DE19549116C2 - Verfahren zur Herstellung von Halbleitereinrichtungen mit Kontaktlöchern für Bitleitungen und Speicherknoten - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von Halbleitereinrichtungen mit Kontaktlöchern für Bitleitungen und SpeicherknotenInfo
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Description
Diese Erfindung betrifft allgemein ein Verfahren zur Herstel
lung von Halbleitereinrichtungen mit Kontaktlöchern für Bitleitungen
und Speicherknoten und im einzelnen ein Ver
fahren zur Herstellung von Halbleitereinrichtungen, das dazu
in der Lage ist, einen Verfahrensspielraum bzw. -abstand
zwischen Bitleitungen und Speicherknotenkontakten sicherzu
stellen, die ein T-förmiges Muster mit isolierenden Schichten
verwenden, die verschiedene Ätzraten aufweisen, gemäß dem
Patentanspruch 1.
Allgemein ist die hohe Integration von einem DRAM durch die
Entwicklung von Herstellungsanlagen und Verfahrenstechnolo
gien von Halbleitereinrichtungen, Konstruktions- bzw.
Designtechologien, Speicherzellenkonstruktionen usw. erzielt
worden.
Es hat jedoch viele Probleme beim Entwickeln hochintegrierter
Speichereinrichtungen gegeben, wegen der physikalisch begrün
deten Beschränkungen der Halbleiterherstellungsanlagen bzw.
-vorrichtungen und der Halbleitereinrichtungen selbst.
Zum Beispiel sollte, um eine hochintegrierte Speichereinrich
tung zu erzielen, ein verringerter Bereich für den Speicher
kondensator möglich sein. Zusätzlich zu der obigen Sache
sollte die Bereichsverringerung von Metall-Oxid-Halbleiter
einrichtungen (im folgenden als "MOS" bezeichnet) ebenfalls
erfolgen.
In Halbleitereinrichtungen oberhalb des VLSI-Niveaus sollten
die vorgesehenen Teile bzw. Elemente in einer MOS-Einrichtung
den Bereich des wirksamen Kanals innerhalb der Länge von 0,5
µm aufweisen und ein vorbestimmtes Intervall zwischen den
Leitern wegen des herabgesetzten Intervalls bzw. Abstands
zwischen Einrichtungen wegen der Erhöhung der Integration
bzw. des Integrationgrades sicherstellen. Die Erhöhung der
Integration folgt unweigerlich den Problemen der Kürze bzw.
Kurzschlüsse usw. bezüglich der Leiter bzw. der Leitungen.
Insbesondere bei Halbleitereinrichtungen mit Ultragroßinte
gration von über 256 Mega bzw. Megabit DRAM wird eine Techno
logie zum Ausbilden der Kontaktlöcher benötigt, die dazu in
der Lage ist, einen Ausrichtungs- bzw. Anordnungsspielraum
sicherzustellen, wobei die Trennung bzw. Isolation der Leiter
aufrechterhalten wird, weil die Breite bzw. Weite zwischen
den Wortleitungen bzw. Datenleitungen und die Breite zwischen
den Bitleitungen bis auf eine minimale Leitungsbreite ver
ringert ist.
Das folgende ist eine Detailbeschreibung eines Verfahrens zum
Ausbilden des Kontakts der Bitleitung und des Speicherknotens
unter Bezugnahme auf die Fig. 3 und 4.
Die Fig. 3 ist eine Draufsicht auf ein übliches, in Korea öffentlich vorbenutztes DRAM. Sie
zeigt mehrere parallele Wortleitungen und mehrere parallele
Bitleitungen, die orthogonal zu den Wortleitungen sind. Der
Bitleitungskontakt und Speicherknotenkontakt sind an den
Überschneidungsabschnitten angeordnet, wo sich die Bitleitun
gen mit den Wortleitungen überschneiden und sind jeweils e
lektrisch mit der Drain und der Source verbunden. Wie in
Fig. 3 gezeigt, sind die Bitleitungskontakte als "BT" und
die Speicherknotenkontakte als "ST" bezeichnet.
Zusätzlich wird das Intervall bzw. der Abstand zwischen den
Wortleitungen als "A", die Breite der Bitleitung als "B"
bzw. das Intervall bzw. der Abstand zwischen den Bitleitun
gen als "C" bezeichnet.
Die Fig. 4 ist eine Schnittansicht, die entlang der Linie X-
X' in Fig. 1 angelegt ist, die ein Verfahren zur Herstellung
einer DRAM-Zelle gemäß der herkömmlichen Art nach dem Stand
der Technik darstellt.
Zunächst wird unter Bezugnahme auf Fig. 4A eine Siliziumdi
oxidschicht 17 von angenähert 35 nm Dicke thermisch auf ein
Siliziumsubstrat 1 aufgewachsen.
Üblicherweise wäre das Substrat ein relativ großer Wafer
bzw. eine relativ große Scheibe, die nach der Verarbeitung
in eine Anzahl von Chips aufgeschnitten werden würde. Jeder
der Chips würde eine VLSI-Schaltung enthalten, die eine gro
ße Anzahl von p-Kanal- und n-Kanal-Transistoren zum Einsatz
bringt. Eine Schicht aus polykristallinem Silizium (hiernach
als "Polysilizium" bezeichnet) mit einer Dicke von 450 nm
wird auf der Schicht aus Siliziumdioxid durch eine chemische
Dampfabscheidung bei niedrigem Druck (LPCVD) ausgebildet.
Vorbestimmte Abschnitte der abgeschiedenen Polysilizium
schicht und der Siliziumdioxidschicht werden selektiv unter
Verwendung einer üblichen Fotolithografie und eines Ätzver
fahrens (der erste Maskierungsschritt) entfernt, um die Ga
temuster von den in Fig. 4A gezeigten 2 und 17 auszubilden.
Nach dem Verfahren der Gatemuster werden Verunreinigungen vom
p(Bor)- und n(Phospor oder Arsen)-Typ in die freigelegten
Abschnitte des Substrats mit Dosierungen implantiert, die
ausreichen, um p- und n-Diffusionsbereiche der Source und der
Drain auszubilden. Die implantierten Verunreinigungen werden
anschließend thermisch mittels des thermischen Erhitzungs-
bzw. Glühverfahrens diffundiert. Während des obigen Verfah
rens wird, wie in Fig. 4A gezeigt, die Struktur des MOS-Tran
sistors ausgebildet.
In der MOS-Einrichtung werden Drain- und Sourcebereiche elek
trisch an die Bitleitung oder die Speicherknotenelektrode
über die Kontaktlöcher angeschlossen, die bei einer Trenn-
bzw. Isolationsschicht ausgebildet sind, die auf der MOS-
Struktur oder -Konstruktion nach Fig. 4A durch das nachfol
gende Verfahren auszubilden ist. Hiernach werden zum Zwecke
der Darstellung auf diffundierte Abschnitte in einem elektri
schen Kontakt mit einem Bitleitungskontakt als "Drain" und
auf diffundierte Abschnitte in Verbindung mit einem Speicher
knotenkontakt als "Source" Bezug genommen.
Wendet man sich nun Fig. 4B zu, wird die erste Isolations-
bzw. Trennschicht 3 auf bzw. über der gesamten Oberfläche der
sich ergebenden MOS-Struktur nach der Ausbildung der Diffu
sionsschicht abgeschieden. Der Zweck der Abscheidung ist es,
die abgeschiedene Oberfläche durch Verringern des Höhenunter
schieds zwischen dem Gatebereich und dem Source- und dem
Drainbereich einzuebnen.
Eine zweite und eine dritte Schicht 5 und 6 werden auf der
ersten Isolationsschicht 3 der Reihe nach abgeschieden, wobei
die Ätzraten von jeder Schicht ausreichend voneinander unter
schiedlich sind. Die zweite Schicht 5 weist eine höhere Ätz
rate auf als die dritte Schicht 6.
Bezugnehmend auf Fig. 4C werden die zweite und die dritte
Isolationsschicht bzw. Trennschicht selektiv durch eine ani
sotrope Ätzung unter Verwendung eines Maskierungsmusters
weggeätzt, um ein ringförmiges Kontaktloch aufgrund des Un
terschiedes der zwei Schichten in der Ätzrate zu definieren.
Hiernach wird zum Zwecke der Angemessenheit auf das ringför
mige Muster, das durch einen Unterschied in der Ätzrate ge
ätzt ist, als das "T-förmige Muster" Bezug genommen. In Fig.
4C werden der Kopfabschnitt und der Schenkelabschnitt des T-
förmigen Musters als 6' bzw. 5' benannt.
Seitenwandabstandshalter bzw. Abstandseinrichtungen 9 und 9'
aus Polysilizium werden dann durch Abscheiden einer Polysili
ziumschicht auf dem T-förmigen isolierenden Schichtmuster
ausgebildet und die Polysiliziumschicht wird anisotrop ge
ätzt. Auf bzw. über der gesamten Oberfläche der sich ergeben
den Struktur bzw. Konstruktion wird nach der Ausbildung des
Polysiliziummusters eine vierte isolierende Schicht 7 abge
schieden, um eine ebene Oberfläche auszubilden, die das in
Fig. 4D gezeigte Profil ergibt.
Als nächstes wird ein Maskierungsmuster aus Photoresist bzw.
Photolack (in den Darstellungen nicht gezeigt) auf der vier
ten Isolierschicht bzw. Trennschicht 7 ausgebildet, wobei
eine vorbestimmte Oberfläche der vierten Isolierschicht bzw.
Trennschicht freigelegt wird, wo der Kopf bzw. das Obere
einer T-förmigen isolierenden Schicht aufwärts erstreckt ist.
Der vorbestimmte Abschnitt der vierten isolierenden Schicht
7 und der T-förmigen isolierenden Schicht werden durch das
Muster von der Photoresist-Maskierung bzw. Photolack-Masie
rung weggeätzt und das nach innen gerichtete Muster des Sei
tenwandabstandshalters bzw. der Abstandseinrichtung 9 aus
Polysilizium an der Seitenwand wirkt als eine Ätzbarriere.
Fortlaufend wird der Abschnitt der ersten Isolier- bzw.
Trennschicht, von der der Schenkel des T-förmigen isolieren
den Schichtmusters abwärts erstreckt ist, weggeätzt, bis die
Diffusionsschicht freigelegt ist. Ein Kontaktloch 20 wird
durch den obigen Ätzprozeß ausgebildet, wie in Fig. 4E ge
zeigt.
Eine leitende Schicht aus Polysilizium wird dann z. B. über
der gesamten Oberfläche einschließlich dem Kontaktloch 20
mittels einer chemischen Dampfabscheidung abgeschieden und
mit einem Muster versehen, um einen Kontakt 12 der Bitleitung
zur Verfügung zu stellen, indem ein Erstrecken durch das
Kontaktloch 20 zu der Oberfläche des Drainbereichs 22, wie in
Fig. 4F gezeigt, erfolgt.
Nach der Ausbildung des Kontaktes 12 wird eine fünfte Iso
lierschicht 10 auf bzw. über der gesamten Oberfläche der sich
ergebenden Halbleiterstruktur abgeschieden. Ein Maskierungs
muster 15 wird dann auf der fünften Isolierschicht 10 ausge
bildet, um ein Kontaktloch für eine Speicherknotenelektrode
zur Verfügung zu stellen. Unter Verwendung des Maskierungs
musters werden vorbestimmte Abschnitte der fünften Isolier
schicht 10, der vierten Isolierschicht 5 und der T-förmigen
Isolierschicht (der dritten und der zweiten Isolierschicht)
innerhalb der Seitenwand-Abstandshalter 9' aus Polysilizium
anisotrop weggeätzt. Gleichzeitig wird der Abschnitt der
ersten Isolierschicht, von der aus sich der Schenkel des T-
förmigen Isolierschichtmusters abwärts erstreckt, weggeätzt,
bis der dotierte Bereich freigelegt wird. Das Kontaktloch 21
wird durch das obige Ätzverfahren, wie in Fig. 4G gezeigt,
ausgebildet.
Die Fig. 5 ist eine querschnittliche Ansicht einer DRAM-Zelle
gemäß der in Fig. 4 dargestellten üblichen Art nach dem Stand
der Technik und ist entlang der Linie Y-Y' nach Fig. 3 ge
schnitten.
Zunächst kann Fig. 3 mit Fig. 4G verglichen werden, um eine
Problematik bei dem üblichen Herstellungsverfahren für Halb
leitereinrichtungen zu erfassen. In Übereinstimmung mit Fig.
4 scheint es, dass es kein Problem bei den Kontaktabschnit
ten der Bitleitungen und den Kontaktabschnitten der Spei
cherknoten gibt, die parallel zu den Bitleitungen (BL1, BL2,
BL3) geschnitten sind.
Jedoch wird durch Vergleich der Fig. 3 mit der Fig. 5 ein
wichtiges Problem bei den Kontaktabschnitten der Speicher
knoten offensichtlich: der Kopfabschnitt bzw. der obere Ab
schnitt des T-förmigen Speicherknotenkontakts ist zu der
gleichen Leitung mit den Bitleitungen BL1 und BL2 positio
niert. Das Ergebnis lautet, dass die Bitleitungen BL1 und
BL2 in direktem Kontakt zu der Speicherknotenelektrode sind,
so dass die durch das übliche Verfahren hergestellte Halb
leitereinrichtung immer ein Problem mit dem Kurzschluss bzw.
dem Abstand oder den Abmessungen hat.
Aus DE 195 35 779 A1 ist ein Verfahren zur Bildung von Kon
taktlöchern in einem Halbleiterelement bekannt. Die Kontakt
löcher werden unter Bildung eines ringförmigen Kissens an
einem Kontaktbereich gebildet. Das ringförmige Kissen wird
als Ätzbarrierenfilm bei der Bildung des Kontaktlochs ver
wendet. Die Verwendung eines derartigen ringförmigen Kissens
gewährleistet eine leichte Bildung eines Kontaktkissens mit
kritischer Abmessung.
Aus EP 0 508 760 A1 ist eine DRAM-Zelle bekannt. Diese bein
haltet einen metallischen Kondensator oberhalb eines
Zugriffstransistors. Wolframanschlüsse werden verwendet, um
einen aktiven Bereich eines Bauelementsubstrats zu kontak
tieren.
Aus US 5,352,623 ist ein Verfahren zur Herstellung eines
Halbleiterbauelements bekannt. Dabei wird ein dünner Film
aus Tantaloxid als ein dielektrischer Film in einem Konden
satorelement ausgebildet. Die Kapazität pro Einheitsfläche
wird erhöht und ein Leckstrom in dem Kondensatorelement der
DRAM-Zelle wird verringert.
Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren zum Herstellen
einer Halbleitereinrichtung zur Verfügung zu stellen, das
dazu in der Lage ist, einen angemessenen Verfahrensspielraum
zwischen der Bitleitung und dem Kontakt des Speicherknotens
zur Verfügung zu stellen, um so das Auftreten des Kurz
schlussphänomens bzw. mangelnder Abstände zwischen Bitlei
tungen zu verhindern, und das dazu in der Lage ist, den In
tegrationsgrad der Einrichtung, die Ausbeute und den Grad
der konstruktiven Freiheit bzw. des Designs zu erhöhen. Fer
ner sollen die oben aufgezeigten Nachteile im Stand der
Technik soweit als möglich ausgeräumt werden.
Gemäß der vorliegenden Erfindung werden die genannten Auf
gaben bzw. Ziele durch ein Verfahren gelöst, das
die Merkmale im Patentanspruch 1 umfasst. Vorteilhaft um
fasst ein Verfahren die folgenden Schritte: eine erste Iso
la
tionsschicht wird auf einem Halbleitersubstrat abgeschieden,
das aktive Elektroden von Source, Drain und Gate aufweist;
ein leitendes Schichtmuster wird ausgebildet, um eine Bit
leitung auf der ersten Isolationsschicht zur Verfügung zu
stellen; eine zweite Isolationsschicht wird abgeschieden,
die die erste Isolationsschicht und das Bitleitungsmuster
vollständig bedeckt; der Reihe nach werden eine dritte und
eine vierte Isolationsschicht, die jeweils eine verschiedene
Ätzrate haben, auf der zweiten Isolationsschicht abgeschie
den; die dritte und die vierte Isolationsschicht werden mas
kiert und geätzt, um die in querschnittlicher Ansicht T-
förmigen Muster auszubilden, wobei die vierte Isolations
schicht dem Kopfabschnitt bzw. dem oberen Abschnitt des T-
förmigen Musters entspricht, und die dritte Isolations
schicht dem Schenkelabschnitt des T-förmigen Musters ent
spricht, wobei das T-förmige Muster eine Gruppe, die Bitlei
tungskontakte ausbildet, und die andere Gruppe, die Spei
cherknotenkontakte ausbildet, aufweist bzw. daraus besteht;
Abstandseinrichtungen bzw. Abstandshalter aus Polysilizium
werden an der Seitenwand des T-förmigen Isolationsmusters
ausgebildet; eine fünfte Isolierschicht wird über bzw. auf
der gesamten Oberfläche der sich ergebenden Struktur ausge
bildet, die die T-förmigen isolierenden Schichtmuster um
fasst; ein erstes Maskierungsmuster aus Fotoresist bzw. Fo
tolack wird ausgebildet, um Kontaktlöcher für Bitleitungen
auf bzw. über der fünften Isolierschicht über T-förmigen
Mustern einer ersten Gruppe auszubilden; vorbestimmte Ab
schnitte der fünften Isolierschicht und der T-förmigen iso
lierenden Schichtmuster der ersten Gruppe, vorbestimmte Ab
schnitte der zweiten Isolierschicht unter Verwendung von Ab
standshaltern bzw. Abstandseinrichtungen aus Polysilizium,
die als eine Ätzbarriere wirken, ein Bitleitungsmuster, das
die geätzte zweite Isolierschicht als eine Ätzbarriere ver
wendet, und die erste Isolierschicht, die die Bitleitung als
eine Ätzbarriere verwendet, werden geätzt, wodurch Kontakt
löcher für Bitleitungen ausgebildet werden; ein leitendes
Material wird über bzw. auf der gesamten Oberfläche der
fünften Isolierschicht, die die Kontaktlöcher für Bitlei
tungen umfasst, abgeschieden und mit einem Muster versehen;
eine sechste Isolationsschicht wird über bzw. auf der gesam
ten Oberfläche der fünften Isolationsschicht und dem Muster
aus leitendem Material abgeschieden; ein zweites Maskie
rungsmuster aus Fotoresist bzw. Fotolack zum Ausbilden von
Kontaktlöchern für Speicherknoten wird auf der sechsten Iso
lierschicht über den T-förmigen Mustern der anderen Gruppe
ausgebildet; vorbestimmte Abschnitte der sechsten und der
fünften Isolationsschicht und des T-förmigen Isolations
schichtmusters einer zweiten anderen Gruppe und vorbestimmte
Abschnitte der zweiten und der ersten Isolierschichten wer
den unter Verwendung der Abstandshalter bzw. Abstands
einrichtung aus Polysilizium, die als eine Ätzbarriere wir
ken, geätzt, wodurch Kontaktlöcher für Speicherknoten er
zeugt werden.
Nachfolgend wird die vorliegende Erfindung unter Bezugnahme
auf die beigefügten Figuren näher erläutert, wobei weitere
Vorteile, Aufgaben und Merkmale gemäß der vorliegenden Er
findung offenbart werden, in welchen:
Fig. 1 eine querschnittliche Ansicht ist, die ein Her
stellungsverfahren für DRAM-Zellen gemäß der vor
liegenden Erfindung zeigt und entlang der Linie X-
X' nach Fig. 3 geschnitten ist.
Fig. 2 eine querschnittliche Ansicht der DRAM-Zellen ge
mäß der vorliegenden Erfindung ist, dargestellt in
Fig. 1, und entlang der Linie Y-Y' nach Fig. 3 ge
schnitten ist.
Fig. 3 eine Draufsicht auf eine übliche DRAM-Zelle ist.
Fig. 4 eine querschnittliche Ansicht ist, die entlang der
Linie X-X' gemäß Fig. 3 angelegt ist, die ein Ver
fahren zur Herstellung einer DRAM-Zelle gemäß einer
üblichen Art darstellt.
Fig. 5 eine querschnittliche Darstellung einer DRAM-Zelle
gemäß der üblichen in Fig. 4 dargestellten Art ist
und entlang der Linie Y-Y' nach Fig. 3 geschnitten
ist.
Das Verfahren zum Ausbilden von Kontakten von Bitleitungen
bzw. Speicherknotenelektroden gemäß der vorliegenden Erfin
dung wird nun unter Bezugnahme auf Fig. 1 beschrieben.
Die querschnittliche Ansicht gemäß Fig. 1 ist von dem Punkt
X oder X' horizontal geschnitten, und zwar bis zu einer be
stimmten Stelle, wo ein Bitleitungskontakt ist. Von dort wird
die Schnittansicht vertikal geschnitten fortgesetzt, und zwar
bis zu einer Bitleitung, und wird von dort horizontal ge
schnitten fortgesetzt, entlang dem Pfad zwischen benachbarten
Bitleitungen.
Die Fig. 1 ist eine querschnittliche Ansicht, die ein Her
stellungsverfahren für DRAM-Zellen gemäß einer Ausführungs
form der vorliegenden Erfindung zeigt, und ist entlang der
Linie X-X' in Fig. 3 geschnitten.
Zunächst wird bezugnehmend auf Fig. 1A eine Bitleitung ge
zeigt, die auf einer ersten Isolierschicht 33 ausgebildet
ist, in der die erste Isolierschicht 33 auf einer MOS-Struk
tur auszubilden ist, die ein Drain 46, ein Source 46', die
einen Bereich der Diffusionsschicht in dem Siliziumsubstrat
31 ist, ein Gateoxid 47 aus Siliziumdioxid und eine Gateelek
trode 32 aus Polysilizium aufweist.
Bei der Ausbildung der MOS-Struktur wird zunächst eine Sili
ziumdioxidschicht von näherungsweise 35 nm Dicke auf einer
Oberfläche eines Siliziumsubstrats 31 aufgewachsen. Das Sub
strat 10 wird einer thermischen Oxidation in einer Strö
mungsumgebung bzw. Dampfumgebung für näherungsweise 7 Minu
ten bei einer Temperatur von angenähert 850°C ausgesetzt, um
eine Siliziumdioxidschicht auszubilden. Eine Polysilizium
schicht wird dann unter Verwendung einer chemischen Dampfab
scheidung bis zu einer Dicke von angenähert 450 nm auf der
Siliziumdioxidschicht abgeschieden.
Die Polysiliziumschicht und das Siliziumdioxid werden unter
Verwendung üblicher fotolithografischer Techniken mit einem
Muster versehen. Das ausgebildete Muster aus Polysilizium
und Siliziumdioxid wird als "32" und "47" benannt.
Nach der Ausbildung des Gatemusters werden die freigelegten
Abschnitte anschließend einer Ionenimplantation mit p-Typ-
oder n-Typ-Verunreinigungen ausgesetzt und danach durch
thermisches Erhitzen bzw. Glühen angetrieben bzw. bewegt.
Durch die Ionenimplantation und das thermische Erhitzen bzw.
Glühen werden die Drain 46 und die Source 46' in dem Silizi
umsubstrat ausgebildet.
Eine erste Isolationsschicht 33 wird auf der MOS-Struktur
abgeschieden, die gemäß dem obigen Verfahren ausgebildet
ist, das zum Isolieren einer Leiterschicht mit einer anderen
bzw. bezüglich einer anderen ist, und eine Rolle beim Eineb
nen der abgeschiedenen Oberfläche spielt.
Bitleitungen 34 aus Polysilizium werden auf bzw. über der
ersten isolierenden Schicht 35 senkrecht zu der Gateelektro
de der Wortleitung durch ein übliches Verfahren ausgebildet.
Wie in Fig. 1A gezeigt, wird das Intervall bzw. der Abstand
zwischen einer Wortleitung und einer zu ihr benachbarten
Wort
leitung als "A" und die Breite der Bitleitung als "B" be
nannt.
Die Bitleitung aus Polysilizium kann für eine Bitleitung aus
einem Silizid (Zusammensetzung aus Metall und Silizium) oder
einer Doppelschichtstruktur aus "Polycid" (Zusammensetzung
aus Metall und Polysilizium) und Polysilizium ersetzt werden,
um die Leitfähigkeit zu erhöhen.
Das Metall zum Ausbilden des oben aufgezeigten Silizids oder
des Polycids ist zur Herabsetzung des Kontaktwiderstandes und
ist aus den schwer schmelzbaren bzw. schwer brennbaren Metal
len ausgewählt, bestehend aus W, Ta, Ti, Mo, Pt, Pd, Ni, Co,
usw.
Eine zweite isolierende Schicht bzw. Isolierschicht 35 wird
dann auf bzw. über der gesamten sich ergebenden Oberfläche
einschließlich der Bitleitung 34 und der ersten isolierenden
Schicht 33 abgeschieden, die eine Leiterschicht von einer
anderen bzw. mit einer anderen isoliert und eine Rolle bei
der Einebnung der abgeschiedenen Oberfläche spielt.
Als nächstes werden der Reihe nach eine dritte isolierende
Schicht 36 und eine vierte isolierende Schicht auf bzw. über
der Oberfläche der zweiten isolierenden Schicht 35 abgeschie
den, wie in Fig. 1B gezeigt.
Hier haben die zweite, die dritte und die vierte isolierende
Schicht 35, 36 und 37 voneinander verschiedene Ätzraten.
Insbesondere die dritte isolierende Schicht 36 weist eine
höhere Ätzrate auf als die vierte isolierende Schicht 37. Der
Abscheidung der vierten isolierenden Schicht 37 folgend, wird
eine Resistschicht bzw. Photolackschicht anschließend auf der
oberen Oberfläche der vierten isolierenden Schicht 37 abge
schieden und auf eine vorbestimmte Größe mit einem Muster
bzw. mit Mustern versehen, in dem bzw. in denen die Breite
oder Weite der Muster 38 der Resist- bzw. Fotolackmaske mit
"M" bezeichnet ist.
Als Nächstes werden, wie in Fig. 1C gezeigt, unter Verwen
dung eines Maskierungsmusters 38 die vierte isolierende
Schicht 37 und die dritte isolierende Schicht 38 selektiv
durch eine anisotrope Ätzung weggeätzt.
Der Unterschied der Ätzrate zwischen der dritten isolieren
den Schicht 36 und der vierten isolierenden Schicht 37 er
gibt, dass ein Seitenwandabschnitt der dritten isolierenden
Schicht 36 stärker über eine definierte Breite "a" entfernt
wird, als die Seitenwand der vierten isolierenden Schicht
37. Folglich ist die Breite bzw. Weite der geätzten dritten
isolierenden Schicht 36 M - 2a. Nachdem der Ätzschritt ver
vollständigt ist, wird ein T-förmiges isolierendes Schicht
muster erhalten. Eine verbleibende vierte isolierende
Schicht ist ein Kopfabschnitt des T-förmigen Musters und ist
mit dem Symbol 37' bezeichnet. Eine verbleibende dritte iso
lierende Schicht ist ein Schenkelabschnitt bzw. ein Fußab
schnitt des T-förmigen Musters und wird mit dem Symbol 36'
bezeichnet.
Als Nächstes wird, wie in Fig. 1D gezeigt, das in Fig. 1C
gezeigte erste Maskierungsmuster 38 entfernt. Ein drittes
Polysilizium wird auf bzw. über der freigelegten oberen O
berfläche der zweiten isolierenden Schicht 35 und den frei
gelegten Abschnitten des dritten isolierenden Schichtmusters
36' und des vierten Schichtmusters 37' abgeschieden.
Als Nächstes wird das dritte Polysilizium geätzt, um eventu
ell einen Seitenwandabstandshalter aus Polysilizium durch
eine als "blanket etch" bezeichnete Ätzung auszubilden. Nach
diesem Ätzschritt ist die Breite der Polysiliziumab
standseinrichtung länger als eine des Kopfabschnitts, die in
dem T-förmigen Muster durch "b" in einer Seite bezeichnet
ist. Deshalb wird die Gesamtbreite bzw. -weite der Polysili
ziumabstandseinrichtung "M + 2b".
Zusätzlich kann die Abstandseinrichtung bzw. der Abstands
halter aus Polysilizium alternativ aus Siliziumnitrid herge
stellt werden.
Der Ausbildung der Abstandseinrichtung 39 aus Polysilizium
folgend, wird auf der gesamten Oberfläche der sich ergebenden
Halbleiterstruktur eine fünfte isolierende Schicht 40 abge
schieden, um, wie in Fig. 1E gezeigt, eine ebene Oberfläche
zur Verfügung zu stellen. Unter Verwendung des Maskierungs
musters 41 werden die fünfte isolierende Schicht 40, das
vierte Schichtmuster 31', das dritte isolierende Schichtmu
ster 36' und die zweite isolierende Schicht der Reihe nach
weggeätzt, um ein Kontaktloch durch anisotropes Ätzen zur
Verfügung zu stellen, das sich, wie in Fig. 1E gezeigt, bis
zu der Oberfläche der Bitleitung 34 erstreckt. Bei diesem
Ätzschritt werden, nachdem die fünfte isolierende Schicht 40
und das vierte Schichtmuster 37' entfernt sind, das dritte
isolierende Schichtmuster 36' und die darunterliegende bzw.
diese unterliegende zweite isolierende Schicht 35 der Reihe
nach unter Verwendung der Abstandseinrichtung 39 aus Polysi
lizium als Ätzbarriere geätzt. Wie in Fig. 1E gezeigt, kann,
wenn die Öffnungsbreite bzw. -weite des zweiten Maskierungs
musters 41 mit M' gegeben ist, die Breite der Öffnung in dem
zweiten Maskierungsmuster 41 in dem Bereich von M < M' ≦ M + 2b
geändert werden, weil sie eine geringere Weite bzw. Breite
haben muß, als die der Seitenwandabstandseinrichtung 39 aus
Polysilizium. Folglich tritt ein Ausrichtungs- bzw. Anord
nungsspielraum oder -abstand als Breite Q = (M + 2b - M')/2 auf,
der die Hälfte eines Intervalls bzw. Abstands zwischen der
Breite oder Weite der Seitenwandabstandseinrichtung aus Poly
silizium und der Weite bzw. Breite des zweiten Maskierungs
musters M' ist.
Bezugnehmend auf Fig. 1F wird, nachdem das zweite Maskie
rungsmuster 41 entfernt ist, der Mittelwegabschnitt bzw. der
mittlere Abschnitt der Bitleitung 34 weggeätzt, wobei das
zweite isolierende Schichtmuster, das in dem vorangehenden
Schritt geätzt ist, als eine Barriere gegen Ätzen verwendet
wird. Folglich wird das gleiche Muster wie das Muster der
zweiten isolierenden Schicht 35 auf halbem Wege bzw. in der
Mitte der Bitleitung 34 ausgebildet. Dem Ätzschritt für die
Bitleitung 34 folgend, wird die erste isolierende Schicht 33
anisotrop selektiv weggeätzt, um ein Kontaktloch zur Verfü
gung zu stellen, das sich zu den Drainbereichen 46 erstreckt,
wobei die verbleibende Bitleitung als die Barriere gegen
Ätzen verwendet wird, wie in Fig. 1F gezeigt ist.
Als nächstes werden der verbleibende untere innere Abschnitt
des Kontaktfleckens 39 aus Polysilizium und die verbleibende
zweite isolierende Schicht 35 nacheinander bzw. der Reihe
nach geätzt, um das verbreiterte bzw. geweitete Kontaktloch
auszubilden, das sich zu dem oberen Abschnitt der Bitleitung
34 erstreckt.
Als nächstes wird die vierte Polysiliziumschicht 42 abge
schieden, um das Kontaktloch zu füllen und den oberen Ab
schnitt der fünften isolierenden Schicht 40, wie in Fig. 1F
gezeigt, zu bedecken. Ein drittes Maskierungsmuster 43 wird
um die vierte Polysiliziumschicht 42 ausgebildet, um das
Kontaktloch zu entfernen. Unter Verwendung des dritten Mas
kierungsmusters 43 wird die vierte Polysiliziumschicht 42 um
den Kontakt weggeätzt. Zu dieser Zeit beträgt die letztendli
che Breite bzw. Weite des Bitleitungskontaktes in Kontakt zu
dem Drain M' - 2a. Deshalb wird in dem Fall, daß der Verfah
rensspielraum des Intervalls bzw. der Entfernung zwischen dem
letztendlichen Bitleitungskontakt und der dazu benachbarten
Wortleitung als "S" bezeichnet ist, S zu (A - M' + 2a)/2. Zusätz
lich kann der Kontakt für die Bitleitung, die die vierte
Polysiliziumschicht ist, die abgeschieden ist, um das Kon
taktloch zu füllen, ebenfalls unter Verwendung einer als
"blanket etch" bezeichneten Ätzung ohne die Verwendung des
dritten Maskierungsmusters 43 ausgebildet werden. Als Nächs
tes wird, um ein Kontaktloch der Speicherknotenelektrode
auszubilden, eine sechste isolierende Schicht 44 auf bzw.
über der gesamten Oberfläche der sich ergebenden Struktur
abgeschieden. Der Abscheidung der sechsten isolierenden
Schicht 44 folgend, wird ein Fotoresist bzw. Fotolack 45 auf
der sechsten isolierenden Schicht 44 abgeschieden und wird
anschließend mit einem Muster versehen, um die Öffnung bei
dem Bereich für einen Kontakt des auszubildenden Speicher
knotens zu bilden. Wie in Fig. 1E gezeigt, gibt es in dem
Fall, dass die Breite bzw. Weite eines Fotoresistmusters
bzw. Fotolackmusters 45 als die Größe M" gegeben ist, einen
Ausrichtungs- bzw. Anordnungsspielraum für die Maskengröße,
die so weit bzw. so breit wie die Größe Q' = (M + 2b - M")/2
zwischen der Polysiliziumabstandseinrichtung 39 und der
vierten Maskierungsmaske 45 ist, wie in dem Bitleitungskon
takt dargestellt.
Bezugnehmend auf Fig. 1H werden unter Verwendung des Fotore
sistmusters bzw. des Fotolackmusters 45 die sechste, die
fünfte, die vierte, die dritte, die zweite und die erste i
solierende Schicht 44, 40, 37, 35 und 33 aufeinander folgend
geätzt. Falls dies eingehender beschrieben werden soll, wer
den zunächst die sechste und die fünfte isolierende Schicht
44, 40 der Reihe nach weggeätzt, wobei das vierte Maskie
rungsmuster 45 verwendet wird. Der Ätzung der sechsten und
der fünften isolierenden Schicht 44, 40 folgt, dass die
vierte und die dritte isolierende Schicht 37' und 36' inner
halb der Polysiliziumabstandseinrichtung 39 der Reihe nach
unter Verwendung der Polysiliziumabstandseinrichtung 39 als
einer Ätzbarriere geätzt werden. Als Nächstes werden die
zweite und die erste isolierende Schicht 35 und 33 unter
Verwendung des Ätzmusters geätzt, d. h. die untere Öffnung
der Polysiliziumabstandseinrichtung 39, um so das Kontakt
loch auszubilden, das sich zu den Sourcebereichen erstreckt.
Zu dieser Zeit
bzw. diesem Zeitpunkt wird die Größe des Kontaktloches, das
letztendlich ausgebildet wird und als C' bezeichnet ist, C'
zu M" - 2a. Entsprechend wird der als S bezeichnete Verfahrens
spielraum, der die Entfernung bzw. das Intervall zwischen dem
letztendlichen Speicherkontaktloch und der dazu benachbarten
Gateelektrode ist, S zu (A - M" + 2a)/2.
Die Fig. 2 ist eine querschnittliche Ansicht einer DRAM-Zel
le, die durch das Verfahren nach Fig. 1 hergestellt ist,
welche entlang der Linie Y-Y' gemäß Fig. 3 angelegt ist.
Wie zuvor beschrieben, wird die Differenz zwischen der Breite
bzw. Weite des vierten isolierenden Schichtmusters 37' und
des dritten isolierenden Schichtmusters 36' als "a" in Fig.
1C bezeichnet, wobei das Intervall bzw. der Abstand zwischen
benachbarten Bitleitungen mit "C" gemäß Fig. 3 bezeichnet
wird, und die Breite bzw. Weite des ausgebildeten Speicher
knotenkontakts wird als C' gemäß Fig. 1H bezeichnet, so daß
C' zu M" - 2a wird. Entsprechend wird in dem Fall, daß der
Verfahrensspielraum in dem Speicherknotenkontakt als "S'"
benannt wird, "S'" zu C - (M" - 2a) = C - M" + 2a. Dieses Ergebnis
zeigt offensichtlich, daß die vorliegenden Erfindung einen
Ausrichtungs- bzw. Anordnungsspielraum von 5' im Vergleich zu
der bekannten Art nach dem Stand der Technik sicherstellen
kann.
Hier wird wieder die Fig. 5 in Betracht gezogen, die gemäß
dem Verfahren nach Fig. 4 ausgebildet ist und entlang der
Linie Y-Y' nach Fig. 3 angelegt ist, um das vorliegende Ver
fahren mit dem üblichen zu vergleichen.
Wird dieses Verfahren mit dem nach der vorliegenden Erfindung
verglichen, so ist es das übliche Verfahren, daß der Kontakt
fleck aus Polysilizium zuerst ausgebildet wird und die Bit
leitung in der Zukunft ausgebildet wird, während es das vor
liegende Verfahren ist, daß die Bitleitung zuerst ausgebildet
wird und der Kontaktfleck in der Zukunft ausgebildet wird. Es
ist bekannt, daß das übliche Verfahren den Anordnungs- bzw.
Ausrichtungsspielraum zwischen dem Speicherknotenkontakt und
der dazu benachbarten Bitleitung wegen der obigen Tatsache
nicht sicherstellen kann.
Wie aus der obigen Beschreibung verdeutlicht wird, stellt die
vorliegende Erfindung ein Verfahren zum Ausbilden eines Spei
cherknotenkontakts ohne das Problem des Abstandes bzw. des
Kurzschlusses zwischen dem Speicherknotenkontakt und den
benachbarten Bitleitungen zur Verfügung. Dieses Verfahren
wird zunächst durch Ausbilden der Bitleitungen im Vergleich
zu dem Kontaktfleck aus Polysilizium charakterisiert, das das
Kontaktlochmuster hat, das aus zwei isolierenden Schichten
besteht, die intern bzw. im Inneren unterschiedliche Ätzraten
haben. Deshalb stellt das Verfahren nach der vorliegenden
Erfindung Vorteile zur Verfügung, indem der Nachteil von
Kurzschlüssen bzw. des Abstandes infolge der Erhöhung des
Integrationsgrades verhindert wird, indem der Anordnungs-
bzw. Ausrichtungsspielraum für den Kontakt der Speicherkno
tenelektrode zu Bitleitungen ohne die Entwicklung von neuen
Halbleiteranlagen bzw. -vorrichtungen sichergestellt wird, so
daß die Erfindung den durch Erhöhung des Integrationsgrades
von Halbleitereinrichtungen investierten Aufwand verringern
kann. Folglich macht sie es möglich, ULSI-Halbleitereinrich
tungen über 256 Mega DRAM mit Leichtigkeit herzustellen.
Obwohl die bevorzugte Ausführungsform nach der Erfindung zu
darstellerischen Zwecken offenbart worden ist, werden es die
Fachleute erkennen, daß verschiedene Modifikationen, Zusätze
und Ersetzungen möglich sind, ohne den Bereich und den Geist
der Erfindung zu verlassen, wie sie in den beigefügten An
sprüchen offenbart ist.
Ein Verfahren zum Herstellen einer Halbleitereinrichtung, das
dazu in der Lage ist, einen Ausrichtungs- bzw. Anordnungs
spielraum zwischen Bitleitungen und einem Speicherknotenkon
takt sicherzustellen, wird hierin offenbart. Das Verfahren
umfaßt: einen Abscheidungsschritt von einer ersten isolieren
den Schicht auf einem Halbleitersubstrat einer MOS-Struktur;
einen Ausbildungsschritt für ein Bitleitungsmuster; einen
Abscheidungsschritt für eine zweite isolierende Schicht;
einen Abscheidungsschritt für aufeinanderfolgend eine dritte
und eine vierte isolierende Schicht, die die verschiedenen
Ätzraten haben; einen Maskierungs- und Ätzschritt, der vier
ten und der dritten isolierenden Schicht, um ein T-förmiges
Muster in querschnittlicher Ansicht auszubilden; einen Aus
bildungsschritt für Polysiliziumabstandseinrichtungen an der
Seitenwand der T-förmigen isolierenden Muster, einem Abschei
dungsschritt für eine fünfte isolierende Schicht; einem Aus
bildungsschritt von ersten Maskierungsmustern eines Photore
sits bzw. Photolacks; einem Ätzschritt für vorbestimmte Ab
schnitte der fünften isolierenden Schicht, des T-förmigen
isolierenden Schichtmusters, der zweiten isolierenden
Schicht, der Bitleitungsmuster und der ersten isolierenden
Schicht, sowie einem Ausbildungsschritt des Bitleitungskon
takts; einem Abscheidungsschritt einer sechsten isolierenden
Schicht; einem Ausbildungsschritt von zweiten Maskierungs
mustern aus Photoresist bzw. Photolack, um ein Speicherkno
tenkontaktloch auf bzw. in der sechsten isolierenden Schicht
auszubilden und einem Ausbildungsschritt für ein Speicher
knotenkontaktloch durch Ätzen der Reihe nach der vorbestimm
ten Abschnitte der sechsten und der fünften isolierenden
Schicht, des T-förmigen Musters, sowie der zweiten und der
ersten isolierenden Schicht.
Claims (10)
1. Verfahren zum Herstellen einer Halbleitereinrichtung mit den folgenden Schritten:
eine erste Isolationsschicht (33) wird auf einem Halbleitersubstrat (31) abgeschieden, das aktive Elektroden von Source (46'), Drain (46) und Gate (32) aufweist;
ein leitendes Schichtmuster wird ausgebildet, um eine Bitleitung (34) auf der ersten Isolationsschicht (33) zur Verfügung zu stellen;
eine zweite Isolationsschicht (35) wird abgeschieden, die die erste Isolationsschicht (33) und das Bitleitungsmuster vollständig bedeckt;
der Reihe nach werden eine dritte Isolationsschicht (36) und eine vierte Isolations schicht (37), die jeweils verschiedene Ätzraten haben, auf der zweiten Isolationsschicht (35) abgeschieden;
die dritte Isolationsschicht (36) und die vierte Isolationsschicht (37) werden maskiert und geätzt, um die in querschnittlicher Ansicht T-förmigen Muster auszubilden, wobei die vierte Isolationsschicht (37) dem Kopfabschnitt (37') bzw. dem oberen Abschnitt des T- förmigen Musters entspricht, und die dritte Isolationsschicht (36) dem Schenkelabschnitt (36') des T-förmigen Musters entspricht, wobei das T-förmige Muster eine erste Gruppe, die Bit leitungskontakte ausbildet, und eine zweite Gruppe, die Speicherknotenkontakte ausbildet, aufweist bzw. daraus besteht;
Abstandseinrichtungen (39) bzw. Abstandshalter aus Polysilizium werden an der Sei tenwand des T-förmigen Isolationsmusters ausgebildet;
eine fünfte Isolierschicht (40) wird über bzw. auf der gesamten Oberfläche der sich ergebenden Struktur ausgebildet, die die T-förmigen isolierenden Schichtmuster umfasst;
erste Maskierungsmuster (41) aus Fotoresist bzw. Fotolack wird ausgebildet, um Kontaktlöcher für Bitleitungen auf bzw. über der fünften Isolierschicht (40) über T-förmigen Mustern der ersten Gruppe auszubilden;
folgendes wird geätzt: vorbestimmte Abschnitte der fünften Isolierschicht (40) und der T-förmige isolierende Schichtmuster der ersten Gruppe unter Verwendung der ersten Markie rungsmuster aus Fotoresist bzw. Fotolack, vorbestimmte Abschnitte der zweiten Isolierschicht (35) unter Verwendung von den Abstandshaltern bzw. Abstandseinrichtungen (39) aus Polysi lizium, die als eine Ätzbarriere wirken, ein Bitleitungsmuster, das die geätzte zweite Isolier schicht als eine Ätzbarriere verwendet, und eine erste Isolierschicht (33), die die Bitleitung (34) als eine Ätzbarriere verwendet, wodurch Kontaktlöcher für Bitleitungen ausgebildet wer den;
ein leitendes Material (42) wird über bzw. auf der gesamten Oberfläche der fünften Isolierschicht (40), die die Kontaktlöcher für Bitleitungen umfasst, abgeschieden und mit ei nem Muster versehen;
eine sechste Isolationsschicht (44) wird über bzw. auf der gesamten Oberfläche der fünften Isolationsschicht und dem Muster aus leitendem Material abgeschieden;
zweite Maskierungsmuster (45) aus Fotoresist bzw. Photolack zum Ausbilden von Kontaktlöchern für Speicherknoten werden auf der sechsten Isolierschicht (44) über den T- förmigen Mustern der zweiten Gruppe ausgebildet; und
folgendes wird geätzt: vorbestimmte Abschnitte der sechsten Isolierschicht (44) und der fünften Isolationsschicht (40) und der T-förmigen Isolationsschichtmuster der zweiten Gruppe unter Verwendung der zweiten Markierungsmuster aus Fotoresist bzw. Photolack, vorbestimmte Abschnitte der zweiten Isolierschicht (35) und der ersten Isolierschicht (33) werden unter Verwendung der Abstandshalter (39) bzw. Abstandseinrichtung aus Polysilizi um, die als eine Ätzbarriere wirken, wodurch Kontaktlöcher für Speicherknoten erzeugt wer den.
eine erste Isolationsschicht (33) wird auf einem Halbleitersubstrat (31) abgeschieden, das aktive Elektroden von Source (46'), Drain (46) und Gate (32) aufweist;
ein leitendes Schichtmuster wird ausgebildet, um eine Bitleitung (34) auf der ersten Isolationsschicht (33) zur Verfügung zu stellen;
eine zweite Isolationsschicht (35) wird abgeschieden, die die erste Isolationsschicht (33) und das Bitleitungsmuster vollständig bedeckt;
der Reihe nach werden eine dritte Isolationsschicht (36) und eine vierte Isolations schicht (37), die jeweils verschiedene Ätzraten haben, auf der zweiten Isolationsschicht (35) abgeschieden;
die dritte Isolationsschicht (36) und die vierte Isolationsschicht (37) werden maskiert und geätzt, um die in querschnittlicher Ansicht T-förmigen Muster auszubilden, wobei die vierte Isolationsschicht (37) dem Kopfabschnitt (37') bzw. dem oberen Abschnitt des T- förmigen Musters entspricht, und die dritte Isolationsschicht (36) dem Schenkelabschnitt (36') des T-förmigen Musters entspricht, wobei das T-förmige Muster eine erste Gruppe, die Bit leitungskontakte ausbildet, und eine zweite Gruppe, die Speicherknotenkontakte ausbildet, aufweist bzw. daraus besteht;
Abstandseinrichtungen (39) bzw. Abstandshalter aus Polysilizium werden an der Sei tenwand des T-förmigen Isolationsmusters ausgebildet;
eine fünfte Isolierschicht (40) wird über bzw. auf der gesamten Oberfläche der sich ergebenden Struktur ausgebildet, die die T-förmigen isolierenden Schichtmuster umfasst;
erste Maskierungsmuster (41) aus Fotoresist bzw. Fotolack wird ausgebildet, um Kontaktlöcher für Bitleitungen auf bzw. über der fünften Isolierschicht (40) über T-förmigen Mustern der ersten Gruppe auszubilden;
folgendes wird geätzt: vorbestimmte Abschnitte der fünften Isolierschicht (40) und der T-förmige isolierende Schichtmuster der ersten Gruppe unter Verwendung der ersten Markie rungsmuster aus Fotoresist bzw. Fotolack, vorbestimmte Abschnitte der zweiten Isolierschicht (35) unter Verwendung von den Abstandshaltern bzw. Abstandseinrichtungen (39) aus Polysi lizium, die als eine Ätzbarriere wirken, ein Bitleitungsmuster, das die geätzte zweite Isolier schicht als eine Ätzbarriere verwendet, und eine erste Isolierschicht (33), die die Bitleitung (34) als eine Ätzbarriere verwendet, wodurch Kontaktlöcher für Bitleitungen ausgebildet wer den;
ein leitendes Material (42) wird über bzw. auf der gesamten Oberfläche der fünften Isolierschicht (40), die die Kontaktlöcher für Bitleitungen umfasst, abgeschieden und mit ei nem Muster versehen;
eine sechste Isolationsschicht (44) wird über bzw. auf der gesamten Oberfläche der fünften Isolationsschicht und dem Muster aus leitendem Material abgeschieden;
zweite Maskierungsmuster (45) aus Fotoresist bzw. Photolack zum Ausbilden von Kontaktlöchern für Speicherknoten werden auf der sechsten Isolierschicht (44) über den T- förmigen Mustern der zweiten Gruppe ausgebildet; und
folgendes wird geätzt: vorbestimmte Abschnitte der sechsten Isolierschicht (44) und der fünften Isolationsschicht (40) und der T-förmigen Isolationsschichtmuster der zweiten Gruppe unter Verwendung der zweiten Markierungsmuster aus Fotoresist bzw. Photolack, vorbestimmte Abschnitte der zweiten Isolierschicht (35) und der ersten Isolierschicht (33) werden unter Verwendung der Abstandshalter (39) bzw. Abstandseinrichtung aus Polysilizi um, die als eine Ätzbarriere wirken, wodurch Kontaktlöcher für Speicherknoten erzeugt wer den.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Bitleitung (34) aus
Polysilizium ist bzw. dieses umfasst.
3. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die
Bitleitung (34) aus Silizid ist bzw. dieses umfasst.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Bit
leitung (34) eine Doppelstruktur aus Polycid und/oder Polysilizium ist bzw. eine solche um
fasst.
5. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass das Silizid mit einem
hochschmelzenden bzw. schwer brennenden Metall hergestellt ist.
6. Verfahren nach Anspruch, 4, dadurch gekennzeichnet, dass das Polycid mit einem
hochschmelzenden bzw. schwer brennbaren Metall hergestellt ist.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass der
Schritt zum Ausbilden eines Musters bzw. von Mustern des Materials des Bitleitungskontakts
durch einen Schritt ersetzt wird, bei dem das abgeschiedene Bitleitungs-Kontaktmaterial (42)
geätzt wird, indem das abgeschiedene Polysilizium geätzt wird.
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Ab
standseinrichtungen (39) aus Polysilizium Abstandseinrichtungen aus Siliziumnitrid ersetzen.
9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Weite
bzw. Breite der Öffnung in dem ersten Maskierungsmuster aus Fotoresist bzw. Fotolack in
dem Bereich von M < M' ≦ M + 2b liegt, wobei M die Weite bzw. Breite der Kopfabschnitte
(37') der T-förmigen isolierenden Schichtenmuster ist, M' die Weite bzw. Breite eines ersten
Maskierungsmusters zum Ausbilden eines Bitleitungskontaktloches ist und M + 2b die Weite
bzw. Breite eines Abstandseinrichtungsabschnittes aus Polysilizium ist, der in Kontakt zu der
zweiten isolierenden Schicht ist.
10. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Weite
bzw. Breite der Öffnung in dem zweiten Maskierungsmuster (45) aus Fotoresist bzw. Fotolack
in dem Bereich von M < M" ≦ M + 2b liegt, wobei M die Weite bzw. Breite der Kopfab
schnitte der T-förmigen isolierenden Schichtenmuster zum Ausbilden eines Speicherknoten
kontaktloches ist, M" die Weite bzw. Breite des zweiten Maskierungsmusters (45) ist, und
M + 2b die Weite bzw. Breite eines Abstandseinrichtungsabschnitts aus Polysilizium ist, der in
Kontakt zu der zweiten isolierenden Schicht (35) ist.
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KR1019940040303A KR0140657B1 (ko) | 1994-12-31 | 1994-12-31 | 반도체 소자의 제조방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19549116A1 DE19549116A1 (de) | 1996-07-04 |
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Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2679671B2 (ja) * | 1995-03-30 | 1997-11-19 | 日本電気株式会社 | 半導体記憶装置の容量素子の製造方法 |
DE19637389C1 (de) * | 1996-09-13 | 1997-10-16 | Siemens Ag | Verfahren zur Herstellung einer DRAM-Zellenanordnung |
US5918122A (en) * | 1997-02-11 | 1999-06-29 | Micron Technology, Inc. | Methods of forming integrated circuitry, DRAM cells and capacitors |
KR100226749B1 (ko) * | 1997-04-24 | 1999-10-15 | 구본준 | 반도체 소자의 제조 방법 |
US6025227A (en) * | 1997-11-03 | 2000-02-15 | Vanguard International Semiconductor Corporation | Capacitor over bit line structure using a straight bit line shape |
TW444372B (en) * | 1998-02-13 | 2001-07-01 | United Microelectronics Corp | Manufacturing method for buried DRAM |
GB2337160B (en) * | 1998-02-13 | 2000-03-29 | United Intgrated Circuits Corp | Method of fabricating embedded dynamic random access memory |
KR100292940B1 (ko) * | 1998-03-30 | 2001-07-12 | 윤종용 | 디램 셀 캐패시터의 제조 방법 |
KR100263905B1 (ko) * | 1998-05-18 | 2000-09-01 | 윤종용 | 식각 장벽막 패턴을 이용한 콘택홀의 제조방법 |
US6071773A (en) * | 1998-10-05 | 2000-06-06 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company | Process for fabricating a DRAM metal capacitor structure for use in an integrated circuit |
KR100367402B1 (ko) * | 1998-12-31 | 2003-04-21 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체장치의데이터전송라인형성방법 |
US6200904B1 (en) * | 1999-06-01 | 2001-03-13 | United Microelectronics Corp. | Method of forming a contact hole of a DRAM |
US6589876B1 (en) | 1999-07-22 | 2003-07-08 | Micron Technology, Inc. | Methods of forming conductive capacitor plugs, methods of forming capacitor contact openings, and methods of forming memory arrays |
US6458649B1 (en) * | 1999-07-22 | 2002-10-01 | Micron Technology, Inc. | Methods of forming capacitor-over-bit line memory cells |
KR20000012561A (ko) * | 1999-12-13 | 2000-03-06 | 서윤득 | 음성 카드 및 그 제작 방법 |
US6329291B1 (en) * | 2000-01-28 | 2001-12-11 | United Microelectronics Corp. | Method of forming a lower storage node of a capacitor for dynamic random access memory |
TW463326B (en) * | 2000-11-09 | 2001-11-11 | United Microelectronics Corp | Manufacturing method and structure of dynamic random access memory |
JP2004342938A (ja) * | 2003-05-16 | 2004-12-02 | Renesas Technology Corp | 半導体装置 |
KR100545865B1 (ko) | 2003-06-25 | 2006-01-24 | 삼성전자주식회사 | 반도체 장치 및 그 제조 방법 |
KR100526880B1 (ko) * | 2003-06-27 | 2005-11-09 | 삼성전자주식회사 | 반도체 메모리에서의 스토리지 노드 콘택 형성방법과 그에따른 구조 |
KR100632656B1 (ko) * | 2005-05-23 | 2006-10-11 | 주식회사 하이닉스반도체 | 플래쉬 메모리소자의 비트라인 형성방법 |
EP1989930B1 (de) * | 2006-02-27 | 2010-05-12 | Edwards Lifesciences Corporation | Verfahren zur herstellung einer aktiven elektrode unter verwendung von flexibler schaltungstechnologie und flexible schaltung umfassend eine solche elektrode |
JP2008140888A (ja) * | 2006-11-30 | 2008-06-19 | Toshiba Corp | 不揮発性半導体メモリの製造方法 |
US8952435B2 (en) * | 2009-09-02 | 2015-02-10 | Hermes Microvision, Inc. | Method for forming memory cell transistor |
CN104144305B (zh) * | 2013-05-10 | 2017-08-11 | 江苏思特威电子科技有限公司 | 双转换增益成像装置及其成像方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0508760A1 (de) * | 1991-04-08 | 1992-10-14 | STMicroelectronics, Inc. | Dynamische Speicherzelle mit wahlfreiem Zugriff |
US5352623A (en) * | 1993-02-17 | 1994-10-04 | Nec Corporation | Method for manufacturing a semiconductor device |
DE19535779A1 (de) * | 1994-09-26 | 1996-03-28 | Hyundai Electronics Ind | Verfahren zur Bildung von Kontaktlöchern in einem Halbleiterelement |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3003188B2 (ja) * | 1990-09-10 | 2000-01-24 | ソニー株式会社 | 半導体メモリ及びその製造方法 |
US5246887A (en) * | 1991-07-10 | 1993-09-21 | At&T Bell Laboratories | Dielectric deposition |
KR0128826B1 (ko) * | 1993-12-31 | 1998-04-08 | 김주용 | 디램셀 제조방법 |
KR0124393B1 (ko) * | 1994-03-18 | 1997-12-11 | 김주용 | 캐패시터 제조방법 |
-
1994
- 1994-12-31 KR KR1019940040303A patent/KR0140657B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1995
- 1995-12-21 GB GBGB9526276.2A patent/GB9526276D0/en active Pending
- 1995-12-23 TW TW084113795A patent/TW290718B/zh active
- 1995-12-27 JP JP7351948A patent/JP2789323B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1995-12-29 GB GB9526623A patent/GB2296819B/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-12-29 US US08/581,327 patent/US5627095A/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-12-29 DE DE19549116A patent/DE19549116C2/de not_active Expired - Fee Related
- 1995-12-31 CN CN95121875A patent/CN1097307C/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0508760A1 (de) * | 1991-04-08 | 1992-10-14 | STMicroelectronics, Inc. | Dynamische Speicherzelle mit wahlfreiem Zugriff |
US5352623A (en) * | 1993-02-17 | 1994-10-04 | Nec Corporation | Method for manufacturing a semiconductor device |
DE19535779A1 (de) * | 1994-09-26 | 1996-03-28 | Hyundai Electronics Ind | Verfahren zur Bildung von Kontaktlöchern in einem Halbleiterelement |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5627095A (en) | 1997-05-06 |
KR0140657B1 (ko) | 1998-06-01 |
GB2296819A (en) | 1996-07-10 |
GB2296819B (en) | 1999-03-17 |
KR960026869A (ko) | 1996-07-22 |
CN1097307C (zh) | 2002-12-25 |
DE19549116A1 (de) | 1996-07-04 |
GB9526276D0 (en) | 1996-02-21 |
JPH08236729A (ja) | 1996-09-13 |
TW290718B (de) | 1996-11-11 |
JP2789323B2 (ja) | 1998-08-20 |
CN1133491A (zh) | 1996-10-16 |
GB9526623D0 (en) | 1996-02-28 |
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