DE10393017B4

DE10393017B4 - Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung

Info

Publication number: DE10393017B4
Application number: DE10393017T
Authority: DE
Inventors: Fumihiro Arakawa; Yasuhiko Ishii; Daisuke Hashimoto; Yukihiro Kyoden; Eiji Ohishi
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 2002-08-08
Filing date: 2003-08-08
Publication date: 2011-07-07
Anticipated expiration: 2023-08-09
Also published as: AU2003254909A1; WO2004016061A1; CN100484383C; DE10393017T5; TWI302082B; KR100934292B1; JP4334477B2; JPWO2004016061A1; KR20050029205A; TW200405790A; CN1675972A; US7642469B2; US20050244608A1

Abstract

Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung, das eine transparente Basis und eine netzförmige leitfähige Struktur, die auf eine der Oberflächen der transparenten Basis laminiert ist, umfasst, wobei die leitfähige Struktur Linien mit geraden Teilen mit einer Breite im Bereich von C (1 ± 30%) aufweist, wobei C ein vorgegebener Wert ist und C (1 ± 30%) angibt, dass Fehler in der Breite innerhalb ±30% von dem vorbestimmten Wert C verteilt sind, und wobei die Breiten der geraden Teile der Linien der leitfähigen Struktur im Bereich von 5 bis 25 μm liegen.

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Blatt zur Abschirmung elektromagnetischer Strahlung und insbesondere ein mit einem netzförmigen Film einer dünnen Metallschicht (eines dünnen Metallfilms) ausgestattetes Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung, das vor einer Anzeige wie z. B. einer Kathodenstrahlröhre (CRT) oder einem Plasmabildschirm (PDP) angeordnet werden soll, um elektromagnetische Strahlung abzuschirmen, die durch die Anzeige erzeugt wird, und das eine zufriedenstellende visuelle Erkennung der von der Anzeige angezeigten Bilder ermöglicht.
Zusammenfassung der Techniken: Probleme, die auf eine elektromagnetische Störung (EMI) zurückzuführen sind, haben mit dem bzw. der in letzter Zeit stattfindenden funktionellen Fortschritt und Verbreitung elektrischer und elektronischer Vorrichtungen zugenommen. Elektromagnetische Störungen werden grob in geleitete Störungen und abgestrahlte Störungen eingeteilt. Verfahren zur Verhinderung von Problemen aufgrund von geleiteten Störungen filtern geleitete Störungen durch einen Störungsfilter aus. Bei Verfahren zur Verhinderung von Problemen aufgrund von abgestrahlten Störungen wird ein Metallgehäuse zur elektromagnetischen Abschirmung eines Raums genutzt, ein Metallblech zwischen Leiterplatten angeordnet oder die Drähte von Kabeln werden mit einer Metallfolie bedeckt. Obwohl diese Verfahren zur elektromagnetischen Abschirmung von Schaltungen und Netzteilen effektiv sind, sind diese Verfahren zur Abschirmung von elektromagnetischer Strahlung ungeeignet, die durch Schirme von Anzeigen, wie z. B. CRT's und PDP's, erzeugt wird, da bei diesen Verfahren lichtundurchlässige Mittel eingesetzt werden.
Ein PDP ist eine Anordnung aus einer Glasplatte, die mit Datenelektroden und einer Fluoreszenzschicht ausgestattet ist, und einer Glasplatte, die mit transparenten Elektroden ausgestattet ist. Der PDP erzeugt im Betrieb eine große Menge an elektromagnetischer Strahlung, eine große Menge an Nahinfrarotstrahlung und eine große Wärmemenge. Gewöhnlich wird vor dem PDP eine Frontplatte angeordnet, um die elektromagnetische Strahlung abzuschirmen. Die Frontplatte muss eine Abschirmfunktion von 30 dB oder mehr im Bereich von 30 MHz bis 1 GHz aufweisen, um die von dem Schirm der Anzeige emittierte elektromagnetische Strahlung abzuschirmen. Infrarotstrahlung mit Wellenlängen im Bereich von 800 bis 1100 nm, die von dem Schirm der Anzeige abgestrahlt wird, muss abgeschirmt werden, da Infrarotstrahlung eine Fehlfunktion anderer Vorrichtungen, wie z. B. Videorecordern, hervorruft. Das Metallnetz (Linien) zur Abschirmung elektromagnetischer Strahlung muss unsichtbar sein, um das Betrachten von Bildern, die auf dem Schirm der Anzeige angezeigt werden, zu erleichtern, und das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung muss eine geeignete Transparenz (Durchlässigkeitseigenschaften für sichtbares Licht, Durchlässigkeit für sichtbares Licht) aufweisen, um die durch die Anzeige angezeigten Bilder in zufriedenstellender Weise sichtbar zu machen.
Da der PDP mit einem großen Schirm, wie z. B. einem 94 cm-Schirm (37 Zoll-Schirm), einem 107 cm-Schirm (42 Zoll-Schirm) oder einem größeren Schirm ausgestattet ist, weist das in Kombination mit dem PDP verwendete Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung tausende von horizontalen und vertikalen Linien auf. Die Breiten der Linien müssen innerhalb eines vorgegebenen Breitenbereichs liegen. Wenn die Breiten der Linien in einem breiten Bereich verteilt sind, werden in einem angezeigten Bild schwarze und weiße Punkte gebildet, was bei einem Betrachter einen Eindruck der Fehlerhaftigkeit hervorruft.
Stand der Technik: Um eine verbesserte Sichtbarkeit angezeigter Bilder sicherzustellen, muss die Frontplatte ein Vermögen zur elektromagnetischen Abschirmung, eine geeignete Transparenz (Durchlässigkeit für sichtbares Licht) und eine einheitliche netzförmige Struktur aufweisen, mit der eine elektromagnetische Abschirmung möglich ist.
Eine Frontplatte mit einer netzförmigen Struktur, die in der JP 5-283889 A beschrieben ist, weist eine Struktur aus (Basis)/(transparente Haftvermittlerschicht)/(Schicht zur elektromagnetischen Abschirmung) auf. Die Schicht zur elektromagnetischen Abschirmung weist ein netzförmiges Muster auf und wird durch ein stromloses Abscheidungsverfahren gebildet. Ein Verfahren zur Bildung eines Metallnetzes für ein Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung, das in der JP 09-293989 A beschrieben ist, nutzt ein Photolackverfahren. Eine Struktur zur elektromagnetischen Abschirmung, die in der JP 10-335885 A beschrieben ist, wird durch Laminieren einer Kunststofffolie, die mit einer Kupferfolie ausgestattet ist, die durch Photolithographie in einem geometrischen Muster ausgebildet worden ist, auf eine Kunststoffplatte gebildet. Bei allen diesen Verfahren des Standes der Technik findet sich keine Beschreibung bezüglich der Genauigkeit der Breite der Linien der netzförmigen Struktur und des Einflusses der Genauigkeit der Breite.
In einem Verfahren zur Herstellung eines Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung, das in der JP 11-186785 beschrieben ist, werden Linien auf einer transparenten Basis derart ausgebildet, dass die Fläche eines Schnitts jeder Linie in einer Ebene parallel zu der transparenten Basis mit dem Abstand von der transparenten Basis abnimmt. D. h., die Linien weisen einen trapezförmigen Abschnitt in einer Ebene senkrecht zu der transparenten Basis auf. In diesem Stand der Technik wird jedoch nichts über die Verteilung der Linienbreiten gesagt. Da bei diesem Verfahren eine Überätzung durchgeführt oder das Ätzen unterbrochen wird, ist die Steuerung der Genauigkeit der Linienbreite sehr schwierig. Die Linien, die Breiten aufweisen, die in einem breiten Bereich verteilt sind, verursachen eine unregelmäßige Bilddichte, weisen ein schlechtes Aussehen auf, bilden schwarze und weiße Punktfehler und lineare Fehler in Bildern und verschlechtern die Sichtbarkeit der Bilder.
EP 0 917 174 A2 beschreibt einen elektromagnetisch abschirmenden Klebefilm, umfassend einen im wesentlichen transparenten Basisfilm aus Kunststoff, eine elektrisch leitende Schicht aus metallischem Material, die in einem geometrischen Muster auf den Basisfilm aus Kunststoff aufgebracht ist, so daß ein Öffnungsverhältnis von 50% oder mehr erreicht wird, wobei eine Klebemittelschicht auf mindestens einen Teil des Basisfilms aus Kunststoff aufgebracht ist, der nicht von der elektrisch leitenden Schicht aus metallischem Material bedeckt ist, wobei die Klebemittelschicht so gestaltet ist, daß ihr selektiv Fluidität verliehen ist. JP 2000 286 594 A beschreibt ein Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung mit einer transparenten Basis und einer netzförmigen leitfähigen Struktur darauf.
Die vorliegende Erfindung wurde gemacht, um diese Probleme zu lösen und es ist daher eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung bereitzustellen, das vor einer Anzeige, wie z. B. einer CRT oder einem PDP, angeordnet wird, das elektromagnetische Strahlung abschirmen kann und das die gute Sichtbarkeit angezeigter Bilder sicherstellen und die Bildung von schwarzen und weißen Punktfehlern und von linearen Fehlern kontrollieren kann.
Ein Blatt bzw. Lage bzw. Schicht zur elektromagnetischen Abschirmung gemäß einem ersten Aspekt der vorliegenden Erfindung umfasst eine transparente Basis und eine netzförmige leitfähige Struktur, die auf eine der Oberflächen der transparenten Basis laminiert ist, wobei die leitfähige Struktur Linien mit geraden Teilen mit einer Breite im Bereich von C (1 ± 30%) aufweist, wobei C ein vorgegebener Wert ist und C (1 ± 30%) angibt, dass Fehler in der Breite innerhalb ±30% von dem vorbestimmten Wert C verteilt sind, und wobei die Breiten der geraden Teile der Linien der leitfähigen Struktur im Bereich von 5 bis 25 μm liegen. Das erfindungsgemäße Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung schirmt elektromagnetische Strahlung ab, die von einer Anzeige, wie z. B. einer CRT oder einem PDP erzeugt wird, weist eine netzförmige leitfähige Struktur mit unsichtbaren Linien und sowohl ein elektromagnetisches Abschirmvermögen als auch eine hohe Transparenz, Linien mit einer Breite innerhalb des vorgegebenen Bereichs und einheitlich verteilte einheitliche Maschen auf und stellt die zufriedenstellende Sichtbarkeit der angezeigten Bilder sicher.
Ein Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung gemäß einem zweiten Aspekt der vorliegenden Erfindung umfasst eine transparente Basis und eine netzförmige leitfähige Struktur, die auf eine der Oberflächen der transparenten Basis laminiert ist, wobei die leitfähige Struktur Linien mit geraden Teilen mit einer Breite im Bereich von C (1 ± 30%) aufweist, wobei C ein vorgegebener Wert ist und C (1 ± 30%) angibt, dass Fehler in der Breite innerhalb ±30% von dem vorbestimmten Wert C verteilt sind, und der Krümmungsradius einer Seitenfläche, die sich zwischen der oberen und der unteren Seite einer Erhebung in einem Schnitt der Linien in einer Ebene senkrecht zu der transparenten Basis erstreckt, im Bereich des 1,5- bis 3,0-fachen der Dicke der leitfähigen Struktur liegt, und wobei die Breiten der geraden Teile der Linien der leitfähigen Struktur im Bereich von 5 bis 25 μm liegen. Das erfindungsgemäße Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung ist vor einer Anzeige, wie z. B. einer CRT oder einem PDP, angeordnet, schirmt die durch die Anzeige erzeugte elektromagnetische Strahlung ab, weist einheitlich verteilte einheitliche Maschen auf, stellt die zufriedenstellende Sichtbarkeit der angezeigten Bilder sicher, weist kaum schwarze und weiße Punktfehler und lineare Fehler auf und blendet nicht.
In dem erfindungsgemäßen Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung liegen die Breiten der geraden Teile der Linien in einem inneren Teil der netzförmigen leitfähigen Struktur, der von einem peripheren Teil mit einer Breite, die einer Breite von 1 bis 50 Maschen entspricht, oder einem peripheren Teil mit einer Breite im Bereich von 0,15 bis 15 mm umgeben ist, im Bereich von C (1 ± 30%), wobei C ein vorgegebener Wert ist. Bei dem erfindungsgemäßen Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung liegen die Breiten der geraden Teile der Linien der leitfähigen Struktur im Bereich von 5 bis 25 μm und die Linien sind in Abständen im Bereich von 150 bis 500 μm angeordnet. Das erfindungsgemäße Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung ist selbst dann, wenn es eine große Fläche aufweist, gegen ein Biegen und Knittern beständig.
In dem erfindungsgemäßen Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung ist die leitfähige Struktur eine Metallschicht. In dem erfindungsgemäßen Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung ist mindestens eine der Oberflächen der leitfähigen Struktur durch eine Schwärzungsbehandlung verarbeitet worden. In dem erfindungsgemäßen Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung ist mindestens auf der Oberfläche der leitfähigen Struktur, die durch die Schwärzungsbehandlung verarbeitet worden ist, eine Rostschutzschicht ausgebildet. Das erfindungsgemäße Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung weist ein hervorragendes elektromagnetisches Abschirmungsvermögen auf, stellt eine zufriedenstellende Sichtbarkeit der angezeigten Bilder sicher und ist rastbeständig.
In dem erfindungsgemäßen Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung sind mindestens Vertiefungen in der netzförmigen leitfähigen Struktur mit einem transparenten Harz gefüllt, so dass die Oberfläche der leitfähigen Struktur im Wesentlichen eben ist. Die Vertiefungen in der leitfähigen Struktur des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung sind mit dem transparenten Harz gefüllt, um die Verarbeitungsfähigkeit des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung zu verbessern.
In dem erfindungsgemäßen Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung enthält das transparente Harz, das die Vertiefungen in der netzförmigen leitfähigen Struktur füllt, um die Oberfläche der leitfähigen Struktur im Wesentlichen eben zu machen, ein farbtonkorrigierendes, licht-absorbierendes Mittel, das sichtbares Licht mit Wellenlängen zwischen 570 und 605 nm absorbieren kann, und/oder ein Nahinfrarot-absorbierendes Mittel, das Infrarotstrahlung mit Wellenlängen zwischen 800 und 1100 nm absorbieren kann. Das erfindungsgemäße Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung umfasst ferner eine Schicht, die ein farbtonkorrigierendes, licht-absorbierendes Mittel enthält, das sichtbares Licht mit Wellenlängen zwischen 570 und 605 nm absorbieren kann, und/oder eine Schicht, die ein Nahinfrarot-absorbierendes Mittel enthält, das Infrarotstrahlung mit Wellenlängen zwischen 800 und 1100 nm absorbieren kann, die auf mindestens einer der Oberflächen der leitfähigen Struktur ausgebildet ist bzw. sind. Das erfindungsgemäße Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung kann Nahinfrarotstrahlung, Infrarotstrahlung und elektromagnetische Strahlung abschirmen, die von der Anzeige, wie z. B. einem PDP, erzeugt werden, und die Sichtbarkeit von Bildern, die durch die Anzeige angezeigt werden, durch Absorbieren von Lichtstrahlen nicht erforderlicher Farben zur Farbkorrektur verbessern.
1 ist eine Draufsicht auf ein erfindungsgemäßes Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung;
2 ist eine partielle, typische perspektivische Ansicht des erfindungsgemäßen Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung;
3A ist eine Schnittansicht entlang der Linie A-A in der 2;
3B ist eine Schnittansicht entlang der Linie B-B in der 2;
4 ist eine Schnittansicht, die bei der Erläuterung des Aufbaus einer leitfähigen Struktur hilfreich ist;
5A ist eine Draufsicht, die bei der Erläuterung eines Verfahrens zur Verarbeitung eines aufgerollten kontinuierlichen Films hilfreich ist;
5B ist eine teilweise vergrößerte Seitenansicht, die bei der Erläuterung des Verfahrens der Verarbeitung eines aufgerollten kontinuierlichen Films hilfreich ist;
6 ist eine Schnittansicht eines erfindungsgemäßen Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung, das auf den Schirm einer Anzeige aufgebracht wird;
7 ist eine Schnittansicht, die bei der Erläuterung der Form eines Schnitts eines geraden Teils einer Linie hilfreich ist, die in einer netzförmigen Struktur enthalten ist, in welcher der Radius r der Krümmung einer Seitenfläche 107S, die sich zwischen einer oberen Seite 107U und einer unteren Seite 107B eines Schnitts des geraden Teils in einer Ebene senkrecht zu der Oberfläche einer transparenten Basis erstreckt, eine Bedingung erfüllt, die durch 1,5t ≤ r ≤ 3,0t dargestellt wird, wobei t die Dicke der Metallschicht ist.
Nachstehend wird eine bevorzugte Ausführungsform der vorliegenden Erfindung unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen beschrieben. Die vorliegende Erfindung ist bezüglich ihrer praktischen Anwendung nicht auf die hier speziell beschriebene Ausführungsform beschränkt.
1 ist eine Draufsicht auf ein erfindungsgemäßes Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung.
2 ist eine partielle, typische perspektivische Ansicht des erfindungsgemäßen Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung.
Allgemeiner Aufbau: Gemäß der 1 weist ein erfindungsgemäßes Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung 1 eine netzförmige Struktur 103 und einen Erdungsrahmen 101 auf. Gemäß der 2 weist die netzförmige Struktur 103 sich überschneidende Linien 107 auf, die Öffnungen (Zellen) 105 definieren. Der Erdungsrahmen 101 ist mit einer Erdung verbunden, wenn das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung 1 mit einer Anzeige kombiniert ist.
Auf eine Oberfläche einer Basis 11 ist eine leitfähige Struktur 109 mit einer Haftschicht 13 laminiert. Die leitfähige Struktur 109 ist eine netzförmige Struktur, bei der die Linien 107 die dicht angeordneten Öffnungen 105 definieren. Gemäß der 2 wird die Breite der Linien 107 als Linienbreite W und der Abstand zwischen entsprechenden Kanten der angrenzenden Linien 107 als Abstand P bezeichnet.
Die 3A und 3B sind Schnittansichten entlang der Linien A-A bzw. B-B in der 2, und die 4 ist eine Schnittansicht, die bei der Erläuterung des Aufbaus der leitfähigen Struktur hilfreich ist.
Aufbau der leitfähigen Struktur: Gemäß der 3A, die einen Schnitt in einer Ebene zeigt, welche die Öffnungen 105 schneidet, sind die Öffnungen 105 und die Linien 107 abwechselnd angeordnet. Gemäß der 3B, die einen Schnitt in einer Ebene zeigt, welche die Linie 107 umfasst, ist die kontinuierliche Linie 107 aus der leitfähigen Struktur 109 ausgebildet. Die leitfähige Struktur 109 kann eine leitfähige Schicht, vorzugsweise eine Metallschicht 21 sein. Gegebenenfalls ist auf einer Oberfläche der Metallschicht 21, die einer Betrachtungsseite zugewandt ist, mindestens eine geschwärzte Schicht 23A oder 23B ausgebildet. Die leitfähige Struktur 109 weist eine Rostschutzschicht 25A und/oder eine Rostschutzschicht 25B auf, die auf der geschwärzten Schicht 23A und/oder auf der geschwärzten Schicht 23B ausgebildet ist bzw. sind. Eine Rostschutzschicht kann mindestens auf der geschwärzten Schicht ausgebildet sein. Die Rostschutzschichten 25A und 25B verhindern ein Rosten der Metallschicht 21 und der geschwärzten Schichten 23A und 23B und verhindern, dass sich die geschwärzten Schichten 23A und 23B ablösen.
Erster Punkt der Erfindung: Die Breite W gerader Teile der Linien 107, die in der netzförmigen Struktur 103 enthalten sind, liegt im Bereich von C (1 ± 30%), wobei C ein vorgegebener Wert ist. Folglich liegen Fehler bei den Breiten W der geraden Teile der Linien 107 in der netzförmigen Struktur 103 innerhalb von C × 30%. Wenn die Breiten W der Linien 107 innerhalb des Bereichs C (1 ± 30%) liegen, weist das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung 1 ein elektromagnetisches Abschirmungsvermögen und eine geeignete Transparenz auf, die Maschen sind einheitlich verteilt und die Sichtbarkeit von Bildern ist hervorragend. Vorzugsweise liegen die Linienbreiten W der Linien 107 in der netzförmigen Struktur 103 im Bereich von 5 bis 25 μm und die Abstände P der Linien 107 im Bereich von 150 bis 500 μm.
Zweiter Punkt der Erfindung: Gemäß den 3A und 7 erfüllt der Radius r der Krümmung einer Seitenfläche 107S, die sich zwischen einer oberen Seite 107U und einer unteren Seite 107B eines Schnitts des geraden Teils in einer Ebene senkrecht zu der Oberfläche einer transparenten Basis erstreckt, eine Bedingung, die durch 1,5t ≤ r ≤ 3,0t dargestellt wird, wobei t die Dicke der Metallschicht ist. Wenn die Linien 107 derart ausgebildet sind, dass der Radius r der Krümmung der Seitenfläche 107S, die sich zwischen der oberen Seite 107U und der unteren Seite 107B eines Schnitts des geraden Teils der Linien 107 erstreckt, die vorstehend genannte Bedingung erfüllt, weist das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung ein elektromagnetisches Abschirmungsvermögen und eine geeignete Transparenz auf, das emittierte Licht blendet nicht, die Reflexion von externem Licht wird unterdrückt und die Sichtbarkeit der Bilder ist hervorragend.
Dritter Punkt der Erfindung: Die netzförmige leitfähige Struktur weist Linien mit einer Breite im Bereich von C (1 ± 30%) auf, wobei C ein vorgegebener Wert ist, und der Krümmungsradius der Seitenfläche, die sich zwischen der oberen und der unteren Seite einer Erhebung in einem Abschnitt der Linien in einer Ebene senkrecht zu der transparenten Basis erstreckt, liegt im Bereich des 1,5- bis 3,0-fachen der Dicke der Metallschicht. Wenn die Linien mit Breiten innerhalb des vorgegebenen Bereichs ausgebildet sind und die Linien derart ausgebildet sind, dass der Krümmungsradius der Seitenfläche, die sich zwischen der oberen Seite und der unteren Seite eines Schnitts des geraden Teils der Linien erstreckt, die vorstehend genannte Bedingung erfüllt, weist das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung ein elektromagnetisches Abschirmungsvermögen und eine geeignete Transparenz auf, die Maschen sind einheitlich verteilt, es treten nur wenige schwarze und weiße Punktfehler und lineare Fehler auf, das emittierte Licht blendet nicht, die Reflexion von externem Licht wird unterdrückt und die Sichtbarkeit von Bildern ist hervorragend.
Obwohl das erfindungsgemäße Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung so beschrieben ist, dass es vorwiegend in Kombination mit einer Anzeige, wie z. B. einer CRT oder einem PDP verwendet wird, kann das erfindungsgemäße Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung selbstverständlich auch auf die Abschirmung elektromagnetischer Strahlung angewandt werden, die durch Vorrichtungen emittiert wird, die von einer Anzeige verschieden sind.
Ein PDP weist einen großen Schirm auf. Die Abmessungen des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung liegen in der Größenordnung von 620 mm × 830 mm für einen 94 cm-Schirm (37 Zoll-Schirm) und in der Größenordnung von 580 mm × 980 mm für einen 107 cm-Schirm (42 Zoll-Schirm). Das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung kann in größeren Abmessungen ausgebildet werden. Gewöhnlich beträgt die jeweilige Anzahl der horizontalen und vertikalen Linien des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung mehrere Tausend. Die Linien müssen in einem vorgegebenen Bereich der Linienbreite W mit einer Genauigkeit in der Größenordnung von Mikrometern liegen. Eine Person, die Bilder betrachtet, die von der Anzeige angezeigt werden, hat den Eindruck einer sehr starken Fehlerhaftigkeit, wenn in den Bildern schwarze und weiße Punkte gebildet werden. Übermäßig breite Linien bilden schwarze Punktfehler und übermäßig schmale Linien bilden weiße Punktfehler. In dem erfindungsgemäßen Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung ist bzw. sind die Verteilung der Linienbreiten und/oder die Form des Schnitts der Linien eingestellt. Daher sind die Maschen einheitlich verteilt, die Anzahl der schwarzen Punktfehler und/oder die Anzahl der weißen Punktfehler ist bzw. sind sehr klein und die Sichtbarkeit von Bildern ist hervorragend.
In der leitfähigen Struktur 109 des erfindungsgemäßen Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung ist bzw. sind die geschwärzte Schicht 23A und/oder die geschwärzte Schicht 23B auf mindestens einer der Oberflächen der Metallschicht 21 ausgebildet, und die Rostschutzschicht 25A und/oder die Rostschutzschicht 25B ist bzw. sind mindestens auf der geschwärzten Schicht 23A und/oder der geschwärzten Schicht 23B ausgebildet.
Die leitfähige Struktur 109 wird mit einem Haftmittel an die Basis 11, d. h. einen transparenten Film, laminiert, und dann wird die leitfähige Struktur 109 zur Bildung einer netzförmigen Struktur einem photolithographischen Verfahren unterworfen. Gegebenenfalls wird die Oberfläche auf der Seite der Metallschicht eingeebnet. Gegebenenfalls wird eine lichtabsorbierende Schicht, die sichtbare Strahlung mit spezifischen Wellenlängen und/oder Nahinfrarotstrahlung absorbieren kann, gebildet. Wenn das so gebildete Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung, das eine geeignete Transparenz aufweist, vor einer Anzeige angeordnet wird, wird die durch die Anzeige erzeugte elektromagnetische Strahlung abgeschirmt, Maschen sind einheitlich verteilt, nur wenige schwarze oder weiße Punktfehler werden gebildet und angezeigte Bilder können mit einer zufriedenstellenden Sichtbarkeit betrachtet werden.
Herstellungsverfahren: Bei der Herstellung des erfindungsgemäßen Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung 1 wird die leitfähige Struktur 109, die mindestens mit der geschwärzten Schicht und der Rostschutzschicht auf der Betrachtungsseite ausgestattet ist, hergestellt. Die leitfähige Struktur 109 wird auf eine der Oberflächen der Basis 11, d. h. einen transparenten Film, mit dem Haftmittel laminiert, und ein Photolackfilm mit einem netzförmigen Muster wird über der leitfähigen Struktur 109 ausgebildet. Es wird ein photolithographisches Verfahren durchgeführt, um Teile der leitfähigen Struktur 109, die nicht mit dem Photolackfilm beschichtet sind, durch Ätzen zu entfernen, worauf der Photolackfilm entfernt wird. Das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung kann mit bekannten Herstellungsvorrichtungen hergestellt werden und die meisten Verfahren können nacheinander ausgeführt werden. Folglich kann das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung mit einer hohen Qualität bei einer hohen Ausbeuterate und einer hohen Herstellungseffizienz hergestellt werden.
Nachstehend werden Materialien und Verfahren zur Bildung der Schichten des erfindungsgemäßen Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung 1 beschrieben.
Leitfähige Struktur: Die leitfähige Struktur 109 zur Abschirmung elektromagnetischer Strahlung weist die Metallschicht 21 auf, die aus einem Metall mit einer Leitfähigkeit gebildet ist, die zur Abschirmung elektromagnetischer Strahlung ausreichend ist, wie z. B. Gold, Silber, Kupfer, Eisen, Aluminium, Nickel oder Chrom. Die Metallschicht 21 kann eine Einzelschicht oder eine laminierte Schicht sein und sie kann aus einer Legierung ausgebildet sein. Metalle auf Eisenbasis, die zur Bildung der Metallschicht 21 geeignet sind, sind Stähle mit niedrigem Kohlenstoffgehalt, wie z. B. unberuhigte Stähle mit niedrigem Kohlenstoffgehalt und Aluminium-beruhigte Stähle mit niedrigem Kohlenstoffgehalt, Ni-Fe-Legierungen und Invar. Wenn eine kathodische Elektroabscheidung eingesetzt wird, sind Kupfer- oder Kupferlegierungsfolien bevorzugt. Die Kupferfolien können gewalzte Kupferfolien und Elektrolytkupferfolien sein. Elektrolytkupferfolien sind bevorzugt, da Elektrolytkupferfolien eine einheitliche Dicke, eine zufriedenstellende Eigenschaft des Anhaftens an geschwärzte Schichten und/oder Schichten aufweisen, die durch eine Chromatbehandlung erhalten worden sind, und da sie zu dünnen Filmen mit einer Dicke von nicht mehr als 10 μm ausgebildet werden können. Die Dicke der Metallschicht 21 liegt im Bereich von etwa 1 bis etwa 100 μm, vorzugsweise im Bereich von 5 bis 20 μm. Obwohl die Metallschicht 21 einfach durch Photolithographie zur Bildung der netzförmigen Struktur verarbeitet werden kann, wenn die Dicke der Metallschicht 21 unter der Untergrenze des Dickenbereichs liegt, weist eine netzförmige Struktur, die durch Verarbeiten der Metallschicht 21 mit einer so geringen Dicke gebildet wird, einen großen elektrischen Widerstand auf, der den elektromagnetischen Abschirmeffekt vermindert. Wenn die Metallschicht 21 eine Dicke aufweist, die über der Obergrenze des Dickenbereichs liegt, kann eine gewünschte feine netzförmige Struktur nicht gebildet werden und folglich weist die netzförmige Struktur ein niedriges tatsächliches Verhältnis der offenen Fläche sowie eine niedrige Durchlässigkeit auf, der Betrachtungswinkel nimmt ab und die Sichtbarkeit von Bildern wird schlecht.
Vorzugsweise weist die Metallschicht 21 eine Oberflächenrauhigkeit Rz zwischen 0,5 und 10 μm auf. Die Metallschicht 21 reflektiert externes Licht in einem spiegelnden Reflexionsmodus, der die Sichtbarkeit von Bildern verschlechtert, wenn die Oberflächenrauhigkeit der Metallschicht 21 unter 0,5 μm liegt, und zwar selbst dann, wenn die Oberfläche der Metallschicht 21 geschwärzt ist. Das Haftmittel und der Photolack können nicht einheitlich über die gesamte Oberfläche der Metallschicht 21 ausgebreitet werden und in dem Haftmittel und dem Photolack werden Blasen gebildet, wenn die Oberflächenrauhigkeit der Metallschicht 21 größer als 10 μm ist. Die Oberflächenrauhigkeit Rz ist der Mittelwert der Rauhigkeitswerte von 10 Punkten, die mit einem Oberflächenrauhigkeitsmessverfahren gemessen worden sind, das in JIS B0601 spezifiziert ist.
Schwärzungsbehandlung: Die Oberfläche der netzförmigen leitfähigen Struktur 109, die auf die Betrachtungsseite gerichtet ist, muss mit einer Schwärzungsbehandlung verarbeitet werden, um die Sichtbarkeit von Bildern zu verbessern und den Kontrast in Bildern durch Absorption von externem Licht, wie z. B. Sonnenlicht, und von Licht, das von einer Lampe emittiert wird, das auf das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung 1 fällt, zu erhöhen. Die Schwärzungsbehandlung raut die Oberfläche auf und/oder schwärzt die Oberfläche der Metallschicht. Die Schwärzungsbehandlung kann durch eines von verschiedenen Verfahren erreicht werden. Beispielsweise bildet die Schwärzungsbehandlung ein Metalloxid oder ein Metallsulfid auf der Oberfläche der Metallschicht. Wenn die Metallschicht aus Eisen ausgebildet ist, wird durch Aussetzen der Metallschicht gegenüber Dampf mit einer Temperatur im Bereich von 450°C bis 470°C für einen Zeitraum im Bereich von 10 bis 20 min ein Oxidfilm (Schwärzungsfilm) mit einer Dicke zwischen etwa 1 und etwa 2 μm gebildet. Ein Oxidfilm (Schwärzungsfilm) kann durch chemisches Verarbeiten der Metallschicht mit einer Chemikalie wie z. B. konzentrierter Salpetersäure gebildet werden. Wenn die Metallschicht eine Kupferfolie ist, ist es bevorzugt, durch ein kathodisches Elektroabscheidungsverfahren unter Verwendung einer Elektrolytlösung, die Schwefelsäure, Kupfersulfat und Cobaltsulfat enthält, kationische Teilchen an die Metallschicht zu binden. Die an der Oberfläche der Metallschicht anhaftenden kationischen Teilchen erhöhen die Oberflächenrauhigkeit der Metallschicht und schwärzen die Oberfläche der Metallschicht. Die kationischen Teilchen können Kupferteilchen oder Kupferlegierungsteilchen sein. Kupfer-Cobalt-Legierungsteilchen sind bevorzugt.
In dieser Beschreibung umfasst die Schwärzungsbehandlung ein Aufrauhen und Schwärzen. Vorzugsweise ist eine bevorzugte Schwärzungsdichte 0,6 oder mehr. Die Schwärzungsdichte wird unter Verwendung des COLOR CONTROL SYSTEM GRETAG SPM100-11^® (Kimoto Co.) gemessen. Die Messung der Schwärzungsdichte eines Prüfkörpers nutzt einen Winkel des Betrachtungsfelds von 10°, eine Lichtquelle D50 und eine Beleuchtung Typ T, die in den ANSI-Standards definiert sind. Vorzugsweise beträgt das Reflexionsvermögen der mit der Schwärzungsbehandlung verarbeiteten Oberfläche 5% oder weniger. Das Reflexionsvermögen wird unter Verwendung eines Trübungsmessgeräts HM150^® (Murakami Sikisai) mit einem in JIS K 7105 spezifizierten Verfahren gemessen.
Legierungsteilchen: Die kationischen Teilchen können Kupferteilchen oder Kupferlegierungsteilchen sein. Vorzugsweise sind die kationischen Teilchen Kupfer-Cobalt-Legierungsteilchen. Kupfer-Cobalt-Legierungsteilchen verbessern den Schwärzungsgrad beträchtlich und absorbieren sichtbares Licht zufriedenstellend. Die optischen Eigenschaften, die den Verbesserungseffekt des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung bezüglich der Bildsichtbarkeit repräsentieren, werden durch das Farbsystem „L*, a*, b*, ΔE*„ ausgedrückt, das in JIS Z8729 spezifiziert ist. Die leitfähige Struktur 109 wird weniger sichtbar, wenn die Absolutwerte von a* und b* kleiner sind. Folglich wird der Kontrast in Bildern verstärkt und die Sichtbarkeit von Bildern wird verbessert. Der Effekt der Verminderung der Werte von a* und b* der Kupfer-Cobalt-Legierungsteilchen ist verglichen mit dem von Kupferteilchen hoch. Die Kupfer-Cobalt-Legierungsteilchen können die Werte von a* und b* auf fast Null vermindern.
Vorzugsweise liegt die durchschnittliche Teilchengröße der Kupfer-Cobalt-Legierungsteilchen im Bereich von 0,1 bis 1 μm. Kupfer-Cobalt-Legierungsteilchen mit einer durchschnittlichen Teilchengröße, die über der Obergrenze des bevorzugten Bereichs liegt, vermindern die Dicke der Metallschicht 21 übermäßig und folglich ist es möglich, dass die Kupferfolie beim Laminieren der Kupferfolie auf die Basis 11 zerreißt und die Oberfläche der Metallschicht 21 einen Mangel an Feinheit und ein unebenes Aussehen aufweist, da die Teilchen nicht kompakt ausgebildet werden. Kupfer-Cobalt-Teilchen mit einer durchschnittlichen Teilchengröße unter der Untergrenze des Bereichs weisen keinen Aufrauhungseffekt auf und somit ist die Sichtbarkeit von Bildern nicht zufriedenstellend.
Rostschutzschicht: Die Rostschutzschicht 25A und/oder die Rostschutzschicht 25B ist bzw. sind mindestens auf der geschwärzten Schicht ausgebildet, die durch Schwärzen der Metallschicht 21 gebildet wird, um ein Rosten der Metallschicht 21 und/oder der geschwärzten Schichten und ein Ablösen und Verformen der geschwärzten Schichten zu verhindern. Die Rostschutzschichten 25A und 25B können Schichten von Oxiden von Nickel und/oder Zink und/oder Kupfer oder Schichten sein, die durch eine Chromatbehandlung erhalten werden. Die Schichten von Oxiden von Nickel und/oder Zink und/oder Kupfer können mit einem bekannten Plattierungsverfahren hergestellt werden. Die Dicke der Schichten von Oxiden von Nickel und/oder Zink und/oder Kupfer liegt im Bereich von etwa 0,001 bis etwa 1 μm, vorzugsweise im Bereich von 0,001 bis 0,1 μm.
Chromatbehandlung: Bei der Chromatbehandlung wird ein Werkstück mit einer Chromatierungslösung behandelt. Die Chromatierungslösung kann auf das Werkstück mit einem Walzenbeschichtungsverfahren, einem Vorhangbeschichtungsverfahren, einem Quetschbeschichtungsverfahren, einem elektrostatischen Zerstäubungsverfahren oder einem Tauchverfahren aufgebracht werden. Das durch die Chromatbehandlung behandelte Werkstück wird ohne Spülen getrocknet. Ein Walzenbeschichtungsverfahren ist bevorzugt, wenn nur eine der Oberflächen des Werkstücks durch die Chromatbehandlung behandelt werden soll. Ein Tauchverfahren ist bevorzugt, wenn beide Oberflächen des Werkstücks durch die Chromatbehandlung behandelt werden sollen. Gewöhnlich ist die Chromatierungslösung eine CrO₂-Lösung, die eine CrO₂-Konzentration von 3 g/Liter aufweist. Es kann eine Chromatierungslösung verwendet werden, die durch Zugeben einer Oxycarbonsäureverbindung zu einer Chromsäureanhydridlösung zum Reduzieren eines Teils des sechswertigen Chroms zu dreiwertigem Chrom erhalten wird. Die Oberfläche der Werkstücke, die durch die Chromatbehandlung behandelt worden sind, ist mit einer Farbe in einer Farbkategorie gefärbt, die hellgelb und gelblich-braun umfasst, und zwar abhängig von der Menge des abgeschiedenen sechswertigen Chroms. Da dreiwertiges Chrom farblos ist, weist ein Film, der durch die Chromatbehandlung gebildet worden ist, eine in der Praxis akzeptable Transparenz auf, wenn das Verhältnis zwischen den jeweiligen Mengen an dreiwertigem Chrom und sechswertigem Chrom geeignet eingestellt wird. Geeignete Oxycarbonsäureverbindungen sind Weinsäure, Malonsäure, Zitronensäure, Milchsäure, Glykolsäure, Glycerinsäure, Tropasäure, Benzilsäure und Hydroxyvaleriansäure. Diese Chemikalien können einzeln oder in einer Kombination verwendet werden. Da die verschiedenen Verbindungen verschiedene reduzierende Effekte aufweisen, muss die Menge der der Chromsäureanhydridlösung zugesetzten Verbindung gemäß der Reduktionsrate von sechswertigem Chrom zu dreiwertigem Chrom bestimmt werden. Die auf die geschwärzte Schicht angewandte Chromatbehandlung weist zusätzlich zu einem Rostschutzeffekt einen Effekt zur Verstärkung des Effekts der Schwärzung auf. Folglich ist die Chromatbehandlung eine Behandlung, welche die Schwärzung verstärkt.
Die geschwärzte Schicht und die Rostschutzschicht können mindestens auf der Oberfläche der Betrachtungsseite gebildet werden. Der Kontrast wird verbessert, so dass die Sichtbarkeit angezeigter Bilder verbessert wird. Die geschwärzte Schicht und die Rostschutzschicht können auf der anderen Oberfläche auf der Seite der Anzeige gebildet werden, um Streulicht abzuschirmen, das von der Anzeige emittiert wird, wodurch die Sichtbarkeit von Bildern verbessert wird.
Anschließend wird die transparente Basis 11 mit einem Haftmittel an die Metallschicht (die leitfähige Struktur) gebunden, die mit der Rostschutzschicht ausgestattet und mit dem Schwärzungsverfahren behandelt worden ist.
Basis: Die Basis 11 kann aus einem beliebigen Material von verschiedenen Materialien ausgebildet sein, mit der Maßgabe, dass die Materialien die gewünschte Transparenz, die gewünschten Isoliereigenschaften, die gewünschte Wärmebeständigkeit und die gewünschte mechanische Festigkeit aufweisen. Geeignete Materialien zur Bildung der Basis 11 sind z. B. Polyesterharze, einschließlich Polyethylenterephthalatharze, Polybutylenterephthalatharze, Polyethylennaphthalatharze, Polyethylenterephthalat-Isophthalat-Copolymere, Terephthalat-Cyclohexandimethanol-Ethylenglykol-Copolymere und Polyethylenterephthalat/Polyethylennaphthalatharze zur Coextrusion, Polyamidharze einschließlich Nylon 6, Nylon 66 und Nylon 610, Polyolefinharze, einschließlich Polypropylenharze und Poly(methylpenten)harze, Vinylharze einschließlich Polyvinylchloridharze, Acrylharze, einschließlich Polyacrylatharze, Polymethacrylatharze und Poly(methylmethacrylat)harze, Imidharze, einschließlich Polyimidharze, Polyamidimidharze und Poly(etherimid)harze, technische Kunststoffe, einschließlich Polyarylatharze, Polysulfonharze, Poly(ethersulfon)harze, Polyphenylenetherharze, Polyphenylensulfidharze (PPS's), Polyaramidharze, Poly(etherketon)harze, Polyethernitrilharze, Poly(etheretherketon)harze und Polyethersulfidharze, sowie Styrolharze, einschließlich Polycarbonatharze und Polystyrolharze.
Die Basis kann aus einem Copolymer ausgebildet sein, das einige der vorstehend genannten Harze als Hauptkomponenten, ein Gemisch einiger der vorstehend genannten Harze oder eine Legierung einiger der vorstehend genannten Harze enthält. Die Basis kann ein laminiertes Blatt sein. Obwohl die Basis entweder ein orientierter Film oder ein unorientierter Film sein kann, ist es im Hinblick auf die mechanische Festigkeit bevorzugt, dass die Basis ein uniaxial orientierter Film oder ein biaxial orientierter Film ist. Die Dicke der Basis liegt im Bereich von etwa 12 bis etwa 1000 μm, vorzugsweise im Bereich von 50 bis 700 μm. Die am meisten bevorzugte Dicke der Basis liegt im Bereich von 100 bis 500 μm. Wenn die Basis übermäßig dünn ist, weist die Basis eine unzureichende mechanische Festigkeit und ein Verziehen oder Ausbauchungen auf. Wenn die Basis übermäßig dick ist, weist die Basis 11 eine zu hohe Qualität auf und ist in unnötiger Weise teuer.
Die Basis ist ein Film, ein Blatt oder eine Platte mit mindestens einer Schicht aus einem dieser Harze. In dieser Beschreibung werden ein Film, ein Blatt und eine Platte als „Film„ bezeichnet. Polyesterfilme, wie z. B. Polyethylenterephthalatfilme und Polyethylennaphthalatfilme sind geeignete Filme für die Basis, da Polyesterfilme bezüglich der Transparenz und der Wärmebeständigkeit zufriedenstellend und billig sind. Polyethylenterephthalatfilme sind am besten geeignet. Obwohl Filme mit einer höheren Transparenz mehr bevorzugt sind, sind Filme mit einer Transparenz von 80% oder mehr akzeptabel.
Die Oberfläche der Basis kann durch eine Oberflächenbehandlung verändert werden, um die Oberfläche für die Haftschicht empfänglich zu machen. Die Oberflächenbehandlung kann eine Koronaentladungsbehandlung, eine Plasmabehandlung, eine Ozonbehandlung, eine Flammenbehandlung, eine Beschichtung mit einem Primer, d. h. einem Haftvermittler, einem Haftförderungsmittel oder einem Haftmittelaufnahme-verbessernden Mittel, ein Vorwärmen, eine Staubentfernungsbehandlung, eine Abscheidungsbehandlung oder eine Alkalibehandlung sein. Gegebenenfalls kann der Harzfilm Zusätze wie z. B. einen Füllstoff, einen Weichmacher und ein Antistatikmittel enthalten.
Laminierverfahren: Durch das Laminierverfahren wird eine Haftmittelschicht auf einer der Oberflächen der Basis 11 oder der leitfähigen Struktur 109 gebildet, die Haftmittelschicht gegebenenfalls getrocknet und Druck auf eine laminierte Struktur ausgeübt, die durch Aufeinanderlegen der Basis 11 und der leitfähigen Struktur 109 unter Erhitzen oder nicht Erhitzen der laminierten Struktur gebildet wird. Die laminierte Struktur kann gegebenenfalls einer Alterung bei einer Temperatur im Bereich von 30°C bis 80°C unterworfen werden. Wenn die Basis 11 aus einem Harz gebildet wird, das beim Erwärmen Hafteigenschaften aufweist, wie z. B. ein Ionomer, ein Ethylen-Vinylacetat-Copolymer oder ein Ethylen-Acrylat-Copolymer, oder wenn die Basis 11 ein laminierter Film mit einer Schicht ist, die aus einem solchen Harz ausgebildet ist, können die Basis 11 und die leitfähige Schicht 109 ohne die Verwendung eines Haftmittels einfach durch Aufeinanderlegen der Basis 11 und der leitfähigen Struktur 109 und Ausüben von Druck auf die übereinandergelegte Basis 11 und leitfähige Struktur 109 unter Erwärmen laminiert werden. Die Metallschicht 21 kann durch stromloses Abscheiden oder Vakuumabscheiden ohne Verwendung eines Haftmittels direkt auf der Basis ausgebildet werden.
Haftmittel: Es kann ein beliebiges geeignetes Haftmittel verwendet werden. Geeignete Haftmittel sind z. B. Acrylharze, Polyesterharze, Urethanharze und Polyvinylchlorid-Acetat-Harze. Eine Trockenlaminierung unter Verwendung eines hitzehärtenden Harzes, das ein zufriedenstellendes Verarbeitungsvermögen aufweist und gegen die färbenden und zersetzenden Effekte eines Ätzmittels beständig ist, ist bevorzugt. Ein UV-hartbares Harz, das durch Bestrahlen mit ionisierender Strahlung, wie z. B. UV-Strahlung, härtbar ist, ist bevorzugt.
Trockenlaminierung: Durch ein Trockenlaminierverfahren zum Laminieren von zwei Filmen werden durch Aufbringen einer Haftmittellösung, die durch Lösen eines Haftmittels in einem Lösungsmittel hergestellt wird, auf die Filme, und Trocknen der Haftmittellösung, Haftmittelschichten auf den Filmen gebildet, die Filme werden zur Bildung eines laminierten Films laminiert, und der laminierte Film wird bei einer Temperatur im Bereich von 30°C bis 120°C für mehrere Stunden bis mehrere Tage einer Alterung unterworfen, um das Haftmittel zu härten. Es kann ein lösungsmittelfreies Laminerverfahren eingesetzt werden, das durch Verbessern des Trockenlaminierverfahrens entwickelt worden ist. Durch das lösungsmittelfreie Laminierverfahren wird anstelle der Haftmittellösung ein Haftmittel auf den Filmen ausgebreitet, das Haftmittel wird getrocknet, die Filme werden zu einem laminierten Film laminiert und die laminierte Struktur wird bei einer Temperatur im Bereich von 30°C bis 120°C für mehrere Stunden bis mehrere Tage einer Alterung unterworfen, um das Haftmittel zu härten, so dass die Filme aneinander gebunden werden.
Ein Haftmittel, das für das Trockenlaminierverfahren oder das lösungsmittelfreie Laminierverfahren geeignet ist, ist ein hitzehärtendes Haftmittel oder ein durch ionisierende Strahlung härtbares Haftmittel, das mit ionisierender Strahlung, wie z. B. UV-Strahlung oder Elektronenstrahlen gehärtet werden kann. Geeignete hitzehärtende Haftmittel sind Zweikomponenten-Haftmittel, wie z. B. Urethanhaftmittel, einschließlich Polyester-Urethan-Haftmittel, Polyether-Urethan-Haftmittel und Acryl-Urethan-Haftmittel, Acrylhaftmittel, Polyesterhaftmittel, Poly-amidhaftmittel, Polyvinylacetathaftmittel, Epoxyhaftmittel und Kautschukhaftmittel. Zweikomponenten-Urethanhaftmittel sind bevorzugt.
Ein geeignetes Zweikomponenten-Urethanhaftmittel ist z. B. ein Polymer, das durch die Reaktion eines polyfunktionellen Isocyanats mit einer Verbindung mit entständigen Hydroxylgruppen erhalten wird. Geeignete polyfunktionelle Isocyanate sind z. B. aromatische (oder alicyclische) Polyisocyanate wie z. B. Toluylendiisocyanat, Diphenylmethandiisocyanat und Poly(methylen-phenylen)polyisocyanat, oder polyfunktionelle Isocyanate, wie z. B. aliphatische (oder alicyclische) Polyisocyanate, einschließlich Hexamethylendiisocyanat, Xylylendiisocyanat, Isophorondiisocyanat. Diese Polyisocyanate können Polymere (Trimere) und Additionspolymere dieser Isocyanate sein. Geeignete Verbindungen mit endständigen Hydroxylgruppen sind Polyetherpolyole, Polyesterpolyole und Polyacrylatpolyole. Ein Zweikomponenten-Urethanharz, das durch Umsetzen eines polyfunktionellen Isocyanats mit einer Verbindung mit endständigen Hydroxylgruppen erhalten wird, kann verwendet werden.
Ein bevorzugtes Haftmittel wird durch Mischen eines Polyesterpolyurethanharzes, das durch ein Styrol-Maleinsäure-Copolymer denaturiert ist, das gegen die färbenden und zersetzenden Effekte eines Ätzmittels beständig ist, mit einem aliphatischen Polyisocyanatharz erhalten.
In dem Trockenlaminierverfahren wird eine Haftmittelzusammensetzung, welche die vorstehend genannten Materialien als Hauptkomponenten enthält, in einem organischen Lösungsmittel gelöst oder dispergiert, um eine Haftmittelflüssigkeit zu erzeugen, ein Film wird mit einem Film der Haftmittelflüssigkeit durch ein Beschichtungsverfahren, wie z. B. ein Walzenbeschichtungsverfahren, ein Umkehrwalzenbeschichtungsverfahren, ein Tiefdruckwalzenbeschichtungsverfahren, ein Tiefdruckumkehrwalzenbeschichtungsverfahren, ein Tiefdruck-Offsetbeschichtungsverfahren, ein Kiss-Coating-Verfahren, ein Wire-Bar-Beschichtungsverfahren, ein Komma-Beschichtungsverfahren, ein Rakelbeschichtungsverfahren, ein Tauchbeschichtungsverfahren, ein Flutbeschichtungsverfahren oder ein Sprühbeschichtungsverfahren aufgebracht, und das Lösungsmittel wird durch Trocknen des Films der Haftmittelflüssigkeit zur Bildung einer Haftmittelschicht zur Trockenlaminierung entfernt. Ein Walzenbeschichtungsverfahren oder ein Umkehrwalzenbeschichtungsverfahren ist bevorzugt.
Die Dicke der trockenen Haftmittelschicht liegt im Bereich von etwa 0,1 bis etwa 20 μm, vorzugsweise im Bereich von 1 bis 10 μm. Die Basis wird sofort nach der Bildung der Haftmittelschicht an die leitfähige Struktur laminiert und die so gebildete laminierte Struktur wird mehrere Stunden bis mehrere Tage einer Alterung bei einer Temperatur im Bereich von 30°C bis 120°C unterworfen, um die Haftmittelschicht zu härten, so dass die Basis und die leitfähige Struktur aneinander gebunden werden. Die Haftmittelschicht kann entweder auf der Basis oder der leitfähigen Struktur gebildet werden. Vorzugsweise wird die Haftmittelschicht auf einer Kupferfolie gebildet, so dass sie die aufgerauhte Oberfläche der Kupferfolie vollständig bedeckt, um eine Bildung von Blasen in der laminierten Struktur zu verhindern.
Obwohl das lösungsmittelfreie Laminierverfahren und das Trockenlaminierverfahren im Wesentlichen gleich sind, nutzt das lösungsmittelfreie Laminierverfahren die Haftmittelzusammensetzung direkt ohne Lösen oder Dispergieren der Haftmittelzusammensetzung in einem Lösungsmittel. Gegebenenfalls wird die Haftmittelzusammensetzung erhitzt, um die Viskosität der Haftmittelzusammensetzung zu vermindern.
Haftmittel: Das Haftmittel kann ein bekanntes druckempfindliches Haftmittel sein. Bezüglich des Haftmittels bestehen keine speziellen Beschränkungen. Das Haftmittel kann eines von beliebigen geeigneten Harzen sein. Geeignete Haftmittel sind Naturkautschuk, synthetische Kautschuke, einschließlich Butylkautschuke, Polyisoprenkautschuke, Polyisobutylenkautschuke, Polychloroprenkautschuke und Styrol-Butadien-Copolymere, Silikonharze, einschließlich Dimethylpolysiloxanharze, Acrylharze, Vinylacetatharze, einschließlich Polyvinylacetatharze und Ethylen-Vinylacetat-Copolymere, Urethanharze, Acrylnitrilharze, Kohlenwasserstoffharze, Alkylphenolharze und Kolophoniumharze, einschließlich Kolophonium, Kolophoniumtriglyceridharze und hydriertes Kolophonium.
Kautschukhaftmittel: Effektive Kautschukhaftmittel sind Gemische aus einem oder mehreren Haftmittel(n), einschließlich Chloroprenkautschuk, Acrylnitril-Butadien-Kautschuk, Acrylkautschuk, Styrol-Butadien-Kautschuk, Styrol-Isopren-Styrol-Kautschuk, Styrol-Butadien-Styrol-Kautschuk, Styrol-Ethylen-Butadien-Kautschuk, Butylkautschuk, Polyisobutylenkautschuk, Naturkautschuk und Polyisoprenkautschuk, und einem oder mehreren klebrigmachenden Mitteln, einschließlich Phenolharzen, modifizierten Phenolharzen, Ketonharzen, Alkydharzen, Kolophoniumharzen, Cumaronharzen, Styrolharzen, Erdölharzen und Vinylchloridharzen.
Die Kautschukhaftmittel sind den Acrylhaftmitteln bezüglich der chemischen Beständigkeit, der Quellbeständigkeit, der Wärmebeständigkeit, der Klebrigkeit und der Ablösefestigkeit überlegen. Daher werden sich Schichten, die mit dem Kautschuk-Haftmittel gebunden worden sind, nicht ablösen, und zwar selbst dann nicht, wenn sie Säure- oder Alkalilösungen ausgesetzt werden. Das Kautschukhaftmittel unterliegt in Säure- oder Alkalilösungen kaum einer Hydrolyse und behält dessen Haftmitteleigenschaften über einen langen Zeitraum.
Haftmittelschicht: Ein Latex, eine wässrige Dispersion oder eine organische Lösung eines oder mehrerer der vorstehend genannten Harze wird in einem Haftmittelfilm auf der Oberfläche einer der beiden Schichten, die aneinander gebunden werden sollen, mit einem bekannten Druckverfahren, wie z. B. mit einem Siebdruckverfahren oder einem Komma-Beschichtungsverfahren, oder einem bekannten Beschichtungsverfahren ausgebreitet, wobei der Haftmittelfilm gegebenenfalls getrocknet wird, und dann wird die andere Schicht gegen die erstgenannte Schicht gedrückt.
Die 5A und 5B sind eine Draufsicht bzw. eine Seitenansicht, die bei der Erläuterung eines Verfahrens zum Verarbeiten eines aufgerollten kontinuierlichen Films hilfreich sind.
Zur Bildung laminierter Strukturen wird eine Rolle eines kontinuierlichen Films verwendet. In der 5 werden die Blätter zur elektromagnetischen Abschirmung 1 an vorgegebenen Intervallen auf dem von einer Rolle abgewickelten kontinuierlichen Film gebildet. Die 5B zeigt die leitfähige Struktur 109, welche die Metallschicht 21 umfasst und an die Basis 11 laminiert ist. Die leitfähige Struktur 109 wird durch Bilden der geschwärzten Schichten, der Rostschutzschichten und der Metallschicht 21 auf dem von einer Rolle abgewickelten kontinuierlichen Film gebildet. Die Haftmittelschicht wird auf der Rostschutzschicht der leitfähigen Struktur 109 durch Ausbreiten eines Haftmittels in einem Haftmittelfilm auf der Oberfläche der Rostschutzschicht und Trocknen des Haftmittelfilms hergestellt. Die leitfähige Struktur 109 wird durch Drücken der leitfähigen Struktur gegen die Basis 11 an die Basis 11 gebunden. Gegebenenfalls wird eine laminierte Struktur, die durch Aneinanderbinden der leitfähigen Struktur 109 und der Basis 11 gebildet worden ist, bei einer Temperatur im Bereich von 30°C bis 80°C mehrere Stunden bis mehrere Tage gealtert (gehärtet), und die laminierte Struktur wird auf einer Rolle aufgewickelt.
Photolithographie: Ein Photolackfilm mit einem vorgegebenen netzförmigen Muster wird auf der leitfähigen Struktur 109 der laminierten Struktur gebildet, Teile der leitfähigen Struktur 109, die nicht mit dem Photolackfilm beschichtet sind, werden durch Ätzen entfernt und der Photolackfilm wird entfernt, um eine netzförmige leitfähige Struktur zu vervollständigen.
Maskierung: Die leitfähigen Strukturen der kontinuierlichen laminierten Struktur, die durch Aneinanderbinden der Basis 11 und der leitfähigen Struktur 109 erhalten und von einer Rolle abgewickelt wird, werden mittels Photolithographie zur Bildung netzförmiger leitfähiger Strukturen 109 verarbeitet. Die kontinuierliche laminierte Struktur wird zum Maskieren, Ätzen und zum Photolackentfernen verarbeitet, während die kontinuierliche laminierte Struktur gespannt gehalten und kontinuierlich oder diskontinuierlich zugeführt wird.
Durch die Maskierung wird z. B. ein Photolackfilm über der gesamten Oberfläche der leitfähigen Struktur 109 gebildet, der Photolackfilm wird getrocknet, eine Maske mit einem vorgegebenen Muster wird auf den Photolackfilm aufgebracht, der Photolackfilm wird durch die Maske in dem vorgegebenen Linienmuster, das Maschen definiert, belichtet, der belichtete Photolackfilm wird entwickelt, der entwickelte Photolackfilm wird mit einer Härtungsbehandlung behandelt und der mit einem Muster versehene Photolackfilm wird eingebrannt.
Der Photolackfilm wird auf der Oberfläche der leitfähigen Struktur 109 durch Aufbringen des Photolacks, wie z. B. Casein, eines PVA oder Gelatine, auf die Oberfläche der leitfähigen Struktur 109 durch ein Tauchverfahren, ein Vorhangbeschichtungsverfahren oder ein Flutbeschichtungsverfahren gebildet, während die laminierte Struktur, die durch Laminieren der Basis 11 und der leitfähigen Strukturen 109 gebildet worden ist, von einer Rolle abgewickelt und kontinuierlich oder diskontinuierlich zugeführt wird. Der Photolackfilm kann anstelle des Aufbringens des flüssigen Photolacks auf die leitfähige Struktur 109 durch Binden eines trockenen Photolackfilms an die leitfähige Struktur 109 gebildet werden. Die Einbrenntemperatur liegt im Bereich von 200°C bis 300°C, wenn ein Caseinphotolack verwendet wird. Es ist bevorzugt, die laminierte Struktur bei der niedrigsten möglichen Temperatur einzubrennen, um ein Verziehen der laminierten Struktur zu verhindern.
Ätzverfahren: Der Photolackfilm wird nach dem Maskieren des Photolackfilms mit einer Maske geätzt. Für ein kontinuierliches Ätzverfahren sind eine Eisen(III)-chloridlösung und eine Kupfer(II)-chloridlösung bevorzugt, die einfach umgewälzt werden können. Im Wesentlichen ist das Ätzverfahren einem Ätzverfahren unter Verwendung eines Abdeckmaskenbildungssystems zum Ätzen eines kontinuierlichen dünnen Stahlblechs mit einer Dicke im Bereich von 20 bis 80 μm zur Bildung von Abdeckmasken für CRT's für Farbfernsehgeräte ähnlich. Das Ätzverfahren kann mit einem vorhandenen Abdeckmaskenbildungssystem durchgeführt werden und eine Reihe von Schritten ausgehend von einem Maskierungsschritt bis zu einem Ätzverfahren kann sehr effektiv kontinuierlich durchgeführt werden. Die laminierte Struktur wird mit Wasser gewaschen, der Photolackfilm wird mit einer Alkalilösung entfernt, die laminierte Struktur wird erneut gewaschen und dann wird die laminierte Struktur getrocknet.
Netzförmige Struktur: Die netzförmige Struktur 103 weist die Linien 107 auf, welche die Öffnungen 105 definieren. Bezüglich der Form der Öffnungen 105 gibt es keine speziellen Beschränkungen. Die Öffnungen 105 können eine dreieckige Form, wie z. B. die Form eines gleichseitigen Dreiecks oder eines gleichschenkligen Dreiecks, eine viereckige Form, wie z. B. die Form eines Quadrats, eines Rechtecks, einer Raute oder eines Trapezes, eine polygonale Form, wie z. B. die Form eines Fünfecks, eines Sechsecks oder eines Achtecks, eine runde Form oder eine elliptische Form aufweisen. Die Öffnungen 105 bilden ein Netz.
Eine Musterplatte wird im Hinblick auf die Erfüllung von Anforderungen bezüglich des Verhältnisses des offenen Bereichs, der Unsichtbarkeit des Netzes und der Sichtbarkeit von Bildern derart netzförmig in einem Muster ausgebildet, dass die Breite W (2) von Teilen des Musters, die den geraden Teilen der Linien 107 der netzförmigen Struktur 103 entsprechen, innerhalb von C (1 ± 30%) liegt, wobei C ein vorgegebener Wert ist. Vorzugsweise liegt die Breite W innerhalb von C (1 ± 20%), mehr bevorzugt innerhalb von C (1 ± 10%). Die Bedingungen für das Ätzverfahren werden so gesteuert, dass die netzförmige Struktur 103 mit den Linien 107 mit Breiten innerhalb des Bereichs von C (1 ± 30%) gebildet wird. Gemäß der 7 liegt der Radius r der Krümmung einer Seitenfläche, die sich zwischen der oberen Seite 107U und der unteren Seite 107B eines Schnitts der Linien 107 in einer Ebene senkrecht zu der transparenten Basis erstreckt, im Bereich des 1,5- bis 3,0-fachen der Dicke t der Metallschicht (1,5t ≤ r ≤ 3,0t). Vorzugsweise liegt die Breite W der Linien 107 der netzförmigen Struktur 103 zwischen 5 und 25 μm und die Abstände zwischen den Linien 107 zwischen 150 und 500 μm.
Im Allgemeinen weist ein Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung für einen großen Plasmabildschirm tausende von sich schneidenden geraden Linien auf. Die Linien 107 werden derart ausgebildet, dass deren Breiten innerhalb eines gewünschten Breitenbereichs verteilt sind und der Radius der Seitenfläche einer Erhebung, die sich zwischen der oberen und der unteren Seite eines Schnitts der Linien 107 erstreckt, wird eingestellt. Das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung 1, das diese Bedingungen erfüllt, weist ein elektromagnetisches Abschirmungsvermögen, eine geeignete Transparenz, einheitlich angeordnete Maschen, wenige schwarze und weiße Punktfehler und lineare Fehler, eine Oberfläche, die nicht blendet oder welche die Reflexion von externem Licht unterdrückt, auf, und ermöglicht das Betrachten von Bildern mit einer hervorragenden Sichtbarkeit.
Der Bereich der Verteilung der Breiten der Linien 107, die z. B. eine Nennlinienbreite von 14 μm aufweisen, beträgt 14 ± 4,2 μm, d. h. zwischen 9,8 und 18,2 μm. Wenn die Breiten der Linien 107 innerhalb dieses Bereichs liegen, bilden die Linien 107 keine Maschen mit einer unregelmäßigen Dichte und keine unerwünschten schwarzen und/oder weißen Punktfehler und lineare Fehler. Wenn die Breiten der Linien 107 in einem übermäßig großen Breitenbereich verteilt sind, werden die Maschen in einer unregelmäßigen Maschendichte gebildet. Teile des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung, bei denen die Linien 107 eine übermäßig große Breite aufweisen, bilden unerwünschte schwarze Punktfehler, und Teile des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung, bei denen die Linien 107 eine übermäßig geringe Breite aufweisen, bilden unerwünschte weiße Punktfehler. Weiße und/oder schwarze Punktfehler führen beim Betrachter zu einem sehr starken Eindruck einer Fehlerhaftigkeit.
Die laminierte Struktur 103 des erfindungsgemäßen Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung 1 wird durch ein kontinuierliches photolithographisches Verfahren ausgebildet und weist Linien mit Breiten innerhalb des vorgegebenen Breitenbereichs auf. Daher werden die Maschen der netzförmigen Struktur 103 nicht mit einer unregelmäßigen Maschendichte ausgebildet und das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung 1 weist ein zufriedenstellendes elektromagnetisches Abschirmungsvermögen und eine geeignete Transparenz auf. Die unregelmäßige Maschendichte, die schwarzen und/oder weißen Punktfehler und die linearen Fehler werden gebildet, wenn ein Sprühnebel des Photolacks an Teilen haftet, die von Teilen verschieden sind, die mit dem Photolack beschichtet werden sollen. Solche Probleme treten bei dem kontinuierlichen Photolithographieverfahren kaum auf.
Ein peripherer Teil, der an den Umfang der netzförmigen Struktur 103 angrenzt, kann von dem Teil ausgeschlossen werden, für den die Breite W der Linien 107 eingestellt wird. D. h., der Erdungsrahmen 101, der aus der Metallschicht 21 ausgebildet ist und die netzförmige Struktur 103 umgibt, weist keine Linien 107 auf und in manchen Fällen sind die Endteile der Linien 107 in dem peripheren Teil in Richtung des Erdungsrahmens 101 verbreitert. Die Breite des peripheren Teils der netzförmigen Struktur 103 entspricht zwischen 1 und 50 Maschen oder liegt zwischen 0,15 und 15 mm, und entspricht vorzugsweise zwischen 1 und 25 Maschen oder liegt zwischen 0,3 und 7,5 mm.
Ein geeigneter Photolack wird ausgewählt und die Bedingungen des Ätzverfahrens werden so eingestellt, dass die Linien 107 derart ausgebildet werden, dass der Radius r der Krümmung einer Seitenfläche 107S, die sich zwischen der oberen Seite 107U und der unteren Seite 107B einer Erhebung in einem Schnitt der Linien 107 in einer Ebene senkrecht zu der transparenten Basis erstreckt, im Bereich des 1,5- bis 3,0-fachen der Dicke der Metallschicht liegt, und dass die Breite W der Linien 107 innerhalb von C (1 ± 30%) liegt, wobei C ein vorgegebener Wert ist. Beispielsweise ist es bevorzugt, dass ein trockener Photolack oder ein flüssiger Photolack verwendet wird, dass ein Ätzmittel mit einem Baumé-Grad von 35° oder mehr verwendet wird, dass als Ätzmittel eine Eisen(III)-chlorid-Lösung oder eine Kupfer(II)-chlorid-Lösung, die auf 35°C oder mehr erwärmt worden ist, verwendet wird, dass das Ätzmittel mit einer Sprühgeschwindigkeit von 2000 ml/min oder mehr versprüht wird und dass eine Sprühdüse in einer vertikalen oder horizontalen Ebene hin- und herbewegt wird.
Der Krümmungsradius und die Linienbreite der Linien können einfach durch Ausbilden der Linien des Musters mit einer Genauigkeit von ±30% oder höher, Ausbilden der Linien des Musters in einer Breite von mehr als der Linienbreite der Linien 107 zur Erhöhung der Menge der zu ätzenden Teile und Ätzen der laminierten Struktur 109 mit einer niedrigen Ätzgeschwindigkeit eingestellt werden.
Der Krümmungsradius einer Seitenfläche, die sich zwischen der oberen und der unteren Seite einer Erhebung erstreckt, wird aus den Längen der Seiten einer Elektronenmikrographie der Linie 107 in einem Prüfkörper, der durch Schneiden des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung in einer Ebene senkrecht zur transparenten Basis mit einem Mikrotom zu einer Scheibe und Beschichten der Scheibe mit einer Platin-Palladium-Legierung durch Sputtern erhalten worden ist, bei 2000-facher Vergrößerung abgeschätzt. Der Schnitt der Erhebungen, die durch das Ätzen gebildet worden sind, weist nicht notwendigerweise eine richtige Kreisform auf. Die Linie, welche die Seitenfläche der Erhebung darstellt, kann eine Linie sein, die dem Umfang einer im Wesentlichen kreisförmigen Form oder einer geneigten Seite eines Trapezes ähnlich ist.
Es ist bevorzugt, dass der Krümmungsradius einer Kurve, die sich zwischen den jeweiligen rechten Enden der oberen und der unteren Seite erstreckt, oder einer Kurve, die sich zwischen den jeweiligen linken Enden der oberen und der unteren Seite erstreckt, zwischen dem 1,5- und dem 3,0-fachen der Dicke der Metallschicht liegt. Der Krümmungsradius muss nicht notwendigerweise feststehend sein und kann variiert werden, mit der Maßgabe, dass der Krümmungsradius im Bereich des 1,5- bis 3,0-fachen der Dicke der Metallschicht liegt.
Obwohl die in der 1 gezeigten Linien geneigte Linien sind, die zur unteren Seite des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung um 45° geneigt sind, ist der Winkel der Linien bezogen auf die untere Seite nicht darauf beschränkt und kann unter Berücksichtigung der Lichtemissionseigenschaften der dazugehörigen Anzeige und der Anordnung der Pixel zur Verhinderung eines Moirée selektiv festgelegt werden.
Einebnung: Die Linien 107 der netzförmigen Struktur weisen eine Höhe auf, die der Dicke der Metallschicht 21 entspricht und Teile der Metallschicht 21 werden entfernt, um die Öffnungen 105 zu bilden. Die Öffnungen 105 sind Vertiefungen, die von den Linien 107 umgeben sind. Folglich weist die leitfähige Struktur 109 eine unregelmäßige Oberfläche auf. Wenn ein Haftmittel (oder ein druckempfindliches Haftmittel) auf die unregelmäßige Oberfläche der leitfähigen Struktur 109 durch das nachfolgende Verfahren aufgebracht wird, werden die Öffnungen 105 mit dem Haftmittel aufgefüllt. Es kommt häufig vor, dass Luft, welche die Öffnungen 105 füllt, nicht vollständig durch das Haftmittel ersetzt wird und in dem Haftmittel, das die Öffnungen 105 füllt, Blasen gebildet werden. Die Grenzflächen zwischen den Blasen und dem Haftmittel streuen Licht, so dass die Trübung (oder Schleierbildung) zunimmt.
Daher ist es bevorzugt, die Oberfläche der leitfähigen Struktur 109 durch Auffüllen der Vertiefungen mit einem transparenten Harz einzuebnen, um ein solches Problem zu vermeiden.
Die Vertiefungen werden zum Einebnen mit einem transparenten Harz gefüllt. In dem transparenten Harz sind Blasen enthalten, so dass die Transparenz vermindert wird, bis die Vertiefungen vollständig mit dem transparenten Harz gefüllt sind. Daher wird ein transparentes Harz, das mit einem Lösungsmittel verdünnt ist und eine niedrige Viskosität aufweist, auf die Oberfläche der leitfähigen Struktur 109 als Harzfilm aufgebracht und der Harzfilm wird getrocknet, um die Einebnungsschicht 29 zu bilden, oder das Harz wird auf die Oberfläche der leitfähigen Struktur 109 aufgebracht und das Harz wird entgast, um die Einebnungsschicht zu bilden.
Die Einebnungsschicht 29 kann aus einem beliebigen geeigneten Harz gebildet werden, mit der Maßgabe, dass das Harz eine hohe Transparenz und ein ausreichendes Haftvermögen an dem Metall, das die netzförmige Struktur bildet, und an einem Haftmittel aufweist, das in dem nachfolgenden Verfahren verwendet wird. Wenn in der Oberfläche der Einebnungsschicht 29 Vorwölbungen oder Vertiefungen gebildet werden und die Oberfläche der Einebnungsschicht wellig ist, werden ein Moirée, Interferenzfarbsäume und/oder Newton'sche Ringe gebildet, wenn das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung vor einer Anzeige angeordnet wird. Es ist bevorzugt, ein hitzehärtendes oder UV-hartbares Harz, das mit einem Lösungsmittel verdünnt worden ist und eine niedrige Viskosität aufweist, auf die leitfähige Struktur 109 aufzubringen, so dass die Vertiefungen, welche die Öffnungen 105 bilden, vollständig gefüllt werden und eine Harzschicht gebildet wird, das Lösungsmittel von der Harzschicht durch Trocknen zu entfernen, ein flaches Trennblatt auf die Oberfläche der Harzschicht aufzubringen, die Harzschicht durch Erhitzen oder Bestrahlen mit UV-Strahlung zu härten, und das Trennblatt von der gehärteten Harzschicht zu entfernen. Die ebene Oberfläche des Trennblatts wird auf die Einebnungsschicht 29 zur Bildung einer ebenen Oberfläche übertragen.
Die Einebnungsschicht 29 kann aus einem beliebigen geeigneten Harz ausgebildet sein, wie z. B. einem natürlichen Harz, einem synthetischen Harz, einem hitzehärtenden Harz oder einem mit ionisierender Strahlung härtbaren Harz. Im Hinblick auf die Dauerbeständigkeit, das Aufbringungsvermögen und die Einebnungseigenschaften sind geeignete Materialien zur Bildung der Einebnungsschicht 29 UV-härtbare Acrylharze.
Nahinfrarotabsorptionsschicht: Das Harz, das die Einebnungsschicht 29 bildet, kann ein Nahinfrarotabsorptionsmittel enthalten, das Nahinfrarotstrahlung in einem spezifischen Wellenband absorbieren kann. Ein unangenehmer Eindruck, der durch die angezeigten Bilder verursacht wird, wird unterdrückt und die Sichtbarkeit angezeigter Bilder wird durch die Absorption sichtbarer Strahlung und/oder von Infrarotstrahlung in einem spezifischen Wellenband unterdrückt. Das spezifische Wellenband der Wellenlängen von Nahinfrarotstrahlung liegt zwischen etwa 780 und etwa 1200 nm, insbesondere zwischen 800 und 1100 nm. Es ist bevorzugt, 80% oder mehr der Nahinfrarotstrahlung mit Wellenlängen in einem Wellenband von 800 bis 1000 nm zu absorbieren. Obwohl jegliches geeignete Nahinfrarotabsorptionsmittel verwendet werden kann, ist ein geeignetes Nahinfrarotabsorptionsmittel z. B. ein Farbgebungsmaterial mit elektromagnetischen Peakabsorptionswellenlängen im Nahinfrarotwellenband, mit einer hohen Lichtdurchlässigkeit im sichtbaren Bereich und ohne spezifische elektromagnetische Peakabsorptionswellenlänge im sichtbaren Bereich. Gewöhnlich enthält sichtbares Licht, das von einem PDP emittiert wird, eine große Menge an orangem Licht mit einem Spektrum, das dem Emissionsspektrum von Neonatomen entspricht. Daher ist es bevorzugt, dass die Einebnungsschicht 29 ein farbtonkorrigierendes Lichtabsorptionsmittel enthält, das einen Teil des sichtbaren Lichts mit Wellenlängen im Bereich von etwa 570 bis etwa 605 nm absorbiert. Farbgebungsmaterialien, die diese Anforderung erfüllen, umfassen Cyaninverbindungen, Phthalocyaninverbindungen, Naphthalocyaninverbindungen, Naphthochinonverbindungen, Anthrachinonverbindungen, Dithiolkomplexe, Ammoniumverbindungen und Diammoniumverbindungen. Geeignete farbtonkorrigierende Lichtabsorptionsmittel sind Azoverbindungen und Phthalocyaninverbindungen. Obwohl die Einebnungsschicht 29 in dieser Ausführungsform das Nahinfrarotabsorptionsmittel enthält, kann auf mindestens einer der Oberflächen der leitfähigen Struktur 109 eine Nahinfrarot-absorbierende Schicht, die ein Nahinfrarotabsorptionsmittel enthält, ausgebildet sein.
Nahinfrarot-absorbierende Schicht: Nahinfrarot-absorbierende Schichten werden auf den Oberflächen der Einebnungsschicht 29 und der Basis 11 ausgebildet, oder eine Nahinfrarot-absorbierende Schicht wird auf der Oberfläche der Einebnungsschicht 29 oder der Basis 11 ausgebildet. Eine Nahinfrarot-absorbierende Schicht 31A ist gemäß der 1 auf der Basis 11 ausgebildet. Eine Nahinfrarot-absorbierende Schicht 31B ist gemäß der 1 auf der Oberfläche der Einebnungsschicht 29 ausgebildet. Die Nahinfrarot-absorbierenden Schichten 31A und 31B können käufliche Nahinfrarot-absorbierende Filme sein, wie z. B. Film Nr. 2832, der von Toyobo erhältlich ist, die mit einem Haftmittel an die Basis 11 und die Abflachungsschicht 29 gebunden sind, oder es kann sich um Filme aus einem Bindemittel handeln, welches das vorstehend genannte Nahinfrarot-absorbierende Mittel enthält.
Geeignete Bindemittel umfassen Polyesterharze, Polyurethanharze, Acrylharze und hitzehärtende oder UV-härtbare Harze, welche die Reaktion von Epoxygruppen, Acrylatgruppen, Methacrylatgruppen oder Isocyanatgruppen nutzen.
Antireflexionsschicht: Eine Antireflexionsschicht, die nicht gezeigt ist, kann auf einer Oberfläche der Betrachtungsseite des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung ausgebildet sein. Die Antireflexionsschicht verhindert die Reflexion von sichtbarem Licht. Es gibt verschiedene käufliche Einzelschicht- und Mehrschicht-Antireflexionsfilme. Ein Mehrschicht-Antireflexionsfilm besteht aus abwechselnden Schichten mit hoher Beugung und niedriger Beugung. Geeignete Schichten mit hoher Beugung sind solche aus Nioboxid, Titanoxid, Zirkoniumoxid und ITO. Geeignete Schichten mit niedriger Beugung sind solche aus Siliziumoxid, Magnesiumfluorid und dergleichen. Einige Antireflexionsfilme weisen eine Schicht mit einer fein aufgerauhten Oberfläche auf, die externes Licht in einem diffusen Reflexionsmodus reflektiert.
Hartbeschichtungsschicht, schmutzabweisende Schicht, Antiblendschicht: Eine Hartbeschichtungschicht, eine schmutzabweisende Schicht und eine Antiblendschicht können auf der Antireflexionsschicht ausgebildet sein. Die Hartbeschichtungsschicht weist eine Härte von nicht weniger als eine Härte H auf, die mittels eines Bleistifthärtetests gemäß JIS K 5400 bestimmt wird. Die Hartbeschichtungsschicht wird dadurch gebildet, dass ein Film aus einem polyfunktionellen Acrylatharz, wie z. B. einem Polyester(meth)acrylatharz, einem Urethan(meth)acrylatharz oder einem Epoxy(meth)acrylatharz erhitzt oder mit ionisierender Strahlung bestrahlt wird. Die schmutzabweisende Schicht ist eine wasserabweisende und ölabweisende Beschichtung aus einer Siloxanverbindung oder einer fluorierten Alkylsilylverbindung. Die Antiblendschicht weist eine fein aufgerauhte Oberfläche auf, die externes Licht in einem diffusen Reflexionsmodus reflektieren kann.
Schneiden: Ein kontinuierliches Basisblatt, auf dem die Strukturen zur elektromagnetischen Abschirmung ausgebildet sind, wird von einer Rolle abgewickelt und das kontinuierliche Basisblatt wird geschnitten, um einzelne Blätter zur elektromagnetischen Abschirmung 1 bereitzustellen. Eine Frontplatte für eine Anzeige wird durch Aufbringen des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung 1 auf ein transparentes Substrat, wie z. B. ein Glassubstrat, gebildet. Gegebenenfalls werden eine Antireflexionsschicht, eine Hartbeschichtungschicht, eine schmutzabweisende Schicht und/oder eine Antiblendschicht auf das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung 1 laminiert, um eine Frontplatte für eine Anzeige zu bilden. Zur Bildung einer Frontplatte für eine große Anzeige wird ein starres transparentes Substrat mit einer Dicke im Bereich von 1 bis 10 mm verwendet. Zur Bildung einer Frontplatte für eine kleine Anzeige, wie z. B. einer Buchstabenanzeige oder dergleichen, wird ein Kunststofffilm mit einer Dicke im Bereich von 0,01 bis 0,5 mm als transparentes Substrat verwendet. Folglich wird ein geeignetes transparentes Substrat selektiv gemäß der Größe und der Anwendung der Anzeige verwendet. Das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung 1 kann direkt auf den Schirm einer Anzeige aufgebracht werden.
Die 6 ist eine Schnittansicht eines Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung einer anderen erfindungsgemäßen Ausführungsform, die einem Schnitt bei der Linie A-A in der 2 entspricht. Dieses Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung soll auf den Schirm einer Anzeige aufgebracht werden.
Direktes Aufbringen: Das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung 1 wird auf den Schirm einer Anzeige aufgebracht, wobei die netzförmige Metallschicht 21 auf die Betrachtungsseite gerichtet ist, und wobei mindestens eine geschwärzte Schicht und eine Rostschutzschicht auf der Metallschicht 21 ausgebildet sind. Wenn das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung 1 so auf der Anzeige aufgebracht worden ist, liegt der Erdungsrahmen 101 frei und kann einfach mit einer Erdung verbunden werden. Da der Erdungsrahmen 101 durch das Schwärzungsverfahren verarbeitet worden ist und auf die Betrachtungsseite gerichtet ist, erfordert die Frontglasplatte keinen aufgedruckten schwarzen Rahmen, was das Verfahren vereinfacht und einen vorteilhaften Effekt bezüglich einer Kostenreduzierung hat.
Beispiel 1
Eine leitfähige Struktur wurde dadurch gebildet, dass eine 10 μm dicke Elektrolytkupferfolie in dieser Reihenfolge einem Schwärzungsverfahren, das eine geschwärzte Schicht bildet, die aus Cu-Co-Legierungsteilchen mit einer durchschnittlichen Teilchengröße von 0,3 μm besteht, sowie einer Chromatierungsbehandlung, die eine chromatierte Schicht bildet, unterworfen wurde. Ein 100 μm dicker, transparenter biaxial orientierter PET-Film A4300^® (Toyobo) als Basis wurde auf die geschwärzte Schicht der Cu-Folie mit einem Zweikomponenten-Polyurethanhaftmittel laminiert. Eine durch Laminieren des PET-Films und der Cu-Folie gebildete Struktur wurde vier Tage bei 56°C altern gelassen. Das Zweikomponenten-Haftmittel umfasst TAKERAKKU A-310^® (Polyol) (Takeda Yakuhin Kogyo) als Haftmittelharz und Härtungsmittel A-10^® (Isocyanat) (Takeda Yakuhin Kogyo) als Härtungsmittel. Das Zweikomponentenhaftmittel wurde in einem trockenen Zustand als 7 μm dicker Film ausgebreitet.
Die als kontinuierlicher laminierter Film gebildete Struktur wurde maskiert und durch ein photolithographisches Verfahren geätzt. Das photolithographische Verfahren wurde mit einer Abdeckmaskenherstellungsanlage zur Herstellung von Abdeckmasken für Farbfernsehgeräte durchgeführt. Ein Photolackfilm aus Casein wurde über der gesamten Oberfläche der leitfähigen Struktur des laminierten Films mit einem Flutbeschichtungsverfahren gebildet. Der laminierte Film wurde zum nächsten Bereich transportiert. Die laminierte Struktur wurde Licht, das von einer Quecksilberdampflampe emittiert wurde, durch eine Photomaske mit einem Muster zur Bildung von 22 ± 1 μm breiten Linien, die quadratische Öffnungen definierten, in Abständen von 300 μm angeordnet und mit 49° geneigt waren, und von 5 mm breiten Erdungsteilen ausgesetzt. Die laminierte Struktur wurde in den nachfolgenden Stationen zur Entwicklung, Härtung und zum Einbrennen bei 80°C verarbeitet.
Anschließend wurden Teile der Cu-Folie und diejenigen Teile der geschwärzten Schicht, die den Öffnungen entsprachen, durch ein Sprühätzverfahren, das einen Seitenätzeffekt aufwies, unter Verwendung einer auf 40°C erwärmten Eisen(III)-chlorid-Lösung, die einen Baumé-Grad von 40° aufwies, als Ätzmittel entfernt. Der laminierte Film wurde durch die nachfolgenden Verfahren an den nachfolgenden Stationen zum Waschen, zur Entfernung des Photolackfilms, zum Spülen und zum Trocknen bei 80°C verarbeitet, um die Blätter zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 zu vervollständigen.
Beispiel 2
Blätter zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 2 wurden mit dem gleichen Verfahren wie demjenigen zur Bildung der Blätter zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 gebildet, jedoch wurde in dem Verfahren eine Eisen(III)-chlorid-Lösung mit einem Baumé-Grad von 35° als Ätzmittel verwendet.
Vergleichsbeispiel 1
Blätter zur elektromagnetischen Abschirmung des Vergleichsbeispiels 1 wurden mit dem gleichen Verfahren wie demjenigen zur Bildung der Blätter zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 gebildet, jedoch wurde in dem Verfahren eine trockene Photolackfolie verwendet und die Teile der Cu-Folie und die Teile der geschwärzten Schicht, die den Öffnungen entsprachen, wurden mit einem Fließätzverfahren unter Verwendung einer Eisen(III)-chlorid-Lösung mit einem Baumé-Grad von 20° als Ätzmittel geätzt.
Beispiel 3
Blätter zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 3 wurden durch die Schritte des Beschichtens der Oberflächen der netzförmigen Strukturen der Blätter zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 mit einem Film einer Einebnungszusammensetzung, des Laminierens mit 50 μm dickem SP-PET20-BU^® (Tosero), d. h. einem PET-Film mit einer Oberfläche mit einer Trenneigenschaft, auf die Oberfläche des Films der Einebnungszusammensetzung, des Aussetzens der so beschichteten Blätter zur elektromagnetischen Abschirmung einer Strahlung mit einer Intensität von 200 mJ/cm² (bei 365 nm), die von einer Hochdruckquecksilberdampflampe emittiert wird, und des Entfernens des SP-PET20-BU hergestellt. Die Blätter zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 3 wiesen eine Einebnungsschicht aus der Einebnungszusammensetzung auf, welche die Öffnungen der netzförmigen Strukturen füllte.
Die Einebnungszusammensetzung wurde durch Mischen von 20 Massenteilen N-Vinyl-2-pyrrolidon, 25 Massenteilen Dicyclopentenylacrylat, 52 Massenteilen Oligoesteracrylat (M-8060^®, Toa Gosei) und 3 Massenteilen 1-Hydroxycyclohexylphenylketon (IRGACURE 184, Ciba-Geigy) hergestellt.
Beispiel 4
Die Blätter zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 4 waren mit denjenigen des Beispiels 2 identisch, jedoch wiesen die Blätter zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 4 eine Einebnungsschicht auf, die aus einem Material gebildet wurde, das durch Zugeben von einem Massenteil eines Thiol-Nickel-Komplexes, d. h. eines Nahinfrarotabsorptionsmittels, hergestellt worden ist.
Beispiel 5
Die Blätter zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 5 waren mit denjenigen des Beispiels 2 identisch, jedoch wurde der NIR-Film Nr. 2832^® (Toyobo), d. h. ein Nahinfrarot-absorbierender Film, mit einem Haftmittel an die Einebnungsschicht laminiert.
Beispiel 6 (Direktes Aufbringen)
Die Blätter zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 6 waren mit denjenigen des Beispiels 1 identisch, jedoch wurde ein PET-Film auf eine Oberfläche aufgebracht, die nicht mit einer Chromatbehandlung zur Bildung einer Schicht aus Cu-Co-Legierungsteilchen behandelt worden ist, und eine Einebnungsschicht wurde mit dem gleichen Verfahren gebildet, wie demjenigen, das zur Bildung der Einebnungsschicht der Blätter zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 3 verwendet worden ist.
Bewertung
Die Linienbreite, die jeweiligen Breiten der oberen und der unteren Seite von zufällig ausgewählten 100 Schnitten der Linien wurden durch Messen der entsprechenden Abmessungen in Mikrographien der Schnitte der Linie 107 bei einer 400-fachen Vergrößerung bestimmt. Die Dichteverteilung der Maschen wurde durch visuelle Untersuchung bewertet. Die Sichtbarkeit von Bildern wurde durch die visuelle Betrachtung angezeigter Bilder durch das an dem Schirm des PDP angebrachten Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung bewertet. Der Krümmungsradius der Seitenfläche wurde durch die Messung der entsprechenden Abmessung in einer Elektronenmikrographie eines Prüfkörpers bei einer 2000-fachen Vergrößerung bestimmt.
Bewertungsergebnisse
In dem Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 lagen die Linienbreiten der Linien im Bereich von 8 bis 12 μm, was innerhalb von C (1 ± 20%) lag, die Verteilung der Maschendichte war einheitlich, der Krümmungsradius der Seitenfläche der Erhebung betrug 30 μm (das 3,0-fache der Dicke der leitfähigen Struktur), die durch den PDP angezeigten Bilder blendeten nicht und die Sichtbarkeit der angezeigten Bilder war zufriedenstellend.
In dem Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 2 lagen die Linienbreiten der Linien im Bereich von 7 bis 13 μm, was innerhalb von C (1 ± 20%) lag, die Verteilung der Maschendichte war einheitlich, der Krümmungsradius der Seitenfläche der Erhebung betrug 15 μm (das 1,5-fache der Dicke der leitfähigen Struktur), die durch den PDP angezeigten Bilder blendeten nicht und die Sichtbarkeit der angezeigten Bilder war zufriedenstellend.
In dem Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Vergleichsbeispiels 1 betrug der Krümmungsradius der Seitenfläche der Erhebung 10 μm (das 1,0-fache der Dicke der leitfähigen Struktur), die durch den PDP angezeigten Bilder blendeten, die Linienbreiten lagen im Bereich von 9 bis 19 μm, was außerhalb des gewünschten Bereichs von C (1 ± 30%) lag, und die Verteilung der Maschendichte war uneinheitlich.
Die Blätter zur elektromagnetischen Abschirmung der Beispiele 3 bis 5 wurden an der Vorderfläche des PDP angebracht, der PDP zeigte weiße und schwarze Bilder an und die weißen und schwarzen Bilder wurden betrachtet. Die Oberfläche des PDP blendete nicht, weiße und/oder schwarze Punktfehler und lineare Fehler wurden nicht festgestellt und die Sichtbarkeit war hervorragend.
Wenn das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 6 so auf den PDP aufgebracht wurde, dass dessen Basis an die Oberfläche des PDP mit einem Haftmittel gebunden wurde, wurde durch das von dem PDP erzeugte Reflexionslicht nur wenig Streulicht erzeugt, der PDP blendete nicht und die Sichtbarkeit von Bildern, die durch den PDP angezeigt wurden, war zufriedenstellend, der Aufwand für die Erdung der Elektrode war vermindert und das Glassubstrat erforderte keinen gedruckten schwarzen Rahmen.
Die erfindungsgemäßen Blätter zur elektromagnetischen Abschirmung werden vor Anzeigen angeordnet, um die durch die Anzeigen erzeugte elektromagnetische Strahlung abzuschirmen, wobei die unsichtbaren Linien der netzförmigen Struktur sowohl ein elektromagnetisches Abschirmungsvermögen als auch eine hohe Transparenz aufweisen. Da die Linienbreiten innerhalb des vorgegebenen Bereichs liegen, ist die Verteilung der Maschendichte einheitlich. Da die netzförmige Struktur derart ausgebildet ist, dass das Verhältnis des Krümmungsradius der Erhebung in dem Schnitt der Linie zur Dicke der netzförmigen Struktur innerhalb des spezifizierten Bereichs liegt, verhindert das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung ein Blenden durch den Schirm der Anzeige und verbessert die Sichtbarkeit von Bildern.

Claims

Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung, das eine transparente Basis und eine netzförmige leitfähige Struktur, die auf eine der Oberflächen der transparenten Basis laminiert ist, umfasst, wobei die leitfähige Struktur Linien mit geraden Teilen mit einer Breite im Bereich von C (1 ± 30%) aufweist, wobei C ein vorgegebener Wert ist und C (1 ± 30%) angibt, dass Fehler in der Breite innerhalb ±30% von dem vorbestimmten Wert C verteilt sind, und wobei die Breiten der geraden Teile der Linien der leitfähigen Struktur im Bereich von 5 bis 25 μm liegen.
Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung, das eine transparente Basis und eine netzförmige leitfähige Struktur, die auf eine der Oberflächen der transparenten Basis laminiert ist, umfasst, wobei die leitfähige Struktur Linien mit geraden Teilen mit einer Breite im Bereich von C (1 ± 30%) aufweist, wobei C ein vorgegebener Wert ist und C (1 ± 30%) angibt, dass Fehler in der Breite innerhalb ±30% von dem vorbestimmten Wert C verteilt sind, und der Krümmungsradius einer Seitenfläche, die sich zwischen der oberen und der unteren Seite einer Erhebung in einem Schnitt der Linien in einer Ebene senkrecht zu der transparenten Basis erstreckt, im Bereich des 1,5- bis 3,0-fachen der Dicke der leitfähigen Struktur liegt, und wobei die Breiten der geraden Teile der Linien der leitfähigen Struktur im Bereich von 5 bis 25 μm liegen.
Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung nach Anspruch 1 oder 2, bei dem die Breiten der geraden Teile der Linien eines inneren Teils der netzförmigen leitfähigen Struktur, die von einem peripheren Teil mit einer Breite, die einer Breite von 1 bis 50 Maschen entspricht, oder einem peripheren Teil mit einer Breite im Bereich von 0,15 bis 15 mm umgeben sind, im Bereich von C (1 ± 30%) liegen, wobei C ein vorgegebener Wert ist.
Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung nach Anspruch 1 oder 2, bei dem die Linien in Abständen im Bereich von 150 bis 500 μm angeordnet sind.
Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung nach Anspruch 1 oder 2, bei dem die leitfähige Struktur eine Metallschicht ist.
Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung nach Anspruch 1 oder 2, bei dem mindestens eine der Oberflächen der leitfähigen Struktur mit einer Schwärzungsbehandlung verarbeitet worden ist.
Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung nach Anspruch 6, bei dem eine Rostschutzschicht auf mindestens einer Oberfläche der leitfähigen Struktur, die durch eine Schwärzungsbehandlung verarbeitet worden ist, ausgebildet ist.
Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung nach Anspruch 1 oder 2, bei dem mindestens Vertiefungen in der netzförmigen leitfähigen Struktur derart mit einem transparenten Harz gefüllt sind, dass die Oberfläche der leitfähigen Struktur im Wesentlichen eben ist.
Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung nach Anspruch 8, bei dem das transparente Harz, das die Vertiefungen in der netzförmigen leitfähigen Struktur füllt, um die Oberfläche der leitfähigen Struktur im Wesentlichen einzuebnen, ein farbtonkorrigierendes, lichtabsorbierendes Mittel, das sichtbares Licht mit Wellenlängen zwischen 570 und 605 nm absorbieren kann, und/oder ein Nahinfrarot-absorbierendes Mittel enthält, das Infrarotstrahlung mit Wellenlängen zwischen 800 und 1100 nm absorbieren kann.
Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung nach Anspruch 8, das ferner eine Schicht, die ein farbtonkorrigierendes, lichtabsorbierendes Mittel, das sichtbares Licht mit Wellenlängen zwischen 570 und 605 nm absorbieren kann, und/oder eine Schicht umfasst, die ein Nahinfrarot-absorbierendes Mittel enthält, das Infrarotstrahlung mit Wellenlängen zwischen 800 und 1100 nm absorbieren kann, die auf mindestens einer der Oberflächen der leitfähigen Struktur ausgebildet ist bzw. sind.