WO2005022971A1 - プラズマディスプレイ用電磁波シールドフィルム - Google Patents

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WO2005022971A1
WO2005022971A1 PCT/JP2004/012293 JP2004012293W WO2005022971A1 WO 2005022971 A1 WO2005022971 A1 WO 2005022971A1 JP 2004012293 W JP2004012293 W JP 2004012293W WO 2005022971 A1 WO2005022971 A1 WO 2005022971A1
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layer
plasma display
film
electromagnetic wave
metal layer
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PCT/JP2004/012293
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Inventor
Nobuo Naito
Fumihiro Arakawa
Tadahiro Masaki
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co., Ltd.
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Publication date
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    • H05K9/0094—Shielding materials being light-transmitting, e.g. transparent, translucent
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    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
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    • H01J11/20—Constructional details
    • H01J11/34—Vessels, containers or parts thereof, e.g. substrates
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    • Y10T428/31678—Of metal

Definitions

  • the present invention relates to an electromagnetic wave shielding film for a plasma display, and more particularly, to an electromagnetic wave shielding film and a near-infrared ray arranged on a front surface of a plasma display element (also referred to as a PDP) to shield a display (image)
  • the present invention relates to an electromagnetic shield film for a plasma display, which enables an image displayed on a display device to be viewed easily.
  • ratio means “plasma display element”
  • NIR near infrared
  • a PDP display element is a combination of a glass substrate having a data electrode and a fluorescent layer and a glass substrate having a transparent electrode, and is filled with a gas such as xenon or neon, and is a conventional cathode ray tube (CRT).
  • the screen can be made larger than that of, and it is spreading.
  • an electromagnetic wave shielding film, near-infrared absorbing film, and unnecessary light absorbing film are placed on the front of the PDP on a transparent substrate with an adhesive layer interposed.
  • a plasma display front panel composite filter, which is formed by stacking them together, is provided to form a plasma display.
  • the front panel for plasma display is required to have a shielding property of electromagnetic waves generated from the PDP, especially a function of 30 dB or more at 30 MHz to 1 GHz.
  • electromagnetic wave shielding films for plasma displays In addition to appropriate transparency (visible light transmittance, visible light transmittance) and brightness, many functions are required, such as improving the visibility of displayed images by providing anti-reflection properties for external light and anti-glare properties. It has been done. Furthermore, the electromagnetic wave shielding film for a plasma display can be easily made into a front panel for a plasma display by combining a substrate having mechanical strength to prevent damage due to external force and other layers as necessary. It has been demanded.
  • a front panel for a plasma display that uses an electromagnetic wave shielding film as a component has high electromagnetic wave shielding properties through good connection to external electrodes for grounding, and has near-infrared shielding properties and transparency.
  • An electromagnetic wave shielding adhesive film and a member using the same are known (for example, see Patent Documents 1 to 13).
  • the upper layer is removed with a laser or the like to form a grounding terminal portion
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-66854 only the upper layer is removed and the edge portion (terminal portion) is removed.
  • the electrodes (terminal portions) must be formed using a silver base or a conductive tape, so the number of steps of the formation increases, and equipment and materials for the steps are required.
  • the cost is high.
  • a panel with little leakage of near-infrared rays is known (for example, see Patent Document 416).
  • a substrate contains a near-infrared absorbing agent
  • a substrate contains a near-infrared absorbing agent.
  • a near-infrared absorbing agent is contained by providing a substrate or another layer. Therefore, any of the members containing the near-infrared absorbing agent is a member corresponding to the transparent substrate of the present invention.
  • the member is a large, heavy, off-the-shelf material that is mass-produced and handled in single sheets. For this reason, there is a problem that it becomes a custom-ordered product requiring a separate process in order to specifically include a near-infrared absorbing agent, and a small lot is produced for each product type, resulting in a high cost. Further, the near-infrared absorbing agent also has a problem that the near-infrared absorbing performance generally deteriorates due to ultraviolet rays and the near-infrared absorbing performance is reduced.
  • Patent Document 1 JP 2003-15533
  • Patent Document 2 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-66854
  • Patent Document 3 JP 2002-324431 A Patent Document 4: JP-A-2000-235115
  • Patent Document 5 JP-A-2000-137442
  • Patent Document 6 JP-A-10-186127
  • the objective was to provide an electromagnetic shielding film for plasma displays that has the function of shielding electromagnetic waves, shielding of near-infrared rays, and shielding of unnecessary light of a specific wavelength due to the emission spectrum of the sealed gas.
  • the goal is to be able to respond adequately to small lot production.
  • the present invention relates to an electromagnetic wave shielding film for a plasma display, comprising a transparent base film and a plurality of openings provided directly or through an adhesive layer on one surface of the transparent base film.
  • a metal layer having a mesh portion, a frame portion disposed on the outer periphery of the mesh portion, and a flattening resin layer and an adhesive layer sequentially laminated on the metal layer, wherein the flattening resin layer absorbs near-infrared light;
  • An electromagnetic wave shielding film for a plasma display characterized in that the adhesive layer contains a colorant for color tone correction that absorbs light of a specific wavelength caused by the emission surface of the gas sealed in the plasma display.
  • the present invention is the electromagnetic wave shielding film for a plasma display, wherein the adhesive layer further contains a color tone adjusting colorant for adjusting the color tone of a display image of the plasma display.
  • the present invention is characterized in that at least a part of the frame portion of the metal layer is exposed to the outside without being covered by any of the flattening resin layer and the adhesive layer. It is a shield film.
  • the present invention is an electromagnetic wave shielding film for a plasma display, wherein an antireflection layer and / or an antiglare layer is provided on the other surface of the transparent substrate film.
  • the present invention is an electromagnetic wave shielding film for a plasma display, wherein a blackening treatment layer is provided on a surface of a metal layer on a transparent substrate film side by a blackening treatment.
  • the flattening resin layer completely covers the opening of the mesh portion to form a flattened surface.
  • An electromagnetic wave shielding film for a plasma display which is characterized in that:
  • the present invention is the electromagnetic wave shielding film for plasma display, wherein the flat resin layer partially fills the openings of the mesh portion.
  • the present invention provides a method for producing a resin composition, comprising:
  • an electromagnetic wave shielding film for a plasma display comprising an ultraviolet absorber.
  • the metal layer is covered with the flattening resin layer and the concave portions of the mesh, particularly the corners of the concave portions, are filled, even when the adhesive layer is applied or adhered, bubbles are generated. Don't be embraced.
  • the present invention since there was no flattening resin layer and the layer was directly adhered with an adhesive layer, it was decompressed after application and removed by Z or pressure to remove air bubbles entrapped in the corner of the mesh recess. Although a degassing step was required, the present invention has eliminated this degassing step.
  • a near-infrared absorbing colorant and an unnecessary color absorbing and coloring agent of a specific wavelength caused by the emission spectrum of the sealed gas are contained in separate layers, and can be easily used in a wide variety of small lots.
  • Color tone correction colorant is placed on the adhesive layer side, which is the last step, so it is easy to adjust only color tone correction colorants that require transmittance adjustment in a large variety of small lots according to customer's preference Accordingly, an electromagnetic wave shielding film for a plasma display, which provides a stable display image with visibility over a long period of time, is provided.
  • the color tone of the displayed image can be adjusted according to the taste of the customer by including the colorant for color tone adjustment in addition to the colorant for color tone correction.
  • the flattening resin layer is applied in a pattern so as to expose a part of the frame portion of the metal layer surface, a grounding ground without processing the terminal from the frame portion.
  • the flat resin layer is applied to only necessary portions in a pattern, material costs can be reduced.
  • the visibility of a display image that is not reflected on the display surface is improved.
  • the contrast of a displayed image can be further increased in the presence of external light.
  • the transparent substrate film is more transparent than the flattening resin layer containing the near infrared absorbing agent. Since the UV absorber is contained in the layer on the illuminated side (external light incident side), even if external light including ultraviolet rays such as sunlight enters, the deterioration of near-infrared absorption performance due to ultraviolet rays can be prevented.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view of an electromagnetic wave shielding film for a plasma display showing one embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a plan view of an electromagnetic wave shielding film for a plasma display showing one embodiment of the present invention.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view of a mesh portion of the electromagnetic wave shielding film, and particularly illustrates a relationship between the flattening resin layer and an opening and a line portion of the mesh.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view of an electromagnetic wave shielding film for a plasma display showing one embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a plan view of an electromagnetic shield finolem for a plasma display showing one embodiment of the present invention.
  • the electromagnetic wave shielding film 30 for a plasma display of the present invention comprises a transparent base film 31Z, as required, an adhesive layer 33 / a metal layer 35 / a planarizing resin layer 39 / an adhesive layer 41. That is, the electromagnetic wave shielding film 30 for a plasma display is composed of a transparent base film 31, a metal layer 35 provided on one surface of the transparent substrate 31 with an adhesive 33, and a flat layer provided on the metal layer 35 in order. A resin layer 39 and an adhesive layer 41 are provided.
  • the metal layer 35 has a mesh region (mesh portion) 203 and a frame portion 201 surrounding the mesh region. If necessary, the surface of the metal layer 35 on the side of the transparent base film 31 may be formed.
  • the blackening treatment is performed to form a blackening treatment layer 37.
  • the flattening resin layer 39 contains a near-infrared absorbing agent
  • the adhesive layer 41 contains a color correcting colorant that absorbs light of a specific wavelength due to the emission spectrum of the sealed gas. Further, as shown in FIG. 2, at least a part of the frame portion 201 of the metal layer 35 is exposed outside so as not to be covered with the flat resin layer 39. are doing.
  • the adhesive layer 41 may contain a color tone adjusting colorant in addition to the color tone correcting colorant.
  • an antireflection and / or antiglare layer 51 may be provided on a surface of the transparent base film 31 other than the metal layer 35.
  • the electromagnetic wave shielding film 30 for a plasma display of the present invention is used alone or in combination with another member such as a protective plate to be installed on the observation side of a PDP, thereby forming a front plate for a plasma display and having the required functions. Can be expressed.
  • a colorant that shields near infrared rays having a wavelength of 800-1 and 100 nm generated from a PDP is referred to as a “near infrared absorber ( NIR absorber)), a colorant that is unique to the PDP's fill gas (such as neon gas), that is, a colorant that absorbs unwanted light of a specific wavelength and corrects the shift of the color tone of the image from the natural color.
  • NIR absorber near infrared absorber
  • colorant that is unique to the PDP's fill gas such as neon gas
  • color tone correction colorant especially, when absorbing neon atomic emission light, it is also called Ne light absorber
  • the colorant that adjusts the displayed image to the desired color tone is “color tone adjustment colorant”. Is defined.
  • the metal layer 35 is prepared, and at least one surface is blackened as necessary.
  • the metal layer 35 or the blackening layer 37 on the surface thereof and the transparent base film 31 are laminated.
  • the laminated metal layer 35 is formed by a photolithography method, and has a mesh region 203 and a frame portion 201 surrounding the mesh region.
  • the flattening resin layer 39 is formed in a pattern so as to cover the mesh region 203 of the metal layer 35 and to expose at least a part of the frame portion 201.
  • An adhesive layer 41 is formed on the flat resin layer 39 surface. The manufacturing method and the materials used will be described sequentially.
  • a material that shields electromagnetic waves for example, a metal having sufficient conductivity such as gold, silver, copper, iron, nickel, chrome, and aluminum can be applied.
  • a metal having sufficient conductivity such as gold, silver, copper, iron, nickel, chrome, and aluminum
  • the metal layer is not a simple substance, but may be an alloy or a multi-layered iron, low-carbon steel such as low-carbon rimmed steel or low-carbon aluminum-killed steel, Ni—Fe alloy, Bar alloys are preferred.
  • copper or copper alloy foil is preferable because of ease of electrodeposition.
  • Electrolytic copper foil is preferred.
  • the thickness of the metal layer 35 is about 110 to 100 zm, preferably 520 zm. If the thickness is less than this, the mesh processing by the photolithography method becomes easier.Electrical resistance of the metal increases and the electromagnetic wave shielding effect is impaired, and above this, the desired high-definition mesh shape cannot be obtained. As a result, the effective aperture ratio is reduced, the light transmittance is reduced, and the viewing angle is also reduced, so that the visibility of the image is reduced.
  • the surface roughness of the metal layer 35 is preferably 0.5 10 ⁇ m in Rz value. Below this, the external light is specularly reflected even if the blackening process is performed, and the visibility of the image is degraded. Above this, when applying the adhesive or resist, it may not spread over the entire surface or bubbles may be generated.
  • the surface roughness Rz is an average roughness value of 10 points measured according to JIS 'B0601 (1994 version).
  • At least the surface of the metal layer 35 on the transparent substrate film 31 side is subjected to a blackening treatment to form a blackening treatment layer 37. Further, both surfaces may be blackened.
  • the blackening treatment is performed in a state of a single metal layer 35 and then laminated on the transparent substrate film 31. After lamination, the metal layer 35 exposed on the opposite side of the transparent base film 31 may be further subjected to blackening treatment to form blackening treatment layers 37 on both sides.
  • the metal layer 35 which has been blackened on one side may be laminated with a transparent base film 31 described later to form a mesh, and then the other may be blackened.
  • a blackening treatment described below can be applied, and a plating method is preferably used. If the blackening process is performed after the mesh portion is provided by the photolithography method, the blackening process can be performed on the surface of the mesh-like metal layer (the surface of the line portion) and the side surface (the side surface of the line portion). This shields the electromagnetic waves generated from the PDP and suppresses the reflection from the metal mesh frame (line part) for shielding the electromagnetic waves, thus reducing the display image on the display. High contrast and good visibility.
  • a metal, an alloy, a metal oxide, a metal oxide, or a black pigment may be used as long as the surface of the metal layer is roughened (light diffusion) and / or blackened (light absorption).
  • the formation of the added resin (paint) and various methods can be applied.
  • a plating method is used. According to the plating method, the blackening is excellent in adhesion to the metal layer, and the blackening can be performed uniformly and easily.
  • a material for the plating at least one selected from copper, cobalt, nickel, zinc, tin, or chromium, or a compound is used. Other metals or compounds have insufficient blackening or lack adhesion to the metal layer, such as cadmium plating
  • a cathodic electrolytic treatment is performed on the copper foil in an electrolytic solution composed of sulfuric acid, copper sulfate, cobalt sulfate, or the like, to attach the cationic particles.
  • Cathodic electrodeposition plating By providing the cationic particles, the metal layer 35 is more roughened, and at the same time, a black color is obtained.
  • the cationic particles copper particles, a force capable of applying alloy particles of copper and another metal, preferably particles of copper'cobalt alloy are used, and the average particle size of the copper'cobalt alloy particles is 0.1-. : 1 ⁇ is preferred.
  • the force S can be applied so that the particles can be suitably adhered to each other with an average particle diameter of 0.1-1 / m. Further, by treating the surface of the copper foil with a high current density, the surface of the copper foil becomes force-sound, generates and activates reducing hydrogen, and the adhesion between the copper foil and the particles can be remarkably improved.
  • the average particle diameter of the copper'cobalt alloy particles is more than this, the thickness of the metal layer becomes thin, and the metal foil is cut in the step of lamination with the base film, thereby deteriorating the workability. Dense appearance of the dense particles is lacking, and unevenness in appearance and light absorption is conspicuous. Below this, the visibility of the image deteriorates because the metal layer is insufficiently roughened.
  • Blackening treatment with black chromium or black nickel is also preferable, because the conductivity and the degree of blackness are good and particles do not fall off.
  • black nickel may have poor grounding properties. If you get into shape,
  • the color tone was represented by a color system “L *, a *, b *, ⁇ *” based on JIS-Z8729. Absolute “& *” and 3 ⁇ 4 * The smaller the value is, the less visible the metal layer is, and the higher the contrast is, and as a result, the better the visibility of the image is.
  • the roughening and the blackening are collectively referred to as blackening processing.
  • the preferred reflection Y value of the blackening process is more than 0% and 20% or less.
  • the reflection Y value was measured with a spectrophotometer UV-3100PC (manufactured by Shimadzu Corporation) at an incident angle of 5 ° (wavelength: 380 nm, 780 nm).
  • the protection layer 37a has a protection function against the metal layer 35 and the blackening treatment layer 37, and when the blackening treatment is particles, prevents the particles from falling off or deforming.
  • a nickel, zinc, and / or copper oxide or a chromate treatment layer to which a known heat protection layer can be applied is preferable.
  • the thickness of nickel oxide, zinc and / or copper oxide is formed by a known plating method, and the thickness is about 0.001 to 1 / im, preferably 0.001 to 0.1 / im. You.
  • the chromate treatment is performed by applying a chromate treatment liquid to a material to be treated.
  • a coating method a roll coat, a curtain coat, a squeeze coat, an electrostatic atomization method, an immersion method, or the like can be applied, and after the application, drying may be performed without washing with water.
  • An aqueous solution containing 3 g / l of Cr ⁇ 2 is usually used as the chromate treatment liquid.
  • Specific examples include Alsurf 1000 (trade name of chromate treating agent, manufactured by Nippon Paint Co., Ltd.) and PM-284 (trade name of chromate treating solution, manufactured by Nippon Parkerizing Co., Ltd.). This chromate treatment enhances the effect of the blackening treatment.
  • polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyamide resins such as nylon 6-Nylon 610, polyolefin resins such as polypropylene and polymethylpentene, bullet resins such as polychlorinated vinyl, and polymethyl
  • Acrylic resin such as acrylate, polyarylate, polysulfone, polyphenylene ether, polyaramid Engineering resin such as polycarbonate, styrene resin such as polycarbonate and polystyrene, and cellulosic resin such as triacetyl cellulose (TAC).
  • TAC triacetyl cellulose
  • the transparent base film 31 may be a copolymer resin containing these resins as a main component, a mixture (including alloys), or a laminate including a plurality of layers.
  • the transparent substrate may be a stretched film or an unstretched film, but a film stretched uniaxially or biaxially for the purpose of improving strength is preferred.
  • the thickness of the transparent substrate 31 is usually about 12 to 1000 zm, preferably 50 to 700 zm and 100 to 500 ⁇ m. If the thickness is less than this, warpage or sagging occurs due to insufficient mechanical strength, and if it is more than this, excessive performance will result and cost will be wasted.
  • the transparent substrate is used as a film, sheet or board made of at least one layer of these resins.
  • finolems These shapes are collectively referred to herein as finolems.
  • a polyester film such as polyethylene terephthalate or polyethylene naphthalate is preferably used because of its transparency, heat resistance and low cost, and polyethylene terephthalate is most suitable. The higher the transparency, the better, but the visible light transmittance is preferably 80% or more.
  • a corona discharge treatment, a plasma treatment, an ozone treatment, a frame treatment, and a primer are applied to the application surface prior to application.
  • An easy adhesion treatment such as a coating treatment, a pre-heat treatment, a dust removal treatment, a vapor deposition treatment, and an alkali treatment may be performed.
  • the resin film may contain additives such as a filler, a plasticizer, and an antistatic agent, if necessary.
  • the transparent base film 31 and the metal layer 35 As a method of laminating (also referred to as laminating) the transparent base film 31 and the metal layer 35, usually, one side of the transparent base film 31 or the metal layer 35 is coated with an adhesive (or adhesive) resin, or The mixture is printed or applied as a latex, aqueous dispersion, or organic solvent liquid by a known printing or coating method such as screen printing, gravure printing, comma coating, or roll coating, and is dried and bonded as necessary. After the layer 33 is formed, the layer 33 and the other material may be overlapped and pressed.
  • the thickness of the adhesive layer is about 0.1 to 20 zm (in a dry state), and preferably about 11 to 10 ⁇ m.
  • the lamination is performed in a continuous band shape (called winding), After the adhesive is applied to one of the metal layer (foil) or the transparent substrate film and dried in a state where the material is unwound and stretched, the other material may be overlaid and pressed. . Further, if necessary, aging (curing and curing) is performed for several hours and several days in an atmosphere of 30 to 80 ° C to obtain a winding roll-shaped laminate.
  • a dry lamination method also referred to as dry lamination).
  • an ionizing radiation curable resin which is cured (reacted) by ionizing radiation such as ultraviolet (UV) or electron beam (EB) is also preferably used.
  • ionizing radiation curable resin which is cured (reacted) by ionizing radiation such as ultraviolet (UV) or electron beam (EB) is also preferably used.
  • UV ultraviolet
  • EB electron beam
  • an adhesive dispersed or dissolved in a solvent is dried so that the film thickness after drying is about 0.1 to 20 xm (dry state), preferably 1.0 to 5.
  • a coating method such as a mouth coating, a reverse roll coating, or a gravure coating
  • the solvent is dried to form an adhesive layer.
  • This is a method in which two types of materials are laminated by curing the adhesive by aging for several hours and several days at ° C.
  • the adhesive layer used in the dry lamination method is the adhesive layer 33, and a thermosetting or ionizing radiation-curable adhesive can be used.
  • thermosetting adhesive is obtained by reacting a polyfunctional isocyanate such as tolylene diisocyanate or hexamethylene diisocyanate with a hydroxyl group-containing compound such as a polyether polyol or a polyatalylate polyol.
  • a polyfunctional isocyanate such as tolylene diisocyanate or hexamethylene diisocyanate
  • a hydroxyl group-containing compound such as a polyether polyol or a polyatalylate polyol.
  • the resulting two-part curable urethane-based adhesive, acrylic adhesive, rubber-based adhesive, and the like can be used, but two-part curable urethane-based adhesives are preferred.
  • the metal layer 35 has a mesh portion 203 in a mesh region and a frame portion 201 serving as a terminal portion of the entire metal layer surrounding the mesh portion.
  • the mesh portion 203 has an opening 207 as shown in the cross-sectional view of FIG. 3 and a plurality of openings 207 surrounded by a line portion 205 where the metal layer remains.
  • the frame part 201 has no opening and the entire surface of the metal layer is left.
  • the frame part 201 is provided so as to surround the mesh part 203.
  • a known photolithography method can be applied. (One Photolithography Method)
  • the metal surface of the laminate of the transparent base film 31 / adhesive layer 33 / metal layer 35 is formed into a mesh shape by a photolithography method.
  • a resist layer is provided on the metal layer 35 in a mesh pattern. After removing a portion of the metal layer that is not covered with the resist layer by etching, the resist layer is removed to form a mesh-shaped metal layer. In this step as well, a roll-shaped laminated body continuously wound in a belt shape is formed. While the laminate is continuously or intermittently conveyed, masking, etching, and resist peeling are performed in a stretched state without looseness.
  • the masking is performed, for example, by applying a photosensitive resist on the entire surface of the metal layer, drying, and then closely contacting with an original (photomask) in which a predetermined pattern (a mesh line portion and a frame portion) is prepared. Exposure, water development, hardening, etc., and baking.
  • the resist is wound or rolled, and the belt-shaped laminate is transported continuously or intermittently, and the metal layer surface is coated with a resist such as casein, PVA, or gelatin by dipping, dipping, curtain coating, or flowing. Is applied.
  • the resist may be a dry film resist that is not applied, and the use of a dry film resist can improve workability.
  • baking is performed at 200 to 300 ° C. In order to prevent warpage of the laminate, the temperature is preferably as low as possible.
  • Etching is performed after masking.
  • an aqueous solution of ferric chloride or cupric chloride which can be easily used in circulation, is preferable as the etching solution used in the present invention.
  • the etching is basically the same process as the equipment for manufacturing a strip-shaped continuous steel material, particularly a shadow mask for a color TV cathode-ray tube, which etches a thin plate having a thickness of 20 to 80 ⁇ m.
  • the existing manufacturing equipment for the shadow mask can be used, and continuous production can be performed from masking to etching, which is extremely efficient.
  • the substrate may be washed with water, stripped of resist with an alkaline solution, washed, and then dried.
  • the mesh portion 203 has a plurality of openings 207 surrounded by the frame portion 201 and formed by the line portions 205.
  • the shape of the opening 207 is not particularly limited.
  • a polygon such as a triangle such as a rectangle, a square such as a rectangle, a rectangle, a rhombus, and a trapezoid, a polygon such as a hexagon, a circle, and an ellipse can be applied.
  • a plurality of these openings 207 are arranged only in the same shape or in a combination of two or more types to form a mesh portion 203.
  • the line width of the line 205 is 25 am or less, preferably 20 ⁇ m or less, and the line interval (line pitch) of the line 205 is light transmission.
  • the ratio becomes 100 ⁇ m or more, preferably 200 ⁇ m or more.
  • the bias angle formed between the line B205 and the side of the end of the electromagnetic wave shielding layer may be appropriately selected in consideration of display pixels and light emission characteristics in order to eliminate moire fringes.
  • FIGS. 3A and 3B are cross-sectional views of a mesh portion of the electromagnetic wave shielding film.
  • the resin layer 39 is provided.
  • the mesh portion 203 is formed, the frame portion 201 and the line portion 205 of the mesh portion 203 have a force with a thick metal foil.
  • the opening portion 207 has the metal layer 35 removed and becomes a cavity (recess). , Resulting in an uneven state. Conventionally, these irregularities are often coated with an adhesive or a pressure-sensitive adhesive in the next step, so they are carried with an adhesive or the like.
  • This degassing process is a batch process in which the laminate is usually placed in a closed kettle at room temperature of about 170 ° C and pressurized and / or depressurized, or a repetition of these, for as long as 30 to 60 minutes. Low cost and high cost.
  • the laminate is pasted to the display after the formation of the mesh portion 203, the unevenness is easily exposed, and the workability is poor due to scratches. According to the present invention, these disadvantages are eliminated.
  • the concave portion is supported by the flat resin layer 39 so as to reach all corners of the concave portion of the opening portion 207 of the mesh portion 203 and protect the metal layer.
  • the resin of the flattening resin layer 39 is applied to the metal layer 35 to cover it, but as shown in FIG. 3A, the flattening resin layer 39 covers the concave portion of the opening 207 and is also formed on the metal layer 35. Irregularities may remain on the surface of the concave portion of the opening 207 as shown in FIG. In short, it covers the concave portion of the opening 207 and the metal layer 35, It suffices if the flattening resin layer 39 extends to every corner of the concave portion of the opening 207 to reduce the unevenness of the metal layer.
  • the flattening resin layer 39 may be any layer as long as it has good adhesiveness with the metal of the mesh having high transparency and good adhesiveness with the transparent adhesive in the next step.
  • the material of the flattening resin layer 39 is not particularly limited as long as it is transparent, and conventionally known thermoplastic resins, thermosetting resins, reactive resins, ionizing radiation-curable resins, and mixtures thereof are used.
  • the flattening resin layer 39 is a thermosetting resin
  • a coloring agent to be described later, particularly, a dimodium compound is contained, the coloring agent is hardened with a curing agent having a functional group such as an isocyanate group.
  • the colorant changes in the course of the conversion reaction, and the function is likely to deteriorate.
  • an ionizing radiation-curable resin it is preferable to use a thermoplastic resin because irradiation with ionizing radiation may cause the colorant to discolor or lose its function.
  • the flattening resin layer 39 is preferably made of a thermoplastic resin in order to isolate the “color tone correcting colorant” and / or “color tone adjusting colorant” contained in the adhesive layer 41. More preferably, a synthetic resin having no highly polar functional group or a synthetic resin having a small number of functional groups is used.
  • thermoplastic resin examples include a vinyl chloride resin such as a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, a vinyl chloride-vinyl acetate alcohol copolymer, and a vinyl chloride-acrylonitrile copolymer, and polymethyl (meth) acrylate.
  • a vinyl chloride resin such as a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, a vinyl chloride-vinyl acetate alcohol copolymer, and a vinyl chloride-acrylonitrile copolymer, and polymethyl (meth) acrylate.
  • Acrylate resin such as acrylate resin, polybutyl (meth) acrylate resin or acrylate-acrylonitrile copolymer, polyolefin resin such as cyclic polyolefin, styrene-acrylonitrile resin, polyvinyl butyral, polyester resin, polycarbonate resin , Urethane-based resin, amide-based resin, cellulose-based resin (cellulose acetate butyrate, cellulose diacetate, cenorreost triacetate, cenorellose propionate, nitrosenolerose, ethynoresenole mouth, methinole Norerosu, pro Pinot receptacle Honoré loin, methylcarbamoyl Honoré ethyl Roh receptacle Honoré loin, force Norebokishime chill cellulose, ⁇ cetyl cellulose), mixtures thereof and the like are used.
  • a modified cellulose-based resin is also included in the synthetic resin.
  • thermoplastic resins are acrylic resins, acrylonitrile resins, urethane resins, and polyester resins.
  • the thermoplastic resin dissolves a coloring agent as a coloring agent. It is good in terms of dissolvability, stability maintenance, and functional durability of the colorant.
  • the flat resin layer 39 contains a near-infrared absorbing agent (NIR absorbing agent).
  • NIR absorbing agent is not particularly limited as long as it shields the near-infrared light in the 800-1000 nm wavelength band emitted by the PDP to 20% or less, preferably 10% or less to the extent that it can be practically used. It is not limited to.
  • a near-infrared absorber As a near-infrared absorber, it has a steep absorption in the near-infrared region and a high light transmittance in a visible light region.
  • polymethine-based, cyanine-based compounds, phthalocyanine-based compounds, naphthalocyanine-based compounds, naphthoquinone-based compounds, Near-infrared absorbing dyes such as anthraquinone-based conjugates, dithiol-based metal complex compounds, immonium-based compounds, dimodium-based compounds, and tungsten hexachloride are used.
  • the type and amount of the colorant may be appropriately selected according to the absorption wavelength and the absorption coefficient of the colorant, the color tone, the transmittance required of the display front panel, and the like.
  • the amount of the near-infrared absorbing agent added is about 0.1 to 15% by mass in the layer, and the added amount of each colorant such as a colorant for color tone correction or a colorant for color tone adjustment is About 0.01% by mass in the layer, and to protect those colorants from ultraviolet rays, it is possible to absorb ultraviolet rays such as benzophenone and benzotriazole in the layer.
  • the addition amount of the agent is about 0.1 to 10% by mass in the layer.
  • a coloring agent composed of a near-infrared absorbing agent (NIR absorbing agent) is contained in the flattening resin layer 39, a composition ink in which a transparent synthetic resin and a coloring agent are dissolved or dispersed in a solvent is applied and dried. Good.
  • the above-mentioned colorant is previously dissolved or dispersed in a solvent in the form of a solution.
  • the transparent synthetic resin is also previously dissolved or dispersed in the solvent in the form of a solution, and then mixed or re-dispersed to obtain a composition ink. This is desirable in that the colorant is uniformly dispersed.
  • the method for mixing or dispersing is not particularly limited, and any known method such as an ordinary kneading disperser, for example, a disperser, a mixer, a tumbler, a blender, a homogenizer, a ball mill, or the like can be used.
  • an ordinary kneading disperser for example, a disperser, a mixer, a tumbler, a blender, a homogenizer, a ball mill, or the like can be used.
  • the flat resin layer 39 As the flat resin layer 39, a force for applying and embedding the above resin in the concave portion of the opening 207 If it does not penetrate into every corner of the concave portion, bubbles remain and the transparency is reduced. For this reason, it is diluted with a solvent or the like to make a low-viscosity composition (ink), applied and dried to form a layer.
  • the composition (ink) the above resin is dispersed or dissolved in a solvent such as methyl ethyl ketone, ethyl acetate and / or toluene, and a colorant is separately dispersed or dissolved in the same solvent and mixed. Is preferable in that the particles are uniformly dispersed.
  • Coating methods include screen printing, rhono-recoat, rhino-lose-no-recoat, slit lino coat-spray coat, ta, coco, lip die coat, gravure coat (gravure print), gravure reverse coat, or comma coat. It is formed by a known printing or coating method. If it does not penetrate into every corner of the recess, bubbles will remain and transparency will be reduced. For this reason, dilute with a solvent or the like and apply with low viscosity and dry, or apply while degassing the air.
  • the flattening resin layer 39 is preferably applied in a pattern as shown in FIG. 2, and the pattern application method is preferably screen printing, gravure offset printing, or an intermittent die coating method.
  • the pattern does not cover at least one part of the frame part 201 as long as it covers the mesh part 203, so that the metal layer 35 which is one part of the frame part 201 can be grounded. Exposure is good.
  • the exposed portion may be the entire frame portion 201, one or more sides of the outer periphery of the mesh portion 203 in the upper, lower, left and right, or one portion of one side. In this case, since a part of the frame portion 201 is exposed to the outside, it can be easily grounded to a housing or the like and grounded.
  • the flattening resin layer 39 is applied only in a necessary portion in a pattern, material costs can be reduced. Further, conventionally, since the terminal portion for grounding is not exposed, the terminal processing work was performed to purposely expose the terminal portion, but in the present invention, a portion of the frame portion is applied in a pattern shape and exposed. Therefore, terminal processing is unnecessary.
  • the adhesive layer 41 is provided on the surface of the flat base resin layer 39 of the transparent base film 31 / adhesive layer 33 / metal layer 35Z laminated as described above.
  • a pressure-sensitive adhesive for the pressure-sensitive adhesive layer 41 a known pressure-sensitive adhesive which can be adhered can be used.
  • the adhesive examples include, but are not particularly limited to, synthetic rubber resins such as natural rubber, butyl rubber, polyisoprene, polyisobutylene, polychloroprene, and styrene-butadiene copolymer resin; Acrylic resins such as poly (methyl) methacrylate, poly (butyl) acrylate, methyl (meth) acrylate-butyl (meth) acrylate copolymer, polyvinyl acetate or ethylene-vinyl acetate copolymer Rosin resins such as vinyl acetate resins, urethane resins, atarilonitrile, hydrocarbon resins, alkylphenol resins, rosin, rosin triglyceride, and hydrogenated rosin can be used.
  • Preferred adhesives for the adhesive layer 41 include chemically low-polarity, transparency, and materials.
  • a specific color spectrum light (unnecessary light emission) specific to a specific filling gas (eg, neon) is generated, and the color purity of a displayed image is reduced. For this reason, it is necessary to provide a layer containing a colorant for shielding and correcting the color tone (color tone correction colorant (especially, in the case of the emission spectrum absorption of neon atoms, also referred to as a Ne light absorber)).
  • color tone correction colorant especially, in the case of the emission spectrum absorption of neon atoms, also referred to as a Ne light absorber
  • the “color tone correcting colorant” is contained in the adhesive layer 41.
  • a colorant having an absorption maximum at a wavelength of 570 nm to 605 nm is used as the colorant for color tone correction.
  • a general dye or pigment having a desired absorption wavelength in the visible region is used, and the type thereof is not particularly limited.
  • Known organic dyes such as squarylium-based dyes can be used.
  • the adhesive layer 41 may further contain a color tone adjusting colorant in addition to the “color tone correcting colorant”.
  • Colorant for color adjustment is a colorant that is used to improve the contrast of transmitted images and adjust color, and has absorption in the visible region to adjust the image to the desired color by changing the color of the image.
  • Examples of color tone adjusting colorants include organic and inorganic pigments such as monoazo pigment, quinacridone, thioindigo bordeaux, berylylene maroon, aniline black, red iron oxide, chrome, cobalt blue, ultramarine, and carbon black.
  • indigo dye carbonium dye, quinoline dye, dithrone dye, naphthoquinone dye
  • dyes such as verinone dyes.
  • Preferred colorants include rhodamine-based, vorphyrin-based, and cysteine-based dyes having an absorption maximum in the wavelength range of 560 to 620 nm.
  • the type and amount of the colorant may be appropriately selected according to the absorption wavelength and the absorption coefficient of the colorant, the color tone, the transmittance required of the display front panel, and the like.
  • the near-infrared absorbing agent is added in the layer at about 0.115% by mass
  • the color tone correcting colorant and the color tone adjusting colorant are added in the layer at about 0.000001 to 2% by mass.
  • UV absorbers such as benzophenone-based and benzotriazole-based UV absorbers may be included in the layer. Is added.
  • the adhesive and the colorant for the adhesive layer 41 are included.
  • the composition may be dissolved or dispersed in a solvent, and the composition may be applied and dried.
  • the coloring agent is previously dissolved or dispersed in a solvent in a solution form, and similarly, the adhesive is also previously dissolved or dispersed in a solvent in a solution state, and then mixed or redispersed to form a composition ink. This is desirable in that the colorant is uniformly dispersed.
  • the method of mixing or dispersion is not particularly limited, and a known method such as an ordinary kneader / disperser, for example, a disperser, a mixer, a tumbler, a blender, a homogenizer, a ball mill, or the like is used.
  • a disperser for example, a disperser, a mixer, a tumbler, a blender, a homogenizer, a ball mill, or the like is used.
  • the near-infrared absorbing agent (NIR absorbing agent) and the colorant for color tone correction (Ne light absorbing agent, etc.) to be contained are distributed to separate layers of the flat resin layer 39 and the adhesive layer 41, respectively. Since the transmittance of both colorants can be adjusted individually, the degree of absorption of NIR and unwanted emission can be reduced. Easy to adjust.
  • the operation of incorporating the colorant for color tone correction (such as a Ne absorber) and the colorant for color tone adjustment into the adhesive layer 41 is performed in a process near the end.
  • the process up to including the colorant in the adhesive layer 41 which does not require the work of confirming the transmission spectrum and adjusting the color tone, is a single standard large lot Since it can be performed as manufacturing, it can be manufactured at low cost. Furthermore, in order to include a color tone correcting colorant and a color tone adjusting colorant that need to adjust or correct the color tone by confirming the transmission spectrum in the adhesive layer forming step, which is the final step, according to the customer's preference The color tone of the displayed image can be easily corrected and adjusted, and the time and cost of the entire process can be minimized. In addition, the adhesive layer forming step requires less processing accuracy and lower processing level adjustment requirements than the flattening resin layer forming step, and is therefore suitable for correcting or adjusting the color tone of a wide variety of small lots.
  • the adhesive layer 41 has adhesiveness, it is preferable to attach a release paper to the surface of the adhesive layer 41.
  • the release paper is unnecessary when used immediately after the formation of the adhesive layer.
  • a known paper such as a polyethylene terephthalate film coated with a silicone resin or a melamine resin, or high-quality paper can be used.
  • an adhesive film previously coated with an adhesive on release paper is applied to the transparent base film 31 / adhesive layer 33 / metal layer 35 / flat resin. It may be attached to the flat resin layer 39 surface of the layer 39 laminate.
  • the preferred structure of the electromagnetic wave shielding film 30 for a plasma display is a transparent base film 31 / adhesive layer 33 / metal layer 35 / flat resin layer 39 (containing a near infrared absorbing agent) / adhesive layer 41 / (color correction for color tone) Or a colorant for color tone correction and a colorant for color tone adjustment.) Z Release paper. Remove the release paper before use.
  • the electromagnetic wave and near-infrared ray shielding functions are provided on one surface of the transparent base material film 31, and the antireflection layer and / or the anti-glare layer 51 is provided on the other surface of the transparent base material film. Is also good.
  • the antireflection layer and the Z or antiglare layer 51 may be provided last, but are preferably provided in advance on the transparent base film 31.
  • At least an anti-reflection layer and / or an anti-glare layer 51 is provided on the surface of the transparent base film 31 in order to provide an anti-reflection function.
  • a commercially available transparent film with an anti-reflection function such as an anti-reflection film TAC-AR1 (trade name, manufactured by Dainippon Printing Co., Ltd.) may be used.
  • the anti-reflection function reduces the glare on the screen caused by the reflection of external light from the sun, fluorescent lights, etc. on the PDP screen. Further, by suppressing the reflectance of the surface, the contrast of the image is improved, and as a result, the visibility of the image is improved.
  • the “antireflection layer” refers to a layer in which one or more transparent dielectric layers are laminated on the surface of the transparent base film 31.
  • the refractive index of the outermost layer of the dielectric layer is determined by adjusting the refractive index of the layer immediately below it (when the antireflection layer is laminated on the transparent substrate film, the dielectric layer immediately below, or the hard coat layer as described later).
  • the refractive index is set to be lower than that of the hard coat layer, and the optical thickness (refractive index X geometric thickness) of the dielectric layer is set to 1/4 of the wavelength of light to be prevented from being reflected. With such a configuration, it is possible to attenuate the reflected light from the interface between the layers by interference S.
  • Typical layer configurations of the antireflection layer include (1) transparent base film / (low refractive index layer), (2) transparent base film / (high refractive index layer / low refractive index layer), (3) Transparent base film / (low refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer), (4) transparent base film / (high refractive index layer / medium refractive index layer / low refractive index layer) and the like.
  • the inside of () is the configuration of the antireflection layer.
  • the material of each layer constituting the antireflection layer include, for the low refractive index layer, an inorganic substance such as magnesium fluoride (MgF2) and quartz stone, or a low refractive index resin composition as described later.
  • MgF2 magnesium fluoride
  • quartz stone quartz stone
  • a low refractive index resin composition as described later.
  • inorganic substances such as titanium dioxide and zinc sulfide are exemplified.
  • the antireflection layer is produced by a known dry coating method such as vapor deposition or sputtering, or a wet coating method such as roll coating or lip die coating.
  • the base film Z (high-refractive-index layer / low-refractive-index layer / high-refractive-index layer / low-refractive-index layer)) can be used in this order.
  • the optical thickness of each layer shall be 1Z4 of the D line (590 nm) of the sodium atom spectrum of the wavelength near the middle of the visible light band.
  • a low-refractive-index layer made of a low-refractive-index resin composition may be applied to the surface of a transparent base film by a lip-die coating method and laminated.
  • the optical thickness of the low-refractive-index layer shall be 1/4 of the D-line (590 nm) of the sodium atom spectrum near the center of the visible light band.
  • the low refractive index resin composition a composition in which transparent fine particles having an average particle diameter of 5300 nm are dispersed in an ionizing radiation-curable resin containing a fluorine atom in a molecule can be used.
  • the low-refractive-index resin composition is applied to the surface of the transparent substrate film, and is irradiated with ionizing radiation to be crosslinked and cured, so that the average pore size inside and / or on the surface of the cured coating film is 0.01 to 100 nm. A large number of air-containing pores are formed to form a porous coating film.
  • the ionizing radiation-curable resin containing a fluorine atom in the molecule has a lower refractive index than the ordinary resin itself, and the coating film is porous and contains air. The refractive index approaches the refractive index of air (1.0), resulting in a lower refractive index of the coating.
  • An ionizing radiation-curable resin containing a fluorine atom in the molecule is a polymer having a number average molecular weight of about 20,000 to 500,000, which contains a fluorine atom in the molecule and has an ionizing radiation-curable functional group
  • a compound having a radically polymerizable unsaturated group such as a (meth) atalyloyl group and a cationically polymerizable functional group such as an epoxy group is an essential component.
  • (meth) atalyloyl group means “atalyloyl group or methacryloyl group”).
  • Examples of the ionizing radiation curable resin containing a fluorine atom in the molecule include a homopolymer of fluorine atom-containing monomers such as fluoroethylene or a fluorine atom-containing monomer and a fluorine atom such as pentaerythritol triatalylate.
  • a copolymer with a non-containing monomer can be used.
  • a monomer having three or more ionizing radiation-curable functional groups in one molecule may be added to the polymer.
  • the monomer may or may not contain a fluorine atom. Note that, as the ionizing radiation, an electron beam, an ultraviolet ray, or the like is typically used.
  • the fine particles contained in the ionizing radiation-curable resin particles containing air per se, such as hollow particles and porous particles containing air therein, are used. Or, even if the particles themselves do not contain air, when dispersed in the ionizing radiation-curable resin, air is attached to the surroundings to produce fine-particle bubbles, or (primary) Even if a plurality of particles are aggregated or agglomerated and include air, it is acceptable.
  • the fine particles for example, Hollow silica particles, porous silica particles, colloidal silica, acrylic aggregated particles and the like.
  • the amount of the fine particles to be added is about 110 to 400 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the ionizing radiation curable resin containing a fluorine atom in the molecule.
  • the hard coat layer provided between the transparent substrate film 31 and the antireflection layer 51 is a layer having a hardness of H or more in a JIS-K5400 pencil hardness test, and is made of polyester (meth) acrylate, Polyfunctional such as urethane (meth) acrylate and epoxy (meth) acrylate, polyfunctional (meth) acrylate, prepolymer, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and polyfunctional such as dipenta erythritol hexa (meth) acrylate It is formed by coating a single or a mixture of two or more (meth) acrylate monomers and curing it with heat or ionizing radiation.
  • the “anti-glare layer” is a layer which diffuses (scatters) light by fine irregularities on the surface of the layer or fine particles having a different refractive index dispersed inside the layer to prevent glare or flickering of a display image.
  • the optical properties of the antiglare property are such that the haze value is 3% or more, preferably 3-40%, more preferably 5-30%. When the haze value is less than 3%, the anti-glare property is insufficient, and when the haze value exceeds 40%, the light transmittance deteriorates.
  • the 60 ° Darros is 100 or less, more preferably 90 or less, and even more preferably 50-85.
  • the transmission sharpness is 100 or more, more preferably 150 or more, and further preferably 200-300. If the transmission sharpness is less than 100, the visibility is insufficient.
  • the total light transmittance is 70% or more, more preferably 75% or more, and further preferably 80-95%. If the total light transmittance is less than 70%, transparency is insufficient. The above numerical ranges are comprehensive for anti-glare properties, visibility, light transmittance, transparency, etc.
  • An antifouling layer 51a may be provided on the surface of the antireflection layer and / or the antiglare layer 51.
  • the antifouling layer 51a is a water-repellent and oil-repellent coat, and is a siloxane-based, fluorinated alkyl Compounds can be applied.
  • a fluorine-based or silicone-based resin used as a water-repellent paint can be suitably used.
  • a fluorosilicate-based water-repellent paint is preferably used.
  • the flat layer resin layer 39 containing a near-infrared absorber is used. Also, it is preferable to include an ultraviolet absorber in the layer located on the base film 31 side. By doing so, the ultraviolet light in the external light is absorbed and attenuated before reaching the near-infrared absorbing agent (including the flattening resin).
  • the layer containing the ultraviolet absorbent one or more of the adhesive layer 33, the transparent substrate film 31, the antireflection and / or antiglare layer 51, and the antifouling layer 51a can be considered.
  • a layer containing an ultraviolet absorber in a transparent resin separately from these layers may be formed at any position on the transparent substrate film 31 side of the flat resin layer 39.
  • transparent UV absorbers For example, organic UV absorbers such as benzotriazole-based compounds, benzophenone-based compounds, and triazine-based compounds, zinc oxide consisting of fine particles with a particle size of about 0.2 ⁇ or less, An inorganic ultraviolet absorber such as cerium oxide is used. The amount of the ultraviolet absorber added is about 0.1 to 5% by weight in each layer.
  • the electromagnetic wave shielding film 30 for plasma display of the present invention is obtained, and the electromagnetic wave shielding film 30 is used alone or a transparent substrate 61 or the like is laminated to form the front plate 60 for plasma display.
  • a release paper is used, the release paper is removed and the adhesive layer 41 is adhered to the transparent substrate 61.
  • a glass plate or an acrylic plate having a thickness of about 0.5 to 10 mm can be used.
  • the plasma display front panel 60 is set on the front surface of the PDP to produce a plasma display.
  • the plasma display is obtained by installing the adhesive layer 41 side or the transparent substrate 61 side of the plasma display front panel 60 so as to face the PDP surface.
  • the housing of the plasma display can be easily attached to the housing of the plasma display with a known conductive tape or the like. Can be grounded. Conventionally, since the metal layer was not exposed, a step of exposing the metal layer was required. According to the present invention, the above-described many functions and effects can be obtained when the plasma display is viewed from the transparent base film 41 side.
  • the force metal layer 35 described using a metal foil may be formed in a mesh shape by a plating method.
  • the adhesive layer 33 becomes unnecessary.
  • the plating method first, a pattern having a shape that is strong with the mesh portion 203 at the center portion and the frame portion 201 at the outer peripheral portion is formed on one surface of the transparent base film 31, and then a conductive process is performed. After that, the metal of the electromagnetic wave shielding function is plated.
  • the mesh region 203 and the frame portion 201 surrounding the mesh region 203 can be obtained by forming a desired mesh pattern when performing a mesh conductive process.
  • the metal layer 35 in which the mesh region 203 and the frame portion 201 surrounding the mesh region 203 are simultaneously formed is obtained. If necessary, a protection layer is further formed on the metal layer 35.
  • Materials for forming the transparent substrate film 31, the metal layer 35, and the blackening layer 37 by the plating method are the same as those in the above-described photolithography method. The plating method differs only in the method of forming the metal layer.
  • a 10-zm-thick electrolytic copper foil was used as the metal layer, and a copper-cobalt alloy particle (average particle diameter: 0.3 zm) was cathodically electrodeposited on one surface to form a blackened layer. did.
  • a blackened layer and a 100 zm biaxially stretched PET film A4300 (Toyobo Co., Ltd. After laminating with ethylene terephthalate (trade name) with a two-component curable urethane-based adhesive, the laminate was aged at 50 ° C for 3 days to obtain a laminate.
  • the adhesive polyester urethane polyol was used as the main agent, and hexamethylene diisocyanate was used as the curing agent.
  • the applied amount was 4 am in terms of the thickness after drying.
  • a mesh portion is formed from the copper foil of the laminate by a photolithography method.
  • the production line for color TV shadow masks is diverted, from masking to etching for the continuous band-shaped laminate (winding).
  • a casein resist was applied over the entire copper layer surface of the laminate by a casting method. It is transported intermittently to the next station, and the opening 207 is square, the force, the line width of the line 205 is 22 ⁇ m, the line interval (pitch) of the line 205 is 300 ⁇ m, and the bias angle is 49 ° C
  • Contact exposure was carried out using a negative pattern original having a mesh portion 203 and a frame portion 201 having a width of 15 mm surrounding the mesh portion.
  • the laminates were successively transported to a station, developed with water, hardened, and baked by heating. Further, the wafer was conveyed to the next station, and sprayed by a spray method using an aqueous solution of ferric chloride as an etching solution to form an opening 207. While sequentially transferring the laminated body to the station, the laminated body was washed with water, the resist was peeled off, washed, and further dried by heating to form a mesh portion 203.
  • a flattening resin layer 39 is formed.
  • the following coloring agents are dispersed or dissolved in advance in an acrylic resin in a methyl ethyl ketone solvent, and then mixed.
  • the coloring agent is a near-infrared absorbing agent (NIR absorbing agent) such as dimodium dye CIR1085 (trade name, manufactured by Nippon Carlit Co.), phthalocyanine dye IR12 (trade name, manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) and phthalocyanine-based dye.
  • Dye IR14 (trade name, manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) was mixed and used.
  • the composition liquid of the above flat resin layer is mixed, applied in a pattern to the mesh portion only in a pattern by a die coating method, and dried to expose the mesh portion 203 covered with the flat resin layer.
  • 15 mm wide framed part 201 (metal layer) side flat resin layer 39 (dry thickness 15 ⁇ m) Obtained.
  • an acrylic resin adhesive containing TAP-2 (trade name, manufactured by Yamada Chemical Co., Ltd.) as a color tone correcting colorant (Ne light absorber) was used.
  • PS Violet RC trade name, manufactured by Mitsui Toatsu Dye Co., Ltd.
  • the following anti-reflection film TAC-AR1 (trade name of anti-reflection film manufactured by Dai Nippon Printing Co., Ltd.) Electromagnetic shield film for plasma display in the same manner as in Example 1 except that a low refractive index layer / antifouling layer) is used, and a metal layer is laminated on the surface opposite to the antireflection surface.
  • a transparent substrate film 2 (4,6-diphenyl-1,3,5-triazine-2-yl) -5-[(hexyl) oxy] -phenol is used as an ultraviolet absorber in polyethylene terephthalate.
  • a biaxially oriented film with a total thickness of 100 ⁇ m consisting of a two-layer laminate of a 80 ⁇ m thick layer containing 80% by mass and a 20 ⁇ m thick layer of polyethylene terephthalate containing no UV absorber
  • the transparent substrate film has a UV-absorbing agent-free layer side and a metal layer on the blackening layer side.
  • the electromagnetic shield film 30 for a plasma display was obtained in the same manner as in Example 1 except that was laminated.
  • Example 14 The adhesive layer surface of the electromagnetic wave shielding film for plasma display 30 of 14 was adhered to an acrylic resin plate having a thickness of 5 mm to obtain a front panel for plasma display.
  • a plasma display was manufactured by installing the front panel for plasma display with a 5 mm air layer in front of WOOO (trade name, manufactured by Hitachi, Ltd.) as a PDP.
  • the plasma display front plate of Reference Example 1 was directly adhered to the front surface of WO ⁇ (product name, manufactured by Hitachi, Ltd.) as a PDP with an acrylic resin adhesive to install the plasma display. Produced.
  • the electromagnetic wave shielding film for plasma displays was tested for color tone of images, browning of colorant after wet heat resistance test and light resistance test, image visibility, and light resistance test. The evaluation was made based on the deterioration in brownness and near-infrared absorption afterwards.
  • As for the color tone of the image a TV test pattern was displayed and the color tone was visually observed.
  • the brownness of the colorant can be measured after a moist heat test (hold at 1000 ° C in a 60 ° C 95% RH environment for 1000 hours) and a lightfastness test (using a carbon fiber lamp type sunshine fade meter at a black panel temperature of 63 ° C).
  • the change in color was visually evaluated by comparing it with that before the test.
  • the visibility of the image was evaluated by visually observing the color tone by displaying white and black images on the entire surface, and was judged as acceptable if there was no glare and no significant reflection of external light.
  • the near-infrared absorptivity and its deterioration due to the light resistance test were measured by measuring the transmittance in the band of 800 lOOnm before and after the weather resistance test, and measuring the transmittance at any wavelength in the band. Those having a transmittance of 10% or less were regarded as acceptable.
  • the electromagnetic shielding properties were measured by the KEC method (a measurement method developed by the Kansai Electro-Optic Center), and those with an attenuation rate of 30 dB or more in a 30 MHz 1 GHz band were passed.
  • Example 4 both the brownness of the colorant after the weather resistance test and the near infrared absorption after the weather resistance test passed.
  • Example 115 both the color tone of the image and the visibility of the image passed.

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Abstract

　透明基材フィルム３１の一方の面に、直接又は接着層を介して、メッシュ状領域２０３と該メッシュ状領域２０３を囲む額縁部２０１とを有する金属層３５が設けられている。金属層３５に平坦化樹脂層３９、及び粘着層４１が積層されている。前記金属層３５の透明基材フィルム３１側の面が黒化処理され、黒化処理層３７が形成されている。前記平坦化樹脂層３９は近赤外線吸収剤を含有し、粘着層４１が封入ガスの発光スペクトルに起因する特定波長光を吸収する色調補正用着色剤を含有している。

Description

明 細 書
プラズマディスプレイ用電磁波シールドフィルム 技術分野
[0001] 本発明は、プラズマディスプレイ用電磁波シールドフィルムに関し、さらに詳しくは、 プラズマディスプレイ表示素子（PDPともいう）の前面に配置して、素子から発生する 電磁波および近赤外線をシールドし、ディスプレイ（画像表示装置ともいう）に表示さ れた画像を良好に視認できるようにするためのプラズマディスプレイ用電磁波シール ドフィルムに関するものである。 背景技術
[0002] 本明細書において、配合を示す「比」、「部」、「％」などは特に断らない限り質量基 準であり、「/」印は一体的に積層されていることを示す。また、「PDP」は「プラズマ ディスプレイ表示素子」を意味し、「NIR」は「近赤外線」を意味する。
[0003] (技術の背景）
PDP表示素子は、データ電極と蛍光層を有するガラス基板と透明電極を有するガ ラス基板とを組合わせ、内部にキセノン、ネオンなどのガスを封入したものであり、従 来の陰極線管（CRT)と比較して大画面にでき、普及が進んでいる。 PDPが作動す ると電磁波、近赤外線、封入ガスの発光スペクトルに起因する特定波長の不要光が 大量に発生する。これらの電磁波、近赤外線、及び特定波長の不要光をシールド又 は低減するために、 PDPの前面に電磁波シールドフィルム、近赤外線吸収フィルム、 及び不要光吸収フィルムを透明基板に、接着剤層を介して積層して成るプラズマデ イスプレイ用前面板 (複合フィルタ）を設け、プラズマディスプレイを形成している。プ ラズマディスプレイ用前面板には、 PDPから発生する電磁波のシールド性、特に 30 MHz— 1GHzにおける 30dB以上の機能が求められている。また、 PDPより発生す る波長 800— 1, lOOnmの近赤外線も、他の VTRなどのリモコン機器を誤作動させ るので、シールドする必要がある。さらに、 PDPに特有の封入ガス固有の発色スぺク トルを補正したり、好みの色調に調整したりして、色質を適正化して表示画像の品質 を向上させる必要もある。また、プラズマディスプレイ用電磁波シールドフィルムには 、適度な透明性 (可視光透過性、可視光透過率)や輝度に加えて、外光の反射防止 性、防眩性を付与して表示画像の視認性を向上させるなど多くの機能が求められて いる。さらに、プラズマディスプレイ用電磁波シールドフィルムには、外力での破損を 防止する機械的強度を有する基板、必要に応じて他の層を組み合わせて、容易にプ ラズマディスプレイ用前面板とすることができることが求められている。
[0004] (先行技術）
従来、電磁波シールドフィルムを構成要素としたプラズマディスプレイ用前面板とし ては、接地のための外部電極と良好な接続をとることによる高い電磁波シールド性を 得ると共に、近赤外線シールド性、透明性を有する電磁波シールド性接着フィルム及 びそれを用いた部材のものが知られている（例えば、特許文献 1一 3参照）。しかしな がら、特開 2003— 15533号公報ではレーザなどで上層を除去して接地をとる端子部 を形成し、特開 2003—66854号公報では上 1層のみを除去して縁部（端子部）を形 成し、特開 2002-324431号公報では銀ベース又は導電テープで電極（端子部）を 形成せねばならないので、該形成の工程が増加し、該工程のための設備や材料を 必要とし、高コストになるという欠点がある。
[0005] また、プラズマディスプレイ用前面板としては、近赤外線の漏洩が少ないものが知ら れている（例えば、特許文献 4一 6参照）。しかしながら、特開 2000— 235115号公報 では基板に近赤外線吸収剤を含有させ、また、特開 2000-137442号公報では基 板に近赤外線吸収剤を含有させ、さらに、特開平 10-186127号公報では基材又は 別層を設けて近赤外線吸収剤を含有させるものである。このため、近赤外線吸収剤 を含有させる部材のいずれもが、本発明の透明基板に相当する部材である。該部材 は大きく重く枚葉で扱いにくぐ量産されている既製材料である。このため、特別に近 赤外線吸収剤を含有させるために、別工程を要する特注品となり、品種別の小ロット 生産となって、高コストであるという問題点がある。又、近赤外線吸収剤は、一般に紫 外線により劣化して近赤外線吸収性能が低下すると云う問題点もある。
特許文献 1 :特開 2003 - 15533号公報
特許文献 2：特開 2003 - 66854号公報
特許文献 3 :特開 2002 - 324431号公報 特許文献 4 :特開 2000— 235115号公報
特許文献 5：特開 2000 - 137442号公報
特許文献 6 :特開平 10 - 186127号公報
発明の開示
[0006] そこで、本発明はこのような問題点を解消するためになされたものである。その目的 は、電磁波のシールド、近赤外線のシールド、及び封入ガスの発光スペクトルに起因 する特定波長の不要光のシールドの機能を有するプラズマディスプレイ用電磁波シ 一ルドフィルムを提供するに当って、多品種少ロット生産に十分適切に対応出来るよ うにすることである。
[0007] 本発明は、プラズマディスプレイ用電磁波シールドフィルムにおレ、て、透明基材フィ ルムと、透明基材フィルムの一方の面に直接又は接着層を介して設けられ、複数の 開口を含むメッシュ部と、このメッシュ部の外周に配置された額縁部とを有する金属 層と、金属層上に順次積層された平坦ィ匕樹脂層および粘着層とを備え、平坦化樹脂 層は近赤外線吸収剤を含有し、粘着層はプラズマディスプレイの封入ガスの発光ス ぺ外ルに起因する特定波長光を吸収する色調補正用着色剤を含有することを特徴 とするプラズマディスプレイ用電磁波シールドフィルムである。
[0008] 本発明は、粘着層はプラズマディスプレイの表示画像の色調調整を行なう色調調 整用着色剤を更に含有することを特徴とするプラズマディスプレイ用電磁波シールド フィルムである。
[0009] 本発明は、金属層の額縁部の少なくとも一部は、平坦化樹脂層および粘着層のい ずれにも覆われることなく外方へ露出していることを特徴とするプラズマディスプレイ 用電磁波シールドフィルムである。
[0010] 本発明は、透明基材フィルムの他方の面に、反射防止層及び/又は防眩層が設 けられていることを特徴とするプラズマディスプレイ用電磁波シールドフィルムである。
[0011] 本発明は、金属層のうち透明基材フィルム側の面に、黒化処理により黒化処理層 が設けられていることを特徴とするプラズマディスプレイ用電磁波シールドフィルムで ある。
[0012] 本発明は、平坦ィ匕樹脂層はメッシュ部の開口を完全に坦めて平坦化面を形成する ことを特徴とするプラズマディスプレイ用電磁波シールドフィルムである。
[0013] 本発明は、平坦ィヒ樹脂層はメッシュ部の開口を一部埋めることを特徴とするプラズ マディスプレイ用電磁波シールドフィルムである。
[0014] 本発明は、平坦ィ匕樹脂層よりも透明基材フィルム側にある層のいずれ力、 1層以上は
、紫外線吸収剤を含有することを特徴とするプラズマディスプレイ用電磁波シールド フィルムである。
[0015] 本発明によれば、金属層が平坦ィ匕樹脂層で覆われて、メッシュの凹部、特に凹部 のコーナーが坦まっているので、粘着層を塗布又は貼着しても、気泡が抱き込まれな レ、。従来は平坦化樹脂層がなく直接、粘着層で貼着していたので、メッシュ凹部のコ ーナ一に抱き込まれた気泡を除去するために貼着後の減圧及び Z又は加圧による 脱気工程が必要であつたが、本発明はこの脱気工程が不要となった。また、近赤外 線の吸収着色剤と、封入ガスの発光スペクトルに起因する特定波長の不要光の吸収 着色剤とが、別の層に含有され、しかも多品種少ロット対応が容易で且つ 1番最終ェ 程となる粘着層側に色調補正用着色剤が配置されているので、顧客の好みに応じた 多品種少ロット的に透過率調整が必要な色調補正用着色剤のみを容易に調整でき 、視認性が長期間にわたつて安定した表示画像が得られるプラズマディスプレイ用電 磁波シールドフィルムが提供される。
[0016] 本発明によれば、色調補正用着色剤に加えて色調調整用着色剤を含有させること で、顧客の好みに応じた表示画像の色調調整をすることができる。
[0017] 本発明によれば、平坦化樹脂層が金属層面の額縁部の一部は露出する様にパタ ーン状に塗布しているので、額縁部から端子加工をすることなぐ接地用アースをとる こと力 Sできる。さらに、平坦ィ匕樹脂層は必要部分のみにパターン状に塗布しているの で、材料費を削減できる。
[0018] 本発明によれば、外光の反射防止、防眩性が付与されているので、表示面へ映り 込みがなぐ表示画像の視認性が向上する。
[0019] 本発明によれば、外光存在下に於いて、表示画像のコントラストをより高めることが 出来る。
又、本発明によれば、近赤外線吸収剤を含有する平坦化樹脂層よりも透明基材フ イルム側（外光入射側）にある層中に紫外線吸収剤を含有させている為、 日光等の紫 外線を含む外光が入射しても、紫外線による近赤外線吸収性能の劣化を防止できる 図面の簡単な説明
[0020] [図 1]は本発明の 1実施例を示すプラズマディスプレイ用電磁波シールドフィルムの 断面図である。
[図 2]は本発明の 1実施例を示すプラズマディスプレイ用電磁波シールドフィルムの 平面図である。
[図 3]は電磁波シールドフィルムのメッシュ部の断面図であり、特に平坦化樹脂層とメ ッシュの開口部及びライン部との関係を図示するものである。
発明を実施するための最良の形態
[0021] 以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら、詳細に説明する。図 1は 、本発明の 1実施例を示すプラズマディスプレイ用電磁波シールドフィルムの断面図 である。図 2は、本発明の 1実施例を示すプラズマディスプレイ用電磁波シールドフィ ノレムの平面図である。
[0022] (基本の構成）
図 1に示すように、本発明のプラズマディスプレイ用電磁波シールドフィルム 30は、 透明基材フィルム 31Z必要に応じて接着層 33/金属層 35/平坦化樹脂層 39/粘 着層 41からなる。すなわちプラズマディスプレイ用電磁波シールドフィルム 30は透明 基材フィルム 31と、透明基板 31の一方の面に接着剤 33を介して設けられた金属層 35と、金属層 35上に順次設けられた平坦ィ匕樹脂層 39および粘着層 41とを備えてい る。
[0023] 金属層 35はメッシュ状領域 (メッシュ部） 203と該メッシュ状領域を外周する額縁部 201とを有し、必要に応じて、前記金属層 35の透明基材フィルム 31側の面が黒化処 理されて黒化処理層 37が形成されている。かつ、平坦化樹脂層 39には近赤外線吸 収剤が含有され、粘着層 41には封入ガスの発光スペクトルに起因する特定波長光 の吸収する色調補正用着色剤が含有されている。また、図 2に示すように、金属層 35 の額縁部 201の少なくとも 1部は、平坦ィ匕樹脂層 39で覆われることなぐ外方に露出 している。また、粘着層 41には色調補正用着色剤に加えて、色調調整用着色剤が 含有されていてもよい。さらに、透明基材フィルム 31の金属層 35面でない面に、反 射防止及び/又は防眩層 51を設けてもよい。
[0024] 本発明のプラズマディスプレイ用電磁波シールドフィルム 30は、単独又は保護板な どの他の部材と併用して、 PDPの観察側に設置することで、プラズマディスプレイ用 前面板となり、求められる機能を発現できる。
[0025] (着色剤の定義）
なお、本発明では複数の着色剤を用いるので、混同を避けるために、本明細書中 では、 PDPより発生する波長 800— 1 , lOOnmの近赤外線をシールドする着色剤を 「近赤外線吸収剤（NIR吸収剤ともいう）」とし、 PDPに特有の封入ガス（ネオンガスな ど）固有の発色スペクトル、即ち特定波長の不要光を吸収し画像の色調の天然色か らの偏移を補正する着色剤を「色調補正用着色剤（特にネオン原子発光スぺ外ルを 吸収する場合、 Ne光吸収剤ともいう）」とし、表示画像を好みの色調に調整する着色 剤を「色調調整用着色剤」と定義する。
[0026] (プラズマディスプレイ用電磁波シールドフィルムの製造、及び材料）
本発明のプラズマディスプレイ用電磁波シールドフィルムは、まず、（1)金属層 35 を準備し、必要に応じて少なくとも一方の面を黒化処理する。 （2)上記金属層 35或 いはその表面の黒化処理層 37と、透明基材フィルム 31とが積層される。 （3)積層さ れた金属層 35は、フォトリソグラフィ一法で形成され、メッシュ状領域 203と該メッシュ 状領域を外周する額縁部 201とを有している。 (4)上記金属層 35のメッシュ状領域 2 03を覆い、かつ額縁部 201の少なくとも 1部が露出するように、平坦化樹脂層 39が パターン状に形成される。 （5)上記平坦ィ匕樹脂層 39面へ粘着層 41が形成される。 該製造方法と、使用する材料について、順次説明する。
[0027] (金属層）
金属層 35の材料としては、電磁波をシールドする材料、例えば金、銀、銅、鉄、二 ッケノレ、クロム、アルミニウムなど充分に電磁波をシールドできる程度の導電性を持つ 金属が適用できる。金属層は単体でなくても、合金あるいは多層であってもよぐ鉄の 場合には低炭素リムド鋼ゃ低炭素アルミキルド鋼などの低炭素鋼、 Ni— Fe合金、イン バー合金が好ましぐまた、黒化処理としてカソーディック電着を行う場合には、電着 の易しさから銅又は銅合金箔が好ましい。該銅箔としては、圧延銅箔、電解銅箔が使 用できるが、厚さの均一性、黒化処理及び/又はクロメート処理との密着性、及び 10 z m以下の薄膜化ができる点から、電解銅箔が好ましい。該金属層 35の厚さは 1一 100 z m程度、好ましくは 5 20 z mである。これ以下の厚さでは、フォトリソグラフィ 法によるメッシュ加工は容易になる力 金属の電気抵抗値が増え電磁波シールド効 果が損なわれ、これ以上では、所望する高精細なメッシュの形状が得られず、その結 果、実質的な開口率が低くなり、光線透過率が低下し、さらに視野角も低下して、画 像の視認性が低下する。
[0028] 金属層 35の表面粗さとしては、 Rz値で 0. 5 10 μ mが好ましレ、。これ以下では、 黒化処理しても外光が鏡面反射して、画像の視認性が劣化する。これ以上では、接 着剤やレジストなどを塗布する際に、表面全体へ行き渡らなかったり、気泡が発生し たりする。なお、表面粗さ Rzは、 JIS ' B0601 (1994年版）に準拠して測定した 10点 平均粗さ値である。
[0029] (黒化処理）
好ましくは、金属層 35の少なくとも透明基材フィルム 31側の面に、黒化処理を施し て黒化処理層 37を形成する。さらに、両面を黒化処理してもよい。該黒化処理は、金 属層 35単層の状態で行ってから透明基材フィルム 31へ積層する。積層後、さらに透 明基材フィルム 31の反対面に露出している金属層 35を黒化処理して、両面に黒化 処理層 37を形成してもよレヽ。
[0030] (両面黒化）
また、両面を黒化処理する場合、上記で片面黒化処理した金属層 35を後述する透 明基材フィルム 31と積層しメッシュを形成した後に、他方を黒化処理してよい。該黒 化処理の方法としては、後述の黒化処理が適用でき、好ましくはメツキ法が用いられ る。フォトリソグラフィ一法でメッシュ部を設けた後に、黒化処理をすると、メッシュ状の 金属層の表面（ライン部の表面)及び側面 (ライン部の側面）の部分まで黒化処理を 行うことができて、 PDPから発生する電磁波をシールドし、かつ、電磁波シールド用 の金属メッシュ枠 (ライン部）部分からの反射が抑えられ、ディスプレイの表示画像を ハイコントラストで、良好な状態で視認することができる。
[0031] 黒化処理としては、金属層の表面を粗化（光拡散)及び/又は黒化（光吸収）すれ ばよぐ金属、合金、金属酸化物、金属酸化物、或は黒色顔料を添加した樹脂（塗料 )の形成や種々の手法が適用できる。好ましい黒化処理としてはメツキ法が用いられ 、該メツキ法によれば、金属層への密着力に優れ、均一に、かつ容易に黒化すること ができる。該メツキの材料としては、銅、コバルト、ニッケノレ、亜鉛、スズ、若しくはクロ ムから選択された少なくとも 1種、又は化合物を用いる。他の金属又は化合物では、 黒化が不充分、又は金属層との密着に欠け、例えばカドミウムメツキでは顕著である
[0032] 金属層 35として銅箔を用いる場合の好ましいメツキ法としては、銅箔を硫酸、硫酸 銅及び硫酸コバルトなどからなる電解液中で、陰極電解処理を行って、カチオン性 粒子を付着させるカソーディック電着メツキが挙げられる。該カチオン性粒子を設ける ことで金属層 35がより粗ィ匕し、同時に黒色が得られる。該カチオン性粒子としては、 銅粒子、銅と他の金属との合金粒子が適用できる力 好ましくは銅'コバルト合金の 粒子が用いられ、該銅 'コバルト合金粒子の平均粒子径は 0. 1—: 1 μ ΐηが好ましい。 カソーディック電着によれば、粒子を平均粒子径 0. 1— 1 / mに揃えて好適に付着 すること力 Sできる。また、銅箔表面に高電流密度で処理することにより、銅箔表面が力 ソーディックとなり、還元性水素を発生し活性化して、銅箔と粒子との密着性が著しく 向上できる。
[0033] 銅'コバルト合金粒子の平均粒子径がこれ以上では、金属層の厚さが薄くなり、基 材フィルムと積層する工程で金属箔が切断したりして加工性が悪化し、また、密集粒 子の外観の緻密さが欠けて、外観及び光吸収のムラが目立ってくる。これ以下では、 金属層の粗化が不足するので、画像の視認性が悪くなる。
[0034] また、黒色クロム、黒色ニッケノレによる黒化処理も、導電性と黒色度合いが良好で、 粒子の脱落もなく好ましい、但し黒色ニッケルはアース性が悪いこともあるので、この 場合にはパターン状にメツキすればょレ、。
[0035] 電磁波シールドフィルム 30の視認性を評価する光学特性として、色調を JIS— Z872 9に準拠した表色系「L *、 a *、 b *、 Δ Ε *」で表した。該「& *」及び¾ *」の絶対 値が小さい方が金属層が非視認性となり、コントラスト感が高まり、結果として画像の 視認性が優れる。
[0036] 本明細書では、粗化及び黒色化を合わせて黒化処理という。該黒化処理の好まし い反射 Y値は 0%より大きく 20%以下である。なお、反射 Y値の測定方法は、分光光 度計 UV—3100PC (島津製作所製）にて入射角 5° (波長は 380nm力、ら 780nm) で測定した。
[0037] (防鲭処理）
金属層 35面及び/又は黒化処理層 37へ、必要に応じて防鲭層 37aを設けてもよ ぐ少なくとも黒化処理層 37へ設けるのが好ましい。該防鲭層 37aは、金属層 35及 び黒化処理層 37の防鲭機能を持ち、かつ黒化処理が粒子の場合、その脱落や変 形を防止する。該防鲭層 37aとしては公知の防鲭層が適用できる力 ニッケル、亜鉛 、及び/又は銅の酸化物、又はクロメート処理層が好適である。ニッケノレ、亜鉛及び /又は銅の酸化物の形成は公知のメツキ法でよぐ厚さは、 0. 001— 1 /i m程度、好 ましくは 0. 001— 0. 1 /i mとなってレヽる。
[0038] (クロメート処理）
クロメート処理は、被処理材へクロメート処理液を塗布し処理する。該塗布方法とし ては、ロールコート、カーテンコート、スクイズコート、静電霧化法、浸漬法などが適用 でき、塗布後は水洗いせずに乾燥すればよい。クロメート処理液としては、通常 Cr〇 2を 3g/lを含む水溶液を使用する。具体的には、アルサーフ 1000 (日本ペイント社 製、クロメート処理剤商品名）、 PM— 284 (日本パーカライジング社製、クロメート処理 液商品名）などが例示できる。このクロメート処理は黒化処理の効果をより高める。
[0039] (透明基材フィルム）
透明基材フィルム 31の材料としては、使用条件や製造に耐える透明性、絶縁性、 耐熱性、機械的強度などがあれば、種々の材料が適用できる。例えば、ポリエチレン テレフタレートやポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂、ナイロン 6ゃナ ィロン 610などのポリアミド系樹脂、ポリプロピレン、ポリメチルペンテンなどのポリオレ フィン系樹脂、ポリ塩化ビュルなどのビュル系樹脂、ポリメチル (メタ）アタリレートなど のアクリル系樹脂、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリフエ二レンエーテル、ポリアラミド などのエンジニアリング樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレンなどのスチレン系樹脂、 トリァセチルセルロース（TAC)などのセルロース系樹脂などがある。
[0040] 透明基材フィルム 31は、これら樹脂を主成分とする共重合樹脂、または、混合体（ ァロイでを含む）、若しくは複数層からなる積層体であってもよい。該透明基材は、延 伸フィルムでも、未延伸フィルムでも良レ、が、強度を向上させる目的で、一軸方向ま たは二軸方向に延伸したフィルムが好ましレ、。透明基材 31の厚さは、通常、 12— 10 00 z m程度、好ましくは 50 700 z m、 100— 500 μ mカ最適である。これ以下の 厚さでは、機械的強度が不足して反りやたるみなどが発生し、これ以上では、過剰な 性能となってコスト的にも無駄である。該透明基材は、これら樹脂の少なくとも 1層か らなるフィルム、シート、ボード状として使用する力 これら形状を本明細書ではフィノレ ムと総称する。通常は、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリ エステル系のフィルムが透明性、耐熱性がよくコストも安いので好適に使用され、ポリ エチレンテレフタレートが最適である。また、透明性は高いほどよいが、好ましくは可 視光線透過率で 80%以上である。
[0041] 透明基材フィルム 31に対しては、塗布に先立って塗布面へ、コロナ放電処理、プラ ズマ処理、オゾン処理、フレーム処理、プライマー（アンカーコート、接着促進剤、易 接着剤とも呼ばれる）塗布処理、予熱処理、除塵埃処理、蒸着処理、アルカリ処理、 などの易接着処理を行ってもよい。該樹脂フィルムは、必要に応じて、充填剤、可塑 剤、帯電防止剤などの添加剤をカ卩えても良レ、。
[0042] (積層）
透明基材フィルム 31と金属層 35との積層（ラミネートともいう）法としては通常、透明 基材フィルム 31又は金属層 35の一方の面へ、接着剤（又は粘着剤）の樹脂、または これらの混合物を、ラテックス、水分散液、又は有機溶媒液として、スクリーン印刷、グ ラビア印刷、コンマコート、ロールコートなどの公知の印刷またはコーティング法で、 印刷または塗布し、必要に応じて乾燥して接着層 33を形成した後に、他方の材料と 重ねて加圧すればよい。該接着層の膜厚としては、 0. 1一 20 z m (乾燥状態)程度、 好ましくは 1一 10 μ mである。
[0043] 具体的な積層方法としては、通常、連続した帯状 (卷取という）で行い、巻き取り口 ールから卷きほぐされて伸張された状態で、金属層（箔）又は透明基材フィルムの一 方へ、接着剤を塗布し乾燥した後に、他方の材料を重ね合わせて加圧すればよい。 さらに、必要に応じて 30— 80°Cの雰囲気で数時間一数日のエージング (養生、硬化 )を行って、卷取りロール状の積層体とする。好ましくは、当業者がドライラミネーショ ン法（ドライラミともいう）と呼ぶ方法がある。さらに、紫外線 (UV)や電子線 (EB)など の電離放射線で硬化 (反応)する電離放射線硬化型樹脂も好ましく用いられる。尚、 透明基材フィルムの一方の面にメツキ、蒸着等の方法により金属層を直接形成するこ とも可能である。この場合には、接着層は介在しない。
[0044] (ドライラミネーシヨン法）
ドライラミネーシヨン法とは、溶媒へ分散または溶解した接着剤を、乾燥後の膜厚が 0. 1一 20 x m (乾燥状態）程度、好ましくは 1. 0— 5. O x mとなるように、例えば、口 ールコーティング、リバースロールコーティング、グラビアコーティングなどのコーティ ング法で塗布し、溶剤などを乾燥して、接着層を形成し、その後直ちに、貼り合わせ 基材を積層した後に、 30— 120°Cで数時間一数日間エージングで接着剤を硬化さ せることで、 2種の材料を積層させる方法である。ドライラミネーシヨン法で用いる接着 層は接着層 33となり、熱硬化型、または電離放射線硬化型接着剤が適用できる。熱 硬化型接着剤としては、具体的には、トリレンジイソシアナートやへキサメチレンジイソ シアナート等の多官能イソシァネートと、ポリエーテル系ポリオール、ポリアタリレート ポリオール等のヒドロキシル基含有化合物との反応により得られる 2液硬化型ウレタン 系接着剤、アクリル系接着剤、ゴム系接着剤などが適用できるが、 2液硬化型ウレタ ン系接着剤が好適である。
[0045] (金属のメッシュ加工）
図 2の平面図に示すように、金属層 35はメッシュ状領域のメッシュ部 203と、該メッ シュ部を外周する全面金属層の端子部となる額縁部 201とを有する。メッシュ部 203 は、図 3の断面図の如ぐ開口部 207と金属層が残ったライン部 205とで囲まれた複 数の開口部 207とを有している。額縁部 201は開口部がなく全面金属層が残され、 額縁部 201は、メッシュ部 203を囲むように設けておく。メッシュ状領域を設ける方法 として、公知のフォトリソグラフィ一法が適用できる。 [0046] (フォトリソグラフィ一法）
透明基材フィルム 31/接着層 33/金属層 35の積層体の金属面を、フォトリソダラ フィ一法でメッシュ状とする。この金属層 35へレジスト層をメッシュパターン状に設け、 レジスト層で覆われていない部分の金属層をエッチングにより除去した後に、レジスト 層を除去して、メッシュ状の金属層とする。この工程も、帯状で連続して卷き取られた ロール状の積層体をカ卩ェして行く。該積層体を連続的又は間歇的に搬送しながら、 緩みなく伸張した状態で、マスキング、エッチング、レジスト剥離する。
[0047] まず、マスキングは、例えば、感光性レジストを金属層上へ全面塗布し、乾燥した後 に、所定のパターン (メッシュのライン部と額縁部）を措置した原版（フォトマスク）にて 密着露光し、水現像し、硬膜処理などを施し、ベーキングする。レジストは、卷き取り ロール状の帯状の積層体を連続又は間欠で搬送させながら、その金属層面へ、カゼ イン、 PVA、ゼラチンなどのレジストをデイツビング (浸漬）、カーテンコート、掛け流し などの方法で塗布される。また、レジストは塗布ではなぐドライフィルムレジストを用 レ、てもよく、ドライフィルムレジストを用いると、作業性が向上できる。ベーキングは力 ゼインレジストの場合、 200— 300°Cで行う力 積層体の反りを防止するために、でき るだけ低温度が好ましい。
[0048] (エッチング）
マスキング後にエッチングを行う。エッチングに用いるエッチング液としては、本発 明のようにエッチングを連続して行う場合、循環使用が容易にできる塩化第二鉄、或 は塩ィ匕第二銅の水溶液が好ましい。また、該エッチングは、帯状で連続する鋼材、特 に厚さ 20— 80 μ mの薄板をエッチングするカラー TVのブラウン管用のシャドウマス クを製造する設備と、基本的に同様の工程である。即ち、該シャドウマスクの既存の 製造設備を流用でき、マスキングからエッチングまでがー貫して連続生産できて、極 めて効率が良い。エッチング後は、水洗、アルカリ液によるレジスト剥離、洗浄を行つ てから乾燥すればよい。
[0049] (メッシュ）
メッシュ部 203は、額縁部 201で囲まれるとともにライン部 205により形成された複 数の開口部 207を有している。開口部 207の形状は特に限定されず、例えば、正 3 角形等の 3角形、正方形、長方形、菱形、台形などの 4角形、 6角形、等の多角形、 円形、楕円形などが適用できる。これらの開口部 207の複数を、同一形状のもののみ 、または 2種類以上の組合せにより配列させてメッシュ部 203とする。開口部 207の開 口率及びメッシュの非視認性から、ライン部 205のライン幅は 25 a m以下、好ましく は 20 μ m以下となっており、ライン部 205のライン間隔（ラインピッチ）は光線透過率 力、ら 100 μ m以上、好ましくは 200 μ m以上となってレヽる。また、ライン咅 B205と電磁 波シールド層端部の辺とのなすバイアス角度は、モアレ縞の解消などのために、ディ スプレイの画素や発光特性を加味して適宜、選択すればょレ、。
図 3 (A) (B)は、電磁波シールドフィルムのメッシュ部の断面図である。
[0050] (平坦化樹脂層）
フォトリソグラフィ一法で積層された、透明基材フィルム 31/接着層 33/金属層 35 /必要に応じ設けられる黒化処理層 37からなる積層体の金属層或いは黒化処理層 37面に、平坦化樹脂層 39を設ける。メッシュ部 203が形成されると、額縁部 201及 びメッシュ部 203のライン部 205は金属箔の厚みがある力 開口部 207は金属層 35 が除去されて空洞（凹部）となり、メッシュ部 203は、凹凸状態となる。従来、該凹凸は 次工程で接着剤又は粘着剤が塗布される場合が多いので、接着剤などで坦められ るが、隅々まで埋まらず特にコーナー部分には気泡が発生して、透明性や表示画像 の視認性が低下するので、加圧や減圧などによる気泡の脱気工程を設けねばならな いという欠点がある。この脱気工程は、積層体を通常常温一 70°C程度の密閉釜へ入 れて、加圧及び/又は減圧、若しくはこれらの繰り返し、 30— 60分間も行うバッチ処 理であり、極めて生産性が低ぐ高コストである。また、メッシュ部 203形成後積層体を ディスプレイへ貼り込む場合には、凹凸が露出したままで、傷付きやすく作業性が悪 レ、。本発明によれば、これらの欠点が解消される。
[0051] 平坦ィ匕樹脂層 39で凹部を坦めて、メッシュ部 203の開口部 207の凹部の隅々まで 行き渡らせ、かつ金属層を保護する。平坦化樹脂層 39の樹脂を金属層 35へ塗布し 被覆するが、図 3 (A)の如く平坦ィ匕樹脂層 39が開口部 207の凹部を坦め、かつ金属 層 35上にも形成されて表面を平坦ィ匕させてもよぐ図 3 (B)の如く開口部 207の凹部 の表面に凹凸が残っていてもよい。要は、開口部 207の凹部及び金属層 35を覆レ、、 開口部 207の凹部の隅々へ平坦化樹脂層 39が行き渡って金属層の凹凸の段差を 軽減していればよい。
[0052] 平坦ィ匕樹脂層 39は透明性が高ぐメッシュの金属との接着性が良ぐ次工程の透 明接着剤との接着性がよいものであればよい。該平坦化樹脂層 39の材料としては、 透明であればよく特に限定されないが、従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化型樹脂、 反応型樹脂、電離放射線硬化型樹脂やこれらの混合物が使用される。平坦化樹脂 層 39が熱硬化型樹脂の場合には、後述する着色剤、特にジィモ二ゥム系化合物を 含有させた場合、該着色剤がイソシァネート基などの官能基を有する硬化剤との硬 化反応過程において着色剤が変化し、機能が低下しやすい。また、電離放射線硬化 型樹脂の場合には、電離放射線の照射により、着色剤が変退色や機能低下したりす る恐れがあるので、熱可塑性樹脂を用いることが好ましい。
[0053] さらに、平坦化樹脂層 39は、粘着層 41へ含有する「色調補正用着色剤」及び/又 は「色調調整用着色剤」と隔離するためにも、熱可塑性樹脂が好ましぐさらに好まし くは、極性の高い官能基を持たない合成樹脂、あるいは官能基数の少ない合成樹脂 となっている。
[0054] 熱可塑性樹脂としては、例えば塩化ビニル -酢酸ビニル共重合体、塩化ビュル-酢 酸ビエルアルコール共重合体、又は塩化ビニル -アクリロニトリル共重合体などの塩 化ビエル系樹脂、ポリメチル (メタ）アタリレート樹脂、ポリブチル (メタ）アタリレート樹脂 、又はアクリル酸エステル-アクリロニトリル共重合体などのアクリル系樹脂、環状ポリ ォレフィン系などのポリオレフイン系樹脂、スチレン-アクリロニトリル樹脂、ポリビニル プチラール、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ウレタン系樹脂、アミド系樹脂 、セルロース系樹脂（セルロースアセテートブチレート、セルロースダイアセテート、セ ノレローストリアセテート、セノレロースプロピオネート、ニトロセノレロース、ェチノレセノレ口 ース、メチノレセノレロース、プロピノレセノレロース、メチノレエチノレセノレロース、力ノレボキシメ チルセルロース、ァセチルセルロースなど）、これらの混合物等が使用される。なお、 本明細書では、変性されたセルロース系樹脂も合成樹脂に含める。
[0055] 好ましい熱可塑性樹脂としては、アクリル系樹脂、アクリロニトリル系樹脂、ウレタン 系樹脂、又はポリエステル樹脂である。該熱可塑性樹脂は、着色剤である色素の溶 解性や安定維持性、及び着色剤の機能耐久性の点で良好である。
[0056] (近赤外線吸収剤の含有）
平坦ィ匕樹脂層 39へは、近赤外線吸収剤（NIR吸収剤）を含有させる。該近赤外線 吸収剤は、 PDPの発する波長 800— l lOOnm帯域の近赤外線の透過率が 20%以 下、好ましくは 10%以下に、実用に供さられる程度にシールドするものであれば、特 に限定されない。近赤外線吸収剤として、近赤外線領域に急峻な吸収があり、可視 光領域の光透過性が高い、例えば、ポリメチン系、シァニン系化合物、フタロシア二 ン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系ィ匕 合物、ジチオール系金属錯体化合物、ィモニゥム系化合物、ジィモ二ゥム系化合物、 6塩化タングステンなどの近赤外線吸収色素が用いられる。
[0057] 着色剤の種類や添加量は、着色剤の吸収波長及び吸収係数や、色調及びディス プレイ用前面板に要求される透過率などに合わせて、適宜選択すればよい。例えば 、近赤外線吸収剤の添加量は、層中に 0. 1— 15質量％程度を添加し、色調補正用 着色剤や色調調整用着色剤などそれぞれの着色剤の添カ卩量は、層中に 0. 00001 一 2質量％程度を添加し、それらの着色剤を紫外線から保護するために、層中にベ ンゾフヱノン系、ベンゾトリアゾール系などの紫外線吸収剤を含ませてもよぐ紫外線 吸収剤の添加量は、層中に 0. 1— 10質量％程度である。
[0058] (着色剤の含有）
平坦化樹脂層 39へ近赤外線吸収剤（NIR吸収剤）からなる着色剤を含有させる場 合には、透明合成樹脂と着色剤とを溶媒へ溶解又は分散した組成物インキを塗布し 乾燥すればよい。上記着色剤は事前に溶媒へ溶解又は分散した溶液状とし、同様 に透明合成樹脂も事前に溶媒へ溶解又は分散した溶液状とした後に、混合又は再 分散して組成物インキとするのが、着色剤を均一に分散する点で望ましい。混合又 は分散の方法としては特に限定はなぐ通常の混練'分散機、例えば、デスパー、ミ キサ一、タンブラ一、ブレンダー、ホモジナイザー、ボールミルなどの公知の方法を用 レ、ることができる。
[0059] (平坦化樹脂層の形成）
平坦ィ匕樹脂層 39としては、上記樹脂を開口部 207の凹部に塗布して埋め込む力 凹部の隅々まで侵入しないと、気泡が残り透明性が低下する。このため、溶剤などで 稀釈して低粘度の組成物 (インキ）とし、塗布し乾燥して層を形成する。該組成物 (ィ ンキ）としては、上記の樹脂をメチルェチルケトン、酢酸ェチル及び/又はトルエンな どを溶媒として分散または溶解し、別途、着色剤も同様の溶媒へ分散または溶解し て混合することが、均一に分散する点で好ましい。塗布方法としては、スクリーン印刷 、 ローノレコート、 リノ一スローノレコート、スリットリノくースコート- スプレーコート、タ、'ィコ ート、リップダイコート、グラビアコート（グラビア印刷）、グラビアリバースコート、または コンマコートなどの公知の印刷または塗布法で形成する。凹部の隅々まで侵入しな いと、気泡が残り透明性が低下する。このため、溶剤などで稀釈して低粘度で塗布し 乾燥したり、空気を脱気しながら塗布する。
[0060] (パターン状の形成）
該平坦化樹脂層 39は、図 2に図示するように、パターン状に塗布することが好ましく 、該パターン塗布方法としては、スクリーン印刷、グラビアオフセット印刷、または間欠 式ダイコート法が好ましい。該パターンは、メッシュ部 203を覆っていればよぐ少なく とも額縁部 201の 1部を覆わず、該額縁部 201の 1部である金属層 35を接地用ァー スをとることができるように露出させればよい。該露出部分は、額縁部 201の全部、メ ッシュ部 203の外周の上下左右の 1又は複数辺、又は 1辺の 1部でもよい。このように すると、額縁部 201の 1部が外方に露出するので、筐体などへ容易に接地しアースを とれる。また、平坦化樹脂層 39は、必要な部分のみパターン状に塗布しているので、 材料費が削減できる。さらに、従来は接地用に端子部が露出していないので、わざ わざ加工して露出させる端子加工作業をしていたが、本発明ではパターン状に塗布 し額縁部の 1部が露出しているので、端子加工が不要である。
[0061] (粘着層）
上記のように積層された、透明基材フィルム 31/接着層 33/金属層 35Z平坦ィ匕 樹脂層 39のうち平坦ィ匕樹脂層 39面へ粘着層 41が設けられている。粘着層 41の粘 着剤としては、公知の感圧で接着する粘着剤が適用できる。粘着剤としては、特に限 定されるものではなぐ例えば、天然ゴム系、ブチルゴム、ポリイソプレン、ポリイソプチ レン、ポリクロ口プレン又はスチレン一ブタジエン共重合樹脂などの合成ゴム系樹脂、 ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸メチル- (メ タ）アクリル酸ブチル共重合樹脂等のアクリル系樹脂、ポリ酢酸ビニール又はェチレ ンー酢酸ビニール共重合体などの酢酸ビニール系樹脂、ウレタン系樹脂、アタリロニト リル、炭化水素樹脂、アルキルフエノール樹脂、ロジン、ロジントリグリセリド又は水素 化ロジンなどのロジン系樹脂が適用できる。好ましい粘着層 41の粘着剤としては、化 学的に極性の低く、透明性のょレ、材料が好ましレ、。
[0062] (色調補正用着色剤）
PDPでは、特有の封入ガス（例えばネオンなど）固有の発色スペクトル光（不要発 光）が発生して、表示画像の色純度が低下する。このため、これをシールドし補正す る着色剤「色調補正用着色剤（特にネオン原子の発光スペクトル吸収の場合 Ne光吸 収剤ともいう）」を含む層を設ける必要がある。「色調補正用着色剤」は、粘着層 41に 含有される。特にネオン原子の発光スペクトルを吸収する場合には色調補正用着色 剤としては、波長 570nm— 605nmに吸収極大を有する着色剤を用いる。色調補正 用着色剤としては、可視領域に所望の吸収波長を有する一般の染料または顔料が 用いられ、その種類は特に限定されるものではなレ、。例えば、アントラキノン系、フタ ロシアニン系、メチン系、ァゾメチン系、ォキリジン系、ァゾ系、スチリル系、クマリン系 、ポルフィリン系、ジバンゾフラノン系、ジケトピロロピロール系、ローダミン系、キサン テン系、ピロメテン系、スクァリリウム系等の公知の有機色素が挙げられる。
[0063] (色調調整用着色剤）
粘着層 41に、「色調補正用着色剤」に加えて、更に色調調整用着色剤を含有させ てもよい。色調調整用着色剤は、透過画像のコントラストの向上や、色彩調整のため に用いられ、画像の色調を変えて画像を好みの色調に調整するための、可視領域に 吸収を持つ着色剤である。色調調整用着色剤としては、例えば、モノァゾピグメント、 キナクリドン、チォインジゴボルドー、ベリリレンマルーン、ァニリンブラック、弁柄、酸 ィ匕クロム、コバルトブルー、群青、カーボンブラックなどの有機および無機顔料、並び にインジゴイド染料、カルボニゥム染料、キノリン染料、二トロン染料、ナフトキノン染料
、ベリノン染料などの染料を挙げることができる。好ましい着色剤 (染料又は顔料)とし ては、 560 620nmの波長範囲に吸収極大を持つローダミン系、ボルフイリン系、シ ァニン系、スクァリリウム系、ァゾメチン系、キサンタン系、ォキソノール系またはァゾ系 の化合物、 380— 440nmの波長範囲に吸収を持つシァニン系、メロシアニン系、ォ キソノール系、ァリーリデン系またはスチリル系などのメチン系、アントラキノン系、キノ ン系、ジフエニルメタン染料、トリフエニルメタン染料、キサンテン染料、ァゾ系、ァゾメ チン系の化合物、 640 780nmの波長範囲に吸収を持つシァニン系、スクァリリウ ム系、ァゾメチン系、キサンテン系、ォキソノール系、ァゾ系、アントラキノン系、トリフ ェニルメタン系、キサンテン系、銅フタロシアニン系、フエノチアジン系またはフエノキ サジン系などの化合物が好ましく用いられる。これらの着色剤を単独又は混合して用 いてもよい。
[0064] 着色剤の種類や添加量は、着色剤の吸収波長および吸収係数や、色調及びディ スプレイ用前面板に要求される透過率などに合わせて、適宜選択すればよい。例え ば、近赤外線吸収剤は、層中に 0. 1 15質量％程度添加され、色調補正用着色剤 や色調調整用着色剤は、層中に 0. 00001— 2質量％程度添加される。それらの着 色剤を紫外線から保護するために、層中にベンゾフエノン系、ベンゾトリアゾール系な どの紫外線吸収剤を含ませてもよぐ紫外線吸収剤は、層中に 0. 1— 10質量％程度 添加される。
[0065] (着色剤の含有）
粘着層 41の層中へ色調補正用着色剤 (Ne光吸収剤等)、色調調整用着色剤の少 なくとも 1つの着色剤を含有させる場合には、粘着層 41用の粘着剤と着色剤とを溶 媒へ溶解又は分散した組成物を用い、該組成物を塗布し乾燥すればよい。上記着 色剤は事前に溶媒へ溶解又は分散した溶液状とし、同様に粘着剤も事前に溶媒へ 溶解又は分散した溶液状とした後に、混合又は再分散して組成物インキとするのが、 着色剤を均一に分散する点で望ましい。混合又は分散の方法としては特に限定はな ぐ通常の混練'分散機、例えば、デスパー、ミキサー、タンブラ一、プレンダー、ホモ ジナイザー、ボールミルなどの公知の方法が用いられる。
[0066] 本発明では、含有させる近赤外線吸収剤（NIR吸収剤）と色調補正用着色剤（Ne 光吸収剤等）を、それぞれ平坦ィ匕樹脂層 39と粘着層 41の別層に配分することができ るので、両着色剤の透過率調整を個別に行える為、 NIRと不要発光の吸収の程度を 容易に調整できる。また、粘着層 41中へ色調補正用着色剤（Ne吸収剤等）及び色 調調整用着色剤を含有させる作業は、終わりに近い工程で行なわれる。このため物 理的規格が予め決まっており、特に透過スペクトルを確認して色調を調整する作業 が不要な粘着層 41に着色剤を含有させるまでの工程は、共通規格でまとめて 1品種 大ロット製造として行なうことができるので、低コストで製造できる。さらに、最終工程に あたる粘着層形成工程において透過スペクトルを確認して色調を調整または補正す る必要の有る色調補正用着色剤や色調調整用着色剤を含有させるため、顧客の好 みに応じた表示画像の色調を容易に補正、調整することができ、而も工程全体の時 間、コストの上昇を最小限に出来る。また、粘着層形成工程は、平坦化樹脂層形成 工程に比べて加工精度、加工条件調整の要求レベルも低くて済むため、多品種少ロ ットの色調の補正または調整に向いている。
[0067] (剥離紙）
粘着層 41は粘着性を有するので、粘着層 41面へ剥離紙を貼着しておくのが好ま しい。剥離紙は、粘着層形成後直ちに使用する場合には不要である。剥離紙として は、シリコーン樹脂やメラミン樹脂などを塗布したポリエチレンテレフタレートフィルム や上質紙などの公知のものが適用できる。また、粘着剤を平坦化樹脂層 39に塗布す る替わりに、予め剥離紙へ粘着剤が塗布された粘着フィルムを、透明基材フィルム 3 1/接着層 33/金属層 35/平坦ィ匕樹脂層 39の積層体の平坦ィ匕樹脂層 39面へ貼 着してもよレ、。好ましいプラズマディスプレイ用電磁波シールドフィルム 30の構成は、 透明基材フィルム 31/接着層 33/金属層 35/平坦ィ匕樹脂層 39 (近赤外線吸収剤 を含有) /粘着層 41/ (色調補正用着色剤、若しくは、色調補正用着色剤及び色調 調整用着色剤を含有) Z剥離紙となり、使用時に剥離紙を除去して使用する。
[0068] (反射防止層及び/または防眩層）
以上で、透明基材フィルム 31の一方の面へ電磁波及び近赤外線のシールド機能 を設けたが、さらに、透明基材フィルムの他方の面に、反射防止層及び/又は防眩 層 51を設けてもよい。反射防止層及び Z又は防眩層 51は、最後に設けてもよいが、 予め透明基材フィルム 31に設けておくのが好ましい。
[0069] (反射防止機能） 上記透明基材フィルム 31表面へ、反射防止機能を付与するために、少なくとも反 射防止層及び/又は防眩層 51を設ける。また、反射防止フィルム TAC— AR1 (大日 本印刷社製、商品名）などの市販品の反射防止機能付き透明フィルムを用いてもよ レ、。反射防止機能は、太陽、蛍光燈などからの外光が、 PDPの画面に入射して反射 することから生じる画面の映り込みを低減させる。また、表面の反射率を抑えることで 、画像のコントラストが良くなりその結果、画像の視認性が向上する。
[0070] (反射防止層）
本明細書において、「反射防止層」とは、透明基材フィルム 31表面に、透明な誘電 体層を 1層以上積層したものをいう。誘電体層のうち最外層の屈折率を其の直下の 層（透明基材フィルム、直下の誘電体層、或いは後述の如くハードコート層の上に反 射防止層を積層する場合に於いてはハードコート層）よりも低屈折率となるように構成 し、且つ該誘電体層の光学的厚み (屈折率 X幾何学的厚み)を反射防止すべき光 の波長の 1/4とする。このような構成により各層界面からの反射光を干渉により減衰 させること力 Sできる。反射防止層の代表的な層構成としては、（1)透明基材フィルム / (低屈折率層）、（2)透明基材フィルム/ (高屈折率層/低屈折率層）、 （3)透明基 材フィルム/ (低屈折率層/高屈折率層/低屈折率層）、 (4)透明基材フィルム/ ( 高屈折率層/中屈折率層/低屈折率層）等が挙げられる。
尚ここで（ ）内は反射防止層の構成である。反射防止層を構成する各層の材料と しては、低屈折率層については、弗化マグネシウム (MgF2)、水晶石等の無機物、 或いは後述のように低屈折率樹脂組成物が挙げられる。高屈折率層については、二 酸化チタン、硫化亜鉛等の無機物が挙げられる。反射防止層の製法は、公知の蒸着 、スパッタリング等の乾式コーティング法、或いはロールコート、リップダイコート等の 湿式コーティング法による。
[0071] 具体例を示すと、（1)屈折率が 2. 3の硫化亜鉛からなる高屈折率層と、屈折率が 1 . 38の弗化マグネシウムからなる低屈折率層とを、（透明基材フィルム Z〔高屈折率 層/低屈折率層/高屈折率層/低屈折率層〕 )の順で真空蒸着法にて積層したも のを用いることができる。各層の光学的厚みは、可視光線帯域の中間付近の波長ナ トリウム原子スペクトルの D線（ 590nm)の 1Z4とする。 [0072] (2)また透明基材フィルム表面に、低屈折率樹脂組成物からなる低屈折率層をリツ プダイコート法によって塗工し、積層したものを用いることができる。低屈折率層の光 学的厚みは、可視光線帯域の中間付近の波長ナトリウム原子スペクトルの D線 5 90nm)の 1/4とする。該低屈折率樹脂組成物としては、分子中に弗素原子を含む 電離放射線硬化型樹脂中に、平均粒子径 5 300nmの透明微粒子を分散させたも のを用いることができる。低屈折率樹脂組成物を透明基材フィルム表面に塗工し、電 離放射線を照射して架橋、硬化せしめることにより、硬化塗膜の内部及び/又は表 面に平均孔径が 0. 01— lOOnmの空気を含有する孔を多数生じさせ、多孔質塗膜 を形成する。このように分子中に弗素原子を含む電離放射線硬化型樹脂は、それ自 体が通常の樹脂に比べて低屈折率を持ち、かつ塗膜が多孔質となり空気を含有する ため、塗膜の平均屈折率は空気の屈折率（1. 0)に向かって近づき、結果として塗膜 の屈折率は低くなる。分子中に弗素原子を含む電離放射線硬化型樹脂としては、数 平均分子量が 20, 000— 500, 000程度のポリマーであって、分子中に弗素原子を 含むと共に、電離放射線硬化性官能基として (メタ）アタリロイル基等のラジカル重合 性不飽和基、エポキシ基等のカチオン重合性官能基等を有するものを必須成分とす る。 （尚ここで、「（メタ）アタリロイル基」とは、「アタリロイル基又はメタクリロイル基」を意 味する）。分子中に弗素原子を含む電離放射線硬化型樹脂としては、例えば、フル ォロエチレン等の弗素原子含有単量体同志の単独重合体、或いは弗素原子含有単 量体とペンタエリスリトールトリアタリレート等の弗素原子非含有単量体との共重合体 を用いることができる。該ポリマーに更に必要に応じて 1分子中に 3個以上の電離放 射線硬化性官能基を有する単量体を加えても良い。単量体中には弗素原子を含有 しても良いし、含有しなくても良レ、。尚、電離放射線としては、代表的には電子線、紫 外線等が用いられる。
[0073] 電離放射線硬化型樹脂中に含まれる微粒子としては、粒子内部に空気を内包した 中空粒子、多孔質粒子等の粒子それ自体に空気を含有するものが用いられる。或い は、粒子それ自体には空気を含有しなくとも、該電離放射線硬化型樹脂中に分散し た際に、その周囲に空気を付随し微粒径気泡を生じるもの、あるいは（1次)粒子が複 数集合、凝集して空気を包含するもの等であっても良レ、。該微粒子としては、例えば 、中空シリカ粒子、多孔質シリカ粒子、コロイダルシリカ、アクリル凝集粒子等が挙げ られる。
該微粒子の添加量は、該分子中に弗素原子を含む電離放射線硬化型樹脂 100質 量部に対して、 1一 400質量部程度である。
[0074] (ハードコート層）
必要に応じて、透明基材フィルム 31と反射防止層 51との間に設けるハードコート層 は、 JIS— K5400の鉛筆硬度試験で H以上の硬度を有する層からなり、ポリエステル（ メタ）アタリレート、ウレタン（メタ）アタリレート、エポキシ（メタ）アタリレートなどの多官能 (メタ）アタリレートプレポリマー、トリメチロールプロパントリ（メタ）アタリレート、ジぺンタ エリスリトールへキサ (メタ）アタリレート等の多官能 (メタ）アタリレート単量体等を単独 或いは 2種以上混合したものを塗工し、これを、熱又は電離放射線で硬化させて形 成される。
[0075] (防眩層）
本明細書において、「防眩層」は、層表面の微小凹凸、或いは層内部に分散する 異屈折率微粒子によって光を拡散 (散乱）させて、ディスプレイ画像のギラツキやチラ ツキ感を防止するものをいう。防眩性の光学的性質は、ヘイズ値が、 3%以上、好まし くは 3— 40%、より好ましくは 5— 30%となっている。ヘイズ値が 3%未満では防眩性 が不足し、ヘイズ値が 40%を超過すると光線透過率が悪くなる。 60° ダロスは、 100 以下、より好ましくは 90以下、さらに好ましくは 50— 85である。 60° ダロスが 100を 超えると、反射による表面光沢により防眩性が不十分となる。透過鮮明度は、 100以 上、より好ましくは 150以上、さらに好ましくは 200— 300である。透過鮮明度が 100 未満では視認性が不足する。全光線透過率は、 70%以上、より好ましくは 75%以上 、さらに好ましくは 80— 95%である。全光線透過率が 70%未満では透明性が不足 する。上記の数値範囲が防眩性、視認性、光線透過性、透明性などに関して総合的 にょい。
[0076] (防汚層）
反射防止層及び/又は防眩層 51面に防汚層 51aを設けてもよい。防汚層 51aとし ては一般的に、撥水性、撥油性のコートで、シロキサン系、フッ素化アルキルシリルイ匕 合物などが適用できる。撥水性塗料として用いられるフッ素系或いはシリコーン系榭 脂を好適に用いることができる。例えば、反射防止層の低屈折率層を Si02により形 成した場合には、フルォロシリケート系撥水性塗料が好ましく用いられる。
[0077] (紫外線吸収剤）
上記の如き層構成の電磁波シールドフィルム 30に於いて日光等の外光中の紫外 線によって、近赤外線吸収剤の劣化を防止する為に、近赤外線吸収剤を含有する 平坦ィ匕樹脂層 39よりも基材フィルム 31側に位置する層の中に、紫外線吸収剤を含 有せしめる事が好ましい。斯くの如くすることにより、外光中の紫外線は近赤外線吸 収剤（を含む平坦化樹脂）に到達する迄の間に吸収され減衰する。紫外線吸収剤を 含有せしめる層としては、接着層 33、透明基材フィルム 31、反射防止及び/又は防 眩層 51、或いは防汚層 51aのいずれか 1層又は 2層以上が考えられる。或はこれら の層とは別個に透明樹脂中に紫外線吸収剤を含有する層を平坦ィ匕樹脂層 39よりも 透明基材フィルム 31側のいずれかの位置に形成しても良レ、。紫外線吸収剤としては 透明なものを選ぶ力 例えば、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフエノン系化合物 、トリアジン系化合物等の有機系紫外線吸収剤、粒径 0. 2 μ ΐη程度以下の微粒子か ら成る酸化亜鉛、酸化セリウム等の無機系紫外線吸収剤が用いられる。紫外線吸収 剤の添加量は、各層中に於いて 0. 1— 5重量％程度である。
[0078] (プラズマディスプレイ前面板の製造）
以上のようにして、本発明のプラズマディスプレイ用電磁波シールドフィルム 30が 得られ、該電磁波シールドフィルム 30の単独、又は、別に透明基板 61などを積層し て、プラズマディスプレイ用前面板 60を形成する。剥離紙を用いている場合には、剥 離紙を除去して透明基板 61に粘着層 41を粘着する。別の透明基板としては、厚さが 0. 5— 10mm程度のガラス板やアクリル板が適用できる。
[0079] (プラズマディスプレイの組立）
続いて、プラズマディスプレイ用前面板 60を、 PDPの前面へセットして、プラズマデ イスプレイを作製する。プラズマディスプレイ用前面板 60の粘着層 41側或は透明基 板 61側を、 PDP面と相対するように設置して、プラズマディスプレイとする。プラズマ ディスプレイ用前面板 60と PDPとの間には、空気層があってもよぐ又は接着剤など で直接接着してもよい。
このとき、プラズマディスプレイ用前面板の観察側の面には金属層 35の額縁部 20 1の 1部が露出しているので、プラズマディスプレイの筐体へ公知の導電性テープな どで、容易にアースをとることができる。従来は金属層は露出していないので、金属 層を露出させる工程を必要としていた。本発明によれば、プラズマディスプレイを、透 明基材フィルム 41側から観賞すればよぐ前述した多くの機能とその効果が奏される
[0080] (変形形態）（金属層をメツキ）
金属層 35として、金属箔を用いて説明してきた力 金属層 35をメツキ法によりメッシ ュ状に形成してもよい。この場合、透明基材フィルム 31の一方の面へ、直接、金属層 35をメツキ法で形成するので、接着層 33は不要となる。メツキ法は、まず、透明基材 フィルム 31の一方の面へ、中心部分のメッシュ部 203とその外周部の額縁部 201と 力 なる形状のパターンを形成した後導電処理を行い、黒化処理を行った後に、電 磁波シールド機能の金属をメツキする。メッシュ状領域 203と該メッシュ状領域 203を 囲む額縁部 201は、メッシュ状の導電処理を行う際に、所望のメッシュパターンを形 成することにより得られる。このようにしてメッシュ状領域 203と該メッシュ状領域 203 を囲む額縁部 201とが同時に形成された金属層 35が得られる。必要に応じて、金属 層 35にさらに防鲭層が形成される。メツキ法により透明基材フィルム 31 ,金属層 35 及び黒化処理層 37を形成する材料としては、前述のフォトリソグラフィ一法と同様で ある。メツキ法では金属層の成膜方法が異なるだけである。
[0081] 実施例 1
以下、実施例及び比較例により、本発明をさらに詳細に説明するが、これに限定さ れるものではない。
[0082] (金属層、黒化処理層）
金属層として、厚さ 10 z mの電解銅箔を用レ、、この一方の面へ銅'コバルト合金粒 子（平均粒子径 0. 3 z m)をカソーディック電着させて黒化処理層を形成した。
[0083] (基材フィルムと積層）
黒化処理層と、厚さ 100 z mの 2軸延伸 PETフィルム A4300 (東洋紡績社製、ポリ エチレンテレフタレート商品名）とを、 2液硬化型ウレタン系接着剤でラミネートした後 に、 50°Cで 3日間エージングして、積層体を得た。接着剤としては主剤としてポリエス テルウレタンポリオールを用い、又硬化剤としてへキサメチレンジイソシァネートを用 レ、、塗布量は乾燥後の厚さで 4 a mとした。
[0084] (メッシュ部の形成）
該積層体の銅箔をフォトリソグラフィ一法によりメッシュ部を形成する。カラー TVシャ ドウマスク用の製造ラインを流用して、連続した帯状積層体 (卷取）に対してマスキン グからエッチングまでを行う。まず、積層体の銅層面の全体へ、カゼインレジストを掛 け流し法で塗布した。次のステーションへ間欠して搬送し、開口部 207が正方形であ つて、力、つライン部 205のライン幅 22 μ m、ライン部 205のライン間隔（ピッチ） 300 μ m、バイアス角度 49°Cのメッシュ部 203及び該メッシュ部を囲む幅が 15mmの額縁 部 201のネガパターン原版を用いて、密着露光した。次々と積層体をステーションを 搬送させながら、水現像し、硬膜処理し、さらに、加熱してベーキングした。さらに次 のステーションへ搬送し、エッチング液として塩化第二鉄水溶液を用いて、スプレイ 法で吹きかけてエッチングし、開口部 207を形成した。次々と積層体をステーションを 搬送させながら、水洗し、レジストを剥離し、洗浄し、さらに加熱乾燥して、メッシュ部 2 03を形成した。
[0085] (平坦化樹脂層の形成）
続いて、平坦化樹脂層 39を形成する。平坦化樹脂層の組成液としては、アクリル系 樹脂へ、下記の着色剤を予めメチルェチルケトン溶媒へ分散又は溶解させてから混
Pし
[0086] (着色剤）
上記着色剤は、近赤外線吸収剤（NIR吸収剤）として、ジィモ二ゥム系色素 CIR10 85 (日本カーリット社製、商品名）、フタロシアニン系色素 IR12 (日本触媒社製、商品 名）及びフタロシアニン系色素 IR14 (日本触媒社製、商品名）を混合して用いた。 上記の平坦ィヒ樹脂層の組成液を混合してダイコート法で、メッシュ部分のみへバタ ーン状に塗布し乾燥することで、平坦ィ匕樹脂層で覆われたメッシュ部 203と、露出し た幅 15mmの額縁部 201 (金属層）側の平坦ィ匕樹脂層 39 (乾燥後の厚さ 15 μ m)を 得た。
[0087] (粘着層）
下記の粘着層組成物を用いて、スクリーン印刷法で、メッシュ部 203のみにパター ン状に印刷し乾燥して、厚さ 75 μ mのシリコーン塗布の PETセパレータを貼合した。 このことにより粘着層 41で覆われたメッシュ部 203と、露出した幅 15mmの額縁部（ 金属層） 201とを有する実施例 1のプラズマディスプレイ用電磁波シールドフィルム 3 0を得た。
[0088] (粘着層組成物）
上記粘着層組成物として、アクリル系樹脂の粘着剤に、色調補正用着色剤 (Ne光 吸収剤）として、 TAP— 2 (山田化学社製、商品名）を含有させたものを用いた。
[0089] 実施例 2
(色調調整用着色剤入り）
粘着層 41の組成液へ、さらに色調調整用着色剤をとして、 PSバイオレット RC (三 井東圧染料社製、商品名）を加える以外は、実施例 1と同様にして、プラズマディスプ レイ用電磁波シールドフィルム 30を得た。
[0090] 実施例 3
透明基材フィルムとして、下記の反射防止フィルム TAC-AR1 (大日本印刷社製、 反射防止フィルム商品名）（層構成は、厚さ 80 / mの TAC (トリアセチルセルロース） フィルム/ハードコート層/低屈折率層/防汚層である）を用レ、、この反射防止面の 反対側の面へ、金属層を積層する以外は、実施例 1と同様にしてプラズマディスプレ ィ用電磁波シールドフィルム 30を得た。
[0091] 実施例 4
(紫外線吸収剤入り）
透明基材フィルムとして、ポリエチレンテレフタレート中に紫外線吸収剤として、 2 (4 , 6-ジフエニル - 1 , 3， 5-トリアジン- 2-ィル） - 5- [ (へキシル）ォキシ] -フエノールを 1 質量％含有する厚さ 80 μ mの層と、紫外線吸収剤を非含有のポリエチレンテレフタ レートの厚さ 20 μ mの層との 2層積層体から成る総厚 100 μ mの 2軸延伸フィルムを 用レ、、該透明基材フイルムの紫外線吸収剤非含有の層側に金属層の黒化処理層側 を積層した以外は、実施例 1と同様にしてプラズマディスプレイ用電磁波シールドフィ ルム 30を得た。
[0092] (参考例 1一 4)
実施例 1一 4のプラズマディスプレイ用電磁波シールドフィルム 30の粘着層面を、 厚さ 5mmのアクリル樹脂板へ貼着し、プラズマディスプレイ用前面板を得た。該プラ ズマディスプレイ用前面板を、 PDPとしての WOOO (日立製作所社製、商品名）の 前面に 5mmの空気層をあけて設置することによりプラズマディスプレイを作製した。
[0093] (参考例 5)
参考例 1のプラズマディスプレイ用前面板を、アクリル系樹脂の粘着剤により PDPと しての WO〇〇 (日立製作所社製、商品名）の前面に直接接着させて設置することに よりプラズマディスプレイを作製した。
[0094] (評価）
プラズマディスプレイ用電磁波シールドフィルムを、電磁波シールド性、近赤外線吸 収性に加えて、画像の色調、耐湿熱試験及び耐光性試験後の着色剤の褐色性、画 像の視認性、及び耐光性試験後の褐色性と近赤外線吸収性の劣化により評価した。 画像の色調は、 TVテストパターンを表示させて目視で色調を観察し、異常ないもの を合格とした。着色剤の褐色性は、耐湿熱試験（60°C95%RH環境下で、 1000時 間保持）後、及び耐光性試験 (カーボンァーヮ燈型サンシャインフェードメータにて、 ブラックパネル温度 63°Cの環境下で 100時間暴露）後の色の変化を試験前と比較し て目視で評価し、著しい変化のないものを合格とした。画像の視認性は、全面が白及 び黒画像を表示させて目視で色調を観察し、ギラツキ、外光の著しい映り込みのない ものを合格とした。近赤外線吸収性及びその耐光性試験による劣化は波長 800 1 lOOnmの帯域に於ける透過率を上記耐侯性試験の前及び後の透過率を測定し、 該帯域内のいずれの波長に於いても透過率 10%以下であるものを合格とした。又電 磁波シールド性は KEC法 (財団法人関西電子光学振興センターの開発した測定法 )にて測定し、周波数 30MHz 1GHz帯域内での減衰率が 30dB以上のものを合 格とした。
[0095] (評価の結果） 評価の結果、全実施例及び全参考例とも電磁波シールド性及び耐湿熱試験並び に耐候性試験前の近赤外線吸収性は合格であった。又、実施例 1一 3では、画像の 色調、耐熱試験後の着色剤の褐色性及び画像の視認性のレ、ずれも合格であつたが 、耐光性試験後の着色剤の褐色性に於いては黄変が認められ不合格であった。又、 耐光性試験後の近赤外線吸収性に於レ、ては、上記波長帯域内の近赤外線透過率 が 10%を超えて不合格となった。
一方、実施例 4では、耐候性試験後の着色剤の褐色性、及び耐候性試験後の近 赤外線吸収性は共に合格であった。参考例 1一 5では、画像の色調及び画像の視認 性は共に合格であった。

Claims

請求の範囲
[1] プラズマディスプレイ用電磁波シールドフィルムにおレ、て、
透明基材フィルムと、
透明基材フィルムの一方の面に直接又は接着層を介して設けられ、複数の開口を 含むメッシュ部と、このメッシュ部の外周に配置された額縁部とを有する金属層と、 金属層上に順次積層された平坦ィヒ樹脂層および粘着層とを備え、
平坦化樹脂層は近赤外線吸収剤を含有し、
粘着層はプラズマディスプレイの封入ガスの発光スペクトルに起因する特定波長光 を吸収する色調補正用着色剤を含有することを特徴とするプラズマディスプレイ用電 磁波シールドフィルム。
[2] 粘着層はプラズマディスプレイの表示画像の色調調整を行なう色調調整用着色剤 を更に含有することを特徴とする請求項 1記載のプラズマディスプレイ用電磁波シー ノレドフイノレム。
[3] 金属層の額縁部の少なくとも一部は、平坦化樹脂層および粘着層のいずれにも覆 われることなく外方へ露出していることを特徴とする請求項 1記載のプラズマディスプ レイ用電磁波シールドフィルム。
[4] 透明基材フィルムの他方の面に、反射防止層及び/又は防眩層が設けられている ことを特徴とする請求項 1記載のプラズマディスプレイ用電磁波シールドフィルム。
[5] 金属層のうち透明基材フィルム側の面に、黒化処理により黒化処理層が設けられて レ、ることを特徴とする請求項 1記載のプラズマディスプレイ用電磁波シールドフィルム
[6] 平坦ィ匕樹脂層はメッシュ部の開口を完全に坦めて平坦化面を形成することを特徴 とする請求項 1記載のプラズマディスプレイ用電磁波シールドフィルム。
[7] 平坦ィ匕樹脂層はメッシュ部の開口を一部坦めることを特徴とする請求項 1記載のプ ラズマディスプレイ用電磁波シールドフィルム。
[8] 平坦ィ匕樹脂層よりも透明基材フィルム側にある層のいずれ力 1層以上は、紫外線吸 収剤を含有することを特徴とする請求項 1一 7記載のプラズマディスプレイ用電磁波 シールドフィルム。
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