TWI302082B - - Google Patents

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1302082 (1) 玖、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關一種遮蔽（亦稱屏蔽罩）電磁波用之薄 片，更詳細是有關配置在CRT、PDP等之顯示器的前面， 用來遮蔽由顯示器所發生的電磁波，且能良好辨識顯示器 畫像’採用金屬箔（薄膜）網目的電磁波遮蔽用薄片。 〔技術槪要〕 近年來隨著電氣電子機器之機能高度化與增加利用， 增進電磁干擾（ELectro Magnetic Interference ;EMI)。 電磁波雜訊大致分爲傳導雜訊和輻射雜訊。傳導雜訊是採 用雜訊濾除器等的方法。一方面，輻射雜訊爲了電磁式絕 緣空間，採用框體爲金屬，或於電路基板間插入金屬板， 或用金屬箔捲繞電纜等的方法。該些方法雖具有電路、電 源區塊之電磁波遮蔽的效果，但對用於由CRT、電漿顯示 面板（稱PDP )等之顯示器前面產生的電磁波遮蔽而言， 爲不透明的關係很不適合。 電漿顯示面板乃屬於具有資料電極和螢光層之玻璃和 具有透明電極之玻璃的組合體，一旦作動即會大量產生電 磁波、近紅外線及熱度。通常爲了遮蔽電磁波，在電漿顯 示面板之前面設置前面板。由顯示器前面產生的電磁波之 遮蔽性需要有30M Hz〜1 GHz之3 OdB以上的機能。而自 顯示器前面產生之波長8 00〜llOOnm的近紅外線也會令 其他VTR等的機器誤作動，需要遮蔽。更爲了易於辨識 (2) 1302082 顯示器的顯示畫像，很難看淸電磁波遮蔽用之金屬網目框 (線條部）部分，電磁波遮蔽用薄片需具有適度的透明性 (可視光透過性、可視光透過率）。 更且電漿顯示面板以大型畫面爲其特徵，例如37 型、42型，也有更大型尺寸。因此，電磁波遮蔽用薄片 之線條數通常縱及橫向爲數千條，以及該線條的寬度須在 一定範圍內。萬一有寬窄的話，對整個畫像而言，會看到 洞和黑白點，而且會感到不舒適。 【先前技術】 爲了提昇顯示器畫像的辨識性，前面板要求電磁波遮 蔽、適度的透明性（可視光的透過率）和均勻的網目構 造。 具有網目構造的前面板係爲在日本特開平號5 — 283889號公報揭示由基板/透明結合層/網目圖案狀之 無電解電鍍層所形成的電磁波遮蔽材料。並有日本特開平 第09 - 293 989號公報揭示利用光蝕刻法形成電磁波遮蔽 薄片的金屬網目的方法。更將於銅箔上利用微縮法形成幾 何學圖形之附銅箔的塑膠薄膜積層在塑膠板的電磁波遮蔽 構成體，揭示於在本特開平第1 0 - 3 3 5 8 85號公報。但無 論那一種方法均未針對電磁波遮蔽薄片之網目線寬的精度 及其影響而記載。 更且在日本特開平第11— 186785號公報中，與透明 基材平行的切斷面之面積連離開前述透明基材都很小，亦 -6- (3) 1302082 即揭示線條斷面爲梯形的方法 差。但由於蝕刻過度或中途停止 差）的控制極爲困難。於線寬有 紋，且外觀上不理想。而且特別 陷、線狀缺陷而令畫像辨識性不 【發明內容】 於是本發明乃爲欲解決此種 提供一配合在CRT、PDP等之顯 顯示器所產生的電磁波，且不易 特別是黑和白之點狀缺陷、線月 片。 爲解決上述課題，有關第1 乃屬於對透明基材之一方的面積 磁波遮蔽用薄片，前述導電材層 在預定値± 3 0 %的範圍內。按照 CRT、PDP等之顯示器所產生的 分爲非辨識性，並滿足電磁波遮 且線寬在一定範圍內，沒有網目 畫像的電磁波遮蔽用薄片。 有關第2發明之電磁波遮蔽 之一方的面積層網目狀之導電材 連結與前述導電材層之線條的直 的線條切斷面形狀之上底和下底 。但並未談論到線寬的誤 的方法，線寬之精度（誤 誤差的話，會發生濃淡斑 會有產生黑和白的點狀缺 佳的缺點。 問題的發明。其目的在於 示器的前面，用來遮蔽由 產生顯示器畫像之辨識性 犬缺陷的電磁波遮蔽用薄 發明之電磁波遮蔽用薄片 層網目狀之導電材層的電 之線條的直線部之寬度是 (本發明，提供一遮蔽由 電磁波，且網目之線條部 蔽性、透明性之兩特性， 之濃淡斑紋，能良好辨識 用薄片乃屬於對透明基材 層的電磁波遮蔽用薄片， 線部的前述透明基材正交 的土堤側面部之曲率半徑 -7- (4) 1302082 爲前述導電材層之厚度的1 . 5〜3.0倍。按照本發明提供 一配置在CRT、PDP等之顯示器的前面，用來遮蔽由顯示 器所產生的電磁波，且誤差，能良好辨識顯示器畫像的電 磁波遮蔽用薄片。 有關第3發明之電磁波遮蔽用薄片乃屬於對透明基材 之一方的面積層網目狀之導電材層的電磁波遮蔽用薄片， 前述導電材層之線條的直線部的寬度是在預定値± 3 0%的 範圍內，且連結與前述透明基板正交的線條切斷面之形狀 的上底和下底的土堤側面部之曲率半徑爲前述導電材層之 厚度的1.5〜3 ·0倍。按照本發明提供一配置在CRT、PDP 等之顯示器的前面，用來遮蔽由顯示器所產生的電磁波， 且沒有網目之濃淡斑紋，不易產生顯示器畫像之辨識性特 別是黑和白的點狀缺陷、線狀缺陷，同時誤差少的電磁波 遮蔽用薄片。 而有關本發明之電磁波遮蔽用薄片就除了前述網目狀 導電材層之外周部的1〜50網目部分的內周部分或是除了 0.15〜15mm部分的內周部分來看，線條之直線部的寬度 是在預定値± 3 0%的範圍內爲其特徵。而有關本發明之電 磁波遮蔽用薄片係於前述導電材層之線條的直線部的寬度 爲5〜2 5 μηι，而線和線之間距爲1 5 0〜5 0 0 μηι爲其特徵。 按照本發明提供一就算是大面積的薄片，於處理時亦不易 有彎曲、折痕的電磁波遮蔽用薄片。 而有關本發明之電磁波遮蔽用薄片，其特徵爲··上述 導電材層爲金屬層。而有關本發明之電磁波遮蔽用薄片， -8- (5) 1302082 其特徵爲：對上述導電材層之至少一方的面做黑化處理。 而有關本發明之電磁波遮蔽用薄片，其特徵爲：對上述導 電材層的至少黑化處理面設防銹層。按照本發明提供一電 磁波遮蔽性優，且顯示器畫像辨識性佳，且不易生銹的電 磁波遮蔽用薄片。 而有關本發明之電磁波遮蔽用薄片，其特徵爲：利用 透明樹脂塡充上述網目狀之導電材層的至少開口部凹部， 並且導電材層面實際上爲平坦化狀態。按照本發明提供一 埋置開口部之凹凸並且作業性優的電磁波遮蔽用薄片。 而有關本發明之電磁波遮蔽用薄片，其特徵爲：含有 塡充上述網目狀之導電材層的開口部凹部，並對實際上平 坦化的透明樹脂吸收可視光線中之波長5 70〜605nm波段 光的彩色校正用光線吸收劑及/或吸收近紅外線之波長 8 00〜1 100nm波段光的近紅外線吸收劑。而有關本發明之 電磁波遮蔽用薄片，其特徵爲：設有對至少一方的面吸收 可視光線中之波長5 70〜60 5nm波段光的彩色校正用光線 吸收劑及/或吸收近紅外線之波長800〜llOOnm波段光 的近紅外線吸收劑層。按照本發明提供一遮蔽由PDP顯 示器所產生的近紅外線、紅外線及電磁波，又由顯示器所 產生的畫像再現上補正不要的色光並能良好辨識顯示器畫 像的電磁波遮蔽用薄片。 【實施方式】 〔用以實施發明之最佳形態〕 -9· (6) 1302082 針對本發明之實施形態參照圖面做詳細說明。但本發 明並不限於以下之實施形態。 第1圖係爲本發明之電磁波遮蔽用薄片的平面圖。 第2圖係爲模式表示本發明之電磁波遮蔽用薄片之部 分立體圖。 (整體構成） 如第1圖所示，本發明之電磁波遮蔽用薄片1是由網 目部1 03和接地用框部101所形成。網目部103乃如第2 圖所示，由用線條1 07圍起的複數個開口部（亦即格子） 1 〇 5所形成。接地用框部1 0 1是設置在顯示器時形成接 地。 而對基材11之一方的面，透過接著劑層13而積層導 電材層1 0 9。該導電材層1 0 9係爲密集配列開口部i 〇 5的 網目狀，該網目是由開口部1 0 5和以框形成的線條1 〇 7所 構成。線條1 〇 7的寬度乃如第2圖所示，稱爲線寬w，且 線和線的間隔稱爲間距P。 第3圖係爲有關第2圖之代表性之一的實施形態的 AA斷面圖，以及BB斷面圖。 第4圖係說明導電材層之構成的斷面圖。 (層之構成） 第3圖（A )係表示橫切開口部的斷面，且開□部 1 05與線條1 07爲交互構成，第3圖（B )係表示縱切線 -10- (7) 1302082 條1 〇 7的斷面，且連續形成由導電材層1 0 9所形成的線條 1〇7。導電材層109只要有導電性即可，最好爲金屬層 2 1，配合需要對該金屬層2 1的至少一方的面（觀察側之 面）進行黑化處理23A或23B。更以覆蓋該黑化處理23A 及/或23B的方式，設置防銹層25A及/或25B，但防 銹層至少要設在黑化處理側。該防銹層2 5 A、2 5 B具有金 屬層21及黑化處理23 A、23B之防銹機能，且也會防止 黑化處理2 3 A、2 3 B脫落。 (發明之重點1 ) 網目部1 03的線條1 07之直線部的寬度W爲預定値 ± 3 0 %的範圍內。亦即網目部1 0 3之線條1 0 7的直線部之 寬度W是在預定値 （1〇〇%± 3 0% )範圍內，對預定値而 言，在± 3 0%以內的誤差範圍內。像這樣獲得具有線寬之 誤差的範圍內，即具有電磁波遮蔽性和適度的透明性，且 網目之濃淡斑紋少，可得到優異畫像的辨識性。而且最好 網目部1 〇 3的線寬W之預定値5 · 5 μ m，線和線之間距P 爲 150 〜500μηιο (發明之重點2 ) 而且如第3 Α圖或第7圖所示，就與網目部1 〇3之線 條1 07的直線部的透明基材正交的線切斷面之形狀來看， 連結上底107U和下底107B的土堤側面部107S的曲率半 徑r，對前述金屬層之厚度t而言，爲1.5tSr^3.0t。可 -11 - (8) 1302082 限制連結線切斷面之形狀的上底和下底的土堤之曲率半 徑’並具有電磁波遮蔽性和適度的透明性，且顯示光之誤. 差少’或是可抑制外光之反射，得到優異晝像的辨識性。 (發明之重點3 ) 網目之線的直線部之寬度是在預定値± 3 0 %的範圍 內’且連結與透明基板正交之線切斷面的形狀的上底和下 底的土堤側面部之曲率半徑爲前述金屬層之厚度的1 · 5〜 3 . 〇倍。像這樣抑制線寬的誤差，且可限定連結線切斷面 之形狀的上底和下底的土堤側面部之曲率半徑，並具有電 磁波遮蔽性和適度的透明性，且網目之濃淡斑紋少，且特 別是黑和白的點狀缺陷及線狀缺陷少，且顯示光之誤差 少，或是可抑制外光之反射，得到優異畫像的辨識性。 本詳細說明書中，主要記載著本發明之電磁波遮蔽用 薄片作爲CRT、PDP等的顯示器使用，但當然也可使用於 顯示器以外之遮蔽電磁波使用。 而電漿顯示面板以大型畫面爲特徵，電磁波遮蔽用薄 片的大小（外形尺寸）例如有37型620 X 83 0mm左右、 也有42型5 80x 9 8 0mm左右，還有更大型尺寸。因此， 電磁波遮蔽用薄片的線條數也是因網目大小而異，通常縱 向及橫向可擴及到數千條。該線條的寬度必須以「μιη」 單位的精度形成在一定範圍內。如果有寬窄的話，由人觀 察顯示器畫像之際，寬部分會有黑點缺陷，窄部分會有白 點缺陷。對整個畫像而言，有洞和黑白的話，會對人產生 -12- (9) 1302082 極爲強烈的不舒適感。亦即，本發明的電磁波遮蔽用薄片 係爲可控制線寬的誤差及/或線切斷面的形狀，並具有電 磁波遮蔽性和適度的透明性，且沒有網目的濃淡斑紋，且 黑點缺陷及/或白點缺陷極少，且畫像辨識性優。 本發明的電磁波遮蔽用薄片的導電材部109係對金屬 層21的至少一方的面設有黑化處理23A及/或23B，更 對該黑化處理23A及/或23B的至少黑化處理面設有防 銹層25A及/或25B。 將該導電材部109透過接著劑與透明的薄膜狀基材 1 1積層後，利用微縮法形成網目狀。配合需要，令金屬 層平坦化’更配合需要而設有吸收特定波長之可視及/或 近紅外線的光線吸收劑層。將此種電磁波遮蔽用薄片配置 在顯示器之前面的話，就能遮蔽由顯示器所產生的電磁 波，且沒有網目的濃淡斑紋、黑或白之點狀、線狀之缺陷 極少、具有適度的透明性，顯示在顯示器的畫像能良好辨 識。 (製造方法之槪略） 本發明之電磁波遮蔽用薄片1乃先準備一至少在觀察 側設有黑化處理及防銹層的導電材層1 09，且將該導電材 層109透過接著劑而積層至透明的薄膜狀之基材11之一 方的面後，對導電材層1 09面以網目圖案狀設置光阻層， 且利用蝕刻除去未用光阻層覆蓋之部分的導電材層1 09之 後，利用所謂微縮法製造除去光阻層即可。更使用既存的 -13- (10) 1302082 設備，連續進行許多該些製造工程， 且能提高生產效率。 針對本發明之電磁波遮蔽用薄片 成做說明。 (導電材層） 電遮蔽磁波的導電材層1 09例如 鐵、氧化鋁、鎳、鉻等具有可充分遮葡 性的金屬層2 1。金屬層21可以不是骂 多層。金屬層21爲鐵的時候，以低 (脫氧）鎭靜鋼等之低碳鋼、Ni - Fe 佳，更進行陰極真空鍍膜的時候，由 以銅或銅合金箔爲佳。該銅箔可使用 箔，但由厚度均勻性、與黑化處理及/ 層的密著性及可ΙΟμηι以下之薄膜化β 銅箔爲佳。該金屬層21的厚度爲1〜 爲5〜20μιη。此以下的厚度，雖然很笔 網目加工，但金屬的電阻値增加，電磁 此以上無法獲得所希望之高精細的網目 的開口率降低，光線透過率下降，甚 像辨識性下降。 金屬層21的表面粗度爲Rz値以〇 以下，即使黑化處理，還是會鏡面反躬 性劣化。此以上，於塗佈接著劑或光 能提品質及良率， 的各層之材料及形 適用金、銀、銅、 ί電磁波程度之導電 [體，可爲合金或是 碳沸騰鋼或低碳鋁 合金、因瓦合金爲 :附著的容易度來看 壓延銅箔、電解銅 或鉻酸鹽（處理） f觀點來看，以電解 ΙΟΟμπι左右，最好 :易利用微縮法進行 :波遮蔽效果受損， 形狀，其結果實際 視角也會下降，畫 • 5〜1 Ομιη爲佳。此 外光，畫像之辨識 劑等之際，無法遍 -14- (11) 1302082 及表面全體，會產生氣泡。表面粗度RZ是 爲基準所測定之]〇點的平均値。 (黑化處理） 爲了吸收射入至電磁波遮蔽用薄片1 等的外光，並提高顯示器之畫像的辨識性 之導電材部1 09的觀察側施行黑化處理， 黑化處理只要能將金屬層面加以粗化及/或 用金屬氧化物、金屬硫化物之形成或各種 候，通常在蒸氣中以450〜470 °C左右的溫！ 分鐘’形成1〜2μιη左右的氧化膜（黑化膜 由濃硝酸等的藥品處理之氧化膜（黑化膜） 候，銅箔以在由硫酸、硫酸銅及硫酸鈷等形 進行陰極電解處理，而附著陽離子性粒子的 爲佳。設有該陽離子性粒子會更加粗化， 色。該陽離子性粒子乃適用銅粒子、銅和其 粒子，但最好是銅-鈷合金的粒子。 本詳細說明書中，以配合粗化及黑色 理。該黑化處理的最佳黑濃度爲0.6以上。 的測定方法是用 COLOR CONTROL GRETAG SPM 1 00 — 1 1 ( KIMOTO 公司製 觀察視角10度、觀察光源D50、照明型式 準ANSI T，且於白色校準後測定試 片 理的光線反射率以5%以下爲佳。光線反射 以 JI S — B 0 6 0 1 ί曰光、電燈光 需要對網目狀 ,現反差感。該 黑化即可，適 手法。鐵的時 f進行1 0〜2 0 )，但也可藉 。而銅箔的時 成的電解液中 陰極真空鍍膜 同時可得到黑 他金屬的合金 化Ιή·爲黑化處 再者，黑濃度 SYSTEM 的 、商品名）， 設定在濃度標 。而該黑化處 率係以JIS — -15- (12) 1302082 K7 105爲基準，使用霧度計HM 150 (村上色彩公司製、商 品名）進行測定。 (合金粒子） 上述陽離子性粒子適用銅粒子、銅和其他金屬的合金 粒子，但最好爲銅-鈷合金的粒子。若用銅-鈷合金的粒 子，黑化程度顯著提昇，還會良好的吸收可視光。評估電 磁波遮蔽用薄片之辨識性的光學特性是色調以Jis -Z8729爲基準的表色系「I，、a*、b*、ΔΕ*」來表現。 該 「^」及「b#」的絕對値小者，導電材部109即成爲 非辨識性，畫像之反差感高，結果畫像之辨識性優。若用 銅一鈷合金的粒子，與銅粒子相比，「a *」及 「b *」大 致上接近〇。 而銅一鈷合金粒子的平均粒子徑以0 . 1〜1 μπι爲佳。 此以上，若銅-鈷合金粒子之粒子徑變大，金屬層2 1之 厚度就變薄，在與基材 Π積層的工程中，銅箔會切斷， 或加工性惡化，而且密集粒子之外觀緻密度欠佳，斑紋狀 醒目。此以下，粗化不足的關係，畫像之辨識性變差。 (防銹層） 爲了防止對金屬層2 1及/或黑化處理之防銹機能和 黑化處理脫落或變形，至少對具有黑化處理的金屬箔面設 有防銹層25Α及/或25Β。該防銹層25Α、25Β適用鎳及 /或鋅及/或銅的氧化物，或是鉻酸鹽處理層。鎳及/或 -16- (13) 1302082 鋅及/或銅之氧化物的形成可爲公知的電 0.001 〜Ιμιη 左右，最好爲 0.001 〜Ο.ίμηι。 (鉻酸鹽） 該鉻酸鹽處理係對被處理材塗佈鉻酸鹽 理。該塗佈方法適用滾輪塗佈、簾幕式塗佈 靜電霧化法、浸塗法等，塗佈後不用水洗只 單面施以鉻酸鹽處理的時候，利用滾輪塗佈 且兩面施行的時候可用浸塗法進行。鉻酸鹽 使用Cr02含有 3g/ 1的水溶液。除此之外 溶液中添加不同的羥酸化合物，也可使用6 還原爲3價鉻的鉻酸鹽處理液。並根據6價 多少，由淡黄色轉色成黄褐色，但3價鉻本 要管理在3價和6價鉻，即可得到實用上不 性。羥酸化合物是單獨或一倂使用酒石酸、 酸、乳酸、葡糖酸、甘油酸、托品酸、二苯 基戊酸等而取得的。還原性因化合物而異的 只要有把握還原3價鉻即可。而鉻酸鹽處理 面的時候，加上防銹效果，黑化的效果更高 化強調處理的機能。 黑化處理及防銹層至少設有觀察側即可 顯示器之畫像的辨識性變良好。而也可設在 顯示面側，抑制由顯示器所產生的泛光，能 的辨識性。 鍍法，厚度爲 處理液進行處 、濟壓塗佈、 要乾燥即可。 等塗佈單面， 處理液通常是 ，於鉻酸酐水 價鉻的一部分 鉻的附著量之 身爲無色，只 成問題的透明 丙二酸、檸檬 基乙醇酸、羥 關係，添加量 設至黑化處理 ，也能作爲黑 ，反差提昇， 其他的面亦即 更加提昇畫像 -17- (14) 1302082 其次’利用接著劑或粘著劑來積層施行該防銹層 化處理的金屬層（導電材層）、透明的基材。 (基材） 基材1 1的材料只要是透明同時能耐於使用條件 造之透明性、絕緣性、耐熱性、機械性強度等就可適 種材料。例如有：聚乙烯對苯二甲酸酯、聚對苯二甲 丁酯、聚奈二甲酸乙二醇酯、聚乙烯對苯二甲酸酯一 二酸酯共聚物、對苯二甲酸一環己垸二甲醇一乙二醇 物、聚乙烯對苯二甲酸酯/聚奈二甲酸乙二醇酯之共 薄膜等的聚酯系樹脂、尼龍6、尼龍66、尼龍610等 醯胺系樹脂、聚丙烯、聚甲基戊烯等之聚鏈烯烴系樹 聚氯乙烯基等之乙烯基系樹脂、聚丙烯酸酯、聚丙 酯、聚甲基丙烯酸甲酯等之丙烯酸系樹脂、聚醯亞胺 醯胺醯亞胺、聚醚亞胺等之亞胺系樹脂、芳香族聚酯 颯 聚醚颯、聚氧化二甲苯、聚硫化二甲苯（PPS ) 醯胺、聚醚銅、聚醚腈、聚醚醚銅、聚醚硫化物等之 樹脂、聚碳酸酯、聚苯乙烯等之苯乙烯系樹脂等。 該基材係以該些樹脂爲主成份的共聚合樹脂，或 可爲混合體（包含合金）或由複數層所形成的積層體 基材可爲延伸薄膜，也可爲未延伸薄膜，目的在於提 度，最好是用單軸向或雙軸向延伸的薄膜。該基材的 通常適用12〜ΙΟΟΟμηι左右，但50〜700μπι很適合 〜5 0 0 μηι最適合。此以下的厚度，機械性強度不足會 及黑 或製 用各 酸二 間苯 共聚 押出 之聚 脂、 烯酸 、聚 、聚 、聚 工程 者也 。該 局強 厚度 ，100 發生 -18- (15) 1302082 彎曲，此以上，.造成性能過度，就成本而言很浪費。 該基材係作爲由該些樹脂之至少一層所形成之薄膜、 薄片、板狀而使用，但該些形態於本說明書中總稱爲薄 膜。通常聚乙烯對苯二甲酸酯、聚奈二甲酸乙二醇酯等之 聚酯系的薄膜，透明性、耐熱性佳，成本也很便宜很適合 使用，聚乙烯對苯二甲酸酯最適合。而透明性愈高愈好， 但最好可視光線透過率爲80%以上。 該基材薄膜也可以在塗佈之前先對塗佈面施行電暈放 電處理、電漿處理、臭氧處理、圖框處理、底層塗料（也 稱結合層、接著促進劑、易接著劑）塗佈處理、預熱處 理、除塵挨處理、蒸鍍處理、鹼性處理等之易接著處理。 該樹脂薄膜配合需要也可加入塡充劑、可塑劑、靜電防止 劑等的添加劑。 (積層法） 積層（稱疊層）法是在基材11或導電材層109之一 方’塗佈接著劑或粘著劑並配合需要加以乾燥，且加熱或 不加熱的進行加壓。然後可配合需要在3 0〜8 0 °C的溫度 下進行老化（熟化）。而且基材1 1本身，或基材1 1爲複 數層’若積層面爲例如離子鍵聚合物樹脂、乙烯一甲酸乙 烯基共聚物、乙烯-丙烯酸共聚物、乙烯一丙烯酸酯共聚 物等之熱接著性的樹脂，只要在加熱下進行加壓，尤其是 不使用接著劑、粘著劑就能積層。並在基材1丨上利用無 電解電鍍、蒸鍍等直接形成金屬層2 1並加以積層。此時 -19- (16) 1302082 也可形成沒有接著劑、粘著劑的積層。 (接著劑） 接著劑並末特別限定，例如適用丙烯酸樹脂、聚 脂、尿烷樹脂、氯乙烯一甲酸乙烯基共聚物樹脂等 且’使用利用蝕刻液引起染色或劣化少，加工適性良 熱硬化型樹脂，以該業者稱爲乾式層合法（也稱乾 層）的方法爲佳。進而以紫外線（UV )等之電離輻 硬化（反應）的UV硬化型樹脂亦佳。 (乾式疊層） 乾式層合法是指塗佈分散或溶解於溶媒中的接著 加以乾燥’並重疊貼合基材而加以積層之後，以3 〇 . °C經數小時〜數天的老化，使接著劑硬化，積層兩種 的方法。而改良乾式層合法的無溶劑層合法亦可，且 分散或溶解於溶媒中地塗佈接著劑本身，並加以乾燥 疊貼合基材而加以積層之後，以3 0〜1 2 0 °C經數小時 天的老化’使接著劑硬化，積層兩種材料的方法。 乾式層合法或無溶劑層合法所用的接著層之接著 用熱或紫外線、電子線等之電離輻射線所硬化的接著 熱硬化接著劑具體上適用雙液硬化型樹脂的接著劑例 醋尿院系樹脂、聚醚尿烷系樹脂、丙烯酸尿烷系樹脂 尿院系接著劑、丙烯酸系接著劑、聚酯系接著劑、聚 系接著劑、聚甲酸乙烯基系接著劑、環氧系接著劑、 酯樹 。而 好的 式疊 射線 劑且 ^ 120 材料 不會 ，重 〜數 劑適 劑。 如聚 等之 醯胺 橡膠 -20- (17) 1302082 系接著劑等，但雙液硬化型尿烷系接著劑最適合。 該雙液硬化型尿烷系樹脂具體上例如可用經由多官能 異氰酸酯基和羥基含有化合物之反應所獲得的聚合物，具 體上例如多官能異氰酸酯基可使用二異氰酸甲苯酯、二異 氰酸二苯甲烷、聚甲撐、聚苯撐、聚異氰酸酯、異佛爾 酮、二異氰酸酯等之芳香族（乃至油環式）聚異氰酸酯， 或是六亞甲基二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯、異佛爾 酮二異氰酸酯等之脂肪族（乃至脂環式）聚異氰酸酯等之 多官能異氰酸酯基等。該聚異氰酸酯也可使用前述異氰酸 酯之多聚物（三聚物等）、附加物。羥基含有化合物乃使 用聚醚系多元醇、聚酯系多元醇、聚丙烯酸多元醇等之羥 基含有化合物。可使用經由該些多官能異氰酸酯基和羥基 含有化合物的反應所獲得的雙液型尿烷系樹脂。 最好是不會因蝕刻液染色、無劣化的苯乙烯-馬來酸 共聚合物，並配合變性的聚酯、聚氨酯和脂肪族聚異氰酸 酯的接著劑。 乾式層合法是將以該些爲主成份的接著劑組成物溶解 或分散於有機溶媒中，將此例如以滾輪塗佈、逆滾輪塗 佈、凹版塗佈、反凹版塗佈、凹版偏塗、密接塗佈、線條 塗佈、針點塗佈、刮刀塗佈、浸塗、流塗、噴塗等之塗佈 法加以塗佈，且乾燥溶劑等，而形成本發明的層合用接著 層。最好爲滾輪塗佈、正逆轉塗佈法。 該接著層膜厚爲0.1〜20μηι (乾燥狀態）左右，最好 爲1〜1 0 μηι。形成該接著層的話，立刻積層貼合基材之 (18) 1302082 後，以3 0〜1 2 0 °C經數小時-數天的老化’使接著劑硬化 而加以接著。該接著劑的塗佈面爲基材側、導電材部側均 可。最好爲粗化的銅箔側，對整個粗面抑制積層體產生氣 泡。 無溶劑層合法基本上與乾式層合法相同，但不將接著 劑組成物溶解或分散於有機溶媒中，就這樣使用接著劑組 成物，但配合需要爲了降低粘度可將接著劑組成物加熱加 溫使用。 (粘著劑） 粘著劑適用利用公知感壓加以接著的粘著劑。粘著劑 並未特特別限定，例如適用天然橡膠系、異丁烯橡膠、聚 異戊二烯、聚異丁烯、聚氯丁二烯、苯乙烯一丁二烯共聚 合樹脂等之合成橡膠系樹脂、二砩基丁二酸等之矽系樹 脂、丙烯酸系樹脂、聚甲酸乙烯基 乙烯一甲酸乙烯基共 聚物等之甲酸乙烯基系樹脂、尿烷系樹脂、丙烯腈、烴樹 脂、烷基酚醛樹脂、松香、松香三甘油酯、氫化松香等之 松香系樹脂。 (橡膠系粘著劑） 在此，橡膠系粘著劑是在氯丁二烯橡膠、腈基丁二烯 橡膠、丙烯酸橡膠、苯乙烯-丁二烯合成橡膠、苯乙烯-異戊二烯一苯乙烯、苯乙烯一丁二烯一苯乙烯、苯乙烯一 乙燦一丁二烯-苯乙烯、丁基橡膠、聚異丁烯橡膠、天然 -22- (19) 1302082 橡膠、聚異戊二烯橡膠等的粘著橡膠之一或複數配合苯酣 系樹脂，變性苯酚樹脂，酮類樹脂，醇酸樹脂、松香系樹 脂、香豆酮樹脂、苯乙烯系樹脂、石油樹脂、氯乙烯系樹 脂等的增粘劑之一或複數就很有效。 (橡膠系粘著劑） 橡膠系粘者劑與丙嫌酸系接著材料相比，耐藥性、耐 膨潤性、耐溫度性、粘著性及剝離強度優，即使接著部分 曝露於酸性或鹼性物質中，也不會剝離。而橡膠系粘著材 料在酸性或鹼性的藥液中幾乎不會產生加水分解，粘著壽 會長。 (粘著劑層的形成） 該些樹脂或該些混合物爲膠乳、水分散液或是有機溶 媒液’利用網版印刷或是針點塗佈等之公知印刷或塗佈法 加以印刷或塗佈，配合需要加以乾燥後，與一方的材料重 疊加壓即可。 第5圖係爲說明捲繞滾筒狀加工的平面圖及側面圖。 具體的積層方法通常是帶狀連續捲繞的滾筒狀（捲繞 滾筒）進行。第5圖（A)爲平面圖，從捲繞滾筒至鬆開 而伸張的狀態，電磁波遮蔽用薄片1是以一定間隔面對面 貼合。第5圖（B )爲側面圖，積層導電材層1 09 (包括 金屬層21)之一方的面和基材11。先對捲繞滾筒的導電 材層1 〇9，形成上述之黑化處理及防銹層，並對該防銹層 -23- (20) 1302082 塗佈接著劑加以乾燥後，重合基材1 1並加壓即可。更配 合需要，以3 0〜8 0 °C的環境經數小時〜數天的老化（熟 化、硬化），形成捲繞滾筒狀的積層體。 (微縮法） 對該積層體的導電材層面利用以網目圖案狀設置光阻 層，未覆蓋光阻層之部分的導電材層利用蝕刻除去後，除 去光阻層的微縮法形成網目狀。 (掩蔽） 先將基材11和導電材層109的積層體的導電材層 1 09面利用微縮法形成網目狀。此工程也以帶狀連續捲繞 的滾筒狀加工積層體。一邊連續或間歇性搬送該積層體一 邊緩緩伸張的狀態，進行掩蔽、蝕刻、剝離光阻劑。 首先，掩蔽是例如將感光性光阻劑塗佈至導電材層 1 09上，且加以乾燥後，利用預定的圖案（網目的線部） 版（光罩）加以密著曝光，且進行水顯影，施以硬膜處理 等，加以烘乾。 光阻劑的塗佈是一邊連續或間歇性搬送捲繞滾筒狀之 帶狀積層體（基材11和導電材層109) —邊對該導電材 層1 09面利用浸塗（浸漬）、簾幕式塗佈、驅流等之方法 塗佈酪蛋白、PVA、白明膠等之感光性光阻劑。而不塗佈 光阻劑，可用乾式薄膜光阻劑提高作業性。烘乾在酪蛋白 光阻劑時以2 0 0〜3 0 0 °C進行，但爲了防止積層體彎曲， -24- (21) 1302082 儘量低溫爲佳。 (蝕刻） 掩蔽後進行蝕刻。用於該蝕刻的蝕刻液以能 蝕刻的本發明中很容易循環使用的氯化二鐵、氯 液爲佳。而該蝕刻基本上是與蝕刻帶狀連續的鋼 厚度20〜80μηι的薄板之製造彩色顯像管用陰罩 同的工程。亦即，挪用該陰罩之既存的製造設備 至蝕刻一貫作業連續生產，效率極佳。蝕刻後進 利用鹼性液剝離光阻劑、洗淨後加以乾燥即可。 (網目） 網目部103是由利用線條107圍繞的複數 1 〇5所形成。開口部1 〇5的形狀未特別限定，例 二角形、兩等邊三角形等的三角形、正方形、長 形、梯形等的四角形、五角形、六角形（龜甲形 形等的多角形、圓形、橢圓形等。將該些開口部 組合成網目。 圖案版上的網目圖案由開口率、網目之非辨 像辨識性來看，是以網目部1 03之線條1 07的直 度W (參考第2圖）爲預定値±30%之範圍內 以繪製。考慮到在蝕刻工程中會發生線寬誤差， 上，該寬度之分佈範圍爲± 3 0%以下。最好爲 下，更好爲±1 0%以下爲佳。 夠在連續 化銅之溶 材特別是 的設備相 ，由掩蔽 行水洗、 個開口部 如適用正 方形、菱 )、八角 以複數個 識性及畫 線部的寬 的方式加 在圖案版 ± 2 0 % 以 -25- (22) 1302082 加上這個來控制如後所述的蝕刻工程之條件，且所得 到的網目部之該寬度會收束在± 3 0 %的範圍。且如第7 圖，與透明基板正交的線條1 〇7之切斷面的形狀是形成連 結上底107U和下底107B的土堤側面部107S之曲率半徑 r爲前述金屬層之厚度的1.5〜3.0倍（1.5t$r$3.0t)。 最好網目部1 〇 3之線寬W的預定値爲5〜2 5 μπι，而線和 線之間距爲150〜500μπι。 通常在大型電漿顯示面板用的電磁波遮蔽用薄片形成 數千條以上的直線線，並且各自交叉。抑制該線之線寬的 誤差，且限定連結線切斷面之形狀的上底和下底的土堤側 面部之曲率半徑，並具有電磁波遮蔽性和適度的透明性， 且網目之濃淡斑紋少，且特別是黑和白之點狀及線狀缺陷 少，且顯示光之誤差少，或是可抑制外光的反射，得到具 有優異畫像之辨識性的電磁波遮蔽用薄片1。 該線寬之誤差例如第2圖中的線寬W爲1 4 μπι的話， W=14±4.2gm，範圍爲 W=9.8〜8·2μπι，只要在該範圍內 就不會產生網目之濃淡斑紋、黑及/或白之點狀及線狀的 缺陷。如果線寬有寬窄的話，網目會形成濃淡斑紋。而寬 窄大時，由人觀察顯示器畫像之際，寬部分會有黑點缺 陷，窄部分會有白點缺陷。對整個畫像而言，有洞和白點 及/或黑點的話，會對人產生極強烈的不舒適感。 但按照本發明之電磁波遮蔽用薄片，利用連續微縮法 加以製造，且線寬之誤差爲預定的範圍，網目之濃淡斑紋 發生極少，且對電磁波遮蔽性及透明性就不會有問題。而 -26- (23) 1302082 網目之濃淡斑紋或黑及/或白之點狀及線狀的缺陷，於塗 佈光阻劑時，即使發生光阻液'的飛沫附著在不要的部分， 還是能用連續微縮法加以製造極爲理想。 而由線寬控制來看，除了接合在網目部1 03之外周部 分的外周部之部分。此乃網目部結束並欲形成由整面金屬 層2 1所製成的接地用框部1 0 1，規則性被中斷，並將線 寬位於接地用框部1 0 1之內圈的網目外周部，而向著接地 用框部漸漸放大寬度等之另外目的的處置。該外周部由接 地用框部1 0 1的內周向著網目部的中心爲1.0網目量，或 是 0.15〜15mm量，最好爲 1〜2.5網目量，或是 0.3〜 7.5mm量的範圍。 像這樣連結與線之透明基板正的線條1 07切斷面之形 狀的上底107U和下底107B的土堤側面部107S之曲率半 徑v爲前述金屬層厚度的1 .5〜3.0倍，且對於線寬W爲 預定値± 3 0 %，以光阻劑種類、鈾刻工程條件加以控制。 例如希望光阻劑是用乾式光阻劑、液體光阻劑，或是蝕刻 條件爲蝕刻液之玻美度3 5度以上，蝕刻液使用氯化銅或 氯化二鐵水溶液，而且蝕刻液的溫度爲3 5度以上，蝕刻 液的噴霧流速爲2000ml/分以上，且一邊振動噴嘴頭一 邊左右擺動並加以鈾刻。 而控制曲率半徑、線寬是針對前述的圖案版，將線寬 繪製精度設計管理在± 3 0%以下之外，儘量取得大於欲得 到圖案版線度的製品線寬，腐蝕量變大，蝕刻液的蝕刻速 率變慢，藉由變得易於控制。 -27- (24) 1302082 再者，連結上底和下底之土堤側面部的曲率半徑，是 利用切片機將與透明基板正交的線切成薄片，且濺鍍鉑鈀 後，由‘2 000倍的電子顯微鏡來拍攝該線切斷面的照片， 推測出上底端値和下底端値。但蝕刻不一定是土堤的形 狀，不得爲正圓形，故可爲略圓形的圓周線、接近梯形斜 線的線形。作爲近似斷面狀的圓之半徑求得曲率半徑。 主要是包括上底右端和下底右端或是上底左端和下底 左端的曲線，爲金屬層之厚度1 · 5〜3 · 0倍的曲率半徑即 可。而曲率半徑不需要是一定値，可以變化，但統合在金 屬層之厚度1.5〜3.0倍的範圍即可。 而線於電磁波遮蔽用薄片之第1圖中形成端邊的偏斜 角，在第1圖的圖示中，是以4 5度爲例，但並不限於 此，爲了解除波紋，只要加進顯示器的發光特性、畫素的 並列等加以適當選擇即可。 (平坦化） 一旦形成網目，網目的線條1 07即有金屬的厚度，但 開口部1 05除去金屬箔形成凹部，導電材部1 09即成爲凹 凸狀態。該凹凸在下一個工程塗佈接著劑或粘著劑時，利 用該接著劑等埋平。但此時該凹部的空氣無法完全置換爲 接著劑（或粘著劑），易殘留氣泡。一旦殘留氣泡，與接 著劑（或粘著劑）的界面會散射光線，霧度（模糊度或濁 度）升高。爲防止此問題，最好在接著之前，事先利用透 明樹脂塡充平坦化該凹部。 -28- (25) 1302082 該平坦化是將透明樹脂塗佈並埋入至凹部，但未 到凹部各角落的話，會殘留氣泡，使透明性劣化。因 用溶劑等加以稀釋，並以低粘度塗佈且乾燥，或一邊 空氣一邊塗佈，形成平坦化層29。 平坦化層29只要是透明性高、與網目的導電材 著性佳、與下一個工程的接著劑之接著性佳即可。但 化層29的表面有起、凹痕、斑紋的話，設置在顯示 面時，易產生雲紋、干擾斑紋、牛頓環很不理想。最 方法是在塗佈的樹脂爲熱或紫外線硬化樹脂之後，利 面性優具剝離性的基材加以積層，且利用熱或紫外線 佈樹脂硬化，並剝離除去剝離性基材。平坦化層29 面就會轉印出平面性基材的表面，而形成平滑面。 用於該平坦化層29的樹脂並不特別限定，適用 天然或合成樹脂、熱或電離輻射線硬化樹脂等，但由 的耐久性、塗佈性、易平坦化度、平面性等來看，以 酸系的紫外線硬化樹脂最適合。 (NIR吸收層） ’ 甚至，用於平坦化層2 9的樹脂可添加吸收可視 或近紅外線之特定波長的光線吸收劑。吸收可視及/ 紅外線之特定波長，可抑制不適感，且畫像辨識性提: 近紅外線的特定波長是指7 8 0〜200nm中特別是 〜lOOnm波長的波段。希望吸收該78 0〜lOOOnm之 範圍之80%以上。該近紅外線吸收劑（NIR吸收劑） 深入 而利 脫除 之接 平坦 器前 好的 用平 使塗 的表 各種 樹脂 丙烯 及/ 或近 汁。 800 波長 並未 (26) 1302082 特別限定，但會急遽的吸收在近紅外線波段，可視光波段 的光透過性提高，且可視光波段適用不會大量吸收特定波 長的顔料等。又，由PDP發光的可視光範圍通常爲氖原 子之發射光譜的橘色具多，在5 7 0〜6 0 5 nm附近的程度吸 收佳，以此作爲彩色校正用光線吸收劑使用。該近紅外線 吸收劑有菁系化合物、酞菁系化合物、萘酞菁系化合物、 萘醌系化合物吸收、蒽醌系化合物、二硫系配位化合物、 亞銨化合物、二異銨系化合物等。又，彩色校正用光線吸 收劑是用偶氮基系化合物、酞菁系化合物等。對平坦化層 29添加NIR吸收劑，但不添加時’只要對至少一方的面 設置具有NIR吸收劑的別層（稱NIR吸收別層）即可。 (NIR吸收別層） NIR吸收層是設向著平坦化層2 9側及/或反相側之 基材1 1側，向著平坦化層29面設置時，爲第1圖所示的 NIR吸收層31B，且向著基材11面設置吸收時，爲第i 圖所示的NIR吸收層3 1A。該NIR吸收層3 1B及NIR吸 收層3 1 A是利用接著劑積層具有NIR吸收劑之市販薄膜 (例如東洋紡績公司製、商品名N02 83 2 )，或先使NIR 吸收劑含有黏合劑並加以塗佈亦可。該黏合劑適用聚酯樹 脂、聚氨酯樹脂、丙烯酸樹脂和利用以熱或紫外線等硬化 的環氧、丙烯酸酯、丙烯酸甲酯、異氰酸酯基等之反應的 硬化型等。 -30- (27) 1302082 (AR 層） 進而，圖未示，但對電磁波遮蔽用薄片之觀察側設置 反射防止層（稱AR層）亦可。反射防止層是爲了防止可 視光線的反射，其構成多半以單層、多層在市面販賣。多 層是交積層高折射率層和低折射率層，而高折射率層係爲 氧化鈮、氧化鈦、氧化鉻、ITO等，低折射率層係爲矽氧 化物、氟化鎂等。並具有亂反射外光之微細凹凸表面的 層。 (硬塗層、防污層、防眩光層） 更可在反射防止（AR )層設置硬塗層、防污層、防 眩光層。硬塗層爲具有JIS - K5 4 00之鉛筆硬度試驗之硬 度的層，並利用熱或電離輻射線使聚酯、丙烯酸酯、尿烷 丙烯酸酯、環氧丙烯酸酯等之多官能丙烯酸酯硬化。防污 層爲排水性、排油性的塗層，適用矽氧烷系、氟化烷基甲 矽烷化合物等。防眩光層爲具有亂反射外光之微細凹凸表 面的層。 (薄片化） 如上，切斷以連續帶狀的捲繞滾筒狀態所製造的構 件，得到一片片的電磁波遮蔽用薄片1。將該電磁波遮蔽 用薄片1貼固至玻璃等之透明基板，並配合需要與NIR 吸收層、AR層、硬塗層、防污層、防眩光層組合而成爲 顯示器前面板。該基板對大型顯示器而言具有厚度】〜 -31 - (28) 1302082 1 0mm的剛性，但於顯字管等之小型顯示器上則使用厚度 0.0 1〜0.5mm的塑膠薄膜，可配合顯示器的大小、用途做 適當選擇。在此一旦將電磁波遮蔽用薄片1形成顯示器前 面板後，設置在顯示器之前面，基材1 1側即成爲觀察 側，但也可直接貼固在顯示器的前面。 第6圖乃爲於本發明之其他實施形態中，表示第2圖 之AA斷面的斷面圖。本實施形態係爲貼固在顯示器面的 本發明之電磁波遮蔽用薄片。 (直接貼固） 此時，成爲網目狀的金屬層2 1側屬於觀察側，至少 必須往該金屬層側設置黑化處理、防銹層。接地用框部 1 0 1露出於表面，極易拉出電極，接地很容易。而且該接 地用框部1 〇 1被黑化處理，黑面成爲觀察側，不需要設置 前面玻璃板之框緣狀的黑色印刷，就能縮短工程，對成本 方面也很有利。 (實施例1 ) 導電材是將在表面由平均粒子徑0·3μιη的銅一鈷合金 粒子製成的黑化處理、由鉻酸鹽（處理）層製成的防銹兼 黑化強調層依此順序附加的厚度1 0 μιη之電解銅范的銅— 鈷合金粒子面和將厚度爲ΙΟΟμπι的雙軸延伸聚乙燒對苯 二甲酸酯（PET )薄膜Α43 00 (東洋紡績公司製、商品 名）利用雙液硬化型聚氨酯系接著劑疊層後，以5 6 t經 -32· (29) 1302082

四天老化。接著劑是使用由多元醇製成的主劑 TAKERAKU- A — 310和由聚異氰酸酯基製成的硬化劑A 一 1 〇 (均爲武田藥品工業公司製、商品名），塗佈量以乾 燥後的厚度形成7 μ m。 利用微縮法的網目形成是挪用以連續帶狀從掩蔽進行 到融刻之彩色TV陰罩用的製造線。首先，導電材層面的 全體利用驅流法塗佈由酪蛋白製成的感光性光阻劑。向下 一個工作站搬送，且使用開口部爲正方形、線寬22 土 1 μιη、線間隔（間距）3 00|im、偏斜角度49度、接地用框 部（接地用電極部）的寬度5mm的圖案版，並用高壓水 銀燈進行密著曝光。一邊一個接一個的搬送至工作站一邊 進行水顯影、硬膜處理，更以8 (TC進行熱處理。 更往下一個工作站搬送，且蝕刻液是用4(TC、40 °玻 美度的氯化二鐵溶液，利用對側面蝕刻有效的噴霧法噴塗 並加以蝕刻，形成網目開口部。一邊一個接一個搬送至工 作站一邊進行水洗、剝離光阻劑、洗淨，更以8 0 °C加以 乾燥得到實施例1的電磁波遮蔽用薄片。 (實施例2 ) 蝕刻液除使用3 5。玻美度之氯化二鐵溶液以外，與實 施例1同樣的可得到實施例2的電磁波遮蔽用薄片。 (比較例1 ) 光阻劑是用乾式光阻劑，蝕刻液是使20 °玻美度的氯 -33- (30) 1302082 化二鐵溶液’並利用驅流法蝕刻以外，與實施例1同樣的 可得到比較例1的電磁波遮蔽用薄片。 (實施例3 ) 往實施例1的網目部塗佈下述組成的平坦化層組成 物，且疊層厚度50μιη的SP— ΡΕΤ20 - BU (TOSERO公 司製、表面分離型處理PET薄膜商品名）後，用高壓水 銀燈進行200 mj/ cm2的曝光（換算3 6 5 nm )。而且剝離 SP — PET2 0 - BU的話，即可得到網目部平坦化的實施例2 之電磁波遮蔽用薄片。 平坦化層組成物是用N —乙烯基一 2 -吡咯烷酮2 0質 量部、雙環戊烯基丙烯酸酯25質量部、低聚酯丙烯酸酯 (東亞合成（股）製、Μ - 8060) 52質量部、1 一羥基環 己基異氰酸酮（CHIBAGAIGI公司製、IRUGAKYUA184) 3質量部。 (實施例4 ) 實施例2之平坦化層組成物含有作爲近紅外線吸收劑 之硫醇-鎳配位化合物1質量部以外，與實施例2同樣的 可得到電磁波遮蔽用薄片。 (實施例5 ) 於實施例2的平坦化層面利用粘著劑積層NIR薄膜 Ν 02 8 3 2 (東洋紡績公司製、近紅外線吸收薄膜商品名） (31) 1302082 以外，與實施例2同樣的可得到電磁波遮蔽用薄片。 (實施例6) (直接貼合） 沒有銅-鈷合金粒子的鉻酸鹽（處理）層的面和疊層 PET薄膜以外，與實施例1同樣的，且更與實施例3同樣 的形成平坦化層，而得到實施例6的電磁波遮蔽用薄片。 (評估方法） 線寬及線切斷面的上下寬度是使用光學顯微鏡以倍率 400倍隨意地測定1 〇〇處。以目視觀察網目濃淡斑紋。畫 像辨識性是搭載至PDP面板，並以目視觀察顯示畫像。 再者，曲率半徑是由線切斷面之2 0 0 0倍的電子顯微鏡照 片進行測定。 (結果） 實施例1中線寬爲8〜1 2 μιη (預定寬度± 2 0 % )範圍 內’網目沒有濃淡斑紋，而且土堤側面部之曲率半徑爲 3 0μιη (厚度的3 ·〇倍），並且顯示於PDP的畫像也沒有 誤差，辨識性良好。 實施例2中線寬爲7〜1 3 μηι的話，屬於預定寬度土 3 0%之範圍內，網目沒有濃淡斑紋，而且土堤之曲率半徑 爲15μιη(厚度的1.5倍），並且顯示在PDP顯示器的畫 像也沒有誤差，辨識性良好。 -35- (32) 1302082 比較例1中土堤的曲率半徑爲1 〇μη (厚度的1.〇 倍），而且顯示在PDP顯示器的畫像有誤差’辨識性也 很差之外，線寬爲9〜1 9 Km的話’屬於預定値土3 3 °/° ’爲 預定値± 3 0 %之範圍外，也看得見網目的濃淡斑紋。 將實施例3〜5的電磁波遮蔽性薄片搭載至P D P面板 的前面，並以目視觀察整面形成白畫像及黑畫像時，於 PDP畫像上沒有誤差，且亦認定没有白及/或黑的點狀、 線狀缺陷，辨識性優。 實施例6的電磁波遮蔽性薄片，將基材面用粘著劑設 置在 PDP的時候，反射顯示光的泛光也減少，也沒誤 差，畫像之辨識性良好，甚至電極之拉出工數也減少，也 不需要設於玻璃基板之框緣狀的黑印刷。 按照本發明的電磁波遮蔽用薄片，可於安裝在顯示器 表面之際，用來遮蔽由顯示器產生的電磁波，且網目的線 部分爲非辨識性，並滿足電磁波遮蔽性、透明性的兩特 性，且線寬爲一定範圍內，而且沒有網目的濃淡斑紋，不 會在藏不益1畫像出現白及/或黑之點狀、線狀的缺陷。 又，網目的土堤側面部之曲率半徑和網目之厚度的關係爲 特定範圍內的緣故，亦無畫面誤差，能良好辨識畫像。 【圖式簡單說明】 第1圖係爲本發明之電磁波遮蔽用薄片的平面圖。 第2圖係爲模式表示本發明之電磁波遮蔽用薄片之部 分立體圖。 -36- (33) 1302082 第3 A圖係爲第1圖之A A斷面圖，第3 B圖係爲第1 圖之BB斷面圖。 第4圖係爲說明導電材層之構成斷面圖。 第5 A圖係說明以捲繞滾筒狀加工的平面圖，第5 B 圖係爲側面圖及其部分放大圖。 第6圖係爲貼固至顯示器面的本發明之電磁波遮蔽用 薄片的斷面圖。 第7圖係表示針對與網目部之線條的直線部的透明基 材正交的線條切斷面之形狀，而連結上底1 07U和下底 107B之土堤側面部107S的曲率半徑r，對金屬層之厚度 t而言，爲1 · 5 t ‘ r ^ 3 · 0的圖。 〔圖號說明〕 1:電磁波遮蔽用薄片 103:網目部 1 〇 1 :接地用框部 1 0 7 :線條 1 3 :接著劑層 1 0 9 :導電材層 1 0 5 :開口部 21 :金屬層 23A、23B:化處理黑 2 5 A、2 5 B ··防銹層 107U:上底 (34) 1302082 1 07B:下底 1 0 7 S : 土堤側面部 1 1 :基材 2 9 :平坦化層 31A:NIR吸收層 31B:NIR吸收層

Claims (1)

1302082 拾、申請專利範圍 第92 1 2 1 703號專利申請案 中文申請專利範圍修正p- 民國96牽Θ

遍修正 1、 一種電磁波遮蔽用薄片，乃屬於對透明基材之一 方的面’積層網目狀導電材層的電磁波遮蔽用薄片，其特 徵爲： 連結與前述導電材層之線的直線部之前述透明基材正 交的線切斷面形狀的上底和下底的土堤側面部之曲率半徑 爲前述導電材層之厚度的1.5〜3.0倍。 2、 一種電磁波遮蔽用薄片，乃屬於對透明基材之一 方的面，積層網目狀導電材層的電磁波遮蔽用薄片，其特 徵爲： 前述導電材層之線的直線部之寬度爲預定値±30%之 範圍內，且連結與前述透明基板正交之線切斷面形狀的上 底和下底的土堤側面部之曲率半徑爲前述導電材層之厚度 的1 . 5〜3 · 0倍。 3、 如申請專利範圍第1項或第2項所記載的電磁波 遮蔽用薄片，其中，針對除了前述網目狀導電材層之外周 部之1〜50網目量的內周部分或除了 0.15〜15mm部分的 內周部分，線之直線部的寬度爲預定値±30 %之範圍內。 4、 如申請專利範圍第1項或第2項所記載的電磁波 遮蔽用薄片，其中，前述導電材層之線的直線部之寬度爲 5〜2 5 μ m，而線和線之間距爲1 5 0〜5 0 0 μ m。 1302082 5 '如申請專利範圍第1項或第2項所記載的電磁波 遮蔽用薄片，其中，上述導電材層爲金屬層。 6 '如申請專利範圍第1項或第2項所記載的電磁波 遮蔽用薄片’其中，對上述導電材層之至少一方的面進行 黑化處理。 7 '如申請專利範圍第1項或第2項所記載的電磁波 遮蔽用薄片’其中，對上述導電材層之至少黑化處理面設 置防銹層。 φ 8、 如申請專利範圍第〗項或第2項所記載的電磁波 遮蔽用薄片，其中，將前述導電材層之至少開口部凹部利 用透明樹脂塡充，而前述導電材層之面實際爲平坦化狀 態。 _ 9、 如申請專利範圍第8項所記載的電磁波遮蔽用薄 . 片’其中，前述透明樹脂係含有吸收可視光線中之波長 570〜605nm波段光的彩色校正用光線吸收劑及/或吸收 近紅外線之波長 800〜11 OOnm波段光的近紅外線吸收 · 劑。 1 0、如申請專利範圍第8項所記載的電磁波遮蔽用薄 片，其中，在表面和背面的至少一方之面，設有吸收可視 光線中之波長5 70〜60 5nm波段光的彩色校正用光線吸收 劑及/或吸收近紅外線之波長800〜1 l〇〇nm波段光的近紅 外線吸收劑層。