JP2009087518A - 磁気記録媒体用支持体および磁気記録媒体 - Google Patents
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Abstract
【課題】寸法安定性や電磁変換特性、高温でのクラック耐久性、および走行耐久性、保存安定性に優れた磁気記録媒体用支持体であって、特に磁気記録媒体とした際に温度や湿度の環境変化による寸法変化が小さく、カートリッジで保存した後の電磁変換特性に変化が小さい磁気記録媒体とすることができる支持体およびそれからなる磁気記録媒体を提供すること。
【解決手段】二軸配向ポリエステルフィルムの両面に金属系酸化物を含む層（Ｍ層）を有し、両表面の表面抵抗率が１×１０４〜１×１０１３Ωであり、さらに、長手方向と幅方向のヤング率の和が１０〜２２ＧＰａで、かつ、長手方向のヤング率Ｅｍと幅方向のヤング率Ｅｔの比Ｅｍ／Ｅｔが０．５〜１．０であり、ループスティッフネステスターで得られる長手方向の曲げ応力が５０〜１５０μＮである磁気記録媒体用支持体とする。
【選択図】 図１
【解決手段】二軸配向ポリエステルフィルムの両面に金属系酸化物を含む層（Ｍ層）を有し、両表面の表面抵抗率が１×１０４〜１×１０１３Ωであり、さらに、長手方向と幅方向のヤング率の和が１０〜２２ＧＰａで、かつ、長手方向のヤング率Ｅｍと幅方向のヤング率Ｅｔの比Ｅｍ／Ｅｔが０．５〜１．０であり、ループスティッフネステスターで得られる長手方向の曲げ応力が５０〜１５０μＮである磁気記録媒体用支持体とする。
【選択図】 図１
Description
本発明は、磁気テープなどの磁気記録媒体に用いられる支持体と、該支持体を用いた磁性層を有する磁気記録媒体に関するものであり、例えば、寸法安定性や電磁変換特性、高温でのクラック耐久性、および走行耐久性、保存安定性に優れた磁気記録媒体用支持体であって、特に磁気記録媒体とした際に温度や湿度の環境変化による寸法変化が小さく、カートリッジで保存した後の電磁変換特性の変化が小さい磁気記録媒体とすることができる支持体およびそれからなる磁気記録媒体に関するものである。
二軸延伸ポリエステルフィルムはその優れた熱特性、寸法安定性、機械特性および表面形態の制御のし易さから各種用途に使用されており、特に磁気記録媒体などの支持体としての有用性がよく知られている。近年、磁気テープなどの磁気記録媒体は、機材の軽量化、小型化、大容量化のため、ベースフィルムの薄膜化や高密度記録化が要求されている。高密度記録化のためには、記録波長を短くし、記録トラックを小さくすることが有用である。しかしながら、記録トラックを小さくすると、テープ走行時における熱やテープ保管時の温湿度変化による変形により、記録トラックのずれが起こりやすくなるという問題がある。したがって、テープの使用環境および保管環境での寸法安定性といった特性の改善に対する要求がますます強まっている。また一方で、磁気テープとしたときの走行耐久性の改善要求がますます強くなっている。しかしながら、薄膜化すると機械的強度が不十分となってフィルムの腰の強さが弱くなったり、長手方向に伸びやすく、幅方向に縮みやすくなるため、トラックずれを起こしたり、ヘッドタッチが悪化し電磁変換特性が低下したり、ヘッドやテープが削れたりするといったような問題点がある。
この観点から、支持体には、強度、寸法安定性の点で二軸延伸ポリエステルフィルムよりも優れた剛性の高い芳香族ポリアミドが用いられることがある。しかしながら芳香族ポリアミドは、剛性が高くすぎてヘッド削れを引き起こしたりすることがある。さらに高価格でコストがかかり、汎用記録媒体の支持体としては現実的ではない。
一方、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートなどを用いたポリエステルフィルムにおいても、延伸技術を用いて高強度化した磁気記録媒体用支持体が開発されている。しかしながら、温度や湿度に対する寸法安定性などの厳しい要求を満足することはいまだ困難である。
温度や湿度に対する寸法安定性を向上するためには、ポリエステルフィルムの片面または両面に金属などの補強層を設ける方法（特許文献１〜４など）が開示されている。しかしながら、特許文献１〜４では金属または金属酸化物を補強しているが、補強層が金属の場合、金属結合のため導電性が高く光を反射する性質を持つ。そのため、磁性層を塗布する際の膜厚管理に透過光を用いているものの、金属の補強膜の影響で光が透過しないという問題がある。そのため膜厚管理が困難となり、磁性層の膜厚にバラツキが生じ、エラーレートの多い磁気テープとなり易い。また、導電性が高いため静電気や漏れ電流によって磁気テープに電流が流れてしまい、その電流のために磁気ヘッドがショートしたり、故障することがある。さらに、金属は酸化物と比較して、強度が弱く、ポリエステルフィルムの膨張・収縮を抑制する効果が小さいという問題もある。一方、補強層が酸化物やその他の化合物の場合、イオン結合のため、硬いがもろく延性がない性質を持つ。そのため、張力によって割れ（クラック）を生じたり、湾曲による割れが生じたりする。また、酸化物は吸湿性をもつため、湿度に対する寸法安定性向上効果が小さく、補強層自体の吸湿膨張により寸法安定性を悪化させる場合もある。
また、特許文献４には曲げ剛性に相当する曲げモーメント指数を制御した補強層を設けているが、デジタルビデオカメラ（ＤＶＣ）などのヘリカル方式の場合に最適な高剛性の補強層について開示している。しかし、リニアテープオープン（ＬＴＯ）などに代表されるリニア記録方式の磁気テープでは、曲げ剛性や曲げ応力が高い補強層であるとヘッドのエッジ近傍でテープ浮き上がりによる電磁変換特性の不良があったり、カートリッジで保存した後に巻きじまりによる転写が起こったりして電磁変換特性の低下を引き起こすことがあった。
特開２００３−３０８１８号公報
特開２００５−１９６９４４号公報
特開２００６−２７７９２０号公報
特開２００３−２４２６３０号公報
本発明の目的は、上記の問題を解決し、寸法安定性や電磁変換特性、高温でのクラック耐久性、および走行耐久性、保存安定性に優れた磁気記録媒体用支持体であって、特に磁気記録媒体とした際に温度や湿度の環境変化による寸法変化が小さく、カートリッジで保存した後の電磁変換特性に変化が小さい磁気記録媒体とすることができる支持体およびそれからなる磁気記録媒体を提供することにある。
上記課題を解決するために、本発明は、次の（１）〜（７）を特徴とするものである。
（１）二軸配向ポリエステルフィルムの両面に金属系酸化物を含む層（Ｍ層）を有し、両表面の表面抵抗率がそれぞれ１×１０３〜１×１０１３Ωであり、長手方向と幅方向のヤング率の和が１０〜２２ＧＰａであり、かつ、長手方向のヤング率Ｅｍと幅方向のヤング率Ｅｔの比Ｅｍ／Ｅｔが０．５〜１．０であり、ループスティッフネステスターで得られる長手方向の曲げ応力が５０〜１５０μＮである磁気記録媒体用支持体。
（２）二軸配向ポリエステルフィルムの両面に設けられたＭ層の厚みがそれぞれ１０〜７５ｎｍである、上記（１）に記載の磁気記録媒体用支持体。
（３）厚みが３〜６μｍである、上記（１）または（２）に記載の磁気記録媒体用支持体。
（４）長手方向のヤング率Ｅｍが５〜１３ＧＰａである、上記（１）〜（３）のいずれかに記載の磁気記録媒体用支持体。
（５）幅方向の湿度膨張係数が１〜６ｐｐｍ／％ＲＨである、上記（１）〜（４）のいずれかに記載の磁気記録媒体用支持体。
（６）長手方向に周波数１Ｈｚで測定した動的粘弾性において、損失正接（ｔａｎδ）のピーク温度が１２０〜１６０℃である、上記（１）〜（５）のいずれかに記載の磁気記録媒体用支持体。
（７）Ｍ層の金属元素濃度が３０〜６０ａｔ．％である、上記（１）〜（６）のいずれかに記載の磁気記録媒体用支持体。
（８）Ｍ層の金属結合している金属原子の存在比が１〜２０ａｔ．％である、上記（１）〜（７）のいずれかに記載の磁気記録媒体用支持体。
（９）Ｍ層の金属系酸化物が酸化アルミニウムであり、水酸基と結合しているアルミニウム原子の存在比が０〜５０ａｔ．％である、上記（１）〜（８）のいずれかに記載の磁気記録媒体用支持体。
（１０）上記（１）〜（９）のいずれかに記載の磁気記録媒体用支持体の少なくとも片面に磁性層が設けられた磁気記録媒体。
本発明によれば、例えば、寸法安定性や電磁変換特性、高温でのクラック耐久性、および走行耐久性、保存安定性に優れた磁気記録媒体用支持体であって、特に磁気記録媒体とした際に温度や湿度の環境変化による寸法変化が小さく、カートリッジで保存した後の電磁変換特性に変化が小さい磁気記録媒体とすることができる支持体およびそれからなる磁気記録媒体を得ることができる。
本発明の磁気記録媒体用支持体は、ポリエステルフィルムの両方の表面上に金属系酸化物を含む層（Ｍ層）が形成されている。金属系酸化物とは、例えば、Ｃｕ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｆｅ、Ａｇ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｖ、Ｎｉ、Ｍｏ、Ｃｅ、Ｇａ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｙ、Ｗなどの金属成分を酸化させたものであって、組成分析を行った場合の平均組成における酸素原子含有量が１０ａｔ．％以上となっているものをいう。なお、ａｔ．％とは、ａｔｏｍｉｃ％の略である。ａｔｏｍｉｃ％とは原子数１００個当たりの該原子数の個数を示したものである。
Ｍ層の金属元素濃度は３０〜６０ａｔ．％であることが好ましい。金属元素濃度が３０ａｔ．％より少ないということは、金属原子に対して酸素原子が多すぎるため、不完全な構造となりやすく（金属原子や酸素原子が未結合で残存することになりやすく）、補強効果が小さくなり寸法安定性が低下しやすくなる。６０ａｔ．％より多い場合、ほぼ金属の特性を持つため、導電性によるショートの問題や強度が低く寸法安定性が低くなり易いなどの問題がある。より好ましくは３０〜５０ａｔ．％である。
また、Ｍ層の金属結合している金属原子の存在比は１〜２０ａｔ．％であることが好ましい。金属結合の存在比が１ａｔ．％より小さいと、たとえ上述するような金属元素濃度であっても靭性のある金属結合が少ないためクラックが起こりやすく、曲げ剛性が高くなりやすく、ヘッドのエッジ近傍でテープ浮き上がりによる電磁変換特性の不良があったり、カートリッジで保存した後に巻きじまりによる転写が起こったりして電磁変換特性の低下を引き起こすことがある。２０ａｔ．％より大きいと、たとえ上述するような金属元素濃度であっても金属の特性を持つため導電性によるショートの問題が起こりやすくなる。金属結合している金属原子は吸湿しないため、構造欠陥を作りにくく寸法安定性の悪化を防ぐことができる。より好ましくは２〜２０ａｔ．％、さらに好ましくは３〜１０ａｔ．％である。上述するような金属元素濃度であっても、金属結合している金属原子の存在比を制御することで表面抵抗率を本発明の範囲に制御することができる。
Ｍ層の金属成分はアルミニウム元素が好ましく、Ｍ層は酸化アルミニウムであることが好ましい。さらに、一般的に酸化アルミニウムは水蒸気を吸湿すると水和物（Ａｌ（ＯＨ）３）を形成し、本発明においては、この水和物も酸化物に包含するが、水酸基と結合しているアルミニウム原子の存在比が０〜５０ａｔ．％であることが好ましい。水酸基と結合しているとはアルミニウム原子が吸湿して水和物になっていることを表し、光電子分光法（ＸＰＳ）にてアルミニウムの結合状態を分析することで存在比を測定することができる。水和物の形成により部分的に体積変化が起こりＭ層内にひずみができ構造欠陥、寸法安定性悪化を引き起こしやすい。したがって、Ｍ層の酸化アルミニウム中、水酸基と結合しているアルミニウム原子の存在比は５０ａｔ．％以下であることが好ましい。より好ましくは４０ａｔ．％以下である。
上記の金属系酸化物は、両表面で異なる金属成分を含んでいてもよく、また、複数種の金属成分を混合して含んでいても構わないが、より好ましくは両表面で同一種の金属成分を含む方が良い。中でも、金属系酸化物は、酸化度の制御性、寸法安定性、生産性、環境性の観点から、アルミニウム、銅、亜鉛、銀、珪素元素の少なくとも一種を含んでいることが好ましく、より好ましくはアルミニウム元素が主成分となっていることが好ましい。
Ｍ層の厚みは、それぞれ１０〜７５ｎｍであることが好ましい。Ｍ層の厚みが１０ｎｍより小さい場合、補強効果が小さく、温度・湿度による環境変化や荷重が付加された場合の寸法変化が大きくなりやすい。Ｍ層の厚みの下限は、好ましくは２０ｎｍ、より好ましくは３０ｎｍである。一方、Ｍ層の厚みが７５ｎｍより大きい場合は、曲げ剛性が大きくなりやすく、磁気ヘッドあたりにおいてエッジ部で浮き上がり現象が発生することで読み取り不良や電磁変換特性の低下が起こることがある。Ｍ層の厚みの上限は、好ましくは６０ｎｍ、より好ましくは５０ｎｍであり、さらに好ましくは５０ｎｍ未満である。好ましい範囲としては、２０〜６０ｎｍ、より好ましい範囲としては、３０〜５０ｎｍであり、さらに好ましい範囲は３０ｎｍ以上５０ｎｍ未満である。Ｍ層の厚みは、上記の範囲であれば、両表面で異なる厚みでもよい。両表面を同じ厚みに制御すると、得られた支持体がフラットな形状になりやすいので好ましい。また、両表面を異なる厚みに制御すると、得られた支持体がカッピングを起こすことがあるが、磁気記録媒体に使用するために、必要に応じて、カッピングを有する支持体であると、磁気ヘッドあたりが良好であることがある。その場合、磁性層を設ける側の表面（Ａ）と磁性層を設けない側の表面、すなわちバックコート層側の表面（Ｂ）とでは、磁性層を設ける側の表面（Ａ）が凸面になるカッピング形状であることが好ましい。このようなカッピング形状を実現するためには、Ａ面側のＭ層の厚みとＢ面側のＭ層の厚みをそれぞれＭａ、Ｍｂとしたとき、その厚み比（Ｍａ／Ｍｂ）を１〜５とすることが好ましい。Ｍａ／Ｍｂは、より好ましくは１〜３、さらに好ましくは１〜２である。
Ｍ層の厚みは、それぞれ１０〜７５ｎｍであることが好ましい。Ｍ層の厚みが１０ｎｍより小さい場合、補強効果が小さく、温度・湿度による環境変化や荷重が付加された場合の寸法変化が大きくなりやすい。Ｍ層の厚みの下限は、好ましくは２０ｎｍ、より好ましくは３０ｎｍである。一方、Ｍ層の厚みが７５ｎｍより大きい場合は、曲げ剛性が大きくなりやすく、磁気ヘッドあたりにおいてエッジ部で浮き上がり現象が発生することで読み取り不良や電磁変換特性の低下が起こることがある。Ｍ層の厚みの上限は、好ましくは６０ｎｍ、より好ましくは５０ｎｍであり、さらに好ましくは５０ｎｍ未満である。好ましい範囲としては、２０〜６０ｎｍ、より好ましい範囲としては、３０〜５０ｎｍであり、さらに好ましい範囲は３０ｎｍ以上５０ｎｍ未満である。Ｍ層の厚みは、上記の範囲であれば、両表面で異なる厚みでもよい。両表面を同じ厚みに制御すると、得られた支持体がフラットな形状になりやすいので好ましい。また、両表面を異なる厚みに制御すると、得られた支持体がカッピングを起こすことがあるが、磁気記録媒体に使用するために、必要に応じて、カッピングを有する支持体であると、磁気ヘッドあたりが良好であることがある。その場合、磁性層を設ける側の表面（Ａ）と磁性層を設けない側の表面、すなわちバックコート層側の表面（Ｂ）とでは、磁性層を設ける側の表面（Ａ）が凸面になるカッピング形状であることが好ましい。このようなカッピング形状を実現するためには、Ａ面側のＭ層の厚みとＢ面側のＭ層の厚みをそれぞれＭａ、Ｍｂとしたとき、その厚み比（Ｍａ／Ｍｂ）を１〜５とすることが好ましい。Ｍａ／Ｍｂは、より好ましくは１〜３、さらに好ましくは１〜２である。
また、本発明の磁気記録媒体用支持体は、各表面の表面抵抗率が１×１０３〜１×１０１３Ωである。表面抵抗率とは、表面比抵抗（Ω／□）とも表記される特性値であり、純粋な表面抵抗（面積によって変わる抵抗値）や線抵抗（導線などの抵抗）とは異なるものである。表面抵抗率が１×１０３Ωより低い場合、導電性が高すぎるため、静電気や漏れ電流によって磁気テープに電流が流れてしまい、その電流のために磁気ヘッドがショートし故障することがある。また、補強効果が小さくなり、寸法安定性が低下の傾向がある。表面抵抗率の下限は、より好ましくは１．０×１０４Ωであり、さらに好ましくは１．０×１０５Ωである。一方、表面抵抗率が１×１０１３Ωより高い場合、透過率が高い場合と同様に酸化が進みすぎているために、曲げ剛性が高くなりすぎて電磁変換特性の低下の傾向や、クラックの発生や寸法安定性の低下の傾向がある。すなわち、表面抵抗率を上記範囲に制御することで、Ｍ層の構造が安定化して水蒸気や水分に対するバリア効果が発現され、かつ、補強効果も高まりやすく、曲げ剛性や曲げ応力も制御しやすい。表面抵抗率の上限は、より好ましくは１×１０１２Ωであり、さらに好ましくは１×１０７Ωである。より好ましい範囲としては、１×１０４〜１×１０１２Ω、さらに好ましい範囲としては、１×１０５〜１×１０１２Ωであり、特に好ましい範囲は１×１０５〜１×１０７Ωである。なお、磁性層を設ける側の表面（Ａ）と磁性層を設けない側の表面、すなわちバックコート層側の表面（Ｂ）とでは、表面抵抗率の値が同じでもよいが、バックコート層側の表面（Ｂ）の表面抵抗率が低い方が好ましい。
本発明では、金属系酸化物を含む層（Ｍ層）により曲げ剛性や曲げ応力が高まりすぎると、ヘッドのエッジ近傍でテープ浮き上がりによる電磁変換特性の不良があったり、カートリッジで保存した後に巻きじまりによる転写が起こったりして電磁変換特性の低下を引き起こすことがあり、曲げ剛性や曲げ応力を最適な範囲に制御することが重要であること見出した。
本発明の磁気記録媒体用支持体は、ループスティッフネステスターで得られる長手方向の曲げ応力が５０〜１５０μＮである。好ましくは７０〜１４０μＮであり、さらに好ましくは９０〜１３０μＮである。ループスティッフネステスターで得られる長手方向の曲げ応力が５０μＮ未満であると、ヘッドあたりが十分ではなく、電磁変換特性が十分ではないことがある。また、ループスティッフネステスターで得られる長手方向の曲げ応力が１５０μＮを超えると、ヘッドのエッジ近傍でテープ浮き上がりによる電磁変換特性の不良があったり、カートリッジで保存した後に巻きじまりによる転写が起こったりして電磁変換特性の低下を引き起こすことがある。本発明の曲げ応力を最適な範囲に制御するには、支持体の厚みや金属系酸化物を含む層（Ｍ層）の厚み、表面抵抗率を制御することが有効である。支持体の厚みやＭ層の厚みが増加すると曲げ応力が増加しやすく、また、同等の厚みでも表面抵抗率により曲げ応力が変化する。表面抵抗率を高く制御すると、曲げ応力が高くなりやすく、一方、表面抵抗率を低く制御すると、曲げ応力が低くなりやすい。
そして、最近の磁気材料用途においては、長時間記録化のためのベースフィルムのいっそうの薄膜化と高密度記録化が要求されている。本発明では、その要求を満たすための特性として、磁気テープへの加工工程や、テープ使用環境の温度、湿度、張力等の条件下でのテープの長手方向の伸び変形、および幅方向の寸法安定性を最適な範囲に制御することが好ましい。その寸法安定性の指標として、金属系酸化物を含む層（Ｍ層）を二軸配向ポリエステルフィルムに設けて、湿度膨張係数を本発明の範囲にすることによって、テープ使用環境の温度、湿度、張力に対する長手方向および幅方向の変形が少ない、寸法安定性に優れた二軸配向ポリエステルフィルムを得ることができる。
本発明の磁気記録媒体用支持体は、幅方向の湿度膨張係数が１〜６ｐｐｍ／％ＲＨである。湿度膨張係数が上記範囲内であることは、磁気記録媒体の記録再生時の湿度変化による寸法安定性や高湿条件での保存後の寸法安定性の観点から好ましい。幅方向の湿度膨張係数の上限は、好ましくは５．５ｐｐｍ／％ＲＨ、さらに好ましくは５ｐｐｍ／％ＲＨである。幅方向の湿度膨張係数の下限を１ｐｐｍ／％ＲＨより小さくするためには、幅方向の配向をかなり高める必要があり、実質的に二軸配向ポリエステルフィルムを得ることが困難である場合がある。より好ましい範囲としては、１〜５．５ｐｐｍ／％ＲＨ、さらに好ましい範囲としては１〜５ｐｐｍ／％ＲＨである。
さらに、本発明の磁気記録媒体用支持体は、長手方向のヤング率と幅方向のヤング率の和が１０〜２２ＧＰａである。ヤング率の和の好ましい範囲は、１２〜２０ＧＰａであり、さらに好ましい範囲は１３〜１８ＧＰａである。ヤング率の和が１０ＧＰａより小さい場合、後述するように、長手方向や幅方向のヤング率が不足するために、伸び変形により幅方向に収縮し、記録トラックずれという問題が発生したり、エッジダメージが発生したりしやすくなる。また、ヤング率の和が２２ＧＰａより大きい場合、二軸配向ポリエステルフィルムに対して金属系酸化物の厚みを厚くして設ける必要があり、クラックを生じやすく、走行を繰り返すことで剥離や脱落が発生し易く、磁気ヘッドや磁気テープの削れが発生しやすく、十分な走行耐久性が得られないことがある。
長手方向のヤング率と幅方向のヤング率の和を上述の範囲内とするためには、磁気記録媒体用支持体の長手方向のヤング率Ｅｍを５〜１３ＧＰａとすることが好ましい。長手方向のヤング率が５ＧＰａより小さい場合、テープドライブ内での長手方向への張力によって長手方向に伸び、この伸び変形により幅方向に収縮し、記録トラックずれという問題が発生しやすい。長手方向のヤング率の下限は、より好ましくは６ＧＰａである。一方、長手方向のヤング率が１３ＧＰａより大きい場合、幅方向のヤング率を好ましい範囲に制御することが難しくなり、幅方向のヤング率が不足し、エッジダメージの原因となったり、幅方向の寸法安定性として本発明の効果が得られにくかったりすることがある。長手方向のヤング率の上限は、より好ましくは１１ＧＰａである。より好ましい範囲としては、６〜１１ＧＰａである。
また、幅方向のヤング率Ｅｔも５〜１３ＧＰａの範囲とすることが好ましい。幅方向のヤング率が５ＧＰａより小さい場合、エッジダメージの原因となったり、幅方向の寸法安定性として本発明の効果が得られにくかったりすることがある。幅方向のヤング率の下限は、より好ましくは６ＧＰａ、さらに好ましくは７ＧＰａである。一方、幅方向のヤング率が１３ＧＰａより大きい場合、長手方向のヤング率を好ましい範囲に制御することが難しくなり長手方向の張力により変形しやすくなったり、スリット性が悪化したりすることがある。幅方向のヤング率の上限は、より好ましくは１２ＧＰａ、さらに好ましくは１１ＧＰａである。より好ましい範囲としては、６〜１２ＧＰａ、さらに好ましい範囲としては７〜１１ＧＰａである。
また、本発明の磁気記録媒体用支持体は、長手方向のヤング率Ｅｍと幅方向のヤング率Ｅｔの比Ｅｍ／Ｅｔが０．５〜１．０の範囲内である。Ｅｍ／Ｅｔは、０．６〜１．０の範囲内であることがより好ましく、０．６〜０．９の範囲内であることがさらに好ましく、０．６〜０．８の範囲内であることが特に好ましい。特に、長手方向のヤング率より幅方向のヤング率が大きいほうが、幅方向の寸法安定性として本発明の効果を得やすく、長手方向の曲げ剛性を本発明の範囲に制御しやすい。
なお、本発明において、支持体の長手方向とは、一般的にＭＤ方向といわれる方向であって、ポリエステルフィルム製造工程時の長手方向と同じ方向を指し、支持体の幅方向とは、一般的にＴＤ方向といわれる方向であって、ポリエステルフィルム製造工程時の幅方向と同じ方向（ＭＤ方向とは面内において直交する方向）を指す。
また、本発明の磁気記録媒体用支持体においては、磁性層を設ける側の表面（Ａ）の中心線平均粗さＲａＡが０．５ｎｍ〜１０ｎｍであることが好ましい。磁性層を設ける側の表面（Ａ）のＲａＡが０．５ｎｍより小さい場合は、フィルム製造、加工工程などで、搬送ロールなどとの摩擦係数が大きくなり、工程トラブルを起こすことがあり、磁気テープとして用いる場合に、磁気ヘッドとの摩擦が大きくなり、磁気テープ特性が低下しやすい。また、ＲａＡが１０ｎｍより大きい場合は、高密度記録の磁気テープとして用いる場合に、電磁変換特性が低下することがある。磁性層を設ける側の表面（Ａ）のＲａＡの下限は、より好ましくは１ｎｍ、さらに好ましくは２ｎｍであり、上限は８ｎｍ、さらに好ましくは６ｎｍである。より好ましい範囲としては、１〜８ｎｍ、さらに好ましい範囲としては、２〜６ｎｍである。
一方、バックコート層側の表面（Ｂ）の中心線平均粗さＲａＢは３〜３０ｎｍであることが好ましい。バックコート層側の表面（Ｂ）のＲａＢが３ｎｍより小さい場合は、フィルム製造、加工工程などで、搬送ロールなどとの摩擦係数が大きくなり、工程トラブルを起こすことがあり、磁気テープとして用いる場合に、ガイドロールとの摩擦が大きくなり、テープ走行性が低下することがある。また、ＲａＢが３０ｎｍより大きい場合は、フィルムロールやパンケーキとして保管する際に、表面突起が反対側の表面に転写し、電磁変換特性が低下する傾向がある。バックコート層側の表面（Ｂ）のＲａＢの下限は、より好ましくは５ｎｍ、さらに好ましくは７ｎｍであり、上限は２０ｎｍ、さらに好ましくは１５ｎｍである。より好ましい範囲としては、５〜２０ｎｍ、さらに好ましい範囲としては７〜１５ｎｍである。
本発明において、ポリエステルフィルムとは、例えば、芳香族ジカルボン酸、脂環族ジカルボン酸または脂肪族ジカルボン酸などの酸成分やジオール成分を構成単位（重合単位）とするポリマーで構成されたものである。
芳香族ジカルボン酸成分としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、４，４’−ジフェニルジカルボン酸、４，４’−ジフェニルエーテルジカルボン酸、４，４’−ジフェニルスルホンジカルボン酸等を用いることができ、なかでも好ましくは、テレフタル酸、フタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸を用いることができる。脂環族ジカルボン酸成分としては、例えば、シクロヘキサンジカルボン酸等を用いることができる。脂肪族ジカルボン酸成分としては、例えば、アジピン酸、スベリン酸、セバシン酸、ドデカンジオン酸等を用いることができる。これらの酸成分は一種のみを用いてもよく、二種以上を併用してもよい。
ジオール成分としては、例えば、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，２−シクロヘキサンジメタノール、１，３−シクロヘキサンジメタノール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリアルキレングリコール、２，２’−ビス（４’−β−ヒドロキシエトキシフェニル）プロパン等を用いることができ、なかでも、エチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ジエチレングリコール等を好ましく用いることができ、特に好ましくは、エチレングリコール等を用いることができる。これらのジオール成分は一種のみを用いてもよく、二種以上を併用してもよい。
ポリエステルには、ラウリルアルコール、イソシアン酸フェニル等の単官能化合物が共重合されていてもよいし、トリメリット酸、ピロメリット酸、グリセロール、ペンタエリスリトール、２，４−ジオキシ安息香酸、等の３官能化合物などが、過度に分枝や架橋をせずポリマーが実質的に線状である範囲内で共重合されていてもよい。さらに酸成分、ジオール成分以外に、ｐ−ヒドロキシ安息香酸、ｍ−ヒドロキシ安息香酸、２，６−ヒドロキシナフトエ酸などの芳香族ヒドロキシカルボン酸およびｐ−アミノフェノール、ｐ−アミノ安息香酸などを本発明の効果が損なわれない程度の少量であればさらに共重合せしめることができる。
ポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートが好ましい。また、これらの共重合体、および変性体でもよく、他の熱可塑性樹脂とのポリマーアロイでもよい。ここでいうポリマーアロイとは高分子多成分系のことであり、共重合によるブロックコポリマーであってもよいし、混合などによるポリマーブレンドでもよい。
本発明の磁気記録媒体用支持体の長手方向に周波数１Ｈｚで測定した動的粘弾性において、損失正接（ｔａｎδ）のピーク温度が１２０〜１６０℃であることが好ましい。損失正接のピーク温度はガラス転移温度の指標となり、ピーク温度が高いほど耐熱性が高い。損失正接のピーク温度は、好ましくは１２５〜１６０℃である。ピーク温度が１２０℃未満であると、金属系酸化物を設ける加工工程、磁気記録媒体の加工工程や使用時の熱負荷によりダメージを受けるおそれがあり、ピーク温度が１６０℃を超える場合は、延伸により分子配向を高めることが困難であり、本発明の効果である寸法安定性を得ることができない場合がある。
特に、上記ポリエステル樹脂とポリイミド系樹脂のポリマーアロイは混合割合によってガラス転移温度を制御できるため、使用条件に合わせたポリマー設計ができるため好ましい。ポリマーの混合割合はＮＭＲ法（核磁気共鳴法）や顕微ＦＴ−ＩＲ法（フーリエ変換顕微赤外分光法）を用いて調べることができる。
ポリイミド系樹脂としては、例えば、下記一般式で示されるような構造単位を含有するものが好ましい。
ただし、式中のＲ１は、
などの脂肪族炭化水素基、脂環族炭化水素基、芳香族炭化水素基から選ばれた一種もしくは二種以上の基を表している。また、式中のＲ２は、
などの脂肪族炭化水素基、脂環族炭化水素基、芳香族炭化水素基から選ばれた一種もしくは二種以上の基を表している。
溶融成形性やポリエステルとの親和性などの点から、下記一般式で示されるような、ポリイミド構成成分にエーテル結合を含有するポリエーテルイミドが特に好ましい。
（ただし、上記式中Ｒ３は、６〜３０個の炭素原子を有する２価の芳香族または脂肪族残基、Ｒ４は６〜３０個の炭素原子を有する２価の芳香族残基、２〜２０個の炭素原子を有するアルキレン基、２〜２０個の炭素原子を有するシクロアルキレン基、および２〜８個の炭素原子を有するアルキレン基で連鎖停止されたポリジオルガノシロキサン基からなる群より選択された２価の有機基である。）
上記Ｒ３、Ｒ４としては、例えば、下記式群に示される芳香族残基を挙げることができる。
上記Ｒ３、Ｒ４としては、例えば、下記式群に示される芳香族残基を挙げることができる。
本発明では、ポリエステルとの親和性、コスト、溶融成形性等の観点から、２，２−ビス［４−（２，３−ジカルボキシフェノキシ）フェニル］プロパン二無水物とｍ−フェニレンジアミン、またはｐ−フェニレンジアミンとの縮合物である、下記式で示される繰り返し単位を有するポリマーが好ましい
または
（ｎは２以上の整数、好ましくは２０〜５０の整数）
このポリエーテルイミドは、“ウルテム”（登録商標）の商品名で、ジーイープラスチックス社より入手可能である。
このポリエーテルイミドは、“ウルテム”（登録商標）の商品名で、ジーイープラスチックス社より入手可能である。
本発明において、例えば、ポリエステル樹脂とポリイミド樹脂とを混合する方法としては、溶融押出前に、ポリエステル樹脂とポリイミド樹脂の混合物を予備溶融混練（ペレタイズ）してマスターチップ化する方法や、溶融押出時に混合して溶融混練させる方法などがある。中でも、二軸押出機などのせん断応力のかかる高せん断混合機を用いて予備混練してマスターチップ化する方法などが好ましく例示される。その場合、通常の一軸押出機に該混合されたマスターチップ原料を投入して溶融製膜してもよいし、高せん断を付加した状態でマスターチップ化せずに直接にシーティングしてもよい。二軸押出機で混合する場合、分散不良物を低減させる観点から、３条二軸タイプまたは２条二軸タイプのスクリューを装備したものが好ましい。また、ポリエステル樹脂とポリイミド樹脂を混合する場合、溶融粘度の差があるため、ポリイミド樹脂を高濃度に混合したマスターチップを作製することが好ましく、特に、ポリエステル樹脂／ポリイミド樹脂の混合質量比率を１０／９０〜７０／３０とするのが好ましく、より好ましい範囲は３０／７０〜６０／４０の範囲である。
混練部の温度範囲を好ましい範囲にすることは、せん断応力を高めやすく、分散不良物を低減しやすくなる。そのときの滞留時間は１〜５分の範囲が好ましい。また、スクリュー回転数を１００〜５００回転／分とすることが好ましく、さらに好ましくは２００〜４００回転／分の範囲である。スクリュー回転数を好ましい範囲に設定することでも、高いせん断応力が付加され易く、分散不良物を低減しやすくなる。また、二軸押出機の（スクリュー軸長さ／スクリュー軸径）の比率は２０〜６０の範囲であることが好ましく、さらに好ましくは３０〜５０の範囲である。
さらに、二軸スクリューにおいて、混練力を高めるためにニーディングパドルなどによる混練部を設けることは好ましく、その混練部を好ましくは２箇所以上、さらに好ましくは３箇所以上設けたスクリュー形状にする。この際、原料の混合順序には特に制限はなく、全ての原材料を配合後上記の方法により溶融混練する方法、一部の原材料を配合後上記の方法により溶融混練し更に残りの原材料を配合し溶融混練する方法、あるいは一部の原材料を配合後単軸あるいは２軸の押出機により溶融混練中にサイドフィーダーを用いて残りの原材料を混合する方法など、いずれの方法を用いてもよい。また、プラスチック成形加工学会誌「成形加工」第１５巻第６号、３８２〜３８５頁（２００３年）に記載された超臨界流体を利用する方法なども好ましく例示することができる。
本発明において、ポリエステルフィルムは２層以上の積層構成であることが好ましい。特に、本発明の支持体は、磁気記録媒体に用いるため、一方の表面には、優れた電磁変換特性を得るための平滑さが求められ、他方の表面には、製膜・加工工程での搬送や、磁気テープの走行性や走行耐久性を付与するための粗さが求められる。そのため、ポリエステルフィルムを２層以上の積層構成にすることが好ましい。
ポリエステルフィルムには、その表面に易滑性や耐摩耗性、耐スクラッチ性などを付与するため、無機粒子、有機粒子、例えば、クレー、マイカ、酸化チタン、炭酸カルシウム、カリオン、タルク、湿式シリカ、乾式シリカ、コロイド状シリカ、リン酸カルシウム、硫酸バリウム、アルミナ、ジルコニア等の無機粒子、アクリル酸類、スチレン系樹脂、熱硬化樹脂、シリコーン、イミド系化合物等を構成成分とする有機粒子、ポリエステル重合反応時に添加する触媒等によって析出する粒子（いわゆる内部粒子）などが添加されていてもよい。粒子の粒径はＴＥＭなどによって調べることができ、粒子の添加量はＸ線マイクロアナライザーや熱分解ガスクロマト質量分析などによって調べることができる。
本発明において、支持体としての厚みは、用途に応じて適宜決定できるが、通常磁気記録媒体用途では３〜６μｍが好ましい。この厚みが３μｍより小さい場合、曲げ剛性や曲げ応力が小さくなりすぎて、磁気テープにした際にヘッドあたりが不足して電磁変換特性が低下することがある。一方、この厚みが６μｍより大きい場合は、曲げ剛性や曲げ応力が高くなりすぎて、ヘッドのエッジ近傍でテープ浮き上がりによる電磁変換特性の不良があったり、カートリッジで保存した後に巻きじまりによる転写が起こったりして電磁変換特性の低下を引き起こすことがある。したがって、高密度磁気記録媒体用途の場合、厚みの下限は、好ましくは４μｍであり、上限は、好ましくは５．５μｍである。より好ましい範囲としては４〜５．５μｍである。
また、本発明の支持体を構成するポリエステルフィルムの厚みは、３〜６μｍであることが好ましい。この厚みが３μｍより小さい場合は、曲げ剛性や曲げ応力が小さくなりすぎて、磁気テープにした際にヘッドあたりが不足して電磁変換特性が低下することがある。ポリエステルフィルムの厚みの下限は、より好ましくは４μｍである。一方、ポリエステルフィルムの厚みが６μｍより大きい場合は、曲げ剛性や曲げ応力が高くなりすぎて、ヘッドのエッジ近傍でテープ浮き上がりによる電磁変換特性の不良があったり、カートリッジで保存した後に巻きじまりによる転写が起こったりして電磁変換特性の低下を引き起こすことがある。ポリエステルフィルムの厚みの上限は、より好ましくは５．５μｍである。より好ましい範囲としては４〜５．５μｍである。
上記したような本発明の磁気記録媒体用支持体は、たとえば次のように製造される。
まず、支持体を構成するポリエステルフィルムを製造する。ポリエステルフィルムを製造するには、たとえばポリエステルのペレットを、押出機を用いて溶融し、口金から吐出した後、冷却固化してシート状に成形する。このとき、繊維焼結ステンレス金属フィルターによりポリマーを濾過することが、ポリマー中の未溶融物を除去するために好ましい。また、ポリエステルフィルムの表面に易滑性や耐摩耗性、耐スクラッチ性などを付与するため、無機粒子、有機粒子、例えば、クレー、マイカ、酸化チタン、炭酸カルシウム、カリオン、タルク、湿式シリカ、乾式シリカ、コロイド状シリカ、リン酸カルシウム、硫酸バリウム、アルミナ、ジルコニア等の無機粒子、アクリル酸類、スチレン系樹脂、熱硬化樹脂、シリコーン、イミド系化合物等を構成成分とする有機粒子、ポリエステル重合反応時に添加する触媒等によって析出する粒子（いわゆる内部粒子）などを添加することも好ましい。さらに、本発明を阻害しない範囲内であれば、各種添加剤、例えば、相溶化剤、可塑剤、耐候剤、酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、帯電防止剤、増白剤、着色剤、導電剤、結晶核剤、紫外線吸収剤、難燃剤、難燃助剤、顔料、染料、などが添加されてもよい。
続いて、上記シートを長手方向と幅方向の二軸に延伸した後、熱処理する。延伸工程は、特に限定されないが、各方向において２段階以上に分けることが好ましい。すなわち再縦、再横延伸を行う方法が高密度記録の磁気テープとして最適な高強度のフィルムが得られ易いために好ましい。
そして、支持体の長手方向のヤング率は、ポリエステルフィルムの長手方向のヤング率でほとんど決まる。一方、支持体の幅方向のヤング率も、ポリエステルフィルムの幅方向のヤング率でほとんど決まる。したがって、ポリエステルフィルムの長手方向、幅方向のヤング率を、延伸倍率や延伸温度によって制御することが好ましい。基本的には、後述する総面積延伸倍率を高くしたり、延伸温度を低くしたりすれば、製造したポリエステルフィルムのヤング率を高くすることができる。
延伸形式としては、長手方向に延伸した後に幅方向に延伸を行うなどの逐次二軸延伸法や、同時二軸テンター等を用いて長手方向と幅方向を同時に延伸する同時二軸延伸法、さらに、逐次二軸延伸法と同時二軸延伸法を組み合わせた方法などが包含される。
特に同時二軸延伸法を用いることが好ましい。逐次二軸延伸法に比べて同時二軸延伸法は、製膜工程で長手方向、幅方向に結晶が均一に成長するため、安定して高倍率に延伸しやすい。なお、ここでいう同時二軸延伸とは、長手方向と幅方向の延伸が同時に行われる工程を含む延伸方式である。必ずしも、すべての区間で長手方向と幅方向が同時に延伸されている必要はなく、長手方向の延伸が先にはじまり、その途中から幅方向にも延伸を行い（同時延伸）、長手方向の延伸が先に終了し、残りを幅方向のみ延伸するような方式でもよい。延伸装置としては、例えば同時二軸延伸テンターなどが好ましく例示され、中でもリニアモータ駆動式の同時二軸テンターが破れなくフィルムを延伸する方法として特に好ましい。
熱処理温度はポリエステルの融点を目安にして決定することができる。熱処理温度は、１５０℃〜[ポリエステルの融点（Ｔｍ）−１５]℃が好ましく、熱処理時間は０．５〜１０秒の範囲で行うのが好ましい。特に、１段目の熱処理温度を好ましくは（Ｔｍ−６５）〜（Ｔｍ−１５）℃、さらに好ましくは（Ｔｍ−５５）〜（Ｔｍ−２５）℃に設定して、２段目の熱処理温度を１段目より低温に設定する。さらに、２段目の熱処理工程のみを幅方向に１〜５％の弛緩率で弛緩処理するとさらに好ましい。上述の多段階の熱処理工程によると、ヤング率や温度・湿度変化に対する寸法安定性を高めつつ、分子鎖緩和が効果的に進行するので、本発明の効果である荷重が負荷された状態で保存したときの寸法変化を表す保存安定性を高めやすくなる
そして、このようにして製造されたポリエステルフィルムはロールに巻き取られる。
そして、このようにして製造されたポリエステルフィルムはロールに巻き取られる。
次に、上記のようにして熱処理が行われたポリエステルフィルムの両面に金属系酸化物を含む層（Ｍ層）を設ける。
このとき、支持体としての表面抵抗率の値および湿度膨張係数の値を上述のとおりとするために、金属系酸化物の酸化状態を制御する。また金属系酸化物の酸化状態を制御することで、支持体としてのヤング率も制御することが可能である。
Ｍ層の形成方法としては物理蒸着法や化学蒸着法を用いることができる。ポリエステルフィルムへの物理蒸着法には真空蒸着法、スパッタリング法があり、特に酸化度の制御しやすさから真空蒸着法が好ましく、さらに金属蒸気の高エネルギー化が可能な電子ビーム蒸着法が好ましい。
Ｍ層を構成する金属系酸化物の酸化度を制御するには、基本的には金属蒸発量と酸素ガス導入量を制御する必要がある。金属蒸発量が一定であれば、酸素ガス導入量を減らせば酸化度が低くなり、酸素ガス導入量を増やせば酸化度が高くなる。逆に酸素ガス導入量が一定であれば、金属蒸発量を減らせば酸化度が高くなり、金属蒸発量を増やせば酸化度が低くなる。
このとき、酸素ガスは、蒸着源の真横から金属蒸気の流れる方向と同じ方向に供給することが好ましい。金属蒸気の流れる方向と同じ方向に酸素ガスを供給することで、酸素ガスによる金属蒸気の乱れが少なくなり、所望の厚みや酸化度に制御し易くなる。また、酸素ガスと金属蒸気の反応空間が大きくなるため、ポリエステルフィルム上に達するまでに酸化反応が完了し、安定した構造欠陥のない蒸着膜を製膜することが可能となり、寸法安定性が向上する。
支持体の表面抵抗率は、Ｍ層の酸化度が高いほど高くなるため、蒸着時の酸素ガス導入量や酸素ガス供給ノズルの位置、金属成分の蒸発量、フィルム搬送速度を調整することで制御することができる。特に金属の蒸発量やフィルム搬送速度の影響が大きい。
支持体の曲げ剛性は、蒸着前のポリエステルフィルムのヤング率などに反映されるフィルムの配向状態や、蒸着時の金属蒸発量と酸素ガス導入量、金属元素濃度、金属原子の結合状態などで制御することができる。また、支持体の曲げ剛性は、Ｍ層の金属成分や厚みを制御することで本発明の範囲内とすることが可能である。
そして、支持体の湿度膨張係数は、蒸着前のポリエステルフィルムのヤング率などに反映されるフィルムの配向状態や、蒸着時の金属蒸発量と酸素ガス導入量、金属元素濃度、金属原子の結合状態などで制御することができる。また、支持体の湿度膨張係数は、Ｍ層の金属成分や厚みを制御することで本発明の範囲内とすることが可能である。
表面抵抗率はＭ層内の金属元素濃度とも相関があり、また、金属元素濃度が同じでも金属原子の結合状態によって変化する。特に金属−金属結合の存在比が影響し、金属−金属結合の存在比が大きいと、全光線透過率が低下したり、表面抵抗率が低下したりしやすい。
金属元素濃度は金属蒸発量と酸素ガス導入量から制御することができる。金属元素濃度を小さくするには、金属蒸発量を少なくし、酸素ガス導入量を多くすればよく、金属元素濃度を大きくするにはその逆にすればよい。
金属結合の存在比は、金属の蒸発量と酸素ガス導入量を制御することでも調整できるが、金属元素濃度よりもさらにミクロな構造を示した組成であり、酸化反応の制御が重要となる。すなわち、金属結合の存在比は金属と酸素ガスの反応効率が特に影響するため、酸素ガス導入の方法が重要となる。酸素ガス導入方法としては、蒸着源の真横から金属蒸気の流れる方向と同じ方向に供給することが好ましい。具体的には、酸素供給ノズルを図１に示すような位置に配置することが好ましい。これにより、金属蒸気と酸素ガスの反応が促進され、酸化反応が完了した状態でポリエステルフィルムに到達するため、過剰な酸素ガスを取り込んで金属結合存在比が小さくなったり、酸素ガスと反応できずに金属原子同士が結合し、金属結合存在比が大きくなってしまったりすることがなくなる。また、金属蒸気や酸素ガスを高エネルギー化することで反応が促進されるため、電子ビーム蒸着法により金属蒸気を高エネルギー化し、プラズマ処理などで酸素ガスを高エネルギー化することが好ましい。
なお、図１に示すような位置関係は、表面抵抗率制御のような酸化度制御を行う本発明では、金属と酸素ガスとよく反応し減圧度を下げる未反応酸素ガスが発生しにくく、また、るつぼ表面で溶融、蒸発がすぐに行われるため好ましく例示される。
一方、冷却ドラムに近い一般的な酸素供給ノズル位置（図３、１２４）では酸素ガスの流れが金属蒸気の流れと交差するため、所望の厚みに制御しづらく、特にＭ層の厚膜化が困難となる。さらに、反応空間が小さくなるため金属原子が不完全な酸化反応でポリエステルフィルムに到着し、不完全な構造になり、寸法安定性を悪化させ易い。それ以外にもポリエステルフィルムへの堆積始めと堆積終わりの部分近傍に酸素供給ノズルがあるため、ポリエステルフィルムとの界面やＭ層の表面で酸素濃度が高くなりやすい。Ｍ層中に異組成の層があると、寸法安定性が低下する傾向がある。
また、支持体のヤング率は、Ｍ層を構成する金属成分の種類やＭ層の厚み、酸化度によっても制御できる。Ｍ層自体の強度を高く、膜厚を厚くすることで支持体のヤング率を高めることができる。
そして、上述したように、Ｍ層は水和物が形成されると体積変化、ひずみを生じ、寸法安定性が悪化しやすい。そこで、水酸基と結合しているアルミニウム原子の存在比を上記範囲内と小さくするために、水和物を形成させないこと、すなわち水分を吸湿させないことが好ましい。アルミニウム原子と酸素原子がしっかり結合していて、未結合のアルミニウム原子や酸素原子を減らし、不完全な構造をなくすように形成することで水分の吸湿を防ぐことができる。不完全な構造はないことが好ましいが、形成時に生成してしまった場合は強制的に一気に吸湿させ、Ｍ層全体から未結合のアルミニウムや酸素原子をなくすことが好ましい。つまり、Ｍ層形成後は未結合原子をなくすための強制加湿処理を行うことが好ましい。加湿処理を行わず、未結合原子が残存していると、部分的に吸湿が起こり、その吸湿による体積変化などでＭ層に構造欠陥を作りやすくなる。構造欠陥はさらなる吸湿を発生させる原因ともなり、加湿処理を行わない場合より、水酸基と結合しているアルミニウム原子の存在比が高くなってしまう場合もある。強制の加湿処理を行わない場合は隙間構造がいわば完全には埋まっていない状態のため、構造欠陥が生じやすい。
また、Ｍ層を形成する時にポリエステルフィルムが吸湿していると、形成時の熱負荷などによりポリエステルフィルムから水分が放出され、Ｍ層の中に水分を取り込むこととなり、水和物を形成してしまうことがある。Ｍ層を形成する前にポリエステルフィルム内の水分量を減らしておくことが好ましい。
なお、本発明においては、ポリエステルフィルムやそのポリエステルフィルムを用いて得られた支持体に、必要に応じて、熱処理、マイクロ波加熱、成形、表面処理、ラミネート、コーティング、印刷、エンボス加工、エッチング、などの任意の加工を行ってもよい。
以下、本発明の支持体の製造方法について、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）をポリエステルとして用いた例を代表例として説明する。もちろん、本願はＰＥＴフィルムを用いた支持体に限定されるものではなく、他のポリマーを用いたものものでもよい。例えば、ガラス転移温度や融点の高いポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートなどを用いてポリエステルフィルムを構成する場合は、以下に示す温度よりも高温で押出や延伸を行えばよい。
まず、ポリエチレンテレフタレートを準備する。ポリエチレンテレフタレートは、次のいずれかのプロセスで製造される。すなわち、（１）テレフタル酸とエチレングリコールを原料とし、直接エステル化反応によって低分子量のポリエチレンテレフタレートまたはオリゴマーを得、さらにその後の三酸化アンチモンやチタン化合物を触媒に用いた重縮合反応によってポリマーを得るプロセス、（２）ジメチルテレフタレートとエチレングリコールを原料とし、エステル交換反応によって低分子量体を得、さらにその後の三酸化アンチモンやチタン化合物を触媒に用いた重縮合反応によってポリマーを得るプロセスである。ここで、エステル化は無触媒でも反応は進行するが、エステル交換反応においては、通常、マンガン、カルシウム、マグネシウム、亜鉛、リチウム、チタン等の化合物を触媒に用いて進行させ、またエステル交換反応が実質的に完結した後に、該反応に用いた触媒を不活性化する目的で、リン化合物を添加する場合もある。
フィルムを構成するポリエステルに不活性粒子を含有させる場合には、エチレングリコールに不活性粒子を所定割合にてスラリーの形で分散させ、このエチレングリコールを重合時に添加する方法が好ましい。不活性粒子を添加する際には、例えば、不活性粒子の合成時に得られる水ゾルやアルコールゾル状態の粒子を一旦乾燥させることなく添加すると粒子の分散性がよい。また、不活性粒子の水スラリーを直接ＰＥＴペレットと混合し、ベント式二軸混練押出機を用いて、ＰＥＴに練り込む方法も有効である。不活性粒子の含有量を調節する方法としては、上記方法で高濃度の不活性粒子のマスターペレットを作っておき、それを製膜時に不活性粒子を実質的に含有しないＰＥＴで希釈して不活性粒子の含有量を調節する方法が有効である。
次に、得られたＰＥＴのペレットを、１８０℃で３時間以上減圧乾燥した後、固有粘度が低下しないように窒素気流下あるいは減圧下で、２７０〜３２０℃に加熱された押出機に供給し、スリット状のダイから押出し、キャスティングロール上で冷却して未延伸フィルムを得る。この際、異物や変質ポリマーを除去するために各種のフィルター、例えば、焼結金属、多孔性セラミック、サンド、金網などの素材からなるフィルターを用いることが好ましい。また、必要に応じて、定量供給性を向上させるためにギアポンプを設けてもよい。フィルムを積層する場合には、２台以上の押出機およびマニホールドまたは合流ブロックを用いて、複数の異なるポリマーを溶融積層する。
次に、この未延伸フィルムをたとえば同時二軸延伸テンターに導いて、長手および幅方向に同時に二軸延伸を行う。延伸速度は長手、幅方向ともに１００〜２０，０００％／分の範囲で行うのが好ましい。より好ましくは、５００〜１０，０００％／分、さらに好ましくは２，０００〜７，０００％／分である。延伸速度が１００％／分よりも小さい場合には、フィルムが熱にさらされる時間が長くなるため、特にエッジ部分が結晶化して延伸破れの原因となり製膜性が低下したり、十分に分子配向が進まず、製造したフィルムのヤング率が低下することがある。また、２０，０００％／分よりも大きい場合には、延伸時点で分子間の絡み合いが生成しやすくなり、延伸性が低下して、高倍率の延伸が困難となることがある。
延伸温度は、用いるポリマーの種類によって異なるが、未延伸フィルムのガラス転移温度Ｔｇを目安として決めることができる。長手方向および幅方向それぞれの１段目の延伸工程における温度は、Ｔｇ〜Ｔｇ＋３０℃の範囲であることが好ましく、より好ましくはＴｇ＋５℃〜Ｔｇ＋１５℃である。上記範囲より延伸温度が低い場合には、フィルム破れが多発して生産性が低下したり、再延伸性が低下して、高倍率に安定して延伸することが困難となることがある。また、上記範囲よりも延伸温度が高い場合には、特にエッジ部分が結晶化して延伸破れの原因となり製膜性が低下したり、十分に分子配向が進まず、製造したフィルムのヤング率が低下することがある。
そして、ポリエステルフィルムの製造工程が多段延伸、すなわち再延伸工程を含む場合、１段目の延伸温度は上述のとおりであるが、２段目の延伸温度はＴｇ＋６０℃〜Ｔｇ＋１２０℃が好ましく、さらに好ましくはＴｇ＋８０℃〜Ｔｇ＋１００℃である。延伸温度が上記範囲を外れる場合には、熱量不足や結晶化の進みすぎによって、フィルム破れが多発して生産性が低下したり、十分に配向を高めることができず、強度が低下する場合がある。特に、２段目の延伸温度を１段目の延伸温度の８０〜１１０℃高い温度で延伸することが分子配向を高めやすいので好ましい。それより低い温度で２段目を延伸すると、局所的に緊張が高まりやすく、フィルム破れが発生しやすくなる。また、それより高い温度で２段目を延伸すると、結晶化が進行しやすくなり、効果的に分子配向させることが困難であることがある。
一方、延伸倍率は、用いるポリマーの種類や延伸温度によって異なり、また多段延伸の場合も異なるが、総面積延伸倍率（総縦延伸倍率×総横延伸倍率）が、１５〜４０倍の範囲になるようにすることが好ましい。より好ましくは２０〜３５倍である。長手方向、幅方向の一方向の総延伸倍率としては、３〜７倍が好ましく、より好ましくは、３．５〜６倍である。延伸倍率が上記範囲より小さい場合には、延伸ムラなどが発生しフィルムの加工適性が低下することがある。また、延伸倍率が上記範囲より大きい場合には、延伸破れが多発して、生産性が低下する場合がある。
各方向に関して延伸を多段で行う場合、１段目の長手、幅方向それぞれにおける延伸倍率は、３〜５倍が好ましく、より好ましくは３．３〜４倍である。また、１段目における好ましい面積延伸倍率は９〜１６倍であり、より好ましくは、１０〜１４倍である。これらの延伸倍率の値は、特に同時二軸延伸法を採用する場合に好適な値であるが、逐次二軸延伸法でも適用できる。
また、再延伸を行う場合の一方向における延伸倍率は、１．０５〜２．５倍が好ましく、より好ましくは１．２〜１．８倍である。再延伸の面積延伸倍率としては、１．４〜４倍が好ましく、より好ましくは１．６〜３倍である。
本発明では、長手方向のヤング率Ｅｍと幅方向のヤング率Ｅｔの比Ｅｍ／Ｅｔが０．５〜１．０である二軸配向ポリエステルフィルムを得るために、幅方向の延伸倍率が長手方向の延伸倍率より大きいことが必要である。その場合、幅方向の総延伸倍率が長手方向の総延伸倍率の１．１〜１．２倍であることが好ましい。１段目の延伸において、分子鎖の配向結晶化が進行しているため、特に、２段目の延伸において、幅方向の延伸倍率が長手方向の延伸倍率の１．１〜１．２倍に制御することが幅方向の分子鎖配向を高めるうえでより好ましい。
続いて、この延伸フィルムを緊張下または幅方向に弛緩しながら熱処理する。熱処理条件は、熱処理温度は、１５０℃〜２３０℃が好ましく、熱処理時間は０．５〜１０秒の範囲で行うのが好ましい。熱処理工程を２段階以上の多段階で行うことが好ましく、特に、１段目の熱処理温度を好ましくは１８０〜２３０℃、さらに好ましくは１９０〜２２０℃に設定して、２段目の熱処理温度を１段目より低温にして、好ましくは１５０〜２００℃、さらに好ましくは１５０〜１８０℃に設定する。さらに、２段目の熱処理工程のみを幅方向に１〜５％の弛緩率で弛緩処理するとさらに好ましい。上述の多段階の熱処理工程によると、ヤング率や温度・湿度変化に対する寸法安定性を高めつつ、分子鎖緩和が効果的に進行するので、本発明の効果である荷重が負荷された状態で保存したときの寸法変化を表す保存安定性を高めやすくなる。
その後、フィルムエッジを除去し、ロールに巻き取る。また、フィルムをコアに巻いた状態（ロール状フィルム）で、熱風オーブンなどで加熱処理してもよい。
このように作製されたポリエステルフィルムは、水分を吸湿しないように、低湿度の環境下で保存することが好ましく、搬送時などもできるだけ吸湿を防ぐような梱包が好ましい。ポリエステルフィルムの吸湿はＭ層形成時に悪影響を及ぼすためである。
次に、上記のようにして得られたＰＥＴフィルムの両面に金属系酸化物を含む層（Ｍ層）を設ける方法を説明する。
ＰＥＴフィルム表面にＭ層を形成するには、たとえば図１に示すような真空蒸着装置を用いる。この真空蒸着装置１１においては、真空チャンバ１２の内部をポリエステルフィルムが巻出しロール部１３から冷却ドラム１６を経て巻取りロール部１８へと走行する。そのときに、るつぼ２３内の金属材料１９を、電子銃２０から照射した電子ビーム２１で加熱蒸発させるとともに、酸素供給ノズル２４から酸素ガスを導入し、蒸発した金属を酸化反応させながら冷却ドラム１６上のポリエステルフィルムに蒸着する。本発明は両面にＭ層が必要なため、片方の表面（１面目）に金属系酸化物を蒸着した後巻取りロール部１８から片面蒸着ポリエステルフィルムを取り外し、それを巻出しロール部１３にセットし同じように反対側の表面（２面目）に金属系酸化物を蒸着する。なお、この真空蒸着装置１１は、酸化度を容易に制御できるように、酸素供給ノズル２４を蒸着源であるるつぼ２３の真横に設置し、かつ、金属蒸気と酸素ガスとが同じ方向に流れるようにしている。その結果、金属蒸気と酸素ガスとの反応空間も大きくなっている。
ここで、真空チャンバ１２の内部は１．０×１０−８〜１．０×１０２Ｐａに減圧することが好ましい。さらに緻密で劣化部分の少ないＭ層を形成させるためには、１．０×１０−６〜１．０×１０−１Ｐａに減圧することが好ましい。
冷却ドラム１６は、その表面温度を−４０〜６０℃の範囲内にすることが好ましい。より好ましくは−３５〜３０℃、さらに好ましくは−３０〜０℃である。
電子ビーム２１は、その出力が２．０〜８．０ｋＷの範囲内のもので行うのが好ましい。より好ましくは３．０〜７．０ｋＷ、さらに好ましくは４．０〜６．０ｋＷの範囲内である。なお、直接ルツボを加熱することで金属材料１９を加熱蒸発させてもよい。
酸素ガスは、ガス流量制御装置２６を用いて０．５〜１０Ｌ／ｍｉｎの流量で真空チャンバ１２内部に導入する。より好ましくは１．５〜８Ｌ／ｍｉｎ、さらに好ましくは２．０〜５Ｌ／ｍｉｎである。
真空チャンバ１２の内部におけるポリエステルフィルムの搬送速度は２０〜２００ｍ／ｍｉｎが好ましい。より好ましくは３０〜１００ｍ／ｍｉｎ、さらに好ましくは４０〜８０ｍ／ｍｉｎである。搬送速度が２０ｍ／ｍｉｎより遅い場合、上記のようなＭ層厚みに制御するためには金属の蒸発量をかなり小さくする必要がある。そのため、酸素ガス導入量も減らす必要がでてくるために、酸化度の制御が非常に難しくなる。搬送速度が２００ｍ／ｍｉｎより速くなると、冷却ドラムとの接触時間が短くなるため熱による破れやシワが発生し、生産性が低下する傾向がある。また、金属蒸気と酸素ガスとが不充分な反応状態で成膜されやすく、酸化度の制御が難しくなる場合がある。
真空チャンバ１２の内部におけるポリエステルフィルムの搬送張力は５０〜１５０Ｎ／ｍが好ましい。より好ましくは７０〜１２０Ｎ／ｍ、さらに好ましくは８０〜１００Ｎ／ｍである。ただし、２面目の蒸着時には搬送張力を１面目より弱めることが好ましい。２面目の搬送張力は１面目の搬送張力より５〜３０Ｎ／ｍ低いことが好ましく、より好ましくは７〜２５Ｎ／ｍ低く、さらに好ましくは１０〜２０Ｎ／ｍ低いことが好ましい。これは、１面目の蒸着時にポリエステルフィルムが熱負荷を受け収縮しようとする力を失うため、２面目の蒸着時に１面目と同様の搬送張力で走行させると、熱による破れやシワが発生し、生産性が損なわれる傾向があるからである。さらに、ポリエステルフィルムの表面粗さが面によって異なる場合は、先に粗い方の面を蒸着することが好ましい。これは２面目蒸着時に冷却ドラムへの密着性を高めるためである。蒸着は片面ずつ行ってもよいし、両面を１工程で行ってもよい。
蒸着後、Ｍ層を安定化させ、緻密性を高めるためには、真空蒸着装置内を常圧に戻して、巻取ったフィルムを巻き返すことが好ましい。特に、未結合原子を減らすためには加湿巻き返しを行うことが水蒸気とＭ層が接触する機会が長くなるため好ましい。加湿巻き返しは２０〜４０℃で６０〜８０％ＲＨで行うことが好ましい。さらに、２０〜５０℃の温度で１〜３日間エージングすることが好ましく、さらに好ましくは湿度６０％以上の結露しない程度の環境下でエージングすることが好ましい。
次に、磁気記録媒体を製造する方法を説明する。上記のようにして得られた磁気記録媒体用支持体を、たとえば０．１〜３ｍ幅にスリットし、速度２０〜３００ｍ／ｍｉｎ、張力５０〜３００Ｎ／ｍで搬送しながら、一方の面（Ａ）に磁性塗料および非磁性塗料をエクストルージョンコーターにより重層塗布する。なお、上層に磁性塗料を厚み０．１〜０．３μｍで塗布し、下層に非磁性塗料を厚み０．５〜１．５μmで塗布する。その後、磁性塗料および非磁性塗料が塗布された支持体を磁気配向させ、温度８０〜１３０℃で乾燥させる。次いで、反対側の面（Ｂ）にバックコートを厚み０．３〜０．８μmで塗布し、カレンダー処理した後、巻き取る。なお、カレンダー処理は、小型テストカレンダー装置（スチール／ナイロンロール、５段）を用い、温度７０〜１２０℃、線圧０．５〜５ｋＮ／ｃｍで行う。その後、６０〜８０℃にて２４〜７２時間エージング処理し、１／２インチ（１．２７ｃｍ）幅にスリットし、パンケーキを作製する。次いで、このパンケーキから特定の長さ分をカセットに組み込んで、カセットテープ型磁気記録媒体とする。
ここで、磁性塗料などの組成は例えば以下のような組成が挙げられる。
（磁性塗料の組成）
・強磁性金属粉末 ： １００質量部
・変成塩化ビニル共重合体 ： １０質量部
・変成ポリウレタン ： １０質量部
・ポリイソシアネート ： ５質量部
・２−エチルヘキシルオレート ： １．５質量部
・パルミチン酸 ： １質量部
・カーボンブラック ： １質量部
・アルミナ ： １０質量部
・メチルエチルケトン ： ７５質量部
・シクロヘキサノン ： ７５質量部
・トルエン ： ７５質量部
（バックコートの組成）
・カーボンブラック（平均粒径２０ｎｍ） ： ９５質量部
・カーボンブラック（平均粒径２８０ｎｍ）： １０質量部
・アルミナ ： ０．１質量部
・変成ポリウレタン ： ２０質量部
・変成塩化ビニル共重合体 ： ３０質量部
・シクロヘキサノン ： ２００質量部
・メチルエチルケトン ： ３００質量部
・トルエン ： １００質量部
磁気記録媒体は上記に示した以外に、コバルト、ニッケル、鉄などを蒸着やスパッタなどにより設けた強磁性薄膜型磁性層を有するものでもかまわない。
（磁性塗料の組成）
・強磁性金属粉末 ： １００質量部
・変成塩化ビニル共重合体 ： １０質量部
・変成ポリウレタン ： １０質量部
・ポリイソシアネート ： ５質量部
・２−エチルヘキシルオレート ： １．５質量部
・パルミチン酸 ： １質量部
・カーボンブラック ： １質量部
・アルミナ ： １０質量部
・メチルエチルケトン ： ７５質量部
・シクロヘキサノン ： ７５質量部
・トルエン ： ７５質量部
（バックコートの組成）
・カーボンブラック（平均粒径２０ｎｍ） ： ９５質量部
・カーボンブラック（平均粒径２８０ｎｍ）： １０質量部
・アルミナ ： ０．１質量部
・変成ポリウレタン ： ２０質量部
・変成塩化ビニル共重合体 ： ３０質量部
・シクロヘキサノン ： ２００質量部
・メチルエチルケトン ： ３００質量部
・トルエン ： １００質量部
磁気記録媒体は上記に示した以外に、コバルト、ニッケル、鉄などを蒸着やスパッタなどにより設けた強磁性薄膜型磁性層を有するものでもかまわない。
磁気記録媒体は、例えば、データ記録用途、具体的にはコンピュータデータのバックアップ用途（例えばリニアテープ式の記録媒体（ＬＴＯ４やＬＴＯ５など））や映像などのデジタル画像の記録用途などに好適に用いることができる。
（物性の測定方法ならびに効果の評価方法）
本発明における特性値の測定方法並びに効果の評価方法は次の通りである。例えば、磁気テープから本願の支持体を取り出すためには、メチルエチルケトンを用いて磁性層やバックコート層を拭き剥がすことで評価が可能となる。
本発明における特性値の測定方法並びに効果の評価方法は次の通りである。例えば、磁気テープから本願の支持体を取り出すためには、メチルエチルケトンを用いて磁性層やバックコート層を拭き剥がすことで評価が可能となる。
（１）曲げ応力
支持体の長手方向に対して、下記条件にて測定を行い、５回の測定結果の平均値を本発明における曲げ応力とする。
支持体の長手方向に対して、下記条件にて測定を行い、５回の測定結果の平均値を本発明における曲げ応力とする。
・測定装置：ループスティッフネステスター（東洋精機製）
・試料サイズ：支持体長手方向５０ｍｍ×支持体幅方向１０ｍｍ
・押し込み距離：１５ｍｍ
・測定温度：２３℃、６５％ＲＨ
（２）湿度膨張係数
支持体の幅方向に対して、下記条件にて測定を行い、３回の測定結果の平均値を本発明における湿度膨張係数とする。
・試料サイズ：支持体長手方向５０ｍｍ×支持体幅方向１０ｍｍ
・押し込み距離：１５ｍｍ
・測定温度：２３℃、６５％ＲＨ
（２）湿度膨張係数
支持体の幅方向に対して、下記条件にて測定を行い、３回の測定結果の平均値を本発明における湿度膨張係数とする。
・測定装置：島津製作所製熱機械分析装置ＴＭＡ−５０（湿度発生器：アルバック理工製湿度雰囲気調節装置ＨＣ−１）
・試料サイズ：支持体長手方向１０ｍｍ×支持体幅方向１２．６ｍｍ
・荷重：０．５ｇ
・測定回数：３回
・測定温度：３０℃
・測定湿度：４０％ＲＨで６時間保持し寸法を測定し時間４０分で８０％ＲＨまで昇湿し、８０％ＲＨで６時間保持したあと支持体幅方向の寸法変化量ΔＬ（ｍｍ）を測定する。次式から湿度膨張係数（ｐｐｍ／％ＲＨ）を算出する。
・試料サイズ：支持体長手方向１０ｍｍ×支持体幅方向１２．６ｍｍ
・荷重：０．５ｇ
・測定回数：３回
・測定温度：３０℃
・測定湿度：４０％ＲＨで６時間保持し寸法を測定し時間４０分で８０％ＲＨまで昇湿し、８０％ＲＨで６時間保持したあと支持体幅方向の寸法変化量ΔＬ（ｍｍ）を測定する。次式から湿度膨張係数（ｐｐｍ／％ＲＨ）を算出する。
・湿度膨張係数（ｐｐｍ／％ＲＨ）＝１０６×｛（ΔＬ／１２．６）／（８０−４０）｝
（３）ヤング率
ＡＳＴＭ−Ｄ８８２（１９９７年）に準拠して支持体のヤング率を測定する。なお、インストロンタイプの引張試験機を用い、条件は下記のとおりとする。５回の測定結果の平均値を本発明におけるヤング率とする。
（３）ヤング率
ＡＳＴＭ−Ｄ８８２（１９９７年）に準拠して支持体のヤング率を測定する。なお、インストロンタイプの引張試験機を用い、条件は下記のとおりとする。５回の測定結果の平均値を本発明におけるヤング率とする。
・測定装置：インストロン社製超精密材料試験機ＭＯＤＥＬ５８４８
・試料サイズ：
支持体幅方向のヤング率測定の場合
支持体長手方向２ｍｍ×支持体幅方向１２．６ｍｍ
（つかみ間隔は支持体幅方向に８ｍｍ）
支持体長手方向のヤング率測定の場合
支持体幅方向２ｍｍ×支持体長手方向１２．６ｍｍ
（つかみ間隔は支持体長手方向に８ｍｍ）
・引張り速度：１ｍｍ／分
・測定環境：温度２３℃、湿度６５％ＲＨ
・測定回数：５回測定し、平均値から算出する。
・試料サイズ：
支持体幅方向のヤング率測定の場合
支持体長手方向２ｍｍ×支持体幅方向１２．６ｍｍ
（つかみ間隔は支持体幅方向に８ｍｍ）
支持体長手方向のヤング率測定の場合
支持体幅方向２ｍｍ×支持体長手方向１２．６ｍｍ
（つかみ間隔は支持体長手方向に８ｍｍ）
・引張り速度：１ｍｍ／分
・測定環境：温度２３℃、湿度６５％ＲＨ
・測定回数：５回測定し、平均値から算出する。
（４）Ｍ層の厚み
下記条件にて断面観察を行い、得られた合計９点の厚み（ｎｍ）の平均値を算出し、Ｍ層の厚み（ｎｍ）とする。
下記条件にて断面観察を行い、得られた合計９点の厚み（ｎｍ）の平均値を算出し、Ｍ層の厚み（ｎｍ）とする。
・測定装置：透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ） 日立製Ｈ−７１００ＦＡ型
・測定条件：加速電圧 １００ｋＶ
・測定倍率：２０万倍
・試料調製：超薄膜切片法
・観察面 ：ＴＤ−ＺＤ断面
・測定回数：１視野につき３点、３視野を測定する。
・測定条件：加速電圧 １００ｋＶ
・測定倍率：２０万倍
・試料調製：超薄膜切片法
・観察面 ：ＴＤ−ＺＤ断面
・測定回数：１視野につき３点、３視野を測定する。
（５）組成分析
下記条件にて、深さ方向の組成分析を行う。炭素濃度が５０ａｔ．％を越える深さをＭ層とポリエステルフィルムとの界面とし、表層から界面までを等分に５分割し、それぞれの区間の中央点を測定点として組成分析を行う。得られた各測定点の組成から平均値を算出し、本発明における平均組成とする。
下記条件にて、深さ方向の組成分析を行う。炭素濃度が５０ａｔ．％を越える深さをＭ層とポリエステルフィルムとの界面とし、表層から界面までを等分に５分割し、それぞれの区間の中央点を測定点として組成分析を行う。得られた各測定点の組成から平均値を算出し、本発明における平均組成とする。
・測定装置：Ｘ線光電子分光機 Ｑｕａｎｔｅｒａ−ＳＸＭ 米国ＰＨＩ社製
・励起Ｘ線：ｍｏｎｏｃｈｒｏｍａｔｉｃ ＡｌＫα１，２線（１４８６．６ｅＶ）
・Ｘ線径 ：１００（μm）
・光電子脱出角度：４５°
・ラスター領域：２×２（ｍｍ）
・Ａｒイオンエッチング： ２．０（ｋＶ） １．５×１０−７（Ｔｏｒｒ）
・スパッタ速度：３．６８ｎｍ／ｍｉｎ（Ｓｉ２Ｏ換算値）
・データ処理：９−ｐｏｉｎｔ ｓｍｏｏｔｈｉｎｇ
ピークの結合エネルギー値から元素情報が得られ、各ピークの面積比を用いて組成を定量化（ａｔ．％）する。さらに、金属元素のピークは結合状態（メタル−酸素，メタル−水酸基，メタル−メタルなど）によってそれぞれ結合状態のピークへ分割ができ、それぞれの結合状態のピークの面積比から結合状態の存在比を定量化［ａｔ．％］することができる。例えば、Ｍ層の金属成分がアルミニウムの場合、金属結合（Ａｌ−Ａｌ）、アルミニウム−酸素結合（Ａｌ２Ｏ３）、アルミニウム−酸素−水酸基結合（ＡｌＯＯＨ）、アルミニウム−水酸基結合（Ａｌ（ＯＨ）３）の４種類に分割することができる。なお、上述の水酸基と結合するアルミニウムの存在比は４つめのアルミニウム−水酸基結合（Ａｌ（ＯＨ）３）の存在比のことである。また、結合状態のピーク分割についてはB.Vincent Crist著Handbook of Monochromatic XPS Spectra（２０００年１０月、Wiley社発行）を参考にして行う。
・励起Ｘ線：ｍｏｎｏｃｈｒｏｍａｔｉｃ ＡｌＫα１，２線（１４８６．６ｅＶ）
・Ｘ線径 ：１００（μm）
・光電子脱出角度：４５°
・ラスター領域：２×２（ｍｍ）
・Ａｒイオンエッチング： ２．０（ｋＶ） １．５×１０−７（Ｔｏｒｒ）
・スパッタ速度：３．６８ｎｍ／ｍｉｎ（Ｓｉ２Ｏ換算値）
・データ処理：９−ｐｏｉｎｔ ｓｍｏｏｔｈｉｎｇ
ピークの結合エネルギー値から元素情報が得られ、各ピークの面積比を用いて組成を定量化（ａｔ．％）する。さらに、金属元素のピークは結合状態（メタル−酸素，メタル−水酸基，メタル−メタルなど）によってそれぞれ結合状態のピークへ分割ができ、それぞれの結合状態のピークの面積比から結合状態の存在比を定量化［ａｔ．％］することができる。例えば、Ｍ層の金属成分がアルミニウムの場合、金属結合（Ａｌ−Ａｌ）、アルミニウム−酸素結合（Ａｌ２Ｏ３）、アルミニウム−酸素−水酸基結合（ＡｌＯＯＨ）、アルミニウム−水酸基結合（Ａｌ（ＯＨ）３）の４種類に分割することができる。なお、上述の水酸基と結合するアルミニウムの存在比は４つめのアルミニウム−水酸基結合（Ａｌ（ＯＨ）３）の存在比のことである。また、結合状態のピーク分割についてはB.Vincent Crist著Handbook of Monochromatic XPS Spectra（２０００年１０月、Wiley社発行）を参考にして行う。
（６）表面抵抗率
表面抵抗率の範囲によって、測定可能な装置が異なるため、まずｉ）の方法で支持体の測定を行い、表面抵抗率が低すぎて測定不可能なサンプルをｉｉ）の方法で測定する。５回の測定結果の平均値を本発明における表面抵抗率とする。
表面抵抗率の範囲によって、測定可能な装置が異なるため、まずｉ）の方法で支持体の測定を行い、表面抵抗率が低すぎて測定不可能なサンプルをｉｉ）の方法で測定する。５回の測定結果の平均値を本発明における表面抵抗率とする。
ｉ）高抵抗率測定 ＪＩＳ−Ｃ２１５１（１９９０年）に準拠し、下記測定装置を用いて測定する。
・測定装置：デジタル超高抵抗／微小電流計Ｒ８３４０ アドバンテスト（株）製
・印加電圧：１００Ｖ
・印加時間：１０秒間
・測定単位：Ω
・測定環境：温度２３℃湿度６５％ＲＨ
・測定回数：５回測定する。
ｉｉ）低抵抗率測定
ＪＩＳ−Ｋ７１９４（１９９４年）に準拠し、下記測定装置を用いて測定する。
・印加電圧：１００Ｖ
・印加時間：１０秒間
・測定単位：Ω
・測定環境：温度２３℃湿度６５％ＲＨ
・測定回数：５回測定する。
ｉｉ）低抵抗率測定
ＪＩＳ−Ｋ７１９４（１９９４年）に準拠し、下記測定装置を用いて測定する。
・測定装置：ロレスターＥＰ ＭＣＰ−Ｔ３６０ 三菱化学製
・測定環境：温度２３℃湿度６５％ＲＨ
・測定回数：５回測定する。
・測定環境：温度２３℃湿度６５％ＲＨ
・測定回数：５回測定する。
（７）中心線平均粗さＲａ
触針式表面粗さ計を用いて下記条件にて支持体の中心線平均粗さＲａを測定する。フィルム幅方向に２０回走査して測定を行い、得られた結果の平均値を本発明における中心線平均粗さＲａとする。
触針式表面粗さ計を用いて下記条件にて支持体の中心線平均粗さＲａを測定する。フィルム幅方向に２０回走査して測定を行い、得られた結果の平均値を本発明における中心線平均粗さＲａとする。
・測定装置 ：小坂研究所製高精度薄膜段差測定器ＥＴ−１０
・触針先端半径：０．５μｍ
・触針荷重 ：５ｍｇ
・測定長 ：１ｍｍ
・カットオフ値：０．０８ｍｍ
・測定環境 ：温度２３℃湿度６５％ＲＨ
（８）動的粘弾性の損失正接（ｔａｎδ）のピーク温度
ＤＭＳ６１００（セイコ−インスツルメンツ社製）を用い、支持体の長手方向を試料長さとして、試料幅１０mm、試料長さ（チャック間距離）２０mmの試料を下記条件で測定した。
・触針先端半径：０．５μｍ
・触針荷重 ：５ｍｇ
・測定長 ：１ｍｍ
・カットオフ値：０．０８ｍｍ
・測定環境 ：温度２３℃湿度６５％ＲＨ
（８）動的粘弾性の損失正接（ｔａｎδ）のピーク温度
ＤＭＳ６１００（セイコ−インスツルメンツ社製）を用い、支持体の長手方向を試料長さとして、試料幅１０mm、試料長さ（チャック間距離）２０mmの試料を下記条件で測定した。
・測定温度域 ：３０〜２００℃
・振動周波数 ：１Ｈｚ
・振動変位（歪み） ：１０（μｍ）
・昇温速度 ：２（℃／分）
上記条件下で測定したデ−タをもとに、温度（３０〜２００℃）を横軸として損失正接（ｔａｎδ）を縦軸としたグラフを作成し、最も大きいピーク（主分散）のピーク温度をとる。３回評価してその平均値とした。
・振動周波数 ：１Ｈｚ
・振動変位（歪み） ：１０（μｍ）
・昇温速度 ：２（℃／分）
上記条件下で測定したデ−タをもとに、温度（３０〜２００℃）を横軸として損失正接（ｔａｎδ）を縦軸としたグラフを作成し、最も大きいピーク（主分散）のピーク温度をとる。３回評価してその平均値とした。
（９）ガラス転移温度（Ｔｇ）
下記装置および条件で比熱測定を行い、ＪＩＳ Ｋ７１２１（１９８７年）に従って決定する。
下記装置および条件で比熱測定を行い、ＪＩＳ Ｋ７１２１（１９８７年）に従って決定する。
・装置 ：ＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ社製温度変調ＤＳＣ
測定条件：
・加熱温度 ：２７０〜５７０Ｋ（ＲＣＳ冷却法）
・温度校正 ：高純度インジウムおよびスズの融点
・温度変調振幅：±１Ｋ
・温度変調周期：６０秒
・昇温ステップ：５Ｋ
・試料重量 ：５ｍｇ
・試料容器 ：アルミニウム製開放型容器（２２ｍｇ）
・参照容器 ：アルミニウム製開放型容器（１８ｍｇ）
なお、ガラス転移温度は下記式により算出する。
測定条件：
・加熱温度 ：２７０〜５７０Ｋ（ＲＣＳ冷却法）
・温度校正 ：高純度インジウムおよびスズの融点
・温度変調振幅：±１Ｋ
・温度変調周期：６０秒
・昇温ステップ：５Ｋ
・試料重量 ：５ｍｇ
・試料容器 ：アルミニウム製開放型容器（２２ｍｇ）
・参照容器 ：アルミニウム製開放型容器（１８ｍｇ）
なお、ガラス転移温度は下記式により算出する。
ガラス転移温度＝（補外ガラス転移開始温度＋補外ガラス転移終了温度）／２
（１０）融点（Ｔｍ）
示差走査熱量計としてセイコーインスツルメンツ社製ＤＳＣ（ＲＤＣ２２０）、データ解析装置として同社製ディスクステーション（ＳＳＣ／５２００）を用いて、サンプル約５ｍｇをアルミニウム製受皿上３００℃で５分間溶融保持し、急冷固化した後、室温から昇温速度２０℃／分で昇温する。そのとき、観測される融解の吸熱ピークのピーク温度を融点（Ｔｍ）とする。
（１０）融点（Ｔｍ）
示差走査熱量計としてセイコーインスツルメンツ社製ＤＳＣ（ＲＤＣ２２０）、データ解析装置として同社製ディスクステーション（ＳＳＣ／５２００）を用いて、サンプル約５ｍｇをアルミニウム製受皿上３００℃で５分間溶融保持し、急冷固化した後、室温から昇温速度２０℃／分で昇温する。そのとき、観測される融解の吸熱ピークのピーク温度を融点（Ｔｍ）とする。
（１１）幅寸法測定
１ｍ幅にスリットした支持体を、張力２００Ｎで搬送させ、支持体の一方の表面（Ａ）に下記組成の磁性塗料および非磁性塗料をエクストルージョンコーターにより重層塗布し（上層が磁性塗料で、塗布厚０．２μｍ、下層が非磁性塗料で塗布厚０．９μm）、磁気配向させ、乾燥温度１００℃で乾燥させる。次いで反対側の表面（Ｂ）に下記組成のバックコートを塗布した後、小型テストカレンダー装置（スチール／ナイロンロール、５段）で、温度８５℃、線圧２．０×１０５Ｎ／ｍでカレンダー処理した後、巻き取る。上記テープ原反を１／２インチ（１２．６５ｍｍ）幅にスリットし、パンケーキを作成する。次いで、このパンケーキから長さ２００ｍ分をカセットに組み込んで、カセットテープとする。
（磁性塗料の組成）
・強磁性金属粉末 ： １００質量部
〔Ｆｅ：Ｃｏ：Ｎｉ：Ａｌ：Ｙ：Ｃａ＝７０：２４：１：２：２：１(質量比)〕
〔長軸長：０．０９μｍ、軸比：６、保磁力：１５３ｋＡ／ｍ（１，９２２Ｏｅ）、飽和磁化：１４６Ａｍ２ ／ｋｇ（１４６ｅｍｕ／ｇ）、ＢＥＴ比表面積：５３ｍ２ ／ｇ、Ｘ線粒径：１５ｎｍ〕
・変成塩化ビニル共重合体（結合剤） ： １０質量部
（平均重合度：２８０、エポキシ基含有量：３．１質量％、スルホン酸基含有量：８×１０−５当量／ｇ）
・変成ポリウレタン（結合剤） ： １０質量部
（数平均分子量：２５，０００，スルホン酸基含有量：１．２×１０−４当量／ｇ、ガラス転移点：４５℃）
・ポリイソシアネート（硬化剤） ： ５質量部
（日本ポリウレタン工業（株）製コロネートＬ（商品名））
・２−エチルヘキシルオレート（潤滑剤） ： １．５質量部
・パルミチン酸（潤滑剤） ： １質量部
・カーボンブラック（帯電防止剤） ： １質量部
（平均一次粒子径：０．０１８μｍ）
・アルミナ（研磨剤） ： １０質量部
（αアルミナ、平均粒子径：０．１８μｍ）
・メチルエチルケトン ： ７５質量部
・シクロヘキサノン ： ７５質量部
・トルエン ： ７５質量部
（非磁性塗料の組成）
・変成ポリウレタン ： １０質量部
（数平均分子量：２５，０００，スルホン酸基含有量：１．２×１０−４当量／ｇ、ガラス転移点：４５℃）
・変成塩化ビニル共重合体 ： １０質量部
（平均重合度：２８０、エポキシ基含有量：３．１質量％、スルホン酸基含有量：８×１０−５当量／ｇ）
・メチルエチルケトン ： ７５質量部
・シクロヘキサノン ： ７５質量部
・トルエン ： ７５質量部
・ポリイソシアネート ： ５質量部
（日本ポリウレタン工業（株）製コロネートＬ（商品名））
・２−エチルヘキシルオレート（潤滑剤） ： １．５質量部
・パルミチン酸（潤滑剤） ： １質量部
（バックコートの組成）
・カーボンブラック ： ９５質量部
（帯電防止剤、平均一次粒子径０．０１８μｍ）
・カーボンブラック ： １０質量部
（帯電防止剤、平均一次粒子径０．３μｍ）
・アルミナ ： ０．１質量部
（αアルミナ、平均粒子径：０．１８μｍ）
・変成ポリウレタン ： ２０質量部
（数平均分子量：２５，０００，スルホン酸基含有量：１．２×１０−４当量／ｇ、ガラス転移点：４５℃）
・変成塩化ビニル共重合体 ： ３０質量部
（平均重合度：２８０、エポキシ基含有量：３．１重量％、スルホン酸基含有量：８×１０−５当量／ｇ）
・シクロヘキサノン ： ２００質量部
・メチルエチルケトン ： ３００質量部
・トルエン ： １００質量部
カセットテープのカートリッジからテープを取り出し、下記恒温恒湿槽内へ図２のように作製したシート幅測定装置を入れ、幅寸法測定を行う。なお、図２に示すシート幅測定装置は、レーザーを使って幅方向の寸法を測定する装置で、磁気テープ９をフリーロール５〜８上にセットしつつ荷重検出器３に固定し、端部に荷重となる分銅４を吊す。この磁気テープ９にレーザー光１０を照射すると、レーザー発振器１から幅方向に線状に発振されたレーザー光１０が磁気テープ９の部分だけ遮られ、受光部２に入り、その遮られたレーザーの幅が磁気テープの幅として測定される。３回の測定結果の平均値を本発明における幅とする。
１ｍ幅にスリットした支持体を、張力２００Ｎで搬送させ、支持体の一方の表面（Ａ）に下記組成の磁性塗料および非磁性塗料をエクストルージョンコーターにより重層塗布し（上層が磁性塗料で、塗布厚０．２μｍ、下層が非磁性塗料で塗布厚０．９μm）、磁気配向させ、乾燥温度１００℃で乾燥させる。次いで反対側の表面（Ｂ）に下記組成のバックコートを塗布した後、小型テストカレンダー装置（スチール／ナイロンロール、５段）で、温度８５℃、線圧２．０×１０５Ｎ／ｍでカレンダー処理した後、巻き取る。上記テープ原反を１／２インチ（１２．６５ｍｍ）幅にスリットし、パンケーキを作成する。次いで、このパンケーキから長さ２００ｍ分をカセットに組み込んで、カセットテープとする。
（磁性塗料の組成）
・強磁性金属粉末 ： １００質量部
〔Ｆｅ：Ｃｏ：Ｎｉ：Ａｌ：Ｙ：Ｃａ＝７０：２４：１：２：２：１(質量比)〕
〔長軸長：０．０９μｍ、軸比：６、保磁力：１５３ｋＡ／ｍ（１，９２２Ｏｅ）、飽和磁化：１４６Ａｍ２ ／ｋｇ（１４６ｅｍｕ／ｇ）、ＢＥＴ比表面積：５３ｍ２ ／ｇ、Ｘ線粒径：１５ｎｍ〕
・変成塩化ビニル共重合体（結合剤） ： １０質量部
（平均重合度：２８０、エポキシ基含有量：３．１質量％、スルホン酸基含有量：８×１０−５当量／ｇ）
・変成ポリウレタン（結合剤） ： １０質量部
（数平均分子量：２５，０００，スルホン酸基含有量：１．２×１０−４当量／ｇ、ガラス転移点：４５℃）
・ポリイソシアネート（硬化剤） ： ５質量部
（日本ポリウレタン工業（株）製コロネートＬ（商品名））
・２−エチルヘキシルオレート（潤滑剤） ： １．５質量部
・パルミチン酸（潤滑剤） ： １質量部
・カーボンブラック（帯電防止剤） ： １質量部
（平均一次粒子径：０．０１８μｍ）
・アルミナ（研磨剤） ： １０質量部
（αアルミナ、平均粒子径：０．１８μｍ）
・メチルエチルケトン ： ７５質量部
・シクロヘキサノン ： ７５質量部
・トルエン ： ７５質量部
（非磁性塗料の組成）
・変成ポリウレタン ： １０質量部
（数平均分子量：２５，０００，スルホン酸基含有量：１．２×１０−４当量／ｇ、ガラス転移点：４５℃）
・変成塩化ビニル共重合体 ： １０質量部
（平均重合度：２８０、エポキシ基含有量：３．１質量％、スルホン酸基含有量：８×１０−５当量／ｇ）
・メチルエチルケトン ： ７５質量部
・シクロヘキサノン ： ７５質量部
・トルエン ： ７５質量部
・ポリイソシアネート ： ５質量部
（日本ポリウレタン工業（株）製コロネートＬ（商品名））
・２−エチルヘキシルオレート（潤滑剤） ： １．５質量部
・パルミチン酸（潤滑剤） ： １質量部
（バックコートの組成）
・カーボンブラック ： ９５質量部
（帯電防止剤、平均一次粒子径０．０１８μｍ）
・カーボンブラック ： １０質量部
（帯電防止剤、平均一次粒子径０．３μｍ）
・アルミナ ： ０．１質量部
（αアルミナ、平均粒子径：０．１８μｍ）
・変成ポリウレタン ： ２０質量部
（数平均分子量：２５，０００，スルホン酸基含有量：１．２×１０−４当量／ｇ、ガラス転移点：４５℃）
・変成塩化ビニル共重合体 ： ３０質量部
（平均重合度：２８０、エポキシ基含有量：３．１重量％、スルホン酸基含有量：８×１０−５当量／ｇ）
・シクロヘキサノン ： ２００質量部
・メチルエチルケトン ： ３００質量部
・トルエン ： １００質量部
カセットテープのカートリッジからテープを取り出し、下記恒温恒湿槽内へ図２のように作製したシート幅測定装置を入れ、幅寸法測定を行う。なお、図２に示すシート幅測定装置は、レーザーを使って幅方向の寸法を測定する装置で、磁気テープ９をフリーロール５〜８上にセットしつつ荷重検出器３に固定し、端部に荷重となる分銅４を吊す。この磁気テープ９にレーザー光１０を照射すると、レーザー発振器１から幅方向に線状に発振されたレーザー光１０が磁気テープ９の部分だけ遮られ、受光部２に入り、その遮られたレーザーの幅が磁気テープの幅として測定される。３回の測定結果の平均値を本発明における幅とする。
・測定装置：（株）アヤハエンジニアリング社製シート幅測定装置
・レーザー発振器１、受光部２：レーザー寸法測定機 キーエンス社製ＬＳ−５０４０
・荷重検出器３：ロードセル ＮＭＢ社製ＣＢＥ１−１０Ｋ
・恒温恒湿槽：（株）カトー社製ＳＥ−２５ＶＬ−Ａ
・荷重４：分銅（長手方向）
・試料サイズ：幅１／２ｉｎｃｈ×長さ２５０ｍｍ
・保持時間：５時間
・測定回数：３回
（幅寸法変化率）
２つの条件でそれぞれ幅寸法（ｌＡ、ｌＢ）を測定し、次式にて寸法変化率を算出する。次の基準で寸法安定性を評価する。Ａ条件で２４時間経過後ｌＡを測定して、その後Ｂ条件で２４時間経過後にｌＢを測定する。×を不合格とする。
・レーザー発振器１、受光部２：レーザー寸法測定機 キーエンス社製ＬＳ−５０４０
・荷重検出器３：ロードセル ＮＭＢ社製ＣＢＥ１−１０Ｋ
・恒温恒湿槽：（株）カトー社製ＳＥ−２５ＶＬ−Ａ
・荷重４：分銅（長手方向）
・試料サイズ：幅１／２ｉｎｃｈ×長さ２５０ｍｍ
・保持時間：５時間
・測定回数：３回
（幅寸法変化率）
２つの条件でそれぞれ幅寸法（ｌＡ、ｌＢ）を測定し、次式にて寸法変化率を算出する。次の基準で寸法安定性を評価する。Ａ条件で２４時間経過後ｌＡを測定して、その後Ｂ条件で２４時間経過後にｌＢを測定する。×を不合格とする。
Ａ条件：１０℃１０％ＲＨ 張力１．０Ｎ
Ｂ条件：２９℃８０％ＲＨ 張力０．６Ｎ
幅寸法変化率（ｐｐｍ）＝１０６×（（ｌＢ−ｌＡ）／ｌＡ）
◎：幅寸法変化率が６００（ｐｐｍ）未満
○：幅寸法変化率が６００（ｐｐｍ）以上７００（ｐｐｍ）未満
△：幅寸法変化率が７００（ｐｐｍ）以上８００（ｐｐｍ）未満
×：幅寸法変化率が８００（ｐｐｍ）以上
（１２）電磁変換特性（Ｃ／Ｎ）
上記（１１）と同様にカセットテープ作製し、Ｃ／Ｎの測定にはリールｔｏリールテスタを用い、市販のＭＲヘッドを搭載して下記の条件で実施した。
Ｂ条件：２９℃８０％ＲＨ 張力０．６Ｎ
幅寸法変化率（ｐｐｍ）＝１０６×（（ｌＢ−ｌＡ）／ｌＡ）
◎：幅寸法変化率が６００（ｐｐｍ）未満
○：幅寸法変化率が６００（ｐｐｍ）以上７００（ｐｐｍ）未満
△：幅寸法変化率が７００（ｐｐｍ）以上８００（ｐｐｍ）未満
×：幅寸法変化率が８００（ｐｐｍ）以上
（１２）電磁変換特性（Ｃ／Ｎ）
上記（１１）と同様にカセットテープ作製し、Ｃ／Ｎの測定にはリールｔｏリールテスタを用い、市販のＭＲヘッドを搭載して下記の条件で実施した。
相対速度：２ｍ／ｓｅｃ
記録トラック幅：１８μｍ
再生トラック幅：１０μｍ
シールド間距離：０．２７μｍ
記録用信号発生器：ＨＰ社製 ８１１８Ａ
再生信号処理：スペクトラムアナライザ
このＣ／Ｎを市販のＬＴＯ４テープ（富士フィルム社製）と比較して、−１ｄＢ以上は○、−２以上−１ｄＢ未満は△、−２ｄＢ未満は×と判定した。○が望ましいが、△でも実用的には使用可能である。
記録トラック幅：１８μｍ
再生トラック幅：１０μｍ
シールド間距離：０．２７μｍ
記録用信号発生器：ＨＰ社製 ８１１８Ａ
再生信号処理：スペクトラムアナライザ
このＣ／Ｎを市販のＬＴＯ４テープ（富士フィルム社製）と比較して、−１ｄＢ以上は○、−２以上−１ｄＢ未満は△、−２ｄＢ未満は×と判定した。○が望ましいが、△でも実用的には使用可能である。
（１３）支持体の厚み
ダイヤルゲージにより厚みを測定した。
ダイヤルゲージにより厚みを測定した。
（１４）高温クラック耐久性
引張試験機を使用し、ある特定の伸び量で引張った後、微分干渉顕微鏡にて表面状態を観察する。条件は下記のとおりとする。
引張試験機を使用し、ある特定の伸び量で引張った後、微分干渉顕微鏡にて表面状態を観察する。条件は下記のとおりとする。
引張試験機
測定装置：オリエンテック（株）製フィルム強伸度自動測定装置“ＵＣＴ−１００”
試料サイズ：幅１０ｍｍ×試長間１００ｍｍ、
引張り速度：１０％／分
引張り張力：１Ｎ，２Ｎの２点で実施（所定の張力になった時点で引っ張り試験機を停止させる）
測定環境：温度１００℃
微分干渉顕微鏡
測定装置：ライカＤＭＬＢ ＨＣ ライカマイクロシステムズ（株）製
観察倍率：１，０００倍
○：張力２Ｎでクラックが発生しなかった場合
△：張力１Ｎでクラックが発生しなかったが、張力２Ｎでクラックが発生した場合
×：張力１Ｎでクラックが発生した場合
測定装置：オリエンテック（株）製フィルム強伸度自動測定装置“ＵＣＴ−１００”
試料サイズ：幅１０ｍｍ×試長間１００ｍｍ、
引張り速度：１０％／分
引張り張力：１Ｎ，２Ｎの２点で実施（所定の張力になった時点で引っ張り試験機を停止させる）
測定環境：温度１００℃
微分干渉顕微鏡
測定装置：ライカＤＭＬＢ ＨＣ ライカマイクロシステムズ（株）製
観察倍率：１，０００倍
○：張力２Ｎでクラックが発生しなかった場合
△：張力１Ｎでクラックが発生しなかったが、張力２Ｎでクラックが発生した場合
×：張力１Ｎでクラックが発生した場合
次の実施例に基づき、本発明の実施形態を説明する。なお、ここでポリエチレンテレフタレートをＰＥＴ、ポリ（エチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレート）をＰＥＮと表記する。
（実施例１）
テレフタル酸ジメチル１９４質量部とエチレングリコール１２４質量部とをエステル交換反応装置に仕込み、内容物を１４０℃に加熱して溶解した。その後、内容物を撹拌しながら酢酸マグネシウム４水塩０．１質量部および三酸化アンチモン０．０５質量部を加え、１４０〜２３０℃でメタノールを留出しつつエステル交換反応を行った。次いで、リン酸トリメチルの５質量％エチレングリコール溶液を１質量部（リン酸トリメチルとして０．０５質量部）添加した。
テレフタル酸ジメチル１９４質量部とエチレングリコール１２４質量部とをエステル交換反応装置に仕込み、内容物を１４０℃に加熱して溶解した。その後、内容物を撹拌しながら酢酸マグネシウム４水塩０．１質量部および三酸化アンチモン０．０５質量部を加え、１４０〜２３０℃でメタノールを留出しつつエステル交換反応を行った。次いで、リン酸トリメチルの５質量％エチレングリコール溶液を１質量部（リン酸トリメチルとして０．０５質量部）添加した。
トリメチルリン酸のエチレングリコール溶液を添加すると反応内容物の温度が低下する。そこで余剰のエチレングリコールを留出させながら反応内容物の温度が２３０℃に復帰するまで撹拌を継続した。このようにしてエステル交換反応装置内の反応内容物の温度が２３０℃に達したら、反応内容物を重合装置へ移行した。
移行後、反応系を２３０℃から２９０℃まで徐々に昇温するとともに、圧力を０．１ｋＰａまで下げた。最終温度、最終圧力到達までの時間はともに６０分とした。最終温度、最終圧力に到達した後、２時間（重合を始めて３時間）反応させたところ、重合装置の撹拌トルクが所定の値（重合装置の仕様によって具体的な値は異なるが、本重合装置にて固有粘度０．６２のポリエチレンテレフタレートが示す値を所定の値とした）を示した。そこで反応系を窒素パージし常圧に戻して重縮合反応を停止し、冷水にストランド状に吐出、直ちにカッティングして固有粘度０．６２のポリエチレンテレフタレートのＰＥＴペレットＸを得た。
３００℃に加熱されたニーディングパドル混練部を３箇所設けた同方向回転タイプのベント式２軸混練押出機（日本製鋼所製、スクリュー直径３０ｍｍ、スクリュー長さ／スクリュー直径＝４５．５）に、得られたＰＥＴペレットＸ５０質量％とＧＥ Ｐｌａｓｔｉｃｓ社製のポリエーテルイミド“Ｕｌｔｅｍ１０１０”のペレット５０質量％を供給し、スクリュー回転数３００回転／分で溶融押出してストランド状に吐出し、温度２５℃の水で冷却した後、直ちにカッティングしてブレンドチップ（Ｉ）を作製した。
また、２８０℃に加熱された同方向回転タイプのベント式２軸混練押出機に、ＰＥＴペレットＸを９８質量部と平均径０．３μmの球状架橋ポリスチレン粒子の１０質量％水スラリーを２０質量部（球状架橋ポリスチレンとして２質量部）供給し、ベント孔を１ｋＰａ以下の減圧度に保持し水分を除去し、平均径０．３μmの球状架橋ポリスチレン粒子を２質量％含有する固有粘度０．６２のＰＥＴペレットＹを得た。
さらに、平均径０．３μmの球状架橋ポリスチレン粒子ではなく平均径０．８μmの球状架橋ポリスチレン粒子を用いたこと以外、ＰＥＴペレットＹを作製する方法と同様の方法にて、平均径０．８μmの球状架橋ポリスチレン粒子を２質量％含有する固有粘度０．６２のＰＥＴペレットＺを得た。
押出機Ｅ１、Ｅ２の２台を用い、２９５℃に加熱された押出機Ｅ１には、ＰＥＴペレットＸ８８．５質量部、ＰＥＴペレットＹ１．５質量部、ブレンドチップ（Ｉ）１０質量部を１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給し、同じく２９５℃に加熱された押出機Ｅ２には、ＰＥＴペレットＸ８２質量部、ＰＥＴペレットＹ７質量部、ＰＥＴペレットＺ１質量部、およびブレンドチップ（Ｉ）１０質量部を１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給した。これらを２層積層するべくＴダイ中で合流させ（積層比Ｅ１（Ａ面側）／Ｅ２（Ｂ面側）＝５／１）、表面温度２５℃のキャストドラムに静電荷を印加させながら密着冷却固化し、積層未延伸フィルムを作製した。なお、未延伸フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）は９０℃であった。
この積層未延伸フィルムを、リニアモータ式クリップを有する同時二軸テンターを用いて、二軸延伸した。長手方向および幅方向に同時に、温度９５℃、延伸速度６，０００％で３．５倍×３．５倍延伸し、７０℃まで冷却した。続いて、温度１９０℃で長手方向および幅方向に同時に１．２×１．５倍に再延伸した。その後、温度２１０℃で５秒間熱処理後、温度１７０℃で幅方向に２％の弛緩処理を行い、厚さ５μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを作製した。作製した二軸配向ポリエステルフィルムは２５℃３０％ＲＨにて保管した。なお、二軸延伸フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）は１１５℃であり、融点（Ｔｍ）は２５５℃であった。
次に、図１に示す真空蒸着装置１１の巻出しロール部１３に得られたポリエステルフィルムをセットし、１．５×１０−３Ｐａの減圧度にした後に、−２０℃の冷却ドラム１６を介してポリエステルフィルムを搬送速度１５０ｍ／ｍｉｎ、搬送張力１００Ｎ／ｍで走行させた。このとき、純度９９．９９質量％のアルミニウムを電子ビーム（出力５．１ｋＷ）で加熱蒸発させ、さらに蒸発源であるるつぼ２３の真横に設置した酸素供給ノズル２４から酸素ガスを５．０Ｌ／ｍｉｎで金属蒸気と同じ方向に供給し、酸化アルミの蒸着薄膜層（厚み４０ｎｍ）をフィルムのＢ面側の層の上に形成して巻取った。次に搬送張力を８０Ｎ／ｍにしたこと以外は同様にしてフィルムのＡ面側の層の上に酸化アルミの蒸着薄膜層を設けて磁気記録媒体用支持体を得た。
得られた磁気記録媒体用支持体を評価したところ、表１〜表３に示すように、磁気テープとして使用した際に寸法変化率が小さく優れた特性を有していた。
（実施例２）
実施例１と同様にして得られた積層未延伸フィルムを、リニアモータ式クリップを有する同時二軸テンターを用いて、二軸延伸した。長手方向および幅方向に同時に、温度１０８℃、延伸速度６，０００％で３．５倍×３．５倍延伸し、７０℃まで冷却した。続いて、温度１９０℃で長手方向および幅方向に同時に１．２×１．５倍に再延伸した。その後、温度２１０℃で５秒間熱処理を行い、厚さ５μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを作製し、その二軸配向ポリエステルフィルムを２５℃３０％ＲＨにて保管した。その後は、実施例１と同様にして、酸化アルミの蒸着薄膜層を設けて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体を評価したところ、表１〜表３に示すように、磁気テープとして使用した際に寸法変化率が小さく優れた特性を有していた。
実施例１と同様にして得られた積層未延伸フィルムを、リニアモータ式クリップを有する同時二軸テンターを用いて、二軸延伸した。長手方向および幅方向に同時に、温度１０８℃、延伸速度６，０００％で３．５倍×３．５倍延伸し、７０℃まで冷却した。続いて、温度１９０℃で長手方向および幅方向に同時に１．２×１．５倍に再延伸した。その後、温度２１０℃で５秒間熱処理を行い、厚さ５μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを作製し、その二軸配向ポリエステルフィルムを２５℃３０％ＲＨにて保管した。その後は、実施例１と同様にして、酸化アルミの蒸着薄膜層を設けて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体を評価したところ、表１〜表３に示すように、磁気テープとして使用した際に寸法変化率が小さく優れた特性を有していた。
（実施例３）
実施例１と同様にして得られた積層未延伸フィルムを、リニアモータ式クリップを有する同時二軸テンターを用いて、二軸延伸した。長手方向および幅方向に同時に、温度９５℃、延伸速度６，０００％で３．５倍×３．５倍延伸し、７０℃まで冷却した。続いて、温度１７０℃で長手方向および幅方向に同時に１．２×１．５倍に再延伸した。その後、温度２１０℃で５秒間熱処理後、温度１７０℃で幅方向に２％の弛緩処理を行い、厚さ５μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを作製し、その二軸配向ポリエステルフィルムを２５℃３０％ＲＨにて保管した。その後は、実施例１と同様にして、酸化アルミの蒸着薄膜層を設けて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体を評価したところ、表１〜表３に示すように、磁気テープとして使用した際に寸法変化率が小さく優れた特性を有していた。
実施例１と同様にして得られた積層未延伸フィルムを、リニアモータ式クリップを有する同時二軸テンターを用いて、二軸延伸した。長手方向および幅方向に同時に、温度９５℃、延伸速度６，０００％で３．５倍×３．５倍延伸し、７０℃まで冷却した。続いて、温度１７０℃で長手方向および幅方向に同時に１．２×１．５倍に再延伸した。その後、温度２１０℃で５秒間熱処理後、温度１７０℃で幅方向に２％の弛緩処理を行い、厚さ５μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを作製し、その二軸配向ポリエステルフィルムを２５℃３０％ＲＨにて保管した。その後は、実施例１と同様にして、酸化アルミの蒸着薄膜層を設けて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体を評価したところ、表１〜表３に示すように、磁気テープとして使用した際に寸法変化率が小さく優れた特性を有していた。
（実施例４）
実施例１と同様にして得られた積層未延伸フィルムを、リニアモータ式クリップを有する同時二軸テンターを用いて、二軸延伸した。長手方向および幅方向に同時に、温度９５℃、延伸速度６，０００％で３．０倍×３．５倍延伸し、７０℃まで冷却した。続いて、温度１７０℃で長手方向および幅方向に同時に１．４×１．４倍に再延伸した。その後、温度２１０℃で５秒間熱処理後、温度１９０℃で幅方向に２％の弛緩処理を行い、厚さ５μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを作製し、その二軸配向ポリエステルフィルムを２５℃３０％ＲＨにて保管した。その後は、実施例１と同様にして、酸化アルミの蒸着薄膜層を設けて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体を評価したところ、表１〜表３に示すように、磁気テープとして使用した際に寸法変化率が小さく優れた特性を有していた。
実施例１と同様にして得られた積層未延伸フィルムを、リニアモータ式クリップを有する同時二軸テンターを用いて、二軸延伸した。長手方向および幅方向に同時に、温度９５℃、延伸速度６，０００％で３．０倍×３．５倍延伸し、７０℃まで冷却した。続いて、温度１７０℃で長手方向および幅方向に同時に１．４×１．４倍に再延伸した。その後、温度２１０℃で５秒間熱処理後、温度１９０℃で幅方向に２％の弛緩処理を行い、厚さ５μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを作製し、その二軸配向ポリエステルフィルムを２５℃３０％ＲＨにて保管した。その後は、実施例１と同様にして、酸化アルミの蒸着薄膜層を設けて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体を評価したところ、表１〜表３に示すように、磁気テープとして使用した際に寸法変化率が小さく優れた特性を有していた。
（実施例５）
蒸着工程での搬送速度を２００ｍ／ｍｉｎ、酸素ガス導入量を５．０Ｌ／ｍｉｎ、電子ビーム出力を５．１ｋＷと変更したこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は表１〜表３に示すように磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。
蒸着工程での搬送速度を２００ｍ／ｍｉｎ、酸素ガス導入量を５．０Ｌ／ｍｉｎ、電子ビーム出力を５．１ｋＷと変更したこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は表１〜表３に示すように磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。
（実施例６）
蒸着工程での搬送速度を１００ｍ／ｍｉｎ、酸素ガス導入量を５．０Ｌ／ｍｉｎ、電子ビーム出力を５．１ｋＷと変更したこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は表１〜表３に示すように磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。
蒸着工程での搬送速度を１００ｍ／ｍｉｎ、酸素ガス導入量を５．０Ｌ／ｍｉｎ、電子ビーム出力を５．１ｋＷと変更したこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は表１〜表３に示すように磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。
（実施例７）
蒸着工程での搬送速度を８０ｍ／ｍｉｎ、酸素ガス導入量を５．０Ｌ／ｍｉｎ、電子ビーム出力を５．１ｋＷと変更したこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は表１〜表３に示すように磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。
蒸着工程での搬送速度を８０ｍ／ｍｉｎ、酸素ガス導入量を５．０Ｌ／ｍｉｎ、電子ビーム出力を５．１ｋＷと変更したこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は表１〜表３に示すように磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。
（実施例８）
蒸着工程での搬送速度を１５０ｍ／ｍｉｎ、酸素ガス導入量を２．０Ｌ／ｍｉｎ、電子ビーム出力を５．１ｋＷと変更したこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は表１〜表３に示すように磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。
蒸着工程での搬送速度を１５０ｍ／ｍｉｎ、酸素ガス導入量を２．０Ｌ／ｍｉｎ、電子ビーム出力を５．１ｋＷと変更したこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は表１〜表３に示すように磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。
（実施例９）
蒸着工程での搬送速度を１５０ｍ／ｍｉｎ、酸素ガス導入量を７．０Ｌ／ｍｉｎ、電子ビーム出力を５．１ｋＷと変更したこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は表１〜表３に示すように磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。
蒸着工程での搬送速度を１５０ｍ／ｍｉｎ、酸素ガス導入量を７．０Ｌ／ｍｉｎ、電子ビーム出力を５．１ｋＷと変更したこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は表１〜表３に示すように磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。
（実施例１０）
蒸着工程での搬送速度を１５０ｍ／ｍｉｎ、酸素ガス導入量を１．０Ｌ／ｍｉｎ、電子ビーム出力を５．１ｋＷと変更したこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は表１〜表３に示すように磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。
蒸着工程での搬送速度を１５０ｍ／ｍｉｎ、酸素ガス導入量を１．０Ｌ／ｍｉｎ、電子ビーム出力を５．１ｋＷと変更したこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は表１〜表３に示すように磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。
（実施例１１）
蒸着工程での搬送速度を８０ｍ／ｍｉｎ、酸素ガス導入量を２．０Ｌ／ｍｉｎ、電子ビーム出力を５．１ｋＷと変更したこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は表１〜表３に示すように磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。
蒸着工程での搬送速度を８０ｍ／ｍｉｎ、酸素ガス導入量を２．０Ｌ／ｍｉｎ、電子ビーム出力を５．１ｋＷと変更したこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は表１〜表３に示すように磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。
（実施例１２）
押出機を２台使わずに、２９５℃に加熱された押出機Ｅ１に、実施例１で得られたＰＥＴペレットＸ７９質量部、ＰＥＴペレットＹ１０質量部、ＰＥＴペレットＺ１質量部、およびブレンドチップ（Ｉ）１０質量部を１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給し、単層で二軸配向ポリエステルフィルムを作製したこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は表１〜表３に示すように磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。
押出機を２台使わずに、２９５℃に加熱された押出機Ｅ１に、実施例１で得られたＰＥＴペレットＸ７９質量部、ＰＥＴペレットＹ１０質量部、ＰＥＴペレットＺ１質量部、およびブレンドチップ（Ｉ）１０質量部を１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給し、単層で二軸配向ポリエステルフィルムを作製したこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は表１〜表３に示すように磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。
（実施例１３）
押出機Ｅ１，Ｅ２の２台を用い、２８０℃に加熱された押出機Ｅ１には、実施例１で得られたＰＥＴペレットＸ９８．５質量部、ＰＥＴペレットＹ１．５質量部を１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給し、同じく２８０℃に加熱された押出機Ｅ２には、実施例１で得られたＰＥＴペレットＸ９２質量部、ＰＥＴペレットＹ７質量部、およびＰＥＴペレットＺ１質量部を１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給した。これらを２層積層するべくＴダイ中で合流させ（積層比Ｅ１（Ａ面側）／Ｅ２（Ｂ面側）＝５／１）、表面温度２５℃のキャストドラムに静電荷を印加させながら密着冷却固化し、積層未延伸フィルムを作製した。なお、未延伸フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）は８０℃であった。
押出機Ｅ１，Ｅ２の２台を用い、２８０℃に加熱された押出機Ｅ１には、実施例１で得られたＰＥＴペレットＸ９８．５質量部、ＰＥＴペレットＹ１．５質量部を１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給し、同じく２８０℃に加熱された押出機Ｅ２には、実施例１で得られたＰＥＴペレットＸ９２質量部、ＰＥＴペレットＹ７質量部、およびＰＥＴペレットＺ１質量部を１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給した。これらを２層積層するべくＴダイ中で合流させ（積層比Ｅ１（Ａ面側）／Ｅ２（Ｂ面側）＝５／１）、表面温度２５℃のキャストドラムに静電荷を印加させながら密着冷却固化し、積層未延伸フィルムを作製した。なお、未延伸フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）は８０℃であった。
この積層未延伸フィルムを、リニアモータ式クリップを有する同時二軸テンターを用いて、二軸延伸した。長手方向および幅方向に同時に、温度９０℃、延伸速度６，０００％で３．５倍×３．５倍延伸し、７０℃まで冷却した。続いて、温度１８０℃で長手方向および幅方向に同時に１．２×１．５倍に再延伸した。さらに幅方向に温度２００℃で１．１５倍の延伸を行った後、温度２１０℃で５秒間熱処理後、温度１７０℃で幅方向に２％の弛緩処理を行い、厚さ５μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを作製し、その二軸配向ポリエステルフィルムを２５℃３０％ＲＨにて保管した。なお、二軸延伸フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）は１０５℃であり、融点（Ｔｍ）は２５５℃であった。その後は、実施例１と同様にして、酸化アルミの蒸着薄膜層を設けて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体を評価したところ、表１〜表３に示すように、磁気テープとして使用した際に寸法変化率が小さく優れた特性を有していた。
（実施例１４）
２，６−ナフタレンジカルボン酸ジメチル１００質量部とエチレングリコール６０質量部の混合物に、酢酸マンガン・４水和物塩０．０３質量部を添加し、１５０℃の温度から２４０℃の温度に徐々に昇温しながらエステル交換反応を行った。途中、反応温度が１７０℃に達した時点で三酸化アンチモン０．０２４質量部を添加した。また、反応温度が２２０℃に達した時点で３，５−ジカルボキシベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩０．０４２質量部（２ｍｍｏｌ％に相当）を添加した。その後、引き続いてエステル交換反応を行い、トリメチルリン酸０．０２３質量部を添加した。次いで、反応生成物を重合装置に移し、２９０℃の温度まで昇温し、３０Ｐａの高減圧下にて重縮合反応を行い、重合装置の撹拌トルクが所定の値（重合装置の仕様によって具体的な値は異なるが、本重合装置にて固有粘度０．６５のポリエチレン−２，６−ナフタレートが示す値を所定の値とした）を示した。そこで反応系を窒素パージし常圧に戻して重縮合反応を停止し、冷水にストランド状に吐出、直ちにカッティングして固有粘度０．６５のＰＥＮ（ポリエチレン−２，６−ナフタレート）ペレットＰを得た。
２，６−ナフタレンジカルボン酸ジメチル１００質量部とエチレングリコール６０質量部の混合物に、酢酸マンガン・４水和物塩０．０３質量部を添加し、１５０℃の温度から２４０℃の温度に徐々に昇温しながらエステル交換反応を行った。途中、反応温度が１７０℃に達した時点で三酸化アンチモン０．０２４質量部を添加した。また、反応温度が２２０℃に達した時点で３，５−ジカルボキシベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩０．０４２質量部（２ｍｍｏｌ％に相当）を添加した。その後、引き続いてエステル交換反応を行い、トリメチルリン酸０．０２３質量部を添加した。次いで、反応生成物を重合装置に移し、２９０℃の温度まで昇温し、３０Ｐａの高減圧下にて重縮合反応を行い、重合装置の撹拌トルクが所定の値（重合装置の仕様によって具体的な値は異なるが、本重合装置にて固有粘度０．６５のポリエチレン−２，６−ナフタレートが示す値を所定の値とした）を示した。そこで反応系を窒素パージし常圧に戻して重縮合反応を停止し、冷水にストランド状に吐出、直ちにカッティングして固有粘度０．６５のＰＥＮ（ポリエチレン−２，６−ナフタレート）ペレットＰを得た。
２８０℃に加熱された同方向回転タイプのベント式２軸混練押出機に、ペレットＰを９８質量部と平均径０．３μmの球状架橋ポリスチレン粒子の１０質量％水スラリーを２０質量部（球状架橋ポリスチレンとして２質量部）供給し、ベント孔を１ｋＰａ以下の減圧度に保持し水分を除去し、平均径０．３μmの球状架橋ポリスチレン粒子を２質量％含有する固有粘度０．６５のＰＥＮペレットＱを得た。
平均径０．３μmの球状架橋ポリスチレン粒子ではなく平均径０．８μmの球状架橋ポリスチレン粒子を用いたこと以外、ＰＥＮペレットＱを作製する方法と同様の方法にて、平均径０．８μmの球状架橋ポリスチレン粒子を２質量％含有する固有粘度０．６５のＰＥＮペレットＲを得た。
押出機Ｅ１、Ｅ２の２台を用い、２８０℃に加熱された押出機Ｅ１には、得られたＰＥＮペレットＰ９８．５質量部、ＰＥＮペレットＱ１．５質量部を１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給し、同じく２８０℃に加熱された押出機Ｅ２には、得られたＰＥＮペレットＰ９２質量部、ＰＥＮペレットＱ７質量部、およびＰＥＮペレットＲ１質量部を１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給した。これらを２層積層するべくＴダイ中で合流させ（積層比Ｅ１（Ａ面側）／Ｅ２（Ｂ面側）＝５／１）、表面温度２５℃のキャストドラムに静電荷を印加させながら密着冷却固化し、積層未延伸フィルムを作製した。なお、未延伸フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）は１２０℃であった。
また、得られた未延伸フィルムをリニアモータ式クリップを有する同時二軸テンターを用いて、二軸延伸した。長手方向および幅方向に同時に、温度１３５℃、延伸速度６，０００％で３．５倍×３．５倍延伸し、７０℃まで冷却した。続いて、温度１８０℃で長手方向および幅方向に同時に１．３×１．７倍に再延伸した。さらに幅方向に温度２２０℃で１．１倍の延伸を行った後、温度２３０℃で５秒間熱処理後、温度１７０℃で幅方向に２％の弛緩処理を行い、厚さ５μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを作製した。得られた二軸配向ポリエステルフィルムは２５℃３０％ＲＨにて保管した。なお、二軸延伸フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）は１３５℃であり、融点（Ｔｍ）は２６５℃であった。
その後は、実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は表１〜表３に示すように磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。
（実施例１５）
蒸着工程での金属材料を純度９９．９９質量％の銅へ変更し、搬送速度を１５０ｍ／ｍｉｎ、酸素ガス導入量を５．０Ｌ／ｍｉｎ、電子ビーム出力を６．５ｋＷとしたこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は表１〜表３に示すように磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。
蒸着工程での金属材料を純度９９．９９質量％の銅へ変更し、搬送速度を１５０ｍ／ｍｉｎ、酸素ガス導入量を５．０Ｌ／ｍｉｎ、電子ビーム出力を６．５ｋＷとしたこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は表１〜表３に示すように磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。
（実施例１６）
蒸着工程での金属材料を純度９９．９９９９質量％の亜鉛へ変更し、搬送速度を１５０ｍ／ｍｉｎ、酸素ガス導入量を５．０Ｌ／ｍｉｎ、電子ビーム出力を５．８ｋＷとしたこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は表１〜表３に示すように磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。
蒸着工程での金属材料を純度９９．９９９９質量％の亜鉛へ変更し、搬送速度を１５０ｍ／ｍｉｎ、酸素ガス導入量を５．０Ｌ／ｍｉｎ、電子ビーム出力を５．８ｋＷとしたこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は表１〜表３に示すように磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。
（実施例１７）
図３に示す真空蒸着装置１１１の巻出しロール部１１３に実施例１で得られたポリエステルフィルムをセットし、１．５×１０−３Ｐａの減圧度にした後に、−２０℃の冷却ドラム１１６を介してポリエステルフィルムを搬送速度１５０ｍ／ｍｉｎ、搬送張力１００Ｎ／ｍで走行させた。このとき、純度９９．９９質量％のアルミニウムを電子ビーム（出力５．１ｋＷ）で加熱蒸発させ、さらに蒸発源であるるつぼ１２３の真横に設置した酸素供給ノズル１２４から酸素ガスを９．０Ｌ／ｍｉｎで金属蒸気と同じ方向に供給し、酸化アルミの蒸着薄膜層（厚み４０ｎｍ）をフィルムのＢ面側の層の上に形成して巻取った。次に搬送張力を８０Ｎ／ｍにしたこと以外は同様にしてフィルムのＡ面側の層の上に酸化アルミの蒸着薄膜層を設けて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は表１〜表３に示す特性を有していた。
図３に示す真空蒸着装置１１１の巻出しロール部１１３に実施例１で得られたポリエステルフィルムをセットし、１．５×１０−３Ｐａの減圧度にした後に、−２０℃の冷却ドラム１１６を介してポリエステルフィルムを搬送速度１５０ｍ／ｍｉｎ、搬送張力１００Ｎ／ｍで走行させた。このとき、純度９９．９９質量％のアルミニウムを電子ビーム（出力５．１ｋＷ）で加熱蒸発させ、さらに蒸発源であるるつぼ１２３の真横に設置した酸素供給ノズル１２４から酸素ガスを９．０Ｌ／ｍｉｎで金属蒸気と同じ方向に供給し、酸化アルミの蒸着薄膜層（厚み４０ｎｍ）をフィルムのＢ面側の層の上に形成して巻取った。次に搬送張力を８０Ｎ／ｍにしたこと以外は同様にしてフィルムのＡ面側の層の上に酸化アルミの蒸着薄膜層を設けて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は表１〜表３に示す特性を有していた。
（実施例１８）
蒸着工程での搬送速度を１５０ｍ／ｍｉｎ、酸素ガス導入量を０．５Ｌ／ｍｉｎ、電子ビーム出力を６．１ｋＷと変更したこと以外は実施例１７と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は表１〜表３に示す特性を有していた。
蒸着工程での搬送速度を１５０ｍ／ｍｉｎ、酸素ガス導入量を０．５Ｌ／ｍｉｎ、電子ビーム出力を６．１ｋＷと変更したこと以外は実施例１７と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は表１〜表３に示す特性を有していた。
（実施例１９）
蒸着工程での搬送速度を１５０ｍ／ｍｉｎ、酸素ガス導入量を１．６Ｌ／ｍｉｎ、電子ビーム出力を５．１ｋＷと変更したこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は表１〜表３に示すように磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。
蒸着工程での搬送速度を１５０ｍ／ｍｉｎ、酸素ガス導入量を１．６Ｌ／ｍｉｎ、電子ビーム出力を５．１ｋＷと変更したこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は表１〜表３に示すように磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。
（実施例２０）
蒸着工程での搬送速度を１５０ｍ／ｍｉｎ、酸素ガス導入量を１．３Ｌ／ｍｉｎ、電子ビーム出力を５．１ｋＷと変更したこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は表１〜表３に示すように磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。
蒸着工程での搬送速度を１５０ｍ／ｍｉｎ、酸素ガス導入量を１．３Ｌ／ｍｉｎ、電子ビーム出力を５．１ｋＷと変更したこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は表１〜表３に示すように磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。
（実施例２１）
蒸着工程での搬送速度を１５０ｍ／ｍｉｎ、酸素ガス導入量を１．６Ｌ／ｍｉｎ、電子ビーム出力を５．１ｋＷと変更したこと以外は実施例１３と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は表１〜表３に示すように磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。
蒸着工程での搬送速度を１５０ｍ／ｍｉｎ、酸素ガス導入量を１．６Ｌ／ｍｉｎ、電子ビーム出力を５．１ｋＷと変更したこと以外は実施例１３と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は表１〜表３に示すように磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。
（実施例２２）
蒸着工程での搬送速度を１５０ｍ／ｍｉｎ、酸素ガス導入量を１．６Ｌ／ｍｉｎ、電子ビーム出力を５．１ｋＷと変更したこと以外は実施例１４と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は表１〜表３に示すように磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。
蒸着工程での搬送速度を１５０ｍ／ｍｉｎ、酸素ガス導入量を１．６Ｌ／ｍｉｎ、電子ビーム出力を５．１ｋＷと変更したこと以外は実施例１４と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は表１〜表３に示すように磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。
（比較例１）
実施例１で得られた厚さ５μｍの二軸配向ポリエステルフィルムに対して、蒸着薄膜層を設けない以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた支持体は、酸化金属層（Ｍ層）を有しておらず、表１〜表３に示すような特性となった。
実施例１で得られた厚さ５μｍの二軸配向ポリエステルフィルムに対して、蒸着薄膜層を設けない以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた支持体は、酸化金属層（Ｍ層）を有しておらず、表１〜表３に示すような特性となった。
（比較例２）
蒸着工程で酸素ガスを供給しないこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は酸化アルミ層を有しておらず、また、表１〜表３に示すように磁気テープとして使用した際に劣る特性であった。
蒸着工程で酸素ガスを供給しないこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は酸化アルミ層を有しておらず、また、表１〜表３に示すように磁気テープとして使用した際に劣る特性であった。
（比較例３）
蒸着工程での搬送速度を２００ｍ／ｍｉｎ、酸素ガス導入量を５．０Ｌ／ｍｉｎ、電子ビーム出力を１．３ｋＷと変更したこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は、表１〜表３に示すように、磁気テープとして使用した際に劣る特性であった。
蒸着工程での搬送速度を２００ｍ／ｍｉｎ、酸素ガス導入量を５．０Ｌ／ｍｉｎ、電子ビーム出力を１．３ｋＷと変更したこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は、表１〜表３に示すように、磁気テープとして使用した際に劣る特性であった。
（比較例４）
蒸着工程での搬送速度を６０ｍ／ｍｉｎ、酸素ガス導入量を２．０Ｌ／ｍｉｎ、電子ビーム出力を３．３ｋＷと変更したこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は、表１〜表３に示すように、磁気テープとして使用した際に劣る特性であった。
蒸着工程での搬送速度を６０ｍ／ｍｉｎ、酸素ガス導入量を２．０Ｌ／ｍｉｎ、電子ビーム出力を３．３ｋＷと変更したこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は、表１〜表３に示すように、磁気テープとして使用した際に劣る特性であった。
（比較例５）
蒸着工程での搬送速度を１５０ｍ／ｍｉｎ、酸素ガス導入量を１０．０Ｌ／ｍｉｎ、電子ビーム出力を８．０ｋＷと変更したこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は、表１〜表３に示すように、磁気テープとして使用した際に劣る特性であった。
蒸着工程での搬送速度を１５０ｍ／ｍｉｎ、酸素ガス導入量を１０．０Ｌ／ｍｉｎ、電子ビーム出力を８．０ｋＷと変更したこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は、表１〜表３に示すように、磁気テープとして使用した際に劣る特性であった。
（比較例６）
蒸着工程での搬送速度を１５０ｍ／ｍｉｎ、酸素ガス導入量を１．０Ｌ／ｍｉｎに変更したこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は、表１〜表３に示すように、磁気テープとして使用した際に劣る特性であった。
蒸着工程での搬送速度を１５０ｍ／ｍｉｎ、酸素ガス導入量を１．０Ｌ／ｍｉｎに変更したこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は、表１〜表３に示すように、磁気テープとして使用した際に劣る特性であった。
（比較例７）
実施例１と同様にして得られた積層未延伸フィルムを、リニアモータ式クリップを有する同時二軸テンターを用いて、二軸延伸した。長手方向および幅方向に同時に、温度９５℃、延伸速度６，０００％で３．５倍×３．１倍延伸し、７０℃まで冷却した。続いて、温度１７０℃で長手方向および幅方向に同時に１．６×１．２倍に再延伸した。その後、温度２１０℃で５秒間熱処理後、温度１９０℃で幅方向に２％の弛緩処理を行い、厚さ５μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを作製し、その二軸配向ポリエステルフィルムを２５℃３０％ＲＨにて保管した。その後は、実施例１と同様にして、酸化アルミの蒸着薄膜層を設けて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体を評価したところ、表１〜表３に示したとおりであった。
実施例１と同様にして得られた積層未延伸フィルムを、リニアモータ式クリップを有する同時二軸テンターを用いて、二軸延伸した。長手方向および幅方向に同時に、温度９５℃、延伸速度６，０００％で３．５倍×３．１倍延伸し、７０℃まで冷却した。続いて、温度１７０℃で長手方向および幅方向に同時に１．６×１．２倍に再延伸した。その後、温度２１０℃で５秒間熱処理後、温度１９０℃で幅方向に２％の弛緩処理を行い、厚さ５μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを作製し、その二軸配向ポリエステルフィルムを２５℃３０％ＲＨにて保管した。その後は、実施例１と同様にして、酸化アルミの蒸着薄膜層を設けて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体を評価したところ、表１〜表３に示したとおりであった。
（比較例８）
実施例１と同様にして得られた積層未延伸フィルムを、リニアモータ式クリップを有する同時二軸テンターを用いて、二軸延伸した。長手方向および幅方向に同時に、温度９５℃、延伸速度６，０００％で３．３倍×３．３倍延伸し、７０℃まで冷却した。続いて、温度１９０℃で長手方向および幅方向に同時に１．４×１．３倍に再延伸した。さらに幅方向に温度２００℃で１．１５倍の延伸を行った後、温度２１０℃で５秒間熱処理後、温度１７０℃で幅方向に２％の弛緩処理を行い、厚さ５μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを作製し、その二軸配向ポリエステルフィルムを２５℃３０％ＲＨにて保管した。その後は、実施例１と同様にして、酸化アルミの蒸着薄膜層を設けて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体を評価したところ、表１〜表３に示したとおりであった。
実施例１と同様にして得られた積層未延伸フィルムを、リニアモータ式クリップを有する同時二軸テンターを用いて、二軸延伸した。長手方向および幅方向に同時に、温度９５℃、延伸速度６，０００％で３．３倍×３．３倍延伸し、７０℃まで冷却した。続いて、温度１９０℃で長手方向および幅方向に同時に１．４×１．３倍に再延伸した。さらに幅方向に温度２００℃で１．１５倍の延伸を行った後、温度２１０℃で５秒間熱処理後、温度１７０℃で幅方向に２％の弛緩処理を行い、厚さ５μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを作製し、その二軸配向ポリエステルフィルムを２５℃３０％ＲＨにて保管した。その後は、実施例１と同様にして、酸化アルミの蒸着薄膜層を設けて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体を評価したところ、表１〜表３に示したとおりであった。
１：レーザー発振器
２：受光部
３：荷重検出器
４：荷重
５：フリーロール
６：フリーロール
７：フリーロール
８：フリーロール
９：磁気テープ
１０：レーザー光
１１：真空蒸着装置
１２：真空チャンバ
１３：巻出しロール部
１４：ポリエステルフィルム
１５：ガイドロール
１６：冷却ドラム
１７：蒸着チャンバ
１８：巻取りロール部
１９：金属材料
２０：電子銃
２１：電子ビーム
２２：酸素ガスボンベ
２３：るつぼ
２４：酸素供給ノズル
２５：マスク
２６：ガス流量制御装置
１１１：真空蒸着装置
１１２：真空チャンバ
１１３：巻出しロール部
１１４：ポリエステルフィルム
１１５：ガイドロール
１１６：冷却ドラム
１１７：蒸着チャンバ
１１８：巻取りロール部
１１９：金属材料
１２０：電子銃
１２１：電子ビーム
１２２：酸素ガスボンベ
１２３：るつぼ
１２４：酸素供給ノズル
１２５：マスク
１２６：ガス流量制御装置
２：受光部
３：荷重検出器
４：荷重
５：フリーロール
６：フリーロール
７：フリーロール
８：フリーロール
９：磁気テープ
１０：レーザー光
１１：真空蒸着装置
１２：真空チャンバ
１３：巻出しロール部
１４：ポリエステルフィルム
１５：ガイドロール
１６：冷却ドラム
１７：蒸着チャンバ
１８：巻取りロール部
１９：金属材料
２０：電子銃
２１：電子ビーム
２２：酸素ガスボンベ
２３：るつぼ
２４：酸素供給ノズル
２５：マスク
２６：ガス流量制御装置
１１１：真空蒸着装置
１１２：真空チャンバ
１１３：巻出しロール部
１１４：ポリエステルフィルム
１１５：ガイドロール
１１６：冷却ドラム
１１７：蒸着チャンバ
１１８：巻取りロール部
１１９：金属材料
１２０：電子銃
１２１：電子ビーム
１２２：酸素ガスボンベ
１２３：るつぼ
１２４：酸素供給ノズル
１２５：マスク
１２６：ガス流量制御装置
Claims (10)
- 二軸配向ポリエステルフィルムの両面に金属系酸化物を含む層（Ｍ層）を有し、両表面の表面抵抗率がそれぞれ１×１０３〜１×１０１３Ωであり、長手方向と幅方向のヤング率の和が１０〜２２ＧＰａであり、かつ、長手方向のヤング率Ｅｍと幅方向のヤング率Ｅｔの比Ｅｍ／Ｅｔが０．５〜１．０であり、ループスティッフネステスターで得られる長手方向の曲げ応力が５０〜１５０μＮである磁気記録媒体用支持体。
- 二軸配向ポリエステルフィルムの両面に設けられたＭ層の厚みがそれぞれ１０〜７５ｎｍである、請求項１に記載の磁気記録媒体用支持体。
- 厚みが３〜６μｍである、請求項１または２に記載の磁気記録媒体用支持体。
- 長手方向のヤング率Ｅｍが５〜１３ＧＰａである、請求項１〜３のいずれかに記載の磁気記録媒体用支持体。
- 幅方向の湿度膨張係数が１〜６ｐｐｍ／％ＲＨである、請求項１〜４のいずれかに記載の磁気記録媒体用支持体。
- 長手方向に周波数１Ｈｚで測定した動的粘弾性において、損失正接（ｔａｎδ）のピーク温度が１２０〜１６０℃である、請求項１〜５のいずれかに記載の磁気記録媒体用支持体。
- Ｍ層の金属元素濃度が３０〜６０ａｔ．％である、請求項１〜６のいずれかに記載の磁気記録媒体用支持体。
- Ｍ層の金属結合している金属原子の存在比が１〜２０ａｔ．％である、請求項１〜７のいずれかに記載の磁気記録媒体用支持体。
- Ｍ層の金属系酸化物が酸化アルミニウムであり、水酸基と結合しているアルミニウム原子の存在比が０〜５０ａｔ．％である、請求項１〜８のいずれかに記載の磁気記録媒体用支持体。
- 請求項１〜９のいずれかに記載の磁気記録媒体用支持体の少なくとも片面に磁性層が設けられた磁気記録媒体。
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