DE10393019T5

DE10393019T5 - Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung

Info

Publication number: DE10393019T5
Application number: DE10393019T
Authority: DE
Inventors: Fumihiro Arakawa; Yasuhiko Ishii; Daisuke Hashimoto; Yukihiro Kyoden; Eiji Ohishi
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 2002-08-08
Filing date: 2003-08-06
Publication date: 2005-09-08
Anticipated expiration: 2023-08-07
Also published as: KR20080023269A; TWI253322B; WO2004016058A1; AU2003254831A1; JPWO2004016058A1; US20050244609A1; US7371450B2; CN100397968C; KR20050029312A; CN1689386A; TW200404493A; JP4445858B2; DE10393019B4

Abstract

Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung, das
ein transparentes Basisblatt und
eine Metallschicht, die an eine Oberfläche des transparenten Basisblatts gebunden ist,
umfasst, wobei
die Metallschicht einen Netzteil, einen peripheren Netzteil, der den Netzteil umgibt, und einen Erdungsrahmen, der den peripheren Netzteil umgibt, aufweist, und
die Breite von Linien, die Maschen in dem peripheren Netzteil bilden, von dem Netzteil in Richtung des Erdungsrahmens nach und nach zunimmt.

Description

Zusammenfassung der Technik
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Blatt zur Unterdrückung (Abschirmung) der Strahlung elektromagnetischer Wellen und insbesondere ein Blatt, das auf einer Vorderfläche einer Anzeige wie z.B. einer Kathodenstrahlröhre (CRT) und einem Plasmabildschirm (PDP) angeordnet werden soll, um Strahlung von elektromagnetischen Wellen zu unterdrücken, die durch die Anzeige erzeugt werden.
Probleme, die auf eine elektromagnetische Störung (EMI) zurückzuführen sind, haben mit dem bzw. der in letzter Zeit stattfindenden funktionellen Fortschritt und verbreiteten Anwendung elektrischer und elektronischer Vorrichtungen zugenommen. Elektromagnetische Störungen werden grob in geleitete Störungen und abgestrahlte Störungen eingeteilt.
Bei einem Verfahren zur Beseitigung von geleiteten Störungen wird ein Störungsfilter oder dergleichen verwendet. Bei einem Verfahren zur Beseitigung von abgestrahlten Störungen wird ein Metallgehäuse zur elektromagnetischen Isolierung eines Raums genutzt, bei einem anderen Verfahren zur Beseitigung von abgestrahlten Störungen wird ein Metallblech zwischen Leiterplatten angeordnet und bei einem dritten Verfahren zur Beseitigung von abgestrahlten Störungen wird ein Kabel mit einer Metallfolie beschichtet. Diese Verfahren sind zur elektromagnetischen Abschirmung von Schaltungen und Netzteilen effektiv. Diese Abschirmungselemente, die in den vorstehend genannten Verfahren eingesetzt werden, sind jedoch lichtundurchlässig und somit zur Abschirmung elektromagnetischer Wellen, die von einer Vorderfläche einer Anzeige, wie z.B. einer CRT und einem Plasmabildschirm (PDP) emittiert werden, nicht geeignet.
Ein Plasmabildschirm umfasst, in einer Kombination, eine Glasplatte, die mit Datenelektroden und einer Fluoreszenzschicht ausgestattet ist, und eine weitere Glasplatte, die mit transparenten Elektroden ausgestattet ist. Wenn der Plasmabildschirm betrieben wird, erzeugt der Plasmabildschirm eine intensive elektromagnetische Strahlung und Nahinfrarotstrahlen und eine große Wärmemenge.
Gewöhnlich wird vor der Vorderfläche des Plasmabildschirms ein Frontblatt angeordnet, um die elektromagnetischen Wellen abzuschirmen. Das Frontblatt muss elektromagnetische Strahlung mit Frequenzen von 30 MHz bis 1 GHz um 30 dB oder mehr abschirmen.
Nahinfrarotstrahlen mit Wellenlängen im Bereich zwischen 800 und 1100 nm, die von der Vorderfläche der Anzeige abgestrahlt wird, kann auch eine Fehlfunktion anderer Vorrichtungen, wie z.B. Videorecordern, hervorrufen. Daher muss die Abstrahlung der Infrarotstrahlen sowie die Abstrahlung der elektromagnetischen Wellen unterdrückt werden.
Um Bilder, die von der Anzeige angezeigt werden, deutlich sichtbar zu machen, müssen Linien, die ein Metallnetz eines Frontblatts zur elektromagnetischen Abschirmung bilden, unsichtbar sein, Maschen müssen regelmäßig angeordnet sein und das Frontblatt muss eine geeignete Transparenz (Durchlässigkeitseigenschaften für sichtbares Licht, Durchlässigkeit für sichtbares Licht) aufweisen.
Im Allgemeinen ist ein Plasmabildschirm durch dessen große Schirmgröße gekennzeichnet. Ein Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung für einen 94 cm-PDP (37 Zoll-PDP) weist eine Größe von 621 mm × 831 mm und ein Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung für einen 107 cm-PDP (42 Zoll-PDP) weist eine Größe von 983 mm × 583 mm auf. Einige Blätter zur elektromagnetischen Abschirmung sind noch größer. Die Grenze zwischen einem Netzteil und einem Erdungsrahmen eines so großen Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung neigt während jedes Verfahrens zur Herstellung des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung bis zum Einbeziehen des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung in eine Anzeige zum Reißen. Folglich ist ein so großes Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung sehr schwer handhabbar.
Stand der Technik
Das Frontblatt zur elektromagnetischen Abschirmung muss ein Vermögen zur elektromagnetischen Abschirmung, eine geeignete Transparenz (Durchlässigkeit für sichtbares Licht) aufweisen und sehr einfach handhabbar sein.
Ein Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung zur Verbesserung der Sichtbarkeit eines angezeigten Bilds, das in der JP 5-283889 A beschrieben ist, umfasst ein Basisblatt, eine transparente Haftvermittlerschicht und eine stromlos abgeschiedene Schicht eines Netzmusters, bei dem die transparente Haftvermittlerschicht, die unter der stromlos abgeschiedenen Schicht liegt, durch stromloses Abscheiden in eine schwarz strukturierte Schicht umgewandelt worden ist.
Ein Verfahren, das in der JP 61-15480 A beschrieben ist, bildet einen Kupferoxidfilm auf der Oberfläche eines Metallnetzes, das in einem Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung enthalten ist, um die Reflexion von externem Licht zu unterdrücken.
Ein Verfahren zur Bildung eines Netzes mit schwarzen Linien, das in der JP 09-293989 A beschrieben ist, bildet ein Metallnetz für ein Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung durch ein Photolackverfahren unter Verwendung eines schwarzen Photolacks und hinterlässt den schwarzen Photolack, nachdem das Metallnetz gebildet worden ist.
Eine Struktur zur elektromagnetischen Abschirmung, die in der JP 10-335885 A beschrieben ist, wird durch Laminieren einer Kunststofffolie, die mit einer Kupferfolie ausgestattet ist, die mit einem photolithographischen Verfahren in einem geometrischen Muster strukturiert worden ist, auf eine Kunststofffolie gebildet.
Alle vorstehend genannten Verfahren zur Bildung der Netzmetallschichten zielen darauf ab, Metallnetze mit Linien mit einer feststehenden Breite zu bilden. In der Praxis werden Maschen und Linien in dem Grenzbereich zwischen dem Netzteil und dem Erdungsrahmen in unvermeidbarer Weise, insbesondere während des Transports, verschoben (gestört). Darüber hinaus ändert sich die Steifigkeit des Grenzbereichs zwischen dem Netzteil und dem Erdungsrahmen abrupt. Daher ist es möglich, dass sich eine Spannung in dem Grenzbereich konzentriert und dass die Maschen in dem Grenzbereich während jedes Verfahrens zur Herstellung eines Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung bis zum Kombinieren des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung mit einer Anzeige gebogen werden oder reißen. Folglich ist das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung sehr schwer handhabbar. Daher werden sehr häufig teure Teile verschwendet.
Die vorliegende Erfindung wurde gemacht, um diese Probleme zu lösen. Eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist die Bereitstellung eines Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung, das auf oder über der Vorderfläche einer Anzeige, wie z.B. einer CRT oder einem PDP, angeordnet wird, um die Strahlung elektromagnetischer Wellen, die von der Anzeige erzeugt werden, abzuschirmen, das regelmäßig angeordnete Maschen aufweist, eine zufriedenstellende Sichtbarkeit von durch die Anzeige angezeigten Bildern sicherstellen kann, in einer großen Größe hergestellt werden kann, ohne durch Fehler einschließlich eines Rei ßens von Linien, die Maschen bilden, durch alle Verfahren, einschließlich Herstellungs- und Zusammenbauverfahren, beeinträchtigt zu werden, und einfach handhabbar ist.
Die vorliegende Erfindung ist ein Blatt bzw. eine Lage bzw. eine Schicht zur elektromagnetischen Abschirmung, das ein transparentes Basisblatt und eine Metallschicht umfasst, die an eine Oberfläche des transparenten Basisblatts gebunden ist, wobei die Metallschicht einen Netzteil, einen peripheren Netzteil, der den Netzteil umgibt, und einen Erdungsrahmen aufweist, der den peripheren Netzteil umgibt, und wobei die Breite von Linien, welche die Maschen in dem peripheren Netzteil bilden, von dem Netzteil in Richtung des Erdungsrahmens nach und nach zunimmt.
Das erfindungsgemäße Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung schirmt die Strahlung elektromagnetischer Wellen, die von einer Anzeige, wie z.B. einer CRT oder einem PDP, erzeugt werden, ab, wenn das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung auf oder über der Vorderfläche der Anzeige angeordnet wird. Darüber hinaus stellt das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung eine zufriedenstellende Sichtbarkeit angezeigter Bilder sicher, da dessen Maschen nicht verschoben sind und es kann in einer großen Größe gebildet werden, ohne durch Fehler wie z.B. einem Reißen von Linien, die Maschen bilden, in allen Verfahren, einschließlich Herstellungs- und Zusammenbauverfahren, beeinträchtigt zu werden, und es weist folglich eine hervorragende Handhabbarkeit auf.
Im Allgemeinen weisen die Linien, die Maschen in dem Netzteil bilden, eine feststehende Breite auf.
Vorzugsweise weist der periphere Netzteil in einer Richtung von dem Erdungsrahmen zu dem Netzteil 1 bis 50 Maschen, mehr bevorzugt 1 bis 25 Maschen auf.
Alternativ weist der periphere Netzteil in einer Richtung von dem Erdungsrahmen zu dem Netzteil vorzugsweise eine Breite zwischen 0,15 und 15 mm, mehr bevorzugt zwischen 0,3 und 7,5 mm auf.
Darüber hinaus nimmt die Breite von Linien, die Maschen bilden, in dem peripheren Netzteil vorzugsweise kontinuierlich von dem Netzteil in Richtung des Erdungsrahmens zu. Alternativ nimmt die Breite von Linien, die Maschen bilden, in dem peripheren Netzteil von dem Netzteil in Richtung des Erdungsrahmens vorzugsweise schrittweise zu. Dies erleichtert die Handhabung des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung und verhindert das Biegen oder das permanente Biegen des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung und die Verschwendung teurer Teile.
Darüber hinaus wird vorzugsweise mindestens eine der Oberflächen der Metallschicht mit einer Schwärzungsbehandlung behandelt. In diesem Fall ist, da die Maschen selbst geschwärzt sind, ein Druckverfahren zum Aufdrucken eines schwarzen Rahmens nicht erforderlich, und das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung kann die zufriedenstellende Sichtbarkeit angezeigter Bilder für einen langen Zeitraum aufrechterhalten, d.h. das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung kann ein Blenden des Schirms der Anzeige verhindern. Darüber hinaus ist es in diesem Fall bevorzugt, dass auf mindestens der Oberfläche der Metallschicht, die mit der Schwärzungsbehandlung behandelt worden ist, eine Rostschutzschicht ausgebildet ist.
Darüber hinaus sind vorzugsweise mindestens Maschen in dem Netzteil und dem peripheren Netzteil mit einem Harz gefüllt, um die Metallschicht im Wesentlichen einzuebnen. Das Auffüllen der Maschen mit dem Harz erleichtert verschiedene Arten von Arbeiten.
In diesem Fall ist es bevorzugt, dass das Harz ein farbtonkorrigierendes, lichtabsorbierendes Mittel, das sichtbares Licht mit Wellenlängen von 570 bis 605 nm absorbieren kann, und/oder ein Nahinfrarot-absorbierendes Mittel enthält, das Licht mit Wellenlängen in einem Nahinfrarotbereich von 800 bis 1100 nm absorbieren kann.
Darüber hinaus ist bzw. sind vorzugsweise auf mindestens einer Oberfläche des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung eine Schicht eines farbtonkorrigierenden, lichtabsorbierenden Mittels, das sichtbares Licht mit Wellenlängen von 570 bis 605 nm absorbieren kann, und/oder eine Schicht eines Nahinfrarot-absorbierenden Mittels, das Licht mit Wellenlängen in einem Nahinfrarotbereich von 800 bis 1100 nm absorbieren kann, bereitgestellt.
Das erfindungsgemäße Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung kann so angeordnet werden, dass die Oberfläche des Basisblatts auf die PDP-Anzeige gerichtet ist. Wenn das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung so angeordnet wird, können Schritte und Arbeitsstunden von Elektrodenanschlussarbeiten vermindert werden.
1 ist eine Draufsicht auf ein Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung einer bevorzugten erfindungsgemäßen Ausführungsform;
2 ist eine schematische perspektivische Teilansicht des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung der bevorzugten Ausführungsform;
Die 3(A) und 3(B) sind Schnittansichten entlang der Linie A-A bzw. B-B in der 2;
4 ist eine Schnittansicht zur Erläuterung der Struktur einer leitfähigen Schicht; Die 5(A) und 5(B) sind eine Draufsicht bzw. eine Seitenansicht, die bei der Erläuterung der Verarbeitung eines Blatts, das von einer Blattrolle abgewickelt wird, hilfreich ist;
6 ist eine vergrößerte Teildraufsicht auf den peripheren Netzteil des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung der bevorzugten Ausführungsform; und
7 ist eine Schnittansicht des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung der bevorzugten Ausführungsform, das an der Oberfläche einer Anzeige angebracht ist.
Nachstehend wird eine bevorzugte Ausführungsform der vorliegenden Erfindung unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen beschrieben.
Gesamtstruktur
1 ist eine Draufsicht auf ein Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung einer bevorzugten erfindungsgemäßen Ausführungsform und die 2 ist eine typische perspektivische Teilansicht des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung der bevorzugten Ausführungsform.
Gemäß der 1 umfasst ein Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung 1 in einer bevorzugten erfindungsgemäßen Ausführungsform einen zentralen Netzteil 103 und einen Erdungsrahmen 101, der die Form des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung 1 abgrenzt. Der Erdungsrahmen 101 ist geerdet, wenn das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung in eine Anzeige einbezogen ist.
Gemäß der 2 wird der Netzteil 103 durch Binden einer leitfähigen Schicht 109 an eine Oberfläche eines Basisblatts 11 durch eine Haftmittelschicht 13 gebildet. Die leitfähige Schicht 109 weist eine Netzstruktur mit vielen dicht angeordneten Maschen (Öffnungen) 105 auf. Linien 107 definieren die Maschen 105. Die Linien 107 weisen eine Breite, nämlich die Linienbreite W, auf und sind in den Abständen P angeordnet.
Ein peripherer Netzteil 104 erstreckt sich zwischen dem Netzteil 103 und dem Erdungsrahmen 101. Der periphere Netzteil 104 weist ebenfalls eine Netzstruktur auf, die derjenigen des Netzteils 103 im Wesentlichen ähnlich ist. Linien, welche die Maschen des peripheren Netzteils 104 definieren, weisen eine Linienbreite auf, die von dem Netzteil 103 in Richtung des Erdungsrahmens 101 nach und nach zunimmt.
Komponentenschichten
Die 3(A) ist eine Schnittansicht entlang der Linie A-A in der 2. Die 3(B) ist eine Schnittansicht entlang der Linie B-B in der 2. Die 4 ist eine Schnittansicht zur Erläuterung der Struktur einer leitfähigen Schicht.
Die 3(A) ist eine Schnittansicht entlang einer Linie, welche die Maschen 105 und die Linien 107 abwechselnd schneidet, und die 3(B) ist eine Schnittansicht entlang einer Linie, die sich in Längsrichtung durch die Linie 107 erstreckt, die aus der leitfähigen Schicht 109 besteht. Die leitfähige Schicht 109 umfasst eine Metallschicht 21. Mindestens eine Oberfläche der Metallschicht 21 auf der Betrachtungsseite ist mit einer Schwärzungsbehandlung behandelt. In dieser Ausführungsform weist die Metallschicht 21 gegenüber liegende Oberflächen 23A und 23B auf, die mit einer Schwärzungsbehandlung behandelt worden sind. Die geschwärzten Oberflächen 23A und 23B sind mit den Rostschutzschichten 25A bzw. 25B beschichtet. Die Rostschutzschicht kann mindestens auf der Oberfläche ausgebildet sein, die durch die Schwärzungsbehandlung behandelt worden ist.
Die Rostschutzschichten 25A und 25B verhindern ein Rosten der Metallschicht 21 und der geschwärzten Oberflächen 23A und 23B und auch ein Ablösen der geschwärzten Oberflächen 23A und 23B. Die Metallschicht 21 wird mit einem Ätzverfahren verarbeitet, um eine Netzstruktur derart auszubilden, dass Teile, die den Maschen 105 entsprechen, der Rostschutzschicht 25A, die über dem Basisblatt 11 liegt, nicht weggeätzt werden. Folglich kann die Rostschutzschicht 25A das Basisblatt 11 und die Haftmittelschicht 13 vor dem Ätzmittel schützen. Die Bildung der geschwärzten Oberfläche 23B und der Rostschutzschicht 25B auf der anderen Oberfläche der Metallschicht 21 ist optional. D.h., die Bildung der geschwärzten Oberflächen 23A und 23B und der Rostschutzschichten 25A und 25B auf beiden Oberflächen der Metallschicht 21 ist optional. Es ist bevorzugt, die geschwärzte Oberfläche und die Rostschutzschicht auf mindestens einer Oberfläche der Metallschicht 21 auf der Betrachtungsseite zu bilden und die gesamte Oberfläche des Basisblatts 11 (die den Maschen und den Linien entspricht) mit der Rostschutzschicht 25A zu beschichten.
Merkmale der Erfindung
Das erfindungsgemäße Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung 1 weist den peripheren Netzteil 104 auf, der sich zwischen dem Netzteil 103 und dem Erdungsrahmen 101 erstreckt. Die Linienbreite W der geraden Teile der Linien 107, welche die Maschen definieren, in dem peripheren Netzteil 104 nimmt von dem Netzteil 103 in Richtung des Erdungsrahmens 101 nach und nach zu. Der Bereich, in dem der periphere Netzteil 103 ausgebildet ist, entspricht der Länge einer Anordnung von 1 bis 50 Maschen oder einer Länge zwischen etwa 0,15 und etwa 15 mm, vorzugsweise 1 bis 25 Maschen oder einer Länge zwischen 0,3 und 7,5 mm, insbesondere 3 bis 20 Maschen oder einer Länge zwischen 1,5 und 6,0 mm von der inneren Peripherie bzw. dem inneren Umfang des Erdungsrahmens 101 in Richtung des Netzteils 103.
Die Linienbreite nimmt kontinuierlich (vgl. die 6) oder schrittweise (vgl. die 1) zu. Obwohl die Linienbreite in einer einzelnen Stufe geändert werden kann, wie es in der 1 gezeigt ist, ist es bevorzugt, die Linienbreite in zwei oder mehr Stufen zu ändern, um eine Spannungskonzentration effektiv zu vermeiden.
Da die Linienbreite W der Linien 107 in dem peripheren Netzteil 104 nach und nach von dem Netzteil 103 in Richtung des Erdungsrahmens 101 zunimmt, ändert sich nach und nach die Steifigkeit von dem Netzteil 103 in Richtung des Erdungsrahmens 101. D.h., die Steifigkeit ändert sich nicht abrupt, obwohl sich die Steifigkeit im Stand der Technik abrupt ändert. Folglich ist das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung in Verfahren von einem Herstellungsverfahren für das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung zu einem Zusammenbauverfahren zum Zusammenbau des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung und der Anzeige sehr leicht handhabbar. D.h., ein Biegen und/oder permanentes Biegen des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung wird verhindert, das Reißen der Linien, welche die Maschen definieren, in dem Grenzbereich zwischen dem Netzteil und dem Erdungsrahmen wird verhindert und teure Teile werden nicht verschwendet.
Ein Plasmabildschirm ist dadurch gekennzeichnet, dass er in einer großen Größe ausgebildet werden kann. Die Größe (Außenabmessungen) eines Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung für einen 94 cm-PDP (37 Zoll-PDP) beträgt etwa 620 mm × etwa 830 mm und die Größe eines Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung für einen 107 cm-PDP (42 Zoll-PDP) beträgt etwa 580 mm × etwa 980 mm. Einige Blätter zur elektromagnetischen Abschirmung sind größer. Daher ist eine einfache Handhabung des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung bei der Handhabung des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung in den Verfahren sehr wichtig, die das Herstellungsverfahren des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung bis zu dem Verfahren des Zusammenbaus des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung mit der Anzeige umfassen. Bei dem herkömmlichen Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung werden die Linien in dem Grenzbereich zwischen dem Netzteil und dem Erdungsrahmen häufig zerrissen oder gebogen und folglich werden teure Teile verschwendet.
Obwohl das erfindungsgemäße Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung in dieser Beschreibung so beschrieben ist, dass es auf eine Anzeige, wie z.B. eine CRT oder einen PDP angewandt wird, kann das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung auch zur Abschirmung von Strahlung elektromagnetischer Wellen von Vorrichtungen angewandt werden, die von Anzeigen verschieden sind.
Zusammenfassung des Herstellungsverfahrens
Eine leitfähige Schicht 109, die auf mindestens einer Oberfläche der Betrachtungsseite eine geschwärzte Oberfläche und eine Rostschutzschicht aufweist, wird hergestellt. Die leitfähige Schicht 109 wird mit einer Haftmittelschicht 13 auf eine Oberfläche eines Basisblatts 11, nämlich eines transparenten Films, gebunden. Ein Photolackfilm mit einem Netzmuster wird auf der leitfähigen Schicht 109 ausgebildet. Teile der leitfähigen Schicht 109, die Maschen in dem strukturierten Photolackfilm entsprechen, werden durch Ätzen entfernt und dann wird der Photolackfilm entfernt (photolithographisches Verfahren).
Das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung 1 dieser Ausführungsform kann mit einem Ätzsystem zum Ätzen eines Blatts zur Bildung einer Abdeckmaske oder dergleichen hergestellt werden. Die meisten Schritte zur Herstellung des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung können kontinuierlich durchgeführt werden. Daher kann ein Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung mit einer hohen Qualität, einer hohen Ausbeute und einer hohen Herstellungseffizienz erzeugt werden.
Materialien und Verfahren zur Bildung der Komponentenschichten des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung 1 in dieser Ausführungsform werden nachstehend erläutert.
Leitfähige Schicht
Mindestens eine Oberfläche der Metallschicht 21 der leitfähigen Schicht 109 des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung 1 in dieser Ausführungsform ist mit einer Schwärzungsbehandlung behandelt worden. Die geschwärzten Oberflächen 23A und/oder 23B sind mit den Rostschutzschichten 25A und/oder 25B beschichtet.
Die leitfähige Schicht 109 wird mit einem Haftmittel an das Basisblatt 11, nämlich einen transparenten Film, gebunden, und dann wird die leitfähige Schicht 109 einem photolithographischen Verfahren zur Bildung eines Netzmusters in der leitfähigen Schicht 109 unterworfen. Gegebenenfalls wird die Oberfläche auf der Seite der Metallschicht eingeebnet. Darüber hinaus wird gegebenenfalls eine lichtabsorbierende Schicht, die sichtbares Licht und/oder Nahinfrarotstrahlung mit einer spezifischen Wellenlänge absorbieren kann, auf der eingeebneten Oberfläche der leitfähigen Schicht 109 bereitgestellt.
Das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung, das die leitfähige Schicht 109 aufweist, wird auf der Vorderfläche einer Anzeige angeordnet, um die Abstrahlung von elektromagnetischen Wellen, die durch die Anzeige erzeugt werden, zu unterdrücken, es weist einheitlich angeordnete Maschen auf, verursacht kaum Fehler wie z.B. schwarze oder weiße Punkte und Linien, ist in geeigneter Weise transparent und kann die zufriedenstellende Sichtbarkeit von Bildern sicherstellen, die von der Anzeige angezeigt werden.
Die Metallschicht 21 der leitfähigen Schicht 109 zur Unterdrückung der Abstrahlung elektromagnetischer Wellen ist eine Schicht, die aus einem Metall mit einer Leitfähigkeit hergestellt ist, die zur elektromagnetischen Abschirmung ausreichend ist, wie z.B. Gold, Silber, Kupfer, Eisen, Aluminium, Nickel oder Chrom. Die Metallschicht 21 kann aus einer Legierung ausgebildet sein oder eine Mehrschichtstruktur aufweisen. Bevorzugte Metalle auf Eisenbasis zur Bildung der Metallschicht 21 sind Stähle mit niedrigem Kohlenstoffgehalt, wie z.B. unberuhigte Stähle mit niedrigem Kohlenstoffgehalt und Aluminium-beruhigte Stähle mit niedrigem Kohlenstoffgehalt, sowie Ni-Fe-Legierungen und Invar. Wenn die Metallschicht 21 durch ein kathodisches Elektroabscheidungsverfahren gebildet wird, ist eine Kupfer- oder eine Kupferlegierungsfolie bevorzugt, da diese einfach elektrisch abgeschieden werden können. Die Kupferlegierungsfolie kann eine gewalzte Kupferfolie oder eine Elektrolytkupferfolie sein. Eine Elektrolytkupferfolie ist im Hinblick auf eine einheitliche Dicke, das Anhaften an eine geschwärzte und/oder chromatierte Schicht und eine Bildung einer dünnen Folie mit einer Dicke von 10 μm oder weniger bevorzugt.
Die Dicke der Metallschicht 21 liegt im Bereich von etwa 1 bis etwa 100 μm, vorzugsweise im Bereich von 5 bis 20 μm. Obwohl die Maschen der Metallschicht 21 einfacher durch das photolithographische Verfahren gebildet werden können, wenn die Dicke der Metallschicht 21 unter der Untergrenze des vorstehend genannten Dickenbereichs liegt, weist eine solche dünne Metallschicht 21 einen übermäßig hohen Widerstand auf, der den elektromagnetischen Abschirmeffekt nachteilig beeinflusst. Wenn die Dicke der Metallschicht 21 größer ist als die Obergrenze des vorstehend genannten Dickenbereichs, kann die Metallschicht 21 nicht zu einem gewünschten Netzmuster mit einer hohen Definition verarbeitet werden. Folglich wird das tatsächliche Öffnungsverhältnis vermindert, die Lichtdurchlässigkeit wird vermindert, der Betrachtungswinkel nimmt ab und die Sichtbarkeit von Bildern wird schlechter.
Vorzugsweise liegt die Oberflächenrauhigkeit Rz der Metallschicht 21 zwischen etwa 0,5 und 10 μm. Die Oberflächenrauhigkeit Rz ist der Mittelwert der Rauhigkeitswerte von 10 Punkten gemäß JIS B0601. Wenn die Oberflächenrauhigkeit unter der Untergrenze des vorstehend genannten Oberflächenrauhigkeitsbereichs liegt, wird die Metallschicht 21 externes Licht in einem spiegelnden Reflexionsmodus reflektieren, und zwar selbst dann, wenn die Oberfläche der Metallschicht 21 geschwärzt ist, und somit wird die Sichtbarkeit von Bildern verschlechtert. Wenn die Oberflächenrauhigkeit der Metallschicht 21 über der Obergrenze des vorstehend genannten Oberflächenrauhigkeitsbereichs liegt, können ein Haftmittel und/oder ein Photolack nicht einheitlich über die Oberfläche der Metallschicht 21 ausgebreitet werden und in dem Haftmittel und/oder dem Photolack können Blasen gebildet werden.
Schwärzungsbehandlung
Die Oberfläche der netzförmigen leitfähigen Schicht 109 auf der Betrachtungsseite wird mit einer Schwärzungsbehandlung verarbeitet, um externes Licht, wie z.B. Sonnenlicht, und Licht, das von Fluoreszenzlampen emittiert wird, das auf die Oberfläche des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung 1 fällt, zu absorbieren, und die Sichtbarkeit von Bildern, die von der Anzeige angezeigt werden, zu erhöhen. Die Schwärzungsbehandlung der Oberfläche der leitfähigen Schicht 109 erhöht den Bildkontrast.
Die Schwärzungsbehandlung raut die Oberfläche der Metallschicht auf oder schwärzt diese. Insbesondere scheidet die Schwärzungsbehandlung ein Metalloxid oder ein Metallsulfid ab.
Wenn das netzförmige leitfähige Element 109 aus einem Metall auf Eisenbasis ausgebildet ist, wird das leitfähige Element 109 für 10 bis 20 min in Dampf einer Temperatur zwischen etwa 450°C und etwa 470°C ausgesetzt, so dass ein Oxidfilm (Schwärzungsfilm) mit einer Dicke zwischen etwa 1 und etwa 2 μm gebildet wird. Der Oxidfilm (Schwärzungsfilm) kann durch eine chemische Behandlung unter Verwendung konzentrierter Salpetersäure gebildet werden.
Wenn die leitfähige Schicht 109 eine Kupferfolie ist, ist es bevorzugt, die leitfähige Schicht 109 durch ein kathodisches Elektroabscheidungsverfahren zur Abscheidung kationischer Teilchen auf der Oberfläche der Folie unter Verwendung eines Elektrolyten zu behandeln, der Schwefelsäure, Kupfersulfat und Cobaltsulfat enthält. Die abgeschiedenen kationischen Teilchen rauen die Oberfläche auf und schwärzen diese. Mögliche kationische Teilchen sind Cu-Teilchen und Cu-Legierungsteilchen. Cu-Co-Legierungsteilchen sind bevorzugt.
In dieser Beschreibung werden Antireflexionsbehandlungen, wie z.B. Aufrauhungsbehandlungen und Schwärzungsbehandlungen, zur Bildung einer lichtabsorbierenden Schicht auf der Oberfläche eines leitfähigen Elements zur Absorption von Licht und zur Verhinderung einer Reflexion als Schwärzungsbehandlungen bezeichnet.
Vorzugsweise beträgt die Schwärzungsdichte einer Oberfläche, die mit der Schwärzungsbehandlung behandelt worden ist, 0,6 oder mehr. Die Schwärzungsdichte eines Prüfkörpers wird unter Verwendung von GRETAG SPM100-11 (von Kimoto Company hergestellt, Handelsname), das in das COLOR CONTROL SYSTEM einbezogen ist, bei einem Winkel des Betrachtungsfelds von 10° unter Verwendung von D50 als Betrachtungslichtquelle in einem Beleuchtungstyp „Dichtestandard ANSI T" nach der Weißkalibrierung gemessen.
Vorzugsweise beträgt das Reflexionsvermögen einer Oberfläche, die mit der Schwärzungsbehandlung behandelt worden ist, 5 % oder weniger. Das Reflexionsvermögen wird unter Verwendung eines Trübungsmessgeräts HM150 (von Murakami Sikisai Company hergestellt, Handelsname) mit einem in JIS K 7105 spezifizierten Verfahren gemessen.
Legierungsteilchen
Die kationischen Teilchen können Cu-Teilchen und Cu-Legierungsteilchen sein. Cu-Co-Legierungsteilchen sind bevorzugt.
Wenn die Cu-Co-Legierungsteilchen verwendet werden, wird der Schwärzungsgrad beträchtlich verbessert, so dass sichtbares Licht zufriedenstellend absorbiert wird. Der Farbton als optische Eigenschaft zur Bewertung der Sichtbarkeit durch das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung wird durch ein kolorimetrisches System „L*, a*, b*, ΔE*" ausgedrückt, das in JIS Z8729 spezifiziert ist. Wenn die jeweiligen Absolutwerte von „a*" und „b*" klein sind, ist die leitfähige Schicht 109 nicht sichtbar, so dass der Kontrast der Bilder verstärkt wird und folglich die Sichtbarkeit von Bildern hervorragend ist. Wenn Cu-Co-Legierungsteilchen verwendet werden, sind die Werte von „a*" und „b*" verglichen mit denjenigen bei der Verwendung der Cu-Teilchen im Wesentlichen Null.
Vorzugsweise liegt die durchschnittliche Teilchengröße der Cu-Co-Legierungsteilchen im Bereich von 0,1 bis 1 μm. Wenn Cu-Co-Legierungsteilchen mit einer durchschnittlichen Teilchengröße gebildet werden, die über der Obergrenze des vorstehend genannten Bereichs liegt, wird die Metallschicht 21, nämlich eine Metallfolie, übermäßig dünn, so dass die Metallschicht 21 in einem Verfahren des Bindens der Metallschicht 21 an das Basisblatt 11 reißt, so dass die Bearbeitbarkeit verschlechtert wird und die Dichte der Teilchen abnimmt, so dass die Unregelmäßigkeit der Dichte der Teilchen deutlich wird. Wenn auf der Oberfläche andererseits Cu-Co-Legierungsteilchen mit einer durchschnittlichen Teilchengröße gebildet werden, die unter der Untergrenze des vorstehend genannten Bereichs liegt, ist die Oberfläche nicht rau genug, d.h. die Oberfläche weist einen unzureichenden Effekt des Verhinderns der Reflexion von externem Licht durch eine Lichtabsorption auf, und somit wird die Sichtbarkeit von Bildern verschlechtert.
Rostschutzschicht
Mindestens die Metallfolienoberfläche, welche die geschwärzten Oberflächen umfasst, ist mit den Rostschutzschichten 25A und/oder 25B beschichtet, um die Metallschicht 21 und/oder die geschwärzten Oberflächen 23A, 23B vor einem Rosten, Ablösen und einer Verformung zu bewahren. Die Rostschutzschichten 25A und 25B können aus einem Oxid von Ni, Zn und/oder Kupfer hergestellt sein oder es kann sich um Schichten handeln, die durch eine Chromatbehandlung gebildet werden. Das Oxid von Ni, Zn und/oder Kupfer kann mit bekannten Plattierungsverfahren hergestellt werden. Die Dicke der Rostschutzschichten 25A und 25B liegt zwischen etwa 0,001 und etwa 1 μm, vorzugsweise zwischen 0,001 und 0,1 μm.
Chromatbehandlung
Bei der Chromatbehandlung wird ein Zielwerkstück mit einer Chromatierungslösung behandelt. Eine Oberfläche des Werkstücks kann mit der Chromatierungslösung mit einem Walzenbeschichtungsverfahren, einem Vorhangbeschichtungsverfahren, einem Quetschbeschichtungsverfahren, einem elektrostatischen Zerstäubungsverfahren, einem Tauchverfahren, usw., benetzt werden. Das durch die Chromatbehandlung behandelte Werkstück kann ohne Waschen getrocknet werden. Wenn es beispielsweise gewünscht ist, nur eine Oberfläche eines Werkstücks durch eine Chromatbehandlung zu behandeln, wird eine Chromatierungslösung mit einem Walzenbeschichtungsverfahren oder dergleichen auf die Oberfläche des Werkstücks aufgebracht. Wenn es gewünscht ist, beide Oberflächen eines Werkstücks zu behandeln, wird das Werkstück mit einem Tauchverfahren in eine Chromatierungslösung getaucht. Gewöhnlich wird für eine Chromatbehandlung eine Chromatierungslösung verwendet, die 3 g/Liter CrO₂ enthält. Eine andere Chromatierungslösung für eine Chromatbehandlung kann durch Mischen einer Oxycarbonsäureverbindung mit einer wässrigen Chromsäureanhydridlösung und Reduzieren eines Teils des sechswertigen Chroms zu dreiwertigem Chrom hergestellt werden.
Die Farbe einer chromatierten Oberfläche liegt abhängig von der Menge des auf der chromatierten Oberfläche abgeschiedenen sechswertigen Chroms zwischen hellgelb und gelblichbraun. Dreiwertiges Chrom ist farblos. Folglich kann eine chromatierte Oberfläche mit einer in der Praxis akzeptablen Transparenz durch geeignetes Einstellen der jeweiligen Mengen an dreiwertigem Chrom und sechswertigem Chrom gebildet werden.
Mögliche Oxycarbonsäureverbindungen sind Weinsäure, Malonsäure, Zitronensäure, Milchsäure, Glykolsäure, Glycerinsäure, Tropasäure, Benzilsäure und Hydroxyvaleriansäure. Diese Verbindungen können einzeln oder in einer Kombination verwendet werden. Da die verschiedenen Verbindungen jeweils ein unterschiedliches Reduktionsvermögen aufweisen, wird die Konzentration jeder Verbindung unter Berücksichtigung von deren Vermögen zur Reduktion von sechswertigem Chrom zu dreiwertigem Chrom bestimmt.
Insbesondere können ALSURF 1000 (von Nippon Paint Company hergestellt, Handelsname eines Chromatierungsmittels) oder PM-284 (von Nippon Parkerizing Company hergestellt, Handelsname eines Chromatierungsmittels) oder dergleichen verwendet werden. Die auf eine geschwärzte Oberfläche (Schicht) angewandte Chromatbehandlung weist zusätzlich zu einem Rostschutzeffekt auch einen die Schwärzung verstärkenden Effekt auf.
Die geschwärzte Oberfläche und die Rostschutzschicht, die der Betrachtungsseite zugewandt sind, können den Kontrast und die Sichtbarkeit der durch die Anzeige angezeigten Bilder verbessern. Andererseits können die geschwärzte Oberfläche und die Rostschutzschicht, die der Anzeige zugewandt sind, Streulichtstrahlen unterdrücken, die von der Anzeige emittiert werden und verbessern somit die Sichtbarkeit von Bildern.
Basisblatt
Zur Bildung des Basisblatts 11 können verschiedene Materialien verwendet werden, mit der Maßgabe, dass die Materialien ein Transparenzniveau, Isoliereigenschaften, ein Wärmebeständigkeitsniveau und eine mechanische Festigkeit aufweisen, welche die Bedingungen zur Verwendung und Herstellung erfüllen. Beispielsweise sind mögliche Materialien zur Bildung des Basisblatts 11 Polyesterharze, wie z.B. Polyethylenterephthalatharze, Polybutylenterephthalatharze, Polyethylennaphthalatharze, Polyethylenterephthalat-Isophthalat-Copolymere und Terephthalsäure-Cyclohexandimethanol-Ethylenglykol-Copolymere, coextrudierte Filme aus Polyethylenterephthalat/Polyethylennaphthalat, Polyamidharze, wie z.B. Nylon 6, Nylon 66 und Nylon 610, Polyolefinharze, wie z.B. Polypropylenharze und Poly(methylpenten)harze, Vinylharze, wie z.B. Polyvinylchloridharze, Acrylharze, wie z.B. Polyacrylatharze, Polymethacrylatharze und Poly(methylmethacrylat)harze, Imidharze, wie z.B. Polyimidharze, Polyamidimidharze und Poly(etherimid)harze, technische Kunststoffe, wie z.B. Polyacrylatharze, Polysulfonharze, Poly(ethersulfon)harze, Polyphenylenetherharze, Polyphenylensulfidharze (PPS's), Polyaramidharze, Poly(etherketon)harze, Poly(ethernitril)harze, Poly(etheretherketon)harze und Poly(ethersulfit)harze, sowie Styrolharze, wie z.B. Polycarbonatharze und Polystyrolharze.
Das Basisblatt 11 kann aus einem Copolymer ausgebildet sein, welches das vorstehend genannte Harz als Hauptkomponente enthält, oder es kann aus Gemischen der vorstehend genannten Harze einschließlich Legierungen ausgebildet sein. Das Basisblatt 11 kann ein laminierter Film sein. Obwohl das Basisblatt 11 entweder ein gestreckter Film oder ein ungestreckter Film sein kann, ist es im Hinblick auf die Festigkeit bevorzugt, dass das Basisblatt 11 ein uniaxial gestreckter Film oder ein biaxial gestreckter Film ist. Gewöhnlich liegt die Dicke des Basisblatts 11 zwischen etwa 12 und etwa 1000 μm, vorzugsweise zwischen 50 und 700 μm und insbesondere zwischen 100 und 500 μm. Basisblätter mit einer Dicke unter der Untergrenze des vorstehend genannten Dickenbereichs weisen eine unzureichende mechanische Festigkeit auf, so dass sie sich verziehen und schlaff werden können. Basisblätter mit einer Dicke über der Obergrenze des vorstehend genannten Dickenbereichs weisen eine zu hohe Qualität auf, was die Kosten erhöht.
Das Basisblatt 11 ist ein Film, ein Blatt oder eine Platte, der bzw. das bzw. die aus mindestens einem dieser Harze hergestellt ist. In dieser Beschreibung werden Filme, Blätter und Platten als Film bezeichnet. Im Allgemeinen wird ein Polyesterfilm, wie z.B. ein Polyethylenterephthalatharz oder ein Polyethylennaphthalatharz verwendet, da der Polyesterfilm eine hohe Transparenz und eine hohe Wärmebeständigkeit aufweist und billig ist. Polyethylente rephthalatharze sind optimal. Eine höhere Transparenz ist bevorzugt. Vorzugsweise weist das Basisblatt 11 eine Durchlässigkeit für sichtbares Licht von 80 % oder mehr auf.
Die Oberfläche des Basisblatts, auf die ein Haftmittel aufgebracht wird, kann mit einem Verfahren zur Verstärkung des Bindungsvermögens verarbeitet werden, um das Bindungsvermögen der Oberfläche zu verstärken. Mögliche Verfahren zur Verstärkung des Bindungsvermögens sind Koronaentladungsbehandlungen, Plasmabehandlungen, Ozonbehandlungen, Flammenbehandlungen, Primeraufbringverfahren zum Aufbringen eines Primers, wie z.B. eines Haftvermittlers, eines Haftförderungsmittels oder eines Haftverstärkungsmittels, auf die Oberfläche des Basisblatts, Vorwärmverfahren, Staubentfernungsverfahren, Abscheidungsverfahren, Alkalibehandlungen, usw. Der Harzfilm kann gegebenenfalls einige Zusätze enthalten, einschließlich einen Füllstoff, einen Weichmacher und ein Antistatikmittel.
Laminierverfahren
Durch ein Laminierverfahren zum Laminieren des Basisblatts 11 und der leitfähigen Schicht 109 wird ein Haftmittel oder ein druckempfindliches Haftmittel entweder auf das Basisblatt 11 oder auf die leitfähige Schicht 109 oder sowohl auf das Basisblatt 11 als auch auf die leitfähige Schicht 109 aufgebracht, das Haftmittel oder das druckempfindliche Haftmittel wird gegebenenfalls getrocknet und das Basisblatt 11 und die leitfähige Schicht 109 werden zur Bildung einer laminierten Struktur unter Erwärmen oder ohne Erwärmen aufeinander gepresst. Gegebenenfalls wird die laminierte Struktur dann einer Alterung bei einer Temperatur zwischen 30 und 80°C unterworfen. Wenn das Basisblatt 11 oder die Verbindungsschicht des Basisblatts 11 dann, wenn das Basisblatt 11 ein Mehrschichtblatt ist, aus einem wärmehaftenden Harz, wie z.B. einem Ionomer, einem Ethylen-Vinylacetat-Copolymer oder einem Ethylen-Acrylsäure-Copolymer, einem Ethylen-Acrylsäureester-Copolymer, ausgebildet ist, kann die Haftmittelschicht 13 weggelassen werden und das Basisblatt 11 und die leitfähige Schicht, die übereinandergelegt worden sind, müssen nur unter Erwärmen gepresst werden.
Die Haftmittelschicht 13 kann weggelassen werden und die leitfähige Schicht 109 kann direkt auf dem Basisblatt 11 durch stromloses Abscheiden, sowohl durch Elektroplattieren als auch durch Elektroplattieren oder Vakuumabscheiden ausgebildet werden.
Haftmittel
Bezüglich des Haftmittels bestehen keine speziellen Beschränkungen. Geeignete Haftmittel sind z.B. Acrylharze, Polyesterharze, Urethanharze, Vinylchlorid-Vinylacetat- Copolymerharze. Das vom Fachmann als Trockenlaminierverfahren bezeichnete Verfahren ist ein bevorzugtes Laminierverfahren. Bei dem Trockenlaminierverfahren wird als Haftmittel ein hitzehärtendes Harz verwendet, das gegen die Verfärbungs- und Zerstörungseffekte eines Ätzmittels beständig ist und eine gute Verarbeitungsfähigkeit aufweist. Es ist auch bevorzugt, ein UV-härtendes Harz, das durch ionisierende Strahlung, wie z.B. UV-Strahlung, härtbar ist, zu verwenden.
Trockenlaminierverfahren
Durch das Trockenlaminierverfahren wird eine laminierte Struktur durch Laminieren von zwei Blättern durch die Schritte des Aufbringens einer Haftmittellösung, die durch Dispergieren oder Lösen eines Haftmittels in einem Lösungsmittel hergestellt wird, auf die Oberflächen von Blättern, Trocknen der auf die Blätter aufgebrachten Haftmittellösung, Laminieren der Blätter zu einer laminierten Struktur, und Altern der laminierten Struktur bei Temperaturen zwischen 30 und 120°C für einen Zeitraum zwischen mehreren Stunden und mehreren Tagen zur Härtung des Haftmittels gebildet.
Es kann ein lösungsmittelfreies Laminierverfahren eingesetzt werden, das durch Verbessern des Trockenlaminierverfahrens entwickelt worden ist. Durch das lösungsmittelfreie Laminierverfahren wird eine laminierte Struktur durch die Schritte des Laminierens von zwei Blättern, deren Oberflächen jeweils mit Haftmittelschichten beschichtet sind, die durch Aufbringen eines Haftmittels auf die Oberflächen und Trocknen des Haftmittels gebildet werden, sowie Altern der laminierten Struktur bei Temperaturen zwischen 30 und 120°C für einen Zeitraum zwischen mehreren Stunden und mehreren Tagen, um das Haftmittel zu härten, gebildet.
Geeignete Haftmittel für das Trockenlaminierverfahren und das lösungsmittelfreie Laminierverfahren, sind diejenigen, die mit Wärme oder ionisierender Strahlung, wie z.B. UV-Strahlung oder Elektronenstrahlen, gehärtet werden können. Insbesondere sind mögliche hitzehärtende Haftmittel Zweikomponenten-Haftmittel, wie z.B. Urethanhaftmittel, die jeweils z.B. Acryl-Urethan-Harze, Polyester-Urethan-Harze und Polyether-Urethan-Harze, Acrylhaftmittel, Polyesterhaftmittel, Polyamidhaftmittel, Polyvinylacetathaftmittel, Epoxyhaftmittel und elastomere Haftmittel umfassen. Zweikomponenten-Urethanhaftmittel sind geeignet.
Ein Polymer, das durch die Reaktion z.B. eines polyfunktionellen Isocyanatharzes mit einer Hydroxylverbindung (Polyol) erzeugt wird, wird als Zweikomponenten-Urethanhaftmittel verwendet. Insbesondere sind mögliche polyfunktionelle Isocyanate aromatische Polyisocyanate wie z.B. Toluylendiisocyanat, Diphenylmethandiisocyanat und Polymethylen-Polyphenylen- Polyisocyanat, oder aliphatische (oder alicyclische) Polyisocyanate, wie z.B. Hexamethylendiisocyanat, Xylylendiisocyanat und Isophorondiisocyanat. Diese Polyisocyanate können Polymere (Trimere) oder dergleichen der vorstehend genannten Isocyanate sein. Mögliche Hydroxylverbindungen sind Polyetherpolyole, Polyesterpolyole und Polyacrylatpolyole. Ein Zweikomponenten-Urethanharz, das durch Umsetzen des polyfunktionellen Isocyanats mit der Hydroxylverbindung erzeugt wird, kann verwendet werden.
Ein Haftmittel, das durch Mischen eines Polyesterpolyurethans, das durch ein Styrol-Maleinsäure-Copolymer denaturiert ist, mit einem aliphatischen Polyisocyanat hergestellt wird, ist bevorzugt. Dieses Haftmittel ist gegen die färbenden und zersetzenden Effekte eines Ätzmittels beständig.
In dem Trockenlaminierverfahren wird ein Mischhaftmittel, das die vorstehend genannten Substanzen als Hauptkomponenten enthält, in einem organischen Lösungsmittel gelöst oder dispergiert, um eine Haftmittellösung zu erzeugen, die Haftmittellösung wird durch ein Beschichtungsverfahren, wie z.B. ein Walzenbeschichtungsverfahren, ein Umkehrwalzenbeschichtungsverfahren, ein Tiefdruckbeschichtungsverfahren, ein Tiefdruckumkehrbeschichtungsverfahren, ein Tiefdruck-Offsetbeschichtungsverfahren, ein Kiss-Coating-Verfahren, ein Wire-Bar-Beschichtungsverfahren, ein Komma-Beschichtungsverfahren, ein Rakelbeschichtungsverfahren, ein Tauchbeschichtungsverfahren, ein Flutbeschichtungsverfahren oder ein Sprühbeschichtungsverfahren auf das Basisblatt aufgebracht, und eine Haftmittelschicht zum Laminieren wird durch Trocknen der auf das Basisblatt aufgebrachten Haftmittellösung zur Entfernung des Lösungsmittels gebildet. Ein Walzenbeschichtungsverfahren oder ein Umkehrwalzenbeschichtungsverfahren ist bevorzugt.
Die Dicke der trockenen Haftmittelschicht liegt zwischen etwa 0,1 und etwa 20 μm, vorzugsweise zwischen 1 und 10 μm. Das Basisblatt und die leitfähige Schicht werden laminiert und das Haftmittel wird durch Altern bei Temperaturen zwischen 30 und 120°C für einen Zeitraum zwischen mehreren Stunden und mehreren Tagen gehärtet, um das Basisblatt und die leitfähige Schicht aneinander zu binden. Die Haftmittelschicht kann auf der Oberfläche entweder des Basisblatts oder der leitfähigen Schicht gebildet werden. Vorzugsweise wird die Haftmittelschicht auf der aufgerauhten Oberfläche einer Kupferfolie gebildet. In diesem Fall kann das Haftmittel auf der gesamten aufgerauhten Oberfläche ausgebreitet werden und die Bildung von Blasen in der Haftmittelschicht wird verhindert.
Grundsätzlich ist das lösungsmittelfreie Laminierverfahren dem Trockenlaminierverfahren ähnlich. Das lösungsmittelfreie Laminierverfahren nutzt anstelle einer Haftmittellösung, die durch Lösen oder Dispergieren eines Mischhaftmittels in einem Lösungsmittel hergestellt wird, ein Mischhaftmittel selbst. Gegebenenfalls wird ein Mischhaftmittel erhitzt, um die Viskosität des Mischhaftmittels zu vermindern.
Druckempfindliches Haftmittel
Es kann ein allgemein bekanntes druckempfindliches Haftmittel verwendet werden. Mögliche druckempfindliche Haftmittel umfassen Naturkautschukhaftmittel, synthetische Kautschukhaftmittel, wie z.B. Butylkautschukhaftmittel, Polyisoprenhaftmittel, Polyisobutylenhaftmittel, Polychloroprenhaftmittel und Styrol-Butadien-Copolymere, Silikonharze, wie z.B. Dimethylpolysiloxanharze, Acrylharze, Vinylacetatharze, wie z.B. Polyvinylacetatharze und Ethylen-Vinylacetat-Copolymere, Urethanharze, Acrylnitrilharze, Kohlenwasserstoffharze, Alkylphenolharze und Kolophoniumharze, wie z.B. Kolophonium, Kolophoniumtriglyceridharze und hydriertes Kolophonium.
Druckempfindliches Kautschukhaftmittel
Ein effektives druckempfindliches Kautschukhaftmittel ist ein Gemisch aus einem oder mehreren druckempfindlichen Haftmittel(n), wie z.B. Chloroprenkautschuken, Nitril-Butadien-Kautschuken, Acrylelastomeren, Styrol-Butadien-Kautschuken, Styrol-Isopren-Styrol-Kautschuken, Styrol-Butadien-Styrol-Kautschuken, Styrol-Ethylen-Butadien-Styrol-Kautschuken, Butylkautschuken, Polyisobutylenkautschuken, Naturkautschuken und Polyisoprenkautschuken, und einem oder mehreren klebrigmachenden Mitteln, wie z.B. Phenolharzen, modifizierten Phenolharzen, Ketonharzen, Alkydharzen, Kolophoniumharzen, Cumaronharzen, Styrolharzen, Erdölharzen und Vinylchloridharzen.
Druckempfindliche Kautschukhaftmittel sind bezüglich Acrylhaftmitteln bei der chemischen Beständigkeit, der Quellbeständigkeit, der Temperaturbeständigkeit, des Haftvermögens und der Ablösebeständigkeit hervorragend. Daher wird die laminierte Struktur selbst dann nicht delaminiert, wenn die laminierte Struktur einer Säuresubstanz oder einer Alkalisubstanz ausgesetzt wird. Das druckempfindliche Kautschukhaftmittel wird kaum hydrolysiert und hält dessen Haftvermögen für einen langen Zeitraum aufrecht, und zwar selbst dann, wenn das druckempfindliche Kautschukhaftmittel in eine Säure- oder Alkalilösung eingetaucht wird.
Bildung der Schicht aus dem druckempfindlichen Haftmittel
Eine Haftmittelflüssigkeit, d.h. ein Latex, eine Wasserdispersion oder eine organische Lösungsmittellösung des vorstehend genannten Harzes oder eines Gemisches der vorstehend genannten Harze wird mit einem bekannten Druckverfahren oder Beschichtungsverfahren, wie z.B. mit einem Siebdruckverfahren oder einem Komma-Beschichtungsverfahren, auf eines der zu laminierenden Blätter aufgebracht. Das Blatt wird gegebenenfalls einem Trocknungsverfahren unterworfen und das Blatt und das andere Blatt werden übereinander gelegt und gepresst.
Verwendung einer Blattrolle
Die 5(A) und 5(B) sind eine Draufsicht bzw. eine Seitenansicht, die bei der Erläuterung eines Verfahrens zum Verarbeiten eines von einer Blattrolle abgewickelten Blatts hilfreich sind. Wie es in der Draufsicht der 5(A) gezeigt ist, sind auf einem Blatt, das von einer Blattrolle abgewickelt worden ist, Blätter zur elektromagnetischen Abschirmung 1 in feststehenden Abständen angeordnet. Gemäß der Seitenansicht der 5(B) ist die leitfähige Schicht 109 auf das Basisblatt 11 laminiert.
Die geschwärzte Oberfläche und die Rostschutzschicht sind auf der von der Blattrolle abgewickelten leitfähigen Schicht 109 ausgebildet. Das Haftmittel wird auf die Rostschutzschicht als Haftmittelschicht aufgebracht, die Haftmittelschicht wird getrocknet, die leitfähige Schicht 109 wird auf dem Basisblatt 11 angeordnet und die leitfähige Schicht 109 und das Basisblatt 11 werden zur Bildung einer laminierten Struktur gepresst. Gegebenenfalls wird die laminierte Struktur in einer Atmosphäre mit einer Temperatur im Bereich von 30 bis 80°C für einen Zeitraum zwischen mehreren Stunden und mehreren Tagen gealtert. Das Blatt, das die so gebildeten laminierten Strukturen aufweist, wird wieder aufgerollt.
Photolithographisches Verfahren
Die laminierte Struktur wird einem photolithographischen Verfahren unterworfen, bei dem eine Photolackschicht mit einem Netzmuster auf der Oberfläche der leitfähigen Schicht der laminierten Struktur gebildet wird, Teile der leitfähigen Schicht, die den Maschen der Photolackschicht entsprechen, weggeätzt werden, und dann die Photolackschicht entfernt wird. Auf diese Weise wird eine leitfähige Netzschicht gebildet.
Folglich wird die leitfähige Schicht 109 der laminierten Struktur, die aus dem Basisblatt 11 und der leitfähigen Schicht 109 besteht, durch das photolithographische Verfahren in einem Netzmuster geätzt. Die laminierte Struktur wird von einer Rolle der laminierten Struktur abgewickelt und dann zu dem photolithographischen Verfahren geführt. Die laminierte Struktur wird im gespannten Zustand geätzt und Maskierungs-, Ätz- und Photolackentfernungsschritten unterworfen, während die laminierte Struktur kontinuierlich oder diskontinuierlich transportiert wird.
Maskierungsschritt
Beispielsweise wird ein Photolack auf die leitfähige Schicht 109 als Photolackfilm aufgebracht, der Photolackfilm wird getrocknet, der Photolackfilm wird durch eine Photomaske mit einem durch ein Kontaktdruckverfahren ausgebildeten, vorgegebenen Netzmuster (mit Linien, die Maschen definieren) belichtet und der belichtete Photolackfilm wird nacheinander einer Entwicklung, Härtung und einem Einbrennen unterworfen, um eine Maske zu bilden.
Ein Photolack, wie z.B. Casein, PVA oder Gelatine, wird auf die Oberfläche der leitfähigen Schicht 109 der gestreckten laminierten Struktur (die durch Laminieren des Basisblatts 11 und der leitfähigen Schicht 109 gebildet worden ist) durch ein Tauchverfahren, ein Vorhangbeschichtungsverfahren oder ein Gießverfahren aufgebracht, während die laminierte Struktur kontinuierlich oder diskontinuierlich transportiert wird. Anstelle des Photolackfilms, der durch das vorstehend beschriebene Nassverfahren gebildet worden ist, kann ein Trockenphotolackfilm verwendet werden. Die Verwendung eines Trockenphotolackfilms erleichtert die Arbeit. Der Photolackfilm wird bei einer Temperatur zwischen 200 und 300°C eingebrannt, wenn der Photolackfilm aus Casein ausgebildet ist. Es ist bevorzugt, den Photolackfilm bei der niedrigsten zulässigen Temperatur einzubrennen, um ein Verziehen der laminierten Struktur zu verhindern.
Ätzschritt
Dann wird die leitfähige Schicht 109 nach dem Maskierungsschritt geätzt. In der vorliegenden Erfindung wird das Ätzen kontinuierlich durchgeführt. Daher ist es bevorzugt, als Ätzmittel eine Eisen(III)-chloridlösung oder eine Kupfer(II)-chloridlösung zu verwenden, die einfach umgewälzt werden können. Im Wesentlichen ist das Ätzverfahren mit einem Abdeckmaskenherstellungsschritt identisch, bei dem ein kontinuierliches dünnes Blatt mit einer Dicke zwischen 20 und 80 μm zur Herstellung von Abdeckmasken für CRT's von Farbfernsehgeräten geätzt wird. Folglich kann der Ätzschritt mit einem vorhandenen Abdeckmaskenherstellungs system durchgeführt werden. Das Abdeckmaskenherstellungssystem kann alle erforderlichen Schritte von einem Maskierungsschritt bis zu einem Ätzschritt kontinuierlich und effizient ausführen. Die geätzte laminierte Struktur wird mit Wasser gewaschen, der Photolackfilm wird unter Verwendung einer alkalischen Lösung entfernt und die laminierte Struktur wird gewaschen und dann getrocknet.
Netz
Der Netzteil 103 weist viele Maschen (Öffnungen) 105 auf, die durch die Linien 107 definiert sind. Bezüglich der Form der Maschen 105 gibt es keine speziellen Beschränkungen. Beispielsweise kann die Form der Maschen 105 ein Dreieck, wie z.B. ein gleichseitiges Dreieck oder ein gleichschenkliges Dreieck, ein Viereck, wie z.B. ein Quadrat, ein Rechteck, eine Raute oder ein Trapez, ein Polygon, wie z.B. ein Fünfeck, ein Sechseck oder ein Achteck, ein Kreis, eine Ellipse, usw., sein. Die Maschen 105 sind in einem Netzmuster angeordnet.
Im Hinblick auf das Öffnungsverhältnis, die Unsichtbarkeit des Netzteils und die Sichtbarkeit der Bilder muss die Linienbreite W der Linien 107 in dem Netzteil 103 innerhalb eines vorgegebenen Werts ± 30 % liegen. Der Krümmungsradius einer Seitenwand, die sich zwischen der oberen und unteren Seite eines Schnitts jeder der Linien 107 in einer Ebene senkrecht zu dem transparenten Basisblatt 11 erstreckt, muss im Bereich des 1,5- bis 3,0-fachen der Dicke der leitfähigen Schicht 109 liegen. Vorzugsweise hat die Linienbreite W der Linien 107 in dem Netzteil 103 einen feststehenden Wert zwischen 5 und 25 μm und die Abstände der Linien 107 in dem Netzteil 103 haben einen feststehenden Wert zwischen 150 und 500 μm. Die Linienbreite W der Linien 107 in dem peripheren Netzteil 104, welches das Netzteil 103 umgibt, die 1 bis 50 Maschen oder 0,15 bis 15 mm entspricht, nimmt in Richtung des Erdungsrahmens 101 nach und nach zu.
Im Allgemeinen weist ein Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung für einen großen Plasmabildschirm mehr als mehrere Tausend von sich schneidenden geraden Linien auf. Da eine Ungleichmäßigkeit der Linienbreite der Linien unterdrückt und der Krümmungsradius einer Seitenwand, die sich zwischen der oberen und der unteren Seite eines Schnitts jeder der Linien erstreckt, eingestellt ist, kann das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung 1, das so hergestellt worden ist, zusätzlich zu einem elektromagnetischen Abschirmvermögen und einer geeigneten Transparenz mit einer einheitlichen Dichte angeordnete Maschen aufweisen und es liegen nur wenige Fehler wie z.B. schwarze und weiße Punkte und Linien vor, und es kann das Blenden des Schirms der Anzeige und die Reflexion von externem Licht unterdrücken. D.h., das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung 1 kann eine gute Sichtbarkeit der Bilder erreichen.
Wenn die gewünschte Linienbreite 14 μm beträgt, können die jeweiligen Linienbreiten der Linien im Breitenbereich von 14 ± 4,2 μm beschränkt werden, d.h. im Breitenbereich von 9,8 bis 18,2 μm. Wenn die Linien in einem solchen Breitenbereich ausgebildet sind, sind die Maschen in einer einheitlichen Dichte angeordnet und das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung 1 weist wenige Fehler wie z.B. schwarze und/oder weiße Punkte und Linien auf. Wenn die jeweiligen Linienbreiten der Linien in einem übermäßig großen Breitenbereich verteilt sind, sind die Maschen mit einer einheitlichen Dichte sichtbar. Darüber hinaus sind bei der Betrachtung der Bilder, die von der Anzeige angezeigt werden, Teile der Linien mit einer übermäßig großen Linienbreite fehlerhaft und erscheinen als schwarze Punkte, und Teile der Linien mit übermäßig kleinen Linienbreiten sind fehlerhaft und bilden weiße Punkte. Bilder mit weißen und/oder schwarzen Punkten rufen bei Personen den starken Eindruck einer Fehlerhaftigkeit hervor.
Das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung in dieser Ausführungsform, das mit einem kontinuierlichen photolithographischen Verfahren hergestellt wird, weist Linien mit Linienbreiten in dem gewünschten Breitenbereich auf und somit sind die Maschen kaum in einer unregelmäßigen Dichte angeordnet und es treten auch keine Probleme bezüglich des elektromagnetischen Abschirmungsvermögens und der Transparenz auf. Eine unregelmäßige Netzverteilung und Fehler wie z.B. schwarze und/oder weiße Punkte und Linien können durch das Anhaften von Tropfen eines verspritzten flüssigen Photolacks an nicht vorgesehenen Teilen der leitfähigen Schicht verursacht werden, wenn der flüssige Photolack auf die Oberfläche der leitfähigen Schicht aufgebracht wird. Solche Probleme treten bei dem kontinuierlichen photolithographischen Verfahren kaum auf.
Die Linienbreiten der Linien in dem Netzteil 103 und dem peripheren Netzteil 104 werden in verschiedenen Kontrollmodi kontrolliert. Die Linienbreite W der geraden Teile der Linien 107 in dem peripheren Netzteil 104 wird in Richtung des Erdungsrahmens 101 nach und nach erhöht.
Der periphere Netzteil 104 erstreckt sich derart zwischen dem Netzteil 103 und dem Erdungsrahmen 101, dass der periphere Netzteil 104 den Netzteil 103 umgibt. Die Breite des peripheren Netzteils 104, d.h. der Abstand zwischen der Innenseite des Erdungsrahmens 101 und der entsprechenden Seite des Netzteils 103 entspricht 1 bis 50 Maschen oder etwa 0,15 bis etwa 15 mm, vorzugsweise 1 bis 25 Maschen oder 0,3 bis 7,5 mm und insbesondere 3 bis 20 Maschen oder 1,5 bis 6,0 mm.
Wenn die Breite des peripheren Netzteils 104 über der Obergrenze des vorstehend genannten Breitenbereichs liegt, ist in einem peripheren Bereich der Anzeige ein dunkler Rahmen sichtbar, die Bilder erscheinen klein, und die Sichtbarkeit der Bilder wird beeinträchtigt. Wenn die Breite des peripheren Netzteils 104 kleiner ist als die Untergrenze des vorstehend genannten Breitenbereichs, ändert sich die Steifigkeit der Netzlinien übermäßig abrupt und die Linien können gebogen werden. Die Linienbreite kann sich entweder kontinuierlich und nach und nach über einer Mehrzahl der Maschen 105 (Zellen) oder derart schrittweise ändern, dass sich die Linienbreite mit jeder Masche 105 (Zelle) ändert.
Die 6 ist eine vergrößerte partielle Draufsicht auf den peripheren Netzteil 104, der in dem Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung der bevorzugten Ausführungsform enthalten ist.
Die Linien 107 des Netzteils 103 weisen die vorgegebene Linienbreite W auf. Jede der Linien 107 in dem peripheren Netzteil 104 weist in Richtung des Erdungsrahmens 101 Teile mit den Linienbreiten W1, W2, W3, ..., Wi, ... und Wn auf. Diese Linienbreiten erfüllen die Beziehung, die durch W < W1 < W2 < W3 < ... < Wi < ... < Wn ausgedrückt wird.
Wenn sich die Linienbreite der Linien 107 kontinuierlich ändert, nimmt die Linienbreite kontinuierlich von W1 zu Wn zu, d.h. die Linienbreite Wi (i = 1, 2, ..., n) eines Teils der Linie 107, die einer Zelle entspricht, nimmt selbst nach und nach zu.
Wenn sich die Linienbreite der Linien 107 schrittweise ändert, ist die Linienbreite Wi eines Teils der Linie 107, die einer Zelle entspricht, als solche feststehend. Die Anzahl n der Stufen der Änderung der Linienbreite ist mindestens 1 und es ist bevorzugt, dass die Anzahl n nicht kleiner als 2 ist, um schrittweise Spannungen zu verteilen, die in den Kanten des Netzteils 103 induziert werden, um eine Spannungskonzentration zu vermeiden.
In dem in der 6 gezeigten Beispiel ist n = 5 und die Linienbreite nimmt schrittweise zu. Die jeweiligen Linienbreiten aller Linien müssen nicht in dem gleichen Linienbreitenänderungsmodus geändert werden und die verschiedenen Linien können unterschiedliche Linienbreiten W1, W2, W3, ... bzw. Wn aufweisen.
Die Linien mit einer nach und nach zunehmenden Linienbreite können durch Belichten eines trockenen Photolackfilms, der an der leitfähigen Schicht 109 gebunden ist, oder eines Photo lackfilms, der durch Aufbringen eines Photolacks auf die leitfähige Schicht 109 gebildet worden ist, durch eine Photomaske mit einem gewünschten Muster, das solche Linien definiert, gebildet werden. Die Photomaske entspricht einem Film, der vom Fachmann als plattenbildender Film bezeichnet wird. Ein plattenbildender Film mit lichtundurchlässigen Teilen, die den Maschen 105 entsprechen, und transparenten Teilen, die den Linien 107 entsprechen, d.h. ein Film mit einem Negativbild der Linien 107, wird verwendet, wenn der Photolackfilm ein negativer Photolackfilm ist, bei dem belichtete Teile aushärten und unlöslich werden. Ein plattenbildender Film mit einem positiven Bild der Linien 107 wird verwendet, wenn der Photolackfilm ein positiver Photolackfilm ist, bei dem unbelichtete Teile unlöslich werden. Teile der Photomaske, die den Linien 107 in dem Netzteil 103 entsprechen, werden in der vorgegebenen Linienbreite W ausgebildet. Die Linienbreite von Teilen der Photomaske, die den Linien 107 in dem peripheren Netzteil 104 entsprechen, wird in Richtung des Erdungsrahmens 101 von W1 bis Wn geändert, wobei W < W1 < W2 < W3 < ... < Wn.
In dem in der 1 gezeigten Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung sind die Linien mit einer Neigung von 45° zu der unteren Kante des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung geneigt. Die Neigung der Linien kann unter Berücksichtigung der Pixel und der Lichtemissionseigenschaften der Anzeige in geeigneter Weise selektiv bestimmt werden, um das Auftreten von Moirée zu verhindern.
Einebnung
Teile der leitfähigen Schicht 109, die den Linien 107 entsprechen, welche die Maschen definieren, weisen eine Dicke auf, die mit der Dicke der leitfähigen Schicht identisch ist, und Teile der leitfähigen Schicht 109, die den Maschen 105 entsprechen, sind Hohlräume. Folglich weist die leitfähige Schicht 109 eine unregelmäßige Oberfläche auf. Wenn ein Haftmittel oder ein druckempfindliches Haftmittel, die beide als "Haftmittel" bezeichnet werden, in dem nachfolgenden Verfahren auf die leitfähige Schicht 109 aufgebracht wird, werden die Hohlräume mit dem Haftmittel aufgefüllt. Es ist jedoch wahrscheinlich, dass in dem Haftmittel, das die Hohlräume auffüllt, Blasen enthalten sind. Wenn in dem Haftmittel Blasen enthalten sind, wird Licht durch die Grenzfläche zwischen dem Haftmittel und den Blasen gestreut und folglich nimmt die Trübung (Grad der Schleierbildung) zu. Es ist bevorzugt, die leitfähige Schicht durch Auffüllen der Hohlräume mit einem transparenten Harz vor dem Aufbringen des Haftmittels auf die leitfähige Schicht 109 einzuebnen, um das vorstehend genannte Problem zu vermeiden.
Die Hohlräume werden mit dem transparenten Harz zur Einebnung aufgefüllt. Die Transparenz des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung wird durch Blasen verschlechtert, die in den Hohlräumen verbleiben, bis die Hohlräume vollständig mit dem transparenten Harz gefüllt sind. Folglich wird auf die leitfähige Schicht 109 eine Harzlösung aufgebracht, die durch Lösen des transparenten Harzes in einem Lösungsmittel hergestellt wird und eine niedrige Viskosität aufweist, und dann wird die Harzlösung getrocknet. Alternativ wird das transparente Harz auf die leitfähige Schicht 109 aufgebracht, während das transparente Harz entgast wird. Auf diese Weise wird eine Einebnungsschicht 29 ausgebildet (vgl. die 3 oder 7).
Es ist bevorzugt, dass die Einebnungsschicht 29 eine hohe Transparenz aufweist und dass sie stark an der netzförmigen leitfähigen Schicht 109 und an einem Haftmittel haftet, das in dem nachfolgenden Verfahren auf die Einebnungsschicht 29 aufgebracht wird. Es ist nicht bevorzugt, dass die Oberfläche der Einebnungsschicht 29 Vorwölbungen, Vertiefungen und/oder Unregelmäßigkeiten aufweist. Wenn die Oberfläche der Einebnungsschicht 29 Vorwölbungen, Vertiefungen und/oder Unregelmäßigkeiten aufweist, können ein Moirée, Interferenzfarbsäume und/oder Newton'sche Ringe erscheinen, wenn das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung 1 auf oder über der Vorderfläche der Anzeige angeordnet wird. Bei einem bevorzugten Verfahren zur Bildung der Einebnungsschicht 29 wird ein Harz, wie z.B. ein hitzehärtendes Harz oder ein UV-härtbares Harz, in einem Harzfilm auf die leitfähige Schicht 109 aufgebracht, ein Trennblatt mit einer hervorragenden Ebenheit wird auf die Oberfläche der Harzschicht laminiert, der Harzfilm wird zum Härten erwärmt oder mit UV-Strahlen bestrahlt und dann wird das Trennblatt von dem gehärteten Harzfilm entfernt. Die ebene Konfiguration des ebenen Trennblatts wird auf die Oberfläche der Einebnungsschicht 29 übertragen. Folglich kann die Einebnungsschicht 29 eine ebene, glatte Oberfläche aufweisen.
Die Einebnungsschicht 29 kann aus einem beliebigen geeigneten Harz ausgebildet sein, wie z.B. einem natürlichen oder synthetischen Harz oder einem hitzehärtenden oder einem durch ionisierende Strahlung härtbaren Harz. Im Hinblick auf die Dauerbeständigkeit, das einfache Aufbringen, das einfache Ausbreiten zu einem ebenen Film und das Vermögen zur Bildung einer ebenen Oberfläche sind UV-härtbare Acrylharze zur Bildung der Einebnungsschicht 29 geeignet.
NIR-absorbierendes Mittel
Das Harz, das die Einebnungsschicht 29 bildet, kann ein lichtabsorbierendes Mittel enthalten, das sichtbare Strahlung und/oder Nahinfrarotstrahlung mit spezifischen Wellenlängen absorbieren kann. Die Absorption der sichtbaren Strahlung und/oder der Nahinfrarotstrahlung unterdrückt einen unangenehmen Sinneseindruck und verbessert die Sichtbarkeit der Bilder. Die spezifischen Nahinfrarotwellenlängen liegen zwischen etwa 780 und etwa 1200 nm, vorzugsweise zwischen etwa 800 bis etwa 1100 nm. Vorzugsweise werden mindestens 80 % der Nahinfrarotstrahlung mit Wellenlängen zwischen 780 und 1200 nm absorbiert.
Es kann jegliches geeignete Nahinfrarot-absorbierende Mittel (NIR-absorbierende Mittel) verwendet werden. Beispielsweise sind geeignete NIR-absorbierende Mittel Farbgebungsmaterialien mit einem scharfen Absorptionspeak in einem Nahinfrarotbereich in einem Absorptionsspektrum und einer hohen Durchlässigkeit für sichtbares Licht in einem Wellenlängenbereich zwischen 380 und 780 nm und ohne starkes Absorptionsvermögen für spezifische Wellenlängen im sichtbaren Bereich.
Sichtbare Strahlung, die von einem PDP emittiert wird, umfasst eine große Menge an orangem Licht, das dem Emissionsspektrum von Neonatomen entspricht. Daher weisen Bilder, die von dem PDP angezeigt werden, im Vergleich mit natürlichen Farben eine orangefarbene Tönung auf. Daher ist es bevorzugt, dem Harz, das die Einebnungsschicht 29 bildet, ein farbkorrigierendes absorbierendes Mittel zuzusetzen, das Licht mit Wellenlängen im Bereich von etwa 570 bis etwa 605 nm absorbieren kann.
Geeignete NIR-absorbierende Mittel umfassen Cyaninverbindungen, Phthalocyaninverbindungen, Naphthalocyaninverbindungen, Naphthochinonverbindungen, Anthrachinonverbindungen, Dithiolkomplexe, Immoniumverbindungen und Diimmoniumverbindungen. Geeignete farbtonkorrigierende Lichtabsorptionsmittel sind Azoverbindungen und Phthalocyaninverbindungen.
Geeignete farbkorrigierende, absorbierende Mittel umfassen Phthalocyaninverbindungen.
NIR-absorbierende Schicht
Das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung 1 kann anstelle des Zusatzes eines NIR-absorbierenden Mittels in der Einebnungsschicht mit einer weiteren Schicht (NIR- absorbierende Schicht) ausgestattet sein, die ein NIR-absorbierendes Mittel auf mindestens einer Oberfläche davon enthält.
Die NIR-absorbierende Schicht kann auf der Einebnungsschicht 29 und/oder der Oberfläche des Basisblatts 11 ausgebildet sein, die nicht auf die Einebnungsschicht 29 gerichtet ist. In der 3 ist eine NIR-absorbierende Schicht 31B auf der Einebnungsschicht 29 ausgebildet, und eine NIR-absorbierende Schicht 31A ist auf der freiliegenden Oberfläche des Basisblatts 11 ausgebildet. Die NIR-absorbierenden Schichten 31A und 31B sind laminierte und haftend gebundene Filme, die ein NIR-absorbierendes Mittel enthalten und käuflich sind, wie z.B. Nr. 2832, der von Toyobo Company hergestellt wird, oder Schichten, die durch Ausbreiten eines Bindemittels, das ein NIR-absorbierendes Mittel enthält, gebildet werden. Geeignete Bindemittel umfassen Polyesterharze, Polyurethanharze, Acrylharze und hitzehärtende oder UV-härtbare Harze, die zum Härten die Reaktion von Epoxygruppen, Acrylatgruppen, Methacrylatgruppen und Isocyanatgruppen nutzen. Eine farbkorrigierende lichtabsorbierende Schicht kann anstelle der Bildung der Einebnungsschicht 29 aus einem Harz, das ein farbkorrigierendes, lichtabsorbierendes Mittel enthält, separat gebildet werden.
AR-Schicht
Eine Antireflexionsschicht (AR-Schicht), die nicht gezeigt ist, kann auf der Oberfläche auf der Betrachtungsseite des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung ausgebildet sein. Die AR-Schicht vermindert die Reflexion von sichtbarem Licht. Es gibt verschiedene käufliche Einzelschicht- und Mehrschicht-AR-Filme. Der Mehrschicht-AR-Film wird durch abwechselndes Laminieren von Schichten mit hoher Brechung und Schichten mit niedriger Brechung gebildet. Mögliche Schichten mit hoher Brechung sind solche aus Nioboxid, Titanoxid, Zirkoniumoxid und ITO. Mögliche Schichten mit niedriger Brechung sind solche aus Siliziumdioxid und Magnesiumfluorid. Die AR-Schicht kann derart sein, dass sie eine Oberfläche mit sehr kleinen Unregelmäßigkeiten aufweist und externes Licht unregelmäßig reflektieren kann.
Hartbeschichtungsschicht, schmutzabweisende Schicht, Antiblendschicht
Das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung kann zusätzlich zu der AR-Schicht mit einer Hartbeschichtungschicht, einer schmutzabweisenden Schicht und einer Antiblendschicht ausgestattet sein. Die Hartbeschichtungsschicht weist eine Härte von H oder mehr auf, die mittels eines Bleistifthärtetestverfahrens gemäß JIS K 5400 bestimmt wird. Die Hartbeschichtungsschicht kann eine Schicht sein, die durch Härten einer Schicht aus einem polyfunktionellen Acrylatharz, wie z.B. einem Polyesteracrylatharz, einem Urethanacrylatharz oder ei nem Epoxyacrylatharz mit Hitze oder mit ionisierender Strahlung gebildet wird. Die schmutzabweisende Schicht ist eine wasserabweisende und ölabweisende Schicht. Mögliche Materialien zur Bildung der schmutzabweisenden Schicht sind Siloxanverbindungen und fluorierte Alkylsilylverbindungen. Die Antiblendschicht weist eine Oberfläche auf, die mit sehr kleinen Unregelmäßigkeiten ausgestattet ist und externes Licht unregelmäßig reflektieren kann.
Bildung eines Blatts
Ein so hergestellter kontinuierlicher laminierter Streifen wird zu den Blättern zur elektromagnetischen Abschirmung 1 geschnitten. Das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung 1 wird an eine transparente Basisplatte wie z.B. eine Glasplatte gebunden. Gegebenenfalls werden mit dem Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung 1 eine NIR-absorbierende Schicht, eine AR-Schicht, eine Hartbeschichtungsschicht, eine schmutzabweisende Schicht und eine Antiblendschicht kombiniert, um eine Frontplatte für eine Anzeige zu bilden.
Eine Platte mit einer Dicke zwischen 1 und 10 mm und einer ausreichenden Steifigkeit wird als Basisplatte für eine große Anzeige verwendet. Ein Kunststofffilm mit einer Dicke zwischen 0,01 und 0,5 mm wird als Basisplatte für eine kleine Anzeige, wie z.B. eine Buchstabenanzeige, verwendet. Die Spezifikationen der Basisplatte werden gemäß der Größe und der Anwendung einer Anzeige, auf welche die Basisplatte aufgebracht werden soll, in geeigneter Weise selektiv bestimmt. Eine Frontplatte, die das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung 1 umfasst, wird auf der Vorderfläche einer Anzeige aufgebracht, wobei das Basisblatt 11 auf die Betrachtungsseite gerichtet ist. Alternativ kann das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung 1 direkt an der Vorderfläche einer Anzeige aufgebracht werden.
Direktes Aufbringen
Die 7 zeigt ein erfindungsgemäßes Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung, das auf die Vorderfläche einer Anzeige aufgebracht werden soll, in einer Schnittansicht. Eine Netzmetallfolie befindet sich auf der Betrachtungsseite. Eine geschwärzte Oberfläche und eine Rostschutzschicht sind in dieser Reihenfolge auf jeder der gegenüber liegenden Oberflächen der Metallfolie ausgebildet. Da ein Erdungsrahmen 101, der in dem Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung enthalten ist, freiliegt, kann der Erdungsrahmen einfach mit einer Erdung verbunden werden. Da die geschwärzte Oberfläche des Erdungsrahmens 101 auf die Betrachtungsseite gerichtet ist, kann ein Druckverfahren zum Drucken eines schwarzen Rahmens auf eine Frontglasplatte weggelassen werden, was die Anzahl der Verfahren vermindert und bezüglich der Kosten vorteilhaft ist.
Beispiel 1
Eine 10 μm dicke Elektrolytmetallfolie mit Oberflächen, die mit einer Schwärzungsbehandlung unter Verwendung von Cu-Co-Legierungsteilchen mit einer durchschnittlichen Teilchengröße von 0,3 μm und einer Chromatbehandlung zur Bildung von geschwärzten Rostschutzschichten behandelt worden sind, wurde als leitfähige Schicht verwendet. Die leitfähige Schicht wurde auf einen 100 μm dicken, biaxial gestreckten Polyethylenterephthalat-Film (PET-Film) A4300 (von Toyobo Company hergestellt, Handelsname) laminiert, wobei die chromatierte Schicht mit einer Haftmittelschicht aus einem Zweikomponenten-Polyurethanhaftmittel an den PET-Film gebunden wurde, um eine laminierte Struktur zu bilden. Dann wurde die laminierte Struktur vier Tage bei 56°C altern gelassen. Das Zweikomponenten-Haftmittel wies ein Polyol (TAKERAKKU A-310, von Takeda Yakuhin Kogyo Company hergestellt) als Harz und ein Polyisocyanat (A-10, von Takeda Yakuhin Kogyo Company hergestellt) als Beschleuniger auf. Die Dicke der getrockneten Haftmittelschicht betrug 7 μm.
Maschen wurden in einem kontinuierlichen Streifen durch ein photolithographisches Verfahren, das Schritte von einem Maskierungsschritt bis zu einem Ätzschritt umfasste, mit einer vorhandenen Herstellungsanlage für eine Abdeckmaske für ein Farbfernsehgerät gebildet. Eine Caseinschicht als Photolackschicht wurde auf der gesamten Oberfläche der leitfähigen Schicht durch ein Gießverfahren gebildet, die leitfähige Schicht wurde zur nächsten Station transportiert und die Caseinschicht wurde unter Verwendung einer Photomaske und einer Hochdruck-Quecksilberdampflampe einer Kontaktbelichtung unterworfen. Dann wurde die leitfähige Schicht nacheinander einem Wasserentwicklungsverfahren und einem Verfahren zur Bildung einer Hartbeschichtungsschicht unterworfen, wobei die leitfähige Schicht aufeinanderfolgende Stationen durchlief. Dann wurde die so verarbeitete leitfähige Schicht bei 100°C eingebrannt.
Die Photomaske wies einen zentralen Teil, einen peripheren Teil und einen Rahmenteil auf, die jeweils einem Netzteil, einem peripheren Netzteil und einem Erdungsrahmen entsprachen. Der zentrale Teil wies quadratische Maschen auf, die durch 22 μm breite geneigte Linien definiert und in Abständen von 300 μm angeordnet und mit 49° geneigt waren. Der periphere Teil wies eine Breite von 5 mm und Linien auf, die eine Breite aufwiesen, die von 22 μm an der Grenze des zentralen Teils und dem peripheren Teil auf 40 μm an der Grenze des peripheren Teils und dem Rahmenteil zunahm. Der Rahmenteil wies eine Breite von 5 mm auf.
Die leitfähige Schicht wurde zur nächsten Station transportiert, bei der eine Eisen(III)-chlorid-Lösung mit 40°C, die einen Baumé-Grad von 40° aufwies, als Ätzmittel auf die leitfähige Schicht gesprüht wurde, um in die leitfähige Schicht Maschen zu ätzen. Dann wurde die leitfähige Schicht an den nachfolgenden Stationen durch Spülen, Photolackentfernen, Waschen und Trocknen bei 100°C verarbeitet, um ein Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 zu vervollständigen.
Vergleichsbeispiel 1
Das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Vergleichsbeispiels 1 wurde mit einem Verfahren hergestellt, das demjenigen zur Herstellung des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 ähnlich war, und es wies einen ähnlichen Aufbau auf wie das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1, jedoch wurde das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Vergleichsbeispiels 1 unter Verwendung einer Photomaske mit einem zentralen Teil und einem peripheren Teil hergestellt, die jeweils einem Netzteil und einem peripheren Netzteil entsprachen, und die sich von denjenigen unterschieden, die zur Herstellung des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 verwendet wurden. Die Photomaske wies quadratische Maschen auf, die durch 22 μm breite Linien definiert waren, die sich durch den zentralen Teil und den Rahmenteil erstreckten und in Abständen von 300 μm angeordnet und mit 49° geneigt waren.
Beispiel 2
Ein Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 2 wurde durch Beschichten des Netzteils und des peripheren Netzteils eines Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung, das mit demjenigen von Beispiel 1 identisch war, mit einer Einebnungsschicht hergestellt. Eine Einebnungszusammensetzung wurde auf die Oberfläche des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung derart aufgebracht, dass die Maschen mit der Einebnungszusammensetzung aufgefüllt wurden. Ein 50 μm dicker trennbarer PET-Film (SP-PET20-BU, von Tohsero Company hergestellt) wurde an die Oberfläche des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung, das mit der Einebnungszusammensetzung beschichtet war, aufgebracht, die Oberfläche, die mit der Einebnungszusammensetzung beschichtet war, wurde einer Strahlung, die von einer Hochdruck-Quecksilberdampflampe emittiert wurde, bei einer Dosis von 200 mJ/cm² (zu 365 nm äquivalent) ausgesetzt, und dann wurde der trennbare PET-Film entfernt, um die Oberfläche der Einebnungsschicht zu glätten. Die Eigenschaften des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 2 waren den Eigenschaften des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 ähnlich.
Die Einebnungszusammensetzung wurde durch Mischen von 20 Massenteilen N-Vinyl-2-pyrrolidon, 25 Massenteilen Dicyclopentenylacrylat, 52 Massenteilen Oligoesteracrylat (M-8060, von Toa Gosei K.K. hergestellt) und 3 Massenteilen 1-Hydroxycyclohexylphenylketon (IRGACURE 184, von Ciba-Geigy Company hergestellt) hergestellt.
Beispiel 3
Das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 3 war demjenigen des Beispiels 2 ähnlich, jedoch war das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 3 mit einer Einebnungsschicht ausgestattet, die aus einer Zusammensetzung hergestellt war, die durch Zugeben von 1 Massenteil eines Thiol-Nickel-Komplexes, d.h. eines NIR-absorbierenden Mittels, zu der Einebnungszusammensetzung hergestellt wurde, die zur Bildung der Einebnungsschicht des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 2 verwendet worden ist. Die Eigenschaften des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 3 waren den Eigenschaften des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 ähnlich und es war dem Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 bezüglich eines Effekts zur Verbesserung der Sichtbarkeit angezeigter Bilder überlegen.
Beispiel 4
Das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 4 war mit demjenigen des Beispiels 2 identisch, jedoch war das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 4 mit einem NIR-absorbierenden Film (NIR-absorbierender Film Nr. 2832, von Toyobo Company hergestellt) ausgestattet, der mit einem druckempfindlichen Haftmittel an eine Einebnungsschicht gebunden war, die derjenigen des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 2 entsprach. Die Eigenschaften des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 4 waren den Eigenschaften des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 ähnlich und es war dem Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 bezüglich eines Effekts zur Verbesserung der Sichtbarkeit angezeigter Bilder überlegen.
Beispiel 5
Das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 5 wurde mit einem Verfahren hergestellt, das demjenigen zur Herstellung des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 ähnlich war, und es wies einen ähnlichen Aufbau wie das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 auf, jedoch wurde das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 5 unter Verwendung einer Photomaske mit einem zentralen Teil, einem peripheren Teil und einem Rahmenteil hergestellt, die jeweils einem Netzteil, einem peripheren Netzteil und einem Erdungsrahmen entsprachen, und die von derjenigen verschieden war, die zur Herstellung des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 verwendet worden ist. Der zentrale Teil wies quadratische Maschen auf, die durch 20 μm breite Linien definiert waren, die mit Abständen von 250 μm angeordnet und mit 60° geneigt waren. Der periphere Teil wies eine Breite von 5 mm und Maschen auf, die durch Linien definiert waren, die jeweils mit den Linien kontinuierlich waren, die sich in dem zentralen Teil erstreckten und eine Breite aufwiesen, die von 20 μm an der Grenze zwischen dem zentralen Teil und dem peripheren Teil auf 26 μm an der Grenze zwischen dem peripheren Teil und dem Rahmenteil kontinuierlich zunahm.
Beispiel 6
Das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 6 wurde mit einem Verfahren hergestellt, das demjenigen zur Herstellung des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 ähnlich war, und es wies einen ähnlichen Aufbau wie das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 auf, jedoch wurde das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 6 unter Verwendung einer Photomaske mit einem zentralen Teil, einem peripheren Teil und einem Rahmenteil hergestellt, die jeweils einem Netzteil, einem peripheren Netzteil und einem Erdungsrahmen entsprachen, und die von derjenigen verschieden war, die zur Herstellung des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 verwendet worden ist. Der zentrale Teil wies quadratische Maschen auf, die durch 20 μm breite Linien definiert waren, die mit Abständen von 250 μm angeordnet und mit 60° geneigt waren. Der periphere Teil wies eine Breite von 3 mm und Maschen auf, die durch Linien definiert waren, die jeweils mit den Linien kontinuierlich waren, die sich in dem zentralen Teil erstreckten und eine Breite aufwiesen, die von 20 μm an der Grenze zwischen dem zentralen Teil und dem peripheren Teil auf 26 μm an der Grenze zwischen dem peripheren Teil und dem Rahmenteil kontinuierlich zunahm.
Beispiel 7
Das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 7 wurde mit einem Verfahren hergestellt, das demjenigen zur Herstellung des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 ähnlich war, und es wies einen ähnlichen Aufbau wie das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 auf, jedoch wurde das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 7 unter Verwendung einer Photomaske mit einem zentralen Teil, einem peripheren Teil und einem Rahmenteil hergestellt, die jeweils einem Netzteil, einem peripheren Netzteil und einem Erdungsrahmen entsprachen, und die von derjenigen verschieden war, die zur Herstellung des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 verwendet worden ist. Der zentrale Teil wies quadratische Maschen auf, die durch 20 μm breite Linien definiert waren, die mit Abständen von 300 μm angeordnet und mit 49° geneigt waren. Der periphere Teil wies eine Breite auf, die 25 Maschen entsprach, sowie Maschen, die durch Linien definiert waren, die jeweils mit den Linien kontinuierlich waren, die sich in dem Netzteil erstreckten und eine Breite aufwiesen, die von 20 μm an der Grenze zwischen dem zentralen Teil und dem peripheren Teil auf 45 μm an der Grenze zwischen dem peripheren Teil und dem Rahmenteil in Schritten von 1,0 μm pro Masche zunahm.
Beispiel 8
Das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 8 wurde mit einem Verfahren hergestellt, das demjenigen zur Herstellung des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 ähnlich war, und es wies einen ähnlichen Aufbau wie das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 auf, jedoch wurde das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 8 unter Verwendung einer Photomaske mit einem zentralen Teil, einem peripheren Teil und einem Rahmenteil hergestellt, die jeweils einem Netzteil, einem peripheren Netzteil und einem Erdungsrahmen entsprachen, und die von derjenigen verschieden war, die zur Herstellung des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 verwendet worden ist. Der zentrale Teil wies quadratische Maschen auf, die durch 20 μm breite Linien definiert waren, die mit Abständen von 300 μm angeordnet und mit 49° geneigt waren. Der periphere Teil wies eine Breite auf, die 5 Maschen entsprach, sowie Maschen, die durch Linien definiert waren, die jeweils mit den Linien kontinuierlich waren, die sich in dem zentralen Teil erstreckten und eine Breite aufwiesen, die von 20 μm an der Grenze zwischen dem zentralen Teil und dem peripheren Teil auf 35 μm an der Grenze zwischen dem peripheren Teil und dem Rahmenteil in Schritten von 3,0 μm pro Masche zunahm.
Beispiel 9
Das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 9 wies einen ähnlichen Aufbau auf wie das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 2, jedoch war das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 9 mit einem PET-Film ausgestattet, der auf eine Oberfläche einer leitfähigen Schicht laminiert war, deren andere Oberfläche mit Cu-Co-Legierungsteilchen geschwärzt und mit einer Chromatierungsbehandlung fertigbearbeitet worden ist.
Ergebnisse
Die Photomaske, die zur Herstellung des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 verwendet worden ist, wies den zentralen Teil mit den quadratischen Maschen auf, die durch die 22 μm breiten Linien definiert worden sind. Die tatsächlichen Breiten der Linien, welche die Maschen des geätzten Netzteils des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 definierten, lagen im Bereich von 7 bis 17 μm. Die tatsächlichen Breiten von Enden der Linien, welche die Maschen in dem geätzten peripheren Netzteil definierten, der mit dem Netzteil verbunden war, lagen im Bereich von 7 bis 17 μm und diejenigen von Enden der Linien, die mit dem Erdungsrahmen verbunden waren, lagen im Bereich von 17 bis 29 μm.
In dem Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Vergleichsbeispiels 1 lagen die tatsächlichen Breiten der Linien, welche die Maschen in dem geätzten peripheren Netzteil definierten, von ihren Enden, die mit dem Netzteil verbunden waren, bis in die Umgebung der anderen Enden im Bereich von 10 bis 16 μm und diejenigen der Linien an den anderen Enden, die mit dem Erdungsrahmen verbunden waren, im Breitenbereich von 5 bis 20 μm, wodurch eine größere Unebenheit vorlag.
Einebnungsschichten, die denjenigen des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 2 ähnlich waren, wurden auf 100 Blättern zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 bzw. 100 Blättern zur elektromagnetischen Abschirmung des Vergleichsbeispiels 1 ausgebildet. Die Einebnungsschichten wurden in normaler Weise auf den Blättern zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 ausgebildet. Einige der Linien von zwei Blättern zur elektromagnetischen Abschirmung des Vergleichsbeispiels 1 waren gerissen und die Ausbeute war niedrig.
100 Blätter zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 bzw. 100 Blätter zur elektromagnetischen Abschirmung des Vergleichsbeispiels 1 wurden in PDP's einbezogen. Die Blätter zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 1 konnten problemlos in die PDP's einbezogen werden. Einige der Linien von einem der Blätter zur elektromagnetischen Abschirmung des Vergleichsbeispiels 1 waren gerissen und die Ausbeute war niedrig.
Frontplatten wurden unter Verwendung der Blätter zur elektromagnetischen Abschirmung der Beispiele 1 bis 8 und des Vergleichsbeispiels 1 hergestellt und die Frontplatten wurden jeweils auf den Vorderflächen von PDP's angeordnet. Die Sichtbarkeit von Bildern, die von den Plasmabildschirmen angezeigt wurden, war in allen Fällen zufriedenstellend.
Das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung des Beispiels 9 wurde mit einem druckempfindlichen Haftmittel auf die PDP-Anzeige aufgebracht, wobei die Oberfläche des Basisblatts mit der PDP-Anzeige in Kontakt war. Der PDP blendete nicht, die Sichtbarkeit von Bildern, die von dem PDP angezeigt worden sind, war zufriedenstellend, der Aufwand zum Verbinden von Elektroden mit dem Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung war vermindert und ein Druckverfahren zum Aufdrucken eines schwarzen Rahmens war nicht erforderlich.
Zusammenfassung
Ein erfindungsgemäßes Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung umfasst ein transparentes Basisblatt und eine Metallschicht, die an eine Oberfläche des transparenten Basisblatts gebunden ist. Die Metallschicht weist einen Netzteil, einen peripheren Netzteil, der den Netzteil umgibt, und einen Erdungsrahmen auf, der den peripheren Netzteil umgibt. Die Breite von Linien, welche die Maschen in dem peripheren Netzteil bilden, nimmt von dem Netzteil in Richtung des Erdungsrahmens nach und nach zu. Die Linien des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung werden in allen Verfahren, einschließlich den Herstellungs- und Zusammenbauverfahren, kaum gebogen oder zerrissen, und das Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung weist eine hervorragend einfache Handhabung auf.
(1)

Claims

Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung, das ein transparentes Basisblatt und eine Metallschicht, die an eine Oberfläche des transparenten Basisblatts gebunden ist, umfasst, wobei die Metallschicht einen Netzteil, einen peripheren Netzteil, der den Netzteil umgibt, und einen Erdungsrahmen, der den peripheren Netzteil umgibt, aufweist, und die Breite von Linien, die Maschen in dem peripheren Netzteil bilden, von dem Netzteil in Richtung des Erdungsrahmens nach und nach zunimmt.
Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung nach Anspruch 1, bei dem Linien, die Maschen in dem Netzteil bilden, eine feststehende Breite aufweisen.
Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung nach Anspruch 1 oder 2, bei dem der periphere Netzteil in einer Richtung von dem Erdungsrahmen zu dem Netzteil 1 bis 50 Maschen aufweist.
Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung nach Anspruch 1 oder 2, bei dem der periphere Netzteil in einer Richtung von dem Erdungsrahmen zu dem Netzteil eine Breite zwischen 0,15 und 15 mm aufweist.
Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung nach Anspruch 3, bei dem der periphere Netzteil in einer Richtung von dem Erdungsrahmen zu dem Netzteil 1 bis 25 Maschen aufweist.
Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung nach Anspruch 4, bei dem der periphere Netzteil in einer Richtung von dem Erdungsrahmen zu dem Netzteil eine Breite zwischen 0,3 und 7,5 mm aufweist.
Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, bei dem die Breite von Linien, die Maschen in dem peripheren Netzteil bilden, von dem Netzteil in Richtung des Erdungsrahmens kontinuierlich zunimmt.
Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, bei dem die Breite von Linien, die Maschen in dem peripheren Netzteil bilden, von dem Netzteil in Richtung des Erdungsrahmens schrittweise zunimmt.
Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung nach einem der Ansprüche 1 bis 8, bei dem mindestens eine der Oberflächen der Metallschicht mit einer Schwärzungsbehandlung behandelt worden ist.
Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung nach Anspruch 9, bei dem eine Rostschutzschicht mindestens auf der Oberfläche der Metallschicht ausgebildet ist, die mit der Schwärzungsbehandlung behandelt worden ist.
Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung nach einem der Ansprüche 1 bis 10, bei dem mindestens Maschen in dem Netzteil und dem peripheren Netzteil mit einem Harz aufgefüllt sind, um die Metallschicht im Wesentlichen eben zu machen.
Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung nach Anspruch 11, bei dem das Harz ein farbtonkorrigierendes, lichtabsorbierendes Mittel, das sichtbares Licht mit Wellenlängen von 570 bis 605 nm absorbieren kann, und/oder ein Nahinfrarot-absorbierendes Mittel enthält, das Licht mit Wellenlängen im Nahinfrarotbereich von 800 bis 1100 nm absorbieren kann.
Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung nach Anspruch 11, bei dem eine farbtonkorrigierende, lichtabsorbierende Schicht, die sichtbares Licht mit Wellenlängen von 570 bis 605 nm absorbieren kann, und/oder eine Nahinfrarot-absorbierende Schicht, die Licht mit Wellenlängen im Nahinfrarotbereich von 800 bis 1100 nm absorbieren kann, auf mindestens einer Oberfläche des Blatts zur elektromagnetischen Abschirmung bereitgestellt ist bzw. sind.