JP2000183585A - 電磁波遮蔽フィルタ - Google Patents
電磁波遮蔽フィルタInfo
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- JP2000183585A JP2000183585A JP10359664A JP35966498A JP2000183585A JP 2000183585 A JP2000183585 A JP 2000183585A JP 10359664 A JP10359664 A JP 10359664A JP 35966498 A JP35966498 A JP 35966498A JP 2000183585 A JP2000183585 A JP 2000183585A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 電磁波を十分に遮蔽することが可能でかつ高
い光透過率を有する電磁波遮蔽フィルタを提供する。 【解決手段】 電磁波遮蔽フィルタ各部位の開口率を調
整する。特に発光手段より発生される電磁波の量が部位
により異なる場合に、その電磁波の量に対応して電磁波
遮蔽フィルタ各部の開口率を調整する。
い光透過率を有する電磁波遮蔽フィルタを提供する。 【解決手段】 電磁波遮蔽フィルタ各部位の開口率を調
整する。特に発光手段より発生される電磁波の量が部位
により異なる場合に、その電磁波の量に対応して電磁波
遮蔽フィルタ各部の開口率を調整する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネル等、光とともに電磁波を発生する装置の前面
に配置される電磁波遮蔽フィルタに関する。
レイパネル等、光とともに電磁波を発生する装置の前面
に配置される電磁波遮蔽フィルタに関する。
【０００２】
【従来の技術】プラズマディスプレイパネル等、光とと
もに電磁波を発生する装置に対しては、その前面に電磁
波遮蔽フィルタを配置し、他の機器及び人体への悪影響
を抑制することがすでに一般化している。このような電
磁波遮蔽フィルタは、例えば実公昭６４−４４６９７号
公報等に開示されているように透明樹脂あるいはガラス
等透明基板に対して金属等電磁波遮蔽部材によるメッシ
ュを配した構造、あるいは特開平−１４８７８１号公報
に開示されているように２枚の透明基板の間に金属等電
磁波遮蔽部材によるメッシュを配した構造を採り、この
ようなメッシュ構造により光の透過と電磁波の遮蔽とを
同時に実現するものである。
もに電磁波を発生する装置に対しては、その前面に電磁
波遮蔽フィルタを配置し、他の機器及び人体への悪影響
を抑制することがすでに一般化している。このような電
磁波遮蔽フィルタは、例えば実公昭６４−４４６９７号
公報等に開示されているように透明樹脂あるいはガラス
等透明基板に対して金属等電磁波遮蔽部材によるメッシ
ュを配した構造、あるいは特開平−１４８７８１号公報
に開示されているように２枚の透明基板の間に金属等電
磁波遮蔽部材によるメッシュを配した構造を採り、この
ようなメッシュ構造により光の透過と電磁波の遮蔽とを
同時に実現するものである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記電磁波遮蔽フィル
タにおいて、メッシュの大きさすなわち開口率と光透過
率及び電磁波透過率とは比例関係にある。従って、開口
率が大であれば光透過率が大となって好ましい反面、電
磁波が多く輻射されてしまうという問題が発生し、逆に
開口率が小であれば電磁波透過率が小となって好ましい
反面、光透過率が低下してしまうという問題が発生す
る。
タにおいて、メッシュの大きさすなわち開口率と光透過
率及び電磁波透過率とは比例関係にある。従って、開口
率が大であれば光透過率が大となって好ましい反面、電
磁波が多く輻射されてしまうという問題が発生し、逆に
開口率が小であれば電磁波透過率が小となって好ましい
反面、光透過率が低下してしまうという問題が発生す
る。
【０００４】電磁波遮蔽フィルタの設計を行う場合、従
来は、電磁波の遮蔽を十分に行うことを第一に考え、電
磁波遮蔽フィルタの使用箇所や使用状況に応じて、電磁
波の最も多く輻射されている部分を基準にして開口率を
決定していた。例えば、プラズマディスプレイパネルに
おいては一般的にその中央部よりも周辺部からの電磁波
輻射量が多いことから、周辺部の電磁波輻射量を基準に
開口率を決定していた。しかし、最も電磁波輻射量の多
い箇所を基準とすれば、当然のことながら全体としては
光透過率が低下してしまい、製品の性能低下を招くこと
になり、この点の改善が望まれていた。
来は、電磁波の遮蔽を十分に行うことを第一に考え、電
磁波遮蔽フィルタの使用箇所や使用状況に応じて、電磁
波の最も多く輻射されている部分を基準にして開口率を
決定していた。例えば、プラズマディスプレイパネルに
おいては一般的にその中央部よりも周辺部からの電磁波
輻射量が多いことから、周辺部の電磁波輻射量を基準に
開口率を決定していた。しかし、最も電磁波輻射量の多
い箇所を基準とすれば、当然のことながら全体としては
光透過率が低下してしまい、製品の性能低下を招くこと
になり、この点の改善が望まれていた。
【０００５】そこで本発明の課題は、電磁波を十分に遮
蔽することが可能でかつ高い光透過率を有する電磁波遮
蔽フィルタを提供することである。
蔽することが可能でかつ高い光透過率を有する電磁波遮
蔽フィルタを提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者は、従来の電磁
波遮蔽フィルタにおいて全面にわたって一定とされてい
た開口率について検討を行ない、以下の解決手段を得
た。
波遮蔽フィルタにおいて全面にわたって一定とされてい
た開口率について検討を行ない、以下の解決手段を得
た。
【０００７】すなわち、本発明の電磁波遮蔽フィルタ
は、発光手段の前面に配置され、前記発光手段により発
生される光を透過するとともに、同時に発生される電磁
波を遮蔽する電磁波遮蔽フィルタにおいて、光を透過す
るために設けられた開口部の開口率が部位により異なる
ことを特徴とする。これにより、電磁波透過率及び光透
過率を部位により適宜調整することが可能となる。
は、発光手段の前面に配置され、前記発光手段により発
生される光を透過するとともに、同時に発生される電磁
波を遮蔽する電磁波遮蔽フィルタにおいて、光を透過す
るために設けられた開口部の開口率が部位により異なる
ことを特徴とする。これにより、電磁波透過率及び光透
過率を部位により適宜調整することが可能となる。
【０００８】また本発明の電磁波遮蔽フィルタは、発光
手段により発生される電磁波の量が部位により異なる場
合において、各部位に対応する箇所の開口率を調整して
得られることを特徴とする。これにより、電磁波の輻射
量が多い部位に対応する箇所のみ開口率を小さくし、他
の箇所においては光透過率を大とすることが可能とな
る。
手段により発生される電磁波の量が部位により異なる場
合において、各部位に対応する箇所の開口率を調整して
得られることを特徴とする。これにより、電磁波の輻射
量が多い部位に対応する箇所のみ開口率を小さくし、他
の箇所においては光透過率を大とすることが可能とな
る。
【０００９】また本発明の電磁波遮蔽フィルタは、透明
基板上に、電磁波遮蔽部材によるメッシュを配して得ら
れることを特徴とする。これにより、電磁波を遮蔽する
とともに光を透過することが可能となる。
基板上に、電磁波遮蔽部材によるメッシュを配して得ら
れることを特徴とする。これにより、電磁波を遮蔽する
とともに光を透過することが可能となる。
【００１０】また本発明の電磁波遮蔽フィルタは、前記
透明基板が、樹脂によりなることを特徴とする。これに
より、メッシュの配されていない部分から光を透過する
ことが可能となる。
透明基板が、樹脂によりなることを特徴とする。これに
より、メッシュの配されていない部分から光を透過する
ことが可能となる。
【００１１】また本発明の電磁波遮蔽フィルタは、前記
透明基板が、ガラスによりなることを特徴とする。これ
により、メッシュの配されていない部分から光を透過す
ることが可能となる。
透明基板が、ガラスによりなることを特徴とする。これ
により、メッシュの配されていない部分から光を透過す
ることが可能となる。
【００１２】また本発明の電磁波遮蔽フィルタは、前記
メッシュが、金属によりなることを特徴とする。これに
より、メッシュ部分で電磁波が遮蔽される。
メッシュが、金属によりなることを特徴とする。これに
より、メッシュ部分で電磁波が遮蔽される。
【００１３】また本発明の電磁波遮蔽フィルタは、透明
基板上に金属薄膜を形成した後、フォトリソグラフィ処
理及びエッチング処理により前記金属のメッシュを形成
して得られることを特徴とする。これにより、正確かつ
効率的にメッシュを形成することが可能となる。
基板上に金属薄膜を形成した後、フォトリソグラフィ処
理及びエッチング処理により前記金属のメッシュを形成
して得られることを特徴とする。これにより、正確かつ
効率的にメッシュを形成することが可能となる。
【００１４】また本発明の電磁波遮蔽フィルタは、プラ
ズマディスプレイパネルの前面に配置されるフィルタに
おいて、前記プラズマディスプレイパネルにより発生さ
れる電磁波の量の部位による差に応じて、対応する箇所
の開口率を調整して得られることを特徴とする。これに
より、プラズマディスプレイパネルの電磁波の輻射量が
多い部位に対応する箇所のみ開口率を小さくし、他の箇
所においては光透過率を大とすることが可能となる。
ズマディスプレイパネルの前面に配置されるフィルタに
おいて、前記プラズマディスプレイパネルにより発生さ
れる電磁波の量の部位による差に応じて、対応する箇所
の開口率を調整して得られることを特徴とする。これに
より、プラズマディスプレイパネルの電磁波の輻射量が
多い部位に対応する箇所のみ開口率を小さくし、他の箇
所においては光透過率を大とすることが可能となる。
【００１５】周辺部の開口率が中央部の開口率よりも大
であることを特徴とする。これにより、電磁波輻射量の
多いプラズマディスプレイパネル周辺部においても従来
どおり電磁波を十分に遮蔽し、かつ全体としては光透過
率を増大することが可能となる。
であることを特徴とする。これにより、電磁波輻射量の
多いプラズマディスプレイパネル周辺部においても従来
どおり電磁波を十分に遮蔽し、かつ全体としては光透過
率を増大することが可能となる。
【００１６】
【発明の実施形態】本発明に対する理解を助けるため
に、より具体的な実施形態を以下に挙げて説明する。
に、より具体的な実施形態を以下に挙げて説明する。
【００１７】本実施形態は、プラズマディスプレイパネ
ルの前面に配置される電磁波遮蔽フィルタに関するもの
である。図１において、プラズマディスプレイ１１は、
その内部にプラズマディスプレイパネル（以下ＰＤＰと
記述する）１２を内蔵しており、ＰＤＰ１２の前面には
電磁波遮蔽フィルタ１３が配置されている。電磁波遮蔽
フィルタ１３は、図２に示されるように透明基板２１上
に金属メッシュ２２を配した構造であり、金属メッシュ
２２は中央部よりも周辺部が密な構造を採る。
ルの前面に配置される電磁波遮蔽フィルタに関するもの
である。図１において、プラズマディスプレイ１１は、
その内部にプラズマディスプレイパネル（以下ＰＤＰと
記述する）１２を内蔵しており、ＰＤＰ１２の前面には
電磁波遮蔽フィルタ１３が配置されている。電磁波遮蔽
フィルタ１３は、図２に示されるように透明基板２１上
に金属メッシュ２２を配した構造であり、金属メッシュ
２２は中央部よりも周辺部が密な構造を採る。
【００１８】透明基板２１はアクリル等透明樹脂、ある
いはガラス等の材料を適宜選択して作成する。この透明
基板２１上に金属薄膜を形成した後、フォトリソグラフ
ィ技術及びエッチング技術を用いてメッシュを形成する
方法を採用することが、正確な形状及び寸法の金属メッ
シュ効率的に形成する方法として好ましい。
いはガラス等の材料を適宜選択して作成する。この透明
基板２１上に金属薄膜を形成した後、フォトリソグラフ
ィ技術及びエッチング技術を用いてメッシュを形成する
方法を採用することが、正確な形状及び寸法の金属メッ
シュ効率的に形成する方法として好ましい。
【００１９】なお、金属メッシュ２２ではなく、電磁波
遮蔽効果のある繊維メッシュ等を採用してもよいが、こ
のときは上述のフォトリソグラフィ技術及びエッチング
技術を採用することはできない。
遮蔽効果のある繊維メッシュ等を採用してもよいが、こ
のときは上述のフォトリソグラフィ技術及びエッチング
技術を採用することはできない。
【００２０】金属メッシュ２２の形状は図２のような格
子状に限定されるものではなく、例えば図３のような六
角形であってもよい。
子状に限定されるものではなく、例えば図３のような六
角形であってもよい。
【００２１】また、本実施形態では中央部と周辺部との
２段階で開口率を調整していいるが、多段階に調整して
もよい。あるいは中央部から周辺部へと連続的に開口率
が漸減していくような形状としてもよい。また、周辺部
に限らず、電磁波輻射量が多い箇所について任意に開口
率を低下させてもよい。
２段階で開口率を調整していいるが、多段階に調整して
もよい。あるいは中央部から周辺部へと連続的に開口率
が漸減していくような形状としてもよい。また、周辺部
に限らず、電磁波輻射量が多い箇所について任意に開口
率を低下させてもよい。
【００２２】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、電磁波を
十分に遮蔽することが可能でかつ高い光透過率を有する
電磁波遮蔽フィルタを得る。
十分に遮蔽することが可能でかつ高い光透過率を有する
電磁波遮蔽フィルタを得る。
【図１】 本発明の実施形態の説明図である。
【図２】 本発明の実施形態の説明図である。
【図３】 本発明の実施形態の説明図である。
１１ プラズマディスプレイ １２ プラズマディスプレイパネル １３ 電磁波遮蔽フィルタ ２１ 透明基板 ２２ 金属メッシュ
Claims (9)
- 【請求項１】 発光手段の前面に配置され、前記発光手
段により発生される光を透過するとともに、同時に発生
される電磁波を遮蔽する電磁波遮蔽フィルタにおいて、
光を透過するために設けられた開口部の開口率が部位に
より異なることを特徴とする電磁波遮蔽フィルタ。 - 【請求項２】 発光手段により発生される電磁波の量が
部位により異なる場合において、各部位に対応する箇所
の開口率を調整して得られることを特徴とする請求項１
に記載の電磁波遮蔽フィルタ。 - 【請求項３】 透明基板上に、電磁波遮蔽部材によるメ
ッシュを配して得られることを特徴とする請求項１又は
請求項２に記載の電磁波遮蔽フィルタ。 - 【請求項４】 前記透明基板が、樹脂によりなることを
特徴とする請求項３に記載の電磁波遮蔽フィルタ。 - 【請求項５】 前記透明基板が、ガラスによりなること
を特徴とする請求項３に記載の電磁波遮蔽フィルタ。 - 【請求項６】 前記メッシュが、金属によりなることを
特徴とする請求項３〜５のいずれか一に記載の電磁波遮
蔽フィルタ。 - 【請求項７】 透明基板上に金属薄膜を形成した後、フ
ォトリソグラフィ処理及びエッチング処理により前記金
属のメッシュを形成して得られることを特徴とする請求
項６に記載の電磁波遮蔽フィルタ。 - 【請求項８】 プラズマディスプレイパネルの前面に配
置されるフィルタにおいて、前記プラズマディスプレイ
パネルにより発生される電磁波の量の部位による差に応
じて、対応する箇所の開口率を調整して得られることを
特徴とする請求項１〜７のいずれか一に記載の電磁波遮
蔽フィルタ。 - 【請求項９】 周辺部の開口率が中央部の開口率よりも
大であることを特徴とする請求項８に記載の電磁波遮蔽
フィルタ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35966498A JP2976976B1 (ja) | 1998-12-17 | 1998-12-17 | 電磁波遮蔽フィルタ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35966498A JP2976976B1 (ja) | 1998-12-17 | 1998-12-17 | 電磁波遮蔽フィルタ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2976976B1 JP2976976B1 (ja) | 1999-11-10 |
| JP2000183585A true JP2000183585A (ja) | 2000-06-30 |
Family
ID=18465665
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35966498A Expired - Fee Related JP2976976B1 (ja) | 1998-12-17 | 1998-12-17 | 電磁波遮蔽フィルタ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2976976B1 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002071824A1 (fr) * | 2001-03-02 | 2002-09-12 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Film de protection electromagnetique, unite de protection electromagnetique et affichage |
| WO2004016058A1 (ja) * | 2002-08-08 | 2004-02-19 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | 電磁波遮蔽用シート |
| WO2004114738A1 (ja) * | 2003-06-19 | 2004-12-29 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | 電磁波遮蔽用シート、前面板、および表示装置 |
| WO2006011457A1 (ja) * | 2004-07-27 | 2006-02-02 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | 電磁波シールド装置 |
| KR20060065305A (ko) * | 2004-12-10 | 2006-06-14 | 삼성코닝 주식회사 | 포토 마스크 및 이를 이용한 전자기파 차폐 필터의 제조방법 |
-
1998
- 1998-12-17 JP JP35966498A patent/JP2976976B1/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002071824A1 (fr) * | 2001-03-02 | 2002-09-12 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Film de protection electromagnetique, unite de protection electromagnetique et affichage |
| US6884936B2 (en) | 2001-03-02 | 2005-04-26 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Electromagnetic shield film, electromagnetic shield unit and display |
| WO2004016058A1 (ja) * | 2002-08-08 | 2004-02-19 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | 電磁波遮蔽用シート |
| DE10393019B4 (de) * | 2002-08-08 | 2008-01-24 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Blatt zur elektromagnetischen Abschirmung |
| US7371450B2 (en) | 2002-08-08 | 2008-05-13 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Electromagnetic shielding sheet |
| CN100397968C (zh) * | 2002-08-08 | 2008-06-25 | 大日本印刷株式会社 | 电磁波屏蔽用片 |
| WO2004114738A1 (ja) * | 2003-06-19 | 2004-12-29 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | 電磁波遮蔽用シート、前面板、および表示装置 |
| US7183499B2 (en) | 2003-06-19 | 2007-02-27 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Electromagnetic wave shielding sheet, front panel, and display |
| KR100857933B1 (ko) | 2003-06-19 | 2008-09-09 | 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 | 전자파 차폐용 시트, 전면판 및 표시장치 |
| WO2006011457A1 (ja) * | 2004-07-27 | 2006-02-02 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | 電磁波シールド装置 |
| KR20060065305A (ko) * | 2004-12-10 | 2006-06-14 | 삼성코닝 주식회사 | 포토 마스크 및 이를 이용한 전자기파 차폐 필터의 제조방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2976976B1 (ja) | 1999-11-10 |
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