DE112017002425T5 - Magnetisches Aufzeichnungsmedium, Laminatkörper und flexible Vorrichtung - Google Patents

Abstract

Diese magnetische Aufzeichnungsmedium umfasst ein längliches Substrat und eine Verstärkungsschicht und einen Kohlenstoff-Dünnfilm, die auf einer Oberfläche des Substrats angeordnet sind.

Description

• Technisches Gebiet
• Die vorliegende Technologie bezieht sich auf ein magnetisches Aufzeichnungsmedium, ein Laminat und eine flexible Vorrichtung. Insbesondere bezieht sich die vorliegende Erfindung auf ein magnetisches Aufzeichnungsmedium, das eine Verstärkungsschicht, ein Laminat und eine flexible Vorrichtung umfasst.
• Stand der Technik
• In den letzten Jahren hat die Informationsmenge aufgrund der Verbreitung des Internets und der Analyse großer Datenmengen explosionsartig zugenommen. Es ist gewünscht, die Kapazität eines Aufzeichnungsmediums zum Sichern und Archivieren von Informationen wie Daten weiter zu erhöhen. Unter den verschiedenen Speichersystemen werden in jüngster Zeit wieder die Vorzüge eines Magnetbands als ökologischer Speicher mit niedrigen Bitkosten erkannt. In Bezug auf eine Zunahme der Dichte des Magnetbandes ist kürzlich der Weltrekord von 148 Gigabit pro Quadratzoll aufgestellt worden, und es gibt keine Anzeichen dafür, dass die Zunahme der Dichte endet.
• Bei einem Magnetband, das in einer Kassette in einem Zustand untergebracht ist, in dem es um eine Spule gewickelt ist, ist ein linearer Aufzeichnungstyp Linear-Tape-Open (LTO) zum Durchführen von Aufzeichnung und Wiedergabe in Längsrichtung des Bandes unter Verwendung eines festen Kopfes, in dem eine große Anzahl von magnetoresistiven Köpfen für hohe Kapazität angeordnet ist, zum praktischen Einsatz gekommen. Um die Kapazität weiter zu erhöhen, werden die Entwicklung eines magnetischen Pulvers einer magnetischen Aufzeichnungsschicht vom Beschichtungstyp und die Entwicklung einer Aufzeichnungsschicht wie etwa einer gesputterten magnetischen Schicht aktiv ausgeführt. Dies ermöglicht es, eine Aufzeichnungsbitlänge zu verschmälern und eine longitudinale Aufzeichnungsdichte (im Allgemeinen lineare Aufzeichnungsdichte) eines Bandes zu verbessern.
• Unterdessen verwendet das Magnetband ein flexibles filmförmiges Substrat und hat daher eine sehr breite Aufzeichnungsspurbreite im Vergleich zu einer Magnetplatte. Bezüglich der Zunahme der Dichte des Magnetbandes kann bei Verbesserung der Spurdichte in einer Breitenrichtung des Bandes zusammen mit der Entwicklung der obigen Aufzeichnungsschicht die Aufzeichnungsdichte dramatisch verbessert werden. In diesem Fall ändert sich eine lineare Aufzeichnungsdichte nicht. Daher wird beispielsweise die Verringerung einer Ausgabe aufgrund eines geringen Abstands zwischen einer magnetischen Aufzeichnungsschicht und einem Kopf unterdrückt. Es wird angenommen, dass die Entwicklung der Technologie zum Erhöhen der Spurdichte einen großen Vorteil bei der Entwicklung eines Bandlaufwerks bringt.
• Wenn eine Spurdichte in einer Breitenrichtung des Bandes in einem aktuellen Magnetband erhöht wird, ändert sich die Größe des Bandes selbst aufgrund von Schwankungen in einer Breitenrichtung während des Laufens des Bandes und eines Umgebungsfaktors wie etwa Temperatur oder Feuchte. Als Folge tritt eine sogenannte Spurabweichung auf. Beispielsweise ist die Spur nicht an einer Spurposition vorhanden, die ursprünglich von einem Magnetkopf gelesen werden sollte, oder eine verschobene Spurposition wird gelesen. Wenn die Dicke des Bandes zugunsten einer höheren Dichte abnimmt, nimmt eine Änderung der Breite des Bandes aufgrund eines Spannungsfaktors weiter zu. Daher kann ein Einfluss der Spurabweichung signifikant werden und das Bandlaufverhalten kann instabil werden.
• Unterdessen ist eine Technologie zum Verstärken eines Substrats durch Anordnen einer Verstärkungsschicht, die ein Metall, eine Legierung oder ein Oxid davon enthält, auf einer Oberfläche oder auf beiden Oberflächen des Substrats vorgeschlagen worden (siehe beispielsweise Patentdokumente 1 bis 6).
• Entgegenhaltungsliste
• Patentdokument(e)
• Patentdokument1: Japanische Patentoffenlegungsschrift Nr. 61-13433
• Patentdokument2: Japanische Patentoffenlegungsschrift Nr. 11-339250
• Patentdokument3: Japanische Patentoffenlegungsschrift Nr. 2000-11364
• Patentdokument4: Japanische Patentoffenlegungsschrift Nr. 2002-304720
• Patentdokument5: Japanische Patentoffenlegungsschrift Nr. 2002-304721
• Patentdokument6: Japanische Patentoffenlegungsschrift Nr. 2003-132525
• Kurzdarstellung der Erfindung
• Von der Erfindung zu lösende Probleme
• Wenn jedoch eine Verstärkungsschicht auf einem Substrat angeordnet wird, nimmt eine sogenannte Wölbung zu, bei der sich die Form eines Bandes in einer Breitenrichtung krümmt. Als Ergebnis wird ein Abstand zwischen einem Magnetkopf zum Schreiben und Lesen und einem Magnetband erzeugt und die Aufzeichnungs- und Wiedergabeeigenschaften verschlechtern sich. Daher ist ein Magnetband mit ausgezeichneter Abmessungsstabilität, das in der Lage ist, die Wölbung zu unterdrücken, erwünscht.
• Außerdem ist ebenso wie das Magnetband eine flexible Vorrichtung oder dergleichen erwünscht, die eine hervorragende Abmessungsstabilität aufweist und eine Krümmung unterdrücken kann.
• Daher besteht eine erste Aufgabe der vorliegenden Erfindung darin, ein magnetisches Aufzeichnungsmedium bereitzustellen, das eine ausgezeichnete Abmessungsstabilität aufweist und eine Wölbung unterdrücken kann.
• Darüber hinaus besteht eine zweite Aufgabe der vorliegenden Erfindung darin, ein Laminat, das eine ausgezeichnete Abmessungsstabilität aufweist und eine Krümmung unterdrücken kann, und eine flexible Vorrichtung bereitzustellen.
• Lösungen für Probleme
• Um die obigen Probleme zu lösen, ist eine erste Technik ein magnetisches Aufzeichnungsmedium, das ein längliches Substrat und eine Verstärkungsschicht und eine Wölbungsunterdrückungsschicht, die auf einer Oberfläche des Substrats angeordnet sind, umfasst.
• Eine zweite Technik ist ein magnetisches Aufzeichnungsmedium das ein längliches Substrat und eine Verstärkungsschicht und einen Kohlenstoff-Dünnfilm, die auf einer Oberfläche des Substrats angeordnet sind, umfasst.
• Eine dritte Technik ist ein Laminat, das ein Substrat und eine Verstärkungsschicht und eine Wölbungsunterdrückungsschicht, die auf einer Oberfläche des Substrats angeordnet sind, umfasst.
• Eine vierte Technik ist ein Laminat, das ein Substrat und eine Verstärkungsschicht und einen Kohlenstoff-Dünnfilm, die auf einer Oberfläche des Substrats angeordnet sind, umfasst.
• Eine fünfte Technik ist eine flexible Vorrichtung, die das Laminat gemäß der dritten oder vierten Technik umfasst.
• Effekte der Erfindung
• Wie oben beschrieben ist es gemäß der vorliegenden Technologie möglich, ein magnetisches Aufzeichnungsmedium mit ausgezeichneter Abmessungsstabilität zu realisieren, das eine Wölbung unterdrücken kann. Darüber hinaus ist es möglich, ein Laminat mit ausgezeichneter Abmessungsstabilität zu realisieren, das eine Krümmung unterdrücken kann.
• Figurenliste
• 1 ist eine schematische Querschnittsansicht, die ein Beispiel einer Konfiguration eines magnetischen Aufzeichnungsmediums gemäß einer ersten Ausführungsform der vorliegenden Technologie darstellt.
• 2A und 2B sind schematische Querschnittsansichten, die Beispiele einer Konfiguration eines magnetischen Aufzeichnungsmediums gemäß einem Abwandlungsbeispiel der ersten Ausführungsform der vorliegenden Technologie darstellen.
• 3A ist eine schematische Querschnittsansicht, die ein Beispiel einer Konfiguration einer Anzeige gemäß einer zweiten Ausführungsform der vorliegenden Technologie darstellt. 3B ist eine vergrößerte Querschnittsansicht eines Teils von 3A.
• Art der Ausführung der Erfindung
• Ausführungsformen der vorliegenden Technologie sind in der folgenden Reihenfolge beschrieben.
1. 1 Erste Ausführungsform (Beispiel eines magnetischen Aufzeichnungsmediums)
   • 1.1 Konfiguration des magnetischen Aufzeichnungsmediums
   • 1.2 Verfahren zum Herstellen des magnetischen Aufzeichnungsmediums
   • 1.3 Effekt
   • 1.4 Abwandlungsbeispiel
2. 2 Zweite Ausführungsform (Beispiel einer Anzeige)
   • 2.1 Konfiguration der Anzeige
   • 2.2 Effekt
   • 2.3 Abwandlungsbeispiel
• <Erste Ausführungsform>
• [Konfiguration des magnetischen Aufzeichnungsmediums]
• Ein magnetisches Aufzeichnungsmedium gemäß einer ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist ein sogenanntes senkrechtes magnetisches Aufzeichnungsmedium vom Beschichtungstyp und umfasst wie in 1 dargestellt ein längliches Substrat 11, eine Basisschicht 12, die auf einer Oberfläche des Substrats 11 angeordnet ist, eine Aufzeichnungsschicht 13, die auf der Basisschicht 12 angeordnet ist, eine Verstärkungsschicht 14, die auf der anderen Oberfläche des Substrats 11 angeordnet ist, eine Wölbungsunterdrückungsschicht 15, die auf der Verstärkungsschicht 14 angeordnet ist, und eine Rückschicht 16, die auf der Wölbungsunterdrückungsschicht 15 angeordnet ist. Darüber hinaus kann das magnetische Aufzeichnungsmedium ferner eine Schutzschicht, eine Schmiermittelschicht und dergleichen umfassen, die auf der Aufzeichnungsschicht 13 angeordnet sind, falls dies notwendig ist. Das Substrat 11, die Verstärkungsschicht 14 und die Wölbungsunterdrückungsschicht 15 bilden ein Laminat 10.
• Das magnetische Aufzeichnungsmedium hat eine längliche Form. Das magnetische Aufzeichnungsmedium hat vorzugsweise einen Young-Modul von 7 GPa oder mehr und 14 GPa oder weniger in einer Längsrichtung. Wenn der Young-Modul 7 GPa oder mehr beträgt, kann ein günstiger Magnetkopfkontakt erzielt werden und Kantenschäden können unterdrückt werden. Wenn der Young-Modul 14 GPa oder weniger beträgt, kann ein günstiger Magnetkopfkontakt erzielt werden.
• Das magnetische Aufzeichnungsmedium hat vorzugsweise einen Feuchteausdehnungskoeffizienten von 0,5 ppm/%r.F. oder mehr und 4 ppm/%r.F. oder weniger. Wenn der Feuchteausdehnungskoeffizient innerhalb des obigen Bereichs liegt, kann die Abmessungsstabilität des magnetischen Aufzeichnungsmediums weiter verbessert werden.
• (Substrat)
• Das Substrat 11 ist ein sogenannter nichtmagnetischer Träger und ist insbesondere ein flexibler langgestreckter Film. Das Substrat 11 hat zum Beispiel eine Dicke von 10 µm oder weniger. Das Substrat 11 enthält beispielsweise Polyester, Polyolefine, Cellulosederivate, Harze auf Vinylbasis, Polyimide, Polyamide und/oder Polycarbonat. Es ist zu beachten, dass das Substrat 11 eine Einschichtstruktur oder eine laminierte Struktur aufweisen kann.
• (Basisschicht)
• Die Basisschicht 12 ist eine nichtmagnetische Schicht, die ein nichtmagnetisches Pulver und ein Bindemittel enthält. Die Basisschicht 12 kann ferner falls erforderlich verschiedene Zusatzstoffe wie etwa leitfähige Partikel, ein Schmiermittel, ein Schleifmittel, ein Härtungsmittel und ein Rostschutzmittel enthalten.
• Das nichtmagnetische Pulver kann eine anorganische Substanz oder eine organische Substanz sein. Darüber hinaus kann auch Ruß oder dergleichen verwendet werden. Beispiele für die anorganische Substanz umfassen ein Metall, ein Metalloxid, ein Metallcarbonat, ein Metallsulfat, ein Metallnitrid, ein Metallcarbid, ein Metallsulfid und dergleichen. Beispiele für die Form des nichtmagnetischen Pulvers umfassen verschiedene Formen wie etwa eine Nadelform, eine Kugelform und eine Plattenform, sind jedoch nicht darauf beschränkt.
• Als Bindemittel ist ein Harz mit einer Struktur, in der eine Vernetzungsreaktion auf ein Harz auf Polyurethanbasis, ein Harz auf Vinylchloridbasis oder dergleichen angewendet ist, bevorzugt. Das Bindemittel ist jedoch nicht auf diese Harze beschränkt und andere Harze können in geeigneter Weise entsprechend den physikalischen Eigenschaften und dergleichen, die für das magnetische Aufzeichnungsmedium erforderlich sind, gemischt werden. Üblicherweise ist ein Harz, das zugemischt werden soll, nicht in besonderer Weise beschränkt, solange es allgemein in einem magnetischen Aufzeichnungsmedium vom Beschichtungstyp verwendet wird.
• Beispiele für das zu mischende Harz umfassen Polyvinylchlorid, Polyvinylacetat, ein Vinylchlorid-Vinylacetat-Copolymer, ein Vinylchlorid-Vinylidenchlorid-Copolymer, ein Vinylchlorid-Acrylnitril-Copolymer, ein Acrylat-Acrylnitril-Copolymer, ein Acrylat-Vinylchlorid-Vinylidenchlorid-Copolymer, ein Vinylchlorid-Acrylnitril-Copolymer, ein Acrylat-Acrylnitril-Copolymer, ein Acrylat-Vinylidenchlorid-Copolymer, ein Methacrylat-Vinylidenchlorid-Copolymer, ein Methacrylat-Vinylchlorid-Copolymer, ein Methacrylat-Ethylen-Copolymer, Polyvinylfluorid, ein Vinylidenchlorid- Acrylnitril-Copolymer, ein Acrylnitril-Butadien-Copolymer, ein Polyamidharz, Polyvinylbutyral, ein Cellulosederivat (Celluloseacetatbutyrat, Cellulosediacetat, Cellulosetriacetat, Cellulosepropionat und Nitrocellulose), ein Styrol-Butadien-Copolymer, ein Polyesterharz, ein Aminoharz einen synthetischen Kautschuk und dergleichen.
• Ferner umfassen Beispiele eines wärmehärtbaren Harzes oder eines reaktiven Harzes ein Phenolharz, ein Epoxidharz, ein Harnstoffharz, ein Melaminharz, ein Alkydharz, ein Silikonharz, ein Polyaminharz, ein Harnstoffformaldehydharz und dergleichen.
• Um die Dispergierbarkeit eines magnetischen Pulvers zu verbessern, kann ferner eine polare funktionelle Gruppe wie -SO₃M, -OSO₃M, -COOM oder P=O(OM)₂ in jedes der oben beschriebenen Bindemittel eingebracht werden. In den Formeln steht M für ein Wasserstoffatom oder ein Alkalimetall wie etwa Lithium, Kalium oder Natrium.
• Darüber hinaus umfassen Beispiele für die polare funktionelle Gruppe eine Gruppe vom Seitenkettentyp mit einer endständigen Gruppe -NR1R2 oder -NR1R2R3⁺X^- und eine Gruppe vom Hauptkettentyp >NR1R2⁺X^-. In den Formeln stehen R1, R2 und R3 jeweils für ein Wasserstoffatom oder eine Kohlenwasserstoffgruppe und X^- steht für ein Ion eines Halogenelements wie Fluor, Chlor, Brom oder Jod oder ein anorganisches oder organisches Ion. Ferner umfassen Beispiele der polaren funktionellen Gruppe -OH, -SH, -CN, eine Epoxidgruppe und dergleichen.
• Darüber hinaus kann ein Polyisocyanat in Kombination mit einem Harz zum Vernetzen und Härten des Polyisocyanats verwendet werden. Beispiele für das Polyisocyanat umfassen Toluoldiisocyanat und ein Addukt davon, Alkylendiisocyanat und ein Addukt davon und dergleichen.
• Als leitfähige Partikel können feine Partikel, die hauptsächlich Kohlenstoff, beispielsweise Ruß, enthalten, verwendet werden. Beispiele für Ruß umfassen Asahi #15, #15HS und dergleichen, die von Asahi Carbon Co., Ltd. hergestellt werden. Ferner kann ein Hybridkohlenstoff verwendet werden, bei dem Kohlenstoff an Oberflächen von Siliciumdioxidpartikeln gebunden ist.
• Als Schmiermittel können beispielsweise ein Ester einer einbasischen Fettsäure mit 10 bis 24 Kohlenstoffatomen und einwertiger bis sechswertiger Alkohol mit jeweils 2 bis 12 Kohlenstoffatomen, ein gemischter Ester davon oder ein Di- oder Tri-FettsäureEster in geeigneter Weise verwendet werden. Spezifische Beispiele für das Schmiermittel umfassen Laurinsäure, Myristinsäure, Palmitinsäure, Stearinsäure, Behensäure, Ölsäure, Linolsäure, Linolensäure, Elaidinsäure, Butylstearat, Pentylstearat, Heptylstearat, Octylstearat, Isooctylstearat, Octylmyristat und dergleichen.
• Als Schleifmittel kann beispielsweise α-Aluminiumoxid mit einem α-Umwandlungsanteil von 90 % oder mehr, β-Aluminiumoxid, γ-Aluminiumoxid, Siliciumcarbid, Chromoxid, Ceroxid, α-Eisenoxid, Korund, Siliciumnitrid, Titancarbid, Titanoxid, Siliciumdioxid, Zinnoxid, Magnesiumoxid, Wolframoxid, Zirkonoxid, Bornitrid, Zinkoxid, Calciumcarbonat, Calciumsulfat, Bariumsulfat, Molybdändisulfid, nadelförmiges α-Eisenoxid, das durch Dehydratisieren und Härten eines Rohmaterials aus magnetischem Eisenoxid erhalten wird, ein Produkt, das durch dessen Oberflächenbehandlung mit Aluminium und/oder Siliciumdioxid erhalten wird, und dergleichen einzeln oder in Kombination verwendet werden.
• (Aufzeichnungsschicht)
• Die Aufzeichnungsschicht 13 ist beispielsweise eine senkrechte Aufzeichnungsschicht, die zur Aufzeichnung mit kurzer Wellenlänge oder zur Superaufzeichnung mit ultrakurzer Wellenlänge in der Lage ist. Die Aufzeichnungsschicht 13 ist eine magnetische Schicht mit einer magnetischen Anisotropie in einer Dickenrichtung der Aufzeichnungsschicht 13. Mit anderen Worten ist eine leicht magnetisierbare Achse der Aufzeichnungsschicht 13 in einer Dickenrichtung der Aufzeichnungsschicht 13 orientiert. Die Aufzeichnungsschicht 13 hat eine durchschnittliche Dicke von vorzugsweise 30 nm oder mehr und 100 nm oder weniger, bevorzugterweise 50 nm oder mehr und 70 nm oder weniger.
• Die Aufzeichnungsschicht 13 ist beispielsweise eine magnetische Schicht, die ein magnetisches Pulver und ein Bindemittel enthält. Die Aufzeichnungsschicht 13 kann ferner verschiedene Additive wie leitfähige Partikel, ein Schmiermittel, ein Schleifmittel, ein Härtungsmittel und ein Rostschutzmittel enthalten, falls dies erforderlich ist.
• Das magnetische Pulver ist beispielsweise ein magnetisches Pulver aus hexagonalem Ferrit oder ein magnetisches Pulver aus kubischem Ferrit. Das magnetische Pulver aus hexagonalem Ferrit besteht aus magnetischen Partikeln eines Eisenoxids mit hexagonalem Ferrit als Hauptphase (im Folgenden als „magnetische Partikel aus hexagonalem Ferrit“ bezeichnet). Der hexagonale Ferrit enthält beispielsweise mindestens ein Element aus der folgenden Gruppe: Ba, Sr, Pb und Ca. Der hexagonale Ferrit ist vorzugsweise Bariumferrit, der Ba enthält. Zusätzlich zu Ba kann der Bariumferrit ferner mindestens ein Element aus der folgenden Gruppe enthalten: Sr, Pb und Ca.
• Insbesondere hat der hexagonale Ferrit eine durchschnittliche Zusammensetzung, die durch die allgemeine Formel MFe₁₂O₁₉ dargestellt wird. M steht jedoch beispielsweise für mindestens ein Metall aus der folgenden Gruppe: Ba, Sr, Pb und Ca. M steht vorzugsweise für Ba. M kann eine Kombination von Ba und mindestens einem Metall sein, das aus der folgenden Gruppe ausgewählt ist: Sr, Pb und Ca. In der obigen allgemeinen Formel kann ein Teil von Fe durch ein anderes Metallelement ersetzt werden.
• Die magnetischen Partikel aus hexagonalem Ferrit haben einen durchschnittlichen Partikeldurchmesser (durchschnittlichen Plattendurchmesser) von vorzugsweise 32 nm oder weniger, bevorzugterweise von 15 nm oder mehr und 32 nm oder weniger. Die magnetischen Partikel aus hexagonalem Ferrit haben eine durchschnittliche Partikeldicke von vorzugsweise 9 nm oder weniger, bevorzugterweise von 7 nm oder mehr und 9 nm oder weniger. Die magnetischen Partikel aus hexagonalem Ferrit haben ein durchschnittliches Aspektverhältnis (durchschnittlicher Partikeldurchmesser / durchschnittliche Partikeldicke) von vorzugsweise 3,9 oder weniger, bevorzugterweise von 1,9 oder mehr und 3,9 oder weniger.
• Das magnetische Pulver aus kubischem Ferrit besteht aus magnetischen Partikeln eines Eisenoxids mit kubischem Ferrit als Hauptphase (im Folgenden als „magnetische Partikel aus kubischem Ferrit“ bezeichnet). Der kubische Ferrit enthält mindestens ein aus der folgenden Gruppe ausgewähltes Element: Co, Ni, Mn, Al, Cu und Zn. Vorzugsweise enthält der kubische Ferrit mindestens Co und enthält zusätzlich zu Co mindestens ein aus der folgenden Gruppe ausgewähltes Element: Ni, Mn, Al, Cu und Zn. Genauer weist der kubische Ferrit beispielsweise eine durchschnittliche Zusammensetzung auf, die durch die allgemeine Formel MFe₂O₄ dargestellt wird. M stellt jedoch mindestens ein Metall dar, das aus der folgenden Gruppe ausgewählt ist: Co, Ni, Mn, Al, Cu und Zn. Vorzugsweise stellt M eine Kombination von Co und mindestens einem Metall dar, das aus der folgenden Gruppe ausgewählt ist: Ni, Mn, Al, Cu und Zn.
• Die magnetischen Partikel aus kubischem Ferrit haben einen durchschnittlichen Plattendurchmesser (durchschnittliche Partikelgröße) von vorzugsweise 14 nm oder weniger, bevorzugterweise 10 nm oder mehr und 14 nm oder weniger. Die magnetischen Partikel aus kubischem Ferrit haben vorzugsweise ein durchschnittliches Plattenverhältnis (durchschnittliches Aspektverhältnis (durchschnittlicher Plattendurchmesser L_AM/durchschnittliche Plattendicke L_BM)) von 0,75 oder mehr und 1,25 oder weniger.
• Das Bindemittel ist ähnlich zu dem in der oben beschriebenen Basisschicht 12. Die leitfähigen Partikel, das Schmiermittel und das Schleifmittel sind ebenfalls ähnlich zu denen der oben beschriebenen Basisschicht 12.
• Als nichtmagnetische Verstärkungspartikel kann die Aufzeichnungsschicht 13 ferner Aluminiumoxid (α-, β- oder γ-Aluminiumoxid), Chromoxid, Siliciumoxid, Diamant, Granat, Schmirgel, Bornitrid, Titancarbid, Siliciumcarbid, Titancarbid, Titanoxid (Titanoxid vom Rutiltyp oder Anatastyp) und dergleichen enthalten.
• (Verstärkungsschicht)
• Die Verstärkungsschicht 14 dient zum Verstärken der mechanischen Festigkeit des magnetischen Aufzeichnungsmediums, um eine ausgezeichnete Abmessungsstabilität zu erzielen. Die Verstärkungsschicht 14 enthält beispielsweise ein Metall und/oder eine Metallverbindung. In der Definition hierin umfasst das Metall ein Halbmetall. Das Metall ist beispielsweise mindestens eines von Aluminium und Kupfer und vorzugsweise Kupfer. Dies liegt daran, dass Kupfer billig ist und einen relativ niedrigen Dampfdruck aufweist und daher die Verstärkungsschicht 14 bei geringen Kosten bilden kann. Das Metall kann zum Beispiel mindestens eines von Aluminium, Kupfer, Silicium und Kobalt sein. Die Metallverbindung ist beispielsweise ein Metalloxid. Das Metalloxid ist beispielsweise mindestens eines von Aluminiumoxid, Kupferoxid und Siliziumoxid und vorzugsweise Kupferoxid. Dies liegt daran, dass die Verstärkungsschicht 14 durch ein Dampfabscheidungsverfahren oder dergleichen mit geringen Kosten ausgebildet werden kann. Das Metalloxid kann beispielsweise mindestens eines von Aluminiumoxid, Kupferoxid, Siliziumoxid und Cobaltoxid sein. Die Verstärkungsschicht 14 kann beispielsweise ein aufgedampfter Film, der durch ein Unterdruck-Schrägbedampfungsverfahren ausgebildet wird, oder ein gesputterter Film, der durch ein Sputterverfahren ausgebildet wird, sein.
• Die Verstärkungsschicht 14 weist vorzugsweise eine laminierte Struktur aus zwei oder mehr Schichten auf. Wenn die Dicke der Verstärkungsschicht 14 erhöht wird, kann eine Ausdehnung und Kontraktion des Substrats 11 gegen eine äußere Kraft weiter unterdrückt werden. In einem Fall jedoch, in dem die Verstärkungsschicht 14 unter Verwendung einer Unterdruck-Dünnfilm-Herstellungstechnik wie etwa einem Dampfabscheidungsverfahren oder Sputtern wie oben beschrieben ausgebildet wird, kann, wenn die Dicke der Verstärkungsschicht 14 erhöht wird, leichter eine Lücke in der Verstärkungsschicht 14 erzeugt werden. Dadurch, dass die Verstärkungsschicht 14 wie oben beschrieben eine laminierte Struktur aus zwei oder mehr Schichten aufweist, kann dann, wenn die Verstärkungsschicht 14 unter Verwendung der Unterdruck-Dünnfilm-Herstellungstechnik gebildet wird, eine Lücke, die in der Verstärkungsschicht 14 erzeugt wird, unterdrückt werden und die Dichte der Verstärkungsschicht 14 kann verbessert werden. Infolgedessen kann die Wasserdampfdurchlässigkeit der Verstärkungsschicht 14 verringert werden. Daher kann die Ausdehnung des Substrats 11 weiter unterdrückt werden, und die Abmessungsstabilität des magnetischen Aufzeichnungsmediums weiter verbessert werden. In einem Fall, in dem die Verstärkungsschicht 14 eine laminierte Struktur aus zwei oder mehr Schichten aufweist, können die Materialien der Schichten gleich oder verschieden voneinander sein.
• Die Verstärkungsschicht 14 weist vorzugsweise eine durchschnittliche Dicke von 150 nm oder mehr und 500 nm oder weniger auf. Wenn die durchschnittliche Dicke der Verstärkungsschicht 14 150 nm oder mehr beträgt, wird eine günstige Funktion (d. h. eine günstige Abmessungsstabilität des magnetischen Aufzeichnungsmediums) als Verstärkungsschicht 14 erzielt. Währenddessen wird selbst dann, wenn die durchschnittliche Dicke der Verstärkungsschicht 14 nicht größer als 500 nm ist, eine ausreichende Funktion als Verstärkungsschicht 14 erzielt. Wenn die durchschnittliche Dicke der Verstärkungsschicht 14 ferner mehr als 500 nm beträgt, muss, um das Auftreten einer Wölbung zu unterdrücken, die mittlere Dicke der Vertiefungsunterdrückungsschicht 15 groß sein und die Gesamtdicke der Verstärkungsschicht 14 und der Wölbungsunterdrückungsschicht 15 wird vielleicht zu groß.
• Die durchschnittliche Dicke der Verstärkungsschicht 14 wird wie folgt bestimmt. Zuerst wird das magnetische Aufzeichnungsmedium senkrecht zu einer Hauptoberfläche davon geschnitten und ein Querschnitt davon wird mit einem Transmissionselektronenmikroskop (TEM) beobachtet.
  Messbedingungen der TEM sind nachstehend gezeigt.
  Gerät: TEM (H9000NAR, hergestellt von Hitachi, Ltd.)
  Beschleunigungsspannung: 300 kV
  Vergrößerung: 100000-fach
  Als Nächstes wird die durchschnittliche Dicke der Verstärkungsschicht 14 aus dem beobachteten TEM-Bild berechnet. Insbesondere wird ein Histogramm unter Verwendung einer SEM/TEM-Messsoftware, eines Bildmesswerkzeugs, das von der General Materials Science and Technology Promotion Foundation hergestellt wird, erzeugt und die durchschnittliche Dicke der Verstärkungsschicht 14 wird berechnet.
• In einem Fall, in dem eine durchschnittliche Dicke der Verstärkungsschicht 14 150 nm oder mehr und 500 nm oder weniger beträgt, beträgt ein Verhältnis (D2/D1) einer durchschnittlichen Dicke D2 der Wölbungsunterdrückungsschicht 15 zu einer durchschnittlichen Dicke D1 der Verstärkungsschicht 14 vorzugsweise 0,05 oder mehr und 0,7 oder weniger. Wenn das Verhältnis (D2/D1) 0,05 oder mehr beträgt, ist die mittlere Dicke D2 der Wölbungsunterdrückungsschicht 15 ausreichend groß in Bezug auf die durchschnittliche Dicke D1 der Verstärkungsschicht 14. Daher kann ein Effekt der Unterdrückung der Wölbung verbessert werden. Wenn das Verhältnis (D2/D1) hingegen 0,7 oder weniger beträgt, ist die mittlere Dicke D2 der Wölbungsunterdrückungsschicht 15 in Bezug auf die durchschnittliche Dicke D1 der Verstärkungsschicht 14 nicht zu groß. Daher kann ein Effekt des Unterdrückens der Wölbung verbessert werden.
• (Wölbungsunterdrückungsschicht)
• Die Wölbungsunterdrückungsschicht dient zum Unterdrücken der durch Ausbilden der verstärkenden Schicht 14 auf dem Substrat 11 erzeugten Wölbung. Hier bedeutet Wölbung eine Krümmung, die in einer Breitenrichtung des länglichen Substrats 11 erzeugt wird. Eine Zugspannung als innere Spannung, d. h. eine Spannung zum Verformen einer Rückflächenseite des Substrats 11 in eine vertiefte Form, wirkt auf die Verstärkungsschicht 14. Unterdessen wirkt eine Druckspannung als innere Spannung, d. h. eine Spannung zum Verformen einer Rückflächenseite des Substrats 11 in eine vorstehende Form, auf die Wölbungsunterdrückungsschicht 15. Als Ergebnis heben sich die inneren Spannungen der Verstärkungsschicht 14 und der Wölbungsunterdrückungsschicht 15 gegenseitig auf und das Auftreten von Wölbungen in dem Magnetaufzeichnungsmedium kann unterdrückt werden.
• Die Wölbungsunterdrückungsschicht 15 ist beispielsweise ein Kohlenstoff-Dünnfilm. Der Kohlenstoff-Dünnfilm ist vorzugsweise ein harter Kohlenstoff-Dünnfilm, der diamantartigen Kohlenstoff (nachstehend als „DLC“ bezeichnet) enthält. Die Wölbungsunterdrückungsschicht 15 kann beispielsweise ein durch ein CVD-Verfahren (chemische Dampfabscheidung) ausgebildeter CVD-Film oder ein durch ein Sputterverfahren ausgebildeter Sputterfilm sein.
• Die Wölbungsunterdrückungsschicht 15 weist vorzugsweise eine laminierte Struktur aus zwei oder mehr Schichten auf. Dies kommt daher, dass die Abmessungsstabilität des magnetischen Aufzeichnungsmediums weiter verbessert werden kann. Es ist zu beachten, dass das Prinzip davon ähnlich wie in dem Fall ist, in dem die Verstärkungsschicht 14 eine laminierte Struktur aus zwei oder mehr Schichten aufweist. In dem Fall, in dem die Wölbungsunterdrückungsschicht 15 eine laminierte Struktur aus zwei oder mehr Schichten aufweist, können die Materialien der Schichten gleich oder verschieden voneinander sein.
• Die Wölbungsunterdrückungsschicht 15 hat vorzugsweise eine durchschnittliche Dicke von 10 nm oder mehr und 200 nm oder weniger. Wenn die durchschnittliche Dicke der Wölbungsunterdrückungsschicht 15 weniger als 10 nm beträgt, kann eine Druckspannung der Wölbungsunterdrückungsschicht 15 zu gering sein. Wenn indessen die mittlere Dicke der Wölbungsunterdrückungsschicht 15 200 nm überschreitet, kann die Druckspannung der Wölbungsunterdrückungsschicht 15 zu groß sein. Es ist zu beachten, dass die mittlere Dicke der Wölbungsunterdrückungsschicht 15 auf ähnliche Weise wie bei dem oben beschriebenen Verfahren zum Berechnen der durchschnittlichen Dicke der Verstärkungsschicht 14 bestimmt werden kann.
• (Rückschicht)
• Die Rückschicht 16 enthält ein Bindemittel, anorganische Partikel und ein Schmiermittel. Die Rückschicht 16 kann, falls notwendig, verschiedene Zusatzstoffe wie etwa ein Härtungsmittel und ein Antistatikmittel enthalten. Das Bindemittel, die anorganischen Partikel und das Schmiermittel sind ähnlich zu denen der oben beschriebenen Basisschicht 12.
• [Verfahren zum Herstellen eines magnetischen Aufzeichnungsmediums]
• Als Nächstes wird ein Beispiel eines Verfahrens zum Herstellen des magnetischen Aufzeichnungsmediums mit der oben beschriebenen Konfiguration beschrieben.
• (Schritt des Anpassens des Beschichtungsmaterials)
• Zuerst wird durch Kneten und Dispergieren eines nichtmagnetischen Pulvers, eines Bindemittels und dergleichen in einem Lösungsmittel ein basisschichtbildendes Beschichtungsmaterial hergestellt. Als Nächstes wird durch Kneten und Dispergieren eines magnetischen Pulvers, eines Bindemittels und dergleichen in einem Lösungsmittel ein aufzeichnungsschichtbildendes Beschichtungsmaterial hergestellt. Als Nächstes wird durch Kneten und Dispergieren eines Bindemittels, anorganischer Partikel, eines Schmiermittels und dergleichen in einem Lösungsmittel ein rückschichtbildendes Beschichtungsmaterial hergestellt. Zum Beispiel können die folgenden Lösungsmittel, Dispergiervorrichtungen und Knetvorrichtungen zum Herstellen des basisschichtbildenden Beschichtungsmaterials, des aufzeichnungsschichtbildenden Beschichtungsmaterials und des rückschichtbildenden Beschichtungsmaterials verwendet werden.
• Beispiele für das Lösungsmittel, das zum Herstellen des oben beschriebenen Beschichtungsmaterials verwendet wird, umfassen Lösungsmittel auf Ketonbasis wie Aceton, Methylethylketon, Methylisobutylketon und Cyclohexanon, Lösungsmittel auf Alkoholbasis wie Methanol, Ethanol und Propanol, Lösungsmittel auf Esterbasis wie Methylacetat, Ethylacetat, Butylacetat, Propylacetat, Ethyllactat und Ethylenglycolacetat, Lösungsmittel auf Etherbasis wie Diethylenglycoldimethylether, 2-Ethoxyethanol, Tetrahydrofuran und Dioxan, Lösungsmittel auf Basis aromatischer Kohlenwasserstoffe wie Benzol, Toluol und Xylol und Lösungsmittel auf Basis halogenierter Kohlenwasserstoffe wie Methylenchlorid, Ethylenchlorid, Tetrachlorkohlenstoff, Chloroform und Chlorbenzol. Diese Lösungsmittel können einzeln oder in einer Mischung davon in geeigneter Weise verwendet werden.
• Beispiele für die Knetvorrichtung, die zum Herstellen des oben beschriebenen Beschichtungsmaterials verwendet wird, umfassen eine kontinuierliche Doppelschneckenknetmaschine, eine kontinuierliche Doppelschneckenknetmaschine, die eine Verdünnung in mehreren Stufen durchführen kann, einen Kneter, einen Druckkneter, einen Walzenkneter und dergleichen, sind aber nicht besonders auf diese Vorrichtungen beschränkt. Weiterhin umfassen Beispiele der Dispergiervorrichtung, die zum Herstellen des oben beschriebenen Beschichtungsmaterials verwendet wird, eine Walzenmühle, eine Kugelmühle, eine horizontale Sandmühle, eine vertikale Sandmühle, eine Zahnmühle, eine Stiftmühle, eine Turmmühle, eine Perlmühle (beispielsweise eine „DCP-Mühle“, die von Eirich GmbH & Co KG hergestellt wird), einen Homogenisator und eine Ultraschallwellen-Dispergiermaschine, sind jedoch nicht besonders auf diese Vorrichtungen beschränkt.
• (Schritt des Ausbildens der Verstärkungsschicht)
• Als Nächstes wird die Verstärkungsschicht 14 auf der anderen Oberfläche des Substrats 11 unter Verwendung einer Unterdruck-Filmbildungsvorrichtung vom Rolle-zu-Rolle-Typ ausgebildet. Die durchschnittliche Dicke der Verstärkungsschicht 14 kann eingestellt werden, indem Filmbildungsbedingungen wie etwa eine Wicklungsgeschwindigkeit des Substrats 11, eine Durchflussrate eines eingebrachten Gases und eine Entladungsspannung geändert werden. Beispiele für eine Unterdruck-Filmbildungsvorrichtung umfassen eine Dampfabscheidungsvorrichtung (z. B. eine Schrägbedampfungsvorrichtung), eine Sputtervorrichtung, eine CVD-Vorrichtung und dergleichen.
• (Schritt des Ausbildens der Wölbungsunterdrückungsschicht)
• Als Nächstes wird die Wölbungsunterdrückungsschicht 15 unter Verwendung einer Unterdruck-Filmbildungsvorrichtung vom Rolle-zu-Rolle-Typ auf der Verstärkungsschicht 14 ausgebildet. Die durchschnittliche Dicke der Wölbungsunterdrückungsschicht 15 kann eingestellt werden, indem Filmbildungsbedingungen wie etwa eine Wicklungsgeschwindigkeit des Substrats 11, eine Durchflussrate eines eingebrachten Gases und eine Entladungsspannung geändert werden. Beispiele für eine Unterdruck-Filmbildungsvorrichtung umfassen eine Dampfabscheidungsvorrichtung, eine Sputtervorrichtung, eine CVD-Vorrichtung und dergleichen. Auf diese Weise wird das Laminat 10 erhalten.
• (Schritt des Ausbildens der Basisschicht)
• Als Nächstes wird durch Aufbringen eines basisschichtbildenden Beschichtungsmaterials auf eine Oberfläche des Substrats 11 und Trocknen des basisschichtbildenden Beschichtungsmaterials die Basisschicht 12 auf einer Oberfläche des Substrats 11 ausgebildet.
• (Schritt des Ausbildens der Aufzeichnungsschicht)
• Als Nächstes wird durch Aufbringen eines aufzeichnungsschichtbildenden Beschichtungsmaterials auf die Basisschicht 12 und Trocknen des aufzeichnungsschichtbildenden Beschichtungsmaterials die Aufzeichnungsschicht 13 auf der Basisschicht 12 ausgebildet. Es ist zu beachten, dass, falls erforderlich, durch Bewirken der Magnetfeldausrichtung eines in dem Beschichtungsmaterial enthaltenen magnetischen Pulvers während des Trocknens eine leicht magnetisierbare Achse des magnetischen Pulvers in einer Dickenrichtung der Aufzeichnungsschicht 13 orientiert werden kann.
• (Schritt der Wärmebehandlung)
• Als Nächstes kann, falls erforderlich, das Substrat 11, auf dem die obigen Schichten laminiert sind, einer Wärmebehandlung unterzogen werden, um das Substrat 11 thermisch zu schrumpfen. Durch derartiges thermisches Schrumpfen des Substrats 11 kann die Wölbung weiter unterdrückt werden. Eine Temperatur für die Wärmebehandlung ist beispielsweise 80 °C oder höher und 120 °C oder niedriger. Die Dauer der Wärmebehandlung beträgt beispielsweise 3 Stunden oder mehr und 72 Stunden oder weniger.
• (Schritt des Ausbildens der Rückschicht)
• Als Nächstes wird durch Aufbringen eines rückschichtbildenden Beschichtungsmaterials auf die Wölbungsunterdrückungsschicht 15 und Trocknen des rückschichtbildenden Beschichtungsmaterials die Rückschicht 16 ausgebildet. Als Ergebnis wird ein breites magnetisches Aufzeichnungsmedium erhalten. Es ist zu beachten, dass nach dem Schritt des Ausbildens der Aufzeichnungsschicht 13 (oder nach dem Schritt der Wärmebehandlung) und vor dem Schritt des Ausbildens der Rückschicht 16 die Benetzbarkeit einer Oberfläche der Wölbungsunterdrückungsschicht 15 vorzugsweise durch eine Oberflächenmodifizierungsbehandlung verbessert wird. Dies kommt daher, dass die Beschichtbarkeit des rückschichtbildenden Beschichtungsmaterials verbessert werden kann. Beispiele für die Oberflächenmodifikationsbehandlung umfassen eine Koronaentladungsbehandlung, eine Plasmabehandlung, eine UV-Ozonbehandlung, eine Elektronenstrahlbehandlung und dergleichen.
• (Schritt der Kalandrierbehandlung und des Schneidens)
• Als Nächstes wird das erhaltene breite magnetische Aufzeichnungsmedium wieder um einen Kern mit großem Durchmesser gewickelt und gehärtet. Als Nächstes wird das breite magnetische Aufzeichnungsmedium kalandriert und dann auf eine vorbestimmte Breite geschnitten. Als Ergebnis wird ein gewünschtes magnetisches Aufzeichnungsmedium erhalten. Es ist zu beachten, dass der Schritt des Ausbildens der Rückschicht 16 nach der Kalandrierbehandlung durchgeführt werden kann.
• [Effekt]
• Das magnetische Aufzeichnungsmedium gemäß der ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung umfasst die auf der anderen Oberfläche des Substrats 11 angeordnete Verstärkungsschicht 14 und die auf der Verstärkungsschicht 14 angeordnete Wölbungsunterdrückungsschicht 15. Als Folge davon heben sich die inneren Spannungen der Verstärkungsschicht 14 und der Wölbungsunterdrückungsschicht 15 gegenseitig auf und das Auftreten von Wölbungen in dem magnetischen Aufzeichnungsmedium kann unterdrückt werden. Als Ergebnis ist es möglich, ein magnetisches Aufzeichnungsmedium mit hohem SN mit ausgezeichneten Spurabweichungseigenschaften zu schaffen, das einen Kontaktzustand zwischen einem Magnetkopf und dem magnetischen Aufzeichnungsmedium in einem günstigen Zustand halten kann und eine hohe Abmessungsstabilität in einer Spurbreitenrichtung aufweist.
• [Abwandlungsbeispiel]
• Anstatt die Verstärkungsschicht 14 und die Wölbungsunterdrückungsschicht 15 auf der anderen Oberfläche des Substrats 11 (einer Oberfläche auf der der Seite der Aufzeichnungsschicht 13 gegenüberliegenden Seite) aufzuweisen, wie es in 2A dargestellt ist, kann das magnetische Aufzeichnungsmedium die Verstärkungsschicht 14 und die Wölbungsunterdrückungsschicht 15 auf einer Oberfläche des Substrats 11 (einer Oberfläche auf der Seite der Aufzeichnungsschicht 13) aufweisen.
• Wie in 2B dargestellt kann das magnetische Aufzeichnungsmedium die Verstärkungsschichten 14 auf beiden Oberflächen des Substrats 11 aufweisen. In diesem Fall ist die Wölbungsunterdrückungsschicht 15 auf der Seite derjenigen der auf beiden Oberflächen angeordneten Verstärkungsschichten 14 angeordnet, die eine größere innere Spannung aufweist.
• Die Verstärkungsschicht 14 kann eine erste Metalloxidschicht, eine zweite Metalloxidschicht und eine zwischen der ersten Metalloxidschicht und der zweiten Metalloxidschicht angeordnete Metallschicht umfassen. Die erste und die zweite Metalloxidschicht enthalten jeweils beispielsweise Aluminiumoxid, Kupferoxid, Siliziumoxid und/oder Cobaltoxid, vorzugsweise Kupferoxid. Die erste und die zweite Metalloxidschicht können die gleiche Art von Metalloxid oder verschiedene Arten von Metalloxiden enthalten. Die Metallschicht enthält beispielsweise Aluminium, Kupfer, Silizium und/oder Kobalt, vorzugsweise Kupfer.
• Die Verstärkungsschicht 14 kann ein Metall und Sauerstoff enthalten und kann eine Konzentrationsverteilung aufweisen, in der sich eine Sauerstoffkonzentration in einer Dickenrichtung davon ändert. Die Sauerstoffkonzentration auf einer Oberfläche auf der der Seite des Substrats 11 gegenüberliegenden Seite (d. h. einer Oberfläche auf der Seite der Wölbungsunterdrückungsschicht 15) von beiden Oberflächen der Verstärkungsschicht 14 ist höher als die Sauerstoffkonzentration innerhalb der Verstärkungsschicht 14. Insbesondere nimmt die Sauerstoffkonzentration der Verstärkungsschicht 14 von der der Seite des Substrats 11 gegenüberliegenden Oberfläche zu der Innenseite hin ab. In diesem Fall kann die Änderung der Sauerstoffkonzentration kontinuierlich oder diskontinuierlich sein.
• Die Sauerstoffkonzentration auf einer Oberfläche auf der Seite des Substrats 11 von beiden Oberflächen der Verstärkungsschicht 14 kann höher als die Sauerstoffkonzentration innerhalb der Verstärkungsschicht 14 sein. Dies liegt daran, dass in einem Fall, in dem die Verstärkungsschicht 14 unter Verwendung einer Unterdruck-Dünnfilm-Herstellungstechnik wie etwa eines Dampfabscheidungsverfahrens oder Sputterns ausgebildet wird, kann abhängig von einem Material, einem Oberflächenzustand und dergleichen des Substrats 11 wie oben beschrieben die Sauerstoffkonzentration auf einer Oberfläche auf der Seite des Substrats 11 von beiden Oberflächen der Verstärkungsschicht 14 höher als die Sauerstoffkonzentration innerhalb der Verstärkungsschicht sein. Insbesondere nimmt die Sauerstoffkonzentration der Verstärkungsschicht 14 von der Oberfläche auf der Seite des Basismaterials 11 zu der Innenseite hin ab. In diesem Fall kann die Änderung der Sauerstoffkonzentration kontinuierlich oder diskontinuierlich sein.
• Das Metall, das in der Verstärkungsschicht 14 enthalten ist, ist beispielsweise mindestens eines von Aluminium, Kupfer, Silizium und Kobalt und vorzugsweise Kupfer.
• Die Verstärkungsschicht 14 mit der obigen Konzentrationsverteilung kann beispielsweise hergestellt werden, indem eine in einem Prozessgas enthaltene Sauerstoffkonzentration geändert wird, wenn die Verstärkungsschicht 14 unter Verwendung einer Unterdruck-Dünnfilm-Herstellungstechnik wie etwa eines Dampfabscheidungsverfahrens oder Sputterns ausgebildet wird.
• In der oben beschriebenen ersten Ausführungsform wurde der Fall, in dem das magnetische Aufzeichnungsmedium ein senkrechtes magnetisches Aufzeichnungsmedium ist, als ein Beispiel beschrieben, aber das magnetische Aufzeichnungsmedium kann ein horizontales magnetisches Aufzeichnungsmedium sein.
• In der oben beschriebenen ersten Ausführungsform wurde das Beispiel beschrieben, in dem das magnetische Pulver aus hexagonalem Ferrit oder das magnetische Pulver aus kubischem Ferrit als das in der Aufzeichnungsschicht 13 enthaltene magnetische Pulver verwendet wird. Das magnetische Pulver ist jedoch nicht auf dieses Beispiel beschränkt und ein magnetisches Pulver, das allgemein in dem senkrechten magnetischen Aufzeichnungsmedium oder dem horizontalen magnetischen Aufzeichnungsmedium verwendet wird, kann verwendet werden. Spezifische Beispiele des magnetischen Pulvers umfassen ein Metallpulver auf Fe-Basis, ein Metallpulver auf Fe-Co-Basis, Eisencarbid, Eisenoxid und dergleichen. Es ist zu beachten, dass als Hilfselement eine Metallverbindung aus Co, Ni, Cr, Mn, Mg, Ca, Ba, Sr, Zn, Ti, Mo, Ag, Cu, Na, K, Li, Al, Si, Ge, Ga, Y, Nd, La, Ce, Zr oder dergleichen koexistieren kann.
• In der oben beschriebenen ersten Ausführungsform ist das Beispiel beschrieben, in dem die Basisschicht 12 und die Aufzeichnungsschicht 13 Dünnfilme sind, die durch einen Beschichtungsschritt (einen Nassprozess) hergestellt werden. Die Basisschicht 12 und die Aufzeichnungsschicht 13 können jedoch Dünnfilme sein, die durch eine Unterdruck-Dünnfilm-Herstellungstechnik (einen Trockenprozess) wie etwa Sputtern hergestellt werden.
• In der oben beschriebenen ersten Ausführungsform ist die Konfiguration, in der die Verstärkungsschicht 14 auf der anderen Oberfläche des Substrats 11 angeordnet ist und die Wölbungsunterdrückungsschicht 15 auf der Verstärkungsschicht 14 angeordnet ist, als ein Beispiel beschrieben. Die Wölbungsunterdrückungsschicht 15 kann jedoch auf der anderen Oberfläche des Substrats 11 angeordnet sein und die Verstärkungsschicht 14 kann auf der Verstärkungsschicht 14 angeordnet sein. Jedoch kann es in einem Fall, in dem eine DLC-Schicht als die Wölbungsunterdrückungsschicht 15 verwendet wird, abhängig von einem Material des Substrats 11 schwierig sein, die Wölbungsunterdrückungsschicht 15 auf dem Substrat 11 auszubilden, und daher ist die Wölbungsunterdrückungsschicht 15 vorzugsweise auf der Verstärkungsschicht 14 angeordnet.
• In der oben beschriebenen ersten Ausführungsform ist der Fall, in dem das magnetische Aufzeichnungsmedium die Basisschicht und die Rückschicht umfasst, als ein Beispiel beschrieben, aber es kann auch möglich sein, dass das magnetische Aufzeichnungsmedium die Basisschicht und/oder die Rückschicht nicht enthält.
• <Zweite Ausführungsform>
• [Konfiguration der Anzeige]
• Eine Anzeige gemäß einer zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist ein flexibles elektronisches Papier vom Mikrokapselelektrophoresetyp und umfasst wie in 3A dargestellt ein erstes leitfähiges Element 110, ein zweites leitfähiges Element 120, das so angeordnet ist, dass es dem ersten leitfähigen Element 110 gegenüberliegt, und eine Mikrokapselschicht (mittlere Schicht) 130, die zwischen diesen Elementen angeordnet ist. Diese Anzeige ist ein Beispiel für eine flexible Vorrichtung. Hier ist ein Beispiel beschrieben, in dem die vorliegende Technologie auf das elektronische Papier vom Mikrokapselelektrophoresetyp angewendet wird. Das elektronische Papier ist jedoch nicht auf dieses Beispiel beschränkt. Die vorliegende Technologie kann auch auf ein elektronisches Papier vom Typ mit sich verdrehenden Kugeln, vom thermisch wiederbeschreibbaren Typ, vom Toneranzeigetyp, vom Typ mit ebeneninterner Elektrophorese, vom elektronischen Pulvertyp oder dergleichen angewendet werden. Darüber hinaus kann die vorliegende Technologie auch auf eine Flüssigkristallanzeige, eine organische Elektrolumineszenzanzeige (EL-Anzeige) und dergleichen angewendet werden.
• (Mikrokapselschicht)
• Die Mikrokapselschicht 130 umfasst mehrere Mikrokapseln 131. In jeder der Mikrokapseln 131 ist beispielsweise eine transparente Flüssigkeit (ein Dispersionsmedium) eingeschlossen, in der schwarze Partikel und weiße Partikel dispergiert sind.
• (Erstes und zweites leitfähiges Element)
• Das erste leitfähige Element 110 umfasst ein Laminat 111 und eine auf einer Oberfläche des Laminats 111 angeordnete Elektrode 112. Das zweite leitfähige Element 120 umfasst ein Laminat 121 und eine auf einer Oberfläche des Laminats 121 angeordnete Elektrode 122. Das erste und das zweite leitfähige Element 110 und 120 sind so angeordnet, dass sie voneinander durch einen vorbestimmten Abstand so getrennt sind, dass die Elektroden 112 und 122 einander zugewandt sind.
• Die Elektroden 112 und 122 sind jeweils gemäß einem Ansteuerverfahren der Anzeige in einer vorbestimmten Elektrodenmusterform ausgebildet. Beispiele des Ansteuerverfahrens umfassen ein einfaches Matrixansteuerverfahren, ein Aktivmatrixansteuerverfahren, ein Segmentansteuerverfahren und dergleichen.
• Wie in 3B dargestellt umfasst das Laminat 111 ein Substrat 111a, eine auf der anderen Oberfläche des Substrats 111a angeordnete Verstärkungsschicht 111b und eine auf der Verstärkungsschicht 111b angeordnete Krümmungsunterdrückungsschicht 111c. Das Substrat 111a, die Verstärkungsschicht 111b und die Krümmungsunterdrückungsschicht 111c können für sichtbares Licht durchsichtig oder undurchsichtig sein.
• Das Substrat 111a hat eine Filmform. Hier umfasst der Film auch ein Blech. Das Substrat 111a hat vorzugsweise eine Dicke von 10 µm oder weniger. Dies liegt daran, dass die Dicke des Substrats 111a von 10 µm oder weniger eine Wirkung, die durch Einbeziehung der Verstärkungsschicht 111b und die Krümmungsunterdrückungsschicht 111c erzielt wird, bemerkbar macht. Als ein Material des Substrats 111a kann beispielsweise ein Polymerharz verwendet werden. Als das Polymerharz kann beispielsweise Polyethylenterephthalat (PET), Polyethylennaphthalat (PEN), Polycarbonat (PC), ein Acrylharz (PMMA), Polyimid (PI), Triacetylcellulose (TAC), Polyester, Polyamid (PA), Aramid, Polyethylen (PE), Polyacrylat, Polyethersulfon, Polysulfon, Polypropylen (PP), Diacetylcellulose, Polyvinylchlorid, ein Epoxidharz, ein Harnstoffharz, ein Urethanharz, ein Melaminharz, ein cyclisches Olefinpolymer (COP) und/oder ein thermoplastisches Harz auf Norbornenbasis verwendet werden.
• Die Verstärkungsschicht 111b und die Krümmungsunterdrückungsschicht 111c sind der Verstärkungsschicht 14 bzw. der Wölbungsunterdrückungsschicht 15 in der ersten Ausführungsform ähnlich.
• Das erste leitfähige Element 110 auf einer Seite, auf der die Krümmungsunterdrückungsschicht 111c angeordnet ist, weist vorzugsweise einen Oberflächenwiderstand von 0,4 Ω/□ oder weniger auf. Hier ist der Oberflächenwiderstand ein Wert, der durch ein Vierpolverfahren gemessen wird.
• Das Laminat 111 hat vorzugsweise einen Feuchteausdehnungskoeffizienten von 0,5 ppm/%r.F. oder mehr und 4 ppm/%r.F. oder weniger. Wenn der Feuchteausdehnungskoeffizient innerhalb des obigen Bereichs liegt, kann die Abmessungsstabilität des ersten leitfähigen Elements 110 weiter verbessert werden.
• Das Laminat 121 weist eine ähnliche Konfiguration wie das Laminat 111 auf und daher entfällt eine Beschreibung. Als das Substrat, die Verstärkungsschicht und die Krümmungsunterdrückungsschicht, die in dem Laminat 121 enthalten sind, werden jedoch Schichten mit Durchlässigkeit für sichtbares Licht verwendet.
• [Effekt]
• Die Anzeige gemäß der zweiten Ausführungsform umfasst das erste und das zweite leitfähige Element 110 und 120, die so angeordnet sind, dass die Elektroden 112 und 122 einander zugewandt sind. Das erste leitfähige Element 110 umfasst die Verstärkungsschicht 111b und die Krümmungsunterdrückungsschicht 111c auf der anderen Oberfläche des Substrats 111a. Daher heben sich die inneren Spannungen der Verstärkungsschicht 11b und der Krümmungsunterdrückungsschicht 111c gegenseitig auf und ein Auftreten einer Krümmung in dem ersten leitfähigen Element kann unterdrückt werden. Als Ergebnis wird das erste leitfähige Element 110 so erhalten, dass es eine ausgezeichnete Abmessungsstabilität aufweist und die Krümmung unterdrücken kann. Mit anderen Worten kann, die Formstabilität des ersten leitfähigen Elements 110 verbessert werden. Das zweite leitfähige Element 120 weist ebenfalls eine ähnliche Konfiguration wie das erste leitfähige Element 110 auf und daher kann auch die Formstabilität des zweiten leitfähigen Elements 120 verbessert werden. Als Ergebnis kann sogar in einem Fall, in dem die Elektroden 112 und 122 hochintegriert sind, eine Verschlechterung der Überlappungsgenauigkeit zwischen Strukturen der Elektroden 112 und 122 unterdrückt werden. Daher ist es möglich, eine Anzeige hoher Qualität zu schaffen.
• [Abwandlungsbeispiel]
• In der oben beschriebenen zweiten Ausführungsform ist das Beispiel beschrieben, in dem die vorliegende Technologie auf die Anzeige und das erste und zweite leitfähige Element 110 und 120, die in der Anzeige enthalten sind, angewendet wird, aber die vorliegende Technologie ist nicht darauf beschränkt. Die vorliegende Technologie ist beispielsweise auch auf eine elektromagnetische Abschirmung, ein Berührungsfeld und verschiedene am Körper tragbare Vorrichtungen anwendbar. In einem Fall, in dem die vorliegende Technologie auf ein Berührungsfeld oder eine am Körper tragbare Vorrichtung angewendet wird, kann beispielsweise eine Verschlechterung der Überlappungsgenauigkeit zwischen hochintegrierten Elektrodenstrukturen oder zwischen Verdrahtungsstrukturen unterdrückt werden.
• In der oben beschriebenen zweiten Ausführungsform ist das Beispiel, in dem die vorliegende Technologie auf die flexible Vorrichtung (flexible Anzeige) angewendet wird, beschrieben, aber die vorliegende Technologie kann auch auf eine nichtflexible Vorrichtung angewendet werden.
• Anstatt die Verstärkungsschicht 111b und die Krümmungsunterdrückungsschicht 111c auf der anderen Oberfläche des Substrats 111a (einer Oberfläche auf der der Seite der Elektrode 112 gegenüberliegenden Seite) aufzuweisen, kann das Laminat 111 die Verstärkungsschicht 111b und die Krümmungsunterdrückungsschicht 111c auf einer Oberfläche des Substrats 111a (einer Oberfläche auf der Seite der Elektrode 112) aufweisen. In diesem Fall ist eine Isolierschicht zwischen der Krümmungsunterdrückungsschicht 111c und der Elektrode 112 angeordnet. Das Laminat 121 kann eine ähnliche Konfiguration wie das Laminat 111 aufweisen.
• Das Laminat 111 kann die Verstärkungsschichten 14 auf beiden Oberflächen des Substrats 11 aufweisen. In diesem Fall ist die Krümmungsunterdrückungsschicht 111c auf der Seite derjenigen der auf beiden Oberflächen angeordneten Verstärkungsschichten 111b angeordnet, die eine größere innere Spannung aufweist. Das Laminat 121 kann eine ähnliche Konfiguration wie das Laminat 111 aufweisen.
• [Beispiele]
• Nachstehend ist die vorliegende Technologie speziell unter Bezugnahme auf Beispiele beschrieben, aber die vorliegende Technologie ist nicht lediglich auf diese Beispiele beschränkt.
• Es ist zu beachten, dass in den folgenden Beispielen und Vergleichsbeispielen eine durchschnittliche Dicke jeweils einer Verstärkungsschicht und einer Wölbungsunterdrückungsschicht auf ähnliche Weise wie bei dem in der ersten Ausführungsform beschriebenen Verfahren bestimmt wurde.
• Die vorliegenden Beispiele werden in der folgenden Reihenfolge beschrieben.
• i Beispiele und Vergleichsbeispiele für ein Magnetband
• ii Beispiele für eine elektromagnetische Abschirmung
• <i Beispiele und Vergleichsbeispiele für ein Magnetband>
• [Beispiele 1 bis 14 und 34 bis 39]
• (Schritt des Herstellens eines aufzeichnungsschichtbildenden Beschichtungsmaterials)
• Zuerst wurde ein aufzeichnungsschichtbildendes Beschichtungsmaterial wie folgt hergestellt. Zuerst wurden die folgenden Rohmaterialien mit einem Extruder geknetet, um ein geknetetes Produkt zu erhalten.
  CoNi-Ferrit-Kristall-Magnetpulver: 100 Massenteile (Form: im Wesentlichen kubische Form, mittlerer Plattendurchmesser: 11 nm, durchschnittliches Plattenverhältnis: 0,95)
  Harz auf Vinylchloridbasis (Cyclohexanonlösung 30 Masse-%): 55,6 Massenteile (Polymerisationsgrad: 300, Mn = 10000, OSO₃K = 0,07 mmol/g und sekundäres OH = 0,3 mmol/g waren als polare Gruppen enthalten)
  Aluminiumoxidpulver: 5 Massenteile (α-Al₂O₃, mittlerer Partikeldurchmesser: 0,2 µm)
  Ruß: 2 Massenteile
  (Hergestellt von Tokai Carbon Co., Ltd., Handelsname: Seast TA)
• Als Nächstes wurden das geknetete Produkt und die folgenden Rohmaterialien in einen mit einer Dispergiervorrichtung ausgestatteten Rührkessel gegeben und vorgemischt. Danach wurde das Gemisch weiter einem Sandmühlenmischen unterzogen und wurde einer Filterbehandlung unterzogen, um ein aufzeichnungsschichtbildendes Beschichtungsmaterial herzustellen.
  Harz auf Vinylchloridbasis: 27,8 Massenteile (Harzlösung: Harzgehalt 30 Masse-%, Cyclohexanon 70 Masse-%)
  Polyisocyanat: 4 Massenteile
  (Handelsname: Coronate L, hergestellt von Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.)
  Myristinsäure: 2 Massenteile
  N-Butylstearat: 2 Massenteile
  Methylethylketon: 121,3 Massenteile
  Toluol: 121,3 Massenteile
  Cyclohexanon: 60,7 Massenteile
• (Schritt des Herstellens eines basisschichtbildenden Beschichtungsmaterials)
• Als Nächstes wurde ein basisschichtbildendes Beschichtungsmaterial wie folgt hergestellt. Zuerst wurden die folgenden Rohmaterialien mit einem Extruder geknetet, um ein geknetetes Produkt zu erhalten.
  Nadelförmiges Eisenoxidpulver: 100 Massenteile (α-Fe₂O₃, mittlere Länge der langen Achse 0,15 µm)
  Vinylchlorid-basiertes Harz: 55,6 Massenteile (Harzlösung: Harzgehalt 30 Masse-%, Cyclohexanon 70 Masse-%)
  Ruß: 10 Massenteile
  (Durchschnittlicher Partikeldurchmesser 20 nm)
• Als Nächstes wurden das geknetete Produkt und die folgenden Rohmaterialien in einen mit einer Dispergiervorrichtung ausgestatteten Rührkessel gegeben und vorgemischt. Danach wurde das Gemisch weiter einem Sandmühlenmischen unterzogen und wurde einer Filterbehandlung unterzogen, um ein basisschichtbildendes Beschichtungsmaterial herzustellen.
  Harz UR8200 auf Polyurethanbasis (hergestellt von Toyobo Co., Ltd.): 18,5 Massenteile
  Polyisocyanat: 4 Massenteile
  (Handelsname: Coronate L, hergestellt von Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.)
  Myristinsäure: 2 Massenteile
  N-Butylstearat: 2 Massenteile
  Methylethylketon: 108,2 Massenteile
  Toluol: 108,2 Massenteile
  Cyclohexanon: 18,5 Massenteile
• (Schritt des Herstellens eines rückschichtbildenden Beschichtungsmaterials)
• Als Nächstes wurde ein rückschichtbildendes Beschichtungsmaterial wie folgt hergestellt. Die folgenden Rohmaterialien wurden in einem mit einer Dispergiervorrichtung ausgerüsteten Rührbehälter gemischt und einer Filterbehandlung unterzogen, um ein rückschichtbildendes Beschichtungsmaterial herzustellen.
• Ruß (hergestellt von Asahi Corporation, Handelsname: #80): 100 Massenteile
  Polyester-Polyurethan: 100 Massenteile
  (Handelsname: N-2304, hergestellt von Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.)
  Methylethylketon: 500 Massenteile
  Toluol: 400 Massenteile
  Cyclohexanon: 100 Massenteile
• (Schritt des Ausbildens der Verstärkungsschicht) Als Nächstes wurde eine einzelne Cu-Schicht (Verstärkungsschicht) auf einer Oberfläche eines bandförmigen PEN-Films (Substrat) mit einer Dicke von 6,2 µm unter Verwendung einer Unterdruck-Dampfabscheidungsvorrichtung vom Rolle-zu-Rolle-Typ ausgebildet. Zu dieser Zeit wurde wie in den Tabellen 1 und 3 dargestellt eine durchschnittliche Dicke der Cu-Schicht durch Anpassen der Filmbildungsbedingungen wie etwa der Filmwickelgeschwindigkeit eingestellt.
• (Schritt des Ausbildens der Wölbungsunterdrückungsschicht)
• Als Nächstes wurde eine DLC-Schicht (Wölbungsunterdrückungsschicht) auf der Cu-Schicht unter Verwendung einer CVD-Vorrichtung vom Rolle-zu-Rolle-Typ ausgebildet. Zu dieser Zeit wurde die durchschnittliche Dicke der DLC-Schicht wie in den Tabellen 1 und 3 dargestellt durch Anpassen der Filmbildungsbedingungen wie etwa der Filmwickelgeschwindigkeit, Durchflussrate des eingebrachten Gases und Entladungsspannung eingestellt.
• (Schritt des Ausbildens der Basisschicht)
• Als Nächstes wurde durch Aufbringen eines basisschichtbildenden Beschichtungsmaterials auf die andere Oberfläche des PEN-Films und Trocknen des basisschichtbildenden Beschichtungsmaterials eine Basisschicht mit einer Dicke von 1 µm auf der anderen Oberfläche des PEN-Films ausgebildet.
• (Schritt des Ausbildens der Aufzeichnungsschicht)
• Als Nächstes wurde durch Aufbringen eines aufzeichnungsschichtbildenden Beschichtungsmaterials auf die Basisschicht und Trocknen des aufzeichnungsschichtbildenden Beschichtungsmaterials eine Aufzeichnungsschicht mit einer Dicke von 70 nm auf der Basisschicht ausgebildet.
• (Schritt der Wärmebehandlung)
• Als nächstes wurde das erhaltene breite Magnetband einer Wärmebehandlung unterzogen. Die Temperatur der Wärmebehandlung wurde wie in den Tabellen 1 und 3 dargestellt eingestellt.
• (Schritt des Ausbildens der Rückschicht)
• Als Nächstes wurde die Benetzbarkeit einer Oberfläche der DLC-Schicht durch Oberflächenmodifizierung verbessert. Danach wurde ein rückschichtbildendes Beschichtungsmaterial auf die DLC-Schicht aufgebracht und getrocknet, um eine Rückschicht mit einer Dicke von 0,6 µm auf der DLC-Schicht zu bilden. Als Ergebnis wurde ein breites Magnetband erhalten.
• (Schritt der Kalandrierbehandlung und des Schneidens)
• Als Nächstes wurde ein Magnetband mit einer Metallwalze kalandriert, um eine Oberfläche der Aufzeichnungsschicht zu glätten. Als Nächstes wurde das breite Magnetband in eine Breite von 1/2 Zoll (12,65 mm) geschnitten, um ein gewünschtes Magnetband zu erhalten.
• [Beispiele 15 bis 28, 40 und 41]
• Ein Magnetband wurde auf ähnliche Weise wie in Beispiel 1 erhalten, mit der Ausnahme, dass die Verstärkungsschicht eine Zweischichtstruktur aufwies und dass die Filmbildungsbedingungen der Cu-Schicht und der DLC-Schicht so angepasst wurden, dass die durchschnittliche Dicke der Cu-Schicht und der DLC-Schicht die in den Tabellen 1 und 3 dargestellten Werte annahm.
• [Beispiel 29]
• Ein Magnetband wurde auf ähnliche Weise wie in Beispiel 11 erhalten, mit der Ausnahme, dass eine einzelne Al-Schicht anstelle der einzelnen Cu-Schicht als Verstärkungsschicht ausgebildet wurde.
• [Beispiel 30]
• Ein Magnetband wurde auf ähnliche Weise wie in Beispiel 25 erhalten, mit der Ausnahme, dass zwei Al-Schichten anstelle der einzelnen Cu-Schicht als Verstärkungsschicht ausgebildet wurden.
• [Beispiel 31]
• Ein Magnetband wurde auf ähnliche Weise wie in Beispiel 11 erhalten, mit der Ausnahme, dass eine SiO₂-Schicht anstelle der Cu-Schicht als Verstärkungsschicht ausgebildet wurde.
• [Beispiel 32]
• Ein Magnetband wurde auf ähnliche Weise wie in Beispiel 11 erhalten, mit der Ausnahme, dass durch Einbringen von Sauerstoff während der Dampfabscheidung eine CuO-Schicht ausgebildet wurde.
• [Beispiel 33]
• Ein Magnetband wurde auf ähnliche Weise wie in Beispiel 29 erhalten, mit der Ausnahme, dass durch Einbringen von Sauerstoff während der Dampfabscheidung eine Al₂O₃-Schicht ausgebildet wurde.
• [Beispiel 42]
• Ein Magnetband wurde auf ähnliche Weise wie in Beispiel 1 erhalten, mit der Ausnahme, dass der Schritt der Wärmebehandlung für das Magnetband weggelassen wurde.
• [Vergleichsbeispiel 1]
• Ein Magnetband wurde auf ähnliche Weise wie in Beispiel 3 erhalten, mit der Ausnahme, dass die Ausbildung der DLC-Schicht weggelassen wurde.
• [Auswertung]
• Die Magnetbänder in den Beispielen 1 bis 42 und dem Vergleichsbeispiel 1, die wie oben beschrieben erhalten wurden, wurden wie folgt bewertet.
• (Young-Modul)
• Zuerst wurde der Young-Modul eines Magnetbandes unter Verwendung einer Zugtestvorrichtung (TCM-200CR, hergestellt von MNB Co., Ltd.) in einer Umgebung mit einer Temperatur von 23 °C und einer relativen Feuchte von 60 % gemessen.
• (Haftfestigkeit eines aufgedampftem Films)
• Die Haftfestigkeit eines aufgedampften Films (Verstärkungsschicht) wurde gemäß einem Verfahren des Spezifikationsdokuments des LTO-Standards Ultrium Generation 6 U-616 Abschnitt 9.8.1 gemessen. Als Nächstes wurde basierend auf dem Messergebnis eine Beurteilung gemäß den folgenden Kriterien durchgeführt.
• ◯: Es trat keine Ablösung auf
• ×: Es trat eine Ablösung auf
• (Feuchteausdehnungskoeffizient)
• In einem Fall, in dem eine Thermostatkammer von Umgebungsbedingung 1 (Temperatur 16 °C, relative Feuchte 10 %) zu Umgebungsbedingung 2 (Temperatur 29 °C, relative Feuchte 80 %) geändert wurde, wurde eine Abmessungsänderung unter Verwendung eines Laserverschiebungsmessers LS-7000, der von Keyence Corporation hergestellt wird, gemessen. Als Nächstes wurde ein Feuchteausdehnungskoeffizient über die folgende Formel bestimmt.
  TDS (Feuchte) [ppm] = ((Bandbreite bei einer Temperatur von 29 °C und einer relativen Feuchte von 80 %) - (Bandbreite bei einer Temperatur von 16 °C und einer relativen Feuchte von 10 %)) / (Bandbreite bei einer Temperatur von 16 °C und einer relativen Feuchte von 10 %) $$\begin{array}{l}\text{Feuchteausdehnungskoeffizient }\left[\text{ppm}/\text{\%r}\text{.F}\text{.}\right]=\text{TDS}\\ \left(\text{Feuchte}\right)/\left(80-100\right)\end{array}$$

  
• (Wölbung)
• Unter Verwendung einer Wölbungsmessvorrichtung wurde ein Band von 1 m nach dem Spalten 24 Stunden lang in einer Umgebung mit einer Temperatur von 23 °C und einer relativen Feuchte von 60 % stehen gelassen und dann wurde der Wölbungsbetrag gemessen. Bei nach oben weisender Aufzeichnungsschicht wurde d der Wölbungsbetrag gemessen, indem die Wölbung, bei der die Aufzeichnungsschichtseite vorsteht, als Minus (-) betrachtet wurde und die Wölbung, bei der die Rückschichtseite vorsteht, als Plus (+) betrachtet wurde, und eine Beurteilung gemäß der folgenden Kriterien wurde durchgeführt.
• ⊙: Der Wölbungsbetrag liegt in einem Bereich von 0,0 bis -0,5 mm
• ◯: Der Wölbungsbetrag liegt in einem Bereich von - 0,5 bis -1,0 mm
• △: Der Wölbungsbetrag liegt in einem Bereich von - 1,0 bis -1,5 mm
• ×: Der Wölbungsbetrag liegt außerhalb eines Bereichs von 0,0 bis -1,5 mm
Es ist zu beachten, dass die Länge einer Messprobe 1 ± 0,1 m betrug.
• (Anstieg der Bandlaufreibung)
• Das Laufen in einem festen Abschnitt (10 m Länge) wurde 100000-mal unter Verwendung eines 1/2-Zoll-Festkopfantriebs (LTO5) durchgeführt und die Beurteilung wurde gemäß den folgenden Kriterien durchgeführt.
• ◯: Das Laufen setzt sich mit einer Reibung fort, die der Reibung eines Referenzbandes (MSRT) entspricht
• △: Das Laufen setzt sich fort, aber eine Reibung ist höher als die Reibung eines Referenzbandes (MSRT)
• ×: Das Laufen stoppt
• (SNR)
• Zuerst wurde das SNR bestimmt, indem ein Magnetband in einem im Handel erhältlichen Bandlaufsystem, das von Mountain Engineering Co., Ltd. hergestellt wurde, laufen gelassen wurde und eine Aufzeichnung und Wiedergabe unter Verwendung eines Magnetkopfes eines 1/2-Zoll-Festkopfantriebs durchgeführt wurde. Als Nächstes wurde das bestimmte SNR gemäß den folgenden Kriterien beurteilt.
• ◯: Das SNR liegt innerhalb von -1,5 dB in Bezug auf ein Referenzband (MSRT) von LTO5-Medien
• △: Das SNR beträgt mehr als -1,5 dB und weniger als -2,5 dB in Bezug auf ein Referenzband (MSRT) von LTO5-Medien
• ×: Das SNR beträgt mehr als -2,5 dB in Bezug auf ein Referenzband (MSRT) von LTO5-Medien
• (Ergebnis)
• Die Tabellen 1 und 2 zeigen die Konfigurationen und Auswertungsergebnisse von Magnetbändern in den Beispielen 1 bis 28. [Tabelle 1]

  	Verstärkungs schicht					Wölbungsunterdrückungsschicht		Durchschnittsdickenverhältnis D2/D1	Temperatur der Walzenwärmebehandlung (°C)
  	Material	Schichtstruktur	Durchschn. Gesamtdicke D1 (nm)	Durchschn. Dicke der ersten Verstärkungs -schicht (nm)	Durchschn. Dicke der zweiten Verstärkungs -schicht (nm)	Material	Durchschn. Dicke D2 (nm)
  Beispiel 1	Cu	1	150	150	0	DLC	30	0,2	120
  Beispiel 2	Cu	1	200	200	0	DLC	50	0,25	120
  Beispiel 3	Cu	1	300	300	0	DLC	20	0,07	120
  Beispiel 4	Cu	1	300	300	0	DLC	50	0,17	120
  Beispiel 5	Cu	1	300	300	0	DLC	100	0,33	120
  Beispiel 6	Cu	1	300	300	0	DLC	200	0,67	100
  Beispiel 7	Cu	1	300	300	0	DLC	200	0,67	120
  Beispiel 8	Cu	1	400	400	0	DLC	20	0,05	120
  Beispiel 9	Cu	1	400	400	0	DLC	50	0,13	120
  Beispiel 10	Cu	1	400	400	0	DLC	100	0,25	120
  Beispiel 11	Cu	1	400	400	0	DLC	200	0,50	100
  Beispiel 12	Cu	1	400	400	0	DLC	200	0,50	120
  Beispiel 13	Cu	1	500	500	0	DLC	100	0,20	100
  Beispiel 14	Cu	1	500	500	0	DLC	200	0,40	120
  Beispiel 15	Cu	2	300	150	150	DLC	20	0,07	120
  Beispiel 16	Cu	2	300	150	150	DLC	50	0,17	120
  Beispiel 17	Cu	2	300	150	150	DLC	100	0,33	120
  Beispiel 18	Cu	2	300	150	150	DLC	200	0,67	100
  Beispiel 19	Cu	2	300	150	150	DLC	200	0,67	120
  Beispiel 20	Cu	2	300	200	100	DLC	100	0,33	120
  Beispiel 21	Cu	2	300	200	100	DLC	200	0,67	120
  Beispiel 22	Cu	2	400	200	200	DLC	20	0,05	120
  Beispiel 23	Cu	2	400	200	200	DLC	70	0,18	120
  Beispiel 24	Cu	2	400	200	200	DLC	100	0,25	120
  Beispiel 25	Cu	2	400	200	200	DLC	200	0,50	100
  Beispiel 26	Cu	2	400	200	200	DLC	200	0,50	120
  Beispiel 27	Cu	2	400	300	100	DLC	100	0,25	120
  Beispiel 28	Cu	2	400	300	100	DLC	200	0,50	120

  [Tabelle 2]

  	Bewertung
  	Young-Modul (Gpa)	Haftfestigkeit des aufgedampften Films	Feuchteausdehnungskoeffizient (ppm/%r.F.)	Wölbung	Anstieg in Bandlaufreibung	SNR (190kFCI)
  Beispiel 1	9	◯	3, 8	◯	◯	◯
  Beispiel 2	11,5	◯	2,9	◯	◯	◯
  Beispiel 3	8,1	◯	2,2	◯	◯	◯
  Beispiel 4	8,5	◯	2,1	◯	◯	◯
  Beispiel 5	9	◯	2	◯	◯	◯
  Beispiel 6	11,5	◯	2	◯	◯	◯
  Beispiel 7	11,9	◯	1,8	⊙	◯	◯
  Beispiel 8	9	◯	1,6	◯	◯	◯
  Beispiel 9	8,5	◯	1,5	◯	◯	◯
  Beispiel 10	9,1	◯	1,5	⊙	◯	◯
  Beispiel 11	11	◯	1,2	⊙	◯	◯
  Beispiel 12	10,5	◯	1,3	◯	◯	◯
  Beispiel 13	10	◯	0,8	◯	◯	◯
  Beispiel 14	11,5	◯	0,6	◯	◯	◯
  Beispiel 15	8	◯	2,3	◯	◯	◯
  Beispiel 16	8,2	◯	2,2	◯	◯	◯
  Beispiel 17	11	◯	2,1	⊙	◯	◯
  Beispiel 18	11,5	◯	2	⊙	◯	◯
  Beispiel 19	11,9	◯	2	⊙	◯	◯
  Beispiel 20	10,5	◯	1, 8	◯	◯	◯
  Beispiel 21	10,9	◯	1,9	⊙	◯	◯
  Beispiel 22	8, 8	◯	1,4	◯	◯	◯
  Beispiel 23	8,5	◯	1,4	⊙	◯	◯
  Beispiel 24	9,3	◯	1,3	⊙	◯	◯
  Beispiel 25	11,2	◯	1,4	⊙	◯	◯
  Beispiel 26	11	◯	1,4	⊙	◯	◯
  Beispiel 27	10	◯	1,5	◯	◯	◯
  Beispiel 28	10,2	◯	1,3	◯	◯	◯

• Tabellen 3 und 4 zeigen die Konfigurationen und Auswertungsergebnisse von Magnetbändern in den Beispielen 29 bis 42 und dem Vergleichsbeispiel 1. [Tabelle 3]

  	Verstärkungs schicht					Wölbungsunterdrückungsschicht		Durchschnittsdickenverhältnis D2/D1	Temperatur der Walzenwärmebehandlung (°C)
  	Material	Schichtstruktur	Durchschn. Gesamtdicke D1 (nm)	Durchschn. Dicke der ersten Verstärkungsschicht (nm)	Durchschn. Dicke der zweiten Verstärkungsschicht (nm)	Material	Durchschn. Dicke D2 (nm)
  Beispiel 29	Al	1	400	400	0	DLC	200	0,50	120
  Beispiel 30	Al	2	400	200	200	DLC	200	0,50	120
  Beispiel 31	SiO2	1	400	400	0	DLC	200	0,50	120
  Beispiel 32	CuO	1	400	400	0	DLC	200	0,50	120
  Beispiel 33	Al203	1	400	400	0	DLC	200	0,50	120
  Beispiel 34	Cu	1	130	130	0	DLC	15	0,12	120
  Beispiel 35	Cu	1	130	130	0	DLC	50	0,38	120
  Beispiel 36	Cu	1	520	520	0	DLC	200	0,38	120
  Beispiel 37	Cu	1	600	600	0	DLC	100	0,17	120
  Beispiel 38	Cu	1	300	300	0	DLC	10	0,03	120
  Beispiel 39	Cu	1	300	300	0	DLC	220	0,73	120
  Beispiel 40	Cu	1	300	150	150	DLC	200	0,67	120
  Beispiel 41	Cu	1	300	150	150	DLC	200	0,67	120
  Beispiel 42	Cu	1	150	150	0	DLC	30	0,2	Keine
  Vergleichsbeispiel 1	Cu	1	300	300	0	DLC	0	0,00	120

  [Tabelle 4]

  	Bewertung
  	Young-Modul (Gpa)	Haftfestigkeit des aufgedampften Films	Feuchteausdehnungskoeffizient (ppm/%r.F.)	Wölbung	Anstieg in Bandlaufreibung	SNR (190kFCI)
  Beispiel 29	10	◯	2	◯	◯	◯
  Beispiel 30	11	◯	1,8	◯	◯	◯
  Beispiel 31	10,2	◯	2,8	◯	◯	◯
  Beispiel 32	10,3	◯	3,5	◯	◯	◯
  Beispiel 33	12	◯	1,3	◯	◯	◯
  Beispiel 34	7,5	◯	4,4	◯	◯	◯
  Beispiel 35	7,5	◯	4,3	◯	◯	◯
  Beispiel 36	12	◯	0,4	△	◯	△
  Beispiel 37	13	◯	0,3	△	◯	△
  Beispiel 38	8,1	◯	2,2	△	◯	△
  Beispiel 39	9,2	◯	2,3	△	◯	△
  Beispiel 40	9	◯	2,2	◯	△	◯
  Beispiel 41	9	◯	2,1	◯	△	◯
  Beispiel 42	9	◯	3,8	◯	◯	◯
  Vergleichsbeispiel 1	6,5	◯	2,2	×	◯	×

• Die Tabellen 1 bis 4 geben Folgendes an.
  Durch Anordnen der DLC-Schicht auf der Metallschicht oder der Metalloxidschicht kann eine Wölbung des Magnetbandes unterdrückt werden.
  Durch Festlegen der durchschnittlichen Dicke der Metallschicht oder der Metalloxidschicht innerhalb eines Bereichs von 150 nm oder mehr und 500 nm oder weniger kann der Feuchteausdehnungskoeffizient in einem Bereich von 0,5 ppm/%r.F. oder mehr und 4 ppm/%r.F. oder weniger liegen. Daher kann die Abmessungsstabilität des Magnetbandes weiter verbessert werden.
  Durch Festlegen der durchschnittlichen Dicke der Metallschicht oder der Metalloxidschicht innerhalb eines Bereichs von 150 nm oder mehr und 500 nm oder weniger und Festlegen eines Verhältnisses der durchschnittlichen Dicke der DLC-Schicht zu der durchschnittlichen Dicke der Metallschicht oder der Metalloxidschicht auf 0,05 oder mehr und 0,7 oder weniger kann die Wölbung des Magnetbandes weiter unterdrückt werden.
  Ein Wölben des Magnetbandes kann nur durch Anordnen der Wölbungsunterdrückungsschicht ohne Durchführen des Schrittes einer Wärmebehandlung in ausreichendem Maß unterdrückt werden.
• <ii Beispiele für eine elektromagnetische Abschirmung>
• [Beispiel 43]
• Eine Cu-Schicht und eine DLC-Schicht wurden auf eine bandförmige PEN-Folie (ein Substrat) mit einer Dicke von 6,2 µm auf ähnliche Weise wie in Beispiel 1 laminiert, mit der Ausnahme, dass die Filmbildungsbedingungen der Cu-Schicht und der DLC-Schicht so angepasst wurden, dass die durchschnittlichen Dicken der Cu-Schicht und der DLC-Schicht die in Tabelle 5 dargestellten Werte annahmen. Als Ergebnis wurde eine gewünschte elektromagnetische Abschirmung erhalten.
• [Beispiel 44]
• Eine CuO-Schicht und eine DLC-Schicht wurden auf eine bandförmige PEN-Folie (ein Substrat) mit einer Dicke von 6,2 µm auf ähnliche Weise wie in Beispiel 32 laminiert, mit der Ausnahme, dass die Filmbildungsbedingungen der CuO-Schicht und der DLC-Schicht so angepasst wurden, dass die durchschnittlichen Dicken der CuO-Schicht und der DLC-Schicht die in Tabelle 5 dargestellten Werte annahmen. Als Ergebnis wurde eine gewünschte elektromagnetische Abschirmung erhalten.
• [Auswertung]
• Die magnetischen Abschirmungen in den Beispielen 43 und 44, die wie oben beschrieben erhalten wurden, wurden bezüglich eines Young-Moduls, eines Feuchteausdehnungskoeffizienten, einer Wölbung und einer Durchlässigkeit für elektromagnetische Wellen ausgewertet. Es ist zu beachten, dass die Verfahren zum Bewerten eines Young-Moduls, eines Feuchteausdehnungskoeffizienten und einer Wölbung ähnlich zu denen in den oben beschriebenen Beispielen 1 bis 42 waren.
• (Durchlässigkeit für elektromagnetische Wellen)
• Die Durchlässigkeit für elektromagnetische Wellen jeder der magnetischen Abschirmungen wurde mit einem ADVANTEST-Verfahren gemessen.
• Tabellen 5 und 6 zeigen die Konfigurationen und Auswertungsergebnisse von Laminaten in den Beispielen 43 und 44. [Tabelle 5]

  	Verstärkungs schicht					Wölbungsunterdrückungsschicht		Durchschnittsdickenverhältnis D2/D1	Temperatur der Walzenwärmebehandlung (°C)
  	Materia 1	Schichtstruktur	Durchschn. Gesamtdicke D1 (nm)	Durchschn. Dicke der ersten Verstärkungsschicht (nm)	Durchschn. Dicke der zweiten Verstärkungsschicht (nm)	Material	Durchschn. Dicke D2 (nm)
  Beispiel 43	Cu	1	200	200	0	DLC	30	0,15	120
  Beispiel 44	CuO	1	200	200	0	DLC	50	0,25	120

  [Tabelle 6]

  	Bewertung
  	Young-Modul (Gpa)	Feuchteausdehnungskoeffizient (ppm/%r.F.)	Wölbung	Durchlässigkeit für elektromagnetische Wellen nach ADVANTEST-Verfahren(dB)500MHz
  Beispiel 43	9	3,8	◯	-40
  Beispiel 44	11,5	2, 9	◯	-30

• Die Tabellen 5 und 6 geben Folgendes an. Durch Anordnen der DLC-Schicht auf der Metallschicht oder der Metalloxidschicht kann eine Krümmung der elektromagnetischen Abschirmung unterdrückt werden. Als Ergebnis wird eine elektromagnetische Abschirmung mit einer ausgezeichneten Planarität erhalten.
• Vorstehend sind die Ausführungsformen und Beispiele der vorliegenden Technologie spezifisch beschrieben. Die vorliegende Technologie ist jedoch nicht auf die oben beschriebenen Ausführungsformen und Beispiele beschränkt und verschiedene Abwandlungen, die auf der technischen Idee der vorliegenden Technologie basieren, sind möglich.
• Zum Beispiel sind die Konfigurationen, die Verfahren, die Schritte, die Formen, die Materialien, die Zahlenwerte und dergleichen, die in den oben beschriebenen Ausführungsformen und Beispielen beispielhaft angegeben sind, nur Beispiele und eine Konfiguration, ein Verfahren, ein Schritt, eine Form ein Material, ein Zahlenwert usw., der/die/das sich davon unterscheidet, kann falls erforderlich verwendet werden.
• Ferner können die Konfigurationen, die Verfahren, die Schritte, die Formen, die Materialien, die Zahlenwerte und dergleichen in den oben beschriebenen Ausführungsformen und Beispielen miteinander kombiniert werden, solange nicht von dem Grundgedanken der vorliegenden Technologie abgewichen wird.
• Außerdem kann die vorliegende Technologie die folgenden Konfigurationen annehmen.
1. (1) Magnetisches Aufzeichnungsmedium, das umfasst:
   • ein längliches Substrat; und
   • eine Verstärkungsschicht und eine Wölbungsunterdrückungsschicht, die auf einer Oberfläche des Substrats angeordnet sind.
2. (2) Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach (1), wobei die Wölbungsunterdrückungsschicht ein Kohlenstoff-Dünnfilm ist.
3. (3) Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach (2), wobei der Kohlenstoff-Dünnfilm diamantartigen Kohlenstoff enthält.
4. (4) Magnetisches Aufzeichnungsmedium einem der Punkte (1) bis (3), wobei die Verstärkungsschicht ein Metall und/oder eine Metallverbindung enthält.
5. (5) Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach (4), wobei die Metallverbindung ein Metalloxid ist.
6. (6) Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach (4), wobei
   • das Metall Aluminium und/oder Kupfer enthält und
   • die Metallverbindung Aluminiumoxid, Kupferoxid und/oder Siliciumoxid enthält.
7. (7) Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach einem der Punkte (1) bis (6), wobei
   • eine Zugspannung als innere Spannung auf die Verstärkungsschicht wirkt, und
   • eine Druckspannung als innere Spannung auf die Wölbungsunterdrückungsschicht wirkt.
8. (8) Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach einem der Punkte (1) bis (7), wobei die Verstärkungsschicht eine laminierte Struktur aus zwei oder mehr Schichten aufweist.
9. (9) Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach einem der Punkte (1) bis (8), wobei die Verstärkungsschicht umfasst:
   • eine erste Metalloxidschicht;
   • eine zweite Metalloxidschicht; und
   • eine Metallschicht, die zwischen der ersten Metalloxidschicht und der zweiten Metalloxidschicht angeordnet ist.
10. (10) Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach einem der Punkte (1) bis (7), wobei
    • die Verstärkungsschicht ein Metall und Sauerstoff enthält und
    • eine Sauerstoffkonzentration auf einer Oberfläche auf der dem Substrat gegenüberliegenden Seite von beiden Oberflächen der Verstärkungsschicht höher als eine Sauerstoffkonzentration innerhalb der Verstärkungsschicht ist.
11. (11) Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach (10), wobei die Sauerstoffkonzentrationen auf beiden Oberflächen der Verstärkungsschicht höher sind als die Sauerstoffkonzentration innerhalb der Verstärkungsschicht.
12. (12) Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach einem der Punkte (1) bis (11), wobei die Wölbungsunterdrückungsschicht eine laminierte Struktur aus zwei oder mehr Schichten aufweist.
13. (13) Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach einem der Punkte (1) bis (12), wobei
    • die Verstärkungsschicht auf dem Substrat angeordnet ist und
    • die Wölbungsunterdrückungsschicht auf der Verstärkungsschicht angeordnet ist.
14. (14) Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach einem der Punkte (1) bis (13), wobei
    • die Verstärkungsschicht eine durchschnittliche Dicke von 150 nm oder mehr und 500 nm oder weniger hat und
    • ein Verhältnis einer durchschnittlichen Dicke der Wölbungsunterdrückungsschicht zu einer durchschnittlichen Dicke der Verstärkungsschicht 0,05 oder mehr und 0,7 oder weniger beträgt.
15. (15) Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach einem der Punkte (1) bis (14), das ein Young-Modul in Längsrichtung von 7 GPa oder mehr und 14 GPa oder weniger aufweist.
16. (16) Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach einem der Punkte (1) bis (15), das ferner umfasst:
    • eine nichtmagnetische Schicht, die auf der anderen Oberfläche des Substrats angeordnet ist;
    • eine magnetische Schicht, die auf der nichtmagnetischen Schicht angeordnet ist; und
    • eine Rückschicht, die auf der Wölbungsunterdrückungsschicht angeordnet ist.
17. (17) Magnetisches Aufzeichnungsmedium, das umfasst:
    • ein längliches Substrat; und
    • eine Verstärkungsschicht und einen Kohlenstoff-Dünnfilm, die auf einer Oberfläche des Substrats angeordnet sind.
18. (18) Laminat, das umfasst:
    • ein Substrat; und
    • eine Verstärkungsschicht und eine Wölbungsunterdrückungsschicht, die auf einer Oberfläche des Substrats angeordnet sind.
19. (19) Laminat nach (18), wobei das Substrat eine Dicke von 10 µm oder weniger aufweist.
20. (20) Laminat nach (18) oder (19), das einen Oberflächenwiderstand von 0,4 Ω/□ oder weniger auf einer Seite, auf der die Wölbungsunterdrückungsschicht angeordnet ist, aufweist.
21. (21) Laminat nach einem der Punkte (18) bis (20), das einen Feuchteausdehnungskoeffizienten von 0,5 ppm/%r.F. oder mehr und 4 ppm/%r.F. oder weniger aufweist.
22. (22) Laminat, das umfasst:
    • ein Substrat; und
    • eine Verstärkungsschicht und einen Kohlenstoff-Dünnfilm, die auf einer Oberfläche des Substrats angeordnet sind.
23. (23) Flexible Vorrichtung, die das Laminat nach einem der Punkte (18) bis (22) enthält.
• Bezugszeichenliste

10, 111, 121

Laminat

11, 111a

Substrat

12

Basisschicht

13

Aufzeichnungsschicht

14, 121b

Verstärkungsschicht

15, 121c

Wölbungsunterdrückungsschicht

16

Rückschicht

110

Erstes leitfähiges Element

112, 122

Elektrode

120

Zweites leitfähiges Element

130

Mikrokapselschicht

131

Mikrokapsel

• ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
• Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
• Zitierte Patentliteratur
• JP 6113433 [0006]
• JP 11339250 [0006]
• JP 200011364 [0006]
• JP 2002304720 [0006]
• JP 2002304721 [0006]
• JP 2003132525 [0006]

Claims (23)

1. Magnetisches Aufzeichnungsmedium, das Folgendes umfasst: ein längliches Substrat; und eine Verstärkungsschicht und eine Wölbungsunterdrückungsschicht, die auf einer Oberfläche des Substrats angeordnet sind.
2. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 1, wobei die Wölbungsunterdrückungsschicht ein Kohlenstoff-Dünnfilm ist.
3. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 2, wobei der Kohlenstoff-Dünnfilm diamantartigen Kohlenstoff enthält.
4. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 1, wobei die Verstärkungsschicht ein Metall und/oder eine Metallverbindung enthält.
5. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 4, wobei die Metallverbindung ein Metalloxid ist.
6. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 4, wobei das Metall Aluminium und/oder Kupfer enthält und die Metallverbindung Aluminiumoxid, Kupferoxid und/oder Siliciumoxid enthält.
7. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 1, wobei eine Zugspannung als innere Spannung auf die Verstärkungsschicht wirkt, und eine Druckspannung als innere Spannung auf die Wölbungsunterdrückungsschicht wirkt.
8. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 1, wobei die Verstärkungsschicht eine laminierte Struktur aus zwei oder mehr Schichten aufweist.
9. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 1, wobei die Verstärkungsschicht Folgendes umfasst: eine erste Metalloxidschicht; eine zweite Metalloxidschicht; und eine Metallschicht, die zwischen der ersten Metalloxidschicht und der zweiten Metalloxidschicht angeordnet ist.
10. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 1, wobei die Verstärkungsschicht ein Metall und Sauerstoff enthält und eine Sauerstoffkonzentration auf einer Oberfläche auf der dem Substrat gegenüberliegenden Seite unter beiden Oberflächen der Verstärkungsschicht höher als eine Sauerstoffkonzentration innerhalb der Verstärkungsschicht ist.
11. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 10, wobei die Sauerstoffkonzentrationen auf beiden Oberflächen der Verstärkungsschicht höher sind als die Sauerstoffkonzentration innerhalb der Verstärkungsschicht.
12. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 1, wobei die Wölbungsunterdrückungsschicht eine laminierte Struktur aus zwei oder mehr Schichten aufweist.
13. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 1, wobei die Verstärkungsschicht auf dem Substrat angeordnet ist und die Wölbungsunterdrückungsschicht auf der Verstärkungsschicht angeordnet ist.
14. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 1, wobei die Verstärkungsschicht eine durchschnittliche Dicke von 150 nm oder mehr und 500 nm oder weniger hat und ein Verhältnis einer durchschnittlichen Dicke der Wölbungsunterdrückungsschicht zu einer durchschnittlichen Dicke der Verstärkungsschicht 0,05 oder mehr und 0,7 oder weniger beträgt.
15. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 1, das ein Young-Modul in Längsrichtung von 7 GPa oder mehr und 14 GPa oder weniger aufweist.
16. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 1, das ferner umfasst: eine nichtmagnetische Schicht, die auf der anderen Oberfläche des Substrats angeordnet ist; eine magnetische Schicht, die auf der nichtmagnetischen Schicht angeordnet ist; und eine Rückschicht, die auf der Wölbungsunterdrückungsschicht angeordnet ist.
17. Magnetisches Aufzeichnungsmedium, das Folgendes umfasst: ein längliches Substrat; und eine Verstärkungsschicht und einen Kohlenstoff-Dünnfilm, die auf einer Oberfläche des Substrats angeordnet sind.
18. Laminat, das Folgendes umfasst: ein Substrat; und eine Verstärkungsschicht und eine Wölbungsunterdrückungsschicht, die auf einer Oberfläche des Substrats angeordnet sind.
19. Laminat nach Anspruch 18, wobei das Substrat eine Dicke von 10 µm oder weniger aufweist.
20. Laminat nach Anspruch 18, das einen Oberflächenwiderstand von 0,4 Ω/□ oder weniger auf einer Seite, auf der die Wölbungsunterdrückungsschicht angeordnet ist, aufweist.
21. Laminat nach Anspruch 18, das einen Feuchteausdehnungskoeffizienten von 0,5 ppm/%r.F. oder mehr und 4 ppm/%r.F. oder weniger aufweist.
22. Laminat, das Folgendes umfasst: ein Substrat; und eine Verstärkungsschicht und einen Kohlenstoff-Dünnfilm, die auf einer Oberfläche des Substrats angeordnet sind.
23. Flexible Vorrichtung, die das Laminat nach Anspruch 18 oder 22 umfasst.

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