JPWO2017150335A1 - レンズ用型の製造方法およびレンズ用型 - Google Patents

Abstract

少なくとも１つの反転された光学曲面（２２）を表面に有するレンズ用型の製造方法は、（ａ）複数の反転された光学曲面（２２）を表面に有するアルミニウム基材（１０Ａ）を用意する工程または、型基材（１０Ｂ）であって、基材（１２）と、基材に支持され、複数の反転された光学曲面（２２）を表面に有するアルミニウム層（１６）とを有する型基材（１０Ｂ）を用意する工程と、（ｂ）アルミニウム基材またはアルミニウム層の表面を陽極酸化することによって、複数の微細な凹部（１８ｐ）を有するポーラスアルミナ層（１８）を形成する工程と、（ｃ）工程（ｂ）の後に、ポーラスアルミナ層をエッチング液に接触させることによって、ポーラスアルミナ層の複数の微細な凹部を拡大させる工程とを包含する。

Description

本発明は、レンズ用型の製造方法およびレンズ用型に関する。

テレビや携帯電話などに用いられる表示装置やカメラレンズなどの光学素子には、通常、表面反射を低減して光の透過量を高めるために反射防止技術が施されている。例えば、空気とガラスとの界面を光が入射する場合のように屈折率が異なる媒体の界面を光が通過する場合、フレネル反射などによって光の透過量が低減し、視認性が低下するからである。さらに、例えばカメラレンズの表面における光の反射は、レンズの内部反射によって像が二重になる現象（ゴースト）や、後方の光が映り込む現象（フレア）の原因にもなり得る。

表面反射を低減するための反射防止技術として、例えば、レンズの表面に、レンズと屈折率の異なる材料から形成された、数十ｎｍ〜数百ｎｍ程度の厚さを有する層（反射防止膜）を形成する方法が従来からよく用いられている。反射防止膜は、単層構造でもよいし、複数の層が積層された構造を有していてもよい。

近年、反射防止技術として、凹凸の周期が可視光（λ＝３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ）の波長以下に制御されたミクロな凹凸パターンを基板表面に形成する方法が注目されている（特許文献１から３を参照）。この方法は、いわゆるモスアイ（Ｍｏｔｈ−ｅｙｅ、蛾の目）構造の原理を利用したものであり、基板に入射した光に対する屈折率を凹凸の深さ方向に沿って入射媒体の屈折率から基板の屈折率まで連続的に変化させることによって反射を防止したい波長域の反射を抑えている。

モスアイ構造は、広い波長域にわたって入射角依存性の小さい反射防止作用を発揮できるほか、多くの材料に適用でき、凹凸パターンを表面に直接形成できるという利点を有している。その結果、低コストで高性能の反射防止表面を提供できる。

例えば、特許文献４は、反射防止機能を発現する複数の凸部（例えばモスアイ構造）を光学曲面に有する光学素子（例えばレンズ）およびそのような光学素子を製造するための型を開示している。特許文献４の型は、以下のようにして製造されると記載されている。まず、光学素子の光学曲面に対応する曲面（以下、「反転された光学曲面」という。）を有する金型を用意し、反転された光学曲面を覆うアルミニウム層を形成する。その後、アルミニウム層を陽極酸化する工程と、陽極酸化によって形成されたポーラスアルミナ層の細孔を拡大するエッチング工程とを交互に繰り返すことで、光学素子を製造するための型を得ることができる。

特表２００１−５１７３１９号公報 特表２００３−５３１９６２号公報 国際公開第２００６／０５９６８６号 特開２００５−３１６３９３号公報 国際公開第２０１１／１０５２０６号 国際公開第２０１０／１２８６６２号 国際公開第２０１２／０２９５７０号 国際公開第２０１１／１１１６６９号 国際公開第２０１１／１２５４８６号 国際公開第２０１３／１８３５７６号

本発明者が検討したところ、特許文献４の型の製造方法によると、型の製造ばらつきが生じるという問題が生じるおそれがある。特に、ポーラスアルミナ層が有する細孔（微細な凹部）に製造ばらつきが生じるおそれがある。ポーラスアルミナ層が有する細孔（微細な凹部）に製造ばらつきが生じると、型を用いて製造される光学素子の反射防止機能に製造ばらつきが生じ得る。本発明者の検討によると、型の製造ばらつきが生じるという問題は、例えば、陽極酸化の条件が型によって異なることに起因すると考えられる。詳細は、後述する。

本発明は、上記の問題を解決するためになされたものであり、その主な目的は、レンズ用型の製造ばらつきを抑制することができるレンズ用型の製造方法およびそのような方法で製造されたレンズ用型を提供することにある。

本発明の実施形態によるレンズ用型の製造方法は、少なくとも１つの反転された光学曲面を表面に有するレンズ用型の製造方法であって、（ａ）複数の反転された光学曲面を表面に有するアルミニウム基材を用意する工程または、型基材であって、基材と、前記基材に支持され、複数の反転された光学曲面を表面に有するアルミニウム層とを有する型基材を用意する工程と、（ｂ）前記アルミニウム基材または前記アルミニウム層の表面を陽極酸化することによって、複数の微細な凹部を有するポーラスアルミナ層を形成する工程と、（ｃ）前記工程（ｂ）の後に、前記ポーラスアルミナ層をエッチング液に接触させることによって、前記ポーラスアルミナ層の前記複数の微細な凹部を拡大させる工程とを包含する。

ある実施形態において、前記レンズ用型の製造方法は、前記工程（ｃ）の後に、前記アルミニウム基材または前記型基材から、前記複数の反転された光学曲面の内の少なくとも１つの反転された光学曲面を含む部分を切り出す工程（ｄ）をさらに包含する。

ある実施形態において、前記アルミニウム基材または前記アルミニウム層の法線方向から見たとき、前記複数の反転された光学曲面の２次元的な大きさは、１ｍｍ以上である。

ある実施形態において、前記工程（ａ）において、前記複数の反転された光学曲面は周期的に形成されている。

ある実施形態において、前記複数の反転された光学曲面の隣接間距離は、１ｍｍ以上である。

ある実施形態において、前記工程（ｂ）は、前記アルミニウム基材または前記アルミニウム層の表面を電解液に接触させた状態で、前記アルミニウム基材または前記アルミニウム層の表面と電気的に接続された陽極と、前記電解液内に設けられた陰極との間に電圧を印加することによって、微細な凹部を有するポーラスアルミナ層を形成する工程であって、前記電圧を目標値に上昇させる工程と、前記電圧を前記目標値に上昇させる前に、前記電圧を前記目標値よりも低い第１ピーク値に上昇させ、その後、前記第１ピーク値よりも低い値に低下させる工程とを包含する。

ある実施形態において、前記電圧を前記第１ピーク値よりも低い値に低下させる工程において、前記電圧を実質的にゼロに低下させる。

ある実施形態において、前記工程（ｃ）の後に、前記ポーラスアルミナ層の表面を離型処理する工程（ｅ）をさらに包含する。

ある実施形態において、前記工程（ａ）は、前記アルミニウム基材を用意する工程であり、前記工程（ｂ）の前に、前記アルミニウム基材の表面に形成された前記複数の反転された光学曲面に機械加工または電解加工を施す工程（ｂ１）をさらに包含する。

ある実施形態において、前記工程（ａ）は、前記アルミニウム基材を用意する工程であり、前記工程（ｂ）の前に、比抵抗値が１ＭΩ・ｃｍ以下の水または水溶液中において、前記アルミニウム基材の表面を陰極として、前記表面と対向電極との間に通電処理を行う工程（ｂ２）をさらに包含する。

ある実施形態において、前記工程（ａ）は、前記型基材を用意する工程であり、前記基材を用意する工程（ａ１）と、前記基材の表面に複数の曲面部を形成する工程（ａ２）と、前記工程（ａ２）において形成された前記複数の曲面部の上にアルミニウムを堆積することによって、前記複数の反転された光学曲面を表面に有する前記アルミニウム層を形成する工程（ａ３）とを包含する。

ある実施形態において、前記工程（ａ３）の前に、前記基材の表面に形成された前記複数の曲面部に機械加工または電解加工を施す工程（ａ４）をさらに包含する。

ある実施形態において、前記基材は、アルミニウム基材であり、前記型基材は、前記基材と前記アルミニウム層との間に形成された無機材料層をさらに有する。

ある実施形態において、前記基材は、Ａｌ−Ｍｇ−Ｓｉ系のアルミニウム合金で形成され、機械的な鏡面加工が施されたアルミニウム基材である。

本発明の実施形態によるレンズ用型は、少なくとも１つの反転された光学曲面を表面に有するレンズ用型であって、アルミニウム基材と、前記アルミニウム基材の表面に形成されたポーラスアルミナ層とを有し、前記ポーラスアルミナ層は、前記少なくとも１つの反転された光学曲面を表面に有し、前記少なくとも１つの反転された光学曲面のそれぞれは、表面の法線方向から見たときの２次元的な大きさが１０ｎｍ以上５００ｎｍ未満の複数の微細な凹部を有する。

本発明の他の実施形態によるレンズ用型は、少なくとも１つの反転された光学曲面を表面に有するレンズ用型であって、基材と、前記基材に支持されたアルミニウム層と、前記アルミニウム層の表面に形成されたポーラスアルミナ層とを有し、前記ポーラスアルミナ層は、前記少なくとも１つの反転された光学曲面を表面に有し、前記少なくとも１つの反転された光学曲面のそれぞれは、表面の法線方向から見たときの２次元的な大きさが１０ｎｍ以上５００ｎｍ未満の複数の微細な凹部を有する。

ある実施形態において、前記ポーラスアルミナ層の表面は、平面部をさらに有し、前記少なくとも１つの反転された光学曲面は、前記平面部を介して互いに隣接する２つの反転された光学曲面を含む。

ある実施形態において、前記基材と前記アルミニウム層との間に形成された無機材料層をさらに有し、前記平面部は、前記無機材料層の一部を含む。

ある実施形態において、前記平面部は、表面の法線方向から見たときの２次元的な大きさが１０ｎｍ以上５００ｎｍ未満の複数の微細な凹部を有する。

本発明の実施形態によると、型の製造ばらつきの発生を抑制することができるレンズ用型の製造方法およびそのような方法で製造されたレンズ用型が提供される。

（ａ）は、実施形態１のレンズ用型１００Ａを模式的に示す斜視図であり、（ｂ）は、レンズ用型１００Ａの模式的な断面図であり、（ｃ）は、実施形態１のレンズ用型１００Ｂの模式的な断面図である。 （ａ）〜（ｄ）は、レンズ用型１００Ａの製造方法を説明するための模式的な断面図である。 （ａ）〜（ｅ）は、レンズ用型１００Ａの製造方法を説明するための模式的な断面図である。 （ａ）〜（ｃ）は、レンズ用型１００Ａの製造方法を説明するための模式的な斜視図であり、（ｄ）は、モスアイ用型５０Ａを切断する方法を説明するための模式的な断面図である。 ポーラスアルミナ層１８を形成する工程における電圧の変化を示すグラフである。 ポーラスアルミナ層１８を形成する工程における電圧の変化を示すグラフである。 （ａ）は、円筒状または円柱状のモスアイ用型５０Ａの陽極酸化を行う陽極酸化槽の模式図であり、（ｂ）は、（ａ）の陽極酸化槽の電解液に浸漬されたアルミニウム基材１０Ａの模式的な断面図である。 （ａ）および（ｂ）は、レンズ用型１００Ａを用いて、レンズの光学曲面を作製する方法を説明するための模式的な断面図である。 （ａ）〜（ｅ）は、レンズ用型１００Ｂの製造方法を説明するための模式的な断面図である。 （ａ）〜（ｅ）は、レンズ用型１００Ｂの製造方法を説明するための模式的な断面図である。 （ａ）〜（ｃ）は、実施形態２のレンズ用型の製造方法を説明するための模式的な斜視図である。 実施形態３のレンズ用型１００Ｃを模式的に示す斜視図である。

以下で、図面を参照して、本発明の実施形態によるレンズ用型およびレンズ用型の製造方法を説明する。なお、本発明は以下で例示する実施形態に限られない。以下の図面において、実質的に同じ機能を有する構成要素は共通の参照符号で示し、その説明を省略することがある。

本出願人は、モスアイ構造を有する反射防止表面（または反射防止膜）の製造方法として、アルミニウムを陽極酸化することによって得られる陽極酸化ポーラスアルミナ層を用いる方法を開発してきた（特許文献２、３および５から１０）。陽極酸化ポーラスアルミナ膜を利用することによって、モスアイ構造を表面に形成するための型（以下、「モスアイ用型」ということがある。）を容易に製造することができる。モスアイ構造を形成することができるモスアイ用型の表面の構造を「反転されたモスアイ構造」ということにする。特に、特許文献２、３および５から１０に記載されているように、アルミニウムの陽極酸化膜の表面をそのまま型として利用すると、製造コストを低減する効果が大きい。参考のために、特許文献１から３および５から１０の開示内容の全てを本明細書に援用する。

（実施形態１）
図１（ａ）〜（ｃ）を参照して、本発明の実施形態１によるレンズ用型１００Ａおよび１００Ｂの構造を説明する。図１（ａ）は、レンズ用型１００Ａを模式的に示す斜視図であり、図１（ｂ）は、レンズ用型１００Ａの模式的な断面図であり、図１（ｃ）は、レンズ用型１００Ｂの模式的な断面図である。

本発明の実施形態によるレンズ用型１００Ａおよび１００Ｂは、反転された光学曲面２２を表面に有する。反転された光学曲面２２は、レンズの光学曲面に対応する曲面である。例えば、図１に示すように凹面を構成する反転された光学曲面２２は、レンズの凸面を形成することができる。レンズの光学曲面は、球面に限られず、非球面であってもよい。反転された光学曲面２２を、球面または非球面の任意の形状にすることで、所望の光学曲面を形成することができる。

図１（ｂ）に示すように、レンズ用型１００Ａは、アルミニウム基材１０Ａと、アルミニウム基材１０Ａの表面に形成されたポーラスアルミナ層１８とを有する。ポーラスアルミナ層１８は、反転された光学曲面２２を表面に有する。反転された光学曲面２２は、表面の法線方向から見たときの２次元的な大きさが１０ｎｍ以上５００ｎｍ未満の複数の微細な凹部１８ｐを有する。

ここで、凹部の「２次元的な大きさ」とは、表面の法線方向から見たときの凹部の面積円相当径を指す。例えば、凹部が円錐形の場合には、凹部の２次元的な大きさは、円錐の底面の直径に相当する。凸部の「２次元的な大きさ」も同様である。また、後述する図３（ｅ）または図１０（ｅ）に例示するように、微細な凹部１８ｐが密に配列されており、隣接する微細な凹部１８ｐ間に間隙が存在しない（例えば、円錐の底面が部分的に重なる）場合には、互いに隣接する２つの微細な凹部１８ｐの平均隣接間距離は、微細な凹部１８ｐの２次元的な大きさとほぼ等しい。微細な凹部１８ｐの典型的な隣接間距離は２０ｎｍ超１０００ｎｍ以下である。微細な凹部１８ｐの典型的な深さは、５０ｎｍ以上５００ｎｍ未満である。

「反転された光学曲面」の「２次元的な大きさ」も同様に、表面の法線方向から見たときの「反転された光学曲面」の面積円相当径を指す。光学曲面を形成することができるレンズ用型の表面の構造を「反転された光学曲面」ということにする。光学曲面の「２次元的な大きさ」も同様である。

図１（ｃ）に示すように、レンズ用型１００Ｂは、基材１２と、基材１２に支持されたアルミニウム層１６ｒとを有する構成において、レンズ用型１００Ａがアルミニウム基材１０Ａを有する構成と異なる。レンズ用型１００Ｂは、アルミニウム層１６ｒの表面に形成されたポーラスアルミナ層１８を有し、ポーラスアルミナ層１８は、反転された光学曲面２２を表面に有する。反転された光学曲面２２は、表面の法線方向から見たときの２次元的な大きさが１０ｎｍ以上５００ｎｍ未満の複数の微細な凹部１８ｐを有する。以下、レンズ用型１００Ｂの説明において、レンズ用型１００Ａと共通の特徴については説明を省略することがある。図１（ｃ）に示すように、レンズ用型１００Ｂは、基材１２とアルミニウム層１６ｒとの間に形成された無機材料層１４をさらに有してもよい。

図２〜図４を参照して、レンズ用型１００Ａを製造する方法を説明する。図２（ａ）〜（ｄ）および図３（ａ）〜（ｅ）は、レンズ用型１００Ａの製造方法を説明するための模式的な断面図である。図３（ａ）〜（ｅ）は、反転されたモスアイ構造を形成するプロセスを説明するための図であり、図３（ａ）〜（ｅ）においては見やすさのために反転された光学曲面２２の図示を省略している。図４（ａ）〜（ｃ）は、レンズ用型１００Ａの製造方法を説明するための模式的な斜視図であり、図４（ｄ）は、モスアイ用型５０Ａを切断する方法を説明するための模式的な断面図である。

まず、図２（ａ）、図３（ａ）および図４（ａ）に示すように、アルミニウム基材１０Ａを用意する。

アルミニウム基材１０Ａは、例えば図４（ａ）に示すように円柱状または円筒状である。アルミニウム基材１０Ａの直径は例えば３００ｍｍであり、長軸方向の長さは例えば１０００ｍｍ〜１６００ｍｍである。

アルミニウム基材１０Ａの表面は、機械加工または電解加工が施されていてもよい。機械加工は、例えば、機械的な鏡面加工（例えばバイト切削）である。電解加工は、例えば電解研磨である。

本出願人による特許文献５に開示されているように、円柱状または円筒状のモスアイ用型を用いると、ロール・ツー・ロール方式により反射防止膜を効率良く製造することができる。表面に機械加工が施されたアルミニウム基材は、ロール状（円柱状または円筒状）のモスアイ用型を作製する工程において用いられることがある。本発明の実施形態によるレンズ用型の製造においても、そのようなアルミニウム基材を用いてもよい。

次に、図２（ｂ）および図４（ｂ）に示すように、アルミニウム基材１０Ａの表面に、複数の反転された光学曲面２２を形成する。

アルミニウム基材１０Ａの表面は、複数の反転された光学曲面２２と、平面部２１とを含む。アルミニウム基材１０Ａの表面（外周面）の内、反転された光学曲面２２を構成しない部分は、平面部２１を構成する。複数の反転された光学曲面２２は、平面部２１を介して互いに隣接する２つの反転された光学曲面２２を含む。

複数の反転された光学曲面２２の２次元的な大きさは、例えば１ｍｍ以上５０ｍｍ以下である。複数の反転された光学曲面２２は、例えば周期的に形成される。複数の反転された光学曲面２２の隣接間距離は、例えば１ｍｍ以上５０ｍｍ以下である。後述するように、複数の反転された光学曲面２２のそれぞれにおいて、ポーラスアルミナ層１８の微細な凹部１８ｐが均一に形成されるためには、複数の反転された光学曲面２２が周期的に形成されていることが好ましい。

複数の反転された光学曲面２２は、種々の公知のアルミニウムの加工方法を用いて形成することができる。例えば切削加工やドリル加工を用いてアルミニウム基材１０Ａの表面を加工することによって、反転された光学曲面２２を形成してもよい。あるいは、反転された光学曲面２２を形成するための型を用いてプレス加工を施してもよい。反転された光学曲面２２の形成方法は、上記の例に限られず、レンズ用型１００Ａを用いて形成されるレンズ（光学曲面）について所望される２次元的な大きさや深さ、加工精度等によって適宜加工方法を選べばよい。

アルミニウム基材１０Ａの表面に、複数の反転された光学曲面２２を形成した後、アルミニウム基材１０Ａの表面、特に複数の反転された光学曲面２２に、上述の機械加工または電解加工を施してもよい。電解加工は、アルミニウム基材の表面の内、機械加工が施しにくい部分の処理を行うことができるという利点を有することがある。また、電解加工を施したアルミニウム基材の表面には、後述する加工変質層が形成されないという利点もある。携帯電話やスマートフォン用のカメラレンズやコンタクトレンズ等の比較的小さいレンズを形成するためのレンズ用型１００Ａにおいては、反転された光学曲面２２の深さは大きくても数ｍｍ程度であるので、反転された光学曲面２２に均一に電解研磨を施すことができる。なお、反転された光学曲面２２の２次元的な大きさや深さによっては、反転された光学曲面２２に均一に電解研磨を施すことができないという問題が生じる場合がある。この場合には、反転された光学曲面２２に対向する電極を別途電解液中に設ければよい。

アルミニウム基材の表面に機械加工を施すと、アルミニウム基材の表面に加工変質層が形成される。本出願人による特許文献６に開示されているように、表面に加工変質層が形成されたアルミニウム基材は、陽極酸化すると微細な凹部が均一に形成されないという問題が生じることがある。特許文献６に記載されているように、アルミニウム基材の陽極酸化を行う前に、アルミニウム基材の表面、すなわち加工変質層の表面に、陰極電解によって微細な凹凸構造を形成することで、この問題の発生を抑制することができる。

陰極電解は、電解液としての水溶液中において、アルミニウム基材の表面を陰極として、アルミニウム基材の表面と対向電極との間に通電処理を行うことを言う。水溶液としては、陽極酸化に用いる電解液を用いることもできるし、水溶液に代えて比抵抗値が１ＭΩ・ｃｍ以下の水を用いることもできる。例えば、電解液として０．１ｍｏｌ／Ｌの蓚酸水溶液を用い、４Ａ／ｄｍ³の電流を３０秒間流した後、アルミニウム基材を電解液から引き上げるという操作を１セットとして、３セット行うことで、陰極電解を行う。アルミニウム基材を電解液から引き上げることによって、陰極電解を複数回に分けて行うと、陰極であるアルミニウム基材の表面に発生する気泡が反応を阻害し、陰極電解が進行しない部分が発生するのを抑制することができる。

陰極電解の後、アルミニウム基材の表面に形成された水酸化アルミニウムの皮膜を取り除くために、例えば燐酸水溶液（３０℃、１ｍｏｌ／Ｌ）中に１０分間浸漬することが好ましい。

加工変質層に起因して、ポーラスアルミナ層に微細な凹部が均一に形成されないという問題は、加工変質層の形成を伴う機械加工が施されたアルミニウム基材を用いる場合に共通の問題である。鏡面加工の内、切削加工と、研削加工などの機械研磨（Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ Ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ：ＭＰ）と、化学研磨と機械研磨とを併用する化学機械研磨（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ Ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ：ＣＭＰ）は、加工変質層の形成を伴う。本明細書において、「機械的な鏡面加工」は、ＭＰおよびＣＭＰを包含する。

上述したように、電解加工によって加工変質層は形成されないので、電解加工が施されたアルミニウム基材においては、加工変質層に起因して、ポーラスアルミナ層に微細な凹部が均一に形成されないという問題は生じない。

反転された光学曲面２２を形成した後、陽極酸化とエッチングとを交互に繰り返し、反転されたモスアイ構造を形成することによって、図２（ｃ）および図３（ｅ）に示すモスアイ用型５０Ａが得られる。反転されたモスアイ構造を形成するプロセスについて、図３（ｂ）〜（ｅ）を参照して説明する。

図３（ｂ）に示すように、アルミニウム基材１０Ａの表面１０Ａｓを陽極酸化することによって、複数の微細な凹部（細孔）１８ｐを有するポーラスアルミナ層１８を形成する。ポーラスアルミナ層１８は、微細な凹部１８ｐを有するポーラス層と、バリア層（微細な凹部１８ｐの底部）とを有している。隣接する微細な凹部１８ｐの間隔（中心間距離）は、バリア層の厚さのほぼ２倍に相当し、陽極酸化時の電圧にほぼ比例することが知られている。この関係は、図３（ｅ）に示す最終的なポーラスアルミナ層１８についても成立する。

ポーラスアルミナ層１８は、例えば、酸性の電解液中で表面１０Ａｓを陽極酸化することによって形成される。ポーラスアルミナ層１８を形成する工程で用いられる電解液は、例えば、蓚酸、酒石酸、燐酸、硫酸、クロム酸、クエン酸およびリンゴ酸からなる群から選択される酸を含む水溶液である。例えば、アルミニウム基材１０Ａの表面１０Ａｓを、蓚酸水溶液（濃度０．１ｍｏｌ／Ｌ）を用いて、印加電圧６０Ｖで１２０秒間陽極酸化を行うことにより、ポーラスアルミナ層１８を形成する。

次に、図３（ｃ）に示すように、ポーラスアルミナ層１８をアルミナのエッチャントに接触させることによって所定の量だけエッチングすることにより微細な凹部１８ｐの開口部を拡大する。エッチング液の種類・濃度、およびエッチング時間を調整することによって、エッチング量（すなわち、微細な凹部１８ｐの大きさおよび深さ）を制御することができる。エッチング液としては、例えば１０ｍａｓｓ％の燐酸や、蟻酸、酢酸、クエン酸などの有機酸や硫酸の水溶液やクロム酸燐酸混合水溶液を用いることができる。例えば、燐酸水溶液（５ｍａｓｓ％）およびクロム酸水溶液（３ｍａｓｓ％）の混合水溶液を用いて１５分間エッチングを行う。

次に、図３（ｄ）に示すように、再び、アルミニウム基材１０Ａを部分的に陽極酸化することにより、微細な凹部１８ｐを深さ方向に成長させるとともにポーラスアルミナ層１８を厚くする。ここで微細な凹部１８ｐの成長は、既に形成されている微細な凹部１８ｐの底部から始まるので、微細な凹部１８ｐの側面は階段状になる。

さらにこの後、必要に応じて、ポーラスアルミナ層１８をアルミナのエッチャントに接触させることによってさらにエッチングすることにより微細な凹部１８ｐの孔径をさらに拡大する。エッチング液としては、ここでも上述したエッチング液を用いることが好ましく、現実的には、同じエッチング浴を用いればよい。

このように、上述した陽極酸化工程およびエッチング工程を交互に複数回（例えば５回：陽極酸化を５回とエッチングを４回）繰り返すことによって、図３（ｅ）に示すように、反転されたモスアイ構造を有するポーラスアルミナ層１８を有するモスアイ用型５０Ａが得られる。陽極酸化工程で終わることによって、微細な凹部１８ｐの底部を点にできる。すなわち、先端が尖った凸部を形成することができる型が得られる。

図３（ｅ）に示すポーラスアルミナ層１８（厚さｔp）は、ポーラス層（厚さは微細な凹部１８ｐの深さＤdに相当）とバリア層（厚さｔb）とを有する。

ポーラスアルミナ層１８が有する微細な凹部１８ｐは、例えば円錐形であり、階段状の側面を有してもよい。微細な凹部１８ｐの二次元的な大きさ（表面の法線方向から見たときの凹部の面積円相当径）Ｄｐは１０ｎｍ超５００ｎｍ未満で、深さＤｄは１０ｎｍ以上１０００ｎｍ（１μｍ）未満程度であることが好ましい。また、微細な凹部１８ｐの底部は尖っている（最底部は点になっている）ことが好ましい。微細な凹部１８ｐは密に充填されている場合、ポーラスアルミナ層１８の法線方向から見たときの微細な凹部１８ｐの形状を円と仮定すると、隣接する円は互いに重なり合い、隣接する微細な凹部１８ｐの間に鞍部が形成される。なお、略円錐形の微細な凹部１８ｐが鞍部を形成するように隣接しているときは、微細な凹部１８ｐの二次元的な大きさＤｐは隣接間距離Ｄｉｎｔと等しい。ポーラスアルミナ層１８の厚さｔｐは、例えば、約１μｍ以下である。

微細な凹部１８ｐで構成される反転されたモスアイ構造は、複数の反転された光学曲面２２に重畳されて形成される。したがって、図２（ｃ）に模式的に示すように、反転された光学曲面２２内に形成された微細な凹部１８ｐと、平面部２１に形成された微細な凹部１８ｐとが存在する。

次に、図２（ｄ）に示すように、アルミニウム基材１０Ａから、複数の反転された光学曲面２２の内の少なくとも１つの反転された光学曲面２２を含む部分を切り出す。例えば、図２（ｄ）の破線に沿って、モスアイ用型５０Ａを分断する。ここでは、１つの反転された光学曲面２２を含む部分を切り出すことによって、レンズ用型１００Ａを得る。図２（ｄ）に示すように、１つのモスアイ用型５０Ａから複数のレンズ用型１００Ａを得ることができる。

円筒状または円柱状のアルミニウム基材１０Ａの切断の方法は、任意であってよい。その一例を、図４（ｃ）および（ｄ）を参照して説明する。まず図４（ｃ）の破線に沿って、断面がアルミニウム基材１０Ａの長軸方向に直交するようにモスアイ用型５０Ａを切断することによって複数の部分に分ける。その後、それぞれの部分（底面が円）について、図４（ｄ）に示すように、円の中心を通る直線に沿って分割する。所望のレンズ用型の大きさによって、中心角θの大きさを設定すればよい。なお、中心角θの大きさによっては、得られたレンズ用型１００Ａの平面部２１の曲率が、無視できないほど大きくなることがある。この場合、平面部２１の曲率を小さくするように平坦化処理を行うことが好ましい。例えば、平面部２１の曲率がレンズ用型１００Ａの使用上問題ない程度に小さくなるまで、例えばレンズ用型１００Ａの平面部２１の表面に機械研磨を施すことによって、平面部２１の表面を削ればよい。

モスアイ用型５０Ａを切断する工程の前に、モスアイ用型５０Ａの表面に離型処理を施す工程を行うことが好ましい。離型処理工程については、例えば本出願人による特許文献８に開示されている。離型処理工程は、例えば、離型性を有するフッ素系化合物と溶剤とを含む離型剤を用意する工程と、モスアイ用型５０Ａの表面に、フッ素系化合物を溶解することができる溶剤を付与する工程と、その後、モスアイ用型５０Ａの表面に離型剤をスプレーコート法によって付与する工程とを包含する。

以上の工程により、レンズ用型１００Ａを製造することができる。

本発明の実施形態によるレンズ用型の製造方法によって製造されたレンズ用型１００Ａは、図１（ｂ）に示すように、平面部２１を有し、平面部２１は、表面の法線方向から見たときの２次元的な大きさが１０ｎｍ以上５００ｎｍ未満の複数の微細な凹部１８ｐを有する。

本発明の実施形態によるレンズ用型１００Ａの製造方法によると、１つのモスアイ用型５０Ａから複数のレンズ用型１００Ａを得ることができるので、レンズ用型の製造ばらつきを抑制することができる。すなわち、モスアイ用型５０Ａの表面は、基本的に同じ条件で陽極酸化されるので、そのモスアイ用型５０Ａを切り出すことによって得られるレンズ用型１００Ａは、製造ばらつきが抑制される。

本発明の実施形態によるレンズ用型の製造工程は、陽極酸化されるアルミニウム基材または型基材が、表面に反転された光学曲面を有する点において、これまで本出願人が開発してきたモスアイ用型の製造工程と異なる。従って、従来のモスアイ用型の製造方法においては、ポーラスアルミナ層に微細な凹部が十分に均一に形成されていた条件であっても、反転された光学曲面を有するアルミニウム基材または型基材に適用した場合に、ポーラスアルミナ層に形成される微細な凹部の均一性が十分に担保されない可能性がある。例えば、陽極酸化される表面に対する電解液の供給のされ方や、陽極酸化によって発生した熱の拡散の仕方等が場所によって異なる可能性がある。これにより、ポーラスアルミナ層１８の微細な凹部１８ｐが均一に形成されない可能性がある。

しかしながら、たとえ、モスアイ用型５０Ａのポーラスアルミナ層１８内に、微細な凹部１８ｐが均一に形成されていない箇所が生じたとしても、レンズ用型１００Ａを切り出す工程において、そのような箇所（例えばモスアイ用型５０Ａの長軸方向における両端部分）を避けて切り出せばよい。これにより、レンズ用型の製造ばらつきを抑制することができるという効果を得ることができる。あるいは、後述するように、モスアイ用型５０Ａのポーラスアルミナ層１８内の微細な凹部１８ｐが均一に形成されるように、本出願人による特許文献７に開示されているポーラスアルミナ層の形成方法を用いてもよい。これらを併用してももちろんよい。

なお、反転された光学曲面の２次元的な大きさは、反転されたアンチグレア構造よりも大きいので、反転された光学曲面はアンチグレア（防眩）機能を有しない。特許文献１および２に記載されているように、アンチグレア機能を発揮する凹凸構造（「アンチグレア構造」ということがある。）を構成する凸部または凹部の２次元的な大きさは２００ｎｍ以上１００μｍ未満である。モスアイ構造よりも大きな凹凸構造（マクロ構造）を設けることによって、反射防止膜（反射防止表面）にアンチグレア（防眩）機能を付与することができる。アンチグレア構造を形成することができる型の表面の構造を「反転されたアンチグレア構造」ということがある。

ここで、特許文献４のレンズ用型の製造方法について説明する。

特許文献４のレンズ用型は、以下のようにして製造されると記載されている。まず、反転された光学曲面（特許文献４では「自由曲面」と記載されている。）を有する金型を用意し、反転された光学曲面を覆うアルミニウム層を形成する。その後、アルミニウム層を陽極酸化する工程と、陽極酸化によって形成されたポーラスアルミナ層の細孔を拡大するエッチング工程とを交互に繰り返すことで、レンズを製造するための型を得る。陽極酸化工程およびエッチング工程を行う際には、反転された光学曲面だけを露出させるようにして、金型全体をマスキングテープで覆う。マスキングテープで覆われた部分は、絶縁防水状態である。

特許文献４のレンズ用型の製造方法においては、それぞれの型について陽極酸化を行うので、型によって陽極酸化の条件が異なる可能性があり、型の製造ばらつきが生じるおそれがある。特に、陽極酸化の条件が異なることにより、ポーラスアルミナ層が有する微細な凹部に製造ばらつきが生じるおそれがある。

また、本発明者の検討によると、マスキングテープで型の表面を覆うと、型が有する反転された光学曲面において、微細な凹部が不均一に形成される可能性がある。すなわち、型が有する反転された光学曲面において、微細な凹部（細孔）の直径および／または深さにむらが生じる可能性がある。このような型を用いて製造されたレンズを介して得られる像には、色むらが生じる可能性がある。本発明者は、アルミニウム基材または型基材の表面を陽極酸化することによりポーラスアルミナ層を形成する場合、アルミニウム基材または型基材の表面に凹部が存在すると、初期の段階においてまず、表面の凹部に電界が集中することにより、凹部から優先的に微細な凹部（細孔）の成長が進行するという知見を得ている（例えば国際公開第２０１１／０５２６５２号）。従って、特許文献４の型の製造方法においては、ポーラスアルミナ層の内、マスキングテープの端に電界が集中し、マスキングテープの近傍では他の部分よりも微細な凹部が深くなると考えられる。これにより、反転された光学曲面に形成された微細な凹部の直径や深さにむらが生じ得る。

本発明の実施形態によるレンズ用型の製造方法によると、上述したように、１つのモスアイ用型から複数のレンズ用型を得ることができるので、レンズ用型の製造ばらつきを抑制することができる。モスアイ用型の表面がなるべく均一な条件で陽極酸化されることがさらに好ましい。例えば、複数の反転された光学曲面がアルミニウム基材の表面に周期的に形成されていることが好ましい。

また、本発明の実施形態によるレンズ用型の製造方法によると、レンズ用型１００Ａの反転された光学曲面２２に形成された微細な凹部１８ｐの不均一性が抑制され得る。すなわち、レンズ用型１００Ａの反転された光学曲面２２に形成された微細な凹部１８ｐの直径および／または深さのむらが抑制され得る。例えば、モスアイ用型５０Ａを製造する工程において、アルミニウム基材１０Ａの表面の一部を絶縁性部材（例えばマスキングテープ）で覆う場合、モスアイ用型５０Ａのポーラスアルミナ層１８において、絶縁性部材の近傍で他の部分よりも深い微細な凹部が形成されても、レンズ用型１００Ａを切り出す工程において、そのような箇所を避けて切り出せばよい。モスアイ用型５０Ａを製造する工程において、アルミニウム基材１０Ａの表面の一部を絶縁性部材で覆う場合、反転された光学曲面２２は、アルミニウム基材１０Ａの表面の内、絶縁性部材の端から例えば１０ｍｍ以上離れて形成しておくことが好ましい。絶縁性部材の端における電界集中に起因した微細な凹部の不均一性は、絶縁性部材の端から数ｍｍ以内の範囲において生じると考えられるからである。

なお、モスアイ用型５０Ａを製造する工程において、アルミニウム基材１０Ａの表面を陽極酸化に用いた電極と接触させた状態で、エッチング液に接触させると、電極に含まれる不純物（例えば標準電極電位がアルミニウムよりも高い金属）に起因してエッチング液を介した電池効果が生じることがある。すなわち、エッチング工程において、エッチング液中でアルミニウム基材１０Ａと電極との間で局所電池が形成される結果、孔食または隙間腐食等の不均一な腐食（例えばガルバニック腐食）が起こることがある。不均一な腐食の発生を抑制するためには、アルミニウム基材１０Ａの表面と電極とが接触している部分が、エッチング液に接触しないようにすればよい。例えば、アルミニウム基材１０Ａの表面と電極とが接触している部分を絶縁性部材（例えばマスキングテープ）で覆うことによって保護すればよい。アルミニウム基材１０Ａの表面の内、絶縁性部材によって覆われることになる部分には、反転された光学曲面２２を形成しないようにしてもよい。

本発明の実施形態によるレンズ用型の製造工程において、特許文献７に開示されているように、ポーラスアルミナ層１８が有する微細な凹部１８ｐが均一に形成されるように陽極酸化工程を行うことが好ましい。特許文献７の陽極酸化方法を用いることによって、レンズ用型１００Ａの反転された光学曲面２２に形成された微細な凹部１８ｐの不均一性（微細な凹部１８ｐの直径および／または深さのむら）がより効果的に抑制され得る。

特許文献７に開示されている、ポーラスアルミナ層１８を形成する工程における電圧について、図５および図６を参照して説明する。図５および図６は、それぞれ、ポーラスアルミナ層１８を形成する工程における電圧の変化の一例を示すグラフである。

ポーラスアルミナ層１８を形成する工程は、アルミニウム基材１０Ａの表面を電解液に接触させた状態で、アルミニウム基材１０Ａの表面と電気的に接続された陽極と、電解液内に設けられた陰極との間に電圧を印加することによって、微細な凹部１８ｐを有するポーラスアルミナ層１８を形成する工程である。図５に示すように、ポーラスアルミナ層１８を形成する工程は、電圧を目標値に上昇させる工程と、電圧を目標値に上昇させる前に、電圧を目標値よりも低い第１ピーク値に上昇させ、その後、第１ピーク値よりも低い値に低下させる工程とを含むことが好ましい。電圧を第１ピーク値よりも低い値に低下させる工程において、例えば電圧を実質的にゼロに低下させる。

あるいは、図６に示すように、ポーラスアルミナ層１８を形成する工程は、電圧を第１ピーク値よりも低い値に低下させる工程の後であって、電圧を目標値に上昇させる工程の前に、電圧を、第１ピーク値よりも高く目標値以下の第２ピーク値に上昇させ、その後、第２ピーク値よりも低い値に低下させる工程をさらに含んでもよい。第２ピーク値に上昇させる工程において、例えば第２ピーク値は目標値とほぼ等しい。

図５を参照して、ポーラスアルミナ層１８を形成する工程における電圧の変化を詳細に説明する。上述したように、ポーラスアルミナ層１８は、微細な凹部１８ｐを有するポーラス層と、バリア層（微細な凹部１８ｐの底部）とを有している。

まず、陽極と陰極との間の電圧をピーク値に上昇させ、その後、電圧を、ピーク値からピーク値よりも低い値に低下させる。例えば、電源を落とすことにより、電圧をピーク値からゼロに低下させる。このとき、バリア層はピーク値に対応する厚さを有している。

その後、電圧をピーク値よりも高い目標値に上昇させ、電圧を目標値に所定の時間維持する。その後、例えば、電源を落とすことにより、電圧を目標値からゼロに低下させる。これにより、バリア層は目標値に対応する厚さになる。なお、このバリア層は、目標値の電圧の印加を開始する前よりも厚い。また、ポーラスアルミナ層１８に設けられた微細な凹部１８ｐのピッチまたは平均隣接間距離は目標値に対応する。

ここでは、電圧をピーク値または目標値まで上昇させる時間変化率（傾き）は一定である。電圧をピーク値および目標値に上昇させる際の電圧の時間変化率はそれぞれ０．５７Ｖ／ｓよりも大きく２０Ｖ／ｓよりも小さいことが好ましい。

陽極酸化工程において単位時間あたりに発生する熱量（すなわち、電力）が大きい場合、アルミニウム基材１０Ａの異なる領域における温度の差が比較的大きくなり、その結果、形成される微細な凹部１８ｐが均一に形成されないことがある。

図５の陽極酸化方法では、電圧を目標値に上昇させる前に目標値よりも低いピーク値に上昇させており、これにより、瞬間的に発生する熱量を効率的に抑制できる。電圧をピーク値まで上昇させることによって形成されたバリア層は絶縁性の高いアルミナを有しており、その後でさらに陽極酸化を進めるためには、ピーク値以上の電圧を印加する必要があり、ピーク値未満の電圧を印加しても電流がほとんど流れず、陽極酸化は進行しない。このため、目標値まで電圧を上昇させる際に、ゼロからピーク値まで電圧を変化させても電流がそれほど流れず、電圧がピーク値に達してから目標値まで上昇する際の電流は、電圧をピーク値まで上昇させることなく目標値まで直接上昇させた場合と比べて抑制される。このように、電圧の上昇を段階的に行うことにより、電流量を抑制して単位時間当たりの発生熱量（すなわち、電力）を抑制することができ、その結果、微細な凹部１８ｐの不均一性を抑制することができる。

また、本実施形態において、電圧を目標値よりも低いピーク値まで上昇させた際の電流は、電圧を目標値まで上昇させた際の電流よりも低く、ジュール熱の発生量が比較的少ない。その後、電圧をピーク値に上昇させた後にピーク値よりも低くすることにより、電流が少なくとも一時的に流れなくなり、ジュール熱の発生が停止する。このため、電圧をピーク値に上昇させた際に発生した熱が拡散し、電圧をピーク値に上昇させる際に発生した熱の影響を抑制することができる。このように、本実施形態の陽極酸化層の形成方法によれば、アルミニウム基材１０Ａの異なる領域における温度差を抑制することができ、その結果、微細な凹部１８ｐの不均一性を抑制することができる。

なお、上述した説明では、電圧をピーク値に上昇させた後に電圧をピーク値からゼロに低下させたが、本発明はこれに限定されない。電圧をゼロに低下させなくてもピーク値よりも低くすることにより、電流が少なくとも一時的に流れなくなり、これにより、電圧をピーク値に上昇させる際に発生した熱の影響を抑制することができる。ただし、電圧がピーク値よりも低くても、アルミニウム基材１０Ａの温度差に起因して電流が流れることがある。このため、電圧をゼロに低下させることにより、温度差に起因する電流を効果的に抑制することができる。

なお、図５では、電圧を目標値に上昇させる前に電圧の上昇および低下を１回行ったが、本発明はこれに限定されない。図６に示すように、電圧を目標値に上昇させる前に電圧の上昇および低下を２回以上行ってもよい。以下、図６を参照して、ポーラスアルミナ層１８を形成する工程における電圧の変化を説明する。

まず、陽極と陰極との間の電圧を第１ピーク値に上昇させ、その後、電圧を、第１ピーク値から第１ピーク値よりも低い値に低下させる。例えば、電源を落とすことにより、電圧を第１ピーク値からゼロに低下させる。このとき、バリア層は、第１ピーク値に対応する厚さを有している。

その後、陽極と陰極との間の電圧を第１ピーク値よりも高い第２ピーク値に上昇させ、その後、電圧を、第２ピーク値から第２ピーク値よりも低い値に低下させる。例えば、電源を落とすことにより、電圧を第２ピーク値からゼロに低下させる。このとき、バリア層は、第２ピーク値に対応する厚さを有している。なお、このときのバリア層は、第２ピーク値への電圧の上昇を開始する前よりも厚い。

その後、電圧を第２ピーク値以上の目標値に上昇させ、目標値で所定の時間維持する。その後、例えば、電源を落とすことにより、電圧を目標値からゼロに低下させる。このとき、バリア層は目標値に対する厚さを有している。また、微細な凹部１８ｐのピッチまたは平均隣接間距離は所定の長さとなる。

ここでは、電圧をピーク値または目標値まで上昇させる時間変化率（傾き）は一定である。電圧を第１ピーク値、第２ピーク値および目標値に上昇させる際の電圧の時間変化率は０．５７Ｖ／ｓよりも大きく２０Ｖ／ｓよりも小さいことが好ましい。なお、第２ピーク値が目標値と等しい場合、電圧を第２ピーク値に上昇させた際に形成される微細な凹部１８ｐのピッチまたは隣接間距離が、後に、目標値の電圧で形成されるピッチまたは平均隣接間距離とほぼ等しいため、所定のピッチまたは隣接間距離で所定の深さの微細な凹部１８ｐを効率的に形成することができる。

本実施形態では、電圧を目標値に上昇させる前に目標値よりも低い第１ピーク値（必要に応じて第２ピーク値）に上昇させることにより、瞬間的に発生する熱量を効率的に抑制することができる。

具体的には、電圧を第１ピーク値まで上昇させることによって形成されたバリア層は絶縁性の高いアルミナを有しており、その後でさらに陽極酸化を進めるためには第１ピーク値以上の電圧を印加する必要があり、第１ピーク値未満の電圧を印加しても電流はほとんど流れない。このため、次に、第１ピーク値よりも高い第２ピーク値まで電圧を上昇する際に、ゼロから第１ピーク値まで電圧を変化させても電流がそれほど流れず、電圧が第１ピーク値に達してから第２ピーク値まで上昇する際の電流は、第１ピーク値までの電圧の上昇を行うことなく電圧を直接第２ピーク値に上昇させた場合と比べて抑制される。このように、電圧のピーク値を段階的に上昇させることにより、電流量を抑制して単位時間当たりの発生熱量（すなわち、電力）を抑制することができ、その結果、微細な凹部１８ｐの不均一性を抑制することができる。

同様に、電圧を第２ピーク値まで上昇させることによって形成されたバリア層は絶縁性の高いアルミナを有しており、その後でさらに陽極酸化を進めるためには第２ピーク値以上の電圧を印加する必要があり、第２ピーク値未満の電圧を印加しても電流はほとんど流れない。このため、目標値まで電圧を上昇する際に、ゼロから第２ピーク値まで電圧を変化させても電流がそれほど流れず、電圧が第２ピーク値に達した後の電流は、電圧を第２ピーク値まで上昇させることなく目標値に上昇させた場合と比べて抑制される。このように、電圧のピーク値を段階的に上昇させることにより、電流量を抑制して単位時間当たりの発生熱量（すなわち、電力）を抑制することができ、その結果、微細な凹部１８ｐの不均一性を抑制することができる。

また、本実施形態において、電圧を目標値よりも低いピーク値まで上昇させた際の電流は、電圧を目標値まで上昇させた際の電流よりも低く、ジュール熱の発生量が比較的少ない。その後、電圧をピーク値に上昇させた後に電圧をピーク値よりも低くすることにより、電流が少なくとも一時的に流れなくなり、陽極酸化層の形成が停止され、熱の発生が停止する。このため、電圧を第１ピーク値または第２ピーク値に上昇させた際に発生した熱が拡散し、電圧を第１ピーク値または第２ピーク値に上昇させる際に発生した熱の影響を抑制することができる。以上のように本実施形態の陽極酸化層の形成方法によれば、複数のパルスを印加し、各パルスのピーク値を前のパルスのピーク値以上とすることにより、微細な凹部１８ｐの不均一性を抑制することができる。

なお、上述した説明では、電圧を第１ピーク値または第２ピーク値に上昇させた後にゼロに低下させたが、本発明はこれに限定されない。電圧をゼロに低下させなくても第１ピーク値または第２ピーク値よりも低くすることにより、電流が少なくとも一時的に流れなくなり、これにより、電圧を第１ピーク値または第２ピーク値に上昇させる際に発生した熱の影響を抑制することができる。ただし、電圧が第１ピーク値または第２ピーク値よりも低くても、アルミニウム基材１０Ａの温度差に起因して電流が流れることがある。このため、電圧をゼロに低下させることにより、温度差に起因する電流を効果的に抑制することができる。

また、図６では、電圧を目標値に上昇させる前に電圧の上昇および低下を２回行ったが、電圧を目標値に上昇させる前に電圧の上昇および低下を３回以上行ってもよい。

以下、図７を参照して陽極酸化槽４０を説明する。図７（ａ）に円筒状または円柱状のアルミニウム基材１０Ａが電解液Ｅ０に浸漬された陽極酸化槽４０の模式図を示し、図７（ｂ）に陽極酸化槽４０の電解液Ｅ０に浸漬されたアルミニウム基材１０Ａの模式的な断面図を示す。陽極酸化槽４０には電解液Ｅ０が溜められおり、電解液Ｅ０は４０００Ｌ（リットル）である。アルミニウム基材１０Ａは、その母線が陽極酸化槽４０内の電解液Ｅ０の界面と平行になるように浸漬されている。

陽極Ｅ１は、アルミニウム基材１０Ａの表面と電気的に接続される。陰極Ｅ２は、陽極酸化槽４０内の電解液Ｅ０に浸漬している。陰極Ｅ２は複数の線状部Ｅ２ａと、複数の線状部Ｅ２ａの両端と接触する接続部Ｅ２ｂとを有している。線状部Ｅ２ａは、円筒状または円柱状のアルミニウム基材１０Ａとの最短距離がほぼ一定となるように同心円状に配置されており、線状部Ｅ２ａとアルミニウム基材１０Ａとの間の最短距離はほぼ５ｃｍである。なお、アルミニウム基材１０Ａと接続部Ｅ２ｂとの最短距離は、アルミニウム基材１０Ａと線状部Ｅ２ａとの最短距離よりも長い。

ここでは、線状部Ｅ２ａは１２本設けられており、線状部Ｅ２ａおよび接続部Ｅ２ｂのそれぞれは布で覆われている。このようなマスキングにより、陰極Ｅ２において発生する水素の泡に起因する電解液Ｅ０の流れのムラを抑制できる。これにより、微細な凹部１８ｐがポーラスアルミナ層１８内で均一に形成される。

レンズ用型１００Ａを用いたレンズの光学曲面の作製方法について、図８を参照して説明する。図８（ａ）および（ｂ）は、レンズ用型１００Ａを用いて、レンズの光学曲面を作製する方法を説明するための模式的な断面図である。

熱硬化性樹脂３２をレンズ用型１００Ａの反転された光学曲面２２に付与した状態で、熱硬化性樹脂３２を硬化させる。熱硬化性樹脂３２を硬化させる工程においては、加熱処理に加えて、レンズ用型１００Ａを介して熱硬化性樹脂３２に圧力を加えてもよい。例えば、図示するように、レンズ用型を２つ用意し（レンズ用型１００Ａ（１）および１００Ａ（２））、レンズ用型１００Ａ（１）の反転された光学曲面２２に熱硬化性樹脂３２を付与した状態で、レンズ用型１００Ａ（２）の反転された光学曲面２２を熱硬化性樹脂３２に押し付け、熱硬化性樹脂３２に加熱処理を行うことで熱硬化性樹脂３２を硬化させる。レンズ用型１００Ａ（１）および１００Ａ（２）の反転された光学曲面２２の形状は、同じであってもよいし、互いに異なるものであってもよい。所望のレンズ（光学曲面）によって適宜調節すればよい。レンズ用型には、例えば空気を逃がすための溝（エアベント）が設けられていることが好ましい。

図９および図１０を参照して、レンズ用型１００Ａの改変例であるレンズ用型１００Ｂの製造方法について、説明する。図９（ａ）〜（ｅ）および図１０（ａ）〜（ｅ）は、レンズ用型１００Ｂの製造方法を説明するための模式的な断面図である。図１０（ａ）〜（ｅ）は、反転されたモスアイ構造を形成するプロセスを説明するための図であり、図１０（ａ）〜（ｅ）においては見やすさのために反転された光学曲面２２の図示を省略している。

まず、図１０（ａ）に示すように、型基材１０Ｂを用意する。

型基材１０Ｂは、基材１２と、基材１２の表面に形成された無機材料層１４と、無機材料層１４の上に形成されたアルミニウム層１６とを有する。基材１２は、例えばアルミニウム基材である。基材１２は、例えば円筒状または円柱状である。

本明細書において、型基材とは、型の製造工程において、陽極酸化およびエッチングされる対象をいう。また、アルミニウム基材とは、自己支持が可能なバルク状のアルミニウムをいう。

以下で説明するように、アルミニウム基材１２の表面に無機材料層１４を形成し、無機材料層１４の上にアルミニウム層１６を形成することによって、型基材１０Ｂを作製してもよい。

まず、図９（ａ）に示すように、基材１２を用意する。

ここではアルミニウム基材１２の例を説明する。アルミニウム基材１２の表面には、機械加工が施されていてもよい。機械加工は、例えば機械的な鏡面加工である。

機械的な鏡面加工としては、バイト切削が好ましい。アルミニウム基材１２の表面に、例えば砥粒が残っていると、砥粒が存在する部分において、アルミニウム層１６とアルミニウム基材１２との間で導通しやすくなる。砥粒以外にも、凹凸が存在するところでは、アルミニウム層１６とアルミニウム基材１２との間で局所的に導通しやすくなる。アルミニウム層１６とアルミニウム基材１２との間で局所的に導通すると、アルミニウム基材１２内の不純物とアルミニウム層１６との間で局所的に電池反応が起こる可能性がある。

アルミニウム基材１２としては、例えばＡｌ−Ｍｇ−Ｓｉ系のアルミニウム合金（例えば、ＪＩＳ Ａ６０６３）で形成されたアルミニウム基材１２を用いることができる。

円筒状のアルミニウム基材１２は、典型的には、熱間押出し法によって形成される。熱間押出し法には、マンドレル法とポートホール法があるが、マンドレル法で形成されたアルミニウム基材１２を用いることが好ましい。ポートホール法で形成された円筒状のアルミニウム基材１２には外周面に継ぎ目（ウェルドライン）が形成され、継ぎ目がモスアイ用型５０Ｂおよびレンズ用型１００Ｂに反映される。したがって、モスアイ用型５０Ｂおよびレンズ用型１００Ｂに求められる精度によっては、マンドレル法で形成されたアルミニウム基材１２を用いることが好ましい。

なお、ポートホール法で形成されたアルミニウム基材１２に対して、冷間引抜き加工を施すことにより、継ぎ目の問題を解消することができる。もちろん、マンドレル法で形成されたアルミニウム基材１２に対しても、冷間引抜き加工を施してもよい。

次に、図９（ｂ）に示すように、基材１２の表面に複数の反転された光学曲面２２を形成する。

複数の反転された光学曲面２２の形成方法は、上述したアルミニウム基材１０Ａと同様の方法を用いてもよい。ただし、この後、基材１２の表面に無機材料層１４および／またはアルミニウム層１６を形成するので、アルミニウム層１６の表面に形成される反転された光学曲面２２の２次元的な大きさは、基材１２の表面に形成された反転された光学曲面２２の２次元的な大きさよりも、無機材料層１４および／またはアルミニウム層１６の厚さだけ小さくなり得る。従って、基材１２の表面に形成する反転された光学曲面２２の２次元的な大きさは、例えば、所望の値に、無機材料層１４およびアルミニウム層１６の厚さを加えた値に設定することが好ましい。基材１２の表面に形成された複数の反転された光学曲面を「複数の曲面部」ということがある。

アルミニウム基材１２の表面に、複数の反転された光学曲面２２を形成した後、アルミニウム基材１２の表面、特に複数の反転された光学曲面２２に、上述の機械加工または電解加工を施してもよい。

次に、図９（ｃ）に示すように、アルミニウム基材１２の表面に無機材料層１４を形成し、無機材料層１４の上にアルミニウム層１６を形成することによって、型基材１０Ｂを作製する。

アルミニウム層１６の表面には、アルミニウム基材１２の表面に形成された反転された光学曲面２２を反映した構造が形成されている。ここでは、アルミニウム層１６に形成された構造も反転された光学曲面という。簡単のために、アルミニウム基材１２の表面に形成された反転された光学曲面２２およびアルミニウム層１６の表面に形成された反転された光学曲面２２を同じ参照符号で表す。アルミニウム層１６の表面に形成された反転された光学曲面２２は、アルミニウム基材１２の表面に形成された反転された光学曲面２２と実質的に同じ構造を有している。

無機材料層１４の材料としては、例えば酸化タンタル（Ｔａ₂Ｏ₅）または二酸化シリコン（ＳｉＯ₂）を用いることができる。無機材料層１４は、例えばスパッタ法により形成することができる。無機材料層１４として、酸化タンタル層を用いる場合、酸化タンタル層の厚さは、例えば、２００ｎｍである。

無機材料層１４によって、基材１２とアルミニウム層１６とが直接接することを防ぐことができる。基材１２が導電性を有する場合、基材１２とアルミニウム層１６とが直接接すると、後述するポーラスアルミナ層１８を形成するプロセスのエッチング工程において、エッチング液中で基材１２とアルミニウム層１６との間で局所電池が形成される結果、孔食または隙間腐食等の不均一な腐食が起こり得る。無機材料層１４を形成すると、上記不均一な腐食の発生を抑制することができる。

無機材料層１４の厚さは、１００ｎｍ以上５００ｎｍ未満であることが好ましい。無機材料層１４の厚さが１００ｎｍ未満であると、アルミニウム層１６に欠陥（主にボイド、すなわち結晶粒間の間隙）が生じることがある。また、無機材料層１４の厚さが５００ｎｍ以上であると、アルミニウム基材１２の表面状態によって、アルミニウム基材１２とアルミニウム層１６との間が絶縁されやすくなる。アルミニウム基材１２側からアルミニウム層１６に電流を供給することによってアルミニウム層１６の陽極酸化を行うためには、アルミニウム基材１２とアルミニウム層１６との間に電流が流れる必要がある。円筒状のアルミニウム基材１２の内面から電流を供給する構成を採用すると、アルミニウム層１６に電極を設ける必要がないので、アルミニウム層１６を全面にわたって陽極酸化できるとともに、陽極酸化の進行に伴って電流が供給され難くなるという問題も起こらず、アルミニウム層１６を全面にわたって均一に陽極酸化することができる。

また、厚い無機材料層１４を形成するためには、一般的には成膜時間を長くする必要がある。成膜時間が長くなると、アルミニウム基材１２の表面温度が不必要に上昇し、その結果、アルミニウム層１６の膜質が悪化し、欠陥（主にボイド）が生じることがある。無機材料層１４の厚さが５００ｎｍ未満であれば、このような不具合の発生を抑制することもできる。

アルミニウム層１６は、例えば、特許文献９に記載されているように、純度が９９．９９ｍａｓｓ％以上のアルミニウムで形成された層（以下、「高純度アルミニウム膜」ということがある。）である。アルミニウム層１６は、例えば、真空蒸着法またはスパッタ法を用いて形成される。アルミニウム層１６の厚さは、約５００ｎｍ以上約１５００ｎｍ以下の範囲にあることが好ましく、例えば、約１μｍである。

また、アルミニウム層１６として、高純度アルミニウム膜に代えて、特許文献１０に記載されている、アルミニウム合金膜を用いてもよい。特許文献１０に記載のアルミニウム合金膜は、アルミニウムと、アルミニウム以外の金属元素と、窒素とを含む。本明細書において、「アルミニウム層」は、高純度アルミニウム膜だけでなく、特許文献１０に記載のアルミニウム合金膜を含むものとする。

上記アルミニウム合金膜を用いると、反射率が８０％以上の鏡面を得ることができる。アルミニウム合金膜を構成する結晶粒の、アルミニウム合金膜の法線方向から見たときの平均粒径は、例えば、１００ｎｍ以下であり、アルミニウム合金膜の最大表面粗さＲｍａｘは６０ｎｍ以下である。アルミニウム合金膜に含まれる窒素の含有率は、例えば、０．５ｍａｓｓ％以上５．７ｍａｓｓ％以下である。アルミニウム合金膜に含まれるアルミニウム以外の金属元素の標準電極電位とアルミニウムの標準電極電位との差の絶対値は０．６４Ｖ以下であり、アルミニウム合金膜中の金属元素の含有率は、１．０ｍａｓｓ％以上１．９ｍａｓｓ％以下であることが好ましい。金属元素は、例えば、ＴｉまたはＮｄである。但し、金属元素はこれに限られず、金属元素の標準電極電位とアルミニウムの標準電極電位との差の絶対値が０．６４Ｖ以下である他の金属元素（例えば、Ｍｎ、Ｍｇ、Ｚｒ、ＶおよびＰｂ）であってもよい。さらに、金属元素は、Ｍｏ、ＮｂまたはＨｆであってもよい。アルミニウム合金膜は、これらの金属元素を２種類以上含んでもよい。アルミニウム合金膜は、例えば、ＤＣマグネトロンスパッタ法で形成される。アルミニウム合金膜の厚さも約５００ｎｍ以上約１５００ｎｍ以下の範囲にあることが好ましく、例えば、約１μｍである。

反転された光学曲面２２を形成した後、陽極酸化とエッチングとを交互に繰り返し、反転されたモスアイ構造を形成することによって、図９（ｄ）および図１０（ｅ）に示すモスアイ用型５０Ｂが得られる。反転されたモスアイ構造を形成するプロセスについて、図１０（ｂ）〜（ｅ）を参照して説明する。基本的に、図３（ｂ）〜（ｅ）を参照して説明した陽極酸化工程とエッチング工程とを組み合わせることによって製造することができる。

図９（ｂ）に示すように、アルミニウム層１６の表面１６ｓを陽極酸化することによって、複数の微細な凹部（細孔）１８ｐを有するポーラスアルミナ層１８を形成する。例えば、アルミニウム基材１０Ａの表面１０Ａｓを、蓚酸水溶液（濃度０．３ｍａｓｓ％、液温１０℃）を用いて、印加電圧８０Ｖで５５秒間陽極酸化を行うことにより、ポーラスアルミナ層１８を形成する。

次に、図９（ｃ）に示すように、ポーラスアルミナ層１８をアルミナのエッチャントに接触させることによって所定の量だけエッチングすることにより微細な凹部１８ｐの開口部を拡大する。例えば、燐酸水溶液（１０ｍａｓｓ％、３０℃）を用いて２０分間エッチングを行う。

次に、図９（ｄ）に示すように、再び、アルミニウム層１６を部分的に陽極酸化することにより、微細な凹部１８ｐを深さ方向に成長させるとともにポーラスアルミナ層１８を厚くする。その後、図３（ｅ）を参照して説明したのと同様に、エッチング工程および陽極酸化工程を交互に複数回くり返す。例えば、陽極酸化工程とエッチング工程とを交互に５回（陽極酸化を５回とエッチングを４回）繰り返すことによって、図９（ｅ）に示すように、微細な凹部１８ｐを有するポーラスアルミナ層１８を有するモスアイ用型５０Ｂが得られる。

ポーラスアルミナ層１８の下には、アルミニウム層１６のうち、陽極酸化されなかったアルミニウム残存層１６ｒが存在している。必要に応じて、アルミニウム残存層１６ｒが存在しないように、アルミニウム層１６を実質的に完全に陽極酸化してもよい。例えば、無機材料層１４が薄い場合には、アルミニウム基材１２側から容易に電流を供給することができる。

その後、図４（ｃ）および（ｄ）を参照して説明した方法と同様の方法で、型基材１０Ｂから、複数の反転された光学曲面２２の内の少なくとも１つの反転された光学曲面２２を含む部分を切り出すことによって、レンズ用型１００Ｂを得る。

以上の工程によって、レンズ用型１００Ｂが得られる。

レンズ用型１００Ｂおよびレンズ用型１００Ｂの製造方法によっても、レンズ用型１００Ａおよびその製造方法と同様の効果を得ることができる。

本発明の実施形態によるレンズ用型の製造方法によって製造されたレンズ用型１００Ｂは、図１（ｃ）に示すように、平面部２１を有し、平面部２１は、表面の法線方向から見たときの２次元的な大きさが１０ｎｍ以上５００ｎｍ未満の複数の微細な凹部１８ｐを有する。また、平面部２１は、無機材料層１４の一部を含み得る。

（実施形態２）
図１１を参照して、本発明の実施形態２によるレンズ用型の製造方法を説明する。図１１（ａ）〜（ｃ）は、実施形態２によるレンズ用型の製造方法を説明するための模式的な斜視図である。

図１１（ａ）〜（ｃ）に示すように、実施形態２によるレンズ用型の製造方法は、平板状のアルミニウム基材１０Ａｐを用いる点において、レンズ用型１００Ａの製造方法と異なる。レンズ用型１００Ａの製造方法では、上述したように円柱状または円筒状のアルミニウム基材１０Ａを用いる。

まず、図１１（ａ）に示すように、平板状のアルミニウム基材１０Ａｐを用意する。

次に、図１１（ｂ）に示すように、アルミニウム基材１０Ａｐの表面に、複数の反転された光学曲面２２を形成する。

その後、図３（ａ）〜（ｅ）を参照して説明した方法と同様の方法で、陽極酸化工程およびエッチング工程を交互に繰り返し、図１１（ｃ）に示すように、平板状のモスアイ用型５０Ａｐを得る。

次に、図１１（ｃ）に示すように、アルミニウム基材１０Ａｐから、複数の反転された光学曲面２２の内の少なくとも１つの反転された光学曲面２２を含む部分を切り出すことによって、レンズ用型を得る。得られたレンズ用型は、図１（ａ）および（ｂ）に示すレンズ用型１００Ａと同様の構造を有する。例えば、図１１（ｃ）の破線のように格子状に、平板状のモスアイ用型５０Ａｐを分断する。平板状のモスアイ用型５０Ａｐを分断する場合には、上述した平坦化処理を省略することができる。

本実施形態によるレンズ用型の製造方法によると、１つのモスアイ用型５０Ａｐから複数のレンズ用型１００Ａを得ることができるので、レンズ用型の製造ばらつきを抑制することができる。すなわち、モスアイ用型５０Ａｐの表面は、均一な条件で陽極酸化されるので、そのモスアイ用型５０Ａｐを切り出すことによって得られるレンズ用型１００Ａは、製造ばらつきが抑制される。

本実施形態は、レンズ用型１００Ａの製造方法に対する改変として説明したが、本発明の実施形態はこれに限られない。実施形態２のレンズ用型の製造方法は、平板状の基材と、基材に支持されたアルミニウム層とを有する型基材を用いてももちろんよい。この製造方法によると、図１（ｃ）に示すレンズ用型１００Ｂと同様の構造を有するレンズ用型が得られる。

（実施形態３）
図１２を参照して、本発明の実施形態３によるレンズ用型１００Ｃおよびレンズ用型１００Ｃの製造方法を説明する。図１２は、レンズ用型１００Ｃの構造およびレンズ用型１００Ｃの製造方法を説明するための模式的な斜視図である。以下では、実施形態１と異なる点を中心に説明を行う。

図１２に示すように、レンズ用型１００Ｃは、複数の反転された光学曲面２２を表面に有する点において、レンズ用型１００Ａと異なる。

レンズ用型１００Ｃの製造方法は、実施形態１で図２（ｄ）、図４（ｃ）および（ｄ）を参照して説明した工程、すなわち、アルミニウム基材から、複数の反転された光学曲面２２の内の少なくとも１つの反転された光学曲面２２を含む部分を切り出す工程において、複数の反転された光学曲面２２を含む部分を切り出せばよい。

レンズ用型１００Ｃの製造方法によると、１つのモスアイ用型から複数のレンズ用型を得ることができるので、レンズ用型の製造ばらつきを抑制することができる。すなわち、モスアイ用型の表面は、均一な条件で陽極酸化されるので、そのモスアイ用型を切り出すことによって得られるレンズ用型は、製造ばらつきが抑制される。

レンズ用型１００Ｃを用いると、一度に複数のレンズを作製することができるので、レンズを効率よく作製することが可能である。

レンズ用型１００Ａを複数組み合わせることによって、複数の反転された光学曲面２２を表面に有するレンズ用型１００Ｃを作製してもよい。この場合、反転された光学曲面２２内に微細な凹部が均一に形成されているレンズ用型１００Ａを選別して組み合わせることができるので、レンズ用型の製造ばらつきをより効果的に抑制できる可能性がある。

本実施形態は、レンズ用型１００Ａに対する改変として説明したが、本発明の実施形態はこれに限られない。複数の反転された光学曲面２２を表面に有する点を除いて、レンズ用型１００Ｂと同じ構造を有していてももちろんよい。

本発明によるレンズ用型は、反射防止機能を有するレンズの光学曲面の作製に好適に用いられる。

１０Ａ、１０Ａｐ アルミニウム基材
１０Ｂ 型基材
１２ 基材
１４ 無機材料層
１６ アルミニウム層
１８ ポーラスアルミナ層
１８ｐ 微細な凹部
２１ 平面部
２２ 反転された光学曲面
５０Ａ、５０Ｂ、５０Ａｐ モスアイ用型
１００Ａ、１００Ｂ、１００Ｃ レンズ用型

Claims (19)

1. 少なくとも１つの反転された光学曲面を表面に有するレンズ用型の製造方法であって、
   （ａ）複数の反転された光学曲面を表面に有するアルミニウム基材を用意する工程または、型基材であって、基材と、前記基材に支持され、複数の反転された光学曲面を表面に有するアルミニウム層とを有する型基材を用意する工程と、
   （ｂ）前記アルミニウム基材または前記アルミニウム層の表面を陽極酸化することによって、複数の微細な凹部を有するポーラスアルミナ層を形成する工程と、
   （ｃ）前記工程（ｂ）の後に、前記ポーラスアルミナ層をエッチング液に接触させることによって、前記ポーラスアルミナ層の前記複数の微細な凹部を拡大させる工程と
   を包含する、レンズ用型の製造方法。
2. 前記工程（ｃ）の後に、前記アルミニウム基材または前記型基材から、前記複数の反転された光学曲面の内の少なくとも１つの反転された光学曲面を含む部分を切り出す工程（ｄ）をさらに包含する、請求項１に記載のレンズ用型の製造方法。
3. 前記アルミニウム基材または前記アルミニウム層の法線方向から見たとき、前記複数の反転された光学曲面の２次元的な大きさは、１ｍｍ以上である、請求項１または２に記載のレンズ用型の製造方法。
4. 前記工程（ａ）において、前記複数の反転された光学曲面は周期的に形成されている、請求項１から３のいずれかに記載のレンズ用型の製造方法。
5. 前記複数の反転された光学曲面の隣接間距離は、１ｍｍ以上である、請求項１から４のいずれかに記載のレンズ用型の製造方法。
6. 前記工程（ｂ）は、前記アルミニウム基材または前記アルミニウム層の表面を電解液に接触させた状態で、前記アルミニウム基材または前記アルミニウム層の表面と電気的に接続された陽極と、前記電解液内に設けられた陰極との間に電圧を印加することによって、微細な凹部を有するポーラスアルミナ層を形成する工程であって、
   前記電圧を目標値に上昇させる工程と、
   前記電圧を前記目標値に上昇させる前に、前記電圧を前記目標値よりも低い第１ピーク値に上昇させ、その後、前記第１ピーク値よりも低い値に低下させる工程と
   を包含する、請求項１から５のいずれかに記載のレンズ用型の製造方法。
7. 前記電圧を前記第１ピーク値よりも低い値に低下させる工程において、前記電圧を実質的にゼロに低下させる、請求項６に記載のレンズ用型の製造方法。
8. 前記工程（ｃ）の後に、前記ポーラスアルミナ層の表面を離型処理する工程（ｅ）をさらに包含する、請求項１から７のいずれかに記載のレンズ用型の製造方法。
9. 前記工程（ａ）は、前記アルミニウム基材を用意する工程であり、
   前記工程（ｂ）の前に、前記アルミニウム基材の表面に形成された前記複数の反転された光学曲面に機械加工または電解加工を施す工程（ｂ１）をさらに包含する、請求項１から８のいずれかに記載のレンズ用型の製造方法。
10. 前記工程（ａ）は、前記アルミニウム基材を用意する工程であり、
    前記工程（ｂ）の前に、比抵抗値が１ＭΩ・ｃｍ以下の水または水溶液中において、前記アルミニウム基材の表面を陰極として、前記表面と対向電極との間に通電処理を行う工程（ｂ２）をさらに包含する、請求項１から９のいずれかに記載のレンズ用型の製造方法。
11. 前記工程（ａ）は、前記型基材を用意する工程であり、
    前記基材を用意する工程（ａ１）と、
    前記基材の表面に複数の曲面部を形成する工程（ａ２）と、
    前記工程（ａ２）において形成された前記複数の曲面部の上にアルミニウムを堆積することによって、前記複数の反転された光学曲面を表面に有する前記アルミニウム層を形成する工程（ａ３）と
    を包含する、請求項１から８のいずれかに記載のレンズ用型の製造方法。
12. 前記工程（ａ３）の前に、前記基材の表面に形成された前記複数の曲面部に機械加工または電解加工を施す工程（ａ４）をさらに包含する、請求項１１に記載のレンズ用型の製造方法。
13. 前記基材は、アルミニウム基材であり、前記型基材は、前記基材と前記アルミニウム層との間に形成された無機材料層をさらに有する、請求項１１または１２に記載のレンズ用型の製造方法。
14. 前記基材は、Ａｌ−Ｍｇ−Ｓｉ系のアルミニウム合金で形成され、機械的な鏡面加工が施されたアルミニウム基材である、請求項１１から１３のいずれかに記載のレンズ用型の製造方法。
15. 少なくとも１つの反転された光学曲面を表面に有するレンズ用型であって、
    アルミニウム基材と、前記アルミニウム基材の表面に形成されたポーラスアルミナ層とを有し、
    前記ポーラスアルミナ層は、前記少なくとも１つの反転された光学曲面を表面に有し、
    前記少なくとも１つの反転された光学曲面のそれぞれは、表面の法線方向から見たときの２次元的な大きさが１０ｎｍ以上５００ｎｍ未満の複数の微細な凹部を有する、レンズ用型。
16. 少なくとも１つの反転された光学曲面を表面に有するレンズ用型であって、
    基材と、前記基材に支持されたアルミニウム層と、前記アルミニウム層の表面に形成されたポーラスアルミナ層とを有し、
    前記ポーラスアルミナ層は、前記少なくとも１つの反転された光学曲面を表面に有し、
    前記少なくとも１つの反転された光学曲面のそれぞれは、表面の法線方向から見たときの２次元的な大きさが１０ｎｍ以上５００ｎｍ未満の複数の微細な凹部を有する、レンズ用型。
17. 前記ポーラスアルミナ層の表面は、平面部をさらに有し、
    前記少なくとも１つの反転された光学曲面は、前記平面部を介して互いに隣接する２つの反転された光学曲面を含む、請求項１５または１６に記載のレンズ用型。
18. 前記基材と前記アルミニウム層との間に形成された無機材料層をさらに有し、前記平面部は、前記無機材料層の一部を含む、請求項１６に従属する請求項１７に記載のレンズ用型。
19. 前記平面部は、表面の法線方向から見たときの２次元的な大きさが１０ｎｍ以上５００ｎｍ未満の複数の微細な凹部を有する、請求項１７または１８に記載のレンズ用型。

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