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Die
vorliegende Erfindung betrifft ein Blatt zur Abschirmung elektromagnetischer
Strahlung und insbesondere ein mit einem netzförmigen Film einer dünnen Metallschicht
(eines dünnen
Metallfilms) ausgestattetes Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung,
das vor einer Anzeige, wie z.B. einer Kathodenstrahlröhre (CRT)
oder einem Plasmabildschirm (PDP), angeordnet werden soll, um elektromagnetische
Strahlung abzuschirmen, die durch die Anzeige erzeugt wird, und
das eine zufriedenstellende visuelle Erkennung der von der Anzeige
angezeigten Bilder ermöglicht.
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Zusammenfassung der Techniken
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Probleme,
die auf eine elektromagnetische Störung (EMI) zurückzuführen sind,
haben mit dem bzw. der in letzter Zeit stattfindenden funktionellen Fortschritt
und Verbreitung elektrischer und elektronischer Vorrichtungen zugenommen.
Elektromagnetische Störungen
werden grob in geleitete Störungen und
abgestrahlte Störungen
eingeteilt. Verfahren zur Verhinderung von Problemen aufgrund von
geleiteten Störungen
filtern geleitete Störungen
durch einen Störungsfilter
aus. Bei Verfahren zur Verhinderung von Problemen aufgrund von abgestrahlten
Störungen
wird ein Metallgehäuse
zur elektromagnetischen Abschirmung eines Raums genutzt, ein Metallblech zwischen
Leiterplatten angeordnet, oder die Drähte von Kabeln werden mit einer
Metallfolie bedeckt. Obwohl diese Verfahren zur elektromagnetischen
Abschirmung von Schaltungen und Netzteilen effektiv sind, sind diese
Verfahren zur Abschirmung von elektromagnetischer Strahlung ungeeignet,
die durch Schirme von Anzeigen, wie z.B. CRT's und PDP's, erzeugt wird, da bei diesen Verfahren
lichtundurchlässige
Mittel eingesetzt werden.
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Ein
PDP ist eine Anordnung aus einer Glasplatte, die mit Datenelektroden
und einer Fluoreszenzschicht ausgestattet ist, und einer Glasplatte,
die mit transparenten Elektroden ausgestattet ist. Der PDP erzeugt
im Betrieb eine große
Menge an elektromagnetischer Strahlung, eine große Menge an Nahinfrarotstrahlung
und eine große
Wärmemenge. Gewöhnlich wird
vor dem PDP eine Frontplatte angeordnet, um die elektromagnetische
Strahlung abzuschirmen. Die Frontplatte muss eine Abschirmfunktion
von 30 dB oder mehr im Bereich von 30 MHz bis 1 GHz aufweisen, um
die von dem Schirm der Anzeige emittierte elektromagnetische Strahlung
abzuschirmen. Infrarotstrahlung mit Wellenlängen im Bereich von 800 bis
1100 nm, die von dem Schirm der Anzeige abgestrahlt wird, muss abgeschirmt werden, da
Infrarotstrahlung eine Fehlfunktion anderer Vorrichtungen, wie z.B.
Videorecordern, hervorruft. Das Metallnetz (Linien) zur Abschirmung
elektromagnetischer Strahlung muss unsichtbar sein, um das Betrachten
von Bildern, die auf dem Schirm der Anzeige angezeigt werden, zu
erleichtern, und das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung muss
eine geeignete Transparenz (Durchlässigkeitseigenschaften für sichtbares
Licht, Durchlässigkeit
für sichtbares
Licht) aufweisen, um die durch die Anzeige angezeigten Bilder in
zufriedenstellender Weise sichtbar zu machen.
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Da
der PDP mit einem großen
Schirm, wie z.B. einem 94 cm-Schirm (37 Zoll-Schirm), einem 107
cm-Schirm (42 Zoll-Schirm) oder einem größeren Schirm ausgestattet ist,
weist das in Kombination mit dem PDP verwendete Blatt zur elektromagnetischen
Abschirmung tausende von horizontalen und vertikalen Linien auf.
Die Breiten der Linien müssen innerhalb
eines vorgegebenen Breitenbereichs liegen. Wenn die Breiten der
Linien in einem breiten Bereich verteilt sind, werden in einem angezeigten
Bild schwarze und weiße
Punkte gebildet, was bei einem Betrachter einen Eindruck der Fehlerhaftigkeit
hervorruft.
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Stand der Technik
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Um
eine verbesserte Sichtbarkeit angezeigter Bilder sicherzustellen,
muss die Frontplatte ein Vermögen
zur elektromagnetischen Abschirmung, eine geeignete Transparenz
(Durchlässigkeit
für sichtbares
Licht) und eine einheitliche netzförmige Struktur aufweisen, mit
der eine elektromagnetische Abschirmung möglich ist.
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Eine
Frontplatte mit einer netzförmigen Struktur,
die in der JP 5-283889 A beschrieben ist, weist eine Struktur aus
(Basis)/(transparente Haftvermittlerschicht)/(Schicht zur elektromagnetischen
Abschirmung) auf. Die Schicht zur elektromagnetischen Abschirmung
weist ein netzförmiges
Muster auf und wird durch ein stromloses Abscheidungsverfahren gebildet.
Ein Verfahren zur Bildung eines Metallnetzes für ein Blatt zur elektromagnetischen
Abschirmung, das in der JP 09-293989 A beschrieben ist, nutzt ein
Photolackverfahren. Eine Struktur zur elektromagnetischen Abschirmung,
die in der JP 10-335885 A beschrieben ist, wird durch Laminieren einer
Kunststofffolie, die mit einer Kupferfolie ausgestattet ist, die
durch Photolithographie in einem geometrischen Muster ausgebildet
worden ist, auf eine Kunststoffplatte gebildet. Bei allen diesen
Verfahren des Standes der Technik findet sich keine Beschreibung
bezüglich
der Genauigkeit der Breite der Linien der netzförmigen Struktur und des Einflusses
der Genauigkeit der Breite.
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In
einem Verfahren zur Herstellung eines Blatts zur elektromagnetischen
Abschirmung, das in der JP 11-186785 beschrieben ist, werden Linien
auf einer transparenten Basis derart ausgebildet, dass die Fläche eines
Schnitts jeder Linie in einer Ebene parallel zu der transparenten
Basis mit dem Abstand von der transparenten Basis abnimmt. D.h.,
die Linien weisen einen trapezförmigen
Abschnitt in einer Ebene senkrecht zu der transparenten Basis auf.
In diesem Stand der Technik wird jedoch nichts über die Verteilung der Linienbreiten
gesagt. Da bei diesem Verfahren eine Überätzung durchgeführt oder
das Ätzen
unterbrochen wird, ist die Steuerung der Genauigkeit der Linienbreite
sehr schwierig. Die Linien, die Breiten aufweisen, die in einem
breiten Bereich verteilt sind, verursachen eine unregelmäßige Bilddichte,
weisen ein schlechtes Aussehen auf, bilden schwarze und weiße Punktfehler
und lineare Fehler in Bildern und verschlechtern die Sichtbarkeit
der Bilder.
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Die
vorliegende Erfindung wurde gemacht, um diese Probleme zu lösen, und
es ist daher eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Blatt
zur elektromagnetischen Abschirmung bereitzustellen, das vor einer
Anzeige, wie z.B. einer CRT oder einem PDP, angeordnet wird, das
elektromagnetische Strahlung abschirmen kann und das die gute Sichtbarkeit
angezeigter Bilder sicherstellen und die Bildung von schwarzen und
weißen
Punktfehlern und von linearen Fehlern kontrollieren kann.
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Ein
Blatt bzw. Lage bzw. Schicht zur elektromagnetischen Abschirmung
gemäß einem
ersten Aspekt der vorliegenden Erfindung umfasst eine transparente
Basis und eine netzförmige
leitfähige
Struktur, die auf eine der Oberflächen der transparenten Basis
laminiert ist, wobei die leitfähige
Struktur Linien mit geraden Teilen mit einer Breite im Bereich von
C (1 ± 30%)
aufweist, wobei C ein vorgegebener Wert ist. Das erfindungsgemäße Blatt
zur elektromagnetischen Abschirmung schirmt elektromagnetische Strahlung
ab, die von einer Anzeige, wie z.B. einer CRT oder einem PDP, erzeugt
wird, weist eine netzförmige
leitfähige
Struktur mit unsichtbaren Linien und sowohl ein elektromagnetisches
Abschirmvermögen
als auch eine hohe Transparenz, Linien mit einer Breite innerhalb
des vorgegebenen Bereichs und einheitlich verteilte einheitliche
Maschen auf und stellt die zufriedenstellende Sichtbarkeit der angezeigten
Bilder sicher.
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Ein
Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung gemäß einem zweiten Aspekt der
vorliegenden Erfindung umfasst eine transparente Basis und eine netzförmige leitfähige Struktur,
die auf eine der Oberflächen
der transparenten Basis laminiert ist, wobei der Krümmungsradius
einer Seitenfläche,
die sich zwischen der oberen und der unteren Seite einer Erhebung
in einem Schnitt der Linien in einer Ebene senkrecht zu der transparenten
Basis erstreckt, im Bereich des 1,5- bis 3,0-fachen der Dicke der
leitfähigen
Struktur liegt. Das erfindungsgemäße Blatt zur elektromagnetischen
Abschirmung ist vor einer Anzeige, wie z.B. einer CRT oder einem
PDP, angeordnet, schirmt elektromagnetische Strahlung ab, blendet
nicht und stellt die zufriedenstellende Sichtbarkeit der angezeigten
Bilder sicher.
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Ein
Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung gemäß einem dritten Aspekt der
vorliegenden Erfindung umfasst eine transparente Basis und eine netzförmige leitfähige Struktur,
die auf eine der Oberflächen
der transparenten Basis laminiert ist, wobei die leitfähige Struktur
Linien mit geraden Teilen mit einer Breite im Bereich von C (1 ± 30%)
aufweist, wobei C ein vorgegebener Wert ist, und der Krümmungsradius
einer Seitenfläche,
die sich zwischen der oberen und der unteren Seite einer Erhebung
in einem Schnitt der Linien in einer Ebene senkrecht zu der transparenten
Basis erstreckt, im Bereich des 1,5- bis 3,0-fachen der Dicke der
leitfähigen
Struktur liegt. Das erfindungsgemäße Blatt zur elektromagnetischen
Abschirmung ist vor einer Anzeige, wie z.B. einer CRT oder einem
PDP, angeordnet, schirmt die durch die Anzeige erzeugte elektromagnetische Strahlung
ab, weist einheitlich verteilte einheitliche Maschen auf, stellt
die zufriedenstellende Sichtbarkeit der angezeigten Bilder sicher,
weist kaum schwarze und weiße
Punktfehler und lineare Fehler auf und blendet nicht.
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In
dem erfindungsgemäßen Blatt
zur elektromagnetischen Abschirmung liegen die Breiten der geraden
Teile der Linien in einem inneren Teil der netzförmigen leitfähigen Struktur,
der von einem peripheren Teil mit einer Breite, die einer Breite
von 1 bis 50 Maschen entspricht, oder einem peripheren Teil mit
einer Breite im Bereich von 0,15 bis 15 mm umgeben ist, im Bereich
von C (1 ± 30%),
wobei C ein vorgegebener Wert ist. Bei dem erfindungsgemäßen Blatt
zur elektromagnetischen Abschirmung liegen die Breiten der geraden
Teile der Linien der leitfähigen
Struktur im Bereich von 5 bis 25 μm,
und die Linien sind in Abständen
im Bereich von 150 bis 500 μm
angeordnet. Das erfindungsgemäße Blatt
zur elektromagnetischen Abschirmung ist selbst dann, wenn es eine
große
Fläche
aufweist, gegen ein Biegen und Knittern beständig.
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In
dem erfindungsgemäßen Blatt
zur elektromagnetischen Abschirmung ist die leitfähige Struktur eine
Metallschicht. In dem erfindungsgemäßen Blatt zur elektromagnetischen
Abschirmung ist mindestens eine der Oberflächen der leitfähigen Struktur durch
eine Schwärzungsbehandlung
verarbeitet worden. In dem erfindungsgemäßen Blatt zur elektromagnetischen
Abschirmung ist mindestens auf der Oberfläche der leitfähigen Struktur,
die durch die Schwärzungsbehandlung
verarbeitet worden ist, eine Rostschutzschicht ausgebildet. Das
erfindungsgemäße Blatt
zur elektromagnetischen Abschirmung weist ein hervorragendes elektromagnetisches
Abschirmungsvermögen
auf, stellt eine zufriedenstellende Sichtbarkeit der angezeigten
Bilder sicher und ist rostbeständig.
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In
dem erfindungsgemäßen Blatt
zur elektromagnetischen Abschirmung sind mindestens Vertiefungen
in der netzförmigen
leitfähigen
Struktur mit einem transparenten Harz gefüllt, so dass die Oberfläche der
leitfähigen
Struktur im Wesentlichen eben ist. Die Vertiefungen in der leitfähigen Struktur
des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung sind mit dem transparenten
Harz gefüllt,
um die Verarbeitungsfähigkeit
des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung zu verbessern.
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In
dem erfindungsgemäßen Blatt
zur elektromagnetischen Abschirmung enthält das transparente Harz, das
die Vertiefungen in der netzförmigen
leitfähigen
Struktur füllt,
um die Oberfläche
der leitfähigen Struktur
im Wesentlichen eben zu machen, ein farbtonkorrigierendes, licht-absorbierendes
Mittel, das sichtbares Licht mit Wellenlängen zwischen 570 und 605 nm
absorbieren kann, und/oder ein Nahinfrarot-absorbierendes Mittel,
das Infrarotstrahlung mit Wellenlängen zwischen 800 und 1100
nm absorbieren kann. Das erfindungsgemäße Blatt zur elektromagnetischen
Abschirmung umfasst ferner eine Schicht, die ein farbtonkorrigierendes,
licht-absorbierendes Mittel enthält,
das sichtbares Licht mit Wellenlängen
zwischen 570 und 605 nm absorbieren kann, und/oder eine Schicht,
die ein Nahinfrarot-absorbierendes Mittel enthält, das Infrarotstrahlung mit
Wellenlängen
zwischen 800 und 1100 nm absorbieren kann, die auf mindestens einer
der Oberflächen
der leitfähigen
Struktur ausgebildet ist bzw. sind. Das erfindungsgemäße Blatt
zur elektromagnetischen Abschirmung kann Nahinfrarotstrahlung, Infrarotstrahlung
und elektromagnetische Strahlung abschirmen, die von der Anzeige,
wie z.B. einem PDP, erzeugt werden, und die Sichtbarkeit von Bildern,
die durch die Anzeige angezeigt werden, durch Absorbieren von Lichtstrahlen
nicht erforderlicher Farben zur Farbkorrektur verbessern.
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1 ist
eine Draufsicht auf ein erfindungsgemäßes Blatt zur elektromagnetischen
Abschirmung;
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2 ist
eine partielle, typische perspektivische Ansicht des erfindungsgemäßen Blatts
zur elektromagnetischen Abschirmung;
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3A ist
eine Schnittansicht entlang der Linie A-A in der 2;
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3B ist
eine Schnittansicht entlang der Linie B-B in der 2;
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4 ist
eine Schnittansicht, die bei der Erläuterung des Aufbaus einer leitfähigen Struktur
hilfreich ist;
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5A ist
eine Draufsicht, die bei der Erläuterung
eines Verfahrens zur Verarbeitung eines aufgerollten kontinuierlichen
Films hilfreich ist;
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5B ist
eine teilweise vergrößerte Seitenansicht,
die bei der Erläuterung
des Verfahrens der Verarbeitung eines aufgerollten kontinuierlichen Films
hilfreich ist;
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6 ist
eine Schnittansicht eines erfindungsgemäßen Blatts zur elektromagnetischen
Abschirmung, das auf den Schirm einer Anzeige aufgebracht wird;
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7 ist
eine Schnittansicht, die bei der Erläuterung der Form eines Schnitts
eines geraden Teils einer Linie hilfreich ist, die in einer netzförmigen Struktur
enthalten ist, in welcher der Radius r der Krümmung einer Seitenfläche 107S,
die sich zwischen einer oberen Seite 107U und einer unteren Seite 107B eines
Schnitts des geraden Teils in einer Ebene senkrecht zu der Oberfläche einer
transparenten Basis erstreckt, eine Bedingung erfüllt, die
durch 1,5 t ≤ r ≤ 3,0 t dargestellt
wird, wobei t die Dicke der Metallschicht ist.
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Nachstehend
wird eine bevorzugte Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen
beschrieben. Die vorliegende Erfindung ist bezüglich ihrer praktischen Anwendung
nicht auf die hier speziell beschriebene Ausführungsform beschränkt.
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1 ist
eine Draufsicht auf ein erfindungsgemäßes Blatt zur elektromagnetischen
Abschirmung.
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2 ist
eine partielle, typische perspektivische Ansicht des erfindungsgemäßen Blatts
zur elektromagnetischen Abschirmung.
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Allgemeiner Aufbau
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Gemäß der 1 weist
ein erfindungsgemäßes Blatt
zur elektromagnetischen Abschirmung 1 eine netzförmige Struktur 103 und
einen Erdungsrahmen 101 auf. Gemäß der 2 weist
die netzförmige Struktur 103 sich überschneidende
Linien 107 auf, die Öffnungen
(Zellen) 105 definieren. Der Erdungsrahmen 101 ist
mit einer Erdung verbunden, wenn das Blatt zur elektromagnetischen
Abschirmung 1 mit einer Anzeige kombiniert ist.
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Auf
eine Oberfläche
einer Basis 11 ist eine leitfähige Struktur 109 mit
einer Haftschicht 13 laminiert. Die leitfähige Struktur 109 ist
eine netzförmige Struktur,
bei der die Linien 107 die dicht angeordneten Öffnungen 105 definieren.
Gemäß der 2 wird die
Breite der Linien 107 als Linienbreite W und der Abstand
zwischen entsprechenden Kanten der angrenzenden Linien 107 als
Abstand P bezeichnet.
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Die 3A und 3B sind
Schnittansichten entlang der Linien A-A bzw. B-B in der 2,
und die 4 ist eine Schnittansicht, die
bei der Erläuterung
des Aufbaus der leitfähigen
Struktur hilfreich ist.
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Aufbau der leitfähigen Struktur
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Gemäß der 3A,
die einen Schnitt in einer Ebene zeigt, welche die Öffnungen 105 schneidet,
sind die Öffnungen 105 und
die Linien 107 abwechselnd angeordnet. Gemäß der 3B,
die einen Schnitt in einer Ebene zeigt, welche die Linie 107 umfasst,
ist die kontinuierliche Linie 107 aus der leitfähigen Struktur 109 ausgebildet.
Die leitfähige Struktur 109 kann
eine leitfähige
Schicht, vorzugsweise eine Metallschicht 21 sein. Gegebenenfalls
ist auf einer Oberfläche
der Metallschicht 21, die einer Betrachtungsseite zugewandt
ist, mindestens eine geschwärzte
Schicht 23A oder 23B ausgebildet. Die leitfähige Struktur 109 weist
eine Rostschutzschicht 25A und/oder eine Rostschutzschicht 25B auf,
die auf der geschwärzten
Schicht 23A und/oder auf der geschwärzten Schicht 23B ausgebildet
ist bzw. sind. Eine Rostschutzschicht kann mindestens auf der geschwärzten Schicht
ausgebildet sein. Die Rostschutzschichten 25A und 25B verhindern
ein Rosten der Metallschicht 21 und der geschwärzten Schichten 23A und 23B und
verhindern, dass sich die geschwärzten
Schichten 23A und 23B ablösen.
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Erster Punkt der Erfindung
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Die
Breite W gerader Teile der Linien 107, die in der netzförmigen Struktur 103 enthalten
sind, liegt im Bereich von C (1 ± 30%), wobei C ein vorgegebener
Wert ist. Folglich liegen Fehler bei den Breiten W der geraden Teile
der Linien 107 in der netzförmigen Struktur 103 innerhalb
von C × 30%.
Wenn die Breiten W der Linien 107 innerhalb des Bereichs
C (1 ± 30%)
liegen, weist das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung 1 ein
elektromagnetisches Abschirmungsvermögen und eine geeignete Transparenz auf;
die Maschen sind einheitlich verteilt, und die Sichtbarkeit von
Bildern ist hervorragend. Vorzugsweise liegen die Linienbreiten
W der Linien 107 in der netzförmigen Struktur 103 im
Bereich von 5 bis 25 μm und
die Abstände
P der Linien 107 im Bereich von 150 bis 500 μm.
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Zweiter Punkt der Erfindung
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Gemäß den 3A und 7 erfüllt der
Radius r der Krümmung
einer Seitenfläche 107S,
die sich zwischen einer oberen Seite 107U und einer unteren
Seite 107B eines Schnitts des geraden Teils in einer Ebene
senkrecht zu der Oberfläche
einer transparenten Basis erstreckt; eine Bedingung, die durch 1,5
t ≤ r ≤ 3,0 t dargestellt
wird, wobei t die Dicke der Metallschicht ist. Wenn die Linien 107 derart ausgebildet
sind, dass der Radius r der Krümmung
der Seitenfläche 107S,
die sich zwischen der oberen Seite 107U und der unteren
Seite 107B eines Schnitts des geraden Teils der Linien 107 erstreckt,
die vorstehend genannte Bedingung erfüllt, weist das Blatt zur elektromagnetischen
Abschirmung ein elektromagnetisches Abschirmungsvermögen und
eine geeignete Transparenz auf; das emittierte Licht blendet nicht;
die Reflexion von externem Licht wird unterdrückt, und die Sichtbarkeit der
Bilder ist hervorragend.
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Dritter Punkt der Erfindung
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Die
netzförmige
leitfähige
Struktur weist Linien mit einer Breite im Bereich von C (1 ± 30%)
auf, wobei C ein vorgegebener Wert ist, und der Krümmungsradius
der Seitenfläche,
die sich zwischen der oberen und der unteren Seite einer Erhebung
in einem Abschnitt der Linien in einer Ebene senkrecht zu der transparenten
Basis erstreckt, liegt im Bereich des 1,5- bis 3,0-fachen der Dicke
der Metallschicht. Wenn die Linien mit Breiten innerhalb des vorgegebenen
Bereichs ausgebildet sind und die Linien derart ausgebildet sind,
dass der Krümmungsradius
der Seitenfläche,
die sich zwischen der oberen Seite und der unteren Seite eines Schnitts
des geraden Teils der Linien erstreckt, die vorstehend genannte
Bedingung erfüllt,
weist das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung ein elektromagnetisches
Abschirmungsvermögen
und eine geeignete Transparenz auf; die Maschen sind einheitlich
verteilt; es treten nur wenige schwarze und weiße Punktfehler und lineare
Fehler auf; das emittierte Licht blendet nicht; die Reflexion von
externem Licht wird unterdrückt,
und die Sichtbarkeit von Bildern ist hervorragend.
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Obwohl
das erfindungsgemäße Blatt
zur elektromagnetischen Abschirmung so beschrieben ist, dass es
vorwiegend in Kombination mit einer Anzeige, wie z.B. einer CRT
oder einem PDP, verwendet wird, kann das erfindungsgemäße Blatt
zur elektromagnetischen Abschirmung selbstverständlich auch auf die Abschirmung
elektromagnetischer Strahlung angewandt werden, die durch Vorrichtungen
emittiert wird, die von einer Anzeige verschieden sind.
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Ein
PDP weist einen großen
Schirm auf. Die Abmessungen des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung
liegen in der Größenordnung
von 620 mm × 830
mm für
einen 94 cm-Schirm (37 Zoll-Schirm) und in der Größenordnung
von 580 mm × 980
mm für
einen 107 cm-Schirm (42 Zoll-Schirm). Das Blatt zur elektromagnetischen
Abschirmung kann in größeren Abmessungen
ausgebildet werden. Gewöhnlich
beträgt
die jeweilige Anzahl der horizontalen und vertikalen Linien des
Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung mehrere Tausend. Die
Linien müssen
in einem vorgegebenen Bereich der Linienbreite W mit einer Genauigkeit
in der Größenordnung von
Mikrometern liegen. Eine Person, die Bilder betrachtet, die von
der Anzeige angezeigt werden, hat den Eindruck einer sehr starken Fehlerhaftigkeit, wenn
in den Bildern schwarze und weiße
Punkte gebildet werden. Übermäßig breite
Linien bilden schwarze Punktfehler, und übermäßig schmale Linien bilden weiße Punktfehler.
In dem erfindungsgemäßen Blatt
zur elektromagnetischen Abschirmung ist bzw. sind die Verteilung
der Linienbreiten und/oder die Form des Schnitts der Linien eingestellt.
Daher sind die Maschen einheitlich verteilt; die Anzahl der schwarzen
Punktfehler und/oder die Anzahl der weißen Punktfehler ist bzw. sind
sehr klein, und die Sichtbarkeit von Bildern ist hervorragend.
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In
der leitfähigen
Struktur 109 des erfindungsgemäßen Blatts zur elektromagnetischen
Abschirmung ist bzw. sind die geschwärzte Schicht 23A und/oder
die geschwärzte
Schicht 23B auf mindestens einer der Oberflächen der
Metallschicht 21 ausgebildet, und die Rostschutzschicht 25A und/oder
die Rostschutzschicht 25B ist bzw. sind mindestens auf der
geschwärzten
Schicht 23A und/oder der geschwärzten Schicht 23B ausgebildet.
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Die
leitfähige
Struktur 109 wird mit einem Haftmittel an die Basis 11,
d.h. einen transparenten Film, laminiert, und dann wird die leitfähige Struktur 109 zur
Bildung einer netzförmigen
Struktur einem photolithographischen Verfahren unterworfen. Gegebenenfalls
wird die Oberfläche
auf der Seite der Metallschicht eingeebnet. Gegebenenfalls wird
eine lichtabsorbierende Schicht, die sichtbare Strahlung mit spezifischen
Wellenlängen
und/oder Nahinfrarotstrahlung absorbieren kann, gebildet. Wenn das
so gebildete Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung, das eine
geeignete Transparenz aufweist, vor einer Anzeige angeordnet wird,
wird die durch die Anzeige erzeugte elektromagnetische Strahlung
abgeschirmt; Maschen sind einheitlich verteilt; nur wenige schwarze
oder weiße
Punktfehler werden gebildet, und angezeigte Bilder können mit
einer zufriedenstellenden Sichtbarkeit betrachtet werden.
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Herstellungsverfahren
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Bei
der Herstellung des erfindungsgemäßen Blatts zur elektromagnetischen
Abschirmung 1 wird die leitfähige Struktur 109,
die mindestens mit der geschwärzten
Schicht und der Rostschutzschicht auf der Betrachtungsseite ausgestattet
ist, hergestellt. Die leitfähige
Struktur 109 wird auf eine der Oberflächen der Basis 11,
d.h. einen transparenten Film, mit dem Haftmittel laminiert, und
ein Photolackfilm mit einem netzförmigen Muster wird über der
leitfähigen Struktur 109 ausgebildet.
Es wird ein photolithographisches Verfahren durchgeführt, um
Teile der leitfähigen
Struktur 109, die nicht mit dem Photolackfilm beschichtet
sind, durch Ätzen
zu entfernen, worauf der Photolackfilm entfernt wird. Das Blatt
zur elektromagnetischen Abschirmung kann mit bekannten Herstellungsvorrichtungen
hergestellt werden, und die meisten Verfahren können nacheinander ausgeführt werden.
Folglich kann das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung mit
einer hohen Qualität
bei einer hohen Ausbeuterate und einer hohen Herstellungseffizienz
hergestellt werden.
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Nachstehend
werden Materialien und Verfahren zur Bildung der Schichten des erfindungsgemäßen Blatts
zur elektromagnetischen Abschirmung 1 beschrieben.
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Leitfähige Struktur
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Die
leitfähige
Struktur 109 zur Abschirmung elektromagnetischer Strahlung
weist die Metallschicht 21 auf, die aus einem Metall mit
einer Leitfähigkeit
gebildet ist, die zur Abschirmung elektromagnetischer Strahlung
ausreichend ist, wie z.B. Gold, Silber, Kupfer, Eisen, Aluminium,
Nickel oder Chrom. Die Metallschicht 21 kann eine Einzelschicht
oder eine laminierte Schicht sein, und sie kann aus einer Legierung
ausgebildet sein. Metalle auf Eisenbasis, die zur Bildung der Metallschicht 21 geeignet
sind, sind Stähle
mit niedrigem Kohlenstoffgehalt, wie z.B. unberuhigte Stähle mit
niedrigem Kohlenstoffgehalt und Aluminium-beruhigte Stähle mit
niedrigem Kohlenstoffgehalt, Ni-Fe-Legierungen und Invar. Wenn eine
kathodische Elektroabscheidung eingesetzt wird, sind Kupfer- oder
Kupferlegierungsfolien bevorzugt. Die Kupferfolien können gewalzte
Kupferfolien und Elektrolytkupferfolien sein. Elektrolytkupferfolien sind
bevorzugt, da Elektrolytkupferfolien eine einheitliche Dicke, eine
zufriedenstellende Eigenschaft des Anhaftens an geschwärzte Schichten
und/oder Schichten aufweisen, die durch eine Chromatbehandlung erhalten
worden sind, und da sie zu dünnen Filmen
mit einer Dicke von nicht mehr als 10 μm ausgebildet werden können. Die
Dicke der Metallschicht 21 liegt im Bereich von etwa 1
bis etwa 100 μm,
vorzugsweise im Bereich von 5 bis 20 μm. Obwohl die Metallschicht 21 einfach
durch Photolithographie zur Bildung der netzförmigen Struktur verarbeitet
werden kann, wenn die Dicke der Metallschicht 21 unter
der Untergrenze des Dickenbereichs liegt, weist eine netzförmige Struktur,
die durch Verarbeiten der Metallschicht 21 mit einer so
geringen Dicke gebildet wird, einen großen elektrischen Widerstand
auf, der den elektromagnetischen Abschirmeffekt vermindert. Wenn
die Metallschicht 21 eine Dicke aufweist, die über der
Obergrenze des Dickenbereichs liegt, kann eine gewünschte feine
netzförmige
Struktur nicht gebildet werden, und folglich weist die netzförmige Struktur
ein niedriges tatsächliches
Verhältnis
der offenen Fläche
sowie eine niedrige Durchlässigkeit
auf; der Betrachtungswinkel nimmt ab, und die Sichtbarkeit von Bildern
wird schlecht.
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Vorzugsweise
weist die Metallschicht 21 eine Oberflächenrauhigkeit Rz zwischen
0,5 und 10 μm auf.
Die Metallschicht 21 reflektiert externes Licht in einem
spiegelnden Reflexionsmodus, der die Sichtbarkeit von Bildern verschlechtert,
wenn die Oberflächenrauhigkeit
der Metallschicht 21 unter 0,5 μm liegt, und zwar selbst dann,
wenn die Oberfläche
der Metallschicht 21 geschwärzt ist. Das Haftmittel und der
Photolack können nicht
einheitlich über
die gesamte Oberfläche
der Metallschicht 21 ausgebreitet werden, und in dem Haftmittel
und dem Photolack werden Blasen gebildet, wenn die Oberflächenrauhigkeit
der Metallschicht 21 größer als
10 μm ist.
Die Oberflächenrauhigkeit
Rz ist der Mittelwert der Rauhigkeitswerte von 10 Punkten, die mit
einem Oberflächenrauhigkeitsmessverfahren
gemessen worden sind, das in JIS B0601 spezifiziert ist.
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Schwärzungsbehandlung
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Die
Oberfläche
der netzförmigen
leitfähigen Struktur 109,
die auf die Betrachtungsseite gerichtet ist, muss mit einer Schwärzungsbehandlung
verarbeitet werden, um die Sichtbarkeit von Bildern zu verbessern
und den Kontrast in Bildern durch Absorption von externem Licht,
wie z.B. Sonnenlicht, und von Licht, das von einer Lampe emittiert
wird, das auf das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung 1 fällt, zu erhöhen. Die
Schwärzungsbehandlung
rauht die Oberfläche
auf und/oder schwärzt
die Oberfläche
der Metallschicht. Die Schwärzungsbehandlung
kann durch eines von verschiedenen Verfahren erreicht werden. Beispielsweise
bildet die Schwärzungsbehandlung
ein Metalloxid oder ein Metallsulfid auf der Oberfläche der
Metallschicht. Wenn die Metallschicht aus Eisen ausgebildet ist,
wird durch Aussetzen der Metallschicht gegenüber Dampf mit einer Temperatur im
Bereich von 450°C
bis 470°C
für einen
Zeitraum im Bereich von 10 bis 20 min ein Oxidfilm (Schwärzungsfilm)
mit einer Dicke zwischen etwa 1 und etwa 2 μm gebildet. Ein Oxidfilm (Schwärzungsfilm)
kann durch chemisches Verarbeiten der Metallschicht mit einer Chemikalie,
wie z.B. konzentrierter Salpetersäure, gebildet werden. Wenn
die Metallschicht eine Kupferfolie ist, ist es bevorzugt, durch
ein kathodisches Elektroabscheidungsverfahren unter Verwendung einer
Elektrolytlösung,
die Schwefelsäure,
Kupfersulfat und Cobaltsulfat enthält, kationische Teilchen an
die Metallschicht zu binden. Die an der Oberfläche der Metallschicht anhaftenden
kationischen Teilchen erhöhen
die Oberflächenrauhigkeit
der Metallschicht und schwärzen
die Oberfläche
der Metallschicht. Die kationischen Teilchen können Kupferteilchen oder Kupferlegierungsteilchen
sein. Kupfer-Cobalt-Legierungsteilchen sind bevorzugt.
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In
dieser Beschreibung umfasst die Schwärzungsbehandlung ein Aufrauhen
und Schwärzen. Vorzugsweise
ist eine bevorzugte Schwärzungsdichte
0,6 oder mehr. Die Schwärzungsdichte
wird unter Verwendung des COLOR CONTROL SYSTEM GRETAG SPM100-11® (Kimoto
Co.) gemessen. Die Messung der Schwärzungsdichte eines Prüfkörpers nutzt
einen Winkel des Betrachtungsfelds von 10°, eine Lichtquelle D50 und eine
Beleuchtung Typ T, die in den ANSI-Standards definiert sind. Vorzugsweise beträgt das Reflexionsvermögen der
mit der Schwärzungsbehandlung
verarbeiteten Oberfläche
5% oder weniger. Das Reflexionsvermögen wird unter Verwendung eines
Trübungsmessgeräts HM150® (Murakami
Sikisai) mit einem in JIS K 7105 spezifizierten Verfahren gemessen.
-
Legierungsteilchen
-
Die
kationischen Teilchen können
Kupferteilchen oder Kupferlegierungsteilchen sein. Vorzugsweise
sind die kationischen Teilchen Kupfer-Cobalt-Legierungsteilchen. Kupfer-Cobalt-Legierungsteilchen
verbessern den Schwärzungsgrad
beträchtlich
und absorbieren sichtbares Licht zufriedenstellend. Die optischen
Eigenschaften, die den Verbesserungseffekt des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung
bezüglich
der Bildsichtbarkeit repräsentieren,
werden durch das Farbsystem "L*,
a*, b*, ΔE*" ausgedrückt, das
in JIS Z8729 spezifiziert ist. Die leitfähige Struktur 109 wird
weniger sichtbar, wenn die Absolutwerte von a* und b* kleiner sind. Folglich
wird der Kontrast in Bildern verstärkt, und die Sichtbarkeit von
Bildern wird verbessert. Der Effekt der Verminderung der Werte von
a* und b* der Kupfer-Cobalt-Legierungsteilchen ist, verglichen mit
dem von Kupferteilchen, hoch. Die Kupfer-Cobalt-Legierungsteilchen
können
die Werte von a* und b* auf fast Null vermindern.
-
Vorzugsweise
liegt die durchschnittliche Teilchengröße der Kupfer-Cobalt-Legierungsteilchen
im Bereich von 0,1 bis 1 μm.
Kupfer-Cobalt-Legierungsteilchen mit einer durchschnittlichen Teilchengröße, die über der
Obergrenze des bevorzugten Bereichs liegt, vermindern die Dicke
der Metallschicht 21 übermäßig, und
folglich ist es möglich,
dass die Kupferfolie beim Laminieren der Kupferfolie auf die Basis 11 zerreißt und die
Oberfläche
der Metallschicht 21 einen Mangel an Feinheit und ein unebenes
Aussehen aufweist, da die Teilchen nicht kompakt ausgebildet werden.
Kupfer-Cobalt-Teilchen mit einer durchschnittlichen Teilchengröße unter
der Untergrenze des Bereichs weisen keinen Aufrauhungseffekt auf, und
somit ist die Sichtbarkeit von Bildern nicht zufriedenstellend.
-
Rostschutzschicht
-
Die
Rostschutzschicht 25A und/oder die Rostschutzschicht 25B ist
bzw. sind mindestens auf der geschwärzten Schicht ausgebildet,
die durch Schwärzen
der Metallschicht 21 gebildet wird, um ein Rosten der Metallschicht 21 und/oder
der geschwärzten
Schichten und ein Ablösen
und Verformen der geschwärzten
Schichten zu verhindern. Die Rostschutzschichten 25A und 25B können Schichten von
Oxiden von Nickel und/oder Zink und/oder Kupfer oder Schichten sein,
die durch eine Chromatbehandlung erhalten werden. Die Schichten
von Oxiden von Nickel und/oder Zink und/oder Kupfer können mit einem
bekannten Plattierungsverfahren hergestellt werden. Die Dicke der
Schichten von Oxiden von Nickel und/oder Zink und/oder Kupfer liegt
im Bereich von etwa 0,001 bis etwa 1 μm, vorzugsweise im Bereich von
0,001 bis 0,1 μm.
-
Chromatbehandlung
-
Bei
der Chromatbehandlung wird ein Werkstück mit einer Chromatierungslösung behandelt.
Die Chromatierungslösung
kann auf das Werkstück
mit einem Walzenbeschichtungsverfahren, einem Vorhangbeschichtungsverfahren,
einem Quetschbeschichtungsverfahren, einem elektrostatischen Zerstäubungsverfahren
oder einem Tauchverfahren aufgebracht werden. Das durch die Chromatbehandlung behandelte
Werkstück
wird ohne Spülen
getrocknet. Ein Walzenbeschichtungsverfahren ist bevorzugt, wenn
nur eine der Oberflächen
des Werkstücks durch
die Chromatbehandlung behandelt werden soll. Ein Tauchverfahren
ist bevorzugt, wenn beide Oberflächen
des Werkstücks
durch die Chromatbehandlung behandelt werden sollen. Gewöhnlich ist die
Chromatierungslösung
eine CrO2-Lösung, die eine CrO2-Konzentration
von 3 g/Liter aufweist. Es kann eine Chromatierungslösung verwendet
werden, die durch Zugeben einer Oxycarbonsäureverbindung zu einer Chromsäureanhydridlösung zum
Reduzieren eines Teils des sechswertigen Chroms zu dreiwertigem
Chrom erhalten wird. Die Oberfläche
der Werkstücke,
die durch die Chromatbehandlung behandelt worden sind, ist mit einer
Farbe in einer Farbkategorie gefärbt,
die hellgelb und gelblich-braun umfasst, und zwar abhängig von
der Menge des abgeschiedenen sechswertigen Chroms. Da dreiwertiges Chrom
farblos ist, weist ein Film, der durch die Chromatbehandlung gebildet
worden ist, eine in der Praxis akzeptable Transparenz auf, wenn
das Verhältnis zwischen
den jeweiligen Mengen an dreiwertigem Chrom und sechswertigem Chrom
geeignet eingestellt wird. Geeignete Oxycarbonsäureverbindungen sind Weinsäure, Malonsäure, Zitronensäure, Milchsäure, Glykolsäure, Glycerinsäure, Tropasäure, Benzilsäure und
Hydroxyvaleriansäure.
Diese Chemikalien können
einzeln oder in einer Kombination verwendet werden. Da die verschiedenen
Verbindungen verschiedene reduzierende Effekte aufweisen, muss die Menge
der der Chromsäureanhydridlösung zugesetzten
Verbindung gemäß der Reduktionsrate
von sechswertigem Chrom zu dreiwertigem Chrom bestimmt werden. Die
auf die geschwärzte
Schicht angewandte Chromatbehandlung weist zusätzlich zu einem Rostschutzeffekt
einen Effekt zur Verstärkung des
Effekts der Schwärzung
auf. Folglich ist die Chromatbehandlung eine Behandlung, welche
die Schwärzung
verstärkt.
-
Die
geschwärzte
Schicht und die Rostschutzschicht können mindestens auf der Oberfläche der
Betrachtungsseite gebildet werden. Der Kontrast wird verbessert,
so dass die Sichtbarkeit angezeigter Bilder verbessert wird. Die
geschwärzte
Schicht und die Rostschutzschicht können auf der anderen Oberfläche auf
der Seite der Anzeige gebildet werden, um Streulicht abzuschirmen,
das von der Anzeige emittiert wird, wodurch die Sichtbarkeit von
Bildern verbessert wird.
-
Anschließend wird
die transparente Basis 11 mit einem Haftmittel an die Metallschicht
(die leitfähige
Struktur) gebunden, die mit der Rostschutzschicht ausgestattet und
mit dem Schwärzungsverfahren
behandelt worden ist.
-
Basis
-
Die
Basis 11 kann aus einem beliebigen Material von verschiedenen
Materialien ausgebildet sein, mit der Maßgabe, dass die Materialien
die gewünschte
Transparenz, die gewünschten
Isoliereigenschaften, die gewünschte
Wärmebeständigkeit und
die gewünschte
mechanische Festigkeit aufweisen. Geeignete Materialien zur Bildung
der Basis 11 sind z.B. Polyesterharze, einschließlich Polyethylenterephthalatharze,
Polybutylenterephthalatharze, Polyethylennaphthalatharze, Polyethylenterephthalat-Isophthalat-Copolymere,
Terephthalat-Cyclohexandimethanol-Ethylenglykol-Copolymere
und Polyethylenterephthalat/Polyethylennaphthalatharze zur Coextrusion,
Polyamidharze einschließlich
Nylon 6, Nylon 66 und Nylon 610, Polyolefinharze, einschließlich Polypropylenharze
und Poly(methylpenten)harze, Vinylharze einschließlich Polyvinylchloridharze, Acrylharze,
einschließlich
Polyacrylatharze, Polymethacrylatharze und Poly(methylmethacrylat)harze, Imidharze,
einschließlich
Polyimidharze, Polyamidimidharze und Poly(etherimid)harze, technische Kunststoffe,
einschließlich
Polyarylatharze, Polysulfonharze, Poly(ethersulfon)harze, Polyphenylenetherharze,
Polyphenylensulfidharze (PPS's),
Polyaramidharze, Poly(etherketon)harze, Polyethernitrilharze, Poly(etheretherketon)harze
und Polyethersulfidharze, sowie Styrolharze, einschließlich Polycarbonatharze
und Polystyrolharze.
-
Die
Basis kann aus einem Copolymer ausgebildet sein, das einige der
vorstehend genannten Harze als Hauptkomponenten, ein Gemisch einiger der
vorstehend genannten Harze oder eine Legierung einiger der vorstehend
genannten Harze enthält.
Die Basis kann ein laminiertes Blatt sein. Obwohl die Basis entweder
ein orientierter Film oder ein unorientierter Film sein kann, ist
es im Hinblick auf die mechanische Festigkeit bevorzugt, dass die
Basis ein uniaxial orientierter Film oder ein biaxial orientierter
Film ist. Die Dicke der Basis liegt im Bereich von etwa 12 bis etwa
1000 μm,
vorzugsweise im Bereich von 50 bis 700 μm. Die am meisten bevorzugte Dicke
der Basis liegt im Bereich von 100 bis 500 μm. Wenn die Basis übermäßig dünn ist,
weist die Basis eine unzureichende mechanische Festigkeit und ein Verziehen
oder Ausbauchungen auf. Wenn die Basis übermäßig dick ist, weist die Basis 11 eine
zu hohe Qualität
auf und ist in unnötiger
Weise teuer.
-
Die
Basis ist ein Film, ein Blatt oder eine Platte mit mindestens einer
Schicht aus einem dieser Harze. In dieser Beschreibung werden ein
Film, ein Blatt und eine Platte als "Film" bezeichnet.
Polyesterfilme, wie z.B. Polyethylenterephthalatfilme und Polyethylennaphthalatfilme,
sind geeignete Filme für
die Basis, da Polyesterfilme bezüglich
der Transparenz und der Wärmebeständigkeit
zufriedenstellend und billig sind. Polyethylenterephthalatfilme
sind am besten geeignet. Obwohl Filme mit einer höheren Transparenz
mehr bevorzugt sind, sind Filme mit einer Transparenz von 80% oder
mehr akzeptabel.
-
Die
Oberfläche
der Basis kann durch eine Oberflächenbehandlung
verändert
werden, um die Oberfläche
für die
Haftschicht empfänglich
zu machen. Die Oberflächenbehandlung
kann eine Koronaentladungsbehandlung, eine Plasmabehandlung, eine
Ozonbehandlung, eine Flammenbehandlung, eine Beschichtung mit einem
Primer, d.h. einem Haftvermittler, einem Haftförderungsmittel oder einem Haftmittelaufnahme-verbessernden
Mittel, ein Vorwärmen,
eine Staubentfernungsbehandlung, eine Abscheidungsbehandlung oder
eine Alkalibehandlung sein. Gegebenenfalls kann der Harzfilm Zusätze, wie
z.B. einen Füllstoff,
einen Weichmacher und ein Antistatikmittel, enthalten.
-
Laminierverfahren
-
Durch
das Laminierverfahren wird eine Haftmittelschicht auf einer der
Oberflächen
der Basis 11 oder der leitfähigen Struktur 109 gebildet,
die Haftmittelschicht gegebenenfalls getrocknet und Druck auf eine
laminierte Struktur ausgeübt,
die durch Aufeinanderlegen der Basis 11 und der leitfähigen Struktur 109 unter
Erhitzen oder nicht Erhitzen der laminierten Struktur gebildet wird.
Die laminierte Struktur kann gegebenenfalls einer Alterung bei einer
Temperatur im Bereich von 30°C
bis 80°C
unterworfen werden. Wenn die Basis 11 aus einem Harz gebildet
wird, das beim Erwärmen
Hafteigenschaften aufweist, wie z.B. ein Ionomer, ein Ethylen-Vinylacetat-Copolymer
oder ein Ethylen-Acrylat-Copolymer,
oder wenn die Basis 11 ein laminierter Film mit einer Schicht
ist, die aus einem solchen Harz ausgebildet ist, können die
Basis 11 und die leitfähige
Schicht 109 ohne die Verwendung eines Haftmittels einfach
durch Aufeinanderlegen der Basis 11 und der leitfähigen Struktur 109 und Ausüben von
Druck auf die übereinandergelegte
Basis 11 und leitfähige
Struktur 109 unter Erwärmen
laminiert werden. Die Metallschicht 21 kann durch stromloses
Abscheiden oder Vakuumabscheiden ohne Verwendung eines Haftmittels
direkt auf der Basis ausgebildet werden.
-
Haftmittel
-
Es
kann ein beliebiges geeignetes Haftmittel verwendet werden. Geeignete
Haftmittel sind z.B. Acrylharze, Polyesterharze, Urethanharze und
Polyvinylchlorid-Acetat-Harze.
Eine Trockenlaminierung unter Verwendung eines hitzehärtenden
Harzes, das ein zufriedenstellendes Verarbeitungsvermögen aufweist
und gegen die färbenden
und zersetzenden Effekte eines Ätzmittels
beständig
ist, ist bevorzugt. Ein UV-härtbares
Harz, das durch Bestrahlen mit ionisierender Strahlung, wie z.B.
UV-Strahlung, härtbar
ist, ist bevorzugt.
-
Trockenlaminierung
-
Durch
ein Trockenlaminierverfahren zum Laminieren von zwei Filmen werden
durch Aufbringen einer Haftmittellösung, die durch Lösen eines
Haftmittels in einem Lösungsmittel
hergestellt wird, auf die Filme, und Trocknen der Haftmittellösung, Haftmittelschichten
auf den Filmen gebildet; die Filme werden zur Bildung eines laminierten
Films laminiert, und der laminierte Film wird bei einer Temperatur
im Bereich von 30°C
bis 120°C
für mehrere
Stunden bis mehrere Tage einer Alterung unterworfen, um das Haftmittel
zu härten.
Es kann ein lösungsmittelfreies Laminierverfahren
eingesetzt werden, das durch Verbessern des Trockenlaminierverfahrens
entwickelt worden ist. Durch das lösungsmittelfreie Laminierverfahren
wird anstelle der Haftmittellösung
ein Haftmittel auf den Filmen ausgebreitet; das Haftmittel wird getrocknet;
die Filme werden zu einem laminierten Film laminiert, und die laminierte
Struktur wird bei einer Temperatur im Bereich von 30°C bis 120°C für mehrere
Stunden bis mehrere Tage einer Alterung unterworfen, um das Haftmittel
zu härten,
so dass die Filme aneinander gebunden werden.
-
Ein
Haftmittel, das für
das Trockenlaminierverfahren oder das lösungsmittelfreie Laminierverfahren
geeignet ist, ist ein hitzehärtendes
Haftmittel oder ein durch ionisierende Strahlung härtbares
Haftmittel, das mit ionisierender Strahlung, wie z.B. UV-Strahlung
oder Elektronenstrahlen, gehärtet
werden kann. Geeignete hitzehärtende
Haftmittel sind Zweikomponenten-Haftmittel, wie z.B. Urethanhaftmittel,
einschließlich
Polyester-Urethan-Haftmittel, Polyether-Urethan-Haftmittel
und Acryl-Urethan-Haftmittel, Acrylhaftmittel, Polyesterhaftmittel, Polyamidhaftmittel,
Polyvinylacetathaftmittel, Epoxyhaftmittel und Kautschukhaftmittel.
Zweikomponenten-Urethanhaftmittel sind bevorzugt.
-
Ein
geeignetes Zweikomponenten-Urethanhaftmittel ist z.B. ein Polymer,
das durch die Reaktion eines polyfunktionellen Isocyanats mit einer
Verbindung mit endständigen
Hydroxylgruppen erhalten wird. Geeignete polyfunktionelle Isocyanate
sind z.B. aromatische (oder alicyclische) Polyisocyanate, wie z.B.
Toluylendiisocyanat, Diphenylmethandiisocyanat und Poly(methylen-phenylen)polyisocyanat,
oder polyfunktionelle Isocyanate, wie z.B. aliphatische (oder alicyclische)
Polyisocyanate, einschließlich
Hexamethylendiisocyanat, Xylylendiisocyanat, Isophorondiisocyanat.
Diese Polyisocyanate können
Polymere (Trimere) und Additionspolymere dieser Isocyanate sein.
Geeignete Verbindungen mit endständigen
Hydroxylgruppen sind Polyetherpolyole, Polyesterpolyole und Polyacrylatpolyole.
Ein Zweikomponenten-Urethanharz, das durch Umsetzen eines polyfunktionellen
Isocyanats mit einer Verbindung mit endständigen Hydroxylgruppen erhalten
wird, kann verwendet werden.
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Ein
bevorzugtes Haftmittel wird durch Mischen eines Polyesterpolyurethanharzes,
das durch ein Styrol-Maleinsäure-Copolymer
denaturiert ist, das gegen die färbenden
und zersetzenden Effekte eines Ätzmittels
beständig
ist, mit einem aliphatischen Polyisocyanatharz erhalten.
-
In
dem Trockenlaminierverfahren wird eine Haftmittelzusammensetzung,
welche die vorstehend genannten Materialien als Hauptkomponenten
enthält,
in einem organischen Lösungsmittel
gelöst
oder dispergiert, um eine Haftmittelflüssigkeit zu erzeugen; ein Film
wird mit einem Film der Haftmittelflüssigkeit durch ein Beschichtungsverfahren,
wie z.B. ein Walzenbeschichtungsverfahren, ein Umkehrwalzenbeschichtungsverfahren,
ein Tiefdruckwalzenbeschichtungsverfahren, ein Tiefdruckumkehrwalzenbeschichtungsverfahren,
ein Tiefdruck-Offsetbeschichtungsverfahren,
ein Kiss-Coating-Verfahren, ein Wire-Bar-Beschichtungsverfahren,
ein Komma-Beschichtungsverfahren, ein Rakelbeschichtungsverfahren,
ein Tauchbeschichtungsverfahren, ein Flutbeschichtungsverfahren
oder ein Sprühbeschichtungsverfahren
aufgebracht, und das Lösungsmittel
wird durch Trocknen des Films der Haftmittelflüssigkeit zur Bildung einer
Haftmittelschicht zur Trockenlaminierung entfernt. Ein Walzenbeschichtungsverfahren
oder ein Umkehrwalzenbeschichtungsverfahren ist bevorzugt.
-
Die
Dicke der trockenen Haftmittelschicht liegt im Bereich von etwa
0,1 bis etwa 20 μm,
vorzugsweise im Bereich von 1 bis 10 μm. Die Basis wird sofort nach
der Bildung der Haftmittelschicht an die leitfähige Struktur laminiert, und
die so gebildete laminierte Struktur wird mehrere Stunden bis mehrere Tage
einer Alterung bei einer Temperatur im Bereich von 30°C bis 120°C unterworfen,
um die Haftmittelschicht zu härten,
so dass die Basis und die leitfähige Struktur
aneinander gebunden werden. Die Haftmittelschicht kann entweder
auf der Basis oder der leitfähigen
Struktur gebildet werden. Vorzugsweise wird die Haftmittelschicht
auf einer Kupferfolie gebildet, so dass sie die aufgerauhte Oberfläche der
Kupferfolie vollständig
bedeckt, um eine Bildung von Blasen in der laminierten Struktur
zu verhindern.
-
Obwohl
das lösungsmittelfreie
Laminierverfahren und das Trockenlaminierverfahren im Wesentlichen
gleich sind, nutzt das lösungsmittelfreie
Laminierverfahren die Haftmittelzusammensetzung direkt ohne Lösen oder
Dispergieren der Haftmittelzusammensetzung in einem Lösungsmittel.
Gegebenenfalls wird die Haftmittelzusammensetzung erhitzt, um die Viskosität der Haftmittelzusammensetzung
zu vermindern.
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Haftmittel
-
Das
Haftmittel kann ein bekanntes druckempfindliches Haftmittel sein.
Bezüglich
des Haftmittels bestehen keine speziellen Beschränkungen. Das Haftmittel kann
eines von beliebigen geeigneten Harzen sein. Geeignete Haftmittel
sind Naturkautschuk, synthetische Kautschuke, einschließlich Butylkautschuke,
Polyisoprenkautschuke, Polyisobutylenkautschuke, Polychloroprenkautschuke
und Styrol-Butadien-Copolymere, Silikonharze, einschließlich Dimethylpolysiloxanharze,
Acrylharze, Vinylacetatharze, einschließlich Polyvinylacetatharze
und Ethylen-Vinylacetat-Copolymere, Urethanharze, Acrylnitrilharze,
Kohlenwasserstoffharze, Alkylphenolharze und Kolophoniumharze, einschließlich Kolophonium,
Kolophoniumtriglyceridharze und hydriertes Kolophonium.
-
Kautschukhaftmittel
-
Effektive
Kautschukhaftmittel sind Gemische aus einem oder mehreren Haftmittel(n),
einschließlich
Chloroprenkautschuk, Acrylnitril-Butadien-Kautschuk, Acrylkautschuk,
Styrol-Butadien-Kautschuk, Styrol-Isopren-Styrol-Kautschuk, Styrol-Butadien-Styrol-Kautschuk,
Styrol-Ethylen-Butadien-Kautschuk, Butylkautschuk, Polyisobutylenkautschuk, Naturkautschuk
und Polyisoprenkautschuk, und einem oder mehreren klebrigmachenden
Mitteln, einschließlich
Phenolharzen, modifizierten Phenolharzen, Ketonharzen, Alkydharzen,
Kolophoniumharzen, Cumaronharzen, Styrolharzen, Erdölharzen
und Vinylchloridharzen.
-
Die
Kautschukhaftmittel sind den Acrylhaftmitteln bezüglich der
chemischen Beständigkeit,
der Quellbeständigkeit,
der Wärmebeständigkeit,
der Klebrigkeit und der Ablösefestigkeit überlegen.
Daher werden sich Schichten, die mit dem Kautschuk-Haftmittel gebunden
worden sind, nicht ablösen,
und zwar selbst dann nicht, wenn sie Säure- oder Alkalilösungen ausgesetzt
werden. Das Kautschukhaftmittel unterliegt in Säure- oder Alkalilösungen kaum
einer Hydrolyse und behält
dessen Haftmitteleigenschaften über
einen langen Zeitraum.
-
Haftmittelschicht
-
Ein
Latex, eine wässrige
Dispersion oder eine organische Lösung eines oder mehrerer der
vorstehend genannten Harze wird in einem Haftmittelfilm auf der
Oberfläche
einer der beiden Schichten, die aneinander gebunden werden sollen,
mit einem bekannten Druckverfahren, wie z.B. mit einem Siebdruckverfahren
oder einem Komma-Beschichtungsverfahren,
oder einem bekannten Beschichtungsverfahren ausgebreitet, wobei
der Haftmittelfilm gegebenenfalls getrocknet wird, und dann wird
die andere Schicht gegen die erstgenannte Schicht gedrückt.
-
Die 5A und 5B sind
eine Draufsicht bzw. eine Seitenansicht, die bei der Erläuterung
eines Verfahrens zum Verarbeiten eines aufgerollten kontinuierlichen
Films hilfreich sind.
-
Zur
Bildung laminierter Strukturen wird eine Rolle eines kontinuierlichen
Films verwendet. In der 5 werden die Blätter zur
elektromagnetischen Abschirmung 1 an vorgegebenen Intervallen
auf dem von einer Rolle abgewickelten kontinuierlichen Film gebildet.
Die 5B zeigt die leitfähige Struktur 109, welche
die Metallschicht 21 umfasst und an die Basis 11 laminiert
ist. Die leitfähige
Struktur 109 wird durch Bilden der geschwärzten Schichten,
der Rostschutzschichten und der Metallschicht 21 auf dem
von einer Rolle abgewickelten kontinuierlichen Film gebildet. Die
Haftmittelschicht wird auf der Rostschutzschicht der leitfähigen Struktur 109 durch
Ausbreiten eines Haftmittels in einem Haftmittelfilm auf der Oberfläche der
Rostschutzschicht und Trocknen des Haftmittelfilms hergestellt.
Die leitfähige
Struktur 109 wird durch Drücken der leitfähigen Struktur
gegen die Basis 11 an die Basis 11 gebunden. Gegebenenfalls wird
eine laminierte Struktur, die durch Aneinanderbinden der leitfähigen Struktur 109 und
der Basis 11 gebildet worden ist, bei einer Temperatur
im Bereich von 30°C
bis 80°C
mehrere Stunden bis mehrere Tage gealtert (gehärtet), und die laminierte Struktur wird
auf einer Rolle aufgewickelt.
-
Photolithographie
-
Ein
Photolackfilm mit einem vorgegebenen netzförmigen Muster wird auf der
leitfähigen
Struktur 109 der laminierten Struktur gebildet; Teile der
leitfähigen
Struktur 109, die nicht mit dem Photolackfilm beschichtet
sind, werden durch Ätzen
entfernt, und der Photolackfilm wird entfernt, um eine netzförmige leitfähige Struktur
zu vervollständigen.
-
Maskierung
-
Die
leitfähigen
Strukturen der kontinuierlichen laminierten Struktur, die durch
Aneinanderbinden der Basis 11 und der leitfähigen Struktur 109 erhalten
und von einer Rolle abgewickelt wird, werden mittels Photolithographie
zur Bildung netzförmiger leitfähiger Strukturen 109 verarbeitet.
Die kontinuierliche laminierte Struktur wird zum Maskieren, Ätzen und
zum Photolackentfernen verarbeitet, während die kontinuierliche laminierte
Struktur gespannt gehalten und kontinuierlich oder diskontinuierlich
zugeführt
wird.
-
Durch
die Maskierung wird z.B. ein Photolackfilm über der gesamten Oberfläche der
leitfähigen
Struktur 109 gebildet; der Photolackfilm wird getrocknet;
eine Maske mit einem vorgegebenen Muster wird auf den Photolackfilm
aufgebracht; der Photolackfilm wird durch die Maske in dem vorgegebenen
Linienmuster, das Maschen definiert, belichtet; der belichtete Photolackfilm
wird entwickelt; der entwickelte Photolackfilm wird mit einer Härtungsbehandlung
behandelt, und der mit einem Muster versehene Photolackfilm wird
eingebrannt.
-
Der
Photolackfilm wird auf der Oberfläche der leitfähigen Struktur 109 durch
Aufbringen des Photolacks, wie z.B. Casein, eines PVAs oder Gelatine,
auf die Oberfläche
der leitfähigen
Struktur 109 durch ein Tauchverfahren, ein Vorhangbeschichtungsverfahren
oder ein Flutbeschichtungsverfahren gebildet, während die laminierte Struktur,
die durch Laminieren der Basis 11 und der leitfähigen Strukturen 109 gebildet
worden ist, von einer Rolle abgewickelt und kontinuierlich oder
diskontinuierlich zugeführt
wird. Der Photolackfilm kann anstelle des Aufbringens des flüssigen Photolacks
auf die leitfähige Struktur 109 durch
Binden eines trockenen Photolackfilms an die leitfähige Struktur 109 gebildet
werden. Die Einbrenntemperatur liegt im Bereich von 200°C bis 300°C, wenn ein
Caseinphotolack verwendet wird. Es ist bevorzugt, die laminierte
Struktur bei der niedrigsten möglichen
Temperatur einzubrennen, um ein Verziehen der laminierten Struktur
zu verhindern.
-
Ätzverfahren
-
Der
Photolackfilm wird nach dem Maskieren des Photolackfilms mit einer
Maske geätzt.
Für ein kontinuierliches Ätzverfahren
sind eine Eisen(III)-chloridlösung
und eine Kupfer(II)-chloridlösung
bevorzugt, die einfach umgewälzt
werden können.
Im Wesentlichen ist das Ätzverfahren
einem Ätzverfahren
unter Verwendung eines Abdeckmaskenbildungssystems zum Ätzen eines
kontinuierlichen dünnen
Stahlblechs mit einer Dicke im Bereich von 20 bis 80 μm zur Bildung
von Abdeckmasken für CRT's für Farbfernsehgeräte ähnlich.
Das Ätzverfahren
kann mit einem vorhandenen Abdeckmaskenbildungssystem durchgeführt werden,
und eine Reihe von Schritten, ausgehend von einem Maskierungsschritt
bis zu einem Ätzverfahren,
kann sehr effektiv kontinuierlich durchgeführt werden. Die laminierte Struktur
wird mit Wasser gewaschen; der Photolackfilm wird mit einer Alkalilösung entfernt;
die laminierte Struktur wird erneut gewaschen, und dann wird die laminierte
Struktur getrocknet.
-
Netzförmige Struktur
-
Die
netzförmige
Struktur 103 weist die Linien 107 auf, welche
die Öffnungen 105 definieren.
Bezüglich
der Form der Öffnungen 105 gibt
es keine speziellen Beschränkungen.
Die Öffnungen 105 können eine
dreieckige Form, wie z.B. die Form eines gleichseitigen Dreiecks
oder eines gleichschenkligen Dreiecks, eine viereckige Form, wie
z.B. die Form eines Quadrats, eines Rechtecks, einer Raute oder
eines Trapezes, eine polygonale Form, wie z.B. die Form eines Fünfecks,
eines Sechsecks oder eines Achtecks, eine runde Form oder eine elliptische
Form aufweisen. Die Öffnungen 105 bilden
ein Netz.
-
Eine
Musterplatte wird im Hinblick auf die Erfüllung von Anforderungen bezüglich des
Verhältnisses
des offenen Bereichs, der Unsichtbarkeit des Netzes und der Sichtbarkeit
von Bildern derart netzförmig
in einem Muster ausgebildet, dass die Breite W (2)
von Teilen des Musters, die den geraden Teilen der Linien 107 der
netzförmigen
Struktur 103 entsprechen, innerhalb von C (1 ± 30%)
liegt, wobei C ein vorgegebener Wert ist. Vorzugsweise liegt die Breite
W innerhalb von C (1 ± 20%),
mehr bevorzugt innerhalb von C (1 ± 10%). Die Bedingungen für das Ätzverfahren
werden so gesteuert, dass die netzförmige Struktur 103 mit
den Linien 107 mit Breiten innerhalb des Bereichs von C
(1 ± 30%)
gebildet wird. Gemäß der 7 liegt
der Radius r der Krümmung einer
Seitenfläche,
die sich zwischen der oberen Seite 107U und der unteren
Seite 107B eines Schnitts der Linien 107 in einer
Ebene senkrecht zu der transparenten Basis erstreckt, im Bereich
des 1,5- bis 3,0-fachen
der Dicke t der Metallschicht (1,5 t ≤ r ≤ 3,0 t). Vorzugsweise liegt die
Breite W der Linien 107 der netzförmigen Struktur 103 zwischen
5 und 25 μm und
die Abstände
zwischen den Linien 107 zwischen 150 und 500 μm.
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Im
Allgemeinen weist ein Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung
für einen
großen
Plasmabildschirm tausende von sich schneidenden geraden Linien auf.
Die Linien 107 werden derart ausgebildet, dass deren Breiten
innerhalb eines gewünschten Breitenbereichs
verteilt sind, und der Radius der Seitenfläche einer Erhebung, die sich
zwischen der oberen und der unteren Seite eines Schnitts der Linien 107 erstreckt,
wird eingestellt. Das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung 1,
das diese Bedingungen erfüllt,
weist ein elektromagnetisches Abschirmungsvermögen, eine geeignete Transparenz,
einheitlich angeordnete Maschen, wenige schwarze und weiße Punktfehler
und lineare Fehler, eine Oberfläche,
die nicht blendet, oder welche die Reflexion von externem Licht
unterdrückt,
auf, und ermöglicht
das Betrachten von Bildern mit einer hervorragenden Sichtbarkeit.
-
Der
Bereich der Verteilung der Breiten der Linien 107, die
z.B. eine Nennlinienbreite von 14 μm aufweisen, beträgt 14 ± 4,2 μm, d.h. zwischen
9,8 und 18,2 μm.
Wenn die Breiten der Linien 107 innerhalb dieses Bereichs
liegen, bilden die Linien 107 keine Maschen mit einer unregelmäßigen Dichte
und keine unerwünschten
schwarzen und/oder weißen Punktfehler
und lineare Fehler. Wenn die Breiten der Linien 107 in
einem übermäßig großen Breitenbereich
verteilt sind, werden die Maschen in einer unregelmäßigen Maschendichte
gebildet. Teile des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung,
bei denen die Linien 107 eine übermäßig große Breite aufweisen, bilden
unerwünschte
schwarze Punktfehler, und Teile des Blatts zur elektromagnetischen
Abschirmung, bei denen die Linien 107 eine übermäßig geringe
Breite aufweisen, bilden unerwünschte
weiße
Punktfehler. Weiße
und/oder schwarze Punktfehler führen
beim Betrachter zu einem sehr starken Eindruck einer Fehlerhaftigkeit.
-
Die
laminierte Struktur 103 des erfindungsgemäßen Blatts
zur elektromagnetischen Abschirmung 1 wird durch ein kontinuierliches
photolithographisches Verfahren ausgebildet und weist Linien mit Breiten
innerhalb des vorgegebenen Breitenbereichs auf. Daher werden die
Maschen der netzförmigen Struktur 103 nicht
mit einer unregelmäßigen Maschendichte
ausgebildet, und das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung 1 weist
ein zufriedenstellendes elektromagnetisches Abschirmungsvermögen und
eine geeignete Transparenz auf. Die unregelmäßige Maschendichte, die schwarzen
und/oder weißen
Punktfehler und die linearen Fehler werden gebildet, wenn ein Sprühnebel des
Photolacks an Teilen haftet, die von Teilen verschieden sind, die
mit dem Photolack beschichtet werden sollen. Solche Probleme treten
bei dem kontinuierlichen Photolithographieverfahren kaum auf.
-
Ein
peripherer Teil, der an den Umfang der netzförmigen Struktur 103 angrenzt,
kann von dem Teil ausgeschlossen werden, für den die Breite W der Linien 107 eingestellt
wird. D.h., der Erdungsrahmen 101, der aus der Metallschicht 21 ausgebildet
ist und die netzförmige
Struktur 103 umgibt, weist keine Linien 107 auf,
und in manchen Fällen
sind die Endteile der Linien 107 in dem peripheren Teil
in Richtung des Erdungsrahmens 101 verbreitert. Die Breite
des peripheren Teils der netzförmigen
Struktur 103 entspricht zwischen 1 und 50 Maschen oder
liegt zwischen 0,15 und 15 mm und entspricht vorzugsweise zwischen
1 und 25 Maschen oder liegt zwischen 0,3 und 7,5 mm.
-
Ein
geeigneter Photolack wird ausgewählt, und
die Bedingungen des Ätzverfahrens
werden so eingestellt, dass die Linien 107 derart ausgebildet werden,
dass der Radius r der Krümmung
einer Seitenfläche 107S,
die sich zwischen der oberen Seite 107U und der unteren
Seite 107B einer Erhebung in einem Schnitt der Linien 107 in
einer Ebene senkrecht zu der transparenten Basis erstreckt, im Bereich
des 1,5- bis 3,0-fachen der Dicke der Metallschicht liegt, und dass
die Breite W der Linien 107 innerhalb von C (1 ± 30%)
liegt, wobei C ein vorgegebener Wert ist. Beispielsweise ist es
bevorzugt, dass ein trockener Photolack oder ein flüssiger Photolack verwendet
wird, dass ein Ätzmittel
mit einem Baumé-Grad von 35° oder mehr
verwendet wird, dass als Ätzmittel
eine Eisen(III)-chlorid-Lösung
oder eine Kupfer(II)-chlorid-Lösung,
die auf 35°C
oder mehr erwärmt
worden ist, verwendet wird, dass das Ätzmittel mit einer Sprühgeschwindigkeit
von 2000 ml/min oder mehr versprüht
wird und dass eine Sprühdüse in einer
vertikalen oder horizontalen Ebene hin- und herbewegt wird.
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Der
Krümmungsradius
und die Linienbreite der Linien können einfach durch Ausbilden
der Linien des Musters mit einer Genauigkeit von ± 30% oder höher, Ausbilden
der Linien des Musters in einer Breite von mehr als der Linienbreite
der Linien 107 zur Erhöhung
der Menge der zu ätzenden
Teile und Ätzen der
laminierten Struktur 109 mit einer niedrigen Ätzgeschwindigkeit
eingestellt werden.
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Der
Krümmungsradius
einer Seitenfläche, die
sich zwischen der oberen und der unteren Seite einer Erhebung erstreckt,
wird aus den Längen
der Seiten einer Elektronenmikrographie der Linie 107 in einem
Prüfkörper, der
durch Schneiden des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung in
einer Ebene senkrecht zur transparenten Basis mit einem Mikrotom
zu einer Scheibe und Beschichten der Scheibe mit einer Platin-Palladium-Legierung durch Sputtern erhalten
worden ist, bei 2000-facher Vergrößerung abgeschätzt. Der
Schnitt der Erhebungen, die durch das Ätzen gebildet worden sind,
weist nicht notwendigerweise eine richtige Kreisform auf. Die Linie,
welche die Seitenfläche
der Erhebung darstellt, kann eine Linie sein, die dem Umfang einer
im Wesentlichen kreisförmigen
Form oder einer geneigten Seite eines Trapezes ähnlich ist.
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Es
ist bevorzugt, dass der Krümmungsradius einer
Kurve, die sich zwischen den jeweiligen rechten Enden der oberen
und der unteren Seite erstreckt, oder einer Kurve, die sich zwischen
den jeweiligen linken Enden der oberen und der unteren Seite erstreckt,
zwischen dem 1,5- und dem 3,0-fachen der Dicke der Metallschicht
liegt. Der Krümmungsradius muss
nicht notwendigerweise feststehend sein und kann variiert werden,
mit der Maßgabe,
dass der Krümmungsradius
im Bereich des 1,5- bis 3,0-fachen der Dicke der Metallschicht liegt.
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Obwohl
die in der 1 gezeigten Linien geneigte
Linien sind, die zur unteren Seite des Blatts zur elektromagnetischen
Abschirmung um 45° geneigt
sind, ist der Winkel der Linien, bezogen auf die untere Seite, nicht
darauf beschränkt
und kann unter Berücksichtigung
der Lichtemissionseigenschaften der dazugehörigen Anzeige und der Anordnung
der Pixel zur Verhinderung eines Moirés selektiv festgelegt werden.
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Einebnung
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Die
Linien 107 der netzförmigen
Struktur weisen eine Höhe
auf, die der Dicke der Metallschicht 21 entspricht, und
Teile der Metallschicht 21 werden entfernt, um die Öffnungen 105 zu
bilden. Die Öffnungen 105 sind
Vertiefungen, die von den Linien 107 umgeben sind. Folglich
weist die leitfähige
Struktur 109 eine unregelmäßige Oberfläche auf. Wenn ein Haftmittel
(oder ein druckempfindliches Haftmittel) auf die unregelmäßige Oberfläche der
leitfähigen
Struktur 109 durch das nachfolgende Verfahren aufgebracht wird,
werden die Öffnungen 105 mit
dem Haftmittel aufgefüllt.
Es kommt häufig
vor, dass Luft, welche die Öffnungen 105 füllt, nicht
vollständig
durch das Haftmittel ersetzt wird und in dem Haftmittel, das die Öffnungen 105 füllt, Blasen
gebildet werden. Die Grenzflächen
zwischen den Blasen und dem Haftmittel streuen Licht, so dass die
Trübung
(oder Schleierbildung) zunimmt.
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Daher
ist es bevorzugt, die Oberfläche
der leitfähigen
Struktur 109 durch Auffüllen
der Vertiefungen mit einem transparenten Harz einzuebnen, um ein
solches Problem zu vermeiden.
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Die
Vertiefungen werden zum Einebnen mit einem transparenten Harz gefüllt. In
dem transparenten Harz sind Blasen enthalten, so dass die Transparenz
vermindert wird, bis die Vertiefungen vollständig mit dem transparenten
Harz gefüllt
sind. Daher wird ein transparentes Harz, das mit einem Lösungsmittel verdünnt ist
und eine niedrige Viskosität
aufweist, auf die Oberfläche
der leitfähigen
Struktur 109 als Harzfilm aufgebracht, und der Harzfilm
wird getrocknet, um die Einebnungsschicht 29 zu bilden,
oder das Harz wird auf die Oberfläche der leitfähigen Struktur 109 aufgebracht,
und das Harz wird entgast, um die Einebnungsschicht zu bilden.
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Die
Einebnungsschicht 29 kann aus einem beliebigen geeigneten
Harz gebildet werden, mit der Maßgabe, dass das Harz eine hohe
Transparenz und ein ausreichendes Haftvermögen an dem Metall, das die
netzförmige
Struktur bildet, und an einem Haftmittel aufweist, das in dem nachfolgenden
Verfahren verwendet wird. Wenn in der Oberfläche der Einebnungsschicht 29 Vorwölbungen
oder Vertiefungen gebildet werden und die Oberfläche der Einebnungsschicht wellig
ist, werden ein Moiré,
Interferenzfarbsäume
und/oder Newton'sche
Ringe gebildet, wenn das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung
vor einer Anzeige angeordnet wird. Es ist bevorzugt, ein hitzehärtendes
oder UV-härtbares
Harz, das mit einem Lösungsmittel
verdünnt
worden ist und eine niedrige Viskosität aufweist, auf die leitfähige Struktur 109 aufzubringen,
so dass die Vertiefungen, welche die Öffnungen 105 bilden,
vollständig
gefüllt
werden und eine Harzschicht gebildet wird, das Lösungsmittel von der Harzschicht
durch Trocknen zu entfernen, ein flaches Trennblatt auf die Oberfläche der
Harzschicht aufzubringen, die Harzschicht durch Erhitzen oder Bestrahlen
mit UV-Strahlung zu härten,
und das Trennblatt von der gehärteten
Harzschicht zu entfernen. Die ebene Oberfläche des Trennblatts wird auf die
Einebnungsschicht 29 zur Bildung einer ebenen Oberfläche übertragen.
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Die
Einebnungsschicht 29 kann aus einem beliebigen geeigneten
Harz ausgebildet sein, wie z.B. einem natürlichen Harz, einem synthetischen Harz,
einem hitzehärtenden
Harz oder einem mit ionisierender Strahlung härtbaren Harz. Im Hinblick auf die
Dauerbeständigkeit,
das Aufbringungsvermögen und
die Einebnungseigenschaften sind geeignete Materialien zur Bildung
der Einebnungsschicht 29 UV-härtbare Acrylharze.
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Nahinfrarotabsorptionsschicht
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Das
Harz, das die Einebnungsschicht 29 bildet, kann ein Nahinfrarotabsorptionsmittel
enthalten, das Nahinfrarotstrahlung in einem spezifischen Wellenband
absorbieren kann. Ein unangenehmer Eindruck, der durch die angezeigten
Bilder verursacht wird, wird unterdrückt, und die Sichtbarkeit angezeigter
Bilder wird durch die Absorption sichtbarer Strahlung und/oder von
Infrarotstrahlung in einem spezifischen Wellenband unterdrückt. Das
spezifische Wellenband der Wellenlängen von Nahinfrarotstrahlung liegt
zwischen etwa 780 und etwa 1200 nm, insbesondere zwischen 800 und
1100 nm. Es ist bevorzugt, 80% oder mehr der Nahinfrarotstrahlung
mit Wellenlängen
in einem Wellenband von 800 bis 1000 nm zu absorbieren. Obwohl jegliches
geeignete Nahinfrarotabsorptionsmittel verwendet werden kann, ist
ein geeignetes Nahinfrarotabsorptionsmittel, z.B. ein Farbgebungsmaterial
mit elektromagnetischen Peakabsorptionswellenlängen im Nahinfrarotwellenband,
mit einer hohen Lichtdurchlässigkeit
im sichtbaren Bereich und ohne spezifische elektromagnetische Peakabsorptionswellenlänge im sichtbaren
Bereich. Gewöhnlich
enthält
sichtbares Licht, das von einem PDP emittiert wird, eine große Menge
an orangem Licht mit einem Spektrum, das dem Emissionsspektrum von
Neonatomen entspricht. Daher ist es bevorzugt, dass die Einebnungsschicht 29 ein
farbtonkorrigierendes Lichtabsorptionsmittel enthält, das einen
Teil des sichtbaren Lichts mit Wellenlängen im Bereich von etwa 570
bis etwa 605 nm absorbiert. Farbgebungsmaterialien, die diese Anforderung
erfüllen,
umfassen Cyaninverbindungen, Phthalocyaninverbindungen, Naphthalocyaninverbindungen, Naphthochinonverbindungen,
Anthrachinonverbindungen, Dithiolkomplexe, Ammoniumverbindungen und
Diammoniumverbindungen. Geeignete farbtonkorrigierende Lichtabsorptionsmittel
sind Azoverbindungen und Phthalocyaninverbindungen. Obwohl die Einebnungsschicht 29 in
dieser Ausführungsform das
Nahinfrarotabsorptionsmittel enthält, kann auf mindestens einer
der Oberflächen
der leitfähigen Struktur 109 eine
Nahinfrarot-absorbierende Schicht, die ein Nahinfrarotabsorptionsmittel
enthält,
ausgebildet sein.
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Nahinfrarot-absorbierende
Schicht
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Nahinfrarot-absorbierende
Schichten werden auf den Oberflächen
der Einebnungsschicht 29 und der Basis 11 ausgebildet,
oder eine Nahinfrarot-absorbierende
Schicht wird auf der Oberfläche der
Einebnungsschicht 29 oder der Basis 11 ausgebildet.
Eine Nahinfrarot-absorbierende Schicht 31A ist gemäß der 1 auf
der Basis 11 ausgebildet. Eine Nahinfrarot-absorbierende
Schicht 31B ist gemäß der 1 auf
der Oberfläche
der Einebnungsschicht 29 ausgebildet. Die Nahinfrarot-absorbierenden
Schichten 31A und 31B können käufliche Nahinfrarot-absorbierende
Filme sein, wie z.B. Film Nr. 2832, der von Toyobo erhältlich ist,
die mit einem Haftmittel an die Basis 11 und die Abflachungsschicht 29 gebunden
sind, oder es kann sich um Filme aus einem Bindemittel handeln,
welches das vorstehend genannte Nahinfrarot-absorbierende Mittel
enthält.
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Geeignete
Bindemittel umfassen Polyesterharze, Polyurethanharze, Acrylharze
und hitzehärtende
oder UV-härtbare
Harze, welche die Reaktion von Epoxygruppen, Acrylatgruppen, Methacrylatgruppen
oder Isocyanatgruppen nutzen.
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Antireflexionsschicht
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Eine
Antireflexionsschicht, die nicht gezeigt ist, kann auf einer Oberfläche der
Betrachtungsseite des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung ausgebildet
sein. Die Antireflexionsschicht verhindert die Reflexion von sichtbarem
Licht. Es gibt verschiedene käufliche
Einzelschicht- und Mehrschicht-Antireflexionsfilme. Ein Mehrschicht-Antireflexionsfllm besteht
aus abwechselnden Schichten mit hoher Beugung und niedriger Beugung.
Geeignete Schichten mit hoher Beugung sind solche aus Nioboxid,
Titanoxid, Zirkoniumoxid und ITO. Geeignete Schichten mit niedriger
Beugung sind solche aus Siliziumoxid, Magnesiumfluorid und dergleichen.
Einige Antireflexionsfilme weisen eine Schicht mit einer fein aufgerauhten
Oberfläche
auf, die externes Licht in einem diffusen Reflexionsmodus reflektiert.
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Hartbeschichtungsschicht,
schmutzabweisende Schicht, Antiblendschicht
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Eine
Hartbeschichtungschicht, eine schmutzabweisende Schicht und eine
Antiblendschicht können
auf der Antireflexionsschicht ausgebildet sein. Die Hartbeschichtungsschicht
weist eine Härte
von nicht weniger als eine Härte
H auf, die mittels eines Bleistifthärtetests gemäß JIS K
5400 bestimmt wird. Die Hartbeschichtungsschicht wird dadurch gebildet,
dass ein Film aus einem polyfunktionellen Acrylatharz, wie z.B.
einem Polyester(meth)acrylatharz, einem Urethan(meth)acrylatharz
oder einem Epoxy(meth)acrylatharz erhitzt oder mit ionisierender
Strahlung bestrahlt wird. Die schmutzabweisende Schicht ist eine
wasserabweisende und ölabweisende
Beschichtung aus einer Siloxanverbindung oder einer fluorierten
Alkylsilylverbindung. Die Antiblendschicht weist eine fein aufgerauhte
Oberfläche
auf, die externes Licht in einem diffusen Reflexionsmodus reflektieren
kann.
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Schneiden
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Ein
kontinuierliches Basisblatt, auf dem die Strukturen zur elektromagnetischen
Abschirmung ausgebildet sind, wird von einer Rolle abgewickelt, und
das kontinuierliche Basisblatt wird geschnitten, um einzelne Blätter zur
elektromagnetischen Abschirmung 1 bereitzustellen. Eine
Frontplatte für
eine Anzeige wird durch Aufbringen des Blatts zur elektromagnetischen
Abschirmung 1 auf ein transparentes Substrat, wie z.B.
ein Glassubstrat, gebildet. Gegebenenfalls werden eine Antireflexionsschicht,
eine Hartbeschichtungschicht, eine schmutzabweisende Schicht und/oder
eine Antiblendschicht auf das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung 1 laminiert, um
eine Frontplatte für
eine Anzeige zu bilden. Zur Bildung einer Frontplatte für eine große Anzeige
wird ein starres transparentes Substrat mit einer Dicke im Bereich
von 1 bis 10 mm verwendet. Zur Bildung einer Frontplatte für eine kleine
Anzeige, wie z.B. einer Buchstabenanzeige oder dergleichen, wird
ein Kunststofffilm mit einer Dicke im Bereich von 0,01 bis 0,5 mm
als transparentes Substrat verwendet. Folglich wird ein geeignetes
transparentes Substrat selektiv gemäß der Größe und der Anwendung der Anzeige
verwendet. Das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung 1 kann
direkt auf den Schirm einer Anzeige aufgebracht werden.
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Die 6 ist
eine Schnittansicht eines Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung
einer anderen erfindungsgemäßen Ausführungsform,
die einem Schnitt bei der Linie A-A in der 2 entspricht.
Dieses Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung soll auf den Schirm
einer Anzeige aufgebracht werden.
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Direktes Aufbringen
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Das
Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung 1 wird auf den
Schirm einer Anzeige aufgebracht, wobei die netzförmige Metallschicht 21 auf die
Betrachtungsseite gerichtet ist, und wobei mindestens eine geschwärzte Schicht
und eine Rostschutzschicht auf der Metallschicht 21 ausgebildet sind.
Wenn das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung 1 so
auf der Anzeige aufgebracht worden ist, liegt der Erdungsrahmen 101 frei
und kann einfach mit einer Erdung verbunden werden. Da der Erdungsrahmen 101 durch
das Schwärzungsverfahren verarbeitet
worden ist und auf die Betrachtungsseite gerichtet ist, erfordert
die Frontglasplatte keinen aufgedruckten schwarzen Rahmen, was das
Verfahren vereinfacht und einen vorteilhaften Effekt bezüglich einer
Kostenreduzierung hat.
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Beispiel 1
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Eine
leitfähige
Struktur wurde dadurch gebildet, dass eine 10 μm dicke Elektrolytkupferfolie
in dieser Reihenfolge einem Schwärzungsverfahren, das
eine geschwärzte
Schicht bildet, die aus Cu-Co-Legierungsteilchen mit einer durchschnittlichen
Teilchengröße von 0,3 μm besteht,
sowie einer Chromatierungsbehandlung, die eine chromatierte Schicht
bildet, unterworfen wurde. Ein 100 μm dicker, transparenter biaxial
orientierter PET-Film A4300® (Toyobo) als Basis wurde
auf die geschwärzte Schicht
der Cu-Folie mit einem Zweikomponenten-Polyurethanhaftmittel laminiert.
Eine durch Laminieren des PET-Films und der Cu-Folie gebildete Struktur
wurde vier Tage bei 56°C
altern gelassen. Das Zweikomponenten-Haftmittel umfasst TAKERAKKU
A-310® (Polyol)(Takeda
Yakuhin Kogyo) als Haftmittelharz und Härtungsmittel A-10® (Isocyanat)(Takeda
Yakuhin Kogyo) als Härtungsmittel.
Das Zweikomponentenhaftmittel wurde in einem trockenen Zustand als
7 μm dicker
Film ausgebreitet.
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Die
als kontinuierlicher laminierter Film gebildete Struktur wurde maskiert
und durch ein photolithographisches Verfahren geätzt. Das photolithographische
Verfahren wurde mit einer Abdeckmaskenherstellungsanlage zur Herstellung
von Abdeckmasken für
Farbfernsehgeräte
durchgeführt.
Ein Photolackfilm aus Casein wurde über der gesamten Oberfläche der
leitfähigen
Struktur des laminierten Films mit einem Flutbeschichtungsverfahren
gebildet. Der laminierte Film wurde zum nächsten Bereich transportiert.
Die laminierte Struktur wurde Licht, das von einer Quecksilberdampflampe
emittiert wurde, durch eine Photomaske mit einem Muster zur Bildung
von 22 ± 1 μm breiten
Linien, die quadratische Öffnungen definierten,
in Abständen
von 300 μm
angeordnet und mit 49° geneigt
waren, und von 5 mm breiten Erdungsteilen ausgesetzt. Die laminierte
Struktur wurde in den nachfolgenden Stationen zur Entwicklung, Härtung und
zum Einbrennen bei 80°C
verarbeitet.
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Anschließend wurden
Teile der Cu-Folie und diejenigen Teile der geschwärzten Schicht,
die den Öffnungen
entsprachen, durch ein Sprühätzverfahren,
das einen Seitenätzeffekt
aufwies, unter Verwendung einer auf 40°C erwärmten Eisen(III)-chlorid-Lösung, die
einen Baumé-Grad
von 40° aufwies,
als Ätzmittel
entfernt. Der laminierte Film wurde durch die nachfolgenden Verfahren
an den nachfolgenden Stationen zum Waschen, zur Entfernung des Photolackfilms,
zum Spülen
und zum Trocknen bei 80°C verarbeitet,
um die Blätter
zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 zu vervollständigen.
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Beispiel 2
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Blätter zur
elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 2 wurden mit dem gleichen
Verfahren wie demjenigen zur Bildung der Blätter zur elektromagnetischen
Abschirmung des Beispiels 1 gebildet; jedoch wurde in dem Verfahren
eine Eisen(III)-chlorid-Lösung
mit einem Baumé-Grad
von 35° als Ätzmittel
verwendet.
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Vergleichsbeispiel 1
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Blätter zur
elektromagnetischen Abschirmung des Vergleichsbeispiels 1 wurden
mit dem gleichen Verfahren wie demjenigen zur Bildung der Blätter zur
elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 gebildet; jedoch
wurde in dem Verfahren eine trockene Photolackfolie verwendet, und
die Teile der Cu-Folie und die Teile der geschwärzten Schicht, die den Öffnungen
entsprachen, wurden mit einem Fließätzverfahren unter Verwendung
einer Eisen(III)-chlorid-Lösung
mit einem Baumé-Grad
von 20° als Ätzmittel
geätzt.
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Beispiel 3
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Blätter zur
elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 3 wurden durch die
Schritte des Beschichtens der Oberflächen der netzförmigen Strukturen
der Blätter
zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 mit einem Film
einer Einebnungszusammensetzung, des Laminierens mit 50 μm dickem
SP-PET20-BU® (Tosero),
d.h. einem PET-Film mit einer Oberfläche mit einer Trenneigenschaft,
auf die Oberfläche
des Films der Einebnungszusammensetzung, des Aussetzens der so beschichteten
Blätter
zur elektromagnetischen Abschirmung einer Strahlung mit einer Intensität von 200 mJ/cm2 (bei 365 nm), die von einer Hochdruckquecksilberdampflampe
emittiert wird, und des Entfernens des SP-PET20-BU hergestellt.
Die Blätter
zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 3 wiesen eine
Einebnungsschicht aus der Einebnungszusammensetzung auf, welche
die Öffnungen
der netzförmigen
Strukturen füllte.
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Die
Einebnungszusammensetzung wurde durch Mischen von 20 Massenteilen
N-Vinyl-2-pyrrolidon,
25 Massenteilen Dicyclopentenylacrylat, 52 Massenteilen Oligoesteracrylat
(M-8060®, Toa
Gosei) und 3 Massenteilen 1-Hydroxycyclohexylphenylketon (IRGACURE
184, Ciba-Geigy) hergestellt.
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Beispiel 4
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Die
Blätter
zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 4 waren mit denjenigen
des Beispiels 2 identisch; jedoch wiesen die Blätter zur elektromagnetischen
Abschirmung des Beispiels 4 eine Einebnungsschicht auf, die aus
einem Material gebildet wurde, das durch Zugeben von einem Massenteil eines
Thiol-Nickel-Komplexes, d.h. eines Nahinfrarotabsorptionsmittels,
hergestellt worden ist.
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Beispiel 5
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Die
Blätter
zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 5 waren mit denjenigen
des Beispiels 2 identisch; jedoch wurde der NIR-Film Nr. 2832® (Toyobo),
d.h. ein Nahinfrarot-absorbierender Film,
mit einem Haftmittel an die Einebnungsschicht laminiert.
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Beispiel 6 (Direktes Aufbringen)
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Die
Blätter
zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 6 waren mit denjenigen
des Beispiels 1 identisch; jedoch wurde ein PET-FiIm auf eine Oberfläche aufgebracht,
die nicht mit einer Chromatbehandlung zur Bildung einer Schicht
aus Cu-Co-Legierungsteilchen behandelt worden ist, und eine Einebnungsschicht
wurde mit dem gleichen Verfahren gebildet, wie demjenigen, das zur
Bildung der Einebnungsschicht der Blätter zur elektromagnetischen
Abschirmung des Beispiels 3 verwendet worden ist.
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Bewertung
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Die
Linienbreite, die jeweiligen Breiten der oberen und der unteren
Seite von zufällig
ausgewählten
100 Schnitten der Linien wurden durch Messen der entsprechenden
Abmessungen in Mikrographien der Schnitte der Linie 107 bei
einer 400-fachen Vergrößerung bestimmt.
Die Dichteverteilung der Maschen wurde durch visuelle Untersuchung
bewertet. Die Sichtbarkeit von Bildern wurde durch die visuelle Betrachtung
angezeigter Bilder durch das an dem Schirm des PDP's angebrachte Blatt
zur elektromagnetischen Abschirmung bewertet. Der Krümmungsradius
der Seitenfläche
wurde durch die Messung der entsprechenden Abmessung in einer Elektronenmikrographie
eines Prüfkörpers bei
einer 2000-fachen Vergrößerung bestimmt.
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Bewertungsergebnisse
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In
dem Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 lagen
die Linienbreiten der Linien im Bereich von 8 bis 12 μm, was innerhalb
von C (1 ± 20%)
lag; die Verteilung der Maschendichte war einheitlich; der Krümmungsradius
der Seitenfläche
der Erhebung betrug 30 μm
(das 3,0-fache der Dicke der leitfähigen Struktur); die durch
den PDP angezeigten Bilder blendeten nicht, und die Sichtbarkeit
der angezeigten Bilder war zufriedenstellend.
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In
dem Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 2 lagen
die Linienbreiten der Linien im Bereich von 7 bis 13 μm, was innerhalb
von C (1 ± 20%)
lag; die Verteilung der Maschendichte war einheitlich; der Krümmungsradius
der Seitenfläche
der Erhebung betrug 15 μm
(das 1,5-fache der Dicke der leitfähigen Struktur); die durch
den PDP angezeigten Bilder blendeten nicht, und die Sichtbarkeit
der angezeigten Bilder war zufriedenstellend.
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In
dem Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Vergleichsbeispiels
1 betrug der Krümmungsradius
der Seitenfläche
der Erhebung 10 μm
(das 1,0-fache der Dicke der leitfähigen Struktur); die durch
den PDP angezeigten Bilder blendeten; die Linienbreiten lagen im
Bereich von 9 bis 19 μm,
was außerhalb
des gewünschten
Bereichs von C (1 ± 30%)
lag, und die Verteilung der Maschendichte war uneinheitlich.
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Die
Blätter
zur elektromagnetischen Abschirmung der Beispiele 3 bis 5 wurden
an der Vorderfläche
des PDP's angebracht;
der PDP zeigte weiße und
schwarze Bilder an, und die weißen
und schwarzen Bilder wurden betrachtet. Die Oberfläche des PDP's blendete nicht;
weiße
und/oder schwarze Punktfehler und lineare Fehler wurden nicht festgestellt,
und die Sichtbarkeit war hervorragend.
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Wenn
das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 6 so
auf den PDP aufgebracht wurde, dass dessen Basis an die Oberfläche des
PDP's mit einem
Haftmittel gebunden wurde, wurde durch das von dem PDP erzeugte
Reflexionslicht nur wenig Streulicht erzeugt; der PDP blendete nicht,
und die Sichtbarkeit von Bildern, die durch den PDP angezeigt wurden,
war zufriedenstellend; der Aufwand für die Erdung der Elektrode
war vermindert, und das Glassubstrat erforderte keinen gedruckten
schwarzen Rahmen.
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Die
erfindungsgemäßen Blätter zur
elektromagnetischen Abschirmung werden vor Anzeigen angeordnet,
um die durch die Anzeigen erzeugte elektromagnetische Strahlung
abzuschirmen, wobei die unsichtbaren Linien der netzförmigen Struktur
sowohl ein elektromagnetisches Abschirmungsvermögen als auch eine hohe Transparenz
aufweisen. Da die Linienbreiten innerhalb des vorgegebenen Bereichs
liegen, ist die Verteilung der Maschendichte einheitlich. Da die
netzförmige
Struktur derart ausgebildet ist, dass das Verhältnis des Krümmungsradius der
Erhebung in dem Schnitt der Linie zur Dicke der netzförmigen Struktur
innerhalb des spezifizierten Bereichs liegt, verhindert das Blatt
zur elektromagnetischen Abschirmung ein Blenden durch den Schirm der
Anzeige und verbessert die Sichtbarkeit von Bildern.
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Zusammenfassung
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Ein
Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung, das die von einer Anzeige
erzeugte elektromagnetische Strahlung abschirmen kann, weist eine
geeignete Transparenz und einheitlich verteilte Maschen auf, verhindert
das Auftreten weißer
und/oder schwarzer Punktfehler und linearer Fehler und eines Blendens
und stellt die zufriedenstellende Sichtbarkeit der Bilder sicher.
Das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung weist eine leitfähige Struktur (109)
mit Linien (107) auf, die gerade Teile mit Breiten (W)
im Bereich von C (1 ± 30%)
umfassen, wobei C ein vorgegebener Wert ist. Der Krümmungsradius
(r) einer Seitenfläche
(107S), die sich zwischen der oberen Seite (107U)
und der unteren Seite (107B) einer Erhebung in einem Schnitt
der Linien (107) in einer Ebene senkrecht zu dem transparenten
Blatt erstreckt, erfüllt
eine Bedingung, die durch 1,5 t ≤ r ≤ 3,0 t dargestellt
wird, wobei t die Dicke der leitfähigen Struktur (109)
ist.
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