1357805 (1) 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明是關於一種用以遮蔽電磁波的薄片’更詳述’ 是關於一種配置於CRT、PDP等的畫像顯示裝置（顯示器 )的前面，用以遮蔽從該畫像顯示裝置所發生的電磁波的 電磁波遮蔽材（電磁波遮蔽裝置）者。
在本案發明說明書中，「畫像顯示裝置」，是「顯示 φ 器j ; 「CRT」是「陰極射線管（布朗管）」，及「PDP j是「電漿顯示面板」的略語，功能性表現，通稱，或是 業界用語。 【先前技術】 近年來，隨著電子機器的功能高度化與增加利用，增 加電磁性的雜訊干擾（Electro Magnetic Interference; EMI )。各種畫像顯示裝置也成爲EMI的發生源。例如 φ PDP是資料電極及具有螢光層的玻璃板及具有透明電極的 玻璃板的組合體，當作動時，會大量地發生電磁波，因此 需要電磁波的遮蔽。由PDP前面所發生的電磁波的遮蔽性 是在30MHz至1GHz需要30dB以上。 電磁波雜訊是大致分類成傳導雜訊與放射雜訊。一般 傳導雜訊是有使用靜噪濾波器等加以除去的方法〇 —方面 ，放射雜訊是必須電磁性地絕緣空間，因此有將框體作成 金屬，或在電路基板間插入金屬板，或以金屬箔捲繞電纜 等進行遮蔽的方法。此些方法是針對於電路或電源塊的電 -5- (2) 1357805 磁波遮蔽雖有效，惟由畫像顯示裝置的畫面部所發生的電 磁波並無法加以除去，又金屬板覆是不透明而不適用。 如此，爲了畫像顯示裝置的畫面部的電磁波遮蔽，有 各種提案並被製造販賣業可兩立對於MHz頻帶至GHz頻帶 的頻率電磁波的遮蔽性，與對於可視光線頻帶的頻率電磁 波的透明性者》其最代表性者，爲在樹脂薄片所成的透明 基材上’層積金屬導電體所成的網狀體或格子所構成的電 φ 磁波遮蔽材（電磁波遮蔽裝置）。在最近，針對於此種電 磁波遮蔽材，被要求在金屬網狀體上塗上透明樹脂後塡充 開口部，將金屬網狀體表面凹凸作成平坦化的如第4圖的 構成者。 在最近的畫像顯示裝置中PDP是以大型畫面作爲特徵 ，使用於前面板的電磁波遮蔽材的大小（外形尺寸），是 +在37型有621x831mm，而42型也有983x583mm，而也有更 " 大型尺寸者。爲了此，在金屬網上設置透明樹脂層的構成 φ的電磁波遮蔽用薄片是從製造到畫像顯示裝置的裝配的全 工程，及經長期間的實際使用期間，瞭解到在金屬網狀體 與透明樹脂層之層間會浮起，或發生剝離的危險性。亦即 ，如第4圖所示地，透明樹脂層1 7是必須全面地被覆相對 於畫像顯示裝置的畫面部100的網狀部103的正上方部。但 是，即使在塗佈工程位置發生偏位，也必須作成在網狀部 正上方部有缺落部地，透明樹脂層17的塗佈面程作成比網 狀部103的面積還廣。又，施以塗佈工程的透明樹脂是一 直到固化爲止的期間還會擴及到外周。如此，實際上，透 -6- (3) !3578〇5 明樹脂層是被覆成從網狀部至外周部的接地用圖框部 (無開口部的金屬層）內進到2至3mm在右的情形（B部分 )。在網狀部103使得透明樹脂層與金屬網狀體藉由定錨 效果及與黏接劑層13的化學密接，透明樹脂層17與金屬網 狀體103可容易得到充分的密接。但是，在圖框部101»透 明樹脂層17是僅與平坦金屬層接觸，而定錨效果也無法期 待與黏接劑層的化學密接。又，該部分是成爲透明樹脂層 φ 17與電磁波遮蔽層（金屬層）15的界面末端，因此應力是 集中在此。因此，可能在此容易發生剝離。 因此，作爲使用金屬網狀體的畫像顯示裝置用的電磁 漆遮蔽材，除了優異的電磁波遮蔽性，適當的透明性（可 視光透射率）之外，作爲新課題，在製程及實際使用期間 中，被要求不會在構成電磁波遮蔽材的層間浮起，或被剝 離之情形。 先前，眾知在透明塑膠基材的表面以金屬等導電性材 φ料形成網狀部所成的電磁波遮蔽材中，以透明樹脂層被覆 該網狀部的一部分或全面，俾平坦化網狀面的凹凸者（例 如：參照專利文獻1及專利文獻2 ) » 此些發明是藉由塡滿網狀開口部的凹部而將網狀面作 成平坦化，經由防止反射濾波鏡等其他層與黏接劑層層積 於該網狀面上之際，以防止在開口部內殘留氣泡而亂反射 光線的情形，而且塡充露出於開的黏接劑的粗面而可提昇 透明性的效果者。但是，實際上依據此些發明嘗試電磁波 遮蔽材的製造，判明更需解決的新課題。亦即，一般畫像 (4) 1357805 顯示裝置的畫面用電磁波遮蔽材，是爲了接地，在網狀部 的周緣部具有無開口部的金屬圖框領域101。又，塗佈於 網狀部103上全面的透明樹脂層17，是塗佈位置有偏位， 也確實地被覆網狀部103，因此塗佈比網狀部103還大面積 ，且也有塗佈後流動所致的擴大，因此如第4圖地使透明 樹脂層17端部B進到圖框領域101上。然而，在圖框領域 101上，透明樹脂層17是與平坦平滑的金屬面接觸，因此 φ 與網狀部相比較，原來透明樹脂層與圖框領域101的黏接 較弱。而且在透明樹脂層端部B接受外力使得剝離應力會 集中。因此，在該端部B中，判明頻發透明樹脂層17與圖 框101的剝離的問題。在上述先前技術，當然對於防止電 磁波遮蔽材本身的層間浮起或剝離，並未記載或暗示該課 題，又對於課題解決手段也未記載或暗示。 專利文獻1:日本專利第3 570420號 專利文獻2:日本特開2002 — 3 1 1 843號公報。 【發明內容】 如此，本發明是解決此種問題點所創作者。 其目的是在於提供一種電磁波遮蔽裝置，該裝置是設 置圍繞網狀部的周緣的透明樹脂層錨部，塡充透明樹脂層 錨部的至少一部分，而施以被覆般地，形成透明樹脂層， 可得到優異的電磁波遮蔽性，適當的透明性（可視光透射 率），且在製程及實際使用期間中，不會在導電體所成的 電磁波遮蔽層與透明樹脂層之層間浮起，或被剝離的電磁 (5) 1357805 波遮蔽裝置。 本發明是一種電磁波遮蔽裝置，屬於鄰接於畫像顯示 裝置的畫面部前面所配置的電磁波遮蔽裝置，其特徵爲： 具備透明基材；設於透明基材的其中一方的一面，而由導 電體所構成的電磁波遮蔽層；以及設於電磁波遮蔽層上的 透明樹脂層；電磁波遮蔽層是具有：具對應於畫像顯示裝 置的畫面部的形狀，而包含排列多數開口部的網狀部，及 φ 圍繞網狀部，而且包含排列多數而具比網狀部的開口率還 低的開口率的開口部的透明樹脂層錨部，及圍繞透明樹脂 層錨部，而且未具開口部的平坦狀圖框部；透明樹脂層是 設於網狀部至透明樹脂層錨部表面全面。 本發明爲透明樹脂層是從網狀部表面全域延伸至透明 樹脂層錨部表面全域，且設置成覆蓋圖框部的內側端部， '爲其特徵者。 本發明爲透明樹脂層是從網狀部表面全域延伸至透明 φ樹脂層錨部表面全域，且終了在透明樹脂層錨部的外側端 部，爲其特徵者。 本翠明爲透明樹脂層是設置成覆蓋從網狀部表面全域 至透明樹脂層錨部的內側端部，爲其特徵者。 本發明爲透明樹脂層是從網狀部表面全域延伸至透明 樹脂層錨部的中間部，而透明樹脂層錨部外側是未被覆蓋 ，爲其特徵者。 本發明是黏接層被介裝於透明基材與電磁波遮蔽層之 間，爲其特徵者。 (6) 1357805 依照本發明，提供一種電磁波遮蔽材，該電磁波遮蔽 材有優異電磁波遮蔽性，適當透明性（可視光透射率）， 且在製程及實際使用期間中，不會在電磁波遮蔽層與透明 -樹脂層的層間浮起，或剝離。 依照本發明，提供一種電磁波遮蔽材，該電磁波遮蔽 材是透明樹脂層的材料較少量就可以，透明樹脂層的形成 位置稍偏移也可對應，而在製程及實際使用期間中，不會 φ 在所構成的層間浮起或剝離，而且在透明樹脂層塗佈位置 產生偏差，也不會在相對於側面部的網狀部產生透明樹脂 層的缺落。 依照本發明，提供一種電磁波遮蔽材，該電磁波遮蔽 材爲以黏接層所層積的透明基材與電磁波遮蔽層之層間， 是牢固地黏接，或在網狀體及開口部的底面也露出有黏接 '層，因此與頻補開口部的透明樹脂層之層間也牢固地黏接 ，在製程及實際使用期間中，不會在所構成的層間浮起或 φ剝離的效果，更確實地發揮。 【實施方式】 藉由第1圖至第3(A) 、（B) ' (C)圖說明本發明 所致的電磁波遮蔽裝置（電磁波遮蔽材）。 若第1圖及第2(A) 、（B)圖所示地，電磁波遮蔽 裝置（電磁波遮蔽材）1，是鄰接於如顯示面板（PDP等 )的畫像顯示裝置的畫面部100的前面所配置者’亦即’ 鄰接於視察者側所配置者。此種電磁波遮蔽裝置1是具備 -10- (7) 1357805 :透明基材〗1，及經由黏接層13設於透明基材11的其中一 方的一面，而由導電體所構成的電磁波遮蔽層15，及設於 電磁波遮蔽層15上的透明樹脂層17» 其中電磁波遮蔽層15是具備：相對於如PDP的畫像顯 示裝置的畫面部17所配置，而且具有與畫面部100大約相 同形狀，具有排列多數開口部103 a的網狀部103，及圍繞 網狀部，而且具有開口部105a的透明樹脂層錨部105，及 φ 圍繞透明樹脂層錨部105，而且未具開口部的平坦狀圖框 部 107。 其中，藉由透明樹脂層錨部105與圖框部107形成有圖 框領域101。 又，網狀部103是由開口部103a與包圍其周圍的線部 l〇3b所構成：透明樹脂層錨部105是由開口部105a與包圍 '其周圍的線狀l〇5b所構成》又，透明樹脂層錨部105的線 部105b是比網狀部103的線部103b寬度還粗，又透明樹脂 φ層錨部105的開口部105 a是比網狀部103的開口部103 a面積 還小。又，線部〗〇3b的周期是與線部105b的週期相等。 如此，透明樹脂層錨部105的開口部105a的開口率是 比網狀部1〇3的開口部103 a的開口率還小。 又，在圖框部107，將電磁波遮蔽材1鄰接於畫像顯示 裝置的畫面部1 00所設置時，則連接有接地。 又，如第2(B)圖所示地，透明樹脂層17是從網狀部 103表面全域一直延伸到透明樹脂層錨部105的表面全域。 且塡充並被覆著開口部l〇3a，105a。這種情形，透明樹脂 -11 - (8) 1357805 層17是終了在透明樹脂層錨部105的外側端部。 又，透明樹脂層1 7是延伸到畫像顯示裝置錨部1 05的 中間部，而未覆蓋透明樹脂層錨部1 〇5的外側也可以[第3 (B)圖]。 又，透明樹脂層1 7是延伸到畫像顯示裝置錨部1 05的 表面全域，而且未覆蓋未具有開口部的領域部107的內側 端部也可以[第3 ( C)圖]。 φ 較理想爲透明樹脂層17是終了在透明樹脂層錨部105 的外側端，而未進到圖框部107 [第3 ( A)圖]。 又，透明樹脂層錨部105的開口部105 a是從電磁波遮 蔽層15的表面貫通穿設至背面也可以，而從透明樹脂層15 的表面未貫通至背面，孔停在電磁波遮蔽層15中途而成爲 凹部形狀也可以。都可發揮充分的定錨效果。又，透明樹 脂層錨部105的開口部105a是位於畫像顯示裝置的畫部100 ' 的外側，不需透視畫像；因此即使未貫通，在畫像顯示裝 φ置的功能上並沒有妨礙。 針對於本發明的電磁波遮蔽材1，說明各層材料及形 成。 作爲透明基材1的材料，若有使用條件或對於製造的 透明性、絕緣性、耐熱性、機械強度等，則可適用各種材 料，例如有玻璃或透明樹脂。 在玻璃，可適用石英玻璃、硼矽酸玻璃、鹼玻璃等， 較理想是熱膨脹係數較小的尺寸穩定性及高溫加熱處理的 作業性優異，又’在玻璃中未含鹼成分的無鹼玻璃’也可 -12- (9) 1357805 兼用作爲畫像顯示裝置的電極基板。 在透明樹脂可適用：聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚對苯 二甲酸丁二醇酯、聚乙烯環烷酸酯、對苯二甲酸-間苯二 甲酸一乙二醇共聚物、對苯二甲酸一環己二甲酸一乙二醇 共聚物等的聚酯系樹脂，尼龍6等的聚醯胺系樹脂、聚丙 烯、聚甲基戊烯等的烯烴系樹脂、聚甲基偏內烯酸酯等的 丙烯系樹脂、聚苯乙烯、苯乙烯一丙烯腈共聚物等的苯乙 φ 烯系樹脂、三乙酸纖維素等的纖維素樹脂、醯亞胺系樹脂 、聚碳酸酯等的樹脂所成的薄片、薄膜、或是板等》 該透明樹脂所成的透明基材是以此些樹脂作爲主成分 的共聚樹脂，或是混合體（包含聚合合金），或是複數層 所成的層積體也可以。該透明基材是延伸薄膜，或未延伸 薄膜也可以，惟以提高強度爲目的，朝一軸方向或是二軸 ~ 方向延伸的薄膜理想。該透明基材的厚度，是由該透明樹 " 脂所成的透明基材時，通常可適用12~ 1 000 μιη左右，惟 φ 50〜700μιη較適用，而以100〜5 00 μιη最適用。一般該玻璃所 成的透明基材的情形，以100~5000μηι左右較適當。在該 以下的厚度，則機械強度都不足而發生彎曲或鬆弛，破損 等，而在該以上厚度，都成爲過剩性能而在成本上浪費。 —般，聚對苯二甲酸乙二醇酯，聚對苯二甲酸丁二醇 酯等的聚酯系樹脂薄膜，或是玻璃爲透明性，耐熱性優異 ，成本也低，因此適當地被使用。其中特別考量難以剝離 ’輕量又成形容易等點上，以聚對苯二甲酸乙二醇酯。又 ，透明性是愈高愈好，較理想爲可視光線透射率80%以上 -13- (10) 1357805 該透明基材是在塗佈之前對於塗佈面，進行電暈放電 處理、電漿處理、臭氧處理、火焰處理、始發劑（也稱爲 增黏塗層、黏接促進劑、易黏接劑）塗佈處理，預熱處理 ，除塵埃處理、蒸鍍處理、鹼處理等的易黏接處理也可以 。該樹脂薄膜是視需要，添加紫外線吸收劑、塡充劑、可 塑劑、帶電防止劑等的添加劑。 φ 作爲遮蔽電磁波的電磁波遮蔽層15,若具有足夠遮蔽 電磁波的導電係數的物質並未特別加以限制，惟代表性有 如金、銀、銅、鐵、鎳、鉻、鋁等可充分地遮蔽電磁波程 度的導電性的金凰所成的層所構成。該電磁波遮蔽層是將 作爲事先獨立的層所製膜的金屬箔經由黏接劑層層積於透 明基材上，或是藉由直接、蒸鍍、濺鍍、電鍍等於透明基 材薄膜上而析出金屬層所成。金屬箔或是金屬層不是單體 ' ，而是合金或多層也可以。作爲金屬箔，在鐵的情形，以 φ低碳未淨鋼或低碳鋁鎭靜鋼等的低碳鋼，Ni-Fe合金，恆 範鋼合金較理想，又在進行陰極電極沈積時，可使用輥軋 銅箔、電解銅箔，惟厚度均勻性，黑化處理及/或鉻酸鹽 (處理）層的密接性，及ΙΟμιη以下的薄膜化之點來看， 以電解銅箔較理想。該金屬箔的厚度是1至ΙΟΟμιη左右， 較理想爲5至20 μιη。在該以下的厚度，依微影成像法的網 狀加上成爲容易，惟會增加金屬的電阻値而會損及電磁波 遮蔽效果，而在此以上，無法到所期望的高精細的網狀形 狀，結果，實質上開口率變低，會降低光線透射率，又也 -14- (11) 1357805 會降低視角，並降低畫像的視認性。 作爲金屬箔或金屬層的表面粗糙度，以Rz値 〇·5〜1〇 μηι較理想。在該値以下，經黑化處理使得外光線鏡 面反射，畫像的視認性會劣化。在該値以上，在塗佈黏接 劑或光阻劑等之際，不會普及表面整體，或是會發生氣泡 。表面粗糙度Rz是依據JIS— Β060) ( 1994年版）所測定 的10點的平均値》 φ 在電磁波遮蔽層15，吸收射入到電磁波遮蔽材的外光 線，而爲了提高顯示器的畫像視認性，在網狀導需體的至 少觀察側，進行公知的黑化處理，作成對比感，或是對於 網狀導電體及/或黑化處理面，爲了防銹功能與防止黑化 處理的脫落或變化，設置公知防銹層也可以。 該黑化處理是將金屬箔或金屬層的所定面作成粗化及 /或黑化就可以，可適用金屬單體、金屬氧化物、金屬硫 " 化物，金屬合金的形成或各種手法。在鐵的情形，通常蒸 φ 氣中，在450〜470°C左右的溫度下，暴露10〜10分鐘，而形 成1〜2μπι左右的Fe304所成的氧化膜（黒化膜），惟依濃 硝酸等藥品處理的氧化膜（黑化膜）也可以。又，在銅箔 的情形，以硫酸硫酸銅及硫酸鈷等所成的電解液中，進行 陰極電解處理，附著陽離子性粒子的陰極電極沈積理想。 該置該陽離子性粒子，使之粗化，同時地得到黑色。作爲 上述陽離子性粒子，可適用銅粒子，銅與其他金屬的合金 粒子，較理想是銅-鈷合金的粒子。 作爲上述陽極性粒子，可適用銅粒子，銅與其他金屬 -15- (12) 1357805 的合金粒子，惟較理想爲銅一鈷合金的粒子。使用鈷-鈷 合金的粒子，則顯著提高黑化程度而可良好地吸收可視光 。作爲評價電磁波遮蔽用薄片的視認性的光學特性，以依 據JIS— 28129的表面系「L·' a*、b*、ΔΕ*」表示色調。 L* (明度）較小之外，該「。」及「b*」的絕對値較小（ 彩度低）者，則電磁波遮蔽層成爲非視認性，而畫像的對 比感變高，結果，畫像的視認性優異。若使用銅-鈷合金 φ 的粒子，則與銅粒子比較，可將「a*」及^ b*」作成接近 於〇的較小値。 又，銅-鈷合金粒子的平均粒子徑是0.1〜Ιμπι較理想 。在該値以上，若將銅-鈷合金粒子的粒子徑作成較大， 使得導電體層的厚度變薄，而以與基材11層積的工程，會 切斷銅箔使得加工性惡化，又，密集粒子的外觀緻密性會 欠缺，不均勻狀態顯著，若該値以下，粗化不足之故，因 而畫像的視認性變差。 φ 爲了防止對於金屬等的導電體及/或黑化處理的防銹 功能與黑化處理的脫落或變形，至少對於具有黑化處理的 金屬等的導電體面，設置防銹層較理想。作爲該防銹層， 可適用鎳、鋅，及/或銅的氧化物，或是鉻酸鹽處理層。 一般在施以鍍鋅之外還進行鉻酸鹽處理較理想。形成鎳、 鋅及/或銅的氧化物是公知的鍍法也可以，作爲厚度大約 Ο.001~1μηι，較理想爲 0.001 〜Ο.ίμηι。 該鉻酸鹽處理，對於被處理材塗佈鉻酸鹽處理液並加 以處理。作爲該塗佈方法，可適用輥塗、幕式塗佈、壓搾 -16- (13) 1357805 塗佈、靜電霧化法、浸漬法等，而塗佈後未經水洗直接乾 燥就可以。將鉻酸鹽處理施加於單面時，以輥塗等塗佈於 單面，而施加於兩面時，以浸漬法進行就可以。作爲鉻酸 鹽處理液，一般使用以Cr02包含3g/ ί的水溶液。其他， 在無水鉻酸水溶液添加不相同羥酸化合物，而也可使用將 6價鉻的一部分還原成3價鉻的鉻酸鹽處理液。又，藉由6 價鉻的附著量的多少，從淡黃色著色成黃褐色，惟3價鉻 φ 是無色，若管理3價與6價鉻，則得到實用上沒有問題的透 明性。作爲羥酸化合物，將酒石酸、丙二酸、檸檬酸、乳 酸、葡萄糖酸、甘油酸、托品酸、苄基酸、羥基戊酸等， 單獨或倂用地使用。還原性是依化合物有所不同，因此添 加量是一面把握對於3價格的還原一面進行著。具體上， 可例示阿魯沙夫1 000 (日本油漆公司所製，鉻酸鹽處理削 商品名稱），ΡΜ — 284 (日本派克來依金克公司所製，鉻 酸鹽處理液商品名）等。又，鉻酸鹽處理是更提高黑化處 φ理的效果。 黑化處理及防銹層是至少設在觀察側就可以，成爲可 提高對比度而顯示器的畫像視認性較優異。又，設於另一 方的一面，亦即，設於顯示器面側也可以，被抑制從顯示 器所發生的迷光，因此，更提高畫像的視認性。 作爲基材11與電磁波遮蔽層15的層積法，有熟習該項 技術者經由稱爲乾層積法的黏接層1 3加以層積的方法，及 依電鍍法而未經由黏接劑層直接層積在透明基材11上的方 法。該電镀法是可使用對於基材施以電解電無電解電鍍的 -17- (14) 1357805 公知電鍍法6 所謂乾層積法是將分散或溶解到溶媒的黏接劑，作成 乾燥後的膜厚大約0·1~2 0μηι (乾燥狀態），較理想是成爲 1〜ΙΟμιη般地，例如以輥塗、反覆輥塗、凹版塗佈等塗佈 方法進行塗佈，乾燥溶劑等，形成該黏接層後，立即層積 黏貼基材，然後，在30〜80°C數小時至數天的老化使黏接 劑硬化，俾層積兩種材料的方法。在該乾燥層積法所使用 φ 的黏接層，是可適用熱硬化型樹脂，或在紫外線或電子線 等的電離放射線會硬化的電離放射線硬化型樹脂的黏接劑 *作爲熱硬化型樹脂的黏接劑，具體上，可適用2液硬化 型氨基甲酸乙醋系黏接劑、丙烯酸系黏接劑、橡膠系黏接 劑等，惟以2液硬化型氨基由酸乙酯系黏接劑較適用。2液 硬化型氨基甲酸乙酯是藉由多官能多元醇與多官能異氰酸 酯之反應進行硬化，作爲多官能多元醇，使用聚酯多元醇 、丙烯酸多元酯、聚醚多元醇等。又，作爲多官能異氰酸 φ酯，使用甲基撐二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯、六甲撐 二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯，或是此些的附加體或 多量體。 在完全沒有以上述所形成的開口部的電磁波遮蔽層15 ，形成網狀體。作爲該網狀體是由相對於電磁波遮蔽的畫 面部100的網狀部103,及圍繞該網狀部的周緣的透明樹脂 層錨部105所構成。作爲網狀體的形成方法，可適用微影 成像法。 對於上述層積體的電磁波遮蔽層15表面上，將光阻劑 -18- (15) 1357805 層設於網狀圖案，藉由蝕刻來除去未以光阻劑層所覆蓋的 部分的導電體層之後，除去光阻劑層，而作爲網狀圖案的 電磁波遮蔽層。如示於第1圖的俯視圖所示地電磁波遮蔽 1 5是由內側朝外側依次地網狀部1 03，及透明樹脂層錨部 105，及無開口部的圖框部107所構成：如第2(A)圖的 擴大俯視圖及第2(B)圖的擴大橫斷面圖所示地，網狀部 103及透明樹脂層錨部105是包含藉由留下金屬層的線部 φ 103b，105b所包圍的複數開口部103a，105a，而未具有開 口部的圖框部107是沒有開口部而全面留著金屬層。 微影成像法，也與層積法同樣地加工成以帶狀連續捲 繞的滾筒狀較理想。一面連續地或間歇地搬運透明基材11 與電磁波遮蔽層15的層積體，一面在無鬆弛伸張的狀態下 ，進行罩幕、蝕刻、光阻劑&離。罩幕是例如將感光性光 •阻劑塗佈到電磁波遮蔽層（導電體層）上，經乾燥之後， 以具有所定圖案（網狀體的線部與圖框部）的母版（光罩 φ幕）進行密接曝光，施以水顯影，硬膜處理等，進行烘烤 。光阻劑的塗佈，是以一面連續或間歇地搬運捲成滾筒狀 的帶狀層積體，一面對於該電磁波遮蔽層面，以浸漬、幕 式塗佈、順便散佈等方法進行酪蛋白、PYA、明膠等的光 阻劑。又，光阻劑並不是塗佈，而使用乾薄膜光也可以， 而可提高作業性。烘乾是酪蛋白光阻劑時，通常在 2 00〜3 00 °C進行，惟爲了防止層積體的彎曲，而以100°C以 下儘量低溫度者較理想。 在罩幕之後進行蝕刻》作爲使用於該蝕刻的蝕刻液， -19 · (16) 1357805 在連續地進行蝕刻的本發明，可容易地循環使用的氯化第 二鐵、氯化第二銅的溶液較理想。又，該蝕刻是與製造蝕 刻帶狀又連續的鋼材（特別是厚度20〜80μΐη的薄板）的彩 色電視機的布朗管用的陰蔽罩的設備，基本上同樣的工程 。亦即，可挪用該陰蔽罩的既存製造設備，由罩幕至蝕刻 爲止可一貫地連續生產，而效率極優異。蝕刻後是進行水 洗，鹼液所致的光阻劑剝離，洗淨之後進行乾燥就可以。 φ 網狀部103是藉由透明樹脂層錨部105與圖框部107所 成的圖框領域101所圍繞所構成的領域。網狀部103是藉由 線部103b所圍繞的複數開口部103 a所構成。開口部的形狀 (網狀圖案）是並不特別加以限定，例如可適用正三角形 等三角形、正方形、長方形、菱形、台形等的四角形、三 角形等多角形、圓形、橢圓形等。僅以此些的開口部103 a •的一種，或是組合複數種作爲網狀體。由開口率及網狀體 的非視認性，線寬度是25μηι以下，較理想是20μιη以下， φ而線間隔是由光線透射率以150μηι以上，較理想是200μπι 以上。又，開口率是作成大約85~95%。又，偏置角度（ 與網狀體的線部與電磁波遮蔽材的邊所成的角度）是爲了 解決細紋等，添加顯示器的像素或發光特性經適當，地選 擇就可以。 透明樹脂層錨部105的網狀圖案是作成比網狀部103的 口部還低開口率的開口部就可以。又，在此所謂開口率， 是指在所定領域（各該網狀部103,透明樹脂層錨部105, 或是未具有開口部的圖框部107)中，對於電磁波遮蔽層 -20- (17) 1357805 15的全表面積的開口部的合計面積的比率。在透明樹脂層 不必錨部105中，爲了將透明樹脂層17的外端部定錨於電 磁波遮蔽層15，穿設》但是，不必與網狀部103同程度地 增大開口率而透射畫像光，又，開口率與圖框部的境界中 由大開口率不連續地成爲0，則在該境界近旁會集中應力 而容易產生破損或折斷等。所以，透明樹脂層錨部105的 開口部105a的開口率是作成比網狀部103的開口部103a的 φ 開口率還低（小）。如此地藉由將開口率低次降低網狀部 103，透明樹脂層錨部105的開口部，未具有開口部的圖框 部107，對於顯示畫像之質上不會給予不良影響，而且即 使外力或變形施加於電磁波遮蔽材時，在網狀體的外緣部 也很難產生破損或折斷。 如第2(A)圖所示地，開口部l〇3a，105a的形狀（網 狀圖案），是複數同一矩形圖案也可以，惟並未特別地加 以限定者，例如可適用正三角形等的三角形、正方形、長 φ方形、菱形、台形等的四角形、六角形等的多角形、圓形 、橢圓形等。在透明樹脂層錨部105中，與網狀部103的開 口部103 a相比較，將開口部1〇5 a的面積作成較小，或是將 排列週期作成較大，或是組合此兩者而作成低開口率就可 以。又’在透明樹脂層錨部105中，開口部l〇5a的形狀， 是與網狀部103的開口部l〇3a的形狀相同也可以，或是不 同也可以。 又’透明樹脂層錨部105是並不一定透射畫像顯示裝 置的畫像光，因此，並不一定表背貫通導電體層15而穿設 -21 - (18) 1357805 者，而是貫通凹部也可以。 又，透明樹脂層錨部105的網狀圖案的開口率，是從 接觸於網狀部103的一面朝外周部沒有開口部的圖框部107 的一面漸次縮小的所謂稱爲等級的形狀較理想。作成如此 ，習知，在網狀部103與圖框領域101之境界，剛度不連續 地變化，因此在從電磁波遮蔽材的製程到顯示器的裝配， 組裝的全工程中，而應力集中在此，產生折彎或斷線，會 φ 使處理適應性極差，而有將高價零件作成浪費的缺點，惟 依照等級的網狀圖案，即使大型PDP用電磁波遮蔽材，由 製造至裝配爲止的全工程也不會產生折斷等的不良而在處 理適應性上優異。 網狀圖案的罩幕是成爲組合複數圖案者，惟在畫像處 理裝置可容易地製作，工程也容易，成本並不會增加。 透明樹脂層1 7所具有功能是網狀部的平坦化及透明化 。亦即，當形成有網狀部1 03與透明樹脂層錨部1 05，則線 φ 部103b，105b是具有電磁波遮蔽層15的厚度，惟開口部 103a，105 a是被除去成爲空洞或凹部，而電磁波遮蔽層15 是成爲凹凸狀態。該凹凸是在下一工程，黏接劑（或黏接 劑）被塗佈時，以該黏接劑塡補，惟形成開口部1 〇3a， 105a之後，立即黏貼至顯示器的情形，凹凸仍露出，作業 性較差，因此在透明樹脂層17塡補凹部使之平坦化。又， 該透明樹脂層17是在開口部底面露出透明基材11或黏接層 13，而該透明基材11或黏接層13，尤其是黏接層13的底表 面，是轉印有電磁波遮蔽層15的凹凸的凹凸形狀，藉由該 -22- (19) 1357805 凹凸所致的亂反射，使得透明性顯著變低。以透明樹脂層 17塡補凹凸成爲平坦化，則可提高透明性。 爲了平坦化，將透明樹脂塗佈在凹部加以塡滿，若未 侵入至凹部各處，會留下氣泡而使透明性劣化。如此，以 溶劑等進行稀釋而以低黏度塗佈經乾燥，或一面將空氣施 以脫氣一面施以塗佈，以形成透明樹脂層17。又，在此所 謂「平坦化」，是作成將顯示畫像成爲歪曲，或是不會產 φ 生光線散射所致的霧氣（去霧）程度的平面性就可以。但 是在畫像不會產生歪曲，霧氣的範圍，捲取或重疊表組成 塊或電磁波遮蔽材之際，爲了防止空氣（氣泡）殘留在各 電磁波遮蔽材的層間，而容許在平坦面中存有微小凹凸（ 墊狀）者。亦即，在與網狀部的週期相同程度的大局性程 度上作爲平坦面賦予平坦化與透明化的功能，且在該平坦 面上與網狀部的週期相比較，在微視性程度上微小凹凸局 部地重疊所形成，以防止捲取時的氣泡混入也可以。 φ 透明樹脂層17是透明性高，而與網狀體的導電體的黏 接性優異，而與下一工程的黏接劑的黏接性優異者就可以 。但是，若透明樹脂層17的表面有突起、凹部、不均勻， 則設置到顯示器前面之際，發生細紋、干涉不均勻、牛頓 環而不理想。作爲較佳方法，作爲樹脂以公知的間歇式雙 塗佈法等所期望的圖案狀地塗佈熱硬化型樹脂或電離放射 線硬化型樹脂之後，使用平面性優異且具有剝離性的剝離 性基材進行層積，以熱或紫外線來硬化塗佈樹脂，之後剝 離並除去剝離性基材。透明樹脂層17的表面是平面性基材 -23- (20) 1357805 的表面被轉印，形成有平坦且平滑的面。 作爲使用於該透明樹脂層17的樹脂，並未特定地限定 ，可使用各種天然或合成樹脂。作爲塗上的樹脂硬化形態 ，可適用熱硬化型樹脂，電離故射線硬化型樹脂等，惟樹 脂的耐久性、塗佈性、平坦化容易性、平面性等，以丙烯 酸系的紫外線硬化型樹脂較理想。電離放射線硬化型樹脂 是主要作爲紫外線，電子線的電離放射線的照射，無始發 φ 劑，或是受到始發劑的作用而發生交聯，聚合反應的具官 能基的低聚物及/或單體所聚合的電離放射線硬化型樹脂 或其組成物的硬化物。 作爲可成爲電離放射線硬化型樹脂的低聚物或草體， 主要使用在分子中具有丙烯醯基、甲基丙烯醯基、丙烯醯 羥基、甲基丙烯醯羥基等乙烯性雙重結合的基聚合性者， 惟此以外，也可使用如環氧基含有化合物的光陽離子聚合 性的低聚物及/或單體。 φ 所謂電離放射線是指電磁波或帶電粒子線中，具有將 分子予以聚合，交聯所得到的能量子者，一般使用紫外線 、電子線等。在紫外線時，作爲照射裝置（線源）使用高 壓水銀燈、低高壓水銀燈、金屬鹵素燈、碳電孤、黑光燈 等》紫外線的能量（波長）是大約190~45 0mm，而照射量 是大約50~1 0000mJ/cm2較理想。在電子線的情形，作爲照 射裝置（線源）使用科克羅夫特率酮類型，包帶圖表型， 諧振變壓器型，絕緣的變壓器型，或是直線型，動態電子 調諧式框形磁控管型，高頻型等的各種電子線加速器等。 -24- (21) 1357805 電子線的能量（加速電壓）是70〜l〇〇〇KeV，較理想是大 約1 00〜3 00KeV ’ 一般照射線量是大約〇.5~30Mrad較理想 。又’電子線硬化的情形，則在電離放射線硬化性樹脂組 成物未含有聚合始發劑也可以。 透明樹脂層17的塗佈位置極重要。如第3 (A)圖所 示地，原來透明樹脂層17的塗佈位置是從網狀部1〇3至透 明樹脂層錨部105全面地被覆表面，且塡充該開口部1〇3 a φ ，l〇5b般地形成，不會進入未具有開口部的圖框部1〇7般 地塡充被覆開口部l〇3a，105a的全部也可以，惟在控制塗 工的位置需要高精度而困難度變高。在此，如第3 (B)圖 所示地，止於塡充被覆透明樹脂層錨部105的開口部105a 的內周部，而針對於透明樹脂層錨部105的外周部作成仍 留下未被覆，未塡充開口部l〇5a。作成如此。而使透明樹 脂層的塗工位置朝前後左右偏移，也可防止使得透明樹脂 層17的末端位置朝網狀部103內部後退，或是浸入到未具 φ有開口部的圖框部107。又，如第3(C)圖所示地，從網 狀部103塡充被覆透明樹脂層錨部105的開口部105a，又， 即使多少浸入至未具有開口部的圖框部107，若在開口部 10的3週期分量程度以下，較理想是若在1週期分量以下的 距離，則可期待透明樹脂層1 7與電磁波遮蔽層1 5的防止剝 離效果，而可發揮本發明的效果。 第4圖是表示說明習知的透明樹脂層的位置的主要部 分的斷面圖。 習知透明樹脂層17的塗佈位置是如第4圖所示。亦即 -25- (22) 1357805 ，首先塡補與畫面部相對的網狀部103的開口部103a。又 ，未具有透明樹脂層錨部，因此，即使一般塗工位置偏移 大約2〜3mm，也可確實地被覆網狀部103般地，透..明樹脂 層17是若吸收塗工位置的參差不齊分量的2~3 mm程度以上 (網狀開口部10週期分量以上），浸入至未具有開口部的 圖框領域（相等於圖框部）101內。透明樹脂層17與圖框 部101的密接性是比透明樹脂層17與黏接層13或與透明基 φ 材11的密接性還小。因此，若透明樹脂層17對於圖框領域 101覆蓋很大，則從製造電磁波遮蔽材1 一直到裝配到顯示 器爲止藉由施加在全工程中的外力：及長期間地實際使用 期間因重複冷熱，重複吸收濕等所致的週期性的基材的伸 縮時，產生在各層的伸縮率差的應力等，會有從透明樹脂 層與電磁波遮蔽層之層間浮起，或是剝離的情形。又，透 明樹脂層17覆蓋圖框部101的部分，是未具有開口部，而 其分量上厚度較會有階段差，因此容易成爲剝離的機會。 φ 對於此，在本發明的電磁波遮蔽1，透明樹脂層17塡 補到網狀部103及透明樹脂層錨部105的開口部103a，105a ，因此物理式定錨效果很大。除了此之外，還具有上述的 透明樹脂層17與黏接層13或與透明基材1〗的密接性提昇效 果的相輔相成效果，而可防止透明樹脂層與電磁波遮蔽 層1 5的剝離。 亦即，在本發明中，如第3圖所示地在圖框部107的內 周部形成網狀體，設置圍繞網狀部1〇3的周緣的透明樹脂 層錨部105，塡充並被覆透明樹脂層錨部105的至少一部分 -26- (23) 1357805 的開口部1 05a，以形成透明樹脂層1 7。作成如此，則發揮 層間密接力與定錨效果，而在製程及實際使用期間中，不 會在所構成的展開浮起，或剝離，且藉由電磁波遮蔽層15 的優異電磁波遮蔽性，而解決開口部的底面凹凸，可作成 適當透明性（可視光透射性）。 又，在本發明的電磁波遮蔽材1，賦予吸收可視光線 及/或近紅外線的特定波長的功能，防止反射功能、心塗 φ 功能，防污功能、防眩功能的功能，或是將具有該功能的 層設在任意表背面及/或層間的任一方。 又，將吸收可視光線及/或近紅外線的不需要的特定 波長的光線吸收劑添加劑到使用於透明樹脂層1 7的樹脂也 可以。吸收可視光線的特定波長，可抑制畫像的天然色再 生的不自然性、不舒服感、而提高畫像的視認性。一般作 爲從PDP所發光的可視光領域的不需特定波長，大都爲氖 原子的光譜光的波長590nm附近的橙色，因此適當地吸收 φ 590nm附近者較理想。近紅外線的特定波長是大約 780~110〇11111。吸收該78 0~1100的波長領域的80%以上較理 想。吸收特定的近紅外線，就可防止以畫像顯示裝置周邊 所具有的近紅外線進行動作的遙控操作機器的誤動作。作 爲該近紅外線吸收劑（稱爲NIR吸收劑），並未特別加以 限定，惟可適用在近紅外線領域具急峻地吸收，可視光線 領域的光透射性較高，且在可視光線領域沒有特定波長的 很大吸收的色料等。作爲吸收該可視光線領域的不需要特 定波長的色料，有例如聚甲炔系色料’卟啉系色料等。作 -27- (24) 1357805 爲該近紅外線吸收色料，有二亞胺系化合物，賽安寧系化 合物’酞青系化合物，二噻茂系配位化合物等。在對透明 樹脂層17未添加NIR吸收劑時，將具有NIR劑的其他層（ 稱爲NIR吸收層），至少設在其中一方的一面就可以。 NIR吸收層是設在透明樹脂層17側及/或相反側的基材 1 1側也可以。該NIR吸收層是以黏接劑層積具有NIR吸收 劑的販售薄膜（例如，日本東洋紡織公司製，商品名稱 φ No.2832 )，或是將該先前的NIR吸收劑含在黏合劑而進 行塗佈也可以。作爲該黏合劑可適用利用聚酯樹脂、聚氨 基甲酸乙酯樹脂、丙烯.醯樹脂、或熱硬化型或紫外線硬化 型等的環氧基、丙烯酸酯基、偏丙烯酸酯基、異氰酸酯基 等的反應的硬化型等。 又，未予圖示，將防止反射層（稱爲AR層）設在電 磁波遮蔽材的視察側也可以。防止反射層是用以防止可視 光線的反射者，因此作爲該構成，有很多單層、多層者被 φ販售。單層者是在表面層積低折射率層。又，多層者是最 表面成爲低折射率層般地，交叉地層積高折射率層與低折 射率層者，而作爲高折射率層、有氧化鈮、鈦氧化物、氧 化锆、ITO等；作爲低折射率層、有氟化鎂、矽氧化物等 。又，也具有具將外光線進行亂反射的微細凹凸表面的層 者。 又，在防止反射（AR)層，也可設置心塗層、防污 層、防眩層。心塗層是以JIS — K5 400的鉛筆硬度試驗具有 Η以上的硬度的層，而以熱或電離放射線進行硬化聚酯丙 -28- (25) 1357805 烯酸酯、氯基甲酸乙酯丙烯酸酯、環氧丙烯酸酯等的多官 能丙酸酯。防污層爲防火性、防油性的塗佈，而可適用矽 氧烷系、氟化烷基甲矽烷化合物等。防眩層是具有亂反射 外光線的微細凹凸表面的層。 成爲網狀的電磁波遮蔽層側作爲觀察側，若對該電磁 波遮蔽層至少施以黑化處理，而須設置防銹層，就可直接 黏貼於如PDP。圖框部107露出至表面，因此容易拉出電極 φ 而容易設置接地。又，該圖框部101經黑化處理而黑色面成 爲觀察側，因此成爲不需要設於上述玻璃板的圖框狀的黑 色印刷，而可縮短工程，又在成本上也有利。 以下利用實施例及比較例，更詳述本發明，惟並不被 限定於此者。 實施例1 作爲電磁波遮蔽層15，使用在厚度1 0um的電解銅箔的 φ 其中一方的面上，依次層積平均粒子徑〇.3ym的酮-鈷合金 粒子的黑化層，及鉻酸鹽（處理）層所成的導電體。在以2 液硬化型氨基甲酸乙酯系黏接劑13進行層積該銅—鈷合金粒. 子層的鉻酸鹽（處理）層面，與厚度ΙΟΟμηι的z軸延伸PET薄 膜A4300 (日本東洋紡織公司所製，聚對苯二甲酸乙二醇酯 商品名稱）所成的透明基材11之後，在58t下進行4天的老 化。作爲黏接劑使用主劑爲聚酯氨基甲酸乙酯多元醇，又 ，硬化劑使用二甲苯二異氰酸酯所成的2液硬化型氨基甲酸 乙酯樹脂，塗佈量是以乾燥後的厚度作爲7μιη。 -29- (26) 1357805 依微影成像法的網狀體形成。是挪用以連續的帶狀從 罩幕一直進行至蝕刻的彩色TV陰罩用的製造線。首先，將 酪蛋白光阻劑以順便塗佈法進行塗佈。搬運至下一工作站 ，使用具有下述形狀的圖案的厚版，藉由來自水銀燈的紫 外線進行密接曝光。按次序此一面搬運至工作站，經水顯 像，硬膜處理，又，經加熱而施以烘乾。 如第1圖所示地，上述圖案版的形狀是中心部的領域相 φ對於畫像顯示裝置的42型（橫長度，對角線長度相當於42英 吋）的畫面部100，成爲正方形開口部103a以線寬22μιη，線 間隔300um，偏移角度49度所配置的網狀部103。圍繞該網 狀部103周緣的領域是開口部105a的線間隔均爲210μιη，而 線寬是從接觸於網狀部103的部分的22iim朝未有開口部的圖 框部107，連續地依次增加。開口部105a的線寬是在與未具 有開口部的圖框部107接觸的部分成爲40um，而等級地減少 開口率，形成有領域的寬度5mm的透明樹脂層錨部105 »圍 φ繞透明樹脂層錨部105周緣的領域，是成爲未具有10mm寬度 的開口部的圖框部107。 又，搬運至下一工作站，作爲蝕刻液使用氯化第二鐵 溶液，以噴霧法吹氣進行蝕刻，形成開口部103a，105a。按 次序地一面搬運至工作站，一面經水沈並剝離光阻劑，經 洗淨之後，進行加熱使之乾燥。又，網狀部103與透明樹脂 層錨部105的線寬是使用22μηι的光阻劑圖案版，惟蝕刻後線 寬是成爲12±μιη ( 7〜17μιη )。網狀部103的開口率是92%。 一方面，透明樹脂層錨部105的開口率是接觸於網狀部的 •30- (27) 1357805 部分爲88%，而在接觸於網狀部的部分爲81%。 將下述組成的透明樹脂層17組成物，利用與網狀部 103及透明樹脂層錨部105相同圖案（亦即，以5mm寬度圍 繞網狀部與該網狀部103周緣的圖案）：以間歇雙塗佈法 塗佈至如此地所得到的網狀部103及透明樹脂層錨部105， 層積厚度5〇nm的SP — PET20-BUC日本托世羅公司所製 ，表面脫模處理PET薄膜商品名稱）之後，使用高壓水銀 | 燈進行200mj/cm2的曝光（ 365nm換算）。 作爲透明樹脂層組成物，使用N -乙烯- 2—吡咯烷酮 20質量部，雙環戊烯丙烯酸酯25質量部，低酯丙烯酸酯（日 本東亞合成公司所製，M - 8060 ) 52質量部，1-烴環己基 苯基甲酮（日本千葉蓋奇公司所製，依爾卡基亞184) 3質量 部。 又，剝離SP — PET20 - BU，則如第3 ( A )圖所示地， 得到網狀部103的開口部103a及透明樹脂層錨部105的開口部 φ 105a以透明樹脂層17塡充被覆而被平坦化的實施例1的電磁 波遮蔽材。 實施例2 將透明樹脂層17組成物，塗佈在網狀部103，且以 2.5mm寬塗佈在該網狀部103外周的透明樹脂層錨部105。此 以外，是作成與實施例1同樣，如第3(B)圖所示地，得 到網狀部103的開口部103 a及透明樹脂層錨部105的開口部 105 a以透明樹脂層17塡充被覆而被平坦化的實施例2的電 -31 · (28) 1357805 磁波遮蔽材。又，透明樹脂層錨部105的外周部是以 2.5mm寬使得開口部l〇5a露出。 實施例3 將透明樹脂層17組成物，塗佈在網狀部1〇3，且以合 計5.5 mm寬塗佈在該網狀部1〇3外周的透明樹脂層錨部1〇5 及其外周。此以外，是作成與實施例1同樣，得到網狀部 103的開口部103a及透明樹脂層錨部105的開口部l〇5a及透 明樹脂層17塡充被覆，又，未具有開口部的圖框部1〇7的 內周部是以〇.5mm寬度（開口部1.7週期分量）被覆的實施 例3的電磁波遮蔽材。 實施例4 透明樹脂層錨部105的開口部105a是正方形，線寬 40μιη，線間隔3 00μιη，偏移角度49度，而透明樹脂層錨部 φ 1〇5爲5 mm寬度。此以外，是作成與實施例1同樣，得到網 狀部103及透明樹脂層錨部105的開口部103a，105a以透明 樹脂層17塡充被覆而被平坦化的實施例4的電磁波遮蔽材 實施例5 透明樹脂層錨部105的開口部105a是成爲與實施例4相 同開口率的圓形。此以外，是作成與實施例1同樣，得到 網狀部103及透明樹脂層錨部105的開口部l〇3a，105a的開 -32- (29) 1357805 口部103a，105 a以透明樹脂層17塡充被覆而被平坦化的實 施例5的電磁波遮蔽材。 比較例1 圖案版的形狀是具有：相對於畫像顯示裝置的42型（ 橫長，對角線長，相當於42英吋）的畫面部，開口部是正 方形，線寬22μιη，線間隔30 0μηι，偏移角度49度的網狀部 φ 103，及未設置透明樹脂層錨部105，且直接圍繞網狀部 103的周緣而未具有15 mm寬的開口部的圖框領域（圖框部 )101。又，如第4圖所示，透明樹脂層17組成物的塗佈 圖案是包含：網狀部103，及未具有在該網狀部的外周部所 具有的開口部的圖框部107的內周部3.5 mm寬（開口部11.7週 期分量）。此以外，是作成與實施例1同樣，得到比較例1 的電磁波遮蔽材。 φ 評價方法 評價是以熱衝擊試驗後的層間密接性進行。熱衝擊試 驗是在重複一40°C，1小時與80°C，1小時作爲100次的條件 下，進行該熱衝擊試驗之後，在室溫25°C，以25mm寬的日 本尼其班公司所製的玻璃紙黏接帶的賽璐吩帶（商標登錄 :Cellotape)充分地覆蓋從透明樹脂層面至無明樹脂的圖框 部上的全面領域般地施以黏貼，而由無透明樹脂層的部分 強制剝離。 在該剝離，透明樹脂層在透明基材及/或電磁波遮蔽層 -33- (30) 1357805 飲間，發生浮起或剝離作爲不合格，而未生浮起或剝離者 作爲合格。又，也測定全光透射率，視認性，電磁波遮蔽 性。 視認性是載置於PDP ; WOOO (日本日立製作所股份 有限公司所製，商品名稱）的前面，依次顯示測試圖案， 白及黑色，在距畫面50cm的距離，視認角度0〜80度範圍 ，以目視進行觀察。 φ 全光線透射率是依據J〗S- K7 361-1，使用色彩機 HM150(日本村上色彩公司所製，商品名稱），在網狀部 進行測定。 電磁波遮蔽性是利用KEC法（日本財團法人關西電子工 業振興中心所開發的電磁波測定法）進行測定。 評價結果 實施例1~5，比較例1的網狀部的全光線透射率爲83.0% φ都良好。又，實施例1~5比較例1的電磁波遮蔽性在頻率 30MHz〜1000MHz的範圍中，電磁場的衰減率是30~60dB，而 其電磁波遮蔽性也都充分。 又，熱衝擊試驗後的層間密接性，是在實施例1~5的電 磁波遮蔽材不會發生浮起成剝離，都合格，惟在比較例1， 在圖框部發生浮起或剝離而不合格。 又，將熱衝擊試驗後的層間密接生優異的實施例1~5的 電磁波遮蔽材設於PDP顯示器的前面板，顯示畫像來評價 視認性得到認性都優異。 -34- (31) (31)1357805 【圖式簡單說明】 第1圖是表示依本發明的電磁波遮蔽裝置的俯視圖。 第2(A)圖及第2(B)圖是表示第1圖的A部的擴大 俯視圖及擴大橫斷面圖。 第3(A)圖至第3(C)圖是表示說明本發明的層位置 的主要部分的斷面圖。 第4圖是表示說明習知的透明樹脂層的層位置的主要部 分的斷面圖。 【主要元件符號說明】 1 電磁波遮蔽裝置 2. 電磁漆遮蔽材 11 透明基材 13 黏接層 15 電磁波遮蔽層 17 透明樹脂層 100 畫面部 1 03 網狀部 103a ， 105a 開口部 105 透明樹脂層錨部 101 ， 107 圖框部 -35-