EP3606765B1 - Sicherheitselement mit reliefstruktur und herstellungsverfahren hierfür - Google Patents

Sicherheitselement mit reliefstruktur und herstellungsverfahren hierfür Download PDF

Info

Publication number
EP3606765B1
EP3606765B1 EP18713788.0A EP18713788A EP3606765B1 EP 3606765 B1 EP3606765 B1 EP 3606765B1 EP 18713788 A EP18713788 A EP 18713788A EP 3606765 B1 EP3606765 B1 EP 3606765B1
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
outline
security element
motif
relief structure
background
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
EP18713788.0A
Other languages
English (en)
French (fr)
Other versions
EP3606765A1 (de
Inventor
Hans Lochbihler
Christian Fuhse
Thomas Gerhardt
Maik Rudolf Johann Scherer
Falk Amthor
Michael Rahm
Matthias Pfeiffer
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Giesecke and Devrient Currency Technology GmbH
Original Assignee
Giesecke and Devrient Currency Technology GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=61801873&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=EP3606765(B1) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Giesecke and Devrient Currency Technology GmbH filed Critical Giesecke and Devrient Currency Technology GmbH
Publication of EP3606765A1 publication Critical patent/EP3606765A1/de
Application granted granted Critical
Publication of EP3606765B1 publication Critical patent/EP3606765B1/de
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/20—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof characterised by a particular use or purpose
    • B42D25/23—Identity cards
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/20—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof characterised by a particular use or purpose
    • B42D25/24—Passports
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/20—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof characterised by a particular use or purpose
    • B42D25/29—Securities; Bank notes
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/30—Identification or security features, e.g. for preventing forgery
    • B42D25/324—Reliefs
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/30—Identification or security features, e.g. for preventing forgery
    • B42D25/328—Diffraction gratings; Holograms
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/30—Identification or security features, e.g. for preventing forgery
    • B42D25/351—Translucent or partly translucent parts, e.g. windows
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/30—Identification or security features, e.g. for preventing forgery
    • B42D25/36—Identification or security features, e.g. for preventing forgery comprising special materials
    • B42D25/373—Metallic materials
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/40—Manufacture
    • B42D25/405—Marking
    • B42D25/425—Marking by deformation, e.g. embossing
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/40—Manufacture
    • B42D25/45—Associating two or more layers

Definitions

  • the invention relates to a security element for the production of documents of value, such as banknotes, checks or the like, which shows a motif against a background, the security element having a relief structure that covers a motif area of the security element and provides the motif there and a background area of the security element covered and provides the background there.
  • the invention further relates to a document of value with a security element.
  • the invention also relates to a production method for a security element for the production of documents of value, such as banknotes, checks or the like, which shows a motif against a background, with a relief structure being produced that covers a motif area of the security element and provides the motif there and covers a background area of the security element and provides the background there.
  • Security features for banknotes contain motifs, such as symbols, images or real-color images, which are intended to be particularly easy to identify and counterfeit-proof.
  • Such motifs are known, for example, from the following publications: H. Lochbihler, "Colored images generated by metallic sub-wavelength gratings", Opt. Express, Vol. 17, pp. 12189-12196, 2009 ; WO 2012/156049 A1 ; EP 1434695 B1 ; EP 2453269 A1 ; WO 2013/091858 A9 ; US9188716B2 , DE 102014011425 A1 , DE 10 2008 046 128 A1 , WO 2011/029602 A1 and WO 97/19820 .
  • the invention is therefore based on the object of improving a security element, a document of value and a production method of the type mentioned at the outset in such a way that the detectability is increased. At the same time, simple production should be possible.
  • the security element for the production of documents of value which shows a motif against a background, has a relief structure that covers a motif area of the security element and provides the motif there and covers a background area of the security element and provides the background there;
  • an outline is provided which delimits the motif area from the background area and which is also formed by the relief structure, with the relief structure of the outline differing from the relief structure of the motif area and that of the background area, so that there is a brightness and/or color contrast between the outline on the one hand and subject area and background area on the other hand.
  • a relief structure is produced which covers a motif area of the security element and provides the motif there and covers a background area of the security element and there the Background provides, and provided an outline that delimits the subject area against the background area and also through the Relief structure is formed, the relief structure of the outline differing from the relief structure of the motif area and that of the background area, so that there is a brightness and/or color contrast between the outline on the one hand and the motif area and background area on the other.
  • the invention is based on the finding that the motif is easier to recognize when it is delimited from the background by a high-contrast outline.
  • the outline is also defined by the relief structure, which, however, differs in the outline area from the motif area and the background area, so that there is a brightness and/or color contrast between the outline area on the one hand and the motif area and the background area on the other hand.
  • This procedure circumvents registration requirements that would arise, for example, when conventionally printing an outline with a high-contrast color.
  • the outline can be designed in such a way that the maximum contrast to the subject and the background is achieved, i.e. a light outline is also easily possible. The invention thus significantly increases the perceptibility of the motif for a viewer.
  • the contrast between the outline area and the motif area as well as the background area can be achieved, for example, by appropriate selection of the profile geometry of the relief structure.
  • the relief structures are usually coated, for example metallically, with a high refractive index or with a layered composite that produces a color effect, such as is shown, for example, in WO 2008/080499 A1 is known.
  • Various relief structures are known from the prior art for generating motifs, ie it is possible to use these relief structures a contrast between the subject area on the one hand and the background area on the other hand can be achieved.
  • relief structures with micromirrors are known from the prior art (cf. DE 102010049617 A1 ).
  • micromirrors can be arranged in pixels, each of which has the same oriented micromirrors.
  • Fresnel structures cf. EP 1562758 B1
  • Relief heights of 1 ⁇ m to a maximum of 100 ⁇ m and lateral dimensions of less than 10 ⁇ m to less than 100 ⁇ m are known for micromirrors.
  • Another known relief structure for creating a motif are hologram gratings in the form of relief holograms. They consist of metalized relief structures with grating periods of 500 nm to 2 ⁇ m and are arranged in such a way that a viewer perceives a motif or a true-color image in the first diffraction order.
  • the US9188716B1 uses relief structures in the form of retroreflective structures to create colored motifs.
  • One or two-dimensional sub-wavelength gratings are also known for generating a motif or the background, for example from the publication H. Lochbihler, "Colored images generated by metallic sub-wavelength gratings", Opt. Express, Vol. 17, pp. 12189-12196, 2009 , or the WO 2012/156049 .
  • true color images can be generated in the zeroth diffraction order, which can also be used to generate a motif in front of a background. It is also possible to create movement effects in an image by arranging certain relief structures, for example microstructures, in a row (cf.
  • the outline area can be provided with a structure by designing the relief structure accordingly. Texturing may involve a break in the outline area and/or may include microtext or information not visible to the naked eye.
  • the outline can also be a contour line within a complex motif.
  • a complex motif consists of several motif components, whereby one of the motif components is to be understood as the background compared to the other in optical perception, so that the outline delimits the background area, i.e. a motif area of the complex motif, from another motif area of the complex motif.
  • the outline can also be unstructured.
  • a motif area 1 and a background area 2 are formed by different relief structures, which form an optical contrast in reflection, so that the motif can be perceived with the naked eye.
  • the motif is separated from the background by a narrow outline.
  • the year is also set off from the background by an outline.
  • the outlines in outline areas 3 are also produced by relief structures, which are designed in such a way that they form a contrast both to motif area 1 , 4 and to background area 2 . This significantly increases the perceptibility of the motifs for a viewer.
  • the motif area 1, 4 and the background area 2 are characterized by relief structures formed, which are metallized, for example, and embedded in a dielectric. The same applies to the outline 3.
  • the contrast between the different areas is created by an appropriate selection of the profile geometry of the relief structure.
  • the area I corresponds to the motif area 1 or 4, the area II to the background area 2 and the area III to the outline area 3.
  • the security element S is formed on a substrate film 5, on which an embossing lacquer layer 6 was applied, in which the relief structure was introduced, which was then metallized.
  • a topcoat layer 8 and a cover film 9 complete the security element S, which can span a window area of a bank note, for example.
  • Both the area I and the area II are formed in the embodiment of the hologram grating 7, 10 with a sinusoidal profile.
  • the hologram gratings 7 and 10 differ in their configuration with regard to the image they generate.
  • the contrasting outline area 3 is realized by a sub-wavelength grating 12 in area III.
  • the sub-wavelength grating 12 can be periodic in one or two dimensions. It creates a contrast both in relation to the hologram grating 7 and in relation to the hologram grating 10 and thus emphasizes the motif, which is formed by the motif area 1, 4, against the background, which is formed by the background area 2, as an outline.
  • 3 shows another embodiment to illustrate that the relief structures in areas I, II and III can be freely selected in large areas as long as there is a contrast between areas I and II and a contrast between area III and areas I and II given is.
  • the background area 2 is designed differently.
  • the motif area is realized by a micromirror arrangement 13.
  • the outline areas are filled with light absorbing moth eye structures 14 in areas III.
  • the areas I and II are designed here with transmissive hologram gratings, such as those from DE 102014011425 A1 are known.
  • transmissive hologram gratings such as those from DE 102014011425 A1 are known.
  • they also have an additional effect in transmission, ie incident radiation E is not only reflected as reflected radiation R, as is the case in the embodiments of FIG 2 and 3 was the case, but also partially transmitted as transmitted radiation T. In this way, a transmitted light motif is also possible.
  • area III this is combined with a conventional hologram grating, which is opaque after metallization.
  • a demarcation of the motif area 1, 4 from the background area 2 is achieved in a plan view, which results in a bright outline.
  • the structure of 4 also shows a motif in transmission. In this way of looking at it, the outline, ie area III, appears dark and makes this motif more recognizable.
  • These contrast changes in transmission can generally be realized by opaque outlines.
  • Suitable for this purpose are relief structures which are metallized and have a profile which has an aspect ratio, ie a ratio of depth to period, of less than 0.4.
  • Particular examples are smooth metalized surfaces, micromirror arrangements, matt structures or conventional holographic structures etc.
  • Transmissive structures can in particular be those as described in the publication mentioned at the outset from Lochbihler, Opt.
  • transmissive structures generally appear darker in reflection than opaque metallic structures with a low aspect ratio, since the transmitted light component reduces the reflection. Therefore, these flat structures, as bright outlines, significantly improve the perception of the subject in reflection.
  • Figures 2 to 4 naturally show only examples of the lateral arrangement of different relief structures in areas I to III.
  • Other combinations of micromirror arrangements, Fresnel-like structures, ⁇ -lenses, hologram gratings, retroreflection structures, one- or two-dimensional sub-wavelength gratings or moth-eye structures and microcavities are also possible, which provide a brightness and/or color contrast between the respective areas for a viewer.
  • moth eye structures are used. It is also known that moth-eye structures that are coated with a multilayer, e.g. a so-called color-shift coating, produce high-contrast dark colors (cf. EP 2453269 A1 ). Structures that have an average distance of more than 500 nm can also show a high absorption effect after metallization. Such so-called microcavities preferably have a hemispherical indentation with a ratio of depth to aperture width of more than 0.5 and are arranged next to one another, for example, hexagonally or orthogonally.
  • a moth's eye structure is known, which is formed by a metallized cross grating with a period of less than 420 nm.
  • a two-dimensional periodic sub-wavelength grating can also be used for light absorption, as is the case, for example, in WO 2012/156049 A1 is described.
  • This grid is also suitable for color filtering.
  • the geometry parameters of the grating can be selected in such a way that maximum light absorption occurs and the average reflection is below 20%, preferably below 10%.
  • the demarcation between background area, motif area and outline area can be achieved by such structures acting as color filters. These do not necessarily have to be black, but can also appear in another color, eg red or blue. However, dark colors are advantageous for recognizing the motif.
  • These metallic sub-wavelength structures mentioned show increased light absorption in the visible spectral range, partly due to resonant light absorption, which leads to a colored reflection.
  • a high contrast between the outline area and the motif area or background area is guaranteed, since the average absorption in the visible wavelength range is always higher than that of mirror-smooth surfaces, such as micromirrors.
  • these structures can also consist of some directions will not be dark.
  • the outline area can also be filled with micromirrors, which are all oriented in the same way and then only light up brightly at one angle at the same time.
  • micromirrors which are all oriented in the same way and then only light up brightly at one angle at the same time.
  • this has the disadvantage that the areas III then (undesirably) light up brightly at a certain angle, i.e. at this angle the outline area under certain circumstances does not bring about the demarcation between motif and background, but this disadvantage is technically particularly easy to implement , since no other structures have to be produced in addition to micromirrors, in particular no nanostructures. It is then possible to implement the relief structures for the background area, outline area and motif area exclusively by micromirrors, with only the orientation of the micromirrors changing between the individual areas.
  • the angle of the undesired lighting up of these areas is selected so that it is as unobtrusive as possible, for example all mirrors in this area can be oriented downwards as far as possible, so that the lighting up effect only occurs when the view is very oblique.
  • tilting in the east/west direction can be selected with the micromirrors oriented extremely far, for example to the east.
  • Relief structures with a low aspect ratio are suitable for forming bright outlines. After metallization, such structures are largely opaque in transmission and appear bright to an observer in reflection. Micromirrors, hologram gratings, retroreflection structures and flat surfaces are particularly suitable for this.
  • the bump texture can change the color-shift color in the outline area to effect the delineation.
  • the average brightness of the outline area is less than 50% of the average brightness of the motif area and the background area in reflection and optionally also in transmission.
  • the average brightness of the outline area is more than 20% higher than that of the subject area and the background area in reflection and optionally also in transmission.
  • Micromirrors, hologram gratings and/or sawtooth gratings are preferably used in the motif area and background area, and sub-wavelength structures (especially color-filtering or moth-eyes), hologram gratings and/or matt structures are used in the outline area.
  • the relief structure is preferably produced using lithographic methods, for example an e-beam system or a laser writing system which works, for example, with a two-photon absorption process.
  • lithographic methods for example an e-beam system or a laser writing system which works, for example, with a two-photon absorption process.
  • it can be created in a two-step lithographic process.
  • nanostructuring is carried out. This is done, for example, by an electron beam lithographic process.
  • laser beam interference methods can also be considered.
  • Aperiodic moth-eye structures can also be produced by plasma etching or by structuring with ultra-short laser pulses.
  • a subsequent step such an original or a copy of it is leveled with photoresist. Spin coating or dip coating processes are particularly suitable for this.
  • stamps can now be duplicated next to each other over a larger area using a step-and-repeat process.
  • An embossing cylinder can be produced from this original, which has been replicated on the surface, by galvanic molding.
  • the structure can be embossed on foil in a continuous roll-to-roll process.
  • Nanoimprint processes such as hot embossing or embossing in UV-curable materials can be used here.
  • the embossed foil is metallically vapour-deposited.
  • the common evaporation processes are electron beam evaporation, thermal evaporation or sputtering.
  • Metals such as aluminum, silver, copper, palladium, gold, chromium, nickel, iron, cobalt and/or tungsten and their alloys can be used as the metallic material.
  • the structure is optionally laminated and protected with the cover film 9. Instead of a simple metal coating, the relief structure can also be coated with a multiple layer.
  • color-shift coatings which consist of a semi-transparent metal layer, a dielectric spacer layer and a metallic mirror layer located underneath, are particularly suitable for this purpose.
  • SiO 2 , MgF 2 , Ta 2 O 5 , ZnS and polymers are particularly suitable as dielectrics.
  • Another alternative is a dielectric coating with a high-index material. If additional demetallized areas are required on the film element, wash ink is printed on the desired areas before vapor deposition and then removed after vapor deposition. Alternatively, these areas can also be created with laser demetallization or wet-chemical etching processes.
  • a motif (eg in the form of a cord) is provided with a movement effect.
  • the motif area 1, 4 is generated by a series of micromirrors and has a "rolling Bar” effect on how they look eg DE 102010047250 A1 are known in which bright bars move up and down when tilted. The movements of several bars can be the same or opposite.
  • Such motifs are much easier to recognize with outlines, since otherwise a viewer might only see a "mess" of bright light reflections.
  • the outline area makes the actual shape easily visible to a viewer. He can e.g. B. by color-filtering sub-wavelength structures or - be realized by moth eye structures - if a dark contour is desired.
  • the micromirrors can be provided with a colour-shifting coating (eg triple-layer structure with the sequence absorber, dielectric, reflector).
  • the relief structures in the contour line area particularly advantageously change the color impression of this coating, e.g. B. by suitable sub-wavelength structures. In this way, not only light or dark outlines can be generated, but also outlines with a different color than the color within the motion effects.
  • Another effect that can be produced in particular with sub-wavelength structures in the outline area is higher transmission.
  • Metallic sub-wavelength gratings which have a pronounced transmission, show a clear contrast to flat surfaces, hologram gratings or micro-mirror structures. In particular when using moth-eye structures in the outline area, this appears dark when viewed from above and light when viewed through (e.g. when used in a banknote window).
  • color-filtering sub-wavelength structures are used in the outline area, the color of the outline area can differ from the color of the motif area with a movement effect when viewed from above or seen through.
  • the outline area itself can also show different colors in reflected and transmitted light.

Description

  • Die Erfindung bezieht sich auf ein Sicherheitselement zur Herstellung von Wertdokumenten, wie Banknoten, Schecks oder dergleichen, das ein Motiv vor einem Hintergrund zeigt, wobei das Sicherheitselement eine Reliefstruktur aufweist, die einen Motivbereich des Sicherheitselements bedeckt und dort das Motiv bereitstellt und einen Hintergrundbereich des Sicherheitselements bedeckt und dort den Hintergrund bereitstellt.
  • Die Erfindung bezieht sich weiter auf ein Wertdokument mit einem Sicherheitselement.
  • Die Erfindung bezieht sich schließlich auch auf ein Herstellungsverfahren für ein Sicherheitselement zur Herstellung von Wertdokumenten, wie Banknoten, Schecks oder dergleichen, das ein Motiv vor einem Hintergrund zeigt, wobei eine Reliefstruktur erzeugt wird, die einen Motivbereich des Sicherheitselements bedeckt und dort das Motiv bereitstellt und einen Hintergrundbereich des Sicherheitselements bedeckt und dort den Hintergrund bereitstellt.
  • Sicherheitsmerkmale für Banknoten enthalten Motive, wie beispielsweise Symbole, Bilder oder Echtfarbenbilder, welche eine besonders gute Erkennbarkeit und Fälschungssicherheit erreichen sollen. Solche Motive sind beispielsweise aus folgenden Veröffentlichungen bekannt: H. Lochbihler, "Colored images generated by metallic sub-wavelength gratings", Opt. Express, Vol. 17, Seiten 12189-12196, 2009; WO 2012/156049 A1 ; EP 1434695 B1 ; EP 2453269 A1 ; WO 2013/091858 A9 ; US 9188716 B2 , DE 102014011425 A1 , DE 10 2008 046 128 A1 , WO 2011/029602 A1 und WO 97/19820 .
  • Motive mit solchen Sicherheitselementen sind jedoch verbesserungswürdig, was die Erkennbarkeit bei schlechten Lichtbedingungen angeht.
  • Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein Sicherheitselement, ein Wertdokument und ein Herstellverfahren der eingangs genannten Art so zu verbessern, dass die Erkennbarkeit gesteigert ist. Zugleich sollte eine einfache Herstellung möglich sein.
  • Die Erfindung ist in den Ansprüchen 1 und 14 definiert.
  • Das Sicherheitselement zur Herstellung von Wertdokumenten, wie Banknoten, Schecks oder dergleichen, das ein Motiv vor einem Hintergrund zeigt, weist eine Reliefstruktur auf, die einen Motivbereich des Sicherheitselements bedeckt und dort das Motiv bereitstellt und einen Hintergrundbereich des Sicherheitselements bedeckt und dort den Hintergrund bereitstellt; zusätzlich ist eine Umrisslinie vorgesehen, die den Motivbereich gegen den Hintergrundbereich abgrenzt und die ebenfalls durch die Reliefstruktur gebildet ist, wobei die Reliefstruktur der Umrisslinie sich von der Reliefstruktur des Motivbereiches und der des Hintergrundbereichs unterscheidet, so dass ein Helligkeits- und/ oder Farbkontrast zwischen Umrisslinie einerseits und Motivbereich und Hintergrundbereich andererseits besteht.
  • Im Herstellungsverfahren für ein Sicherheitselement zur Herstellung von Wertdokumenten, wie Banknoten, Schecks oder dergleichen, das ein Motiv vor einem Hintergrund zeigt, wird eine Reliefstruktur erzeugt, die einen Motivbereich des Sicherheitselements bedeckt und dort das Motiv bereitstellt und einen Hintergrundbereich des Sicherheitselements bedeckt und dort den Hintergrund bereitstellt, und eine Umrisslinie vorgesehen, die den Motivbereich gegen den Hintergrundbereich abgrenzt und die ebenfalls durch die Reliefstruktur gebildet wird, wobei die Reliefstruktur der Umrisslinie sich von der Reliefstruktur des Motivbereiches und der des Hintergrundbereichs unterscheidet, so dass ein Helligkeits- und/ oder Farbkontrast zwischen Umrisslinie einerseits und Motivbereich und Hintergrundbereich andererseits besteht.
  • Die Erfindung geht von der Erkenntnis aus, dass das Motiv leichter erkennbar ist, wenn es durch eine kontrastreiche Umrisslinie vom Hintergrund abgegrenzt ist. Um einen besonders guten Kontrast zu erreichen und die Herstellbarkeit zu erleichtern, wird die Umrisslinie ebenfalls durch die Reliefstruktur definiert, die sich jedoch im Umrisslinienbereich vom Motivbereich und dem Hintergrundbereich unterscheidet, so dass ein Helligkeitsund/ oder Farbkontrast zwischen dem Umrisslinienbereich einerseits und dem Motivbereich und dem Hintergrundbereich andererseits besteht. Durch dieses Vorgehen werden Passerungsanforderungen, die beispielsweise beim herkömmlichen Drucken einer Umrisslinie mit kontrastreicher Farbe entstünden, umgangen. Zugleich kann die Umrisslinie so gestaltet werden, dass der maximale Kontrast zum Motiv sowie zum Hintergrund erreicht wird, d.h. es ist beispielsweise auch eine helle Umrisslinie einfach möglich. Die Erfindung erhöht somit für einen Betrachter die Wahrnehmbarkeit des Motivs deutlich.
  • Der Kontrast zwischen Umrisslinienbereich und Motivbereich sowie Hintergrundbereich kann beispielsweise durch entsprechende Wahl der Profilgeometrie der Reliefstruktur erreicht werden. Die Reliefstrukturen sind in der Regel beschichtet, z.B. metallisch, hochbrechend oder mit einem farbeffekterzeugenden Schichtverbund, wie er z.B. aus WO 2008/080499 A1 bekannt ist. Zum Erzeugen von Motiven sind aus dem Stand der Technik verschiedene Reliefstrukturen bekannt, d.h. mit diesen Reliefstrukturen kann ein Kontrast zwischen Motivbereich einerseits und Hintergrundbereich andererseits erreicht werden. Aus dem Stand der Technik sind beispielsweise Reliefstrukturen mit Mikrospiegeln bekannt (vgl. DE 102010049617 A1 ). Diese Mikrospiegel können in Pixeln angeordnet sein, die jeweils gleich orientierte Mikrospiegel aufweisen. Weiter können Fresnelstrukturen (vgl. EP 1562758 B1 ) verwendet werden oder auch mit Mikrospiegeln kombiniert werden. Für Mikrospiegel sind Reliefhöhen von 1 µm bis maximal 100 µm bekannt und lateral Abmessungen von unter 10 µm bis unter 100 µm. Eine weitere bekannte Reliefstruktur zum Erzeugen eines Motivs sind Hologrammgitter in Form von Reliefhologrammen. Sie bestehen aus metallisierten Reliefstrukturen mit Gitterperioden von 500 nm bis 2 µm und sind so angeordnet, dass ein Betrachter ein Motiv oder ein Echtfarbenbild in der ersten Beugungsordnung wahrnimmt. Die US 9188716 B1 verwendet Reliefstrukturen in Form von Retroreflexionsstrukturen zum Erzeugen farbiger Motive. Zum Erzeugen eines Motivs oder des Hintergrunds sind weiter einoder zweidimensionale Subwellenlängengitter bekannt, beispielsweise aus der Veröffentlichung H. Lochbihler, "Colored images generated by metallic sub-wavelength gratings", Opt. Express, Vol. 17, Seiten 12189-12196, 2009, oder der WO 2012/156049 . Durch pixelweise Anordnung von Reliefstrukturen mit unterschiedlichen Profilparametern können Echtfarbenbilder in der nullten Beugungsordnung erzeugt werden, die ebenfalls zur Erzeugung eines Motivs vor einem Hintergrund verwendet werden können. Weiter ist es möglich, mit der Aneinanderreihung von bestimmten Reliefstrukturen, beispielsweise Mikrostrukturen, Bewegungseffekte in einem Bild hervorzurufen (vgl. DE 102010047250 A1 ). All diese verschiedenen Reliefstrukturen können im Rahmen der vorliegenden Erfindung zur Erzeugung des Motivs und des Hintergrunds, d.h. im Motivbereich und dem Hintergrundbereich und zur Erzeugung der Umrisslinie verwendet und kombiniert werden. Natürlich kann für Hintergrundbereich und Motivbereich und Umrisslinie jeweils eine andere Reliefstruktur verwendet werden. Entscheidend ist es, dass ein optisch mit dem unbewaffneten Auge wahrnehmbarer Kontrast zwischen Umrisslinienbereich und Motivbereich sowie zwischen Umrisslinienbereich und Hintergrundbereich besteht. Ein weiteres Beispiel für Subwellenlängenstrukturen sind sogenannte Mottenaugenstrukturen (vgl. WO 2006/026975 A2 und EP 2453269 A1 ). Die Erzeugung farbiger Motive kann dadurch erfolgen, dass eine Reliefstruktur angefärbt wird.
  • In einer Weiterbildung kann der Umrisslinienbereich mit einer Strukturierung ausgestattet werden, indem die Reliefstruktur entsprechend gestaltet wird. Die Strukturierung kann eine Unterbrechung des Umrisslinienbereichs bedeuten und/ oder mit bloßem Auge nicht erkennbaren Mikrotext oder Informationen umfassen.
  • Bei der Umrisslinie kann es sich auch um eine Konturlinie innerhalb eines komplexen Motivs handeln. Ein komplexes Motiv besteht aus mehreren Motivbestandteilen, wobei einer der Motivbestandteile in der optischen Wahrnehmung gegenüber dem anderen als Hintergrund zu verstehen ist, so dass die Umrisslinie den Hintergrundbereich, also einen Motivbereich des komplexen Motivs, gegen einen anderen Motivbereich des komplexen Motivs abgrenzt. Die Umrisslinie kann in speziellen Ausführungsformen auch unstrukturiert sein.
  • Die Erfindung wird nachfolgend unter Bezugnahme auf die Figuren beispielshalber noch näher erläutert, die ebenfalls erfindungswesentliche Merkmale zeigen können. In den Zeichnungen zeigt:
    • Fig. 1
    eine Draufsicht auf ein Sicherheitselement mit mehreren Motiven vor einem Hintergrund, wobei Umrisslinien die Motive gegen den Hintergrund abgrenzen,
    Fig. 2
    eine schematische Schnittdarstellung durch das Sicherheitselement S mit drei Bereichen I bis III entsprechend dem Motivbereich, dem Umrisslinienbereich und dem Hintergrundbereich des Sicherheitselementes der Fig. 1,
    Fig. 3
    eine Darstellung ähnlich der Fig. 2, wobei andere Reliefstrukturen für Motivbereich, Hintergrundbereich und Umrisslinienbereich verwendet werden, und
    Fig. 4
    eine Darstellung ähnlich der Fig. 2 und 3, wobei wiederum andere Reliefstrukturen für Motivbereich, Hintergrundbereich und Umrisslinienbereich zum Einsatz kommen.
  • Fig. 1 zeigt ein Sicherheitselement S, das als Motiv einen Kolibri mit einer Jahreszahl vor einem strukturierten Hintergrund darstellt. Ein Motivbereich 1 und ein Hintergrundbereich 2 sind durch unterschiedliche Reliefstrukturen gebildet, welche in Reflexion einen optischen Kontrast ausbilden, so dass das Motiv mit dem unbewaffneten Auge wahrgenommen werden kann. Das Motiv ist durch eine schmale Umrisslinie vom Hintergrund abgegrenzt. Die Jahreszahl ist ebenfalls durch eine Umrisslinie vom Hintergrund abgehoben. Die Umrisslinien in Umrisslinienbereichen 3 sind ebenfalls durch Reliefstrukturen erzeugt, welche so gestaltet sind, dass sie einen Kontrast sowohl zum Motivbereich 1, 4 als auch zum Hintergrundbereich 2 bilden. Dies erhöht für einen Betrachter die Wahrnehmbarkeit der Motive deutlich. Der Motivbereich 1, 4 und der Hintergrundbereich 2 sind durch Reliefstrukturen gebildet, welche beispielsweise metallisiert und in ein Dielektrikum eingebettet sind. Gleiches gilt für die Umrisslinie 3. Der Kontrast zwischen den verschiedenen Bereichen entsteht durch entsprechende Wahl der Profilgeometrie der Reliefstruktur.
  • Fig. 2 zeigt schematisch eine Schnittdarstellung für Beispiele solcher Reliefstrukturen. Dabei entspricht der Bereich I dem Motivbereich 1 oder 4, der Bereich II dem Hintergrundbereich 2 und der Bereich III dem Umrisslinienbereich 3. Das Sicherheitselement S ist auf einer Substratfolie 5 ausgebildet, auf welcher eine Prägelackschicht 6 aufgebracht wurde, in die die Reliefstruktur eingebracht wurde, die dann metallisiert wurde. Eine Decklackschicht 8 und eine Deckfolie 9 komplettieren das Sicherheitselement S, das beispielsweise einen Fensterbereich einer Banknote überspannen kann.
  • Sowohl der Bereich I als auch der Bereich II sind in der Ausführungsform der Hologrammgitter 7, 10 mit sinusförmigem Profil gebildet. Die Hologrammgitter 7 und 10 unterscheiden sich in ihrer Ausgestaltung hinsichtlich des von ihnen erzeugten Bildes. Der kontrastierende Umrisslinienbereich 3 ist durch ein Subwellenlängengitter 12 im Bereich III realisiert. Das Subwellenlängengitter 12 kann ein- oder auch zweidimensional periodisch sein. Es erzeugt einen Kontrast sowohl gegenüber dem Hologrammgitter 7 als auch gegenüber dem Hologrammgitter 10 und hebt somit als Umrisslinie das Motiv, das durch den Motivbereich 1, 4 gebildet ist, vor dem Hintergrund, welcher durch den Hintergrundbereich 2 gebildet ist, hervor.
  • Fig. 3 zeigt eine weitere Ausführungsform, um zu veranschaulichen, dass die Reliefstrukturen in den Bereichen I, II und III in großen Bereichen frei wählbar sind, solange ein Kontrast zwischen den Bereichen I und II besteht und ein Kontrast zwischen dem Bereich III und den Bereichen I und II gegeben ist. In der Ausführungsform der Fig. 3 ist der Hintergrundbereich 2 unterschiedlich gestaltet. Er ist zum einen, d.h. in einigen Abschnitten, durch das Hologrammgitter 7 gebildet und zum anderen, d.h. in anderen Abschnitten, durch eine glatte Fläche 15. Der Motivbereich ist durch eine Mikrospiegelanordnung 13 realisiert. Die Umrisslinienbereiche sind mit lichtabsorbierenden Mottenaugenstrukturen 14 in den Bereichen III gefüllt.
  • Fig. 4 zeigt eine Ausführungsform, bei der der Umrisslinienbereich eine helle Umrandung realisiert. Die Bereiche I und II sind hier mit transmissiven Hologrammgittern ausgestaltet, wie sie beispielsweise aus der DE 102014011425 A1 bekannt sind. Sie haben neben der nullten Beugungsordnung 0. O. und der ersten Beugungsordnung 1. O. auch zusätzlich eine Wirkung in Transmission, d.h. einfallende Strahlung E wird nicht nur reflektiert als reflektierte Strahlung R, wie dies in den Ausführungsformen der Fig. 2 und 3 der Fall war, sondern auch als transmittierte Strahlung T teilweise transmittiert. Auf diese Weise ist auch ein Durchlichtmotiv möglich. Im Bereich III wird dies mit einem konventionellen Hologrammgitter kombiniert, welches nach der Metallisierung opak ist. Auf diese Weise wird in Draufsicht eine Abgrenzung des Motivbereichs 1, 4 gegen den Hintergrundbereich 2 erreicht, die eine helle Umrisslinie bewirkt. Die Struktur der Fig. 4 zeigt auch in Transmission ein Motiv. In dieser Betrachtungsweise erscheint die Umrisslinie, d.h. der Bereich III dunkel und verstärkt die Erkennbarkeit dieses Motivs. Diese Kontrastveränderungen in Transmission können ganz allgemein durch opake Umrisslinien realisiert werden. Hierfür eignen sich Reliefstrukturen die metallisiert sind und ein Profil haben, welches ein Aspektverhältnis, d. h. ein Verhältnis von Tiefe zu Periode von unter 0,4 haben. Besondere Beispiele sind glatte metallisierte Flächen, Mikrospiegelanordnungen, Mattstrukturen oder konventionelle holographische Strukturen etc. Transmissive Strukturen können insbesondere solche sein, wie sie in der eingangs genannten Veröffentlichung von Lochbihler, Opt. Express, oder aus der WO 2012/156049 bekannt sind. Solche transmissiven Strukturen erscheinen allgemein in Reflexion dunkler als opake metallische Strukturen mit niedrigem Aspektverhältnis, da der transmittierte Lichtanteil die Reflexion vermindert. Daher verbessern diese flachen Strukturen als helle Umrisslinien die Wahrnehmung des Motivs in Reflexion deutlich.
  • Die Ausführungsformen der Fig. 2 bis 4 zeigen natürlich nur beispielhaft die laterale Anordnung unterschiedlicher Reliefstrukturen in den Bereichen I bis III. Es sind gleichermaßen andere Kombinationen von Mikrospiegelanordnungen, fresnelartigen Strukturen, µ-Linsen, Hologrammgittern, Retroreflexionsstrukturen, ein- oder zweidimensionale Subwellenlängengittern bzw. Mottenaugenstrukturen und Mikrokavitäten möglich, welche für einen Betrachter einen Helligkeits- und/ oder Farbkontrast zwischen den jeweiligen Bereichen bereitstellen.
  • Es ist auch möglich, dunkle Strukturen in den Umrisslinienbereichen bereitzustellen. Solche erscheinen aus unterschiedlichen, bevorzugt allen Betrachtungsrichtungen dunkel. Hierfür eignen sich besonders die in Fig. 3 verwendeten Mottenaugenstrukturen 14. Aus der Literatur sind verschiedene Möglichkeiten bekannt, solche Mottenaugenstrukturen 14 zu erzeugen. Exemplarisch wird auf die bereits genannte WO 2006/ 026975 A2 oder die EP 1434695 B1 verwiesen. Diese Veröffentlichungen schildern metallisch bedampfte Random-Oberflächen, welche eine Brechzahlgradientenschicht ausbilden und eine gute Absorptionswirkung haben. Die Strukturtiefe liegt hierbei bevorzugt bei mehr als 50 nm und der mittlere Abstand benachbarter Erhebungen liegt unter 500 nm, daher der Name Subwellenlängenstrukturen. Solche Random-Oberflächen können aus Kunststoffsubstraten, z.B. PMMA, mit einem Plasmaätzprozess erzeugt werden. Alternativ können auch periodisch angeordnete Mottenaugenstrukturen eingesetzt werden. Ferner ist es bekannt, dass Mottenaugenstrukturen, welche mit einem Multilayer, z.B. einer sogenannten Color-Shift-Beschichtung überzogen sind, kontrastreiche dunkle Farben liefern (vgl. EP 2453269 A1 ). Auch Strukturen, welche einen mittleren Abstand größer als 500 nm haben, können nach einer Metallisierung eine hohe Absorptionswirkung zeigen. Solche sogenannten Mikrokavitäten haben bevorzugt eine halbsphärische Vertiefung mit einem Verhältnis von Tiefe zu Apperturweite über 0,5 und sind beispielsweise hexagonal oder orthogonal nebeneinander angeordnet. Aus der EP 1434695 B1 ist eine Mottenaugenstruktur bekannt, welche durch ein metallisiertes Kreuzgitter mit einer Periode von unter 420 nm gebildet ist. Auch kann zur Lichtabsorption ein zweidimensional periodisches Subwellenlängengitter eingesetzt werden, wie es beispielsweise in der WO 2012/156049 A1 beschrieben ist. Dieses Gitter eignet sich auch zur Farbfilterung. Die Geometrieparameter des Gitters können so gewählt werden, dass es zu maximaler Lichtabsorption kommt und die mittlere Reflexion unter 20 %, bevorzugt unter 10 % liegt.
  • Die Abgrenzung zwischen Hintergrundbereich, Motivbereich und Umrisslinienbereich kann durch solche als Farbfilter wirkende Strukturen erreicht werden. Diese müssen dabei nicht unbedingt schwarz sein, sondern können auch in einer anderen Farbe erscheinen, z.B. rot oder blau. Dunkle Farben sind für die Erkennbarkeit des Motivs jedoch vorteilhaft. Diese genannten metallischen Subwellenlängenstrukturen zeigen eine erhöhte Lichtabsorption im sichtbaren Spektralbereich, zum Teil durch eine resonante Lichtabsorption, welche zu einer Farbigkeit der Reflexion führen. Ein hoher Kontrast zwischen dem Umrisslinienbereich und dem Motivbereich bzw. Hintergrundbereich ist gewährleistet, da die mittlere Absorption im sichtbaren Wellenlängenbereich stets höher ist, als die von spiegelglatten Oberflächen, wie z.B. Mikrospiegeln. Alternativ können diese Strukturen auch aus einigen Richtungen nicht dunkel sein. So kann man beispielsweise den Umrisslinienbereich ebenfalls durch Mikrospiegel füllen, die alle gleich orientiert sind und dann nur unter einem Winkel gleichzeitig hell aufleuchten. Dies hat zwar den Nachteil, dass die Bereiche III dann unter einem bestimmten Winkel (unerwünscht) hell aufleuchten, unter diesem Winkel also der Umrisslinienbereich unter bestimmten Umständen nicht die Abgrenzung zwischen Motiv und Hintergrund bewirkt, man erhält für diesen Nachteil jedoch eine technisch besonders leichte Realisierbarkeit, da keine weiteren Strukturen neben Mikrospiegeln hergestellt werden müssen, insbesondere keine Nanostrukturen. Es ist dann möglich, die Reliefstrukturen für Hintergrundbereich, Umrisslinienbereich und Motivbereich ausschließlich durch Mikrospiegel auszuführen, wobei sich nur die Orientierung der Mikrospiegel zwischen den einzelnen Bereichen ändert. Vorteilhaft wählt man den Winkel des unerwünschten Aufleuchtens dieser Bereiche so, dass es möglichst wenig auffällt, beispielsweise können in diesem Bereich alle Spiegel maximal nach unten orientiert sein, so dass nur bei sehr schrägem Einblick der Aufleuchteffekt eintritt. Alternativ kann eine Verkippung in Ost/West-Richtung mit extrem weit beispielsweise nach Osten orientierter Ausrichtung der Mikrospiegel gewählt werden.
  • Zur Ausbildung heller Umrisslinien eignen sich Reliefstrukturen mit niedrigem Aspektverhältnis. Nach der Metallisierung sind solche Strukturen in Transmission weitgehend opak und erscheinen für einen Betrachter in Reflexion hell. Besonders eignen sich hierfür Mikrospiegel, Hologrammgitter, Retroreflexionstrukturen und ebene Flächen.
  • Bei Verwendung von Color-Shift-Beschichtung kann die Reliefstruktur die Color-Shift-Farbe im Umrisslinienbereich verändern, um die Abgrenzung zu bewirken.
  • Zur guten Erkennbarkeit beträgt die mittlere Helligkeit des Umrisslinienbereichs weniger als 50% der mittleren Helligkeit des Motivbereichs sowie des Hintergrundbereichs in Reflexion und optional auch in Transmission. Alternativ ist die mittlere Helligkeit des Umrisslinienbereichs mehr als 20% höher als die des Motivbereichs sowie des Hintergrundbereichs in Reflexion und optional auch in Transmission.
  • In Motivbereich sowie Hintergrundbereich sind bevorzugt Mikrospiegel, Hologrammgitter und/ oder Sägezahngitter verwendet, im Umrisslinienbereich Subwellenlängenstrukturen (insbesondere farbfilternde oder Mottenaugen), Hologrammgitter und/oder Mattstrukturen.
  • Die Reliefstruktur wird bevorzugt mit lithographischen Verfahren, z.B. einer e-Beam Anlage oder einer Laserschreibanlage, welche beispielsweise mit einem Zwei-Photonenabsorptionsprozess arbeitet, hergestellt. Alternativ kann sie in einem zweistufigen lithographischen Prozess erzeugt werden. In einem ersten Schritt wird eine Nanostrukturierung vorgenommen. Dies erfolgt zum Beispiel durch einen elektronenstrahllithographischen Prozess. Alternativ kommen auch Laserstrahlinterferenzverfahren in Frage. Aperiodische Mottenaugenstrukturen können außerdem durch Plasmaätzen oder durch Strukturieren mit ultrakurzen Laserpulsen erzeugt werden. In einem Folgeschritt wird ein solches Original oder eine Kopie davon mit Photolack eingeebnet. Hierzu eignen sich vor allem Spincoating oder Dip-Coating Verfahren. Dann wird die Reliefstruktur in einem photolithographischen Schritt in den Photolack geschrieben und die gewünschten Bereiche der Strukturen werden freibelichtet. Dieser Prozess kann mit Hilfe eines Laserwriters im Direktbelichtungsverfahren erfolgen. Das so entstandene Original kann anschließend galvanisch oder unter Verwendung von Photopolymeren (z.B. Ormocere) umkopiert werden. Die Oberflächenstruktur eines auf diese Weise hergestellten Stempels kann nun durch ein Step-and-Repeat Verfahren auf einer größeren Fläche nebeneinander vervielfältigt werden. Durch galvanische Abformung dieses auf der Fläche replizierten Originals kann davon ein Prägezylinder hergestellt werden. Schließlich kann die Struktur in einem kontinuierlichen Rolle-zu-Rolle Prozess auf Folie geprägt werden. Hierbei kommen Nanoimprint Verfahren wie Heißprägen oder Prägen in UV-härtbare Materialien in Frage. Schließlich wird die geprägte Folie metallisch bedampft. Die gängigen Bedampfungsverfahren sind Elektronenstrahl-Bedampfen, thermisches Verdampfen oder Sputtern. Als metallisches Material können Metalle, wie z.B. Aluminium, Silber, Kupfer, Palladium, Gold, Chrom, Nickel, Eisen, Kobalt und/ oder Wolfram sowie deren Legierungen eingesetzt werden. Nach dem Bedampfen wird die Struktur optional einkaschiert und mit der Deckfolie 9 geschützt. Statt einer einfachen Metallbeschichtung kann die Reliefstruktur auch mit einer Mehrfachschicht überzogen werden. Hierzu kommen insbesondere sogenannte Color-Shift-Beschichtungen in Frage, welche aus einer halbtransparenten Metallschicht, einer dielektrischen Abstandsschicht und einer darunter befindlichen metallischen Spiegelschicht bestehen. Als Dielektrika eignen sich insbesondere SiO2, MgF2, Ta2O5, ZnS und Polymere. Als weitere Alternative kommt eine dielektrische Beschichtung mit einem hochbrechenden Material infrage. Wenn zusätzlich demetallisierte Bereiche auf dem Folienelement gefordert sind, wird vor dem Bedampfen auf den gewünschten Bereichen Waschfarbe aufgedruckt und diese dann nach dem Bedampfen entfernt. Alternativ können diese Bereiche auch mit Laserdemetallisierung oder nasschemischen Ätzverfahren erzeugt werden.
  • In einer weiteren Ausführungsform ist ein Motiv (z.B. in Form einer Kordel) mit einem Bewegungseffekt versehen. Der Motivbereich 1, 4 ist durch eine Aneinanderreihung von Mikrospiegel erzeugt und weist einen "Rolling Bar"-Effekt auf, wie sie z. B. aus DE 102010047250 A1 bekannt sind, bei denen sich beim Kippen helle Balken auf und ab bewegen. Die Bewegungen mehrerer Balken können gleich oder auch gegenläufig sein. Solche Motive sind mit Umrisslinien deutlich besser zu erkennen, da ein Betrachter sonst unter Umständen nur ein "Durcheinander" heller Lichtreflexe sähe. Der Umrisslinienbereich macht die eigentliche Form für einen Betrachter gut sichtbar. Er kann z. B. durch farbfilternde Subwellenlängenstrukturen oder - falls eine dunkle Kontur gewünscht ist - durch Mottenaugenstrukturen realisiert sein. In besonders vorteilhaften Varianten können die Mikrospiegel mit einer farbkippenden Beschichtung (z.B. Dreifachschichtaufbau mit der Abfolge Absorber, Dielektrikum, Reflektor) versehen sein. Besonders vorteilhaft ändern die Reliefstrukturen im Umrisslinienbereich den Farbeindruck dieser Beschichtung, z. B. durch geeignete Subwellenlängenstrukturen. So lassen sich nicht nur helle oder dunkle Umrisslinien sondern insbesondere auch Umrisslinien mit einer anderen Farbe als der Farbe innerhalb der Bewegungseffekte erzeugen.
  • Ein weiterer Effekt, der sich insbesondere mit Subwellenlängenstrukturen im Umrisslinienbereich erzeugen lässt, ist eine höhere Transmission. Metallische Subwellenlängengitter, welche eine ausgeprägte Transmission aufweisen, zeigen einen deutlichen Kontrast gegenüber ebenen Flächen, Hologrammgittern oder Mikrospiegelstrukturen. Insbesondere bei der Verwendung von Mottenaugenstrukturen im Umrisslinienbereich erscheint dieser in Aufsicht dunkel und in Durchsicht (z.B. bei Verwendung in einem Banknotenfenster) hell. Bei farbkippenden Beschichtungen (insbesondere z.B. auch mit zwei dünnen Absorberschichten, also dem Aufbau Absorber, Dielektrikum, Absorber) und/oder Verwendung farbfiltender Subwellenlängenstrukturen im Umrisslinienbereich kann sich die Farbe des Umrisslinienbereichs von der Farbe des Motivbereichs mit Bewegungseffekt in Auf- und Durchsicht unterscheiden. Auch der Umrisslinienbereich selbst kann dabei in Auf- und Durchlicht verschiedene Farben zeigen.
    • Bezugszeichen
    • 1,4
    Motivbereich
    2
    Hintergrundbereich
    3
    Umrisslinienbereich
    5
    Substratfolie
    6
    Prägelackschicht
    7
    Hologrammstruktur
    8
    Deckschicht
    9
    Deckfolie
    10
    Hologrammstruktur
    12
    Subwellenlängengitter
    13
    Mikrospiegelstruktur
    14
    Mottenaugenstruktur
    15
    glatter Bereich
    16
    transmissives Hologrammgitter
    17
    opakes Hologrammgitter
    S
    Sicherheitselement
    E
    einfallende Strahlung
    R
    reflektierte Strahlung
    T
    transmittierte Strahlung
    0. O.
    Nullte Ordnung
    1. O.
    Erste Ordnung
    I-III
    Bereich

Claims (15)

  1. Sicherheitselement zur Herstellung von Wertdokumenten, wie Banknoten, Schecks oder dergleichen, das ein Motiv vor einem Hintergrund zeigt, wobei das Sicherheitselement (S) eine Reliefstruktur (7,10, 12,13,14, 16, 17) aufweist, die einen Motivbereich (1, 4) des Sicherheitselements (S) bedeckt und dort das Motiv bereitstellt und einen Hintergrundbereich (2) des Sicherheitselements (S) bedeckt und dort den Hintergrund bereitstellt, wobei
    eine Umrisslinie vorgesehen ist, die den Motivbereich (1,4) gegen den Hintergrundbereich (2) abgrenzt und die ebenfalls durch die Reliefstruktur gebildet ist, wobei die Reliefstruktur (12,14,17) der Umrisslinie sich von der Reliefstruktur (12,13,16a) des Motivbereiches (1, 4) und der Reliefstruktur (7,16) des Hintergrundbereichs (2) unterscheidet, so dass ein Helligkeits- und/oder Farbkontrast zwischen Umrisslinie einerseits und Motivbereich (1, 4) und Hintergrundbereich (2) andererseits besteht.
  2. Sicherheitselement nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Reliefstruktur (12,14) der Umrisslinie ein Subwellenlängengitter aufweist.
  3. Sicherheitselement nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass Motivbereich (1, 4) und Hintergrundbereich (2) ansonsten frei von Subwellengittern sind.
  4. Sicherheitselement nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Reliefstruktur der Umrisslinie eine Mottenaugenstruktur (14) aufweist.
  5. Sicherheitselement nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass Motivbereich (1, 4) und Hintergrundbereich (2) ansonsten frei von Mottenaugenstrukturen sind.
  6. Sicherheitselement nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Reliefstruktur (12,14) der Umrisslinie Mikrokavitäten aufweist.
  7. Sicherheitselement nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Reliefstruktur der Umrisslinie eine Mikrospiegelstruktur aufweist.
  8. Sicherheitselement nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Reliefstruktur der Umrisslinie eine Hologrammstruktur aufweist.
  9. Sicherheitselement nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Reliefstruktur der Umrisslinie Retroreflexionsstrukturen aufweist.
  10. Sicherheitselement nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Reliefstruktur der Umrisslinie metallisch, hochbrechend oder mit einem farbeffekterzeugenden Schichtverbund beschichtet ist.
  11. Sicherheitselement nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass die Umrisslinie eine Konturlinie für einen Motivbestandteil umfasst.
  12. Sicherheitselement nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass die Strukturierung der Umrisslinie Unterbrechungen der Umrisslinie und/ oder mit dem bloßen Auge nicht erkenn- oder auflösbaren Mikrotext oder Informationen umfasst.
  13. Wertdokument mit einem Sicherheitselement nach einem der Ansprüche 1 bis 12.
  14. Herstellungsverfahren für ein Sicherheitselement (S) zur Herstellung von Wertdokumenten, wie Banknoten, Schecks oder dergleichen, das ein Motiv vor einem Hintergrund zeigt, wobei eine Reliefstruktur (7,10,12,13, 14,16,17) erzeugt wird, die einen Motivbereich (1, 4) des Sicherheitselements (S) bedeckt und dort das Motiv bereitstellt und einen Hintergrundbereich (2) des Sicherheitselements (S) bedeckt und dort den Hintergrund bereitstellt, wobei eine Umrisslinie vorgesehen wird, die den Motivbereich (1, 4) gegen den Hintergrundbereich (2) abgrenzt und die ebenfalls durch die Reliefstruktur gebildet wird, wobei die Reliefstruktur (12, 14,17) der Umrisslinie sich von der Reliefstruktur (10, 13, 16a) des Motivbereiches (1, 4) und der Reliefstruktur (7, 16b) des Hintergrundbereichs (2) unterscheidet, so dass ein Helligkeits- und/ oder Farbkontrast zwischen Umrisslinie einerseits und Motivbereich und Hintergrundbereich (2) andererseits besteht.
  15. Herstellungsverfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, dass das Sicherheitselement gemäß einem der Ansprüche 1 bis 12 hergestellt wird.
EP18713788.0A 2017-04-04 2018-03-19 Sicherheitselement mit reliefstruktur und herstellungsverfahren hierfür Active EP3606765B1 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102017003281.5A DE102017003281A1 (de) 2017-04-04 2017-04-04 Sicherheitselement mit Reliefstruktur und Herstellungsverfahren hierfür
PCT/EP2018/000100 WO2018184715A1 (de) 2017-04-04 2018-03-19 Sicherheitselement mit reliefstruktur und herstellungsverfahren hierfür

Publications (2)

Publication Number Publication Date
EP3606765A1 EP3606765A1 (de) 2020-02-12
EP3606765B1 true EP3606765B1 (de) 2022-06-29

Family

ID=61801873

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
EP18713788.0A Active EP3606765B1 (de) 2017-04-04 2018-03-19 Sicherheitselement mit reliefstruktur und herstellungsverfahren hierfür

Country Status (5)

Country Link
EP (1) EP3606765B1 (de)
JP (1) JP7104062B2 (de)
CN (1) CN110520304B (de)
DE (1) DE102017003281A1 (de)
WO (1) WO2018184715A1 (de)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7111517B2 (ja) 2018-06-14 2022-08-02 シャープ株式会社 走行装置、走行装置の走行制御方法、走行装置の走行制御プログラムおよび記録媒体
DE102018009912A1 (de) * 2018-12-17 2020-06-18 Giesecke+Devrient Currency Technology Gmbh Verfahren zum Herstellen eines optisch variablen Sicherheitselements
DE102021001898A1 (de) * 2021-04-13 2022-10-13 Giesecke+Devrient Currency Technology Gmbh Optisch variables sicherheitselement und wertdokument mit dem optisch variablen sicherheitselement
DE102021001899A1 (de) * 2021-04-13 2022-10-13 Giesecke+Devrient Currency Technology Gmbh Optisch variables sicherheitselement und wertdokument mit dem optisch variablen sicherheitselement

Citations (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4984824A (en) 1988-03-03 1991-01-15 Lgz Landis & Gyr Zug Ag Document with an optical diffraction safety element
WO1995004948A1 (en) 1993-08-06 1995-02-16 Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation A diffractive device
WO1997019820A1 (en) 1995-11-28 1997-06-05 Electrowatt Technology Innovation Ag Optical information carrier
WO2004077468A2 (de) 2003-02-26 2004-09-10 Giesecke & Devrient Gmbh Sicherheitselement mit einer gitterstruktur
DE10351129A1 (de) 2003-11-03 2005-06-16 Ovd Kinegram Ag Diffraktives Sicherheitselement mit einem Halbtonbild
US7265904B2 (en) 2003-06-25 2007-09-04 Ovd Kinegram Ag Optical security element
JP2007286256A (ja) 2006-04-14 2007-11-01 Dainippon Printing Co Ltd 光回折構造
JP2007292899A (ja) 2006-04-24 2007-11-08 Dainippon Printing Co Ltd 真贋識別構造
JP2008107472A (ja) 2006-10-24 2008-05-08 Toppan Printing Co Ltd 表示体および印刷物
EP2077459A1 (de) 2006-10-24 2009-07-08 Toppan Printing Co., Ltd. Anzeigeelement und etikettierter artikel
DE102008046128A1 (de) 2008-09-05 2010-03-11 Giesecke & Devrient Gmbh Optisch variables Sicherheitselement mit Mattbereich
JP2011027832A (ja) 2009-07-22 2011-02-10 Toppan Printing Co Ltd 表示体および転写箔並びに偽造防止媒体
EP1747100B1 (de) 2004-04-03 2011-03-16 OVD Kinegram AG Sicherheitselement in form eines mehrschichtigen folienkörpers
WO2011029602A2 (de) 2009-09-11 2011-03-17 Ovd Kinegram Ag Mehrschichtkörper
EP2466345A1 (de) 2009-08-13 2012-06-20 Toppan Printing Co., Ltd. Bildanzeigekörper und etikettierter artikel
WO2013091858A1 (de) 2011-12-20 2013-06-27 Giesecke & Devrient Gmbh Sicherheitselement für sicherheitspapiere, wertdokumente oder dergleichen
US20130285361A1 (en) 2010-11-02 2013-10-31 Ovd Kinegram Ag Security Element and Method for Producing a Security Element
US20150192897A1 (en) 2012-06-26 2015-07-09 Ovd Kinegram Ag Decorative Element and Security Document Comprising a Decorative Element
US9188716B2 (en) 2010-11-26 2015-11-17 Giesecke & Devrient Gmbh Reflective security element for security papers, value documents or the like

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6060143A (en) * 1996-11-14 2000-05-09 Ovd Kinegram Ag Optical information carrier
DE10150293B4 (de) * 2001-10-12 2005-05-12 Ovd Kinegram Ag Sicherheitselement
DE10254500B4 (de) 2002-11-22 2006-03-16 Ovd Kinegram Ag Optisch variables Element und dessen Verwendung
DE102004043871A1 (de) 2004-09-10 2006-03-30 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zur Herstellung eines strahlungsabsorbierenden optischen Elements und strahlungsabsorbierendes optisches Element
DE102005049891A1 (de) 2005-10-17 2007-04-19 Leonhard Kurz Gmbh & Co. Kg Metallisierter Mehrschichtkörper
DE102006062281A1 (de) 2006-12-22 2008-06-26 Giesecke & Devrient Gmbh Sicherheitselement mit einem optisch variablen Element
DE102010047250A1 (de) 2009-12-04 2011-06-09 Giesecke & Devrient Gmbh Sicherheitselement, Wertdokument mit einem solchen Sicherheitselement sowie Herstellungsverfahren eines Sicherheitselementes
DE102010049617A1 (de) 2010-10-26 2012-04-26 Giesecke & Devrient Gmbh Sicherheitselement mit optisch variablem Flächenmuster
DE102010050895A1 (de) 2010-11-10 2012-05-10 Giesecke & Devrient Gmbh Dünnschichtelement mit Mehrschichtstruktur
DE102011101635A1 (de) 2011-05-16 2012-11-22 Giesecke & Devrient Gmbh Zweidimensional periodisches, farbfilterndes Gitter
DE102011115589A1 (de) * 2011-10-11 2013-04-11 Giesecke & Devrient Gmbh Sicherheitselement
DE102014011425A1 (de) * 2014-07-31 2016-02-04 Giesecke & Devrient Gmbh Sicherheitselement zur Herstellung von Wertdokumenten

Patent Citations (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4984824A (en) 1988-03-03 1991-01-15 Lgz Landis & Gyr Zug Ag Document with an optical diffraction safety element
WO1995004948A1 (en) 1993-08-06 1995-02-16 Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation A diffractive device
WO1997019820A1 (en) 1995-11-28 1997-06-05 Electrowatt Technology Innovation Ag Optical information carrier
WO2004077468A2 (de) 2003-02-26 2004-09-10 Giesecke & Devrient Gmbh Sicherheitselement mit einer gitterstruktur
US7265904B2 (en) 2003-06-25 2007-09-04 Ovd Kinegram Ag Optical security element
DE10351129A1 (de) 2003-11-03 2005-06-16 Ovd Kinegram Ag Diffraktives Sicherheitselement mit einem Halbtonbild
EP1747100B1 (de) 2004-04-03 2011-03-16 OVD Kinegram AG Sicherheitselement in form eines mehrschichtigen folienkörpers
JP2007286256A (ja) 2006-04-14 2007-11-01 Dainippon Printing Co Ltd 光回折構造
JP2007292899A (ja) 2006-04-24 2007-11-08 Dainippon Printing Co Ltd 真贋識別構造
JP2008107472A (ja) 2006-10-24 2008-05-08 Toppan Printing Co Ltd 表示体および印刷物
EP2077459A1 (de) 2006-10-24 2009-07-08 Toppan Printing Co., Ltd. Anzeigeelement und etikettierter artikel
DE102008046128A1 (de) 2008-09-05 2010-03-11 Giesecke & Devrient Gmbh Optisch variables Sicherheitselement mit Mattbereich
JP2011027832A (ja) 2009-07-22 2011-02-10 Toppan Printing Co Ltd 表示体および転写箔並びに偽造防止媒体
EP2466345A1 (de) 2009-08-13 2012-06-20 Toppan Printing Co., Ltd. Bildanzeigekörper und etikettierter artikel
WO2011029602A2 (de) 2009-09-11 2011-03-17 Ovd Kinegram Ag Mehrschichtkörper
US20130285361A1 (en) 2010-11-02 2013-10-31 Ovd Kinegram Ag Security Element and Method for Producing a Security Element
US9188716B2 (en) 2010-11-26 2015-11-17 Giesecke & Devrient Gmbh Reflective security element for security papers, value documents or the like
WO2013091858A1 (de) 2011-12-20 2013-06-27 Giesecke & Devrient Gmbh Sicherheitselement für sicherheitspapiere, wertdokumente oder dergleichen
US20140353959A1 (en) 2011-12-20 2014-12-04 Giesecke & Deverient Gmbh Security element for security papers, value documents or the like
US20150192897A1 (en) 2012-06-26 2015-07-09 Ovd Kinegram Ag Decorative Element and Security Document Comprising a Decorative Element

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
ANONYMOUS: "Stuckelungen ", 23 September 2014 (2014-09-23), pages 1 - 1, XP093086341, Retrieved from the Internet <URL:https://www.ecb.europa.eu/euro/banknotes/current/denominations/html/index.de.html#es2-010> [retrieved on 20230927]

Also Published As

Publication number Publication date
JP7104062B2 (ja) 2022-07-20
EP3606765A1 (de) 2020-02-12
DE102017003281A1 (de) 2018-10-04
CN110520304B (zh) 2021-06-22
JP2020517486A (ja) 2020-06-18
CN110520304A (zh) 2019-11-29
WO2018184715A1 (de) 2018-10-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP3339048B1 (de) Sicherheitselement mit reflektivem flächenbereich
EP1747100B1 (de) Sicherheitselement in form eines mehrschichtigen folienkörpers
EP3216620B1 (de) Sicherheitselement, wertdokument mit einem solchen sicherheitselement sowie herstellungsverfahren eines sicherheitselementes
EP2795376B1 (de) Sicherheitselement für sicherheitspapiere, wertdokumente oder dergleichen
DE102005006277B4 (de) Verfahren zur Herstellung eines Mehrschichtkörpers
EP1786632B2 (de) Metallisiertes sicherheitselement
EP1893416B2 (de) Sicherheitsdokument
EP3233512B1 (de) Optisch variables durchsichtssicherheitselement
EP3174728B1 (de) Sicherheitselement zur herstellung von wertdokumenten
EP2708371B1 (de) Optisch variables Sicherheitselement mit zusätzlichem Auf-/Durchsichtseffekt
EP3606765B1 (de) Sicherheitselement mit reliefstruktur und herstellungsverfahren hierfür
DE102005028162A1 (de) Sicherheitselement und Verfahren zu seiner Herstellung
DE102010050031A1 (de) Sicherheitselement und Verfahren zur Herstellung eines Sicherheitselements
EP2853411B1 (de) Sicherheitselement mit Linsenrasterbild
EP2934904B1 (de) Sicherheitselement mit linsenrasterbild
EP2453269B1 (de) Dünnschichtelement mit Mehrschichtstruktur
DE102014014079A1 (de) Optisch variables Sicherheitselement mit reflektivem Flächenbereich
EP3302995B1 (de) Optisch variables sicherheitselement
EP1599344B1 (de) Sicherheitselement
EP3034315B1 (de) Sicherheitselement, verfahren zum herstellen desselben und mit dem sicherheitselement ausgestatteter datenträger
DE102012025262A1 (de) Verfahren zur Herstellung eines Sicherheitselementes
EP3606766B1 (de) Sicherheitselement und herstellungsverfahren hierfür
WO2019007549A2 (de) Optisch variable sicherheitsanordnung
WO2024056129A1 (de) Sicherheitselement mit nanostrukturen

Legal Events

Date Code Title Description
STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: UNKNOWN

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: THE INTERNATIONAL PUBLICATION HAS BEEN MADE

PUAI Public reference made under article 153(3) epc to a published international application that has entered the european phase

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009012

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: REQUEST FOR EXAMINATION WAS MADE

17P Request for examination filed

Effective date: 20191104

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): AL AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MK MT NL NO PL PT RO RS SE SI SK SM TR

AX Request for extension of the european patent

Extension state: BA ME

DAV Request for validation of the european patent (deleted)
DAX Request for extension of the european patent (deleted)
GRAP Despatch of communication of intention to grant a patent

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSNIGR1

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: GRANT OF PATENT IS INTENDED

INTG Intention to grant announced

Effective date: 20220208

GRAS Grant fee paid

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSNIGR3

GRAA (expected) grant

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009210

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: THE PATENT HAS BEEN GRANTED

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: B1

Designated state(s): AL AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MK MT NL NO PL PT RO RS SE SI SK SM TR

REG Reference to a national code

Ref country code: CH

Ref legal event code: EP

REG Reference to a national code

Ref country code: DE

Ref legal event code: R096

Ref document number: 502018010043

Country of ref document: DE

REG Reference to a national code

Ref country code: AT

Ref legal event code: REF

Ref document number: 1501086

Country of ref document: AT

Kind code of ref document: T

Effective date: 20220715

REG Reference to a national code

Ref country code: IE

Ref legal event code: FG4D

Free format text: LANGUAGE OF EP DOCUMENT: GERMAN

REG Reference to a national code

Ref country code: LT

Ref legal event code: MG9D

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: SE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220629

Ref country code: NO

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220929

Ref country code: LT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220629

Ref country code: HR

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220629

Ref country code: GR

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220930

Ref country code: FI

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220629

REG Reference to a national code

Ref country code: NL

Ref legal event code: MP

Effective date: 20220629

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: RS

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220629

Ref country code: LV

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220629

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: NL

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220629

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: SM

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220629

Ref country code: SK

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220629

Ref country code: RO

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220629

Ref country code: PT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20221031

Ref country code: ES

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220629

Ref country code: EE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220629

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: PL

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220629

Ref country code: IS

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20221029

RAP4 Party data changed (patent owner data changed or rights of a patent transferred)

Owner name: GIESECKE+DEVRIENT CURRENCY TECHNOLOGY GMBH

REG Reference to a national code

Ref country code: DE

Ref legal event code: R026

Ref document number: 502018010043

Country of ref document: DE

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: AL

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220629

PLBI Opposition filed

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009260

PLAB Opposition data, opponent's data or that of the opponent's representative modified

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009299OPPO

PLAX Notice of opposition and request to file observation + time limit sent

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSNOBS2

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: DK

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220629

Ref country code: CZ

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220629

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: FR

Payment date: 20230321

Year of fee payment: 6

Ref country code: BG

Payment date: 20230317

Year of fee payment: 6

Ref country code: AT

Payment date: 20230317

Year of fee payment: 6

26 Opposition filed

Opponent name: LEONHARD KURZ STIFTUNG & CO. KG

Effective date: 20230329

Opponent name: DE LA RUE INTERNATIONAL LIMITED

Effective date: 20230329

Opponent name: HUECK FOLIEN GESELLSCHAFT M.B.H.

Effective date: 20230327

Opponent name: MUELLER-BORE & PARTNER PATENTANWAELTE PARTG MBB

Effective date: 20230324

R26 Opposition filed (corrected)

Opponent name: LEONHARD KURZ STIFTUNG & CO. KG

Effective date: 20230329

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: GB

Payment date: 20230323

Year of fee payment: 6

Ref country code: DE

Payment date: 20230331

Year of fee payment: 6

P01 Opt-out of the competence of the unified patent court (upc) registered

Effective date: 20230520

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: IT

Payment date: 20230331

Year of fee payment: 6

Ref country code: CH

Payment date: 20230402

Year of fee payment: 6

PLBB Reply of patent proprietor to notice(s) of opposition received

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSNOBS3

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: SI

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220629

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: MC

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20220629

REG Reference to a national code

Ref country code: BE

Ref legal event code: MM

Effective date: 20230331

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: LU

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20230319

REG Reference to a national code

Ref country code: IE

Ref legal event code: MM4A

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: IE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20230319

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: BE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20230331