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Gebiet der
Erfindung
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Die
vorliegende Erfindung betrifft eine Abschirmfolie für elektromagnetische
Wellen und, genauer gesagt, ein Abschirmmaterial für elektromagnetische
Wellen (Abschirmvorrichtung für
elektromagnetische Wellen), das an der Vorderseite eines Displays,
wie CRT oder PDP, befestigt wird, um die von den Displays erzeugten
elektromagnetischen Wellen abzuschirmen.
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In
dieser Beschreibung sind „Display", „CRT" und „PDP" die Abkürzungen,
Funktionsausdrücke, üblichen
Bezeichnungen oder Ausdrücke
aus der Industrie für „Bildwiedergabevorrichtung", „Kathodenstrahlröhre (Braun'sche Röhre)" bzw. „Plasmabildschirm".
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Technischer
Hintergrund
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(Technischer Hintergrund)
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Die
elektromagnetische Störung
(EMI) hat mit leistungsfähigerer
elektrischer und elektronischer Ausrüstung und zunehmender Verwendung
solcher Ausrüstung
in den letzten Jahren zugenommen. Auch eine Vielzahl von Displays
ist die Ursache für EMI.
Beispielsweise ist ein PDP eine Baueinheit, aufgebaut aus einer
Glasplatte mit einer Datenelektrode und einer fluoreszierenden Schicht
und einer Glasplatte mit einer transparenten Elektrode, und erzeugt im
Betriebszustand enorm viele elektromagnetische Wellen, so daß diese
elektromagnetischen Wellen abgeschirmt werden müssen. Die erforderliche Abschirmeffizienz
für elektromagnetische
Wellen mit Frequenzen von 30 MHz bis 1 GHz, die von der Vorderseite
eines PDPs emittiert werden, beträgt 30 dB oder mehr. Das Rauschen
elektromagnetischer Wellen wird grob in Leitungsrauschen und Emissionsrauschen
unterteilt. Zur Verringerung des Leitungsrauschens wird üblicherweise
ein Rauschfilter oder dergleichen verwendet. Da zur Senkung des
Emissionsrauschens andererseits aber ein Raum elektromagnetisch
isoliert werden muß,
wird zwischen den Leiterplatten eine Metallplatte angeordnet oder
die Kabel werden in eine Metallfolie eingewickelt.
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Mit
diesen Maßnahmen
können
elektromagnetische Wellen effektiv von den Schaltkreisen oder Powerblocks
emittiert werden, jedoch die von Bildschirmen solcher Displays wie
CRTs oder PDPs emittierten elektromagnetischen Wellen nicht effektiv
verringert werden. Überdies
ist die Abdeckung der Bildschirme mit Metallplatten nicht geeignet,
da Metallplatten nicht transparent sind.
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Demgemäß sind zur
Abschirmung elektromagnetischer Wellen, emittiert von Bildschirmen,
viele Abschirmmaterialien für
elektromagnetische Wellen (Abschirmvorrichtungen für elektromagnetische Wellen)
vorgeschlagen worden, die elektromagnetische Wellen mit Frequenzen
im Bereich von Megahertz bis Gigahertz abschirmen können und
gleichzeitig für
elektromagnetische Wellen im Bereich von sichtbarem Licht transparent
sind. Solche Abschirmmaterialien für elektromagnetische Wellen
sind nunmehr im Handel erhältlich.
Von diesen Abschirmmaterialien für
elektromagnetische Wellen ist das üblichste ein Abschirmmaterial
für elektromagnetische Wellen,
aufgebaut aus einem transparenten Substrat aus einer Harzschicht
und einem Gitter (Netz oder Rost) aus einem metallischen elektrischen
Leiter, laminiert auf das transparente Substrat. In Abschirmmaterialien
für elektromagnetische
Wellen dieser Art wird seit kurzem ein Abschirmmaterial für elektromagnetische
Wellen mit der in 4 gezeigten Struktur gefordert,
in dem Unregelmäßigkeiten
in der Metallgitteroberfläche
geglättet
sind, indem ferner ein transparentes Harz auf das Metallgitter aufgebracht und
die Öffnungen
des Metallgitters mit dem Harz gefüllt werden.
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Die
derzeitigen Displays, insbesondere PDPs, sind durch Großbildschirme
gekennzeichnet. Die Größen (Außenmaße) von
Abschirmmaterialien für
elektromagnetische Wellen zur Verwendung als Frontplatten für solche
Displays betragen beispielsweise 621 × 831 mm für 37-Inch-Displays und 983 × 583 mm
für 42-Inch-Displays,
und es gibt Abschirmmaterialien für elektromagnetische Wellen,
die größer sind
als diese. Es ist festgestellt worden, daß im gesamten Verfahren von
der Herstellung einer Abschirmfolie für elektromagnetische Wellen,
umfassend ein Metallgitter und eine transparente Harzschicht auf
dem Metallgitter, bis zur Einführung
des Abschirmmaterials für
elektromagnetische Wellen in ein Display und auch bei einer langen
Laufzeit sich die transparente Harzschicht von dem Metallgitter abheben
oder von diesem abgetrennt werden kann, da die Abschirmfolie für elektromagnetische
Wellen so groß ist.
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Wie
in 4 gezeigt, bedeckt eine transparente Harzschicht 17 komplett
einen Gitterbereich 103, der einem Bildschirm 100 zugewandt
ist. Die Beschichtungsfläche
der transparenten Harzschicht 17 muß größer sein als die Fläche des
Gitterbereiches 103, so daß der Gitterbereich 103 komplett
mit der transparenten Harzschicht 17 bedeckt wird, auch wenn
die Auftragsstelle für
ein transparentes Harz schwankt (Positionsfehler verursacht werden).
Ferner fließt
das aufgetragene transparente Harz, bevor es fest wird, und breitet
sich zum Rand hin aus. In der Praxis wird die transparente Harzschicht
daher so geformt, daß sie
den gesamten Gitterbereich 103 und einen den Gitterbereich
umgebenden 2–3
mm großen
Bereich (Bereich B) einer Rahmenfläche (eine Metallschicht ohne Öffnungen) 101,
die zum Erden verwendet wird, bedeckt. In dem Gitterbereich 103 haften
die transparente Harzschicht 17 und das Metallgitter 103 ohne
weiteres fest aneinander, da zwischen der transparenten Harzschicht 17 und
dem Metallgitter 103 ein Ankereffekt auftritt und die transparente
Harzschicht 17 chemisch an eine Haftmittelschicht 13 haftet.
In der Rahmenfläche 101 kontaktiert
die transparente Harzschicht 17 jedoch nur die glatte Metallschicht,
so daß weder
der Ankereffekt noch die chemische Haftung an die Haftmittelschicht 13 zu
erwarten ist. Überdies
ist der Bereich B das Ende einer Grenzfläche zwischen der transparenten Harzschicht 17 und
der Abschirmschicht für
elektromagnetische Wellen (Metallschicht) 15, so daß sich in
diesem Bereich die Spannung konzentriert. Es ist daher anzunehmen,
daß in
diesem Bereich leicht eine Trennung der transparenten Harzschicht 17 von dem
Metallgitter 103 stattfinden wird.
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Demgemäß müssen neuerdings
Abschirmmaterialien für
elektromagnetische Wellen für
Displays, die Metallgitter nutzen, neben hervorragenden Abschirmeigenschaften
für elektromagnetische
Wellen und angemessener Transparenz (Durchlässigkeit für sichtbares Licht), auch die
Vorraussetzung erfüllen,
daß sich
die Teilschichten während
der Herstellung und des Betriebes nicht abheben oder abtrennen.
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(Stand der Technik)
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Bisher
war ein Abschirmmaterial für
elektromagnetische Wellen bekannt, das ein transparentes Kunststoffsubstrat
und einen Gitterbereich, gebildet auf dem transparenten Kunststoffsubstrat
unter Verwendung eines elektrisch leitfähigen Materials wie eines Metalls
umfaßt,
in welchem Unregelmäßigkeiten der
Gitteroberfläche
geglättet
wurden, indem der Gitterbereich teilweise oder ganz mit einer transparenten
Harzschicht bedeckt wurde (siehe beispielsweise Patentdokumente
1 und 2).
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Die
vorstehenden Erfindungen sind darauf gerichtet, die unregelmäßige Reflexion
von Licht, die durch Luftblasen verursacht wird, die zurückbleiben, nachdem
eine solche Schicht als ein Antireflexfilter mit einer Haftmittelschicht
auf die Gitteroberfläche
laminiert wurde, zu verhindern, indem die Öffnungen des Gitters zum Glätten der
Gitteroberfläche
mit dem transparenten Harz gefüllt
werden, und ebenso darauf, die Transparenz zu erhöhen, indem
die angerauhte Oberfläche
der Haftmittelschicht, die bei den Öffnungen freiliegt, geglättet wird.
In einem Ansatz zur Durchführung
dieser Erfindungen zur Herstellung des Abschirmmaterials für elektromagnetische
Wellen wurde jedoch ein anderes Problem festgestellt, das es zu
lösen galt.
Ein Abschirmmaterial für
elektromagnetische Wellen für
einen Bildschirm weist um einen Gitterbereich herum eine metallische
Rahmenfläche 101 zum
Erden ohne Öffnungen
auf. Es wird eine transparente Harzschicht 17, mit der
die gesamte Oberfläche
des Gitterbereiches 103 beschichtet sein sollte, auf einer
Fläche,
die größer ist
als der Gitterbereich 103, gebildet, um so sicher zu stellen,
daß der
Gitterbereich 103 vollständig mit der transparenten
Harzschicht 17 bedeckt ist, selbst wenn die Auftragstelle
für ein
transparentes Harz schwankt, und überdies fließt das transparente
Harz und breitet sich aus, so daß der Endbereich B der transparenten Harzschicht 17 in
die Rahmenfläche 101 führt. In
der Rahmenfläche 101 kontaktiert
die transparente Harzschicht 17 eine flache glatte Metalloberfläche, so
daß die
Haftung zwischen der transparenten Harzschicht 17 und der
Rahmenfläche 101 inhärent schwächer ist als
die Haftung zwischen der transparenten Harzschicht und dem Gitterbereich. Überdies
wirken externe Kräfte
auf den Endbereich B der transparenten Harzschicht ein, und dadurch
konzentriert sich in diesem Bereich die Ablösespannung. Das neue Problem
besteht darin, daß aus
dem vorstehend beschriebenen Grund im Endbereich B häufig eine Trennung
der transparenten Harzschicht 17 von der Rahmenfläche 101 auftritt.
Dieses Problem, das heißt,
das Abheben oder die Trennung von Teilschichten von einem Abschirmmaterial
für elektromagnetische
Wellen, und ein Mittel zur Lösung
des Problems wird von den vorstehend beschriebenen Patentdokumenten
weder beschrieben, noch wird darauf hingewiesen.
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- Patentdokument 1: Japanisches Patent Nr. 3570420.
- Patentdokument 2: Offengelegte japanische Patentveröffentlichung
Nr. 311843/2002.
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OFFENBARUNG
DER ERFINDUNG
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Die
vorliegende Erfindung wurde zur Lösung des vorstehend beschriebenen
Problems des Stands der Technik realisiert. Eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung
ist daher die Bereitstellung einer Abschirmvorrichtung für elektromagnetische
Wellen mit hervorragenden Abschirmeigenschaften für elektromagnetische
Wellen und angemessener Transparenz (Durchlässigkeit für sichtbares Licht), wobei
sich eine transparente Harzschicht während der Herstellung und im
Betrieb nicht von einer elektrisch leitfähigen Abschirmschicht für elektromagnetische
Wellen abhebt oder von dieser abgetrennt wird, indem ein Ankerbereich
der transparenten Harzschicht um einen Gitterbereich herum erzeugt
wird und eine transparente Harzschicht so gebildet wird, daß sie zumindest einen
Teil des Ankerbereiches der transparenten Harzschicht bedeckt.
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Die
vorliegende Erfindung ist eine Abschirmvorrichtung für elektromagnetische
Wellen, angrenzend an die Vorderfläche einer Bildwiedergabevorrichtung
angeordnet, umfassend: ein transparentes Substrat, eine Abschirmschicht
für elektromagnetische
Welten auf einer Oberfläche
des transparenten Substrats und gebildet aus einem elektrisch leitfähigen Material;
und eine transparente Harzschicht auf der Abschirmschicht für elektromagnetische
Wellen, wobei die Abschirmschicht für elektromagnetische Wellen
einen Gitterbereich, der einem Bildschirm der Bildwiedergabevorrichtung
entspricht, mit vielen Öffnungen,
einen Ankerbereich der transparenten Harz schicht um den Gitterbereich
mit vielen Öffnungen und
demselben Öffnungsverhältnis wie
dem der Öffnungen
in dem Gitterbereich, und einen flachen Rahmenbereich um den Ankerbereich
der transparenten Harzschicht und ohne Öffnungen umfaßt, und
wobei sich die transparente Harzschicht über die Oberfläche des
Gitterbereiches sowie über
die Oberfläche des
Ankerbereiches der transparenten Harzschicht erstreckt.
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Die
vorliegende Erfindung ist die Abschirmvorrichtung für elektromagnetische
Wellen nach Anspruch 1, wobei sich die transparente Harzschicht über die
gesamte Oberfläche
des Gitterbereiches sowie über
die gesamte Oberfläche
des Ankerbereiches der transparenten Harzschicht erstreckt und auch
einen inneren Endbereich des Rahmenbereiches bedeckt.
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Die
vorliegende Erfindung ist die Abschirmvorrichtung für elektromagnetische
Wellen nach Anspruch 1, wobei sich die transparente Harzschicht über die
gesamte Oberfläche
des Gitterbereiches sowie über
die gesamte Oberfläche
des Ankerbereiches der transparenten Harzschicht erstreckt und am äußeren Endbereich
des Ankerbereiches der transparenten Harzschicht endet.
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Die
vorliegende Erfindung ist die Abschirmvorrichtung für elektromagnetische
Wellen nach Anspruch 1, wobei die transparente Harzschicht die gesamte
Oberfläche
des Gitterbereiches und einen inneren Endbereich des Ankerbereiches
der transparenten Harzschicht bedeckt.
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Die
vorliegende Erfindung ist die Abschirmvorrichtung für elektromagnetische
Wellen nach Anspruch 4, wobei sich die transparente Harzschicht über die
gesamte Oberfläche
des Gitterbereiches bis zur Mitte des Ankerbereiches der transparenten Harzschicht
erstreckt, jedoch den äußeren Rand
des Ankerbereiches der transparenten Harzschicht nicht bedeckt.
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Die
vorliegende Erfindung ist die Abschirmvorrichtung für elektromagnetische
Wellen nach Anspruch 1, wobei eine Haftmittelschicht zwischen dem transparenten
Substrat und der Abschirmschicht für elektromagnetische Wellen
angeordnet ist.
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Die
vorliegende Erfindung liefert das Abschirmmaterial für elektromagnetische
Wellen mit hervorragenden Abschirmeigenschaften für elektromagnetische
Wellen und angemessener Transparenz (Durchlässigkeit für sichtbares Licht), wobei
sich die transparente Harzschicht während der Herstellung und im
Betrieb nicht von der Abschirmschicht für elektromagnetische Wellen
abhebt oder von dieser abgetrennt wird.
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Die
vorliegende Erfindung liefert das Abschirmmaterial für elektromagnetische
Wellen, das dahingehend vorteilhaft ist, daß eine kleine Menge eines Materials
zur Bildung der transparenten Harzschicht ausreicht, daß geringfügige Abweichungen der
Beschichtungsposition für
die transparente Harzschicht möglich
sind, daß sich
die Teilschichten während
der Herstellung und im Betrieb nicht abheben oder abgetrennt werden
und daß der
Gitterbereich, der einem Bildschirm zugewandt sein wird, keine Bereiche
aufweist, die nicht mit der transparenten Harzschicht bedeckt sind,
selbst wenn es Abweichungen hinsichtlich der Beschichtungsposition
für die
transparente Harzschicht gibt.
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Die
vorliegende Erfindung liefert das Abschirmmaterial für elektromagnetische
Wellen, in dem sich die Teilschichten mit größerer Sicherheit während der
Herstellung und im Betrieb nicht abheben oder abgetrennt werden,
da das transparente Substrat und die Abschirmschicht für elektromagnetische
Wellen, die mit der Haftmittelschicht laminiert worden sind, fest
aneinander haften, und außerdem die
Haftmittelschicht am unteren Ende der Gitteröffnungen freiliegt, so daß die Haftung
zwischen dem transparenten Substrat und der transparenten Harzschicht,
die die Öffnungen
füllt,
ebenfalls stark ist.
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KURZE BESCHREIBUNG DER
ZEICHNUNGEN
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1 ist
eine Draufsicht, die eine Abschirmvorrichtung für elektromagnetische Wellen
gemäß der vorliegenden
Erfindung zeigt.
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2(A) und 2(B) sind
eine vergrößerte Draufsicht
bzw. ein vergrößerter Querschnitt
von Teil A von 1.
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3(A), 3(B) und 3(C) sind Querschnitte wesentlicher Teile
der Abschirmvorrichtung für
elektromagnetische Wellen der vorliegenden Erfindung, die die Position
der Teilschichten veranschaulichen.
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4 ist
ein Querschnitt des wesentlichen Teils einer herkömmlichen
Abschirmvorrichtung für elektromagnetische
Wellen, der die übliche
Position einer transparenten Harzschicht veranschaulicht.
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BESTE WEISE ZUR DURCHFÜHRUNG DER
ERFINDUNG
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Nachstehend
werden Ausführungsformen der
vorliegenden Erfindung anhand der anhängenden Zeichnungen ausführlich beschrieben.
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1 ist
eine Draufsicht, die eine Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung zeigt.
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2(A) und 2(B) sind
eine vergrößerte Draufsicht
bzw. ein vergrößerter Querschnitt
von Teil A von 1.
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3(A), 3(B) und 3(C) sind Querschnitte wesentlicher Teile
der Abschirmvorrichtung für
elektromagnetische Wellen der vorliegenden Erfindung, die die Position
der Teilschichten veranschaulichen.
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(Abschirmmaterial für elektromagnetische
Wellen)
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Eine
Abschirmvorrichtung für
elektromagnetische Wellen (Abschirmmaterial für elektromagnetische Wellen)
gemäß der vorliegenden
Erfindung wird anhand 1, 2 und 3(A), 3(B) und 3(C) beschrieben.
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Wie
in 1 und 2(A) und 2(B) gezeigt, wird eine Abschirmvorrichtung
für elektromagnetische
Wellen (Abschirmmaterial für
elektromagnetische Wellen) 1 auf der Vorderfläche eines
Bildschirms 100, das heißt auf der Betrachterseite
eines Displays wie einer Anzeigetafel (eines PDP usw.), angeordnet.
Solch eine Abschirmvorrichtung für
elektromagnetische Wellen 1 umfaßt ein transparentes Substrat 11,
eine Abschirmschicht für
elektromagnetische Wellen 15, angeordnet auf einer Oberfläche des
transparenten Substrats 11 durch eine Haftmittelschicht 13 und
gebildet aus ei nem elektrisch leitfähigen Material, und eine transparente
Harzschicht 17, angeordnet auf der Abschirmschicht für elektromagnetische
Wellen 15.
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Von
diesen Teilschichten umfaßt
die Abschirmschicht für
elektromagnetische Wellen 15 einen Gitterbereich 103 mit
vielen Öffnungen 103a darin,
einen Ankerbereich der transparenten Harzschicht 105 um
den Gitterbereich 103 mit vielen Öffnungen 105a, wobei
das Öffnungsverhältnis dasselbe
ist wie das der Öffnungen 103a,
und einen flachen Rahmenbereich 107 um den Ankerbereich
der transparenten Harzschicht 105 und ohne Öffnungen.
Der Gitterbereich 103 wird so angeordnet, daß er dem Bildschirm 100 der
Bildwiedergabevorrichtung, wie eines PDP, zugewandt ist, und hat
im wesentlichen dieselbe Form wie der Bildschirm 100.
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Der
Ankerbereich der transparenten Harzschicht 105 und der
Rahmenbereich 107 bilden eine Rahmenfläche 101. Da sich die Öffnungen 105a in dem
Ankerbereich der transparenten Harzschicht 105 außerhalb
des Bildschirms 100 befinden, soll das gezeigte Bild durch
diese Öffnungen
nicht zu sehen sein. Daher sollen die Öffnungen 105a die
Abschirmschicht für
elektromagnetische Wellen 15 nicht völlig durchdringen, und die Öffnungen 105a können auch nicht
durchgängige Öffnungen
sein.
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Der
Gitterbereich 103 hat Linien bzw. Stränge 103b, die die Öffnungen 103a definieren,
der Ankerbereich der transparenten Harzschicht 105 hat Stränge 105b,
die die Öffnungen 105a definieren, und
das Muster der Öffnungen 103a und
das der Öffnungen 105 sind
in bezug auf die Größe und Form dieselben.
Das Öffnungsverhältnis der Öffnungen 103a in
dem Gitterbereich 103 stimmt daher mit dem Öffnungsverhältnis der Öffnungen 105a in
dem Ankerbereich der transparenten Harzschicht 105 überein.
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Der
Rahmenbereich 107 ist mit einem Erdungsdraht verbunden,
wenn das Abschirmmaterial für
elektromagnetische Wellen 1 angrenzend an den Bildschirm 100 der
Bildwiedergabevorrichtung bereitgestellt wird.
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Wie
ferner in 2(B) gezeigt, erstreckt
sich die transparente Harzschicht 17 über die gesamte Oberfläche des
Gitterbereiches 103 sowie über die gesamte Oberfläche des
Ankerbereiches der transparenten Harzschicht 105, während sie
die Öffnungen 103a, 105a füllt. In
dieser Ausführungsform
endet die transparente Harzschicht 17 an den äußeren Randbereich
des Ankerbereiches der transparenten Harzschicht 105.
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Die
transparente Harzschicht 17 kann sich bis zu einem mittleren
Bereich des Ankerbereiches der transparenten Harzschicht 105 erstrecken,
jedoch den äußeren Rand
des Ankerbereiches der transparenten Harzschicht 105 nicht
bedecken (3B)).
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Die
transparente Harzschicht 17 kann sich über die gesamte Oberfläche des
Ankerbereiches der transparenten Harzschicht 105 erstrecken
und den inneren Randbereich des Rahmenbereiches 107 ohne Öffnungen
bedecken (3(C)).
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Bevorzugt
endet die transparente Harzschicht 17 an der Außenseite
des Ankerbereiches der transparenten Harzschicht 105 und
erstreckt sich nicht über
den Rahmenbereich 107 (3(A)).
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Nachstehend
werden das Material und die Bildung jeder Teilschicht des Abschirmmaterials
für elektromagnetische
Wellen 1 der vorliegenden Erfindung beschrieben.
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(Transparentes Substrat)
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Für das transparente
Substrat 11 kann eine Vielzahl von Materialien verwendet
werden, solange diese Transparenz, Isoliereigenschaften, Wärmebeständigkeit,
mechanische Festigkeit und so weiter aufweisen, die hoch genug sind,
um Betriebs- und Herstellungsverhältnissen standzuhalten. Beispiele für Materialien,
die hier nützlich
sind, umfassen Glas und transparente Harze.
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(Glas)
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Glas,
das für
das transparente Substrat nützlich
ist, umfaßt
Quarzglas, Borsilikatglas und Sodakalkglas, und bevorzugt wird nicht-alkalisches
Glas verwendet, das keine Alkalikomponenten enthält und eine niedrige Wärmeausdehnungsrate,
gute dimensionale Stabilität
und hervorragende Arbeitseigenschaften bei der Hochtemperaturwärmebehandlung zeigt.
Ein Glassubstrat kann auch als ein Elektrodenhalter für die Bildwiedergabevorrichtung
dienen.
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(Transparente Harze)
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Beispiele
für transparente
Harze, die für
das transparente Substrat nützlich
sind, umfassen Polyesterharze wie Polyethylenterephthalat, Polybutylenterephthalat,
Polyethylennaphthalat, Terephthalsäure-Isophthalsäure-Ethylenglykol-Copolymere
und Terephthalsäure-Cyclohexandimethanol-Ethylenglykol-Copolymere;
Polyamidharze wie Nylon 6; Polyolefinharze wie Polypropylen und
Polymethylpenten; Acrylharze wie Polymethylmethacrylat; Styrolharze wie
Polystyrol und Styrolacrylnitril-Copolymere; Celluloseharze wie
Triacetylcellulose; Imidharze; und Polycarbonat. Als das transparente
Substrat kann eine Folie, ein Film, eine Platte oder dergleichen
aus irgendeinem dieser Harze verwendet werden.
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Das
transparente Substrat aus dem transparenten Harz kann aus einem
Copolymerharz oder einem Gemisch (einschließlich einer Polymerlegierung)
sein, das als eine Hauptkomponente irgendeines der vorstehend angegebenen
Harze enthält, oder
kann ein Laminat aus zwei oder mehr Schichten sein. Obgleich solch
ein transparentes Substrat entweder ein gestreckter oder nicht gestreckter
Film ist, wird bevorzugt ein monoaxial oder biaxial gestreckter Film
verwendet, um eine bessere Festigkeit zu erhalten. Die Dicke des
transparenten Substrats aus dem transparenten Harz beträgt für gewöhnlich etwa
12 bis 1000 μm,
bevorzugt liegt sie zwischen 50 μm
und 700 μm,
am stärksten
bevorzugt zwischen 100 μm und
500 μm.
Die bevorzugte Dicke des transparenten Substrats aus Glas beträgt für gewöhnlich etwa
1000 bis 5000 μm.
In beiden Fällen
kann ein transparentes Substrat mit einer geringen Dicke außerhalb
des vorstehenden Bereiches keine ausreichend hohe mechanische Festigkeit
haben, so das es sich kräuselt, wellig
wird oder zerbricht; während
ein transparentes Substrat mit einer großen Dicke über dem vorstehenden Bereich
eine zu hohe Festigkeit aufweist, was hinsichtlich der Kosten unwirtschaftlich
ist.
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Im
allgemeinen wird günstigerweise
ein Film aus einem Polyesterharz wie Polyethylenterephthalat oder
Polyethylennaphthalat oder eine Glasplatte als das transparente
Substrat verwendet, da sie sowohl hervorragende Transparenz als
auch Wärmebeständigkeit
aufweisen und überdies
kostengünstig
sind. Von diesen Materialien ist ein Polyethylenterephthalatfilm
am stärksten
bevorzugt, da er nur schwer bricht, leicht ist und leicht gebildet
werden kann.
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Ein
transparentes Substrat mit einer höheren Transparenz ist günstiger
und die bevorzugte Transparenz beträgt, wie mittels der Durchlässigkeit
für sichtbares
Licht angezeigt, 80 % oder mehr.
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Vor
der Auftragung eines Haftmittels kann die mit dem Haftmittel zu
beschichtende Oberfläche des
transparenten Substrats einer die Haftung verbessernden Behandlung
wie einer Koronaentladungsbehandlung, einer Plasmabehandlung, einer Ozonbehandlung,
Beflammung, einer Primerbeschichtungsbehandlung (auch als Verankerungsmittel-,
Haftbeschleunigungsmittel- oder Haftvermittlerbehandlung bezeichnet),
dem Vorwärmen,
einer Entstaubungsbehandlung, Aufdampfen oder einer Alkalibehandlung
unterzogen werden. Additive wie UV-Absorber, Füllstoffe, Weichmacher und Antistatikmittel
können
je nach Bedarf auch in den Harzfilm eingeführt werden.
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(Abschirmschicht für elektromagnetische
Wellen)
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Zur
Bildung der Abschirmschicht für
elektromagnetische Wellen 15 zur Abschirmung elektromagnetischer
Wellen kann irgendein Material mit elektrischer Leitfähigkeit,
die gut genug ist, um elektromagnetische Wellen abzuschirmen, verwendet
werden. Typischerweise sind Metalle mit einer elektrischen Leitfähigkeit,
die gut genug ist, um elektromagnetische Wellen zufriedenstellend
abzuschirmen, wie Gold, Silber, Kupfer, Eisen, Nickel, Chrom und
Aluminium, für
die Abschirmschicht für
elektromagnetische Wellen 15 nützlich. Die Abschirmschicht
für elektromagnetische
Wellen wird durch das Laminieren einer Metallfolie, vorgeformt als
eine unabhängige
Schicht, auf das transparente Substrat mit einer Haftmittelschicht,
oder durch die Abscheidung der Metallschicht direkt auf das transparente
Substrat durch Aufdampfen, Sputtern, Plattieren oder dergleichen gebildet.
Das Metall kann entweder ein einzelnes Metall oder eine Legierung
sein, und die Metallschicht kann nicht nur eine Schicht aus einem
einzelnen Metall, sondern auch eine Legierungsschicht oder ein mehrschichtiger
Film sein. Baustähle
wie unberuhigte Baustähle
und aluminiumberuhigte Baustähle, Ni-Fe-Legierungen
und Invarlegierungen sind hierin als Eisenmaterialien bevorzugt.
Bei der Durchführung
der Kataphorese wird bevorzugt Kupfer oder eine Kupferlegierung
verwendet, da ein solches Material leicht zu galvanisieren ist.
Sowohl gewalzte als auch Elektrolytkup ferfolie kann als der vorgeformte Kupferfilm,
das heißt
die Kupferfolie, verwendet werden, und Elektrolytkupferfolie ist
wegen ihrer einheitlichen Dicke, dem starken Haften an einer Schwarzschicht
und/oder Chromat(behandlungs)schicht bevorzugt und kann eine Dicke
von unter 10 μm
haben. Die Dicke der Metallfolie beträgt etwa 1 bis 100 μm und bevorzugt
5 bis 20 μm.
Wenn die Metallfolie eine Dicke von weniger als 1 μm aufweist,
obgleich es leicht ist, in der Metallfolie photolithographisch ein Gitter
zu erzeugen, hat die Metallfolie einen erhöhten elektrischen Widerstandswert
und zeigt somit eine beeinträchtigte
Abschirmwirkung gegenüber
elektromagnetischen Wellen. Wenn die Metallfolie eine große Dicke über dem
vorstehenden Bereich aufweist, ist es unmöglich, das gewünschte feine
Gitter zu erhalten. Demzufolge hat das Gitter ein verringertes Öffnungsverhältnis, eine
verringerte Lichtdurchlässigkeit
und einen engeren Sichtwinkel, was zu einer verringerten Bildsichtbarkeit
führt.
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Die
Oberflächenrauheit
der Metallfolie oder -schicht beträgt, wie durch den Rz-Wert angezeigt, bevorzugt
0,5 bis 10 μm.
Wenn die Metallfolie oder -schicht einen Rz-Wert von weniger als
0,5 μm aufweist,
reflektiert sie Störlicht
durch Spiegelreflexion, selbst wenn sie dem Schwärzen unterzogen worden ist,
was die Bildsichtbarkeit verringert. Ist der Rz-Wert der Metallfolie
oder -schicht größer als
10 μm, verteilt sich
ein Haftmittel oder Resist beim Auftragen nicht über der ganzen Oberfläche der
Metallfolie oder -schicht oder schließt unter Bildung von Luftblasen Luft
ein. Die Oberflächenrauheit
Rz ist hierin der Mittelwert aus 10 Messungen, erhalten gemäß JIS-B0601
(Ausgabe 1994).
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(Schwärzen und/oder Korrosionsschutzbehandlung)
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Zur
Verbesserung der Sichtbarkeit eines auf einem Display gezeigten
Bildes dadurch, daß das Abschirmmaterial
für elektromagnetische
Wellen 1 darauf einfallendes Störlicht absorbiert, kann zumindest
die Betrachterseite des elektrischen Leiters in Form eines Gitters
dem herkömmlichen
Schwärzen zur
Verbesserung des Kontrastes unterzogen werden. Zur Verleihung von
Korrosionsschutzeigenschaften und Verhinderung des Abfallens oder
der Verformung der Schwarzschicht, kann eine herkömmliche
Korrosionsschutzschicht auf dem elektrischen Leiter in Form eines
Gitters und/oder der Schwarzschichtoberfläche gebildet werden.
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(Schwärzen)
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Das
Schwärzen
kann durch das Aufrauhen und/oder Schwärzen der vorbestimmten Oberfläche der
Metallfolie oder -schicht und das Abscheiden eines einzelnen Metalls,
eines Metalloxids oder -sulfids oder einer Metallegierung durchgeführt werden,
oder es kann eine Vielzahl anderer Verfahren für diese Behandlung eingesetzt
werden. Wenn die Metallfolie oder -schicht aus Eisen ist, wird sie
für gewöhnlich bei
einer Temperatur von etwa 450 bis 470°C für 10 bis 20 Minuten mit Dampf
behandelt, wobei sich ein Oxidfilm (Schwarzfilm) mit einer Dicke
von ungefähr 1
bis 2 μm
bildet. Alternativ kann die Metallfolie oder -schicht aus Eisen
mit einer Chemikalie wie konzentrierter Salpetersäure behandelt
werden, um einen Film aus einem Oxid, Fe3O4, zu bilden (Schwarzfilm). Bei der Verwendung
von Kupferfolie als die Metallfolie wird bevorzugt die Kataphorese
durchgeführt,
bei der Kupferfolie in einem Elektrolyt wie Schwefelsäure, Kupfersulfat
oder Kobaltsulfat kathodisch elektrolysiert wird, wobei sich kationische
Teilchen auf der Kupferfolie absetzen. Die abgesetzten kationischen Teilchen
rauhen die Kupferfolie auf und machen Kupferfolie gleichzeitig schwarz.
Obgleich die kationischen Teilchen entweder Kupferteilchen oder
Teilchen einer Legierung aus Kupfer und einem anderen Metall sein
können,
sind hierin Kupfer-Kobalt-Legierungsteilchen bevorzugt.
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(Legierungsteilchen)
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Sowohl
Kupferteilchen als auch Teilchen von Legierungen aus Kupfer und
anderen Metallen können
als die oben beschriebenen kationischen Teilchen verwendet werden,
und von diesen sind Kupfer-Kobalt-Legierungsteilchen bevorzugt.
Bei der Abscheidung von Kupfer-Kobalt-Legierungsteilchen ist die
Metallfolie oder -schicht signifikant schwärzer und absorbiert sichtbares
Licht gut. Der Farbton der Abschirmschicht für elektromagnetische Wellen,
eine der optischen Eigenschaften, die zur Bewertung der Sichtbarkeit
der Abschirmschicht für
die elektromagnetischen Wellen nützlich
sind, wurde durch das kolorimetrische System „L*, a*, b* und ΔE*" gemäß JIS-Z8729
angezeigt. Wenn eine Abschirmschicht für elektromagnetische Wellen
einen niedrigeren L* (Helligkeit) und kleinere absolute Werte „a*" und „b*" (geringere Sättigung)
aufweist, ist die Abschirmschicht für elektromagnetische Wellen
weniger sichtbar und der Bildkontrast wird höher. Im Ergebnis kann eine
hohe Bildsichtbarkeit erhalten werden. Im Vergleich zu Kupferteilchen
können
Kupfer-Kobalt-Legierungsteilchen „a*" und „b*" fast auf Null bringen.
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Der
mittlere Teilchendurchmesser der Kupfer-Kobalt-Legierungsteilchen
beträgt
bevorzugt 0,1 bis 1 μm.
Wenn der mittlere Teilchendurchmesser der Kupfer-Kobalt-Legierungsteilchen
größer als
1 μm ist,
wird die elektrisch leitfähige
Schicht dünn
und ist nicht so gut verarbeitbar; beispielsweise zerbricht die Kupferfolie
bei ihrer Laminierung auf das Substrat 11. Überdies
erscheinen die agglomerierten Teilchen weniger dicht, und es wird
ein nicht einheitliches Aussehen erkennbar. Auf der anderen Seite
können
Kupfer-Kobalt-Legierungsteilchen mit einem mittleren Teilchendurchmesser
von weniger als 0,1 μm
die Metallfolie nicht vollständig
aufrauhen, was zu einer schlechteren Bildsichtbarkeit führt.
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(Korrosionsschutzschicht)
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Zur
Verhinderung der Korrosion des elektrischen Leiters wie einem Metall
und/oder der Schwarzschicht und des Abfallens oder der Verformung
der Schwarzschicht wird bevorzugt eine Korrosionsschutzschicht auf
der Oberfläche
des elektrischen Leiters, wie einem Metall, der zumindest mit der
Schwarzschicht bedeckt ist, gebildet. Eine Nickel-, Zink- und/oder
Kupferoxidschicht, oder eine Chromatbehandlungsschicht können als
die Korrosionsschutzschicht verwendet werden. Im allgemeinen wird
vor der Chromatbehandlung bevorzugt die Verzinkung durchgeführt. Zur
Bildung einer Nickel-, Zink- und/oder Kupferoxidschicht kann ein
herkömmliches Plattierungsverfahren
eingesetzt werden, und die Dicke dieser Schicht beträgt ungefähr 0,001
bis 1 μm, bevorzugt
0,001 bis 0,1 μm.
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(Chromatbehandlung)
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Zur
Durchführung
der Chromatbehandlung wird eine Chromatbehandlungsflüssigkeit
auf ein zu behandelndes Objekt aufgetragen. Zur Auftragung der Chromatbehandlungsflüssigkeit
kann ein Beschichtungsverfahren wie Walzbeschichtung, Vorhanggießverfahren,
Squeezelackieren, Elektrostatikspritzen oder Tauchbeschichtungsverfahren
eingesetzt werden, und das behandelte Objekt kann ohne Waschen mit
Wasser getrocknet werden. Wird nur eine Oberfläche der Chromatbehandlung unterzogen,
wird die Chromatbehandlungsflüssigkeit
durch Walzbeschichtung oder dergleichen auf die Oberfläche aufgetragen.
Werden beide Oberflächen
der Chromatbehandlung unterzogen, kann das Tauchbeschichten durchgeführt werden. Üblicherweise
wird eine wässerige
Lösung,
die CrO2 in einer Menge von 3 g/Liter enthält, als
die Chromatbehandlungsflüssigkeit
verwendet. Au ßerdem
können
Lösungen,
hergestellt durch die Zugabe verschiedener Oxycarbonsäureverbindungen
zu einer wässerigen
Chromsäurelösung, um
teilweise Chrom(VI) zu Chrom(III) zu reduzieren, als die Chromatbehandlungsflüssigkeit
verwendet werden. Die Oberfläche
wird gelb, von hellgelb bis gelbbraun, was von der auf der Oberfläche abgeschiedenen
Menge an Chrom(VI) abhängt.
Jedoch ist Chrom(III) farblos, und durch die richtige Kontrolle
der Menge an Chrom(III) und Chrom(VI) kann eine für die Praxis
ausreichend hohe Transparenz erhalten werden. Beispiele für Oxycarbonsäureverbindungen,
die hierin nützlich
sind, umfassen Weinsäure,
Malonsäure,
Bernsteinsäure,
Milchsäure,
Glykolsäure,
Glycerinsäure,
Tropasäure,
Benzylsäure
und Hydroxyvaleriansäure.
Diese Verbindungen werden einzeln verwendet, oder es werden zwei oder
mehr dieser Verbindungen in Kombination verwendet. Da diese Verbindungen
unterschiedliche Reduktionsenergie aufweisen, wird/werden die Verbindungen)
unter Überwachung
der Reduktion von Chrom(VI) zu Chrom(III) zugegeben. Spezielle Beispiele
für Chromatbehandlungsflüssigkeiten,
die hierin nützlich
sind, umfassen Alsurf 1000 (Markenname einer Ghromatbehandlungsflüssigkeit,
hergestellt von Nippon Paint Co., Ltd., Japan) und PM-284 (Markenname
einer Chromatbehandlungsflüssigkeit, hergestellt
von Nippon Parkerizing Co., Ltd., Japan). Die Chromatbehandlung
verstärkt
die Wirkung des Schwärzens.
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Die
Bildung der Schwarzschicht und der Korrosionsschutzschicht zumindest
auf der Betrachterseite ist zweckmäßig, und diese Schichten verstärken unter
Verbesserung der Bildsichtbarkeit den Kontrast. Diese Schichten
können
auch auf der anderen Oberfläche,
das heißt
auf der Bildschirmseite, gebildet werden. In diesem Fall verringern
sie das von dem Display erzeugte Streulicht, wodurch die Bildsichtbarkeit
weiter verbessert wird.
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(Laminierung)
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Beispiele
für Verfahren
zur Laminierung der Abschirmschicht für elektromagnetische Wellen 15 auf
das transparente Substrat 11 umfassen ein von Fachleuten
als Trockenlaminierung bezeichnetes Verfahren, bei dem zwei Schichten
mit einer Haftmittelschicht 13 laminiert werden, und ein
sogenanntes Direktlaminierverfahren, bei dem die Abschirmschicht
für elektromagnetische
Wellen 15 durch Plattieren ohne Verwendung einer Haftmittelschicht
direkt auf das transparente Substrat 11 laminiert wird. Zum
Plattieren kann ein herkömmliches
Plattierverfahren eingesetzt werden, bei dem das Substrat 11 entweder
elektrolytisch oder stromlos plattiert wird.
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(Trockenlaminieren)
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Das
Trockenlaminieren ist ein Verfahren zur Laminierung zweier Materialien
auf die folgende Art und Weise: Durch ein Beschichtungsverfahren
wie Walz-, Umkehrwalz- oder Tiefdruckbeschichtung wird ein Haftmittel,
das in einem Lösungsmittel
dispergiert oder gelöst
ist, auf eines der beiden Materialien aufgetragen, so daß die aufgetragene
Schicht eine Dicke von 0,1 bis 20 μm, bevorzugt 1 bis 10 μm, nach dem
Trocknen hat, und das Lösungsmittel
wird eingedampft, wodurch eine Haftmittelschicht gebildet wird;
unmittelbar nach der Bildung der Haftmittelschicht wird das andere
Laminiermaterial auf die Haftmittelschicht laminiert; und dieses
Laminat wird bei 30 bis 80°C
mehrere Stunden bis mehrere Tage gealtert, wodurch das Haftmittel
gehärtet
wird. Das Haftmittel, das bei der Trockenlaminierung verwendet werden
kann, umfaßt
Haftmittel aus wärmehärtbaren
Harzen oder durch ionisierende Strahlung härtenden Harzen, die unter ionisierender
Strahlung wie ultraviolettem Licht oder Elektronenstrahlen härten. Spezielle
Beispiele für
Haftmittel aus wärmehärtbaren
Harzen, die hierin nützlich
sind, umfassen härtbare
Zweikomponenten-Urethanhaftmittel, Acrylhaftmittel und Kautschukhaftmittel,
und von diesen sind Zweikomponenten-Urethanhaftmittel bevorzugt. Härtbare Zweikomponenten-Urethanhaftmittel
härten
aufgrund der Reaktion polyfunktioneller Polyole und polyfunktioneller
Isocyanate. Beispiele für
polyfunktionelle Polyole umfassen Polyesterpolyole, Acrylpolyole
und Polyetherpolyole. Beispiele für polyfunktionelle Isocyanate
umfassen Tolylendiisocyanat, Xyloldiisocyanat, Hexamethylendiisocyanat,
Isophorondiisocyanat und Additionsprodukte oder Polymere dieser
Verbindungen.
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(Gitter)
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Die
Abschirmschicht für
elektromagnetische Wellen 15 ganz ohne Öffnungen, gebildet auf die oben
beschriebene Art und Weise, wird zu einem Gitter verarbeitet. Das
Gitter hat einen Gitterbereich 103, der dem Bildschirm 100 zugewandt
ist, und einen Ankerbereich der transparenten Harzschicht 105,
der den Gitterbereich 103 umgibt. Zur Erzeugung des Gitters
kann ein photolithographisches Verfahren eingesetzt werden.
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(Photolithographie)
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Nach
der Bildung einer gitterartigen Resistschicht auf der Seite mit
der Abschirmschicht für elektromagnetische
Wellen 15 des oben beschriebenen Laminats wird die elektrisch
leitfähige
Schicht zur Entfernung der Bereiche, die nicht mit der Resistschicht
bedeckt sind, geätzt,
und die Resistschicht wird dann abgelöst, wodurch eine gitterartige
Abschirmschicht für
elektromagnetische Wellen erhalten wird. Wie in 1,
einer Draufsicht, gezeigt, ist die Abschirmschicht für elektromagnetische
Wellen 15 aus einem Gitterbereich 103 (dem Innenteil),
einem Ankerbereich der transparenten Harzschicht 105 und
einem Rahmenbereich 107 ohne Öffnungen (dem Außenteil)
aufgebaut. Wie in 2(A), einer vergrößerten Draufsicht,
und 2(B), einem vergrößerten Querschnitt,
gezeigt, weisen der Gitterbereich 103 und der Ankerbereich
der transparenten Harzschicht 105 Linien bzw. Stränge 103b, 105b,
die verbleibenden Teile der Metallschicht, auf, die eine Vielzahl
von Öffnungen 103a, 105a definieren;
der Rahmenbereich 107 hingegen hat keine Öffnungen und
ist aus der verbleibenden Metallschicht aufgebaut.
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Überdies
wird in der Photolithographie bevorzugt ein bandförmiges Laminat
in Form einer kontinuierlichen Aufwickelwalze wie beim Laminieren verarbeitet.
Während
das Laminat aus dem transparenten Substrat 11 und der Abschirmschicht
für elektromagnetische
Wellen 15 entweder kontinuierlich oder periodisch abgewickelt
und transportiert wird, wird das gestreckte und nicht gelöste Laminat
maskiert, geätzt
und der Resist abgelöst.
Zuerst wird auf die folgende Art und Weise maskiert: Beispielsweise wird
ein lichtempfindlicher Resist auf die Abschirmschicht für elektromagnetische
Wellen (elektrisch leitfähige
Schicht) aufgetragen und getrocknet; diese Resistschicht wird unter
Verwendung einer Originalplatte (Photomaske) mit einem vorbestimmten
Muster (bestehend aus den Strängen
des Gitterbereiches und aus dem Rahmenbereich) kontaktbelichtet;
danach wird mit Wasser entwickelt, der Film gehärtet und wärmebehandelt. Der Resist wird
folgendermaßen
aufgetragen: Während
das bandförmige
aufgewickelte Laminat kontinuierlich oder periodisch abgewickelt
und transportiert wird, wird ein Resist wie Kasein, PVA oder Gelatine
auf die Seite des Laminats mit der Abschirmschicht für elektromagnetische
Wellen durch ein Verfahren wie Tauchen (Eintauchen), Vorhanggießverfahren
oder Flutlackieren aufgetragen. Alternativ kann ein Trockenfilmresist
als der Resist verwendet werden; die Verwendung eines Trockenfilmresists
kann die Verarbeitbarkeit verbessern. Ob gleich das Härten bei
200 bis 300°C
durchgeführt wird,
wenn ein Kaseinresist verwendet wird, wird das Härten bevorzugt bei einer Temperatur
unter 100°C und
so gering wie möglich
durchgeführt,
damit sich das Laminat nicht kräuselt.
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(Ätzen)
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Nach
der Maskierung des Laminats wird das Ätzen durchgeführt. Für den Fall,
daß das Ätzen in der
vorliegenden Erfindung kontinuierlich durchgeführt wird, wird als ein Ätzmittel
bevorzugt eine Eisen(III)- oder Kupfer(II)chloridlösung verwendet,
die leicht zu recyceln ist. Ferner ist der Ätzschritt im Grunde der gleiche
wie das Verfahren zur Herstellung einer Punktmaske für eine Kathodenstrahlröhre eines
Farb-TV, in dem bandförmiges,
kontinuierliches Stahlblech, insbesondere eine dünne Platte mit einer Dicke
von 20 bis 80 μm,
geätzt
wird. Daher können die
existierenden Einrichtungen zur Herstellung einer Punktmaske verwendet
werden, und eine Reihe von Schritten vom Maskieren bis zum Ätzen kann
kontinuierlich durchgeführt
werden, so daß eine
bemerkenswert hohe Effizienz erreicht werden kann. Das geätzte Laminat
wird mit Wasser gewaschen, der Resist wird unter Verwendung einer
Alkalilösung
abgelöst,
es wird gereinigt und dann getrocknet.
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(Gitterbereich)
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Der
Gitterbereich 103 ist eine Fläche, die von der Rahmenfläche 101,
umfassend den Ankerbereich der transparenten Harzschicht 105 und
den Rahmenbereich 107, umgeben ist. Der Gitterbereich 103 weist
Linien bzw. Stränge 103b auf,
die die vielen Öffnungen 103a definieren.
Die Öffnungen 103a sind nicht
auf eine Form beschränkt
(Gittermuster), und die Form jeder Öffnung 103a kann ein
Dreieck wie ein gleichseitiges Dreieck, ein Viereck wie ein Quadrat, ein
Rechteck, ein Rhombus oder ein Trapez, ein Vieleck wie ein Hexagon,
ein Kreis, ein Oval oder dergleichen sein. Die Öffnungen 103a nur
einer, zweier oder mehr der vorstehenden Arten bilden den Gitterbereich 103.
Hinsichtlich des Öffnungsverhältnisses und
der Gittersichtbarkeit beträgt
die Linienbreite 25 μm
oder weniger, bevorzugt 20 μm
oder weniger. Hinsichtlich der Lichtdurchlässigkeit beträgt der Linienabstand
(Pitch) 150 μm
oder mehr, bevorzugt 200 μm oder
mehr. Das Öffnungsverhältnis (der
Prozentsatz an Fläche
der Öffnungen
zu der Gesamtfläche)
beträgt
etwa 85 bis 95 %. Zur Vermeidung des Auftretens von Moiréstreifen
oder dergleichen kann der Neigungswinkel (der Winkel zwischen den
Strängen bzw.
Linien des Gitters und den Seiten des Abschirmmaterials für elektromagnetische
Wellen) unter Berücksichtigung
der Pixel- und Emissionseigenschaften
eines Displays geeignet ausgewählt
werden.
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(Ankerbereich der transparenten
Harzschicht)
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Das
Gittermuster des Ankerbereiches der transparenten Harzschicht 105 ist
das gleiche wie das des Gitterbereiches 103. Dieses Muster
hat nämlich Öffnungen 105a,
die hinsichtlich der Form, der Größe und des Öffnungsverhältnisses die gleichen sind
wie die Öffnungen 103a in
dem Gitterbereich 103. Obgleich das Muster des Ankerbereiches
der transparenten Harzschicht 105 wünschenswerterweise natürlich so
ziemlich das gleiche ist wie das des Gitterbereiches 103,
werden auch die Öffnungen 105a,
die sich hinsichtlich der Größe und Form
leicht von den Öffnungen 103a,
die das Muster des Gitterbereiches bilden, unterscheiden, auch toleriert,
damit Fehler, hervorgerufen durch die Produktionsumstände, aufgrund
der verwendeten Maske oder Verarbeitungsgenauigkeit, oder aus Designgründen, so
daß die
Linienbreite in dem Gitter leicht höher ist, einkalkuliert werden
können,
so daß der
Ankerbereich der transparenten Harzschicht der an der Grenzfläche zwischen
dem Gitterbereich 103 und dem Rahmenbereich 107 ohne Öffnungen
auftretenden Spannungskonzentration standhalten kann. Wenn der oben
beschriebene kleine Unterschied toleriert werden kann, können die
beiden Gittermuster unter Verwendung einer einzelnen Maske hergestellt
werden. Das Verfahren zur Erzeugung von Gittern wird so vereinfacht,
und es kann kostengünstig
produziert werden. Wenn ferner der Gitterbereich 103 des
Abschirmmaterials für
elektromagnetische Wellen 1 und ein Bildschirm 100 einander
zugewandt sind, müssen die
beiden nicht notwendigerweise genau ausgerichtet werden, um so das
Ergebnis zu verbessern.
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(Glättung und Verbesserung der
Transparenz)
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Die
transparente Harzschicht 17 glättet den Gitterbereich und
macht diesen Teil transparent. Genauer gesagt, haben bei der Bildung
des Gitterbereiches 103 und des Ankerbereiches der transparenten Harzschicht 105 die
Stränge
bzw. Linien 103b, 105b die gleiche Dicke wie die
Abschirmschicht für
elektromagnetische Wellen 15; jedoch werden jene Bereiche
der Abschirmschicht für
elektromagnetische Wellen 15, die den Öffnungen 103a, 105b entsprechen, entfernt
und zu Hohlräumen,
so daß die
Abschirmschicht für
elektromagnetische Wellen 15 Unregelmäßigkeiten aufweist. Wenn im
nachfolgenden Schritt ein Haftmittel (oder ein Haftkleber) auf die
Abschirmschicht für
elektromagnetische Wellen 15 aufgetragen wird, werden diese
Hohlräume
mit Haftmittel oder Haftkleber gefüllt. Wenn das Abschirmmaterial
für elektromagnetische
Wellen jedoch unmittelbar nach Erzeugung der Öffnungen 103a, 105a an
einem Display angebracht wird, wird die Abschirmschicht für elektromagnetische
Wellen 15 durch das Füllen
der Hohlräume
mit der transparenten Harzschicht 17 geglättet. Das
ist nötig,
da, wenn die Abschirmschicht für
elektromagnetische Wellen 15 rauh bleibt, diese schlecht
zu verarbeiten ist. Würde
ferner die transparente Harzschicht 17 fehlen, lägen das
transparente Substrat 11 oder die Haftmittelschicht 13 am
unteren Ende der Öffnungen
frei, und die Oberfläche
des transparenten Substrats 11 oder die der Haftmittelschicht 13,
insbesondere die Oberfläche
der Haftmittelschicht 13, würde Unregelmäßigkeiten,
hervorgerufen durch die Unregelmäßigkeiten
der Abschirmschicht für
elektromagnetische Wellen 15, aufweisen. Die Oberfläche des
transparenten Substrats 11 oder die der Haftmittelschicht 13 würden aufgrund
dessen, daß die
Oberflächenunregelmäßigkeiten
Licht unregelmäßig reflektieren,
eine schlechte Transparenz aufweisen. Durch die Glättung dieser
Unregelmäßigkeiten
durch das Füllen
mit der transparenten Harzschicht 17 kann die Transparenz
verbessert werden.
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Beim
Glätten
wird zum Füllen
der Konkavitäten
ein transparentes Harz verwendet. Gelangt das transparente Harz
nicht in alle Ecken der Konkavitäten,
bleibt Luft zurück,
die Blasen bildet, wodurch die Transparenz verringert wird. Um dies
zu vermeiden, wird eine Lösung,
hergestellt durch das Auflösen
eines transparenten Harzes in einem Lösungsmittel oder dergleichen,
mit niedriger Viskosität
aufgetragen und getrocknet, oder wird ein transparentes Harz unter
Entlüftung
aufgetragen, um so die transparente Harzschicht 17 zu bilden. „Glätten" bedeutet hierin, daß die angerauhte
Oberfläche
soweit geglättet
wird, daß ein
gezeigtes Bild nicht verzerrt wird und daß es durch die Diffusion von
Licht nicht zur Trübung kommt,
und vorhandene feine (matte) Unregelmäßigkeiten in der geglätteten Oberfläche toleriert
werden, solange sie weder das Bild verformen noch eine Trübung herbeiführen, um
eine Oberflächenblockierung zu
verhindern, oder zu verhindern, daß Luft (Luftblasen) zwischen
den Abschirmschichten für
elektromagnetische Wellen zurückbleiben,
wenn das Abschirmmaterial für
elektromagnetische Wellen aufgewickelt oder aufgeschichtet wird.
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Genauer
gesagt, wird der Gitterbereich mit Unregelmäßigkeiten aufgrund seiner Öffnungen
zum Erhalt einer glatten Oberfläche
und Transparenz geglättet,
und gleichzeitig können
in dieser glatten Oberfläche
zum Teil mikroskopisch kleine Unregelmäßigkeiten erzeugt werden, die
viel kleiner sind als die Unregelmäßigkeiten, hervorgerufen durch
die Öffnungen
in dem Gitterbereich, um so zu verhindern, daß die Abschirmschicht für elektromagnetische
Wellen beim Aufwickeln des Abschirmmaterials für elektromagnetische Wellen
zu einer Rolle Luftblasen einschließt.
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(Transparente Harzschicht)
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Als
die transparente Harzschicht 17 kann irgendeine Harzschicht
verwendet werden, sofern diese sehr transparent ist und gut an den
elektrischen Leiter in Form eines Gitters und auch an ein Haftmittel,
das im nachfolgenden Schritt aufgetragen wird, haftet. Eine transparente
Harzschicht 17, deren Oberfläche Vorsprünge, Konkavitäten oder
Unebenheiten aufweist, ist jedoch unvorteilhaft, da sie Moiré-Streifen,
eine ungleichmäßige Interferenz
oder Newtonsche Ringe verursacht, wenn das Abschirmmaterial für elektromagnetische
Wellen auf die Vorderseite eines Displays montiert wird. Ein bevorzugtes
Verfahren zur Bildung der transparenten Harzschicht 17 ist
das folgende: Ein wärmehärtbares
oder durch ionisierende Strahlung härtendes Harz wird durch herkömmliches
diskontinuierliches Düsenbeschichten
oder dergleichen unter Bildung einer Harzschicht mit dem gewünschten
Muster aufgetragen; ein Trennsubstrat mit Trenneigenschaften, das
ausgezeichnet glatt ist, wird auf die Harzschicht laminiert, und
es wird Wärme
oder ultraviolettes Licht angewendet, um das aufgetragene Harz zu
härten;
und das Trennsubstrat wird dann zur Entfernung von der Harzschicht
abgetrennt. Die so gebildete Oberfläche der transparenten Harzschicht 17 ist
aufgrund der Oberflächenglätte des
Trennsubstrats flach und glatt.
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(Durch ionisierende Strahlung
härtendes
Harz)
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Als
das Harz für
die transparente Harzschicht 17 kann irgendein Harz, ausgewählt aus
einer Vielzahl natürlicher
Harze und synthetischer Harze, verwendet werden. Das Harz kann ein
wärmehärtbares
Harz, ein durch ionisierende Strahlung härtendes Harz oder dergleichen
sein, und ein durch ultraviolettes Licht härtendes Acrylharz ist wegen
seiner Haltbarkeit, der Beschichtungseigenschaften und leichten
Glättbarkeit
sowie der Glattheit der resultierenden Harzschicht bevorzugt. Die
transparente Harzschicht aus einem durch io nisierende Strahlung
härtenden
Harz ist ein gehärtetes
Produkt von einem durch ionisierende Strahlung härtenden Harz oder seiner Zusammensetzung,
erhalten durch die Polymerisierung eines Oligomers und/oder Monomers
mit einer funktionellen Gruppe, die unter ionisierender Strahlung,
typischerweise UV-Strahlen oder Elektronenstrahlen, ohne einen Initiator
oder wegen der Wirkung eines Initiators eine Vernetzungs- oder Polymerisationsreaktion
hervorrufen kann.
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Oligomere
oder Monomere, die durch ionisierende Strahlung härtende Harze
bilden können, sind
radikalpolymerisierbare mit einer Ethylen-Doppelbindung wie einer
Acryloylgruppe, Methacryloylgruppe, Acryloyloxygruppe oder Methacryloyloxygruppe
in ihren Molekülen. Überdies
können
auch kationisch polymerisierbare Oligomere und/oder Monomere, wie
Epoxidgruppen-enthaltende Verbindungen, verwendet werden.
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(Ionisierende Strahlung)
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Ionisierende
Strahlung bezieht sich auf elektromagnetische Wellen oder Ladungsteilchenstrahlen
mit ausreichend hohen Energiequanten, damit Moleküle polymerisiert
oder vernetzt werden, und üblicherweise
wird ultraviolettes Licht, ein Elektronenstrahl oder dergleichen
als die ionisierende Strahlung verwendet. Wenn ultraviolettes Licht
als die ionisierende Strahlung eingesetzt wird, wird als die Strahlungsquelle
(Lichtquelle) eine Hochdruck-Quecksilberdampflampe, eine Niederdruck-Quecksilberdampflampe,
eine Metallhalogenidlampe, eine Kohlelichtbogenlampe, eine Schwarzlichtlampe
oder dergleichen verwendet. Die Energie (Wellenlänge) von ultraviolettem Licht
beträgt
bevorzugt etwa 190 bis 450 nm, und die anzuwendende Menge an ultraviolettem
Licht beträgt
bevorzugt etwa 50 bis 1000 mJ/cm2. Wird
ein Elektronenstrahl eingesetzt, wird als Strahlungsquelle (Lichtquelle)
ein Elektronenstrahlbeschleuniger, ausgewählt aus einem Cockcroft-Walton-Beschleuniger, einem Van-de-Graaff-Beschleuniger,
einem Beschleuniger vom Resonanz-Umformer-Typ, einem Beschleuniger vom
Isolier-Kern-Typ, einem linearen Beschleuniger, einem Dynamitronbeschleuniger
und einem Hochfrequenzbeschleuniger verwendet. Die Energie (Beschleunigungsspannung)
des Elektronenstrahls beträgt
70 bis 1000 keV, bevorzugt etwa 100 bis 300 keV, und die bevorzugte
anzuwendende Menge des Elektronenstrahls beträgt für gewöhnlich etwa 0,5 bis 30 Mrad.
Wird ein Elektronenstrahl zum Härten
verwendet, muß kein
Polymerisati onsinitiator in die Zusammensetzung des durch ionisierende
Strahlung härtenden
Harzes eingeführt
werden.
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(Beschichtungsposition
für die
transparente Harzschicht)
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Die
Beschichtungsposition für
die transparente Harzschicht 17 ist wichtig.
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Im
wesentlichen wird die transparente Harzschicht 17, wie
in 3(A) gezeigt, so gebildet, daß sie die
Oberfläche
des Gitterbereiches 103 bedeckt, sich ferner über die
Oberfläche
des Ankerbereiches der transparenten Harzschicht 105 erstreckt
und alle Öffnungen 103a, 105a füllt, ohne
in den Rahmenbereich 107 ohne Öffnungen zu gelangen. Die transparente
Harzschicht 17 ist so jedoch nicht leicht zu bilden, da
diese Art und Weise die genaue Kontrolle der Beschichtungsposition
für die
transparente Harzschicht 17 erfordert.
-
Demgemäß wird die
transparente Harzschicht 17, wie in 3(B) gezeigt,
so gebildet, daß sie
die Oberfläche
des Gitterbereiches und die des inneren peripheren Bereiches des
Ankerbereiches der transparenten Harzschicht 105 bedeckt
und die Öffnungen 103a im
Gitterbereich und die Öffnungen 105 im
inneren peripheren Bereich füllt,
wobei die Öffnungen 105a im äußeren Bereich
des Ankerbereiches der transparenten Harzschicht 105 unbedeckt und
nicht mit der transparenten Harzschicht 17 gefüllt verbleiben.
Wird die transparente Harzschicht 17 so gebildet, kann,
selbst wenn die Beschichtungsposition für die transparente Harzschicht 17 nach
vorn oder hinten oder rechts oder links verschoben wird, verhindert
werden, daß das
Ende der transparenten Harzschicht 17 in dem Gitterbereich 103 verschwindet
oder in den Rahmenbereich 107 ohne Öffnungen gelangt. Selbst wenn,
wie in 3(C) gezeigt, die transparente
Harzschicht 17 so gebildet wird, daß sie den Gitterbereich 103 und
den Ankerbereich der transparenten Harzschicht 105 bedeckt,
die Öffnungen 103a, 105a füllt und
ein wenig in den Rahmenbereich 107 ohne Öffnungen
gelangt, die Breite der transparenten Harzschicht 17 in
dem Rahmenbereich 107 ungefähr 3 Öffnungsabständen oder weniger, stärker bevorzugt
1 Öffnungsabstand
oder weniger, entspricht, ist davon auszugehen, daß die Abtrennung
der transparenten Harzschicht 17 von der Abschirmschicht
für elektromagnetische
Wellen 15 verhindert und die Wirkung der vorliegenden Erfindung
erreicht wird.
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4 ist
ein Schnittbild des wesentlichen Teils einer herkömmlichen
Abschirmschicht für
elektromagnetische Wellen, welche die übliche Position für eine transparente
Harzschicht veranschaulicht.
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Genauer
gesagt, ist die herkömmliche
Beschichtungsposition für
eine transparente Harzschicht 17, wie in 4 gezeigt.
Die transparente Harzschicht 17 wird folgendermaßen gebildet:
Die Öffnungen 103a in
einem Gitterbereich 103, der einem Bildschirm zugewandt
sein wird, werden zuerst mit der transparenten Harzschicht 17 gefüllt; da
kein Ankerbereich der transparenten Harzschicht vorliegt, kann die
transparente Harzschicht 17 dann in eine Rahmenfläche (oder
einen Rahmenbereich) 101 ohne Öffnungen gelangen, um so einen
Teil der Rahmenfläche
mit einer Breite von etwa 2 bis 3 mm oder mehr (10 Öffnungsabständen oder
mehr) zu bedecken, um so sicherzustellen, daß die transparente Harzschicht 17 den
Gitterbereich 103 vollständig bedeckt, selbst wenn die
Beschichtungsposition für
die transparente Harzschicht 17 um ungefähr 2 bis
3 mm abweicht.
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Die
Haftung zwischen der transparenten Harzschicht 17 und dem
Rahmenbereich 101 ist schlechter als die Haftung zwischen
der transparenten Harzschicht 17 und der Haftmittelschicht 13 oder dem
transparenten Substrat 11. Wenn daher die transparente
Harzschicht 17 einen großen Teil der Rahmenfläche 101 bedeckt,
ist folgendes Problem aufgetreten: Aufgrund äußerer Kräfte in dem gesamten Verfahren
von der Herstellung des Abschirmmaterials für elektromagnetische Wellen 1 bis
zur Montage des Abschirmmaterials für elektromagnetische Wellen 1 auf
ein Display, oder aufgrund von Spannung, verursacht durch die Differenz
zwischen den Schrumpfungsgraden der Schichten, wenn das Substrat
bei langem Gebrauch durch wiederholtes Erwärmen oder Abkühlen oder
wiederholtes Absorbieren und Freisetzen von Feuchtigkeit gleichmäßig schrumpft,
hebt sich die transparente Harzschicht von der Abschirmschicht für elektromagnetische
Wellen ab oder wird von dieser abgetrennt. Da außerdem der Rahmenbereich 101 keine Öffnungen
hat, erzeugen der Teil des Rahmenbereiches 101, der mit
der transparenten Harzschicht 17 bedeckt ist, und der andere
Teil des Rahmenbereiches 101, der nicht mit der transparenten Harzschicht 17 bedeckt
ist, ein unterschiedliches Niveau, das möglicherweise zur Abtrennung
der transparenten Harzschicht von dem Rahmenbereich führt.
-
Andererseits
ist in dem Abschirmmaterial für elektromagnetische
Wellen 1 der vorliegenden Erfindung die physikalische Ankerwirkung
größer, da
die transparente Harzschicht 17 die Öffnungen 103a in dem
Gitterbereich 103 und die Öffnungen 105a in dem
Ankerbereich der transparenten Harzschicht 105 füllt. Außerdem gibt
es die synergistische Wirkung der Ankerwirkung und der zuvor genannten
Wirkung der Verbesserung der Haftung der transparenten Harzschicht 17 an
der Haftmittelschicht 13 oder dem transparenten Substrat 11.
Daher kann die Abtrennung der transparenten Harzschicht 17 von
der Abschirmschicht für
elektromagnetische Wellen 15 vermieden werden.
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Genauer
gesagt, wird in der vorliegenden Erfindung der Ankerbereich der
transparenten Harzschicht 105 am Innenrand des Rahmenbereiches 107 gebildet,
so daß er
den Gitterbereich 103 umgibt, und die transparente Harzschicht 17 wird
so gebildet, daß sie
zumindest einen Teil der Öffnungen 105a in dem
Ankerbereich der transparenten Harzschicht 105 bedeckt
und füllt,
wie in 3 gezeigt. So kann eine Schichthaftung und Ankerwirkung
erreicht werden, wodurch sich die transparente Harzschicht 17 im
Verlauf der Produktion und im Betrieb nicht von dem Gitter abhebt
oder von diesem abgetrennt wird. Überdies zeigt das Abschirmmaterial
für elektromagnetische
Wellen aufgrund der Abschirmschicht für elektromagnetische Wellen 15 hervorragende
Abschirmeigenschaften für
elektromagnetische Wellen und ist angemessen transparent (durchlässig für sichtbares
Licht), da die Unregelmäßigkeiten
in den Unterseiten der Öffnungen
geglättet
sind.
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Ferner
kann das Abschirmmaterial für
elektromagnetische Wellen 1 der vorliegenden Erfindung so
hergestellt werden, daß es
Funktionen, wie die Absorption sichtbaren Lichts und/oder nahen
Infrarotlichts mit spezifischen Wellenlängen, die Verhinderung der
Reflexion von Licht, Hartbeschichtung, die Verhinderung von Fleckenbildung
und die Verhinderung von Blendung, übernehmen kann. Alternativ kann
auf der Vorder- oder
Rückfläche des
Abschirmmaterials für
elektromagnetische Wellen 1 und/oder zwischen den Teilschichten
des Abschirmmaterials für
elektromagnetische Wellen 1 eine Schicht mit irgendeiner
der oben beschriebenen Funktionen gebildet werden.
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(NIR-Absorptionsschicht)
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Ferner
kann dem Harz, das für
die transparente Harzschicht 17 verwendet wird, ein Lichtabsorber
zugegeben werden, der unerwünschtes
sichtbares Licht und/oder nahes Infrarotlicht mit speziellen Wellenlängen absorbiert.
Wird sichtbares Licht mit speziellen Wellenlängen absorbiert, ist das reproduzierte
Farbbild nicht unnatürlich,
nicht unangenehm und ist besser erkennbar. Da ein großer Teil
des von PDPs emittierten unerwünschten
sichtbaren Lichts mit speziellen Wellenlängen Orangelicht mit Wellenlängen um
die 590 nm ist, das aus dem Emissionsspektrum des Neonatoms stammt,
wird bevorzugt ein Lichtabsorber verwendet, der Licht um die 590
nm angemessen absorbieren kann. Die spezifischen Wellenlängen von
nahem Infrarotlicht liegen im Bereich von etwa 780 bis 1100 nm.
Wünschenswerterweise
absorbiert der Lichtabsorber 80 % oder mehr des Lichts in einem
Wellenlängenbereich
von 780 bis 1100 nm. Durch die Absorption von nahen Infrarotstrahlen
mit den spezifischen Wellenlängen
kann eine Fehlfunktion ferngesteuerter Geräte, die mit nahen Infrarotstrahlen
arbeiten und in der Nähe
eines Displays angeordnet werden, verhindert werden. Hierin ist
jeder Absorber für
nahes Infrarotlicht (NIR-Absorber) nutzbar, und es können Färbemittel verwendet
werden, die im nahen Infrarotbereich eine scharfe Absorption zeigen,
sichtbares Licht sehr gut durchlassen und bei den spezifischen Wellenlängen im
Bereich von sichtbarem Licht keine sehr starke Absorption zeigen.
Beispiele für
Färbemittel,
die unerwünschtes
sichtbares Licht mit den spezifischen Wellenlängen absorbieren, umfassen
Polymethinfarbstoffe und Porphyrinfarbstoffe.
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Beispiele
für Färbemittel,
die nahe Infrarotstrahlen absorbieren, umfassen Diimmoniumverbindungen,
Cyaninverbindungen, Phthalocyaninverbindungen und Dithiolkomplexe.
Für den
Fall, daß kein NIR-Absorber
in die transparente Harzschicht 17 eingeführt wird,
kann eine separate Schicht, die einen NIR-Absorber enthält (als
NIR-Absorptionsschicht bezeichnet) zumindest auf einer Oberfläche der transparenten
Harzschicht 17 gebildet werden.
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(Separate NIR-Absorptionsschicht)
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Es
kann eine separate NIR-Absorptionsschicht auf der transparenten
Harzschicht 17 und/oder dem Substrat 11 gebildet
werden. Zur Bildung der separaten NIR-Absorptionsschicht kann ein kommerziell
erhältlicher
Film, enthaltend einen NIR-Absorber (z. B. Markenname Nr. 2832,
hergestellt von Toyobo Co., Ltd., Japan) durch ein Haftmittel auf
die transparente Harzschicht 17 laminiert werden, oder
ein Gemisch aus einem Bindemittel und dem vorstehend beschriebenen
NIR-Absorber kann auf die transparente Harzschicht 17 aufgetragen
werden. Beispiele für
das hierin nützliche
Bindemittel umfassen Polyesterharze, Polyurethanharze, Acrylharze
und härtbare
Harze wie wärmehärtbare oder durch
UV-Strahlung härtende Harze
mit einer Epoxidgruppe, Acrylatgruppe, Methacrylatgruppe, Isocyanatgruppe
oder dergleichen, die eine Härtungsreaktion
auslösen.
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(AR-Schicht)
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Obgleich
in den Figuren nicht gezeigt, kann auch eine Antireflexschicht (als
AR-Schicht bezeichnet) auf der Betrachterseite des Abschirmmaterials für elektromagnetische
Wellen gebildet werden. Die Antireflexschicht soll die Reflexion
von sichtbarem Licht verhindern und verschiedene Antireflexschichten,
aufgebaut aus einer einzelnen Schicht oder mehreren Schichten, sind
im Handel erhältlich.
Zur Bildung einer Antireflexschicht, aufgebaut aus einer einzelnen
Schicht, wird eine Schicht mit niedrigem Brechungsindex auf die
Oberfläche
des Abschirmmaterials für
elektromagnetische Wellen laminiert. Zur Bildung einer Antireflexschicht,
aufgebaut aus mehreren Schichten, werden abwechselnd Schichten mit hohem
Brechungsindex und niedrigem Brechungsindex so auf das Abschirmmaterial
für elektromagnetische
Wellen laminiert, daß eine
Schicht mit niedrigem Brechungsindex die äußerste Schicht bildet. Beispiele
für das
Material für
die Schicht mit hohem Brechungsindex umfassen Nioboxid, Oxide von
Titan, Zirkoniumoxid und ITO. Beispiele für das Material für die Schicht
mit niedrigem Brechungsindex umfassen Magnesiumfluorid und Oxide
von Silicium. Ferner sind auch Antireflexschichten erhältlich,
deren Oberflächen
feine Unregelmäßigkeiten
aufweisen, die Störlicht
unregelmäßig reflektieren,
erhältlich.
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(Hartschicht, Fleckenschutzschicht,
Blendschutzschicht)
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Es
können
auch eine Hartschicht, eine Fleckenschutzschicht und eine Blendschutzschicht
auf die Antireflexschicht (AR-Schicht) aufgebracht werden. Die Hartschicht
ist eine Schicht mit einer Härte von
H oder mehr, bestimmt durch den Bleistifthärtetest gemäß JIS-K5400, gebildet durch
das Härten
eines polyfunktionellen Acrylats wie Polyesteracrylat, Urethanacrylat
oder Epoxidacrylat unter Erwärmung oder
ionisierender Strahlung. Die Fleckenschutzschicht ist eine wasserabweisende
und ölabweisende
Beschichtung, und für
diese Schicht können
eine Siloxanverbindung, eine fluorierte Alkylsilylverbindung oder
dergleichen verwendet werden. Die Blendschutzschicht ist eine Schicht,
deren Oberfläche
feine Unregelmäßigkeiten
aufweist, die Störlicht
unregelmäßig reflektieren.
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(Direkte Anbringung)
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Wenn
zumindest die Schwarzschicht und die Korrosionsschutzschicht auf
der Abschirmschicht für elektromagnetische
Wellen in Form eines Gitters gebildet werden, kann das Abschirmmaterial
für elektromagnetische
Wellen direkt an einem Display wie einem PDP angebracht werden,
wobei die Abschirmschicht für
elektromagnetische Wellen der Betrachterseite zugewandt ist. Da
der Rahmenbereich 107 freiliegt, kann leicht eine Elektrode
erzeugt werden, und das Abschirmmaterial für elektromagnetische Wellen
kann daher leicht geerdet werden.
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Ferner
ist der Rahmenbereich 101 geschwärzt worden, und die geschwärzte Oberfläche ist
der Betrachterseite zugewandt. So ist ein herkömmliches Drucken eines schwarzen
Rahmens auf eine Frontglasplatte nicht notwendig, was das Verfahren
verkürzt
und auch hinsichtlich der Kosten von Vorteil ist.
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Die
vorliegende Erfindung wird nun anhand von Beispielen und eines Vergleichsbeispiels
näher erläutert. Die
vorliegende Erfindung ist jedoch nicht auf die folgenden Beispiele
beschränkt.
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BEISPIELE
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Beispiel 1
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Ein
elektrischer Leiter, der erhalten wurde, indem auf einer Oberfläche der
Elektrolytkupferfolie mit einer Dicke von 10 μm nacheinander eine Schwarzschicht
aus Kupfer-Kobalt-Legierungsteilchen mit einem mittleren Teilchendurchmesser
von 0,3 μm
und eine Chromat(behandlungs)schicht gebildet wurden, wurde als
die Abschirm schicht für
elektromagnetische Wellen 15 verwendet. Die Abschirmschicht
für elektromagnetische
Wellen 15 wurde durch ein Haftmittel 13, ein härtbares
Zweikomponenten-Urethanhaftmittel, auf ein transparentes Substrat 11,
einen 100 μm
dicken biaxial gestreckten Film A4300 (Markenname für einen
Polyethylenterephthalatfilm, hergestellt von Toyobo Co., Ltd., Japan),
laminiert, wobei die Fläche
mit der Chromat(behandlungs)schicht aus der Kupfer-Kobalt-Legierungsteilchenschicht
dem transparenten Substrat 11 zugewandt war, und dieses
Laminat wurde bei 56°C
4 Tage gealtert. Ein härtbares
Zweikomponenten-Urethanharzhaftmittel, bestehend aus Polyesterurethanpolyol,
ein Hauptbestandteil, und Xylylendiisocyanat, ein Härtungsmittel,
wurden als das Haftmittel 13 verwendet. Das Haftmittel
wurde in so einer Menge aufgebracht, daß die getrocknete Haftmittelschicht
eine Dicke von 7 μm
aufwies.
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Um
das Laminat photolithographisch zu einem Gitter zu machen, wurde
die existierende Fertigungsstraße
für eine
Punktmaske für
einen Farb-TV verwendet, in der eine bandförmige, kontinuierliche Bahn
einer Reihe von Schritten von der Maskierung bis zum Ätzen unterzogen
wurde. Zunächst
wurde ein Kaseinresist auf die gesamte Oberfläche der elektrisch leitfähigen Schicht
durch Flutlackieren aufgetragen. Dieses Laminat wurde zur nächsten Station überführt, bei
der es unter Verwendung einer Originalplatte mit dem folgenden Muster
mit ultraviolettem Licht aus einer Quecksilberdampflampe kontaktbelichtet
wurde. Das Laminat wurde dann von einer Station zu einer anderen überführt, um
es mit Wasser zu entwickeln, der Filmhärtung zu unterziehen und mit
Wärme zu
behandeln.
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Wie
in 1 gezeigt, wies das Muster der vorstehend beschriebenen
Originalplatte einen Gitterbereich 103, der einem Bildschirm 100 eines Typ-42-Displays
(rechteckig, ein Display, dessen Diagonale 42 Inch lang
ist) zugewandt war und Stränge bzw.
Linien mit einer Linienbreite von 22 μm, einem Linienabstand (Pitch)
von 300 μm
und einem Neigungswinkel von 49° aufwies,
die quadratische Öffnungen 103a definieren;
einen 5 mm breiten Ankerbereich der transparenten Harzschicht 105,
der den Gitterbereich 103 umgibt, mit Öffnungen 105a mit derselben
Form wie die Öffnungen 103a,
bei demselben Öffnungsverhältnis wie
dem der Öffnungen 103a;
und einen 10 mm breiten Rahmenbereich 107, der den Ankerbereich
der transparenten Harzschicht 105 umgibt, ohne Öffnungen
auf.
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Das
gehärtete
Laminat wurde weiter zur nächsten
Station überführt, bei
der es nach dem Besprühen
mit einer wässerigen
Eisen(III)-chloridlösung,
einem Ätzmittel, über das
Laminat zur Erzeugung von Öffnungen 103a, 105a geätzt wurde.
Während
der Überführung von
einer Station zu einer anderen wurde das Laminat mit Wasser gewaschen, der
Resist wurde abgelöst,
es wurde gereinigt und durch Erwärmung
getrocknet. Obgleich die Resistmusterplatte mit Linien einer Linienbreite
von 22 μm zur
Bildung der Öffnungen
in dem Gitterbereich 103 und dem Ankerbereich der transparenten
Harzschicht 105 verwendet wurde, betrug die nach dem Ätzschritt
gemessene Linienbreite 12 ± 5 μm (7 bis
17 μm).
Im Ergebnis wiesen sowohl der Gitterbereich 103 als auch
der Ankerbereich der transparenten Harzschicht 105 ein Öffnungsverhältnis von
92 % auf.
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Auf
den Gitterbereich 103 und den Ankerbereich der transparenten
Harzschicht 105, die auf die oben beschriebene Art und
Weise hergestellt wurden, wurde eine die transparente Harzschicht
bildende Zusammensetzung mit der folgenden Formulierung durch diskontinuierliches
Düsenbeschichten aufgetragen,
wodurch eine transparente Harzschicht 17 mit demselben
Muster wie dem des Gitterbereiches 103 und des Ankerbereiches
der transparenten Harzschicht 105 (d. h., ein Muster aus
dem Gitterbereich und dem 5 mm breiten Teil, der den Gitterbereich
umgibt) gebildet wurde. Auf die transparente Harzschicht wurde ein
50 μm dicker
SP-PET20-BU (Markenname für
einen PET-Film, dessen Oberfläche
einer Abtrennungsbehandlung unterzogen wurde, hergestellt von TOHCELLO,
Co., Ltd., Japan) laminiert, und dieses Laminat wurde mit 200 mJ/cm2 Licht (berechnet für Licht mit einer Wellenlänge von 365
nm) aus einer Hochdruck-Quecksilberdampflampe bestrahlt.
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Folgendes
ist die Formulierung der die transparente Harzschicht bildenden
Zusammensetzung: 20 Gew.-Teile N-Vinyl-2-pyrrolidon, 25 Gew.-Teile
Dicyclopentenylacrylat, 52 Gew.-Teile Oligoesteracrylat (M-8060,
hergestellt von Toa Gosei Chemical Industry Co., Ltd., Japan) und
3 Gew.-Teile 1-Hydroxycyclohexyl-phenylketon (Irgacure 184, hergestellt
von CIBA-GEIGY AG).
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Der
PET-Film SP-PET2O-BU wurde dann abgetrennt. So wurde ein Abschirmmaterial
für elektromagnetische
Wellen aus Beispiel 1 erhalten, in dem der Gitterbereich 103 und
der Ankerbereich der transparenten Harzschicht 105 durch
das Bedecken und Füllen
der Öffnungen 103a, 105a in
dem Gitterbereich 103 bzw. dem Ankerbereich der transparenten
Harzschicht 105 mit der transparenten Harzschicht 17 geglättet waren,
wie in 3(A) gezeigt.
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Beispiel 2
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Ein
Abschirmmaterial für
elektromagnetische Wellen aus Beispiel 2, in dem die Öffnungen 103a in dem
Gitterbereich 103 und ein Teil der Öffnungen 105a in dem
Ankerbereich der transparenten Harzschicht 105, die sich
im inneren Randbereich des Ankerteils der transparenten Harzschicht 105 befinden, mit
der transparenten Harzschicht 17 zum Glätten bedeckt und gefüllt worden
sind, wie in 3(B) gezeigt, wurde auf
dieselbe Art wie in Beispiel 1 erhalten, außer daß die die transparente Harzschicht
bildende Zusammensetzung auf den Gitterbereich 103 und
auch auf den 2,5 mm breiten, den Gitterbereich umgebenden Bereich
des Ankerbereiches der transparenten Harzschicht 105 aufgetragen
wurde. Die Öffnungen 105a in
dem 2,5 mm breiten äußeren Bereich
des Ankerbereiches der transparenten Harzschicht 105 blieben
frei.
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Beispiel 3
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Ein
Abschirmmaterial für
elektromagnetische Wellen aus Beispiel 3, in dem die Öffnungen 103a in dem
Gitterbereich 103 und die Öffnungen 105a in dem
Ankerbereich der transparenten Harzschicht 105 mit der
transparenten Harzschicht 17 bedeckt und gefüllt wurden
und auch ein 0,5 mm breiter (entspricht 1,7 Öffnungsfolgen) innerer Randbereich
des Rahmenbereiches 107 ohne Öffnungen mit der transparenten
Harzschicht 17 bedeckt war, wurde auf dieselbe Weise wie
in Beispiel 1 erhalten, außer
daß die die
transparente Harzschicht bildende Zusammensetzung auf den Gitterbereich 103,
auf den Ankerbereich der transparenten Harzschicht 105,
der den Gitterbereich 103 umgibt, und auf den Teil, der
den Ankerbereich der transparenten Harzschicht 105 umgibt,
aufgetragen wurde, so daß die
Gesamtbreite der mit der Zusammensetzung bedeckten Teile 5,5 mm betrug.
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(Vergleichsbeispiel 1)
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Ein
Abschirmmaterial für
elektromagnetische Wellen aus Vergleichsbeispiel 1 wurde auf dieselbe Weise
wie in Beispiel 1 erhalten, außer
daß die
in Beispiel 1 verwendete Originalplatte durch eine Originalplatte
ersetzt wurde, die einen Gitterbereich 103, der dem Bildschirm
eines Typ-42-Displays (rechteckig, ein Display, dessen Diagonale 42 Inch
lang ist) zugewandt war und Linien mit einer Linienbreite von 22 μm, einem
Linienabstand (Pitch) von 300 μm
und einem Neigungswinkel von 49°,
die quadratische Öffnungen
definieren, aufwies; und einen 15 mm breiten Rahmenbereich 101 ohne Öffnungen,
direkt um den Gitterbereich 103 ohne den Ankerbereich der
transparenten Harzschicht 105 aufwies, und daß die die transparente
Harzschicht bildende Zusammensetzung auf den Gitterbereich 103 und
auf einen 3,5 mm breiten (entspricht 11,7 Öffnungsfolgen), das Gitter umgebenden
inneren Bereich des Rahmenbereiches 107 ohne Öffnungen
aufgetragen wurde.
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(Bewertungsverfahren)
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Die
Bewertung wurde hinsichtlich der Schichtenhaftung nach der Wärmestoßprüfung vorgenommen.
Die Wärmestoßprüfung wurde
folgendermaßen
durchgeführt:
Nachdem das Abschirmmaterial für
elektromagnetische Wellen wiederholt für 100mal Wechseln zwischen
Abkühlen
auf –40°C für 1 Stunde
und Erwärmen
auf 80°C
für 1 Stunde
unterzogen worden war, wurde Cellotape (Markenmarke), ein 25 mm
breites selbstklebendes Cellophanband, hergestellt von Nichiban
Co., Ltd., Japan, bei Raumtemperatur, 25°C, auf die Fläche, die
die transparente Harzschicht und den Rahmenbereich, der nicht mit der
transparenten Harzschicht beschichtet war, bedeckt, geklebt und
dann kräftig
zuerst von dem Bereich, der nicht mit der transparenten Harzschicht
beschichtet war, und dann von der transparenten Harzschicht abgelöst.
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Das
Abschirmmaterial für
elektromagnetische Wellen, in dem die transparente Harzschicht von
dem transparenten Substrat und/oder der Abschirmschicht für elektromagnetische
Wellen abgehoben oder abgetrennt war, wurde als inakzeptabel eingestuft;
während
das Abschirmmaterial für
elektromagnetische Wellen, bei dem das oben beschriebene Abheben
oder die Abtrennung nicht stattgefunden haben, als akzeptabel eingestuft
wurde. Überdies
wurden auch der Gesamtlichttransmissions grad, die Sichtbarkeit und
die Abschirmeffizienz für
elektromagnetische Wellen bestimmt.
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Die
Sichtbarkeit wurde folgendermaßen
bestimmt: Das Abschirmmaterial für
elektromagnetische Wellen wurde an der Vorderseite eines PDP „WOOO" (Markenname, hergestellt
von Hitachi, Ltd., Japan) befestigt; ein Testmuster, ein weißes Kompaktbild
und ein schwarzes Kompaktbild wurden nacheinander auf einem Bildschirm
gezeigt; und die Bilder wurden in einem Abstand von 50 cm vom Bildschirm
bei einem Winkel von 0 bis 80° betrachtet.
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Der
Gesamtlichttransmissionsgrad wurde an dem Gitterbereich mit einem
Kolorimeter HM150 (Markenname, hergestellt von Murakami Color Research
Laboratory, Japan) gemäß JIS-K7361-1
gemessen.
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Die
Abschirmeffizienz für
elektromagnetische Wellen wurde durch das KEC-Verfahren (ein Verfahren zur Messung
elektromagnetischer Wellen, entwickelt von Kansai Electronic Industry
Development Center, Japan) bestimmt.
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(Ergebnisse der Bewertung)
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Die
Gitterbereiche aller Abschirmmaterialien für elektromagnetische Wellen
der Beispiele 1 bis 3 und des Vergleichsbeispiels 1 hatten einen
Gesamtlichttransmissionsgrad von 83,0 %. Ferner schwächten alle
Abschirmmaterialien für
elektromagnetische Wellen der Beispiele 1 bis 3 und des Vergleichsbeispiels
1 bei Raten von 30 bis 60 dB elektromagnetische Wellen mit Frequenzen
von 30 MHz bis 1000 MHz ab. So wurde bei ihnen eine hervorragende
Abschirmeigenschaften für
elektromagnetische Wellen bestätigt.
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Die
Ergebnisse der Bewertung für
die Schichtenhaftung nach der Wärmestoßprüfung waren
wie folgt: Die Abschirmmaterialien für elektromagnetische Wellen
der Beispiele 1 bis 3 waren akzeptabel, da kein Abheben oder Abtrennen
der transparenten Harzschicht zu sehen war; während das Abschirmmaterial
für elektromagnetische
Wellen des Vergleichsbeispiels 1 inakzeptabel war, da in dem Rahmenbereich
leichtes Abheben und Abtrennen der transparenten Harzschicht zu
beobachten war.
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Jedes
der Abschirmmaterialien für
elektromagnetische Wellen der Beispiele 1 bis 3, das eine hervorragende
Schichtenhaftung zeigte, wurde an der Vorderseite des PDP-Displays
befestigt, und die Bildsichtbarkeit wurde bewertet. Im Ergebnis
wurde bei diesen Abschirmmaterialien für elektromagnetische Wellen
eine hervorragende Bildsichtbarkeit bestätigt.
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ZUSAMMENFASSUNG
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Eine
Abschirmvorrichtung für
elektromagnetische Wellen 1 umfaßt ein transparentes Substrat 11,
eine Haftmittelschicht 13, die je nach Bedarf angeordnet
wird, eine Abschirmschicht für
elektromagnetische Wellen 15 und eine transparente Harzschicht 17.
Die Abschirmschicht für
elektromagnetische Wellen 15 umfaßt einen Gitterbereich 103,
der dem Bildschirm 100 einer Bildwiedergabevorrichtung zugewandt
ist, einen Ankerbereich einer transparenten Harzschicht 105,
der den Rand des Gitterbereiches 103 umgibt und Öffnungen 105a mit
einem Öffnungsverhältnis wie
dem der Öffnungen 103a des Gitterbereiches 103 umfaßt, und
einen Rahmenbereich 107, der den äußeren Rand des Ankerbereiches
der transparenten Harzschicht 105 umgibt und keine Öffnungen
aufweist. Die transparente Harzschicht 17 bedeckt die Oberflächen des
Gitterbereiches 103 und den Ankerbereich der transparenten Harzschicht 105 und
füllt die Öffnungen 103a, 105a.