）に、硫酸を用いて上記の条件で陽極酸化した後の燐酸によるエッチングの時間が異なる試料の表面のＳＥＭ像（１００００倍、ＳＥＭ像中のフルスケール２００ｎｍ）を示す。図１３（ａ）はエッチング時間が１２分、図１３（ｂ）はエッチング時間が１０分、図１３（ｃ）はエッチング時間が５分、図１３（ｄ）はエッチング時間が３分の試料のＳＥＭ像である。エッチング時間が３分の試料（図１３（ｄ）参照）以外は、酸化膜が除去されている。但し、５分のエッチングでは目視でむらが確認される場合があったので、エッチング時間は１０分以上に設定することが好ましい。

　冷間引抜き加工を施すことなく、バイト切削による鏡面加工を行ったアルミニウム基材（ＪＩＳ　Ａ６０６３）に上述の前処理としての陽極酸化およびエッチングを施した後に行う梨地処理の時間について検討した。前処理の有無によって、アルミニウム基材の表面の状態が異なるので、好ましい梨地処理の時間も違う可能性が考えられるからである。

　上述したように陽極酸化およびエッチングを行った後、フッ化水素アンモニウムを含む水溶液（濃度：４ｍａｓｓ％、温度：２０℃）で、処理時間を３０秒、６０秒、１２０秒で梨地処理を行った。得られた型基材を用いて、試料フィルムを作製し、図８（ｂ）を参照して上述したのと同様の方法で、配光特性を評価した結果を図１４に示す。図１４も、図８（ａ）と同様に、入射角を５°とし、受光角を横軸にとり、拡散反射光強度の最大値を８０％として規格化した、相対拡散反射率（％）の常用対数を縦軸にとった配光分布曲線を示す。

　図１４からわかるように、梨地処理の時間が３０秒の試料フィルムの配光分布は、ＲＥＦ＿Ｎｏ．１より狭く、十分なアンチグレア機能を有していない。梨地処理の時間が６０秒および１２０秒の試料の配光分布は、配光分布曲線の傾きが不連続に変化する点が、受光角が０°以上１０°以下の範囲内にあり、かつ、相対拡散反射率（％）が１％以上１０％以下の範囲内に存在するという特徴を有している。

　したがって、冷間引抜き加工を施すことなく、バイト切削による鏡面加工を行ったアルミニウム基材を用いて作製された型基材に、上述の前処理としての陽極酸化およびエッチングを施した後に行う梨地処理の時間は、フッ化水素アンモニウムを含む水溶液（濃度：４ｍａｓｓ％、温度：２０℃）を用いたとき、６０秒以上が好ましいと言える。

　図１５（ａ）に、冷間引抜き加工を施した後にバイト切削による鏡面加工を行ったアルミニウム基材に３７秒間（図１０Ａ参照）梨地処理を行った表面のＳＥＭ像を示し、図１５（ｂ）に、ボートホール法で作製されたアルミニウム基材に冷間引抜き加工を施すことなく、バイト切削による鏡面加工を行ったアルミニウム基材に、前処理としての陽極酸化およびエッチングを行った後、１２０秒間（図１４参照）梨地処理を行った表面のＳＥＭ像を示す。いずれのＳＥＭ像も１００００倍、ＳＥＭ像中のフルスケールは５μｍである。

　図１５（ａ）および（ｂ）からわかるように、梨地処理によって形成されたマクロな凸部（図１（ｃ）のマクロな凸部１８ｐ参照）の表面の法線方向から見たときの２次元的な大きさ（面積円相当径）は、いずれも、約１μｍ以上５μｍ以下であることがわかる。マクロな凸部の２次元的な大きさの平均は、マクロな凹部の平均隣接間距離（ＡＤ_int、図１（ｂ）参照）よりもわずかに小さい。

　これらのアルミニウム基材を用いて上述と同様にしてモスアイ用型を作製し、図５を参照して上述したのと同様に、試料フィルムを作製した。得られたアンチグレア機能を備える反射防止膜を、液晶表示パネル（対角４．９７インチ、ドットピッチ（図１６中のＰｘ）が１９．１μｍ、画素ピッチが約５７．３μｍ、約４４０ｐｐｉ）の観察者側の表面に貼りつけ、目視で評価したところ、表示面のぎらつきが抑制され、かつ、画像のぼやけが抑制されていることが分かった。

　［アルミニウム基材の表面をエッチングする工程］
　梨地処理の前処理として、アルカリ性のエッチング液を用いて、アルミニウム基材の表面をエッチングする工程（基材表面エッチング工程ということがある）について検討した結果を説明する。

　バイト切削による鏡面加工を行ったアルミニウム基材に梨地処理を施すと、アルミニウム基材の表面に切削痕が形成されることがあった。この切削痕は、バイト切削による鏡面加工によって、アルミニウム基材の表面に形成された加工変質層に起因した、エッチングのむらであると考えられる。また、切削痕を有する型を用いて形成された反射防止膜を液晶表示パネルに貼ると、モアレが発生することがあった。このモアレは、反射防止膜に転写された切削痕の縞と、液晶表示パネルのドットピッチ（図１６中のＰｘ）または画素ピッチで配列された周期構造（例えば画素列）とが互いに干渉することにより生じると考えられる。

　種々検討した結果、フッ化水素とアンモニウムとの塩を含む水溶液による梨地処理の前に、アルカリ性のエッチング液を用いて、アルミニウム基材の表面をエッチングすることによって、切削痕を低減させることができることが分かった。

　下記の表２に示すように、梨地処理の前に、条件を変えて基材表面エッチング工程を行った。実施例１～３および参考例１～４は、冷間引抜き加工を施した後バイト切削による鏡面加工を行ったアルミニウム基材（ＪＩＳ　Ａ６０６３）を用いて作製した型基材を用いて行った。

　実施例１で用いたアルカリ性のエッチング液Ｅ１は、有機アルカリ性洗浄剤（横浜油脂工業株式会社製のＬＣ－２）の濃度が８ｍａｓｓ％の水溶液である。横浜油脂工業株式会社製のＬＣ－２は、以下の組成を含む：２－アミノエタノール（１２ｍａｓｓ％）、キレート剤（２ｍａｓｓ％～６ｍａｓｓ％）、界面活性剤（２ｍａｓｓ％～６ｍａｓｓ％）。従って、アルカリ性のエッチング液Ｅ１中の２－アミノエタノールの濃度は０．９６ｍａｓｓ％である。アルカリ性のエッチング液Ｅ１のｐＨは、１０．３である。

　各アルカリ性のエッチング液のｐＨは、ハンディｐＨメータ（製品名：Ｄ－２５、ＨＯＲＩＢＡ社製）を用いて測定した。アルカリ性のエッチング液がキレート剤を含むことによって、エッチングにより溶け出した、アルミニウム基材に含まれる他の金属や不純物が、アルミニウム基材の表面に付着することを防ぐことができる。アルカリ性のエッチング液が界面活性剤を含むことによって、基材表面のエッチングがより均一に行われ得る。

　実施例３で用いたアルカリ性のエッチング液Ｅ３は、無機アルカリ性洗浄剤（横浜油脂工業株式会社製のＬ．Ｇ．Ｌ）の濃度が３ｍａｓｓ％の水溶液である。横浜油脂工業株式会社製のＬ．Ｇ．Ｌは、以下の組成を含む：水酸化カリウム（１ｍａｓｓ％～３ｍａｓｓ％）、キレート剤（５ｍａｓｓ％～１５ｍａｓｓ％）、界面活性剤（５ｍａｓｓ％～１５ｍａｓｓ％）。従って、アルカリ性のエッチング液Ｅ３中の水酸化カリウムの濃度は０．０３ｍａｓｓ％～０．０９ｍａｓｓ％である。アルカリ性のエッチング液Ｅ３のｐＨは、１１．７である。

　実施例２で用いたアルカリ性のエッチング液Ｅ２は、アルカリ性のエッチング液Ｅ３を空気に触れる状態で1月以上放置したものである。アルカリ性のエッチング液Ｅ２は、アルカリ性のエッチング液Ｅ３よりも弱いアルカリ性を有する。アルカリ性のエッチング液Ｅ２のｐＨは、９．９２である。

　実施例１～３において、それぞれのアルカリ性のエッチング液（４０℃）に試料を所定時間浸漬した後、試料を純水中に浸漬することによって水洗した。水洗後、完全に乾燥させずに梨地処理を行った。梨地処理には、フッ化水素アンモニウムを含む水溶液（濃度：４ｍａｓｓ％、温度：１０℃）を用い、処理時間は５分とした。

　参考例１～３においては、基材表面エッチング工程の後に梨地処理を行わない。参考例１～３においては、実施例１～３で用いたアルカリ性のエッチング液Ｅ１～Ｅ３と同じものを用いて、基材表面エッチング工程を行った。

　参考例４で用いたアルカリ性のエッチング液Ｅ４は、無機アルカリ性洗浄剤（横浜油脂工業株式会社製のＬ．Ｇ．Ｌ）の濃度が０．１０ｍａｓｓ％の水溶液である。従って、アルカリ性のエッチング液Ｅ４中の水酸化カリウムの濃度は０．００１ｍａｓｓ％～０．００３ｍａｓｓ％である。アルカリ性のエッチング液Ｅ４は、アルカリ性のエッチング液Ｅ３と同じ無機アルカリ性洗浄剤を用いて調製したものであるが、その濃度において異なる。アルカリ性のエッチング液Ｅ４のｐＨは、１０．３８である。参考例４においては、実施例１～３と同様に、基材表面エッチング工程の後に梨地処理を行った。

　実施例１～３および参考例１～４について、それぞれの基材表面エッチング工程および梨地処理（または、基材表面エッチング工程）を行ったアルミニウム基材を型として用いて、アンチグレア膜を形成した。アンチグレア膜は、アルミニウム基材の表面に離型剤（ダイキン工業株式会社製のオプツールＤＳＸ）を塗布した後、アクリル系の紫外線硬化樹脂を塗布し、ＴＡＣフィルム上に転写した状態で紫外線を照射して硬化させることで、形成した。

　アルミニウム基材およびアルミニウム基材から得られたアンチグレア膜（試料フィルム）を用いて、アンチグレア機能を評価した結果を表３に示す。

　表３において、「Ｒａ」、「むら」および「模様」は、アルミニウム基材を評価した結果であり、「ヘイズ値」、「モアレ」、「防眩性」および「白茶け」は、アンチグレア膜を評価した結果である。「ヘイズ値」および「Ｒａ」は、測定結果であり、「モアレ」、「むら」、「模様」、「防眩性」および「白茶け」は、目視による主観評価である。以下、それぞれについて説明する。

　表３の「Ｒａ」は、アルミニウム基材の表面の算術平均粗さＲａを測定した結果を示す。算術平均粗さＲａは、Ｖｅｅｃｏ製のＯｐｔｉｃａｌ　ｐｒｏｆｉｌｉｎｇ　ｓｙｓｔｅｍ（Ｗｙｋｏ　ＮＴ１１００）を用いて測定した。基材表面エッチング工程および梨地処理によって、アルミニウム基材の表面の算術平均粗さＲａは、例えば５０ｎｍ以上３００ｎｍ以下となることが好ましい。

　表３の「むら」は、アルミニウム基材の表面にむらが発生しているか否かについて目視で評価した結果である。アルミニウム基材の表面の梨地処理が均一に行われているか否かを評価した。表３の「むら」について、「○」はむらがないことを示し、「×」はむらがあることを示す。参考例４においては、基材表面エッチング工程に用いたアルカリ性のエッチング液に含まれる塩基の濃度が低いので、加工変質層を十分に除去することができなかったと考えられる。あとで説明するように、むらが発生しなかった場合（梨地処理が均一に行われた場合）は、アルミニウム基材の表面から例えば約１．４μｍが除去された。参考例４においては、基材表面エッチング工程でエッチングされたアルミニウム基材の厚さが小さかったことにより、梨地処理が均一に行われず、むらが発生したと考えられる。

　また、参考例４においてむらが発生した理由として、以下のことも考えられる。参考例４において用いたアルカリ性のエッチング液Ｅ４は、実施例３において用いたアルカリ性のエッチング液Ｅ３と同じ無機アルカリ性洗浄剤を用いて調製したものであるが、その濃度が低い点において異なる。従って、参考例４においては、実施例３と比較して、アルカリ性のエッチング液に含まれる塩基の濃度が低く、アルミニウム基材の表面をエッチングする作用が弱いと考えられる。参考例４においては、アルカリ性のエッチング液に含まれるキレート剤の濃度も同様に低いが、アルミニウム基材に含まれる他の金属や不純物の量によっては、これらのイオンを吸着・封鎖する機能は、実施例３の場合と比較してあまり低下しないこともある。このような場合には、キレート剤の機能により、アルカリ性のエッチング液によるアルミニウム基材の表面のエッチングの不均一性が増大され得ると考えられる。これが梨地処理の不均一性の増大につながり、結果としてむらが発生したとも考えられる。

　アルカリ性のエッチング液に含まれる塩基の濃度は、例えば０．０１ｍａｓｓ％以上であることが好ましい。アルカリ性のエッチング液に含まれる無機塩基の濃度は、例えば０．０３ｍａｓｓ％以上であることが好ましい。アルカリ性のエッチング液に含まれる有機塩基の濃度は、例えば０．９６ｍａｓｓ％以上であることが好ましい。

　表３の「模様」は、アルミニウム基材の表面に、模様が形成されているか否かを目視で評価した結果である。ここで、模様とは、例えばアンチグレア構造の数百倍から数千倍の大きさの凹凸形状をいう。表３の「模様」について、「○」は模様が生じていないことを示し、「×」は模様が生じていることを示す。参考例３のアルミニウム基材の表面には、約１ｍｍのオーダーの凹凸形状が生じていた。このアルミニウム基材の表面の模様（凹凸形状）によって、アンチグレア膜を黒いアクリル板の表面に貼りつけたときにも、模様が目立って見えた。この模様は、アンチグレア構造よりも数百倍から数千倍大きいので、アンチグレア機能を有するものではない。

　このアルミニウム基材の表面の模様（凹凸形状）は、例えば、参考例３で用いたアルカリ性のエッチング液Ｅ３のｐＨが１１．７であり、アルカリ性が強いために生じたと考えられる。強いアルカリ性の塩基によってアルミニウム基材の表面が必要以上に荒らされ、模様が発生したと考えられる。基材表面エッチング工程において、アルカリ性のエッチング液に濃度勾配が生じる可能性も、模様が発生する原因の一つとして考えられ得る。また、アルミニウム基材の表面の模様は、例えば、バイト切削による鏡面加工によって、アルミニウム基材の表面に形成された加工変質層に起因しているとも考えられる。加工変質層に限られず、例えばアルミニウム基材が組成の不均一性を有すると、それが模様発生の原因の一つになることも考えられ得る。

　実施例３のアルミニウム基材の表面には、模様が生じていなかった。基材表面エッチング工程後のフッ化水素アンモニウムを含む水溶液を用いた梨地処理によって、アルミニウム基材の表面の加工変質層が部分的に除去された、および／または、アルミニウム基材の表面の模様が目立たなくなったと考えられる。

　表３の「ヘイズ値」は、アンチグレア膜のヘイズ値を測定した結果を示す。ヘイズ値は、日本電色工業株式会社製のヘーズメーターＮＤＨ２０００を用いて、（拡散透過率／全光線透過率）×１００から求めた。

　表３の「モアレ」は、アンチグレア膜を、液晶テレビ（ＡＱＵＯＳ　ＵＤ１、シャープ株式会社製）のディスプレイパネルの表面に貼りつけ、モアレが発生するか否かを目視で評価した結果である。表３の「モアレ」について「○」は、モアレが発生しなかったことを示す。

　表３の「防眩性」は、アンチグレア膜を、黒いアクリル板の表面に貼りつけ、蛍光灯の映り込みを目視で観察することによって、防眩性の有無を判断した結果である。表３の「防眩性」について「○」は、防眩性があると判断されたことを示し、「×」は、防眩性がないと判断されたことを示す。一般に、ヘイズ値の大きいアンチグレア膜は、アンチグレア機能に優れ、防眩性に優れている。

　表３の「白茶け」は、アンチグレア膜を、液晶テレビ（ＡＱＵＯＳ　ＵＤ１、シャープ株式会社製）のディスプレイパネルの表面に貼りつけ、膜を介した像について、白茶けが気になるかどうか聞き取りを行った結果である。聞き取りは５人に対して行い、表３の「白茶け」について「○」は、「白茶けが気になる」と答えた人数が５人中０人であることを示し、「△」は１人以上３人以下であることを示す。一般に、ヘイズ値の大きいアンチグレア膜は、そのアンチグレア機能によって、膜を介した像が白っぽく見えやすい。

　なお、上記のうち、「防眩性」および「白茶け」の評価は、評価者の実現したいアンチグレア機能の程度によって異なることが考えられる。例えば、上記表３の評価は、ヘイズ値が約７以上約２４以下を適度なアンチグレア機能とした場合である。本発明の実施形態による型の製造方法によって製造される型は、例示するものに限られず、よりアンチグレア機能の高い（より大きなヘイズ値（例えば約７以上約２８以下）を有する）反射防止膜を形成するためにも用いられ得る。よりアンチグレア機能の低い（より小さなヘイズ値（例えば約１以上約５以下）を有する）反射防止膜を形成するためにももちろん用いられ得る。

　基材表面エッチング工程において、アルミニウム基材の表面から例えば約１．４μｍが除去された。基材表面エッチング工程でエッチングされる厚さは、例えばエッチング時間、エッチング液の温度等を調整することによって、適宜調整することができる。基材表面エッチング工程でエッチングされることが好ましい厚さは、例えばアルミニウム基材の表面の状態によって異なる。エッチングされる厚さは上記の例に限られず、アルミニウム基材の表面の加工変質層が十分に除去される程度に、エッチングを行うことが好ましい。

　上記の実験例より、適度なアンチグレア機能（例えばヘイズ値が約７以上約２４以下）を有する反射防止膜を得るためには、基材表面エッチング工程に用いるアルカリ性のエッチング液のｐＨは、例えば１０以上１２以下が好ましい。アルカリ性のエッチング液のｐＨが９以下の場合は、アルミニウム基材の表面の加工変質層を十分に除去することができない可能性がある。アルカリ性のエッチング液のｐＨが１３以上の場合は、アルミニウム基材の表面が必要以上に荒らされ、および／または、むらの原因となり得る可能性がある。

　ただし、基材表面エッチング工程に用いるアルカリ性のエッチング液のｐＨの好ましい範囲は、アルミニウム基材の表面状態によって異なり得る。アルミニウム基材の表面状態は、例えば、アルミニウム基材の種類、作製方法、および／または加工方法によって異なり得る。

　このようにして得られた梨地処理が施された円筒状のアルミニウム基材を用いて、上述したように、反転されたモスアイ構造を形成することによって、反射防止機能とアンチグレア機能とを付与できるモスアイ用型が得られる。円筒状のモスアイ用型を用いると、上述したようにロール・ツー・ロール方式で反射防止膜を形成することができる。このとき、反射防止膜を形成するフィルム基材（ＴＡＣフィルムまたはＰＥＴフィルム）と、反射防止膜との密着性を向上させるために、以下のような工程を経ることが好ましい。

　ＴＡＣフィルム上に、溶剤を含む紫外線硬化性樹脂（例えばアクリル樹脂）を付与する（厚さは例えば２μｍ～２０μｍ）。このとき、溶剤は、ＴＡＣフィルムの表面を溶解するもの（例えばケトン系）を選択する。溶剤がＴＡＣフィルムの表面を溶解することによって、ＴＡＣと紫外線硬化性樹脂とが混合した領域が形成される。

　この後、溶剤を除去し、モスアイ用型の外周面に、紫外線硬化性樹脂が密着するように、ＴＡＣフィルムを巻きつける。

　続いて、紫外線を照射し、紫外線硬化性樹脂を硬化させる。この時、紫外線硬化性樹脂の温度を３０℃から７０℃に保持する。

　その後、ＴＡＣフィルムをモスアイ用型から剥離し、必要に応じて、紫外線を再度照射する。

　ＴＡＣフィルム上にハードコート層を形成する場合には、ハードコート層を形成する材料に、ＴＡＣフィルムの表面を溶解する溶剤を含有させておいてもよい。この場合、反射防止膜を形成するための紫外線硬化性樹脂に溶剤を含有させる必要はない。

　また、ＰＥＴフィルムを用いる場合には、紫外線硬化性樹脂を付与する前に、水系のプライマー（例えば、ポリエステル系樹脂やアクリル系樹脂）の層（厚さ２μｍ～２０μｍ）を形成することが好ましい。この場合も、反射防止膜を形成するための紫外線硬化性樹脂に溶剤を含有させる必要はない。

　本発明による型の製造方法は、反射防止膜（反射防止表面）などの形成に好適に用いられる型の製造に用いられる。本発明による反射防止膜は、適度なアンチグレア機能と、優れた反射防止機能とを発現する表面構造を有し、例えば、高精細な表示パネルに好適に用いられる。

　１０　　型基材
　１２　　アルミニウム基材
　１４　　ポーラスアルミナ層
　１４ｐ　ミクロな凹部
　１６　　無機材料層
　１８　　アルミニウム膜
　１８ｒ　アルミニウム残存層
　１００　　モスアイ用型

Claims

　（ａ）Ａｌ－Ｍｇ－Ｓｉ系のアルミニウム合金で形成された円筒状のアルミニウム基材であって、機械的な鏡面加工が施されたアルミニウム基材を用意する工程と、
　（ｂ）前記アルミニウム基材の表面をフッ化水素とアンモニウムとの塩を含む水溶液によって梨地処理する工程と、
　（ｃ）前記工程（ｂ）の後で、前記アルミニウム基材の前記表面に無機材料層を形成し、前記無機材料層の上にアルミニウム膜を形成することによって、型基材を作製する工程と、
　（ｄ）前記工程（ｃ）の後で、前記アルミニウム膜の表面を陽極酸化することによって、複数のミクロな凹部を有するポーラスアルミナ層を形成する工程と、
　（ｅ）前記工程（ｄ）の後に、前記ポーラスアルミナ層を、エッチング液に接触させることによって、前記ポーラスアルミナ層の前記複数のミクロな凹部を拡大させる工程と、
　（ｆ）前記工程（ｅ）の後に、さらに陽極酸化することによって、前記複数のミクロな凹部を成長させる工程と
を包含する、型の製造方法。
　前記アルミニウム基材は、冷間引抜き加工が施されたアルミニウム基材である、請求項１に記載の型の製造方法。
　前記工程（ｂ）の前に、脱脂工程および水洗工程をさらに包含する、請求項１または２に記載の型の製造方法。
　前記工程（ｂ）は、前記水洗工程の後、１５分を経過する前に行われる、請求項３に記載の型の製造方法。
　前記工程（ｂ）の前に、アルカリ性のエッチング液を用いて、前記アルミニウム基材の前記表面をエッチングする基材表面エッチング工程をさらに包含する、請求項１から４のいずれかに記載の型の製造方法。
　前記基材表面エッチング工程は、前記脱脂工程を兼ねる、請求項３または４を引用する請求項５に記載の型の製造方法。
　前記アルカリ性のエッチング液は、無機塩基または有機塩基を０．０３ｍａｓｓ％以上含む、請求項５または６に記載の型の製造方法。
　前記アルカリ性のエッチング液のｐＨは、１０以上１２以下である、請求項５から７のいずれかに記載の型の製造方法。
　前記アルカリ性のエッチング液は、水酸化カリウムを含む、請求項５から８のいずれかに記載の型の製造方法。
　前記アルカリ性のエッチング液は、アミノ基を有する有機化合物を含む、請求項５から９のいずれかに記載の型の製造方法。
　前記基材表面エッチング工程および前記工程（ｂ）によって、前記アルミニウム基材の前記表面の算術平均粗さＲａは５０ｎｍ以上３００ｎｍ以下となる、請求項５から１０のいずれかに記載の型の製造方法。
　前記基材表面エッチング工程において、前記アルミニウム基材の表面から少なくとも１．４μｍが除去される、請求項５から１１のいずれかに記載の型の製造方法。
　前記工程（ｂ）の前に、前処理のための陽極酸化工程およびエッチング工程をさらに包含する、請求項１から１２のいずれかに記載の型の製造方法。
　前記工程（ｂ）における、前記フッ化水素とアンモニウムとの塩は、フッ化水素アンモニウムである、請求項１から１３のいずれかに記載の型の製造方法。
　請求項１から１４のいずれかに記載の型の製造方法によって製造された型。
　表面の法線方向から見たときの２次元的な大きさが２００ｎｍ以上３０μｍ以下の複数のマクロな凸部と、表面の法線方向から見たときの２次元的な大きさが１０ｎｍ以上５００ｎｍ未満の複数のミクロな凹部とを有する、表面構造を備えたポーラスアルミナ層を有する型。
　請求項１５または１６に記載の型を用意する工程と、
　被加工物を用意する工程と、
　前記型と前記被加工物の表面との間に光硬化樹脂を付与した状態で、前記光硬化樹脂に光を照射することによって前記光硬化樹脂を硬化させる工程と、
　前記型を硬化させられた光硬化樹脂で形成された反射防止膜から剥離する工程とを包含する、反射防止膜の製造方法。
　請求項１７に記載の反射防止膜の製造方法によって製造された反射防止膜。
　表面の法線方向から見たときの２次元的な大きさが２００ｎｍ以上３０μｍ以下の複数のマクロな凹部と、表面の法線方向から見たときの２次元的な大きさが１０ｎｍ以上５００ｎｍ未満の複数のミクロな凸部とを有する表面構造を備え、
　入射角を５°とし、受光角を横軸にとり、拡散反射光強度の最大値を８０％として規格化した、相対拡散反射率（％）の常用対数を縦軸にとった配光分布曲線の傾きが不連続に変化する点が、受光角が０°超１０°以下の範囲内にあり、かつ、前記相対拡散反射率（％）が１％以上１０％以下の範囲内に存在する、反射防止膜。
　ヘイズ値が約７以上約２４以下である、請求項１８または１９に記載の反射防止膜。