JP4867172B2 - 電磁波遮蔽部材 - Google Patents

Description

本発明は電磁波遮蔽部材に関し、更に詳しくは、光透過性の高い電磁波遮蔽部材に関する。

今日では、種々の電子機器が必需品となっている。これらの電子機器の動作時には、程度の差こそあれ必ず電磁波が放射され、その強度が強い場合には周辺の電子機器が誤作動を起こしたり、人体に弊害を及ぼしたりする。このため、電子機器から放射された電磁波が周囲に及ばないようにするために、あるいは、電磁波から電子機器又は人体を保護するために、種々の電磁波遮蔽材料ないし電磁波遮蔽部材が開発されている。

電磁波は導電性材料により遮蔽することが可能である。電磁波遮蔽材料や電磁波遮蔽部材が光透過性を有しているか否かは電磁波の遮蔽と無関係であるが、例えばプラズマディスプレイパネルのような表示装置では、表示面から放射される電磁波が周囲に及ばないように遮蔽することが望まれるので、このような用途の電磁波遮蔽部材については、電磁波遮蔽性能に加えて、高い光透過性が要求される。

高い光透過性を有する電磁波遮蔽部材としては、例えば特許文献１に記載された電磁波遮蔽部材が知られている。この電磁波遮蔽部材では、メッシュ状に成形された金属薄膜（以下、「メッシュ状金属層」という。）が接着剤又は粘着剤を介して透明なフィルム基材上に積層されている。

上記のメッシュ状金属層は、例えば、透明なフィルム基材上に接着剤又は粘着剤を介して金属箔を積層し、その後、この金属箔をメッシュ状にパターニングすることによって形成される。金属箔は比較的厚いので、メッシュ状に成形しても充分な導電性を確保し易く、結果として、電磁波遮蔽性能の高い電磁波遮蔽部材を得易い。また、金属箔がメッシュ状に成形されているので、メッシュの目に相当する領域が光透過部として機能し、高い光透過性を得易い。

ただし、金属箔の表面が比較的粗いことから、金属箔の接合に用いた接着剤又は粘着剤のうちでその後に金属箔がパターニングにより除去されて光透過部となった領域は、金属箔の表面形状が表面に転写された粗面領域として残り、光透過性を低下させる一因となる。また、メッシュ状金属層の側面での光の乱反射は、電磁波遮蔽部材の光透過性を低下させる要因となる。このため、必要に応じて、メッシュ状金属層及び各光透過部を被覆するようにして透明樹脂からなる平坦化層が形成される。また、平坦化層の表面の平坦性が低いと、この電磁波遮蔽部材を表示装置上に配置したときにモワレ、干渉ムラ等が生じることから、表面の平坦性が高い平坦化層を形成するために、透明樹脂を硬化させる前にその上に平面性に優れた基材等をラミネートし、透明樹脂の硬化後（平坦化層の形成後）に前記平面性に優れた基材等が剥離される。
特開２００２−３１１８４３号公報（特許請求の範囲、第００３０段、及び第００６０段参照）

しかしながら、特許文献１に記載された電磁波遮蔽部材では、材料として用いる金属箔が前述のように比較的厚いので、メッシュ状金属層及び各光透過部を被覆するようにして平坦化層形成用の透明樹脂を塗工すると、得られる平坦化層の表面に大きな凹凸が生じ易い。電磁波遮蔽部材の表面に大きな凹凸があると、光透過性や、電磁波遮蔽部材を通して視認される像の鮮明度（以下、単に「像鮮明度」という。）が高い電磁波遮蔽部材を得ることが困難になる。

また、透明樹脂の硬化前にその上に平面性に優れた基材等をラミネートし、透明樹脂の硬化後（平坦化層の形成後）に前記平面性に優れた基材等を剥離するという手法は、表面の平坦性が高い平坦化層を得るうえで有用なものではあるが、上記の基材は最終的に電磁波遮蔽部材の構成部材とならないものであるので、この手法には電磁波遮蔽部材の製造コストが上昇するという問題がある。

本発明は、上記の事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、光透過性及び像鮮明度がそれぞれ高いものを製造コストを抑えつつ得ることが容易な電磁波遮蔽部材を提供することにある。

上記の目的を達成する本発明の電磁波遮蔽部材は、透明基材と、該透明基材上に形成されて多数の光透過部を平面視上画定するメッシュ状金属層と、透明樹脂により形成されて前記メッシュ状金属層及び前記多数の光透過部を被覆する硬化塗膜とを有し、前記硬化塗膜のうちで前記メッシュ状金属層上に位置する領域は、前記光透過部の平面視上の中央部に位置する領域よりも盛り上がって隆起部を形成しており、前記メッシュ状金属層の細線部上での前記隆起部の平均傾斜角度が１０°以下であることを特徴とする（以下、この電磁波遮蔽部材を「電磁波遮蔽部材Ｉ」ということがある。）。

上記の目的を達成する本発明の電磁波遮蔽部材は、透明基材と、該透明基材上に形成されて多数の光透過部を平面視上画定するメッシュ状金属層と、透明樹脂により形成されて前記メッシュ状金属層及び前記多数の光透過部を被覆する硬化塗膜とを有し、前記硬化塗膜のうちで前記メッシュ状金属層上に位置する領域は、前記光透過部の平面視上の中央部に位置する領域よりも盛り上がって隆起部を形成しており、前記隆起部が形成された前記メッシュ状金属層の細線部上での前記硬化塗膜の最大膜厚の平均値が１〜２０μｍの範囲内にあり、且つ、前記メッシュ状金属層の細線部での前記隆起部の平均傾斜角度が２°以上１０°以下であり、ＪＩＳＫ７１０５（１９８１）に従って測定した像鮮明度が、２６１以上３８９以下であることを特徴とする（以下、この電磁波遮蔽部材を「電磁波遮蔽部材Ｉ」ということがある。）。

なお、本発明でいう「メッシュ状金属層の細線部」とは、メッシュ状金属層のうちで、他の方向に分岐することなく一方向に延びている領域を意味する。

本発明の電磁波遮蔽部材Ｉにおいては、（１）前記メッシュ状金属層が、前記透明基材上に接合剤により接合されている（以下、この電磁波遮蔽部材を「電磁波遮蔽部材II」ということがある。）こと、が好ましい。

本発明の電磁波遮蔽部材Ｉにおいては、前記メッシュ状金属層が、前記透明基材上に設けられた接合剤層により接合され、該接合剤層と前記透明基材との屈折率差（測定波長５８７．６ｎｍ）が０．２以下である（以下、この電磁波遮蔽部材を「電磁波遮蔽部材II」ということがある。）こと、が好ましい。

本発明の電磁波遮蔽部材Ｉ及び電磁波遮蔽部材IIのいずれにおいても、（２）前記透明樹脂が鎖状構造を有している（以下、この電磁波遮蔽部材を「電磁波遮蔽部材III」 ということがある。）こと、又は、（３）前記透明樹脂が架橋構造を有している（以下、この電磁波遮蔽部材を「電磁波遮蔽部材IV」ということがある。）こと、とすることができる。

本発明の電磁波遮蔽部材Ｉ及び電磁波遮蔽部材IIのいずれにおいても、前記透明樹脂が架橋構造を有している（以下、この電磁波遮蔽部材を「電磁波遮蔽部材IV」ということがある。）こと、とすることができる。

本発明の電磁波遮蔽部材Ｉ〜IVにおいては、前記透明樹脂のガラス転移点が３０〜１５０℃の範囲内である（以下、この電磁波遮蔽部材を「電磁波遮蔽部材Ｖ」ということがある。）こと、又は、前記硬化塗膜の塗工量が７〜２５ｇ／ｍ ^２ の範囲内であり、該硬化塗膜の表面の十点平均粗さ（Ｒｚ）が０．０５〜７μｍの範囲内である（以下、この電磁波遮蔽部材を「電磁波遮蔽部材VI」ということがある。）こと、が好ましい。

本発明の電磁波遮蔽部材VIによれば、メッシュ状金属層の細線部上での硬化塗膜の最大膜厚が上記の範囲内にあるので、硬化塗膜による光の吸収を抑えつつ、硬化塗膜の表面での光の乱反射、及び電磁波遮蔽部材でのいわゆる虹ムラの発生を抑えることが容易になり、結果として、高い光透過性を保ちつつ高い像鮮明度を得ることが更に容易になる。

本発明の電磁波遮蔽部材Ｉ〜VIにおいては、（６）前記硬化塗膜に赤外線吸収剤が含有されている（以下、この電磁波遮蔽部材を「電磁波遮蔽部材VII」 ということがある。）こと、が好ましい。

本発明の電磁波遮蔽部材Ｉ〜VIにおいては、前記硬化塗膜に赤外線吸収剤が含有されている（以下、この電磁波遮蔽部材を「電磁波遮蔽部材VII」ということがある。）こと、が好ましい。

本発明の電磁波遮蔽部材によれば、製造コストを抑えつつ光透過性及び像鮮明度が高い電磁波遮蔽部材を得ることが容易になるので、プラズマディスプレイパネルのような表示装置の表示面から放射される電磁波を、視認される映像の画質の低下を抑制しつつ遮蔽することが可能な電磁波遮蔽部材を安価に提供することが容易になる。

図１（ａ）は、本発明の電磁波遮蔽部材の一例を概略的に示す部分切欠き平面図であり、図１（ｂ）は、図１（ａ）に示したＩ−Ｉ線断面の概略図である。これらの図に示した電磁波遮蔽部材２０は、透明基材１と、接合剤５により透明基材１上に接合されたメッシュ状金属層１０と、透明樹脂により形成された硬化塗膜１５とを有している。以下、これらの部材毎に詳述し、その後、電磁波遮蔽部材の変形例について説明する。

（１）透明基材；
透明基材１は、メッシュ状金属層１０を支持するためのものである。この透明基材１としては、ガラス基板や透明樹脂基板のように可撓性に乏しい透明なリジッド材を用いることも可能であるが、電磁波遮蔽部材２０の設置場所の選択の自由度を高めるという観点から、あるいは、電磁波遮蔽部材２０の生産性を高めるという観点からは、ガラスシート、透明樹脂シート、又は透明樹脂フィルムのように可撓性に富んだものを用いることが好ましい。

透明基材１の材質は、電磁波遮蔽部材２０の用途や許容される生産コスト等に応じて適宜選択可能である。また、透明基材１の光透過率についても、電磁波遮蔽部材２０の用途に応じて適宜選択可能である。例えば、電磁波遮蔽部材２０が表示装置の表示面上に配置されるものである場合には、透明基材１として、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、アクリル樹脂、環状ポリオレフィン、トリアセチルセルロース、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルケトン等により形成された膜厚１２〜３００μｍ程度、可視光透過率（全光線透過率）８０％程度以上のフィルムないしシートを用いることが好ましい。

（２）接合剤；
接合剤５は、メッシュ状金属層１０を金属箔のパターニングによって形成する際に、前記の金属箔をドライラミネーション法やウェットラミネーション法等によって透明基材１上に接合させるためのもの、あるいは、所望の金属箔をメッシュ状にパターニングした後にドライラミネーション法やウェットラミネーション法等によって透明基材１上に接合させるためのものである。この接合剤５は、図示のように、透明基材１上に層を形成しているので、以下、「接合剤層５」という。接合剤層５は、実用上充分な接合強度、耐エッチング特性、及び耐光性を有していることが好ましい。

この接合剤層５の具体例としては、アクリル系、エステル系、ウレタン系、フッ素系、ポリイミド系、エポキシ系、又はポリウレタンエステル系等の熱硬化型もしくは光硬化型の接着剤、あるいは、主成分としてメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、又は２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート等を含有したアクリル系粘着剤によって形成された層が挙げられる。なお、本明細書でいう「（メタ）アクリレート」とは、アクリレート及びメタアクリレートの双方を意味する。

接合剤層５の膜厚は、使用する接合剤の種類に応じて、０．５〜５０μｍ程度の範囲内で適宜選定可能である。接合剤層５により透明基材１上に接合された金属箔をウェットエッチングによってパターニングしてメッシュ状金属層１０とする場合には、接合剤層５がエッチングストッパとしても機能するように、その種類及び膜厚を選定することが好ましい。光透過性及び像鮮明度がそれぞれ高い電磁波遮蔽部材２０を得るうえからは、接合剤層５と透明基材１との屈折率差を小さくすることが好ましく、波長５８７．６ｎｍの光を測定光としたときの屈折率差で０．２程度以下、更には０．１以下とすることが好ましい。

なお、メッシュ状金属層１０は、その母材となる金属層を例えば蒸着法により透明基材１上に形成し、この金属層をパターニングすることによっても、あるいは、所定形状のマスクを介して所望の金属を透明基材１上に蒸着させることによっても、形成可能である。これらの場合には接合剤層５を省略することも可能である。

（３）メッシュ状金属層；
メッシュ状金属層１０は、電磁波遮蔽部材２０の光透過性を高く保ちつつ電磁波を遮蔽するための部材であり、平面視上、透明基材１に多数の光透過部１２を画定している。個々の光透過部１２の平面形状は、例えば三角形、四角形、六角形等、適宜選定可能である。本形態の電磁波遮蔽部材２０での各光透過部１２の平面形状は、四角形である。メッシュ状金属層１０のうち、光透過部１２の辺を平面視上画定する領域それぞれが細線部１０ａである。以下、４つの細線部１０ａそれぞれの基点となっている領域を「交差部１０ｂ」という。

このメッシュ状金属層１０は、例えば銅、鉄、ニッケル、クロム、アルミニウム、金、銀、ステンレス、タングステン、クロム、チタン等の金属により形成することができる。光透過性及び電磁波遮蔽性能が共に高い電磁波遮蔽部材２０を低コストの下に得るという観点からは、銅のように安価で、表面反射率が低く、かつ導電性の高い金属によってメッシュ状金属層１０を形成することが好ましい。電磁波遮蔽性能が高い電磁波遮蔽部材２０を低コストの下に製造するうえからは、所望の金属箔を上述した接合剤層５により透明基材１上に接合し、この金属箔をウェットエッチングによって所望形状にパターニングしてメッシュ状金属層１０とするか、所望の金属箔をメッシュ状にパターニングした後に接合剤層５により透明基材１上に接合してメッシュ状金属層１０とすることが好ましい。金属箔としては圧延箔や電解箔を用いることができるが、低コストであるという観点からは圧延箔が好ましい。

メッシュ状金属層１０の開口率（メッシュ状金属層１０の平面視上の面積と光透過部１２の平面視上の総面積との和に占める光透過部１２の平面視上の総面積の百分率を意味する。）を７０％程度以上にすることにより、光透過性の高い電磁波遮蔽部材２０を得易くなる。このとき、細線部１０ａの平面視上の平均線幅は２０μｍ程度以下、特に１５μｍ以下とすることが好ましい。

一方、電磁波遮蔽部材２０の電磁波遮蔽性能を高めるという観点からは、メッシュ状金属層１０の導電性を高めることが好ましいので、当該メッシュ状金属層１０の材質にもよるが、その平均膜厚を５〜３０μｍ程度、好ましくは５〜１５μｍ程度とし、かつ、細線部１０ａでの平面視上の平均線幅を５μｍ以上とすることが望ましい。

電磁波遮蔽部材２０が表示装置の表示面上に配置されるものである場合には、電磁波遮蔽部材２０の光透過性を高めることの他に、電磁波遮蔽部材２０の像鮮明度を高めることが望まれる。電磁波遮蔽部材２０の像鮮明度を高めるという観点からは、メッシュ状金属層１０の表面の十点平均粗さ（Ｒｚ）を０．１μｍ程度以上、特に０．５μｍ程度以上とすることが好ましい。メッシュ状金属層１０の表面が鏡面であると、メッシュ状金属層１０の表面で反射した外光が視認され易くなる結果として、電磁波遮蔽部材２０の像鮮明度が低下する。十点平均粗さ（Ｒｚ）の値が３μｍを超えると、メッシュ状金属層１０を透明基材１上に接合させる際に両者の界面に気泡が残り易くなり、適切な接合が困難になる。

また、メッシュ状金属層１０の上下面のうちで、又はメッシュ状金属層１０の母材の上下面のうちで、少なくとも電磁波遮蔽部材２０を表示面上に配置したときに外側にくる面に、クロメート処理等の方法により黒化処理を施しておくことによっても、電磁波遮蔽部材２０の像鮮明度を高めることができる。

例えば、十点平均粗さ（Ｒｚ）が０．１〜３μｍ程度の銅箔をメッシュ状金属層１０の母材として用い、かつ、各光透過部１２の平面形状を四角形とする場合には、メッシュ状金属層１０の平均膜厚を５〜１５μｍ程度、細線部１０ａでの平面視上の平均線幅を５〜１５μｍ程度とし、さらに、各光透過部１２の平面視上の大きさを１５０〜４００μｍ□程度とすることにより、電磁波遮蔽性能、光透過性、及び像鮮明度がそれぞれ高い電磁波遮蔽部材２０を得ることが容易になる。

（４）硬化塗膜；
硬化塗膜１５は、本発明において最も特徴的な構成要素であり、透明樹脂により形成されてメッシュ状金属層１０及び各光透過部１２を被覆している。この硬化塗膜１５のうちでメッシュ状金属層１０上に位置する領域は、図１（ａ）及び図１（ｂ）に示すように、光透過部１２の平面視上の中央部に位置する領域よりも盛り上がって隆起部１５ａを形成している。

隆起部１５ａは、メッシュ状金属層１０が比較的厚膜であることから、硬化塗膜１５の膜厚をできるだけ薄くしてメッシュ状金属層１０及び各光透過部１２を被覆しようとしたときに不可避的に生じる。硬化塗膜１５の膜厚を厚くすれば隆起部１５ａの形成を抑制することが可能であるが、硬化塗膜１５の膜厚を厚くすればする程、当該硬化塗膜１５での吸収光量が増大し、電磁波遮蔽部材２０の光透過性や像鮮明度が低下する。また、１回の塗工で硬化塗膜１５を形成することが困難になる。

硬化塗膜１５に隆起部１５ａが形成されている場合、メッシュ状金属層１０の交差部１０ｂ上での隆起部１５ａの最大膜厚は、通常、メッシュ状金属層１０の細線部１０ａ上での隆起部１５ａの最大膜厚よりも厚くなる。隆起部１５ａは、各交差部１０ｂ上においては微小な凸レンズとして機能する。このため、電磁波遮蔽部材２０を透過した光の発散、収束の度合いは、メッシュ状金属層１０の細線部１０ａの近傍、メッシュ状金属層１０の交差部１０ｂの近傍、及び光透過部１２の平面視上の中央部とで互いに相違する。この相違が大きいと、電磁波遮蔽部材２０にいわゆる虹ムラ等が生じて像鮮明度が低下する。

しかしながら、電磁波遮蔽部材２０では、細線部１０ａ上での隆起部１５ａの平均傾斜角度が１０°以下に抑えられているので、上記の相違が小さい。そのため、電磁波遮蔽部材２０では高い像鮮明度が得られる。ここで、本発明でいう「細線部上での硬化塗膜の平均傾斜角度」とは、次のようにして求めた平均傾斜角度を意味する。

まず、図２に示すように、電磁波遮蔽部材２０について、細線部１０ａの長手方向と直交する方向の断面をとり、光透過部１２の平面視上の中央部での硬化塗膜１５の上面を基準にして、細線部１０ａ上での硬化塗膜１５（隆起部１５ａ）の頂部Ｐの高さＬ１を測定する。また、頂部Ｐを通る垂線ＶＬ（ただし、透明基材１の表面に対する垂線を意味する。）を仮想的に引いて、この垂線ＶＬ上において頂部Ｐからの距離がＬ１の９０％に相当する点Ｂを求める。図２においては、頂部Ｐと点Ｂとの距離をＬ２で表している。次いで、透明基材１の表面に水平で点Ｂを通る水平線ＨＬを仮想的に引き、この水平線ＨＬと硬化塗膜１５（隆起部１５ａ）の斜面との交点Ｃ１、Ｃ２を求めて、点Ｂと点Ｃ１との距離Ｌ３、及び点Ｂと点Ｃ２との距離Ｌ４を測定する。この後、tanθ１＝Ｌ２／Ｌ３とし、tanθ２＝Ｌ２／Ｌ４として求めたθ１とθ２との平均値Ａｖを求める。同様にして、任意に抽出した複数の細線部１０ａ上での硬化塗膜１５（隆起部１５ａ）について平均値Ａｖを求める。これらの平均値Ａｖの算術平均が、本発明でいう「細線部上での硬化塗膜の平均傾斜角度」である。なお、図２においては、便宜上、ハッチングを省略している。

このような硬化塗膜１５は、鎖状構造を有する透明樹脂によって形成することもできるし、架橋構造を有する透明樹脂によって形成することもできる。具体的には、（ｉ）溶剤を揮散させるだけで固化する溶剤希釈型透明樹脂組成物、（ii）加熱することによって重合反応ないし架橋反応が進行して硬化する熱硬化型透明樹脂組成物、又は、（iii） 電磁波の照射によって重合反応ないし架橋反応が進行して硬化する透明樹脂組成物（以下、本明細書においてはこの透明樹脂組成物を「光硬化型透明樹脂組成物」という。）を用いて形成することができる。本明細書においては、溶剤希釈型透明樹脂組成物の溶剤を揮散させることでこの溶剤希釈型透明樹脂組成物を固化させて得た塗膜も「硬化塗膜」に含まれるものとする。

上記の溶剤希釈型透明樹脂組成物の具体例としては、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリウレタン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリイミド系樹脂等を溶剤で希釈したものが挙げられる。

また、上記の熱硬化型透明樹脂組成物の具体例としては、重合又は架橋によりアクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリウレタン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリイミド系樹脂になるもの等が挙げられる。

そして、上記の光硬化型透明樹脂組成物としては、モノマー成分とオリゴマー成分とを少なくとも含有しているものが好ましい。モノマー成分の具体例としては、（Ａ）酢酸ビニル、スチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等のビニルモノマー、（Ｂ）ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、ｎ−ヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ｎ−デシルアクリレート、イソボルニルアクリレート、ジシクロペンテニロキシエチルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート等の単官能アクリレート系モノマー、（Ｃ）１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリエチレングリコール４００ジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ビスフェノールＡジエトキシジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ヒドロキシビバリ酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の多官能アクリレート系モノマー、などが挙げられる。また、オリゴマー成分の具体例としては、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、シリコンアクリレート、ポリブタジエンアクリレート、不飽和ポリエステル、ポリエン／チオール、ポリスチリルメタクリレート等が挙げられる。

なお、溶剤希釈型透明樹脂組成物及び熱硬化型樹脂組成物それぞれの具体例についての説明の中で挙げたフッ素系樹脂としては、例えば、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンとヘキサフルオロプロピレンとの共重合体、テトラフルオロエチレンとペルフルオロアルキルビニルエーテルとヘキサフルオロプロピレンとの三元共重合体、テトラフルオロエチレンとエチレンもしくはプロピレンとの共重合体、エチレンとクロロトリフルオロエチレンとの共重合体、ペルフルオロアルコキシ樹脂、フッ化ビニリデン系樹脂、フッ化ビニル系樹脂等を例示することができる。同様に、上記のポリイミド系樹脂としては、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド等を例示することができる。

また、熱硬化型透明樹脂組成物及び光硬化型透明樹脂組成物には、それぞれ、重合開始剤及び増感剤の少なくとも一方を必要に応じて含有させることができる。例えば、光硬化型透明樹脂組成物に含有させる重合開始剤（光重合開始剤）の具体例としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、４，４−ビスジメチルアミノベンゾフェノン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−ジメトキシ−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、アゾビスイソブチルニトリル、２−クロロチオキサンソン、２，４−ジエチルチオキサンソン、２，４−ジイソプロピルチオキサンソン、３，３−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、２，４−ジメチルチオキサンソン、メチルベンゾイルフォーメート、３，３，４，４−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン等が挙げられ、増感剤の具体例としては、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、トリエチル−ｎ−ブチルホスフィン、ジエチルアミノエチルメタクリレート、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソブチル、２−ジメチルアミノエチルベンゾエート等が挙げられる。

硬化塗膜１５の材料として溶剤希釈型透明樹脂組成物、熱硬化型透明樹脂組成物、及び光硬化型透明樹脂組成物のいずれを用いる場合でも、光透過性及び像鮮明度が高い電磁波遮蔽部材２０を得るという観点からは、硬化塗膜１５と接合剤層５との界面での反射を抑えるために、波長５８７．６ｎｍの光を測定光としたときの屈折率差が０．２程度以下、更には０．１以下となるよう、その材料を選定することが好ましい。硬化塗膜１５と接合剤層５との屈折率差が上記の値程度以下であれば、メッシュ状金属層１０の材料として用いた金属箔の表面の凹凸が光透過部１２内の接合剤層５の表面に転写されていたとしても、この表面と硬化塗膜１５との界面での光の反射が抑制されるので、光透過性及び像鮮明度の高い電磁波遮蔽部材２０を得易くなる。同様の理由から、電磁波遮蔽部材２０が接合剤層５を有していない場合には、硬化塗膜１５と透明基材１との屈折率差を上記の値程度以下とすることが好ましい。

硬化塗膜１５による光の吸収を抑えつつ、硬化塗膜１５の表面での光の乱反射、及び電磁波遮蔽部材２０でのいわゆる虹ムラの発生を抑えるうえからは、メッシュ状金属層１０の細線部１０ａ上での硬化塗膜１５の最大膜厚の平均値（以下、この平均値を「平均値Ｉ」と略記する。）を１〜２０μｍ程度の範囲内にしつつ、前述した平均傾斜角度（以下、この平均傾斜角度「平均傾斜角度Ｉ」と略記する。）を１０°以下にすることが好ましい。

上記の平均値Ｉが２０μｍ程度より大きくなると、硬化塗膜１５による吸収光量が多くなって、電磁波遮蔽部材２０の光透過性が低下することがある。また、硬化塗膜１５の材料として溶剤を含有した透明樹脂組成物を用いたときには、硬化塗膜１５中の残留溶剤量が多くなって当該硬化塗膜１５に浮きやクラックが発生し易くなり、結果として、電磁波遮蔽部材２０の光透過性や像鮮明度が低下し易くなる。硬化塗膜１５の材料として溶剤希釈型透明樹脂組成物、熱硬化型透明樹脂組成物、及び光硬化型透明樹脂組成物のいずれを用いる場合でも、上記の平均値Ｉは、１〜１５μｍ程度の範囲内とすることが更に好ましい。

溶剤希釈型透明樹脂組成物を用いて平均値Ｉ及び平均傾斜角度Ｉがそれぞれ上記の範囲にある硬化塗膜１５を１回の塗工で効率よく形成しようとする場合には、その２３℃での粘度を０．０１〜１０Ｐａ・ｓ程度の範囲内とし、その塗工量（ただし、硬化（固化）後の塗工量を意味する。）を１０〜３５ｇ／ｍ^２ 程度の範囲内で適宜選定することが好ましい。上記の粘度は０．０３〜１Ｐａ・ｓ程度の範囲内とすることが更に好ましく、上記の塗工量は１５〜２５ｇ／ｍ^２ 程度の範囲内で適宜選定することが更に好ましい。

上記の粘度条件を満たす溶剤希釈型透明樹脂組成物は、例えば、数平均分子量が１千〜３０万程度の透明樹脂を固形分量が１５〜３５wt％程度の範囲内となるように溶剤で希釈することによって、得ることができる。このとき、透明樹脂の数平均分子量は５千〜１５万程度の範囲内であることが好ましく、固形分量は１５〜３０wt％程度の範囲内とすることが好ましい。

また、熱硬化型透明樹脂組成物を用いて平均値Ｉ及び平均傾斜角度Ｉがそれぞれ上記の範囲にある硬化塗膜１５を１回の塗工で効率よく形成しようとする場合には、その２３℃での粘度を０．０１〜２Ｐａ・ｓ程度の範囲内とすることが好ましく、その塗工量（ただし、硬化後の塗工量を意味する。）を１０〜５０ｇ／ｍ^２ 程度の範囲内で適宜選定することが好ましい。上記の粘度は０．０５〜０．２Ｐａ・ｓ程度の範囲内とすることが更に好ましく、上記の塗工量は１０〜２５ｇ／ｍ^２ 程度の範囲内で適宜選定することが更に好ましい。

そして、光硬化型透明樹脂組成物を用いて平均値Ｉ及び平均傾斜角度Ｉがそれぞれ上記の範囲にある硬化塗膜１５を１回の塗工で効率よく形成しようとする場合には、その２３℃での粘度を０．０３〜５Ｐａ・ｓ程度の範囲内とすることが好ましく、その塗工量（ただし、硬化後の塗工量を意味する。）を１０〜３５ｇ／ｍ^２ 程度の範囲内で適宜選定することが好ましい。上記の粘度は０．０５〜１Ｐａ・ｓ程度の範囲内とすることが更に好ましく、上記の塗工量は１５〜２５ｇ／ｍ^２ 程度の範囲内で適宜選定することが更に好ましい。

上記の粘度条件を満たす熱硬化型透明樹脂組成物及び光硬化型透明樹脂組成物は、それぞれ、例えばモノマー含量又は溶剤含量を適宜調整することによって得ることができる。

硬化塗膜１５の材料として溶剤希釈型透明樹脂組成物、熱硬化型透明樹脂組成物、及び光硬化型透明樹脂組成物のいずれを用いる場合でも、当該透明樹脂組成物の粘度を上述の範囲内とすることにより、硬化塗膜１５の形成時に、メッシュ状金属層１０における透明基材１側の基部と接合剤層５（接合剤層５が省略されている場合には透明基材１）とが形成する角部に気泡が残ることも容易に抑制することができる。

光透過性及び像鮮明度が高い電磁波遮蔽部材２０を得るという観点からは、硬化塗膜１５の表面の十点平均粗さ（Ｒｚ）を０．０５〜７μｍ程度とすることも好ましい。この十点平均粗さ（Ｒｚ）が上記の範囲から外れると硬化塗膜１５の表面での反射光量が増大して、あるいは、硬化塗膜１５の表面での乱反射が大きくなって、電磁波遮蔽部材２０の像鮮明度が低くなることがある。硬化塗膜１５の表面の十点平均粗さ（Ｒｚ）は、０．１〜５μｍ程度の範囲内とすることが更に好ましい。この十点平均粗さ（Ｒｚ）が上述の範囲内であれば、硬化塗膜１５上に他の部材を貼付する場合でも、両者の界面に気泡が残りにくくなる。

硬化塗膜１５の材料として溶剤希釈型透明樹脂組成物を用いる場合、十点平均粗さ（Ｒｚ）が上述の範囲内にある硬化塗膜１５は、例えば、塗膜を温度５０〜１３０℃、風速２〜２０ｍ／秒の熱風により１〜３分かけて乾燥することにより得ることができる。このとき、残留溶剤量をできるだけ少なくすることにより、良好な硬化塗膜１５を得易くなる。硬化塗膜１５での残留溶剤量を少なくするためには、熱風の温度及び風速を段階的に上げて、塗膜表面があまりにも早期に乾燥してしまうのを防止することが好ましい。例えば、初期には温度５０〜７０℃、風速２〜５ｍ／秒の熱風により乾燥し、塗膜表面が乾燥した段階で温度１００〜１３０℃、風速１０〜２０ｍ／秒の熱風により更に乾燥すると、残留溶剤が無いか、又は少ない良好な硬化塗膜１５を得ることができる。

また、硬化塗膜１５の材料として熱硬化型透明樹脂組成物又は光硬化型透明樹脂組成物を用いる場合でも、これらの透明樹脂組成物に溶剤が含有されている場合には、上記の乾燥条件と同様の条件の下に溶剤を揮散させてから、加熱により、又は電磁波の照射により重合反応もしくは架橋反応を進行させることが好ましい。熱硬化型透明樹脂組成物を硬化させるにあたっては、温度４０℃〜６０℃の環境下で１〜７日間養生することが好ましい。また、光硬化型透明樹脂組成物を硬化させるにあたっては、当該光硬化型透明樹脂組成物を硬化させることができる電磁波の照射強度を５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ^２ 程度の範囲内とすることが好ましい。なお、光硬化型透明樹脂組成物が紫外線硬化型透明樹脂組成物である場合には、紫外線の光源として、例えば高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、パルスキセノンランプ等を用いることができる。

硬化塗膜１５の形状保持能を実用上充分なものとするためには、そのガラス転移点を３０℃以上とし、数平均分子量を数千以上とすることが好ましい。硬化塗膜１５の材料として溶剤希釈型透明樹脂組成物を用いた場合には、この透明樹脂組成物に含有されている透明樹脂のガラス転移点及び数平均分子量が、略そのまま、硬化塗膜１５のガラス転移点及び数平均分子量となる。一方、硬化塗膜１５の材料として熱硬化型透明樹脂組成物又は光硬化型透明樹脂組成物を用いた場合には、この透明樹脂組成物の硬化条件を適宜選定することにより、硬化塗膜１５のガラス転移点及び数平均分子量を制御することができる。硬化塗膜１５の数平均分子量の上限値は特に限定されないが、材料として溶剤希釈型透明樹脂組成物を用いる場合には３０万程度以下、特に１５万程度以下となるように当該透明樹脂組成物を選定することが好ましい。また、材料として熱硬化型透明樹脂組成物又は光硬化型透明樹脂組成物を用いる場合には、５００万程度以下、特に３００万程度以下とすることが好ましい。硬化塗膜１５のガラス転移点が上記の範囲内であれば、例えばロール・ツゥ・ロールで電磁波遮蔽部材２０を生産するにあたって巻き取り時にブロッキングが発生するのを抑制することも容易になる。

以上説明した構造を有する電磁波遮蔽部材２０では、上述した硬化塗膜１５が形成されていることから、透明基材１を基準としたときのメッシュ状金属層１０の上面及び側面での光の乱反射、硬化塗膜１５の表面での光の乱反射、及び、当該電磁波遮蔽部材２０でのいわゆる虹ムラの発生が抑えられ、結果として、高い光透過性及び高い像鮮明度を得ることが容易になる。また、硬化塗膜１５は、その材料を１回コーティングして塗膜を形成し、この塗膜を硬化させることによって形成することが可能であるので、製造コストを抑え易い。したがって、本発明の電磁波遮蔽部材２０では、光透過性及び像鮮明度がそれぞれ高いものを製造コストを抑えつつ得ることが容易である。さらに、硬化塗膜１５の表面が比較的平坦であることから、この硬化塗膜１５上に他の部材を貼付する場合でも、硬化塗膜１５と他の部材との間に気泡が残ることが抑制され、その結果として、脱泡処理等の工程を省略することも可能になる。

電磁波遮蔽部材２０は、プラズマディスプレイパネルのような表示装置の表示面から放射される電磁波を、視認される映像の画質の低下を抑制しつつ遮蔽するうえで好適である。

（５）変形例；
本発明の電磁波遮蔽部材は上述した形態のものに限定されるものではなく、種々の変形、改良、組み合わせ等が可能である。以下、幾つかの変形例について、図１（ａ）又は図１（ｂ）で用いた参照符号を適宜引用しつつ、説明する。

例えばプラズマディスプレイパネルの表示面からは赤外線も放射され、この赤外線は、リモートコントローラ等の周辺機器を誤作動させる原因となることがある。したがって、本発明の電磁波遮蔽部材には、必要に応じて８００〜１２００ｎｍの波長域の近赤外線を吸収する赤外線吸収能を付与することが好ましい。この赤外線吸収能は、例えば、接合剤層５及び硬化塗膜１５の少なくとも一方に赤外線吸収剤を含有させることにより、あるいは、透明基材１の外表面上、又は硬化塗膜１５の外表面上に赤外線吸収層を形成することにより、付与することができる。透明基材１の外表面上、又は硬化塗膜１５の外表面上に赤外線吸収フィルムを貼付することによっても、付与することができる。

接合剤層５又は硬化塗膜１５に赤外線吸収剤を含有させる場合、この赤外線吸収剤としては、酸化スズ、酸化インジウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化クロム、酸化ジルコニウム、酸化ニッケル、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化アンチモン、酸化鉛、酸化ビスマス等の無機赤外線吸収剤や、シアニン系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、アルミニウム系化合物、ピリリウム系化合物、セリリウム系化合物、スクワリリウム系化合物、ジイモニウム類、銅錯体類、ニッケル錯体類、ジチオール系錯体類等の有機赤外線吸収剤を用いることができる。赤外線吸収剤は、１種のみを含有させてもよいし、２種以上を含有させてもよい。

接合剤層５又は硬化塗膜１５での赤外線吸収剤の含有量は、８００〜１２００ｎｍの波長域の近赤外線の透過率（ただし、電磁波遮蔽部材全体としての透過率を意味する。）が２０％程度以下、特に１０％程度以下となるように、使用する赤外線吸収剤の種類に応じて適宜選定することが好ましい。なお、ここでいう「近赤外線の透過率」とは、（株）島津製作所製のＵＶ−３１０ＯＰＣ（商品名）を用いて測定した近赤外線の透過率を意味する。

接合剤層５又は硬化塗膜１５に赤外線吸収剤を含有させた場合には、透明基材１の外表面上、又は硬化塗膜１５の外表面上に赤外線吸収フィルムもしくは赤外線吸収層を設けた場合に比べて光学的な界面の数の増加がないので、赤外線吸収能を付与したことに伴う電磁波遮蔽部材の光透過性及び像鮮明度それぞれの低下が抑制される。

なお、接合剤層５又は硬化塗膜１５に赤外線吸収剤を含有させる場合には、赤外線吸収剤の劣化や分解等を抑制するという観点から、接合剤層５及び硬化塗膜１５のうちで赤外線吸収剤を含有させようとする層又は膜での水酸基価を１０以下、更には５以下、特に０とすることが好ましい。同様の観点から、接合剤層５及び硬化塗膜１５のうちで赤外線吸収剤を含有させようとする層又は膜での酸価を１０以下、更には５以下、特に０とすることが好ましい。ここで、本明細書でいう「水酸基価」とは、試料１ｍｇから得られるアセチル化物に結合している酢酸を中和するのに必要な水酸化カリウムのミリグラム数を意味する。また、本明細書でいう「酸価」とは、試料１ｇ中の遊離脂肪酸を中和するのに必要な水酸化カリウムのミリグラム数を意味する。接合剤層５及び硬化塗膜１５それぞれでの水酸基価や酸価は、これらの層又は膜の材料を適宜選定することにより、制御することができる。

また、プラズマディスプレイパネルからは、放電ガスとして用いられる希ガスから発光が起こる。例えば、希ガスとしてネオン（Ｎｅ）ガスを用いた場合には、オレンジ色の発光が生じる。このような希ガスからの発光は、表示映像の画質を低下させる要因となる。したがって、本発明の電磁波遮蔽部材には、必要に応じて、放電ガスとして用いられる希ガスからの発光を吸収する光吸収能を付与することが好ましい。この光吸収能は、例えば、接合剤層５及び硬化塗膜１５の少なくとも一方に適当な光吸収色素を含有させることにより、あるいは透明基材１の外表面上、又は硬化塗膜１５の外表面上に適当な光吸収層を形成することにより、付与することができる。

例えば、ネオンガスからの発光を吸収するための光吸収色素としては、シアニン系色素、ポリメチン系色素、サブフタロシアンニン系色素、ポリフィリン系色素等を用いることができる。光吸収色素は、前述した赤外線吸収剤と混在させることも可能であるし、光吸収色素を含有させる層又は膜と、赤外線吸収剤を含有させる層又は膜とを互いに別個のものとすることも可能である。

上記の光吸収層は、例えば、上述した光吸収色素と、アクリレート系粘着剤、例えば２−エチルヘキシルアクリレートを主成分とするものやブチルアクリレートを主成分とする粘着剤とを、トルエン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルイソブチルケトン、イソプロピルアルコール等の溶媒に溶解させてコーティング溶液を調製し、このコーティング溶液を透明基材１の外表面上、又は硬化塗膜１５の外表面上に塗工して塗膜を形成した後に、この塗膜を乾燥させることによって形成することができる。

その他、本発明の電磁波遮蔽部材では、透明基材１上又は硬化塗膜１５上に反射防止膜や衝撃吸収層等を積層することもできる。

＜実施例１＞
まず、透明基材として厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績社製のＡ４３００（商品名））を用意し、このフィルムの片面にウレタン系接着剤を用いて厚さ９μｍの銅箔（古川サーキットフォイール社製のＥＸＰ−ＷＳ（商品名））をドライラミネーションした。上記の銅箔は、片面がクロメート処理により黒化されたものであり、ドライラミネーションにあたっては黒化処理面（クロメート処理面）が外表面となるように配置した。

上記のポリエチレンテレフタレートフィルムでの波長５８７．６ｎｍの光の屈折率は１．５７である。また、ドライラミネーションに用いたウレタン系接着剤は、ガラス転移点が２０℃、数平均分子量が３万、酸価が１、水酸基価が９、波長５８７．６ｎｍの光の屈折率が１．４９のものであり、その膜厚は１０μｍである。

次に、銅箔上に所定形状のレジストパターンを形成し、このレジストパターンをエッチングマスクとして用いて銅箔をウェットエッチングした。このとき、エッチャントとしては塩化第二鉄溶液を用い、液温は５０℃とした。ウェットエッチング後にレジストパターンを剥離し、純水でリンスした。これにより、個々の目の平面視上の大きさ及び形状が３００μｍ□である格子状を呈し、細線部の平面視上の線幅が１０μｍであるメッシュ状金属層が得られた。このメッシュ状金属層は、前述したポリエチレンテレフタレートフィルムに、平面視上の大きさ及び形状が３００μｍ□の光透過部を多数画定している。

これとは別に、市販の溶剤希釈型透明樹脂組成物（三菱レイヨン社製のＢＲ−９８（商品名））を用意した。この溶剤希釈型透明樹脂組成物は、ガラス転移点が６５℃、数平均分子量が６万、酸価が１、水酸基価が０であるメチルメタクリレート系透明樹脂をトルエンとメチルエチルケトンとの１：１（重量比）混合液で希釈したものであり、メチルメタクリレート系透明樹脂は鎖状構造を有している。

次に、上記の溶剤希釈型透明樹脂組成物をベース組成物として用い、このベース組成物をトルエンとメチルエチルケトンとの１：１（重量比）混合液で５倍（重量比）に希釈して塗工液を調製し、この塗工液を前述したメッシュ状金属層上、及び多数の光透過部それぞれの上にアプリケーター用いて塗工した。塗工量は、硬化後の塗工量（乾燥重量）が２０ｇ／ｍ^２ になる量とした。

この後、得られた塗膜を風速５ｍ／秒、温度６０℃の熱風で３０秒間乾燥し、引き続き、風速２０ｍ／秒、温度１００℃の熱風で６０秒間を乾燥した。これにより、メッシュ状金属層及び多数の光透過部をそれぞれ被覆する硬化塗膜が透明樹脂により形成され、電磁波遮蔽部材が得られた。以下、同じ条件の下に複数の電磁波遮蔽部材を作製した。

本実施例１並びに後述する実施例２〜１２及び比較例１〜４で電磁波遮蔽部材の作製に使用した塗工液（透明樹脂組成物）について、ベース組成物の商品名、種類、希釈倍率、重合開始剤の含有の有無、及び赤外線吸収剤（ＩＲ吸収剤）の含有の有無、並びに塗工液の塗工条件を一覧にして、後掲の表１に示す。

また、形成された硬化塗膜でのガラス転移点、数平均分子量、酸価、及び水酸基価、並びに複数の電磁波遮蔽部材の中から無作為に抽出した電磁波遮蔽部材における硬化塗膜の表面の十点平均粗さ（Ｒｚ）、光透過部での平均膜厚（光透過部の平面視上の中央部での膜厚の平均値）、隆起部での距離Ｌ２（図２参照）の平均値、図２に示した距離Ｌ３と距離Ｌ４との平均値、及びメッシュ状金属層の細線部上での硬化塗膜の平均傾斜角度を一覧にして、後掲の表２に示す。

なお、硬化塗膜の表面粗さ（十点平均粗さ（Ｒｚ））は、いずれの実施例及び比較例においても、東京精密社製の表面粗さ計（ＨＡＮＤＹＳＵＲＦ Ｅ−３５Ａ（商品名））を用いてＪＩＳ Ｂ０６０１^{−２００１} に従って測定した。

＜実施例２〜６＞
塗工液として実施例毎に後掲の表１に示す溶剤希釈型透明樹脂組成物を用い、かつ、この塗工液の塗工量（ただし、硬化後の重量を意味する。）を表１に示す量とし、他は実施例１と同様の条件の下に複数の電磁波遮蔽部材を実施例毎に作製した。なお、各溶剤希釈型透明樹脂組成物における透明樹脂は、いずれも、鎖状構造を有している。

＜実施例７＞
塗工液として後掲の表１に示す熱硬化型透明樹脂組成物を用い、かつ、塗膜の乾燥後にこの塗膜を６０℃で４日間加熱した以外は実施例１と同様の条件の下に、複数の電磁波遮蔽部材を作製した。乾燥後の塗膜を更に加熱したことにより、各電磁波遮蔽部材には、架橋した透明樹脂からなる硬化塗膜が形成された。なお、塗膜の乾燥は、実施例１での塗膜の乾燥と同じ条件の下に行った。

＜実施例８〜９＞
塗工液として後掲の表１に示す光硬化型（紫外線硬化型）透明樹脂組成物を用い、その塗工量（ただし、硬化後の重量を意味する。）を１７ｇ／ｍ^２又は２０ｇ／ｍ^２にして塗膜を形成すると共に、塗膜の乾燥後に紫外線ランプを用いて照射強度４００ｍＪ／ｃｍ^２の条件の下に紫外線を照射した以外は実施例１と同様の条件の下に、複数の電磁波遮蔽部材を実施例毎に作製した。塗膜に紫外線を照射したことにより、各電磁波遮蔽部材には、架橋した透明樹脂からなる硬化塗膜が形成された。なお、塗膜の乾燥は、実施例１での塗膜の乾燥と同じ条件の下に行った。

＜実施例１０〜１２＞
後掲の表１に示すように、塗工液（透明樹脂組成物）に赤外線吸収剤を含有させ、かつ、この塗工液の塗工量（ただし、硬化後の重量を意味する。）を表１に示す量とし、他は実施例２、実施例３、又は実施例７と同様の条件の下に複数の電磁波遮蔽部材を実施例毎に作製した。

＜比較例１＞
硬化塗膜を形成しなかった以外は実施例１と同じ条件の下に、複数の電磁波遮蔽部材を作製した。

＜比較例２〜３＞
表１又は表２に示すように、塗工液（溶剤希釈型透明樹脂組成物）を調製する際の希釈倍率又は塗工液の塗工量を変更した以外は実施例４と同じ条件の下に、複数の電磁波遮蔽部材を比較例毎に作製した。

＜比較例４＞
表１又は表２に示すように、塗工液（光硬化型透明樹脂組成物）を調製する際の希釈倍率又は塗工液の塗工量を変更した以外は実施例８と同じ条件の下に、複数の電磁波遮蔽部材を作製した。

［評価］
実施例１〜１２及び比較例１〜４でそれぞれ作製した電磁波遮蔽部材について、ヘイズ、視感透過率、及び像鮮明度を下記の方法で測定した。また、硬化塗膜に赤外線吸収剤を含有させた実施例１０〜１２の各電磁波遮蔽部材について、赤外線透過率を下記の方法で測定した。これらの結果を表３に示す。

（Ａ）ヘイズ；
スガ試験機社製のカラーコンピューター ＳＭ−Ｃ（商品名）を用い、ＪＩＳ Ｋ ７１０５^{−１９８１} 「プラスチックの光学的特性試験方法」に従って、作製直後（初期）の値と、気温６０℃、湿度９５％の空気雰囲気中に１０００時間放置して耐久性試験を行った後（試験後）での値とを測定した。

（Ｂ）視感透過率；
スガ試験機社製の写像性測定器 ＩＣＭ−１（商品面）を用い、ＪＩＳ Ｋ７１０５^{−１９８１} 「プラスチックの光学的特性試験方法」に従って、作製直後（初期）の値と、気温６０℃、湿度９０％の空気雰囲気中に１０００時間放置して耐久性試験を行った後（試験後）での値とを透過法により測定した。

（Ｃ）像鮮明度；
上記の写像性測定器を用い、ＪＩＳ Ｋ ７１０５^{−１９８１} 「プラスチックの光学的特性試験方法」に従って、作製直後（初期）の透過鮮明度と、気温６０℃、湿度９５％の空気雰囲気中に１０００時間放置して耐久性試験を行った後（試験後）での透過鮮明度とを測定した。なお、光学くしとしては、暗部及び明部それぞれの幅が共に０．１２５ｍｍ、０．２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１ｍｍ、又は２ｍｍである計５種類を使用した。

（Ｄ）赤外線透過率；
８００〜１２００ｎｍの波長域の近赤外線の最大透過率について、作製直後（初期）の値と、気温６０℃、湿度９０％の空気雰囲気中に１０００時間放置して耐久性試験を行った後（試験後）での値とを、（株）島津製作所製の分光光度計（ＵＶ−３１００ＰＣ（品番））を用いて測定した。

実施例１〜１２で作製した各電磁波遮蔽部材でのヘイズ、視感透過率及び像鮮明度と、比較例１で作製した電磁波遮蔽部材でのヘイズ、視感透過率及び像鮮明度との対比から明らかなように、メッシュ状金属層及び多数の光透過部をそれぞれ被覆する硬化塗膜を透明樹脂によって形成することにより、ヘイズが小さく、視感透過率及び像鮮明度がそれぞれ高い電磁波遮蔽部材を得ることができる。

また、実施例１〜６及び実施例１０〜１２で作製した電磁波遮蔽部材でのヘイズ、視感透過率、及び像鮮明度それぞれの初期の値と試験後の値との対比から明らかなように、溶剤希釈型透明樹脂組成物を単に固化させることによって硬化塗膜を形成した場合でも、熱硬化型透明樹脂組成物又は光硬化型（紫外線硬化型）透明樹脂組成物により硬化塗膜が形成された実施例８、実施例９の電磁波遮蔽部材と同様に、光透過性及び像鮮明度それぞれの耐久性が高い電磁波遮蔽部材を得ることが可能である。

実施例２、実施例４、又は実施例７で作製した電磁波遮蔽部材と実施例１０〜１２で作製した電磁波遮蔽部材との対比から明らかなように、赤外線吸収剤を硬化塗膜に含有させた場合でも、ヘイズ、視感透過率、及び像鮮明度それぞれの値が赤外線吸収剤を含有させない場合と同程度の電磁波遮蔽部材を容易に得ることができる。

そして、実施例４で作製した電磁波遮蔽部材と比較例２〜３で作製した電磁波遮蔽部材との対比や、実施例８で作製した電磁波遮蔽部材と比較例４で作製した電磁波遮蔽部材との対比から明らかなように、電磁波遮蔽部材の視感透過率及び像鮮明度は、メッシュ状金属層の細線部上での硬化塗膜（隆起部）の平均傾斜角度の影響を比較的強く受け、この平均傾斜角度を小さくすることによって、視感透過率及び像鮮明度を向上させることができる。換言すれば、上記の平均傾斜角度を制御することによって、光透過性及び像鮮明度が高い電磁波遮蔽部材を得ることができる。

なお、実施例１〜１２で作製したいずれの電磁波遮蔽部材内にも、気泡は認められなかった。

図１（ａ）は、本発明の電磁波遮蔽部材の一例を概略的に示す部分切欠き平面図であり、図１（ｂ）は、図１（ａ）に示したＩ−Ｉ線断面の概略図である。 本発明でいう「細線部上での硬化塗膜の平均傾斜角度」の求め方を説明するための模式図である。

符号の説明

１ 透明基材
５ 接着剤層
１０ メッシュ状金属層
１０ａ 細線部
１２ 光透過部
１５ 硬化塗膜
１５ａ 隆起部
２０ 電磁波遮蔽部材

Claims (1)

1. 透明基材と、該透明基材上に形成されて多数の光透過部を平面視上画定するメッシュ状金属層と、架橋構造を有し、ガラス転移点が３０〜１５０℃の範囲内である透明樹脂により形成されて前記メッシュ状金属層及び前記多数の光透過部を被覆する硬化塗膜とを有し、
   前記硬化塗膜のうちで前記メッシュ状金属層上に位置する領域は、前記光透過部の平面視上の中央部に位置する領域よりも盛り上がって隆起部を形成しており、前記隆起部が形成された前記メッシュ状金属層の細線部上での前記硬化塗膜の最大膜厚の平均値が１〜２０μｍの範囲内にあり、且つ、前記メッシュ状金属層の細線部での前記隆起部の平均傾斜角度が２°以上７°以下であり、
   前記硬化塗膜の塗工量が７〜２５ｇ／ｍ ^２ の範囲内であり、該硬化塗膜の表面の十点平均粗さ（Ｒｚ）が１．３〜４．２μｍの範囲内であり、
   前記メッシュ状金属層が、前記透明基材上に設けられた接合剤層により接合され、該接合剤層と前記透明基材との屈折率差（測定波長５８７．６ｎｍ）が０．１以下であることを特徴とする電磁波遮蔽部材。

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