1275344 (1) 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於遮蔽電磁波之薄片，更詳細爲關於，配 置於CRT (陰極射線管）、PDP (電漿顯示面板）等之畫 像顯示裝置（顯示器）的前面，將由該畫像顯示裝置所產 生的電磁波予以遮蔽之電磁波遮蔽材（電磁波遮蔽裝置） 〇 P 在本說明書中，「畫像顯示裝置」係「顯示器」、「 CRT」係「陰極射線管」、及「PDP」係「電漿顯示面板 」之略語、功能性表現、通稱、或業界用語。 【先前技術】
近年來，伴隨電氣電子機器的功能高度化與增加使用 ’電磁性雑訊干擾（Electro Magnetic Interference; EMI )增加。各種畫像顯示裝置也成爲EMI之發生源。例如 PDP係具有資料電極及螢光層之玻璃板與具有透明電極 之玻璃板的組合，一動作時，電磁波大量產生，需要電磁 波之遮蔽。由PDP前面所產生的電磁波之遮蔽性，在3 〇 MHz〜1 GHz中，需要設爲30 dB以上。電磁波雜訊大略 分別’有傳導資訊及放射雜訊。一般，存在有傳導雜訊係 使用雜訊濾波器等予以去除之方法。另一方面，放射雜訊 需要電磁性地將空間絕緣，所以有··將框體以金屬做成、 於電路基板間插入金屬板、以金屬箔捲繞纜線等而予以遮 敝之方法。這些方法針對電路或電源區塊之電磁波遮蔽雖 -5- (2) 1275344 然有效，但是，由CRT、PDP等之畫像顯示裝置的畫面部 所產生的電磁波，卻無法去除，另外，金屬板覆蓋並不透 明，所以不適合。 因此，爲了畫像顯示裝置之畫面部的電磁波遮蔽，有 各種可兼顧對於由MHz頻帶至GHz頻帶之頻率的電磁波 之遮蔽性及對於可見光線頻帶之頻率的電磁波之透明性的 電磁波遮蔽材（電磁波遮蔽裝置）被提出，或製造銷售。 φ其中最具代表性的是，於由樹脂薄片所形成的透明基材上 ，積層由金屬之導電體所形成的網目（網狀體或格子）之 構造的電磁波遮蔽材。關於此種電磁波遮蔽材，最近更要 求於金屬網目上塗佈透明樹脂，且塡充開口部，使金屬網 目表面的凹凸平坦化之如第4圖的構造者。 最近的畫像顯示裝置中，PDP係以大型畫面爲特徵， 前面板所使用的電磁波遮蔽材的大小（外形尺寸）例如， 在 37 型中，爲 621x831 mm，在 42 型中，爲 983x583 mm φ ，也有更大型尺寸的。因此，於金屬網目上設置有透明樹 脂層之構造的電磁波遮蔽用薄片，由製造至對於畫像顯示 裝置之組裝爲止之全部工程及橫跨長期之實際使用期間中 ，知道會有金屬網目與透明樹脂層之層間浮起、剝離之危 險性。 即如第4圖般，透明樹脂層1 7需要在面對畫像顯示 裝置的畫面部1 〇 0之網目部1 0 3的正上邰’無遺漏地加以 覆蓋。但是，即使塗佈位置產生偏差（位置偏差）’爲了 使網目部正上部也不會有透明樹脂層之欠缺部’所以透明 -6- (3) 1275344 樹脂層1 7的塗佈面積需要比網目部1 03的面積寬。進而 ，塗佈的透明樹脂到固化爲止之間，會流動而擴散於外周 。因此，實際上，透明樹脂層係進入由網目部1 03至外周 部的接地用之額緣區域（無開口部之金屬層）1 0 1內2〜3 mm程度而被覆蓋（B部份）。在網目部103中，透明樹 脂層與金屬網目係藉由固定效果（拋錨效果）及接著劑層 I 3之化學密接，透明樹脂層1 7與金屬網目I 03可容易地 H獲得充分之密接。但是，在額緣區域1 0 1中，透明樹脂層 ! 7只與平坦金屬層接觸，固定效果、與接著劑層之化學 密接都無法期待。而且，此部份成爲透明樹脂層1 7與電 磁波遮蔽層（金屬層）15的界面之末端，應力集中於此 。認爲此處容易產生剝離。 因此，作爲使用金屬網目之畫像顯示裝置用之電磁波 遮蔽材，在優異的電磁波遮蔽性、適當的透明性（可見光 透過率）之外，新的課題是要求在製造工程及實際使用期 •間中，電磁波遮蔽材在構成之層間不會浮起、剝離。 (先前技術）以往，知道有於透明塑膠基材的表面， 以金屬等之導電性材料來形成網目部而形成之電磁波遮蔽 材中，以透明樹脂層將該網目部的一部份或全面覆蓋，以 使網目面的凹凸平坦化者（例如，參照專利文獻1及專利 文獻2 )。 這些發明，係藉由塡埋網目的開口部之凹部而使網目 面平坦化，來防止於該網目面上介由接著劑層來積層反射 防止濾波器等其它之層時，開口部內殘留氣泡而使光散亂 (4) 1275344 反射，同時，塡充露出開口部之接著劑的粗糙面’以謀求 使透明性提升之效果。但是’實際上’依據這些發明來嘗 試電磁波遮蔽材之製造時，了解有應進一步解決之新課題 。即畫像顯示裝置的畫面用之電磁波遮蔽材’通常接地的 關係，於網目部的周緣部具有沒有開口部之金屬的額緣區 域1 0 1。而且，全面塗佈於網目部1 〇 3上之透明樹脂層1 7 ，即使塗佈位置有偏差，爲了確實覆蓋網目部1 〇3 ’所以 肇被塗佈爲比網目部1〇3更大的面積，而且’也有塗佈後之 流動所致的擴散，如第4圖般，透明樹脂層1 7端部B會 到達額緣區域1 〇 1上。可是，在額緣區域1 〇 1上，透明樹 脂層1 7係與平坦平滑之金屬面接觸，和網目比相比，本 來透明樹脂層與額緣區域1 〇 1的接著就弱。而且，透明樹 脂層端部B受到外力，剝離應力集中。因此，了解到在該 端部B中，透明樹脂層1 7與額緣區域1 01的剝離經常發 生。在前述先前技術中，關於防止電磁波遮蔽材本身的層 φ間之浮起或剝離，不僅此課題連課題解決手段都沒有記載 及暗示。 [專利文獻1]專利第3 5 7042 0號 [專利文獻2 ]日本專利特開2 0 0 2 - 3 1 1 8 4 3號公報 【發明內容】 此處’本發明係爲了解決此種問題點而完成。其目的 在於提供：一種電磁波遮蔽裝置，設置有包圍網目部的周 緣之透明樹脂層固定部，藉由塡充並覆蓋透明樹脂層固定 -8- (5) 1275344 部之至少一部份，而形成透明樹脂層，具優異的電磁波遮 蔽性、適度的透明性（可見光透過率），而且在製造工程 及實際使用期間中，於由導電體所形成之電磁波遮蔽層與 透明樹脂層之層間，不會浮起、剝離。 本發明係一種電磁波遮蔽裝置，其係被鄰接配置於畫 像顯示裝置的畫面部之前面，其特徵爲··具備有，透明基 材；及設置於透明基材之一面，且由導電體所形成之電磁 鲁波遮蔽層；及設置於電磁波遮蔽層上之透明樹脂層，電磁 波遮蔽層係具有對應畫像顯示裝置的畫面部之形狀，且具 有：含多數排列之開口部的網目部；及包圍網目部之同時 ，包含與多數排列之網目部的開口部相同開口率之開口部 的透明樹脂層固定部；及包圍透明樹脂層固定部之同時， 並不具有開口部之平坦狀的額緣部，透明樹脂層係設置於 從網目部表面至透明樹脂層固定部表面。 本發明係一種電磁波遮蔽裝置，其特徵爲：透明樹脂 #層係從網目部表面全區域延伸至透明樹脂層固定部表面全 區域，且覆蓋額緣部的內側端部而設置。 本發明係一種電磁波遮蔽裝置，其特徵爲：透明樹脂 層係從網目部表面全區域延伸至透明樹脂層固定部表面全 區域，且在透明樹脂層固定部的外側端部結束。 本發明係一種電磁波遮蔽裝置，其特徵爲：透明樹脂 層係從網目部表面全區域覆蓋透明樹脂層固定部的內側端 部而設置。 本發明係一種電磁波遮蔽裝置，其特徵爲：透明樹脂 -9- (6) 1275344 層係由網目部表面全區域延伸至透明樹脂層固定部的中間 部，透明樹脂層固定部的外側未被覆蓋。 本發明係一種電磁波遮蔽裝置，其特徵爲：在透明基 材與電磁波遮蔽層之間，存在有接著層。 如依據本發明，可以提供：具有優第之電磁波遮蔽性 、適度之透明性（可見光透過率），而且，在製造工程及 實際使用期間中，於電磁波遮蔽層與透明樹脂層之層間， φ 不會浮起、剝離之電磁波遮蔽材。 如依據本發明，可以提供：透明樹脂層的材料可以少 量，透明樹脂層的形成位置即使少許偏差也可以對應，在 製造工程及實際使用期間中，於構成之層間不會浮起、剝 離，同時，透明樹脂層塗布位置即使產生偏差’於面對畫 面部之網目部也不會產生透明樹脂層之缺失的電磁波遮蔽 材。 如依據本發明，可以提供：被以接著層所積層之透明 φ基材與電磁波遮蔽層之層間，係被堅固地接著，而且，接 著層也露出網目及開口部的底面，與埋住開口部之透明樹 脂層之層間也堅固地接著，可以更確實達成在製造工程及 實際使用期間中，於構成之層間不會浮起、剝離之效果之 電磁波遮蔽材。 【實施方式】 以下，一面參照圖面一面詳細說明本發明之實施形態 -10- (7) 1275344 第1圖係表示本發明之1實施例的平面圖。 第2(A) (B)圖係第1圖之A部的放大平面圖、 及放大橫剖面圖。 第3(A) ( B ) ( C )圖係說明本發明之層的位置之 重要部位的剖面圖。
(電磁波遮蔽材）依據第1圖至第3(A) ( B ) ( C )圖來說明依據本發明之電磁波遮蔽裝置（電磁波遮蔽材 )° 如第1圖及第2(A) (B)圖所示般，電磁波遮蔽裝 置（電磁波遮蔽材）1例如係被鄰接配置於顯示面板（ PDP等）之畫像顯示裝置的畫面部1〇〇之前面，即觀察者 側。此種電磁波遮蔽裝置1係具備有：透明基材1 1、及 介由接著層13而設置於透明基材11之一面，且由導電體 所形成之電磁波遮蔽層1 5、及設置於電磁波遮蔽層1 5上 之透明樹脂層1 7。 其中，電磁波遮蔽層1 5係具備有：面對如PDP之畫 像顯示裝置的畫面部1 〇〇而配置，同時，具有與畫面部 1 00略相同形狀，且具有多數排列之開口部1 〇3a的網目 部103 ;及包圍網目部103之同時，具有與開口部1〇3 a 同一開口率之開口部105a之透明樹脂層固定部1〇5 ;及 包圍透明樹脂層固定部1 0 5之同時，不具有開口部之平坦 狀的額緣部1〇7。 其中，藉由透明樹脂層固定部1 05、及額緣部；[07而 形成額緣區域1 。另外，透明樹脂層固定部1 〇 5的開口 -11 - (8) 1275344 部1 Ο 5 a係位於畫像顯示裝置的畫面部〗〇 〇的外側，不需 要透視畫像。因此，該開口部1 0 5 a可不一定要貫穿電磁 波遮蔽層15，可由電磁波遮蔽層15的表面至中途爲止。 另外，網目部103係由形成開口部i〇3a之線部i〇3b 所形成，透明樹脂層固定部105係由形成開口部i〇5a之 線部l〇5b所形成，開口部l〇3a與開口部l〇5a係具有相 互具同一尺寸及同一形狀之同一圖案。因此，網目部1〇3 鲁的開口部1 03a之開口率和透明樹脂層固定部.1 05之開口 部1 0 5 a的開口率一致。 進而，在將電磁波遮蔽材1鄰接設置於畫像顯示裝置 的畫面部1 〇〇時，於額緣部1 07係接地。 進而，如第2 ( B )圖所示般，透明樹脂層1 7係由網 目部103表面全區域延伸至透明樹脂層固定部105的表面 全區域，而且，塡充、覆蓋開口部l〇3a、105a。在此情 形，透明樹脂層1 7係在透明樹脂層固定部1 0 5的外側端 _部結束。 另外，透明樹脂層1 7也可延伸至透明樹脂層固定部 1 0 5的中間部，而不覆蓋透明樹脂層固定部1 0 5的外側（ 第3 ( B )圖）。 進而，透明樹脂層1 7也可延伸至透明樹脂層固定部 1 〇 5的表面全區域，同時，覆蓋不具有開口部之額緣部 107的內側端部（第3 ( c )圖）。 以透明樹脂層1 7在透明樹脂層固定部1 〇 5的外側端 結束，不突出於額緣邰〗〇 7爲佳（弟3 ( A )圖）。 -12- (9) 1275344 關於本發明之電磁波遮蔽材1，說明各層之材料及形 成。 (透明基材）作爲透明基材π的材料，只要有耐受 使用條件或製造之透明性、絕緣性、耐熱性、機械強度等 ，可以使用種種的材料，例如，玻璃或透明樹脂。 (玻璃）在玻璃中’可以使用石英玻璃、硼矽酸玻璃 、鈉鈣矽玻璃等，以熱膨脹係數小，尺寸穩定性及高溫加 •熱處理中之作業性優異，另外，玻璃中不含鹼成分之無鹼 玻璃爲佳’可兼用爲畫像顯不裝置的電極基板。 (透明樹脂）在透明樹脂中，可以使用由：聚乙燒對 苯二甲酯、聚丁烯對苯二甲酯、聚乙烯對奈二甲酯、對苯 二甲酸一間苯二酸一乙二醇共聚物、對苯二甲酸一環己院 二甲醇-乙二醇共聚物等之聚酯系樹脂、尼龍6等之聚醯 胺系樹脂、聚丙烯、聚甲基戊烯等之聚烯系樹脂、聚甲基 丙烯酸甲酯等之丙烯系樹脂、聚苯乙烯、苯乙烯一丙烯腈 •共聚物等之苯乙烯系樹脂、三乙醯纖維素等之纖維素系樹 月旨、亞醯胺系樹脂、聚碳酸酯等之樹脂所形成的薄片、薄 膜、板等。 由該透明樹脂所形成的透明基材，可以是由以這些樹 脂爲主成分之共聚物樹脂、或混合體（包含聚合物混合物 )、或複數層所形成之積層體。該透明基材可以是延伸薄 膜、未延伸薄膜，但是，以提升強度之目的而言，以一軸 方向或二軸方向延伸之薄膜爲佳。該透明基材的厚度，在 由該透明樹脂所形成的透明基材時，通常可以使用1 2〜 -13- (10) 1275344 1000//m之程度，但是，以50〜700/zm爲佳 5 0 0 // m較佳。在由該玻璃所形成的透明基材日: 〜5 0 0 0 // m之程度爲佳。任何一種在此以外之 械強度不足，會發生變形或撓曲、斷裂等，在 成爲過剩的功能，成本上爲一種浪費。 通常，聚乙烯對苯二甲酯、聚乙烯對奈二 酯系樹脂薄膜、或玻璃，透明性、耐熱性好， Φ ，可以適當地使用。其中，特別是在難於破裂 易成形等觀點，以聚乙烯對苯二甲酯最適合。 另外，透明性雖然愈高愈好，但是，以可 在8 0 %以上爲佳。 該透明基材在塗布前，可對於塗布面進行 理、電漿處理、臭氧處理、光輝處理、引物（ 也稱爲固定劑、接著促進劑、易接著劑等）塗 熱處理、除塵埃處理、蒸鍍處理、鹼性處理等 #理。該樹脂薄膜可因應需要而添加：紫外線吸 劑、可塑劑、帶電防止劑等添加劑。 (電磁波遮蔽層）作爲遮蔽電磁波之電彳 15，只要是具有足以遮蔽電磁波之導電率的物 別限制，代表上例如由金、銀、銅、鐵、鎳、 充分遮蔽電磁波之具有導電性的金屬所形成之 該電磁波遮蔽層可將作爲獨立層而被製成之金 著劑層而積層於透明基材上所形成，或於透明 蒸鍍、濺鍍、電鍍等使金屬層析出而形成。金 ，以1 0 0〜 Ϊ ，以 1000 厚度時’機 此以上時， 甲酯等之聚 成本也便宜 、輕量、容 見光透過率 電暈放電處 primer ) ( 布處理、預 之易接著處 收劑、塡充 ί兹波遮蔽層 質，並無特 鉻、鋁等可 層來形成。 屬箔介由接 基材上直接 屬或金屬層 -14- (11) 1275344 即使不是單體，也可以是合金或多層。金屬在鐵之情形， 以低碳不脫氧鋼或低碳鋁脫氧鋼等之低碳鋼、Ni - Fe合 金、鎳鐵（invar )合金爲佳，另外，在進行陰極電著時 ，由電著的容易度，以鋼或銅合金爲佳。特別是由製膜所 形成之銅，即銅箔，可以使用壓延銅箔、電解銅箔，但是 ，由厚度的均勻性、與黑化處理及/或鉻酸鹽（處理）層 之密接性、及1 〇 m以下之薄膜化的觀點，以電解銅箔 書爲佳。該金屬箔的厚度可以爲1〜1 00 // m之程度，以5〜 2 0 // m爲佳。在此以下之厚度時，藉由微影法之網目加工 雖然容易，但是，金屬的電氣阻抗値增加，有損電磁波遮 蔽效果，在此以上時，無法獲得所期望之高精細的網目之 形狀，其結果爲：實質之開口率降低，光線透過率降低， 進而，視角也降低，畫像的辨識性降低。 金屬箔或金屬層的表面粗度，以Rz値爲0.5〜10//m 爲佳。在此以下時，即使做黑化處理，外光會鏡面反射， #畫像的辨識性劣化。在此以上時，在塗布接著劑或光阻劑 等時，無法佈滿表面全體，發生氣泡。表面粗度Rz系依 據JIS-B 060 1 ( 1 994年版）所測定之10點平均値。 (黑化及/或防銹處理）會了使電磁波遮蔽層1 5吸 收射入電磁波遮蔽材1外光，提升顯示器之畫像的辨識性 ’於網目狀之導電體的至少觀察側，進行周知的黑化處理 ’使出現對比感，另外，爲了防止防銹功能與黑化處理的 脫落或變形，也可於網目狀的導電體及/或對於黑化處理 面設置周知的防銹層。 -15- (12) 1275344 (黑化處理）該黑化處理如可以使金屬箔或金屬層的 特定面粗化及/或黑化即可，可以使用金屬單體、金屬氧 化物、金屬硫化物、金屬合金之形成或種種之手法。在鐵 之情形，通常在蒸汽中、4 5 0〜4 7 0 °C程度之溫度、曝露 1 0〜20分鐘，可以形成1〜2 // m程度之氧化膜（黑化膜 )，也可藉由濃硝酸等之藥品處理而由Fe304所形成的氧 化膜（黑化膜）。另外，在銅箔之情形，可將銅箔在由硫 着酸、硫酸銅及硫酸鈷等所形成的電解液中，進行陰極電解 處理，使附著陽離子性粒子之陰極電著爲佳。藉由設置該 陽離子性粒子而加以粗化，同時可以獲得黑色。前述陽離 子性粒子雖可以使用銅粒子、銅與其它金屬之合金粒子， 但是，以使用銅-鈷合金粒子爲佳。 (合金粒子）前述陽離子性粒子雖可以使用銅粒子、 銅與其它金屬之合金粒子，但是，以銅-鈷合金粒子爲佳 。如使用銅-鈷合金粒子，黑化程度顯著提升，可良好地 φ吸收可見光。作爲評估電磁波遮蔽用薄片之辨識性的光學 特性，係以依據：IIS-Z8 729之表色系「L*、a*、b*、△ E* 」來表示色調。在L* (亮度）低之外，該「a*」及「b* 」的絕對値小（彩度低）者，電磁波遮蔽層成爲非辨識性 ，畫像的對比感提高，結果上，畫像的辨識性優異。如使 用銅一鈷合金粒子，與銅粒子比較，可使「a*」及「b*」 幾乎接近〇。 另外’銅一姑合金粒于的平均粒徑以0.1〜1 // m爲佳 。在此以上時，如使銅-鈷合金粒子的粒徑變大，導電體 -16- (13) 1275344 層的厚度變薄，在與基材11積層之工程 加工性惡化，另外，密集粒子的外觀欠缺 變得顯眼。在此以下時，粗化不足，畫像 (防銹層）爲了防止對於金屬等之導 處理的防銹功能與黑化處理的脫落或變形 有黑化處理的金屬等之導電體面設置防銹 層可以使用：鎳、鋅、及/或銅之氧化物 鲁層。通常，在進行鋅電鍍後，進行鉻酸鹽 鋅、及/或銅之氧化物的形成，可以使用 厚度可以爲0.001〜l//m，以0.001〜0.1 (鉻酸鹽）該鉻酸鹽處理係對被處理 理液而進行處理。該塗佈方法可以使用： 式塗佈、擠壓塗佈、靜電霧化法、浸漬法 不水洗而乾燥之。在單面施行鉻酸鹽處理 等在單面進行塗佈，在施行於兩面時，可 肇作爲鉻酸鹽處理液，通常使用包含Cr02 ； 。此外，也可以使用於無水鉻酸水溶液添 酸化合物，將6價鉻的一部份還原爲3價 。另外，依據6價鉻附著量之多少，由淡 色，3價鉻爲無色，如管理3價與6價銘 沒有問題之透明性。作爲羥基羧酸化合物 使用：酒石酸、丙二酸、檸檬酸、乳酸、 醇、托品酸、苯甲酸、羥基吉草酸等。還 物而不同，添加量可一面掌握對於3價鉻 中，銅箔切斷、 緻密性，不均狀 的辨識性變差。 電體及/或黑化 ，至少以對於具 層爲佳。該防銹 、或鉻酸鹽處理 處理爲佳。鎳、 周知的電鍍法， // m爲佳。 材塗佈鉻酸鹽處 輥輪塗佈、窗簾 等，塗佈後可以 時，以輥輪塗佈 以浸漬法進行。 共3g/l之水溶液 加不銅的羥基羧 鉻之鉻酸鹽處理 黃色著色爲黃褐 ，可獲得實用上 ，可單獨或合倂 乙二醇酸、丙三 原性係依據化合 之還原而一面進 -17- (14) 1275344 行。具體尙可舉：ArusurflOOO (日本塗料公司製，鉻酸 鹽處理劑商品名）、PM-284 (曰本 ParkerRising公司製 ，鉻酸鹽處理液商品名）等。另外，鉻酸鹽處理可更提高 黑化處理的效果。 黑化處理吉防銹層可至少設置於觀察側，對比提升， 顯示器的畫像之辨識性變好。另外，另一方面，即可設置 於顯示器面側，可抑制由顯示器所發生之走失光線，可更 φ提升畫像的辨識性。 (積層法）作爲透明基材11與電磁波遮蔽層15之積 層法，係有：該業者稱爲乾貼合法之介由接著層1 3而加 以積層之方法，或藉由電鍍法而不介由接著劑層，在透明 基材1 1上直接積層之方法。該電鍍法可以使用對於基材 1 1進行電解或無電解電鍍之周知的電鍍法。 (乾貼合法）所g胃乾貼合法係將分散或溶解於溶媒之 接著劑例如以輥輪塗佈、反轉輥輪塗佈、凹版塗佈等之塗 0佈法而加以塗佈，並將溶劑等加以乾燥，使得乾燥後之膜 厚成爲〇 · 1〜2 0 // m (乾燥狀態）之程度，以1〜1 〇 # m爲 佳’在形成該接者層後’即刻將貼合基材予以積層，之後 ，以30〜80°C、數小時〜數天間之老化來使接著劑硬化 ，以將2種材料加以積層之方法。該乾貼合法所使用的接 著層，可以使用熱硬化型樹脂、或以紫外線或電子束等之 電離放射線使其硬化之電離放射線硬化型樹脂的接著劑^ 熱硬化型樹脂之接著劑具體上可以使用2液硬化型尿院系 接著劑、丙烯系接著劑、橡膠系接著劑等，但是，以2液 -18- (15) 1275344 硬化型尿烷系接著劑爲佳。2液硬化型尿烷系接著劑係藉 由多官能多元醇與多官能異氰酸酯之反應而硬化。多官能 多元醇係可使用：聚酯多元醇、丙烯多元醇、聚醚多元醇 等。另外，多官能異氰酸酯可使用：甲苯二異氰酸酯、二 甲苯異氰酸酯、六甲烯二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯 或這些之附加體或多量體。 (網目）於前述所形成之完全沒有開口部的電磁波遮 馨蔽層15形成網目。該網目係由：與畫像顯示裝置的畫面 部100相對之網目部103、及包圍該網目部的周緣之透明 樹脂層固定部1 05所形成。網目的形成方法可以使用微影 法。 (微影法）於前述積層體之電磁波遮蔽層1 5表面上 設置光阻層成爲網目狀圖案，藉由蝕刻將未被光阻層所覆 蓋的部份之導電體層予以去除後，將光阻層去除，當成網 目狀圖案的電磁波遮蔽層。如第1圖之平面圖所示般，電 ϋ磁波遮蔽層1 5係由內側朝向外側依序由：網目部1 03、 及透明樹脂層固定部105.、及沒有開口部之額緣部107所 形成，如第2 ( A )圖之放大平面圖及第2 ( Β )圖之放大 橫剖面圖所示般，網目部1 03及透明樹脂層固定部1 05係 包含藉由殘留有金屬層之線部l〇3b、105b而被包圍之複 數的開口部1 〇 3 a、1 0 5 a，不具有開口部之額緣部1 0 7係 沒有開口部，而全面殘留有金屬層。 微影法也和積層法相同，以帶狀連續捲取之輥輪狀的 加工爲佳。一面連續或間歇地搬運透明基材Π與電磁波 -19- (16) 1275344 遮蔽層1 5之積層體’ 一面在沒有鬆弛而伸張之狀態下’ 進行遮蔽、鈾刻、光阻剝離。另外’遮蔽例如係將感光性 光阻劑塗佈於電磁波遮蔽層（導電體層）並予以乾燥後， 以具有特定的圖案（網目的線部與額緣部）之母版（光罩 )予以密接曝光，進行水顯影，施以硬膜處理等，並予以 烘烤。光阻劑的塗佈係一面將捲取輥輪狀的帶狀之積層體 予以連續或間歇性地搬運，一面對該電磁波遮蔽層面以浸 漬、窗簾式塗佈、瀑流式等方法來塗佈酪蛋白、PVA、凝 膠等之光阻劑。另外，光阻劑可以不用塗佈，而使用乾薄 膜光阻劑，可以提升作業性。烘烤在酪蛋白光阻劑之情形 ，通常在200〜300 °C進行，爲了防止積層體之變形，儘 可能以100 °C以下之低溫度爲佳。 (蝕刻）遮蔽後，進行蝕刻。該蝕刻所使用之蝕刻液 ，在連續進行鈾刻之本發明中，以可以容易循環使用之氯 化鐵、氯化銅之溶液爲壓。另外，該蝕刻係和製造將帶狀 馨而連續之鋼材，特別是厚度2 0〜8 0 " m之薄板加以蝕刻 之彩色TV的陰極射線管用的影像光罩之設備基本上爲同 樣的工程。即可援用該影像光罩之既存的製造設備，由遮 蔽至蝕刻爲止，可一貫地連續生產，極爲有效率。蝕刻後 ’予以水洗、藉由鹼性液之光阻劑剝離、進行洗淨後加以 乾燥即可。 (網目部）網目部1 03係藉由由透明樹脂層固定部 1 〇 5及額緣i 〇 7所形成的額緣區域1 〇〗所包圍而形成的區 域。網目部103係由藉由線部l〇3b所圍繞之複數的開口 -20- (17) 1275344 部1 Ο 3 a所形成。開口部1 〇 3 a的形狀（網目圖案）並無特 別限定，例如’可以使用：正三角形等之三角形、正方形 、長方形、菱形、梯形等之4角形、6角形等之多角形、 圓形、橢圓形等。只以這些之開口部I 〇3a之1種，或組 合複數種而當成網目。由開口率及網目的非辨識性，線寬 爲2 5 a m以下，以2 0 // m以下爲佳，線間隔（線間距） 由光線透過率而言，在1 5 0 // m以上爲佳，以2 0 0 // m以 上較佳。而且，開口率（對於全面積之開口部面積之比率 )係設爲85〜95 %之程度。另外，偏斜角度（網目之線 部與電磁波遮蔽層之邊所形成的角度）爲了波紋解除等， 可考慮顯示器之畫素與發光特性而適當選擇之。 (透明樹脂層固定部）透明樹脂層固定部1 05之網目 圖案也設爲和網目部1 〇3的網目圖案相同。所謂相同係以 與該網目部103之開口部l〇3a相同形狀及相同尺寸，且 具有相同開口率之開口部1 〇5a的圖案。當然，與網目部 # 1 〇3完全相同之形狀及相同尺寸的圖案也可以，但是，包 含製造環境或光罩、及工程上之加工精度所致之誤差，或 爲了能耐對於網目部1 〇 3與不具有開口部之額緣部1 〇 7的 邊界部之應力集中，少許使網目的線寬變粗等之設計上的 理由關係，也容許在尺寸、形狀上多少與網目部具有差異 。如此一來，網目圖案之光罩可以是單一，工程變得容易 ’可低成本地製造。另外，於使電磁波遮敝材1之網目部 1 0 3與畫像顯示裝置的畫面部1 0 0相對時之對位精度具有 餘裕，可以提升良率。 -21 - (18) 1275344 (平坦化與透明化）透明樹脂層1 7所具有之功能係 網目部的平坦化及透明化。網目部I 〇3與透明樹脂層固定 部105 —被形成時，線部l〇3b、105b雖有電磁波遮蔽層 15之厚度，但是，開口部103a、105a被去除而成爲空洞 ，電磁波遮蔽層1 5會成爲凹凸狀態。該凹凸在下一工程 被塗佈接著劑（或黏著劑）時，雖以該接著劑或黏著劑等 加以埋住，但是，在開口部1 〇3 a、1 〇5a形成後，即刻貼 H於顯示器時，在露出凹凸之狀態下，作業性不好，所以以 透明樹脂層1 7埋住凹部而使其平坦化。另外，該透明樹 脂層.1 7係在開口部的底面露出有透明基材1 1或接著層 1 3，該透明基材1 1或接著層1 3，特別是接著層1 3的表 面會有電磁波遮蔽層15之凹凸被轉印之凹凸形狀，根據 該凹凸之散亂反射，透明性顯著變低。如將此凹凸以透明 樹脂層1 7加以埋住而使其平坦化時，可以提升透明性。 爲了平坦化，雖將透明樹脂塗佈於凹部而加以埋住， •但是如不進入至凹部的角落爲止，氣泡殘留，透明性劣化 。因此，以溶劑等加以稀釋，以低黏度加以塗佈而使其乾 燥、或一面將空氣予以脫氣而加以塗佈，來形成透明樹脂 層1 7。另外，此處所謂「平坦化」，係不使顯示器畫像 歪曲、不會基於光散射而生霧狀之程度的平面性即可。但 是，在畫像不生歪曲、霧狀之範圍中，將表面阻隔或電磁 波遮蔽層加以捲取、堆疊時，爲了防止各電磁波遮蔽材之 層間殘留空氣（氣泡），係容許於平坦面之中存在有微小 凹凸（襯墊狀）。即可以在與網目部的週期同程度之大局 •22- (19) 1275344 尺度上，作爲平坦面而賦予平坦化與透明化的功能，且在 該平坦面上以和網目部的週期相比爲微觀之尺度下，局部 性重疊形成有微小凹凸，來防止捲取時之氣泡混入。 (透明樹脂層）透明樹脂層1 7只要是透明性高、與 網目導電體之接著性好、與下一工程之接著劑的接著性好 即可。但是，透明樹脂層1 7的表面有突起、凹陷、不均 時，在設置於顯示器前面時，會產生霧狀、干涉不均、牛 馨頓環，並不理想。合適之方法爲：作爲樹脂將熱硬化型樹 脂或電離放射線硬化型樹脂以周知的間歇式刀模塗布法等 塗布爲所期望圖案狀後，以平面性優異而具有剝離性之剝 離性基材加以積層，以熱或紫外線使塗布樹脂硬化，將剝 離性基材予以剝離去除。透明樹脂層1 7之表面被轉印平 面性基材的表面，得以形成平坦且平滑的面。 (電離放射線硬化型樹脂）該透明樹脂層1 7所使用 之樹脂並無特別限定，可以使用各種天然或合成樹脂。塗 ®布之樹脂的硬化形態雖可以使用熱硬化型樹脂、電離放射 線硬化型樹脂等，但是，由樹脂的耐久性、塗布性、容易 平坦化、平面性等，以丙烯系之紫外線硬化型樹脂爲佳。 電離放射線硬化型樹脂主要係具有藉由紫外線、電子束之 電離放射線的照射’沒有開始劑等，或者接受開始劑的作 用而引起架橋、聚合反應之官能基的齊聚物及/單體聚合 之電離放射線硬化型樹脂或其之組成物的硬化物。 可成爲電離放射線硬化型樹脂之齊聚物或單體，主要 雖可使用分子中具有丙烯醯基、甲基丙烯醯基、丙烯醯氧 -23- (20) 1275344 基、甲基丙烯醯氧基等之具有乙烯性二重結合 合性者，但是，在此以外，也可以使用含有環 合物之陽離子聚合性的齊聚物及/或單體。 (電離放射線）所謂電離放射線係意指在 電粒子束中，具有可使分子聚合、架橋之能量 常’使用紫外線、電子束等。在紫外線之情形 裝置（線源）可以使用：高壓水銀燈、低高壓 馨素燈、碳弧燈、不可見光燈等。以紫外線之能 爲190〜450 nm程度、照射線量爲50〜1000 佳。在電子束之情形，作爲照射裝置（線源） 壓發生型（Cockcroft-Walton)、帶式圖型、 型、絕緣鐵心變壓器型、或直線型、代納負阻 型等之各種電子束加速器等。以電子束之能量 )爲70〜1000 keV爲佳，以100〜300 keV程 量通常爲0.5〜30 Mr ad之程度爲佳。另外， 化時，也可使電離放射線硬化性樹脂組成物不 始劑。 (透明樹脂層之塗布位置）透明樹脂層1 置很重要。 本來，透明樹脂層〗7的塗布位置係如第 示般，雖可以由網目部1 〇3至透明樹脂層固定 蓋表面，而且，塡充該開口部l〇3a、105a而 形成，不進入不具有開口部之額緣部W 7而塡 部1 0 3 a、1 0 5 a之全部，但是，塗布的位置控 的活性基聚 氧樹脂基化 電磁波或帶 量子者，通 ，作爲照射 水銀燈、鹵 量（波長） m J / c m2 爲 係使用：高 共振變壓器 管型、高頻 (加速電壓 度、照射線 在電子束硬 含有聚合開 7的塗布位 3 ( A )圖所 部1 〇 5而覆 加以覆蓋地 充覆蓋開口 制需要高精 -24- (21) 1275344 度，難度變高。 因此，如第3 ( B )圖所示般，塡充覆蓋至透明樹脂 層固定部1 0 5的開口部1 0 5 a之內周部爲止而停止，關於 透明樹脂層固定部1 05的外周部，則係開口部1 05a未覆 蓋、未塡充而殘留。如此一來，透明樹脂層之塗布位置即 使在前後左右有偏差，可以防止透明樹脂層1 7的末端之 位置可後退至網目部1 03內部、或侵入至不具有開口部之 馨額緣部1 〇 7爲止。另外，如第3 ( C )圖所示般，由網目 部103塡充覆蓋透明樹脂層固定部1〇5的開口部i〇5a而 埋住開口部1 05a，進而，即使多少侵入不具有開口部之 額緣部1 0 7，只要是在1 0 5 a的3週期份程度以下，更好 在1週期份以下之距離，則可以期待透明樹脂層1 7與電 磁波遮蔽層1 5之剝離防止效果，能達成本發明之效果。 第4圖係說明以往之透明樹脂層的位置之重要部位的 剖面圖。 # 即以往之透明樹脂層1 7的塗布位置係如第4圖所示 般。即首先，埋住與畫面部相對之網目部1 03的的開口部 1 〇3 a。然後，沒有透明樹脂層固定部，塗布位置通常即可 有2〜3 mm程度偏差，爲了確實覆蓋網目部103，使透明 樹脂層1 7侵入吸收塗布位置的偏差份之2〜3 mm程度以 上（網目開口部1 0週期份以上）之不具有開口部的額緣 區域（二額緣部）1 〇 1內。 透明樹脂層1 7與額緣部1 0 1之密接性，係比透明樹 脂層1 7與接著層1 3或透明基材1 1的密接性小。因此， -25- (22) 1275344 透明樹脂層1 7如大大覆蓋額緣部1 〇 1時，由電磁波遮蔽 材1之製造至對於顯示器之組裝爲止的全部工程中所施加 的外力，及長期中實際使用期間中，冷熱重複、吸放溼氣 重複等所致之週期性基材的伸縮時，因各層之伸縮率等所 產生的應力等，會有透明樹脂層與電磁遮蔽層之層間浮起 、剝離的情形。進而，透明樹脂層1 7覆蓋額緣部101的 部份，不具有開口部，所以厚度變厚而產生階差，容易成 φ 爲剝離的起因。 相對於此，在本發明之電磁波遮蔽材1中，透明樹脂 層1 7埋入至網目部1 03及透明樹脂層固定部1 05的開口 部103a、105a，所以物理性之拋錨（固定）效果大。在 此之外，也有前述之透明樹脂層1 7與接著層1 3或透明基 材1 1之密接性提升效果的相乘效果，可以防止透明樹脂 層1 7與電磁波遮蔽層1 5之剝離。 即在本發明中，於第3圖之額緣部1 07的內周部設置 鲁包圍網目部1 03的周緣之透明樹脂層固定部1 05，形成透 明樹脂層1 7而塡充透明樹脂層固定部1 05的至少1部份 的開口部1 05a而加以覆蓋。如此一來，顯現層間密接力 與拋錨效果，在製造工程及實際實用期間中，於構成之層 間不會浮起、剝離，且可有藉由電磁波遮蔽層1 5之優異 的電磁遮蔽性、開口部的底面的凹凸被解除，而有適當的 透明性（可見光透過性）。 另外，也可對本發明之電磁波遮蔽材1賦予吸收可見 光線及/或近紅外線之特性波長之功能、反射防止功能、 -26- (23) 1275344 硬塗層功能、防污功能、防眩功能等之功能，將具有該功 能之層設置於任意的表背面及/或層間之其一。 (NIR吸收層）進而，也可對透明樹脂層1 7所使用 之樹脂添加吸收可見光線及/或近紅外線之不需要的特定 波長之光線吸收劑。藉由吸收可見光線之特定波長，可以 抑制畫像之天然色的不自然、不快感，畫像的辨識性得以 提升。由PDP所發出之可見光區域的不需要特定波長， 鲁通常以氖原子之光譜光的波長5 90 nm附近之橘色爲多， 以適當吸收5 90 nm附近者爲佳。所謂近紅外線之特定波 長係78 0〜1 100 nm程度。以能吸收該780〜1 100 nm之波 長區域的 8 0 %以上爲佳。藉由吸收特定之近紅外線，可 以防止以位於畫像顯示裝置周邊之近紅外線使·之動作的遙 控操作機器的誤動作。該近紅外線吸收劑（稱爲NIR吸 收劑）雖無特定限制，但是，可以使用在近紅外線區域具 有急遽之吸收，可見光線區域的光透過性高，且在可見光 馨線區域沒有特定波長之大的吸收的色素等。作爲吸收該可 見光區域的不需要之特定波長之色素，例如有：聚甲川系 色素、Π卜啉色素等。該近紅外線吸收色素則有：二亞氨系 化合物、花青系化合物、苯二甲藍系化合物、二硫系絡合 物等。在不對透明樹脂層1 7添加NIR吸收劑時，可將具 有NIR劑之別的層（稱爲NIR吸收層）設置於至少其中 一面即可。 (NIR吸收別層）NIR吸收層也可設置於透明樹脂層 1 7測及/或相反側之基材1 1側。該NIR吸收層可以接著
-27- (24) 1275344 劑而將具有N1R吸收劑的市售薄膜（例如，東洋結織公 司製、商品名N 〇 2 8 3 2 )加以積層、使結合劑含有先前的 N IR吸收劑而加以塗布。該結合劑可以使用聚酯樹脂、尿 烷樹脂、丙烯樹脂、或利用熱硬化型或紫外線硬化型等之 環氧基、丙烯酸酯基、甲基丙烯酸酯基、異氰酸酯基等之 反應的硬化型等。 (AR層）進而，雖未圖示出，但是，也可於電磁遮 蔽材之觀察側設置反射防止層（稱爲AR層）。反射防止 層係用以防止可見光線的反射者，其構造係可爲單層、多 層，多數有市售。單層者係於表面積層有低折射率層而形 成。另外，多層者係交互將高折射率層與低折射率層予以 積層，而使最表面成爲低折射率層，高折射率層係有：氧 化鈮、氧化鉻、ΙΤΟ等，低折射率層係有：氟化鎂、矽氧 化物。另外，也有具有具將外光予以散亂反射之微細的凹 凸表面之層者。 φ (硬塗層、防污層、防眩層）進而，也可於反射防止 (AR )層設置：硬塗層、防污層、防眩層。硬塗層係具 有以]IS 5 4 0 0之鉛筆硬度試驗爲Η以上之硬度的層，以 熱或電離放射線使聚酯丙烯酸酯、尿烷丙烯酸酯、環氧丙 烯酸酯等之多官能丙烯酸酯硬化。防污層係疏水性、疏油 性之塗料，可以使用矽氧烷系、氟化烷基甲矽烷化合物等 。防眩層矽具有將外光予以散亂反射之微細的凹凸表面之 層。 (直接貼裝）成爲網目狀之電磁遮蔽層側設爲觀察側 -28- d (25) 1275344 ，如必須對該電磁遮蔽層至少設置黑化處理、防銹層，例 如，可以直接貼裝於P D P。額緣部1 〇 7露出表面的關係， 容易將電極引出而進行接地。另外，該額緣部1 〇 1係被黑 化處理，黑的面成爲觀察側，前面玻璃板之設置爲額緣狀 之黑色印刷變成不需要，工程可以縮短，成本面有利。 以下，依據實施例及比較例，更詳細說明本發明，但 是，並不限定於此。 [實施例1] 作爲電磁波遮蔽層1 5，係使用於厚度1 〇 // m之電解 銅箔之單面上依據積層平均粒徑0.3//m的銅-鈷合金粒 子之黑化層、及鉻酸鹽（處理）層所形成的導電體。以2 液硬化型尿烷系接著劑1 3而將此銅-鈷合金粒子層的鉻 酸鹽（處理）層面與厚度100 之2軸延伸PET薄膜 A4 3 00 (東洋紡織公司製、聚乙烯對苯二甲酯商品名）所 •形成之透明基材1 1予以貼合後，以56°C共4天時間使其 老化。接著劑係使用：主劑爲聚酯尿烷多元醇，而且，硬 化劑爲二甲苯異氰酸酯所形成之2液硬化型尿烷樹脂，塗 布重設爲乾媒後之厚度爲7// m。 在藉由微影法來形成網目時，可以援用以連續之帶狀 由遮蔽進行至蝕刻爲止之彩色TV影像光罩用的製造生產 線。首先’對於導電體層面之全體以瀑流法塗布酪蛋白光 阻劑。搬運於下一工作站，使用具有下述形狀之圖案的母 版，藉由來自水銀燈之紫外線予以密接曝光。陸續搬運於 -29- (26) 1275344 工作站間，進行水顯影、硬膜處理，進而，加熱而 烤。 前述圖案版之形狀係面對如第1圖之畫像顯示 42型（橫向長度：相對於對角線長42英吋）的 100，具有··正方形的開口部103a以線寬22// m、 (間距）300 // m、偏斜角度49度所配置之網目部 及與包圍該網目部1〇3的周緣之網目部103相同形 φ具有同一開口率之開口部105a，爲5 mm寬之透明 固定部105 ;及包圍該透明樹脂層固定部105的周 10 mm寬之不具有開口部的額緣部107。 進而，搬運於下一工作站，作爲蝕刻液係使用 溶液，以噴灑法吹出而進行蝕刻，形成開口部 I 〇 5 a。陸續一面搬運於工作站間，一面水洗、剝離 、洗淨、進而，加熱而乾燥之。另外，網目部1 〇3 樹脂層固定部1 05之線寬雖使用22 // m之光阻劑 φ，但是，蝕刻後之線寬成爲1 2 ± 5 // m ( 7〜1 7 // m 結果爲：開口率於網目部1 〇 3、及透明樹脂層固定 都是92%。 藉由與網目部1 03及透明樹脂層固定部1 05相 (即以5 mm寬度包圍網目部與該網目部的周緣之 ，以間歇刀模塗布法對如此所獲得之網目部1 及 脂層固定部1 0 5塗布下述組成之透明樹脂層〗7組 貼合厚度爲50//m之SP-PET20-BU(Tosero公司 面離型處理PET薄膜商品名）後’使用局壓水銀 加以烘 裝置的 畫面部 線間隔 103 ； 狀，且 樹脂層 緣，爲 氯化鐵 103a、 光阻劑 與透明 圖案版 )。其 部105 同圖案 圖案） 透明樹 成物， 製，表 燈，進 -30- (27) 1275344 行2 00 mj/ cm2之曝光（換算爲3 65 nm )。 透明樹脂層組成物係使用：N —乙烯一 2 —吡咯烷酮 20質量部、二環戊烯基丙烯酸酯25質量部、齊聚物丙烯 酸酯（東亞合成（股）製，M-8060) 52質量部、1 一羥基 環己基聯苯酮（Chibagaigi公司製、伊魯加基亞184 (商 品名））3質量部。 然後，如將SP-PET-20-BU加以剝離時，如第3 ( A ) 鲁圖所示般，網目部103的開口部103a及透明樹脂層固定 部1 05的開口部1 05 a被以透明樹脂層1 7塡充覆蓋，可獲 得平坦化之實施例1的電磁遮蔽材。 [實施例2] 將透明樹脂層1 7組成物塗布於網目部1 03，且對該 網目部103的外周部之透明樹脂層固定部105以2.5 mm 寬度塗布。此外，與實施例1相同，如第3 ( B )圖所示 ϋ之網目部103的開口部103a及透明樹脂層固定部1〇5的 開口部1 0 5 a的內周側之一部份被以透明樹脂層1 7所塡充 覆蓋，而獲得平坦化之實施例2的電磁遮蔽材。另外，透 明樹脂層固定部1〇5的外周部係以2.5 mm寬度露出開口 部 1 0 5 a。 [實施例3] 將透明樹脂層1 7組成物塗布於網目部1 03，且在網 目部1 03的外周之透明樹脂層固定部1 05及其外周以共計 -31 - (β) (28) 1275344 5.5 mm寬度加以塗布。在此以外，與實施例1相同，獲 得網目部1 0 3的開口部1 0 3 a及透明樹脂層固定部1 〇 5的 開口部1 0 5 a被以透明樹脂層1 7所塡充覆蓋，進而，不具 有開口部之額緣部107的內周部以0.5 mm寬度（開口部 1 · 7週期份）被覆蓋之實施例3的電磁遮蔽材。 (比較例1 )圖案版之形狀係面對畫像顯示裝置的4 2 型（橫向長度：相對於對角線長42英吋）的畫面部，具 •有：開口部爲正方形，線寬22 // m、線間隔（間距）3 00 // m、偏斜角度49度之網目部1 03 ;及不設置透明樹脂層 固定部105 ;及直接包圔網目部103的周緣，爲15 mm寬 之不具有開口部的額緣部1 0 1。進而，透明樹脂層1 7組 成物之塗布圖案係包含：如第4圖所示之網目部1 〇3 ;及 位於該網目部的外周部而不具有開口部之額緣部1 07的內 周部3 · 5 mm寬（開口部1 1 .7週期份）。此以外，係與實 施例1相同，獲得比較例1之電磁遮蔽材。 # (評估方法）評估係以熱衝擊試驗後之層間密接性來 進行。熱衝擊試驗係設爲-4(TC、1小時與80°C、1小時 之重複共100次，進行該熱衝擊試驗後，於室溫25 °C中 ，以 25 mm寬之Nichiban公司製的玻璃紙黏著膠帶之 Cellotape (登錄商標），由透明樹脂層面至沒有透明樹脂 之額緣部上的區域充分加以覆蓋而黏貼，由無透明樹脂層 之部份強制予以剝離。 該剝離係設透明樹脂層在透明基材及/或電磁遮蔽層 之間，產生浮起或剝離者爲不合格，設沒有發生浮起或剝 -32- (29) 1275344 離者爲合格。 另外，全光線透過率、辨識性、電磁遮蔽性也加以測 定。 辨識性係載置於PDP ; W000 (日立製作所公司製、 商品名）的前面，依序使顯示測試圖案、白、及黑，由畫 面距離5 0 cm之距離，辨識角度0〜8 0度的範圍，以目視 來觀察。 p 全光線透過率係依據 JIS-K73 6 1 - 1，使用色彩機 HM 1 5 0 (村上色彩公司製、商品名），在網目部中測定。 電磁遮蔽性係藉由KEC法（財團法人關西電子工業 振興中心所開發之電磁波測定法）來測定。 (評估結果）實施例1〜3、比較例1之任何一種’ 網目部的全光線透過率都是83.0%，爲良好。另外，電磁 遮蔽性在實施例1〜3、比較例1之任何一種，在頻率3 0 MHz〜1000 MHz之範圍中，電磁場之衰減率爲30〜60 dB ^1，電磁遮蔽性也很充分。 另外，熱衝擊試驗後之層間密接性，在實施例1〜3 之電磁遮蔽材中，沒有發生浮起或剝離，都是合格，但是 ，在比較例1中，於額緣部產生浮起或剝離，係不合格。 進而，將層間密接性良好之實施例1〜3的電磁遮蔽 材設置於P D Ρ顯示器的前面板，使顯示畫像而評估辨識 性，辨識性都良好。 【圖式簡單說明】 -33- (30) 1275344 第1圖係表示依據本發明之電磁波遮蔽裝置的平面圖 〇 第2(A) (B)圖係第1圖之A部的放大平面圖、 及放大橫剖面圖。 第3(A) ( B ) ( C )圖係說明本發明之層的位置之 重要部位的剖面圖。 第4圖係說明以往的透明樹脂層之位置的重要部位的 _剖面圖。 【主要元件符號說明】 1 :電磁波遮蔽材 _ Π :透明基材 13 :接著層 1 5 :電磁波遮蔽層 1 7 :透明樹脂層 1 0 0 ·畫面部 103 :網目部 1 0 3 a :開口部 1 0 5 :透明樹脂層固定部 1 0 5 a :開口部 1 〇 7 :額緣部 -34