DE112006001192T5 - Photoempfindlicher Trockenfilm für die Herstellung von dreidimensionalen mikrogeformten Produkten und photoempfindliche Harzzusammensetzung - Google Patents

Photoempfindlicher Trockenfilm für die Herstellung von dreidimensionalen mikrogeformten Produkten und photoempfindliche Harzzusammensetzung Download PDF

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Toru Kawasaki Takahashi
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Abstract

Ein photoempfindlicher Trockenfilm zur Herstellung eines dreidimensionalen mikrogeformten Produkts, umfassend mindestens einen Deckfilm und eine darauf gebildete photoempfindliche Harzzusammensetzungsschicht, wobei ein ausgehärtetes Latentbild des dreidimensionalen mikrogeformten Produkts durch Einstrahlen aktinischer Strahlen von Seiten eines transparenten Substrates darin geformt wird, so dass ein Lichtvolumen entlang der ebenen Oberfläche des transparenten Substrates variiert nachdem die photoempfindliche Harzzusammensetzungsschicht auf das transparente Substrat auflaminiert wurde, und die photoempfindliche Harzzusammensetzungsschicht gebildet wird durch Aufbringen einer photoempfindlichen Harzzusammensetzung umfassend einen Harzbestandteil enthaltend ein polymerisierbares Monomer mit mindestens einer funktionellen Gruppe als ein Hauptbestandteil, sowie einen Photoinitiator, gefolgt von Trocknung.

Description

  • Technisches Gebiet
  • Die vorliegende Erfindung betrifft einen photoempfindlichen Trockenfilm und eine photoempfindliche Harzzusammensetzung geeignet zur Herstellung eines dreidimensionalen mikrogeformten Produktes mit einer dreidimensionalen Oberfläche wie etwa Mikrolinsen, durch Verwendung von Herstellungstechnologie unter Verwendung von Strahlung.
  • Hintergrund
  • In jüngster Zeit ist der Fortschritt bei optischen Komponenten, wie etwa Flüssigkristallanzeigevorrichtungen, Flüssigkristallprojektoren und optischen Kommunikationsgeräten bemerkenswert, so dass es erforderlich wurde, die Bauteile zu miniaturisieren. Wesentliche optische Elemente für ein optisches System derartiger optischer Komponenten umfassen eine Mikrolinse, eine Mikrolinsenanordnung, sowie ein transparentes, kompaktes und leichtgewichtiges dreidimensionales mikrogeformtes Produkt, wie etwa eine dreidimensionale Platte einer Anzeigevorrichtung, ein transparentes Substrat und eine transparente Partition. Dieses dreidimensionale mikrogeformte Produkt sollte transparent, kompakt, von geringem Gewicht sein und auch eine vereinfachte Formbarkeit aufweisen, die für die Produktion mit hohem Durchsatz geeignet ist. Um diese Anforderungen zu erfüllen, werden die dreidimensionalen mikrogeformten Produkte hergestellt unter Verwendung einer photoempfindlichen Harzzusammensetzung als Material, Formen dieser photoempfindlichen Harzzusammensetzung um eine konstante Dicke aufzuweisen, Durchführen einer gerasterten Exposition gemäß der Zielform, wie etwa Linsen, auf der erhaltenen photoempfindlichen Harzschicht in einer Richtung der Dicke der Schicht, und Herauslösen nicht ausgehärteter Teile mit einem Entwickler, der nach der Bestrahlung entfernt wird (siehe beispielsweise Patentdokumente 1 und 3).
  • In der in der Patentdokument 1 beschriebenen Technologie wird eine photoempfindliche Harzzusammensetzung auf ein Glassubstrat aufgebracht, die erhaltene photoempfindliche Harzzusammensetzungsschicht wird mit einer transparenten Platte überdeckt, und die Bestrahlung wird von der Seite dieser transparenten Platte aus durchgeführt. In der im Patentdokument 2 offenbarten Technologie wird eine Negativ-Photolackschicht mittels Bestrahlung und Entwicklung vorgemustert, und anschließend wird die Form der Schicht mittels Wärmeschmelzfluss ausgebildet. Im Patentdokument 2 wird auch beschrieben, dass ein photoempfindlicher Trockenfilm für die Negativ-Photolackschicht verwendet wird. In der im Patentdokument 3 beschriebenen Technologie wird eine photoempfindliche Harzzusammensetzung auf ein transparentes Substrat aufgebracht, und die erhaltene photoempfindliche Harzzusammensetzungsschicht wird von der Seite des transparenten Substrates aus bestrahlt.
    • Patentdokument 1: Japanische offengelegte Patentanmeldungs-Publikation Nr. Hei 7-268177
    • Patentdokument 2: Japanische offengelegte Patentanmeldungs-Publikation Nr. 2002-182388
    • Patentdokument 3: Japanische offengelegte Patentanmeldungs-Publikation Nr. 2004-334184
  • Offenbarung der Erfindung
  • Zu lösende Aufgaben der Erfindung
  • Bei der im Patentdokument 1 beschriebenen Technologie werden leicht Lufteinschlüsse (air crumbling) oder Variationen der Filmdicke verursacht, sobald die transparente Platte auf die photoempfindlichen Zusammensetzungen (in flüssigem Zustand) aufgelegt werden, so dass dort ein Problem darin besteht, dass die Genauigkeit eines ausgehärteten Latentbildes bei der Bestrahlung aufgrund von Lufteinschlüssen und Variationen der Filmdicken ungenügend ist, sogar wenn die transparente Platte überlappend aufgelegt werden kann.
  • Bei der im Patentdokument 2 beschriebenen Technologie sind die Wärmeschmelzeigenschaften der Negativ-Photolackschicht nach der Lichtaushärtung schlecht und daher gibt es hier ein Problem damit dass es schwierig ist, die Formgenauigkeit zu steuern.
  • Bei der im Patentdokument 3 beschriebenen Technologie ist, je weiter man weg von der Seite des transparenten Substrates ist, mit anderen Worten je näher man an der Oberfläche der photoempfindlichen Harzzusammensetzungsschicht ist, die durch Aufbringen gebildet wird, desto mehr oxidative Schäden treten auf, wobei der Aushärtungsgrad verringert wird, so dass ein Problem darin besteht, dass es schwierig wird die Formgenauigkeit zufriedenstellend zu steuern, da der erreichte Aushärtungsgrad in Abhängigkeit von einer Lichtbestrahlung variiert.
  • Wenn das dreidimensionale mikrogeformte Produkt mit einer vorbestimmten dreidimensionalen Oberfläche unter Verwendung der photoempfindlichen Harzzusammensetzung erhalten wird, ist die Photoempfindlichkeit der photosensitiven Harzzusammensetzung ein wichtiger Faktor um die Formgenauigkeit des geformten Produktes zu erhöhen. Um ein dreidimensionales mikrogeformtes Produkt, das eine vorgegebene dreidimensionale Oberfläche aufweist, etwa Mikrolinsen, aus den photoempfindlichen Harzzusammensetzungen zu erhalten, wird die Bestrahlung (Exposition) mit/an aktinischen Strahlen so durchgeführt, dass das Lichtvolumen entlang der flachen Orientierung der photoempfindlichen Harzzusammensetzungsschicht die hierbei gebildet wird, variiert wird um eine konstante Dicke zu erreichen. Es gibt zwei Verfahren um die Variation dieser Lichtbestrahlung zu erreichen, welche wie folgt sind: Eine umfasst ein Bestrahlungsverfahren unter Verwendung einer Schablone, bei der ein Muster für die Steuerung der Transmissivität eines Bestrahlungslichtes gebildet wird, und Bestrahlen mit aktinischer Strahlung aus der vorgegebenen Lichtstärke auf die gesamte Fläche über diese Schablone. Das andere Bestrahlungsverfahren ist ein Verfahren zum Rastern von aktinischen Strahlen kontinuierlich während die Lichtstärke entlang der Vorder- oder Rückseite der photoempfindlichen Harzzusammensetzungsschicht variiert wird.
  • Die Bestrahlung für das dreidimensionale Formgeben wird durchgeführt basierend auf Daten erhalten durch Spezifizieren von Teilen für die aktinische Bestrahlung (Formgebungsbereich) der photoempfindlichen Harzzusammensetzungsschicht, und Bestimmen der Lichtbestrahlungsverteilung, die erforderlich für die gesamte Fläche des spezifischen zu bestrahlenden Teils ist. Ein Teil mit geringer Lichtbestrahlung wird zu einem Teil mit einer geringeren Dicke, und ein Teil mit großer Lichtbestrahlung wird zu einem Teil mit einer größeren Dicke. Mit anderen Worten, eine linear geneigte Oberfläche wird gebildet, wenn die ausgehärtete Filmdicke abrupt und anschließend schrittweise erhöht wird. Dementsprechend wird ein ausgehärtetes Latentbild des dreidimensional geformten Produkts mit einer dreidimensionalen Oberfläche wie etwa eine sphärische Oberfläche einer Linse auf der photoempfindlichen Harzzusammensetzungsschicht geformt durch Einstellen der Bestrahlung, die vertikal bezüglich der zweidimensionalen Oberfläche ist (in Richtung der Dicke der Photopolymerharzschicht), so dass die Lichtbestrahlung kontinuierlich entlang der ebenen Fläche der zweidimensionalen Oberfläche variiert.
  • Nachdem das ausgehärtete Latentbild geformt wurde, kann das dreidimensional geformte Produkt, versinnbildlicht durch eine Mikrolinse, erhalten werden durch Waschen der photoempfindlichen Harzzusammensetzungsschicht mit einer Entwicklerlösung und dadurch Egntfernen der nicht ausgehärteten Anteile.
  • Bei dem dreidimensional geformten Produkt bereitgestellt aus der photoempfindlichen Harzzusammensetzung, wie oben beschrieben, ist es zur Erhöhung der Genauigkeit der dreidimensionalen Oberfläche, mit anderen Worten zur Erhöhung der Formgebungsgenauigkeit, wichtig, dass die ausgehärtete Filmdicke zum Erreichen einer dreidimensionalen Oberfläche mittels der Lichtbestrahlung frei gesteuert werden kann. Es ist erwünscht, dass die Aushärtungsdicke, wenn eine Lichtbestrahlung über der photoempfindlichen Harzzusammensetzungsschicht kontinuierlich variiert wurde, mit einem linearen Anteil, der so groß wie möglich ist, variiert wurde. Wenn aktinische Strahlen auf die photoempfindliche Harzzusammensetzungsschicht aufgebracht wurden kann, je stärker die ausgehärtete Filmdicke in einem linearen Anteil zur geradlinigen Variation der Lichtbestrahlung variiert wurde, die Filmdicke um so leichter und präziser durch die Strahlung gesteuert werden.
  • Die vorliegende Erfindung wurde im Hinblick auf die oben gemachten Umstände gefunden, und eine Aufgabe davon ist es, eine photoempfindliche Harzzusammensetzung bereitzustellen, welche die Formgebungsgenauigkeit eines dreidimensionalen mikrogeformten Produktes mit einer vorgegebenen dreidimensionalen Oberfläche verbessert, sowie einen Trockenfilm, welcher diese Zusammensetzung verwendet.
  • Mittel zur Lösung der Aufgaben
  • Nachdem die Erfinder ausgedehnte Versuche und Studien zur Lösung der oben genannten Aufgaben durchgeführt hatten, haben sie die folgenden Dinge herausgefunden.
  • Dementsprechend konnte gezeigt werden, dass für die Photoempfindlichkeitseigenschaften, die für eine photoempfindliche Harzzusammensetzung erforderlich sind, um ein dreidimensionales mikrogeformtes Produkt mit hoher Genauigkeit zu erhalten, wichtig ist, dass die ausgehärtete Filmdicke in einem linearen Anteil soweit wie möglich zur geradlinigen Variation der Lichtbestrahlung, wie oben beschrieben, variiert, und eine Selektivität in einem Verhältnis der Variation aufweist. Insbesondere konnte gezeigt werden, dass ein Zusammenhang zwischen der Lichtbestrahlung und der ausgehärteten Filmdicke nur in einem größtmöglichen linearen Anteil nicht ausreichend ist, und eine Steigung auf einem Graphen, welcher deren proportionalen Zusammenhang zeigt, in einen vorherbestimmten Bereich fallen sollte.
  • Sogar wenn der Zusammenhang zwischen der Lichtbestrahlung und der ausgehärteten Filmdicke soweit möglich in einem linearen Anteil liegt, zeigt diese eine schrittweise Kurvenlinearität anstelle einer vollständigen Linearität gemäß der photoempfindlichen Harzzusammensetzung umfassend eine Vielzahl von Komponenten. Anschließend wird die Proportionalkurve innerhalb eines Bereiches, in der ein tatsächliches dreidimensionales mikrogeformtes Produkt erhalten wird, mit hoher Genauigkeit und ausreichender Reproduzierbarkeit bestimmt und anschließend standardisiert, um eine Abweichung durch die Messung zu vermeiden. Für die Standardisierung wird der Logarithmus der Lichtbestrahlung x (mJ/cm2) bestimmt durch Ln(x), und die ausgehärtete Filmdicke (Menge gehärtetes Harz) zur Lichtbestrahlung wird wiedergegeben durch das Verhältnis (y = Δh/h) der restlichen Filmdicke Δh (μm) nach der Entwicklung zur Beschichtungsfilmdicke h (μm) vor der Entwicklung. Im Ergebnis wurde gezeigt, dass die oben genannte proportionale Beziehung eine Linearität und einen konstant ansteigenden Bereich aufweist. Angesichts der Aufgabe der Erfindung ist y = 0,4897 Ln(x)-0,8846 besonders bevorzugt, und es wurde gezeigt, dass der mögliche Bereich dieses am meisten bevorzugten Steigungskoeffizienten von 0,4897 in der Praxis bei 0,35 ≤ α ≤ 0,78 liegt.
  • Ein proportionaler Zusammenhang zwischen der Lichtbestrahlung und der ausgehärteten Filmdicke, sowie der Steigungsbereich werden erhalten bei einer Strahlungswellenlänge von 390 bis 430 nm unter Standardentwicklungsbedingungen, d.h. über den gleichen Zeitraum wie eine Entwicklungspause mit 1 Massen % einer wässrigen Natriumcarbonatlösung hergestellt, um eine Flüssigkeitstemperatur von 30°C zu ergeben. Deshalb kann es notwendig sein, den proportionalen Zusammenhang zwischen der Lichtbestrahlung und der ausgehärteten Filmdicke sowie des Steigungsbereiches in gewissem Umfang zu korrigieren, wenn die Bestrahlungswellenlänge sich in hohem Maße verschiebt, oder die Entwicklungsbedingungen von den Standardbedingungen abweichen. Es wurde jedoch bestätigt, dass eine photoempfindliche Harzzusammensetzung, die in geeigneter Weise in einem Rückseitenbestrahlungsverfahren verwendet werden kann, im Fall einer Mikrolinse als dreidimensionales mikrogeformtes Produkt mit seiner gekrümmten Linsenoberfläche veranschaulicht als die Oberfläche, bei welcher die Bestrahlung von der Rückseite der Photopolymerharzschicht durchgeführt wird, und ein ausgehärtetes Latentbild der Mikrolinse dadurch gebildet wird, erhalten werden kann wie auch ein Trockenfilm unter Verwendung der photoempfindlichen Harzzusammensetzung durch Steuern der Harzeigenschaft, damit sie in den obigen Bereich hineinfällt. Herkömmlicherweise wurde kein Trockenfilm bestehend aus einer Harzzusammensetzung geeignet für das Erhalten eines mikrogeformten Produktes mit der besonderen dreidimensionalen Oberfläche, wie etwa einer gekrümmten Linsenoberfläche mittels der Rückseitenbestrahlungsverfahren bereitgestellt. Daher wird die Herstellung des dreidimensionalen mikrogeformten Produkts mit hoher Effizienz, hoher Genauigkeit und günstiger Reproduzierbarkeit ermöglicht unter Verwendung eines Rückseitenbestrahlungsverfahrens durch Bereitstellen eines Trockenfilms, erhalten unter Verwendung einer photoempfindlichen Harzzusammensetzung mit den oben beschriebenen Anforderungen.
  • Um eine photoempfindliche Harzzusammensetzung mit dem proportionalen Zusammenhang zwischen der Lichtbestrahlung und der ausgehärteten Filmdicke und dem Steigungsbereich, wie oben beschrieben zu erhalten, ist es erforderlich, dass mindestens eine aus einer Dialkylbenzophenon-basierten Verbindung und einer Hexaarylbisimidazol-basierten Verbindung als Photoinitiator enthalten ist bei einer photoempfindlichen Harzzusammensetzung umfassend einen Harzbestandteil enthaltend ein polymerisierbares Monomer mit mindestens einer funktionellen Gruppe als Hauptbestandteil, sowie einen Photoinitiator,. Außerdem ist es erwünscht, dass das polymerisierbar-Monomer mindestens eine Art von Verbindung mit einer polymerisierbaren tetra- oder höherfunktionalen ethylenisch ungesättigten Gruppe in einem Molekül umfasst.
  • Der Trockenfilm wird gebildet mit einem Deckfilm, der photoempfindlichen Harzzusammensetzungsschicht, sowie einem Schutzfilm. Der Trockenfilm mit diesem Aufbau kann erhalten werden durch Aufbringen der photoempfindlichen Harzzusammensetzung auf den Deckfilm, Trocknen um die photoempfindliche Harzzusammensetzungsschicht auf dem Deckfilm zu bilden, und Auflaminieren des Schutzfilms zum Schützen der exponierten Oberfläche dieser photoempfindlichen Harzzusammensetzungsschicht.
  • Die vorliegende Erfindung wurde auf den oben genannten Erkenntnissen basierend gemacht. Insbesondere umfasst der photoempfindliche Trockenfilm zum Herstellen des dreidimensionalen mikrogeformten Produkts gemäß der vorliegenden Erfindung mindestens einen Deckfilm und eine photoempfindliche Harzzusammensetzungsschicht, die darauf gebildet wird, wobei ein ausgehärtetes Latentbild des dreidimensionalen mikrogeformten Produkts innerhalb geformt wird durch Einstrahlen von aktinischen Strahlen von Seiten eines transparentes Substrates, so dass eine Lichtstärke („light volume") entlang der ebenen Oberfläche des transparentes Substrates variiert, nachdem die photoempfindliche Harzzusammensetzungsschicht auf das transparente Substrat auflaminiert wurde, und die photoempfindliche Harzzusammensetzungsschicht geformt wird durch Aufbringen einer photoempfindlichen Harzzusammensetzung enthaltend einen Harzbestandteil enthaltend ein polymerisierbares Monomer mit mindestens einer funktionellen Gruppe als Hauptbestandteil, sowie einen Photoinitiator, gefolgt von Trocknung.
  • Der Trockenfilm hat spezifische Belichtungseigenschaften, wodurch das dreidimensionale mikrogeformte Produkt, wie etwa eine Mikrolinse, mit hoher Wirtschaftlichkeit und hoher Genauigkeit nach dem Rückseitenbestrahlungsverfahren erzeugt werden kann. Insbesondere wird bei der photoempfindlichen Harzzusammensetzung der ausgehärtete Film gebildet durch Lichtaushärtung des Beschichtungsfilms bei einer Strahlungswellenlänge von 405 nm, und Entwickeln unter einer Entwicklungsbedingung, für den gleichen Zeitraum wie eine Entwicklungspause mit 1 Masse %iger einer wässrigen Natriumcarbonatlösung hergestellt um eine Flüssigkeitstemperatur von 30°C zu ergeben. Der resultierende ausgehärtete Film hat Belichtungseigenschaften bei denen, wenn eine Lichtbestrahlung wiedergegeben wird durch x (mJ/cm2), und die ausgehärtete Filmdicke zur Lichtbestrahlung wiedergegeben wird durch das Verhältnis (y = Δh/h) der restlichen Filmdicke Δh (μm) nach Entwicklung zur Beschichtungsfilmdicke h (μm), vor der Entwicklung der Zusammenhang zwischen dem Logarithmus von x (Ln(x)) und y wiedergegeben wird durch y = α·Ln(x)±ß und in den Bereich von 0,35 ≤ α ≤ 0,78 fällt (β ist eine reale Zahl).
  • Um die Belichtungseigenschaften der photoempfindlichen Harzzusammensetzung zu gewährleisten ist es bevorzugt, dass der Photoinitiator in seinen Bestandteilen mindestens einen aus einen Dialkylbenzophenon-basierten Verbindung und einer Hexaarylbisimidazol-basiserten Verbindung enthält.
  • Außerdem ist es bevorzugt, dass das polymerisierbare Monomer mindestens eine Art einer Verbindung mit einer polymerisierbaren tetra- oder höherfunktionalen ethylenisch ungesättigten Gruppe in einem Molekül umfasst.
  • Die photoempfindliche Harzzusammensetzung gemäß der vorliegenden Erfindung wird nicht nur für das Erhalten des photoempfindlichen Trockenfilms vorzugsweise verwendet, sondern ist auch verwendbar als die photoempfindliche Harzzusammensetzung, welche einen geeigneten Beschichtungsfilm ergibt, im allgemeinen unter Verwendung einer Strahlungsherstellungsmethode ohne Beschränkung auf das Rückseitenbestrahlungsverfahren oder ein Frontseitenbestrahlungsverfahren. Eine derartige photoempfindliche Harzzusammensetzung wird charakterisiert durch eine Photoempfindlichkeit von 0,35 ≤ α ≤ 0,78, wenn eine Lichtbestrahlung aus aktinischen Strahlen (mJ/cm2) aufgestrahlt auf die Zusammensetzung wiedergegeben wird durch x, und eine ausgehärtete Filmdicke (ausgehärtete Harzmenge) zur Lichtbestrahlung wiedergegeben wird über ein Verhältnis (y = Δh/h) einer restlichen Dicke Δh (μm) nach der Entwicklung zu einer Beschichtungsfilmdicke h (μm) vor der Entwicklung, wobei die Photoempfindlichkeit bestimmt wird basierend auf dem relationalen Ausdruck zwischen x und y, welcher ist: y = α·Ln(x) ± β (β ist eine frei wählbare reelle Zahl).
  • Die photoempfindliche Harzzusammensetzung umfasst einen Harzbestandteil enthaltend ein polymerisierbares Monomer mit mindestens einer funktionellen Gruppe als Hauptbestandteil, sowie einen Photoinitiator. Die Harzkomponente ist ein alkalilösliches Harz (A), sowie eine photopolymerisierbare Verbindung (B). Daher umfasst die photoempfindliche Harzzusammensetzung insbesondere eine Harzzusammensetzung mit mindestens einem alkalilöslichen Harz (A), der photopolymerisierbaren Verbindung (B), sowie einem Photoinitiator (C) als chemischen Bestandteilen. Es ist bevorzugt, dass der Photoinitiator (C) mindestens eine aus einer Dialkylbenzophenon-basierten Verbindung und einer Hexaarylbisimidazol-basierten Verbindung enthält. Da diese Photoinitiatoren in ihrer Wirkung bei der Erhöhung der Absorptivität von aktinischen Strahlen auf der Resistoberfläche überlegen sind, kann die Lichtbestrahlung und die ausgehärtete Harzdicke, die dem entspricht, in einer linearen Proportion durch ungefähres Kontrollieren der Photoinitiatormenge gesteuert werden.
  • Wirkungen der Erfindung
  • Der photoempfindliche Trockenfilm gemäß der vorliegenden Erfindung, die lithographische Bildung des dreidimensionalen mikrogeformten Produkts wird durchgeführt mittels des Rückseitenbestrahlungsverfahrens mit höherer Effizienz und höherer Genauigkeit. Außerdem kann, gemäß dem dreidimensionalen mikrogeformten Produkt der vorliegenden Erfindung, das dreidimensionale mikrogeformte Produkt mit verschiedenen dreidimensionalen Oberflächen mit hoher Genauigkeit hergestellt werden, da die ausgehärtete Menge die an aktinisches Licht ausgesetzt wird, einfach kontrolliert werden kann.
  • Kurze Zusammenfassung der Zeichnungen
  • 1 ist ein Diagramm, welches den Zusammenhang zwischen der Lichtbestrahlung (mJ/cm2) und der Dicke (Filmdicke: μm) in einer Breitenrichtung der drei Arten von dreidimensionalen mikrogeformten Produkten zeigt, die aus Harzen, die nach den Beispielen und Vergleichsbeispielen erhalten wurden, hergestellt wurden.
  • 2 ist ein Diagramm, welches die standardisierten Daten der 1 zeigt.
  • Bevorzugte Art der Ausführung der Erfindung
  • Wie oben beschrieben, wird die photoempfindliche Harzzusammensetzung gemäß der vorliegenden Erfindung dadurch gekennzeichnet, dass wenn die Lichtbestrahlung mit aktinischen Strahlen (mJ/cm2) wiedergeben wird durch x, und die ausgehärtete Filmdicke (ausgehärtete Harzmenge) zu der Lichtbestrahlung wiedergegeben wird durch das Verhältnis (y = Δh/h) der restlichen Filmdicke Δh (μm) nach der Entwicklung zur Beschichtungsfilmdicke h (μm) vor der Entwicklung, die Photoempfindlichkeit in den Bereich von 0.35 ≤ α ≤ 0,78 fällt, bestimmt basierend auf dem relationalen Ausdruck zwischen x und y, welcher ist: y = α·Ln(x) ± β, wobei β eine beliebige reelle Zahl ist.
  • In dem Aufbau, welcher die photoempfindliche Harzzusammensetzung zur Herstellung des dreidimensionalen mikrogeformten Produkts der vorliegenden Erfindung mit den Photoempfindlichkeitseigenschaft wie oben beschrieben gewährleistet, vorzugsweise eine photoempfindliche Harzzusammensetzung, sind ein polymerisierbares Monomer mit mindestens einer funktionellen Gruppe als Hauptbestandteil, und ein Photoinitiator enthalten. Insbesondere umfasst die photoempfindliche Harzzusammensetzung der vorliegenden Erfindung vorzugsweise mindestens ein alkalilösliches Harz (A), die photopolymerisierbare Verbindung (B), und den Photoinitiator (C). Die Bestandteile (A), (B) und (C) sind im Detail unten beschrieben.
  • Alkalilösliches Harz (A)
  • Beispiele für das alkalilösliche Harz (A) können umfassen (Meth)acryl-basierte Harze, Styrol-basierte Harze, Epoxy-basierte Harze, Amid-basierte Harze, Amidepoxy-basierte Harze, Alkyd-basierte Harze, Phenol-basierte Harze, Phenolnovolak-basierte Harze und Kresolnovolak-basierte Harze. Die (Meth)acryl-basierten Harze sind bevorzugt hinsichtlich der alkalischen Entwicklungseigenschaft.
  • Wie die oben genannten (Meth)acryl-basierten Harze können die durch Polymerisierung oder Copolymerisierung von Monomeren, wie unten gezeigt, erhaltenen Harze verwendet werden. Diese polymerisierbaren Monomere können auch als die später beschriebene Komponente (B) verwendet werden. Als derartige polymerisierbare Monomere können vorzugsweise z.B. (Meth)acrylester, ethylenisch ungesättigte Carbonsäuren, und andere copolymerisierbare Monomere verwendet werden. Insbesondere geeignet sind Styrol, Benzyl(meth)acrylat, Cyclohexyl(meth)acrylat, Phenoxyethyl(meth)acrylat, Phenoxypolyethylenglycol (meth)acrylat, Nonylphenoxypolyethylenglycol mono(meth)acrylat, Nonylphenoxypolypropylen mono(meth)acrylat, 2-Hydroxy-3-phenoxypropyl acrylat, 2-Acryloyloxyethylphthalat, 2-Acryloyloxyethyl-2-hydroxyethylphthalat, 2-Methacryloyloxyethyl-2-hydroxypropylphthalat, Methyl(meth)acrylat, Ethyl(meth)acrylat, n-Propyl(meth)acrylat, i-Propyl(meth)acrylat, n-Butyl(meth)acrylat, i-Butyl(meth)acrylat, sec-Butyl(meth)acrylat, tert-Butyl(meth)acrylat, 2-Hydroxyethyl(meth)acrylat, 2-Hydroxypropyl(meth)acrylat, 3-Hydroxypropyl(meth)acrylat, 2-Hydroxybutyl(meth)acrylat, 3-Hydroxybutyl(meth)acrylat, 4-Hydroxybutyl(meth)acrylat, 3-Ethylhexyl(meth)acrylat, Ethyleneglycol mono(meth)acrylat, Glycerol(meth)acrylat, Dipentaerythritol mono(meth)acrylat, Dimethylaminoethyl(meth)acrylat, Diethylaminoethyl(meth)acrylat, Tetrahydrofurfuryl(meth)acrylat, Glycidyl(meth)acrylat, 2,2,2-Trifluoroethyl(meth)acrylat, 2,2,3,3-Trifluoropropyl(meth)acrylat, (Meth)acrylsäure, α-Bromo(meth)acrylsaure, β-Furyl(meth)acrylsäure, Crotonsäure, Propiolsäure, Zimtsäure, α-Cyanozimtsäure, Maleinsäure, Maleinanhydrid, Maleinsäuremonomethyl, Maleinsäuremonoethyl, Maleinsäuremonoisopropyl, Fumarsäure, Itaconsäure, Itaconanhydrid, Citraconsäure, Citraconanhydrid und dergleichen. Unter dem Gesichtspunkt der Transparenz wird vorzugsweise Benzylmethacrylat verwendet.
  • Beispiele anderer copolymerisierbarer Monomere können Fumaratester, Maleateester, Crotonatester und Itaconatester umfassen, erhalten durch Ersetzen von (Meth)acrylat mit Fumarat, Maleat, Crotonat bzw. Itaconat, wie in den beispielhaft angegebenen Verbindungen (Meth)acrylatester, α-Methylstyrol, o-Vinyltoluol, m-Vinyltoluol, p-Vinyltoluol, o-Chlorostyrol, m-Chlorostyrol, p-Chlorostyrol, o-Methoxystyrol, m-Methoxystyrol, p-methoxystyrol, Vinylacetat, Vinylbutyrat, Vinylpropionat, (Meth)acrylamid, (Meth)acrylonitril, Isopren, Chloropren, 3-Butadien, Vinyl-n-butylether und dergleichen.
  • Zusätzlich zu den Polymeren/Copolymeren der oben genannten Monomere ist es möglich Cellulosederivate zu verwenden, wie etwa Cellulose, Hydroxymethylcellulose, Hydroxyethylcellulose, Hydroxypropylcellulose, Carboxymethylcellulose, Carboxyethylcellulose sowie Carboxyethylmethylcellulose, und außerdem Copolymere dieser Cellulosederivate mit ethylenisch ungesättigter Carbonsäure oder der (Meth)acrylat-Verbindungen. Noch mehr bevorzugt können Polyvinylalkohole verwendet werden, wie etwa ein Polybutyralharz, welches ein Umsetzungsprodukt des Polyvinylalkohols mit Butyraldehyd ist; Polyester in welchen Lactone, wie etwa δ-Valerolacton, ε-Caprolacton, β-Propiolacton, α-Methyl-β-propiolacton, β-Methyl-ß-propiolacton, α-Methyl-β-propiolacton, β-Methyl-β-propiolacton, α,α-Dimethyl-β-propiolacton und β,β-Dimethyl-β-propiolacton ringöffnend polymerisiert wurden; Polyester erhalten durch Kondensationsreaktionen von Akylenglycol alleine, wie etwa Ethylenglycol, Propylenglycol, Diethyleneglycol, Triethylenglycol, Dipropylenglycol und Neopentylglycol oder Diole von zwei oder mehreren Arten davon einer Dicarbonsäure, wie etwa Maleinsäure, Fumarsäure, Glutarsäure und Adipinsäure; Polyether wie etwa Polyethylenglycol, Polypropylenglycol, Polytetramethylenglycol, Polypentamethylenglycol; Polycarbonate, welche Umsetzungsprodukte eines Diols, wie etwa Bisphenol A, Hydrochinon und Dihydroxycyclohexanol mit einer Carbonyl-Verbindung wie etwa Diphenylcarbonat, Phosgen und Bernsteinsäureanhydrid sind. Die oben genannte Komponente (A) kann allein oder in Kombination von zweien oder mehreren davon verwendet werden.
  • Das alkalilösliche Harz (A) enthält vorzugsweise eine Carboxylgruppe hinsichtlich der alkalischen Entwicklungseigenschaft. Ein derartiger Bestandteil (A) kann erzeugt werden durch Durchführen einer Radikalpolymerisation eines Monomers mit einer Carboxylgruppe mit einem anderen Monomer. In diesem Fall ist es bevorzugt, (Meth)acrylsäure zu verwenden.
  • Photopolymerisierbare Verbindung (B)
  • Die photopolymerisierbare Verbindung (B) ist ein sogenanntes polymerisierbares Monomer, das mindestens eine polymerisierbare ethylenisch ungesättigte Gruppe in einem Molekül umfasst. Diese photopolymerisierbare Verbindung (B) umfasst vorzugsweise eine "Verbindung (B-1) mit einer polymerisierbaren tetra- oder höherfunktionellen ethylenisch ungesättigten Gruppe". Die Harte des dreidimensionalen mikrogeformten Produkts kann auf einen für einen Permanentfilm erhöht werden durch Verwendung der Verbindung (B-1).
  • Die "Verbindung (B-1) mit einer polymerisierbaren tetra- oder höherfunktionellen ethylenisch ungesättigten Gruppe" umfasst beispielsweise Pentaerythritol tri(meth)acrylat, Pentaerythritol tetra(meth)acrylat, Pentaerythritol penta(meth)acrylat, Dipentaerythritol penta(meth)acrylat, Dipentaerythritol hexa(meth)acrylat und dergleichen. Unter diesen wird Dipentaerythritol hexa(meth)acrylat vorzugsweise verwendet. Diese Verbindungen können allen oder in Kombinationen von zwei oder mehreren davon verwendet werden.
  • Die Menge der oben genannten Verbindung (B-1) liegt bei vorzugsweise 20 bis 100 Massenteilen, besonders bevorzugt 40 bis 80 Massenteilen, basierend auf 100 Massenteilen Feststoffanteil des alkalilöslichen Harzes (A).
  • Es ist bevorzugt, dass die photopolymerisierbare Verbindung (B) ferner eine Verbindung (B-2) mit einem Bisphenolgerüst enthält. Die Reaktivität wird durch Verwenden der Verbindung (B-2) verbessert. Beispiele der genannten Verbindung (B-2) mit dem Bisphenolgerüst können umfassen: Bisphenol A-Typ Verbindungen, Bisphenol F-Typ Verbindungen und Bisphenol S-Typ Verbindungen. In der vorliegenden Erfindung wird in den Bisphenol A-Typ Verbindungen 2,2-bis[4-{(Meth)acryloxypolyethoxy}phenyl]propan verwendet. Spezifische Beispiele können umfassen, ohne darauf beschränkt zu sein: 2,2-bis[4-{(Meth)acryloxydiethoxy}phenyl]propan, 2,2-bis[4-{(Meth)acryloxytriethoxy}phenyl]propan, 2,2-bis[4-{(Meth)acryloxypentaethoxy}phenyl]propan, 2,2-bis[4-{(Meth)acryloxydecaethoxy}phenyl] propan und dergleichen. Dieser Verbindungen können allein oder in Kombination zweier oder mehrerer davon verwendet werden.
  • Außerdem kann die photopolymerisierbare Verbindung (B) andere gut bekannte Verbindungen mit einer polymerisierbaren ethylenisch ungesättigten Gruppe umfassen. Beispielsweise können verwendet werden: Polyethylenglycol di(meth)acrylat, Polypropylenglycol di(meth)acrylat, Polyethylenpolypropylenglycol di(meth)acrylat, Ethylenglycol di(meth)acrylat, Propylenglycol di(meth)acrylat, Polyethylentrimethylolpropan di(meth)acrylat, Trimethylolpropan tri(meth)acrylat, Trimethylolpropanethoxy tri(meth)acrylat, Trimethylolpropandiethoxy tri(meth)acrylat, Trimethylolpropantriethoxy tri(meth)acrylat, Trimethylolpropantetraethoxy tri(meth)acrylat, Trimethylolpropanpentaethoxy tri(meth)acrylat, Tetramethylolmethan tri(meth)acrylat, Tetramethylolmethan tetra(meth)acrylat, Tetramethylolpropan tetra(meth)acrylat, 2-Phenoxy-2-hydroxypropyl(meth)acrylat, 2-(Meth)acryloxy-2-hydroxypropylphthalat, 2-(Meth)acryloxyethyl-2-hydroxyethylphthalat, eine Verbindung enthaltend durch Umsetzen einer Glycidylgruppen enthaltenden Verbindung mit α,β-ungesättigter Carbonsäure, Urethanmonomer, Nonylphenyldioxiren (meth)acrylat, γ-Chlor-β-hydroxypropyl-β'(meth)acryloyloxyethyl-o-phthalat, β-Hydroxyethyl-β'-(meth)acryloyloxyethyl-o-phthalat, β-Hydroxypropyl-β'-(meth)acryloyloxyethyl-o-phthalat, ein (Meth)alkylacrylatester oder dergleichen. Zusätzlich können die zum Kombinieren mit der oben genannten Komponente (A) beispielhaften genannten Monomere verwendet werden. Diese Verbindungen können allein oder in Kombination von zweien oder mehreren davon verwendet werden.
  • Beispiele der oben genannten Glycidylgruppen enthaltenden Verbindungen können ohne darauf beschränkt zu sein Triglycerol di(meth)acrylat umfassen.
  • Beispiele des vorgenannten Urtheanmonomers können umfassen Additionsreaktionsprodukte eines (Meth)acrylmonomer mit einer OH-Gruppe an der β-Position mit Isophorondiisocyanat, 2,6-Toluoldiisocyanat, 2,4-Toluoldiisocyanat oder 1,6-Hexamethylendiisocyanat; Tris[(meth)acryloxy tetraethylenglycol isocyanat]hexamethylen isocyanurat, EO-modifiziertes Urethan di(meth)acrylat, EO-und PO-modifiziertes Urethane di(meth)acrylat und der gleichen.
  • Beispiele der oben genannten (Meth)acrylsäurealkylester können (Meth)acrylsäuremethylester, (Meth)acrylsäureethylester, (Meth)acrylsäurebutylester, (Meth)acrylsäure 2-ethylhexylester und dergleichen umfassen.
  • Die Menge der Komponente (B) (Feststoffgehalt) liegt bei vorzugsweise 20 bis 100 Massenteilen basierend auf 100 Massenteilen des Feststoffgehalts des alkalilöslichen Harzes (A) für die Kombination. Wenn die Menge an Komponente (B) zu klein ist, ist die Empfindlichkeit verringert, wenn sie zu groß ist, sind die Filmbildungseigenschaften schlechter.
  • Die Harzbestandteile der photoempfindlichen Harzzusammensetzung nach der vorliegenden Erfindung sind oben beschrieben. Angesichts der Aufgabe der Erfindung ist es erwünscht, eine Verbindung mit einer polymerisierbaren tetra- oder höherfunktionalen ethylenisch ungesättigten Gruppe in einem Molekül zu haben, sowie eine Verbindung mit einem Bisphenolgerüst als polymerisierbares Monomer. Die Härte des zu erhaltenden dreidimensionalen mikrogeformten Produkts kann auf einen für einen Permanentfilm geeigneten Wert durch Verwenden dieser polymerisierbaren Monomere erhöht werden.
  • Photoinitiator (C)
  • Der Photoinitiator (C) umfasst vorzugsweise eine Hexaarylbisimidazol-basiserte Verbindung (C1) und/oder eine Dialkylbenzophenon-basierte Verbindung (C2). Da diese Photoinitiatoren überlegene Lichtabsorptionseigenschaften insbesondere auf der Resistoberfläche haben, kann eine hohe Oberflächenbildungsgenauigkeit auch erreicht werden, wenn eine Rückseitenbestrahlung durchgeführt wurde. Ferner kann ein besonders vorteilhafter Effekt auf die Adhäsion und die Auflösung durch Verwenden der Hexaarylbisimidazol-basiserten Verbindung (C1) erreicht werden.
  • Die Hexaarylbisimidazol-basiserte Verbindung (C1) bedeutet eine Dimerverbindung von Imidazol bei der alle Wasserstoffatome die an die drei Kohlenstoffatome des Imidazolringes gebunden sind, mit Arylgruppen substituiert sind (einschließlich substituierter oder unsubstituierter Gruppen). Insbesondere verwendet werden können 2-(o-Chlorophenyl)-4,5-diphenylimidazoldimer, 2-(o-Chlorophenyl)-4,5-di(methoxyphenyl)imidazoldimer, 2-(o-Fluorphenyl)-4,5-diphenylimidazoldimer, 2-(o-Methoxyphenyl)-4,5-diphenylimidazoldimer, 2-(p-Methoxyphenyl)-4,5-diphenylimidazoldimer, 2,4,5-Triarylimidazoldimer wie etwa 2,4,5-Triarylimidazoldimer, 2,2-bis(2,6-Dichlorophenyl)-4,5-diphenylimidazoldimer, 2,2'-bis(o-Chlorophenyl)-4,4',5,5'-tetra(p-fluorophenyl)biimidazol, 2,2'-bis(o-Bromophenyl)-4,4',5,5'-tetra(p-iodophenyl)biimidazol, 2,2'-bis(o-Chlorphenyl)-4,4',5,5'-tetra(p-chlornaphthyl)biimidazol, 2,2'-bis(o-Chlorophenyl)-4,4',5,5'-tetra(p-chlorophenyl)biimidazol, 2,2'-bis(o-Bromophenyl)-4,4',5,5'-tetra(p-chlor-p-methoxyphenyl)biimidazol, 2,2'-bis(o-Chlorophenyl)-4,4',5,5'-tetra(o,p-dichlorophenyl)biimidazol, 2,2'-bis(o-Chlorphenyl)-4,4',5,5'-tetra(o,p-dibromephenyl)biimidazol, 2,2'-bis(o-Bromphenyl)-4,4',5,5'-tetra(o,p-dichlorphenyl)biimidazol, 2,2'-bis(o,p-Dichlorophenyl)-4,4',5,5'-tetra(o,p-dichlorophenyl)biimidazol und dergleichen. Unter diesen wird das 2-(o-Chlorophenyl)-4,5-diphenylimidazoldimer bevorzugt verwendet.
  • Die Menge des Photoinitiators (C-1) für die Hinzufügung zur Zusammensetzung liegt bei 1 bis 30 Massenteilen, besonders bevorzugt 5 bis 15 Massenteilen basierend auf 100 Massenteilen des Feststoffgehalts des alkalilöslichen Harzes (A). Wenn die Menge bei 1 bis 30 Massenteilen liegt, wird eine bessere Sensitivität erreicht.
  • Beispielhaft für die Dialkylbenzophenon-Verbindung (C2) sind insbesondere 4,4'-bis(Dimethylamino)benzophenon, 4,4'-bis(Diethylamino)benzophenon, 3,3'-Dimethyl-4-methoxybenzophenon, 4,4'-bis(Dicyclohexylamino)benzophenon, 4,4'-bis(Dihydroxyethylamino)benzophenon, 4,4'-bis(Dimethoxy)benzophenon, 4,4'-bis(Methylethylamino)benzophenon und dergleichen. Unter diesen wird 4,4'-bis(Diethylamino)benzophenon vorzugsweise verwendet.
  • Die zur Zusammensetzung hinzuzugebende Menge an Photoinitiator (C-2) liegt bei 0,01 bis 5 Massenteilen, und besonders bevorzugt bei 0,1 bis 2 Massenteilen, basierend auf 100 Massenteilen des Feststoffgehalts des alkalilöslichen Harzes (A). Wenn die Menge bei 0,1 bis 5 Massenteilen liegt, ist die Linsenformbarkeit exzellent.
  • Die photoempfindliche Harzzusammensetzung kann einen weiteren Photoinitiator umfassen, einen anderen als die oben beschriebenen, sofern die notwendigen Eigenschaften für das dreidimensionale mikrogeformte Produkt, das nach der Formgebung erhalten wurde, nicht verschlechtert werden. Derartige Photoinitiatoren umfassen beispielsweise aromatische Ketone, wie etwa 1-Hydroxycyclohexylphenylketon, 2,2-Dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one, 2-Methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-one, 2-Benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butan-1-one, 2-Hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 2,4,6-Trimethylbenzoyldiphenylphosphinoxid, 1-[4-(2-Hydroxyethoxy)phenyl]-2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 2,4-Diethylthioxanthon, 2-Chlorothioxanthon, 2,4-Dimethylthioxanthon, 1-Chlor-4-propoxythioxanthon, 1-(4-Isopropylphenyl)-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 1-(4-Dodecylphenyl)-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 4-Benzoyl-4'-methyldimethylsulfid, p-Dimethylaminobenzoesäureethylester, 4-Dimethylaminobenzoesäure, Methyl 4-dimethylaminobenzoat, Ethyl 4-dimethylaminobenzoat, Butyl 4-dimethylaminobenzoat, 2-Ethylhexyl 4-dimethylaminobenzoat, 2-Isoamyl 4-dimethylaminobenzoat, 2,2-Diethoxyacetophenon, Methyl o-benzoylbenzoat, bis(4-Dimethylaminophenyl)keton, 2,2-Diethoxyphenylacetophenon, p-Dimethylaminoacetophenon, p-tert-Butyltrichloroacetophenon, p-tert-Butyldichloroacetophenon, Thioxanthon, 2-Methylthioxanthon, 2-Isopropylthioxanthon, Dibenzosuberon, α,α-Dichloro-4-phenoxyacetophenon, Pentyl 4-dimethylaminobenzoat, Benzophenon, N,N'-Tetramethyl-4,4'-diaminobenzophenon, N,N'-Tetraethyl-4,4'-diaminobenzophenon, 4-Methoxyl-4-dimethylbenzophenon, 3,3-Dimethyl-4-methoxybenzophenon, 4,4'-Bisdiethylaminobenzophenon, 4,4'-Dichlorobenzophenon sowie 2-Benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butan-1, 2-Methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholino-propan-1; Chuinone wie etwa 2-Ethylanthrachinon, Phenanthrenechinon, 2-tert-Butylanthrachinon, Octamethylanthrachinon, 1,2-Benzanthrachinon, 2,3-Benzanthrachinon, 2-Phenylanthrachinon, 2,3-Diphenylanthrachinon, 1-Chloranthrachinon, 2-Methylanthrachinon, 1,4-Naphthochinon, 9,10-Phenanthrachinon, 2-Methyl-1,4-naphthochinon sowie 2,3-Dimethylanthrachinon; Benzoinether-Verbindungen wie etwa Benzoinmethylether, Benzoinethylether, Benzoinphenylether, Benzoinisopropylether, α-Methylolbenzoinmethylether, α-Methoxybenzoinmethylether, Benzoin n-butylether, sowie Benzoinisobutylether; Benzoin-Verbindungen wie etwa Benzoin, Methylbenzoin und Ethylbenzoin; Benzylderivative wie etwa Benzyl-β-methoxyethylacetal und Benzylmethylketal; Acridinderivate wie etwa 9-Phenylacridin, 1,7-bis(9,9'-Acridinyl)heptan, 1,5-bis-(9-Acridinyl)pentan und 1,3-bis-(9-Acridinyl)propan; sowie kumarinbasierte Verbindungen und dergleichen.
  • Die zu der Zusammensetzung hinzuzufügende Menge an Photoinitiator (C) liegt bei 0,1 bis 30 Massenteilen, und besonders bevorzugt bei 1 bis 20 Massenteilen, basierend auf 100 Massenteilen des Feststoffgehalts des alkalilöslichen Harzes (A).
  • Andere Bestandteile
  • Zu der photoempfindlichen Harzzusammensetzung können organische Lösemittel zu Verdünnungszwecken wie etwa Alkohole, Ketone, Acetessigester, Glykolether, Glykoletherester und erdölbasierte Lösungsmittel in geeigneter Weise zugesetzt werden, sofern erforderlich, zum Zwecke des Einstellens einer Viskosität und dergleichen, und zusätzlich zu den oben genannten Bestandteilen.
  • Organische Lösemittel für Verdünnungszwecke umfassen beispielsweise Tetrahydrofuran, Hexan, Heptan, Octan, Nonan, Decan, Benzen, Toluen, Xylen, Benzylalkohol, Methylethylketon, Aceton, Methylisobutylketon, Cyclohexanon, Methanol, Ethanol, Propanol, Butanol, Hexanol, Cyclohexanol, Ethylenglycol, Diethylenglycol, Glycerin, Ethyleneglycolmonomethylether, Ethylenglycolmonoethylether, Propylenglycolmonomethylether, Propylenglycolmonomethylether, Diethylenglycolmonomethylether, Diethylenglycolmonoethylether, Diethylenglycoldimethylether, Diethylenglycoldiethylether, 2-Methoxybutylacetat, 3-Methoxybutylacetat, 4-Methoxybutylacetat, 2-Methyl-3-methoxybutylacetat, 3-Methyl-3-methoxybutylacetat, 3-Ethyl-3-methoxybutylacetat, 2-Ethoxybutylacetat, 4-Ethoxybutylacetat, 4-Propoxybutylacetat, 2-Methoxypentylacetat, 3-Methoxypentylacetat, 4-Methoxypentylacetat, 2-Methyl-3-methoxypentylacetat, 3-Methyl-3-methoxypentylacetat, 3-Methyl-4-methoxypentylacetat, 4-Methyl-4-methoxypentylacetat, Methyllactat, Ethyllactat, Methylacetat, Ethylacetat, Propylacetat, Butylacetat, Propylenglycolmonomethyletheracetat, Propylenglycolmonomethyletheracetat, ;Methylpropionat, Ethylpropionat, Methylbenzoat, Ethylbenzoat, Propylbenzoat, Butylbenzoat, Methylbutyrat, Ethylbutyrat, Propylbutyrat, sowie zusätzlich erdölbasierte Lösemittel, erhältlich unter Handelsnamen wie etwa "Swasol" (Maruzen Petrochemical Co., Ltd.) und "Solvets" (Tonen Petrochemical Co., Ltd.), ohne hierauf beschränkt zu sein.
  • Andere Additive wie etwa haftungsverleihende Mittel, Weichmacher, Antioxidantien, Wärmepolymerisationsinhibitoren, Oberflächenspannungmodifikatoren, Stabilisatoren, Kettenüberträger, Schaumveränderungsmittel und Flammschutzmittel können auch in entsprechender Weise zugesetzt werden.
  • Die Kombination des alkalilöslichen Harzes (A), der photopolymerisierbaren Verbindung (B) und des Photoinitiators (C), die als photoempfindliche Harzzusammensetzung am meisten bevorzugt ist, ist eine Zusammensetzung umfassend die Komponente (A) mit 100 Massenteilen (bezüglich des Feststoffgehaltes) eines Harzes mit einem durchschnittlichen Molekulargewicht von 80 000 eines Copolymers in dem das Massenverhältnis von Benzylmethacrylat zu Methacrylsäure bei 80:20 liegt; die Komponente (B) umfasst 60 Massenteile von Dipentaerythritolhexaacrylat, sowie 20 Massenteile von EO-modifiziertem Bisphenol A Dimethacrylat; und die Komponente (C) umfasst 10 Massenteile von 2-(o-Chlorophenyl)-4,5-diphenylimidazoldimer, sowie 0,7 Massenteile von 4,4'-bis(Diethylamino)benzophenon, wobei diese ausgewählt werden, weil die Kombination sich ausgezeichnet verhält bei allen aus Rückseitenbestrahlungsempfindlichkeit, Transparenz, Auflösungsfähigkeit und Härte des dreidimensionalen mikrogeformten Produkts.
  • Zum Formen eines optisch transparenten dreidimensionalen mikrogeformten Produkts unter Verwendung der photoempfindlichen Harzzusammensetzung umfassend die oben genannten Bestandteile, kann die photoempfindliche Harzzusammensetzungsschicht durch direktes Aufbringen dieser photoempfindlichen Harzzusammensetzung auf ein transparentes Substrat gebildet werden, wobei eine Rasterbestrahlung in dieser photoempfindlichen Harzzusammensetzungsschicht durchgeführt werden kann. Wenn jedoch die Effizienz und Stabilität der Produktion in Betracht gezogen wird, ist es erwünscht, dass der photoempfindliche Trockenfilm zunächst aus der photoempfindlichen Harzzusammensetzung hergestellt wird, und dann dieser Trockenfilm auf das transparente Substrat aufgebracht wird, wodurch die photoempfindliche Harzzusammensetzungsschicht gebildet wird. Dieser photoempfindliche Trockenfilm kann vorzugsweise verwendet werden insbesondere bei einem Rückseitenbestrahlungsverfahren. Der photoempfindliche Trockenfilm wird im folgenden beschrieben.
  • Der photoempfindliche Trockenfilm wird erhalten mindestens durch Bereitstellen der photoempfindlichen Harzzusammensetzungsschicht gebildet aus der vorgenannten photoempfindlichen Harzzusammensetzung auf einem Trägerfilm (Deckfilm). Wenn verwendet, kann die photoempfindliche Harzzusammensetzungsschicht in einfacher Weise auf einem transparenten Substrat bereitgestellt werden durch Überlappen der aufgedeckten photoempfindlichen Harzzusammensetzungsschicht auf dem transparenten Substrat, und anschließendes Abschälen des Trägerfilms von der photoempfindlichen Harzzusammensetzungsschicht.
  • Durch die Verwendung des photoempfindlichen Trockenfilms kann die Schicht mit deutlich besserer Filmdickengleichförmigkeit und Oberflächenglattheit geformt werden im Vergleich zu dem Fall des Formens der photoempfindlichen Harzzusammensetzungsschicht mittels direktem Auftragen der photoempfindlichen Harzzusammensetzung auf das transparente Substrat.
  • Der zur Herstellung des photoempfindlichen Trockenfilms verwendete Trägerfilm ist nicht besonders beschränkt, solange die auf dem Trägerfilm gebildete photoempfindliche Harzzusammensetzungsschicht leicht von dem Trägerfilm abgeschält werden kann, und der Film ein formablösender Film ist, der in der Lage ist, die photoempfindliche Harzzusammensetzungsschicht auf die Oberfläche eines transparenten Substrates, wie etwa Glas und dergleichen, zu überführen. Beispiele eines solchen Trägerfilms umfassen flexible Folien, bestehend aus Folien synthetischer Kunststoffe wie etwa Polyethyleneterephthalat, Polyethylen, Polypropylen, Polycarbonat und Polyvinylchlorid mit einer Filmdicke von 15 bis 125 μm. Es ist bevorzugt, dass eine Formablösungsbehandlung bei dem oben genannten Trägerfilm durchgeführt wird, sofern notwendig, um den Transfer zu erleichtern.
  • Sobald die photoempfindliche Harzzusammensetzungsschicht auf dem Trägerfilm geformt wurde, wird die photoempfindliche Harzzusammensetzung präpariert und auf den Trägerfilm aufgetragen, so dass die getrocknete Filmdicke bei 10 bis 100 μm liegt, unter Verwendung eines Applikators, einer Rakelstreichmaschine (bar coater), einer Drahtrakelstreichmaschine (wire bar coater), einer Walzenstreichmaschine, einer Florstreichmaschine (curtain flow coater) oder dergleichen. Insbesondere wird die Rakelstreichmaschine bevorzugt, da eine exzellente Filmdickengleichförmigkeit erreicht wird, und der dicke Film in effizienter Weise geformt werden kann.
  • Bei dem photoempfindlichen Trockenfilm kann ferner ein Schutzfilm auf der photoempfindlichen Harzzusammensetzungsschicht bereitgestellt werden. Der Schutz durch den Schutzfilm macht die Lagerung, den Transport und die Handhabung einfacher. Der photoempfindliche Trockenfilm, geschützt durch den Schutzfilm, kann vorab hergestellt werden und für einen bestimmten Zeitraum gelagert werden, obwohl es für die Verwendung ein Verfallsdatum gibt. Daher kann dieser im Falle der Herstellung des optisch transparenten dreidimensionalen mikrogeformten Produkts unmittelbar verwendet werden, wodurch der Formproduktherstellungsprozess rationalisiert werden kann. Für diesen Schutzfilm ist geeignet Polyethylenterephthalatfolie, Polypropylenfolie und Polyethylenfolie mit einer Dicke von etwa 15 bis 125 μm, auf welche Silikon aufbeschichtet oder eingebrannt wurde.
  • Um das dreidimensionale mikrogeformte Produkt unter Verwendung dieses photoempfindlichen Trockenfilms herzustellen, wird der Schutzfilm zunächst von dem photoempfindlichen Trockenfilm abgezogen, die exponierte Photopolymerharzschichtseite wird auf das transparente Substrat aufgelegt (z.B. ein Glassubstrat), anschließend wird der photoempfindliche Trockenfilm zur Haftung auf dem Substrat gebracht. Sobald haftend, wird ein thermischer Kompressionsmodus angewandt, bei dem das Substrat vorab erwärmt und der photoempfindliche Trockenfilm, der darauf platziert ist, aufgepresst wird.
  • Nachfolgend wird aktinische Strahlung von der Glassubstratseite entlang der Ebenenrichtung in einer vertikalen Richtung zum transparenten Substrat aufbestrahlt auf die photoempfindliche Harzzusammensetzungsschicht, auf welche ein Trägerfilm auflaminiert wurde, wobei die eingestrahlte Lichtstärke (Lichteinstrahlung) im Verhältnis zum Dickenprofil des dreidimensionalen mikrogeformten Zielprodukts (z.B. einer Mikrolinse) variiert wird (auf gleiche Weise wie oben beschrieben). Als aktinische Strahlung können ultraviolette Strahlen wie etwa Niederdruckquecksilberlampen, eine Hochdruckquecksilberdampflampe, eine Ultrahochdruckquecksilberlampe, eine Lichtbogenlampe, eine H-Serie (and h-line), eine Xenonlampe, ein Excimerlaser, Röntgenstrahlen oder Elektronenstrahlen verwendet werden. Die ausgehärteten Latentbilder des dreidimensionalen mikrogeformten Zielprodukts werden durch diese Bestrahlung in der photoempfindlichen Harzzusammensetzungsschicht gebildet. Die ausgehärtete Fläche dieses ausgehärteten Latentbildes wird mit hoher Genauigkeit gebildet durch die Photoempfindlichkeitseigenschaften, welche die photoempfindliche Zusammensetzung der vorliegenden Erfindung hat. Dies ist wichtig für die Ausbildung des ausgehärteten Latentbildes des dreidimensionalen mikrogeformten Produkts, welches die Genauigkeit der Oberflächenform der Mikrolinse und dergleichen insbesondere erfordert.
  • Nach der obigen Bestrahlung wird der Trägerfilm abgelöst, gefolgt von der Entwicklung, um selektiv nicht bestrahlte Flächen der photoempfindlichen Harzzusammensetzungsschicht zu entfernen, wobei ein Muster (z.B. eine Linsenform) mit der übrigen photoempfindlichen Harzschicht in dem bestrahlten Bereich gebildet wird.
  • Als Verfahrensschritt nach der Entwicklung ist es erwünscht, dass das geformte Produkt ferner durch Erwärmen auf etwa 60 bis 250°C ausgehärtet wird, sofern erforderlich.
  • BEISPIELE
  • Im folgenden werden, unter Bezugnahme auf die Figuren, Beispiele einer photoempfindlichen Harzzusammensetzung zur Erzeugung eines dreidimensionalen mikrogeformten Produkts gemäß der vorliegenden Erfindung im Detail beschrieben. Die Erfindung ist nicht auf diese Beispiele beschränkt.
  • Beispiele und Vergleichsbeispiele
  • Eine Mikrolinse wurde hergestellt unter Verwendung eines photoempfindlichen Trockenfilms umfassend einen Deckfilm, eine photoempfindliche Harzzusammensetzungsschicht, sowie einen Schutzfilm. Die Bestandteile der photoempfindlichen Harzzusammensetzung waren: ein Copolymer (durchschnittliches Molekulargewicht von 80 000; 50 Massen-% in Lösung von MEK) bei einem Massenverhältnis von 80:20 von Benzylmethacrylat : Methacrylsäure; Dipentaerythritolhexaacrylat (Verbindung B-1) mit einer polymerisierbaren tetra- oder höherfunktionalen ethylenisch ungesättigten Gruppe in einem Molekül); NK-Ester BPE-100 (Verbindung B-2) mit einem Bisphenolgerüst hergestellt von Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.); EAB-F (4,4'-bis(Diethylamino)benzophenon hergestellt von Hodogaya Chemical Co., Ltd.); und B-CIM (2-(o-Chlorophenyl)-4, 5-diphenylimidazolyldimer hergestellt von Hodogaya Chemical Co., Ltd.)
  • Das Benzylmethacrylat und die Methacrylsäure sind Polymerbestandteile zum Erreichen von Transparenz für die Mikrolinse. Außerdem sind das Dipentaerythritolhexaacrylat und die Verbindung mit einem Bisphenolgerüst Monomerkomponenten zur Erhöhung der Härte in Form eines Permanentfilms in geeignetem Umfang für eine Mikrolinse. Ferner ist EAB-F ein Polymerisationsinitiator für ein radikalisches Polymerisationssystem in Antwort auf eine Bestrahlungswellenlänge von 405 nm (Quecksilber h-Linie), und das BCIM ist ein Sensibilisator dafür. Die Bestandteilverhältnisse dieser photoempfindlichen Harzzusammensetzungen werden wie folgt beschrieben. Nur EABF wurde eingestellt, um drei verschiedene Mengen von 0,6 (Beispiel 1), 1,2 (Beispiel 2) und 2,4 (Vergleichsbeispiel 1) Massenteilen in den Zusammensetzungen wie folgt zu ergeben.
  • Bestandteile der photoempfindlichen Harzzusammensetzung
  • Ein Copolymer (durchschnittliches Molekulargewicht von 80 000; 50 Massen-% einer Lösung in MEK) mit einem Massenverhältnis von 80:20 von Benzylmethacrylate : Methacrylsäure: 100 Massenteile (bezogen auf den Feststoffgehalt) Dipentaerythritolhexaacrylat (die Verbindung (B-1) mit einer polymerisierbaren tetra- oder höherfunktionalen ethylenisch ungesättigten Gruppe in einem Molekül): 60 Massenteile, NK-Ester BPE-100 (die Verbindung (B-2) mit einem Bisphenolgerüst, hergestellt von Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.): 20 Massenteile EAB-F (4, 4 '-bis(Diethylamino)benzophenon hergestellt von Hodogaya Chemical Co., Ltd.): die Menge wird in jeder Zusammensetzung variiert B-CIM (2-(o-Chlorophenyl)-4,5-diphenylimidazolyldimer hergestellt von Hodogaya Chemical Co., Ltd.): 10 Massenteile.
  • Drei Arten der photoempfindlichen Harzzusammensetzung wurden auf Deckfilme aufgebracht, so dass die Dicke nach der Trocknung bei 25 μm lag (transparente Polyesterfolie: Dicke von 20 μm), und anschließend getrocknet, wobei die photoempfindlichen Harzzusammensetzungsschichten geformt wurden. Schutzfilme wurden jeweils darauf befestigt, um drei Arten von photoempfindlichen Trockenfilmen zu erhalten (Beispiele 1 und 2 sowie Vergleichsbeispiel 1).
  • Die Schutzfolien wurden von dem photoempfindlichen Trockenfilm abgezogen, um die photoempfindlichen Harzzusammensetzungsschichten zu exponieren, und anschließend wurden die exponierten Oberflächen auf ein Glassubstrat (transparentes Substrat) aufgebracht.
  • Die Maske mit einem vorgeformten Muster (Transmissionslichtvolumen wurde kontinuierlich im gleichen Verhältnis variiert) zum Verwirklichen einer elliptischen Mikrolinse im Laufe der Glassubstratseite wurde darauf aufgelegt, und anschließend wurde eine Lichtbestrahlung mit einer Länge von 405 nm durchgeführt. Die Bestrahlungsintensität betrug 50 mJ/cm2·Sek. an der transparenten Substratoberfläche, und die Belichtungsintensität (illumination intensity) betrug 13 kw/cm2 in diesem Fall.
  • Nach der Bestrahlung wurde die Lichtmaske abgezogen, die photoempfindliche Harzzusammensetzungsschicht und die Deckfolie wurden vom Glassubstrat abgelöst wobei die photoempfindliche Harzzusammensetzungsschicht mit dem Deckfilm vereint wurde, und anschließend in eine 1 %ige wässrige Natriumkarbonatlösung (Na2CO3) eingestellt auf 30°C für 240 Sekunden eingetaucht, wobei ein nicht ausgehärteter Anteil der photoempfindlichen Harzzusammensetzungsschicht zur Entfernung aufgelöst wurde. Nach der Entwicklungsbehandlung mit dieser Natriumkarbonat-in-Wasser-Lösung wurden die photoempfindliche Harzzusammensetzungsschicht wie auch der Deckfilm 60 Sekunden mit reinem Wasser gewaschen. Anschließend wurde eine Wärmebehandlung bei 130°C für eine Stunde durchgeführt um den Aushärtungsgrad der photoempfindlichen Harzzusammensetzungsschicht zu erhöhen, die gemäß dem Muster ausgehärtet wurde.
  • Die Dickenvariationen (Filmdicken) in Breitenrichtungen der drei Arten von dreidimensionalen mikrogeformten Produkten hergestellt aus dem Harz, die wie oben erwähnt erhalten wurden, wurden gemessen, und anschließend wurden die Zusammenhänge zwischen den Dicken und der Lichtbestrahlung bestimmt. 1 zeigt ein Diagramm welches die Beziehungen zwischen der Dicke (μm) und der Lichtbestrahlung (mJ/cm2) veranschaulicht. In 1 ist das mit Druckpunkten gezeichnete Profil ein ideales Profil der Mikrolinse die als dreidimensionales mikro-geformtes Zielprodukt angenommen wird.
  • Es wurde oben beschrieben dass der Zusammenhang zwischen der ausgehärteten Filmdicke und der Lichtbestrahlung vorzugsweise miteinander in gleichen Anteilen korrespondiert. Es ist erwünscht das ein ungefähr lineares Profil in einem Diagramm, mit einer Ordinate welche die ausgehärtete Filmdicke und einer Abszisse welche die Lichtbestrahlung darstellt, erhalten wird wenn diese Lichtbestrahlung und die ausgehärtete Filmdicke proportional zueinander variieren. Je steiler die Steigung des Profils in diesem Fall ist desto höher ist die Sensitivität der photoempfindlichen Harzzusammensetzung. Bei der Beurteilung der betreffenden Bestrahlung und der Herstellung des dreidimensionalen mikrogeformten Produkts aus dem Blickwinkel dieser Sensitivität (Steigung), wird die Herstellung kaum mit Genauigkeit ausgeführt wenn die Oberfläche des geformten Produkts eine steile Form aufweist wie z.B. eine Pyramide, mit geringen Variationen der ausgehärteten Filmdicke bezüglich der Lichtbestrahlung, in anderen Worten wenn die Sensitivität vergleichsweise gering ist. Bei einem geformten Produkt mit einer steilen Oberflächenform ist es erforderlich das die Sensitivität hoch ist, in anderen Worten die Steigung im linearen Profil muss gewissermaßen groß sein. Andererseits in dem Fall in dem ein geformtes Produkt eine Oberflächenform mit einer vergleichsweise schrittweisen Variation aufweist, wie etwa eine Linse die durch Bestrahlung geformt wird, wird die Oberflächenform mit der schrittweisen Variation kaum verwirklicht und eine unebene Oberflächenform wird wahrscheinlich erhalten wenn die Empfindlichkeit zu hoch ist. Um die Oberflächenform mit einer schrittweisen Variation mittels Bestrahlung herzustellen wird eine Harzzusammensetzung verwendet, bei der die Sensitivität vergleichsweise abgesenkt ist, mit anderen Worten die Steigung des Linienprofils ist vergleichsweise klein. Dementsprechend variiert die ideale Steigung des Profits in Abhängigkeit von der Oberflächenform des beabsichtigten dreidimensionalen mikrogeformten Produkts. Daher ist es wichtig, dass ein ideales Profil für jedes herzustellende dreidimensionale mikrogeformte Produkt bestimmt wird und anschließend die Bestandteile, der Aufbau und die Herstellungsbedingungen der Harzzusammensetzung fein eingestellt werden um sich der idealen Steigung so nah wie möglich anzunähern. Das in 1 gezeigte Diagramm wurde bestimmt unter der Annahme, dass eine Mikrolinse für ein optisches System in elektronischen Geräten verwendet wurde.
  • Es wird bestätigt, dass der Zusammenhang zwischen der ausgehärteten Filmdicke und der Lichtbestrahlung in ausreichend gleichen Anteilen vorlag; das ideale Profil und ein praktisch erlaubter Bereich werden jedoch schwerlich bestätigt. Daher wurden das ideale Profil und vier Profilarten in den Beispielen 1 und 2 und dem Vergleichsbeispiel 1 standardisiert um Abweichungen durch die Messung zu vermeiden. Für die Standardisierung wird der Logarithmus der Lichtbestrahlung x (mJ/cm2) wiedergegeben durch Ln (x), und die ausgehärtete Filmdicke (ausgehärtete Harzmenge) zur Lichtbestrahlung wird wiedergegeben durch das Verhältnis (y = Δh/h) der restlichen Filmdicke Δh (μm) nach der Entwicklung zur Beschichtungsfilmdicke h (μm) vor der Entwicklung. Die Ergebnisse sind in 2 gezeigt. Es konnte gezeigt werden das die oben genannte Proportionalität eine Linearität und einen Bereich konstanter Steigung aufweist. Die Linie des Idealprofils lag bei y = 0,4897Ln (x)-0,8846; die Linie des Profils in Beispiel 1 lag bei y = 0,6117Ln (x)-1,377; die Linie des Profils in Beispiel 2 lag bei y = 0,5078Ln (x)-0,96; und die Linie des Profils im Vergleichsbeispiel 1 lag bei y = 0,3545Ln (x)-0,4639.
  • Es wurde bestätigt, dass ein α welches in den Bereich von 0,35 < α < 0,78 fällt bei der praktischen Anwendung geeignet ist, wenn eine Charge von Mikrolinsen in der Praxis hergestellt wurde unter Verwendung eines photoempfindlichen Trockenfilms unter Verwendung von drei Arten der photoempfindlichen Harzzusammensetzungen, und eine Formel welche die x-y Relationen wiedergibt wird durch die allgemeine Formel y = α·Ln(x) ± β wiedergegeben.
  • Der Wert von β ist für eine Mikrolinse am meisten geeignet; es werden jedoch keine großen Unterschiede gefunden unter den Oberflächenformen sogar wenn verschiedene praktische mikrogeformte Produkte betrachtet werden. Daher kann angenommen werden, dass die photoempfindliche Harzzusammensetzung die ein α aufweist, das innerhalb des oben genannten numerischen Wertebereiches fällt, für die Bestrahlungsherstellung der meisten dreidimensionalen mikrogeformten Produkte angewendet werden kann.
  • Außerdem, wenn die Bleistifthärte der dreidimensionalen mikrogeformten Produkte der Proben (Beispiele 1 und 2 und Vergleichsbeispiel 1) gemessen wurde zeigten alle Proben einen Härtewert von H oder mehr.
  • Industrielle Anwendbarkeit
  • Der photoempfindliche Trockenfilm gemäß der vorliegenden Erfindung kann für die lithographische Herstellung mit hoher Wirtschaftlichkeit und hoher Genauigkeit der dreidimensionalen mikrogeformten Produkte, die mittels eines Rückseitenbestrahlungsverfahrens hergestellt werden, verwendet werden. Außerdem kann mit der photoempfindlichen Harzzusammensetzung zur Herstellung eines dreidimensionalen mikrogeformten Produkts der vorliegenden Erfindung das dreidimensionale mikrogeformte Produkt mit verschiedenen dreidimensionalen Oberflächen mit hoher Genauigkeit hergestellt werden, da die ausgehärtet Menge bezüglich der aktinischen Lichtbestrahlung auf einfache Weise gesteuert werden.
  • Zusammenfassung
  • Diese Erfindung stellt eine photoempfindliche Harzzusammensetzung für die Herstellung eines dreidimensionalen mikrogeformten Produkts zur Verfügung welche eine hohe Empfindlichkeit aufweist die die Bedingung 0,35 < α < 0,78 erfüllt, wobei α für einen Wert steht der bestimmt wurde aus einer relationalen Formel y = αLn(x) ± β worin β eine beliebige reelle Zahl darstellt, x die Bestrahlung mit einer aktinischen Strahlung in mJ/cm2 wiedergibt,, und y für die Menge an ausgehärtetem Harz durch die Bestrahlung steht, wiedergegeben als Verhältnis zwischen einer Beschichtungsfilmdicke vor der Entwicklung und einer restlichen Filmdicke nach der Entwicklung, dass heißt Δh/h, worin h die Beschichtungsfilmdicke vor der Entwicklung in, μm wiedergibt und Δh für die restliche Filmdicke nach der Entwicklung in μm, steht, sowie einen photoempfindlicher Trockenfilm unter Verwendung derselben. Die Formgebungsgenauigkeit eines dreidimensionalen mikrogeformten Produkts mit einer vorherbestimmten dreidimensionalen Oberfläche kann verbessert werden.

Claims (7)

  1. Ein photoempfindlicher Trockenfilm zur Herstellung eines dreidimensionalen mikrogeformten Produkts, umfassend mindestens einen Deckfilm und eine darauf gebildete photoempfindliche Harzzusammensetzungsschicht, wobei ein ausgehärtetes Latentbild des dreidimensionalen mikrogeformten Produkts durch Einstrahlen aktinischer Strahlen von Seiten eines transparenten Substrates darin geformt wird, so dass ein Lichtvolumen entlang der ebenen Oberfläche des transparenten Substrates variiert nachdem die photoempfindliche Harzzusammensetzungsschicht auf das transparente Substrat auflaminiert wurde, und die photoempfindliche Harzzusammensetzungsschicht gebildet wird durch Aufbringen einer photoempfindlichen Harzzusammensetzung umfassend einen Harzbestandteil enthaltend ein polymerisierbares Monomer mit mindestens einer funktionellen Gruppe als ein Hauptbestandteil, sowie einen Photoinitiator, gefolgt von Trocknung.
  2. Photoempfindliche Trockenfilm zur Herstellung des dreidimensionalen mikrogeformten Produktes nach Anspruch 1, weil der Beschichtungsfilm aus der photoempfindlichen Harzzusammensetzung bestrahlt und entwickelt wurde bei einer Bestrahlungswellenlänge von 390 bis 430 nm, der erhaltene ausgehärtete Film Belichtungseigenschaften aufweist, vorausgesetzt dass eine Lichtbestrahlung wiedergegeben wird durch x (mJ/cm2), und die ausgehärtete Filmdicke zur Lichtbestrahlung wiedergegeben wird durch das Verhältnis (y = Δh/h) der restlichen Filmdicke Δh (μm) nach der Entwicklung zur Beschichtungsfilmdicke h (μm) vor der Entwicklung, so dass der Zusammenhang zwischen dem Logarithmus von x (Ln(x)) und y wiedergegeben wird durch y = α·Ln(x) ± β, und α in den Bereich von 0,35 < α < 0,78 fällt.
  3. Photoempfindlicher Trockenfilm zur Herstellung des dreidimensionalen mikrogeformten Produkts gemäß Anspruch 1 oder 2, wobei die photoempfindliche Harzzusammensetzung mindestens einen aus einer Dialkylbenzophenon-basierten Verbindung und einer Hexaarylbisimidazol-basierten Verbindung als Photoinitiator umfasst.
  4. Photoempfindlicher Trockenfilm zur Herstellung des dreidimensionalen mikrogeformten Produktes nach Anspruch 1, wobei die photoempfindliche Harzzusammensetzung mindestens eine Art einer Verbindung mit einer polymerisierbaren tetra- oder höherfunktionalen ethylenisch ungesättigten Gruppe in einem Molekül als ein polymerisierbares Monomer in den Bestandteilen umfasst.
  5. Photoempfindliche Harzzusammensetzung mit einer Photoempfindlichkeit von 0,35 < α < 0,78, wenn eine Lichtbestrahlung aus aktinischen Strahlen (mJ/cm2) wiedergegeben wird durch x, eine ausgehärtete Filmdicke zur Lichtbestrahlung wiedergegeben wird durch ein Verhältnis (y = Δh/h) einer restlichen Filmdicke Δh (μm) nach der Entwicklung zu einer Beschichtungsfilmdicke h (μm) vor der Entwicklung, wobei die Photoempfindlichkeit bestimmt wird basierend auf dem relationalen Ausdruck zwischen x und y, der wiedergegeben wird durch y = α·Ln(x) ± β.
  6. Photoempfindliche Harzzusammensetzung nach Anspruch 5, umfassend einen Harzbestandteil enthaltend ein polymerisierbares Monomer mit mindestens einer funktionalen Gruppe als ein Hauptbestandteil, und einen Photoinitiator als chemische Bestandteile, wobei mindestens eine aus einer Dialkylbenzophenon-basierten Verbindung und einer Hexaarylbisimidazol-basierten Verbindung als Photoinitiator enthalten ist.
  7. Photoempfindliche Harzzusammensetzung nach Anspruch 5 oder 6, wobei mindestens eine Art einer Verbindung mit einer polymerisierbaren tetra- oder höherfunktionalen ethylenisch ungesättingten Gruppe in einem Molekül als das polymerisierbare Monomer enthalten ist.
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Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4987521B2 (ja) * 2007-03-14 2012-07-25 旭化成イーマテリアルズ株式会社 感光性樹脂組成物
JP5494847B2 (ja) * 2007-03-30 2014-05-21 日立化成株式会社 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法
JP5277679B2 (ja) * 2007-03-30 2013-08-28 日立化成株式会社 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法
WO2009116182A1 (ja) 2008-03-21 2009-09-24 日立化成工業株式会社 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法
JP5685400B2 (ja) * 2010-08-06 2015-03-18 株式会社クラレ 微細構造体の製造方法
CN102540284B (zh) * 2012-02-07 2013-11-20 中国科学院光电技术研究所 基于负性光刻胶和掩膜移动曝光工艺的微透镜阵列制备方法
WO2014006878A1 (ja) * 2012-07-02 2014-01-09 パナソニック株式会社 光導波路および光導波路作製用のドライフィルム
JP6460672B2 (ja) * 2013-09-18 2019-01-30 キヤノン株式会社 膜の製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法及び電子部品の製造方法
CN109952189A (zh) * 2016-11-17 2019-06-28 奥博泰克有限公司 混合式多材料3d打印
JP7464911B2 (ja) 2018-08-30 2024-04-10 日産化学株式会社 ネガ型感光性樹脂組成物
US20230042586A1 (en) * 2021-08-05 2023-02-09 Toyota Motor Engineering & Manufacturing North America, Inc. Interference lithography using reflective base surfaces

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3901705A (en) * 1973-09-06 1975-08-26 Du Pont Method of using variable depth photopolymerization imaging systems
US4264708A (en) * 1978-03-31 1981-04-28 E. I. Du Pont De Nemours And Company Radiation sensitive element having a thin photopolymerizable layer
JPS61199916A (ja) * 1985-03-01 1986-09-04 Asahi Chem Ind Co Ltd 立体成形品の製造方法
JPH0820733B2 (ja) * 1988-08-11 1996-03-04 富士写真フイルム株式会社 ドライフイルムレジスト用光重合性組成物
US5428468A (en) * 1993-11-05 1995-06-27 Alliedsignal Inc. Illumination system employing an array of microprisms
JPH07281181A (ja) * 1994-04-11 1995-10-27 Toray Ind Inc 面状光学素子の製造方法
DE19630705A1 (de) * 1995-08-30 1997-03-20 Deutsche Telekom Ag Verfahren zur Herstellung von 3-dimensional strukturierten Polymerschichten für die integrierte Optik
US6010747A (en) * 1996-12-02 2000-01-04 Alliedsignal Inc. Process for making optical structures for diffusing light
JP3701123B2 (ja) * 1998-06-24 2005-09-28 株式会社日立製作所 隔壁転写凹版用元型の製造方法及びプラズマディスプレイパネルの隔壁形成方法
JP2000265087A (ja) * 1999-03-11 2000-09-26 Mikuni Color Ltd 金属パターン形成方法
JP3619852B2 (ja) * 1999-06-08 2005-02-16 ニチゴー・モートン株式会社 感光性樹脂組成物及びこれを用いたドライフィルムレジスト
JP2001246671A (ja) * 2000-03-06 2001-09-11 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The 立体構造物の形成方法
JP2001290014A (ja) * 2000-04-04 2001-10-19 Nikon Corp 光学素子の製造方法及び製造システム並びにこの製造方法を用いて製作された光学素子及びこの光学素子を用いた露光装置
JP2004198995A (ja) * 2002-12-20 2004-07-15 Hitachi Chem Co Ltd 液晶表示装置用基板の表面凹凸形状を有する有機物層に用いられる感光性樹脂組成物及び感光性エレメント
JP2004020643A (ja) * 2002-06-12 2004-01-22 Fuji Photo Film Co Ltd ドライフィルムレジスト及びプリント基板の製造方法
JP2004317659A (ja) * 2003-04-14 2004-11-11 Fuji Photo Film Co Ltd ドライフィルムフォトレジスト
JP2004334184A (ja) * 2003-04-16 2004-11-25 Sharp Corp 三次元構造物形成方法および露光装置
JP4561280B2 (ja) * 2004-09-24 2010-10-13 日立化成工業株式会社 マイクロレンズアレイの製造方法、マイクロレンズアレイ用感光性樹脂組成物及びマイクロレンズアレイ用感光性エレメント

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