CN1675972A - 电磁波屏蔽用薄片 - Google Patents

电磁波屏蔽用薄片 Download PDF

Info

Publication number
CN1675972A
CN1675972A CNA038192179A CN03819217A CN1675972A CN 1675972 A CN1675972 A CN 1675972A CN A038192179 A CNA038192179 A CN A038192179A CN 03819217 A CN03819217 A CN 03819217A CN 1675972 A CN1675972 A CN 1675972A
Authority
CN
China
Prior art keywords
electromagnetic wave
line
wave shielding
conductive material
material layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CNA038192179A
Other languages
English (en)
Other versions
CN100484383C (zh
Inventor
荒川文裕
石井康英彦
桥本大祐
京田享博
大石英司
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Publication of CN1675972A publication Critical patent/CN1675972A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN100484383C publication Critical patent/CN100484383C/zh
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K9/00—Screening of apparatus or components against electric or magnetic fields
    • H05K9/0073—Shielding materials
    • H05K9/0094—Shielding materials being light-transmitting, e.g. transparent, translucent
    • H05K9/0096—Shielding materials being light-transmitting, e.g. transparent, translucent for television displays, e.g. plasma display panel
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K9/00—Screening of apparatus or components against electric or magnetic fields
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/04—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/04—Interconnection of layers
    • B32B7/12—Interconnection of layers using interposed adhesives or interposed materials with bonding properties
    • G—PHYSICS
    • G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09F—DISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
    • G09F9/00—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24273—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including aperture
    • Y10T428/24322—Composite web or sheet

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

本发明提供一种电磁波屏蔽用薄片，该薄片可以屏蔽显示器发出的电磁波，具有适当的透明性，在网格上没有浓淡不均匀，而且没有白和/或黑的点状缺陷、没有线状缺陷和闪耀，可以良好地识别显示器的图像。导电材料层(109)的线(107)的直线部的宽度(W)在特定值±30％的范围内。另外，导电材料层(109)的线(107)的直线部上的、和透明基板正交的线剖面形状中，连接上底(107U)和下底(107B)的堤侧面部(107S)的曲率半径(r)，相对导电材料层(109)厚度t为1.5t≤r≤3.0t。另外还设定上述线宽及上述曲率半径。网格状导电材料层通过粘接剂向透明基材的一个面层压。

Description

电磁波屏蔽用薄片
技术领域
本发明涉及一种遮蔽电磁波(也称作屏蔽)用的薄片，更详细的说，涉及一种配置在CRT、PDP等显示器前面，遮蔽由显示器产生的电磁波，而且，能够良好地辨别显示器显示的图像，使用了金属箔(薄膜)网的电磁波屏蔽用薄片。
背景技术
技术概况
近年来，随着电器电子仪器的高性能化及应用的广泛化，电磁噪音干扰(Electro Magnetic Interference；EMI)正在增加。电磁噪音大概的分为传导噪音和辐射噪音。防止传导噪音的方法是使用噪音过滤器等。另外一方面，防止辐射噪音有如下方法：为了使空间电磁绝缘，将箱体做成金属，或将金属板插入电路基板之间，或用金属箔缠绕电缆等。这些方法尽管对电路或功率区块的电磁波屏蔽有效，但是因为不透明，所以不适合用于屏蔽CRT、等离子显示屏(称作PDP)等显示器发出的电磁波。
等离子显示屏是一种具有数据电极和荧光屏的玻璃和具有透明电极的玻璃的组合体，当使用等离子面板时，则产生大量的电磁波、近红外线及热。通常，为了屏蔽电磁波，在等离子显示屏的前面设置前面板。为了屏蔽显示器前面发出的电磁波，要求前面板必须在30MHz～1GHz范围内30dB以上具有屏蔽性能。另外，由显示器前面发出的波长800～1,100nm的近红外线因为使其它的VTR等仪器产生误操作，所以也必须屏蔽。而且，为了容易识别显示器的显示图像，需要使电磁波屏蔽用的金属网框(线部)部分难以看到，并且使电磁波屏蔽用薄片具有适当的透明性(可见光透过性、可见光透过率)。
而且，等离子显示屏以大型画面为特征，例如有37寸、42寸、甚至更大的尺寸。为此，电磁波屏蔽用薄片的线数通常在纵向和横向达到上千条，该线的宽度必须在一定范围内。如果线的宽度分布在过宽的范围，则对于整个图像可见一个个黑白点，感觉不好。
先有技术
为了提高显示图像的可视性，要求前面板有电磁屏蔽和适当的透明性(可见光透过率)，并且具有均匀的网状结构。
在具有网状结构的物体中，特开平5-283889号公报公开了电磁波屏蔽材料，该材料由基板/透明锚固层(anchor layer)/网格图形状的非电解镀覆层构成。另外，特开平09-293989号公报公开了一种用光致抗蚀膜法形成电磁波屏蔽薄片的金属网的方法。而且，特开平10-335885号公报公开了一种电磁波屏蔽构成体，即，利用光刻法在铜箔上形成几何图形，将得到的带有铜箔的塑料薄膜层压在塑料板上而形成。但是，所述的任何一种方法都没有对电磁波屏蔽薄片的网的线宽度的精度及其影响进行说明。
而且，在特开平11-186785号公报中公开了一种方法：透明基材平行的剖面的面积随着远离前述透明基材而变小，也就是，将线的剖面做成梯形。但是，没有提及线宽度的偏差。但是，因为方法中有蚀刻过度或中途停止，故线的精度(偏差)的控制非常困难。当线宽度有偏差时，出现浓淡不均匀，外观上不好。另外一个缺点是，特别是出现黑和白的点状缺点、线状缺点时，使图像的可视性变差。
发明内容
本发明是为了解决上述问题点而进行的。其目的在于提供一种电磁波屏蔽用薄片，将其配制在CRT、PDP等显示器的前面，遮蔽来自显示器的电磁波，而且，使显示器图像难以产生可视性差、特别是黑和白的点状缺陷、线状缺陷。
为了解决上述问题，本发明的第一方面涉及一种电磁波屏蔽用薄片，其在透明基材的一个面上层压有网格状的导电材料层，其中，前述导电材料层的线的直线部的宽度在特定值±30％的范围内。根据本发明，提供一种电磁波屏蔽用薄片，该薄片能够遮蔽CRT、PDP等的显示器产生的电磁波，而且，网的线部分看不见，满足电磁波遮蔽性、透明性这两个特性，而且线宽在一定范围内，没有网格的浓淡不均匀，可以良好地看到图像。
本发明的第二方面涉及一种电磁波屏蔽用薄片，其在透明基材的一个面上层压有网格状的导电材料层，其中，连接前述导电材料层的线的直线部上的、和上述透明基材正交的线剖面形状中连接上底和下底的堤侧面部的曲率半径，是前述导电材料层的厚度的1.5～3.0倍。根据本发明，提供一种电磁波屏蔽用薄片，该薄片能够配置在CRT、PDP等的显示器的前面，屏蔽显示器发出的电磁波，而且，没有偏差，可以良好地看到图像。
本发明的第三方面涉及一种电磁波屏蔽用薄片，其在透明基材的一个面上层压有网格状的导电材料层，其中，前述导电材料层的线的直线部的宽度在特定值±30％的范围内，而且，和透明基材正交的线剖面的形状中连接上底和下底的堤侧面部的曲率半径是前述导电材料层的厚度的1.5～3.0倍。根据本发明，提供一种电磁波屏蔽用薄片，该薄片能够配置在CRT、PDP等的显示器的前面，屏蔽显示器发出的电磁波；而且，没有网格的浓淡不均匀，显示器图像的可视性、特别是黑和白的点状缺点、线状缺点难以出现，同时不闪耀。
另外，本发明涉及的电磁波屏蔽用薄片的特征在于，对于前述网格状导电材料层的排除外周部的1～50网格部分的内周部分或者排除0.15～15mm部分的内周部分，线的直线部分的宽度在特定值±30％的范围内。另外，本发明涉及的电磁波屏蔽用薄片的特征在于，前述导电材料层的线的直线部的宽度为5～25μm，线和线的节距为150～500μm。本发明提供一种电磁波屏蔽用薄片，该薄片即使是大面积的薄片，在使用时也难以弯曲、弯折。
另外，本发明涉及的电磁波屏蔽用薄片的特征在于，上述导电材料层是金属层。另外，本发明涉及的电磁波屏蔽用薄片的特征在于，向上述导电材料层的至少一个面进行了黑化处理。另外，本发明涉及的电磁波屏蔽用薄片的特征在于，向上述导电材料层的至少黑化处理面上设置防锈层。根据本发明，提供一种电磁波屏蔽用薄片，该薄片具有优良的电磁波屏蔽性，显示器图像的可视性好，难生锈。
另外，本发明涉及的电磁波屏蔽用薄片的特征在于，用透明树脂填充上述网格状的导电材料层的至少开口部凹部，导电材料层面基本上是平坦状态。根据本发明提供一种电磁波屏蔽用薄片，该薄片开口部的凹凸被掩埋，操作性好。
另外，本发明涉及的电磁波屏蔽用薄片的特征在于，用透明树脂填充上述网格状的导电材料层的开口部凹部，使其基本上平坦化，其含有色修正用光线吸收剂和/或近红外线吸收剂，其中色修正用光线吸收剂吸收可见光中的波长570～605nm区域的光，近红外线吸收剂收近红外线的波长800～1100nm区域光。另外，本发明涉及的电磁波屏蔽用薄片的特征在于，使至少一个面上设有色修正用光线吸收剂和/或近红外线吸收剂，其中，色修正用光线吸收剂吸收可见光中的波长570～605nm区域的光，近红外线吸收剂吸收近红外线的波长800～1100nm区域光。根据本发明，提供一种电磁波屏蔽用薄片，该薄片能够屏蔽PDP显示器产生的近红外线、红外线和电磁波，另外，修正显示器发出的图像再现上不需要的色光，可以良好地识别显示器图像。
附图说明
图1是本发明的电磁波屏蔽用薄片的平面图。
图2是显示本发明的电磁波屏蔽用薄片的一部分的模示性斜视图。
图3A是图1的AA剖面图，图3B是图1的BB剖面图。
图4是说明导电材料层的构成的剖面图。
图5A是说明在滚筒状卷取时加工的剖面图，图5B是侧面图及其一部分放大图。
图6是向显示器面粘贴的本发明的电磁波屏蔽用薄片的剖面图。
图7表示：在网格部的线的直线部上的和透明基材正交的线剖面的形状中，连接上底107U和下底107B的堤侧面部107S的曲率半径r相对金属层的厚度t为1.5t≤r≤3.0。
具体实施方式
参考以下附图，更详细地说明本发明的实施例。但是，本发明不限于以下的实施例。
图1是本发明的电磁波屏蔽用薄片的平面图。
图2是显示本发明的电磁波屏蔽用薄片的一部分的模示性斜视图。
整体构成
如图1所示，本发明的电磁波屏蔽用薄片1由网格部103和接地用框部101构成。网格部103如图2所示，由线107包围起来的多个开口部(也称为cell)105构成。接地用框部101设置在显示器时，安装地线。
另外，通过粘接剂层13向基材11的一个面层压导电材层109。该导电材料层109是开口部105紧密地排列的网格状，该网格由开口部105和形成框的线107构成。线107的宽度如图2所示，称作线宽W，将线和线之间的间隔称作节距P。
图3是图2的代表性的第一实施方式涉及的AA剖面图，及BB剖面图。
图4是说明导电材料层的构成的剖面图。
层的构成
图3(A)表示截断开口部的剖面，开口部105和线107交替地构成，图3(B)显示纵剖线107的剖面，由导电材料层109构成的线107连续地形成着。导电材料层109只要是导电性的就可以，优选金属层21，根据需要对该金属层21的至少一侧面(观察侧的面)进行黑化处理23A或23B。并设置防锈层25A和/或25B以覆盖该黑化处理层23A和/或23B，不过防锈层只要至少设置在黑化处理层侧即可。该防锈层25A、25B具有对金属层21及黑化处理层23A、23B的防锈功能，且还可防止黑化处理层23A、23B的脱落。
发明要点1
设定网格部103的线107的直线部宽度W在规定值±30％的范围内。也就是说，网格部103的线107的直线部宽度W在规定值×(100±30％)的范围内，相对规定值处于±30％以内的误差范围内。这样通过将线宽的偏差控制在某范围内，可具有电磁波屏蔽性和适度的透明性，网格的浓淡不均少，可得到优质的图像可视性。而且，优选网格部103的线宽W的规定值为5～25μm，线和线的节距P为150～500μm。
发明要点2
如图3A或图7所示，在网格部103的线107的直线部中与透明基材正交的线剖面的形状中，连结上底107U和下底107B的堤侧面部107S的曲率半径r，相对于所述金属层的厚度t满足：1.5t≤r≤3.0t。通过限制线剖面形状中连结上底107U和下底107B的堤的曲率半径，可具有电磁波屏蔽性和适度的透明性，显示光的偏差小，或者可抑制外部光的反射，可得到优质的图像可视性。
发明要点3
网格的线的直线部的宽度在规定值±30％的范围内，且与透明衬底正交的线剖面的形状中连结上底和下底的堤侧面部的曲率半径为所述金属层厚度的1.5～3.0倍。这样，通过抑制线宽的偏差且限制线剖面形状中连结上底和下底的堤侧面部的曲率半径，可具有电磁波屏蔽性和适度的透明性，网格的浓淡不匀少，且尤其是黑和白的点状缺陷及线状缺陷少，显示光的闪耀小，外部光的反射被抑制，可得到优质的图像可视性。
在本说明书中，本发明的电磁波屏蔽用薄片以CRT、PDP等的显示器用的为主体进行了记载，当然也可以用于显示器以外的电磁波屏蔽。
另外，等离子显示屏以大型画面为特征，电磁波屏蔽用薄片的大小(外形尺寸)例如在37寸时为620×830mm左右，在42寸时为580×980mm左右，另外还有更大型的尺寸。因此，电磁波屏蔽用薄片的线数虽根据网格的大小而不同，但通常在纵及横向会达到数千条。该线的宽度必须以μm单位的精度形成在一定范围内。若存在宽窄偏差，则在人们观察显示器图像时，宽的部分会形成黑点缺陷，窄的部分会形成白点缺陷。对整体图像而言，若存在一个个黑白缺陷，则人会感到极强的不适感。也就是说，本发明的电磁波屏蔽用薄片通过控制线宽的偏差和/或线剖面的形状，具有电磁波屏蔽性和适度的透明性，网格的浓淡不均少，且黑点缺陷和/或白点缺陷极少，是图像可视性优良的电磁波屏蔽用薄片。
本发明的电磁波屏蔽用薄片的导电材层109，在金属层21的至少一侧面设置黑化处理层23A及/23B，并在该黑化处理层23A及/23B的至少黑化处理面设置防锈层25A及/25B。
在介由粘接剂将该导电材层109和透明的薄膜状基材11层压后，以光刻法形成网格状。根据需要将金属层侧平坦化，再根据需要设置吸收特定波长的可视和/或近红外光线的光线吸收剂层。当将这种电磁波屏蔽用薄片设置在显示器的前面时，就可屏蔽显示器产生的电磁波，消除网格的浓淡不均，使黑或白的点状线状缺陷极少，且具有适度的透明性，可良好地识别显示器上显示的图像。
制造方法概述
本发明的电磁波屏蔽用薄片1可如下制造：首先至少在观察侧具有设有黑化处理及防锈层的导电材料层109，通过粘接剂向透明的薄膜状的基材11的一个面上层压该导电材料层109之后，将抗蚀层向导电材料层109面设置成网格图案形状，在利用蚀刻法除去抗蚀层没有覆盖部分的导电材料层109之后，利用光致抗蚀膜法除去抗蚀层。而且可以使用已有的设备，通过连续地进行上述多个制造工序，可以高效率地生产高质量的、合格率高的产品。
下面，对本发明的电磁波屏蔽用薄片1的各层的材料和形成进行说明。
导电材料层
屏蔽电磁波的导电材料层109可以使用例如金、银、铜、铁、铝、镍、铬等可以充分地屏蔽电磁波的具有导电性的金属层21。金属层21即使不是单质也可以，可以是合金或多层。金属层21在是铁的情况下，优选低碳沸腾钢及低碳铝镇静钢等、Ni-Fe合金、殷钢合金，另外，在进行阴极电沉积时，从容易进行电镀考虑，优选铜或铜合金箔。该铜箔可以使用辊轧铜箔、电解铜箔，从其厚度的均匀性、黑化处理和/或铬酸盐(处理)层的密合性、以及可以做成10μm以下的薄膜等方面考虑，优选电解铜箔。该金属层21的厚度为1～100μm左右，优选5～20μm。在该以下厚度时，容易利用光致抗蚀膜法进行网格加工。但是，金属的电阻值增加，电磁波屏蔽效果受到影响，在该以上厚度时，不能得到希望的高精细的网格的形状，结果，实质上开口率变低，光线透过率降低，而且视角也降低，图像的可视性降低。
金属层21的表面粗细度优选Rz值为0.5～10μm，在该值以下时，即使黑化处理，外光通过镜面反射，图像的可视性劣化。在该值以上时，在涂布粘接剂或抗蚀剂等时，有时不能向整个表面镀覆，有时产生气泡。表面粗细是根据JIS-B0601测定的10点的平均值。
黑化处理
为了使其吸收向电磁波屏蔽用薄片1照射的日光、电灯光等外光，提高显示器的图像的可视性，需要对网格状的导电材料部109的观察侧进行黑化处理，使其出现对比感。该黑化处理只要对金属层面进行粗化和/或黑化处理就可以，可以使用金属氧化物、金属硫化物的形成及各种方法。铁的情况下，通常在水蒸气中，在450℃～470℃左右的温度下，暴露10～20分钟，形成1～2μm程度的氧化膜(黑化膜)，也可以利用浓硝酸等试剂处理得到氧化膜(黑化膜)。另外，在铜箔的情况下，优选进行阴极电沉积，使铜箔在硫酸、硫酸铜和硫酸钴等构成的电解液中进行阴极电解处理，使阳离子性粒子附着。通过设置该阳离子性粒子，使其粗化，同时得到黑色。可以使用铜粒子、铜和其它的金属的合金粒子作为阳离子性粒子，优选铜-钴合金粒子。
本说明书中是将粗化和黑色化一起称作黑化处理。该黑化处理优选的黑浓度为0.6以上。另外，黑浓度的测定方法使用COLOR CONTROLSYSTEM的GRETAG SPM100-11(Kimoto公司制商品名)，作为观察视角10度、观察光源D50、照明类型设定为浓度标准ANSI T，在进行白色校正之后，测定样品。另外，该黑化处理的光线反射率优选5％以下。光线反射率根据JIS-K7105标准，使用雾计HM150(村上色彩公司制、商品名)进行测定。
合金粒子
上述阳离子性粒子可以使用铜粒子、铜和其它的金属的合金粒子，优选铜-钴合金粒子。当使用铜-钴合金粒子时，黑化程度明显提高，很好地吸收可见光。评价电磁波屏蔽用薄片的可视性的光学特性用JIS-Z8729标准中的表色系“L*、a*、b*、ΔE*”表示色调。该a*和b*的绝对值越小，导电材料部109越不能识别，图像的对比感越提高，结果图像的可视性越好。当使用铜-钴合金粒子时，和铜粒子比较，可以使a*和b*几乎接近于0。
另外，铜-钴合金粒子的平均粒子直径优选0.1～1μm。当粒子直径超过该值时，增大铜-钴合金粒子的平均粒子直径，金属层21的厚度变薄，在和基材11层压的工序中，有时铜箔断裂，使加工性恶化，另外，密集粒子的外观的致密性缺乏，斑点状明显。在粒子直径在上述值以下时，粗化不够，使图像的可视性变差。
防锈层
为了在金属层21和/或黑化处理中，防止防锈机能和黑化处理的脱落及变形，至少在具有黑化处理的金属箔面上设置防锈层25A和25B。该防锈层25A和25B可以使用镍和/或锌和/或铜的氧化物、或者铬酸盐处理层。可以利用公知的镀覆法形成镍和/或锌和/或铜的氧化物，厚度为0.001～1μm左右，优选0.001～0.1μm。
铬酸盐
该铬酸盐处理通过向被处理材料涂布铬酸盐处理液进行处理。该涂敷方法可以使用辊涂法、帘幕法、挤压涂布法、静电雾化法、浸渍法等，涂布后可以不水洗而进行干燥。在单面进行铬酸盐处理时，利用辊涂法等涂布在单面，在两面涂布时，可以用浸渍法。铬酸盐处理液通常使用含有CrO23g/l的水溶液。另外，也可以向铬酸酐水溶液中添加不同的羟基羧酸化合物，使用将一部分6价铬还原为3价的铬酸盐处理液。另外，根据6价铬的附着量的多少使其由淡黄色着色为黄褐色，3价铬无色，通过控制3价和6价铬，可以得到具有实用性的透明性。羟基羧酸化合物可以单独使用或混合使用：酒石酸、丙二酸、柠檬酸、乳酸、乙醇酸、丙三醇酸、托品酸、二苯基乙醇酸、羟基吉草酸等。还原性根据不同的化合物而不同，通过控制向3价铬的还原进行添加量的控制。另外，在在进行铬酸盐处理形成黑化处理面时，不仅具有防锈效果，而且进一步提高黑化效果，具有黑化强化处理的作用。
黑化处理及防锈层至少在观察侧设置就可以，对比度提高，使显示器的图像的可视性变好。另外，也可以在另外一面，也就是显示器的面一侧设置，因为可以抑制显示器发出的迷光，因此更提高图像的可视性。
然后，利用粘接剂或粘合剂使该防锈层和黑化处理过的金属层(导电材料层)、透明的基材进行层压。
基材
基材11的材料如果具有透明性，并且具有满足使用条件或制造中的透明性、绝缘性、耐热性、机械强度等，可以使用各种材料。例如有：聚对苯二甲酸乙二酯·聚对苯二甲酸丁二酯·聚萘二甲酸乙二酯·聚对苯二甲酸乙二酯-间苯二甲酸酯共聚物·聚对苯二甲酸-环己烷二甲醇-乙二醇共聚物酯·聚对苯二甲酸乙二酯/聚萘二甲酸乙二酯的共挤压膜等的聚酯系树脂；尼龙6·尼龙66·尼龙610等聚酰胺系树脂；聚丙烯·聚甲基戊烯等聚烯烃系树脂；聚氯乙烯等乙烯系树脂；聚丙烯酸酯·聚甲基丙烯酸酯·聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系树脂；聚酰亚胺·聚酰胺酰亚胺·聚醚酰亚胺等酰亚胺系树脂；多芳化树脂·聚砜·聚醚砜·聚苯醚·聚苯硫醚·聚芳酰胺·聚醚酮·聚醚腈·聚醚醚酮·聚醚硫化物等工程树脂；聚碳酸酯、聚苯乙烯等苯乙烯系树脂等。
该基材可以是以上述树脂为主成分的共聚树脂、或混合物(含有合金)，或者由多层构成的层压体。该基材可以是拉伸膜、也可以是未拉伸膜，为了提高强度，优选单轴方向或双轴方向拉伸的膜。该基材的厚度通常可以使用12～1000μm程度，优选采用50～700μm，更优选采用100～500μm。该厚度小于上述值时，机械强度不够，产生翘曲或松驰，超过上述值时，性能过高，成本上造成浪费。
该基材使用上述树脂的至少一层构成的膜、薄片、板状物。本说明书中将上述形状通称为膜。通常因为聚对苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系的膜透明性、耐热性好，成本也便宜，而优选使用，最优选使用聚对苯二甲酸乙二酯。另外，透明性越高越好，优选可见光线透过率为80％以上。
该基材薄膜也可以在涂布之前，向涂布面进行电晕放电处理、等离子处理、臭氧处理、火焰处理、底(也称作锚涂布、增粘剂、易粘剂)涂布处理、预热处理、除尘处理、蒸镀处理、碱处理等易粘接处理。该树脂膜根据需要也可以添加填充剂、增塑剂、防静电剂等添加剂。
层压法
层压法(也称层合)是在基材11或导电材料层109之一上，涂布粘接剂或粘合剂并根据需要干燥，在加热或不加热条件下进行加压。然后，根据需要也可以在30～80℃的温度下进行老化(熟化)。另外，基材11本身或基材11由多层构成的层压面只要是热粘接性的树脂，例如：离子键聚合物树脂、乙烯-乙酸乙烯共聚物、乙烯-丙烯酸酯共聚物等，仅在加热下加压即可，特别是可以不使用粘接剂、粘合剂进行层压。也可以在基材11上通过非电解镀覆、蒸镀等直接形成金属层21。这种情况下，可以进行不用粘合剂的层压。
粘接剂
粘接剂没有特别限定，例如可以使用丙烯酸树脂、聚酯树脂、聚氨酯树脂、氯乙烯-乙酸乙烯共聚物树脂等。另外，优选操作者称作干层合法(也称作干层合)的方法，该方法中蚀刻液引起的染色或劣化少，并且使用加工特性好的热固化性树脂。而且，也优选由紫外线(UV)等电离放射线进行固化(反应)的UV固化性树脂。
干层合
干层合法是使粘接剂分散或溶解在涂布溶剂中，涂布并使其干燥，将粘贴基材重复层压之后，在30～120℃进行数小时～数日老化，使粘接剂固化，将两种材料层压。另外，也可以使用改进该层合法的无溶剂干层合法，不向溶剂中分散或溶解，直接涂布粘合剂自身，使其干燥，将粘贴基材重复层压之后，在30～120℃进行数小时～数日老化，使粘接剂固化，由此，将两种材料层压。
干层合法或无溶剂干层合法中使用的粘接层的粘接剂可以使用由热或紫外线电子线等电离放射线固化的粘接剂。热固化粘接剂具体的可以使用2液固化型树脂的粘接剂例如：聚酯聚氨酯系树脂、聚醚聚氨酯系树脂、丙烯酸聚氨酯系树脂等聚氨酯系粘接剂；丙烯酸系粘接剂；聚酯系粘接剂；聚酰胺系粘接剂；聚乙酸乙烯系粘接剂；环氧系粘接剂；橡胶系粘接剂等，优选使用2液固化型聚氨酯系粘接剂。
作为该2液固化型聚氨酯系粘接剂树脂，具体来说，例如有由多官能异氰酸酯和含有羟基的化合物的反应得到的聚合物，具体的说，多官能异氰酸酯可以使用例如有：二异氰酸甲苯酯、二异氰酸二苯基甲酯、聚异氰酸聚甲叉聚苯酯、异佛尔酮异氰酸酯等芳香族(乃至脂环式)聚异氰酸酯，或者二异氰酸六甲酯、二异氰酸二甲苯酯、异佛尔酮异氰酸酯等脂肪族(乃至脂环式)聚异氰酸酯等。这些聚异氰酸酯也可以使用前述异氰酸酯的多聚物(3聚物等)、加成物。含有羟基的化合物可以使用聚醚系多元醇、聚酯系多元醇、聚丙烯酸酯多元醇等含有羟基的化合物。可以使用这些由多官能异氰酸酯和含有羟基的化合物的反应得到的2液固化型聚氨酯系树脂。
优选的粘合剂是：使不会因蚀刻液引起的染色、无劣化的苯乙烯-马来酸共聚物改性后的聚酯聚氨酯和脂肪族聚异氰酸酯配合使用。
在干层合法中，将以这些为主成分的粘接剂组合物溶解或分散在有机溶剂中，将其利用涂布法如：辊涂法、反转涂布法、凹版涂布法、凹版反转涂布法、凹版胶印涂布法、吻合涂布法、拉丝锭涂布法、刮刀式涂布(comma coating)法、刮板式涂布法、浸涂法、流动式涂布法、喷雾涂布法等进行涂布，使溶剂等干燥，可以形成本发明的层合用粘接层。优选使用辊涂法、反转涂布法。
该粘接层的膜厚为0.1～20μm(干燥状态)程度，优选1～10μm。在形成该粘接层后，立刻将粘贴基材层压，之后在30～120℃下老化数小时～数日，由此使粘接剂固化，进行粘接。该粘接剂的涂布面可以是基材侧、导电材料部侧中的任何一种。优选在粗化的铜箔侧，处理整个粗面，抑制层压体产生气泡。
无溶剂层合法基本和干层合法相同，在使粘接剂组合物不向有机溶剂溶解或分散的条件下，直接使用粘接剂组合物，根据需要为了降低粘度，有时可以加热加温粘接剂组合物。
粘合剂
粘合剂可以使用公知的压敏型粘合剂。粘接剂没有特别限定，例如可以使用：天然橡胶系、丁基橡胶·聚异戊二烯·聚异丁烯·聚氯丁烯·苯乙烯-丁二烯共聚树脂等合成橡胶系树脂，二甲基聚硅氧烷等硅系树脂，丙烯酸系树脂、聚乙酸乙烯·乙烯-乙酸乙烯共聚物等乙酸乙烯系树脂，聚氨酯系树脂，丙烯腈，烃树脂，烷基酚醛树脂，松香·甘油三酸酯·氢化松香等松香系树脂。
橡胶系粘合剂
这里，有效的橡胶系粘接剂是在氯丁橡胶、丁腈橡胶、丙烯酸橡胶、苯乙烯丁二烯橡胶、苯乙烯异戊二烯苯乙烯、苯乙烯丁二烯苯乙烯、苯乙烯乙烯丁二烯苯乙烯、丁基橡胶、聚异丁烯橡胶、天然橡胶、聚异戊二烯橡胶等粘接橡胶中的一种或多种中，配合如下增粘材料中的一种或多种，即：酚醛系树脂、改性酚醛系树脂、酮树脂、醇酸树脂、松香树脂、苯并呋喃树脂、苯乙烯系树脂、石油树脂、氯乙烯系树脂等。
橡胶系粘合剂
橡胶系粘合剂和丙烯酸系粘接材料相比，其耐试剂性、耐膨润性、耐温度性、粘合性以及剥离强度好。所以，粘接部分即使在酸性或碱性物质中暴露也不剥离。另外，橡胶系粘接材料在酸性或碱性的试剂中几乎不水解，粘接寿命长。
粘合剂层的形成
将这些树脂或这些混合物做成胶乳、水分散液、或者有机溶剂液，利用丝网印刷或刮刀式涂布等公知的印刷或涂布法进行印刷或涂布，根据需要使其干燥后，可以和另外一种材料重叠加压。
图5是说明在滚筒状卷取时进行加工的平面图和侧面图。
具体的层压方法通常以带状连续地滚筒状卷取(也称作卷取辊)进行。图5(A)为平面图，从卷取辊解开，并伸展的状态下，电磁波屏蔽用薄片1以特定间隔粘附在面上，图5B是侧面图，导电材料层109(含有金属层21)的一个面和基材11层压。首先，在卷取辊的导电材料层109上形成上述的黑化处理和防锈层，向该防锈层中涂布粘接剂，使其干燥之后，使基材11重叠加压就可以。而且根据需要，在30～80℃的气氛中进行数小时～数日的老化(熟化、固化)做成卷取辊状的层压体。
光致抗蚀膜法
利用光致抗蚀膜法，将抗蚀层向该层压体的导电材层面设置成网格图案形状，利用蚀刻法除去抗蚀层未覆盖部分的导电材料层之后，除去抗蚀层，做成网格状。
掩膜法
首先，将基材11和导电材料层109的层压物的导电材料层109面利用光致抗蚀膜法做成网格状。该工序也对以带状连续地进行卷取的滚筒状的层压体进行加工。将该层压体连续地或者间歇地进行运送，并且在不松驰伸展的状态下进行掩膜、蚀刻、抗蚀层剥离。
首先，掩膜例如向导电材料层109上涂布感光性抗蚀膜，干燥之后，利用特定的图案(网格的线部)版(光致掩膜)进行印相曝光，进行水显影，硬膜处理等，烘烤。
抗蚀剂采用如下方法进行涂布，即，将卷取辊状的带状的层压体(基材11和导电材料层109)连续地或者间歇地进行运送，同时向该导电材料层109面上，用浸渍法、帘幕法、溢流法等方法涂布酪蛋白、PVA、凝胶等感光性抗蚀剂。另外，也可以不涂布抗蚀剂，可以使用干膜抗蚀剂，提高操作性。在酪蛋白的情况下，在200～300下进行烘烤，为了防止层压板翘起，尽可能优选低温度。
蚀刻
掩膜后进行蚀刻。该蚀刻中使用的蚀刻液，优选适合本发明连续进行蚀刻，并本发明中容易循环使用的氯化铁、氯化铜。另外，该蚀刻工序与将带状连续地的钢材、特别是厚度20～80μm的薄板进行蚀刻，制造彩色电视显象管用的遮屏设备的工序基本相同。也就是，可以使用制造该遮屏已有设备，可以从掩膜到蚀刻一起连续地进行生产，效率非常高。蚀刻后可在水洗、利用碱液进行抗蚀剂剥离、洗净之后，进行干燥。
网格
网格部103由线107包围起来的多个开口部105构成。开口部105的形状没有特别限制，例如可以使用正三角形、等腰三角形等三角形；正方形、长方形、菱形、梯形等四方形；五边形、六边形(龟甲形)、八边形等多边形；圆形、椭圆形等。这些多个开口部可以组合形成网格。
从开口率、网格的不可见性、以及图像的可视性考虑，将图案版上的网格的图案，做成网格部103的线107的直线部上的宽W(参照图2)在特定值±30％的范围内。考虑在蚀刻工序中线的宽度产生偏差，在图案版上将该宽度的分布范围设定为±30％以下。优选±20％以下，更优选±10％以下。而且，如后述，控制蚀刻工序的条件，将得到的网格部的该宽度控制在±30％的范围内。如图7所示，在和透明基板正交的线107的剖面的形状上，连结上底107U和下底107B的堤侧面部107S的曲率半径r为前述金属层的厚度t的1.5～3.0倍(1.5t≤r≤3.0t)。优选网格部103的线宽W的特定值为5～25μm，将线和线的节距设定为150～500μm。
通常，在大型的等离子显示器面板用的电磁波屏蔽用薄板中形成数千条以上的直线，并分别相交着。通过抑制该线宽的偏差，而且，通过限制连结线剖面的形状上的上底和下底的堤侧面部的曲率半径，可以得到电磁波屏蔽用薄片1，使该薄片1具有电磁屏蔽性及适当的透明性，网格的浓淡不均匀少，而且，特别是黑和白的点状及线状缺陷少，而且显示光的偏差少，或者可以抑制外部光的反射，具有优良的图像可视性。
当该线宽的偏差例如将图2中的线宽W设定为14μm时，W＝14±4.2μm，范围W＝9.8～18.2μm，如果是该范围内的值，则不出现网格的浓淡不均匀、黑和/或白的点状和线状等缺点。如果线宽在宽的范围，则网格形成浓淡不均匀。另外，当宽度宽窄差异大时，人们在观察显示器图像时，宽部分形成黑点缺陷，窄的部分形成白点缺陷。当相对整体的图像，出现一个个白点和/或黑点时，一般人有一种非常强的不适感。
但是，本发明的电磁波屏蔽用薄片，利用连续光致抗蚀膜法，将线宽的偏差设定在特定的范围，由此使网格的浓淡不均匀产生的非常少，并且，没有电磁波屏蔽性和透明性的问题。另外，网格的浓淡不均匀及黑和/白的点状和线状的缺点在涂布抗蚀剂时，抗蚀剂液的飞沫粘附在不需要的位置时也发生，但通过连续光致抗蚀膜法制造时，所述缺点非常少。
另外，从线宽的控制考虑，也可以除去与网格部103的外周相连部分的外周部的部分。这是因为有时网格部结束，为了形成由整面金属层21构成的接地用框部101而规律性中断，或者，在以线宽为接地用框部101内周周长的网格外周部，进行向接地用框部逐渐地扩大宽度等的其它目的的处理。该外周部为从接地用框部101的内周向网格部的中心是1～50网格部分，或15～55mm部分，优选1～25网格部分，或0.3～7.5mm部分的区域。
如上所述，为了使和线的透明基板正交的线107剖面的形状上连结上底107U和下底107B的堤侧面部107S的曲率半径γ，做成前述金属层的厚度的1.5～3.0倍，而且，线宽W做成特定值±30％，需用抗蚀剂的种类及蚀刻工序进行控制。例如，优选使用干抗蚀剂或液体抗蚀剂作为抗蚀剂，或者蚀刻条件优选：使蚀刻液的波美度(液体比重单位)为35度以上，或者使用氯化铜或氯化铁水溶液，使蚀刻液的温度为35度以上，或者将蚀刻液的喷射硫酸设定为2000ml/分以上，而且将喷雾喷嘴摇摆头部，或左右摇动，进行蚀刻。
另外，为了控制曲率半径、线宽，对前述的图案版来说，除了将线宽画的精度设计、管理为±30％以下之外，使图案版的线宽比欲得制品的线宽更大，尽可能加大腐蚀的量，使蚀刻液的蚀刻速度减慢，这样容易地进行控制。
另外，将和透明基板正交的线用切片机切成薄片，溅射上铂钯之后，用2000倍的电子显微镜对该线剖面进行照相，从得到的照片、上底端值和下底端值推断连结上底和下底的堤侧面部的曲率半径。但是，因是蚀刻，堤的形状不一定为真正的圆形，因此，可以是接近大致圆形的圆周线、梯形的斜线的线。将曲率半径作为剖面状近似圆的半径求得曲率半径。
因此，含有上底右端和下底右端、或者上底左端和下底左端的曲线，可以做成金属层的厚度的1.5～3.0倍的曲率半径。另外，曲率半径不需要一定，也可以变化，可以容纳在金属层厚度的1.5～3.0倍的范围。
另外，线和在电磁波屏蔽用薄片的图1上的端的边形成的偏移角在图1的图式中例如有45度，不限于此，为了消除莫尔波纹等，可以适当的选择添加显示器的发光特性和象素的排列等。
平坦化
当形成网格时，网格的线107有金属的厚度，开口部105除去金属箔，形成凹部，导电材料部109形成凹凸。该凹凸在下面工序中涂布粘接剂或粘接剂时，用该粘接剂等掩埋，但是，这时该凹部的空气不完全地被粘接剂(或粘接剂)取代，容易形成气泡残留。使气泡残留的气泡和粘接剂(或粘合剂)的界面发生光散射，烟雾(雾值或浊度)升高。为了防止这样的问题，优选粘接前预先用透明树脂填充该凹部，使之平坦化。
该平坦化将透明透明树脂涂布在凹部，埋入，但是，当不侵入至凹部的每个角落时，残留气泡，透明性变差。为此，用溶剂等稀释，以低粘度涂布，使之干燥，或者边脱去空气边涂布，形成平坦层29。
平坦层29透明性强，和网格的导电材料的粘接性好，只要是和下一工序的粘接剂的粘接性好的物质就可以。但是，当平坦层29的表面有凸起、凹陷、不均匀时，设置在显示器前面时，因为产生莫尔条纹、干涉斑点、牛顿环故不优选。优选的方法为：在涂布作为树脂的热或紫外线固化树脂后，用平面性好而且具有剥离性的基材层压，用热或紫外线使涂布树脂固化，剥离剥离性基材除去。平面性基材的表面被转印成平坦层29的表面，并形成平滑的面。
该平坦层29使用的树脂没有特别限定，可以使用各种天然或合成树脂、热或电离放射线固化树脂，考虑树脂的耐久性、涂布性、容易平坦化、平面性等，特别适合使用丙烯酸系的紫外线固化树脂。
NIR吸收层
而且，向平坦层29使用的树脂中可以添加吸收可见光和/或近红外线的特定波长的光线吸收剂。通过吸收可见光和/或近红外线的特定波长，可以抑制不快感，提高图像的可视性。所述的近红外线的特定波长是780～1200nm中的特别是800～1100nm的波长区域。优选吸收该780～1000nm的波长区域的80％以上。该近红外线吸收剂(称作NIR吸收剂)没有特别限定，可以使用在近红外线区域有强的吸收，可见光区域的光透过性强，而且，在可见光区域没有特定的波长的大的吸收的色素等。另外，PDP产生的光的可见光领域通常因为作为氖原子的发光光谱的橘色光多，因此，在570～605nm附近具有某种程度的吸收的物质好，将其用作色修正用光线吸收剂。该近红外线吸收剂有花青系化合物、酞菁系化合物、萘酞菁系化合物、萘醌系化合物吸收、蒽醌系化合物、二硫醇系配合物、亚铵化合物、二亚铵化合物等。另外，色修正用光线吸收剂使用偶氮系化合物、酞菁系化合物等。虽向平坦层29添加了NIR吸收剂，但不添加的情况下，可至少在一个面上设置具有NIR吸收剂的其它层(称作其它NIR吸收层)。
其它NIR吸收层
NIR吸收层向平坦层29侧和/或相反侧的基材11侧设置，在向平坦层29面设置时，其是图1所示的NIR吸收层31B；在向基材11面设置后时，其是图1所示的NIR吸收层31A。该NIR吸收层31B和NIR吸收层31A可以用粘接剂层压具有NIR吸收剂的市售膜(例如，东洋纺织公司制、商品名No2832)，也可以使前面的NIR吸收剂含在粘合剂中进行涂布。该粘合剂可以使用聚酯树脂、聚氨酯树脂、丙烯酸树脂、以及，利用由热或紫外线等固化的环氧树脂、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、异氰酸酯基等进行反应的固化类树脂等。
AR层
而且，图中虽未显示，但是，可以在电磁波屏蔽用薄片的观察侧设置反射防止层(AR层)。反射防止层用于防止可见光线的反射，市售的其构成多为单层、多层等多种。多层的类型是将高折射率层和低折射率层相互层压，高折光率层有氧化铌、氧化钛、氧化锆、ITO等；低折光率有氧化硅、氟化镁等。另外，也有具有使外部光散射的具有微细的凹凸表面的层。
强化涂层、防污层、防眩层
在反射防止(AR)层中，也可以设置强化涂层、防污层、防眩层。强化涂层是通过JIS-K5400的铅笔硬度试验具有H以上硬度的层，利用热或电离放射线，使聚酯丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯等多官能丙烯酸酯固化。防污层是具有疏水性、疏油性的涂层，可以使用硅氧烷系、氟化烷基甲硅烷基化合物等。防眩层是使外部光散射的具有微细凹凸表面的层。
薄片化
如上所述，切断以连续带状的滚筒状卷取而制造的部件，得到每一片的电磁波屏蔽用薄片1。将该电磁波屏蔽用薄片1向剥离等透明的基板粘贴，根据需要，和NIR吸收层、AR层、硬涂布层、防污层、防眩层组合，形成显示器前面板。该基板在大型的显示器上具有厚度为1～10mm的刚性，另外，在数字显示管等的小型的显示器上使用厚度为0.01～0.5mm的塑料膜，可以根据显示器的大小或用途进行适当地选择。这里一旦将电磁波屏蔽用薄片1做成显示器前面板后，因为要设置在显示器的前面，所以，基材11侧成为观察侧，但也可以向显示器的前面直接粘贴。
图6是对于本发明的其它的实施方式显示图2的AA剖面的剖面图。本实施方式是向显示器面粘贴的本发明的电磁波屏蔽用薄片。
直接粘贴
这种情况下，形成网格状的金属层21侧成为观察侧，在该金属层侧至少可以进行黑化处理、设置防锈层。因为接地用框部101露出表面，使电极容易拉出，容易接地。另外，该接地用框部101进行黑化处理，黑的面成为观察侧，因此，不需要前面玻璃板进行设置成框缘状的黑色印刷，可以缩短工序，降低成本。
实施例1
作为导电材料，将由平均粒子直径0.3μm的铜-钴合金粒子构成的黑化处理、铬酸盐(处理)层构成的防锈兼黑化层按照所述顺序附加在表面上，将形成的厚度10μm的电解铜箔的铜-钴合金粒子面，和厚度100μm的双轴拉伸的聚对苯二甲酸乙二酯(PET)薄膜A4300(东洋纺织公司制、商品名)，用2液固化型聚氨酯系粘接剂进行层合，之后在56℃下老化4天。作为粘接剂，使用由聚醇构成的主剂TAKERAKKU A-310和由聚异氰酸酯构成的固化剂A-10(都是武田药品工业公司制、商品名)，以干燥后的厚度为7μm的量进行涂布。
利用光致抗蚀膜法使用彩色TV荫罩用的生产线，从形成掩膜到蚀刻，以连续的带状形成网格。首先，采用溢流法向导电材料层面的整体涂布由酪蛋白构成的感光性抗蚀剂。向下一站运送，使用开口部是正方形线宽为22±1μm、线间隔(节距)为300μm，偏移角度49度、接地用框部(接地用电极部)的宽度5mm的图案版，使用高压水银灯进行印相曝光。然后，一个一个地运送过站，同时进行水显影，进行硬膜处理，再在80℃下进行烘烤处理。
再向下一站运送，使用40℃下、40°波美的氯化铁溶液作为蚀刻液，用喷雾法吹气，进行侧面蚀刻，形成网格的开口部。然后，一个一个地将其运送，同时水洗、剥离抗蚀剂、并洗净，再在80℃干燥，得到实施例1的电磁波屏蔽用薄片。
实施例2
除使用35°波美的氯化铁溶液作为蚀刻液之外，其它和实施例1相同，得到实施例2的电磁波屏蔽用薄片。
比较例1
除使用干抗蚀剂作为抗蚀剂，使用20°波美的氯化铁溶液作为蚀刻液，利用溢流法进行蚀刻之外，其它和实施例1相同，得到比较例1的电磁波屏蔽用薄片。
实施例3
向实施例1的网格部涂布下述组成的平坦层组成物，将厚度为50μm的SP-PET20-BU(Tosero公司制、表面脱模处理PET薄膜商品名)进行层合之后，使用高压水银灯进行200mj/cm2的曝光(换算成365nm)。并且，剥离SP-PET20-BU，得到网格部平坦化的实施例2的电磁波屏蔽用薄片。
作为平坦化层组合物，使用N-乙烯基-2-吡咯烷酮20质量份、二环戊烯基丙烯酸酯25质量份、低聚酯丙烯酸酯(东亚合成(株)制、M-8060)52质量份、1-羟基环己基苯基酮(Ciba-Geigy公司制、IRUGACURE 184)3质量份。
实施例4
在实施例2的平坦层组合物中，作为近红外线吸收剂含有硫醇-镍配合物1质量份，除此之外，和实施例2同样得到电磁波屏蔽用薄片。
实施例5
用粘接剂使NIR薄膜No2832(东洋纺织公司制、近红外线吸收薄膜商品名)  向实施例2的平坦层面层压，除此之外，和实施例2同样得到电磁波屏蔽用薄片。
实施例6
直接粘贴
使PET薄膜和不是铜-钴合金粒子的铬酸盐(处理)层的面层合，除此之外，和实施例1同样，再和实施例3相同形成平坦层，得到实施例6的电磁波屏蔽用薄片。
评价方法
线宽、及线剖面的上下宽度使用光学显微镜，在倍率400倍的条件下，随机地测定100个位置。网格的浓淡不均匀用目测观察。搭载于PDP面板，利用目测观察显示图像，由此评价图像的可视性。另外，从线剖面的2000倍的电子显微镜照片测定曲率半径。
结果
在实施例1中，线宽为8～12μm(特定宽度±20％)的范围内，网格没有浓淡不均匀，另外，堤侧面部的曲率半径为30μm(厚度的3.0倍)，在PDP上显示的图像也没有闪耀，可视性好。
在实施例2中，线宽为7～13μm和特定宽度±20％的范围内，网格没有浓淡不均匀，另外，堤的曲率半径为15μm(厚度的1.5倍)，在PDP上显示的图像也没有闪耀，可视性好。
在比较例1中，堤的曲率半径为10μm(厚度的1.0倍)，在PDP上显示的图像也有闪耀，可视性差，而且，线宽为9～19μm和特定宽度±33％，为特定宽度±30％的范围以外，网格可见浓淡不均匀，。
将实施例3～5中的电磁波屏蔽性薄片搭载在PDP的面板的前面，用目测观察整个的白图像和黑图像，可见，PDP图像上没有闪耀，看不到白和/或黑的点状、线状缺点，可视性好。
在实施例6的电磁波屏蔽性薄片中，利用粘接剂将基材面设置在PDP上，可见显示光反射的迷光少，闪耀也少，图像的可视性良好，而且电极的拉出工序减少，也不需要设在玻璃基板上的框缘状的黑印刷。
本发明的电磁波屏蔽用薄片在设置在显示器表面上时，屏蔽显示器发出的电磁波，而且，网格的线部分看不到，满足电磁波屏蔽性、透明性这两个特性，而且通过使线宽设置在一定范围内，使其不出现网格浓淡不均匀，显示器图像上没有白/和/或黑的点状、线状的缺陷。另外，由于将网格的堤侧面部的曲率半径和网格的厚度的关系设定在特定范围内，所以可以使画面没有闪耀、可以良好地辨别图像。

Claims (11)

1.一种电磁波屏蔽用薄片，其在透明基材的一个面上层压有网格状的导电材料层，其特征在于，前述导电材料层的线的直线部的宽度在特定值±30％的范围内。
2.一种电磁波屏蔽用薄片，其在透明基材的一个面上层压有网格状的导电材料层，其特征在于，前述导电材料层的线的直线部上、与前述透明基材正交的线剖面形状中，连接上底和下底的堤侧面部的曲率半径，是前述导电材料层厚度的1.5～3.0倍。
3.一种电磁波屏蔽用薄片，其在透明基材的一个面上层压有网格状的导电材料层，其特征在于，前述导电材料层的线的直线部的宽度在特定值±30％的范围内；而且，和前述透明基材正交的线剖面形状中连接上底和下底的堤侧面部的曲率半径，是前述导电材料层厚度的1.5～3.0倍。
4.如权利要求1～3任一项所述的电磁波屏蔽用薄片，其特征在于，对于排除前述网格状导电材料层的外周部的1～50网格部分的内周部分，或者排除0.15～15mm部分的内周部分，线的直线部分的宽度在特定值±30％的范围内。
5.如权利要求1～3任一项所述的电磁波屏蔽用薄片，其特征在于，前述导电材料层的线的直线部的宽度为5～25μm，线和线的节距为150～500μm。
6.如权利要求1～3任一项所述的电磁波屏蔽用薄片，其特征在于，上述导电材料层是金属层。
7.如权利要求1～3任一项所述的电磁波屏蔽用薄片，其特征在于，对上述导电材料层的至少一个面进行黑化处理。
8.如权利要求1～3任一项所述的电磁波屏蔽用薄片，其特征在于，向上述导电材料层的至少黑化处理面上设置了防锈层。
9.如权利要求1～3任一项所述的电磁波屏蔽用薄片，其特征在于，用透明树脂填充前述导电材料层的至少开口部凹部，前述导电材料层的面基本上是平坦状态。
10.如权利要求9所述的电磁波屏蔽用薄片，其特征在于，前述透明树脂含有色修正用光线吸收剂和/或近红外线吸收剂，其中色修正用光线吸收剂吸收可见光中的波长570～605nm区域的光；近红外线吸收剂吸收近红外线的波长800～1100nm区域的光。
11.如权利要求9所述的电磁波屏蔽用薄片，其特征在于，在外侧一面和内侧一面的至少一个面上，设置吸收可见光中的波长570～605nm区域光的色修正用光线吸收剂层，和/或吸收近红外线的波长800～1100nm区域光的近红外线吸收剂层。
CNB038192179A 2002-08-08 2003-08-08 电磁波屏蔽用薄片 Expired - Fee Related CN100484383C (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP230843/2002 2002-08-08
JP2002230843 2002-08-08

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN1675972A true CN1675972A (zh) 2005-09-28
CN100484383C CN100484383C (zh) 2009-04-29

Family

ID=31711724

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNB038192179A Expired - Fee Related CN100484383C (zh) 2002-08-08 2003-08-08 电磁波屏蔽用薄片

Country Status (8)

Country Link
US (1) US7642469B2 (zh)
JP (1) JP4334477B2 (zh)
KR (1) KR100934292B1 (zh)
CN (1) CN100484383C (zh)
AU (1) AU2003254909A1 (zh)
DE (1) DE10393017B4 (zh)
TW (1) TW200405790A (zh)
WO (1) WO2004016061A1 (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101606447B (zh) * 2007-02-16 2012-07-04 株式会社东进世美肯 用于屏蔽电磁干扰的过滤器及设置该过滤器的显示器

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20060194020A1 (en) * 2003-09-01 2006-08-31 Dai Nippon Printing Co., Ltd Electromagnetic shielding film for plasma display
JP2005317703A (ja) * 2004-04-28 2005-11-10 Toppan Printing Co Ltd 電磁波遮蔽性積層体の製造方法および電磁波遮蔽性積層体ならびに表示装置
DE112005001528T5 (de) 2004-07-12 2007-05-24 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Abschirmfilter für elektromagnetische Wellen
JP4867172B2 (ja) * 2005-01-27 2012-02-01 大日本印刷株式会社 電磁波遮蔽部材
KR100728217B1 (ko) * 2006-02-17 2007-06-13 삼성에스디아이 주식회사 전자파 차폐 필름 및 이를 구비한 플라즈마 디스플레이패널
KR100812345B1 (ko) * 2006-03-08 2008-03-11 삼성코닝정밀유리 주식회사 디스플레이 필터 및 이를 포함하는 디스플레이 장치
JP4794325B2 (ja) * 2006-03-09 2011-10-19 株式会社ブリヂストン 光透過性電磁波シールド材の製造方法、光透過性電磁波シールド材、およびディスプレイ用フィルタ
KR100765373B1 (ko) * 2006-07-19 2007-10-10 엘지전자 주식회사 플라즈마 디스플레이 장치
KR100783645B1 (ko) * 2006-11-06 2007-12-07 엘지전자 주식회사 플라즈마 디스플레이 장치
US20100264818A1 (en) * 2006-08-18 2010-10-21 Ji Hoon Sohn Filter and plasma display device thereof
US20080067914A1 (en) * 2006-09-18 2008-03-20 Lg Electronics Inc. Plasma display apparatus and manufacturing method of electromagnetic wave interference blocking filter therefor
KR100775837B1 (ko) * 2006-11-06 2007-11-13 엘지전자 주식회사 필터 및 그를 이용한 플라즈마 디스플레이 장치
KR101329280B1 (ko) * 2006-12-11 2013-11-14 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
KR20080054204A (ko) * 2006-12-12 2008-06-17 삼성코닝정밀유리 주식회사 디스플레이 장치용 복합 필름 및 이를 포함하는 디스플레이장치
JP2009200312A (ja) * 2008-02-22 2009-09-03 Dainippon Printing Co Ltd 電磁波シールド材及びその製造方法並びにディスプレイ用フィルター
KR101023903B1 (ko) * 2008-09-17 2011-03-22 경기대학교 산학협력단 음의 유전율을 갖는 전자파 차폐 구조체 및 그 제조방법
DE102008049188A1 (de) * 2008-09-26 2010-04-01 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelektronisches Modul mit einem Trägersubstrat und einer Mehrzahl von strahlungsemittierenden Halbleiterbauelementen und Verfahren zu dessen Herstellung
JP5167181B2 (ja) * 2009-03-25 2013-03-21 大日本印刷株式会社 電磁波遮蔽フィルタ
CN201435309Y (zh) * 2009-05-28 2010-03-31 万德国际有限公司 按键用超薄导电粒
TWI468103B (zh) * 2011-07-01 2015-01-01 Sen Tien Printing Factory Co Ltd 具抗電磁波層之防護薄膜及其製作方法
TWI462662B (zh) * 2013-02-06 2014-11-21 Nanya Plastics Corp 複合式雙面黑色銅箔及其製造方法
CN104898197A (zh) * 2015-04-29 2015-09-09 京东方科技集团股份有限公司 一种导光板及其制备方法、背光模组和显示装置
KR101773928B1 (ko) 2015-06-09 2017-09-01 주식회사 씨에프에이글로벌 광대역 전자기파 차폐용 복합함량 동철합금 시트재
JP6670063B2 (ja) * 2015-09-16 2020-03-18 セーレン株式会社 導電性部材
KR102616814B1 (ko) 2018-03-09 2023-12-21 삼성전자주식회사 반도체 패키지 및 반도체 모듈
US20210351102A1 (en) * 2018-10-04 2021-11-11 Showa Denko Materials Co., Ltd. Heat radiation material, method for producing a heat radiation material, composition, and heat-generating element

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3473310B2 (ja) * 1996-07-01 2003-12-02 日立化成工業株式会社 電磁波シールド性と赤外線遮蔽性を有するディスプレイ用フィルム、電磁波遮蔽体及びプラズマディスプレイの製造法
US6086979A (en) * 1997-11-11 2000-07-11 Hitachi Chemical Company, Ltd. Electromagnetically shielding bonding film, and shielding assembly and display device using such film
US6054647A (en) * 1997-11-26 2000-04-25 National-Standard Company Grid material for electromagnetic shielding
JP3720557B2 (ja) * 1997-12-22 2005-11-30 共同印刷株式会社 電磁波シールド板、その製造方法及びプラズマディスプレイ
TW401733B (en) * 1997-12-24 2000-08-11 Gunze Kk The manufacturing method for transparent component used for electromagnetic shielding usage
KR100374222B1 (ko) * 1997-12-24 2003-03-04 군제 가부시키가이샤 전자파 실드용 투명부재 및 그 제조방법
JP3640547B2 (ja) * 1998-11-02 2005-04-20 共同印刷株式会社 電磁波シールド材、プラズマディスプレイ
JP3782250B2 (ja) * 1999-03-31 2006-06-07 共同印刷株式会社 電磁波シールド基材の製造方法
JP2001168574A (ja) * 1999-12-10 2001-06-22 Nisshinbo Ind Inc 透視性電磁波シールド材の製造方法
US8458286B2 (en) * 2000-02-29 2013-06-04 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Flexible wireless advertisement integration in wireless software applications
US7031931B1 (en) * 2000-03-30 2006-04-18 Nokia Corporation Portable device attached to a media player for rating audio/video contents
JP2002190692A (ja) * 2000-12-22 2002-07-05 Tomoegawa Paper Co Ltd 電磁波シールドシートおよびそれを用いた電磁波シールド製品ならびにそれらの製造方法
EP1372369A4 (en) * 2001-03-02 2007-08-15 Hitachi Chemical Co Ltd ELECTROMAGNETIC SHIELDING SHEET, ELECTROMAGNETIC SHIELDING UNIT AND DISPLAY
JP2002368482A (ja) * 2001-06-11 2002-12-20 Gunze Ltd 電磁波シ−ルド用部材とその製造方法
US20030017826A1 (en) * 2001-07-17 2003-01-23 Dan Fishman Short-range wireless architecture

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101606447B (zh) * 2007-02-16 2012-07-04 株式会社东进世美肯 用于屏蔽电磁干扰的过滤器及设置该过滤器的显示器

Also Published As

Publication number Publication date
WO2004016061A1 (ja) 2004-02-19
US7642469B2 (en) 2010-01-05
JPWO2004016061A1 (ja) 2005-12-02
DE10393017T5 (de) 2005-09-01
CN100484383C (zh) 2009-04-29
KR100934292B1 (ko) 2009-12-29
AU2003254909A1 (en) 2004-02-25
DE10393017B4 (de) 2011-07-07
US20050244608A1 (en) 2005-11-03
TWI302082B (zh) 2008-10-11
JP4334477B2 (ja) 2009-09-30
TW200405790A (en) 2004-04-01
KR20050029205A (ko) 2005-03-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN1675972A (zh) 电磁波屏蔽用薄片
CN1675973A (zh) 电磁波屏蔽用薄片
CN100360002C (zh) 电磁波屏蔽用薄片及其制造方法
CN100397968C (zh) 电磁波屏蔽用片
TWI236023B (en) Electromagnetic shielding sheet, front plate for display, and method for producing electromagnetic shielding sheet
TWI240233B (en) Front plate for plasma display and plasma display
TWI357805B (zh)
TWI290455B (en) Electromagnetic shielding film for plasma display
JP2009290054A (ja) 電磁波遮蔽シート
JP2009290053A (ja) 電磁波遮蔽シート
JP2008182162A (ja) プラズマディスプレイ用フィルター、およびその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20090429

Termination date: 20140808

EXPY Termination of patent right or utility model