KR20050029205A - 전자파차폐용 시트 - Google Patents

전자파차폐용 시트 Download PDF

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Abstract

디스플레이에서 발생하는 전자파를 차폐하고, 적당한 투명성을 가져, 망사에 농담의 얼룩짐이 없고, 또 흰색 및/또는 검은색 점모양의 결점, 선모양의 결점 및 번쩍임이 발생하지 않고, 디스플레이의 화상을 양호하게 바라볼 수 있도록 하는 전자파차폐용 시트를 제공한다. 도전재층(109)의 라인(107)의 직선부에서의 폭(W)이 소정치 ±30% 범위 내가 되도록 한다. 또, 도전재층(109)의 라인(107)의 직선부에서의 투명기판과 직교한 라인절단면의 형상에서의 윗바닥(107U)과 아랫바닥(107B)을 잇는 곡면측면부(1078)의 곡률반경(r)이 도전재층(109)의 두께(t)에 대해 1.5t ≤ r ≤ 3.0t로 되도록 한다. 또는, 상기 라인폭과 상기 곡률반경으로 한다. 망사모양의 도전재층은 접착제를 매개로 해서 투명기재의 한쪽 면에 적층된다.

Description

전자파차폐용 시트{ELECTROMAGNETIC WAVE SHIELDING SHEET}
본 발명은 전자파차폐용 시트에 관한 것으로, 보다 상세히는 CRT, PDP와 같은 디스플레이의 전면에 배치되어 디스플레이에서 발생하는 전자파를 차폐하고, 또 디스플레이의 화상을 양호하게 바라볼 수 있도록 하는 금속박(박막) 망사(mesh)를 이용한 전자파차폐용 시트에 관한 것이다.
(기술의 개요)
근래 들어, 전기전자기기의 고기능화와 이용의 증가에 수반해서 전자기적인 노이즈방해(Electro Magnetic Interference; EMI)가 증가하고 있다. 전자파 노이즈는 크게 나누어 전도(傳導)노이즈와 방사(放射)노이즈가 있다. 전도노이즈에 의해 야기되는 문제를 방지하기 위해서는 노이즈필터 등을 이용하는 방법이 있다. 한편, 방사노이즈에 의해 야기되는 문제를 방지하기 위해서는, 전자기적으로 공간을 절연하기 위해 박스를 금속으로 만들거나, 회로기판 사이에 금속판을 삽입하거나, 케이블을 금속박(金屬箔)으로 감아주는 방법 등이 있다. 이들 방법은 회로나 전원블록(power block)의 전자파차폐 효과는 있으나, CRT나 플라즈마 디스플레이 패널(PDP라고 함) 등의 디스플레이 전면(前面)에서 발생하는 전자파차폐용을 쓰기에는 불투명하기 때문에 적합하지가 않다.
PDP는 데이터전극과 형광층을 가진 유리와 투명전극을 가진 유리의 조합체로서, 작동을 하게 되면 전자파와 근적외선(近赤外線) 및 열이 대량으로 발생하게 된다. 일반적으로, 전자파를 차폐하기 위해 PDP의 전면에 전면판(前面板)을 설치하게 된다. 디스플레이 전면에서 발생하는 전자파의 차폐성은, 3OMHz ~ lGHz에서 30dB 이상의 기능이 필요하게 된다. 또, 디스플레이 전면에서 발생하는 파장 800 ~ 1,100nm의 근적외선도 기타 VTR 등의 기기를 오작동시키게 되므로 차폐를 해야 할 필요가 있게 된다. 그리고, 디스플레이의 표시화상을 보기 쉽도록 하기 위해, 전자파차폐용 금속망사의 프레임(라인부)부분이 보기 어려워 전자파차폐용 시트로는 적당한 투명성(가시광투과성, 가시광투과율)을 갖도록 하는 것이 필요하다.
또, 플라즈마 디스플레이 패널은 대형화면을 특징으로 하고 있는바, 예컨대 37 인치, 42 인치 및 이보다 더 큰 사이즈도 있다. 그 때문에, 전자파차폐용 시트의 라인 수는 통상적으로 세로 및 가로방향으로 수천 줄에 달해, 이들 라인의 폭이 일정 범위 내로 되어야만 한다. 만일, 그에 광협(廣狹)이 있게 되면 전체의 화상에 대해 흑색의 점과 백색의 점이 보이게 되어 위화감을 느끼게 한다.
(선행기술)
디스플레이화상의 시인성(視認性)을 향상시키기 위해, 전면판은 전자파차폐와 적당한 투명성(가시광선의 투과율)과, 균일한 망사(mesh)구조가 요구되고 있다.
망사구조를 가진 전면판으로서, 기판/투명엔커층(anchor layer)/망사패턴 모양의 무전해 도금층으로 이루어진 전자파차폐 재료가, 일본국 공개특허공보 평5-283889호에 개시되어 있다. 또, 전자파 차폐시트의 금속망사를 포토레지스트(photoresist)법으로 형성하는 방법이 일본국 공개특허공보 평09-293989호 공보에 개시되어 있다. 그리고, 동박(銅箔)에 기하학적 도형을 포토리소그래피법으로 형성시킨 동박부착 플라스틱 필름을 플라스틱판에 적층시킨 전자파차폐 구성체가 일본국 특개평10-335885호 공보에 개시되어 있다. 그러나, 이들 방법 어디에도 전자파차폐시트의 망사 라인폭의 정밀도와 그 영향에 대해서는 시사(示唆)하고 있지 않다.
그리고, 일본국 공개특허공보 평11-186785호 공보에는, 투명기재와 평행한 절단면의 면적이 상기 투명기재에서 멀어질수록 작아지는, 즉 라인의 단면을 사다리꼴이 되도록 하는 방법이 개시되어 있다. 그러나, 라인폭의 불균일에 대해서는 언급하고 있지 않다. 그러나, 에칭 과잉 또는 에칭 도중 정지시키는 방법이기 때문에, 라인폭의 정밀도(불균일)를 제어하는 것은 대단히 어렵다. 라인폭에 불균일이 있으면 농담(濃淡)의 얼룩이 만들어져 외관상 좋지가 않게 된다. 또, 특히 흑색과 백색의 점모양 결점이나 선모양 결점이 만들어지게 되어 화상의 시인성이 좋지 않게 된다고 하는 결점이 있게 된다.
도 1은 본 발명에 따른 전자파차폐용 시트의 평면도,
도 2는 본 발명에 따른 전자파차폐용 시트의 일부를 모식적으로 나타낸 사시도,
도 3a는 도 1의 A-A 선 단면도,
도 3b는 도 1의 B-B 선 단면도,
도 4는 도전재층의 구성을 설명하기 위한 단면도,
도 5a는 감는 롤 형태로 가공하는 것을 설명하는 평면도,
도 5b는 도 5a의 측면도 및 그 일부확대도,
도 6은 디스플레이면에 첩착하는 본 발명에 따른 전자파차폐용 시트의 단면도,
도 7은 망사부의 라인의 직선부에서의 투명기재와 직교한 라인절단면의 형상에서, 윗바닥(l07U)과 아랫바닥(107B)을 잇는 곡면측면부(107S)의 곡률반경(r)이 금속층의 두께(t) 대해 1.5t ≤ r ≤3.0인 것을 나타낸 도면이다.
본 발명은 이와 같은 문제점을 해소하기 위해 발명한 것으로, CRT, PDP와 같은 디스플레이의 전면에 배치해서 디스플레이에서 발생하는 전자파를 차폐하고, 또 디스플레이 화상의 시인성, 특히 흑색과 흰색의 점모양 결점이나 선모양 결점이 발생하기 어려운 전자파차폐용 시트를 제공함에 그 목적이 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 제1실시예에 따른 전자파차폐용 시트는, 투명한 기재의 한쪽 면에 망사모양 도전재층이 적층된 전자파차폐용 시트에서, 상기 도전재층의 라인의 직선부에서의 폭이 소정치 ±30%의 범위 내가 되도록 한 것을 특징으로 한다. 이상과 같은 본 발명에 의하면, CRT, PDP와 같은 디스플레이에서 발생하는 전자파를 차폐하고, 또 망사의 라인부분은 시인성으로 되어 전자파차폐성과 투명성의 양 특성을 만족시키고, 또 라인폭이 일정범위 내에 있게 됨으로써 망사의 농담얼룩이 없어 화상을 양호하게 시인할 수 있는 전자파차폐용 시트가 제공될 수 있게 된다.
한편, 본 발명의 제2실시예에 따른 전자파차폐용 시트는, 투명기재의 한쪽 면에 망사모양 도전재층이 적층된 전자파차폐용 시트에서, 상기 도전재층의 라인의 직선부에서 상기 투명기재와 직교한 라인절단면 형상에서의 윗바닥과 아랫바닥을 잇는 곡면측면부의 곡률반경이 상기 도전재층 두께의 1.5 ~ 3.0배가 되도록 한 것을 특징으로 한다. 이와 같이 구성된 본 발명에 의하면, CRT, PDP와 같은 디스플레이의 전면에 배치되어, 디스플레이에서 발생하는 전자파를 차폐하고, 또 눈부심이 적어 디스플레이 화상을 양호하게 시인할 수 있는 전자파차폐용 시트가 제공될 수 있게 된다.
또, 본 발명의 제3실시예에 따른 전자파차폐용 시트는, 투명기재의 한쪽 면에 망사모양 도전재층이 적층된 전자파차폐용 시트에서, 상기 도전재층의 라인의 직선부에서의 폭이 소정치 ±30% 범위 내에 있고, 또 상기 투명기판과 직교한 라인절단면 형상에서의 윗바닥과 아랫바닥을 잇는 곡면측면부의 곡률반경이 상기 도전재층 두께의 1.5 ~ 3.0배가 되도록 한 것을 특징으로 한다. 이와 같은 본 발명에 의하면, CRT, PDP와 같은 디스플레이의 전면에 배치되어, 디스플레이에서 발생하는 전자파를 차폐하고, 또 망사의 농담얼룩이 없어 디스플레이화상의 시인성, 특히 흑색과 백색의 점모양 결점이나 선모양 결점이 발생하기 어려움과 더불어 눈부심도 적은 전자파차폐용 시트가 제공될 수 있게 된다.
또, 본 발명에 따른 전자파차폐용 시트는, 상기 망사모양 도전재층 외주부의 1 ~ 50망사 분을 제한 내주부분 또는 O.15 ~ 15mm 분을 제한 내주부분에서, 라인의 직선부에서의 폭이 소정치 ±30%의 범위 내로 되어 있는 것을 특징으로 한다. 또한, 본 발명에 따른 전자파차폐용 시트는, 상기 도전재층의 라인의 직선부에서의 폭이 5 ~ 25㎛ 이고, 라인과 라인의 피치가 150 ~ 500㎛인 것을 특징으로 한다. 이와 같은 본 발명에 의하면, 큰 면적의 시트라 하더라도 취급할 때 굽혀지거나 꺾여지는 선을 남기지 않는 전자파차폐용 시트가 제공될 수 있게 된다.
또, 본 발명에 따른 전자파차폐용 시트는, 상기 도전재층이 금속층인 것을 특징으로 한다. 또, 본 발명에 다른 전자파차폐용 시트는, 상기 도전재층의 적어도 한쪽 면에 흑화처리를 한 것을 특징으로 한다. 또, 본 발명에 따른 전자파차폐용 시트는, 상기 도전재층의 적어도 흑화처리면에 녹이 쓰는 것을 방지하는 방수층(防銹層)이 형성된 것을 특징으로 한다. 이와 같이 구성된 본 발명에 의하면, 전자파차폐성이 뛰어나고, 디스플레이 화상의 시인성이 좋으며, 녹이 쓸기 어려운 전자파차폐용 시트를 제공할 수 있게 된다.
또, 본 발명에 따른 전자파차폐용 시트는, 상기 망사모양 도전재층의 적어도 개구부의 오목부분을 투명수지로 충전시켜, 도전재층 면이 실질적으로 평탄화 상태로 되도록 한 것을 특징으로 한다. 이와 같은 본 발명에 의하면, 개구부의 요철(凹凸)이 메워져 작업성이 뛰어난 전자파차폐용 시트가 제공될 수 있게 된다.
또, 본 발명에 따른 전자파차폐용 시트는, 상기 망사모양 도전재층의 개구부의 오목부분을 투명수지로 충전시켜 실질적으로 평탄화하는 투명수지에, 가시광선 중의 파장 570 ~ 605nm대역의 광을 흡수하는 색보정용(色補正用) 광선흡수제 및/또는 근적외선(近赤外線)의 파장 800 ~ 1100nm대역 광을 흡수하는 근적외선흡수제가 함유되도록 한 것을 특징으로 한다. 또, 본 발명에 따른 전자파차폐용 시트는, 적어도 그 한쪽 면에, 가시광선 중의 파장 570 ~ 605nm 대역의 광을 흡수하는 색보정용 광선흡수제 및/또는 근적외선의 파장 800 ~ 1100nm 대역의 광을 흡수하는 근적외선흡수제층이 형성된 것을 특징으로 한다. 이와 같은 본 발명에 의하면, PDP디스플레이에서 발생하는 근적외선, 적외선 및 전자파를 차폐하고, 또 디스플레이에서 발생하는 화상재현에는 필요하지 않은 색광을 보정하여 디스플레이화상을 양호하게 시인할 수 있는 전자파차폐용 시트가 제공될 수 있게 된다.
다음에는 본 발명의 실시예에 대해 도면을 참조로 해서 상세히 설명한다. 단, 본 발명은 이하의 실시예에만 한정되는 것은 아니다.
도 1은 본 발명에 따른 전자파차폐용 시트의 평면도이고, 도 2는 본 발명에 따른 전자파차폐용 시트의 일부를 모식적으로 나타낸 사시도이다.
(전체의 구성)
도 1에 도시된 것과 같이, 본 발명에 따른 전자파차폐용 시트(1)는 망사부(103)와 접지용 프레임(101)으로 구성되어 있다. 망사부(103)는, 도 2에 도시된 것과 같이, 라인(107)으로 에워싸여진 복수의 개구부(셀이라고도 함; 105)로 되어 있다. 접지용 프레임(101)은 디스플레이에 설치했을 경우 접지가 이루어지도록 되어 있다.
또, 기재(11)의 한쪽 면에 접착제층(13)을 매개로 도전재층(109)이 적층(積層)되어 있다. 당해 도전재층(109)은 개구부(105)가 조밀하게 배열된 망사모양으로서, 당해 망사는 개구부(105)와 프레임을 이루고 있는 라인(107)으로 구성되어 있다. 라인(107)의 폭은 도 2에 도시된 것과 같이 라인폭(W)이라 칭하고, 라인과 라인과의 간격을 피치(P)라 칭하기로 한다.
도 3은, 도 2의 대표적인 1실시예에 관한 A-A선 단면도 및 B-B선 단면도이고, 도 4는 도전재층의 구성을 설명하는 단면도이다.
(층의 구성)
도 3a는 개구부를 횡단하는 단면을 나타낸 것으로, 개구부(105)와 라인(107)이 교대로 구성되어 있다. 도 3b는 라인(107)을 종단하는 단면을 나타낸 것으로, 도전재층(109)으로 이루어진 라인(107)이 연속해서 형성되어 있다. 도전재층(109)으로는 도전성인 것이면 좋은바, 금속층(21)이 바람직하고, 필요에 따라서는 당해 금속층(21)의 적어도 한쪽 면(관찰 쪽 면)에 흑화(黑化)처리(23A 또는 23B)를 시행한다. 그리고 당해 흑화처리층(23A 및/또는 23B)를 덮어주도록 방수층(25A 및/또는 25B)(防銹層)을 형성시키지만, 이 방수층은 적어도 흑화처리층(blackened layer) 쪽에 형성되도록 하면 된다. 상기 방수층(25A, 25B)은 금속층(21) 및 흑화처리층(23A, 23B)의 녹방지기능을 가짐과 더불어 흑화처리층(23A, 23B)의 탈락도 방지하게 된다.
(발명의 요점 1)
망사부(103)의 라인(107)의 직선부에서의 폭(W)이 소정치 ± 30%의 범위 내에 있도록 한다. 즉, 망사부(103)의 라인(107)의 직선부의 폭(W)이 소정치·(100% ± 30%) 범위 내로서, 소정치에 대해 ± 30% 이내의 오차범위 내를 말한다. 이와 같이 라인폭의 불균일을 어느 범위 내에 있도록 함으로써, 전자파차폐성과 적당한 투명성을 갖도록 해서, 망사의 농담얼룩이 적고, 뛰어난 화상의 시인성을 얻을 수가 있게 된다. 그리고, 망사부(103)의 라인폭(W)의 소정치가 5 ~ 25㎛이고, 라인과 라인의 피치(P)가 150 ~ 500㎛인 것이 바람직하다.
(발명의 요점 2)
또, 도 3a 또는 도 7에 도시된 것과 같이, 망사부(103)의 라인(107)의 직선부에서의 투명기재와 직교한 라인절단면의 형상에서, 윗바닥(107U)과 아랫바닥(107B)을 잇는 곡면측면부(107S)의 곡률반경(r)이 상기 금속층의 두께(t)에 대해, 1.5t ≤ r ≤ 3.0t의 관계가 되도록 한다. 라인절단면 형상에서 윗바닥과 아랫바닥을 잇는 곡면의 곡률반경을 규제함으로써, 전자파차폐성과 적당한 투명성을 갖게 되어, 표시광(表示光)의 눈부심이 적고, 또 외부광의 반사가 억제되어, 뛰어난 화상의 시인성을 얻을 수가 있게 된다.
(발명의 요점 3)
망사부(103)의 라인(107)의 직선부의 폭이 소정치 ±30%의 범위 내이고, 또 투명기판과 직교한 라인절단면 형상에서의 윗바닥과 아랫바닥을 잇는 곡면측면부의 곡률반경(r)이 상기 금속층 두께의 1.5 ~ 3.0배가 되도록 한다. 이와 같이 라인폭의 불균일을 억제하고, 라인절단면 형상에서의 윗바닥과 아랫바닥을 잇는 곡면측면부의 곡률반경을 규제함으로써, 전자파차폐성과 적당한 투명성을 갖게 되어, 망사의 농담얼룩이 적고, 또 특히 흑색과 백색의 점모양 결점 및 선모양 결점이 적으며, 표시광의 눈부심이 적고, 또한 외부광의 반사가 억제되어, 뛰어난 화상의 시인성을 얻을 수가 있게 된다.
본 발명의 명세서에서는, 전자파차폐용 시트를 CRT, PDP와 같은 디스플레이용을 주체로 기재하였으나, 디스플레이 이외의 전자파차폐용으로 사용할 수도 있음은 물론이다.
또, PDP는 대형화면을 특징으로 하고 있는바, 전자파차폐용 시트의 크기(외형치수)로는, 예컨대 37 인치에서는 620 x 830mm 정도, 42 인치에서는 580 x 980mm 정도이고, 이보다 더 큰 대형사이즈도 될 수 있다. 그 때문에, 전자파차폐용 시트의 라인 수는 망사의 크기에도 의하지만, 일반적으로 세로 및 가로방향에 수천 줄까지도 있게 된다. 당해 라인의 폭은 「㎛」단위의 정밀도로, 일정범위 내에 형성되어야만 한다. 만일 광협이 있게 되면, 사람이 디스플레이 화상을 관찰했을 때, 넓은 부분은 흑색 점의 결점으로 되고 좁은 부분은 흰색 점의 결점으로 된다. 전체의 화상에 대해 흑백 결점이 있게 되면, 사람은 극히 강한 위화감을 느끼게 된다. 즉, 본 발명에 따른 전자파차폐용 시트는, 라인폭의 불균일 및/또는 라인절단면 형상을 제어함으로써, 전자파차폐성과 적당한 투명성을 갖고, 망사의 농담얼룩이 없고, 또 흑점 결점 및/또는 백색점 결점이 극히 적은, 화상의 시인성이 우수한 것으로 된다.
한편, 본 발명에 따른 전자파차폐용 시트의 도전재부(109)로는, 금속층(21)의 적어도 한쪽 면에 흑화처리층(23A 및/또는 23B)을 형성시키고, 이들 흑화처리층(23A 및/또는 23B)의 적어도 흑화처리면에는 방수층(25A 및/또는 25B)이 형성되도록 되어 있다.
상기 도전재부(109)를 접착제를 매개로 투명한 필름형상의 기재(11)와 적층 시킨 후, 포토리소그래피법으로 망사모양이 되도록 한다. 필요에 따라서는, 금속층쪽을 평탄화하고, 필요에 따라서는 특정 파장의 가시광선 및/또는 근적외선을 흡수하는 광선흡수제층을 형성시킨다. 이와 같은 전자파차폐용 시트를 디스플레이의 전면(前面)에 배치하게 되면, 디스플레이에서 발생하는 전자파를 차폐하고, 망사의 농담얼룩이 없고, 흑색 또는 백색의 점모양 또는 선모양의 결점이 극히 적고, 또 적당한 투명성을 가져, 디스플레이에 표시된 화상을 양호하게 시인할 수가 있게 된다.
(제조방법의 개략)
본 발명의 전자파차폐용 시트(1)는, 먼저 적어도 관찰하는 쪽에 흑화처리층 및 방수층이 형성된 도전재층(109)을 준비하고서, 이 도전재층(109)을 투명한 필름형상 기재(11)의 한쪽 면에다 접착제를 매개로 적층한 후, 도전재층(109)면에다 레지스트층을 망사패턴 모양으로 형성시키고, 레지스트(regist)층으로 덮여져 있지 않은 부분의 도전재층(109)을 에칭으로 제거한 다음, 레지스트층을 제거하는 이른바 포토리소그래피법으로 제조하면 된다. 그리고, 기존의 설비를 사용할 수 있고, 이들 제조공정의 대부분을 연속적으로 실행함으로써 품질 및 제품수율이 높고 생산효율이 높은 생산을 할 수 있게 된다.
다음에는, 본 발명에 따른 전자파차폐용 시트(1)의 각 층의 재료 및 형성에 대해 설명한다.
(도전재층)
전자파를 차폐하는 도전재층(109)으로는, 예컨대 금, 은, 동, 철, 알미늄, 니켈, 크롬 등 충분히 전자파를 차폐할 수 있을 정도의 도전성을 가진 금속층(21)이 적용될 수 있다. 금속층(21)은 단체(單體)가 아니고, 합금 또는 다층(多層)인 것이라도 좋다. 금속층(21)으로는, 철의 경우에는 저탄소림드강(low-carbon rimmed steel)이나 저탄소알미늄강 등의 저탄소강, Ni-Fe 합금, 인바(Invar) 합금이 좋고, 또 캐소드 전착(cathodic electrodeposition)을 실행하는 경우에는 전착하기가 쉽기 때문에 동박(銅箔) 또는 동합금박(電解銅箔)이 바람직하다. 이 동박으로는, 압연동박, 전해동박이 사용될 수 있으나, 두께의 균일성, 흑화처리층 및/또는 크롬산(처리)층과의 밀착성 및 10㎛ 이하의 박막화가 될 수 있다는 점에서 전해동박이 바람직하다. 이 금속층(21)의 두께는 1 ~ 100㎛ 정도, 바람직하기로는 5 ~ 20㎛이다. 그 이하의 두께에서는 포토리소그래피법에 의한 망사가공은 쉽지만, 금속의 전기저항치가 증가해서 전자파차폐 효과가 훼손되기 때문에, 더 이상에서는 소망하는 고정밀의 망사모양이 얻어지지 않게 되고, 그 결과 실질적인 개구율(開口率)이 낮아져 광선투과율이 저하되고, 시야각(視野角)도 좁혀져, 화상의 시인성이 나빠지게 된다.
금속층(21)의 표면거칠기로는 Rz값으로 O.5 ~10㎛가 바람직하다. 그 이하에서는 흑화처리를 하더라도 외부광이 경면반사(鏡面反射)를 해서 화상의 시인성이 나빠지게 된다. 한편, 그 이상에서는 접착제나 레지스트 등을 도포할 때 표면 전체에 펴지지가 않아 기포가 발생하거나 하게 된다. 표면거칠기(Rz)는, JIS-B0601에 준거해서 10번 측정한 값의 평균치이다.
(흑화처리)
전자파차폐용 시트(1)에 입사하는 햇빛이나 전등불빛과 같은 외부광을 흡수시켜 디스플레이의 화상시인성을 향상하기 위해서는, 망사모양 도전재층(109)의 관찰 쪽에다 흑화처리를 실시해서 콘트라스트감을 나타낼 필요가 있다. 이 흑화처리(Blackening Treatment)는 금속층면을 조화(粗化) 및/또는 흑화(黑化)하면 되는 바, 금속산화물이나 금속황화물의 형성이나 기타 여러 가지의 수법을 적용할 수 있다. 철의 경우에는 통상적으로 수증기 중 450 ~ 470℃ 정도의 온도에서 10 ~ 20 분간 쬐어 1 ~2㎛ 정도의 산화막(흑화막)을 형성하지만, 농초산 등의 약품처리에 의한 산화막(흑화막)이어도 좋다. 또, 동박의 경우에는, 동박을 황산이나 황산구리 및 황산코발트 등으로 된 전해액 중에서 음극 전해처리를 하여 양이온성 입자를 부착시키는 캐소드 전착이 바람직하다. 이 양이온성 입자를 형성함으로써 보다 더 거칠어짐과 동시에 흑색이 얻어질 수 있게 된다. 상기 양이온성 입자로는, 동입자나 동과 다른 금속과의 합금입자가 적용될 수 있으나, 동-코발트 합금입자가 바람직하다.
본 명세서에서는, 조화(粗化) 및 흑색화(黑色化)를 합해서 흑화처리(黑化處理)라고 부른다. 이 흑화처리의 바람직한 흑색농도는 O.6 이상이 된다. 한편, 흑색농도의 측정방법은, COLOR CONTROL SYSTEM GRETAG SPM100-11(키모토사의 상품명)을 써서, 관찰시야각 10°, 관찰광원(觀察光源) D50, 조명형식으로 농도표준 ANSI의 T로 설정하여 시험편을 측정하기로 한다. 또, 당해 흑화처리의 광선반사율로는 5% 이하가 바람직하다. 광선반사율은, JIS-K7105에 준거해서, 헤이즈미터(Haze Meter) HM 150(무라카미색채사의 상품명)을 가지고 측정하기로 한다.
(합금입자)
상기 양이온성 입자로는, 동입자나 동과 다른 금속과의 합금입자가 적용될 수 있으나, 바람직하기로는 동-코발트 합금입자이다. 동-코발트 합금입자를 이용하면, 흑화의 정도가 현저하게 향상되어 가시광선을 잘 흡수하게 된다. 전자파차폐용 시트의 시인성을 평가하는 광학특성으로, 색조(色調)를 JIS-Z8729에 준거한 표색계 「L*, a*, b*, △E* 」로 나타내었다. 이 「a*」 및 「b*」의 절대치가 작은 쪽이 도전재부(109)가 비시인성으로 되고, 화상의 콘트라스트감이 높아져, 결과적으로 화상의 시인성이 우수해지게 된다. 동-코발트 합금입자를 이용하면 동입자와 비교해서 「a*」 및 「b*」를 거의 "0"에 가까워지도록 할 수 있다.
또, 동-코발트 합금입자의 평균입자지름은 O.11㎛가 바람직하다. 그 이상에서는 동-코발트 합금입자의 입자지름을 크게 하면 금속층(21)의 두께가 얇아져, 기재(11)와 적층시키는 공정에서 동박이 절단되거나 해서 가공성이 나빠지고, 또 밀집입자(密集粒子)의 외관의 조밀성이 나빠져 얼룩무늬가 눈에 띄게 된다. 그 아래에서는 조화가 부족하기 때문에 화상의 시인성이 나빠지게 된다.
(방수층)
금속층(21) 및/또는 흑화처리층에 녹방지기능과 흑화처리의 탈락이나 변형이 일어나는 것을 방지하기 위해, 적어도 흑화처리를 가진 금속박면에다 방수층(25A 및/또는 25B)을 형성시킨다. 이 방수층(25A, 25B)으로는, 니켈 및/또는 아연 및/또는 동의 산화물, 또는 크롬산 처리층이 적용할 수 있다. 니켈 및/또는 아연 및/또는 동의 산화물의 형성은 공지의 도금법으로도 좋은바, 두께로는 O.001 ~ 1㎛ 정도, 바람직하기로는 0.001 ~ 0.1㎛으로 하는 것이 좋다.
(크롬산)
이 크롬산 처리(chromate treatment)는 피처리재에 크롬산 처리액을 도포해서 처리한다. 이 도포방법으로는, 롤코팅법, 커튼코팅법, 스퀴즈코팅법, 정전무화법(靜電霧化法), 침지법 등이 적용될 수 있고, 도포 후에 물로 세정하지 않고 건조시키면 된다. 크롬산 처리를 한쪽 면에 실시하는 경우에는 롤코팅법 등으로 한쪽 면에다 도포하고, 양쪽 면에 실시하는 경우에는 침지법으로 하면 된다. 크롬산 처리액으로는, 통상적으로 Cr02를 3g/l 함유한 수용액을 사용한다. 기타 무수크롬산 수용액에 다른 옥시칼본산 화합물을 첨가해서 6가 크롬의 일부를 3가 크롬으로 환원시킨 크롬산 처리액도 사용할 수 있다. 또, 6가 크롬의 부착량의 다소에 따라 담황색(淡黃色)에서 황갈색으로 착색이 되는바, 3가 크롬은 무색이어서, 3가와 6가 크롬을 관리하면 실용상 문제가 없는 투명성이 얻어질 수 있게 된다. 옥시칼본산 화합물(oxycarboxylic compound)로는, 주석산, 마론산, 구연산, 유산, 글루콜릭산, 글리세린산, 트로파산, 벤질산, 히드록시길초산(hydroxyvalerianic acid) 등을 단독 또는 병용해서 쓰게 된다. 환원성은 화합물에 따라 다르기 때문에, 첨가량은 3가 크롬으로의 환원을 파악하면서 실행한다. 또, 흑화처리면에 크롬산 처리를 하는 경우에는, 녹방지 효과에 더해 흑화의 효과를 보다 높일 수 있어 흑화강조 처리로서도 기능하게 된다.
흑화처리 및 방수층은 적어도 관찰 쪽에다 형성시키면 좋은 바, 콘트라스트가 향상되어 디스플레이 화상의 시인성이 좋아지게 된다. 또, 다른쪽 면, 즉 디스플레이면 쪽에 형성시켜도 좋은 바, 디스플레이에서 발생하는 미광(迷光)을 억제하기 때문에 화상의 시인성이 보다 더 향상될 수 있게 된다.
다음, 당해 방수층 및 흑화처리를 한 금속층(도전재층)과 투명한 기재를 접착제 또는 점착제로 적층시킨다.
(기재)
기재(11)의 재료로는, 투명함과 더불어 사용조건이나 제조과정에서 견딜 수 있는 투명성, 절연성, 내열성, 기계적 강도 등이 있으면 여러 가지 재료가 사용될 수 있다. 예컨대, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌 나프타레이트, 폴리에틸렌 테레프탈레이트-이소프탈레이트 공중합체, 테레프탈산-시크로헥산디메타놀-에틸렌글리콜 공중합체, 폴리에틸렌 테레프탈레이트/폴리에틸렌 나프타레이트의 공압출필름과 같은 폴리에스텔계 수지, 나일론6, 나일론66, 나일론610과 같은 폴리아미드계 수지, 폴리프로필렌, 폴리메틸펜텐과 같은 폴리오레핀계 수지, 폴리염화비닐과 같은 비닐계 수지, 폴리아크릴레이트, 폴리메타아크릴레이트, 폴리메틸메타아크릴레이트와 같은 아크릴계 수지, 폴리이미드, 폴리아미드이미드, 폴리에텔이미드와 같은 이미드계 수지, 폴리아릴레이트, 폴리슬폰, 폴리에텔슬폰, 폴리페닐렌에텔, 폴리페니렌슬피드(PPS), 폴리아라미드, 폴리에텔케톤, 폴리에텔니트릴, 폴리에텔에텔케톤, 폴리에텔슬파이드와 같은 엔지니어링 수지, 폴리카보네이트, 폴리스티렌과 같은 스티렌계 수지 등이 있다.
상기 기재는 이들 수지를 주성분으로 하는 공중합수지 또는 혼합체(혼합물을 포함)나, 복수 층으로 이루어진 적층체이어도 좋다. 또 상기 기재는 연신필름이어도, 미연신필름이어도 좋으나, 강도를 향상시키는 목적으로 1축 방향 또는 2축 방향으로 연신(延伸)한 필름이 바람직하다. 상기 기재의 두께는 통상적으로 12 ~ 1000㎛ 정도가 적용될 수 있지만, 50 ~ 700㎛ 적합하고, 100 ~500㎛ 가장 적합하다. 그 이하의 두께에서는 기계적 강도가 부족해서 뒤로 휘어지거나 느슨해지거나 하게 되고, 그 이상에서는 과잉 성능이 되어 제조비용 면에서도 필요가 없게 된다.
또, 상기 기재는, 이들 수지의 적어도 1층으로 이루어진 필름, 시트, 보드형태로 사용되는바, 이들 형상을 본 명세서에서는 필름이라 총칭하기로 한다. 일반적으로, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌 나프타레이트과 같은 폴리에스텔계 필름이 투명성과 내열성이 좋고 제조비용도 싸기 때문에 흔히 사용되고 있는바, 그 중 폴리에틸렌 테레프탈레이트가 가장 적당하다. 또, 투명성은 높을수록 좋지만, 바람직하기로는 가시광선투과율 80% 이상인 것이 좋다.
상기 기재필름은, 도포하기에 앞서 도포면에다, 코로나방전처리, 플라스마처리, 오존처리, 프레임처리, 플라이머(엥커코팅, 접착촉진제, 이접착제(易接着劑)로도 불림)도포처리, 예열처리, 제진애처리, 증착처리, 알카리처리 등의 이접착처리를 실시하여도 좋다. 상기 수지필름은 필요에 따라 충전제, 가소제, 대전방지제 등의 첨가제를 가하여도 좋다.
(적층법)
적층(라미네이트라고도 함)법으로는, 기재(11) 또는 도전재층(109)의 한쪽에 접착제 또는 점착제를 도포하고, 필요에 따라 건조시키고, 가열 또는 가열하지 않고 가압을 한다. 그 후 필요에 따라 30 ~ 80℃ 온도 하에서 에이징(養生)하여도 좋다. 또, 기재(11) 자신 또는 기재(11)가 복수 층으로 적층된 면이 예컨대 이오노머(ionomer)수지, 에틸렌-초산비닐 공중합체, 에틸렌-아크릴산 공중합체, 에틸렌-아크릴산에스텔 공중합체와 같은 열접착성 수지이면 가열 하에서 가압하는 것만으로 좋고, 특히 접착제나 점착제를 사용하지 않고도 적층할 수가 있다. 또 기재(11)상에 무전해도금이나 증착 등으로 직접 금속층(21)을 형성시켜 적층할 수도 있다. 이 경우에도 접착제나 점착제 없이 적층할 수가 있다.
(접착제)
접착제로는, 특히 한정되는 것은 아니지만, 예컨대 아크릴수지, 폴리에스텔 수지, 우레탄 수지, 염화비닐-초산비닐 공중합체 수지 등이 적용될 수 있다. 또, 에칭액에 의한 염색이나 열화가 적고 가공적성이 좋은 열경화형 수지를 이용한, 당업자가 드라이 라미네이션법이라 부르는 방법이 바람직하다. 그리고, 자외선(UV)과 같은 전리방사선에서 경화(반응)하는 UV경화형 수지도 바람직하다.
(드라이 라미네이션)
드라이 라미네이션법(Dry Lamination proess)이라 함은, 필름에다 용매에 분산 또는 용해시킨 접착제를 도포해서 서로 접합시킨 후 건조시켜 적층된 기재를 만든 다음, 30 ~ 120℃에서 수 시간 ~ 수일 간 에이징해서 접착제를 경화시킴으로써 2가지 종류의 재료를 적층하는 방법을 말한다. 또, 드라이 라미네이션법을 개량한 비용해(nonsolvent) 라미네이션법이어도 좋은바, 이는 용매에다 분산 또는 용해시키지 않고 접착제 자신을 도포해서 건조시켜 적층기재를 만든 후, 30 ~ 120℃에서 수 시간 ~ 수일 간 에이징하여 접착제를 경화시킴으로써, 2가지 종류의 재료를 적층시키는 방법이다.
드라이 라미네이션법 또는 비용해 라미네이션법에 쓰이는 접착층의 접착제로서는, 열 또는 자외선 전자선과 같은 전리방사선으로 경화시키는 접착제가 적용될 수 있다. 열경화 접착제로는 구체적으로 2액경화형 수지의 접착제를 들 수 있는 바, 예컨대 폴리에스텔우레탄계 수지, 폴리에텔우레탄계 수지, 아크릴우레탄계 수지와 같은 우레탄계 접착제, 아크릴계 접착제, 폴리에스텔계 접착제, 폴리아미드계 접착제, 폴리초산비닐계 접착제, 에폭시계 접착제, 고무계 접착제 등이 적용될 수 있으나, 2액경화형 우레탄계 접착제가 가장 접합하다.
이 2액경화형 우레탄계 수지로는, 구체적으로 다관능 이소시아네이트와 히드록실기함유 화합물과의 반응에 의해 얻어지는 폴리머, 즉 예컨대 다관능 이소시아네이트로는 토리렌이이소시아네이트, 디페닐메탄디이소시아네이트, 폴리메틸렌폴리페니렌폴리이소시아네이트, 이소호론이이소시아네이트와 같은 방향족(내지 지방고리식) 폴리이소시아네이트, 또는 헥사메틸렌디이소시아네이트, 키시리렌지이소시아네이트이소호론지이소시아네이트 등의 지방족(내지 지환식) 폴리이소시아네이트와 같은 다관능 이소시아네이트 등이 쓰인다. 이들 폴리이소이소시아네이트로는, 상기 이소시아네이트의 폴리머(3량체 등)이나 부가체(addition polymer)를 이용할 수 있다. 히드록실기함유 화합물로는, 폴리에텔계 폴리올, 폴리에스텔계 폴리올, 폴리아크릴레이트 폴리올과 같은 히드록실기 함유의 화합물이 쓰여질 수 있다. 이들 다관능 이소시아네이트와 히드록실기 함유 화합물의 반응으로 얻어지는 2액형 우레탄계 수지를 사용할 수도 있다.
바람직하기로는, 에칭액에 의한 염색이나 열화가 없는 스티렌-마레인산 공중합폴리머로 변성된 폴리에스텔폴리우레탄과 지방족 폴리이시시아네이트를 배합한 접착제가 접합하다.
상기와 같은 드라이 라미네이션법에서는, 이들을 주성분으로 하는 접착제 조성물을 유기용매로 용해 또는 분산시켜, 이를 예컨대 롤코팅, 리버스 롤코팅, 그라비아코팅, 그라비아 리버스코팅, 그라비아 옵셋코팅, 키스코팅(kiss coating), 와이어바(wire bar)코팅, 콤마(comma)코팅, 나이프(knife)코팅, 딥(dip)코팅, 플로우(flow)코팅, 스프레이코팅과 같은 코팅법으로 도포하고서, 용제 등을 건조시켜 본 발명의 라미네이션용 접착층을 형성할 수 있게 된다. 바람직하기로는 롤코팅과 리버스 롤코팅법이 적합하다.
상기 접착층의 막두께로는, O.1 ~ 20㎛(건조상태) 정도, 바람직하기로는 1 ~ 10㎛이다. 이 접착층을 형성하고 나서 즉시 접합기재를 적층한 후, 30 ~ 1200℃ 에서 수 시간 ~ 수일 간 에이징해서 접착제를 경화시킴으로써 접착되도록 한다. 이 접착제의 도포면은, 기재쪽이나 도전재부쪽 중 어느 쪽이라도 좋다. 바람직하기로는, 조화(粗化)되어 있는 동박 쪽에다 접착제를 도포하는 것이 조면(粗面) 전체에 걸쳐 적층체에 기포가 발생하는 것이 억제될 수 있어서 좋다.
비용해 라미네이션법은, 기본적으로는 드라이 라미네이션법과 마찬가지이지만, 접착제 조성물을 유기용매에 용해 또는 분산시키지 않고 접착제 조성물 그대로를 쓰고, 필요에 따라서는 점도를 저하시키기 위해 접착제 조성물을 가열가온해서 쓰는 경우도 있다.
(점착제)
점착제(粘着劑)로는, 공지의 감압(感壓; pressure sensitive)으로 접착하는 점착제가 적용할 수 있다. 점착제로는 특히 한정되지 않고, 예컨대 천연고무계, 브틸고무나 폴리이소프렌, 폴리이소부틸렌, 폴리클로로프렌, 스티렌-부타디엔 공중합 수지와 같은 합성고무계 수지, 디메틸폴리실록산 등의 실리콘계 수지, 아크릴계 수지, 폴리초산 비닐에틸렌-초산비닐 공중합체 등의 초산비닐계 수지, 우레탄계 수지, 아크릴로니트릴, 탄화수소수지, 알킬페놀 수지, 로진이나 로진트리그리세리드, 수소화로진과 같은 로진계 수지가 적용될 수 있다.
(고무계 점착제)
여기서 고무계 점착제는 클로로프렌고무, 니트릴부타디엔고무, 아크릴고무, 스티렌부타디엔고무, 스티렌이소프렌스티렌, 스티렌부타디엔 스티렌, 스티렌에틸렌부타디엔스티렌, 부틸고무, 폴리이소부틸렌고무, 천연고무, 폴리이소프렌고무와 같은 점착고무의 1가지 또는 복수에다 페놀계 수지, 변성페놀 수지, 케톤수지, 알키드(alkyd)수지, 로진계 수지, 쿠마론(coumarone)수지, 스티렌계 수지, 석유수지, 염화비닐계 수지와 같은 점착부여재를 1가지 또는 복수를 배합한 것이 유효하다.
상기 고무계 점착제는 아크릴계 접착재에 비해 내약품성과 내팽윤성, 내온도성, 점착성 및 박리강도에서 우수하기 때문에, 접착부분이 산성 또는 알칼리성 물질에 노출되어도 박리가 생기지 않는다. 또, 고무계 점착재는 산성 또는 알카리성 용액 중에서 가수분해를 거의 발생시키지 않아 점착수명이 길다.
(점착제층의 형성)
이들 수지 또는 이들의 혼합물을 라텍스, 물분산액, 또는 유기용매액으로 해서, 스크린인쇄 또는 콤마코팅 등의 공지의 인쇄 또는 코팅법으로 인쇄 또는 도포하고서, 필요에 따라 건조시킨 후, 한쪽의 재료와 겹쳐 가압하면 된다.
도 5a 및 도5b는 각각 감는 롤 형태로 해서 가공하는 것을 설명하기 위한 평면도 및 측면도이다.
구체적인 적층방법으로는, 일반적으로 대상(帶狀)으로 연속해서 감겨진 롤(권취롤이라 함)이 사용된다. 도 5a에는 권취롤에서 풀려져 신장(伸長)된 상태에서 전자파차폐용 시트(1)가 일정 간격으로 붙여져 있는 상태가 나타내어져 있다. 도 5b에는 도전재층(109; 금속층(21)을 포함)의 한쪽 면과 기재(11)가 적층되어 있는 것이 나타내어져 있다. 먼저, 권취롤의 도전재층(109)에다 상기 흑화처리층 및 방수층을 형성시키고, 이 방수층에 접착제를 도포해서 건조시킨 후, 기재(11)를 겹쳐 가압하면 된다. 그리고, 필요에 따라 30 ~ 80℃의 분위기에서 수 시간 ~ 수일 간 에이징(양생 및 경화)을 실시하여 권취롤 형태의 적층체로 만든다.
(포토리소그래피법)
이 적층체의 도전재층면에다 레지스트층을 망사패턴 모양으로 형성시키고, 레지스트층으로 덮여지지 않은 부분의 도전재층을 에칭으로 제거한 후, 레지스트층을 제거하는 포토리소그래피법으로 망사모양을 만든다.
(마스킹)
먼저, 기재(11)와 도전재층(109) 적층체의 도전재층(109) 면을 포토리소그래피법으로 망사모양으로 만든다. 이 공정도, 대(帶) 모양으로 연속해서 감겨진 롤형상의 적층체를 가공해 간다. 즉, 이 적층체를 연속적 또는 간헐적으로 반송하면서 느슨해지지 않도록 신장시킨 상태에서 마스킹과 에칭, 레지스트 박리를 실행하게 된다.
마스킹은, 예컨대 감광성 레지스트를 도전재층(109)상에 도포하고서 건조시킨 후, 소정의 패턴(망사의 라인부)판(포토마스크)에 밀착시켜 노광하고, 물에서 현상하고, 경막처리 등을 시행하고, 베이킹을 한다.
레지스트의 도포는, 권취롤 형태의 대상 적층체(기재(11)와 도전재층(109))를 연속 또는 간헐적으로 반송시키면서, 그 도전재층(109) 면에, 카제인, PVA, 제라틴과 같은 감광성 레지스트를 디핑(침치), 커튼코팅, 플로코팅 등의 방법으로 실행한다. 또, 레지스트는 도포가 아닌 드라이필름 레지스트를 사용하여도 좋은 바, 이로써 작업성이 향상될 수 있다. 베이킹은 카제인 레지스트의 경우, 200 ~ 300℃에서 실행하지만, 적층체가 뒤로 휘어지는 것을 막기 위해 될 수 있으면 낮은 온도가 바람직하다.
(에칭)
마스킹을 시행한 후 에칭을 한다. 이 에칭에 쓰이는 에칭액으로는, 에칭을 연속해서 실행하게 되는 본 발명에는, 순환사용이 쉽게 이루어질 수 있는 염화 제2철, 염화 제2동의 용액이 바람직하다. 또, 이 에칭은, 대상으로 연속하는 강재, 특히 두께 20 ~ 80㎛의 박판(薄板)을 에칭하는 컬러 TV 브라운관용 쉐도우마스크를 형성시키는 공정과 기본적으로 마찬가지 공정으로 실행한다. 즉, 당해 쉐도우마스크를 제조하는 기존의 제조설비를 이용할 수 있고, 마스킹에서 에칭까지 일관해서 연속 생산할 수가 있어, 효율이 극히 좋게 된다. 에칭을 한 후에는 수세(水洗), 알카리액에 의한 레지스트 박리와 세정을 하고 나서 건조시키면 된다.
(망사)
망사부(103)는, 라인(107)으로 에워싸인 복수의 개구부(105)로 되어 있다. 개구부(105)의 형상은 특히 한정되지 않고, 예컨대 정3각형, 2등변3각형 등의 3각형, 정방형, 장방형, 마름모꼴, 사다리꼴 등의 4각형, 5각형, 6각형, 8각형 등의 다각형, 원형, 타원형 등이 적용될 수 있다. 이들 개구부의 복수를 조합해서 망사로 한다.
패턴판상(板上)의 망사의 패턴은, 개구율과, 망사의 비시인성(非視認性) 및 화상의 시인성의 관점에서, 망사부(103)의 라인(107)의 직선부의 폭(W; 도 2 참조)이 소정치 ±30%의 범위 내에 있게 그려지도록 한다. 에칭공정에서 라인폭의 볼균일이 생기는 것도 고려해서, 패턴판 상에서는 상기 폭의 분포범위가 ± 30% 이하가 되도록 한다. 바람직하기로는 ± 20% 이하, 보다 더 바람직하기로는 ±10% 이하로 하는 것이 좋다. 이에 더해 다음에 설명되는 바와 같이 에칭공정의 조건을 제어해서, 얻어지는 망사부의 폭을 ±30%의 범위에 들도록 한다. 또, 도 7과 같이, 투명기판과 직교하는 라인(107)의 절단면 형상에서, 윗바닥(107U)과 아랫바닥(107B)을 잇는 곡면측면부(107S)의 곡률반경(r)이 상기 금속층 두께(t)의 1.5 ~ 3.0배(1.5t ≤ r ≤ 3.0t)가 되도록 한다. 바람직하기로는, 망사부(103)의 라인폭(W)의 소정치가 5 ~ 25㎛ 이고, 라인과 라인의 피치가 150 ~ 500㎛ 이 되도록 한다.
일반적으로, 대형의 플라스마 디스플레이 패널에 쓰이는 전자파차폐용 시트에는, 수천 줄 이상의 직선라인이 형성되어 각각 교차하도록 되어 있다. 이들 라인의 라인폭의 불균일을 억제하고, 또 라인절단면의 형상에서의 윗바닥과 아랫바닥을 잇는 곡면측면부의 곡률반경을 규제함으로써, 전자파차폐성과 적당한 투명성을 가져, 망사의 농담얼룩이 적은, 특히 흑색과 백색의 점모양 및 선모양 결점이 적고, 또 표시광의 눈부심이 적으며, 외부광의 반사가 억제되어, 뛰어난 화상의 시인성을 가진 전자파차폐용 시트(1)를 얻을 수 있게 된다.
상기 라인폭의 불균일은, 예컨대 도 2에서의 라인폭(W)을 14㎛로 하면 W = 14 ± 4.2㎛이고, 범위로는 W = 9.8 ~ 18.2㎛이 되는바, 이 범위 내이면 망사의 농담얼룩, 흑색 및/또는 흰색의 점모양 및 선모양 결점이 생기지 않게 된다. 만일, 라인폭에 광협이 있게 되면 망사가 농담얼룩으로 된다. 또 광협이 큰 경우에는, 사람이 디스플레이 화상을 관찰했을 때, 넓은 부분은 흑색점 결점으로 되고, 좁은 부분은 흰색점 결점으로 되어 버린다. 전체의 화상에 대해 흰색점 및/또는 흑점이 있게 되면, 사람에게 극히 강한 위화감을 느끼게 한다.
그러나, 본 발명에 따른 전자파차폐용 시트에 의하면, 연속 포토리소그래피법으로 제조하고, 라인폭의 불균일을 소정의 범위가 되도록 함으로써, 망사의 농담얼룩의 발생이 극히 적고, 더구나 전자파차폐성 및 투명성에도 문제가 없게 된다. 또, 망사의 농담얼룩이나 흑색 및/또는 흰색의 점모양 및 선모양의 결점은, 레지스트 도포시에 레지스트액의 비말(飛沫)이 필요치 않는 부분에 부착하더라도 발생하지만, 연속 포토리소그래피법으로 제조하면 극히 드물게 된다.
또, 라인폭의 제어에서는, 망사부(103)의 외주에 접하는 부분의 외주부 부분을 제외하여도 좋다. 이는 망사부가 끝나 전체면이 금속층(21)으로 이루어진 접지용 프레임(101)으로 되기 때문에 규칙성이 중단되고, 또 라인폭을 접지용 프레임(101)의 내주에 접하는 망사의 외주부에서 접지용 프레임을 향해 점차 폭이 넓어지도록 하는 등의 별개의 목적으로 처치할 수가 있기 때문이다. 상기 외주부로는, 접지용 프레임(101)의 내주에서 망사부의 중심을 향해 1 ~ 50망사 분, 또는 0.15~ 15mm 분, 바람직하기로는 1 ~ 25 망사 분, 또는 O.3 ~ 7.5mm 분의 영역이 그에 해당한다.
이와 같이, 라인의 투명기판과 직교한 라인(107) 절단면의 형상에서의 윗바닥(107U)과 아랫바닥(107B)을 잇는 곡면측면부(107S)의 곡률반경(r)이 상기 금속층 두께의 1.5 ~ 3.0배가 되도록, 또 라인폭(W)이 소정치 ±30%가 되도록 하려면, 레지스트의 종류나 에칭공정의 조건으로 제어를 하게 된다. 예컨대, 레지스트로는 드라이 레지스트나 액상 레지스트를 쓰고서 에칭조건으로 에칭액의 온도를 35℃ 이상으로 하거나, 에칭액으로 염화제2동 또는 염화제2철 수용액을 쓰고서 에칭액의 온도를 35℃ 이상으로 하거나, 에칭액의 스프레이 유속을 2000ml/분 이상으로 하고서 스프레이 노즐을 수평 및 수직방향으로 요동시켜 에칭하는 것이 바람직하다.
또, 곡률반경과 라인폭을 제어함에 있어서는, 앞에서 설명한 패턴판에 대해 선폭의 정밀도를 ± 30% 이하로 설계, 관리하는 외에, 패턴판의 선폭을 얻고자 하는 제품의 라인폭보다 크게 하고서, 될 수 있으면 부식량을 크게 하여 에칭액의 에칭속도를 늦어지게 함으로써, 제어하기가 쉽도록 한다.
한편, 윗바닥과 아랫바닥과를 잇는 곡면측면부의 곡률반경은, 투명기판과 직교한 라인을 마이크로톰(microtome)으로 슬라이스(slice)하고서, 백금-파라디움을 스퍼터링(sputterring)한 후, 그 라인절단면을 2000배의 전자현미경으로 촬영된 사진으로부터 윗바닥 끝과 아랫바닥 끝을 추정한 것이다. 단, 에칭이기 때문에, 곡면의 형상이 반드시 순수 원형으로 되지 않게 되는바, 대략 원형의 원주선이나 사다리꼴 사선(斜線)에 가까운 선으로 되어도 좋다. 단면형상에 근사한 원 반경으로 해서 곡률반경을 구한다.
요컨대 윗바닥 오른쪽 끝과 아랫바닥 오른쪽 끝, 또는 윗바닥 왼쪽 끝과 아랫바닥 왼쪽 끝을 포함한 곡선이, 금속층 두께의 1.5 ~ 3.0배의 곡률반경으로 되면 좋다. 또, 곡률반경은 일정할 필요는 없고, 변화가 있어도 좋은 바, 금속층 두께의 1.5 ~ 3.0배의 범위에 들어있기만 하면 된다.
또, 라인이 전자파차폐용 시트가 도 1에서의 하단부 변과 이루는 바이어스 각이, 도 l의 도시에서는 45°로 예시되어 있으나, 그에 한하지 않고, 모아레(Moire)를 해소하기 위해 디스플레이의 발광특성이나 화소의 병렬 등을 가미해서 적절히 선택하면 된다.
(평탄화)
망사가 형성되면, 망사의 라인(107)은 금속의 두께가 존재하나, 개구부(105)는 금속박(21)이 제거되어 오목부로 되어, 도전재부(109)가 요철모양이 된다. 이 요철은 다음 공정에서 접착제 또는 점착제가 도포되면, 이 접착제 등으로 메워지게 된다. 그러나, 그 때 상기 오목부의 공기가 완전히는 접착제(또는 점착제)와 치환되지 않고 기포로 잔류하기가 쉽다. 이 기포가, 잔류하는 기포와 접착제(또는 점착제)의 경계면에서 광을 산란시켜 탁도(haziness)를 높이게 된다. 이 문제를 방지하기 위해서는, 접착에 앞서 미리 상기 오목부를 투명수지로 충전시켜 평탄화하는 것이 바람직하다.
이와 같은 평탄화로는, 투명수지를 오목부에 도포해서 메우는 것인 바, 투명수지가 오목부 구석구석까지 침입하지 않으면 기포가 남아 투명성이 나빠지게 된다. 그 때문에, 용제 등으로 희석해서 저점도로 만들어 도포하고서 건조시키거나, 공기를 탈기하면서 도포하거나 해서 평탄화층(29)을 형성시킨다.
이 평탄화층(29)은, 투명성이 높고, 망사의 도전재와의 접착성도 좋고, 다음 공정의 접착제와의 접착성이 좋은 것이면 된다. 단, 평탄화층(29)의 표면에 돌기나 오목한 패임, 얼룩이 있으면, 디스플레이 전면에 설치했을 때 모아레, 간섭 얼룩, 뉴턴의 원무늬(Newton ring)가 발생하거나 하기 때문에 바람직하지가 않다. 바람직한 방법으로서는, 수지로서 열경화성 또는 자외선경화수지를 도포한 후, 평면성이 우수하고 박리성(剝離性)이 있는 기재로 적층하고서, 도포수지를 열 또는 자외선으로 경화시켜, 박리성 기재를 박리해서 제거한다. 평탄화층(29)의 표면은, 평면성 기재의 표면이 전사되어 평활한 면이 형성될 수 있게 된다.
상기 평탄화층(29)에 쓰이는 수지로는, 특히 한정되지 않고, 각종의 천연 또는 합성수지, 열 또는 전리방사선경화수지 등이 적용될 수 있으나, 수지의 내구성, 도포성, 평탄화의 용이성, 평면성 등에서 아크릴계의 자외선경화수지가 적합하다.
(NIR 흡수층)
평탄화층(29)에 쓰이는 수지에다 가시 및/또는 근적외선(near-infrared)의 특정한 파장을 흡수하는 광선흡수제를 첨가하여도 좋다. 가시 및/또는 근적외선의 특정파장을 흡수함으로써, 불쾌감이 억제되어 화상의 시인성이 향상되게 된다. 근적외선의 특정파장이라 함은 780 ~ 1200nm 중에서도 특히 800 ~ 1100nm의 파장대역을 말한다. 이 780 ~ 1000nm 파장영역의 80% 이상을 흡수하는 것이 바람직하다. 상기 근적외선 흡수제(NIR 흡수제라 함)로는, 특히 한정되지는 않으나, 근적외선대역에서 급격한 흡수가 있고, 가시광선대역의 광투과성이 높으며, 가시광선대역에서 특정한 파장을 크게 흡수하지 않는 색소 등이 적용될 수 있다. 또, PDP에서 발광하는 가시광선영역으로는, 일반적으로 네온원자의 발광스펙트럼인 오렌지색이 많기 때문에, 570 ~ 605nm 부근을 어느 정도 흡수하는 것이 좋은바, 이를 색보정용 광선흡수제로 쓰도록 한다. 이 근적외선 흡수제로는, 시아닌(cyanine)계 화합물, 프타로시아닌(phthalocyanine)계 화합물, 나프타로시아닌계 화합물, 나프토퀴논(naphthoquinone)계 화합물, 안드라퀴논(anthraquinone)계 화합물, 디티올(dithiol)계 복합체, 암모니움 화합물, 디암모니움 화합물 등을 들 수 있다. 또, 색보정용 광선흡수제로는, 아조(azo)계 화합물, 판타로시아닌계 화합물 등이 쓰이게 된다. 본 실시예에서 비록 평탄화층(29)에 NIR 흡수제가 첨가되었더라도, NIR 흡수제를 함유한 별도의 층(NIR 흡수별층이라 함)을 적어도 한쪽 면에 형성시켜도 좋다.
(NIR 흡수별층)
상기 NIR 흡수층은 평탄화층(29)쪽 및/또는 반대쪽 기재(11)쪽에 형성되는 바, 평탄화층(29)면에 형성되는 경우는 도 1에 도시된 NIR 흡수층(3IB)이고, 기재(11)면에 형성된 경우는 도 1에 도시된 NIR 흡수층(31A)이 그에 해당한다. 이들 NIR 흡수층(31B) 및 NIR 흡수층(31A)은, NIR 흡수제를 가진 시판의 필름(예컨대, 일본국 토요방적의 상품명 No2832)을 접착제로 적층하거나, 앞의 NIR 흡수제를 바인더에다 함유시켜 도포하여도 좋다. 이 바인더로는, 폴리에스텔수지, 폴리우레탄수지, 아크릴수지나, 열 또는 자외선 등으로 경화되는 에폭시, 아크릴레이트, 메타아크릴레이트, 이소시아네이트기(基) 등의 반응을 이용한 경화형 등이 적용될 수 있다.
(AR층)
도시되지는 않았지만, 전자파차폐용 시트의 관찰 쪽에다 반사방지층(Antireflection Layer; AR층이라 함)을 형성시켜도 좋다. 이 반사방지층은 가시광선의 반사를 방지하기 위한 것으로, 단층과 다층으로 구성된 것이 많이 시판되고 있다. 다층으로 된 것은 고굴절률층과 저굴절률층이 교대로 적층된 것으로, 고굴절률층으로는 산화니오븀(niobium oxide), 산화티탄, 산화지르코늄, ITO 등이 있고, 저굴절률층으로는 산화규소물, 불화마그네슘 등이 있다. 또, 외부광을 난반사하는 미세한 요철표면을 가진 층을 가진 것도 있다.
(하드코팅층, 방오층, 방현층)
그리고, 반사방지(AR)층에는, 하드코팅층, 방오층(防汚層), 방현층(防眩層)을 설치하여도 좋다. 하드코팅층(hard coarting layer)은, JIS-K5400의 연필경도시험으로 H 이상의 경도를 가진 층으로, 폴리에스텔아크릴레이트, 우레탄아크릴레이트, 에폭시아크릴레이트 등의 다관능 아크릴레이트를 열 또는 전리방사선으로 경화시킨다. 방오층은, 발수성(撥水性), 발유성(撥油性)의 코팅으로서 실록산(siloxane)계, 불소화 알킬시릴(alkylsilyl)화합물 등이 적용될 수 있다. 방현층은 외부광을 난반사하는 미세한 요철 표면을 가진 층이다.
(절단)
이상과 같이, 연속한 대상의 권취롤 형태로 제조되어 온 부재를 절단해서, 1매씩의 전자파차폐용 시트(1)를 얻게 된다. 이 전자파차폐용 시트(1)를 유리와 같은 투명한 기판에 첩부시키고, 또 필요에 따라 NIR 흡수층, AR층, 하드코팅층, 방오층, 방현층과 조합시켜 디스플레이 전면판(前面板)으로 만든다. 상기 기판으로는, 대형의 디스플레이에는 두께 1 ~ 1Omm의 강성을 가진 것이, 또 캐릭터 표시관 등의 소형 디스플레이에는 두께 O.01 ~ O.5mm의 플라스틱 필름이 사용되는바, 디스플레이의 크기나 용도에 따라 적절히 선택하면 된다. 여기서는, 전자파차폐용 시트(1)를 일단 디스플레이 전면판이 되도록 디스플레이의 전면에다 설치하기 때문에 기재(11)측이 관찰 쪽으로 되어 있으나, 디스플레이의 전면에 직접 첩착하여도 된다.
도 6은, 본 발명의 다른 실시예를 도 2의 A-A선 단면으로 나타낸 단면도이다. 본 실시예는 디스플레이면에 첩착하는 본 발명의 전자파차폐용 시트에 관한 것이다.
(직접첩착)
이 경우에는, 망사모양으로 된 금속층(21)쪽이 관찰 쪽이 되고, 이 금속층 쪽에 적어도 흑화처리층이나 방수층을 필수적으로 형성시키면 된다. 접지용 프레임(101)이 표면에 노출되어 있기 때문에 전극을 꺼내기가 쉬워 접지하기가 쉽다. 또, 이 접지용 프레임(101)이 흑화처리되어 있어 검은색 면이 관찰 쪽으로 되기 때문에, 전면유리판의 액자(額子)형상으로 형성되어 있던 흑색인쇄가 필요하지 않게 됨으로써, 공정이 단축되어 제조비용 면에서 유리하다.
(실험예 1)
도전재로서 표면에 평균입자지름 O.3㎛인 동-코발트 합금입자로 이루어진 흑화처리층 및 크롬산(처리)층으로 이루어진 방수겸 흑화강조층이 순차로 부가된 두께 10㎛의 전해동박의 동-코발트 합금입자면과, 두께가 100㎛의 2축연신 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET)필름 A4300(일본 토요방적의 상품명)을, 2액경화형 폴리우레탄계 접착제로 라미네이트한 후, 56℃에서 4일 간 에이징하였다. 접착제로는 폴리올로 이루어진 주제(主劑)인 타케락 A-310과 이소시아네이트로 이루어진 경화제 A-10(모두 일본국 타케다약품의 상품명)을 쓰고, 도포량은 건조 후의 두께로 7㎛으로 하였다.
포토리소그래피법에 의한 망사의 형성은, 연속한 대 모양으로 마스킹에서 에칭까지 실행함에 있어 컬러TV 쉐도우마스크용 제조라인을 이용하였다. 먼저, 도전재층면 전체에 카제인으로 된 감광성 레지스트를 플로코팅법으로 도포하였다. 다음 스테이션으로 반송해서, 개구부가 정방형이고 라인폭이 22 ±1㎛, 라인간격(피치) 300㎛, 바이어스각도 49°, 접지용 프레임(접지용 전극부)의 폭이 5mm인 패턴판을 써서 고압수은등을 이용해서 밀착노광시켰다. 차례로 스테이션을 반송하면서, 수현상(水現像)을 하고, 경막처리를 하고 나서, 80℃에서 버닝(burning)처리를 하였다.
그리고 다음 스테이션으로 반송하여, 에칭액으로 40℃, 40°보메의 염화제2철 용액을 이용해서, 사이드에칭(side etching) 효과가 있게 하는 스프레이법으로 뿜어 에칭함으로써 망사의 개구부를 형성시켰다. 차례로 스테이션을 반송하면서, 수세하고, 레지스트를 박리하고, 세정한 후, 80℃에서 건조시켜 실험예 1의 전자파차폐용 시트를 얻었다.
(실험예 2)
에칭액으로 35°보메의 염화제2철 용액를 이용하는 외에는 실험예 1과 마찬가지로 해서 실험예 2의 전자파차폐용 시트를 얻었다.
(비교예 1)
레지스트로서는 드라이 레지스트를 이용하고, 에칭액으로는 20°보메(Baume)의 염화제2철 용액을 이용하고, 플로에칭법으로 에칭하는 외에는 실험예 1과 마찬가지로 해서 비교예 1의 전자파차폐용 시트를 얻었다.
(실험예 3)
실험예 1의 망사부에 아래의 조성으로 된 평탄화층 조성물을 도포하고, 두께 50㎛의 SP-PET20-BU(토세로사의 표면이형처리 PET필름 상품명)를 라미네이트한 후, 고압수은등을 이용해서 200 mj/cm2의 노광(365nm 환산)을 하였다. 그리고, SP-PET20-BU를 박리함으로써 망사부가 평탄화된 실험예 3의 전자파차폐용 시트를 얻었다.
평탄화층 조성물로는, N-비닐-2-피롤리돈 20질량부, 디시클로펜테닐 아크릴레이트 25질량부, 올리고에스텔 아크릴레이트(일본국 토아합성 의 M-8060) 52질량부, 1-히드록시시크로헥실 페닐케톤(시바-가이기사의 이루가큐어 184) 3질량부를 사용하였다.
(실험예 4)
실험예 2의 평탄화층 조성물에다 근적외선 흡수제로서 디올-니켈 복합제 1 질량부를 함유시킨 외에는 실험예 2와 마찬가지로 해서 전자파차폐용 시트를 얻었다.
(실험예 5)
실험예 2의 평탄화층면에다 NIR필름 No2832(일본국 동양방적사의 근적외선 흡수필름 상품명)를 점착제로 적층시킨 외에는 실험예 2와 마찬가지로 해서 전자파차폐용 시트를 얻었다.
(실험예 6) (직접첩부)
동-코발트 합금입자의 크롬산(처리)층이 없는 면과, PET필름을 라미네이트하는 것 이외에는 실험예 1과 마찬가지로 하고서, 실험예 3과 마찬가지로 해서 평탄화층을 형성시켜 실험예 6의 전자파차폐용 시트를 얻었다.
(평가)
라인폭 및 라인절단면의 상하폭은, 광학현미경을 가지고 배율 400배로 해서 무작위로 100곳을 측정하였다. 망사의 농담얼룩은 눈으로 관찰하였다. 화상의 시인성은 PDP패널에 탑재시켜 표시화상을 눈으로 관찰하였다. 한편, 곡률반경은 라인절단면의 2000배인 전자현미경사진으로부터 측정하였다.
(결과)
실험예 1에서는, 라인폭이 8 ~ 12㎛으로 소정폭 ± 20%의 범위 내이고, 망사에 농담얼룩짐이 없고, 곡면측면부의 곡률반경이 30㎛(두께의 3.0배)이고, PDP에 표시된 화상에도 눈부심이 없고, 시인성이 양호하였다.
실험예 2에서는, 라인폭이 7 ~ 13㎛으로 소정폭 ±30%의 범위 내이고, 망사에 농담얼룩이 없고, 곡면측면부의 곡률반경이 15㎛(두께의 1.5 )이고, PDP 디스플레이에 표시된 화상에도 눈부심이 없고, 시인성이 양호하였다.
비교예 1에서는, 곡면측면부 곡률반경이 10㎛(두께의 1.0배)이고, PDP디스프레이에 표시된 화상에 눈부심이 있고, 시인성도 나쁜데다, 라인폭이 9 ~ 19㎛으로 소정치 ±33%로 되어 소정치 ± 30%의 범위 밖이고, 망사에 농담얼룩짐도 보였다.
실험예 3 ~ 5의 전자파차폐성 시트를 PDP 패널의 전면에 탑재시켜, 전면을 흰색화상 및 흑색화상을 눈으로 관찰하였더니, PDP 화상에 눈부심이 없고, 흰색 및/또는 흑색의 점모양 또는 선모양 결점도 보이지 않고, 시인성이 뛰어났다.
실험예 6의 전자파차폐성 시트에서는, 기재면을 점착제로 PDP에다 설치하였더니, 표시광이 반사된 미광도 적고, 눈부심도 없고, 화상의 시인성도 양호하고, 또 전극의 인출(引出) 공정수도 줄고, 유리기판에 형성하는 액자 모양의 흑인쇄도 필요치 않았다.
이상 설명한 바와 같이 본 발명에 따른 전자파차폐용 시트에 의하면, 디스플레이 표면에 장치했을 때, 디스플레이에서 발생하는 전자파를 차폐하고, 또 망사의 라인 부분이 비시인성이어서 전자파차폐성 및 투명성의 양 특성을 만족시키고, 또 라인폭이 일정 범위 내에 있기 때문에 농담얼룩이 없고, 디스플레이 화상에 흰색 및/또는 흑색의 점모양, 선모양 결점이 나타나지 않게 된다. 또 망사의 곡면측면부의 곡률반경과 망사 두께와의 관계를 특정범위 내로 하였기 때문에, 화면의 눈부심이 없어 화상을 양호하게 바라볼 수가 있게 된다.

Claims (11)

  1. 투명기재의 한쪽 면에 망사모양 도전재층이 적층된 전자파차폐용 시트에서,
    상기 도전재층 라인의 직선부에서의 폭이 소정치 ±30%의 범위 내인 것을 특징으로 하는 전자파차폐용 시트.
  2. 투명기재의 한쪽 면에 망사모양 도전재층이 적층된 전자파차폐용 시트에서,
    상기 도전재층 라인의 직선부에서 상기 투명기재와 직교한 라인절단면 형상에서 윗바닥과 아랫바닥을 잇는 곡면측면부의 곡률반경이 상기 도전재층 두께의 1.5 ~ 3.0배인 것을 특징으로 하는 전자파차폐용 시트.
  3. 투명기재의 한쪽 면에 망사모양 도전재층이 적층된 전자파차폐용 시트에서,
    상기 도전재층 라인의 직선부에서의 폭이 소정치 ±30%의 범위 내이고, 또 상기 투명기판과 직교한 라인절단면의 형상에서 윗바닥과 아랫바닥을 잇는 곡면측면부의 곡률반경이 상기 도전재층 두께의 1.5 ~ 3.O배인 것을 특징으로 하는 전자파차폐용 시트.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 망사모양 도전재층 외주부의 1 ~ 50 망사 분을 제한 내주부분 또는 O.15 ~ 15mm 분을 제한 내주부분에서, 라인의 직선부에서의 폭이 소정치 ±30% 범위 내인 것을 특징으로 하는 전자파차폐용 시트.
  5. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 도전재층 라인의 직선부에서의 폭이 5 ~ 25㎛이고, 라인과 라인의 피치가 150 ~ 500㎛인 것을 특징으로 하는 전자파차폐용 시트.
  6. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 도전재층이 금속층인 것을 특징으로 하는 전자파차폐용 시트.
  7. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 도전재층의 적어도 한쪽 면에 흑화처리가 된 것을 특징으로 하는 전자파차폐용 시트.
  8. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 도전재층의 적어도 흑화처리면에 방수층(防銹層)이 형성된 것을 특징으로 하는 전자파차폐용 시트.
  9. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 도전재층의 적어도 개구된 오목부가 투명수지로 충전되어, 상기 도전재층의 면이 실질적으로 평탄화상태인 것을 특징으로 하는 전자파차폐용 시트.
  10. 제9항에 있어서, 상기 투명수지가, 가시광선 중의 파장 570 ~ 605nm 대역의 광을 흡수하는 색보정용 광선흡수제 및/또는 근적외선의 파장 800 ~ 1100nm 대역의 광을 흡수하는 근적외선 흡수제를 함유한 것임을 특징으로 하는 전자파차폐용 시트.
  11. 제9항에 있어서, 표면과 이면의 적어도 한쪽 면에, 가시광선 중의 파장 57O ~ 605nm 대역의 광을 흡수하는 색보정용 광선흡수제 및/또는 근적외선의 파장 800 ~ 1100nm 대역의 광을 흡수하는 근적외선 흡수제층이 형성된 것을 특징으로 하는 전자파차폐용 시트.
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100728217B1 (ko) * 2006-02-17 2007-06-13 삼성에스디아이 주식회사 전자파 차폐 필름 및 이를 구비한 플라즈마 디스플레이패널
KR100765373B1 (ko) * 2006-07-19 2007-10-10 엘지전자 주식회사 플라즈마 디스플레이 장치
KR100775837B1 (ko) * 2006-11-06 2007-11-13 엘지전자 주식회사 필터 및 그를 이용한 플라즈마 디스플레이 장치
KR100783645B1 (ko) * 2006-11-06 2007-12-07 엘지전자 주식회사 플라즈마 디스플레이 장치
WO2008020664A1 (en) * 2006-08-18 2008-02-21 Lg Electronics Inc. Filter and plasma display device thereof
KR101329280B1 (ko) * 2006-12-11 2013-11-14 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
KR20180053704A (ko) * 2015-09-16 2018-05-23 세렌가부시키가이샤 도전성 부재

Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20060126433A (ko) * 2003-09-01 2006-12-07 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 플라즈마 디스플레이용 전자파 차폐 필름
JP2005317703A (ja) * 2004-04-28 2005-11-10 Toppan Printing Co Ltd 電磁波遮蔽性積層体の製造方法および電磁波遮蔽性積層体ならびに表示装置
WO2006006527A1 (ja) 2004-07-12 2006-01-19 Dai Nippon Printing Co., Ltd. 電磁波シールドフィルタ
JP4867172B2 (ja) * 2005-01-27 2012-02-01 大日本印刷株式会社 電磁波遮蔽部材
KR100812345B1 (ko) * 2006-03-08 2008-03-11 삼성코닝정밀유리 주식회사 디스플레이 필터 및 이를 포함하는 디스플레이 장치
JP4794325B2 (ja) * 2006-03-09 2011-10-19 株式会社ブリヂストン 光透過性電磁波シールド材の製造方法、光透過性電磁波シールド材、およびディスプレイ用フィルタ
US20080067914A1 (en) * 2006-09-18 2008-03-20 Lg Electronics Inc. Plasma display apparatus and manufacturing method of electromagnetic wave interference blocking filter therefor
KR20080054204A (ko) * 2006-12-12 2008-06-17 삼성코닝정밀유리 주식회사 디스플레이 장치용 복합 필름 및 이를 포함하는 디스플레이장치
CN101606447B (zh) * 2007-02-16 2012-07-04 株式会社东进世美肯 用于屏蔽电磁干扰的过滤器及设置该过滤器的显示器
JP2009200312A (ja) * 2008-02-22 2009-09-03 Dainippon Printing Co Ltd 電磁波シールド材及びその製造方法並びにディスプレイ用フィルター
KR101023903B1 (ko) * 2008-09-17 2011-03-22 경기대학교 산학협력단 음의 유전율을 갖는 전자파 차폐 구조체 및 그 제조방법
DE102008049188A1 (de) * 2008-09-26 2010-04-01 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelektronisches Modul mit einem Trägersubstrat und einer Mehrzahl von strahlungsemittierenden Halbleiterbauelementen und Verfahren zu dessen Herstellung
JP5167181B2 (ja) * 2009-03-25 2013-03-21 大日本印刷株式会社 電磁波遮蔽フィルタ
CN201435309Y (zh) * 2009-05-28 2010-03-31 万德国际有限公司 按键用超薄导电粒
TWI468103B (zh) * 2011-07-01 2015-01-01 Sen Tien Printing Factory Co Ltd 具抗電磁波層之防護薄膜及其製作方法
TWI462662B (zh) * 2013-02-06 2014-11-21 Nanya Plastics Corp 複合式雙面黑色銅箔及其製造方法
CN104898197A (zh) * 2015-04-29 2015-09-09 京东方科技集团股份有限公司 一种导光板及其制备方法、背光模组和显示装置
KR101773928B1 (ko) 2015-06-09 2017-09-01 주식회사 씨에프에이글로벌 광대역 전자기파 차폐용 복합함량 동철합금 시트재
KR102616814B1 (ko) 2018-03-09 2023-12-21 삼성전자주식회사 반도체 패키지 및 반도체 모듈
WO2020070863A1 (ja) * 2018-10-04 2020-04-09 日立化成株式会社 放熱材、放熱材の製造方法、組成物及び発熱体

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3473310B2 (ja) * 1996-07-01 2003-12-02 日立化成工業株式会社 電磁波シールド性と赤外線遮蔽性を有するディスプレイ用フィルム、電磁波遮蔽体及びプラズマディスプレイの製造法
US6086979A (en) 1997-11-11 2000-07-11 Hitachi Chemical Company, Ltd. Electromagnetically shielding bonding film, and shielding assembly and display device using such film
US6054647A (en) * 1997-11-26 2000-04-25 National-Standard Company Grid material for electromagnetic shielding
JP3720557B2 (ja) 1997-12-22 2005-11-30 共同印刷株式会社 電磁波シールド板、その製造方法及びプラズマディスプレイ
AU1686999A (en) 1997-12-24 1999-07-19 Gunze Limited Transparent member for shielding electromagnetic waves and method of producing the same
TW401733B (en) * 1997-12-24 2000-08-11 Gunze Kk The manufacturing method for transparent component used for electromagnetic shielding usage
JP3640547B2 (ja) 1998-11-02 2005-04-20 共同印刷株式会社 電磁波シールド材、プラズマディスプレイ
JP3782250B2 (ja) * 1999-03-31 2006-06-07 共同印刷株式会社 電磁波シールド基材の製造方法
JP2001168574A (ja) 1999-12-10 2001-06-22 Nisshinbo Ind Inc 透視性電磁波シールド材の製造方法
AU2001239923A1 (en) * 2000-02-29 2001-09-12 Thinairapps, Inc. Flexible wireless advertisement integration in wireless software applications
US7031931B1 (en) * 2000-03-30 2006-04-18 Nokia Corporation Portable device attached to a media player for rating audio/video contents
JP2002190692A (ja) 2000-12-22 2002-07-05 Tomoegawa Paper Co Ltd 電磁波シールドシートおよびそれを用いた電磁波シールド製品ならびにそれらの製造方法
CN1288951C (zh) * 2001-03-02 2006-12-06 日立化成工业株式会社 电磁波屏蔽膜、电磁波屏蔽组件及显示器
JP2002368482A (ja) 2001-06-11 2002-12-20 Gunze Ltd 電磁波シ−ルド用部材とその製造方法
US20030017826A1 (en) * 2001-07-17 2003-01-23 Dan Fishman Short-range wireless architecture

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100728217B1 (ko) * 2006-02-17 2007-06-13 삼성에스디아이 주식회사 전자파 차폐 필름 및 이를 구비한 플라즈마 디스플레이패널
KR100765373B1 (ko) * 2006-07-19 2007-10-10 엘지전자 주식회사 플라즈마 디스플레이 장치
WO2008020664A1 (en) * 2006-08-18 2008-02-21 Lg Electronics Inc. Filter and plasma display device thereof
KR100775837B1 (ko) * 2006-11-06 2007-11-13 엘지전자 주식회사 필터 및 그를 이용한 플라즈마 디스플레이 장치
KR100783645B1 (ko) * 2006-11-06 2007-12-07 엘지전자 주식회사 플라즈마 디스플레이 장치
US7710036B2 (en) 2006-11-06 2010-05-04 Lg Electronics Inc. Filter and plasma display device
KR101329280B1 (ko) * 2006-12-11 2013-11-14 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
KR20180053704A (ko) * 2015-09-16 2018-05-23 세렌가부시키가이샤 도전성 부재

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Publication number Publication date
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