JP2010052416A

JP2010052416A - 積層体、磁気記録媒体用支持体および磁気記録媒体

Info

Publication number: JP2010052416A
Application number: JP2009040431A
Authority: JP
Inventors: Masahito Horie; 将人堀江; Takuji Higashioji; 卓司東大路; Yukari Nakamori; ゆか里中森
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 2008-07-29
Filing date: 2009-02-24
Publication date: 2010-03-11

Abstract

【課題】磁性層との密着性が高く、搬送時に表面にキズがつきにくい磁気記録媒体用支持体であって磁気記録媒体とした際に環境変化による寸法変化が少なく、高湿度下でも保存が可能で、耐久性の優れた磁気記録媒体とすることができる支持体を提供することにある。
【解決手段】ポリエステルフィルムの少なくとも片面に金属または金属系酸化物を含む層（Ｍ層）が設けられ、さらにその少なくとも片面にコーティング層（Ｃ層）が設けられた積層体とする。
【選択図】図２

Description

本発明は、磁気テープなどの磁気記録媒体に用いられる支持体と、該支持体上に磁性層を設けた磁気記録媒体とに関する。

二軸延伸ポリエステルフィルムはその優れた熱特性、寸法安定性、機械特性および表面形態の制御のし易さから各種用途に使用されており、特に磁気記録媒体などの支持体としての有用性がよく知られている。近年、磁気テープなどの磁気記録媒体は、機材の軽量化、小型化、大容量化のため高密度記録化が要求されている。高密度記録化のためには、記録波長を短くし、記録トラックを小さくすることが有用である。しかしながら、記録トラックを小さくすると、テープ走行時における熱やテープ保管時の温湿度変化による変形により、記録トラックのずれが起こりやすくなるという問題がある。したがって、テープの使用環境および保管環境での寸法安定性といった特性の改善に対する要求がますます強まっている。

この観点から、支持体には、強度、寸法安定性の点で二軸延伸ポリエステルフィルムよりも優れた、剛性の高い芳香族ポリアミドが用いられることがある。しかしながら芳香族ポリアミドは高価格でコストがかかり、汎用記録媒体の支持体としては現実的ではない。

一方、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートなどを用いたポリエステルフィルムにおいても、延伸技術を用いて高強度化した磁気記録媒体用支持体が開発されている。しかしながら、温度や湿度に対する寸法安定性などの厳しい要求を満足することはいまだ困難である。

温度や湿度に対する寸法安定性を向上するために、ポリエステルフィルムの片面または両面に金属などの補強層を設ける方法（特許文献１〜４）が開示されている。しかしながら、補強層はポリエステルフィルム表面とは表面状態が変わるため、磁性層を設ける時に密着性が確保できないなどの問題がある。また、補強層は硬いがもろいため搬送時に脱落やキズが発生する場合がある。さらに、補強層は湿度により酸化や水酸化が起こり、ボロボロに劣化する問題がある。

そこで、鋭意検討した結果、寸法安定性を向上させるために補強層を設け、磁性層との密着性を向上させるためにコーティング層を設けることで課題を解決することができることを見出した。さらに補強層と磁性層のいずれに対しても密着性のあるコーティング層を補強層上に設けることで、補強層の表面保護、耐湿性などが向上し上記多くの課題を解決できることを見出した。

特開平７−２７２２４７号公報特開２００６−１２０２１３号公報特開２００６−２７７９２０号公報特開２０００−１９５０３５号公報

本発明の目的は、上記の問題を解決し、優れた磁気記録媒体用支持体を提供することにある。詳しくは、磁性層との密着性が高い磁気記録媒体用支持体であって、磁気記録媒体とした際に環境変化による寸法変化が少なく、高湿度下でも保存が可能で、耐久性の優れた磁気記録媒体とすることができる支持体を提供することにある。

上記課題を解決するための本発明は、次の（１）〜（７）を特徴とするものである。

（１）ポリエステルフィルムの少なくとも片面に金属または金属系酸化物を含む層（Ｍ層）が設けられ、さらにその少なくとも片面にコーティング層（Ｃ層）が設けられた積層体。

（２）金属または金属系酸化物を含む層（Ｍ層）の上にコーティング層（Ｃ層）が設けられた、上記（１）に記載の積層体。

（３）ポリエステルフィルムの両面に金属または金属系酸化物を含む層（Ｍ層）が設けられた、上記（１）または（２）に記載の積層体。

（４）金属または金属系酸化物を含む層（Ｍ層）が酸化アルミニウムを含んでいる、上記（１）〜（３）のいずれかに記載の積層体。

（５）コーティング層（Ｃ層）がポリオキシアルキレングリコール成分を含有する水溶性共重合ポリエステルを含む、上記（１）〜（４）のいずれかに記載の積層体。

（６）上記（１）〜（５）のいずれかに記載の積層体を用いた磁気記録媒体用支持体。

（７）上記（６）に記載の磁気記録媒体用支持体に磁性層を設けた磁気記録媒体。

本発明は、磁性層との密着性が高い磁気記録媒体用支持体であって磁気記録媒体とした際に環境変化による寸法変化が少なく、高湿度下でも保存が可能で、耐久性の優れた磁気記録媒体とすることができる支持体を得ることができる。

幅寸法を測定する際に用いるシート幅測定装置の模式図である。本発明の支持体を製造する際に用いられる真空蒸着装置の模式図である。

本発明の積層体は、ポリエステルフィルムの少なくとも片面に金属または金属系酸化物を含む層（Ｍ層）が設けられ、さらにその少なくとも片面にコーティング層（Ｃ層）が設けられている。

本発明において、ポリエステルフィルムとは、例えば、芳香族ジカルボン酸、脂環族ジカルボン酸または脂肪族ジカルボン酸などの酸成分やジオール成分を構成単位（重合単位）とするポリマーで構成されたものである。

芳香族ジカルボン酸成分としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、６，６’−（アルキレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸、４，４’−ジフェニルジカルボン酸、４，４’−ジフェニルエーテルジカルボン酸、４，４’−ジフェニルスルホンジカルボン酸等を用いることができ、なかでも好ましくは、テレフタル酸、フタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、を用いることができる。６，６’−（アルキレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸成分としては、炭素数２〜１０のアレキレンが好ましく、６，６’−（エチレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸、６，６’−（トリメチレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸および６，６’−（ブチレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸などが挙げられる。脂環族ジカルボン酸成分としては、例えば、シクロヘキサンジカルボン酸等を用いることができる。脂肪族ジカルボン酸成分としては、例えば、アジピン酸、スベリン酸、セバシン酸、ドデカンジオン酸等を用いることができる。これらの酸成分は一種のみを用いてもよく、二種以上を併用してもよい。６，６’−（アルキレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸成分は主成分として用いることもできるが、他の芳香族ポリエステル成分と共重合させることが好ましい。６，６’−（アルキレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸成分の好ましい共重合量は、５〜５０モル％であり、より好ましくは１０〜４０モル％、さらに好ましくは１５〜３０モル％である。６，６’−（アルキレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸成分を共重合させたポリエステルの融点は２２０〜２６０℃であることが好ましい。より好ましくは２３０〜２５０℃である。さらに好ましくは２３５〜２４５℃である。６，６’−（アルキレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸成分を共重合させたポリエステルのガラス転移温度は１００〜１４０℃が好ましい。より好ましくは１１０〜１３０℃である。さらに好ましくは１１５〜１２５℃である。また、６，６’−（アルキレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸成分を共重合させたポリエステルの溶融結晶化ピーク温度は１４０〜１８０℃であることが好ましい、より好ましくは１５０〜１７０℃である。さらに好ましくは１５５〜１６５℃である。

ジオール成分としては、例えば、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，２−シクロヘキサンジメタノール、１，３−シクロヘキサンジメタノール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリアルキレングリコール、２，２’−ビス（４’−β−ヒドロキシエトキシフェニル）プロパン等を用いることができ、なかでも、エチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ジエチレングリコール等を好ましく用いることができ、特に好ましくは、エチレングリコール等を用いることができる。これらのジオール成分は一種のみを用いてもよく、二種以上を併用してもよい。

ポリエステルには、ラウリルアルコール、イソシアン酸フェニル等の単官能化合物が共重合されていてもよいし、トリメリット酸、ピロメリット酸、グリセロール、ペンタエリスリトール、２，４−ジオキシ安息香酸、等の３官能化合物などが、過度に分枝や架橋をせずポリマーが実質的に線状である範囲内で共重合されていてもよい。さらに酸成分、ジオール成分以外に、ｐ−ヒドロキシ安息香酸、ｍ−ヒドロキシ安息香酸、２，６−ヒドロキシナフトエ酸などの芳香族ヒドロキシカルボン酸およびｐ−アミノフェノール、ｐ−アミノ安息香酸などを本発明の効果が損なわれない程度の少量であればさらに共重合せしめることができる。

ポリマーの共重合割合はＮＭＲ法（核磁気共鳴法）や顕微ＦＴ−ＩＲ法（フーリエ変換顕微赤外分光法）を用いて調べることができる。

ポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートが好ましい。また、これらの共重合体、および変性体でもよく、他の熱可塑性樹脂とのポリマーアロイでもよい。ここでいうポリマーアロイとは高分子多成分系のことであり、共重合によるブロックコポリマーであってもよいし、混合などによるポリマーブレンドでもよい。

ポリマーアロイ樹脂としてはポリオレフィン系樹脂やポリイミド系樹脂が好ましい。特に、上記ポリエステル樹脂とポリイミド系樹脂のポリマーアロイは混合割合によって耐熱性（ガラス転移温度）を制御できるため、使用条件に合わせたポリマー設計ができるため好ましい。ポリマーの混合割合はＮＭＲ法（核磁気共鳴法）や顕微ＦＴ−ＩＲ法（フーリエ変換顕微赤外分光法）を用いて調べることができる。

ポリオレフィン系樹脂としては、ポリ−３−メチルブテン−１、ポリ−４−メチルペンテン−１、ポリビニル−ｔ−ブタン、１，４−トランス−ポリ−２，３−ジメチルブタジエン、ポリビニルシクロヘキサン、ポリスチレン、ポリメチルスチレン、ポリジメチルスチレン、ポリブチルスチレンなどが挙げられる。これらの中でも、耐熱性および吸湿性の点から、シンジオタクチック構造を有するスチレン系樹脂（以下、シンジオタクチックスチレン系樹脂と称することがある。）が好ましい。本発明におけるシンジオタクチックスチレン系樹脂は、立体化学構造がシンジオタクチック構造を有するポリスチレンであり、核磁気共鳴法（^１３Ｃ−ＮＭＲ法）により測定されるタクティシティーが、ダイアッド（構成単位が２個）で７５％以上、好ましくは８５％以上、ペンタッド（構成単位が５個）で３０％以上、好ましくは５０％以上である。

シンジオタクチックスチレン系樹脂としては、ポリスチレン、ポリ（アルキルスチレン）として、ポリ（メチルスチレン）、ポリ（エチルスチレン）、ポリ（プロピルスチレン）、ポリ（ブチルスチレン）、ポリ（フェニルスチレン）が挙げられ、これらのうち、ポリスチレン、ポリ（ｐ−メチルスチレン）、ポリ（ｍ−メチルスチレン）、ポリ（ｐ−ターシャリーブチルスチレン）が好ましい。本発明におけるシンジオタクチックスチレン系樹脂は、単独であっても、２種以上併用であってもよい。

また、本発明におけるシンジオタクチックスチレン系樹脂は、重合平均分子量が１０，０００以上、さらに５０，０００以上であることが好ましい。重合平均分子量が１０，０００より小さい場合、耐熱性や機械特性が不十分である。一方、重合平均分子量の上限は５００，０００以下であることが好ましい。５００，０００を超える場合、製膜性が低下する傾向にある。

本発明において好適に使用できるポリオレフィン系樹脂の融点は、２３０℃〜２８０℃であることが好ましく、更には２４０〜２７５℃であることが好ましい。融点が２３０℃より低いと得られる二軸配向ポリエステルフィルムの耐熱性が不十分な場合がある。また融点が２８０℃を超える場合はポリエステルとの混合が難しくなることがある。

ポリイミド系樹脂としては、例えば、下記一般式で示されるような構造単位を含有するものが好ましい。

ただし、式中のＲ^１は、

などの脂肪族炭化水素基、脂環族炭化水素基、芳香族炭化水素基から選ばれた一種もしくは二種以上の基を表している。また、式中のＲ^２は、

などの脂肪族炭化水素基、脂環族炭化水素基、芳香族炭化水素基から選ばれた一種もしくは二種以上の基を表している。

溶融成形性やポリエステルとの親和性などの点から、下記一般式で示されるような、ポリイミド構成成分にエーテル結合を含有するポリエーテルイミドが特に好ましい。

（ただし、上記式中Ｒ^３は、６〜３０個の炭素原子を有する２価の芳香族または脂肪族残基、Ｒ^４は６〜３０個の炭素原子を有する２価の芳香族残基、２〜２０個の炭素原子を有するアルキレン基、２〜２０個の炭素原子を有するシクロアルキレン基、および２〜８個の炭素原子を有するアルキレン基で連鎖停止されたポリジオルガノシロキサン基からなる群より選択された２価の有機基である。）
上記Ｒ^３、Ｒ^４としては、例えば、下記式群に示される芳香族残基を挙げることができる。

本発明では、ポリエステルとの親和性、コスト、溶融成形性等の観点から、２，２−ビス［４−（２，３−ジカルボキシフェノキシ）フェニル］プロパン二無水物とｍ−フェニレンジアミン、またはｐ−フェニレンジアミンとの縮合物である、下記式で示される繰り返し単位を有するポリマーが好ましい

または

（ｎは２以上の整数、好ましくは２０〜５０の整数）
このポリエーテルイミドは、“ウルテム”（登録商標）の商品名で、ＳＡＢＩＣイノベーティブプラスチックスより入手可能である。

上記したような好ましいポリエステルを用いて本発明の積層体を構成するポリエステルフィルムを製造する。本発明において、ポリエステルフィルムは２層以上の積層構成であることが好ましい。特に、本発明の積層体は、磁気記録媒体に用いる場合、一方の表面には、優れた電磁変換特性を得るための平滑さが求められ、他方の表面には、製膜・加工工程での搬送や、磁気テープの走行性や走行耐久性を付与するための粗さが求められる。そのため、ポリエステルフィルムを２層以上の積層構成にすることが好ましい。

ポリエステルフィルムには、その表面に易滑性や耐摩耗性、耐スクラッチ性などを付与するため、無機粒子、有機粒子、例えば、クレー、マイカ、酸化チタン、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、湿式シリカ、乾式シリカ、コロイド状シリカ、リン酸カルシウム、硫酸バリウム、アルミナ、ジルコニア等の無機粒子、アクリル酸類、スチレン系樹脂、熱硬化樹脂、シリコーン、イミド系化合物等を構成成分とする有機粒子、ポリエステル重合反応時に添加する触媒等によって析出する粒子（いわゆる内部粒子）などが添加されていてもよい。粒子の粒径はＴＥＭなどによって調べることができ、粒子の添加量はＸ線マイクロアナライザーや熱分解ガスクロマト質量分析などによって調べることができる。

本発明の積層体を構成するポリエステルフィルムは、磁性層を設ける側の表面（Ａ）の中心線平均粗さＲａが０．５ｎｍ〜１０ｎｍであることが好ましい。より好ましい範囲としては、１〜９ｎｍ、さらに好ましい範囲としては、２〜８ｎｍである。

一方、上記表面（Ａ）とは反対側のバックコート層側の表面（Ｂ）の中心線平均粗さＲａは３〜３０ｎｍであることが好ましい。より好ましい範囲としては、５〜２０ｎｍ、さらに好ましい範囲としては７〜１５ｎｍである。

本発明の積層体を構成するポリエステルフィルムは、長手方向のヤング率が３〜１５ＧＰａであることが好ましい。長手方向のヤング率が３ＧＰａより小さい場合、Ｍ層を形成するときに長手方向への張力によって長手方向に伸び、Ｍ層の形成時に問題が発生しやすい。一方、長手方向のヤング率が１５ＧＰａより大きい場合、Ｍ層形成時に張力を高める必要があり、巻締まりが起こりやすく問題が発生しやすい。より好ましい範囲としては、４〜１３ＧＰａ、さらに好ましい範囲としては５〜１１ＧＰａである。６，６’−（アルキレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸成分を共重合させたポリエステルからなるポリエステルフィルムの長手方向のヤング率は３〜８ＧＰａであることが好ましい。より好ましくは４〜７ＧＰａ、さらに好ましくは４．５〜６ＧＰａである。

本発明の積層体を構成するポリエステルフィルムは、幅方向のヤング率が４〜１５ＧＰａの範囲であることが好ましい。幅方向のヤング率が４ＧＰａより小さい場合、Ｍ層を形成しても寸法安定性の向上が小さい。一方、幅方向のヤング率が１５ＧＰａより大きい場合、Ｍ層を形成するときに幅縮みが大きくシワが発生しやすい。より好ましい範囲としては、５〜１３ＧＰａ、さらに好ましい範囲としては６〜１０ＧＰａである。６，６’−（アルキレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸成分を共重合させたポリエステルからなるポリエステルフィルムの長手方向のヤング率は６〜１０ＧＰａであることが好ましい。より好ましくは７〜９．５ＧＰａ、さらに好ましくは８〜９ＧＰａである。

本発明の積層体を構成するポリエステルフィルムは、幅方向の温度膨張係数が−１０〜７ｐｐｍ／℃であることが好ましい。より好ましい範囲としては、−６〜６ｐｐｍ／℃、さらに好ましい範囲としては−３〜５ｐｐｍ／℃である。６，６’−（アルキレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸成分を共重合させたポリエステルからなるポリエステルフィルムの幅方向の温度膨張係数が−７〜３ｐｐｍ／℃であることが好ましい。より好ましくは−６〜２ｐｐｍ／℃、さらに好ましくは−５〜１ｐｐｍ／℃である。

本発明の積層体を構成するポリエステルフィルムは、幅方向の湿度膨張係数が−３〜１０ｐｐｍ／％ＲＨであることが好ましい。より好ましい範囲としては、−１〜８ｐｐｍ／％ＲＨ、さらに好ましい範囲としては０〜５ｐｐｍ／％ＲＨである。６，６’−（アルキレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸成分を共重合させたポリエステルからなるポリエステルフィルムの幅方向の湿度膨張係数が−３〜６ｐｐｍ／％ＲＨであることが好ましい。より好ましくは−１〜５ｐｐｍ／％ＲＨ、さらに好ましくは１〜４ｐｐｍ／％ＲＨである。

本発明の積層体を構成するポリエステルフィルムは、動的粘弾性測定での損失正接ｔａｎδの最大値温度が１１０〜１７０℃であることが好ましい。より好ましくは１１５〜１６５℃であり、さらに好ましくは１２０〜１６０℃である。６，６’−（アルキレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸成分を共重合させたポリエステルからなるポリエステルフィルムの動的粘弾性測定での損失正接ｔａｎδの最大値温度は１２０〜１５０℃であることが好ましい。より好ましくは１２５〜１４５℃であり、さらに好ましくは１３０〜１４０℃である。

本発明の積層体はポリエステルフィルムの少なくとも片面に金属および金属系酸化物を含む層（Ｍ層）が設けられている。金属とは、例えば、Ｌｉ、Ｂｅ、Ｎａ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｋ、Ｃａ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｂｉなどを示す。金属系酸化物とは、上記金属の酸化物を示す。複数種の金属成分を混合して含んでいても構わないが、より好ましくは同一種の金属成分が好ましい。Ｍ層には強度、寸法安定性、生産性、環境性の観点から、Ａｌ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｍｇ、Ａｇの酸化物が好ましく、より好ましくは濡れ性の観点からＡｌの酸化物が好ましい。

金属系酸化物とは組成分析を行った場合の平均組成における酸素濃度が１０ａｔ．％より大きくなっている場合をいう。なお、ａｔ．％とは、ａｔｏｍｉｃ％の略であり、ａｔｏｍｉｃ％とは原子数１００個当たりの該原子数の個数を示したものである。

Ｍ層の表面抵抗率は１．０×１０^２〜１．０×１０^１３Ωであることが好ましい。表面抵抗率とは、表面比抵抗（Ω／□）とも表記される特性値であり、純粋な表面抵抗（面積によって変わる抵抗値）や線抵抗（導線などの抵抗）とは異なるものである。表面抵抗率が１．０×１０^２Ωより低い場合、酸化が不十分であり、高湿度下で酸化や水酸化が起こりやすい。表面抵抗率の下限は、好ましくは１．０×１０^４Ωであり、より好ましくは１．０×１０^５Ωである。一方、表面抵抗率が１．０×１０^１３Ωより高い場合、酸化が進みすぎているために、クラックの発生や脱落の問題が生じやすい。表面抵抗率の上限は、好ましくは１．０×１０^１１Ω、より好ましくは１．０×１０^１０Ωである。好ましい範囲としては、１．０×１０^４〜１．０×１０^１１Ω、より好ましい範囲としては、１．０×１０^５〜１．０×１０^１０Ωである。

Ｃ層を含む積層体が、ポリエステル層／Ｍ層／Ｃ層の層構成を含んでいる場合のＣ層の表面抵抗率は１．０×１０^５〜１．０×１０^１６Ωであることが好ましい。１．０×１０^５Ωより低い場合、導電性が高すぎるため、静電気や漏れ電流によって磁気テープに電流が流れてしまい、その電流のために磁気ヘッドがショートし故障する危険性がある。表面抵抗率の下限は、好ましくは１．０×１０^７Ωであり、より好ましくは１．０×１０^９Ωである。一方、表面抵抗率が１．０×１０^１６Ωより高い場合、帯電しやすくホコリなどの付着でエラーレートが増えるなどの問題が生じる傾向にある。表面抵抗率の上限は、好ましくは１．０×１０^１５Ω、より好ましくは１．０×１０^１４Ωである。好ましい範囲としては、１．０×１０^７〜１．０×１０^１５Ω、より好ましい範囲としては、１．０×１０^９〜１．０×１０^１４Ωである。

Ｍ層の厚みは、５〜５００ｎｍであることが好ましい。Ｍ層の厚みが５ｎｍより小さい場合、補強効果が小さく、寸法安定性が改善されにくい。Ｍ層の厚みの下限は、好ましくは１０ｎｍ、より好ましくは３０ｎｍである。一方、Ｍ層の厚みが５００ｎｍより大きい場合は、クラックを生じやすく寸法安定性が悪化しやすい。また走行を繰り返すことで剥離や脱落が発生し易く、結果として寸法安定性が悪化する傾向にある。また、真空製膜装置を使って５００ｎｍ以上の厚みのＭ層を形成しようとすると、金属蒸気量を増加させる必要があるため熱負荷も大きく、蒸発そのものも不安定になる。Ｍ層の厚みの上限は、好ましくは３００ｎｍ、より好ましくは２００ｎｍである。好ましい範囲としては、１０〜３００ｎｍ、より好ましい範囲としては、３０〜２００ｎｍである。

本発明の積層体には少なくとも１層コーティング層（Ｃ層）が設けられている。好ましくはＭ層上にＣ層が設けられることが好ましい。Ｃ層はポリオキシアルキレングリコール成分を含有する水溶性共重合ポリエステルを含むことが好ましい。

Ｃ層の厚みは好ましくは０．００１〜３μｍであり、より好ましくは０．０１μｍ〜１μｍであり、さらに好ましくは０．０２〜０．２μｍである。

層構成としては、（ａ）ポリエステルフィルム層の両面にＭ層が設けられ、さらにそのどちらか一方のＭ層の外側にＣ層が設けられている構成や、（ｂ）ポリエステルフィルム層の両側にＭ層が設けられ、このＭ層のさらに外側の表面のいずれにもＣ層が設けられている構成などが好ましい。また、（ｃ）ポリエステルフィルム層の一方の面にＭ層が設けられ、逆側の面にＣ層が設けられた構成なども採用し得る。

上記の各構成を、ポリエステルフィルム層をＰ層として表すと、例えば、以下のようになる。ただし、いずれも「層」を略記している。

（ａ）Ｃ／Ｍ／Ｐ／Ｍ
（ｂ）Ｃ／Ｍ／Ｐ／Ｍ／Ｃ
（ｃ）Ｃ／Ｐ／Ｍ
（ａ）の場合のようにＭ層が両面にあると、寸法安定性が大幅に向上し、またＭ層とポリエステルフィルムの寸法変化挙動の違いから起こるカールなどが起こりにくく好ましい。
さらに（ｂ）の場合は、両面ともにＣ層でＭ層を保護しているため、高湿度下でのＭ層の劣化を抑制することができさらに好ましい。（ｃ）の構成は寸法安定性、磁性層の密着性向上が期待でき、さらにＣ層をポリエステルフィルムを製造するときと同時に塗布することができるため、コストや生産性でメリットがある。

上記の水溶性共重合ポリエステルは、酸成分として芳香族ジカルボン酸を６０モル％以上、さらには７０モル％以上とすることが好ましく、特には８０モル％以上とすることが帯電防止性、耐ブロッキング防止性、耐溶剤性に優れる点から好ましい。芳香族ジカルボン酸が６０モル％未満であると帯電防止性、耐ブロッキング防止性および耐溶剤性に劣る傾向にある。芳香族ジカルボン酸としては、例えばテレフタル酸、イソフタル酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸等を挙げることができ、これらのなかで好ましい芳香族ジカルボン酸としてはテレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸である。

上記の水溶性共重合ポリエステルは、水溶性付与の点からエステル形成性スルホン酸アルカリ金属塩化合物を全酸成分に対して、５〜４０モル％、好ましくは７〜３０モル％、さらに好ましくは１０〜２０モル％、特に好ましくは１１〜１５モル％添加することが好ましい。エステル形成性スルホン酸アルカリ金属塩化合物が５モル％未満であると、十分な水溶性および接着性が得られにくい。一方、４０モル％を超えると接着性は飽和に達し、逆に帯電防止性、耐ブロッキング防止性、耐溶剤性が低下し易い。エステル形成性スルホン酸アルカリ金属塩化合物としては、例えばスルホテレフタル酸、５−スルホイソフタル酸、２−スルホイソフタル酸、４−スルホイソフタル酸、４−スルホナフタレン−２，６−ジカルボン酸等のアルカリ金属塩を挙げることができ、なかでも５−スルホイソフタル酸、スルホテレフタル酸のリチウム、ナトリウム、カリウム塩がより好ましく用いられる。

上記の水溶性共重合ポリエステルの好ましいグリコール成分は、炭素数２〜８の脂肪族グリコールおよび／または炭素数６〜１６の肪環族グリコール８０〜９９モル％、ジエチレングリコール１〜２０モル％、好ましくは肪環族グリコール８２〜９５モル％、ジエチレングリコール５〜１８モル％であり、さらに好ましくは肪環族グリコール８４〜９３モル％、ジエチレングリコール７〜１６モル％である。炭素数２〜８の脂肪族グリコールおよび／または炭素数６〜１６の肪環族グリコールが８０モル％未満あるいはジエチレングリコールが２０モル％を超えた場合は耐ブロッキング性、耐溶剤性が劣り易い。一方、炭素数２〜８の脂肪族グリコールおよび／または炭素数６〜１６の肪環族グリコールが９９モル％を超えるか、あるいはジエチレングリコールが１モル％未満の場合は耐ブロッキング性は良好であるものの、水溶性および接着性が劣り易い。

上記の炭素数２〜８の脂肪族グリコールおよび／または炭素数６〜１６の肪環族グリコールとしては、例えばエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，２−シクロヘキサンジメタノール、１，３−シクロヘキサンジメタノール、１，４−シクロヘキサンジメタノール等のグリコールを挙げることができる。好ましい炭素数２〜８の脂肪族グリコールおよび／または炭素数６〜１６の肪環族グリコールとしては、エチレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，４−ブタンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノールである。これらのグリコールは１種のみ用いてもよく、また２種以上併用してもよい。なお、本発明におけるジエチレングリコールは、通常エチレングリコールをグリコール成分とするポリエステルの製造の際に副生するジエチレングリコールを含むものである。

上記の水溶性共重合ポリエステルには上述の酸成分およびグリコール成分以外に、本発明の効果を損なわない範囲で脂肪族ジカルボン酸、オキシ酸あるいは単官能化合物、三官能以上の多官能化合物等の他の成分を含んでいてもよい。

上記の水溶性共重合ポリエステルの製造は、例えば酸成分としてテレフタル酸、５−ナトリウムスルホイソフタル酸およびグリコール成分としてエチレングリコール、ジエチレングリコールからなる共重合ポリエステルについて説明すると、テレフタル酸、５−ナトリウムスルホイソフタル酸およびエチレングリコール、ジエチレングリコールとを直接エステル化反応させるか、テレフタル酸のアルキルエステル、５−ナトリウムスルホイソフタル酸のアルキルエステルおよびエチレングリコール、ジエチレングリコールとをエステル交換反応させる第１段階と、この第１段階の反応生成物を重縮合反応させる第２段階によって製造する方法等を挙げることができる。この際反応触媒として、従来公知のアルカリ金属、アルカリ土類金属、マンガン、コバルト、亜鉛、アンチモン、ゲルマニウム、チタン化合物等が用いられる、さらに着色防止剤としてリン化合物等を用いてもよい。

上記の水溶性共重合ポリエステルには、ポリオキシアルキレングリコール成分が、１質量％以上、３０質量％未満、好ましくは４〜２５質量％、特に好ましくは７〜２０質量％含有されていることが好ましい。ポリオキシアルキレングリコール成分の含有量が１質量％未満であると帯電防止性、耐溶剤性に劣る。一方、ポリオキシアルキレングリコール成分の含有量が３０質量％以上となると逆に帯電防止性、水溶性、耐ブロッキング性に劣る。ポリオキシアルキレングリコール成分の種類は、優れた水溶性、接着性、帯電防止性を兼備させる点からポリオキシアルキレングリコール成分の数平均分子量が４００〜１０，０００が好ましく、さらには数平均分子量が５００〜６，０００が好ましく、特には数平均分子量が６００〜４，０００が好ましい。このようなポリオキシアルキレングリコール成分としては、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等を挙げることができる。なかでも水溶性、帯電防止性の点からポリエレングリコールが好ましい。

上記のポリオキシアルキレングリコール成分を共重合ポリエステルに含有させる方法は、例えばポリオキシアルキレングリコール成分を共重合ポリエステルの製造工程の任意の段階で添加する方法、あるいは共重合ポリエステルとポリオキシアルキレングリコール成分とを押出機等を用いて溶融混練する方法等を挙げることができる。この際、ポリオキシアルキレングリコール成分は粉体、溶融あるいは溶液状態等任意の方法で添加することができる。

また、上記の水溶性共重合ポリエステルの固有粘度は、接着性の点で０．３ｄｌ／ｇ以上が好ましく、さらには０．４ｄｌ／ｇ以上が好ましい。

また、該水溶性共重合ポリエステルには必要に応じて、難燃剤、熱安定剤、紫外線吸収剤、顔料、染料、脂肪酸エステル、ワックスなどの有機滑剤あるいはポリシロキサンなどの消泡剤を配合してもよく、さらには滑り性などを付与する目的でクレー、マイカ、酸化チタン、炭酸カルシウム、カオリン、湿式および乾式法シリカ、コロイド状シリカ、リン酸カルシウム、硫酸バリウム、アルミナなどの無機粒子、さらにはアクリル酸類、スチレンなどを構成成分とする有機粒子等を配合してもよい。

上記の水溶性共重合ポリエステルは、水に溶解せしめて、水溶液として使用することが好ましい。この水溶液とは物理的、化学的な意味で厳密性を有するものではなく、水に大部分が溶解し、一部が微分散しているようなものも含むものである。

本発明におけるＣ層にはアクリル系ワックスが含まれることが好ましい。アクリル系ワックスは、アクリル酸の高級脂肪酸エステルが帯電防止性、易滑性などの点から好ましい。また、高級脂肪酸の炭素数としては、１０〜２４の範囲が好ましい。高級脂肪酸の炭素数が１０未満であると易滑性に劣る傾向にあり、反対に２５以上では相溶性に劣る傾向にある。炭素数１０〜２４の高級脂肪酸としては、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、ベヘニン酸などが挙げられる。しかし、その中でも易滑性の点でステアリン酸が特に好ましく用いられる。

これらのアクリル酸の高級脂肪酸エステルは単独で用いてもよく、数種の混合体として用いてもよい。また、一部スチレン等、他の成分を共重合しても差し支えない。アクリル系ワックスの質量平均分子量は、その安定性、耐熱性などの特性から１万以上、好ましくは１０万以上である。

また、形態については、安定性、均一性、ハンドリング性などの点から水分散体が好ましく用いられる。また、粘度はその取り扱い性から３００ｃｐｓ以下、イオン性は他の塗剤との混合のし易さなどからアニオンあるいはノニオンが好ましく、希釈安定性が良好なものが好ましい。アクリル系ワックスエマルジョンの粒径も、安定性、均一性などの点から、１μｍ以下、好ましくは０．５μｍ以下である。水分散体のアクリル系ワックスの固形分としては通常７０質量％以下がその安定性から好ましい。

かかる水系エマルジョンの製造法は、例えばアクリル酸ステアリルを例にとると、原料となるアクリル酸とステアリルアルコールをラジカル重合した後、界面活性剤を含む熱水中に高速攪拌添加して微分散させる方法、またアクリル酸ステアリル重合体の有機溶媒溶液を界面活性剤を含む水中に高速攪拌下添加して添加して微分散させ、必要なら脱溶媒させる方法等で製造されたものを用いることができる。あるいは乳化重合、エマルジョン重合等の方法も適用できる。これらの水性液中の固形分濃度は、塗布方法にもよるが、５０質量％以下が好ましく、さらには３０質量％以下が好ましい。

本発明におけるＣ層は、アクリル樹脂成分／ポリウレタン樹脂成分の質量比が３／７〜７／３からなるアクリル変性ポリウレタンでもよい。

アクリル変性ポリウレタンを製造する方法としては、たとえば、水性ポリウレタン中においてアクリル系化合物を分散した後、反応させることにより得られる。水性ポリウレタンとしては、ポリウレタン樹脂に水への親和性を高めるために、例えば、カルボン酸塩、スルホン酸塩などのようなアニオン性の官能基や、第４級アンモニウム塩のようなカチオン性の官能基を導入したものが用いられる。これらの官能基の中では、水中での分散性、合成時の反応制御の容易さからアニオン性の官能基が好ましく、その中でも、カルボン酸塩、スルホン酸塩が特に好ましい。

ポリウレタンにカルボン酸塩基を導入する方法としては、例えば、ポリウレタン合成時に、原料のポリヒドロキシ化合物としてカルボン酸基を含有する化合物を用いるか、ポリウレタン中の未反応イソシアネート基に、水酸基含有カルボン酸やアミノ基含有カルボン酸を反応させ、次いで反応生成物を高速で撹拌しながらアルカリ水溶液中に添加して中和する方法等によって得ることができる。

また、ポリウレタンにスルホン酸塩基を導入する方法としては、例えば、ポリヒドロキシ化合物、ポリイソシアネート及び鎖延長剤からポリウレタンプレポリマーを生成させ、これに末端イソシアネート基と反応しうるアミノ基、水酸基、スルホン酸塩基を含有する化合物などを添加して反応させることにより得ることができる。その際、合成反応は有機溶剤中で行い、次いで水を加えてから溶剤を除去することが好ましい。

ポリウレタンの原料として用いられるポリヒドロキシ化合物としては、たとえばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリエチレン・プロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、テトラメチレングリコール、１，５−ペンタンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリカプロラクトン、ポリヘキサメチレンアジペート、ポリヘキサメチレンセバケート、ポリテトラメチレンアジペート、ポリテトラメチレンセバケート、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、ペンタエリスリトール、グリセリン等を挙げることができる。

また、ポリウレタンの原料として用いられるポリイソシアネート化合物としては、たとえば、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネートとトリメチロールプロパンの付加物、ヘキサメチレンジイソシアネートとトリメチロールエタンの付加物等を挙げることができる。

本発明におけるアクリル変性ポリウレタンを構成するアクリル系成分としては、たとえば、アルキルアクリレート（アルキル基としてはメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、２−エチルヘキシル、シクロヘキシル等）、アルキルメタクリレートや、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート等のヒドロキシル基含有化合物、アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチロールアクリルアミド、Ｎ−メトキシメチルアクリルアミド、Ｎ−メトキシメチルメタクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド等のアミド基含有化合物、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルメタクリレート等のアミノ基含有化合物、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート等のエポキシ基含有化合物、およびそれらの塩（ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩）が挙げられる。また、上記のアクリル系成分は、単独で使用することもできるが、２種類以上の化合物を用いることもできる。

本発明におけるアクリル変性ポリウレタンの製造方法としては、たとえば水性ポリウレタンの水分散液中に少量の分散剤と重合開始剤を添加して一定温度に保ち、上記のアクリル系化合物を撹拌しながら徐々に添加し、その後必要に応じて温度を上昇させ、一定時間反応させることにより水分散体として得ることができる。

本発明の積層体において、磁性層を設ける側の表面（Ａ）の中心線平均粗さＲａが０．５ｎｍ〜１０ｎｍであることが好ましい。磁性層を設ける側の表面（Ａ）のＲａが０．５ｎｍより小さい場合は、フィルム製造、加工工程などで、搬送ロールなどとの摩擦係数が大きくなり、工程トラブルを起こすことがあり、磁気テープとして用いる場合に、磁気ヘッドとの摩擦が大きくなり、磁気テープ特性が低下しやすい。また、Ｒａが１０ｎｍより大きい場合は、高密度記録の磁気テープとして用いる場合に、電磁変換特性が低下することがある。磁性層を設ける側の表面（Ａ）のＲａの下限は、より好ましくは１ｎｍ、さらに好ましくは２ｎｍであり、上限は９ｎｍ、さらに好ましくは８ｎｍである。より好ましい範囲としては、１〜９ｎｍ、さらに好ましい範囲としては、２〜８ｎｍである。

一方、上記表面（Ａ）とは反対側のバックコート層側の表面（Ｂ）の中心線平均粗さＲａは３〜３０ｎｍであることが好ましい。バックコート層側の表面（Ｂ）のＲａが３ｎｍより小さい場合は、フィルム製造、加工工程などで、搬送ロールなどとの摩擦係数が大きくなり、工程トラブルを起こすことがあり、磁気テープとして用いる場合に、ガイドロールとの摩擦が大きくなり、テープ走行性が低下することがある。また、Ｒａが３０ｎｍより大きい場合は、フィルムロールやパンケーキとして保管する際に、表面突起が反対側の表面に転写し、電磁変換特性が低下する傾向がある。バックコート層側の表面（Ｂ）のＲａの下限は、より好ましくは５ｎｍ、さらに好ましくは７ｎｍであり、上限は２０ｎｍ、さらに好ましくは１５ｎｍである。より好ましい範囲としては、５〜２０ｎｍ、さらに好ましい範囲としては７〜１５ｎｍである。

本発明の積層体は、長手方向のヤング率が５〜２０ＧＰａであることが好ましい。長手方向のヤング率が５ＧＰａより小さい場合、テープドライブ内での長手方向への張力によって長手方向に伸び、この伸び変形により幅方向に収縮し、記録トラックずれという問題が発生しやすい。長手方向のヤング率の下限は、より好ましくは６ＧＰａ、さらに好ましくは７ＧＰａである。一方、長手方向のヤング率が２０ＧＰａより大きい場合、磁気ヘッドへの当たりが悪くエラーレートが増加する問題がある。長手方向のヤング率の上限は、より好ましくは１５ＧＰａ、さらに好ましくは１３ＧＰａである。より好ましい範囲としては、６〜１５ＧＰａ、さらに好ましい範囲としては７〜１３ＧＰａである。

本発明の積層体は、幅方向のヤング率が５〜２０ＧＰａの範囲であることが好ましい。幅方向のヤング率が５ＧＰａより小さい場合、エッジダメージの原因となったりすることがある。幅方向のヤング率の下限は、より好ましくは６ＧＰａ、さらに好ましくは７ＧＰａである。一方、幅方向のヤング率が２０ＧＰａより大きい場合、スリット性が悪化することがある。幅方向のヤング率の上限は、より好ましくは１５ＧＰａ、さらに好ましくは１３ＧＰａである。より好ましい範囲としては、６〜１５ＧＰａ、さらに好ましい範囲としては７〜１３ＧＰａである。

本発明の積層体は、幅方向の温度膨張係数が−３〜１０ｐｐｍ／℃であることが好ましい。温度膨張係数が上記範囲内であることは、磁気記録媒体への加工工程での寸法安定性の観点から好ましい。幅方向の温度膨張係数の上限は、より好ましくは９ｐｐｍ／℃、さらに好ましくは８ｐｐｍ／℃である。幅方向の温度膨張係数の下限はより好ましくは０ｐｐｍ／℃、さらに好ましくは４ｐｐｍ／℃である。より好ましい範囲としては、０〜９ｐｐｍ／℃、さらに好ましい範囲としては４〜８ｐｐｍ／℃である。

本発明の積層体は、幅方向の湿度膨張係数が−３〜１０ｐｐｍ／％ＲＨであることが好ましい。湿度膨張係数が上記範囲内であることは、磁気記録媒体とした際に記録再生時の高湿条件での寸法安定性の観点から好ましい。幅方向の湿度膨張係数の上限は、より好ましくは８ｐｐｍ／％ＲＨ、さらに好ましくは５ｐｐｍ／％ＲＨである。幅方向の湿度膨張係数の下限はより好ましくは−１ｐｐｍ／％ＲＨ、さらに好ましくは０ｐｐｍ／％ＲＨである。より好ましい範囲としては、−１〜８ｐｐｍ／％ＲＨ、さらに好ましい範囲としては０〜５ｐｐｍ／％ＲＨである。

なお、本発明において、支持体の長手方向とは、一般的にＭＤ方向といわれる方向であって、ポリエステルフィルム製造工程時の長手方向と同じ方向を指し、支持体の幅方向とは、一般的にＴＤ方向といわれる方向であって、ポリエステルフィルム製造工程時の幅方向と同じ方向を指す。

本発明において、積層体としての厚みは、用途に応じて適宜決定できるが、通常磁気記録媒体用途では１〜７μｍが好ましい。この厚みが１μｍより小さい場合、磁気テープにした際に電磁変換特性が低下することがある。一方、この厚みが７μｍより大きい場合は、テープ１巻あたりのテープ長さが短くなるため、磁気テープの小型化、高容量化が困難になる場合がある。したがって、高密度磁気記録媒体用途の場合、厚みの下限は、好ましくは２μｍ、より好ましくは３μｍであり、上限は、好ましくは６．５μｍ、より好ましくは６μｍである。より好ましい範囲としては２〜６．５μｍ、より好ましい範囲としては３〜６μｍである。

また、本発明の積層体を構成するポリエステルフィルム層の厚みは、１〜６μｍであることが好ましい。この厚みが１μｍより小さい場合は、磁気テープにした際にテープに腰がなくなるため、電磁変換特性が低下することがある。ポリエステルフィルムの厚みの下限は、より好ましくは２μｍ、さらに好ましくは３μｍである。一方、ポリエステルフィルムの厚みが６μｍより大きい場合は、テープ１巻あたりのテープ長さが短くなるため、磁気テープの小型化、高容量化が困難になる場合がある。ポリエステルフィルムの厚みの上限は、より好ましくは５．８μｍ、さらに好ましくは５．６μｍである。より好ましい範囲としては２〜５．８μｍ、さらに好ましい範囲としては３〜５．６μｍである。

上記したような本発明の積層体は、たとえば次のように製造される。

まず、積層体を構成するポリエステルフィルムを製造する。ポリエステルフィルムを製造するには、たとえばポリエステルのペレットを、押出機を用いて溶融し、口金から吐出した後、冷却固化してシート状に成形する。このとき、繊維焼結ステンレス金属フィルターによりポリマーを濾過することが、ポリマー中の未溶融物を除去するために好ましい。また、ポリエステルフィルムの表面に易滑性や耐摩耗性、耐スクラッチ性などを付与するため、無機粒子、有機粒子、例えば、クレー、マイカ、酸化チタン、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、湿式シリカ、乾式シリカ、コロイド状シリカ、リン酸カルシウム、硫酸バリウム、アルミナ、ジルコニア等の無機粒子、アクリル酸類、スチレン系樹脂、熱硬化樹脂、シリコーン、イミド系化合物等を構成成分とする有機粒子、ポリエステル重合反応時に添加する触媒等によって析出する粒子（いわゆる内部粒子）などを添加することも好ましい。さらに、本発明を阻害しない範囲内であれば、各種添加剤、例えば、相溶化剤、可塑剤、耐候剤、酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、帯電防止剤、増白剤、着色剤、導電剤、結晶核剤、紫外線吸収剤、難燃剤、難燃助剤、顔料、染料、などが添加されてもよい。

続いて、上記シートを長手方向と幅方向の二軸に延伸した後、熱処理する。延伸工程は、特に限定されないが、各方向において２段階以上に分けることが好ましい。すなわち再縦、再横延伸を行う方法が高密度記録の磁気テープとして最適な高強度のフィルムが得られ易いために好ましい。

延伸形式としては、長手方向に延伸した後に幅方向に延伸を行うなどの逐次二軸延伸法や、同時二軸テンター等を用いて長手方向と幅方向を同時に延伸する同時二軸延伸法、さらに、逐次二軸延伸法と同時二軸延伸法を組み合わせた方法などが包含される。

特に同時二軸延伸法を用いることが好ましい。逐次二軸延伸法に比べて同時二軸延伸法は、製膜工程で長手方向、幅方向に結晶が均一に成長するため、安定して高倍率に延伸しやすい。なお、ここでいう同時二軸延伸とは、長手方向と幅方向の延伸が同時に行われる工程を含む延伸方式である。必ずしも、すべての区間で長手方向と幅方向が同時に延伸されている必要はなく、長手方向の延伸が先にはじまり、その途中から幅方向にも延伸を行い（同時延伸）、長手方向の延伸が先に終了し、残りを幅方向のみ延伸するような方式でもよい。延伸装置としては、例えば同時二軸延伸テンターなどが好ましく例示され、中でもリニアモータ駆動式の同時二軸テンターが破れなくフィルムを延伸する方法として特に好ましい。

さらに、上記のようにして得られた積層体に金属または金属系酸化物を含む層（Ｍ層）を設ける。Ｍ層の形成方法としては物理蒸着法や化学蒸着法を用いることができる。ポリエステルフィルムへの物理蒸着法には真空蒸着法、スパッタリング法があり、特に熱負荷の観点から真空蒸着法が好ましく、さらに金属蒸気の高エネルギー化が可能な電子ビーム蒸着法が好ましい。また、Ｃ層との密着性の向上や剥離・脱落防止のため、Ｍ層形成後、蒸着機内でＭ層をプラズマ処理することが好ましい。特に窒素雰囲気中のプラズマ処理が好ましい。Ｍ層は形成後も経時変化するため、すぐに表面にＣ層を設けると経時変化が完了せず、高湿度下に置かれたときに急に吸湿して反応するなど不安定な状態となる。そこで、Ｍ層形成後、高湿度下でエージングすることが好ましい。

さらに、上記したＭ層を設けた後に、その少なくとも一方の面にコーティング層（Ｃ層）を設ける。Ｃ層の塗布の方法は、例えばリバースコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、ダイコート法、ワイアーバー法などを用いることができる。上記Ｃ層中には本発明の効果を阻害しない範囲内で公知の添加剤、例えば耐熱安定剤、耐酸化安定剤、耐候安定剤、紫外線吸収剤、有機の易滑剤、顔料、染料、有機または無機の微粒子、充填剤、帯電防止剤、核剤などを配合してもよい。

以下、本発明の積層体の製造方法について、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）をポリエステルとして用いた例を代表例として説明する。もちろん、本願はＰＥＴフィルムを用いた支持体に限定されるものではなく、他のポリマーを用いたものものでもよい。例えば、ガラス転移温度や融点の高いポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートなどを用いてポリエステルフィルムを構成する場合は、以下に示す温度よりも高温で押出や延伸を行えばよい。

まず、ポリエチレンテレフタレートを準備する。ポリエチレンテレフタレートは、次のいずれかのプロセスで製造される。すなわち、（１）テレフタル酸とエチレングリコールを原料とし、直接エステル化反応によって低分子量のポリエチレンテレフタレートまたはオリゴマーを得、さらにその後の三酸化アンチモンやチタン化合物を触媒に用いた重縮合反応によってポリマーを得るプロセス、（２）ジメチルテレフタレートとエチレングリコールを原料とし、エステル交換反応によって低分子量体を得、さらにその後の三酸化アンチモンやチタン化合物を触媒に用いた重縮合反応によってポリマーを得るプロセスである。ここで、エステル化は無触媒でも反応は進行するが、エステル交換反応においては、通常、マンガン、カルシウム、マグネシウム、亜鉛、リチウム、チタン等の化合物を触媒に用いて進行させ、またエステル交換反応が実質的に完結した後に、該反応に用いた触媒を不活性化する目的で、リン化合物を添加する場合もある。

フィルムを構成するポリエステルに不活性粒子を含有させる場合には、エチレングリコールに不活性粒子を所定割合にてスラリーの形で分散させ、このエチレングリコールを重合時に添加する方法が好ましい。不活性粒子を添加する際には、例えば、不活性粒子の合成時に得られる水ゾルやアルコールゾル状態の粒子を一旦乾燥させることなく添加すると粒子の分散性がよい。また、不活性粒子の水スラリーを直接ＰＥＴペレットと混合し、ベント式二軸混練押出機を用いて、ＰＥＴに練り込む方法も有効である。不活性粒子の含有量を調節する方法としては、上記方法で高濃度の不活性粒子のマスターペレットを作っておき、それを製膜時に不活性粒子を実質的に含有しないＰＥＴで希釈して不活性粒子の含有量を調節する方法が有効である。

次に、得られたＰＥＴのペレットを、１８０℃で３時間以上減圧乾燥した後、固有粘度が低下しないように窒素気流下あるいは減圧下で、２７０〜３２０℃に加熱された押出機に供給し、スリット状のダイから押出し、キャスティングロール上で冷却して未延伸フィルムを得る。この際、異物や変質ポリマーを除去するために各種のフィルター、例えば、焼結金属、多孔性セラミック、サンド、金網などの素材からなるフィルターを用いることが好ましい。また、必要に応じて、定量供給性を向上させるためにギアポンプを設けてもよい。フィルムを積層する場合には、２台以上の押出機およびマニホールドまたは合流ブロックを用いて、複数の異なるポリマーを溶融積層する。

次に、この未延伸フィルムを同時二軸延伸テンターに導いて、長手および幅方向に同時に二軸延伸を行う。延伸速度は長手、幅方向ともに１００〜２０，０００％／分の範囲で行うのが好ましい。より好ましくは、５００〜１０，０００％／分、さらに好ましくは２，０００〜７，０００％／分である。延伸速度が１００％／分よりも小さい場合には、フィルムが熱にさらされる時間が長くなるため、特にエッジ部分が結晶化して延伸破れの原因となり製膜性が低下したり、十分に分子配向が進まず、製造したフィルムのヤング率が低下したりすることがある。また、２０，０００％／分よりも大きい場合には、延伸時点で分子間の絡み合いが生成しやすくなり、延伸性が低下して、高倍率の延伸が困難となることがある。

また、１段目の延伸温度は、用いるポリマーの種類によって異なるが、未延伸フィルムのガラス転移温度Ｔｇを目安として決めることができる。長手方向および幅方向それぞれの１段目の延伸工程における温度は、Ｔｇ〜Ｔｇ＋３０℃の範囲であることが好ましく、より好ましくはＴｇ＋５℃〜Ｔｇ＋２０℃である。上記範囲より延伸温度が低い場合には、フィルム破れが多発して生産性が低下したり、再延伸性が低下したりして、高倍率に安定して延伸することが困難となることがある。また、上記範囲よりも延伸温度が高い場合には、特にエッジ部分が結晶化して延伸破れの原因となり製膜性が低下したり、十分に分子配向が進まず、製造したフィルムのヤング率が低下したりすることがある。

延伸倍率は、用いるポリマーの種類や延伸温度によって異なり、また多段延伸の場合も異なるが、総面積延伸倍率（総縦延伸倍率×総横延伸倍率）が、２０〜４０倍の範囲になるようにすることが好ましい。より好ましくは２５〜３５倍である。長手方向、幅方向の一方向の総延伸倍率としては、２．５〜８倍が好ましく、より好ましくは、３〜７倍である。延伸倍率が上記範囲より小さい場合には、延伸ムラなどが発生しフィルムの加工適性が低下することがある。また、延伸倍率が上記範囲より大きい場合には、延伸破れが多発して、生産性が低下する場合がある。なお、各方向に関して延伸を多段で行う場合、１段目の長手、幅方向それぞれにおける延伸倍率は、２．５〜５倍が好ましく、より好ましくは３〜４倍である。また、１段目における好ましい面積延伸倍率は８〜１６倍であり、より好ましくは、９〜１４倍である。これらの延伸倍率の値は、特に同時二軸延伸法を採用する場合に好適な値であるが、逐次二軸延伸法でも適用できる。

本発明のポリエステルフィルムの製造方法が多段延伸、すなわち再延伸工程を含む場合、２段目の延伸温度はＴｇ＋４０℃〜Ｔｇ＋１２０℃が好ましく、さらに好ましくはＴｇ＋６０℃〜Ｔｇ＋１００℃である。（なお、３段の延伸を行う場合、２段目の延伸温度としては上記温度範囲の中でも比較的低い延伸温度とする方がよい）。延伸温度が上記範囲を外れる場合には、熱量不足や結晶化の進みすぎによって、フィルム破れが多発して生産性が低下したり、十分に配向を高めることができず、強度が低下する場合がある。さらに３段目の延伸を行う場合には、３段目の延伸温度は２段目の延伸温度よりも高く、後述する熱処理の温度よりも低いことが好ましい。なお、３段目の延伸を行うとはヤング率や熱的寸法安定性が向上し易い。

また、再延伸を行う場合の一方向における延伸倍率は、１．０５〜２．５倍が好ましく、より好ましくは１．２〜１．８倍である。再延伸の面積延伸倍率としては、１．４〜４倍が好ましく、より好ましくは１．９〜３倍である。さらに３段目の延伸を行う場合には、３段目の延伸倍率（一方向）は、１．０５〜１．２倍が好ましく、面積延伸倍率は１．１〜１．４が好ましい。

続いて、この延伸フィルムを緊張下または幅方向に弛緩しながら熱処理する。熱処理条件は、ポリマーの種類によっても異なるが、熱処理温度は、１５０℃〜２３０℃が好ましく、熱処理時間は０．５〜１０秒の範囲で行うのが好ましい
次に、上記のようにして得られたポリエステルフィルムに金属または金属系酸化物を含む層（Ｍ層）を設ける方法を説明する。

ポリエステルフィルム表面にＭ層を形成するには、たとえば図２に示すような真空蒸着装置を用いる。この真空蒸着装置１１においては、真空チャンバ１２の内部をポリエステルフィルムが巻出しロール部１３から冷却ドラム１６を経て巻取りロール部１８へと走行する。そのときに、るつぼ２３内の金属材料１９を電子銃２０から照射した電子ビーム２１で加熱蒸発させるとともに、酸素供給ノズル２４から酸素ガスを導入し、蒸発した金属を酸化反応させながら冷却ドラム１６上のポリエステルフィルムに蒸着する。なお、この真空蒸着装置１１は、酸化度を容易に制御できるように、酸素供給ノズル２４を蒸着源であるるつぼ２３の真横に設置し、かつ、金属蒸気と酸素ガスとが同じ方向に流れるようにしている。その結果、金属蒸気と酸素ガスとの反応空間も大きくなっている。

ここで、真空チャンバ１２の内部は１．０×１０^−８〜１．０×１０^２Ｐａに減圧することが好ましい。さらに緻密で劣化部分の少ないＭ層を形成させるために好ましくは、１．０×１０^−６〜１．０×１０^−１Ｐａに減圧することが好ましい。

冷却ドラム１６は、その表面温度を−４０〜６０℃の範囲内にすることが好ましい。より好ましくは−３５〜３０℃、さらに好ましくは−３０〜０℃である。

電子ビーム２１は、その出力が２．０〜８．０ｋＷの範囲内のもので行うのが好ましい。より好ましくは３．０〜７．０ｋＷ、さらに好ましくは４．０〜６．０ｋＷの範囲内である。なお、直接ルツボを加熱することで金属材料１９を加熱蒸発させてもよい。

酸素ガスは、ガス流量制御装置２６を用いて０．５〜２０Ｌ／ｍｉｎの流量で真空チャンバ１２内部に導入する。より好ましくは１．５〜１５Ｌ／ｍｉｎ、さらに好ましくは２．０〜１０Ｌ／ｍｉｎである。

真空チャンバ１２の内部におけるポリエステルフィルムの搬送速度は２０〜４００ｍ／ｍｉｎが好ましい。より好ましくは４０〜３００ｍ／ｍｉｎ、さらに好ましくは６０〜２００ｍ／ｍｉｎである。真空チャンバ１２の内部におけるポリエステルフィルムの搬送張力は５０〜１５０Ｎ／ｍが好ましい。より好ましくは７０〜１２０Ｎ／ｍ、さらに好ましくは８０〜１００Ｎ／ｍである。

上記成膜条件の範囲外であると熱による破れやシワが発生し、生産性が損なわれる。また、金属蒸気と酸素ガスとが不充分な反応状態で成膜されやすく、不完全な構造のＭ層となってしまう。

Ｍ層形成後、巻取前に蒸着機内でＭ層をプラズマ処理することが好ましい。プラズマ処理強度は１０〜５００Ｗが好ましい。より好ましくは５０〜３００Ｗ、さらに好ましくは１００〜２００Ｗである。プラズマ処理は特に窒素雰囲気中で行うのが好ましい。Ｍ層が酸化物の場合、未反応の酸素ガスや未反応の金属が残っているが窒素プラズマを行うことで反応が促進され安定化する。また、表面の一部が窒化され、Ｃ層との密着性が向上する。酸素プラズマの場合、反応は促進するが未反応酸素ガス量はむしろ増加し、経時変化を抑えることができない。

蒸着後、Ｃ層をすぐにコーティングするとＭ層が不安定なまま保持される。そこでＭ層を安定化させめるために、真空蒸着装置内を常圧に戻して、巻取ったフィルムをエージングすることが好ましい。エージング条件としては、温度は２０〜４０℃、より好ましくは２５〜３５℃、湿度は４０〜７０％ＲＨ、より好ましくは４５〜６５％ＲＨである。エージング時間は２日以上が好ましく、さらに好ましくは３日以上である。エージングは長時間行う方が好ましいが生産性の観点から１４日以下が好ましい。

次にコーティング層（Ｃ層）を設ける。水溶性共重合ポリエステル１〜５ｇを水５０〜５００ｇ中に入れ、６０〜１００℃、１〜３時間攪拌溶解して冷却後、１〜５μｍフィルターで瀘過し、水溶性共重合ポリエステル水溶液を作製する。水溶液は透明性であることが好ましく、フィルター瀘上物がないことが好ましい。次に水溶性共重合ポリエステルにワックスを混合するアクリル酸ステアリルの水分散体ワツクスを水で希釈し、アクリル酸ステアリル水分散体として、水溶性共重合ポリエステル水溶液に対して添加後、良く混合攪拌し塗剤とする。グラビアコ−ト方式で塗剤を乾燥後の塗布層厚みが０．００１〜３μｍになるように塗布する。塗布したフィルムをオーブン内に導き７０〜１２０℃の予熱工程で水分を乾燥させた後、１００〜１４０℃に加熱し本乾燥を行いＣ層を設ける。

次に、磁気記録媒体を製造する方法を説明する。上記のようにして得られた積層体の表面に、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の方法により、鉄、コバルト、ニッケル、クロムまたはこれらを主成分とする合金もしくは酸化物よりなる強磁性金属薄膜層を形成し、必要により逆面に種々の方法でバックコート層を設けることにより磁気記録媒体とすることができる。強磁性金属薄膜層の厚みは２０〜３００ｎｍであることが好ましい。強磁性金属薄膜層はＡ面側にあることが好ましい。

また、上記強磁性金属薄膜層の表面にさらに、目的、用途、必要に応じてダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）などの保護層を設ける。Ｍ層がある面へ保護層を設ける場合、Ｍ層に導電性があるため安定してＤＬＣ層が設けられる。さらに含フッ素カルボン酸系潤滑層を順次設け、環境変化による寸法変化が少なく、高湿度下でも保存が可能で、走行中にクラック発生のない耐久性の優れた高密度記録用蒸着型磁気記録媒体とすることができる。

また、本発明の積層体は塗布型磁気記録媒体用支持体としても使用できる。塗布型磁気記録媒体の製造方法は上記のようにして得られた積層体を、たとえば０．１〜３ｍ幅にスリットし、速度２０〜３００ｍ／ｍｉｎ、張力５０〜３００Ｎ／ｍで搬送しながら、一方の面に磁性塗料および非磁性塗料をエクストルージョンコーターにより重層塗布する。なお、上層に磁性塗料を厚み０．１〜０．３μｍで塗布し、下層に非磁性塗料を厚み０．５〜１．５μｍで塗布する。その後、磁性塗料および非磁性塗料が塗布された支持体を磁気配向させ、温度８０〜１３０℃で乾燥させる。次いで、反対側の面にバックコートを厚み０．３〜０．８μｍで塗布し、カレンダー処理した後、巻き取る。なお、カレンダー処理は、小型テストカレンダー装置（スチール／ナイロンロール、５段）を用い、温度７０〜１２０℃、線圧０．５〜５ｋＮ／ｃｍで行う。その後、６０〜８０℃にて２４〜７２時間エージング処理し、１／２インチ（１．２７ｃｍ）幅にスリットし、パンケーキを作製する。次いで、このパンケーキから特定の長さ分をカセットに組み込んで、カセットテープ型磁気記録媒体とする。

ここで、磁性塗料などの組成は例えば以下のような組成が挙げられる。
（磁性塗料の組成）
・強磁性金属粉末：１００質量部
・変成塩化ビニル共重合体：１０質量部
・変成ポリウレタン：１０質量部
・ポリイソシアネート：５質量部
・２−エチルヘキシルオレート：１．５質量部
・パルミチン酸：１質量部
・カーボンブラック：１質量部
・アルミナ：１０質量部
・メチルエチルケトン：７５質量部
・シクロヘキサノン：７５質量部
・トルエン：７５質量部
（バックコートの組成）
・カーボンブラック（平均粒径２０ｎｍ）：９５質量部
・カーボンブラック（平均粒径２８０ｎｍ）：１０質量部
・アルミナ：０．１質量部
・変成ポリウレタン：２０質量部
・変成塩化ビニル共重合体：３０質量部
・シクロヘキサノン：２００質量部
・メチルエチルケトン：３００質量部
・トルエン：１００質量部
磁気記録媒体は、例えば、データ記録用途、具体的にはコンピュータデータのバックアップ用途（ＬＴＯ５やＬＴＯ６など）や映像などのデジタル画像の記録用途などに好適に用いることができる。

（物性の測定方法ならびに効果の評価方法）
本発明における特性値の測定方法並びに効果の評価方法は次の通りである。例えば、磁気テープから本願の支持体を取り出すためには、メチルエチルケトンを用いて磁性層・バックコート層を拭き剥がすことで評価が可能となる。また、塩酸を用いて金属または金属系酸化物を含む層を溶解し剥がすことでポリエステルフィルムの評価が可能となる。

（１）Ｍ層の厚み
下記条件にて断面観察を行い、得られた合計９点の厚み［ｎｍ］の平均値を算出し、Ｍ層の厚み［ｎｍ］とする。

測定装置：透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）日立製Ｈ−７１００ＦＡ型
測定条件：加速電圧１００ｋＶ
測定倍率：２０万倍
試料調整：超薄膜切片法
観察面：ＴＤ−ＺＤ断面
測定回数：１視野につき３点、３視野を測定する。

（２）組成分析
下記条件にて、深さ方向の組成分析を行う。

測定装置：Ｘ線光電子分光機Ｑｕａｎｔｅｒａ−ＳＸＭ米国ＰＨＩ社製
励起Ｘ線：ｍｏｎｏｃｈｒｏｍａｔｉｃＡｌＫα１，２線（１４８６．６ｅＶ）
Ｘ線径：１００［μｍ］
光電子脱出角度：４５°
ラスター領域：２×２［ｍｍ］
Ａｒイオンエッチング：２．０［ｋＶ］１．５×１０^−７［Ｔｏｒｒ］
スパッタ速度：３．６８ｎｍ／ｍｉｎ（Ｓｉ_２Ｏ換算値）
データ処理：９−ｐｏｉｎｔｓｍｏｏｔｈｉｎｇ
ピークの結合エネルギー値から元素情報が得られ、各ピークの面積比を用いて組成を定量化（ａｔ．％）する。

（３）表面抵抗率
表面抵抗率の範囲によって、測定可能な装置が異なるため、まずｉ）の方法で測定を行い、表面抵抗率が高すぎて測定不可能なサンプルをｉｉ）の方法で測定する。５回の測定結果の平均値を本発明における表面抵抗率とする。

ｉ）低抵抗率測定
ＪＩＳ−Ｋ７１９４（１９９４）に準拠し、下記測定装置を用いて測定する。

測定装置：ロレスターＥＰＭＣＰ−Ｔ３６０三菱化学製
測定環境：温度２３℃湿度６５％ＲＨ
測定回数：５回測定する。

ｉｉ）高抵抗率測定ＪＩＳ−Ｃ２１５１（１９９０）に準拠し、下記測定装置を用いて測定する。

測定装置：デジタル超高抵抗／微小電流計Ｒ８３４０アドバンテスト（株）製
印加電圧：１００Ｖ
印加時間：１０秒間
測定単位：Ω
測定環境：温度２３℃湿度６５％ＲＨ
測定回数：５回測定する。

（４）中心線平均粗さＲａ
触針式表面粗さ計を用いて下記条件にて中心線平均粗さＲａを測定する。フィルム幅方向に２０回走査して測定を行い、得られた結果の平均値を本発明における中心線平均粗さＲａとする。

測定装置：小坂研究所製高精度薄膜段差測定器ＥＴ−１０
触針先端半径：０．５μｍ
触針荷重：５ｍｇ
測定長：１ｍｍ
カットオフ値：０．０８ｍｍ
測定環境：温度２３℃湿度６５％ＲＨ
（５）温度膨張係数
下記条件にて測定を行い、３回の測定結果の平均値を本発明における温度膨張係数とする。

・測定装置：島津製作所製熱機械分析装置ＴＭＡ−５０
・試料サイズ：幅１０ｍｍ×長さ１２．６ｍｍ
・荷重：０．５ｇ
・測定回数：３回
・測定温度：窒素をフローした状態で温度２５℃から昇温速度２℃／分で温度５０℃まで昇温して、５分間保持した後、温度２５℃まで降温速度２℃／分で降温し、温度４０〜３０℃のフィルム幅方向の寸法変化量ΔＬ（ｍｍ）を測定する。次式から温度膨張係数（ｐｐｍ／℃）を算出する。

温度膨張係数［ｐｐｍ／％ＲＨ］＝１０^６×｛（ΔＬ／（１２．６×１０^３））／（４０−３０）｝
（６）湿度膨張係数
下記条件にて測定を行い、３回の測定結果の平均値を本発明における湿度膨張係数とする。

・測定装置：島津製作所製熱機械分析装置ＴＭＡ−５０（湿度発生器：アルバック理工製湿度雰囲気調節装置ＨＣ−１）
・試料サイズ：幅１０ｍｍ×長さ１２．６ｍｍ
・荷重：０．５ｇ
・測定回数：３回
・測定温度：３０℃
・測定湿度：４０％ＲＨで６時間保持し寸法を測定し時間４０分で８０％ＲＨまで昇湿し、８０％ＲＨで６時間保持したあと支持体幅方向の寸法変化量ΔＬ（ｍｍ）を測定する。次式から湿度膨張係数（ｐｐｍ／％ＲＨ）を算出する。

湿度膨張係数［ｐｐｍ／％ＲＨ］＝１０^６×｛（ΔＬ／１２．６）／（８０−４０）｝
（７）ヤング率
ＡＳＴＭ−Ｄ８８２（１９９７年）に準拠してヤング率を測定する。なお、インストロンタイプの引張試験機を用い、条件は下記のとおりとする。５回の測定結果の平均値を本発明におけるヤング率とする。

・測定装置：インストロン社製超精密材料試験機ＭＯＤＥＬ５８４８
・試料サイズ：幅２ｍｍ×測定方向１２．６ｍｍ（つかみ間隔は８ｍｍ）
・引張り速度：１ｍｍ／分
・測定環境：温度２３℃、湿度６５％ＲＨ
・測定回数：５回測定し、平均値から算出する。

（８）固有粘度
オルトクロロフェノール中、２５℃で測定した溶液粘度から下式に基づいて計算する。

η_ｓｐ／Ｃ＝[η]＋Ｋ[η]^２・Ｃ
ここで、ηｓｐ＝（溶液粘度／溶媒粘度）−１、Ｃは溶媒１００ｍｌあたりの溶解ポリマー重量（ｇ／１００ｍｌ、通常１．２）、Ｋはハギンス定数（０．３４３とする）である。また、溶液粘度、溶媒粘度はオストワルド粘度計を用いて測定する。

（９）ガラス転移温度（Ｔｇ）、融点、溶融結晶化ピーク温度
下記装置および条件で比熱測定を行い、ＪＩＳＫ７１２１（１９８７）に従って決定する。

装置：ＴＡＩｎｓｔｒｕｍｅｎｔ社製温度変調ＤＳＣ
測定条件：
加熱温度：２７０〜５７０Ｋ（ＲＣＳ冷却法）
温度校正：高純度インジウムおよびスズの融点
温度変調振幅：±１Ｋ
温度変調周期：６０秒
昇温ステップ：５Ｋ
試料重量：５ｍｇ
試料容器：アルミニウム製開放型容器（２２ｍｇ）
参照容器：アルミニウム製開放型容器（１８ｍｇ）
なお、ガラス転移温度は下記式により算出する。

ガラス転移温度＝（補外ガラス転移開始温度＋補外ガラス転移終了温度）／２
（１１）幅寸法測定
１ｍ幅にスリットした支持体を、張力２０ｋｇ／ｍで搬送させ、支持体の一方の表面（Ａ）に下記組成の磁性塗料および非磁性塗料をエクストルージョンコーターにより重層塗布し（上層が磁性塗料で、塗布厚０．２μｍ、下層が非磁性塗料で塗布厚０．９μｍ）、磁気配向させ、乾燥温度１００℃で乾燥させる。次いで反対側の表面（Ｂ）に下記組成のバックコートを塗布した後、小型テストカレンダー装置（スチール／ナイロンロール、５段）で、温度８５℃、線圧２００ｋｇ／ｃｍでカレンダー処理した後、巻き取る。上記テープ原反を１／２インチ（１．２７ｃｍ）幅にスリットし、パンケーキを作成する。次いで、このパンケーキから長さ２００ｍ分をカセットに組み込んで、カセットテープとする。

（磁性塗料の組成）
・強磁性金属粉末：１００質量部
〔Ｆｅ：Ｃｏ：Ｎｉ：Ａｌ：Ｙ：Ｃａ＝７０：２４：１：２：２：１（質量比）〕
〔長軸長：０．０９μｍ、軸比：６、保磁力：１５３ｋＡ／ｍ（１，９２２Ｏｅ）、飽和磁化：１４６Ａｍ^２／ｋｇ（１４６ｅｍｕ／ｇ）、ＢＥＴ比表面積：５３ｍ^２／ｇ、Ｘ線粒径：１５ｎｍ〕
・変成塩化ビニル共重合体（結合剤）：１０質量部
（平均重合度：２８０、エポキシ基含有量：３．１質量％、スルホン酸基含有量：８×１０^−５当量／ｇ）
・変成ポリウレタン（結合剤）：１０質量部
（数平均分子量：２５，０００、スルホン酸基含有量：１．２×１０^−４当量／ｇ、ガラス転移点：４５℃）
・ポリイソシアネート（硬化剤）：５質量部
（日本ポリウレタン工業（株）製コロネートＬ（商品名）
・２−エチルヘキシルオレート（潤滑剤）：１．５質量部
・パルミチン酸（潤滑剤）：１質量部
・カーボンブラック（帯電防止剤）：１質量部
（平均一次粒子径：０．０１８μｍ）
・アルミナ（研磨剤）：１０質量部
（αアルミナ、平均粒子径：０．１８μｍ）
・メチルエチルケトン：７５質量部
・シクロヘキサノン：７５質量部
・トルエン：７５質量部
（非磁性塗料の組成）
・変成ポリウレタン：１０質量部
（数平均分子量：２５，０００、スルホン酸基含有量：１．２×１０^−４当量／ｇ、ガラス転移点：４５℃）
・変成塩化ビニル共重合体：１０質量部
（平均重合度：２８０、エポキシ基含有量：３．１質量％、スルホン酸基含有量：８×１０^−５当量／ｇ）
・メチルエチルケトン：７５質量部
・シクロヘキサノン：７５質量部
・トルエン：７５質量部
・ポリイソシアネート：５質量部
（日本ポリウレタン工業（株）製コロネートＬ（商品名））
・２−エチルヘキシルオレート（潤滑剤）：１．５質量部
・パルミチン酸（潤滑剤）：１質量部
（バックコートの組成）
・カーボンブラック：９５質量部
（帯電防止剤、平均一次粒子径０．０１８μｍ）
・カーボンブラック：１０質量部
（帯電防止剤、平均一次粒子径０．３μｍ）
・アルミナ：０．１質量部
（αアルミナ、平均粒子径：０．１８μｍ）
・変成ポリウレタン：２０質量部
（数平均分子量：２５，０００、スルホン酸基含有量：１．２×１０^−４当量／ｇ、ガラス転移点：４５℃）
・変成塩化ビニル共重合体：３０質量部
（平均重合度：２８０、エポキシ基含有量：３．１質量％、スルホン酸基含有量：８×１０^−５当量／ｇ）
・シクロヘキサノン：２００質量部
・メチルエチルケトン：３００質量部
・トルエン：１００質量部
カセットテープのカートリッジからテープを取り出し、下記恒温恒湿槽内へ図１のように作製したシート幅測定装置を入れ、幅寸法測定を行う。なお、図１に示すシート幅測定装置は、レーザーを使って幅方向の寸法を測定する装置で、磁気テープ９をフリーロール５〜８上にセットしつつ荷重検出器３に固定し、端部に荷重となる分銅４を吊す。この磁気テープ９にレーザー光１０を発振すると、レーザー発振器１から幅方向に線状に発振されたレーザー光１０が磁気テープ９の部分だけ遮られ、受光部２に入り、その遮られたレーザーの幅が磁気テープの幅として測定される。３回の測定結果の平均値を本発明における幅とする。

測定装置：（株）アヤハエンジニアリング社製シート幅測定装置
レーザー発振器１、受光部２：レーザー寸法測定機キーエンス社製ＬＳ−５０４０
荷重検出器３：ロードセルＮＭＢ社製ＣＢＥ１−１０Ｋ
恒温恒湿槽：（株）カトー社製ＳＥ−２５ＶＬ−Ａ
荷重４：分銅（長手方向）
試料サイズ：幅１／２ｉｎｃｈ×長さ２５０ｍｍ
保持時間：２４時間
測定回数：３回測定する。

（幅寸法変化率）
２つの条件でそれぞれ幅寸法（ｌ_Ａ，ｌ_Ｂ）を測定し、次式にて寸法変化率を算出する。次の基準で寸法安定性を評価する。×を不合格とする。

Ａ条件：１０℃１０％ＲＨ張力０．８Ｎ
Ｂ条件：２９℃８０％ＲＨ張力０．６Ｎ
幅寸法変化率［ｐｐｍ］＝１０^６×（（ｌ_Ｂ−ｌ_Ａ）／ｌ_Ａ）
◎：幅寸法変化率が０［ｐｐｍ］以上６００［ｐｐｍ］未満
○：幅寸法変化率が６００［ｐｐｍ］以上７００［ｐｐｍ］未満
△：幅寸法変化率が７００［ｐｐｍ］以上８００［ｐｐｍ］未満
×：幅寸法変化率が８００［ｐｐｍ］以上
（１２）高湿保存性
上記（１１）で作製したカセットテープを下記条件にて高湿度保管を行った。保管後、テープを観察し、さらに市販のＩＢＭ社製ＬＴＯドライブ３５８０−Ｌ１１を用いて２３℃５０％ＲＨの環境で記録・再生を行い、次の基準で評価した。

高湿度保管条件：４０℃８０％ＲＨ３日間
○：テープの外観に変化がなく、問題なく使用できる。

△：テープの一部が腐食で脆くなるが、使用はできる。

×：テープの全体が腐食で脆くなり、磁性層などがボロボロになり使用できない。

（１３）磁性層の密着性
上記（１１）で作製したカセットテープの磁性層面にセロハン粘着テ−プ（ニチバン（株）製）を貼り、線圧５０／ｋｇ／ｃｍのニップロールを通過させた後、１８０度方向に急速に剥離する。その時のセロハン粘着テープに付着した被覆面の面積を求めて接着性を判定した。

○：セロハン粘着テープに付着した被覆面の面積が５％未満であり、接着性に優れている。

△：セロハン粘着テープに付着した被覆面の面積が５％〜１０％未満であり、接着性にやや優れている。

×：セロハン粘着テープに付着した被覆面の面積が１０％以上であり、接着性に劣る。

（１４）コーティング層の密着性
上記（１１）で作製したカセットテープの磁性層をメチルエチルケトンで除去し、露出したコーティング層面にセロハン粘着テープ（ニチバン（株）製）を貼り、線圧５０／ｋｇ／ｃｍのニップロールを通過させた後、１８０度方向に急速に剥離する。その時のセロハン粘着テープに付着した被覆面の面積を求めて接着性を判定した。

（１５）損失正接ｔａｎδ
動的粘弾性（ＤＭＡ）測定装置として、ＤＭＳ６１００（セイコーインスツルメンツ社製）を用いて、試料幅５ｍｍ、試料長さ（チャック間距離）２０ｍｍのサンプルを測定した。詳細な測定条件を下記に示す。

測定温度域： −１５０℃〜２００℃
振動周波数：１Ｈｚ
振動変位（歪み）：５μｍ、初荷重：５０ｍＮ
昇温速度：２℃／分、ゲイン：１．５
力振幅初期値：１００ｍＮ。

次の実施例に基づき、本発明の実施形態を説明する。なお、ここでポリエチレンテレフタレートをＰＥＴ、ポリ（エチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレート）をＰＥＮと表記する。

（参考例１）
テレフタル酸ジメチル１９４質量部とエチレングリコール１２４質量部とをエステル交換反応装置に仕込み、内容物を１４０℃に加熱して溶解した。その後、内容物を撹拌しながら酢酸マグネシウム４水塩０．１質量部および三酸化アンチモン０．０５質量部を加え、１４０〜２３０℃でメタノールを留出しつつエステル交換反応を行った。次いで、リン酸トリメチルの５質量％エチレングリコール溶液を１質量部（リン酸トリメチルとして０．０５質量部）添加した。

トリメチルリン酸のエチレングリコール溶液を添加すると反応内容物の温度が低下する。そこで余剰のエチレングリコールを留出させながら反応内容物の温度が２３０℃に復帰するまで撹拌を継続した。このようにしてエステル交換反応装置内の反応内容物の温度が２３０℃に達したら、反応内容物を重合装置へ移行した。

移行後、反応系を２３０℃から２９０℃まで徐々に昇温するとともに、圧力を０．１ｋＰａまで下げた。最終温度、最終圧力到達までの時間はともに６０分とした。最終温度、最終圧力に到達した後、２時間（重合を始めて３時間）反応させたところ、重合装置の撹拌トルクが所定の値（重合装置の仕様によって具体的な値は異なるが、本重合装置にて固有粘度０．６２のポリエチレンテレフタレートが示す値を所定の値とした）を示した。そこで反応系を窒素パージし常圧に戻して重縮合反応を停止し、冷水にストランド状に吐出、直ちにカッティングして固有粘度０．６２のポリエチレンテレフタレートのＰＥＴペレットＸを得た。

（参考例２）
２８０℃に加熱された同方向回転タイプのベント式２軸混練押出機に、参考例１にて作製したＰＥＴペレットＸを９８質量部と平均径０．３μｍの球状架橋ポリスチレン粒子の１０質量％水スラリーを２０質量部（球状架橋ポリスチレンとして２質量部）供給し、ベント孔を１ｋＰａ以下の減圧度に保持し水分を除去し、平均径０．３μｍの球状架橋ポリスチレン粒子を２質量％含有する固有粘度０．６２のＰＥＴペレットＹを得た。

（参考例３）
平均径０．３μｍの球状架橋ポリスチレン粒子ではなく平均径０．８μｍの球状架橋ポリスチレン粒子を用いたこと以外、参考例２と同様の方法にて、平均径０．８μｍの球状架橋ポリスチレン粒子を２質量％含有する固有粘度０．６２のＰＥＴペレットＺを得た。

（参考例４）
２，６−ナフタレンジカルボン酸ジメチル１００質量部とエチレングリコール６０質量部の混合物に、酢酸マンガン・４水和物塩０．０３質量部を添加し、１５０℃の温度から２４０℃の温度に徐々に昇温しながらエステル交換反応を行った。途中、反応温度が１７０℃に達した時点で三酸化アンチモン０．０２４質量部を添加した。また、反応温度が２２０℃に達した時点で３，５−ジカルボキシベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩０．０４２質量部（２ｍｍｏｌ％に相当）を添加した。その後、引き続いてエステル交換反応を行い、トリメチルリン酸０．０２３質量部を添加した。次いで、反応生成物を重合装置に移し、２９０℃の温度まで昇温し、３０Ｐａの高減圧下にて重縮合反応を行い、重合装置の撹拌トルクが所定の値（重合装置の仕様によって具体的な値は異なるが、本重合装置にて固有粘度０．６５のポリエチレン−２，６−ナフタレートが示す値を所定の値とした）を示した。そこで反応系を窒素パージし常圧に戻して重縮合反応を停止し、冷水にストランド状に吐出、直ちにカッティングして固有粘度０．６５のポリエチレン−２，６−ナフタレートペレットＸ’を得た。

（参考例５）
２８０℃に加熱された同方向回転タイプのベント式２軸混練押出機に、参考例４にて作製したペレットＸ’を９８質量部と平均径０．３μｍの球状架橋ポリスチレン粒子の１０質量％水スラリーを２０質量部（球状架橋ポリスチレンとして２質量部）供給し、ベント孔を１ｋＰａ以下の減圧度に保持し水分を除去し、平均径０．３μｍの球状架橋ポリスチレン粒子を２質量％含有する固有粘度０．６５のＰＥＮペレットＹ’を得た。

（参考例６）
平均径０．３μｍの球状架橋ポリスチレン粒子ではなく平均径０．８μｍの球状架橋ポリスチレン粒子を用いたこと以外、参考例５と同様の方法にて、平均径０．８μｍの球状架橋ポリスチレン粒子を２質量％含有する固有粘度０．６５のＰＥＮペレットＺ’を得た。

（参考例７）
テレフタル酸ジメチル７１．２質量部、５−ナトリウムスルホイソフタル酸ジメチル１４．８質量部、エチレングリコ−ル５０．０質量部、ジエチレングリコ−ル４．０質量部、数平均分子量６００のポリエチレングリコ−ル１３．０質量部および酢酸カルシウム０．１質量部、酢酸リチウム０．３質量部、三酸化アンチモン０．０３質量部を加え、エステル交換反応せしめたのち、リン酸トリメチル０．０５質量部を添加した。次いで徐々に昇温、減圧にし、最終的に２８０℃、１ｍｍＨｇ以下で重縮合反応を行ない、水溶性共重合ポリエステルを得た。得られた水溶性共重合ポリエステルの組成をＮＭＲ（^１３Ｃ−ＮＭＲスペクトル）により測定した結果、酸成分はテレフタル酸８８モル％、５−ナトリウムスルホイソフタル酸１２モル％、グリコ−ル成分はエチレングリコ−ル８９モル％、ジエチレングリコ−ル１１モル％であり、また、ポリエチレングリコ−ル含有量は１２質量％で、固有粘度は０．６０ｄｌ／ｇであった。

得られた水溶性共重合ポリエステル２ｇを水１００ｇ中に入れ、８０℃、２時間攪拌溶解して冷却後、２μｍフィルターで瀘過し、濃度２質量％の水溶性共重合ポリエステル水溶液を得た。水溶性共重合ポリエステルの水溶液はほぼ透明性であり、フィルター瀘上物も認められなかった。

一方、水溶性共重合ポリエステルに混合するワックスとしては、固形分濃度４０質量％、質量平均分子量約５０万のアクリル酸ステアリルの水分散体ワックスを水で希釈し、固形分濃度２質量％のアクリル酸ステアリル水分散体として、水溶性共重合ポリエステル水溶液に対して１０質量添加後、良く混合攪拌し本発明の塗剤Ａとした。

［塗剤Ａ］
１）水溶性共重合ポリエステル９０質量部
２）ワックスアクリル酸ステアリル１０質量部
（実施例１）
押出機Ｅ、Ｆ２台を用い、２８０℃に加熱された押出機Ｅには、参考例１、２で得られたＰＥＴペレットＸ９８質量部、ＰＥＴペレットＹ２質量部を１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給し、同じく２８０℃に加熱された押出機Ｆには、参考例１〜３で得られたＰＥＴペレットＸ８９．５質量部、ＰＥＴペレットＹ１０質量部、およびＰＥＴペレットＺ０．５質量部を１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給した。これらを２層積層するべくＴダイ中で合流させ（積層比Ｅ（Ａ面側）／Ｆ（Ｂ面側）＝７／１）、表面温度２５℃のキャストドラムに静電荷を印加させながら密着冷却固化し、積層未延伸フィルムを作製した。

この積層未延伸フィルムを、リニアモータ式クリップを有する同時二軸テンターを用いて、二軸延伸した。長手方向および幅方向に同時に、温度９０℃、延伸速度６，０００％で３．５倍×３．５倍延伸し、７０℃まで冷却した。続いて、温度１６５℃で長手方向および幅方向に同時に１．４×１．４倍に再延伸した。さらに幅方向に１．０５倍の延伸を行いながら温度２００℃で１秒間熱処理後、幅方向に２％の弛緩処理を行い、厚さ５μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを作製した。作製した二軸配向ポリエステルフィルムは２５℃４５％ＲＨにて保管した。

次に、図２に示す真空蒸着装置１１の巻出しロール部１３に得られたポリエステルフィルムをセットし、１．５×１０^−３Ｐａの減圧度にした後に、−２０℃の冷却ドラム１６を介してポリエステルフィルムを搬送速度１００ｍ／ｍｉｎ、搬送張力１００Ｎで走行させた。このとき、９９．９９質量％のアルミニウムを電子ビーム（出力５．１ｋＷ）で加熱蒸発させ、さらに蒸発源であるるつぼ２３の真横に設置した酸素供給ノズル２４から酸素ガスを５．０Ｌ／ｍｉｎで金属蒸気と同じ方向に供給し、酸化アルミの蒸着薄膜層（厚み１００ｎｍ）をフィルムのＡ面側の層の上に形成した。Ｍ層形成後、蒸着機内で窒素プラズマ処理（処理強度１５０Ｗ）を行い巻取った。

Ｍ層を蒸着した後、真空蒸着装置内を常圧に戻して、巻取ったフィルムを３０℃６０％ＲＨの環境で２日間エージングした。

参考例７で得られた塗剤Ａを良く混合攪拌し、グラビアコート方式で塗剤Ａを乾燥後の塗布層厚みが０．０１μｍになるようにＡ面側に塗布する。塗布したフィルムをオーブン内に導き７０℃の予熱工程で水分を予備乾燥させた後、１２０℃に加熱し本乾燥を行いＣ層を設けた。得られた積層体を評価したところ、表１〜３に示すように、ポリエステルフィルムに金属系酸化物を含む層とコーティング層を持ち、本発明の範囲内であった。また、磁気テープとして使用した際に寸法変化率が小さく各層の密着性も高く優れた特性を有していた。

（実施例２）
Ｂ面側にＭ層を設けること以外は実施例１と同様の方法にて積層体を得た。得られた積層体を評価したところ、表１〜３に示すように、ポリエステルフィルムに金属系酸化物を含む層とコーティング層を持ち、本発明の範囲内であった。また、磁気テープとして使用した際に寸法変化率が小さく各層の密着性も高く優れた特性を有していた。

（実施例３）
Ｂ面にもＭ層を設けること以外は実施例１と同様の方法にて積層体を得た。得られた積層体を評価したところ、表１〜３に示すように、ポリエステルフィルムに金属系酸化物を含む層とコーティング層を持ち、本発明の範囲内であった。また、磁気テープとして使用した際に寸法変化率が小さく各層の密着性も高く優れた特性を有していた。

（実施例４）
Ｂ面にもＭ層を設け、さらにその上にＣ層を設けること以外は実施例１と同様の方法にて積層体を得た。得られた積層体を評価したところ、表１〜３に示すように、ポリエステルフィルムに金属系酸化物を含む層とコーティング層を持ち、本発明の範囲内であった。また、磁気テープとして使用した際に寸法変化率が小さく各層の密着性も高く優れた特性を有していた。

（実施例５）
酸素供給ノズル２４から酸素ガスを２．５Ｌ／ｍｉｎで供給したこと以外は実施例１と同様の方法にて積層体を得た。得られた積層体を評価したところ、表１〜３に示すように、ポリエステルフィルムに金属系酸化物を含む層とコーティング層を持ち、本発明の範囲内であった。また、磁気テープとして使用した際に寸法変化率が小さく各層の密着性も高く優れた特性を有していた。

（実施例６）
Ｍ層形成後、蒸着機内で窒素プラズマ処理を行わなかったこと以外は実施例１と同様の方法にて積層体を得た。得られた積層体を評価したところ、表１〜３に示すように、ポリエステルフィルムに金属系酸化物を含む層とコーティング層を持ち、本発明の範囲内であった。また、磁気テープとして使用した際に寸法変化率が小さく各層の密着性も高く優れた特性を有していた。

（実施例７）
Ｍ層を蒸着した後、真空蒸着装置内を常圧に戻して、巻取ったフィルムを３０℃６０％ＲＨの環境でエージングしなかったこと以外は実施例１と同様の方法にて積層体を得た。得られた積層体を評価したところ、表１〜３に示すように、ポリエステルフィルムに金属系酸化物を含む層とコーティング層を持ち、本発明の範囲内であった。また、磁気テープとして使用した際に寸法変化率が小さく各層の密着性も高く優れた特性を有していた。

（実施例８）
２９０℃に加熱された同方向回転タイプのベント式２軸混練押出機に、参考例１で得られたＰＥＴペレットＸ５０質量％とＳＡＢＩＣイノベーティブプラスチックス社製のポリエーテルイミド“Ｕｌｔｅｍ１０１０”（固有粘度０．６８）のペレット５０質量％を供給し、ブレンドチップ（Ｉ）を作製した。

押出機Ｅ、Ｆ２台を用い、２９５℃に加熱された押出機Ｅには、参考例１、２で得られたＰＥＴペレットＸ８８質量％、ＰＥＴペレットＹ２質量％と、ブレンドチップ（Ｉ）１０質量％を１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給し、同じく２９５℃に加熱された押出機Ｆには、参考例１〜３で得られたＰＥＴペレットＸ７９．５質量％、ＰＥＴペレットＹ１０質量％、ＰＥＴペレットＺ０．５質量％と、ブレンドチップ（Ｉ）１０質量％を１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給した。２層積層するべくＴダイ中で合流させ（積層比Ｅ（Ａ面側）／Ｆ（Ｂ面側）＝７／１）、表面温度２５℃のキャストドラムに静電荷を印加させながら密着冷却固化し、積層未延伸フィルムを作製した。

この未延伸フィルムを、リニアモータ式クリップを有する同時二軸テンターを用いて、二軸延伸した。長手方向および幅方向に同時に、温度９５℃、延伸速度６，０００％で３．５倍×３．５倍延伸し、７０℃まで冷却した。続いて、温度１７０℃で長手方向および幅方向に同時に１．４×１．４倍に再延伸した。さらに幅方向に１．０５倍の延伸を行いながら温度２００℃で１秒間熱処理後、幅方向に２％の弛緩処理を行い、厚さ５μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを作製した。作製した二軸配向ポリエステルフィルムは２５℃４５％ＲＨにて保管した。

上記のように、二軸配向ポリエステルフィルムを作製したこと以外は実施例１と同様の方法にて積層体を得た。得られた積層体を評価したところ、表１〜３に示すように、ポリエステルフィルムに金属系酸化物を含む層とコーティング層を持ち、本発明の範囲内であった。また、磁気テープとして使用した際に寸法変化率が小さく各層の密着性も高く優れた特性を有していた。

（実施例９）
押出機Ｅ、Ｆ２台を用い、２８０℃に加熱された押出機Ｅには、参考例４、５で得られたＰＥＮペレットＸ’９８質量部、ＰＥＮペレットＹ’２質量部を１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給し、同じく２８０℃に加熱された押出機Ｆには、参考例４〜６で得られたＰＥＮペレットＸ’８９．５質量部、ＰＥＮペレットＹ’１０質量部、およびＰＥＮペレットＺ’０．５質量部を１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給した。これらを２層積層するべくＴダイ中で合流させ（積層比Ｅ（Ａ面側）／Ｆ（Ｂ面側）＝７／１）、表面温度２５℃のキャストドラムに静電荷を印加させながら密着冷却固化し、積層未延伸フィルムを作製した。

この積層未延伸フィルムを、リニアモータ式クリップを有する同時二軸テンターを用いて、二軸延伸した。長手方向および幅方向に同時に、温度１３５℃、延伸速度６，０００％で４．０倍×４．０倍延伸し、７０℃まで冷却した。続いて、温度１８０℃で長手方向および幅方向に同時に１．２×１．２倍に再延伸した。さらに幅方向に１．０５倍の延伸を行いながら温度２１０℃で１秒間熱処理後、幅方向に２％の弛緩処理を行い、厚さ５μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを作製した。作製した二軸配向ポリエステルフィルムは２５℃４５％ＲＨにて保管した。

（実施例１０）
酸素供給ノズル２４から酸素ガスを供給しないこと以外は実施例１と同様の方法にて積層体を得た。得られた積層体を評価したところ、表１〜３に示すように、ポリエステルフィルムに金属系酸化物を含む層とコーティング層を持ち、本発明の範囲内であった。また、磁気テープとして使用した際に寸法変化率が小さく各層の密着性も高く優れた特性を有していた。

（実施例１１）
９９．９９質量％のアルミニウムではなく９９．９９質量％の銅を電子ビーム（出力６．１ｋＷ）で加熱蒸発させること以外は実施例１１と同様の方法にて積層体を得た。得られた積層体を評価したところ、表１〜３に示すように、ポリエステルフィルムに金属系酸化物を含む層とコーティング層を持ち、本発明の範囲内であった。また、磁気テープとして使用した際に寸法変化率が小さく各層の密着性も高く優れた特性を有していた。

（実施例１２）
９９．９９質量％のアルミニウムではなく９９．９９質量％の銅を電子ビーム（出力６．１ｋＷ）で加熱蒸発させること以外は実施例１と同様の方法にて積層体を得た。得られた積層体を評価したところ、表１〜３に示すように、ポリエステルフィルムに金属系酸化物を含む層とコーティング層を持ち、本発明の範囲内であった。また、磁気テープとして使用した際に寸法変化率が小さく各層の密着性も高く優れた特性を有していた。

（比較例１）
Ｍ層、Ｃ層をともに設けないこと以外は実施例１と同様の方法にて積層体を得た。得られた積層体を評価したところ、表１〜３に示すように、ポリエステルフィルムに金属系酸化物を含む層とコーティング層を持たず、本発明の範囲外であったため、磁気テープとして使用した際に寸法変化率が大きく劣った特性を有していた。

（比較例２）
Ｃ層を設けないこと以外は実施例１と同様の方法にて積層体を得た。得られた積層体を評価したところ、表１〜３に示すように、ポリエステルフィルムにコーティング層を持たず、本発明の範囲外であったため、磁気テープとして使用した際に密着性が悪く劣った特性を有していた。

（比較例３）
Ｍ層を設けないこと以外は実施例１と同様の方法にて積層体を得た。得られた積層体を評価したところ、表１〜３に示すように、ポリエステルフィルムに金属系酸化物を含む層を持たず、本発明の範囲外であったため、磁気テープとして使用した際に寸法変化率が大きく劣った特性を有していた。

（比較例４）
Ｃ層を設けないこと以外は実施例５と同様の方法にて積層体を得た。得られた積層体を評価したところ、表１〜３に示すように、ポリエステルフィルムにコーティング層を持たず、本発明の範囲外であったため、磁気テープとして使用した際に密着性が悪く劣った特性を有していた。

（比較例５）
Ｍ層を設けないこと以外は実施例５と同様の方法にて積層体を得た。得られた積層体を評価したところ、表１〜３に示すように、ポリエステルフィルムに金属系酸化物を含む層を持たず、本発明の範囲外であったため、磁気テープとして使用した際に寸法変化率が大きく劣った特性を有していた。

１：レーザー発振器
２：受光部
３：荷重検出器
４：荷重
５：フリーロール
６：フリーロール
７：フリーロール
８：フリーロール
９：磁気テープ
１０：レーザー光
１１：真空蒸着装置
１２：真空チャンバ
１３：巻出しロール部
１４：ポリエステルフィルム
１５：ガイドロール
１６：冷却ドラム
１７：蒸着チャンバ
１８：巻取りロール部
１９：金属材料
２０：電子銃
２１：電子ビーム
２２：酸素ガスボンベ
２３：るつぼ
２４：酸素供給ノズル
２５：マスク
２６：ガス流量制御装置

Claims

ポリエステルフィルムの少なくとも片面に金属または金属系酸化物を含む層（Ｍ層）が設けられ、さらにその少なくとも片面にコーティング層（Ｃ層）が設けられた積層体。
金属または金属系酸化物を含む層（Ｍ層）の上にコーティング層（Ｃ層）が設けられた、請求項１に記載の積層体。
ポリエステルフィルムの両面に金属または金属系酸化物を含む層（Ｍ層）が設けられた、請求項１または２に記載の積層体。
金属または金属系酸化物を含む層（Ｍ層）が酸化アルミニウムを含んでいる、請求項１〜３のいずれかに記載の積層体。
コーティング層（Ｃ層）がポリオキシアルキレングリコール成分を含有する水溶性共重合ポリエステルを含む、請求項１〜４のいずれかに記載の積層体。
請求項１〜５のいずれかに記載の積層体を用いた磁気記録媒体用支持体。
請求項６に記載の磁気記録媒体用支持体に磁性層を設けた磁気記録媒体。