JP2000286594A - 電磁波シールド基材及びその製造方法 - Google Patents
電磁波シールド基材及びその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 視認性に優れた電磁波シールド基材を提供す
る。 【解決手段】 透明基材１と、高導電率の金属からなる
金属パターン層２とを有して構成され、金属パターン層
の片面、または両面に表面粗さＲａが０．１０〜１．０
０μｍで凹凸を形成したことにより、ＰＤＰ等の表示画
面の前面に設けた際に照射される表示画面からの光、及
び外光の金属パターン層のパターン線に沿って生じる十
字状の反射を防止し、表示画面の視認性を向上させるこ
とができる。また、表面粗さＲａを０．１０〜１．００
μｍとしたことにより、凹凸の形成により生じるヘイズ
等に起因する画面の視認性を低下させない。
る。 【解決手段】 透明基材１と、高導電率の金属からなる
金属パターン層２とを有して構成され、金属パターン層
の片面、または両面に表面粗さＲａが０．１０〜１．０
０μｍで凹凸を形成したことにより、ＰＤＰ等の表示画
面の前面に設けた際に照射される表示画面からの光、及
び外光の金属パターン層のパターン線に沿って生じる十
字状の反射を防止し、表示画面の視認性を向上させるこ
とができる。また、表面粗さＲａを０．１０〜１．００
μｍとしたことにより、凹凸の形成により生じるヘイズ
等に起因する画面の視認性を低下させない。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は視認性に優れた電磁
波シールド基材及びその製造方法に関する。
波シールド基材及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】情報処理装置等の表示画面に用いられる
ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）やＣＲＴ（Cath
ode-Ray Tube）は、電磁波を外部に発生させるという問
題点を有している。
ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）やＣＲＴ（Cath
ode-Ray Tube）は、電磁波を外部に発生させるという問
題点を有している。
【０００３】そこで、これらの表示画面から発生する電
磁波の外部への漏洩を防止するための技術が種々提案さ
れている。一般的に広く知られている漏洩防止対策は、
透明基材上に銅、ニッケル等の高導電率の金属からなる
金属パターン層を形成する方法である。
磁波の外部への漏洩を防止するための技術が種々提案さ
れている。一般的に広く知られている漏洩防止対策は、
透明基材上に銅、ニッケル等の高導電率の金属からなる
金属パターン層を形成する方法である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ようにして形成した金属パターン層を有する電磁波シー
ルド基材を表示画面の前面に設けると、表示画面からの
光、及び外光が金属パターン層の表面で反射して、金属
パターン層のパターン線に沿って十字状の反射が生じ
る。この十字状の光の反射により表示画面の視認性が低
下するという不具合が生じる。
ようにして形成した金属パターン層を有する電磁波シー
ルド基材を表示画面の前面に設けると、表示画面からの
光、及び外光が金属パターン層の表面で反射して、金属
パターン層のパターン線に沿って十字状の反射が生じ
る。この十字状の光の反射により表示画面の視認性が低
下するという不具合が生じる。
【０００５】本発明は上記事情に鑑みてなされたもので
あり、視認性に優れた電磁波シールド基材及びその製造
方法を提供することを目的とする。
あり、視認性に優れた電磁波シールド基材及びその製造
方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】かかる目的を達成するた
めに本発明の電磁波シールド基材は、透明基材と、高導
電率の金属からなる金属パターン層とを有し、該金属パ
ターン層の片面、または両面の表面粗さＲａが０．１０
〜１．００μｍであることを特徴とする。
めに本発明の電磁波シールド基材は、透明基材と、高導
電率の金属からなる金属パターン層とを有し、該金属パ
ターン層の片面、または両面の表面粗さＲａが０．１０
〜１．００μｍであることを特徴とする。
【０００７】本発明の電磁波シールド基材の製造方法
は、透明基材上に金属層を形成し、該金属層をパターン
化して金属パターン層を形成した後、透明基材に接して
いない側の金属パターン層の表面に、表面粗さＲａを
０．１０〜１．００μｍとなるように凹凸を形成するこ
とを特徴とする。
は、透明基材上に金属層を形成し、該金属層をパターン
化して金属パターン層を形成した後、透明基材に接して
いない側の金属パターン層の表面に、表面粗さＲａを
０．１０〜１．００μｍとなるように凹凸を形成するこ
とを特徴とする。
【０００８】本発明の電磁波シールド基材の製造方法
は、透明基材上に、該透明基材に隣接する面の表面粗さ
Ｒａが０．１０〜１．００μｍとなるように予め凹凸が
形成された金属層を形成し、該金属層をパターン化して
金属パターン層を形成することを特徴とする。
は、透明基材上に、該透明基材に隣接する面の表面粗さ
Ｒａが０．１０〜１．００μｍとなるように予め凹凸が
形成された金属層を形成し、該金属層をパターン化して
金属パターン層を形成することを特徴とする。
【０００９】本発明の電磁波シールド基材の製造方法
は、透明基材上に、該透明基材に隣接する面の表面粗さ
Ｒａが０．１０〜１．００μｍとなるように予め凹凸が
形成された金属層を形成し、該金属層をパターン化して
金属パターン層を形成した後、透明基材に接していない
側の金属パターン層の表面に、表面粗さＲａを０．１０
〜１．００μｍとなるように凹凸を形成することを特徴
とする。
は、透明基材上に、該透明基材に隣接する面の表面粗さ
Ｒａが０．１０〜１．００μｍとなるように予め凹凸が
形成された金属層を形成し、該金属層をパターン化して
金属パターン層を形成した後、透明基材に接していない
側の金属パターン層の表面に、表面粗さＲａを０．１０
〜１．００μｍとなるように凹凸を形成することを特徴
とする。
【００１０】上記の表面粗さＲａが０．１０〜１．００
μｍとなるように凹凸を形成する工程が黒化処理を兼ね
ることを特徴とする。
μｍとなるように凹凸を形成する工程が黒化処理を兼ね
ることを特徴とする。
【００１１】本発明は、金属パターン層の片面、または
両面に表面粗さＲａが０．１０〜１．００μｍとなる凹
凸を形成したことにより、表示画面の前面に設けた際に
照射される表示画面からの光、及び外光の金属パターン
表面での反射を防止し、画面の視認性を向上させること
ができる。
両面に表面粗さＲａが０．１０〜１．００μｍとなる凹
凸を形成したことにより、表示画面の前面に設けた際に
照射される表示画面からの光、及び外光の金属パターン
表面での反射を防止し、画面の視認性を向上させること
ができる。
【００１２】また、表面粗さＲａを０．１０〜１．００
μｍとすることにより、凹凸の形成によって画面の視認
性を低下させることがない。
μｍとすることにより、凹凸の形成によって画面の視認
性を低下させることがない。
【００１３】
【発明の実施の形態】次に添付図面を参照しながら本発
明の電磁波シールド基材及びその製造方法に係る実施の
形態を詳細に説明する。図１〜図１３を参照すると本発
明の電磁波シールド基材及びその製造方法に係る実施の
形態が示されている。
明の電磁波シールド基材及びその製造方法に係る実施の
形態を詳細に説明する。図１〜図１３を参照すると本発
明の電磁波シールド基材及びその製造方法に係る実施の
形態が示されている。
【００１４】まず、図１を参照しながら本発明の電磁波
シールド基材に係る実施形態の構成について説明する。
図１に示されるように本発明に係る電磁波シールド基材
は、透明基材１上に高導電率の金属からなる金属パター
ン層２が形成されている。
シールド基材に係る実施形態の構成について説明する。
図１に示されるように本発明に係る電磁波シールド基材
は、透明基材１上に高導電率の金属からなる金属パター
ン層２が形成されている。
【００１５】金属パターン層２の表面には、図１に示さ
れるように黒化処理が施され、また、表面には所定の粗
さの凹凸が形成されている。この表面に形成される所定
の粗さの凹凸は、図１の（ａ）に示されるように金属パ
ターン層２の、透明基材１に接していない側の面に設け
るものであってもよいし、図１の（ｂ）に示されるよう
に金属パターン層２の、透明基材１との接触面に設ける
ものであってもよいし、図１の（ｃ）に示されるように
金属パターン層２の両面に設けるものであってもよい。
電磁波シールド基材を表示画面の前面に設けた場合、表
示画面からの光、及び外光による金属反射により画面の
視認性を低下させるという不具合を生じる。このような
不具合を防止するために金属パターン層２の表面には黒
化処理及び所定の粗さの凹凸が形成されている。なお、
金属パターン層２の表面への凹凸の形成はこの黒化処理
により形成することができる。
れるように黒化処理が施され、また、表面には所定の粗
さの凹凸が形成されている。この表面に形成される所定
の粗さの凹凸は、図１の（ａ）に示されるように金属パ
ターン層２の、透明基材１に接していない側の面に設け
るものであってもよいし、図１の（ｂ）に示されるよう
に金属パターン層２の、透明基材１との接触面に設ける
ものであってもよいし、図１の（ｃ）に示されるように
金属パターン層２の両面に設けるものであってもよい。
電磁波シールド基材を表示画面の前面に設けた場合、表
示画面からの光、及び外光による金属反射により画面の
視認性を低下させるという不具合を生じる。このような
不具合を防止するために金属パターン層２の表面には黒
化処理及び所定の粗さの凹凸が形成されている。なお、
金属パターン層２の表面への凹凸の形成はこの黒化処理
により形成することができる。
【００１６】また、金属パターン層２は、一般的な形状
であってもよいが、図１に示されるように金属パターン
層２の、透明基材１と平行する切断面の面積が、透明基
材１に近づくに従って大きくなるように形成されている
とさらによい。このような形状の金属パターン層２とす
ることにより、透明基材下側からは金属パターン層の側
面が殆ど見ることが出来ない。よって透明基材下側から
入射した光の金属パターン層側面での反射量を低く抑え
ることができる。また、斜めから見たときの視野を妨げ
ないので、ライン膜厚を従来よりもさらに厚くして電磁
波のシールド効果を高めても視認性を低下させることが
ない。
であってもよいが、図１に示されるように金属パターン
層２の、透明基材１と平行する切断面の面積が、透明基
材１に近づくに従って大きくなるように形成されている
とさらによい。このような形状の金属パターン層２とす
ることにより、透明基材下側からは金属パターン層の側
面が殆ど見ることが出来ない。よって透明基材下側から
入射した光の金属パターン層側面での反射量を低く抑え
ることができる。また、斜めから見たときの視野を妨げ
ないので、ライン膜厚を従来よりもさらに厚くして電磁
波のシールド効果を高めても視認性を低下させることが
ない。
【００１７】上記構成の電磁波シールド基材は、透明基
材１側の金属パターン層２の表面に凹凸を形成する場
合、図２のａに示されるように、透明基材１に予め凹凸
を有する金属箔（銅箔）３を接着剤４を用いて張り付け
る。
材１側の金属パターン層２の表面に凹凸を形成する場
合、図２のａに示されるように、透明基材１に予め凹凸
を有する金属箔（銅箔）３を接着剤４を用いて張り付け
る。
【００１８】そして、図２のｂに示されるように金属箔
３の上面にレジスト５を塗布してパターン化し、図２の
ｃに示されるようにエッチングにより金属箔３をパター
ン化して金属パターン層２を形成する。
３の上面にレジスト５を塗布してパターン化し、図２の
ｃに示されるようにエッチングにより金属箔３をパター
ン化して金属パターン層２を形成する。
【００１９】上記工程により形成される電磁波シールド
基材は、金属反射防止のために金属箔３の表面に黒化処
理により凹凸を形成しているので、図２のｃに示される
ように金属箔３を透明基材１に接着する接着剤４の表面
にも凹凸が形成される。
基材は、金属反射防止のために金属箔３の表面に黒化処
理により凹凸を形成しているので、図２のｃに示される
ように金属箔３を透明基材１に接着する接着剤４の表面
にも凹凸が形成される。
【００２０】この凹凸により、光を透過させる、エッチ
ングにより金属箔を剥離した箇所のヘイズ（表面の凹凸
による曇り）が高くなり、表示画面の前面に設けた際
に、画面の視認性を低下させる不具合を生じる。
ングにより金属箔を剥離した箇所のヘイズ（表面の凹凸
による曇り）が高くなり、表示画面の前面に設けた際
に、画面の視認性を低下させる不具合を生じる。
【００２１】そこで、金属パターン層の表面に形成する
凹凸の粗さを替えて、金属パターン層での金属反射の状
況と、その凹凸により生じるヘイズ値について調べた。
図３には金属パターン層表面の粗さと、その粗さの金属
パターン層に光を照射した際に十字状のムラが発生した
か否かと、その粗さでのヘイズ（表面の凹凸による曇
り）値とが示されている。
凹凸の粗さを替えて、金属パターン層での金属反射の状
況と、その凹凸により生じるヘイズ値について調べた。
図３には金属パターン層表面の粗さと、その粗さの金属
パターン層に光を照射した際に十字状のムラが発生した
か否かと、その粗さでのヘイズ（表面の凹凸による曇
り）値とが示されている。
【００２２】この結果、図３に示されるように金属パタ
ーン層の表面にＲａ値０．１０〜１．００μｍの凹凸を
形成すると、十字状のムラを抑えることができ、さらに
凹凸によるヘイズも問題とならないことが判った。
ーン層の表面にＲａ値０．１０〜１．００μｍの凹凸を
形成すると、十字状のムラを抑えることができ、さらに
凹凸によるヘイズも問題とならないことが判った。
【００２３】なお、上述した表面粗さＲａとは、図４に
示された粗さ曲線からその中心線の方向に評価長さｌｍ
（７５ｍｍ以上）を抜き取り、この抜き取り部分の中心
線をＸ軸、縦倍率の方向をＹ軸とし、粗さ曲線をＹ＝ｆ
（Ｘ）で表した時に、次の式によって求められる値をμ
ｍで表したものである。
示された粗さ曲線からその中心線の方向に評価長さｌｍ
（７５ｍｍ以上）を抜き取り、この抜き取り部分の中心
線をＸ軸、縦倍率の方向をＹ軸とし、粗さ曲線をＹ＝ｆ
（Ｘ）で表した時に、次の式によって求められる値をμ
ｍで表したものである。
【００２４】
【数１】
【００２５】上述した表面粗さＲａ０．１０〜１．００
の範囲で金属パターン層２の表面に凹凸を形成すること
により、光の照射により生じる金属パターン線に沿った
十字状の反射を防止するとともに、凹凸の形成によって
生じるヘイズ等に起因する視認性の低下を防止すること
ができる。
の範囲で金属パターン層２の表面に凹凸を形成すること
により、光の照射により生じる金属パターン線に沿った
十字状の反射を防止するとともに、凹凸の形成によって
生じるヘイズ等に起因する視認性の低下を防止すること
ができる。
【００２６】次に、上述した電磁波シールド基材を光学
フィルタに適用した実施形態について説明する。
フィルタに適用した実施形態について説明する。
【００２７】図５には、本発明の電磁波シールド基材を
光学フィルタに適用した第１の実施形態が示されてい
る。図５に示された第１の実施形態は、透明基材１の片
方の面に、粘着剤７によりＰＥＴ（Polyethlene tereph
thalate ）フィルムが張り付けられたＰＥＴフィルム層
６が形成され、ＰＥＴフィルム層６の上面には接着剤４
によりパターン化された銅箔が接着された銅パターン層
８が形成され、銅パターン層８の上面には粘着剤７によ
りアンチグレア、または反射防止及びアンチグレアの機
能を有する透明フィルムが張り付けられた透明フィルム
層９が形成されている。また、透明基材１のもう片方の
面には粘着剤４により反射防止、または反射防止及びア
ンチグレアの機能を有する透明フィルムが張り付けられ
た透明フィルム層１０が形成されている。
光学フィルタに適用した第１の実施形態が示されてい
る。図５に示された第１の実施形態は、透明基材１の片
方の面に、粘着剤７によりＰＥＴ（Polyethlene tereph
thalate ）フィルムが張り付けられたＰＥＴフィルム層
６が形成され、ＰＥＴフィルム層６の上面には接着剤４
によりパターン化された銅箔が接着された銅パターン層
８が形成され、銅パターン層８の上面には粘着剤７によ
りアンチグレア、または反射防止及びアンチグレアの機
能を有する透明フィルムが張り付けられた透明フィルム
層９が形成されている。また、透明基材１のもう片方の
面には粘着剤４により反射防止、または反射防止及びア
ンチグレアの機能を有する透明フィルムが張り付けられ
た透明フィルム層１０が形成されている。
【００２８】樹脂からなる透明基材１には近赤外線吸収
剤が練り込まれている。ＰＤＰはリモートコントロール
装置や通信機器等に誤動作を生じさせる近赤外線を放出
することが知られている。この近赤外線を吸収する近赤
外線吸収剤を透明基材に練り込むことにより、近赤外線
の外部への漏洩を防止することができる。また、透明基
材の縁周囲には表示画面を引き締めるための黒枠印刷１
１が施されている。
剤が練り込まれている。ＰＤＰはリモートコントロール
装置や通信機器等に誤動作を生じさせる近赤外線を放出
することが知られている。この近赤外線を吸収する近赤
外線吸収剤を透明基材に練り込むことにより、近赤外線
の外部への漏洩を防止することができる。また、透明基
材の縁周囲には表示画面を引き締めるための黒枠印刷１
１が施されている。
【００２９】ＰＥＴフィルム層６上に形成された銅パタ
ーン層８は、上述の如く接着剤４との接着面と、その上
面とに表面粗さＲａが０．１０〜１．００μｍの凹凸が
黒化処理により形成されている。このような凹凸を設け
ることにより銅パターン層８上への光の照射によりパタ
ーン線に沿って生じていた十字状の反射を防止すること
ができる。また、表面粗さの上限値を１．００μｍとす
ることで、凹凸の形成によって生じるヘイズ等に起因す
る視認性の低下を防止することができる。
ーン層８は、上述の如く接着剤４との接着面と、その上
面とに表面粗さＲａが０．１０〜１．００μｍの凹凸が
黒化処理により形成されている。このような凹凸を設け
ることにより銅パターン層８上への光の照射によりパタ
ーン線に沿って生じていた十字状の反射を防止すること
ができる。また、表面粗さの上限値を１．００μｍとす
ることで、凹凸の形成によって生じるヘイズ等に起因す
る視認性の低下を防止することができる。
【００３０】なお、銅パターン層８は、線幅５〜３０μ
ｍ、ラインピッチ１００〜５００μｍ、ライン角度２５
度〜４５度で形成するとよい。
ｍ、ラインピッチ１００〜５００μｍ、ライン角度２５
度〜４５度で形成するとよい。
【００３１】また、銅パターン層８の上面に、粘着剤７
により接着された透明フィルム層９は、アンチグレア、
またはアンチグレア及び反射防止の機能を有するフィル
ム層である。アンチグレア機能は表示画面と電磁波シー
ルド基材との間に発生するニュートンリングを防止する
機能である。また、反射防止機能は、電磁波シールド基
材を表示画面の前面に設けた場合に、表示画面からの
光、及び外光の反射を抑えて画面の視認性の低下を防止
する機能である。
により接着された透明フィルム層９は、アンチグレア、
またはアンチグレア及び反射防止の機能を有するフィル
ム層である。アンチグレア機能は表示画面と電磁波シー
ルド基材との間に発生するニュートンリングを防止する
機能である。また、反射防止機能は、電磁波シールド基
材を表示画面の前面に設けた場合に、表示画面からの
光、及び外光の反射を抑えて画面の視認性の低下を防止
する機能である。
【００３２】また、透明基材１の反対側の面には、粘着
剤７により反射防止機能、またはアンチグレア機能及び
反射防止機能を有する透明フィルム層１０が形成されて
いる。
剤７により反射防止機能、またはアンチグレア機能及び
反射防止機能を有する透明フィルム層１０が形成されて
いる。
【００３３】次に、上述した光学フィルタの製造手順に
ついて図６に示された光学フィルタの製造過程を表す図
を参照しながら説明する。
ついて図６に示された光学フィルタの製造過程を表す図
を参照しながら説明する。
【００３４】銅パターン層８には電解めっきにより形成
された電解銅箔１２が用いられる。この銅箔１２の片方
の面、または両面に黒化処理を施して、表面粗さＲａが
０．１０〜１．００の凹凸を形成する。なお、凹凸の形
成は、黒化処理により形成することも可能であるが、図
７に示されたドラム１３を用いて形成することも可能で
ある。図７に示されるドラム１３は表面に所定の粗さで
凹凸が形成され、マイナスに帯電している。このドラム
の一部をプラスに帯電した化学研磨剤が入れられた容器
に漬けて、ドラム１４に巻き付けられた銅箔１２をドラ
ム１３を介してドラム１５に巻き取っていく。この際、
銅箔１２の一方の面は、ドラム１３に設けた凹凸によ
り、また他方の面は、化学研磨剤により研磨されて表面
に凹凸が形成される。
された電解銅箔１２が用いられる。この銅箔１２の片方
の面、または両面に黒化処理を施して、表面粗さＲａが
０．１０〜１．００の凹凸を形成する。なお、凹凸の形
成は、黒化処理により形成することも可能であるが、図
７に示されたドラム１３を用いて形成することも可能で
ある。図７に示されるドラム１３は表面に所定の粗さで
凹凸が形成され、マイナスに帯電している。このドラム
の一部をプラスに帯電した化学研磨剤が入れられた容器
に漬けて、ドラム１４に巻き付けられた銅箔１２をドラ
ム１３を介してドラム１５に巻き取っていく。この際、
銅箔１２の一方の面は、ドラム１３に設けた凹凸によ
り、また他方の面は、化学研磨剤により研磨されて表面
に凹凸が形成される。
【００３５】上述の如き銅箔１２を、ＰＥＴフィルムに
貼り合わせる。接着剤４を塗布されたＰＥＴフィルム６
に、図６のｂに示されるように黒化処理を施された面が
ＰＥＴフィルム６と接触するように銅箔１２を貼り合わ
せる。そして、図６のｃに示されるように銅箔１２が付
けられたＰＥＴフィルム６と透明基材１とを、銅箔側が
接着面とならないように粘着剤７により貼り合わせる。
貼り合わせる。接着剤４を塗布されたＰＥＴフィルム６
に、図６のｂに示されるように黒化処理を施された面が
ＰＥＴフィルム６と接触するように銅箔１２を貼り合わ
せる。そして、図６のｃに示されるように銅箔１２が付
けられたＰＥＴフィルム６と透明基材１とを、銅箔側が
接着面とならないように粘着剤７により貼り合わせる。
【００３６】次に、図６のｄに示されるように銅箔１２
上にレジスト５を塗布して、このレジスト５をパターン
化する。そして、図６のｅに示されるようにエッチング
により銅箔１２をパターン化し、銅パターン層８を形成
する。銅箔のパターン化後、銅パターン層８の黒化処理
が施されていない面に黒化処理を施して、銅パターン層
８の表面に凹凸を付ける。この凹凸も、表面粗さＲａが
０．１０〜１．００となるように形成する。
上にレジスト５を塗布して、このレジスト５をパターン
化する。そして、図６のｅに示されるようにエッチング
により銅箔１２をパターン化し、銅パターン層８を形成
する。銅箔のパターン化後、銅パターン層８の黒化処理
が施されていない面に黒化処理を施して、銅パターン層
８の表面に凹凸を付ける。この凹凸も、表面粗さＲａが
０．１０〜１．００となるように形成する。
【００３７】そして、図６のｆに示されるように銅パタ
ーン層８の上面と、透明基材１のもう一方の面に透明フ
ィルム層９、１０を粘着剤７により張り付ける。なお、
銅パターン層８上に形成する透明フィルム層９は、アン
チグレア、またはアンチグレア及び反射防止の機能を有
するフィルム層であり、透明基材１のもう一方の面に形
成する透明フィルム層１０は、反射防止機能、またはア
ンチグレア機能及び反射防止機能を有するフィルム層で
ある。
ーン層８の上面と、透明基材１のもう一方の面に透明フ
ィルム層９、１０を粘着剤７により張り付ける。なお、
銅パターン層８上に形成する透明フィルム層９は、アン
チグレア、またはアンチグレア及び反射防止の機能を有
するフィルム層であり、透明基材１のもう一方の面に形
成する透明フィルム層１０は、反射防止機能、またはア
ンチグレア機能及び反射防止機能を有するフィルム層で
ある。
【００３８】なお、透明基材１に形成される黒枠印刷１
１は、図５に示されるように透明基材１の、銅パターン
層８を設けた面と同一の側の面に印刷するものであって
もよいし、図８に示されるように透明基材１の、銅パタ
ーン層８を設けた面と反対側の面に印刷するものであっ
てもよい。
１は、図５に示されるように透明基材１の、銅パターン
層８を設けた面と同一の側の面に印刷するものであって
もよいし、図８に示されるように透明基材１の、銅パタ
ーン層８を設けた面と反対側の面に印刷するものであっ
てもよい。
【００３９】次に、図９及び図１０を参照しながら本発
明の電磁波シールド基材を光学フィルタに適用した第２
及び第３の実施形態について説明する。なお、図９には
第２の実施形態が示され、図１０には第３の実施形態が
示されている。
明の電磁波シールド基材を光学フィルタに適用した第２
及び第３の実施形態について説明する。なお、図９には
第２の実施形態が示され、図１０には第３の実施形態が
示されている。
【００４０】これらの実施形態は、上述した第１の実施
形態とは異なり、透明基材１としてガラスを用いてい
る。透明基材１がガラスである場合、透明基材に近赤外
線吸収剤を練り込むことはできない。そこで、図９に示
された第２の実施形態では銅パターン層８上に粘着剤７
により近赤外線吸収フィルム１６を貼り合わせた近赤外
線吸収フィルム層１６を設けている。また、図１０に示
された第３の実施形態では、耐性の強い近赤外線吸収フ
ィルムを粘着剤７により透明基材１上に貼り合わせて近
赤外線吸収フィルム層１６としている。
形態とは異なり、透明基材１としてガラスを用いてい
る。透明基材１がガラスである場合、透明基材に近赤外
線吸収剤を練り込むことはできない。そこで、図９に示
された第２の実施形態では銅パターン層８上に粘着剤７
により近赤外線吸収フィルム１６を貼り合わせた近赤外
線吸収フィルム層１６を設けている。また、図１０に示
された第３の実施形態では、耐性の強い近赤外線吸収フ
ィルムを粘着剤７により透明基材１上に貼り合わせて近
赤外線吸収フィルム層１６としている。
【００４１】また、上述した第１の実施形態では、銅パ
ターン層８上に設ける透明フィルム層９を、アンチグレ
ア機能、または反射防止機能及びアンチグレア機能を有
するフィルム層としているが、これらの実施形態では、
この透明フィルム層１７に反射防止機能のみを持たせて
いる。また、透明基材１上に粘着剤７により張り付けら
れる透明フィルム層１８には、反射防止機能、またはア
ンチグレア機能及び反射防止機能を持たせるようにして
いる。
ターン層８上に設ける透明フィルム層９を、アンチグレ
ア機能、または反射防止機能及びアンチグレア機能を有
するフィルム層としているが、これらの実施形態では、
この透明フィルム層１７に反射防止機能のみを持たせて
いる。また、透明基材１上に粘着剤７により張り付けら
れる透明フィルム層１８には、反射防止機能、またはア
ンチグレア機能及び反射防止機能を持たせるようにして
いる。
【００４２】また、第２及び第３の実施形態においても
銅パターン層８の接着剤との接着面及びその上面とに表
面粗さＲａ０．１０から１．００で凹凸が形成されてい
る。
銅パターン層８の接着剤との接着面及びその上面とに表
面粗さＲａ０．１０から１．００で凹凸が形成されてい
る。
【００４３】なお、第２の実施形態の変形例として、銅
パターン層８側の透明基材１に黒枠印刷１１を行うので
はなく、図１１に示されるように銅パターン層８を設け
た側とは反対側の透明基材に黒枠印刷１１行うものであ
ってもよい。
パターン層８側の透明基材１に黒枠印刷１１を行うので
はなく、図１１に示されるように銅パターン層８を設け
た側とは反対側の透明基材に黒枠印刷１１行うものであ
ってもよい。
【００４４】また、第３の実施形態の変形例として、第
２の実施形態の変形例と同様に、図１２に示されるよう
に銅パターン層８を設けた側とは反対側の透明基材１に
黒枠印刷１１を行ったものであってもよい。
２の実施形態の変形例と同様に、図１２に示されるよう
に銅パターン層８を設けた側とは反対側の透明基材１に
黒枠印刷１１を行ったものであってもよい。
【００４５】次に、作製実施例の製造工程を図１３に示
されたフローチャートを参照しながら説明する。
されたフローチャートを参照しながら説明する。
【００４６】まず、ＰＥＴフィルム付き銅箔から銅箔部
を剥離する（ステップＳ１）。本実施例では、銅箔が蒸
着でＰＥＴフィルムに付けられた、東洋メタランジング
株式会社製、商品名メタロイヤルの銅箔部分をＰＥＴフ
ィルムから剥離する（ステップＳ１）。
を剥離する（ステップＳ１）。本実施例では、銅箔が蒸
着でＰＥＴフィルムに付けられた、東洋メタランジング
株式会社製、商品名メタロイヤルの銅箔部分をＰＥＴフ
ィルムから剥離する（ステップＳ１）。
【００４７】次に、ＰＥＴフィルムを剥離した銅箔を化
学研磨する（ステップＳ２）。この処理は研磨剤とし
て、三菱瓦斯化学株式会社製、商品名ＮＰＥ−３００を
用いた。濃度２０％、２０℃のＮＰＥ−３００に銅箔を
２００ｓｅｃ浸漬する。
学研磨する（ステップＳ２）。この処理は研磨剤とし
て、三菱瓦斯化学株式会社製、商品名ＮＰＥ−３００を
用いた。濃度２０％、２０℃のＮＰＥ−３００に銅箔を
２００ｓｅｃ浸漬する。
【００４８】次に、化学研磨した銅箔を接着剤を用いて
ＰＥＴフィルムに貼り合わせる（ステップＳ３）。本実
施例では、接着剤として株式会社スリーボンド製、商品
名ＴＢ１５４９を用いた。この接着剤をバーコーター＃
２０でＰＥＴフィルムに塗布し、銅箔と貼り合わせる。
その後、５５℃で１５分間乾燥させ、乾燥後５Ｋｇロー
ラで圧着する。
ＰＥＴフィルムに貼り合わせる（ステップＳ３）。本実
施例では、接着剤として株式会社スリーボンド製、商品
名ＴＢ１５４９を用いた。この接着剤をバーコーター＃
２０でＰＥＴフィルムに塗布し、銅箔と貼り合わせる。
その後、５５℃で１５分間乾燥させ、乾燥後５Ｋｇロー
ラで圧着する。
【００４９】次に、銅箔とＰＥＴフィルムとを貼り合わ
せた銅箔フィルムを透明基板に貼り合わせる（ステップ
Ｓ４）。銅箔が張り付けられたＰＥＴフィルムと透明基
板とを粘着剤により貼り合わせる。なお、透明基板には
近赤外線吸収剤を添加させておくこともできる。
せた銅箔フィルムを透明基板に貼り合わせる（ステップ
Ｓ４）。銅箔が張り付けられたＰＥＴフィルムと透明基
板とを粘着剤により貼り合わせる。なお、透明基板には
近赤外線吸収剤を添加させておくこともできる。
【００５０】次に、銅箔上にレジストを塗布する（ステ
ップＳ５）。本実施例ではレジスト剤として東京応化株
式会社製、商品名、ＴＬＣＲ−Ｐ８００８を用いた。銅
箔フィルムが張り付けられた透明基板をスピンナー上に
固定し、銅箔上にレジストを塗布し、１５００ｒｐｍで
１分間回転させる。
ップＳ５）。本実施例ではレジスト剤として東京応化株
式会社製、商品名、ＴＬＣＲ−Ｐ８００８を用いた。銅
箔フィルムが張り付けられた透明基板をスピンナー上に
固定し、銅箔上にレジストを塗布し、１５００ｒｐｍで
１分間回転させる。
【００５１】次に、塗布したレジストをプレベークする
（ステップＳ６）。この処理は９０℃のクリーンオーブ
ンで２０分間ベークする。
（ステップＳ６）。この処理は９０℃のクリーンオーブ
ンで２０分間ベークする。
【００５２】次に、レジストをパターン化するためにレ
ジスト上にマスクを付けて露光（ステップＳ７）、現像
（ステップＳ８）を行う。露光は、１２０ｍｊ／ｃｍ2
の光量で、現像は濃度０．８％、２５℃のＫＯＨに１分
間漬浸することにより行う。
ジスト上にマスクを付けて露光（ステップＳ７）、現像
（ステップＳ８）を行う。露光は、１２０ｍｊ／ｃｍ2
の光量で、現像は濃度０．８％、２５℃のＫＯＨに１分
間漬浸することにより行う。
【００５３】次に、露光、現像を終えた基板を水洗いし
（ステップＳ９）、エッチングを行う。本実施例では、
エッチング液としてメルテックス株式会社製、商品名メ
ルストリップＭＮ−９５７を用いた。４０℃のエッチン
グ液を基板上に５０秒間スプレイする。
（ステップＳ９）、エッチングを行う。本実施例では、
エッチング液としてメルテックス株式会社製、商品名メ
ルストリップＭＮ−９５７を用いた。４０℃のエッチン
グ液を基板上に５０秒間スプレイする。
【００５４】次に、銅パターン層上に付けられたレジス
トを剥離する（ステップＳ１１）。この処理は、３０℃
の３％濃度のＫＯＨに２分間漬浸することにより行っ
た。
トを剥離する（ステップＳ１１）。この処理は、３０℃
の３％濃度のＫＯＨに２分間漬浸することにより行っ
た。
【００５５】そして、レジストを剥離した電磁波シール
ド基板を水洗（ステップＳ１２）、乾燥させ（ステップ
Ｓ１３）、基板の両面に反射防止フィルムをラミネート
する（ステップＳ１４）。本実施例では反射防止剤とし
て、日本油脂株式会社製、商品名リアルック２２０１を
用い、この反射防止剤を５Ｋｇ／ｃｍ2 でラミネートす
る。
ド基板を水洗（ステップＳ１２）、乾燥させ（ステップ
Ｓ１３）、基板の両面に反射防止フィルムをラミネート
する（ステップＳ１４）。本実施例では反射防止剤とし
て、日本油脂株式会社製、商品名リアルック２２０１を
用い、この反射防止剤を５Ｋｇ／ｃｍ2 でラミネートす
る。
【００５６】以上の工程により、図５に示された構成の
光学フィルタを生成することができる。
光学フィルタを生成することができる。
【００５７】なお、上述した実施形態は本発明の好適な
実施の形態である。但し、これに限定されるものではな
く、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変形
実施可能である。
実施の形態である。但し、これに限定されるものではな
く、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変形
実施可能である。
【００５８】
【発明の効果】以上の説明より明らかなように請求項１
記載の発明の電磁波シールド基材は、透明基材上に形成
した金属パターン層の片面、または両面の表面粗さの凹
凸を形成したことにより、表示画面の前面に設けた際に
照射される表示画面からの光、及び外光の金属パターン
層のパターン線に沿った十字状の反射を防止し、画面の
視認性を向上させることができる。
記載の発明の電磁波シールド基材は、透明基材上に形成
した金属パターン層の片面、または両面の表面粗さの凹
凸を形成したことにより、表示画面の前面に設けた際に
照射される表示画面からの光、及び外光の金属パターン
層のパターン線に沿った十字状の反射を防止し、画面の
視認性を向上させることができる。
【００５９】また、金属パターン層の片面、または両面
の表面粗さＲａが０．１０〜１．００μｍであることに
より、凹凸の形成によって生じるヘイズ等に起因する画
面の視認性を低下させることがない。
の表面粗さＲａが０．１０〜１．００μｍであることに
より、凹凸の形成によって生じるヘイズ等に起因する画
面の視認性を低下させることがない。
【００６０】請求項２記載の発明の電磁波シールド基材
の製造方法は、透明基材上に金属層を形成し、金属層を
パターン化して金属パターン層を形成した後、透明基材
に接していない側の金属パターン層の表面に、表面粗さ
Ｒａを０．１０〜１．００μｍとなるように凹凸を形成
することにより、表示画面の前面に設けた際に照射され
る表示画面からの光、及び外光の金属パターン層のパタ
ーン線に沿った十字状の反射を防止し、画面の視認性を
向上させた電磁波シールド基材を得ることができる。
の製造方法は、透明基材上に金属層を形成し、金属層を
パターン化して金属パターン層を形成した後、透明基材
に接していない側の金属パターン層の表面に、表面粗さ
Ｒａを０．１０〜１．００μｍとなるように凹凸を形成
することにより、表示画面の前面に設けた際に照射され
る表示画面からの光、及び外光の金属パターン層のパタ
ーン線に沿った十字状の反射を防止し、画面の視認性を
向上させた電磁波シールド基材を得ることができる。
【００６１】また、金属パターン層の表面の表面粗さＲ
ａを０．１０〜１．００μｍとしたことにより、凹凸の
形成によって生じるヘイズ等に起因する画面の視認性を
低下させることがない。
ａを０．１０〜１．００μｍとしたことにより、凹凸の
形成によって生じるヘイズ等に起因する画面の視認性を
低下させることがない。
【００６２】請求項３記載の発明の電磁波シールド基材
の製造方法は、透明基材上に、透明基材に隣接する面の
表面粗さＲａが０．１０〜１．００μｍとなるように予
め凹凸が形成された金属層を形成し、金属層をパターン
化して金属パターン層を形成することにより、表示画面
の前面に設けた際に照射される表示画面からの光、及び
外光の金属パターン層のパターン線に沿った十字状の反
射を防止し、画面の視認性を向上させた電磁波シールド
基材を得ることができる。
の製造方法は、透明基材上に、透明基材に隣接する面の
表面粗さＲａが０．１０〜１．００μｍとなるように予
め凹凸が形成された金属層を形成し、金属層をパターン
化して金属パターン層を形成することにより、表示画面
の前面に設けた際に照射される表示画面からの光、及び
外光の金属パターン層のパターン線に沿った十字状の反
射を防止し、画面の視認性を向上させた電磁波シールド
基材を得ることができる。
【００６３】また、金属パターン層の表面の表面粗さＲ
ａを０．１０〜１．００μｍとしたことにより、凹凸の
形成によって生じるヘイズ等に起因する画面の視認性を
低下させることがない。
ａを０．１０〜１．００μｍとしたことにより、凹凸の
形成によって生じるヘイズ等に起因する画面の視認性を
低下させることがない。
【００６４】請求項４記載の発明の電磁波シールド基材
の製造方法は、透明基材上に、透明基材に隣接する面の
表面粗さＲａが０．１０〜１．００μｍとなるように予
め凹凸が形成された金属層を形成し、金属層をパターン
化して金属パターン層を形成した後、透明基材に接して
いない側の金属パターン層の表面に、表面粗さＲａを
０．１０〜１．００μｍとなるように凹凸を形成するこ
とにより、表示画面の前面に設けた際に照射される表示
画面からの光、及び外光の金属パターン層のパターン線
に沿った十字状の反射を防止し、画面の視認性を向上さ
せた電磁波シールド基材を得ることができる。
の製造方法は、透明基材上に、透明基材に隣接する面の
表面粗さＲａが０．１０〜１．００μｍとなるように予
め凹凸が形成された金属層を形成し、金属層をパターン
化して金属パターン層を形成した後、透明基材に接して
いない側の金属パターン層の表面に、表面粗さＲａを
０．１０〜１．００μｍとなるように凹凸を形成するこ
とにより、表示画面の前面に設けた際に照射される表示
画面からの光、及び外光の金属パターン層のパターン線
に沿った十字状の反射を防止し、画面の視認性を向上さ
せた電磁波シールド基材を得ることができる。
【００６５】また、金属パターン層の表面の表面粗さＲ
ａを０．１０〜１．００μｍとしたことにより、凹凸の
形成によって生じるヘイズ等に起因する画面の視認性を
低下させることがない。
ａを０．１０〜１．００μｍとしたことにより、凹凸の
形成によって生じるヘイズ等に起因する画面の視認性を
低下させることがない。
【００６６】請求項５記載の発明の電磁波シールド基材
の製造方法は、表面粗さＲａが０．１０〜１．００μｍ
となるように凹凸を形成する工程が黒化処理を兼ねるこ
とにより、黒化処理により金属パターン層表面での表面
反射を防止することができる電磁波シールド基材を得る
ことができる。
の製造方法は、表面粗さＲａが０．１０〜１．００μｍ
となるように凹凸を形成する工程が黒化処理を兼ねるこ
とにより、黒化処理により金属パターン層表面での表面
反射を防止することができる電磁波シールド基材を得る
ことができる。
【図１】本発明の電磁波シールド基材に係る実施形態の
構成を表す断面図である。
構成を表す断面図である。
【図２】金属パターン層の透明基材への形成方法を説明
するための図である。
するための図である。
【図３】金属パターン層の表面の凹凸の粗さと、十字ム
ラとの関係を表す図である。
ラとの関係を表す図である。
【図４】表面粗さを説明するための図である。
【図５】本発明の電磁波シールド基材を光学フィルタに
適用した第１の実施形態の構成を表す断面図である。
適用した第１の実施形態の構成を表す断面図である。
【図６】光学フィルタの第１の実施形態の製造過程の状
態を表す図である。
態を表す図である。
【図７】金属箔の表面に形成する凹凸の形成方法を説明
するための図である。
するための図である。
【図８】光学フィルタの第１の実施形態の変形例の構成
を表す断面図である。
を表す断面図である。
【図９】本発明の電磁波シールド基材を光学フィルタに
適用した第２の実施形態の構成を表す断面図である。
適用した第２の実施形態の構成を表す断面図である。
【図１０】本発明の電磁波シールド基材を光学フィルタ
に適用した第３の実施形態の構成を表す断面図である。
に適用した第３の実施形態の構成を表す断面図である。
【図１１】光学フィルタの第２の実施形態の変形例の構
成を表す断面図である。
成を表す断面図である。
【図１２】光学フィルタの第３の実施形態の変形例の構
成を表す断面図である。
成を表す断面図である。
【図１３】作製実施例の製造工程を表すフローチャーで
ある。
ある。
１ 透明基材 ２ 金属パターン層 ３ 金属箔 ４ 接着剤 ５ レジスト ６ ＰＥＴフィルム層 ７ 粘着剤 ８ 銅パターン層 ９、１０、１７、１８ 透明フィルム層 １２ 銅箔 １３、１４、１５ ドラム １６ 近赤外線吸収フィルム層
フロントページの続き (72)発明者 厚地 善行 東京都文京区小石川四丁目14番12号 共同 印刷株式会社内 Ｆターム(参考） 4F100 AB01B AB17 AB33 AK42 AR00A BA02 BA05 BA41 CA30 CB00 DD07B EC182 EG002 EH462 EJ012 EJ152 EJ342 GB41 HB00B HB22B JD08 JD10 JD10H JG01B JL00 JN01A JN06 JN30 YY00B 4K057 WA05 WB04 WN10 5E321 BB01 BB24 BB25 CC16 GG05 GH01
Claims (5)
- 【請求項１】 透明基材と、高導電率の金属からなる金
属パターン層とを有し、該金属パターン層の片面、また
は両面の表面粗さＲａが０．１０〜１．００μｍである
ことを特徴とする電磁波シールド基材。 - 【請求項２】 透明基材上に金属層を形成し、該金属層
をパターン化して金属パターン層を形成した後、前記透
明基材に接していない側の前記金属パターン層の表面
に、表面粗さＲａを０．１０〜１．００μｍとなるよう
に凹凸を形成することを特徴とする電磁波シールド基材
の製造方法。 - 【請求項３】 透明基材上に、該透明基材に隣接する面
の表面粗さＲａが０．１０〜１．００μｍとなるように
予め凹凸が形成された金属層を形成し、該金属層をパタ
ーン化して金属パターン層を形成することを特徴とする
電磁波シールド基材の製造方法。 - 【請求項４】 透明基材上に、該透明基材に隣接する面
の表面粗さＲａが０．１０〜１．００μｍとなるように
予め凹凸が形成された金属層を形成し、該金属層をパタ
ーン化して金属パターン層を形成した後、前記透明基材
に接していない側の前記金属パターン層の表面に、表面
粗さＲａを０．１０〜１．００μｍとなるように凹凸を
形成することを特徴とする電磁波シールド基材の製造方
法。 - 【請求項５】 前記表面粗さＲａが０．１０〜１．００
μｍとなるように凹凸を形成する工程が黒化処理を兼ね
ることを特徴とする請求項２から４の何れか１項に記載
の電磁波シールド基材の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09167599A JP3782250B2 (ja) | 1999-03-31 | 1999-03-31 | 電磁波シールド基材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09167599A JP3782250B2 (ja) | 1999-03-31 | 1999-03-31 | 電磁波シールド基材の製造方法 |
Related Child Applications (3)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006031719A Division JP4217720B2 (ja) | 2006-02-08 | 2006-02-08 | 電磁波シールド基材、プラズマディスプレイ及びその製造方法 |
| JP2006031718A Division JP4217719B2 (ja) | 2006-02-08 | 2006-02-08 | 電磁波シールド基材、プラズマディスプレイ及びその製造方法 |
| JP2006031717A Division JP2006179946A (ja) | 2006-02-08 | 2006-02-08 | 電磁波シールド基材、プラズマディスプレイ及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000286594A true JP2000286594A (ja) | 2000-10-13 |
| JP3782250B2 JP3782250B2 (ja) | 2006-06-07 |
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ID=14033077
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP09167599A Expired - Fee Related JP3782250B2 (ja) | 1999-03-31 | 1999-03-31 | 電磁波シールド基材の製造方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3782250B2 (ja) |
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| KR100749565B1 (ko) | 2006-05-08 | 2007-08-16 | 에스케이씨 주식회사 | 전자파 차폐능을 갖는 전도성 광학필름 |
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| JP4685977B2 (ja) * | 2009-02-13 | 2011-05-18 | 清二 加川 | 線状痕付き金属薄膜−プラスチック複合フィルム及びその製造装置 |
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| US9616640B2 (en) | 2009-02-13 | 2017-04-11 | Seiji Kagawa | Composite film of linearly-scratched, thin metal film and plastic film, and its production apparatus |
| JP2014160262A (ja) * | 2014-04-04 | 2014-09-04 | Dainippon Printing Co Ltd | 映像表示装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3782250B2 (ja) | 2006-06-07 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050302 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050315 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050513 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050802 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20051213 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060208 |
|
| A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20060213 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060307 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060309 |
|
| R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090317 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100317 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100317 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110317 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110317 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120317 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120317 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130317 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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