TWI253322B - Electromagnetic wave-shielding sheet - Google Patents

Description

1253322 Π) 玫、發明說明 s月所屬之技術領域】 本發明係有關一種欲遮蔽電磁波（亦稱屏蔽罩）之薄片 ’更詳細是有關配置在CRT、PDP等之顯示器的前面，用 來遮蔽由顯示器所發生之電磁波的薄片。 【先前技術】 (技術槪要） 近年來隨著電氣電子機器之機能高度化與增加利用， 增進電磁干擾（ELectro Magnetic Interference ;EMI)。電 磁波雜訊大致分爲傳導雜訊和輻射雜訊。 傳導雜訊是採用雜訊濾除器等的方法。一方面，輻射 雜訊爲了電·磁式絕緣空間，採用框體爲金屬，或於電路基 板間插入金屬板，或用金屬箔捲繞電纜等的方法。該些方 法雖具有電路、電源區塊之電磁波遮蔽的效果，但對用於 由CRT、電漿顯示面板（稱PDP)等之顯示器前面產生的電 磁波遮蔽而言，爲不透明的關係很不適合。 電漿顯示面板乃屬於具有資料電極和螢光層之玻璃和 具有透明電極之玻璃的組合體，一旦作動即會大量產生電 磁波、近紅外線及熱度。 通常爲了遮蔽電磁波，在電漿顯示面板之前面設置前 面板。由顯示器前面產生的電磁波之遮蔽性需要有3 0M Hz〜1GHz之30dB以上的機能。 而自顯示器前面產生之波長8 0 0〜1 1 0 0 n m的近紅外 (2) 1253322 線也會令其他VTR等的機器誤作動。因而近紅外線也與 電磁波同樣地需要遮蔽。 更爲了易於辨識顯示在顯示器的畫像’電磁波遮蔽用 之前面板（薄片）不易看見金屬網目的線條部，而且網目很 亂，亦即需具有適度的透明性（可視光透過性 '可視光透 過率）。 更且電獎顯示面板一般以大型畫面爲其特徵。因而 電磁波遮蔽用薄片的大尺（外形尺寸）例如有3 7型62 1 X 831mm，也有42型983x583mm，也有更大型的尺寸。因 此，從電磁波遮蔽用薄片的製造至組裝在顯示器上的各工 程中，接地用框部和網目部的邊界很容易斷線，亦即，處 理適性極差。 於電磁波遮蔽用之前面板（薄片）求得電磁波遮蔽性、 適度的透明性（可視光之透過率）、優異的處理適性。 曰本特開平第5 一 2 8 3 8 8 9號公報是揭示欲提高顯示器畫 像的辨識性，由基板、透明結合層、網目圖案狀的無電解 電鍍層所形成，利用無電解電鍍，將無電解電鍍層下的透 明結合層改爲黑色圖案部的電磁波遮蔽材料。 而曰本特開昭第6 i — 5 4 8 0號公報是揭示在電磁波遮 蔽薄片的金屬網目的表面形成氧化銅被膜，而抑制外光反 射的方法。 而曰本特開平第0 9 - 2 9 3 9 8 9號公報是揭示將於利用 光_刻法形成電磁波遮蔽薄片之金屬網目之際所用的黑色 光阻劑’開設網目後依然残存，塗黑網目線條部的方法。 6 - (3) 1253322 更且，日本特開平第1 Ο — 3 3 5 8 8 5號公報是揭示將於 銅箔上利用微縮法形成幾何學圖形之附銅箔的塑膠薄膜積 層於塑膠板的電磁波遮蔽構成體。 使用網目狀的金屬層之上述的任一方法亦以金屬網目 的線寬目標爲一定而製成。但實際上，於網目部和接地用 框部的邊界部分之網目及線條產生零亂，特別於搬送時很 難避免。而在網目部和接地用框部的邊界部分，剛度變得 極端不連續。因此，對於從電磁波遮蔽用薄片之製造工程 到組合、組裝至顯示器的各工程，經由集中於該邊界部分 的應力，而產生彎折、斷線，亦即處理適性極差。因此， 會有浪費許多高價零件的缺點。 【發明內容】 本發明乃爲欲解決此種問題的發明。其目的在於提 供一配置在CRT、PDP等之顯示器的前面，用來遮蔽由顯 示器所產生的電磁波，一方面網目不會亂，並能維持顯示 的良好辨識性，且就算很大型，從製造至組合的所有工程 中，都不會發生網目線條折斷等不良情形，爲一處理適性 優的電磁波遮蔽用薄片。 本發明係爲具備有：透明基材、和積層在前述透明基 材之一方的面的金屬層，且前述金屬層係具有：網目狀的 網目部、和圍住前述網目部之網目狀的網目外周部、和圍 住前述網目外周部的接地用框部’且構成前述網目外周部 之網目的線條之線寬，係從網目部向著接地用框部而逐漸 -7- (4) 1253322 放大寬度爲其特徵的電磁波遮蔽用薄片。 本發明的電磁波遮蔽用薄片係配置在C RT、P D P等之 顯示器之前面時’用來遮蔽從該顯示器產生的電磁波，〜 方面網目不會零亂，能維持顯示器畫像的良好辨識性，且 、 連大型在製造至組裝的所有工程中都不會產生網目線條彎 折等不良情形，亦即處理適性優。 一般構成前述網目部之網目的線條之線寬是一樣的 最好前述網目外周部係在從前述接地用框部向著前述 網目部的方向，包含1〜5 0個特別是1〜2 5個的網目。 或者最好前述網目外周部係在從前述接地用框部向著 前述網目部的方向，具有〇 · 1 5〜1 5 mm特別是0 · 3〜 7.5 m m的寬度。 而且最好構成前述網目外周部之網目的線條之線寬是 從網目部向著接地用框部而連續地放寬。或者最好構成前 述網目外周部之網目的線條之線寬是從網目邰向者接地用 框部而階段性地放寬。此時’處理適性極佳’會防止發生 彎曲、折痕’不會浪費高價位的零件。 而且最好前述金屬層之至少一方的面會黑化處理。此 時，網目本身變黑的緣故，亦不需要框緣狀黑色印刷的工 程，而且能長時維持顯示器畫像的良好辨識性（防止畫面 誤差）。而且此時在前述金屬層之至少黑化處理的面設置 防銹層爲佳。 _ 而且最好前述網目部及前述網目外周部之至少網目的 (5) 1253322 開口部是用樹脂塡充，而前述金屬層實際是平坦。此時， 埋設網目之開口部之凹凸的緣故，各種作業性提昇。 此時，前述樹脂係含有吸收波長5 7 0〜6 0 5 n m之可視 波段光的彩色校正用光線吸收劑及/或吸收波長8 0 0〜 Π 0 0 nm之近紅外波段光的近紅外線吸收劑爲佳。 而且最好在至少一方的面設有吸收波長570〜605nm 之可視波段光的彩色校正用光線吸收劑層及/或吸收波長 8 0 0〜1 100nm之近紅外波段光的近紅外線吸收劑層。 再者，本發明的電磁波遮蔽薄片可將其基材面設置在 PDP顯示器側。此時可減低電極的引出工數。 【實施方式】 [用以實施發明的最佳形態] 以下針對本發明的實施態參照圖面做詳細說明。 (整體構成） 第1圖係有關本發明之一實施形態的電磁波遮蔽用薄 片的平面圖。第2圖係模式表示本發明之一實施形態的電 磁波遮蔽用薄片之一部分的立體圖。 如第1圖所示，本發明之一實施形態的電磁波遮蔽用 薄片1係具備有：存在於內側中心部的網目部1 〇 3和存在 於最外周部的接地用框部1 01。接地用框部1 ο 1設置在顯 示器時會接志地。 於網目部1 0 3中，乃如第2圖所示，於基材1 1之一 -9- (6) 1253322 方的面透過接劑層1 3而積層導電材層！ 〇 9。該導電材層 1 〇 9係爲密集形成複數個開口部1 〇 5的網目狀。各網目是 藉由形成開口部1 〇 5的框之線條} 〇 7所構成。線條丨〇 7的 寬度稱爲線寬W，且線和線的間隔稱爲間距p。 (層之構成） 第3圖（A)係表示第2圖之a— A線斷面圖，第3圖 (B)係表不第2圖之B — B線斷面圖。第4圖係說明導電材 層之構成的斷面圖。 第3圖（A)係表示橫切開口部的斷面，且開口部1〇5 與線條1 0 7爲父互呈現。第3圖（B )係表示縱切線條1 〇 7 的斷面，且連續呈現由導電材層1 0 9所形成的線條1 〇 7。 導電材層1 〇 9係具有金屬層2 1，且至少在其觀察面側、 本實施形態是兩面進行黑化處理。以覆蓋該黑化處理之面 23A及/或23B的方式，設置防銹層25A及/或25B。防 銹層至少要設在黑化處理之面。 防銹層25A、25B具有金屬層21及其黑化處理之面 2 3 A、2 3 B的防銹機能，且也會防止黑化處理之面2 3 A、 2 3 B脫落。並於蝕刻加工金屬層2 1而形成網目之際，鄰 接於基材Π的防銹層2 5 A是藉由即使殘留在開口部1 〇 5 依加以蝕刻，防銹層2 5 A也是由腐蝕液來保護基材11及 接著劑層1 3。於金屬層2 1之另一方的面設置黑化處理之 面2 3 B及防銹層2 5 B係很隨意的。亦即，隨意在兩面設 置黑化處的面23A、23B及防銹層25A、25B。於是若至 •10- (7) 1253322 少在觀察側設置黑化處理之面及防銹層，以及在基材1 1 側全面（開口部、線條部一起）設置防銹層25 A爲佳。 (發明之重點） 本發明之電磁波遮蔽用薄片1係在網目部1 〇 3和接 地用框部1 0 1之間設置網目外周部1 04。網目外周部1 〇4 的網目之線條1 0 7的直線部之線寬W是從網目部1 0 3向 著接地用框部1 0 1而漸漸放大。 形成網目外周部1 04的區域係爲從接地用框部1 01的 內周向著網目部103爲1〜50網目或0.15〜15 mm左右， 較好爲1〜25網目或者0.3〜7.5 mm，更好爲3〜20網目 或1.5〜6.0mm的部分。 線寬係連續性（參考第6圖）或階段性（參考第1圖）地 放大。線寬爲階段性放大時，如第1圖也可一階段，但欲 有效分散應力的集中，兩階段以上爲佳。 網目外周部1 04的線條1 07之線寬W是從網目部1 〇3 向著接地用框1 01而漸漸放大，藉此從網目部到接地用框 部，剛度會慢慢地變化。亦即，於習知中，很極端的剛度 變化會大幅地緩和。藉此，從該電磁波遮蔽用薄片的製造 工程到對顯示器的組裝、組合工程之各工程中，處理適性 極佳。亦即，會防止產生彎曲、折痕，也會防止在接地用 框部和網目部的邊界部分等產生網目斷線，不會浪費高價 位的零件。 電漿顯示面板係以大型畫面爲特徵。因此，電磁波遮 -11 - (8) 1253322 蔽用薄片的大小（外形尺寸）例如有3 7型6 2 Ο x 8 3 0 m m程度 、4 2型5 8 0 x 9 8 0 m m程度，也有更大型的尺寸。因此，從 電磁波遮敝用薄片的製造工程到對顯示器的組裝·組合工 程的各工程中，處理適性極爲重要。習知的電磁波遮蔽用 薄片會在接地用框部和網目部的邊界部分斷線，或折曲彎 ，而浪費高價位的零件。 再者，本詳細說明書中，本發明的電磁波遮蔽用薄片 主要是說明利用於CRT、PDP等的顯示器，但本發明的電 磁波遮敝用溥片也可使用於從顯不器以外的裝置遮蔽電磁 波的用途。 (製造方法之槪略） 先準備一至少在觀察側設有黑化處理面及防銹層的導 電材層1 0 9。該導電材層1 0 9係在透明的薄膜狀之基材1 1 之一方的面透過接著劑層13而積層。然後在導電材層 1 09以網目圖形設置抗蝕劑層，且未利用抗蝕劑層被覆之 部分的導電材層1 09利用蝕刻除去，然後除去抗蝕劑層（ 所謂微縮法）。 本實施形態的電磁波遮蔽用薄片1係使用已存之陰罩 等的薄片狀構件之蝕刻設備所製造取得的。由於能連續施 行許多製造工程，故品質及良率高，而且生產效率也高。 以下針對本實施形態的電磁波遮蔽用薄片1之各層的 材料及形成方法做說明。 -12 - (9) 1253322 (導電材層） 本實施形態的電磁波遮蔽用薄片的導電材部1 〇 9係對 金屬層2 1的至少一方的面進行黑化處理而成爲黑化處理 面23A及/或23B，更對該黑化處理面23A及/或23B 上設有防銹層25A及/或25B。 導電材部1 〇 9是透過接著劑而與透明的薄膜狀基材 1 1積層。積層後，利用微縮法網目狀地加工導電材部1 〇 9 。配合需要，令金屬層平坦化，更配合需要而設有吸收特 定波長之可視光線及/或近紅外線的光線吸收劑層。 將此種導電材部1 09的電磁波遮蔽用薄片配置在顯示 器之前面的話，就能遮蔽由顯示器所產生的電磁波，一方 面，沒有網目的濃淡斑紋、黑或白之點狀線狀之缺陷極少 、具有適度的透明性，亦即能維持顯示在顯示器之畫像的 良好辨識。 電遮蔽磁波的導電材層1 0 9例如利用金、銀、銅、鐵 、氧化鋁、鎳、鉻等具有可充分遮蔽電磁波程度之導電性 的金屬層21。金屬層21不是單體，可爲合金或是多層。 金屬層2 1爲鐵的時候，以低碳沸騰鋼或低碳鋁（脫氧）鎭 靜鋼等之低碳鋼、Ni - Fe合金、因瓦合金爲佳。更進行 陰極真空鍍膜的時候，由電附著的容易度來看以銅或銅合 金箔爲佳。該銅箔可使用壓延銅箔、電解銅箔，但由厚度 均勻性、與黑化處理及/或鉻酸鹽（處理）層的密著性及可 1 Ομηι以下之薄膜化的觀點來看，以電解銅箔爲佳。 金屬層21的厚度爲1〜1〇〇 μ ηι左右，最好爲5〜 -13- (10) 1253322 2 0 μπι。此以下的厚度，雖然很容易利用微縮法進行網目 加工，但金屬的電阻値增加’電磁波遮蔽效果受損。一方 面，此以上無法獲得所希望之高精細的網目形狀，其結果 實際的開口率降低，光線透過率下降’甚至視角也會下降 ，畫像辨識性下降。 金屬層21的表面粗度爲Rz値以0.5〜ΙΟμηι爲佳。此 以下，即使黑化處理，還是會鏡面反射外光，畫像之辨識 性劣化。此以上，於塗佈接著劑或光阻劑等之際，無法遍 及表面全體，會產生氣泡。表面粗度Rz是以JIS— Β0601 爲基準所測定之1 0點的平均値。在此以下，即使黑化處 理還是會鏡面反射外光，而使畫像之辨識性劣化。在此以 上，於塗佈接著劑、光阻劑等之際，即不能對整個表面施 行又會產生氣泡。 (黑化處理） 爲了吸收射入至電磁波遮蔽用薄片1之網目部表面的 屋外日光、室內的電燈光等的外光，並提高顯示器之畫像 的辨識性’故對網目狀之導電材部1 09的觀察側施行黑化 處理。藉此增大反差感。 該黑化處理是將金屬層面進行粗化及/或黑化。具體 而言’可適用金屬氧化物、金屬硫化物之形成等的各種手 法。 鐵的時候，通常在蒸氣中以4 5 0〜4 7 0 °C左右的溫度 進行1 0〜2 0分鐘，形成1〜2 μ m左右的氧化膜（黑化膜）。 -14- (11) 1253322 或者也可藉由濃硝酸等的藥品處理而形成氧化膜（黑化膜） 〇 而銅箔的時候，以在由硫酸、硫酸銅及硫酸鈷等組成 的電解液中進行陰極電解處理，而進行附著陽離子性粒子 的陰極真空鍍膜爲佳。利用附著陽離子性粒子實現粗化的 同時可得到黑色。陽離子性粒子乃適用銅粒子、銅和其他 金屬的合金粒子，但最好是銅-鈷合金的粒子。 本詳細說明書中，係配合粗化處理及黑色化處理，而 將利用導電構件表面的光吸收之光反射的防止處理稱爲黑 化處理。 黑化處理的最佳黑濃度爲〇. 6以上。再者，黑濃度的 測定方法是用COLORCONTROLSYSTEM的GRETAG部 M100— 11(KIM〇T0公司製、商品名），觀察視角10度、 觀察光源D50、照明型式設定在「濃度標準AN SIT」，且 於白色校準後測定試 片。 而該黑化處理的光線反射率以5 %以下爲佳。光線反 射率係以JIS — K7105爲基準，使用霧度計HM150(村上色 彩公司製、商品名）進行測定。 (合金粒子） 前述陽離子性粒子適用銅粒子、銅和其他金屬的合金 粒子，但最好爲銅-鈷合金的粒子。 若用銅-鈷合金的粒子，黑化程度顯著提昇，還會良 好的吸收可視光。評估電磁波遮蔽用薄片之辨識性的光學 -15- (12) 1253322 特性是色調以J I s — Z 8 7 2 9爲基準的表色系「L *、a *、b < 、△ E *」來表現。該 「a *」及「b *」的絕對値小時’ 導電材部1 09即成爲非辨識性，畫像之反差感高，結果畫 像之辨識性優◦若用銅-鈷合金的粒子時，與銅粒子相比 ，「a*」及 「b*」大致上接近0。 而銅一鈷合金粒子的平均粒子徑以〇. 1〜1 μ m爲佳。 此以上，若銅一鈷合金粒子之粒子徑變大，金屬層2 1之 厚度就變薄，在與基材11積層的工程中’銅箔會切斷等 加工性惡化，而且密集粒子之外觀緻密度欠佳，斑紋狀醒 目。一方面，此以下的粒子徑，粗化不足的關係，因光吸 收的外光反射防止效果不足而畫像之辨識性變差。 (防銹層） 爲了防止對金屬層21及/或黑化處理面23A、23B 之防銹機能和黑化處理面之脫落或變形的功能，至少對具 有黑化處理面的金屬箔面設有防銹層2 5 A及/或2 5 B。該 防銹層2 5 A、2 5 B適用鎳及/或鋅及/或銅的氧化物，或 是鉻酸鹽處理層。鎳及/或鋅及/或銅之氧化物的形成可 爲公知的電鍍法。其厚度爲0.001〜Ιμηι左右，最好爲 0.001 〜Ο.ΐμπι。 (鉻酸鹽） 該鉻酸鹽處理係對被處理材塗佈鉻酸鹽處理液而進行 。該塗佈方法適用滾輪塗佈、簾幕式塗佈、擠壓塗佈、靜 -16- (13) 1253322 電霧化法、浸塗法等。塗佈後不用水洗只要乾燥即可。於 被處理材的單面施以鉻酸鹽處理的時候’係利用滾輪塗佈 等對該單面塗佈鉻酸鹽處理液，且兩面施行的時候可用浸 塗法取得。鉻酸鹽處理液通常是使用Cr02含有 3g/ 1的 水溶液。除此之外，於鉻酸酐水溶液中添加不同的羥酸化 合物，也可使用6價鉻的一部分還原爲3價鉻的鉻酸鹽處 理液。 根據6價鉻的附著量之多少，由淡黄色轉色成黄褐色 ，但3價鉻爲無色，只要管理在3價和6價鉻，即可得到 實用上不成問題的透明性。 羥酸化合物是單獨或一倂使用酒石酸、丙二酸、檸檬 酸、乳酸、葡糖酸、甘油酸、托品酸、二苯基乙醇酸、羥 基戊酸等而取得的。還原性因化合物而異的關係，添加量 是根據對3價鈷的還原性而決定。 具體而言，利用ARUSAHU- 1 000(日本BEINTO公司 製、鉻酸鹽處理劑商品名）、P Μ — 2 8 4 (日本 PAKARAIJINGU公司製、鉻酸鹽處理液商品名）等所取得 的。再者，對黑化處理面（層）施行鉻酸鹽處理的時候，加 上防銹效果，也會達到黑化處理強調效果。 黑化處理及防銹層設在觀察側時，反差提昇，而顯示 器之畫像的辨識性變佳。而其他方面，亦即設在顯示面側 時，會抑制由顯示器所產生的泛光，能更加提昇畫像的辨 識性。 -17- (14) 1253322 (基材） 基材1 1的材料只要是滿足使周條件、製造上的條件 之透明性、絕緣性、耐熱性、機械性強度等即可適用各種 材料。例如利用：聚乙烯對苯二甲酸酯、聚對苯二甲酸二 丁酯、聚奈二甲酸乙二醇酯、聚乙烯對苯二甲酸酯一間苯 二酸酯共聚物、對苯二甲酸一環己垸二甲醇一乙二醇共聚 物、聚乙烯對苯二甲酸酯/聚奈二甲酸乙二醇酯之共押出 薄膜等的聚酯系樹脂、尼龍6、尼龍6 6、尼龍6 1 0等之聚 醯胺系樹脂、聚丙烯、聚甲基戊烯等之聚鏈烯烴系樹脂、 聚氯乙烯基等之乙烯基系樹脂、聚丙烯酸酯、聚丙烯酸酯 、聚甲基丙烯酸甲酯等之丙烯酸系樹脂、聚醯亞胺、聚醯 胺醯亞胺、聚醚亞胺等之亞胺系樹脂、芳香族聚酯、聚礪 聚醚颯、聚氧化二甲苯、聚硫化二甲苯（P P S )、聚醯胺 、聚醚銅、聚醚腈、聚醚醚銅、聚醚硫化物等之工程樹脂 、聚碳酸酯、聚苯乙烯等之苯乙烯系樹脂等所取得。 該基材1 1係以該些樹脂爲主成份的共聚合樹脂，或 者也可爲混合體（包含合金）或由複數層所形成的積層體。 基材1 1可爲延伸薄膜，也可爲未延伸薄膜，但目的在於 提高強度，最好是用單軸向或雙軸向延伸的薄膜。該基材 11的厚度通常適用12〜1000 μηι左右，但50〜700 μιη很 適合，1 0 0〜5 0 〇 μ ni最適合。此以下的厚度，機械性強度 不足會發生彎曲或撓曲’此以上，造成性能過度也很浪費 成本。 該基材1 1係藉由由該些樹脂之至少一層所形成之薄 -18- (15) 1253322 膜、薄片、板狀等所形成，但該些形狀於本說明書中總稱 爲薄膜。通常聚乙烯對苯二甲酸酯、聚奈二甲酸乙二醇酷 等之聚酯系的薄膜，透明性、耐熱性佳，成本也很便宜很 適合使用。聚乙烯對苯二甲酸酯最適合。而透明性愈高愈 好，最好可視光線透過率爲8 0 %以上。 基材薄膜也可以在塗佈之前先對塗佈面施行電暈放電 處理、電漿處理、臭氧處理、圖框處理、底層塗料（也稱 結合層、接著促進劑、易接著劑）塗佈處理、預熱處理、 除塵挨處理、蒸鍍處理、鹼性處理等之易接著處理。該樹 脂薄膜配合需要也可加入塡充劑、可塑劑、靜電防止劑等 的添加劑。 (積層法） 基材1 1和導電材層1 0 9的積層（稱疊層）法是在基材 11或導電材層109之一方或兩方塗佈接著劑或粘著劑， 並配合需要加以乾燥，且加熱或不加熱的進行加壓。然後 可配合需要在30〜80°C的溫度下進行老化（熟化）。而且基 材11本身’或基材11是由複數層所形成時，與導電材層 1 09的積層面例如只要是離子鍵聚合物樹脂、乙烯—甲酸 乙細基共聚物、乙;)：希-丙烯酸共聚物、乙稀一丙稀酸醋共 聚物等之熱接著性的樹脂即可，只要在加熱下進行加壓。 此時，接著劑層1 3可省略。 而且可在基材1 1上利用無電解電鍍、無電解電鍍與 電知電鍍之倂用、蒸鍍等的手段，直接形成導電材層1 〇 9 **19- (16) 1253322 此時，也可省略接著劑層1 3。 (接著劑） 接著劑並末特別限定，但例如可利用丙烯酸樹脂、聚 酯樹脂、尿烷樹脂、氯乙烯-甲酸乙烯基共聚物樹脂等。 再者，使用利由鈾刻液引起染色或劣化少，加工適性良好 的熱硬化型樹脂，以該業者稱爲乾式層合法（也稱乾式疊 層）的方法爲佳。進而以紫外線（u V )等之電離輻射線硬化（ 反應）的UV硬化型樹脂亦佳。 (乾式疊層） 乾式層合法是指在內部塗佈分散或溶解接著劑的溶媒 ，並重疊而積層乾燥的貼合基材，且以3 0〜1 2 0 °c經數小 時〜數天的老化，使接著劑硬化，而積層兩種材料的方法 〇 亦可利用改良乾式層合法的無溶劑層合法。此乃重疊 並積層著塗佈不會分散或溶解於溶媒中的接著劑本身並加 以乾燥的貼合基材，且以3 0〜1 2 0 °C經數小時〜數天的老 化，使接著劑硬化，積層兩種材料的方法。 乾式層合法或無溶劑層合法所用的接著劑適用熱或紫 外線、電子線等之電離輻射線所硬化的接著劑。熱硬化接 著劑具體上適用雙液硬化型樹脂的接著劑例如聚酯尿烷系 樹脂、聚醚尿烷系樹脂、丙烯酸尿烷系樹脂等之尿烷系接 著劑、丙烯酸系接著劑、聚酯系接著劑、聚醯胺系接著劑 -20- (17) 1253322 、聚甲酸乙烯基系接著劑、環氧系接著劑、橡膠系接著劑 等，但雙液硬化型尿烷系接著劑最適合。 雙液硬化型尿烷系樹脂具體上例如可用經由多官能異 氰酸酯基和羥基含有化合物（多元醇）之反應所獲得的聚合 物。具體上例如多官能異氰酸酯基可使用二異氰酸甲苯酯 、二異氰酸二苯甲烷、聚甲撐、聚苯撐、聚異氰酸酯、異 佛爾酮、二異氰酸酯等之芳香族（乃至油環式）聚異氰酸酯 ，或是六亞甲基二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯、異佛 爾酮二異氰酸酯等之脂肪族（乃至脂環式）聚異氰酸酯等之 多官能異氰酸酯基等。該聚異氰酸酯也可使用前述異氰酸 酯之多聚物（三聚物等）、附加物。而羥基含有化合物乃使 用聚醚系多元醇、聚酯系多元醇、聚丙烯酸多元醇等之羥 基含有化合物。可使用經由該些多官能異氰酸酯基和羥基 含有化合物的反應所獲得的雙液型尿烷系樹脂。 最好是使用不會因蝕刻液染色、無劣化的苯乙烯-馬 來酸共聚合物，並配合變性的聚酯、聚氨酯和脂肪族聚異 氰酸酯的接著劑。 乾式層合法是將以該些爲主成份的接著劑組成物溶解 或分散於有機溶媒中，將此藉由例如以滾輪塗佈、逆滾輪 塗佈、凹版塗佈、反凹版塗佈、凹版偏塗、密接塗佈、線 條塗佈、針點塗佈、刮刀塗佈、浸塗、流塗、噴塗等之塗 佈法塗佈在基材，且乾燥溶劑等，而形成本發明的層合用 接著層。最好是用滾輪塗佈或正逆轉塗佈法。 接著層膜厚在乾燥狀態爲0.1〜20μιη左右，最好爲1 -21 - (18) 1253322 〜1 Ο μ m。形成該接著層的話，立刻積層貼合基材，以3 Ο 〜1 2 0 °C經數小時-數天的老化，使接著劑硬化。藉此接 著基材。接著劑的塗佈面爲基材側、導電材部側均可。最 好爲粗化的銅箔側。此時，接著劑對整個粗面進行，會抑 制產生氣泡。 無溶劑層合法基本上與乾式層合法相同，但不將接著 劑組成物溶解或分散於有機溶媒中，而這樣用。但也有配 合需要爲了降低粘度可將接者劑組成物加熱加溫的情形。 (粘著劑） 粘著劑適用利用公知感壓加以接著的粘著劑。粘著劑 並未特特別限定，例如適用天然橡膠系、異丁烯橡膠、聚 異戊二烯、聚異丁烯、聚氯丁二烯、苯乙烯一丁二烯共聚 合樹脂等之合成橡膠系樹脂、二狒基丁二酸等之矽系樹 脂、丙烯酸系樹脂、聚甲酸乙烯基 乙烯-甲酸乙烯基共 聚物等之甲酸乙烯基系樹脂、尿烷系樹脂、丙烯腈、烴樹 脂、烷基酚醛樹脂、松香、松香三甘油酯、氫化松香等之 松香系樹脂。 (橡膠系粘著劑） 在此，橡膠系粘著劑是在氯丁二烯橡膠、腈基丁二烯 橡膠、丙烯酸橡膠、苯乙烯-丁二烯合成橡膠、苯乙烯-異戊二烯一苯乙烯、苯乙烯一丁二烯一苯乙烯、苯乙烯一 乙烯一丁二烯一苯乙烯、丁基橡膠、聚異丁烯橡膠、天然 -22- (19) 1253322 橡膠、聚異戊二烯橡膠等的粘著橡膠之一或複數配合苯酣 系樹脂，變性苯酚樹脂，酮類樹脂，醇酸樹脂、松香系樹 脂、香豆酮樹脂、苯乙烯系樹脂、石油樹脂、氯乙烯系樹 1 月曰等之配合增粘劑之一或複數就很有效。 . 橡膠系粘著劑與丙烯酸系接著材料相比，耐藥性、耐 潤丨生、耐溫度性、粘著性及剝離強度優。因而，即使接 著部分曝露於酸性或鹼性物質中，也不會剝離。而橡膠系 粘著材料在酸性或鹼性的藥液中幾乎不會產生加水分解， · 粘著壽命長。 (粘著劑層的形成） 該些樹脂或該些混合物爲膠乳、水分散液或是有機溶 媒液’利用網版印刷或是針點塗佈等之公知印刷或塗佈法 ’印刷或塗佈在一方的材料。該材料配合需要而乾燥後， 與另一方的材料重疊加壓即可。 (捲繞滾筒起的加工） 第5圖（A)及第5圖（B)係爲說明捲繞滾筒之加工的平 面圖及側面圖。詳細而言，第5圖（A)爲平面圖，從捲繞 滾筒至鬆開而伸張的狀態，電磁波遮蔽用薄片1是以一定 間隔面對面貼合。第5圖（B )爲側面圖，從捲繞滾筒至鬆 開而伸張的狀態，導電材層1 0 9是積層在基材1 1。 具體的積層方法是先在從捲繞滾筒伸張的導電材層 . 1 〇 9，形成上述之黑化處理面及防銹層。並對防銹層塗佈 -23- (20) 1253322 接著劑乾燥之後，重合基材1 1並加壓即可。更配合需要 ’以3 0〜8 0 °C的環境.經數小時〜數天的老化（熟化、硬化） ’再捲繞滾筒狀地捲繞。 (微縮法） 對前述積層體的導電材層面以網目圖案狀設置光阻層 ’未覆蓋光阻層之部分的導電材層利用蝕刻除去，然後除 去光阻層（微縮法）。藉此，導電材層成爲網目狀。 如前所述，基材1 1和導電材層1 〇 9的積層體之導電 材層1 0 9是利用微縮法成爲網目狀。此工程也以帶狀連續 捲繞的浪筒狀加工積層體。亦即，一邊連續或間歇性搬送 該積層體一邊緩緩伸張的狀態，施行掩蔽、蝕刻、剝離光 阻劑的各處理。 (掩蔽） 例如將感光性光阻劑塗佈至導電材層1 Q 9上。然後乾 燥’利用預定的圖案（網目的線條部）版（光罩）加以密著曝 光，且進行水顯影，施以硬膜處理等，加以烘乾。 光阻劑的塗佈是一邊連續或間歇性搬送伸張之帶狀積 層體（基材1 1和導電材層1 0 9) —邊對該導電材層1 0 9面利 用浸塗（浸漬）簾幕式、驅流等之方法塗佈酪蛋白、P V A、 白明膠等之光阻劑。而取代塗佈光阻劑也可用乾式薄膜光 阻劑。此時，可提高作業性。烘乾是在酪蛋白光阻劑時以 2 00〜3 0 0 °C進行。但此溫度爲了防止積層體彎曲，儘量低 -24 - 1253322 (21) 溫爲佳I。 (蝕刻） 掩蔽後進行蝕刻。用於該蝕刻的蝕刻液以能夠在連續 蝕刻的本發明中很容易循環使用的氯化二鐵、氯化銅之溶 液爲佳。而該蝕刻工程基本上是與蝕刻帶狀連續的鋼材特 別是厚度2 0〜8 Ο μηι的薄板之製造彩色顯像管用的陰罩之 工程相同的工程。因而，爲了該陰罩的製造挪用既存的設 備’由掩蔽至蝕刻一貫作業連續生產，效率極佳。蝕刻後 進行水洗、利用鹼性液剝離光阻劑，洗淨，然後乾燥。 (網目） 網目部1 0 3是由利用線條1 0 7圍繞的複數個開口部 1 〇 5所形成。開口部1 0 5的形狀未特別限定，例如適用正 三角形、兩等邊三角形等的三角形、正方形、長方形、菱 形、梯形等的四角形、五角形、六角形（龜甲形）、八角形 等的多角形、圓形、橢圓形等。將該些開口部以複數個組 合成網目。 由開口率、網目之非辨識性及畫像辨識性來看，是以 網目部1 03之線條1 07的直線部的寬度W (參考第2圖） 爲預定値±30%之範圍內。而連結與透明基板正交的線條 切斷面形狀的上底和下底的土堤側面部之曲率半徑爲前述 導電材層之厚度的1.5〜3.0倍。最好網目部103的線寬 W是從5〜2 5 μηι之範圍內所選出的預定値，線條間的間 -25- (22) 1253322 距是從1 5 0〜5 Ο 〇 μηΊ之範圍內所選出的預定値。而在網目 部1 0 3的外周，構成網目外周部1 〇 4的1〜5 0網目的部分 或0 · 1 5〜1 5 m m的部分，如後所述會向著接地用外框1 〇 1 方向而漸漸放大線寬。 通常在大型電漿顯示面板用的電磁波遮蔽用薄片形成 數千條以上的直線線條，並且各自交叉。抑制該線條之線 寬的誤差，且加上限定連結線切斷面之形狀的上底和下底 的土堤側面部之曲率半徑，並具有電磁波遮蔽性和適度的 透明性，網目之濃淡斑紋減少，黑和白之點狀及線狀缺陷 少，且顯示光之誤差少，外光的反射亦少，可得到具有優 異畫像之辨識性的電磁波遮蔽用薄片1。 該線寬之誤差例如第2圖中的線寬W爲1 4 μ m的話， \ν=14±4.2μηι，範圍爲W=9.8〜8.2μιη，只要在該範圍內 就不會產生網目之濃淡斑紋、黑及/或白之點狀及線狀的 缺陷。如果線寬有寬窄的話，網目會形成濃淡斑紋。而寬 窄大時，由人觀察顯示器畫像之際，寬部分會有黑點缺陷 ，窄部分會有白點缺陷。對整個畫像而言，有洞和白點及 /或黑點的話，會對人產生極強烈的不舒適感。 但按照本發明之電磁波遮蔽用薄片，利用連續微縮法 加以製造，且線寬之誤差爲預定的範圍，網目之濃淡斑紋 發生極少，且對電磁波遮蔽性及透明性就不會有問題。而 網目之濃淡斑紋或黑及/或白之點狀及線狀的缺陷，於塗 佈光阻劑時，即使發生光阻液的飛沬附著在不要的部分’ 還是能用連續微縮法加以製造極爲理想。 -26- (23) 1253322 而線寬的控制形態乃與網目部1 Ο 3和網目外周部1 Ο 4 相異。網目外周部1 〇 4的線條1 〇 7之直線部的線寬W是 以向著接地用框部1 〇 1漸漸放大的方式所控制。 網目外周部1 (Η係以圍繞網目部1 0 3的方式位於網目 部1 〇 3和接地用框部1 0 1之間。亦即，從接地用框部1 〇 1 之內周向著網目部1 〇 3的中心部之1〜5 0網目部分或Ο · 1 5 〜1 5mm部分左較好爲1〜25網目部分，或者0.3〜7.5mm 部分更好爲3〜20網目部分，或1 .5〜6.0mm部分成爲網 目外周部1 〇 4。 網目外周部1 04爲具有此以上之區域時，顯示器的周 邊會辨識到< 2取9狀的框，而感到畫像很小，而且畫像 辨識性降低。一方面，網目外周部1 04只有未滿此之區域 時，網目的線條剛度變化依然太過急遽，會發生線條彎曲 等等。再者，線寬漸漸放寬的形態，整個複數個開口部 1 〇5 (格）可連續地放寬，或者開口部105 (格）可毎階段性地 放寬。 第6圖係本實施形態之網目外周部1 〇4的部分放大平 面圖。網目部1 03的預定線條部1 07之線寬爲W，向著接 地用框部101而成形網目外周部104之線寬W卜W2、W3 、〜、Wi、〜、\^11爲 W<W1<W2<W3< 〜<Wi<〜< Wn。 線寬在連續性漸漸放寬的形態下，各線寬W、W1、 W 2、W 3、W11會連續放寬。亦即，例如對應於一格的線 寬W i (i = 1.....η)本身會漸漸放寬。 (24) 1253322 一方面，線寬在階段性放寬的形態下，例如對應於一 格的線寬W η本身爲同寬。此時放寬的段數爲1以上，但 最好爲2以上，會多段性分散集中在網目部〗〇 3周緣的應 力。例如第6圖之例係η = 5，以一格爲單位而階段性放寬 的情形。而線寬放寬的形態不需要共同在全部的線條改變 ，可於每一線條改變W1、W 2、W 3、W η ◦ 實現此種漸漸放寬之線寬的方法可將在導電材層1 0 9 上貼合乾式光阻劑，或塗佈感光性光阻劑並乾燥後對於密 著曝光的圖案版上之圖案，變更爲那樣之所希望的圖案。 圖案版是相當於該業者所稱的製版薄膜，且感光性光阻劑 爲負型（硬化並保留曝光部）時，相當於開口部1 05的部分 爲不透明，而相當於線條1 0 7的部分爲透明的製版薄膜（ 線條的負型薄膜）。感光性光阻劑爲正型（保留未露出部） 時’製版薄膜爲正型薄膜。於該圖案版中，將相當於線條 之部分的寬度，對應於網目部1 0 3的區域爲預定的線寬W ，且對應其周緣的網目外周部1 04的區域可爲向著接地用 框部1 〇 1漸漸形成（W < ) W 1 < W 2 < W 3 <〜< W η。 而且線條爲電磁波遮蔽用薄片之端部的邊（下部面）之 偏斜角係在第1圖之例中爲45度，但並不限於此，爲了 解除波紋，加進顯示器之畫素、發光特性而適當選即可。 (平坦化） 一旦形成網目，網目的線條1 07即有導電材層的厚度 ，但開口部1 0 5係除去導電材層而形成凹部、亦即，導電 -28- (25) 1253322 材部1 〇 9爲凹凸狀態。在下一個工程塗佈接著劑或粘著劑 時，前述凹凸是利用該接著劑等埋平。但此時該凹部的空 氣無法完全置換爲接著劑，易殘留氣泡。一旦殘留氣泡， 在氣泡和接著劑的的界面會散射光線，霧度（模糊度）升高 。爲防止此問題，最好在接著之前，事先利用透明樹脂塡 充平坦化該凹部爲佳。 平坦化是將透明樹脂塗佈並埋入至凹部，但透明樹脂 並未深入到凹部各角落的話，會殘留氣泡，使透明性劣化 。因此’透過樹脂要利用溶劑等加以稀釋並以低粘度塗佈 且乾燥’或一邊脫除空氣一邊塗佈。如以上，形成平坦化 層29(參考第7圖或第3圖）。 平坦化層2 9只要是透明性高、與網目的導電材之接 著性佳’且與下一個工程的接著劑之接著性佳即可。但在 平坦化層2 9的表面有突起、凹痕、斑紋的話，電磁波遮 蔽薄片1設置在顯示器前面時，易產生雲紋、干擾斑紋、 牛頓環很不理想。最好的方法是在塗佈的樹脂爲熱硬化性 樹脂或紫外線硬化樹脂之後，積層平面性優1剝離性的基 材，且先前塗佈的樹脂利用熱或紫外線使之硬化，並剝離 除去剝離性基材。此時，在平坦化層2 9的表面就會轉印 出平面性基材的表面，而形成平滑面。 用於形成平坦化層2 9的樹脂並不特別限定，適用各 種天然或合成樹脂、熱硬化樹脂或電離輻射線硬化樹脂等 。但由樹脂的耐久性、塗佈性、易平坦化度、平面性等來 看，以丙烯酸系的紫外線硬化樹脂最適合。 -29- (26) 1253322 (N I R吸收層） 甚至，用於形成平坦化層2 9的樹脂中可添加吸收可 視及/或近紅外線之特定波長的光線吸收劑。吸收可視及 /或近紅外線之特定波長，可抑制不適感’且畫像辨識性 提升。在此，近紅外線的特定波長是指7 8 0〜2 0 〇 nm左右 ，特別是8 0 0〜1 0 0 n m左右的波段。希望吸收7 8 0〜 1 0 0 0 n m之波長範圍之8 0 %以上。 近紅外線吸收劑（NIR吸收劑）並未特別限定，但會在 近紅外線波段急遽的吸收，可視光波段380〜7 8 0 nm的光 透過性提高，且可視光波段適用不會大量吸收特定波長的 顏料等。 而且由PDP發光的可視光通常爲氖原子之發射光譜 的橘色具多的緣故，畫像的色調會自天然色轉變爲橘色 。添加具有某種程度吸收波長5 70〜6 0 5 nm附近的彩色校 正用光線吸收劑爲佳。 近紅外線吸收劑具有：菁系化合物、 菁系化合物、 萘 菁系化合物、萘醌系化合物吸收、蒽醌系化合物、二 硫系配位化合物、亞銨化合物、二異銨系化合物等。 彩色校正用光線吸收劑是用 菁系化合物等。 (NIR吸收層） 取代對平坦化層2 9添加NIR吸收劑，對至少一方的 面設置具有NI R吸收劑的別層（稱N IR吸收層）亦可。 NIR吸收層是向著平坦化層29側及/或反相側之基 (27) 1253322 材1 1側設。設在平坦化層2 9時，爲第3圖所示的NIR 吸收層3 ] B，設在基材1 1側時，爲第3圖所示的NIR吸 收層3 1 A。NIR吸收層3 1B及NIR吸收層3 1 A是適用接 著劑積層具有NIR吸收劑之市販薄膜（例如東洋紡績公司 製、商品名No 2 8 3 2 )，或使NIR吸收劑含有黏合劑並加以 塗佈亦可。黏合劑適用聚酯樹脂、聚氨酯樹脂、丙烯酸樹 脂和利用以熱或紫外線等硬化的環氧、丙烯酸酯、丙烯酸 甲酯、異氰酸酯基等之反應的硬化型等。而連彩色校正用 光線吸收劑也同樣地，形成有別於平坦化層2 9的別層而 積層。 (AR 層） 進而，圖未示，但對電磁波遮蔽用薄片之觀察側設置 反射防止層（稱AR層）亦可。反射防止層是爲了防止可視 光線的反射，其構成多半以單層、多層的各種層在市面販 賣。多層是交積層高折射率層和低折射率層。高折射率層 保爲氧化§尼、氧化欽、氧化錯、IT 0等。低折射率層係爲 矽氧化物、氟化鎂等。並具有亂反射外光之微細凹凸表面 之層的反射防止層。 (硬塗層、防污層、防眩光層） 更可加在反射防止（AR)層，而設置硬塗層、防污層、 防眩光層。硬塗層爲具有JI S — K 5 4 0 0之鉛筆硬度試驗Η 以上之硬度的層，並利用熱或電離輻射線使聚酯、丙烯酸 -31 - (28) 1253322 酯、尿烷丙烯酸酯、環氧丙烯酸酯等之多官能丙烯酸酯硬 化。防污層爲排水性、排油性的塗層，適用矽氧烷系、氟 化烷基甲矽烷化合物等。防眩光層爲具有亂反射外光之微 細凹凸表面的層。 (薄片化） 如上，切斷以連續帶狀之狀態所製造的積層構件，得 到一'片片的電fe波遮敝用溥片1。將該電磁波遮蔽用薄片 1貼固至玻璃等之透明基板。配合需要與N I R吸收層、 AR層、硬塗層、防污層、防眩光層組合而成爲顯示器前 面板。 前述基板乃於大型顯示器用，使用具有厚度1〜 1 Omm之足夠的剛性。並於顯字管等之小型顯示器上使用 厚度0 · 0 1〜0.5 mm的塑膠薄膜。亦即，可配合顯示器的 大小、用途，適當選擇前述基板。在此一旦電磁波遮蔽用 薄片1作爲顯示器前面板而組合後，設置在顯示器的前面 。因此，基材1 1側即成爲觀察側。但電磁波遮蔽薄片1 也可直接貼固在顯示器的前面。 (直接貼着） 第7圖乃爲貼固在顯示器面的本發明之電磁波遮蔽用 薄片的斷面圖。此時，成爲網目狀的金屬箔側屬於觀察側 ，在金屬箔的兩個依序設有黑化處理面和防銹層。此時， 接地用框部1 0 1露出於表面’極易拉出電極，接地很容易 •32 - (29) 1253322 。而且該接地用框部1 Ο 1被黑化處理的黑面成爲觀察側的 關係’不需要框緣狀的.實施於前面玻璃板的黑色印刷，能 縮短工程·，對成本方面也很有利。 (實施例） 導電材是在表面施行藉由平均粒子徑0.3 μΓΠ的銅-鈷 合金粒子所形成的黑化處理，更使用附加藉由鉻酸鹽（處 理）製成的防銹兼黑化處理層的厚度1 0 μηι之電解金屬箔。 該導電材的鉻酸鹽（處理）層和厚度爲ΙΟΟμπι的雙軸延伸聚 乙烯對苯二甲酸酯（PET)薄膜Α4 3 0 0 (東洋紡績公司製、商 品名）利用雙液硬化型聚氨酯系接著劑疊層，然後以5 6 °C 經四天老化。接著劑是使用由多元醇製成的主劑 TAKE RAKU — A - 3 1 0和由聚異氰酸酯基製成的硬化劑A - 1〇(均爲武田藥品工業公司製、商品名），塗佈量以乾燥 後的厚度形成7 μ m。 利用微縮法的網目形成是挪用針對連續帶狀的構件從 掩蔽進行到蝕刻之彩色TV陰罩用的製造線條。具體而言 ，首先，導電材層面的全體利用驅流法塗佈由酪蛋白製成 的感光性光阻劑。其次，該導電材層向下一個工作站搬送 ，且使用具有下述形成之圓案版及高壓水銀燈進行密著曝 光。然得，導電材層係一邊一個接一個的搬送至工作站~ 邊進行水顯影、硬膜處理，更以1 00 °c進行烘乾處理。 上述圖案版的形狀，於網目部中，開口部爲正方形， 線寬22μηι、線條間隔（間距）爲3 0 0 μη、偏斜角度爲49度 -33- (30) 1253322 ，而於5 mm寬度的網目外周部，在從線寬22μη1向著接地 用框部連續地增加且與接地用框部接合的部分爲40 μηι， 接地用框部（接地部）的寬度爲5 m m的形狀。 導電材層更往下一個工作站搬送，且蝕刻液是將液溫 40 °C、4 0°玻美度的氯化二鐵溶液利用噴霧法噴塗藉此進 行蝕刻’形成開口部。然後，導電材層一邊一個接一個的 搬送至工作站一邊進行水洗、剝離光阻劑、洗淨，更以 1 0 0 °c加以乾燥。藉此得到實施例i的電磁波遮蔽用薄片 (比較例1) 圖案版的形狀’於網目部及網目外周部，開口部爲正 方形、線寬至接地用框部止爲相同2 2 μηι、線條間隔（間距 )爲3 0 0 μ m、偏斜角度爲4 9度，除此以外，與實施例1同 樣的。藉此得到比較例1的電磁波遮蔽用薄片。 (實施例2) 往實施例1的網目部及網目外周部塗佈下述組成的平 坦化層組成物’並塡充開口部凹部。然後疊層厚度5 0 μηι 的SP— ΡΕΤ20— BU (TOSERO公司製、表面分離型處理 PET薄膜商品名），且用高壓水銀燈進行2 0 0mj/ cm2的曝 光（換算3 6 5 nm)。而且剝離SP — PET20— BU的話，即可 得到網目部及網目外周部平坦化的實施例2之電磁波遮蔽 用薄片。該電磁波遮蔽用薄片具有與實施例1同樣的性能 -34 - (31) 1253322 平坦化層組成物是用N —乙烯基—2 —吡略烷酮2 〇質 量部、雙環戊烯基丙烯酸酯2 5質量部、低聚酯丙烯酸酯（ 東亞合成（股）製、Μ — 8 0 6 0 ) 5 2質量部、1 —羥基環己基異 氰酸酮（CHIBAGAIGI公司製、IRUGAKYUA184)3質量部 (實施例3 ) 於實施例2之平坦化層組成物含有作爲近紅外線吸收 劑之硫醇-鎳配位化合物1質量部。除此以外，與實施例 2同樣的可得到實施例3的電磁波遮蔽用薄片。該電磁波 遮蔽用薄片係具有與實施例1同樣的性能，且顯示器畫像 的辨識性更優。 (實施例4) 對實施例2的平坦化層面利用粘著劑積層NIR薄膜 N 0 2 8 3 2 (東洋紡績公司製、近紅外線吸收薄膜商品名），除 此以外，與實施例2同樣的可得到實施例4的電磁波遮蔽 用薄片。該電磁波遮蔽用薄片係具有與實施例1同樣的性 能，且顯不器畫像的辨識性更優。 (實施例5) 上述圖案版的形狀，於網目部中，開口部爲正方形、 線條寬度爲、線條間隔（間距）爲2 5 0μπι、偏斜角度 -35 - (32) 1253322 爲6 0度，於5 m m寬度的網目外周部中，線寬從2 Ο μ m向 著接地用框部連續地增加且與接地用框部接合的部分爲 2 6 μηι以外，其餘與實施例1同樣的。藉此可得到實施例 5的電磁波遮敝用薄片。 (實施例6) 上述圖案版的形狀，於網目部中，開口部爲正方形、 線寬爲2 Ο μπι、線條間隔（間距）爲2 5 Ο μιη、偏斜角度爲6 0 度，於3mm寬度的網目外周部中，線寬從20μηι向著接地 用框部連續性地增加且與接地用框部接合的部分爲2 6 μπι 以外，其餘與實施例1同樣的。藉此可得到實施例6的電 磁波遮蔽用薄片。 (實施例7 ) 上述圖案版的形狀，於網目部中，開口部爲正方形、 線寬爲20μιη、線條間隔（間距）爲300μπι、偏斜角度爲49 度，於2 5網目部分的網目外周部中，線寬從2 Ο μιη向著 接地用框部每一格1 . 〇 μπι階段地增加且與接地用框部接合 的部分爲4 5 μΐΉ以外，其餘與實施例1同樣的。藉此可得 到實施例7的電磁波遮蔽用薄片。 (實施例8 ) 上述圖案版的形狀，於網目部中，開口部爲正方形、 線寬爲2 Ο μ m、線條間隔（間距）爲3 Ο Ο μ m、偏斜角度爲4 9 (33) 1253322 度’於5網目部分的網目外周部中’線寬從20μηι向著接 地用框部每一格1 . Ο μ m階段地增加且與接地用框部接合的 部分爲3 5 μ m以外，其餘與實施例1同樣的。藉此可得到 實施例8的電磁波遮蔽用薄片。 (實施例9 ) 在與利用銅-鈷合金粒子的黑化處理面及鉻酸鹽（處 理）層相反的面疊層PET薄膜。除此以外，與實施例2同 樣的。藉此得到實施例9的電磁波遮蔽用薄片。 (結果） 實施例1中，使用像如網目部的線寬爲22 μηα的光阻 劑圖案版，但蝕刻後的實際網目部的線寬爲7.7μιη 。進 而蝕刻後的實際網目外周部的線寬係與網目部接合的部分 爲7.7 μιη，而接合於接地用框部的部分爲1 7.9 μηι。 比較例1中，蝕刻後的實際網目部的線寬係從與網目 部接合的部分至接合的接地用框部的正前面的部分爲 1 0.6 μπι，但接合於接地用框部的部分爲5 . Ο μηι的話，誤差 很大。 而針對實施例1及比較例1的電磁波遮蔽用薄片各 1 0 0片，於實施例2依序形成平坦化層。其結果，實施例 1之1 0 〇片並無異常，形成平坦化層，但比較例1發生兩 片斷線，良率低。 進而，實施例1及比較例1的電磁波遮蔽用薄片各 -37- (34) 3々2 1 Q 0片，組裝至P D p面板。其結果，實施例1之1 〇 〇片並 &輕常的組裝，但比較例1發生一片彎曲，一片發生斷線 鸟率低。 再者，在前面板加工實施例1〜實施例8及比較例1 % %磁波遮蔽用薄片，並設置在P D Ρ顯示器的前面，顯 $ _像並評估辨識性時，無論那一個辨識性都很良好。 而且將實施例9的電磁波遮蔽用薄片的基材面利用粘 #劑設置在PDP顯示器時，也沒有誤差，畫像辨識性良 #，進而電極的拉出工數也減少，也不需要框緣狀的黑印 袖J。 〔1®式簡單說明】 第1圖係爲本發明之一實施形態的電磁波遮蔽用薄片 的平面圖。 第2圖係模式性表示本發明之一實施形態的電磁波遮 蔽用薄片之一部分的立體圖。 第3圖（Α)係爲第2圖的A - Α線斷面圖，第3圖（Β) 係爲第2圖的B — B線斷面圖。 第4圖係說明導電材層之構成的斷面圖。 第5圖（A)係說明捲繞滾筒起的加工之平面圖，第 5圖（B )係爲同側面圖。 第6圖係本發明之一實施形態的網目外周部之一部 分的放大平面圖。 第7圖係貼著至顯示器面的本發明之一實施形態的 -38- (35) 1253322 電磁波遮蔽用薄片的斷面圖。 〔圖號說明〕

L電磁波遮蔽用薄片 1 〇 3 :網目部 1 0 1 :接地用框部 1 0 7 :線條 1 3 :接著劑層 1 0 9 :導電材層 1 0 5 :開口部 2 1 :金屬層

23 A ^ 23B:黑化處理面 2 5 A、2 5 B :防銹層 1 07U:上底 1 07B:下底 1 〇 7 S : 土堤側面部 1 1 :基材 2 9 :平坦化層 3 1 A : N IR吸收層 3 1 B : N IR吸收層

Claims (1)

1253322 ⑴ 拾、申請專利範圍 1、 一種電磁波遮蔽用薄片，其特徵爲： 具備有： 透明基材、 和積層在前述透明基材之一方的面的金屬層； 且前述金屬層係具有網目狀的網目部、和圍繞前述網 目部的網目狀的網目外周部、和圍繞前述網目外周部的接 地用框部； 構成前述網目外周部的網目之線條的線寬係從網目 部向著接地用框部漸漸放寬。 2、 如申請專利範圍第1項所記載的電磁波遮蔽用薄 片，其中，構成前述網目部的網目之線條的線寬是一樣的 〇 3、 如申請專利範圍第1項或第2項所記載的電磁波 遮蔽用薄片，其中，前述網目外周部係在從前述接地用框 部向著前述網目部的方向，包括1〜5 0個的網目。 4、 如申請專利範圍第1項或第2項所記載的電磁波 遮蔽用薄片，其中，前述網目外周部係於從前述接地用框 部向著前述網目部的方向，具有0 . 1 5〜1 5 的寬度。 5、 如申請專利範圍第3項所記載的電磁波遮蔽用薄 片，其中，前述網目外周部係在從刖述接地用框部向著前 述網目部的方向，包括1〜2 5個的網目。 6、 如申請專利範圍第4項所記載的電磁波遮蔽用薄 片，其中，前述網目外周部係在從則述接地用框部向著前 -40 - (2) 1253322 述網目部的方向’具有Ο . 3〜7.5 m m的寬度。 7、 如申請專利範圍第1項或第2項所記載的電磁波 遮蔽用薄片’其中’構成前述網目外周部之網目的線條之 線寬係從網目部向著接地用框部而連續地放寬。 8、 如申請專利範圍第1項或第2項所記載的電磁波 遮蔽用薄片’其中’構成前述網目外周部之網目的線條之 線寬係從網目部向著接地用框部而階段性地放寬。 9、 如申請專利範圍第1項或第2項所記載的電磁波 遮蔽用薄片’其中’前述金屬層之至少一方的面會黑化處 理。 1 〇、如申請專利範圍第9項所記載的電磁波遮蔽用薄 片，其中，在前述金屬層之至少黑化處理的面設置防銹層 〇 1 1、如申請專利範圍第1項或第2項所記載的電磁波 遮蔽用薄片’其中，前述網目部及前述網目外周部之至少 網目的開口部是用樹脂塡充，而前述金屬層實際上是平坦 化。 1 2、如申請專利範圍第1 1項所記載的電磁波遮蔽用 薄片，其中’ _述樹脂係含有吸數波長570〜605nm之可 視波段光的彩色校正用光線吸收劑及/或吸收波長8 0 0〜 1 1 0 0 nm之近紅外波段光的近紅外線吸收劑。 1 3、如申請專利範圍第1 1項所記載的電磁波遮蔽用 薄片，其中，在至少一方之面設有吸收波長570〜605nm 之可視波段光的彩色校正用光線吸收劑層及/或吸數波長 -41 - (3)1253322 8 0 0〜 1 1 〇 〇 n m之近紅外波段光的近紅外線吸收劑層。

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