WO2010036075A2 - 오프셋 인쇄용 클리쉐 및 이를 이용해 제조된 제품 - Google Patents

오프셋 인쇄용 클리쉐 및 이를 이용해 제조된 제품 Download PDF

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WO2010036075A2
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offset printing
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mesh
mesh pattern
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전상기
황인석
이동욱
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주식회사 엘지화학
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    • H05K2203/0534—Offset printing, i.e. transfer of a pattern from a carrier onto the substrate by using an intermediate member

Definitions

  • the present invention relates to an offset printing cliché used to form a mesh pattern having a plurality of intersections and a product manufactured by the same. More specifically, the offset printing designed to solve a line width reduction occurring around an intersection of a mesh pattern. It relates to a cliché and a product made using the same.
  • micro pattern formation method through such a printing technique is currently being applied to color filters, electromagnetic shielding filters (EMI filters), TFT wiring, micro pattern substrate formation, and the like.
  • EMI filters electromagnetic shielding filters
  • a printing technique capable of forming a fine pattern includes gravure printing, offset printing, screen printing, and the like. Of these, offset printing is particularly useful because a relatively fine printing pattern can be manufactured with a uniform thickness.
  • Offset printing is to apply a paste such as ink to a printing cliché in which grooves are formed in a pattern to be printed to fill the paste in the grooves, and remove excess paste applied to the non-grooves with a doctor blade. It is a method of printing a pattern by transferring the paste filled in the grooves to a silicon blanket (off process) and retransferring the paste transferred to the silicate blanket into a to-be-printed object (set process).
  • the offset printing cliché is formed by etching a metal substrate to form grooves or etching a special organic substrate. For example, a thin film of chromium or the like is formed on a glass substrate, and then a photosensitive resin is applied thereon, and a portion where a groove is to be formed is exposed by a laser beam or the like. Then, the photosensitive resin of the exposed portion is removed through development to expose the chromium film of the portion where the groove is to be formed, and then the chromium of the exposed portion is removed by etching, thereby exposing the glass and etching it again with a fluorine solution.
  • the cliché for offset printing which has the groove part which has an appropriate width and depth can be manufactured.
  • the surface of the glass substrate may be hybrid-nickel-treated or diamond-like coating (DLC). Methods for improving the surface strength of glass substrates have been developed.
  • the fine pattern may be formed by a simple method of filling a paste into an offset printing cliché in which a desired pattern manufactured by the above method is engraved. In the case of such an offset printing method, the process is simpler than the conventional photolithography method and the manufacturing cost is reduced.
  • the pattern to be printed has a plurality of intersections, there is a problem in that a line width reduction phenomenon appears around the intersections of the patterns when the pattern is formed by using offset printing.
  • 1 is a photograph of a mesh pattern printed using a conventional offset printing cliché. As shown in FIG. 1, when a mesh pattern is formed using a conventional offset printing cliché, it may be seen that a line width reduction phenomenon occurs around an intersection portion.
  • the reduction of the resistance characteristics due to the reduction of the line width of the intersection portion can be solved to some extent by increasing the line width.
  • the transmittance decreases due to the increase in the line width, thereby causing a new problem that the luminance of the display device is lowered.
  • the present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide an offset printing cliché developed to solve a line width reduction or disconnection problem around an intersection with little effect on overall transmittance. It is done.
  • the present invention in one aspect, in the offset printing cliché formed a mesh pattern having a plurality of intersections, the intersection of the mesh pattern is characterized in that the curved shape having a radius of curvature of 0.6 to 4 times the line width of the mesh An offset printing cliché is provided.
  • the radius of curvature of the intersection is more preferably 1 to 4 times the mesh line width, more preferably 1 to 3 times, and most preferably 1 to 2 times.
  • the line width of the mesh pattern is preferably about 10 to 100 ⁇ m
  • the average pitch of the mesh pattern is preferably about 100 to 1000 ⁇ m.
  • the cliché for offset printing may be a concave plate in which a mesh pattern is engraved or an iron plate in which a mesh pattern is embossed.
  • the cliché for offset printing may be made of a metal plate, a glass plate, a hybrid nickel-treated glass plate or a DLC coated glass plate.
  • the present invention provides an article comprising a mesh pattern that is curved in shape with intersections having a radius of curvature of 0.6-4 times the mesh line width.
  • the product may be a wiring board, a circuit board, an electromagnetic shielding filter, or a color filter.
  • the offset printing cliché of the present invention treats the intersection portion as a curve to increase the line width of the intersection portion, thereby preventing occurrence of line width reduction or disconnection at the intersection portion.
  • 1 is a photograph showing a mesh pattern printed using a conventional offset printing cliché.
  • FIG. 3 is a photograph showing a mesh pattern printed using an offset printing cliché of the present invention.
  • 5 is a graph showing a change in sheet resistance according to the radius of curvature of the intersection of the patterns of the offset printing cliché.
  • the offset printing cliché of the present invention is formed with a mesh pattern having a plurality of intersections, characterized in that the intersection of the mesh pattern is processed in a curved form.
  • the intersection means a portion crossing the horizontal line and the vertical line of the mesh pattern.
  • the intersection portion has a radius of curvature R of 0.6 to 4 times, preferably 1 to 4 times, more preferably 1 to 3 times, and most preferably 1 to 2 times the mesh line width W.
  • R a radius of curvature
  • the treatment in a curved form having a is a part of the circumference whose radius is 0.6 to 4 times, preferably 1 to 4 times, more preferably 1 to 3 times, and most preferably 1 to 2 times the mesh line width. It is preferable to make.
  • the reason for limiting the shape of the intersection in this way is as follows. This is because when the radius of curvature of the curved portion is less than 0.6 times the line width, there is almost no effect of improving the resistance. When the radius of curvature is more than 4 times, the cross section becomes too large, the transmittance is deteriorated, and the linearity of the line is deteriorated. In addition, when the area of the intersecting portion becomes larger, the pitting phenomenon due to the deformation of the doctor blade increases, and the printing height of the intersection portion is considerably lowered, resulting in poor surface resistance characteristics.
  • the mesh pattern will vary depending on the pattern to be printed and the applied product, but in general, it is preferable that the line width W is about 10 to 100 ⁇ m and the pitch P is about 100 to 1000 ⁇ m.
  • the line width of the mesh pattern means the shortest length in the orthogonal direction of the lines constituting the mesh pattern
  • the pitch of the mesh pattern means the minimum repetitive length between the lines constituting the pattern.
  • the mesh line width is less than 10 ⁇ m, a large number of disconnection of the printed pattern will occur, and the final sheet resistance will be increased. If the mesh line width exceeds 100 ⁇ m, the transmittance decrease due to the printed pattern will occur. In addition, the pattern line is conspicuous. If the pitch is less than 100 ⁇ m, the decrease in transmittance occurs and if the thickness exceeds 1000 ⁇ m, the sheet resistance due to the pattern spacing not only increases, but the presence of the pattern is easily found.
  • the cliché for offset printing of the present invention is preferably in the form of a plate rather than a printing plate in the form of a roll. This is because the flat printing plate is superior to the straightness of the line after printing than the printing plate in the roll form, and as a result, the surface resistance characteristics of the printed matter are more excellent.
  • a concave plate in which a print pattern is engraved may be used, or an iron plate in which a print pattern is embossed may be used.
  • the cliché for offset printing may be made of various materials used in the art, for example, a metal plate, a glass plate, a hybrid nickel plated glass plate, or a DLC coated glass plate. Among them, it is particularly preferable to use a hybrid nickel-treated glass plate or a DLC-coated glass plate having excellent surface strength.
  • the offset printing cliché of the present invention made as described above may be usefully used when manufacturing a product having a mesh pattern having a plurality of intersections.
  • the cliché for offset printing of the present invention can be used for the production of a product having a mesh pattern having a plurality of intersections, such as a circuit board, a wiring board, or an electromagnetic shielding filter of an electronic device.
  • Products of the present invention formed by the offset printing cliché of the present invention is characterized in that the cross section comprises a mesh pattern made of a curved shape having a radius of curvature of 0.6 to 4 times the line width of the mesh.
  • the line width is widened while the cross portion is formed in a curved shape, the line width reduction phenomenon around the cross portion is improved, and as a result, the sheet resistance property of the product is improved as compared with the related art.
  • the line width of the intersection which is the main cause of the reduction of the surface resistance characteristic, and the line width of the remaining portion are maintained, thereby making almost no change in the aperture ratio, and consequently the surface with little change in the transmittance and reflectance. Since it improves the resistance characteristic, it can be particularly useful for devices related to displays.
  • the products of the present invention as described above include a circuit board, a wiring board, an electromagnetic shielding filter, a micro pattern substrate, a TFT wiring, a color filter, and the like.
  • the product of the present invention can be manufactured through a conventional offset printing method using the offset printing cliché of the present invention.
  • the paste is applied to the offset printing cliché of the present invention to fill the paste in the print pattern, the excess paste is removed using a doctor blade, and then the print pattern is transferred to the silicon blanket, which is then transferred to the to-be-printed object. It can be prepared in a way.
  • a printed plate was engraved with a mesh pattern processed in a curved form having a pitch of 270 ⁇ m, a line width of 20 ⁇ m, a depth of 9.5 ⁇ m, and a cross section of a curvature radius of 20 ⁇ m.
  • the paste prepared by the above method was applied onto the printing plate, the paste was filled in the recessed portion, and excess paste was removed using a doctor blade. Then, the mesh pattern was printed on a glass substrate in a size of 370 ⁇ 470 mm 2 using a blanket for printing, and then fired at 580 ° C. for 10 minutes.
  • Transmittance and reflectance were measured using Shimadzu UV-3600, and surface resistance was measured by Mitsubishi Chemical Loresta GP.
  • a printed matter was prepared in the same manner as in Example 1 except that the intersection portion was not treated in a curved form, and the transmittance, surface resistance, and reflectance of the printed matter were measured.
  • Table 1 shows the transmittance, sheet resistance and reflectance measured in Examples and Comparative Examples 1 to 3 above.
  • Comparative Example 2 the depth of the cut is similar to Comparative Example 1, but the degree of improvement in the surface resistance value is insignificant, Comparative Example 3 can be seen that the surface resistance value is increased and the transmittance is lowered as the cross dent is increased. have.
  • Figure 4 is a graph showing the intersection portion of the offset cliché of the offset printing cliché of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 3 according to the radius of curvature of the intersection.
  • FIG. 5 is a graph showing a change in the sheet resistance according to the curvature counterattack of the intersection of the pattern of the offset cliché of the Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 3 shown.

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Abstract

본 발명은 메쉬(mesh) 패턴 형성을 위한 오프셋(off-set) 인쇄용 클리쉐(cliche)에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 다수의 교차부를 갖는 메쉬 패턴이 형성되고, 상기 메쉬 패턴의 교차부가 메쉬 선폭의 0.6 내지 4배의 곡률 반경을 갖는 곡선 형상으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 오프셋 인쇄용 클리쉐(cliche)에 관한 것이다. 본 발명의 오프셋 인쇄용 클리쉐를 이용할 경우, 메쉬 패턴 인쇄시에 교차부 주위에서 발생하는 선폭 감소 현상을 줄일 수 있으며, 그 결과 본 발명의 인쇄용 클리쉐를 이용하여 제품을 제조할 경우, 최종 제품의 면 저항 특성을 향상시킬 수 있다.

Description

오프셋 인쇄용 클리쉐 및 이를 이용해 제조된 제품
본 발명은 다수의 교차부를 갖는 메쉬 패턴 형성에 사용되는 오프셋 인쇄용 클리쉐 및 이를 이용해 제조된 제품에 관한 것으로, 보다 상세하게는 메쉬 패턴의 교차부 주위에서 발생하는 선폭 감소 현상을 해결할 수 있도록 고안된 오프셋 인쇄용 클리쉐 및 이를 이용하여 제조된 제품에 관한 것이다.
기존의 디스플레이, 반도체 분야 등에서는 미세 패턴을 형성하기 위해 주로 포토리소그라피(photolithograohy) 공정을 사용해 왔다. 그러나 포토리소그라피 공정을 이용한 미세 패턴 형성은 감광재 코팅-노광-현상-에칭-박리 등의 단계를 거쳐 이루어지기 때문에, 전반적으로 공정이 복잡하고, 감광재 등의 원재료 소모가 많을 뿐 아니라, 현상 및 에칭 공정에서 폐액이 발생하여 폐액 처리 비용이 발생한다는 문제점이 있었다.
따라서, 최근에는 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해, 포토리소그라피 공정이 아닌 인쇄 기법을 통해 미세 패턴을 형성하는 방법들이 개발되고 있다. 인쇄 기법을 통해 미세 패턴을 제조할 경우, 공정이 단순하고, 원재료의 소모를 최소화할 수 있을 뿐 아니라, 폐액이 발생하지 않아 제조 비용이 저렴하다는 장점이 있다.
이러한 인쇄 기법은 통한 미세 패턴 형성 방법은 현재 컬러 필터, 전자파 차폐 필터(Electromagnetic shielding filter, EMI filter), TFT 배선, 마이크로 패턴 기판 형성 등에 적용이 시도되고 있다.
한편, 미세 패턴 형성이 가능한 인쇄 기법으로는 그라비아 인쇄, 오프셋 인쇄, 스크린 인쇄 등을 들 수 있는데, 이중에서도 오프셋 인쇄는 비교적 미세한 인쇄 패턴을 균일한 두께로 제조할 수 있기 때문에 특히 유용하다.
오프셋 인쇄는 인쇄하고자 하는 패턴 형태로 홈이 형성된 인쇄용 클리쉐(cliche)에 잉크 등의 페이스트를 발라 홈 내에 페이스트를 채우고, 홈이 아닌 부분에 발라진 여분의 페이스트를 닥터 블레이드(doctor blade)로 제거한 다음, 홈에 채워진 페이스트를 실리콘 블랭킷(blanket)으로 전사하고(off 과정), 실리킷 블랭킷에 전사된 페이스트를 피인쇄물로 재전사함으로써(set 과정), 패턴을 인쇄하는 방법이다.
오프셋 인쇄용 클리쉐(cliche)는 금속제의 기판을 에칭하여 홈을 형성하거나, 특수한 유기 기판을 에칭하는 방법으로 형성된다. 예를 들면, 유리 기판 위에 크롬 등의 얇은 막을 형성한 다음, 그 위에 감광성 수지를 도포하고, 레이저 빔 등으로 홈이 형성되어야 할 부분을 노광시킨다. 그런 다음, 노광된 부분의 감광성 수지를 현상을 통해 제거하여 홈이 형성될 부분의 크롬 막을 노출시킨 다음, 노출 부위의 크롬을 에칭을 통해 제거함으로써, 유리를 노출시키고, 이를 다시 불소 용액으로 에칭함으로써, 적절한 폭과 깊이를 갖는 홈부를 갖는 오프셋 인쇄용 클리쉐를 제조할 수 있다. 다만, 오프셋 인쇄용 클리쉐로 유리 기판을 사용하는 경우, 닥터 블레이드로 표면을 긁을 때 표면이 쉽게 파손될 수 있으므로, 이를 해결하기 위해, 최근에는 유리 기판 표면을 하이브리드 니켈 처리하거나 DLC(diamond like coating) 처리함으로써 유리 기판의 표면 강도를 향상시키는 방법들이 개발되고 있다.
상기와 같은 방법으로 제조된 원하는 패턴이 음각된 오프셋 인쇄용 클리쉐에 페이스트를 충진하여 인쇄하는 간단한 방법으로 미세 패턴을 형성할 수 있다. 이러한 오프셋 인쇄법의 경우, 종래의 포토리소그라피법에 비해 공정이 단순하고, 제조 비용도 절감된다는 장점이 있다. 그러나, 인쇄되는 패턴이 다수의 교차부를 가질 경우 오프셋 인쇄를 이용해 패턴을 형성하면 패턴의 교차부 주위에서 선폭 감소 현상이 나타난다는 문제점이 있다. 도 1은 종래의 종래의 오프셋 인쇄용 클리쉐를 이용하여 인쇄한 메쉬 패턴을 촬영한 사진이다. 도 1에 도시된 바와 같이, 종래의 오프셋 인쇄용 클리쉐를 이용하여 메쉬 패턴을 형성할 경우, 교차부 주위에서 선폭 감소 현상이 발생함을 알 수 있다. 선폭 감소 현상이 발생하는 이유는 인쇄 기판 표면에 도포된 페이스트를 닥터 블레이드로 긁어내는 과정에서 교차부 부근에서 패임 현상이 발생하기 때문이며, 이러한 패임 현상으로 인해 교차부 주위의 선폭이 감소하게 되고, 심할 경우에는 단선을 유발하게 된다. 따라서, 오프셋 인쇄를 통해 교차부가 많은 배선 기판이나 전자파 차폐 필터의 메쉬 패턴 등을 인쇄할 경우, 교차부에서의 선폭 감소 또는 단선에 의해 제품의 저항 특성이 악화된다는 문제점이 있다.
이러한 교차부의 선폭 감소로 인한 저항 특성 감소는 선폭을 증가시키는 방법으로 어느 정도 해결할 수 있으나, 이 경우 선폭 증가로 인해 투과율이 감소하게 되므로, 디스플레이 장치의 휘도가 떨어지게 된다는 새로운 문제가 발생한다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 전체적인 투과도에는 거의 영향을 미치지 않으면서, 교차부 주위의 선폭 감소 또는 단선 문제를 해결할 수 있도록 개발된 오프셋 인쇄용 클리쉐(cliche)를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.
이를 위해, 본 발명은 일 측면에서, 다수의 교차부를 갖는 메쉬 패턴이 형성된 오프셋 인쇄용 클리쉐에 있어서, 상기 메쉬 패턴의 교차부가 메쉬 선폭의 0.6 내지 4배의 곡률 반경을 갖는 곡선 형상으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 오프셋 인쇄용 클리쉐을 제공한다.
이때 상기 교차부의 곡률 반경은 메쉬 선폭의 1 내지 4배인 것이 더 바람직하며, 1 내지 3배인 것이 보다 바람직하며, 1 내지 2배인 것이 가장 바람직하다.
또한, 상기 메쉬 패턴의 선폭은 10 내지 100㎛ 정도인 것이 바람직하며, 상기 메쉬 패턴의 평균 피치는 100 내지 1000㎛ 정도인 것이 바람직하다.
또한, 상기 오프셋 인쇄용 클리쉐는 메쉬 패턴이 음각된 요(凹)판일 수도 있고, 메쉬 패턴이 양각된 철(凸)판일 수 있다.
또한, 상기 오프셋 인쇄용 클리쉐는 금속판, 유리판, 하이브리드 니켈 처리된 유리판 또는 DLC 코팅처리된 유리판으로 이루어질 수 있다.
본 발명은 다른 측면에서, 교차부가 메쉬 선폭의 0.6 내지 4배의 곡률 반경을 갖는 곡선 형상인 메쉬 패턴을 포함하는 제품을 제공한다. 이때 상기 제품은 배선 기판, 회로 기판, 전자파 차폐 필터 또는 컬러 필터일 수 있다.
본 발명의 오프셋 인쇄용 클리쉐는 교차부를 곡선으로 처리하여 교차부의 선폭을 증가시킴으로써, 교차부에서 선폭 감소 또는 단선이 발생하는 것을 방지할 수 있도록 하였다.
또한, 이러한 본 발명의 오프셋 인쇄용 클리쉐를 이용하여 패턴을 형성할 경우, 투과율 및 반사율의 저하 없이 면 저항 특성을 개선하는 효과를 얻을 수 있다는 장점이 있다.
도 1은 종래의 오프셋 인쇄용 클리쉐를 이용하여 인쇄한 메쉬 패턴을 보여주는 사진이다.
도 2는 본 발명의 오프셋 인쇄용 클리쉐를 설명하기 위한 도면이다.
도 3은 본 발명의 오프셋 인쇄용 클리쉐를 이용하여 인쇄한 메쉬 패턴을 보여주는 사진이다.
도 4는 오프셋 인쇄용 클리쉐의 패턴의 교차부의 곡률 반경에 따른 교차부의 패임을 보여주는 그래프이다.
도 5는 오프셋 인쇄용 클리쉐의 패턴의 교차부의 곡률 반경에 따른 면저항 값의 변화를 보여주는 그래프이다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명을 보다 구체적으로 설명한다.
도 2는 본 발명의 오프셋 인쇄용 클리쉐를 설명하기 위한 도면이다. 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 오프셋 인쇄용 클리쉐에는 다수의 교차부를 갖는 메쉬 패턴이 형성되어 있으며, 상기 메쉬 패턴의 교차부가 곡선 형태로 처리된 것을 그 특징으로 한다. 이때 교차부는 메쉬 패턴의 가로선과 세로선에 교차하는 부분을 의미한다.
본 발명과 같이 교차부를 곡선 처리할 경우, 교차부에서의 선폭이 넓어지게 되므로, 교차부 주위에서 선폭이 감소하는 현상을 방지할 수 있다.
한편, 종래의 오프셋 인쇄용 클리쉐의 경우, 닥터 블레이드의 진행 각도가 조금만 어긋나도 패턴과 닥터 블레이드가 접하는 각도가 달라지고, 그 결과 유리 기판에 작용하는 힘의 크기가 위치에 따라 달라지면서 기판이 손상된다는 문제점이 있었다. 이러한 기판 손상은 특히 교차부에서 많이 일어난다. 그러나, 본 발명과 같이 교차부를 곡선 형태로 형성할 경우, 닥터 블레이드와 교차부가 만나는 각도가 위치와 무관하게 동일해지기 때문에, 인쇄시 기판의 손상이 덜하다는 장점이 있다.
한편, 본 발명에서는 상기 교차부를 메쉬 선폭(W)의 0.6 내지 4배, 바람직하게는 1 내지 4배, 보다 바람직하게는 1 내지 3배, 가장 바람직하게는 1 내지 2배의 곡률 반경(R)을 갖는 곡선 형태로 처리하는 것을 그 특징으로 한다. 즉, 본 발명의 메쉬 패턴의 교차부는 반경이 메쉬 선폭의 0.6 내지 4배, 바람직하게는 1 내지 4배, 보다 바람직하게는 1 내지 3배, 가장 바람직하게는 1 내지 2배인 원주의 일 부분으로 이루어지는 것이 바람직하다.
교차부의 형태를 이와 같이 한정하는 이유는 다음과 같다. 곡선 부분의 곡률 반경이 선폭의 0.6배 미만인 경우에는 저항 개선 효과가 거의 없고, 4배를 초과하는 경우에는 교차부가 너무 커져 투과율이 나빠지고, 선의 직진성이 저하되는 문제점이 있기 때문이다. 또한, 교차부 면적이 커지면, 닥터 블레이드의 변형에 의한 패임현상이 커져 교점부의 인쇄높이가 상당히 낮아지게 되고, 그 결과 면 저항 특성이 나빠지게 된다.
또한, 상기 메쉬 패턴은, 인쇄하고자 하는 패턴 및 적용 제품에 따라 달라지겠으나, 일반적으로 선폭(W)이 10 내지 100㎛ 정도이고, 피치(P)가 100 내지 1000㎛ 정도인 것이 바람직하다. 여기서 메쉬 패턴의 선폭이란, 메쉬 패턴을 이루는 선들의 직교방향으로 최단길이를 의미하며, 메쉬 패턴의 피치란 패턴을 이루는 선들간의 최소의 반복 길이를 의미한다.
메쉬 선폭이 10㎛미만이면, 인쇄 패턴의 단선이 다수 발생하여, 최종적인 면저항이 높아지고, 100㎛를 초과하면, 인쇄 패턴에 의한 투과도 저하가 발행한다. 또한, 패턴선이 눈에 잘 띄게 된다. 피치가 100㎛ 미만이면, 투과도 저하가 발생하고 1000㎛를 초과하면, 패턴 간격에 의한 면저항이 상승할 뿐만 아니라, 패턴의 존재가 눈에 쉽게 발견된다.
한편, 본 발명의 오프셋 인쇄용 클리쉐는 롤 형태의 인쇄판보다는 평판 형태인 것이 바람직하다. 평판 인쇄판이 롤 형태의 인쇄판보다 인쇄 후 선의 직진성이 우수하며, 그 결과 인쇄물의 면 저항 특성이 더 우수하게 나타나기 때문이다.
한편, 본 발명의 오프셋 인쇄용 클리쉐로는 인쇄 패턴이 음각된 요(凹)판을 사용할 수도 있고, 인쇄 패턴이 양각된 철(凸)판을 사용할 수도 있다.
또한, 상기 오프셋 인쇄용 클리쉐는 당해 기술 분야에서 사용되는 다양한 재질, 예를 들면, 금속판, 유리판, 하이브리드 니켈 처리된 유리판 또는 DLC 코팅처리된 유리판으로 이루어질 수 있다. 이 중에서도 표면 강도가 우수한 하이브리드 니켈 처리된 유리판이나 DLC 코팅 처리된 유리판을 사용하는 것이 특히 바람직하다.
상기와 같이 이루어진 본 발명의 오프셋 인쇄용 클리쉐는 다수의 교차부를 갖는 메쉬 패턴을 갖는 제품을 제조하는 경우에 유용하게 사용될 수 있다. 예를 들면 본 발명의 오프셋 인쇄용 클리쉐는 전자 기기의 회로 기판, 배선 기판 또는 전자파 차폐 필터과 같이 다수의 교차부를 갖는 메쉬 패턴이 형성된 제품의 제조 등에 사용될 수 있다.
상기한 본 발명의 오프셋 인쇄용 클리쉐에 의해 형성되는 본 발명의 제품들은 교차부가 메쉬 선폭의 0.6 내지 4배의 곡률 반경을 갖는 곡선 형상으로 이루어지는 메쉬 패턴을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
상기 본 발명의 제품들의 경우, 교차부가 곡선 형태로 형성되면서 선폭이 넓어지기 때문에 교차부 주위의 선폭 감소 현상이 개선되고, 그 결과 제품의 면 저항 특성이 종래에 비해 향상되게 된다. 특히, 교차부를 곡선 처리함으로써 면 저항 특성 감소의 주요 원인이 되는 교차부의 선폭만을 증가시키고, 나머지 부분의 선폭을 유지함으로써, 개구율에 거의 변화가 없고, 그 결과 투과율 및 반사율을 거의 변화시키지 않으면서 면 저항 특성을 향상시키기 때문에, 디스플레이와 관련된 장치들에 특히 유용하게 사용될 수 있다.
상기와 같은 본 발명의 제품에는 회로 기판, 배선 기판, 전자파 차폐 필터, 마이크로 패턴 기판, TFT 배선, 컬러 필터 등이 포함된다.
상기 본 발명의 제품은 상기 본 발명의 오프셋 인쇄용 클리쉐를 이용한 통상적인 오프셋 인쇄 방식을 통해 제조될 수 있다. 예를 들면, 본 발명의 오프셋 인쇄용 클리쉐에 페이스트를 도포하여 인쇄 패턴에 페이스트를 충진하고, 닥터 블레이드를 이용하여 여분의 페이스트를 제거한 다음, 실리콘 블랭킷에 인쇄 패턴을 전사하고, 이를 다시 피인쇄물에 전사하는 방식으로 제조될 수 있다.
이하, 구체적인 실시예를 통해 본 발명을 설명한다. 다만, 하기 실시예는 본 발명을 설명하기 위한 것으로, 본 발명의 일 실시예에 불과하며, 본 발명이 이로써 제한되는 것은 아니다.
실시예 1
평균 입경이 약 2㎛인 Ag 입자 80%, 폴리에스터 수지와 BCA(butyl carbitol acetate)를 1:1로 혼합하여 만든 바인더 18% 및 유리 프리트(glass frit) 2%를 혼합한 후, 3 롤-밀(roll-mill)을 이용하여, 30분간 반죽하여 고온 소성형 실버 페이스트를 제조하였다. 이때 페이스트의 점도는 약 8,000cps(측정시 조건: spindle number 5, 1rpm)였다.
피치가 270㎛이고, 선폭이 20㎛이며, 깊이가 9.5㎛, 교차부가 곡률 반경 20㎛인 곡선 형태로 처리된 메쉬 패턴이 음각된 인쇄판을 준비하였다.
상기 인쇄판 상에 상기 방법으로 제조된 페이스트를 도포하여, 요(凹)부에 페이스트를 충진하고, 닥터 블레이드를 이용하여 여분의 페이스트를 제거하였다. 그런 다음, 인쇄용 블랭킷을 이용해 메쉬 패턴을 유리 기판에 370×470mm2크기로 인쇄한 후, 580℃에서 10분간 소성하였다.
그런 다음, 상기 인쇄물의 투과도, 면 저항 및 반사율을 측정하였다.
투과도 및 반사율은 Shimadzu UV-3600를 이용하여 측정하였으며, 면 저항은 Mitsubishi Chemical Loresta GP를 측정하였다.
실시예 2
피치가 270㎛이고, 선폭이 20㎛이며, 깊이가 9.5㎛, 교차부가 곡률 반경 30㎛인 곡선 형태로 처리된 메쉬 패턴이 음각된 인쇄판을 사용한 점을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 인쇄물을 제조하고, 그 인쇄물의 투과도, 면 저항 및 반사율을 측정하였다.
실시예 3
피치가 270㎛이고, 선폭이 20㎛이며, 깊이가 9.5㎛, 교차부가 곡률 반경 40㎛인 곡선 형태로 처리된 메쉬 패턴이 음각된 인쇄판을 사용한 점을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 인쇄물을 제조하고, 그 인쇄물의 투과도, 면 저항 및 반사율을 측정하였다.
실시예 4
피치가 270㎛이고, 선폭이 20㎛이며, 깊이가 9.5㎛, 교차부가 곡률 반경 60㎛인 곡선 형태로 처리된 메쉬 패턴이 음각된 인쇄판을 사용한 점을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 인쇄물을 제조하고, 그 인쇄물의 투과도, 면 저항 및 반사율을 측정하였다.
실시예 5
피치가 270㎛이고, 선폭이 20㎛이며, 깊이가 9.5㎛, 교차부가 곡률 반경 80㎛인 곡선 형태로 처리된 메쉬 패턴이 음각된 인쇄판을 사용한 점을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 인쇄물을 제조하고, 그 인쇄물의 투과도, 면 저항 및 반사율을 측정하였다.
비교예 1
교차부가 곡선 형태로 처리되지 않은 인쇄판을 사용한 점을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 인쇄물을 제조하고, 그 인쇄물의 투과도, 면 저항 및 반사율을 측정하였다.
비교예 2
피치가 270㎛이고, 선폭이 20㎛이며, 깊이가 9.5㎛, 교차부가 곡률 반경 10㎛인 곡선 형태로 처리된 메쉬 패턴이 음각된 인쇄판을 사용한 점을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 인쇄물을 제조하고, 그 인쇄물의 투과도, 면 저항 및 반사율을 측정하였다.
비교예 3
피치가 270㎛이고, 선폭이 20㎛이며, 깊이가 9.5㎛, 교차부가 곡률 반경 100㎛인 곡선 형태로 처리된 메쉬 패턴이 음각된 인쇄판을 사용한 점을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 인쇄물을 제조하고, 그 인쇄물의 투과도, 면 저항 및 반사율을 측정하였다.
표 1에는 상기 실시예 및 비교예 1 내지 3에서 측정한 투과도, 면저항 값 및 반사율이 나타나 있다.
표 1
실시예1 실시예2 실시예3 실시예4 실시예5 비교예1 비교예2 비교예3
면저항(Ω/□) 0.35 0.33 0.36 0.35 0.39 0.43 0.40 0.60
투과도(%) 76.4 76.2 76.3 76.1 75.3 76.4 76.3 72
반사율(%) 8.5 8.5 8.5 8.6 8.7 8.6 8.5 9.0
교차부 패임 깊이(mm) 2.8 3.0 3.2 3.2 3.7 2.5 2.6 5.0
표 1에 도시된 바와 같이, 실시예 1 내지 5와 같이 교차부를 곡선 처리할 경우, 곡선 처리하지 않은 비교예 1에 비해 면저항이 최대 23% 정도 개선되는 반면, 투과율은 거의 저하되지 않음을 알 수 있다.
한편, 비교예 2의 경우, 패임깊이에 있어서는 비교예 1과 유사하나, 면 저항값 개선 정도가 미미하고, 비교예 3은 교차부 패임이 커지면서 면 저항값이 상승하고, 투과도가 저하됨을 알 수 있다.
한편, 도 4에는 상기 실시예 1 내지 5 및 비교예 1 내지 3의 오프셋 인쇄용 클리쉐의 교차부 패임을 교차부의 곡률 반경에 따라 보여주는 그래프가 도시되어 있다. 또한, 도 5에는 상기 실시예 1 내지 5 및 비교예 1 내지 3의 오프셋 인쇄용 클리쉐의 패턴의 교차부의 곡률 반격에 따른 면 저항값의 변화를 보여주는 그래프가 도시되어 있다.
도 4 및 도 5를 통해, 교차부의 곡률 반경이 본 발명의 범위를 초과할 경우, 즉, 교차부의 곡률 반경이 선폭의 4배를 초과할 경우에 교차부의 패임과 면 저항값이 급격히 나빠짐을 알 수 있다.

Claims (11)

  1. 다수의 교차부를 갖는 메쉬 패턴이 형성되는 오프셋 인쇄용 클리쉐에 있어서,
    상기 메쉬 패턴의 교차부는 곡률 반경이 메쉬 선폭의 0.6 내지 4배인 곡선 형상으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 오프셋 인쇄용 클리쉐.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 곡률 반경은 메쉬 선폭의 1 내지 4배인 것을 특징으로 하는 오프셋 인쇄용 클리쉐.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 곡률 반경은 메쉬 선폭의 1 내지 2배인 것을 특징으로 하는 오프셋 인쇄용 클리쉐.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 메쉬 패턴의 선폭은 10 내지 100㎛인 것을 특징으로 하는 오프셋 인쇄용 클리쉐.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 메쉬 패턴의 피치는 100 내지 1000㎛인 것을 특징으로 하는 오프셋 인쇄용 클리쉐.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 오프셋 인쇄용 클리쉐는 평판인 것을 특징으로 하는 오프셋 인쇄용 클리쉐.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 오프셋 인쇄용 클리쉐는 상기 메쉬 패턴이 음각된 요(凹)판인 것을 특징으로 하는 오프셋 인쇄용 클리쉐.
  8. 제6항에 있어서,
    상기 오프셋 인쇄용 클리쉐는 상기 메쉬 패턴이 양각된 철(凸)판인 것을 특징으로 하는 오프셋 인쇄용 클리쉐.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 오프셋 인쇄용 클리쉐는 금속판, 유리판, 하이브리드 니켈 처리된 유리판 또는 DLC 코팅처리된 유리판으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 오프셋 인쇄용 클리쉐.
  10. 교차부가 메쉬 선폭의 0.6 내지 4배의 곡률 반경을 갖는 곡선 형상으로 형성된 메쉬 패턴을 포함하는 제품.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 제품은 배선 기판, 회로 기판, 전자파 차폐 필터 또는 컬러 필터인 것을 특징으로 하는 제품.
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