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Zusammenfassung der Technik
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Die
vorliegende Erfindung betrifft ein Blatt zur Unterdrückung (Abschirmung)
der Strahlung elektromagnetischer Wellen und insbesondere ein Blatt,
das auf einer Vorderfläche
einer Anzeige wie z.B. einer Kathodenstrahlröhre (CRT) und einem Plasmabildschirm
(PDP) angeordnet werden soll, um Strahlung von elektromagnetischen
Wellen zu unterdrücken,
die durch die Anzeige erzeugt werden.
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Probleme,
die auf eine elektromagnetische Störung (EMI) zurückzuführen sind,
haben mit dem bzw. der in letzter Zeit stattfindenden funktionellen Fortschritt
und verbreiteten Anwendung elektrischer und elektronischer Vorrichtungen
zugenommen. Elektromagnetische Störungen werden grob in geleitete
Störungen
und abgestrahlte Störungen
eingeteilt.
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Bei
einem Verfahren zur Beseitigung von geleiteten Störungen wird
ein Störungsfilter
oder dergleichen verwendet. Bei einem Verfahren zur Beseitigung
von abgestrahlten Störungen
wird ein Metallgehäuse
zur elektromagnetischen Isolierung eines Raums genutzt, bei einem
anderen Verfahren zur Beseitigung von abgestrahlten Störungen wird
ein Metallblech zwischen Leiterplatten angeordnet und bei einem
dritten Verfahren zur Beseitigung von abgestrahlten Störungen wird
ein Kabel mit einer Metallfolie beschichtet. Diese Verfahren sind
zur elektromagnetischen Abschirmung von Schaltungen und Netzteilen
effektiv. Diese Abschirmungselemente, die in den vorstehend genannten
Verfahren eingesetzt werden, sind jedoch lichtundurchlässig und
somit zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen, die von einer Vorderfläche einer
Anzeige, wie z.B. einer CRT und einem Plasmabildschirm (PDP) emittiert
werden, nicht geeignet.
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Ein
Plasmabildschirm umfasst, in einer Kombination, eine Glasplatte,
die mit Datenelektroden und einer Fluoreszenzschicht ausgestattet
ist, und eine weitere Glasplatte, die mit transparenten Elektroden
ausgestattet ist. Wenn der Plasmabildschirm betrieben wird, erzeugt
der Plasmabildschirm eine intensive elektromagnetische Strahlung
und Nahinfrarotstrahlen und eine große Wärmemenge.
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Gewöhnlich wird
vor der Vorderfläche
des Plasmabildschirms ein Frontblatt angeordnet, um die elektromagnetischen
Wellen abzuschirmen. Das Frontblatt muss elektromagnetische Strahlung
mit Frequenzen von 30 MHz bis 1 GHz um 30 dB oder mehr abschirmen.
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Nahinfrarotstrahlen
mit Wellenlängen
im Bereich zwischen 800 und 1100 nm, die von der Vorderfläche der
Anzeige abgestrahlt wird, kann auch eine Fehlfunktion anderer Vorrichtungen,
wie z.B. Videorecordern, hervorrufen. Daher muss die Abstrahlung der
Infrarotstrahlen sowie die Abstrahlung der elektromagnetischen Wellen
unterdrückt
werden.
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Um
Bilder, die von der Anzeige angezeigt werden, deutlich sichtbar
zu machen, müssen
Linien, die ein Metallnetz eines Frontblatts zur elektromagnetischen
Abschirmung bilden, unsichtbar sein, Maschen müssen regelmäßig angeordnet sein und das Frontblatt
muss eine geeignete Transparenz (Durchlässigkeitseigenschaften für sichtbares
Licht, Durchlässigkeit
für sichtbares
Licht) aufweisen.
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Im
Allgemeinen ist ein Plasmabildschirm durch dessen große Schirmgröße gekennzeichnet. Ein
Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung für einen 94 cm-PDP (37 Zoll-PDP)
weist eine Größe von 621
mm × 831
mm und ein Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung für einen
107 cm-PDP (42 Zoll-PDP) weist eine Größe von 983 mm × 583 mm auf.
Einige Blätter
zur elektromagnetischen Abschirmung sind noch größer. Die Grenze zwischen einem Netzteil
und einem Erdungsrahmen eines so großen Blatts zur elektromagnetischen
Abschirmung neigt während
jedes Verfahrens zur Herstellung des Blatts zur elektromagnetischen
Abschirmung bis zum Einbeziehen des Blatts zur elektromagnetischen
Abschirmung in eine Anzeige zum Reißen. Folglich ist ein so großes Blatt
zur elektromagnetischen Abschirmung sehr schwer handhabbar.
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Stand der Technik
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Das
Frontblatt zur elektromagnetischen Abschirmung muss ein Vermögen zur
elektromagnetischen Abschirmung, eine geeignete Transparenz (Durchlässigkeit
für sichtbares
Licht) aufweisen und sehr einfach handhabbar sein.
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Ein
Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung zur Verbesserung der Sichtbarkeit
eines angezeigten Bilds, das in der
JP 5-283889 A beschrieben ist, umfasst ein
Basisblatt, eine transparente Haftvermittlerschicht und eine stromlos
abgeschiedene Schicht eines Netzmusters, bei dem die transparente Haftvermittlerschicht,
die unter der stromlos abgeschiedenen Schicht liegt, durch stromloses
Abscheiden in eine schwarz strukturierte Schicht umgewandelt worden
ist.
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Ein
Verfahren, das in der
JP
61-15480 A beschrieben ist, bildet einen Kupferoxidfilm
auf der Oberfläche
eines Metallnetzes, das in einem Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung
enthalten ist, um die Reflexion von externem Licht zu unterdrücken.
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Ein
Verfahren zur Bildung eines Netzes mit schwarzen Linien, das in
der
JP 09-293989 A beschrieben
ist, bildet ein Metallnetz für
ein Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung durch ein Photolackverfahren
unter Verwendung eines schwarzen Photolacks und hinterlässt den
schwarzen Photolack, nachdem das Metallnetz gebildet worden ist.
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Eine
Struktur zur elektromagnetischen Abschirmung, die in der
JP 10-335885 A beschrieben ist,
wird durch Laminieren einer Kunststofffolie, die mit einer Kupferfolie
ausgestattet ist, die mit einem photolithographischen Verfahren
in einem geometrischen Muster strukturiert worden ist, auf eine
Kunststofffolie gebildet.
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EP 1 372 369 A1 beschreibt
ein Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung, das ein transparentes
Basisblatt und eine Metallschicht aufweist, die an eine Oberfläche des
transparenten Basisblatts gebunden ist, wobei die Metallschicht
ein Netzteil ist, das von einem Erdungsrahmen umgeben ist.
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JP 2000-183585 A beschreibt
ein Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung, das ein transparentes
Basisblatt und eine Metallschicht aufweist, die an eine Oberfläche des
transparenten Basisblatts gebunden ist, wobei die Metallschicht
einen Netzteil und einen peripheren Netzteil, der den Netzteil umgibt, aufweist
und wobei die Maschendichte von dem Netzteil in Richtung des peripheren
Netzteils zunimmt.
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Alle
vorstehend genannten Verfahren zur Bildung der Netzmetallschichten
zielen darauf ab, Metallnetze mit Linien mit einer feststehenden
Breite zu bilden. In der Praxis werden Maschen und Linien in dem
Grenzbereich zwischen dem Netzteil und dem Erdungsrahmen in unvermeidbarer
Weise, insbesondere während
des Transports, verschoben (gestört). Darüber hinaus ändert sich
die Steifigkeit des Grenzbereichs zwischen dem Netzteil und dem
Erdungsrahmen abrupt. Daher ist es möglich, dass sich eine Spannung
in dem Grenzbereich konzentriert und dass die Maschen in dem Grenzbereich
während
jedes Verfahrens zur Herstellung eines Blatts zur elektromagnetischen
Abschirmung bis zum Kombinieren des Blatts zur elektromagnetischen
Abschirmung mit einer Anzeige gebogen werden oder reißen. Folg lich ist
das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung sehr schwer handhabbar.
Daher werden sehr häufig teure
Teile verschwendet.
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Die
vorliegende Erfindung wurde gemacht, um diese Probleme zu lösen. Eine
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist die Bereitstellung eines
Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung, das auf oder über der
Vorderfläche
einer Anzeige, wie z.B. einer CRT oder einem PDP, angeordnet wird,
um die Strahlung elektromagnetischer Wellen, die von der Anzeige
erzeugt werden, abzuschirmen, das regelmäßig angeordnete Maschen aufweist,
eine zufriedenstellende Sichtbarkeit von durch die Anzeige angezeigten
Bildern sicherstellen kann, in einer großen Größe hergestellt werden kann,
ohne durch Fehler einschließlich
eines Rei ßens
von Linien, die Maschen bilden, durch alle Verfahren, einschließlich Herstellungs-
und Zusammenbauverfahren, beeinträchtigt zu werden, und einfach
handhabbar ist.
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Die
vorliegende Erfindung ist ein Blatt bzw. eine Lage bzw. eine Schicht
zur elektromagnetischen Abschirmung, das ein transparentes Basisblatt
und eine Metallschicht umfasst, die an eine Oberfläche des
transparenten Basisblatts gebunden ist, wobei die Metallschicht
einen Netzteil, einen peripheren Netzteil, der den Netzteil umgibt,
und einen Erdungsrahmen aufweist, der den peripheren Netzteil umgibt, und
wobei die Breite von Linien, welche die Maschen in dem peripheren
Netzteil bilden, von dem Netzteil in Richtung des Erdungsrahmens
nach und nach zunimmt.
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Das
erfindungsgemäße Blatt
zur elektromagnetischen Abschirmung schirmt die Strahlung elektromagnetischer
Wellen, die von einer Anzeige, wie z.B. einer CRT oder einem PDP,
erzeugt werden, ab, wenn das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung
auf oder über
der Vorderfläche
der Anzeige angeordnet wird. Darüber
hinaus stellt das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung eine
zufriedenstellende Sichtbarkeit angezeigter Bilder sicher, da dessen
Maschen nicht verschoben sind und es kann in einer großen Größe gebildet
werden, ohne durch Fehler wie z.B. einem Reißen von Linien, die Maschen
bilden, in allen Verfahren, einschließlich Herstellungs- und Zusammenbauverfahren,
beeinträchtigt
zu werden, und es weist folglich eine hervorragende Handhabbarkeit
auf.
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Im
Allgemeinen weisen die Linien, die Maschen in dem Netzteil bilden,
eine feststehende Breite auf.
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Vorzugsweise
weist der periphere Netzteil in einer Richtung von dem Erdungsrahmen
zu dem Netzteil 1 bis 50 Maschen, mehr bevorzugt 1 bis 25 Maschen
auf.
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Alternativ
weist der periphere Netzteil in einer Richtung von dem Erdungsrahmen
zu dem Netzteil vorzugsweise eine Breite zwischen 0,15 und 15 mm,
mehr bevorzugt zwischen 0,3 und 7,5 mm auf.
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Darüber hinaus
nimmt die Breite von Linien, die Maschen bilden, in dem peripheren
Netzteil vorzugsweise kontinuierlich von dem Netzteil in Richtung
des Erdungsrahmens zu. Alternativ nimmt die Breite von Linien, die
Maschen bilden, in dem peripheren Netzteil von dem Netzteil in Richtung
des Erdungsrahmens vorzugsweise schrittweise zu. Dies erleichtert
die Handhabung des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung und
verhindert das Biegen oder das permanente Biegen des Blatts zur
elektromagnetischen Abschirmung und die Verschwendung teurer Teile.
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Darüber hinaus
wird vorzugsweise mindestens eine der Oberflächen der Metallschicht mit
einer Schwärzungsbehandlung
behandelt. In diesem Fall ist, da die Maschen selbst geschwärzt sind,
ein Druckverfahren zum Aufdrucken eines schwarzen Rahmens nicht
erforderlich, und das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung
kann die zufriedenstellende Sichtbarkeit angezeigter Bilder für einen
langen Zeitraum aufrechterhalten, d.h. das Blatt zur elektromagnetischen
Abschirmung kann ein Blenden des Schirms der Anzeige verhindern.
Darüber
hinaus ist es in diesem Fall bevorzugt, dass auf mindestens der
Oberfläche
der Metallschicht, die mit der Schwärzungsbehandlung behandelt
worden ist, eine Rostschutzschicht ausgebildet ist.
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Darüber hinaus
sind vorzugsweise mindestens Maschen in dem Netzteil und dem peripheren Netzteil
mit einem Harz gefüllt,
um die Metallschicht im Wesentlichen einzuebnen. Das Auffüllen der
Maschen mit dem Harz erleichtert verschiedene Arten von Arbeiten.
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In
diesem Fall ist es bevorzugt, dass das Harz ein farbtonkorrigierendes,
lichtabsorbierendes Mittel, das sichtbares Licht mit Wellenlängen von
570 bis 605 nm absorbieren kann, und/oder ein Nahinfrarot-absorbierendes
Mittel enthält,
das Licht mit Wellenlängen
in einem Nahinfrarotbereich von 800 bis 1100 nm absorbieren kann.
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Darüber hinaus
ist bzw. sind vorzugsweise auf mindestens einer Oberfläche des
Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung eine Schicht eines farbtonkorrigierenden,
lichtabsorbierenden Mittels, das sichtbares Licht mit Wellenlängen von
570 bis 605 nm absorbieren kann, und/oder eine Schicht eines Nahinfrarot-absorbierenden
Mittels, das Licht mit Wellenlängen
in einem Nahinfrarotbereich von 800 bis 1100 nm absorbieren kann,
bereitgestellt.
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Das
erfindungsgemäße Blatt
zur elektromagnetischen Abschirmung kann so angeordnet werden, dass
die Oberfläche
des Basisblatts auf die PDP-Anzeige gerichtet ist. Wenn das Blatt
zur elektromagnetischen Abschirmung so angeordnet wird, können Schritte
und Arbeitsstunden von Elektrodenanschlussarbeiten vermindert werden.
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1 ist
eine Draufsicht auf ein Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung
einer bevorzugten erfindungsgemäßen Ausführungsform;
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2 ist
eine schematische perspektivische Teilansicht des Blatts zur elektromagnetischen
Abschirmung der bevorzugten Ausführungsform;
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Die 3(A) und 3(B) sind
Schnittansichten entlang der Linie A-A bzw. B-B in der 2;
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4 ist
eine Schnittansicht zur Erläuterung der
Struktur einer leitfähigen
Schicht;
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Die 5(A) und 5(B) sind
eine Draufsicht bzw. eine Seitenansicht, die bei der Erläuterung
der Verarbeitung eines Blatts, das von einer Blattrolle abgewickelt
wird, hilfreich ist;
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6 ist
eine vergrößerte Teildraufsicht
auf den peripheren Netzteil des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung
der bevorzugten Ausführungsform;
und
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7 ist
eine Schnittansicht des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung
der bevorzugten Ausführungsform,
das an der Oberfläche
einer Anzeige angebracht ist.
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Nachstehend
wird eine bevorzugte Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen
beschrieben.
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Gesamtstruktur
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1 ist
eine Draufsicht auf ein Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung
einer bevorzugten erfindungsgemäßen Ausführungsform
und die 2 ist eine typische perspektivische
Teilansicht des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung der bevorzugten
Ausführungsform.
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Gemäß der 1 umfasst
ein Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung 1 in einer
bevorzugten erfindungsgemäßen Ausführungsform
einen zentralen Netzteil 103 und einen Erdungsrahmen 101, der
die Form des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung 1 abgrenzt.
Der Erdungsrahmen 101 ist geerdet, wenn das Blatt zur elektromagnetischen
Abschirmung in eine Anzeige einbezogen ist.
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Gemäß der 2 wird
der Netzteil 103 durch Binden einer leitfähigen Schicht 109 an
eine Oberfläche
eines Basisblatts 11 durch eine Haftmittelschicht 13 gebildet.
Die leitfähige
Schicht 109 weist eine Netzstruktur mit vielen dicht angeordneten
Maschen (Öffnungen) 105 auf.
Linien 107 definieren die Maschen 105. Die Linien 107 weisen
eine Breite, nämlich
die Linienbreite W, auf und sind in den Abständen P angeordnet.
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Ein
peripherer Netzteil 104 erstreckt sich zwischen dem Netzteil 103 und
dem Erdungsrahmen 101. Der periphere Netzteil 104 weist
ebenfalls eine Netzstruktur auf, die derjenigen des Netzteils 103 im Wesentlichen ähnlich ist.
Linien, welche die Maschen des peripheren Netzteils 104 definieren,
weisen eine Linienbreite auf, die von dem Netzteil 103 in
Richtung des Erdungsrahmens 101 nach und nach zunimmt.
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Komponentenschichten
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Die 3(A) ist eine Schnittansicht entlang der
Linie A-A in der 2. Die 3(B) ist
eine Schnittansicht entlang der Linie B-B in der 2.
Die 4 ist eine Schnittansicht zur Erläuterung
der Struktur einer leitfähigen
Schicht.
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Die 3(A) ist eine Schnittansicht entlang einer
Linie, welche die Maschen 105 und die Linien 107 abwechselnd
schneidet, und die 3(B) ist eine Schnittansicht
entlang einer Linie, die sich in Längsrichtung durch die Linie 107 erstreckt,
die aus der leitfähigen
Schicht 109 besteht. Die leitfähige Schicht 109 umfasst
eine Metallschicht 21. Mindestens eine Oberfläche der
Metallschicht 21 auf der Betrachtungsseite ist mit einer
Schwärzungsbehandlung
behandelt. In dieser Ausführungsform
weist die Metallschicht 21 gegenüber liegende Oberflächen 23A und 23B auf,
die mit einer Schwärzungsbehandlung
behandelt worden sind. Die geschwärzten Oberflächen 23A und 23B sind
mit den Rostschutzschichten 25A bzw. 25B beschichtet.
Die Rostschutzschicht kann mindestens auf der Oberfläche ausgebildet sein,
die durch die Schwärzungsbehandlung
behandelt worden ist.
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Die
Rostschutzschichten 25A und 25B verhindern ein
Rosten der Metallschicht 21 und der geschwärzten Oberflächen 23A und 23B und
auch ein Ablösen
der geschwärzten
Oberflächen 23A und 23B.
Die Metallschicht 21 wird mit einem Ätzverfahren verarbeitet, um
eine Netzstruktur derart auszubilden, dass Teile, die den Maschen 105 entsprechen, der
Rostschutzschicht 25A, die über dem Basisblatt 11 liegt,
nicht weggeätzt
werden. Folglich kann die Rostschutzschicht 25A das Basisblatt 11 und
die Haftmittelschicht 13 vor dem Ätzmittel schützen. Die Bildung
der geschwärzten
Oberfläche 23B und
der Rostschutzschicht 25B auf der anderen Oberfläche der
Metallschicht 21 ist optional. D.h., die Bildung der geschwärzten Oberflächen 23A und 23B und
der Rostschutzschichten 25A und 25B auf beiden
Oberflächen
der Metallschicht 21 ist optional. Es ist bevorzugt, die
geschwärzte
Oberfläche
und die Rostschutzschicht auf mindestens einer Oberfläche der Metallschicht 21 auf
der Betrachtungsseite zu bilden und die gesamte Oberfläche des
Basisblatts 11 (die den Maschen und den Linien entspricht)
mit der Rostschutzschicht 25A zu beschichten.
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Merkmale der Erfindung
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Das
erfindungsgemäße Blatt
zur elektromagnetischen Abschirmung 1 weist den peripheren
Netzteil 104 auf, der sich zwischen dem Netzteil 103 und dem
Erdungsrahmen 101 erstreckt. Die Linienbreite W der geraden
Teile der Linien 107, welche die Maschen definieren, in
dem peripheren Netzteil 104 nimmt von dem Netzteil 103 in
Richtung des Erdungsrahmens 101 nach und nach zu. Der Bereich, in
dem der periphere Netzteil 103 ausgebildet ist, entspricht
der Länge
einer Anordnung von 1 bis 50 Maschen oder einer Länge zwischen
etwa 0,15 und etwa 15 mm, vorzugsweise 1 bis 25 Maschen oder einer
Länge zwischen
0,3 und 7,5 mm, insbesondere 3 bis 20 Maschen oder einer Länge zwischen
1,5 und 6,0 mm von der inneren Peripherie bzw. dem inneren Umfang
des Erdungsrahmens 101 in Richtung des Netzteils 103.
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Die
Linienbreite nimmt kontinuierlich (vgl. die 6) oder
schrittweise (vgl. die 1) zu. Obwohl die Linienbreite
in einer einzelnen Stufe geändert werden
kann, wie es in der 1 gezeigt ist, ist es bevorzugt,
die Linienbreite in zwei oder mehr Stufen zu ändern, um eine Spannungskonzentration
effektiv zu vermeiden.
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Da
die Linienbreite W der Linien 107 in dem peripheren Netzteil 104 nach
und nach von dem Netzteil 103 in Richtung des Erdungsrahmens 101 zunimmt, ändert sich
nach und nach die Steifigkeit von dem Netzteil 103 in Richtung
des Erdungsrahmens 101. D.h., die Steifigkeit ändert sich
nicht abrupt, obwohl sich die Steifigkeit im Stand der Technik abrupt ändert. Folglich
ist das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung in Verfahren von
einem Herstellungsverfahren für
das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung zu einem Zusammenbauverfahren
zum Zusammenbau des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung und
der Anzeige sehr leicht handhabbar. D.h., ein Biegen und/oder permanentes
Biegen des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung wird verhindert,
das Reißen
der Linien, welche die Maschen definieren, in dem Grenzbereich zwischen dem
Netzteil und dem Erdungsrahmen wird verhindert und teure Teile werden
nicht verschwendet.
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Ein
Plasmabildschirm ist dadurch gekennzeichnet, dass er in einer großen Größe ausgebildet werden
kann. Die Größe (Außenabmessungen)
eines Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung für einen
94 cm-PDP (37 Zoll-PDP) beträgt
etwa 620 mm × etwa
830 mm und die Größe eines
Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung für einen 107 cm-PDP (42 Zoll-PDP) beträgt etwa
580 mm × etwa 980
mm. Einige Blätter
zur elektromagnetischen Abschirmung sind größer. Daher ist eine einfache
Handhabung des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung bei der
Handhabung des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung in den
Verfahren sehr wichtig, die das Herstellungsverfahren des Blatts
zur elektromagnetischen Abschirmung bis zu dem Verfahren des Zusammenbaus
des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung mit der Anzeige umfassen.
Bei dem herkömmlichen
Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung werden die Linien in dem
Grenzbereich zwischen dem Netzteil und dem Erdungsrahmen häufig zerrissen
oder gebogen und folglich werden teure Teile verschwendet.
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Obwohl
das erfindungsgemäße Blatt
zur elektromagnetischen Abschirmung in dieser Beschreibung so beschrieben
ist, dass es auf eine Anzeige, wie z.B. eine CRT oder einen PDP
angewandt wird, kann das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung
auch zur Abschirmung von Strahlung elektromagnetischer Wellen von
Vorrichtungen angewandt werden, die von Anzeigen verschieden sind.
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Zusammenfassung des Herstellungsverfahrens
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Eine
leitfähige
Schicht 109, die auf mindestens einer Oberfläche der
Betrachtungsseite eine geschwärzte
Oberfläche
und eine Rostschutzschicht aufweist, wird hergestellt. Die leitfähige Schicht 109 wird
mit einer Haftmittelschicht 13 auf eine Oberfläche eines
Basisblatts 11, nämlich
eines transparenten Films, gebunden. Ein Photolackfilm mit einem Netzmuster
wird auf der leitfähigen
Schicht 109 ausgebildet. Teile der leitfähigen Schicht 109,
die Maschen in dem strukturierten Photolackfilm entsprechen, werden
durch Ätzen
entfernt und dann wird der Photolackfilm entfernt (photolithographisches
Verfahren).
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Das
Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung 1 dieser Ausführungsform
kann mit einem Ätzsystem
zum Ätzen
eines Blatts zur Bildung einer Abdeckmaske oder dergleichen hergestellt
werden. Die meisten Schritte zur Herstellung des Blatts zur elektromagnetischen
Abschirmung können
kontinuierlich durchgeführt
werden. Daher kann ein Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung
mit einer hohen Qualität,
einer hohen Ausbeute und einer hohen Herstellungseffizienz erzeugt
werden.
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Materialien
und Verfahren zur Bildung der Komponentenschichten des Blatts zur
elektromagnetischen Abschirmung 1 in dieser Ausführungsform werden
nachstehend erläutert.
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Leitfähige Schicht
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Mindestens
eine Oberfläche
der Metallschicht 21 der leitfähigen Schicht 109 des
Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung 1 in dieser
Ausführungsform
ist mit einer Schwärzungsbehandlung behandelt
worden. Die geschwärzten
Oberflächen 23A und/oder 23B sind
mit den Rostschutzschichten 25A und/oder 25B beschichtet.
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Die
leitfähige
Schicht 109 wird mit einem Haftmittel an das Basisblatt 11,
nämlich
einen transparenten Film, gebunden, und dann wird die leitfähige Schicht 109 einem
photolithographischen Verfahren zur Bildung eines Netzmusters in
der leitfähigen Schicht 109 unterworfen.
Gegebenenfalls wird die Oberfläche
auf der Seite der Metallschicht eingeebnet. Darüber hinaus wird gegebenenfalls
eine lichtabsorbierende Schicht, die sichtbares Licht und/oder Nahinfrarotstrahlung
mit einer spezifischen Wellenlänge
absorbieren kann, auf der eingeebneten Oberfläche der leitfähigen Schicht 109 bereitgestellt.
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Das
Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung, das die leitfähige Schicht 109 aufweist,
wird auf der Vorderfläche
einer Anzeige angeordnet, um die Abstrahlung von elektromagnetischen
Wellen, die durch die Anzeige erzeugt werden, zu unterdrücken, es
weist einheitlich angeordnete Maschen auf, verursacht kaum Fehler
wie z.B. schwarze oder weiße Punkte
und Linien, ist in geeigneter Weise transparent und kann die zufriedenstellende
Sichtbarkeit von Bildern sicherstellen, die von der Anzeige angezeigt werden.
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Die
Metallschicht 21 der leitfähigen Schicht 109 zur
Unterdrückung
der Abstrahlung elektromagnetischer Wellen ist eine Schicht, die
aus einem Metall mit einer Leitfähigkeit
hergestellt ist, die zur elektromagnetischen Abschirmung ausreichend
ist, wie z.B. Gold, Silber, Kupfer, Eisen, Aluminium, Nickel oder
Chrom. Die Metallschicht 21 kann aus einer Legierung ausgebildet
sein oder eine Mehrschichtstruktur aufweisen. Bevorzugte Metalle
auf Eisenbasis zur Bildung der Metallschicht 21 sind Stähle mit
niedrigem Kohlenstoffgehalt, wie z.B. unberuhigte Stähle mit
niedrigem Kohlenstoffgehalt und Aluminium-beruhigte Stähle mit
niedrigem Kohlenstoffgehalt, sowie Ni-Fe-Legierungen und Invar.
Wenn die Metallschicht 21 durch ein kathodisches Elektroabscheidungsverfahren
gebildet wird, ist eine Kupfer- oder eine Kupferlegierungsfolie
bevorzugt, da diese einfach elektrisch abgeschieden werden können. Die
Kupferlegierungsfolie kann eine gewalzte Kupferfolie oder eine Elektrolytkupferfolie
sein. Eine Elektrolytkupferfolie ist im Hinblick auf eine einheitliche
Dicke, das Anhaften an eine geschwärzte und/oder chromatierte Schicht
und eine Bildung einer dünnen
Folie mit einer Dicke von 10 μm
oder weniger bevorzugt.
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Die
Dicke der Metallschicht 21 liegt im Bereich von etwa 1
bis etwa 100 μm,
vorzugsweise im Bereich von 5 bis 20 μm. Obwohl die Maschen der Metallschicht 21 einfacher
durch das photolithographische Verfahren gebildet werden können, wenn
die Dicke der Metallschicht 21 unter der Untergrenze des vorstehend
genannten Dickenbereichs liegt, weist eine solche dünne Metallschicht 21 einen übermäßig hohen
Widerstand auf, der den elektromagnetischen Abschirmeffekt nachteilig
beeinflusst. Wenn die Dicke der Metallschicht 21 größer ist
als die Obergrenze des vorstehend genannten Dickenbereichs, kann die
Metallschicht 21 nicht zu einem gewünschten Netzmuster mit einer
hohen Definition verarbeitet werden. Folglich wird das tatsächliche Öffnungsverhältnis vermindert,
die Lichtdurchlässigkeit
wird vermindert, der Betrachtungswinkel nimmt ab und die Sichtbarkeit
von Bildern wird schlechter.
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Vorzugsweise
liegt die Oberflächenrauhigkeit
Rz der Metallschicht 21 zwischen etwa 0,5 und 10 μm. Die Oberflächenrauhigkeit
Rz ist der Mittelwert der Rauhigkeitswerte von 10 Punkten gemäß JIS B0601.
Wenn die Oberflächenrauhigkeit
unter der Untergrenze des vorstehend genannten Oberflächenrauhigkeitsbereichs
liegt, wird die Metallschicht 21 externes Licht in einem
spiegelnden Reflexionsmodus reflektieren, und zwar selbst dann,
wenn die Oberfläche
der Metallschicht 21 geschwärzt ist, und somit wird die
Sichtbarkeit von Bildern verschlechtert. Wenn die Oberflächenrauhigkeit
der Metallschicht 21 über
der Obergrenze des vorstehend genannten Oberflächenrauhigkeitsbereichs liegt,
können
ein Haftmittel und/oder ein Photolack nicht einheitlich über die
Oberfläche
der Metallschicht 21 ausgebreitet werden und in dem Haftmittel
und/oder dem Photolack können
Blasen gebildet werden.
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Schwärzungsbehandlung
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Die
Oberfläche
der netzförmigen
leitfähigen Schicht 109 auf
der Betrachtungsseite wird mit einer Schwärzungsbehandlung verarbeitet,
um externes Licht, wie z.B. Sonnenlicht, und Licht, das von Fluoreszenzlampen
emittiert wird, das auf die Oberfläche des Blatts zur elektromagnetischen
Abschirmung 1 fällt,
zu absorbieren, und die Sichtbarkeit von Bildern, die von der Anzeige
angezeigt werden, zu erhöhen. Die
Schwärzungsbehandlung
der Oberfläche
der leitfähigen
Schicht 109 erhöht
den Bildkontrast.
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Die
Schwärzungsbehandlung
raut die Oberfläche
der Metallschicht auf oder schwärzt
diese. Insbesondere scheidet die Schwärzungsbehandlung ein Metalloxid
oder ein Metallsulfid ab.
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Wenn
das netzförmige
leitfähige
Element 109 aus einem Metall auf Eisenbasis ausgebildet
ist, wird das leitfähige
Element 109 für
10 bis 20 min in Dampf einer Temperatur zwischen etwa 450°C und etwa
470°C ausgesetzt,
so dass ein Oxidfilm (Schwärzungsfilm)
mit einer Dicke zwischen etwa 1 und etwa 2 μm gebildet wird. Der Oxidfilm
(Schwärzungsfilm)
kann durch eine chemische Behandlung unter Verwendung konzentrierter
Salpetersäure
gebildet werden.
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Wenn
die leitfähige
Schicht 109 eine Kupferfolie ist, ist es bevorzugt, die
leitfähige
Schicht 109 durch ein kathodisches Elektroabscheidungsverfahren
zur Abscheidung kationischer Teilchen auf der Oberfläche der
Folie unter Verwendung eines Elektrolyten zu behandeln, der Schwefelsäure, Kupfersulfat
und Cobaltsulfat enthält.
Die abgeschiedenen kationischen Teilchen rauen die Oberfläche auf
und schwärzen
diese. Mögliche
kationische Teilchen sind Cu-Teilchen und Cu-Legierungsteilchen.
Cu-Co-Legierungsteilchen sind bevorzugt.
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In
dieser Beschreibung werden Antireflexionsbehandlungen, wie z.B.
Aufrauhungsbehandlungen und Schwärzungsbehandlungen,
zur Bildung einer lichtabsorbierenden Schicht auf der Oberfläche eines
leitfähigen
Elements zur Absorption von Licht und zur Verhinderung einer Reflexion
als Schwärzungsbehandlungen
bezeichnet.
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Vorzugsweise
beträgt
die Schwärzungsdichte
einer Oberfläche,
die mit der Schwärzungsbehandlung
behandelt worden ist, 0,6 oder mehr. Die Schwärzungsdichte eines Prüfkörpers wird
unter Verwendung von GRETAG SPM100-11 (von Kimoto Company hergestellt,
Handelsname), das in das COLOR CONTROL SYSTEM einbezogen ist, bei
einem Winkel des Betrachtungsfelds von 10° unter Verwendung von D50 als
Betrachtungslichtquelle in einem Beleuchtungstyp „Dichtestandard
ANSI T" nach der Weißkalibrierung
gemessen.
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Vorzugsweise
beträgt
das Reflexionsvermögen
einer Oberfläche,
die mit der Schwärzungsbehandlung
behandelt worden ist, 5 % oder weniger. Das Reflexionsvermögen wird
unter Verwendung eines Trübungsmessgeräts HM150
(von Murakami Sikisai Company hergestellt, Handelsname) mit einem in
JIS K 7105 spezifizierten Verfahren gemessen.
-
Legierungsteilchen
-
Die
kationischen Teilchen können
Cu-Teilchen und Cu-Legierungsteilchen sein. Cu-Co-Legierungsteilchen
sind bevorzugt.
-
Wenn
die Cu-Co-Legierungsteilchen verwendet werden, wird der Schwärzungsgrad
beträchtlich
verbessert, so dass sichtbares Licht zufriedenstellend absorbiert
wird. Der Farbton als optische Eigenschaft zur Bewertung der Sichtbarkeit
durch das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung wird durch ein
kolorimetrisches System „L*,
a*, b*, ΔE*" ausgedrückt, das
in JIS Z8729 spezifiziert ist. Wenn die jeweiligen Absolutwerte
von „a*" und „b*" klein sind, ist
die leitfähige
Schicht 109 nicht sichtbar, so dass der Kontrast der Bilder
verstärkt
wird und folglich die Sichtbarkeit von Bildern hervorragend ist. Wenn
Cu-Co-Legierungsteilchen verwendet werden, sind die Werte von „a*" und „b*" verglichen mit denjenigen
bei der Verwendung der Cu-Teilchen im Wesentlichen Null.
-
Vorzugsweise
liegt die durchschnittliche Teilchengröße der Cu-Co-Legierungsteilchen
im Bereich von 0,1 bis 1 μm.
Wenn Cu-Co-Legierungsteilchen mit einer durchschnittlichen Teilchengröße gebildet werden,
die über
der Obergrenze des vorstehend genannten Bereichs liegt, wird die
Metallschicht 21, nämlich
eine Metallfolie, übermäßig dünn, so dass die
Metallschicht 21 in einem Verfahren des Bindens der Metallschicht 21 an
das Basisblatt 11 reißt,
so dass die Bearbeitbarkeit verschlechtert wird und die Dichte der
Teilchen abnimmt, so dass die Unregelmäßigkeit der Dichte der Teilchen
deutlich wird. Wenn auf der Oberfläche andererseits Cu-Co-Legierungsteilchen
mit einer durchschnittlichen Teilchengröße gebildet werden, die unter
der Untergrenze des vorstehend genannten Bereichs liegt, ist die
Oberfläche nicht
rau genug, d.h. die Oberfläche
weist einen unzureichenden Effekt des Verhinderns der Reflexion von
externem Licht durch eine Lichtabsorption auf, und somit wird die
Sichtbarkeit von Bildern verschlechtert.
-
Rostschutzschicht
-
Mindestens
die Metallfolienoberfläche,
welche die geschwärzten
Oberflächen
umfasst, ist mit den Rostschutzschichten 25A und/oder 25B beschichtet,
um die Metallschicht 21 und/oder die geschwärzten Oberflächen 23A, 23B vor
einem Rosten, Ablösen
und einer Verformung zu bewahren. Die Rostschutzschichten 25A und 25B können aus
einem Oxid von Ni, Zn und/oder Kupfer hergestellt sein oder es kann
sich um Schichten handeln, die durch eine Chromatbehandlung gebildet
werden. Das Oxid von Ni, Zn und/oder Kupfer kann mit bekannten Plattierungsverfahren
hergestellt werden. Die Dicke der Rostschutzschichten 25A und 25B liegt
zwischen etwa 0,001 und etwa 1 μm,
vorzugsweise zwischen 0,001 und 0,1 μm.
-
Chromatbehandlung
-
Bei
der Chromatbehandlung wird ein Zielwerkstück mit einer Chromatierungslösung behandelt.
Eine Oberfläche
des Werkstücks
kann mit der Chromatierungslösung
mit einem Walzenbeschichtungsverfahren, einem Vorhangbeschichtungsverfahren,
einem Quetschbeschichtungsverfahren, einem elektrostatischen Zerstäubungsverfahren,
einem Tauchverfahren, usw., benetzt werden. Das durch die Chromatbehandlung
behandelte Werkstück
kann ohne Waschen getrocknet werden. Wenn es beispielsweise gewünscht ist,
nur eine Oberfläche eines
Werkstücks
durch eine Chromatbehandlung zu behandeln, wird eine Chromatierungslösung mit
einem Walzenbeschichtungsverfahren oder dergleichen auf die Oberfläche des
Werkstücks
aufgebracht. Wenn es gewünscht
ist, beide Oberflächen
eines Werkstücks
zu behandeln, wird das Werkstück mit
einem Tauchverfahren in eine Chromatierungslösung getaucht. Gewöhnlich wird
für eine
Chromatbehandlung eine Chromatierungslösung verwendet, die 3 g/Liter
CrO2 enthält. Eine andere Chromatierungslösung für eine Chromatbehandlung
kann durch Mischen einer Oxycarbonsäureverbindung mit einer wässrigen
Chromsäureanhydridlösung und
Reduzieren eines Teils des sechswertigen Chroms zu dreiwertigem
Chrom hergestellt werden.
-
Die
Farbe einer chromatierten Oberfläche liegt
abhängig
von der Menge des auf der chromatierten Oberfläche abgeschiedenen sechswertigen Chroms
zwischen hellgelb und gelblichbraun. Dreiwertiges Chrom ist farblos.
Folglich kann eine chromatierte Oberfläche mit einer in der Praxis
akzeptablen Transparenz durch geeignetes Einstellen der jeweiligen
Mengen an dreiwertigem Chrom und sechswertigem Chrom gebildet werden.
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Mögliche Oxycarbonsäureverbindungen
sind Weinsäure,
Malonsäure,
Zitronensäure,
Milchsäure, Glykolsäure, Glycerinsäure, Tropasäure, Benzilsäure und
Hydroxyvaleriansäure.
Diese Verbindungen können
einzeln oder in einer Kombination verwendet werden. Da die verschiedenen
Verbindungen jeweils ein unterschiedliches Reduktionsvermögen aufweisen,
wird die Konzentration jeder Verbindung unter Berücksichtigung
von deren Vermögen
zur Reduktion von sechswertigem Chrom zu dreiwertigem Chrom bestimmt.
-
Insbesondere
können
ALSURF 1000 (von Nippon Paint Company hergestellt, Handelsname eines
Chromatierungsmittels) oder PM-284 (von Nippon Parkerizing Company
hergestellt, Handelsname eines Chromatierungsmittels) oder dergleichen
verwendet werden. Die auf eine geschwärzte Oberfläche (Schicht) angewandte Chromatbehandlung
weist zusätzlich
zu einem Rostschutzeffekt auch einen die Schwärzung verstärkenden Effekt auf.
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Die
geschwärzte
Oberfläche
und die Rostschutzschicht, die der Betrachtungsseite zugewandt sind,
können
den Kontrast und die Sichtbarkeit der durch die Anzeige angezeigten
Bilder verbessern. Andererseits können die geschwärzte Oberfläche und
die Rostschutzschicht, die der Anzeige zugewandt sind, Streulichtstrahlen
unterdrücken,
die von der Anzeige emittiert werden und verbessern somit die Sichtbarkeit
von Bildern.
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Basisblatt
-
Zur
Bildung des Basisblatts 11 können verschiedene Materialien
verwendet werden, mit der Maßgabe,
dass die Materialien ein Transparenzniveau, Isoliereigenschaften,
ein Wärmebeständigkeitsniveau
und eine mechanische Festigkeit aufweisen, welche die Bedingungen
zur Verwendung und Herstellung erfüllen. Beispielsweise sind mögliche Materialien
zur Bildung des Basisblatts 11 Polyesterharze, wie z.B.
Polyethylenterephthalatharze, Polybutylenterephthalatharze, Polyethylennaphthalatharze,
Polyethylenterephthalat-Isophthalat-Copolymere und Terephthalsäure-Cyclohexandimethanol-Ethylenglykol-Copolymere,
coextrudierte Filme aus Polyethylenterephthalat/Polyethylennaphthalat,
Polyamidharze, wie z.B. Nylon 6, Nylon 66 und Nylon 610, Polyolefinharze,
wie z.B. Polypropylenharze und Poly(methylpenten)harze, Vinylharze,
wie z.B. Polyvinylchloridharze, Acrylharze, wie z.B. Polyacrylatharze,
Polymethacrylatharze und Poly(methylmethacrylat)harze, Imidharze,
wie z.B. Polyimidharze, Polyamidimidharze und Poly(etherimid)harze,
technische Kunststoffe, wie z.B. Polyacrylatharze, Polysulfonharze,
Poly(ethersulfon)harze, Polyphenylenetherharze, Polyphenylensulfidharze
(PPS's), Polyaramidharze,
Poly(etherketon)harze, Poly(ethernitril)harze, Poly(etheretherketon)harze
und Poly(ethersulfit)harze, sowie Styrolharze, wie z.B. Polycarbonatharze
und Polystyrolharze.
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Das
Basisblatt 11 kann aus einem Copolymer ausgebildet sein,
welches das vorstehend genannte Harz als Hauptkomponente enthält, oder
es kann aus Gemischen der vorstehend genannten Harze einschließlich Legierungen
ausgebildet sein. Das Basisblatt 11 kann ein laminierter
Film sein. Obwohl das Basisblatt 11 entweder ein gestreckter
Film oder ein ungestreckter Film sein kann, ist es im Hinblick auf
die Festigkeit bevorzugt, dass das Basisblatt 11 ein uniaxial
gestreckter Film oder ein biaxial gestreckter Film ist. Gewöhnlich liegt
die Dicke des Basisblatts 11 zwischen etwa 12 und etwa
1000 μm, vorzugsweise
zwischen 50 und 700 μm
und insbesondere zwischen 100 und 500 μm. Basisblätter mit einer Dicke unter
der Untergrenze des vorstehend genannten Dickenbereichs weisen eine
unzureichende mechanische Festigkeit auf, so dass sie sich verziehen
und schlaff werden können.
Basisblätter
mit einer Dicke über
der Obergrenze des vorstehend genannten Dickenbereichs weisen eine
zu hohe Qualität
auf, was die Kosten erhöht.
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Das
Basisblatt 11 ist ein Film, ein Blatt oder eine Platte,
der bzw. das bzw. die aus mindestens einem dieser Harze hergestellt
ist. In dieser Beschreibung werden Filme, Blätter und Platten als Film bezeichnet.
Im Allgemeinen wird ein Polyesterfilm, wie z.B. ein Polyethylenterephthalatharz
oder ein Polyethylennaphthalatharz verwendet, da der Polyesterfilm
eine hohe Transparenz und eine hohe Wärmebeständigkeit aufweist und billig
ist. Polyethylente rephthalatharze sind optimal. Eine höhere Transparenz
ist bevorzugt. Vorzugsweise weist das Basisblatt 11 eine
Durchlässigkeit
für sichtbares
Licht von 80 % oder mehr auf.
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Die
Oberfläche
des Basisblatts, auf die ein Haftmittel aufgebracht wird, kann mit
einem Verfahren zur Verstärkung
des Bindungsvermögens
verarbeitet werden, um das Bindungsvermögen der Oberfläche zu verstärken. Mögliche Verfahren
zur Verstärkung
des Bindungsvermögens
sind Koronaentladungsbehandlungen, Plasmabehandlungen, Ozonbehandlungen,
Flammenbehandlungen, Primeraufbringverfahren zum Aufbringen eines
Primers, wie z.B. eines Haftvermittlers, eines Haftförderungsmittels
oder eines Haftverstärkungsmittels,
auf die Oberfläche
des Basisblatts, Vorwärmverfahren,
Staubentfernungsverfahren, Abscheidungsverfahren, Alkalibehandlungen,
usw. Der Harzfilm kann gegebenenfalls einige Zusätze enthalten, einschließlich einen Füllstoff,
einen Weichmacher und ein Antistatikmittel.
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Laminierverfahren
-
Durch
ein Laminierverfahren zum Laminieren des Basisblatts 11 und
der leitfähigen
Schicht 109 wird ein Haftmittel oder ein druckempfindliches
Haftmittel entweder auf das Basisblatt 11 oder auf die
leitfähige
Schicht 109 oder sowohl auf das Basisblatt 11 als
auch auf die leitfähige
Schicht 109 aufgebracht, das Haftmittel oder das druckempfindliche
Haftmittel wird gegebenenfalls getrocknet und das Basisblatt 11 und
die leitfähige
Schicht 109 werden zur Bildung einer laminierten Struktur
unter Erwärmen
oder ohne Erwärmen
aufeinander gepresst. Gegebenenfalls wird die laminierte Struktur
dann einer Alterung bei einer Temperatur zwischen 30 und 80°C unterworfen. Wenn
das Basisblatt 11 oder die Verbindungsschicht des Basisblatts 11 dann,
wenn das Basisblatt 11 ein Mehrschichtblatt ist, aus einem
wärmehaftenden Harz,
wie z.B. einem Ionomer, einem Ethylen-Vinylacetat-Copolymer oder
einem Ethylen-Acrylsäure-Copolymer,
einem Ethylen-Acrylsäureester-Copolymer, ausgebildet
ist, kann die Haftmittelschicht 13 weggelassen werden und
das Basisblatt 11 und die leitfähige Schicht, die übereinandergelegt
worden sind, müssen
nur unter Erwärmen
gepresst werden.
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Die
Haftmittelschicht 13 kann weggelassen werden und die leitfähige Schicht 109 kann
direkt auf dem Basisblatt 11 durch stromloses Abscheiden,
sowohl durch Elektroplattieren als auch durch Elektroplattieren
oder Vakuumabscheiden ausgebildet werden.
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Haftmittel
-
Bezüglich des
Haftmittels bestehen keine speziellen Beschränkungen. Geeignete Haftmittel sind
z.B. Acrylharze, Polyesterharze, Urethanharze, Vinylchlorid-Vinylacetat- Copolymerharze. Das
vom Fachmann als Trockenlaminierverfahren bezeichnete Verfahren
ist ein bevorzugtes Laminierverfahren. Bei dem Trockenlaminierverfahren
wird als Haftmittel ein hitzehärtendes
Harz verwendet, das gegen die Verfärbungs- und Zerstörungseffekte
eines Ätzmittels
beständig
ist und eine gute Verarbeitungsfähigkeit
aufweist. Es ist auch bevorzugt, ein UV-härtendes Harz, das durch ionisierende
Strahlung, wie z.B. UV-Strahlung, härtbar ist, zu verwenden.
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Trockenlaminierverfahren
-
Durch
das Trockenlaminierverfahren wird eine laminierte Struktur durch
Laminieren von zwei Blättern
durch die Schritte des Aufbringens einer Haftmittellösung, die
durch Dispergieren oder Lösen eines
Haftmittels in einem Lösungsmittel
hergestellt wird, auf die Oberflächen
von Blättern,
Trocknen der auf die Blätter
aufgebrachten Haftmittellösung,
Laminieren der Blätter
zu einer laminierten Struktur, und Altern der laminierten Struktur
bei Temperaturen zwischen 30 und 120°C für einen Zeitraum zwischen mehreren
Stunden und mehreren Tagen zur Härtung des
Haftmittels gebildet.
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Es
kann ein lösungsmittelfreies
Laminierverfahren eingesetzt werden, das durch Verbessern des Trockenlaminierverfahrens
entwickelt worden ist. Durch das lösungsmittelfreie Laminierverfahren
wird eine laminierte Struktur durch die Schritte des Laminierens
von zwei Blättern,
deren Oberflächen
jeweils mit Haftmittelschichten beschichtet sind, die durch Aufbringen
eines Haftmittels auf die Oberflächen
und Trocknen des Haftmittels gebildet werden, sowie Altern der laminierten
Struktur bei Temperaturen zwischen 30 und 120°C für einen Zeitraum zwischen mehreren
Stunden und mehreren Tagen, um das Haftmittel zu härten, gebildet.
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Geeignete
Haftmittel für
das Trockenlaminierverfahren und das lösungsmittelfreie Laminierverfahren,
sind diejenigen, die mit Wärme
oder ionisierender Strahlung, wie z.B. UV-Strahlung oder Elektronenstrahlen, gehärtet werden
können.
Insbesondere sind mögliche
hitzehärtende
Haftmittel Zweikomponenten-Haftmittel, wie z.B. Urethanhaftmittel, die
jeweils z.B. Acryl-Urethan-Harze, Polyester-Urethan-Harze und Polyether-Urethan-Harze,
Acrylhaftmittel, Polyesterhaftmittel, Polyamidhaftmittel, Polyvinylacetathaftmittel,
Epoxyhaftmittel und elastomere Haftmittel umfassen. Zweikomponenten-Urethanhaftmittel
sind geeignet.
-
Ein
Polymer, das durch die Reaktion z.B. eines polyfunktionellen Isocyanatharzes
mit einer Hydroxylverbindung (Polyol) erzeugt wird, wird als Zweikomponenten-Urethanhaftmittel
verwendet. Insbesondere sind mögliche
polyfunktionelle Isocyanate aromatische Polyisocyanate wie z.B.
Toluylendiisocyanat, Diphenylmethandiisocyanat und Polymethylen-Polyphenylen- Polyisocyanat, oder
aliphatische (oder alicyclische) Polyisocyanate, wie z.B. Hexamethylendiisocyanat,
Xylylendiisocyanat und Isophorondiisocyanat. Diese Polyisocyanate
können
Polymere (Trimere) oder dergleichen der vorstehend genannten Isocyanate
sein. Mögliche
Hydroxylverbindungen sind Polyetherpolyole, Polyesterpolyole und
Polyacrylatpolyole. Ein Zweikomponenten-Urethanharz, das durch Umsetzen
des polyfunktionellen Isocyanats mit der Hydroxylverbindung erzeugt
wird, kann verwendet werden.
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Ein
Haftmittel, das durch Mischen eines Polyesterpolyurethans, das durch
ein Styrol-Maleinsäure-Copolymer
denaturiert ist, mit einem aliphatischen Polyisocyanat hergestellt
wird, ist bevorzugt. Dieses Haftmittel ist gegen die färbenden
und zersetzenden Effekte eines Ätzmittels
beständig.
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In
dem Trockenlaminierverfahren wird ein Mischhaftmittel, das die vorstehend
genannten Substanzen als Hauptkomponenten enthält, in einem organischen Lösungsmittel
gelöst
oder dispergiert, um eine Haftmittellösung zu erzeugen, die Haftmittellösung wird
durch ein Beschichtungsverfahren, wie z.B. ein Walzenbeschichtungsverfahren,
ein Umkehrwalzenbeschichtungsverfahren, ein Tiefdruckbeschichtungsverfahren,
ein Tiefdruckumkehrbeschichtungsverfahren, ein Tiefdruck-Offsetbeschichtungsverfahren,
ein Kiss-Coating-Verfahren, ein Wire-Bar-Beschichtungsverfahren,
ein Komma-Beschichtungsverfahren, ein Rakelbeschichtungsverfahren,
ein Tauchbeschichtungsverfahren, ein Flutbeschichtungsverfahren
oder ein Sprühbeschichtungsverfahren
auf das Basisblatt aufgebracht, und eine Haftmittelschicht zum Laminieren
wird durch Trocknen der auf das Basisblatt aufgebrachten Haftmittellösung zur
Entfernung des Lösungsmittels
gebildet. Ein Walzenbeschichtungsverfahren oder ein Umkehrwalzenbeschichtungsverfahren
ist bevorzugt.
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Die
Dicke der trockenen Haftmittelschicht liegt zwischen etwa 0,1 und
etwa 20 μm,
vorzugsweise zwischen 1 und 10 μm.
Das Basisblatt und die leitfähige
Schicht werden laminiert und das Haftmittel wird durch Altern bei
Temperaturen zwischen 30 und 120°C
für einen
Zeitraum zwischen mehreren Stunden und mehreren Tagen gehärtet, um
das Basisblatt und die leitfähige
Schicht aneinander zu binden. Die Haftmittelschicht kann auf der
Oberfläche
entweder des Basisblatts oder der leitfähigen Schicht gebildet werden.
Vorzugsweise wird die Haftmittelschicht auf der aufgerauhten Oberfläche einer
Kupferfolie gebildet. In diesem Fall kann das Haftmittel auf der
gesamten aufgerauhten Oberfläche
ausgebreitet werden und die Bildung von Blasen in der Haftmittelschicht
wird verhindert.
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Grundsätzlich ist
das lösungsmittelfreie
Laminierverfahren dem Trockenlaminierverfahren ähnlich. Das lösungsmittelfreie
Laminierverfahren nutzt anstelle einer Haftmittellösung, die durch
Lösen oder Dispergieren
eines Mischhaftmittels in einem Lösungsmittel hergestellt wird,
ein Mischhaftmittel selbst. Gegebenenfalls wird ein Mischhaftmittel
erhitzt, um die Viskosität
des Mischhaftmittels zu vermindern.
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Druckempfindliches Haftmittel
-
Es
kann ein allgemein bekanntes druckempfindliches Haftmittel verwendet
werden. Mögliche druckempfindliche
Haftmittel umfassen Naturkautschukhaftmittel, synthetische Kautschukhaftmittel, wie
z.B. Butylkautschukhaftmittel, Polyisoprenhaftmittel, Polyisobutylenhaftmittel,
Polychloroprenhaftmittel und Styrol-Butadien-Copolymere, Silikonharze, wie
z.B. Dimethylpolysiloxanharze, Acrylharze, Vinylacetatharze, wie
z.B. Polyvinylacetatharze und Ethylen-Vinylacetat-Copolymere, Urethanharze,
Acrylnitrilharze, Kohlenwasserstoffharze, Alkylphenolharze und Kolophoniumharze,
wie z.B. Kolophonium, Kolophoniumtriglyceridharze und hydriertes
Kolophonium.
-
Druckempfindliches Kautschukhaftmittel
-
Ein
effektives druckempfindliches Kautschukhaftmittel ist ein Gemisch
aus einem oder mehreren druckempfindlichen Haftmittel(n), wie z.B. Chloroprenkautschuken,
Nitril-Butadien-Kautschuken,
Acrylelastomeren, Styrol-Butadien-Kautschuken, Styrol-Isopren-Styrol-Kautschuken, Styrol-Butadien-Styrol-Kautschuken,
Styrol-Ethylen-Butadien-Styrol-Kautschuken,
Butylkautschuken, Polyisobutylenkautschuken, Naturkautschuken und
Polyisoprenkautschuken, und einem oder mehreren klebrigmachenden
Mitteln, wie z.B. Phenolharzen, modifizierten Phenolharzen, Ketonharzen,
Alkydharzen, Kolophoniumharzen, Cumaronharzen, Styrolharzen, Erdölharzen
und Vinylchloridharzen.
-
Druckempfindliche
Kautschukhaftmittel sind bezüglich
Acrylhaftmitteln bei der chemischen Beständigkeit, der Quellbeständigkeit,
der Temperaturbeständigkeit,
des Haftvermögens
und der Ablösebeständigkeit
hervorragend. Daher wird die laminierte Struktur selbst dann nicht
delaminiert, wenn die laminierte Struktur einer Säuresubstanz
oder einer Alkalisubstanz ausgesetzt wird. Das druckempfindliche Kautschukhaftmittel
wird kaum hydrolysiert und hält dessen
Haftvermögen
für einen
langen Zeitraum aufrecht, und zwar selbst dann, wenn das druckempfindliche
Kautschukhaftmittel in eine Säure-
oder Alkalilösung
eingetaucht wird.
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Bildung der Schicht aus dem
druckempfindlichen Haftmittel
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Eine
Haftmittelflüssigkeit,
d.h. ein Latex, eine Wasserdispersion oder eine organische Lösungsmittellösung des
vorstehend genannten Harzes oder eines Gemisches der vorstehend
genannten Harze wird mit einem bekannten Druckverfahren oder Beschichtungsverfahren,
wie z.B. mit einem Siebdruckverfahren oder einem Komma-Beschichtungsverfahren,
auf eines der zu laminierenden Blätter aufgebracht. Das Blatt
wird gegebenenfalls einem Trocknungsverfahren unterworfen und das
Blatt und das andere Blatt werden übereinander gelegt und gepresst.
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Verwendung einer Blattrolle
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Die 5(A) und 5(B) sind
eine Draufsicht bzw. eine Seitenansicht, die bei der Erläuterung
eines Verfahrens zum Verarbeiten eines von einer Blattrolle abgewickelten
Blatts hilfreich sind. Wie es in der Draufsicht der 5(A) gezeigt
ist, sind auf einem Blatt, das von einer Blattrolle abgewickelt
worden ist, Blätter
zur elektromagnetischen Abschirmung 1 in feststehenden
Abständen
angeordnet. Gemäß der Seitenansicht
der 5(B) ist die leitfähige Schicht 109 auf
das Basisblatt 11 laminiert.
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Die
geschwärzte
Oberfläche
und die Rostschutzschicht sind auf der von der Blattrolle abgewickelten
leitfähigen
Schicht 109 ausgebildet. Das Haftmittel wird auf die Rostschutzschicht
als Haftmittelschicht aufgebracht, die Haftmittelschicht wird getrocknet,
die leitfähige
Schicht 109 wird auf dem Basisblatt 11 angeordnet
und die leitfähige
Schicht 109 und das Basisblatt 11 werden zur Bildung
einer laminierten Struktur gepresst. Gegebenenfalls wird die laminierte
Struktur in einer Atmosphäre
mit einer Temperatur im Bereich von 30 bis 80°C für einen Zeitraum zwischen mehreren
Stunden und mehreren Tagen gealtert. Das Blatt, das die so gebildeten
laminierten Strukturen aufweist, wird wieder aufgerollt.
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Photolithographisches Verfahren
-
Die
laminierte Struktur wird einem photolithographischen Verfahren unterworfen,
bei dem eine Photolackschicht mit einem Netzmuster auf der Oberfläche der
leitfähigen
Schicht der laminierten Struktur gebildet wird, Teile der leitfähigen Schicht, die
den Maschen der Photolackschicht entsprechen, weggeätzt werden,
und dann die Photolackschicht entfernt wird. Auf diese Weise wird
eine leitfähige Netzschicht
gebildet.
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Folglich
wird die leitfähige
Schicht 109 der laminierten Struktur, die aus dem Basisblatt 11 und
der leitfähigen
Schicht 109 besteht, durch das photolithographische Verfahren
in einem Netzmuster geätzt. Die
laminierte Struktur wird von einer Rolle der laminierten Struktur
abgewickelt und dann zu dem photolithographischen Verfahren geführt. Die
laminierte Struktur wird im gespannten Zustand geätzt und Maskierungs-, Ätz- und
Photolackentfernungsschritten unterworfen, während die laminierte Struktur
kontinuierlich oder diskontinuierlich transportiert wird.
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Maskierungsschritt
-
Beispielsweise
wird ein Photolack auf die leitfähige
Schicht 109 als Photolackfilm aufgebracht, der Photolackfilm
wird getrocknet, der Photolackfilm wird durch eine Photomaske mit
einem durch ein Kontaktdruckverfahren ausgebildeten, vorgegebenen
Netzmuster (mit Linien, die Maschen definieren) belichtet und der
belichtete Photolackfilm wird nacheinander einer Entwicklung, Härtung und
einem Einbrennen unterworfen, um eine Maske zu bilden.
-
Ein
Photolack, wie z.B. Casein, PVA oder Gelatine, wird auf die Oberfläche der
leitfähigen Schicht 109 der
gestreckten laminierten Struktur (die durch Laminieren des Basisblatts 11 und
der leitfähigen
Schicht 109 gebildet worden ist) durch ein Tauchverfahren,
ein Vorhangbeschichtungsverfahren oder ein Gießverfahren aufgebracht, während die
laminierte Struktur kontinuierlich oder diskontinuierlich transportiert
wird. Anstelle des Photolackfilms, der durch das vorstehend beschriebene
Nassverfahren gebildet worden ist, kann ein Trockenphotolackfilm verwendet
werden. Die Verwendung eines Trockenphotolackfilms erleichtert die
Arbeit. Der Photolackfilm wird bei einer Temperatur zwischen 200
und 300°C
eingebrannt, wenn der Photolackfilm aus Casein ausgebildet ist.
Es ist bevorzugt, den Photolackfilm bei der niedrigsten zulässigen Temperatur
einzubrennen, um ein Verziehen der laminierten Struktur zu verhindern.
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Ätzschritt
-
Dann
wird die leitfähige
Schicht 109 nach dem Maskierungsschritt geätzt. In
der vorliegenden Erfindung wird das Ätzen kontinuierlich durchgeführt. Daher
ist es bevorzugt, als Ätzmittel
eine Eisen(III)-chloridlösung
oder eine Kupfer(II)-chloridlösung
zu verwenden, die einfach umgewälzt
werden können.
Im Wesentlichen ist das Ätzverfahren
mit einem Abdeckmaskenherstellungsschritt identisch, bei dem ein
kontinuierliches dünnes
Blatt mit einer Dicke zwischen 20 und 80 μm zur Herstellung von Abdeckmasken
für CRT's von Farbfernsehgeräten geätzt wird.
Folglich kann der Ätzschritt
mit einem vorhandenen Abdeckmaskenherstellungs system durchgeführt werden.
Das Abdeckmaskenherstellungssystem kann alle erforderlichen Schritte
von einem Maskierungsschritt bis zu einem Ätzschritt kontinuierlich und
effizient ausführen.
Die geätzte
laminierte Struktur wird mit Wasser gewaschen, der Photolackfilm wird
unter Verwendung einer alkalischen Lösung entfernt und die laminierte
Struktur wird gewaschen und dann getrocknet.
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Netz
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Der
Netzteil 103 weist viele Maschen (Öffnungen) 105 auf,
die durch die Linien 107 definiert sind. Bezüglich der
Form der Maschen 105 gibt es keine speziellen Beschränkungen.
Beispielsweise kann die Form der Maschen 105 ein Dreieck,
wie z.B. ein gleichseitiges Dreieck oder ein gleichschenkliges Dreieck,
ein Viereck, wie z.B. ein Quadrat, ein Rechteck, eine Raute oder
ein Trapez, ein Polygon, wie z.B. ein Fünfeck, ein Sechseck oder ein
Achteck, ein Kreis, eine Ellipse, usw., sein. Die Maschen 105 sind in
einem Netzmuster angeordnet.
-
Im
Hinblick auf das Öffnungsverhältnis, die Unsichtbarkeit
des Netzteils und die Sichtbarkeit der Bilder muss die Linienbreite
W der Linien 107 in dem Netzteil 103 innerhalb
eines vorgegebenen Werts ± 30
% liegen. Der Krümmungsradius
einer Seitenwand, die sich zwischen der oberen und unteren Seite
eines Schnitts jeder der Linien 107 in einer Ebene senkrecht
zu dem transparenten Basisblatt 11 erstreckt, muss im Bereich
des 1,5- bis 3,0-fachen der Dicke der leitfähigen Schicht 109 liegen.
Vorzugsweise hat die Linienbreite W der Linien 107 in dem
Netzteil 103 einen feststehenden Wert zwischen 5 und 25 μm und die
Abstände
der Linien 107 in dem Netzteil 103 haben einen
feststehenden Wert zwischen 150 und 500 μm. Die Linienbreite W der Linien 107 in
dem peripheren Netzteil 104, welches das Netzteil 103 umgibt,
die 1 bis 50 Maschen oder 0,15 bis 15 mm entspricht, nimmt in Richtung
des Erdungsrahmens 101 nach und nach zu.
-
Im
Allgemeinen weist ein Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung
für einen
großen
Plasmabildschirm mehr als mehrere Tausend von sich schneidenden
geraden Linien auf. Da eine Ungleichmäßigkeit der Linienbreite der
Linien unterdrückt
und der Krümmungsradius
einer Seitenwand, die sich zwischen der oberen und der unteren Seite
eines Schnitts jeder der Linien erstreckt, eingestellt ist, kann
das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung 1, das so
hergestellt worden ist, zusätzlich
zu einem elektromagnetischen Abschirmvermögen und einer geeigneten Transparenz
mit einer einheitlichen Dichte angeordnete Maschen aufweisen und
es liegen nur wenige Fehler wie z.B. schwarze und weiße Punkte
und Linien vor, und es kann das Blenden des Schirms der Anzeige
und die Reflexion von externem Licht unterdrücken. D.h., das Blatt zur elektromagnetischen
Abschirmung 1 kann eine gute Sichtbarkeit der Bilder erreichen.
-
Wenn
die gewünschte
Linienbreite 14 μm
beträgt,
können
die jeweiligen Linienbreiten der Linien im Breitenbereich von 14 ± 4,2 μm beschränkt werden,
d.h. im Breitenbereich von 9,8 bis 18,2 μm. Wenn die Linien in einem
solchen Breitenbereich ausgebildet sind, sind die Maschen in einer
einheitlichen Dichte angeordnet und das Blatt zur elektromagnetischen
Abschirmung 1 weist wenige Fehler wie z.B. schwarze und/oder
weiße
Punkte und Linien auf. Wenn die jeweiligen Linienbreiten der Linien
in einem übermäßig großen Breitenbereich
verteilt sind, sind die Maschen mit einer einheitlichen Dichte sichtbar. Darüber hinaus
sind bei der Betrachtung der Bilder, die von der Anzeige angezeigt
werden, Teile der Linien mit einer übermäßig großen Linienbreite fehlerhaft und
erscheinen als schwarze Punkte, und Teile der Linien mit übermäßig kleinen
Linienbreiten sind fehlerhaft und bilden weiße Punkte. Bilder mit weißen und/oder
schwarzen Punkten rufen bei Personen den starken Eindruck einer
Fehlerhaftigkeit hervor.
-
Das
Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung in dieser Ausführungsform,
das mit einem kontinuierlichen photolithographischen Verfahren hergestellt
wird, weist Linien mit Linienbreiten in dem gewünschten Breitenbereich auf
und somit sind die Maschen kaum in einer unregelmäßigen Dichte
angeordnet und es treten auch keine Probleme bezüglich des elektromagnetischen
Abschirmungsvermögens und
der Transparenz auf. Eine unregelmäßige Netzverteilung und Fehler
wie z.B. schwarze und/oder weiße
Punkte und Linien können
durch das Anhaften von Tropfen eines verspritzten flüssigen Photolacks an
nicht vorgesehenen Teilen der leitfähigen Schicht verursacht werden,
wenn der flüssige
Photolack auf die Oberfläche
der leitfähigen
Schicht aufgebracht wird. Solche Probleme treten bei dem kontinuierlichen
photolithographischen Verfahren kaum auf.
-
Die
Linienbreiten der Linien in dem Netzteil 103 und dem peripheren
Netzteil 104 werden in verschiedenen Kontrollmodi kontrolliert.
Die Linienbreite W der geraden Teile der Linien 107 in
dem peripheren Netzteil 104 wird in Richtung des Erdungsrahmens 101 nach
und nach erhöht.
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Der
periphere Netzteil 104 erstreckt sich derart zwischen dem
Netzteil 103 und dem Erdungsrahmen 101, dass der
periphere Netzteil 104 den Netzteil 103 umgibt.
Die Breite des peripheren Netzteils 104, d.h. der Abstand
zwischen der Innenseite des Erdungsrahmens 101 und der
entsprechenden Seite des Netzteils 103 entspricht 1 bis
50 Maschen oder etwa 0,15 bis etwa 15 mm, vorzugsweise 1 bis 25 Maschen
oder 0,3 bis 7,5 mm und insbesondere 3 bis 20 Maschen oder 1,5 bis
6,0 mm.
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Wenn
die Breite des peripheren Netzteils 104 über der
Obergrenze des vorstehend genannten Breitenbereichs liegt, ist in
einem peripheren Bereich der Anzeige ein dunkler Rahmen sichtbar,
die Bilder erscheinen klein, und die Sichtbarkeit der Bilder wird beeinträchtigt.
Wenn die Breite des peripheren Netzteils 104 kleiner ist
als die Untergrenze des vorstehend genannten Breitenbereichs, ändert sich
die Steifigkeit der Netzlinien übermäßig abrupt
und die Linien können
gebogen werden. Die Linienbreite kann sich entweder kontinuierlich
und nach und nach über
einer Mehrzahl der Maschen 105 (Zellen) oder derart schrittweise ändern, dass
sich die Linienbreite mit jeder Masche 105 (Zelle) ändert.
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Die 6 ist
eine vergrößerte partielle Draufsicht
auf den peripheren Netzteil 104, der in dem Blatt zur elektromagnetischen
Abschirmung der bevorzugten Ausführungsform
enthalten ist.
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Die
Linien 107 des Netzteils 103 weisen die vorgegebene
Linienbreite W auf. Jede der Linien 107 in dem peripheren
Netzteil 104 weist in Richtung des Erdungsrahmens 101 Teile
mit den Linienbreiten W1, W2, W3, ..., Wi, ... und Wn auf. Diese
Linienbreiten erfüllen
die Beziehung, die durch W < W1 < W2 < W3 < ... < Wi < ... < Wn ausgedrückt wird.
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Wenn
sich die Linienbreite der Linien 107 kontinuierlich ändert, nimmt
die Linienbreite kontinuierlich von W1 zu Wn zu, d.h. die Linienbreite
Wi (i = 1, 2, ..., n) eines Teils der Linie 107, die einer
Zelle entspricht, nimmt selbst nach und nach zu.
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Wenn
sich die Linienbreite der Linien 107 schrittweise ändert, ist
die Linienbreite Wi eines Teils der Linie 107, die einer
Zelle entspricht, als solche feststehend. Die Anzahl n der Stufen
der Änderung der
Linienbreite ist mindestens 1 und es ist bevorzugt, dass die Anzahl
n nicht kleiner als 2 ist, um schrittweise Spannungen zu verteilen,
die in den Kanten des Netzteils 103 induziert werden, um
eine Spannungskonzentration zu vermeiden.
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In
dem in der 6 gezeigten Beispiel ist n =
5 und die Linienbreite nimmt schrittweise zu. Die jeweiligen Linienbreiten
aller Linien müssen
nicht in dem gleichen Linienbreitenänderungsmodus geändert werden
und die verschiedenen Linien können unterschiedliche
Linienbreiten W1, W2, W3, ... bzw. Wn aufweisen.
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Die
Linien mit einer nach und nach zunehmenden Linienbreite können durch
Belichten eines trockenen Photolackfilms, der an der leitfähigen Schicht 109 gebunden
ist, oder eines Photo lackfilms, der durch Aufbringen eines Photolacks
auf die leitfähige
Schicht 109 gebildet worden ist, durch eine Photomaske
mit einem gewünschten
Muster, das solche Linien definiert, gebildet werden. Die Photomaske entspricht
einem Film, der vom Fachmann als plattenbildender Film bezeichnet
wird. Ein plattenbildender Film mit lichtundurchlässigen Teilen,
die den Maschen 105 entsprechen, und transparenten Teilen, die
den Linien 107 entsprechen, d.h. ein Film mit einem Negativbild
der Linien 107, wird verwendet, wenn der Photolackfilm
ein negativer Photolackfilm ist, bei dem belichtete Teile aushärten und
unlöslich werden.
Ein plattenbildender Film mit einem positiven Bild der Linien 107 wird
verwendet, wenn der Photolackfilm ein positiver Photolackfilm ist,
bei dem unbelichtete Teile unlöslich
werden. Teile der Photomaske, die den Linien 107 in dem
Netzteil 103 entsprechen, werden in der vorgegebenen Linienbreite W
ausgebildet. Die Linienbreite von Teilen der Photomaske, die den
Linien 107 in dem peripheren Netzteil 104 entsprechen,
wird in Richtung des Erdungsrahmens 101 von W1 bis Wn geändert, wobei
W < W1 < W2 < W3 < ... < Wn.
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In
dem in der 1 gezeigten Blatt zur elektromagnetischen
Abschirmung sind die Linien mit einer Neigung von 45° zu der unteren
Kante des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung geneigt. Die Neigung
der Linien kann unter Berücksichtigung
der Pixel und der Lichtemissionseigenschaften der Anzeige in geeigneter
Weise selektiv bestimmt werden, um das Auftreten von Moirée zu verhindern.
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Einebnung
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Teile
der leitfähigen
Schicht 109, die den Linien 107 entsprechen, welche
die Maschen definieren, weisen eine Dicke auf, die mit der Dicke
der leitfähigen
Schicht identisch ist, und Teile der leitfähigen Schicht 109,
die den Maschen 105 entsprechen, sind Hohlräume. Folglich
weist die leitfähige
Schicht 109 eine unregelmäßige Oberfläche auf. Wenn ein Haftmittel
oder ein druckempfindliches Haftmittel, die beide als "Haftmittel" bezeichnet werden,
in dem nachfolgenden Verfahren auf die leitfähige Schicht 109 aufgebracht
wird, werden die Hohlräume
mit dem Haftmittel aufgefüllt.
Es ist jedoch wahrscheinlich, dass in dem Haftmittel, das die Hohlräume auffüllt, Blasen
enthalten sind. Wenn in dem Haftmittel Blasen enthalten sind, wird
Licht durch die Grenzfläche zwischen
dem Haftmittel und den Blasen gestreut und folglich nimmt die Trübung (Grad
der Schleierbildung) zu. Es ist bevorzugt, die leitfähige Schicht durch
Auffüllen
der Hohlräume
mit einem transparenten Harz vor dem Aufbringen des Haftmittels
auf die leitfähige
Schicht 109 einzuebnen, um das vorstehend genannte Problem
zu vermeiden.
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Die
Hohlräume
werden mit dem transparenten Harz zur Einebnung aufgefüllt. Die
Transparenz des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung wird
durch Blasen verschlechtert, die in den Hohlräumen verbleiben, bis die Hohlräume vollständig mit dem
transparenten Harz gefüllt
sind. Folglich wird auf die leitfähige Schicht 109 eine
Harzlösung
aufgebracht, die durch Lösen
des transparenten Harzes in einem Lösungsmittel hergestellt wird
und eine niedrige Viskosität
aufweist, und dann wird die Harzlösung getrocknet. Alternativ
wird das transparente Harz auf die leitfähige Schicht 109 aufgebracht,
während
das transparente Harz entgast wird. Auf diese Weise wird eine Einebnungsschicht 29 ausgebildet
(vgl. die 3 oder 7).
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Es
ist bevorzugt, dass die Einebnungsschicht 29 eine hohe
Transparenz aufweist und dass sie stark an der netzförmigen leitfähigen Schicht 109 und
an einem Haftmittel haftet, das in dem nachfolgenden Verfahren auf
die Einebnungsschicht 29 aufgebracht wird. Es ist nicht
bevorzugt, dass die Oberfläche
der Einebnungsschicht 29 Vorwölbungen, Vertiefungen und/oder
Unregelmäßigkeiten
aufweist. Wenn die Oberfläche
der Einebnungsschicht 29 Vorwölbungen, Vertiefungen und/oder
Unregelmäßigkeiten
aufweist, können
ein Moirée,
Interferenzfarbsäume
und/oder Newton'sche
Ringe erscheinen, wenn das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung 1 auf
oder über
der Vorderfläche
der Anzeige angeordnet wird. Bei einem bevorzugten Verfahren zur
Bildung der Einebnungsschicht 29 wird ein Harz, wie z.B.
ein hitzehärtendes
Harz oder ein UV-härtbares Harz,
in einem Harzfilm auf die leitfähige
Schicht 109 aufgebracht, ein Trennblatt mit einer hervorragenden Ebenheit
wird auf die Oberfläche
der Harzschicht laminiert, der Harzfilm wird zum Härten erwärmt oder mit
UV-Strahlen bestrahlt
und dann wird das Trennblatt von dem gehärteten Harzfilm entfernt. Die
ebene Konfiguration des ebenen Trennblatts wird auf die Oberfläche der
Einebnungsschicht 29 übertragen. Folglich
kann die Einebnungsschicht 29 eine ebene, glatte Oberfläche aufweisen.
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Die
Einebnungsschicht 29 kann aus einem beliebigen geeigneten
Harz ausgebildet sein, wie z.B. einem natürlichen oder synthetischen
Harz oder einem hitzehärtenden
oder einem durch ionisierende Strahlung härtbaren Harz. Im Hinblick auf
die Dauerbeständigkeit,
das einfache Aufbringen, das einfache Ausbreiten zu einem ebenen
Film und das Vermögen zur
Bildung einer ebenen Oberfläche
sind UV-härtbare
Acrylharze zur Bildung der Einebnungsschicht 29 geeignet.
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NIR-absorbierendes Mittel
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Das
Harz, das die Einebnungsschicht 29 bildet, kann ein lichtabsorbierendes
Mittel enthalten, das sichtbare Strahlung und/oder Nahinfrarotstrahlung
mit spezifischen Wellenlängen
absorbieren kann. Die Absorption der sichtbaren Strahlung und/oder
der Nahinfrarotstrahlung unterdrückt
einen unangenehmen Sinneseindruck und verbessert die Sichtbarkeit
der Bilder. Die spezifischen Nahinfrarotwellenlängen liegen zwischen etwa 780
und etwa 1200 nm, vorzugsweise zwischen etwa 800 bis etwa 1100 nm.
Vorzugsweise werden mindestens 80 % der Nahinfrarotstrahlung mit
Wellenlängen
zwischen 780 und 1200 nm absorbiert.
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Es
kann jegliches geeignete Nahinfrarot-absorbierende Mittel (NIR-absorbierende
Mittel) verwendet werden. Beispielsweise sind geeignete NIR-absorbierende
Mittel Farbgebungsmaterialien mit einem scharfen Absorptionspeak
in einem Nahinfrarotbereich in einem Absorptionsspektrum und einer
hohen Durchlässigkeit
für sichtbares
Licht in einem Wellenlängenbereich
zwischen 380 und 780 nm und ohne starkes Absorptionsvermögen für spezifische
Wellenlängen
im sichtbaren Bereich.
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Sichtbare
Strahlung, die von einem PDP emittiert wird, umfasst eine große Menge
an orangem Licht, das dem Emissionsspektrum von Neonatomen entspricht.
Daher weisen Bilder, die von dem PDP angezeigt werden, im Vergleich
mit natürlichen
Farben eine orangefarbene Tönung
auf. Daher ist es bevorzugt, dem Harz, das die Einebnungsschicht 29 bildet,
ein farbkorrigierendes absorbierendes Mittel zuzusetzen, das Licht
mit Wellenlängen
im Bereich von etwa 570 bis etwa 605 nm absorbieren kann.
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Geeignete
NIR-absorbierende Mittel umfassen Cyaninverbindungen, Phthalocyaninverbindungen,
Naphthalocyaninverbindungen, Naphthochinonverbindungen, Anthrachinonverbindungen,
Dithiolkomplexe, Immoniumverbindungen und Diimmoniumverbindungen.
Geeignete farbtonkorrigierende Lichtabsorptionsmittel sind Azoverbindungen
und Phthalocyaninverbindungen.
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Geeignete
farbkorrigierende, absorbierende Mittel umfassen Phthalocyaninverbindungen.
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NIR-absorbierende Schicht
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Das
Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung 1 kann anstelle
des Zusatzes eines NIR-absorbierenden
Mittels in der Einebnungsschicht mit einer weiteren Schicht (NIR- absorbierende Schicht)
ausgestattet sein, die ein NIR-absorbierendes Mittel auf mindestens
einer Oberfläche
davon enthält.
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Die
NIR-absorbierende Schicht kann auf der Einebnungsschicht 29 und/oder
der Oberfläche
des Basisblatts 11 ausgebildet sein, die nicht auf die
Einebnungsschicht 29 gerichtet ist. In der 3 ist
eine NIR-absorbierende Schicht 31B auf der Einebnungsschicht 29 ausgebildet,
und eine NIR-absorbierende Schicht 31A ist auf der freiliegenden
Oberfläche
des Basisblatts 11 ausgebildet. Die NIR-absorbierenden Schichten 31A und 31B sind
laminierte und haftend gebundene Filme, die ein NIR-absorbierendes
Mittel enthalten und käuflich
sind, wie z.B. Nr. 2832, der von Toyobo Company hergestellt wird,
oder Schichten, die durch Ausbreiten eines Bindemittels, das ein NIR-absorbierendes
Mittel enthält,
gebildet werden. Geeignete Bindemittel umfassen Polyesterharze,
Polyurethanharze, Acrylharze und hitzehärtende oder UV-härtbare Harze, die zum Härten die
Reaktion von Epoxygruppen, Acrylatgruppen, Methacrylatgruppen und
Isocyanatgruppen nutzen. Eine farbkorrigierende lichtabsorbierende
Schicht kann anstelle der Bildung der Einebnungsschicht 29 aus
einem Harz, das ein farbkorrigierendes, lichtabsorbierendes Mittel enthält, separat
gebildet werden.
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AR-Schicht
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Eine
Antireflexionsschicht (AR-Schicht), die nicht gezeigt ist, kann
auf der Oberfläche
auf der Betrachtungsseite des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung
ausgebildet sein. Die AR-Schicht vermindert die Reflexion von sichtbarem
Licht. Es gibt verschiedene käufliche
Einzelschicht- und Mehrschicht-AR-Filme. Der Mehrschicht-AR-Film
wird durch abwechselndes Laminieren von Schichten mit hoher Brechung
und Schichten mit niedriger Brechung gebildet. Mögliche Schichten mit hoher
Brechung sind solche aus Nioboxid, Titanoxid, Zirkoniumoxid und
ITO. Mögliche
Schichten mit niedriger Brechung sind solche aus Siliziumdioxid
und Magnesiumfluorid. Die AR-Schicht kann derart sein, dass sie
eine Oberfläche
mit sehr kleinen Unregelmäßigkeiten
aufweist und externes Licht unregelmäßig reflektieren kann.
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Hartbeschichtungsschicht, schmutzabweisende Schicht,
Antiblendschicht
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Das
Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung kann zusätzlich zu
der AR-Schicht mit einer Hartbeschichtungschicht, einer schmutzabweisenden
Schicht und einer Antiblendschicht ausgestattet sein. Die Hartbeschichtungsschicht
weist eine Härte von
H oder mehr auf, die mittels eines Bleistifthärtetestverfahrens gemäß JIS K
5400 bestimmt wird. Die Hartbeschichtungsschicht kann eine Schicht
sein, die durch Härten
einer Schicht aus einem polyfunktionellen Acrylatharz, wie z.B.
einem Polyesteracrylatharz, einem Urethanacrylatharz oder ei nem
Epoxyacrylatharz mit Hitze oder mit ionisierender Strahlung gebildet
wird. Die schmutzabweisende Schicht ist eine wasserabweisende und ölabweisende
Schicht. Mögliche
Materialien zur Bildung der schmutzabweisenden Schicht sind Siloxanverbindungen
und fluorierte Alkylsilylverbindungen. Die Antiblendschicht weist eine
Oberfläche
auf, die mit sehr kleinen Unregelmäßigkeiten ausgestattet ist
und externes Licht unregelmäßig reflektieren
kann.
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Bildung eines Blatts
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Ein
so hergestellter kontinuierlicher laminierter Streifen wird zu den
Blättern
zur elektromagnetischen Abschirmung 1 geschnitten. Das
Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung 1 wird an eine
transparente Basisplatte wie z.B. eine Glasplatte gebunden. Gegebenenfalls
werden mit dem Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung 1 eine
NIR-absorbierende Schicht, eine AR-Schicht, eine Hartbeschichtungsschicht,
eine schmutzabweisende Schicht und eine Antiblendschicht kombiniert,
um eine Frontplatte für
eine Anzeige zu bilden.
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Eine
Platte mit einer Dicke zwischen 1 und 10 mm und einer ausreichenden
Steifigkeit wird als Basisplatte für eine große Anzeige verwendet. Ein Kunststofffilm
mit einer Dicke zwischen 0,01 und 0,5 mm wird als Basisplatte für eine kleine
Anzeige, wie z.B. eine Buchstabenanzeige, verwendet. Die Spezifikationen
der Basisplatte werden gemäß der Größe und der
Anwendung einer Anzeige, auf welche die Basisplatte aufgebracht
werden soll, in geeigneter Weise selektiv bestimmt. Eine Frontplatte,
die das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung 1 umfasst,
wird auf der Vorderfläche
einer Anzeige aufgebracht, wobei das Basisblatt 11 auf
die Betrachtungsseite gerichtet ist. Alternativ kann das Blatt zur
elektromagnetischen Abschirmung 1 direkt an der Vorderfläche einer
Anzeige aufgebracht werden.
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Direktes Aufbringen
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Die 7 zeigt
ein erfindungsgemäßes Blatt zur
elektromagnetischen Abschirmung, das auf die Vorderfläche einer
Anzeige aufgebracht werden soll, in einer Schnittansicht. Eine Netzmetallfolie
befindet sich auf der Betrachtungsseite. Eine geschwärzte Oberfläche und
eine Rostschutzschicht sind in dieser Reihenfolge auf jeder der
gegenüber
liegenden Oberflächen
der Metallfolie ausgebildet. Da ein Erdungsrahmen 101,
der in dem Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung enthalten ist,
freiliegt, kann der Erdungsrahmen einfach mit einer Erdung verbunden
werden. Da die geschwärzte
Oberfläche
des Erdungsrahmens 101 auf die Betrachtungsseite gerichtet
ist, kann ein Druckverfahren zum Drucken eines schwarzen Rahmens
auf eine Frontglasplatte weggelassen werden, was die Anzahl der
Verfahren vermindert und bezüglich
der Kosten vorteilhaft ist.
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Beispiel 1
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Eine
10 μm dicke
Elektrolytmetallfolie mit Oberflächen,
die mit einer Schwärzungsbehandlung unter
Verwendung von Cu-Co-Legierungsteilchen mit einer durchschnittlichen
Teilchengröße von 0,3 μm und einer
Chromatbehandlung zur Bildung von geschwärzten Rostschutzschichten behandelt
worden sind, wurde als leitfähige
Schicht verwendet. Die leitfähige
Schicht wurde auf einen 100 μm
dicken, biaxial gestreckten Polyethylenterephthalat-Film (PET-Film)
A4300 (von Toyobo Company hergestellt, Handelsname) laminiert, wobei
die chromatierte Schicht mit einer Haftmittelschicht aus einem Zweikomponenten-Polyurethanhaftmittel
an den PET-Film gebunden wurde, um eine laminierte Struktur zu bilden.
Dann wurde die laminierte Struktur vier Tage bei 56°C altern
gelassen. Das Zweikomponenten-Haftmittel wies ein Polyol (TAKERAKKU
A-310, von Takeda Yakuhin Kogyo Company hergestellt) als Harz und
ein Polyisocyanat (A-10, von Takeda Yakuhin Kogyo Company hergestellt)
als Beschleuniger auf. Die Dicke der getrockneten Haftmittelschicht
betrug 7 μm.
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Maschen
wurden in einem kontinuierlichen Streifen durch ein photolithographisches
Verfahren, das Schritte von einem Maskierungsschritt bis zu einem Ätzschritt
umfasste, mit einer vorhandenen Herstellungsanlage für eine Abdeckmaske
für ein
Farbfernsehgerät
gebildet. Eine Caseinschicht als Photolackschicht wurde auf der
gesamten Oberfläche
der leitfähigen
Schicht durch ein Gießverfahren
gebildet, die leitfähige
Schicht wurde zur nächsten
Station transportiert und die Caseinschicht wurde unter Verwendung
einer Photomaske und einer Hochdruck-Quecksilberdampflampe einer
Kontaktbelichtung unterworfen. Dann wurde die leitfähige Schicht nacheinander
einem Wasserentwicklungsverfahren und einem Verfahren zur Bildung
einer Hartbeschichtungsschicht unterworfen, wobei die leitfähige Schicht
aufeinanderfolgende Stationen durchlief. Dann wurde die so verarbeitete
leitfähige
Schicht bei 100°C
eingebrannt.
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Die
Photomaske wies einen zentralen Teil, einen peripheren Teil und
einen Rahmenteil auf, die jeweils einem Netzteil, einem peripheren
Netzteil und einem Erdungsrahmen entsprachen. Der zentrale Teil
wies quadratische Maschen auf, die durch 22 μm breite geneigte Linien definiert
und in Abständen
von 300 μm
angeordnet und mit 49° geneigt
waren. Der periphere Teil wies eine Breite von 5 mm und Linien auf,
die eine Breite aufwiesen, die von 22 μm an der Grenze des zentralen
Teils und dem peripheren Teil auf 40 μm an der Grenze des peripheren
Teils und dem Rahmenteil zunahm. Der Rahmenteil wies eine Breite
von 5 mm auf.
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Die
leitfähige
Schicht wurde zur nächsten Station
transportiert, bei der eine Eisen(III)-chlorid-Lösung
mit 40°C,
die einen Baumé-Grad
von 40° aufwies,
als Ätzmittel
auf die leitfähige
Schicht gesprüht
wurde, um in die leitfähige
Schicht Maschen zu ätzen.
Dann wurde die leitfähige
Schicht an den nachfolgenden Stationen durch Spülen, Photolackentfernen, Waschen
und Trocknen bei 100°C
verarbeitet, um ein Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des
Beispiels 1 zu vervollständigen.
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Vergleichsbeispiel 1
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Das
Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Vergleichsbeispiels
1 wurde mit einem Verfahren hergestellt, das demjenigen zur Herstellung des
Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 ähnlich war,
und es wies einen ähnlichen Aufbau
auf wie das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels
1, jedoch wurde das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des
Vergleichsbeispiels 1 unter Verwendung einer Photomaske mit einem
zentralen Teil und einem peripheren Teil hergestellt, die jeweils
einem Netzteil und einem peripheren Netzteil entsprachen, und die
sich von denjenigen unterschieden, die zur Herstellung des Blatts
zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 verwendet wurden.
Die Photomaske wies quadratische Maschen auf, die durch 22 μm breite
Linien definiert waren, die sich durch den zentralen Teil und den
Rahmenteil erstreckten und in Abständen von 300 μm angeordnet
und mit 49° geneigt
waren.
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Beispiel 2
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Ein
Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 2 wurde
durch Beschichten des Netzteils und des peripheren Netzteils eines
Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung, das mit demjenigen von
Beispiel 1 identisch war, mit einer Einebnungsschicht hergestellt.
Eine Einebnungszusammensetzung wurde auf die Oberfläche des
Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung derart aufgebracht, dass
die Maschen mit der Einebnungszusammensetzung aufgefüllt wurden.
Ein 50 μm
dicker trennbarer PET-Film (SP-PET20-BU, von Tohsero Company hergestellt)
wurde an die Oberfläche
des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung, das mit der Einebnungszusammensetzung
beschichtet war, aufgebracht, die Oberfläche, die mit der Einebnungszusammensetzung
beschichtet war, wurde einer Strahlung, die von einer Hochdruck-Quecksilberdampflampe
emittiert wurde, bei einer Dosis von 200 mJ/cm2 (zu
365 nm äquivalent)
ausgesetzt, und dann wurde der trennbare PET-Film entfernt, um die
Oberfläche
der Einebnungsschicht zu glätten.
Die Eigenschaften des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung
des Beispiels 2 waren den Eigenschaften des Blatts zur elektromagnetischen
Abschirmung des Beispiels 1 ähnlich.
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Die
Einebnungszusammensetzung wurde durch Mischen von 20 Massenteilen
N-Vinyl-2-pyrrolidon,
25 Massenteilen Dicyclopentenylacrylat, 52 Massenteilen Oligoesteracrylat
(M-8060, von Toa Gosei
K.K. hergestellt) und 3 Massenteilen 1-Hydroxycyclohexylphenylketon
(IRGACURE 184, von Ciba-Geigy Company hergestellt) hergestellt.
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Beispiel 3
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Das
Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 3 war demjenigen
des Beispiels 2 ähnlich,
jedoch war das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels
3 mit einer Einebnungsschicht ausgestattet, die aus einer Zusammensetzung
hergestellt war, die durch Zugeben von 1 Massenteil eines Thiol-Nickel-Komplexes,
d.h. eines NIR-absorbierenden
Mittels, zu der Einebnungszusammensetzung hergestellt wurde, die
zur Bildung der Einebnungsschicht des Blatts zur elektromagnetischen
Abschirmung des Beispiels 2 verwendet worden ist. Die Eigenschaften
des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 3 waren
den Eigenschaften des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung
des Beispiels 1 ähnlich
und es war dem Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels
1 bezüglich
eines Effekts zur Verbesserung der Sichtbarkeit angezeigter Bilder überlegen.
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Beispiel 4
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Das
Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 4 war mit
demjenigen des Beispiels 2 identisch, jedoch war das Blatt zur elektromagnetischen
Abschirmung des Beispiels 4 mit einem NIR-absorbierenden Film (NIR-absorbierender Film
Nr. 2832, von Toyobo Company hergestellt) ausgestattet, der mit
einem druckempfindlichen Haftmittel an eine Einebnungsschicht gebunden
war, die derjenigen des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung
des Beispiels 2 entsprach. Die Eigenschaften des Blatts zur elektromagnetischen
Abschirmung des Beispiels 4 waren den Eigenschaften des Blatts zur
elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 ähnlich und es war dem Blatt
zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 bezüglich eines
Effekts zur Verbesserung der Sichtbarkeit angezeigter Bilder überlegen.
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Beispiel 5
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Das
Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 5 wurde
mit einem Verfahren hergestellt, das demjenigen zur Herstellung
des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 ähnlich war,
und es wies einen ähnlichen
Aufbau wie das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels
1 auf, jedoch wurde das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung
des Beispiels 5 unter Verwendung einer Photomaske mit einem zentralen Teil,
einem peripheren Teil und einem Rahmenteil hergestellt, die jeweils
einem Netzteil, einem peripheren Netzteil und einem Erdungsrahmen
entsprachen, und die von derjenigen verschieden war, die zur Herstellung
des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 verwendet
worden ist. Der zentrale Teil wies quadratische Maschen auf, die
durch 20 μm
breite Linien definiert waren, die mit Abständen von 250 μm angeordnet
und mit 60° geneigt
waren. Der periphere Teil wies eine Breite von 5 mm und Maschen
auf, die durch Linien definiert waren, die jeweils mit den Linien
kontinuierlich waren, die sich in dem zentralen Teil erstreckten
und eine Breite aufwiesen, die von 20 μm an der Grenze zwischen dem zentralen
Teil und dem peripheren Teil auf 26 μm an der Grenze zwischen dem
peripheren Teil und dem Rahmenteil kontinuierlich zunahm.
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Beispiel 6
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Das
Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 6 wurde
mit einem Verfahren hergestellt, das demjenigen zur Herstellung
des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 ähnlich war,
und es wies einen ähnlichen
Aufbau wie das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels
1 auf, jedoch wurde das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung
des Beispiels 6 unter Verwendung einer Photomaske mit einem zentralen Teil,
einem peripheren Teil und einem Rahmenteil hergestellt, die jeweils
einem Netzteil, einem peripheren Netzteil und einem Erdungsrahmen
entsprachen, und die von derjenigen verschieden war, die zur Herstellung
des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 verwendet
worden ist. Der zentrale Teil wies quadratische Maschen auf, die
durch 20 μm
breite Linien definiert waren, die mit Abständen von 250 μm angeordnet
und mit 60° geneigt
waren. Der periphere Teil wies eine Breite von 3 mm und Maschen
auf, die durch Linien definiert waren, die jeweils mit den Linien
kontinuierlich waren, die sich in dem zentralen Teil erstreckten
und eine Breite aufwiesen, die von 20 μm an der Grenze zwischen dem zentralen
Teil und dem peripheren Teil auf 26 μm an der Grenze zwischen dem
peripheren Teil und dem Rahmenteil kontinuierlich zunahm.
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Beispiel 7
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Das
Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 7 wurde
mit einem Verfahren hergestellt, das demjenigen zur Herstellung
des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 ähnlich war,
und es wies einen ähnlichen
Aufbau wie das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels
1 auf, jedoch wurde das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung
des Beispiels 7 unter Verwendung einer Photomaske mit einem zentralen Teil,
einem peripheren Teil und einem Rahmenteil hergestellt, die jeweils
einem Netzteil, einem peripheren Netzteil und einem Erdungsrahmen
entsprachen, und die von derjenigen verschieden war, die zur Herstellung
des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 verwendet
worden ist. Der zentrale Teil wies quadratische Maschen auf, die
durch 20 μm
breite Linien definiert waren, die mit Abständen von 300 μm angeordnet
und mit 49° geneigt
waren. Der periphere Teil wies eine Breite auf, die 25 Maschen entsprach,
sowie Maschen, die durch Linien definiert waren, die jeweils mit
den Linien kontinuierlich waren, die sich in dem Netzteil erstreckten
und eine Breite aufwiesen, die von 20 μm an der Grenze zwischen dem
zentralen Teil und dem peripheren Teil auf 45 μm an der Grenze zwischen dem
peripheren Teil und dem Rahmenteil in Schritten von 1,0 μm pro Masche
zunahm.
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Beispiel 8
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Das
Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 8 wurde
mit einem Verfahren hergestellt, das demjenigen zur Herstellung
des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 ähnlich war,
und es wies einen ähnlichen
Aufbau wie das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels
1 auf, jedoch wurde das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung
des Beispiels 8 unter Verwendung einer Photomaske mit einem zentralen Teil,
einem peripheren Teil und einem Rahmenteil hergestellt, die jeweils
einem Netzteil, einem peripheren Netzteil und einem Erdungsrahmen
entsprachen, und die von derjenigen verschieden war, die zur Herstellung
des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 verwendet
worden ist. Der zentrale Teil wies quadratische Maschen auf, die
durch 20 μm
breite Linien definiert waren, die mit Abständen von 300 μm angeordnet
und mit 49° geneigt
waren. Der periphere Teil wies eine Breite auf, die 5 Maschen entsprach,
sowie Maschen, die durch Linien definiert waren, die jeweils mit
den Linien kontinuierlich waren, die sich in dem zentralen Teil
erstreckten und eine Breite aufwiesen, die von 20 μm an der Grenze
zwischen dem zentralen Teil und dem peripheren Teil auf 35 μm an der
Grenze zwischen dem peripheren Teil und dem Rahmenteil in Schritten
von 3,0 μm
pro Masche zunahm.
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Beispiel 9
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Das
Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 9 wies einen ähnlichen
Aufbau auf wie das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des
Beispiels 2, jedoch war das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung
des Beispiels 9 mit einem PET-Film ausgestattet, der auf eine Oberfläche einer
leitfähigen
Schicht laminiert war, deren andere Oberfläche mit Cu-Co-Legierungsteilchen
geschwärzt
und mit einer Chromatierungsbehandlung fertigbearbeitet worden ist.
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Ergebnisse
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Die
Photomaske, die zur Herstellung des Blatts zur elektromagnetischen
Abschirmung des Beispiels 1 verwendet worden ist, wies den zentralen Teil
mit den quadratischen Maschen auf, die durch die 22 μm breiten
Linien definiert worden sind. Die tatsächlichen Breiten der Linien,
welche die Maschen des geätzten
Netzteils des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels
1 definierten, lagen im Bereich von 7 bis 17 μm. Die tatsächlichen Breiten von Enden
der Linien, welche die Maschen in dem geätzten peripheren Netzteil definierten,
der mit dem Netzteil verbunden war, lagen im Bereich von 7 bis 17 μm und diejenigen
von Enden der Linien, die mit dem Erdungsrahmen verbunden waren,
lagen im Bereich von 17 bis 29 μm.
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In
dem Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Vergleichsbeispiels
1 lagen die tatsächlichen
Breiten der Linien, welche die Maschen in dem geätzten peripheren Netzteil definierten,
von ihren Enden, die mit dem Netzteil verbunden waren, bis in die
Umgebung der anderen Enden im Bereich von 10 bis 16 μm und diejenigen
der Linien an den anderen Enden, die mit dem Erdungsrahmen verbunden waren,
im Breitenbereich von 5 bis 20 μm,
wodurch eine größere Unebenheit
vorlag.
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Einebnungsschichten,
die denjenigen des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels
2 ähnlich
waren, wurden auf 100 Blättern zur
elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 bzw. 100 Blättern zur
elektromagnetischen Abschirmung des Vergleichsbeispiels 1 ausgebildet.
Die Einebnungsschichten wurden in normaler Weise auf den Blättern zur
elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 ausgebildet. Einige
der Linien von zwei Blättern
zur elektromagnetischen Abschirmung des Vergleichsbeispiels 1 waren
gerissen und die Ausbeute war niedrig.
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100
Blätter
zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 bzw. 100 Blätter zur
elektromagnetischen Abschirmung des Vergleichsbeispiels 1 wurden
in PDP's einbezogen.
Die Blätter
zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 konnten problemlos
in die PDP's einbezogen
werden. Einige der Linien von einem der Blätter zur elektromagnetischen
Abschirmung des Vergleichsbeispiels 1 waren gerissen und die Ausbeute
war niedrig.
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Frontplatten
wurden unter Verwendung der Blätter
zur elektromagnetischen Abschirmung der Beispiele 1 bis 8 und des
Vergleichsbeispiels 1 hergestellt und die Frontplatten wurden jeweils
auf den Vorderflächen
von PDP's angeordnet.
Die Sichtbarkeit von Bildern, die von den Plasmabildschirmen angezeigt
wurden, war in allen Fällen
zufriedenstellend.
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Das
Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 9 wurde
mit einem druckempfindlichen Haftmittel auf die PDP-Anzeige aufgebracht, wobei
die Oberfläche
des Basisblatts mit der PDP-Anzeige in Kontakt war. Der PDP blendete nicht,
die Sichtbarkeit von Bildern, die von dem PDP angezeigt worden sind,
war zufriedenstellend, der Aufwand zum Verbinden von Elektroden
mit dem Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung war vermindert
und ein Druckverfahren zum Aufdrucken eines schwarzen Rahmens war
nicht erforderlich.