CZ2001378A3 - Způsob výroby materiálu s fotokatalytickým účinkem a zařízení k jeho provádění - Google Patents
Způsob výroby materiálu s fotokatalytickým účinkem a zařízení k jeho provádění Download PDFInfo
- Publication number
- CZ2001378A3 CZ2001378A3 CZ2001378A CZ2001378A CZ2001378A3 CZ 2001378 A3 CZ2001378 A3 CZ 2001378A3 CZ 2001378 A CZ2001378 A CZ 2001378A CZ 2001378 A CZ2001378 A CZ 2001378A CZ 2001378 A3 CZ2001378 A3 CZ 2001378A3
- Authority
- CZ
- Czechia
- Prior art keywords
- metal oxide
- substrate
- photocatalytic
- heating
- photocatalyst
- Prior art date
Links
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 title claims abstract description 125
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 68
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 64
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 title 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 170
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 105
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 claims abstract description 74
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 67
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims abstract description 67
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 claims abstract description 36
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims abstract description 23
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 16
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 53
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 53
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 51
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 40
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 40
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 26
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 23
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 20
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 19
- 239000012702 metal oxide precursor Substances 0.000 claims description 19
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 15
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 15
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 15
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 13
- -1 rubidium francium Chemical class 0.000 claims description 12
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 11
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 10
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 10
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 10
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 9
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 8
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000011591 potassium Substances 0.000 claims description 8
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 8
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 7
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 7
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 5
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 5
- 239000003779 heat-resistant material Substances 0.000 claims description 5
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011135 tin Substances 0.000 claims description 5
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011575 calcium Substances 0.000 claims description 4
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 4
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 4
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 4
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 4
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims description 3
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 claims description 3
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 claims description 3
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 3
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 claims description 3
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 3
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N rubidium atom Chemical compound [Rb] IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 claims description 3
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 3
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910002367 SrTiO Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims description 2
- 239000004566 building material Substances 0.000 claims description 2
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000002602 lanthanoids Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 2
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000007540 photo-reduction reaction Methods 0.000 claims 3
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000011572 manganese Substances 0.000 claims 2
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 claims 2
- 229910015902 Bi 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 40
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 36
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 18
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 18
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 13
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000008204 material by function Substances 0.000 description 11
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 11
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 11
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000010408 film Substances 0.000 description 10
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 10
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 9
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 9
- 230000000845 anti-microbial effect Effects 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 7
- PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N lithium metasilicate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-][Si]([O-])=O PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052912 lithium silicate Inorganic materials 0.000 description 7
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 7
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 7
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L copper(ii) acetate Chemical compound [Cu+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- QWOZZTWBWQMEPD-UHFFFAOYSA-N 1-(2-ethoxypropoxy)propan-2-ol Chemical compound CCOC(C)COCC(C)O QWOZZTWBWQMEPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 5
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 5
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 5
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 5
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 5
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 5
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CC(O)COC(C)COC(C)CO LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 4
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 4
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 4
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 4
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 4
- 239000004447 silicone coating Substances 0.000 description 4
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RWNUSVWFHDHRCJ-UHFFFAOYSA-N 1-butoxypropan-2-ol Chemical compound CCCCOCC(C)O RWNUSVWFHDHRCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FENFUOGYJVOCRY-UHFFFAOYSA-N 1-propoxypropan-2-ol Chemical compound CCCOCC(C)O FENFUOGYJVOCRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 3
- 241000233866 Fungi Species 0.000 description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce] ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002781 deodorant agent Substances 0.000 description 3
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000019645 odor Nutrition 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 3
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 3
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940054273 1-propoxy-2-propanol Drugs 0.000 description 2
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 description 2
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZIQPQYFSSSHQBP-UHFFFAOYSA-N acetyl 2,3-dihydroxypropanoate Chemical compound CC(=O)OC(=O)C(O)CO ZIQPQYFSSSHQBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000004599 antimicrobial Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- WMWLMWRWZQELOS-UHFFFAOYSA-N bismuth(iii) oxide Chemical compound O=[Bi]O[Bi]=O WMWLMWRWZQELOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 2
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N lithium oxide Chemical compound [Li+].[Li+].[O-2] FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001947 lithium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- SCVFZCLFOSHCOH-UHFFFAOYSA-M potassium acetate Chemical compound [K+].CC([O-])=O SCVFZCLFOSHCOH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 2
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N silver oxide Chemical compound [O-2].[Ag+].[Ag+] NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N tetrapropyl silicate Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)OCCC ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 1
- BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 1-hexanamine Chemical compound CCCCCCN BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-tetramine Chemical compound NCCNCCNCCN VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FMVOPJLFZGSYOS-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-ethoxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CCOC(C)COC(C)COC(C)CO FMVOPJLFZGSYOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAEVWDZKMBQDEJ-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methoxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound COC(C)COC(C)COC(C)CO WAEVWDZKMBQDEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 3-(3-methoxypropoxy)propan-1-ol Chemical compound COCCCOCCCO QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WADSJYLPJPTMLN-UHFFFAOYSA-N 3-(cycloundecen-1-yl)-1,2-diazacycloundec-2-ene Chemical compound C1CCCCCCCCC=C1C1=NNCCCCCCCC1 WADSJYLPJPTMLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBIUWALDKXACEA-UHFFFAOYSA-N 3-[bis(2,4-dioxopentan-3-yl)alumanyl]pentane-2,4-dione Chemical compound CC(=O)C(C(C)=O)[Al](C(C(C)=O)C(C)=O)C(C(C)=O)C(C)=O XBIUWALDKXACEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCN ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=C KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N Diethylenetriamine Chemical compound NCCNCCN RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 240000008415 Lactuca sativa Species 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004280 Sodium formate Substances 0.000 description 1
- HKKKJMQHHWKKOA-UHFFFAOYSA-N acetyl acetate dibutyltin Chemical compound C(C)(=O)OC(C)=O.C(CCC)[Sn]CCCC HKKKJMQHHWKKOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical class [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N aluminium isopropoxide Chemical compound [Al+3].CC(C)[O-].CC(C)[O-].CC(C)[O-] SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000323 aluminium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- ZRGUXTGDSGGHLR-UHFFFAOYSA-K aluminum;triperchlorate Chemical compound [Al+3].[O-]Cl(=O)(=O)=O.[O-]Cl(=O)(=O)=O.[O-]Cl(=O)(=O)=O ZRGUXTGDSGGHLR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052810 boron oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001506 calcium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910000389 calcium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011010 calcium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical group 0.000 description 1
- 239000004568 cement Substances 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 1
- JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N diboron trioxide Chemical compound O=BOB=O JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGQFVQQCNPBJKC-UHFFFAOYSA-N dibutoxy(diethyl)silane Chemical compound CCCCO[Si](CC)(CC)OCCCC MGQFVQQCNPBJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQNWJCQWBFHQAO-UHFFFAOYSA-N dibutoxy(dimethyl)silane Chemical compound CCCCO[Si](C)(C)OCCCC GQNWJCQWBFHQAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMAPKOCENOWQRE-UHFFFAOYSA-N diethoxy(diethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(CC)OCC ZMAPKOCENOWQRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGWJKDPTLUDSJT-UHFFFAOYSA-N diethyl dimethyl silicate Chemical compound CCO[Si](OC)(OC)OCC VGWJKDPTLUDSJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSYLGGHSEIWGJV-UHFFFAOYSA-N diethyl(dimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](CC)(OC)OC VSYLGGHSEIWGJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZCJJERBERAQKQ-UHFFFAOYSA-N diethyl(dipropoxy)silane Chemical compound CCCO[Si](CC)(CC)OCCC BZCJJERBERAQKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIDTUTFKRRXWTK-UHFFFAOYSA-N dimethyl(dipropoxy)silane Chemical compound CCCO[Si](C)(C)OCCC ZIDTUTFKRRXWTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010840 domestic wastewater Substances 0.000 description 1
- 238000003912 environmental pollution Methods 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N ethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)OC SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUCGHDUQOVVQED-UHFFFAOYSA-N ethyl(tripropoxy)silane Chemical compound CCCO[Si](CC)(OCCC)OCCC KUCGHDUQOVVQED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 229910000449 hafnium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N hafnium(4+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Hf+4] WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYECJBOWSGTPLU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-diamine Chemical compound CCCCCC(N)N SYECJBOWSGTPLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000010842 industrial wastewater Substances 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- RJMRIDVWCWSWFR-UHFFFAOYSA-N methyl(tripropoxy)silane Chemical compound CCCO[Si](C)(OCCC)OCCC RJMRIDVWCWSWFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-M octanoate Chemical compound CCCCCCCC([O-])=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJIFKLIQANRMOU-UHFFFAOYSA-N oxidanium;4-methylbenzenesulfonate Chemical compound O.CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 KJIFKLIQANRMOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003002 pH adjusting agent Substances 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002304 perfume Substances 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052573 porcelain Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011056 potassium acetate Nutrition 0.000 description 1
- WFIZEGIEIOHZCP-UHFFFAOYSA-M potassium formate Chemical compound [K+].[O-]C=O WFIZEGIEIOHZCP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BWILYWWHXDGKQA-UHFFFAOYSA-M potassium propanoate Chemical compound [K+].CCC([O-])=O BWILYWWHXDGKQA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000010332 potassium propionate Nutrition 0.000 description 1
- 239000004331 potassium propionate Substances 0.000 description 1
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 1
- 230000002335 preservative effect Effects 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000006479 redox reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000012045 salad Nutrition 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- 229910001923 silver oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- HLBBKKJFGFRGMU-UHFFFAOYSA-M sodium formate Chemical compound [Na+].[O-]C=O HLBBKKJFGFRGMU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000019254 sodium formate Nutrition 0.000 description 1
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001948 sodium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002689 soil Substances 0.000 description 1
- 238000000935 solvent evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAGUFWYHJQFNRV-UHFFFAOYSA-N tetraethylenepentamine Chemical compound NCCNCCNCCNCCN FAGUFWYHJQFNRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- GIHPVQDFBJMUAO-UHFFFAOYSA-N tributoxy(ethyl)silane Chemical compound CCCCO[Si](CC)(OCCCC)OCCCC GIHPVQDFBJMUAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYZQBXUDWTVJDF-UHFFFAOYSA-N tributoxy(methyl)silane Chemical compound CCCCO[Si](C)(OCCCC)OCCCC GYZQBXUDWTVJDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAAWAIHPWOJHJJ-UHFFFAOYSA-N tributoxy(propyl)silane Chemical compound CCCCO[Si](CCC)(OCCCC)OCCCC WAAWAIHPWOJHJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H tricalcium bis(phosphate) Chemical compound [Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N trichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)(Cl)Cl YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(ethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)OCC DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N triethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OCC)(OCC)OCC NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OC HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VUWVDNLZJXLQPT-UHFFFAOYSA-N tripropoxy(propyl)silane Chemical compound CCCO[Si](CCC)(OCCC)OCCC VUWVDNLZJXLQPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAOVYDBYKGXFOB-UHFFFAOYSA-N tris(2-methylpropoxy)alumane Chemical compound [Al+3].CC(C)C[O-].CC(C)C[O-].CC(C)C[O-] DAOVYDBYKGXFOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000002912 waste gas Substances 0.000 description 1
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 description 1
- 239000003643 water by type Substances 0.000 description 1
- 238000003911 water pollution Methods 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J35/00—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties
- B01J35/30—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties characterised by their physical properties
- B01J35/39—Photocatalytic properties
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J35/00—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties
- B01J35/30—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties characterised by their physical properties
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J37/00—Processes, in general, for preparing catalysts; Processes, in general, for activation of catalysts
- B01J37/02—Impregnation, coating or precipitation
- B01J37/0215—Coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/009—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/50—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials
- C04B41/5025—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials with ceramic materials
- C04B41/5041—Titanium oxide or titanates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
- C04B41/81—Coating or impregnation
- C04B41/85—Coating or impregnation with inorganic materials
- C04B41/87—Ceramics
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C30/00—Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/212—TiO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/229—Non-specific enumeration
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/71—Photocatalytic coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
- C03C2218/32—After-treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2111/00—Mortars, concrete or artificial stone or mixtures to prepare them, characterised by specific function, property or use
- C04B2111/20—Resistance against chemical, physical or biological attack
- C04B2111/2038—Resistance against physical degradation
- C04B2111/2061—Materials containing photocatalysts, e.g. TiO2, for avoiding staining by air pollutants or the like
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Catalysts (AREA)
Description
Oblast techniky
Vynález se týká způsobu výroby materiálu s fotokatalytickým účinkem, například s antimikrobiální nebo baktericidní účinností, desodorační účinností a podobně pro použití ke zpracování odpadních vod, čištění škodlivých plynů a podobně. Vynález se rovněž týká zařízení k provádění uvedeného způsobu.
Dosavadní stav techniky
V posledních letech se stává sociálním problémem znečištění životního prostředí, například znečištění vod odpadními vodami z domácností, průmyslovými odpadními vodami a podobně. Tyto vody se obvykle projevují nepříjemným zápachem nebo jsou kontaminovány bakteriemi a také množství plísní v životním a pracovním prostředí se v posledních letech podstatně zvýšilo.
Vzhledem k tomu se zvýšil také zájem o fotokatalyzátory jako o materiály, které po osvětlení vyvolávají adsorpci molekul kyslíku na bakterie, plísně a organické sloučeniny, například sloučeniny s nepřijemným zápachem nebo mohou vyvolat desorpci molekul kyslíku a urychlit rozklad organických látek, převážně oxidací. Byla prováděna řada pokusů fixovat fotokatalyzátor na povrch substrátu tak, aby bylo tento povrch možno udržet bez kontaminace bakteriemi nebo škodlivými látkami.
Mezinárodní přihláška PCT/WO 96/29375 uvádí, že povrch vrstvy s obsahem fotokatalyzátoru na povrchu
substrátu je vysoce hydrofilní, úhel styku s vodou je například nejvýš 10° při fotoexcitaci fotokatalyzátoru. Tuto vlastnost je možno využit při zábraně zamlžení průhledných materiálů, jako je sklo, čočky a zrcadla, ke zlepšení čištění vodou včetně deště na povrchu různých předmětů a k dalším účelům.
Funkční materiály s využitím funkce fotokatalyzátoru byly až dosud vyráběny tak, že byla vytvořena kapalina, obsahující fotokatalytický oxid kovu nebo prekursor fotokatalytického oxidu kovu, tato tekutina byla nanesena ve formě povlaku, který byl pak usušen nebo sintrován. Například je možno sol oxidu titaničitého, připravený z alkoxidu titaničitého a alkoholaminu nebo sol, připravený dispergováním částic TiO2, ZnO, SrTiO3 a podobně ve vodném rozpouštědle nanášet na povrch substrátu s následným sušení nebo sintrováním. Jak je uvedeno v japonském patentovém spisu číslo 2517874, spočívá způsob výroby funkčních materiálů v tom, že se na substrát nanese sol oxidu titaničitého ve formě povlaku, povlečený substrát se zahřívá tak, že se teplota postupně zvyšuje od teploty místnosti až do konečné teploty 600 až 700 °C k vypálení, čímž je fotokatalyzátor fixován na substrát.
Podstata vynálezu
Nyní bylo zjištěno, že funkční materiály s uspokojivým fotokatalytickým účinkem je možno účinně získat rychlým zahříváním. Dále bylo zjištěno, že rychlé zahřívání bezprostředně po výrobě substrátu může vést k získání funkčních materiálů s dokonalejším fotokatalytickým účinkem.
Vynález si tedy klade za úkol navrhnout způsob výroby materiálu s fotokatalytickým účinkem s dostatečnou fotokatalytickou účinností. Cílem vynálezu je rovněž navrhnout zařízení k provádění tohoto způsobu.
Podstatu vynálezu tvoří způsob výroby materiálu s fotokatalytickým účinkem, postup spočívá v tom, že se na povrch substrátu nanese prostředek k povlékání s obsahem fotokatalyzátoru ve formě fotokatalytického oxidu kovu a/nebo prekursoru fotokatalytického oxidu kovu, načež, se rychle zahřeje povrch povlečeného substrátu k fixování fotokatalytického oxidu kovu na povrch substrátu.
Součást podstaty vynálezu tvoří také zařízení pro výrobu funkčního materiálu s fotokatalytickým účinkem, toto zařízení je tvořeno alespoň prostředky pro nanesení fotokatalytického povlékacího prostředku s obsahem fotokatalytického oxidu kovu a/nebo prekursoru fotokatalytického oxidu kovu na povrch zpracovávaného substrátu a prostředky pro rychlé zahřívání povrchu substrátu, opatřeného uvedeným povlakem k fixaci fotokatalytického oxidu kovu na povrch substrátu.
Způsobem podle vynálezu a při použití zařízení podle vynálezu je možno bezpečně fixovat fotokatalytický oxid kovu v krátké době na povrch substrátu a současně je možno získat funkční materiál, jehož povrch je velmi hladký, má vysokou fotokatalytickou účinnost, dobrou odolnost proti otěru a odolnost proti působení chemických látek. Mimo to je možno způsobem podle vynálezu při použití zařízení podle vynálezu snížit rozměry celého • · ♦ · · · * * · · · · · · ·«· » • ·· ··· · · · · · zařízení a zjednodušit celý postup za současné úspory místa. Vzhledem ke zkrácení doby zahřívání je také možno snížit náklady na celý postup a také snížit množství odpadních plynů.
Vynález bude dále popsán v souvislosti s přiloženými výkresy.
Přehled obrázků na výkresech
Na obr. l(a) a 1(b) jsou znázorněny diagramy, týkající se jednoho z provedení způsobu pro výrobu funkčních materiálů s fotokatalytickým účinkem podle vynálezu. Vrstva 2a povlaku s obsahem fotokatalyzátoru na substrátu £ se rychle zahřeje za vzniku tenké vrstvy 2b, která dodává substrátu £ fotokatalytickou účinnost.
Na obr. 2(a) a 2(b) jsou znázorněny diagramy jiného provedení způsobu podle vynálezu pro výrobu funkčního materiálu s .fotokatalytickou účinností. Po rychlém zahřátí vrstvy 2a povlékacího materiálu s obsahem fotokatalyzátoru a vrstvy 4a pojivá a rozpouštědla, nanesené na substrát £ se převede vrstva 2a na tenkou vrstvu 2b, která dodává substrátu £ fotokatalytickou účinnost, kdežto vrstva 4a je převedena na vrstvu 4b, obsahující nezesítěný kyslík a přispívající k hydrofilní povaze povrchu.
Na obr. 3 je znázorněn diagram pro další provedení způsobu výroby funkčního materiálu podle vynálezu. Jde o zařízení pro výrobu keramiky jako substrátu. Toto zařízení je tvořeno tvarovacím prvkem 5, prvkem _6 pro nanesení polevy a vypalovacím zařízením £. Zařízení podle
vynálezu je zařazeno za zařízeni pro přípravu substrátu tak, aby bylo možno celý postup provádět kontinuálně. Zařízení podle vynálezu je tvořeno povlékacím ústrojím 8_ pro nanesení kapalného prostředku s obsahem fotokatalyzátoru, zahřívacím zařízením 9 pro rychlé zahřátí substrátu a chladicím zařízením 10 pro chlazení substrátu po zahřátí, mimo to je zařízení opatřeno transportním zařízením 16, upraveným tak, že je možno substrátu kontinuálně přepravovat všemi částmi popsaného zařízení.
Na obr. 4 je znázorněn schematicky diagram struktury zahřívacího zařízení 9, znázorněného jako součást zařízení z obr. 3. Zahřívací zařízení 9_ je tvořeno vyhřívacím prvkem 21, materiálem 22, odolným proti působení tepla a překrývajícím vyhřívací prvek 21 za vzniku prostoru se zvýšenou teplotou, dále je znázorněno transportní zařízení 16, na němž je uložen substrát 23, který má být zahříván a je prostorem posunován ve směru šipky A. Znázorněn je vstup 24 pro přívod substrátu 23 do vyhřívaného prostoru a výstup 25 pro odvádění substrátu 23 z uvedeného prostoru.
Na obr. 5 je znázorněn diagram dalšího provedení zařízení podle vynálezu. Toto zařízení má obdobnou konstrukci jako zařízení z obr. 3 s tím rozdílem, že obsahuje předehřívač 11 pro předehřátí povrchu substrátu před nanesením povlaku s obsahem fotokatalyzátoru a sušicí zařízení 12 pro sušení povlečeného substrátu s naneseným povlakem s obsahem fotokatalyzátoru.
• ♦ · • · · · · · • ··· · · · • · · · · · · ·♦···· θ ** ·· ·· ·· ·· ···
Způsob výroby funkčního materiálu (a) Substrát
Jak již bylo uvedeno, týká se vynález způsobu výroby materiálu s fotokatalytickým účinkem. V důsledku fotokatalytického účinku mohou různé substráty nabývat různé funkce. Jde například o hydrofilnost, antimikrobiální účinnost, zábranu znečištění, účinnost proti řasám, zábranu zamlžení, schopnost převádět NOx a antistatické vlastnosti. To znamená, že „funkční materiál, získaný způsobem podle vynálezu je materiál, který byl v důsledku fotokatalytického účinku pozměněn tak, že nabývá alespoň jednu další funkci ze svrchu uvedených funkcí. Substráty, které je možno způsobem podle vynálezu modifikovat, zahrnují kovy, anorganické materiály, organické materiály a různé složené materiály z těchto materiálů. Může jít o materiály pro použití v místnostech, vně budov, dlaždice, nádobí, sanitární potřeby, desky z křemičitanu vápenatého, cementové desky a další stavební materiály, keramické desky, polovodiče a jiné nové keramické materiály, izolační materiály, sklo, zrcadla, dřevěné výrobky a výrobky z pryskyřice.
(b) Prostředky pro nanášení fotokatalyzátoru
Při provádění způsobu podle vynálezu se prostředky pro nanášení fotokatalyzátoru nejprve nanesou na substrát. Uvedené prostředky obsahují fotokatalytický oxid kovu a/nebo prekursor fotokatalytického oxidu kovu.
Pod pojmem „fotokatalytický oxid kovu se v průběhu přihlášky rozumí takový materiál, které po expozici světlu nebo po excitaci světla s vysokou energií, • ··· • · • ·
například při krátkých vlnových délkách s vyšší energií, než je štěrbina mezi vodivým pásem a valenčním pásem krystalu může vyvolat excitaci elektronů ve valenčním pásu za vzniku vodivých elektronů a děr. Fotokatalytický oxid kovu rozkládá organické sloučeniny pomocí redox reakce nebo může být příčinou velmi vysokého stupně hydrofilnosti v důsledku adsorpce molekul vody s atmosféry. Podle výhodného provedení vynálezu se fotokatalytický oxid kovu volí ze skupiny TÍO2, ZnO, Sn02, SrTiC>2, W03, BÍ2O3, Fe2O3 a V2O5.
Podle vynálezu může prostředek k povlékání s obsahem fotokatalyzátoru obsahovat prekursor fotokatalytického oxidu kovu. Pod pojmem „prekursor fotokatalytického oxidu kovu se v průběhu přihlášky rozumí sloučenina, kterou je možno převést na fotokatalytický oxid kovu dále uvedeným rychlým zahřátím. Podle výhodného provedení vynálezu je možno použít prekursory fotokatalytického oxidu kovu ze sloučenin, které obsahují alespoň jeden kov ze skupiny titan, zinek, cín, stroncium, wolfram, vismut, železo a vanad., tyto sloučeniny je možno rychlým zahřátím převést na odpovídající fotokatalytické oxidy kovů.
Podle výhodného provedení vynálezu obsahuje prostředek pro povlékání s obsahem fotokatalyzátoru také pojivo. Přidávání pojivá je výhodné z toho důvodu, že fotokatalytický oxid kovu může být pevněji fixován na povrch substrátu. Jako specifický příklad výhodných pojiv, použitelných při provádění způsobu podle vynálezu je směs alespoň jedné látky ze skupiny anorganických oxidů, prekursorů filmu ze silikonové pryskyřice, schopných vytvořit takový film a prekursorů filmu oxidu křemičitého, schopných vytvořit takové filmy, spolu s ·· · · · · ··
9 9 9 9 9 9 9 • · · · · · · ·99 9 9
9 9 9 9 9 9 9 9 9 9 9 rozpouštědlem. Jako další příklady výhodných pojiv je možno uvést silikáty alkalických kovů, které je možno vyjádřit obecným vzorcem Me2O.nSiO2, kde Me znamená alkalický kov, může jít například o vodní sklo, silikát draselný, lithný nebo sodný a oxid křemičitý. Dále je možno použít směsi takových pojiv s křemíkem, hliníkem, draslíkem, lithiem, sodíkem, cesiem, vápníkem, hořčíkem, titanem, fosforem, borem, zirkonem nebo lanthanidy, například cerium. Sloučeniny křemíku, hliníku, draslíku, lithia, sodíku, cesia, vápníku, hořčíku, fosforu, boru, zirkonu a ceria jsou například sloučeniny typu MO, MOH, MX nebo MOR, kde M znamená některý ze svrchu uvedených prvků, X znamená atom halogenu a R znamená alkylovou skupinu. Jako specifické příklady těchto sloučenin je možno uvést SiO2, SiO3, Si (OH) , A1(OH)3, TiCl4 a Ti(OC3H7)4. Při použití těchto směsí jako pojiv je možno připravit funkční materiály s dobrým fotokatalytickým účinkem. Zejména je možno připravit funkční materiály s vysokou úrovní hydrofilnosti i ve tmavých prostorech, takže je možno například odstranit olejové skvrny snadno při použití vody. Dále je možno připravit funkční materiály s negativně nabitým povrchem. Dalšími funkčními materiály, které je možno získat, jsou materiály s malým poločasem povrchového náboje, s výhodou nejvýš 10 s. Mimo to jsou takto zpracované povrchy velmi pevné, takže mají ve výhodném provedení tvrdost nejméně 2H, uvedeno ve stupnici, používané pro tužky a také funkční materiály, které jsou velmi odolné proti působení fyzikálních i chemických vlivů.
Prekursor silikátu alkalického kovu je možno použít spolu se silikátem alkalického kovu nebo místo něj.
Prekursorem silikátu alkalického kovu může být například hydroxid lithný, draselný, sodný a křemičitý.
Podle výhodného provedení vynálezu se koncentrace fotokatalytického oxidu kovu a/nebo prekursoru fotokatalytického oxidu kovu v prostředku pro nanášení povlaku s výhodou pohybuje v rozmezí 0,001 až 35 % hmotnostních, zvláště 0,1 až 10 % hmotnostních, vztaženo na podíl pevných látek. Při použití vyšší koncentrace v uvedeném rozmezí se zejména získají fotokatalytické povrchy s vysokou pevností při zachováni fotokatalytického účinku. Mimo to jsou takto zpracované povrchy hladké a lesklé.
Fotokatalytický povlak může vytvořit na povrchu funkčního materiálu velké množství nezesítěného kyslíku, jak bude dále podrobněji popsáno. Pod pojmem „nezesítěný kyslík se rozumí dále uvedené podmínky. Ve velké části pojivá je sloučenina M-OH, kde M znamená kov, jako křemík, titan, hliník, zirkon, cín, tantal a vismut, zesítěná rychlým zahříváním za vzniku vazeb M-O-M. Tím dochází ke vzestupu molekulové hmotnosti a pojivo je spolu s fotokatalytickým oxidem kovu fixováno na povrch substrátu. V tomto případě je část sloučeniny typu M-OH zařazena do molekul výsledného polymeru, aniž by došlo ke vzniku vazeb M-O-M. Tato část sloučenin M-OH je iontově vázána na další ionty, například na ionty sodíku, přítomné ve fotokatalytickém povlaku za vzniku vazeb typu M-OX+, kde X znamená kation, například kation sodíku, tuto vazbu je možno reverzibilně převést zpět na M-OH. Mimo to bylo zjištěno, že po rychlém zahřátí, které bude dále popsáno, dochází při styku s molekulami vody ze vzduchu k rychlé dissociaci vazeb M-O-M na vazby M-OH. V
·· • · • · • · | • ··· • · | ·· • · • · • · · | ·· • ··· • · | ·« · | |
* · • · • · · | • · • • | ||||
·· | ·· | ·· | ·· | ·· | ·« · |
průběhu přihlášky se pod vazbami M-OH a M-OX+ rozumí nezesítěný kyslík. Nezesítěný kyslík má vysokou afinitu pro molekuly vody a je dokonce schopen zařadit molekuly vody ze vzduchu do povrchu substrátu. Mimo to po styku povrchu substrátu s vodou se nezesítěný kyslík přednostně váže na molekuly vody ve srovnání s vazbou na molekuly, přítomné na povrchu substrátu před stykem s vodou. Tím dochází k náhradě molekul, přítomných na povrchu substrátu před stykem s vodou za molekuly vody. V důsledku toho jsou molekuly, které byly přítomny na povrchu před stykem s vodou z povrchu substrátu odstraněny. Tímto způsobem přítomnost nezesítěného kyslíku na povrchu substrátu přispívá k velmi vysokému stupni hydrofilnosti povrchu substrátu spolu s hydrofilností, vytvořenou působením fotokatalytického oxidu kovu. Tento vysoký stupeň hydrofilnosti poskytuje tu výhodu, že je z povrchu substrátu možno odstranit snadno vodou nejen hydrofilní skvrny nebo nečistoty, nýbrž také lipofilní skvrny nebo nečistoty.
Podle výhodného provedení vynálezu obsahuje prostředek pro nanášení fotokatalytického povlaku pojivo v množství 0,001 až 100 hmotnostních dílů, zvláště 0,1 až 5 hmotnostních dílů, vztaženo na 1 hmotnostní díl fotokatalytického oxidu kovu a prekursoru fotokatalytického oxidu kovu. V případě, že množství pojivá a množství fotokatalytického oxidu kovu splňuje svrchu uvedené vztahy, není teplota, nezbytná pro rychlé zahřívání příliš vysoká. Mimo to mají takto připravené funkční materiály velmi dobré vlastnosti.
Podle výhodného provedení vynálezu mohou prostředky pro nanášení fotokatalytických povlaků dále obsahovat kov
WS a/nebo oxid kovu, například alespoň jeden kov ze skupiny měď, stříbro, nikl, železo, zinek, platina, zlato, rhodium, vanad, chrom, kobalt, mangan, wolfram, niob, antimon, kovy platinové skupiny a oxidy svrchu uvedených kovů. Výhodným příkladem kovu a oxidu kovu může být alespoň jeden člen ze skupiny měď, stříbro, platina, kobalt, železo, nikl, oxid měďný, oxid stříbrný, zlato, zinek, chrom, mangan a molybden. Přidáním kovu nebo oxidu kovu'k prostředku pro nanášení fotokatalytických povlaků vede k vytvoření filmu, který může ničit bakterie a plísně, uložené na povrch substrátu, a to i v tmavém prostředí. Mimo to je výhodné také přidávání kovu ze skupiny platiny, jako platiny, paladia, ruthenia, rhodia nebo iridia a osmia nebo oxidů těchto kovů vzhledem k tomu, že tyto kovy mohou zvýšit redox účinnost fotokatalyzátoru a v důsledku toho mohou také zlepšit rozklad organických skvrn nebo nečistot a rozklad škodlivých plynů nebo nepříjemných pachů. Dalším výhodným příkladem oxidu kovu může být alespoň jeden člen ze skupiny oxidů křemíku, hliníku, draslíku, lithia, sodíku, cesia, rubidia a francia. Při přidávání těchto oxidů kovů je možno získat film se zvýšenou hydrofilností. V tomto případě může mít přidaný oxid kovu také funkci pojivá.
Podle výhodného provedení vynálezu se kovy a oxidy kovů ukládají na povrch fotokatalytického oxidu kovu. Kovy a oxidy kovů mohou být ukládány na povrch fotokatalytického oxidu kovu například tak, že se sůl kovu, jako dusičnan stříbrný nebo octan měďnatý přidá k sólu částic fotokatalyzátoru a směs se ozáří ultrafialovým světlem nebo podobným zářením k předběžnému fotoreduktivnímu fixování kovu na povrch částic fotokatalyzátoru. Je také možno použít fixace částic • · • · • · · · ·· ·· ·· ·* · fotokatalyzátoru na povrch substrátu s následným vytvořením povlaků soli kovu, například dusičnanu stříbrného nebo octanu měďnatého, vytvořený povlak se pak ozáří ultrafialovým světlem nebo podobným zářením, čímž se kov uloží na povrch fotokatalyzátoru v pozdějším stupni, nebo je také možno dopovat fotokatalyzátor některým z uvedených kovů.
Podle výhodného provedení vynálezu obsahuje prostředek pro nanášení povlaku fotokatalyzátoru také smáčedlo. Přidávání smáčedla dovoluje rovnoměrně rozprostřít prostředek pro ukládání povlaku fotokatalyzátoru na povrch substrátu.
Podle velmi výhodného provedení vynálezu obsahuje prostředek pro ukládání povlaku fotokatalyzátoru na povrch substrátu (1) fotokatalytický oxid kovu, (2) alespoň jednu látku ze skupiny, tvořené částicemi anorganických oxidů, prekursory filmu ze silikonové pryskyřice, schopnými vytvořit takový film a prekursory filmu oxidu křemičitého, schopnými vytvořit tento film a (3) rozpouštědla.
Střední průměr krystalitů fotokatalytického oxidu kovu je s výhodou nejvýš 100 nm. Horní hranice středního průměru krystalitu je s výhodou přibližně 20 nm a zvláště 10 nm. Spodní hranice středního průměru krystalitu je přibližně s výhodou 1 nm a zvláště přibližně 3 nm. Střední průměr krystalitů fotokatalytických částic ve svrchu uvedeném rozmezí umožňuje dosáhnout dostatečnou hydrofilnost zpracovávaného povrchu a současně umožní zabránit ztrátě průhlednosti povrchu, na nějž je • · · · · 4
4444 4 4444 4 prostředek nanesen, rozptylem viditelného světla na částicích.
Jako příklad částic anorganických oxidů, použitelných v prostředku podle vynálezu’ je možno uvést jednotlivé oxidy, například oxid křemičitý, hlinitý, zirkoničitý, oxid céria, yttria nebo boru, oxid hořečnatý, vápenatý, železitý, amorfní oxid titaničitý a » oxid hafnia a také složené oxidy, jako titanát barnatý, silikát vápenatý, vodní sklo, aluminosilikáty a fosfát vápenatý.
Podle výhodného provedení vynálezu se anorganický oxid s výhodou nachází ve formě vodného koloidu při použití vody jako dispergačního prostředí, nebo ve formě organosolu, připraveného dispergováním anorganického oxidu v koloidní formě v hydrofilním rozpouštědle, například ethylalkoholu, isopropylalkoholu nebo ethylenglykolu. Výhodné je zejména použití koloidního oxidu křemičitého.
Průměr částic anorganického oxidu není nijak zvláště omezen. Jsou však výhodné částice s průměrem v rozmezí 5 až 50 nm ve formě vodného koloidu nebo organosolu z hlediska lesku, odrazu světla, průhlednosti výsledného fotokatalytického povlaku a podobně.
Jako výhodný příklad prekursoru silikonového povlaku, schopného vytvořit silikonový povlak a vhodného pro použití v prostředku pro nanášeni fotokatalytického povlaku podle vynálezu je možno uvést siloxan s následujícím průměrným vzorcem
• 9
RpSlXqO (4-p-q) /2 kde R znamená atom vodíku nebo jednu nebo větší počet organických skupin,
X znamená alkoxyskupinu nebo atom halogenu a p je číslo, vyhovující vztahu 0 < p < 2 a q je číslo, vyhovující vztahu 0 < q < 4.
Jako další výhodný příklad prekursoru silikonového povlaku, schopného vytvořit silikonový povlak a použitelného v prostředku pro ukládání fotokatalytického oxidu kovu podle vynálezu je možno uvést hydrolyzovatelný silanový derivát vzorce
RpSiXú-p kde R má svrchu uvedený význam,
X znamená alkoxyskupinu nebo atom halogenu a p znamená 1 nebo 2.
V tomto případě je organickou skupinou ve významu symbolu R s výhodou alkyl a zvláště nesubstituovaný alkyl o 1 až 18 atomech uhlíku a zvláště o 3 až 18 atomech uhlíku nebo aryl, s výhodou fenyl.
specifické příklady výhodných silanových derivátů
Jako hydrolyzovatelných methyltrimethoxysilan, methyltripropoxysilan, ethyltrimethoxysilan, ethyltripropoxysilan, fenyltrimethoxysilan, fenyltripropoxysilan, dimethyldimethoxysilan, dimethyldipropoxysílán, lze uvést methyltriethoxysilan, methyltributoxysilan, ethyltriethoxysílán, ethyltributoxysílán, fenyltriethoxysilan, fenyltributoxysilan, dimethyldiethoxysilan, dimethyldibutoxysílán, • · · · · · • ··· · ···· « • ♦ · · · · diethyldimethoxysilan, diethyldiethoxysilan, diethyldipropoxysilan, diethyldibutoxysilan, fenylmethyldimethoxy sílán,· fenylmethyldiethoxysílán, fenylmethyldipropoxysilan, fenylmethyldibuthoxysílán, n-propyltrimethoxysilan, n-propyltriethoxysilan, n-propyltripropoxysilan, n-propyltributoxysilan, gamma-glykosidoxypropyltrimethoxysilan a gamma-akryloxypropyltrimethoxysilan.
Siloxan je možno připravit částečnou hydrolýzou a dehydropolykondenzací hydrolyzovatelného silanového derivátu nebo dehydropolykondenzací částečného hydrolyzátu hydrolyzovatelného silanového derivátu s částečným hydrolyzátem tetramethoxysilanu, tetraethoxysilanu, tetrapropoxysilanu, tetrabutoxysilanu, diethoxydimethoxysilanu nebo podobně.
Silikonová pryskyřice, připravená částečnou hydrolýzou nebo dehydropolykondenzací uvedeného prekursoru může být vyjádřena následujícím průměrným vzorcem
RpSiO <4—p) /2 kde R má svrchu uvedený význam,
X znamená alkoxyskupinu nebo atom halogenu a p znamená číslo, vyhovující vztahu 0 < p < 2.
Obsah prekursoru v prostředku, používaném k ukládání povlaků je možno vhodným způsobem stanovit. Například pokud jde o obsah oxidu křemičitého, vztaženo na jeden hmotnostní díl fotokatalytických částic, je horní mez obsahu prekursoru s výhodou 10 hmotnostních dílů a zvláště 5 hmotnostních dílů, nej výhodnějším množstvím je 1 hmotnostní díl. Spodní hranice obsahu prekursoru je s • ♦ · · · ·· • ···· · «···· * · · · · · · · φφ φ • · φ · · φ φ φφ • · ·· · · · · ·· výhodou 0,05, zvláště 0,1 hmotnostního dílu, nej výhodnějši množství je 0,2 hmotnostního dílu.
Množství rozpouštědla, obsaženého v prostředku není žádným zvláštním způsobem omezeno, pokud je rozpouštědlo schopno dispergovat částice fotokatalytického materiálu a prekursoru.tak, aby výsledkem byl hydrofilní povrch. Jako příklady použitelných rozpouštědel je možno uvést vodu, organická rozpouštědla a směsi vody a oragnických rozpouštědel. Zvláště výhodnými rozpouštědly jsou voda, alkohol, nebo směs vody a alkoholu.
Podle výhodného provedení vynálezu se užívá alkohol s molekulovou hmotností 60 až 300, s výhodou 60 až 100, přičemž jde o alkohol, kapalný při teplotě místnosti.
Jako specifické příklady výhodných alkoholů lze uvést methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, terč.butanol, isobutanol, n-butanol, 2-methylpropanol, pentanol, ethylenglykol, monoacetonalkohol, diacetonalkohol, ethylenglykolmonomethylether, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanon, dipropylenglykol, propylenglykol, tripropylenglykol, l-ethoxy-2-propanol, l-butoxy-2propanol, l-propoxy-2-propanol, propylenglykolmonomethylether, dipropylenglykolmonomethylether, dipropylenglykolmonoethýlether, tripropylenglykolmonomethylether a 2-butoxyethanol.
Výhodným příkladem prekursoru oxidu křemičitého může být sloučenina s průměrným vzorcem
SiXqO (4-q) /2 • · · · · · ··· • · · ·· · ···· · · * · · · · · ·· · · · · kde X znamená alkoxyskupinu nebo atom halogenu a q znamená číslo, vyhovující vztahu 0 < q < 4.
Dalším výhodným příkladem prekursoru oxidu křemičitého může být tetrafunkční hydrolyzovatelný silanový derivát obecného vzorce
SiX4 kde R má svrchu uvedený význam a
X znamená alkoxyskupinu nebo atom halogenu.
Specifickými příklady tetrafunkčních hydrolyzovat.elných silanových derivátů, použitelných při provádění způsobu podle vynálezu mohou být tetramethoxysilan, tetraethoxysilan, tetrapropoxysilan, tetrabuthoxysilan a diethoxydimethoxysilan.
Specifickými příklady výhodných silikátů, použitelných při provádění způsobu podle vynálezu mohou být parciální hydrolyzáty a produkty dehydropolykondenzace tetrafunkčních hydrolyzovatelných silanových derivátů.
Jako rozpouštědlo pro uvedený prostředek je možno použít vodu, alkohol a podobně. Zvláště výhodné jsou kapalné alkoholy s molekulovou hmotností 60 až 300. Vzhledem k tomu, že rychlost odpařování těchto alkoholů je poměrně pomalá při nanášení povlaku, je možno zabránit změnám dispergovatelnosti prostředku v důsledku odpařování rozpouštědla, takže je možno vytvořit průhledný, rovnoměrný povlak.
Jako příklad vhodného kapalného alkoholu s molekulovou hmotností 60 až 300 použitelného k uvedenému • · · · · · • · ··· · ···· • · · · · · · · účelu lze uvést n-propanol, isopropanol, terč.butanol, isobutanol, n-butanol, 2-methylpropanol, ethylenglykol, monoacetona1 koho1, diacetonalkohol, ethylenglykolmonomethylether, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanon, dipropylenglykol, propylenglykol, tripropylenglykol, l-ethoxy-2-propanol, l-butoxy-2propanol, l-propoxy-2-propanol, propylenglykolmonoethylether, dipropylenglykolmonoethylether, dipropylenglykolmonoethylether a tripropylenglykolmonomethylether.
Kromě svrchu uvedených složek může prostředek pro nanášeni povlaku obsahovat smáčedlo, katalyzátor pro vytvrzeni při polymeraci, katalyzátoru hydrolýzy, činidlo pro vytvořeni rovnoměrně silného povlaku, kov s antimikrobiálnim účinkem, látku pro úpravu pH, parfém, konzervační prostředek a podobně.
Z katalyzátorů polymerace je možno uvést sloučeniny hliníku, například cheláty tohoto kovu, aluminiumacetylacetonát, aluminumperchlorát, aluminiumchlorid, aluminiumisobutoxid a aluminiumisopropoxid, sloučeniny titanu, jako tetraisopropyltitanát a tetrabutoxytitanát, alkalické sloučeniny, jako hydroxid sodný, hydroxid lithný, hydroxid draselný, methoxid sodíku, acetát sodíku, formiát sodný, acetát draselný, formiát draselný, propionát draselný a tetramethylamoniumhydroxid, dále může jít o sloučeniny typu aminů, jako n-hexylamin, tributylamin, diazabicykloundecen, ethylendiamin, hexandiamin, diethylentriamin, tetraethylenpentamin, triethylentetramin, ethanolaminy, gamma• » · · · ···
999 9 9999 99
9 9 9 9 9 9 99
99 99 9999 aminopropyltrimethoxysilan, gammaaminopropylmethyldimethoxysilan, gamma-(2-aminomethyl)aminopropyltrimethoxysilan a gamma-(2-aminomethyl)aminopropylmethyldimethoxysilan, sloučeniny cínu, jako acetylacetonát cínu a oktylát dibutylcínu, sloučeniny s obsahem kovů, jako oktylát kobaltu, acetylacetonát kobaltu a acetylacetonát železa a také kyseliny, jako jsou kyselina fosforečná, dusičná, ftalová, ptoluensulfonová nebo trichloroctová.
Vhodné použitelné katalyzátory hydrolýzy zahrnují kyselinu dusičnou, chlorovodíkovou, octovou, sírovou, sulfonovou, maleinovou, propionovou, adipovou, fumarovou, ftalovou, valerovou, mléčnou, máselnou, citrónovou, jablečnou, pikrovou, mravenčí, uhličitou a také fenoly, svrchu uvedené katalyzátory mají pH v rozmezí 2 až 5.
Jako činidla pro tvorbu povlaku s rovnoměrnou tloušťkou je možno uvést diacetonalkohol, ethylenglykolmonomethylether, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanon, dipropylenglykol, tripropylenglykol, l-ethoxy-2-propanol, l-butoxy-2-propanol, propylenglykolmonomethylether, l-propoxy-2-propanol, dipropylenglykolmonomethýlether, dipropylenglykolmonoeth-ylether a tripropylenglykolmonoethylether.
(c) Nanášení prostředku pro nanesení fotokatalyzátoru na substrát
Při provádění způsobu podle vynálezu se na povrch substrátu nanáší prostředek s obsahem fotokatalyzátoru. Jako příklady vhodných způsobů povlékání je možno uvést • ♦ · • · ·· · * · postřikováni, ponoření substrátu, polévání, nanášení pomocí válce nebo odstředivky, štětce nebo houby. Ve výhodném provedení vynálezu se prostředek pro nanášení fotokatalyzátoru nanáší na substrát postřikem.
Ve výhodném provedení způsobu podle vynálezu se povrch substrátu před nanášením uvedeného prostředku předehřívá. Předehřátí substrátu je možno uskutečnit zahřátím jeho povrchu na teplotu 20 až 400 °C. Předehřátí povrchu substrátu je výhodné z toho důvodu, že po nanešení prostředku na povrch předehřátého substrátu dojde k rovnoměrnému rozprostření tohoto prostředku a tím i k dosažení rovnoměrného povlaku.
Podle výhodného provedení způsobu podle vynálezu je možno povrch substrátu, povlečený prostředkem pro nanesení fotokatalyzátoru před rychlým zahříváním usušit. Rychlé zahřívání, které bude dále popsáno, způsobí přívod velkého množství tepla k substrátu. Přítomnost přebytku vody nebo rozpouštědla na substrátu by mohla porušit hladkost povrchu substrátu v důsledku rychlého odpařování vody nebo rozpouštědla při rychlé změně teploty. Z těchto důvodů je v některých případech výhodné předběžně odstránit přebytek vody nebo rozpouštědla sušením. Toto sušení je možno uskutečnit přívodem proudu vzduchu nebo zahříváním.
Na obr. l(a) je znázorněn schematický diagram, na němž je znázorněna vrstva 2a prostředku pro nanesení fotokatalyzátoru, uložená na substrát 1.· Po svrchu uvedeném rychlém zahřátí se vrstva 2a prostředku transformuje na tenkou vrstvu 2b s fotokatalytickým účinkem na substrátu 1. Tímto způsobem se získá materiál • · • ··· • · ♦ · • · ··· · • · · · * · • · · · « ** ·· ·· ·· ·· · s fotokatalytickým účinkem, tak jak je znázorněn na obr. 1(b).
Podle výhodného provedení způsobu vynálezu je možno nanášet prostředek pro vytvořeni fotokatalytického povlaku na povrchu substrátu tak, aby byl povlak nanesen ve větším počtu vrstev. Postup může probíhat tak, že se na substrát postupně nanese několikrát po sobě prostředek s obsahem téhož fotokatalyzátoru. Je také možno postupovat tak, že se nanese řada vrstev, obsahujících různé fotokatalyzátory na povrch substrátu. V případě, že se opakovaně nanese prostředek s obsahem téhož fotokatalyzátoru, dojde k vytvoření vícevrstvého povlaku. V tomto případě je možno dosáhnout výsledného povlaku se zvláště rovnoměrnou tloušťkou.
Podle jiného provedení způsobu podle vynálezu se nejprve nanese prostředek, tvořený pojivém a rozpouštědlem, v podstatě prostým fotokatalytického oxidu kovu i prekursoru fotokatalytického oxidu kovu a pak se nanese prostředek s obsahem fotokatalytického oxidu kovu a/nebo prekursoru fotokatalytického oxidu kovu nebo prostředek, obsahující tyto látky ve směsi s pojivém. V případě, že je zapotřebí dosáhnout dostatečného množství nezesítěného kyslíku, postupuje se s výhodou tak, že se nejprve nanese prostředek s obsahem fotokatalyzátoru a pak se nanese povlak s obsahem pojivá a rozpouštědla za vzniku vícevrstevné struktury povlaku. Na obr. 2 je schematicky znázorněn diagram funkčního substrátu podle tohoto provedení. V tomto případě se na substrát 1_ uloží vrstva 2a prostředku s obsahem fotokatalyzátoru a na ní se uloží vrstva 4a, obsahující pojivo a- rozpouštědlo (obr. 2a). Po rychlém nanesení se vrstva 2a transformuje na tenkou vrstvu 2d s fotokatalytickým účinkem na substrátu 1, kdežto vrstva 4a se stransformuje na vrstvu 4b, která obsahuje nezesitěný kyslík.a přispívá k hydrofilní povaze povrchu materiálu. Tímto způsobem se získá funkční materiál _3 s fotokatalytickými vlastnostmi (obr. 2b).
(d) Rychlé zahřívání
Povrch substrátu, opatřeného povlakem fotokatalyzátoru se pak rychle zahřeje. Pod pojmem „rychlé zahřívání se rozumí zahřívání po takové časové období, že přestože je teplo rovnoměrně rozprostředno po povlaku fotokatalyzátoru na substrátu, substrát nedosáhne teploty povlaku. Z toho důvodu se rychlé zahřívání s výhodou uskuteční intenzivním přívodem tepla pouze k povrchu substrátu.
Podle výhodného provedení vynálezu se postupuje tak, že se povrch rychle zahřeje na teplotu 100 až 800, s výhodou 150 až 600 °C. Mimo to, jak již bylo svrchu popsáno, se doba zahřívání řídí tak, aby teplota celého substrátu nedosáhla svrchu uvedených hodnot. Rychlé zahřívání se s výhodou provádí po dobu 2 až 60 a zvláště 5 až 30 sekund. Při rychlém zahřívání povrchu substrátu na svrchu uvedenou teplotu je možno dosáhnout funkčního materiálu s uspokojivou fotokatalytickou účinností. K tomu dochází zvláště proto, že zahřívání na svrchu uvedené teplotní rozmezí vede ke vzniku nezesítěného kyslíku, který je velmi výhodný z hlediska možnosti dosáhnout vysoké hydrofilnosti povrchu substrátu. Mimo to vzhledem k tomu, že celý substrát nedosáhne uvedené vysoké teploty, je možno účinně zabránit porušení nebo φ · • · • φφ· • ··· φ φφ ·♦· φ φ · · · φ φ φ φ · · φ · φ φφ
...........
praskáni povlaku vzhledem k příliš rychlému zvyšování teploty. Stejnému jevu je možno zabránit také v průběhu následného chlazení substrátu.
Podle výhodného provedení způsobu podle vynálezu se v průběhu zahřívání teplota udržuje na stejné hodnotě. Podle jednoho z dalších výhodných provedení způsobu podle vynálezu se teplota substrátu udržuje na rozmezí 100 až 1000 °C.
Podle jednoho z dalších výhodných provedení způsobu podle vynálezu se rychlé zahřívání uskutečňuje při použití zahřívacích prvků s hodnotou alespoň 120 MJ/m2.h, s výhodou alespoň 400 MJ/m2.h.
Rychle zahřátý substrát se pak zchladí za vzniku výsledného funkčního materiálu. Podle výhodného provedení se také chlazení provádí rychle.
Zařízeni k provádění způsobu podle vynálezu
Součást podstaty vynálezu tvoří také zařízení pro výrobu materiálu s fotokatalytickým účinkem.
Na obr. 3 je znázorněn schématický pohled na zařízení pro výrobu funkčního materiálu podle vynálezu. Ve znázorněném provedení je zařízeni podle vynálezu zařazeno bezprostředně za zařízením pro výrobu substrátu, aby byl celý postup prováděn kontinuálně. Zařízení pro výrobu substrátu, obvykle keramické povahy, je tvořeno tvarovacím prvkem 5, prvkem 6 pro nanesení polevy a vypalovacím zařízením 2- Zařízení podle vynálezu je tvořeno povlékacím ústrojím 8 pro nanesení prostředku s ♦ · ♦* ·· ·4 ··· • · ♦ ··♦ 9 999
9 999 9 · *·· 9 99
9 9 9 9 9 9 9 9 9 9 99
9 9 9 9 9 9 9 9 9· ·♦ 99 99 99 99999 obsahem fotokatalyzátoru, zahřívacím zařízením _9 pro rychlé zahřátí substrátu a chladicím zařízením 10. Zařízení pro výrobu substrátu je zařazeno tak, že je propojeno se zařízením podle vynálezu. Mimo to je zařízení opatřeno transportním zařízením 16, upraveným tak, že je možno substrát kontinuálně přepravovat všemi částmi popsaného zařízení. Je třeba uvést, že zařízení pro výrobu substrátu, obsahující tvarovaci prvek 5, prvek 6 pro nanesení polevy a vypalovací zařízení 1_ může mít i jinou konstrukci v závislosti na substrátu, na nějž má být nanesen fotokatalyzátor způsobem podle vynálezu. Zařízení podle vynálezu pak není omezeno na zařízení, tvořené povlékacím ústrojím 8_ pro nanesení povlaku fotokatalyzátoru, zahřívacím zařízením _9 pro rychlé zahřátí substrátu a chladicím zařízením 10, tak jak je znázorněno na obr. 3. Může jít o zařízení, v němž je povlékací ústrojí 8_ pro nanesení prostředku s obsahem fotokatalyzátoru, zahřívací zařízení a chladicí zařízení 10 uloženo těsně za zařízením pro výrobu substrátu.
Substrát je tvořen ve tvarovacím prvku _5, znázorněném na výkrese. Pak je substrátu opatřen polevou v prvku 6, načež se dostává do vypalovacího zařízení 7_, kde dochází k jeho vypálení. Na výstupu z vypalovacího zařízení 1_ má substrát stále ještě poměrně vysokou teplotu. Podle výhodného provedení vynálezu se materiál s obsahem fotokatalyzátoru nanáší na substrát v době, kdy substrát si ještě uchovává určitou vyšší úroveň teploty.
Konstrukce povlékacího ústrojí _8, znázorněného na výkresech, může být závislá na zvoleném způsobu povlékání. Například v případě, že se zvolí povlékání φ
φ
♦ Φ ·· • · · φ φφφ· pomoci postřiku, je povlékací ústrojí 8 tvořeno zařízením pro postřikování substrátu prostředkem s obsahem fotokatalyzátoru.
Na obr. 4 je schematicky znázorněn diagram struktury zahřívacího zařízení 9 pro rychlé zahřátí povrchu substrátu. Zahřívací zařízení 9 je zásadně tvořeno vyhřívacím prvkem 21, materiálem 22, odolným proti působení tepla a překrývajícím vyhřívací prvek 21 za vzniku prostoru se zvýšenou teplotou, dále zahřívací zařízení 9_ vybaveno transportním zařízením 16 pro substrát 23, který má být zahříván a posunován svrchu uvedeným prostorem ve směru šipky A. Na obr. 4 je rovněž znázorněn vstup 24 pro přívod substrátu 23 do prostoru se zvýšenou teplotou a výstup 25 pro odvádění substrátu 23 z uvedeného prostoru.
Vyhřívací prvek 21 nemá zvláště vymezenou konstrukci, pokud může rychle zahřát substrát. K tomuto účelu je možno použít jakékoliv prvky včetně elektrických prvků nebo prvků, v nichž je spalován plyn nebo jiné palivo za vzniku tepla. Jak již bylo svrchu uvedeno, s výhodou se užívá prvků, v nichž schopnost vyhřívání na jednotku plochy je alespoň 120 MJ/m2.h a s výhodou alespoň 400 MJ/m2.h. Výhodnější jsou prvky s vyšší hodnotou. Vzdálenost povrchu substrátu od uvedeného prvku je možno správným způsobem upravovat tak, aby došlo k dostatečně rychlému zahřátí povrchu substrátu. Uvedená vzdálenost se obvykle bude pohybovat v rozmezí 5 až 300 mm. Pak je možno vytvořit vyhřívací prvek takovým způsobem, aby vzdálenost mezi tímto prvkem a substrátem byla pevná nebo měnitelná ve svrchu uvedeném rozmezí.
• 4 4 | • 4 • 4 | • • · · | • 4 • · | 9 9 9 9 | |
• · | • ·· | ||||
• · | • · | • 4 | • · | • 4 | 9 |
• · | • 4 | • 4 | 4 · | 9 9 | 99 9 |
Jak již bylo svrchu uvedeno, teplota při zahříváni se udržuje v průběhu tohoto zahřívání na v podstatě stálé úrovni. Z tohoto důvodu je zahřívací prostor s výhodou dostatečně izolován materiálem 22, takže nedochází k podstatnějším ztrátám tepla ani na vstupu 24 nebo na výstupu 25 pro substrát 23. Vstup 24 a výstup 25 mohou být trvale otevřené, jak je znázorněno na obr. 4. Je také možno zařízení upravit tak, že vstup 24 je obvykle uzavřen, zatímco se otevírá v případě přívodu substrátu 23 do zařízení. Stejným způsobem může být výstup 25 konstruován tak, že je obvykle uzavřen a otevírá se pouze při výstupu substrátu 23 ze zařízení. Délka oblasti, v níž se teplota při zahřívání udržuje na stálé hodnotě, se obecně může pohybovat v rozmezí 5 cm až 30 m.
Konstrukce transportního zařízení 16 není nijak zvláště omezena, pokud toto zařízení je schopno substrát 23 pronášet zahřívacím prostorem. Transportním zařízením 16 je s výhodou dopravníkový pás nebo dopravník, tvořený válečky. Ve výhodném provedení vynálezu a pro dosažení dobré tepelné vodivosti ve vyhřívacím prostoru je transportní zařízení 16 zkonstruováno tak, že vyhřivací prostor není příliš tepelně rozdělen. Nosným prvkem může být například dopravníkový pás nebo porézní pás z materiálu, odolnému proti působením tepla, tento pás má obvykle otvory, které tvoří alespoň 20 % jeho povrchu. Může také jít o válečkový dopravník s válečky, odolnými proti působení tepla. Ve výhodném provedení vynálezu může být transportním zařízením 16 pásový dopravník nebo síť z materiálu, odolného proti působení tepla s otvory až 50 x 40 mm, nebo může jít o válečkový dopravník z válečků s odstupem 1 až 300 mm.
Povrch rychle zahřívaného substrátu 23 se pak chladí na teplotu místnosti chladicím zařízením 10. V chladicím zařízení 10 se substrát dostává do prostředí s teplotou místnosti a jeho povrch je chlazen na teplotu místnosti. Pokud je možno zajistit pokles teploty povrchu na teplotu místnosti, může být chladicí zařízení 10 zkonstruováno jednoduchým způsobem tak, že se substrát dostává do styku se vzduchem s teplotou místnosti, čímž dochází k postupnému poklesu teploty na povrchu substrátu. Chladicí zařízení může být zkonstruováno tak, že vzduch s teplotou místnosti nebo vzduch s teplotou mírně vyšší nebo nižší než je teplota místnosti, je vhádněn do zařízení opačným směrem vzhledem k substrátu ke snížení teploty povrchu substrátu. V této souvislosti je nutno uvést, je při příliš rychlém chlazení může dojít k prasklinám na povrchu funkčního materiálu. Z tohoto důvodu se chlazení s výhodou provádí co nej rychleji, avšak dostatečně pomalu tak, aby nevznikly praskliny nebo jiné nepříznivé jevy.
Na obr. 5 je znázorněno zařízení, opatřené předehřívačem 11 pro předehřátí povrchu substrátu před nanesením prostředku s obsahem fotokatalyzátoru. Tento předehřívač 11 může zahřát povrch substrátu a zvýšit teplotu tohoto povrchu na teplotu, dostatečně vysokou pro rovnoměrné nanesení prostředku s obsahem fotokatalyzátoru. V zařízení, znázorněném na obr. 5, je předehřívač 11 zařazen před povlékací ústrojí _8. Jak již bylo svrchu uvedeno, dochází k předehřátí povrchu substrátu v uvedeném zařízení na teplotu 20 až 400 °C. Je samozřejmé, že za předehřívač 11 může být zařazeno zařízení, které je znázorněno na obr. 3 a je tvořeno tvarovacím prvkem 5, prvkem 6 pro nanesení polevy a • · φ · · · · φ · • · φ · · φ ···· φφ • φφφ φφφφ φφ · ·· ·· Φ· Φ· φφ Φ·· vypalovacím zařízením ]_. V této souvislosti je však nutno uvést, že substrát, zahřátý ve vypalovacím zařízení 7, má stále ještě vysokou teplotu v době, kdy je kontinuálně nanášen materiál s obsahem fotokatalyzátoru, takže zařazení předehřívače 11 obvykle není nezbytné. Toto zařazení je vhodné zejména v těch případech, kdy substrát byl vyroben zcela odděleně a při povlékání tedy nemá dostatečnou teplotu.
V zařízení, znázorněném na obr. 5 je dále zařazeno také sušicí zařízení 12 pro sušení substrátu, opatřeného povlakem fotokatalyzátoru pomocí povlékacího ústrojí 2 a zahřívacího zařízení 9. Sušicí zařízení 12 je obvykle tvořeno zařízením pro přívod vzduchu nebo zahřívacím zařízením a slouží k odtranění přebytku vody nebo rozpouštědla z povrchu substrátu. V zařízení, které je znázorněno na obr. 5 mohou být zahřívací zařízení _9 a chladicí zařízení 10 stejná jako na obr. 3.
Praktické provedení vynálezu bude osvětleno následujcími příklady, které však nemají sloužit k omezení rozsahu vynálezu.
Příklady provedení vynálezu
Příklad 1 (a) Příprava prostředku pro povlékání
Smísí se sol oxidu titaničitého (obchodní název STS21, Ishihara Sangyo Kaisha Ltd.), sol oxidu křemičitého (obchodní název Snowtex S, Nissan Chemical Industry Ltd.) a silikát lithný (obchodní název Lithium Silicate 35, Nippon Chemical Industrial Co., Ltd.). Ke směsi se přidá • · 94 • · 9 9 • 99 • · · 9 4 9 9 · ♦ · 9 9 9 4 φ ·· 99 44 ···
1% vodný roztok dusičnanu stříbrného v množství 1 hmotnostní díl na 1 hmotnostní díl oxidu titaničitého a 0,3% vodný roztok octanu měďnatého v množství 2 hmotnostní díly na 1 hmotnostní díl oxidu titaničitého, načež byla směs ozářena 4 hodiny ultrafialovým světlem s intenzitou 1 mW/cm2, v průběhu této doby byl roztok míchán tak, aby došlo k homogennímu ozáření. Tímto způsobem byl připraven prostředek s obsahem fotokatalyzátoru, který obsahoval jako fotokatalyzátor oxid titaničitý se stříbrem a mědí ve formě sólu. Konečná koncentrace výsledného sólu byla 0,2 % hmotnostní oxidu titaničitého (pevný podíl 0,1 %), 0,3 % hmotnostní sólu oxidu křemičitého a 0,4 % hmotnostní silikátu lithného.
(b) Příprava substrátu
V zařízení, znázorněném na obr. 3 byl materiál pro výrobu keramiky slisován ve tvarovacím prvku _5 za vzniku tělesa, na něž byla prvkem 6 nanesena poleva. Těleso s polevou prošlo pecí jako vypalovacím zařízením 7, P^i vypalovací teplotě 1150 °C na dobu 40 minut. Tímto způsobem byla připravena dlaždice.
(c) Výroba funkčního materiálu
V zařízení, znázorněném na obr. 4 se při poklesu teploty dlaždice na 150 °C na výstupu z pece nanese postřikem prostředek s obsahem fotokatalyzátoru, připravený svrchu uvedeným způsobem, postřikem z povlékacího ústroji 8_ na povrch dlaždice. Nanesené množství odpovídalo 15 g/m2. Vzhledem k tomu, že teplota dlaždice byla 150 °C, došlo k okamžitému odpaření přebytečné vody. V důsledku toho byl na povrchu dlaždice • · zachycen pouze pevný podíl prostředku a vytvořila se tenká vrstva s tloušťkou přibližně 0,1 mikrometru.
Pak byla dlaždice přenesena do pece, zařazené jako zahřívací zařízení. V této peci byly vyhřívací prvky upraveny blízko sebe v její horní části. Teplota vzduchu v peci se pohybovala v rozmezí 800 až 1000 °C při hodnotě tepla na jednotku plochy 1600 MJ/m2.h, vyhřívaná plocha byla 30 x 150 cm. Doba pobytu dlaždice v peci byla přibližně 30 sekund a doba, po kterou byla dlaždice uložena pod vyhřívacími prvky, byla 10 sekund. Rychlým zahřátím se na povrchu dlaždice vytvořila tenká vrstva, pevně fixovaná k povrchu dlaždice.
Povrch dlaždice na výstupu z pece měl teplotu 300 až 350 °C. Pak byla dlaždice přenesena do chladicího zařízení do proudu chladného vzduchu, přiváděného nad dlaždici i pod ní. Dlaždice byla zchlazena na teplotu 100 až 150 °C v průběhu času, při kterém přenesl dopravník dlaždici na vzdálenost 3 m v chladicím zařízení.
Dlaždice jako funkční materiál měla fotokatalytickou účinnost a vysokou schopnost rozkladu různých látek a také antimikrobiální účinnost, deodorační účinnost a mimo to byla hydrofilní. Tenká vrstva, vytvořená na povrchu dlaždice, byla pevná a měla tvrdost alespoň 4 v Mohsově stupnici tvrdosti při vysoké odolnosti proti otěru a proti působení chemických látek.
Teplo smáčení tenké vrstvy vodou bylo 500 erg/cm2, takže tenká vrstva byla dostatečně hydrofilní. Teplo smáčení je mírou smáčivosti rozpouštědlem, přičemž vyšší * · * · • * • * ·· • * · · · · • · ·«· · · ··« • · · · · « · · · ·
teplo smáčení znamená, že smáčitelnost použitým rozpouštědlem je vysoká.
Příklad 2 (a) Příprava prostředku pro povlékání
Prostředek pro povlékání byl připraven stejným způsobem jako v příkladu 1 s tím rozdílem, že byl použit 1 hmotnostní díl 3% vodného roztoku octanu měďnatého místo 1 hmotnostního dílu 1% vodného roztoku dusičnanu stříbrného a 2 hmotnostních dílů 0,3% vodného roztoku octanu měďnatého.
(b) Příprava substrátu
Velká dlaždice s rozměrem 0,9 x 1,8 m byla připravena stejným způsobem jako v příkladu 1. Výchozí materiál pro keramické výrobky byl vytlačován tvarovacím prvkem 5 v zařízení z obr. 3. Na povrch dlaždice byla nanesena poleva při použití prvku 6 pro nanesení polevy. Povlečená dlaždice byla dopravena na válečcích do pece jako vypalovacího zařízení 1_ při teplotě 1150 °C v průběhu 3 hodin k vytvoření sintru. Tímto způsobem byla vyrobena výsledná polévaná dlaždice.
(c) Příprava funkčního materiálu
Bylo použito zařízení z obr. 3. Jakmile dosáhla teplota dlaždice 80 °C, byl ve formě postřiku nanesen prostředek s obsahem fotokatalyzátoru na povrch dlaždice při použití povlékacího ústrojí 8_. Množství naneseného prostředku s obsahem fotokatalyzátoru bylo 15 g/m2. Vzhledem k teplotě dlaždice 80 °C se okamžitě odpařil ·· ·· • · · • · ··· • · 4 ·· • · ·· ···· ♦ · ·· • · · • · ··· • · · · • · · · • r ·· ·· · • · ·· • · · • · ·· • ♦· ····· přebytek vody. V důsledku toho byl pevně zachycen na povrchu dlaždice pouze pevný podíl prostředku a vytvořila se tenká vrstva s tloušťkou 0,1 mikrometru.
Pak byla dlaždice přenesena do pece k rychlému zahřátí. V peci byly upraveny v její horní části hustě vedle sebe vyhřivací prvky. Teplota v peci byla v rozmezí 800 až 1000 °C a hodnota zahřívání na jednotku plochy byla 1600 MJ/m2.h, zahřívaná plocha byla 1,5 x 28 m. Doba pobytu dlaždice v peci byla 60 sekund a doba pobytu dlaždice pod vyhřivacími prvky byla přibližně 50 sekund. V důsledku rychlého zahřátí došlo k pevné fixaci vytvořené tenké vrstvy na povrch dlaždice.
Povrch dlaždice po výstupu z pece měl teplotu, zvýšenou na 200 až 250 °C. Pak byla dlaždice přivedena do chladicího zařízení, kde byla postřikována vodou. V chladicím zařízení byla dlaždice zchlazena na teplotu 100 až 150 °C v průběhu doby, po kterou byla vedena do vzdálenosti 10 m chladicím zařízením.
Takto připravená dlaždice jako funkční materiál měla fotokatalytickou účinnost a vysokou schopnost rozkladu, například antimikrobiální účinnost, odpuzovači účinnost pro nečistoty, deodorační účinek a mimo to byla hydrofilní. Tenká vrstva, vytvořená na povrchu dlaždice, byla pevná a její tvrdost byla alespoň 4 v Mohsově stupnici při současné vysoké odolnosti proti otěru a proti působení chemických látek.
Přiklad 3 (a) Příprava prostředku pro povlékání
Byl užit alkoxid titanu (tetraisopropoxid titanu) a tetraethylorthosilikát, které byly zředěny isopropylalkoholem k přípravě prostředku pro povlékání s obsahem fotokatalyzátoru při koncentraci alkoxidu titanu 5 % hmotnostních a koncentraci tetraethylorthosilikátu 1 % hmotnostní.
(b) Substrát
Jako substrát byla použita skleněná deska s rozměry 1 m x 1 m.
(c) Příprava funkčního materiálu
Funkční materiál byl připraven při použití téhož zařízení jako na obr. 5 s tím rozdílem, že místo dvojice povlékacího ústrojí 8^ a sušicího zařízení 12 byly zařazeny 3 dvojice povlékacího ústrojí 8_ a sušicího zařízení 12 . Skleněná deska byla zahřáta na povrchovou teplotu 40 °C v předehřívači, udržovaném na teplotě 40 °C. Prostředek pro povlékání s obsahem fotokatalyzátoru byl na povrch skleněné desky nanášen ve formě postřiku. Použité množství bylo 5 g/m2. Vzhledem k teplotě skleněného substrátu 40 °C se voda a alkohol odpařovaly pomalu. Z tohoto důvodu bylo po vytvoření povlaku nutno desku sušit při teplotě 100 °C. Povlékání s následným usušením povlaku bylo 3x opakováno. Tímto způsobem bylo možno zachytit na povrchu skleněné desky pouze pevný materiál a vytvořit tenkou vrstvu s tloušťkou 0,1 mikrometru.
• ·
Skleněná deska s vytvořenou tenkou vrstvou pak byla přenesena do pece, zařazené jako zahřívací zařízení 9_, a to po výstupu z posledního sušicího zařízení 12 . V peci byly vyhřívací prvky upraveny hustě vedle sebe v horní části vnitřního prostoru pece. Teplota v peci byla přibližně 550 °C. Doba pobytu skleněné desky v peci byla přibližně 2 sekundy. Rychlé zahříváni upevnilo tenkou vrstvu na skleněný substrát.
Povrch skleněné desky při výstupu z pece měl teplotu v rozmezí 250 až 350 °C. Pak byla skleněná deska s pevně uchycenou tenkou vrstvou přiváděna do chladicího zařízení, do nějž byl přiváděn proud vzduchu v opačném směru. V chladicím zařízení byla skleněná deska zchlazena na teplotu 50 až 150 °C za dobu, v níž byla posunuta chladicím zařízením o přibližně 3 m.
Takto získaný funkční materiál měl velmi hladký povrch, fotokatalytickou účinnost, vysokou degradační schopnost a vysokou hydrofilnost.
Tenká vrstva, vytvořená na povrch skleněné desky, byla pevná a její tvrdost v Mohsově stupnici byla alespoň 4 při velmi dobré odolnosti proti otěru a proti působení chemických látek.
Příklad 4 (a) Příprava prostředku pro povlékání
Byl použit tentýž prostředek pro povlékání s obsahem fotokatalyzátoru jako v příkladu 1.
(b) Substrát
Jako substrát byla použita dekorační deska z anorganického materiálu, opatřená akrylovaným urethanem jako povlakem a mimo to povlakem z fluorované pryskyřice.
(c) Příprava funkčního materiálu
Funkční materiál byl připraven při použiti zařízení z obr. 5. Povrch substrátu byl zahřat na teplotu 60 °C v předehřívači, nastaveném na teplotu 60 °C. Prostředek pro povlékání s obsahem fotokatalyzátoru byl nanesen postřikem na substrát v množství 20 g/m2.
Substrát, opatřený povlakem byl pak přenesen do zahřívacího zařízeni 9, zařazeného kontinuálně za sušicím zařízením 12 . Zařízením pro rychlé zahřívání byla válečková pec RHK s teplotou 250 °C. Doba substrátu, opatřeného povlakem v této peci byla 45 sekund. Rychlým zahřátím došlo k pevné fixaci povlaku s obsahem fotokatalyzátoru na povrch dekorační desky jako substrátu.
Takto připravený fotokatalytický povrch funkčního materiálu byl velmi hladký, měl vysokou schopnost rozkládat chemické látky a odpuzovat olej. Tenká vrstva na povrchu substrátu byla velmi pevná a měla vysokou odolnost proti otěru a proti působení chemických látek.
Přiklad 5 (a) Příprava prostředku pro povlékání
Byla vytvořena směs sólu oxidu titaničitého (STS-21) sólu oxidu křemičitého (Snowtex 0, Nissan Chemical Industry Ltd.), silikátu lithného (Lithium Silicate 35, Nissan Chemical Industry Ltd.), a smáčedla (Kao Emulgen 707). Ke směsi byl přidán 1% vodný roztok dusičnanu stříbrného v množství 1 hmotnostní díl na 1 hmotnostní díl oxidu titaničitého a 0,3% vodný roztok octanu měďnatého v množství 2 hmotnostní díly, vztaženo na 1 hmotnostní díl oxidu titaničitého, načež byla směs ozářena ultrafialovým světlem s intenzitou přibližně 1 mW/cm2 po dobu 4 hodiny, v průběhu této doby byl roztok míchán tak, aby bylo dosaženo homogenního ozáření roztoku ultrafialovým světlem. Tímto způsobem byl připraven prostředek s obsahem fotokatalyzátoru jako směsný sol, který byl tvořen sólem oxidu titaničitého s stříbrem a mědí na oxidu titaničitém jako na fotokatalytickém nosiči, sólem oxidu křemičitého, silikátem lithným a smáčedlem. Konečná koncentrace ve směsi byla 0,1 % hmotnostní sólu oxidu titaničitého, 0,1 % hmotnostní sólu oxidu křemičitého, 0,5 % hmotnostních silikátu lithného a 0,001 % hmotnostní smáčedla.
(b) Substrát
Jako substrát bylo použité porcelánové stolní nádobí.
(c) Příprava funkčního materiálu
Funkční materiál byl připraven v zařízení z obr. 5. Nejprve bylo nádobí zahřáto v předehřívači, nastaveném na teplotu 100 °C. Pak byl nanesen prostředek pro povlékání s obsahem fotokatalyzátoru pomocí postřiku. Použité • · · · · • · • · ··
.............
množství bylo 40 g/m2. Vzhledem k teplotě nádobí 100 °C došlo okamžitě k odpaření vody. V důsledku toho došlo pouze k zachycení pevného materiálu na povrchu nádobí za vzniku tenké vrstvy s tloušťkou přibližně 0,4 mikrometru.
Nádobí s vytvořenou tenkou vrstvou pak bylo přeneseno do pece jako zahřívacího zařízení _9 kontinuálně ze sušicího zařízení 12. V peci byly vyhřívací prvky upraveny v horní části vnitřního prostoru hustě vedle sebe. Teplota vnitřního prostoru pece byla v rozmezí 800 až 1000 °C a přívod tepla na jednotku plochy v peci byl přibližně 1600 MJ/m2.h při zahřívané ploše 30 x 150 cm. Doba pobytu nádobí v peci byla přibližně 10 sekund. Rychlé zahřátí způsobilo pevné zachycení tenké vrstvy na povrchu nádobí.
Povrch nádobí na výstupu z pece měl teplotu v rozmezí 250 až 300 °C. Nádobí bylo přiváděno do chladicího zařízení, do nějž byl současně přiváděn vzduch. V tomto zařízení došlo ke zchlazení na 50 až 150 °C v průběhu doby, v níž bylo nádobí přeneseno v chladicím zařízení do vzdálenosti 3 m.
Nádobí s vytvořenou tenkou vrstvou bylo funkčním materiálem s fotokatalytickým účinkem a velmi dobrým antimikrobiálním účinkem. Při nanesení salátového oleje na tento materiál bylo možno olej s povrchu odstranit velmi snadno pouhým omytím vodou. Tenká vrstva, vytvořená na povrchu nádobí byla pevná a měla tvrdost alespoň 4 v Mohsově stupnici tvrdosti při vysoké odolnosti proti otěru a proti působení chemických látek.
• · · · · « · · • ··· · ···· · ·
Přiklad 6
Funkční materiál byl připraven při použití zařízení z obr. 5. Dlaždice byla zahřáta na teplotu povrchu 100 °C v předehřívači, nastaveném na 100 °C. Pak byl na povrch dlaždice jako substrátu nanesen postřikem prostředek s obsahem 0,05 % chelátu titanu jako fotokatalyzátoru. Voda se okamžitě odpařila a pevný materiál byl fixován na povrch dlaždice za vzniku tenké vrstvy s tloušťkou 0,2 mikrometru.
Dlaždice s vytvořenou tenkou vrstvou byla přenesena do pece jako zahřívacího zařízení _9, zařazeného kontinuálně za sušicím zařízením 12 . Pec byla opatřena v horní části svého vnitřního prostoru vyhřívacími prvky, uloženými hustě vedle sebe. Teplota vnitřního prostoru pece byla přibližně 800 až 1000 °C při množství tepla na jednotku plochy 1600 MJ/m2.h, zahřívaná plocha byla 30 x 150 cm. Doba pobytu dlaždice v peci byla přibližně 10 s. Rychlé zahřívání vytvořilo na povrchu dlaždice tenkou vrstvu, pevně fixovanou k povrchu dlaždice.
Povrch dlaždice na výstupu z pece měl teplotu 250 až 300 °C. Dlaždice pak byly přiváděny do chladicího zařízení, do nějž byl současně přiváděn proud vzduchu. Dlaždice byly zchlazeny na 50 až 150 °C v průběhu doby, po níž byla dlaždice přenesena v chladicím zařízení na vzdálenost 3 m.
Takto vytvořená dlaždice, opatřená tenkou vrstvou jako funkčním materiálem, měla fotokatalytickou účinnost a velmi dobrou hydrofilnost a antimikrobiální účinnost.
Tenká vrstva, vytvořená na povrchu dlaždice byla pevná a její tvrdost byla alespoň 4 v Mohsově stupnici při velmi dobré odolnosti proti otěru a proti působení chemických látek.
Příklad 7
Byl připraven funkční materiál při použiti zařízeni z obr. 5. Dlaždice byla zahřáta na povrchovou teplotu 100 až 300 °C v předehřívači. Na povrch dlaždice byla postřikem nanesena kapalina, připravená smísením předem určeného množství sólu oxidu titaničitého, předem určeného množství silikátu alkalického kovu a předem určeného množství sólu oxidu hlinitého, množství oxidu titaničitého bylo upraveno koncentraci 0,2 %, koncentrace oxidu křemičitého na. 0,1 %, koncentrace oxidu lithného na 0,008 %, koncentrace Na20 na 0,012 %, koncentrace B2O3na 0,0015 % a koncentrace oxidu hlinitého na 0,005 %. Bylo užito množství 2 až 3 mikrogramy/cm2 tohoto prostředku na povrchu dlaždice. Okamžitě došlo k odpaření vody a pevný podíl byl fixován na povrch dlaždice. Pak byla dlaždice s fixovaným pevným materiálem vypálena v zahřívacím zařízení 9, zařazeném kontinuálně za sušicím zařízením 12 při teplotě uvnitř pece 850 °C, přívodu tepla 1200 MJ/m2.h a zahřívané ploše 0,6 m2. V tomto případě byla nejvyšši teplota na povrchu dlaždice 480 °C. Doba pobytu dlaždice v peci byla přibližně 15 sekund. V důsledku zahřátí se na povrchu dlaždice vytvořila tenká vrstva. Fotokatalytická účinnost takto připraveného funkčního materiálu byla stanovena následujícím způsobem. Na povrch vzorku byl nanesen 1% roztok dusičnanu stříbrného jako povlak. Povlečený vzorek byl ponechán 5 minut pod lampou • · · · · · · · • · · · · · ♦ · · · ·
BLB. Pak byl změřen rozdíl v barvě deltaE a bylo prokázáno, že hodnota tohoto rozdílu je 18. Pak byl vzorek materiálu ponechán pod uvedenou lampou 24 hodin. Pak byl měřen úhel styku materiálu s vodou a bylo prokázáno, že tento úhel je 5°.
Příklad 8
Funkční materiál byl připraven při použití zařízení z obr. 5. Dlaždice byla zahřáta na povrchovou teplotu 200 °C v předehřívači. Na povrch substrátu byl nanesen postřikem vodný roztok, připravený smísením sólu oxidu titaničitého, dopovaného mědí a silikátu alkalického kovu, směs byla upravena na koncentraci oxidu titaničitého 0,08 %. Koncentraci oxidu měďnatého 0,004 %, koncentraci oxidu křemičitého 0,3 % a koncentraci oxidu lithného 0,025 %, koncentraci Na20 0,04 % a koncentraci oxidu boritého 0,005 %, celkem bylo použito 2 až 3 mikrogramy/cm2 pevného podílu materiálu. Voda se okamžitě odpařila a pevný materiál byl fixován na povrch dlaždice. Pak byla dlaždice s fixovaným pevným materiálem vypálena v zahřívacím zařízení 9_, zařazeným kontinuálně za sušicím zařízením 12 při teplotě vnitřního prostoru pece přibližně 750 °C, při přívodu tepla 1200 MJ/m2.h a při zahřívané ploše 0,6 m2. V tomto případě byla nejvyšší teplota povrchu dlaždice jako substrátu v průběhu vypalování 350 °C. Doba pobytu dlaždice v peci byla přibližně 10 sekund. V důsledku zahřátí se na povrchu dlaždice vytvořila tenká vrstva. Fotokatalytická účinnost takto připraveného vzorku funkčního materiálu byla stanovena následujícím způsobem. Na povrch vzorku byl nanesen jako povlak 1% roztok dusičnanu stříbrného.
Povlečený vzorek byl ponechán 5 minut pod lampou BLB. Pak • «9 «99 «99
9999 9 «999 9 9 byl měřen rozdíl v barvě deltaE, který byl změřen jako hodnota 18. Mimo to měl povrch vzorku vysokou antimikrobiální účinnost.
Claims (54)
- PATENTOVÉ NÁROKY1. Způsob výroby materiálu s fotokatalytickým účinkem, při němž se na povrch substrátu nanese prostředek k povlékání s obsahem fotokatalyzátoru ve formě fotokatalytického oxidu kovu a/nebo prekursoru fotokatalytického oxidu kovu, načež se povrch povlečeného substrátu rychle zahřeje k fixaci fotokatalytického oxidu kovu na povrch substrátu, vyznačující se tím, že rychlé zahřátí se uskuteční pomocí vyhřívacích prvků s přívodem tepla na jednotku plochy alespoň 120 MJ/m2.h při vzdálenosti mezi vyhřívacím prvkem a povrchem substrátu 5 až 300 nm a dobou rychlého zahřívání 2 až 60 s.
- 2. Způsob podle nároku 1, vyznačující se tím, že se při rychlém zahřátí povrch substrátu zahřeje na teplotu 100 až 800 °C.
- 3. Způsob podle nároku 2,vyznačující se tím, že se rychlé zahřátí uskuteční zahřátím povrchu substrátu na teplotu 150 až 600 °C.
- 4. Způsob podle některého z nároků 1 až 3, vyznačující se tím, že se v průběhu rychlého zahřívání substrát uloží do atmosféry s teplotou 100 až 1000 °C.
- 5. Způsob podle některého z nároků 1 až 4, vyznačující se tím, že se v průběhu rychlého zahřívání teplota udržuje na stálé hodnotě.• · • · · · «φφφ φφφφ φ · · • · »· · · φφ · · · · ·
- 6. Způsob podle některého z nároků 1 až 5, vyznačující se t í m, že se před nanesením prostředku pro povlékání s obsahem fotokatalyzátoru povrch substrátu předehřívá.
- 7. Způsob podle nároku 6, vyznačující se tím, že se při předehřívání povrch substrátu zahřeje na 20 až 400 °C.
- 8. Způsob podle některého z nároků 1 až 7, vyznačující se tím, že se rychlé zahřátí uskuteční rychlým přívodem tepelné energie pouze na povrch substrátu.
- 9. Způsob podle některého z nároků 1 až 8, vyznačující se tím, že se před rychlým zahříváním povrch substrátu, opatřeného vrstvou prostředků s obsahem fotokatalyzátoru suší.
- 10. Způsob podle některého z nároků 1 až 9, vyznačující se tím, že se povrch rychle zahřátého substrátu rychle zchladí.
- 11. Způsob podle některého z nároků 1 až 10, vyznačující se tím, žese fotokatalytický oxid kovu volí ze skupiny TÍO2, ZnO, SnO2, SrTiO2, WO3, BÍ2O3, FeaCh a V2O5.
- 12. Způsob podle některého z nároků 1 až 11, vyznačující se tím, že prekursor fotokatalytického oxidu kovu je sloučenina, které obsahuje nejméně 1 kov ze skupiny titan, zinek, cín, stroncium, wolfram, vizmut, železo a vanad a při rychlém •φ ·· ·· · ♦ ·*· • •Φ ♦ · · · ·· · • φφ·· φ · φ · · · ·♦ • φφ ·»· · ♦ φφφ ·· φφφ· · « · φ ♦ ·· • · · · ·· ·· ····· zahřátí je tato sloučenina převedena na fotokatalytický oxid kovu.
- 13. Způsob podle některého z nároků 1 až 12, vyznačující se tím, že prostředek pro povlékání s obsahem fotokatalyzátoru dále obsahuje poj ivo.
- 14. Způsob podle nároku 13, vyznačující se t í m, že pojivo obsahuje alespoň 1 složku ze skupiny částice anorganického oxidu, prekursory filmu ze silikonové pryskyřice, schopné vytvořit takový film a prekursory filmu oxidu křemičitého, schopné vytvořit takový film a mimo to rozpouštědlo.
- 15. Způsob podle nároku 13, vyznačující se tím, že pojivo obsahuje člen ze skupiny křemík, hliník, draslík, lithium, sodík, cesium, vápník, hořčík, titan, fosfor, bor, zirkon, rubidium francium, yttrium, hafnium, lanthanidy a sloučeniny uvedených prvků a silikát alkalického kovu vzorce Me2O.nSiC>2, kde Me znamená alkalický kov.
- 16. Způsob podle některého z nároků 1 až 15, vyznačující se tím, že se na povrch substrátu opakovaně nanáší povlak prostředku s obsahem stejného fotokatalyzátoru za vzniku vícevrstevného povlaku nebo se nanáší několik povlaků s obsahem odlišného fotokatalyzátoru na povrch substrátu za vzniku vícevrstevného povlaku.
- 17. Způsob podle některého z nároků 1 až 16,
·· ·· ·· · · ·♦ · ♦ · · • · · • · ·· • · · ·· 9 *9·· • · 9 • · · · < · · · • · · · · vyznačující se tím, že se připraví alespoň 1 prostředek pro povlékání, obsahující pojivo a v podstatě prostý fotokatalytického oxidu kovu a prekursoru fotokatalytického oxidu kovu a prostředek s obsahem fotokatalyzátoru, který obsahuje fotokatalytický oxid kovu a/nebo prekursor fotokatalytického oxidu kovu nebo prostředek pro povlékání s obsahem fotokatalytického oxidu kovu a/nebo prekursoru fotokatalytického oxidu kovu a pojivá, tyto prostředky se nanesou na povrch substrátu za vzniku vícevrstevného povlaku a celý substrát s nanesenými povlaky se rychle zahřeje. - 18. Způsob podle některého z nároků 1 až 17, vyznačující se tím, že prostředek pro povlékání s obsahem fotokatalyzátoru dále obsahuje kov a/nebo oxid kovu ze skupiny stříbro, měď, zinek, kovy platinové skupiny a oxidy těchto kovů.
- 19. Způsob podle nároku 18, vyznačující se tím, že kov a oxid kovu jsou přítomny na povrchu fotokatalytického oxidu kovu na nosiči.
- 20. Způsob podle nároku 19, vyznačující se t i m, že kov a oxid kovu jsou uloženy na povrchu fotokatalytického oxidu kovu fixací pomocí fotoredukce při použití ozáření ultrafialovým světlem.
- 21. Způsob podle některého z nároků 1 až 20, vyznačující se tím, že koncentrace fotokatalytického oxidu kovu a/nebo prekursoru fotokatalytického oxidu kovu v prostředku pro povlékání s • · • · • ··· obsahem fotokatalyzátoru je 0,001 až 35 % hmotnostních, vztaženo na pevný podíl.
- 22. Způsob podle některého z nároků 1 až 21, vyznačující se tím, že prostředek k povlékání s obsahem fotokatalyzátoru obsahuje pojivo v množství 0,001 až 100 hmotnostních dílů, vztaženo na 1 hmotnostní díl fotokatalytického oxidu kovu a prekursoru fotokatalytického oxidu kovu.
- 23. Způsob podle některého z nároků 1 až 22, vyznačující se tím, že prostředek k povlékání s obsahem fotokatalyzátoru obsahuje pojivo v množství 0,1 až 5 hmotnostních dílů, vztaženo na 1 hmotnostní díl fotokatalytického oxidu kovu a prekursoru fotokatalytického oxidu kovu.
- 24. Způsob podle některého z nároků 1 až 23, vyznačující se tím, že substrát je vyroben z kovu, anorganického materiálu, organického materiálu nebo složeného materiálu.
- 25. Způsob podle některého z nároků 1 až 24, vyznačujíc! se tím, že funkční materiál s obsahem materiálu s fotokatalytickou účinností je určen pro vnitřní nebo vnější použití.
- 26. Způsob podle některého z nároků 1 až 24, vyznačující se tím, že funkční materiál s fotokatalytickým účinkem je dlaždice, sanitární materiál, stolní nádobí, desky silikátu vápenatého, stavební materiály, keramické substráty, polovodičové materiály, izolátory, sklo nebo zrcadla.♦ 9 ♦· ·9 9φ • 444444 4 444 9· ♦ • 94 9*999 • 44* · 9 9 ♦ 44· ·· · · ·· ·· 9* 994
- 27. Zařízení k provádění způsobu podle některého z nároků 1 až 26, obsahující alespoň zahřívací zařízení pro rychlé zahřátí povrchu substrátu, opatřeného povlakem fotokatalyzátoru s obsahem fotokatalytického oxidu kovu a/nebo prekursoru fotokatalytického oxidu kovu k fixaci fotokatalytického oxidu kovu na povrch substrátu, vyznačující se tím, že zahřívací zařízení pro rychlé zahřátí je tvořeno alespoň vyhřívacím prvkem s hodnotou zahřívání na jednotku plochy alespoň 120 MJ/m2.h při vzdálenosti mezi vyhřívacím prvkem a povrchem substrátu 5 až 300 mm, přičemž tato vzdálenost je pevná nebo měnitelná, dále zahřívací zařízení obsahuje materiál, odolný proti působení tepla, který obklopuje vyhřívací prvek za vzniku vyhřívaného prostoru, přídržné prostředky pro udržení substrátu ve vyhřívaném prostoru po dobu 62 sekund a vstup pro přívod substrátu do vyhřívaného prostoru a výstup pro odstranění substrátu z tohoto prostoru.
- 28. Zařízení podle nároku 27, vyznačuj ící se t i m, že slouží k provádění způsobu podle některého z nároků 1 až 26.
- 29. Zařízení podle některého z nároků 27 a 28, vyznačující se tím, že vyhřívací prvek udržuje vyhřívací teplotu na v podstatě stálé hodnotě.
- 30. Zařízení podle některého z nároků 27 až 29, vyznačující se tím, že vyhřívací prvky udržují teplotu zahřívání na v podstatě stálé hodnotě v oblasti s délkou 5 cm až 30 m.
- 31. Zařízení podle některého z nároků 27 až 30, vyznačující se tím, že dále obsahuje předehřívač pro předehřátí povrchu substrátu před nanesením prostředku s obsahem fotokatalyzátoru.
- 32. Zařízení podle některého z nároků 27 až 30, vyznačující se tím, že dále obsahuje sušicí zařízení pro sušení substrátu, opatřeného povlakem s obsahem fotokatalyzátoru.
- 33. Zařízení podle některého z nároků 27 až 32, vyznačující se tím, že dále obsahuje chladicí zařízení pro rychlé zchlazení povrchu substrátu, zahřátého vyhřívacími prvky.
- 34. Zařízení podle některého z nároků 27 až 33, vyznačující se tím, že obsahuje transportní zařízení pro kontinuální pohyb substrátu zařízením.
- 35. Zařízení podle některého z nároků 27 až 34, vyznačující se tím, že zahřívací zařízení pro rychlé zahřátí substrátu je uloženo bezprostředně za povlékacím ústrojím.
- 36. Zařízení podle některého z nároků 27 až 35, vyznačující se tím, že je uloženo bezprostředně za zařízením pro výrobu substrátu.
- 37. Zařízení podle některého z nároků 27 až 36, vyznačující se tím, že transportním zařízením je dopravníkový pás nebo válečkový dopravník.
- 38. Zařízeni podle nároku 37, vyznačuj ící se t i m, že transportním zařízením je dopravníkový pás nebo pás, odolný proti působení tepla s otvory v rozsahu alespoň 20 % nebo válečkový dopravník, tvořený skupinou válečků.
- 39. Zařízení podle nároku 37, vyznačuj icí se t í m, že dopravníkový pás je tvořen sítí, odolnou proti působení tepla s oky o velikosti až 50 x 50 mm.
- 40. Zařízení podle nároku 37, vyznačuj ící se t i m, že válečkový dopravník je tvořen válečky s odstupem 1 až 300 mm.
- 41. Funkční materiál s fotokatalytickou účinností, vyznačující se tím, že je vyroben způsobem podle některého z nároků 1 až 26 nebo zařízením podle některého z nároků 27 až 40.
- 42. Prostředek pro povlékání s obsahem fotokatalyzátoru pro použití při provádění způsobu podle některého z nároků 1 až 26 nebo v zařízení podle některého z nároků 27 až 40, vyznačující se tím, že je tvořen v podstatě fotokatalytickým oxidem kovu a/nebo prekursorem fotokatalytického oxidu kovu a silikátem alkalického kovu a/nebo prekursorem tohoto silikátu.
- 43. Prostředek podle nároku 42, vyznačuj ící se t i m, že dále obsahuje kov a/nebo oxid kovu.
- 44. Prostředek podle nároku 43, vyznačuj icí se t i m, že obsahuje kov ve formě částic kovu ze4 44 4444 44 444 skupiny měď, stříbro, platina, kobalt, železo, nikl, zlato, zinek, chrom, mangan a molybden, nebo jde o oxid kovu ve formě částic ze skupiny Cu2O a Ag2O.
- 45. Prostředek podle nároku 43, vyznačuj ící se t i m, že oxid kovu se volí ze skupiny oxidů křemíku, hliníku, draslíku, lithia, sodíku, cesia, rubidia a francia.
- 46. Prostředek podle nároku 43 nebo 44, vyznačující se tím, že kov a/nebo oxid kovu se nejprve uloží na fotokatalytický oxid kovu a/nebo na prekursor fotokatalytického oxidu kovu.
- 47. Prostředek podle nároku 46, vyznačuj ící se t i m, že se kov a/nebo oxid kovu uloží pomocí fotoredukce.
- 48. Hydrofilní funkční materiál, získaný způsobem podle některého z nároků 1 až 26 nebo v zařízení podle některého z nároků 27 až 40, vyznačující se tím, že tento materiál je tvořen substrátem a vrstvou, uloženou na povrch tohoto substrátu a tvořenou v podstatě fotokatalytickým oxidem a silikátem alkalického kovu.
- 49. Hydrofilní funkční materiál podle nároku 48, vyznačující se t í m, že vrstva tohoto materiálu dále obsahuje kov a/nebo oxid kovu.
- 50. Hydrofilní funkční materiál podle nároku 49, vyznačující se tím, že obsahuje kov ve formě částic kovu ze skupiny měď, stříbro, platina, kobalt, železo, nikl, zlato, zinek, chrom, mangan a9 · ♦ · · · • 9999 · 4 · 9 9 9 9 · 9 9
- 51 ............* molybden, nebo jde o oxid kovu ve formě částic ze skupiny Cu2O a Ag2O.51. Hydrofilni funkční materiál podle nároku 49, vyznačující se tím, že oxid kovu se volí ze skupiny oxidů křemíku, hliníku, draslíku, lithia, sodíku, cesia, rubidia a francia.
- 52. Hydrofilni funkční materiál podle nároku 49 nebo 50, vyznačující se tím, že kov a/nebo oxid kovu se nejprve uloží na fotokatalytický oxid kovu a/nebo na prekursor fotokatalytického oxidu kovu.
- 53. Hydrofilni funkční materiál podle nároku 52, vyznačující se t i m, že se kov a/nebo oxid kovu uloží pomocí fotoredukce.
- 54. Zařízení podle některého z nároků 27 až 40, vyznačující se tím, že dále obsahuje prostředky pro nanesení prostředku s obsahem fotokatalyzátoru, obsahujícího fotokatalytický oxid kovu a/nebo prekursor fotokatalytického oxidu kovu na povrch substrátu.
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23012098 | 1998-07-30 | ||
JP31684798 | 1998-10-19 | ||
JP1486899 | 1999-01-22 | ||
JP16436499 | 1999-06-10 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CZ2001378A3 true CZ2001378A3 (cs) | 2001-11-14 |
CZ295546B6 CZ295546B6 (cs) | 2005-08-17 |
Family
ID=27456292
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CZ2001378A CZ295546B6 (cs) | 1998-07-30 | 1999-07-30 | Způsob výroby materiálu s fotokatalytickým účinkem a zařízení k jeho provádění |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6368668B1 (cs) |
EP (1) | EP1118385B1 (cs) |
JP (1) | JP3852284B2 (cs) |
AU (1) | AU4931999A (cs) |
CZ (1) | CZ295546B6 (cs) |
ES (1) | ES2534892T3 (cs) |
TW (1) | TWI229617B (cs) |
WO (1) | WO2000006300A1 (cs) |
Families Citing this family (105)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1136527A4 (en) * | 1998-10-19 | 2003-07-09 | Toto Ltd | Stain-resistant material and method for producing the same, coating composition and device therefor |
EP1174479A4 (en) * | 1999-03-09 | 2009-08-19 | Toto Ltd | HYDROPHILIC ELEMENT, PROCESS FOR PREPARING THE SAME, COATING AGENT AND PREPARATION APPARATUS |
JP2001240960A (ja) * | 1999-12-21 | 2001-09-04 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 光触媒膜が被覆された物品、その物品の製造方法及びその膜を被覆するために用いるスパッタリングターゲット |
US6569520B1 (en) * | 2000-03-21 | 2003-05-27 | 3M Innovative Properties Company | Photocatalytic composition and method for preventing algae growth on building materials |
JP2004500240A (ja) * | 2000-03-22 | 2004-01-08 | 日本板硝子株式会社 | 光触媒膜付き基体およびその製造方法 |
FR2812825B1 (fr) * | 2000-08-14 | 2003-04-18 | Ahlstrom Paper Group Res And C | Media filtrant a base d'agent photocatalyseurs et de charbon actif |
JP2002080829A (ja) * | 2000-09-07 | 2002-03-22 | Toto Ltd | 親水性部材、その製造方法、およびその製造のためのコーティング剤 |
JP3802335B2 (ja) * | 2000-11-24 | 2006-07-26 | 株式会社村上開明堂 | 複合素子およびその製造方法 |
US7060643B2 (en) | 2000-12-28 | 2006-06-13 | Showa Denko Kabushiki Kaisha | Photo-functional powder and applications thereof |
EP1354628B1 (en) * | 2000-12-28 | 2008-05-14 | Showa Denko K.K. | Powder exhibiting optical function and use thereof |
US6887816B2 (en) | 2000-12-28 | 2005-05-03 | Showa Denko K.K. | Photocatalyst |
ATE395134T1 (de) * | 2000-12-28 | 2008-05-15 | Showa Denko Kk | Hochaktiver photokatalysator |
US6649561B2 (en) * | 2001-02-26 | 2003-11-18 | United Technologies Corporation | Titania-coated honeycomb catalyst matrix for UV-photocatalytic oxidation of organic pollutants, and process for making |
KR100403275B1 (ko) * | 2001-03-30 | 2003-10-30 | 주식회사 매그린 | 광촉매 코팅 조성물, 그 제조방법 및 이를 사용하여제조된 코팅체 |
JP2002301378A (ja) | 2001-04-04 | 2002-10-15 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | 光触媒モジュール、その製造方法、光触媒反応装置 |
KR100518956B1 (ko) * | 2001-04-25 | 2005-10-05 | (주) 나노팩 | 광촉매활성과 고흡착성을 동시에 가지는 광촉매 코팅용 졸 |
JP2002338943A (ja) * | 2001-05-11 | 2002-11-27 | Inax Corp | 防汚層、その形成方法及び塗布液 |
JP2002336769A (ja) * | 2001-05-11 | 2002-11-26 | Inax Corp | 防汚層の形成方法 |
US6508959B1 (en) * | 2001-05-29 | 2003-01-21 | The Regents Of The University Of California | Preparation of energy storage materials |
JP4107815B2 (ja) * | 2001-07-12 | 2008-06-25 | 独立行政法人科学技術振興機構 | d10あるいはd0電子状態の金属イオンを含むリン酸塩光触媒 |
US6884399B2 (en) | 2001-07-30 | 2005-04-26 | Carrier Corporation | Modular photocatalytic air purifier |
JP2003126702A (ja) * | 2001-10-25 | 2003-05-07 | Yamaha Corp | 光触媒顆粒体、その機能回復方法、およびこれらを用いた有害有機物の分解除去装置 |
EP2314375A1 (en) * | 2001-12-21 | 2011-04-27 | Showa Denko K.K. | Photocatlyst particles comprising a condensed phosphate |
US20030230477A1 (en) * | 2002-06-14 | 2003-12-18 | Fink Ronald G. | Environmental air sterilization system |
DE10258373A1 (de) * | 2002-12-12 | 2004-07-08 | Henkel Kgaa | Herstellung magnetischer Titandioxidpartikel |
JP3944094B2 (ja) * | 2003-02-24 | 2007-07-11 | 株式会社サンデコール | 光触媒の製造方法、光触媒および気体浄化装置 |
JP4629997B2 (ja) * | 2003-06-02 | 2011-02-09 | 株式会社リコー | 薄膜トランジスタ及び薄膜トランジスタアレイ |
US20040258581A1 (en) * | 2003-06-19 | 2004-12-23 | Di Wei | Bifunctional manganese oxide/titanium dioxide photocatalyst/thermocatalyst for improving indoor air quality |
US7052587B2 (en) * | 2003-06-27 | 2006-05-30 | General Motors Corporation | Photoelectrochemical device and electrode |
DE10330114A1 (de) * | 2003-07-03 | 2005-01-20 | Schröder, Werner | Vorrichtung zur Reinigung schadstoffhaltiger Abluft |
US20050059186A1 (en) * | 2003-09-15 | 2005-03-17 | Kelly Nelson A. | Photoelectrochemical device and method of making |
US20050069464A1 (en) * | 2003-09-25 | 2005-03-31 | Obee Timothy N. | Photocatalytic oxidation of contaminants through selective desorption of water utilizing microwaves |
US7767169B2 (en) * | 2003-12-11 | 2010-08-03 | Sharper Image Acquisition Llc | Electro-kinetic air transporter-conditioner system and method to oxidize volatile organic compounds |
US20050154030A1 (en) * | 2003-12-12 | 2005-07-14 | Microban Products Company | Antimicrobial composition |
US20050129591A1 (en) * | 2003-12-16 | 2005-06-16 | Di Wei | Bifunctional layered photocatalyst/thermocatalyst for improving indoor air quality |
US20050129589A1 (en) * | 2003-12-16 | 2005-06-16 | Di Wei | Multi-layered photocatalyst/thermocatalyst for improving indoor air quality |
EP1553068A1 (en) * | 2004-01-10 | 2005-07-13 | Nanogate Coating Systems GmbH | Inorganic coating for ceramic ware |
JP4576556B2 (ja) * | 2004-01-13 | 2010-11-10 | 独立行政法人物質・材料研究機構 | 可視光応答型複合酸化物系光触媒 |
ES2459197T3 (es) * | 2004-01-30 | 2014-05-08 | Millennium Inorganic Chemicals Uk Holdings Limited | Composición para utilizar un revestimiento translúcido que elimina NOx |
US8906460B2 (en) | 2004-01-30 | 2014-12-09 | Cristal Usa Inc. | Composition for use as NOx removing translucent coating |
US7988923B2 (en) * | 2004-02-23 | 2011-08-02 | Rgf Environmental Group, Inc. | Device, system and method for an advanced oxidation process using photohydroionization |
KR100581133B1 (ko) * | 2004-04-16 | 2006-05-16 | 자동차부품연구원 | 자동차 사이드 미러용 광촉매 산화물과 그의 제조방법 |
US7354624B2 (en) * | 2004-05-28 | 2008-04-08 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Multi-layer coatings and related methods |
US7959980B2 (en) * | 2004-05-28 | 2011-06-14 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Hydrophilic compositions, methods for their production, and substrates coated with such compositions |
US7354650B2 (en) * | 2004-05-28 | 2008-04-08 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Multi-layer coatings with an inorganic oxide network containing layer and methods for their application |
US20060008589A1 (en) * | 2004-07-07 | 2006-01-12 | Li Lin | Method of coating a photo-catalysis on a surface of a coated substrate |
JP2008505841A (ja) | 2004-07-12 | 2008-02-28 | 日本板硝子株式会社 | 低保守コーティング |
EP1652827A1 (fr) * | 2004-10-27 | 2006-05-03 | Eurovia | Système dépolluant pour espaces confinés |
DE102004063428B4 (de) * | 2004-11-17 | 2015-12-10 | Erlus Aktiengesellschaft | Keramischer Formkörper mit photokatalytisch-aktiver Beschichtung und Verfahren zur Herstellung desselben |
KR20060089916A (ko) * | 2005-02-03 | 2006-08-10 | 아키라 히라이 | 산화동피막 항균 소재의 제조방법 |
CN1309684C (zh) * | 2005-04-07 | 2007-04-11 | 福州大学 | 防污闪高压陶瓷绝缘子和玻璃绝缘子及其制备方法 |
JP2007027312A (ja) * | 2005-07-14 | 2007-02-01 | Fujifilm Holdings Corp | 配線基板の製造方法および配線基板 |
JP4625742B2 (ja) * | 2005-09-26 | 2011-02-02 | 太平洋セメント株式会社 | 光触媒体の製造方法 |
US7651559B2 (en) * | 2005-11-04 | 2010-01-26 | Franklin Industrial Minerals | Mineral composition |
JPWO2007097284A1 (ja) * | 2006-02-20 | 2009-07-16 | 多摩化学工業株式会社 | 均一分散性光触媒コーティング液及びその製造方法並びにこれを用いて得られる光触媒活性複合材 |
US7922950B2 (en) * | 2006-03-14 | 2011-04-12 | 3M Innovative Properties Company | Monolithic building element with photocatalytic material |
JP4800813B2 (ja) | 2006-03-29 | 2011-10-26 | 富士通株式会社 | 光触媒アパタイト組成物及びその製造方法ならびに物品 |
CA2648686C (en) * | 2006-04-11 | 2016-08-09 | Cardinal Cg Company | Photocatalytic coatings having improved low-maintenance properties |
JP2008006420A (ja) * | 2006-06-30 | 2008-01-17 | Kubota Matsushitadenko Exterior Works Ltd | セメント系化粧板の塗装方法 |
US20080011599A1 (en) | 2006-07-12 | 2008-01-17 | Brabender Dennis M | Sputtering apparatus including novel target mounting and/or control |
JP4880410B2 (ja) * | 2006-09-28 | 2012-02-22 | 多木化学株式会社 | 光触媒コーティング組成物が被覆された部材 |
US20080097018A1 (en) | 2006-10-18 | 2008-04-24 | John Stratton | Depolluting coating composition |
CN101563150A (zh) * | 2006-12-22 | 2009-10-21 | 3M创新有限公司 | 光催化涂层 |
CN104830226A (zh) | 2006-12-22 | 2015-08-12 | 3M创新有限公司 | 光催化涂层 |
WO2008079756A1 (en) | 2006-12-22 | 2008-07-03 | 3M Innovative Properties Company | Photocatalytic coating |
TWI497019B (zh) * | 2007-01-30 | 2015-08-21 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 烹調器具及其製造方法 |
MX2009008853A (es) | 2007-02-20 | 2009-08-28 | Microban Products | Vidriado ceramico que tiene propiedades anti-microbianas. |
JP2008307526A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-12-25 | Toto Ltd | 光触媒塗装体およびそのための光触媒コーティング液 |
US8017247B2 (en) * | 2007-03-30 | 2011-09-13 | Alcoa Inc. | Self cleaning aluminum alloy substrates |
US20100227177A1 (en) * | 2007-05-31 | 2010-09-09 | Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd. | Sanitary ware and process for production thereof |
US7910220B2 (en) * | 2007-07-25 | 2011-03-22 | Alcoa Inc. | Surfaces and coatings for the removal of carbon dioxide |
WO2009017480A1 (en) * | 2007-07-31 | 2009-02-05 | Carrier Corporation | Siloxane removal via silicate formation for lifetime extension of photocatalytic devices |
WO2009021292A1 (en) | 2007-08-16 | 2009-02-19 | The University Of Queensland | Titanate photocatalyst |
US9358502B2 (en) | 2007-08-31 | 2016-06-07 | Cristal Usa Inc. | Photocatalytic coating |
US7820296B2 (en) | 2007-09-14 | 2010-10-26 | Cardinal Cg Company | Low-maintenance coating technology |
PL2200780T3 (pl) | 2007-09-24 | 2011-11-30 | Saint Gobain Abrasives Inc | Produkty ścierne obejmujące aktywne wypełniacze |
JP5164542B2 (ja) | 2007-12-04 | 2013-03-21 | ニチハ株式会社 | 建材の塗装方法 |
US10159255B2 (en) | 2008-02-16 | 2018-12-25 | Microban Products Company | Biocidal glazing composition, method, and article |
WO2009123135A1 (ja) * | 2008-04-01 | 2009-10-08 | Toto株式会社 | 光触媒コーティング組成物 |
JPWO2009145209A1 (ja) * | 2008-05-27 | 2011-10-13 | Toto株式会社 | 光触媒塗装体 |
CN103950253B (zh) * | 2008-09-16 | 2016-08-17 | 株式会社东芝 | 亲水性薄膜以及使用该亲水性薄膜的构件和结构物 |
US20100178556A1 (en) * | 2009-01-15 | 2010-07-15 | Veselin Manev | Negative electrode for lithium ion battery |
US8617665B2 (en) * | 2009-08-03 | 2013-12-31 | Alcoa, Inc. | Self-cleaning substrates and methods for making the same |
JP2011056418A (ja) * | 2009-09-10 | 2011-03-24 | Toto Ltd | 外構、および外構用コーティング液 |
JP5636705B2 (ja) * | 2010-03-16 | 2014-12-10 | 株式会社Lixil | 抗菌機能材 |
JP5711744B2 (ja) | 2010-07-29 | 2015-05-07 | Toto株式会社 | 光触媒層を備えた無機材料およびその製造方法、並びに無機材料用光触媒コーティング液 |
CN103079703B (zh) * | 2010-08-20 | 2015-12-16 | 株式会社富士工 | 光催化剂被膜的制造方法及光催化剂被膜 |
US20120060559A1 (en) * | 2010-09-14 | 2012-03-15 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for coating glass onto a flexible stainless steel substrate |
BR112013033483A2 (pt) * | 2011-06-27 | 2017-12-12 | Univ New York State Res Found | manta de fibra revestida com fotocatalisadores ao aspectro visível em nanorrede para a absorção, recuperação e degradação oxidativa de hidrocarbonetos |
JP2013075974A (ja) * | 2011-09-30 | 2013-04-25 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 防汚性薄膜形成用塗布液と防汚性製品及び防汚性薄膜形成用塗布液の製造方法並びに防汚性製品の製造方法 |
JP5898944B2 (ja) * | 2011-12-15 | 2016-04-06 | Toto株式会社 | 光触媒コーティング液および光触媒機能を有する無機材料 |
US9056794B2 (en) * | 2012-04-20 | 2015-06-16 | Ivar Reimanis | Near zero coefficient of thermal expansion of beta-eucryptite without microcracking |
TWI547315B (zh) * | 2014-10-17 | 2016-09-01 | 睿澤企業股份有限公司 | 光觸媒基材之製作方法及製作機台 |
CN105618020A (zh) * | 2014-10-28 | 2016-06-01 | 睿泽企业股份有限公司 | 光催化剂基材的制作方法及制作设备 |
US9839901B2 (en) | 2014-11-14 | 2017-12-12 | Rgf Enviornmental Group, Inc. | Device, system, and method for producing advanced oxidation products |
CN106135114B (zh) * | 2015-04-24 | 2019-11-08 | 维妙实业有限公司 | 水洁净装置 |
KR20180042231A (ko) * | 2015-06-24 | 2018-04-25 | 에이엠 테크놀로지 리미티드 | 에어리얼 바인더에 기초한 광촉매 조성물 및, 특히 내부 적용을 위한 수계 페인트의 생산을 위한 이의 용도 |
US9974310B2 (en) | 2016-03-09 | 2018-05-22 | Microban Products Company | Ceramic additive formulation and method of making |
US10899657B1 (en) | 2016-03-09 | 2021-01-26 | Microban Products Company | Ceramic additive formulation and method of making |
US11439980B2 (en) * | 2016-07-29 | 2022-09-13 | University Of Florida Research Foundation, Incorporated | Contaminant-activated photocatalysis |
US11844351B2 (en) | 2016-10-31 | 2023-12-19 | Microban Products Company | Method of treating a glazed ceramic article |
EP3541762B1 (en) | 2016-11-17 | 2022-03-02 | Cardinal CG Company | Static-dissipative coating technology |
DE102016225106A1 (de) * | 2016-12-15 | 2018-06-21 | Lynatox Gmbh | Verfahren zum bindemittelfreien Aufbringen photokatalytischer Beschichtungen |
CN109225785A (zh) * | 2018-08-24 | 2019-01-18 | 金华市东瑞新材料有限公司 | 一种保温杯 |
KR102455126B1 (ko) * | 2020-12-10 | 2022-10-17 | 주식회사 에어크린 | 향균성을 갖는 광촉매 복합 입자, 이를 이용한 덕트, 및 이들의 제조 방법 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2248714A (en) * | 1937-12-18 | 1941-07-08 | Pittsburgh Plate Glass Co | Method of treating colored glass sheets |
US4022601A (en) * | 1975-06-02 | 1977-05-10 | Ppg Industries, Inc. | Method and apparatus for coating a glass substrate |
US5603983A (en) * | 1986-03-24 | 1997-02-18 | Ensci Inc | Process for the production of conductive and magnetic transitin metal oxide coated three dimensional substrates |
JPH0372297A (ja) | 1989-08-14 | 1991-03-27 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 加圧器の気相消滅制御装置 |
JPH0410554Y2 (cs) * | 1989-11-13 | 1992-03-16 | ||
JP3309591B2 (ja) * | 1993-12-28 | 2002-07-29 | 東陶機器株式会社 | 光触媒機能を有する多機能材 |
KR100357482B1 (ko) * | 1993-12-10 | 2003-03-10 | 도토기키 가부시키가이샤 | 광촉매기능을갖는다기능재료및그의제조방법 |
JP3250394B2 (ja) * | 1994-11-10 | 2002-01-28 | 東陶機器株式会社 | 光触媒作用を有する部材、光触媒薄膜形成用組成物、及び光触媒作用を有する部材の製造方法 |
JPH08318166A (ja) * | 1995-05-25 | 1996-12-03 | Agency Of Ind Science & Technol | 固定化光触媒及び光触媒の固定化方法 |
JPH0940872A (ja) * | 1995-07-28 | 1997-02-10 | Nippon Kayaku Co Ltd | 光触媒含有組成物 |
JPH0956792A (ja) * | 1995-08-18 | 1997-03-04 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | 光反応性造粒物の製造方法 |
ES2208771T3 (es) * | 1995-12-22 | 2004-06-16 | Toto Ltd. | Procedimiento fotocatalitico para hacer hidrofila una superficie y material compuesto con una superficie hidrofila fotocataliticamente. |
JPH09248468A (ja) * | 1996-03-18 | 1997-09-22 | Toto Ltd | 光触媒材及び光触媒材を用いた多機能材並びにその製造方法 |
JP3761248B2 (ja) * | 1996-06-13 | 2006-03-29 | 小松精練株式会社 | 消臭、抗菌および防汚機能を有する繊維布帛 |
JP3567693B2 (ja) * | 1996-10-22 | 2004-09-22 | 住友金属工業株式会社 | 固定化光触媒の製造方法および有害物質の分解・除去方法 |
JPH10237416A (ja) * | 1996-12-10 | 1998-09-08 | Toto Ltd | 親水性付与材と親水性発揮材およびその製造方法 |
JPH10180113A (ja) * | 1996-12-26 | 1998-07-07 | Hino Motors Ltd | 排ガス浄化触媒及びその製造方法 |
JPH11169726A (ja) * | 1997-08-28 | 1999-06-29 | Toto Ltd | 光触媒作用を有する機能材及び複合機能材とそれらの製造方法 |
-
1999
- 1999-07-30 AU AU49319/99A patent/AU4931999A/en not_active Abandoned
- 1999-07-30 ES ES99933202.6T patent/ES2534892T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1999-07-30 WO PCT/JP1999/004126 patent/WO2000006300A1/ja active IP Right Grant
- 1999-07-30 TW TW088113048A patent/TWI229617B/zh not_active IP Right Cessation
- 1999-07-30 JP JP2000562142A patent/JP3852284B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1999-07-30 CZ CZ2001378A patent/CZ295546B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1999-07-30 EP EP99933202.6A patent/EP1118385B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2000
- 2000-03-03 US US09/518,909 patent/US6368668B1/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CZ295546B6 (cs) | 2005-08-17 |
TWI229617B (en) | 2005-03-21 |
AU4931999A (en) | 2000-02-21 |
EP1118385A1 (en) | 2001-07-25 |
JP3852284B2 (ja) | 2006-11-29 |
ES2534892T3 (es) | 2015-04-30 |
EP1118385B1 (en) | 2015-01-21 |
US6368668B1 (en) | 2002-04-09 |
WO2000006300A1 (en) | 2000-02-10 |
EP1118385A4 (en) | 2003-07-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CZ2001378A3 (cs) | Způsob výroby materiálu s fotokatalytickým účinkem a zařízení k jeho provádění | |
EP1712530B1 (en) | Method of cleaning a substrate having an ultrahydrophilic and photocatalytic surface | |
US6191062B1 (en) | Photocatalytic functional material and method for producing the same | |
JP3309591B2 (ja) | 光触媒機能を有する多機能材 | |
CN1263695C (zh) | 光活性涂层,涂覆制品,和其制备方法 | |
KR101014734B1 (ko) | 광촉매체의 제조 장치 | |
EP0870530B1 (en) | Photocatalyst and process for the preparation thereof | |
JP5708805B2 (ja) | 親水性部材およびその製造方法 | |
CZ305891B6 (cs) | Substrát s fotokatalytickým povlakem | |
WO2000023528A1 (fr) | Materiau resistant aux salissures, procede et dispositif de production et composition de revetement | |
WO1995015816A1 (fr) | Substance multifonction a effet photocatalytique et procede de production | |
CN104085165B (zh) | 一种二氧化钛光触媒涂层的制备方法 | |
JP2006021994A (ja) | 光触媒機能を有する多機能材の製造方法 | |
JP2002346393A (ja) | 光触媒体およびその製造方法 | |
JP3246235B2 (ja) | 光触媒機能を有する多機能材及びその製造方法 | |
JP3381886B2 (ja) | 光触媒構造体及びその製造方法 | |
JPH07222928A (ja) | 金属微粒子を含む触媒を有する部材の作製方法 | |
JP3885248B2 (ja) | 光触媒組成物 | |
CN109836050B (zh) | 一种串联型TiN/TiO2复合薄膜及其制备方法和应用 | |
KR100308818B1 (ko) | 다공성 TiO₂박막이 코팅된 친수성 코팅 유리 | |
JP3384930B2 (ja) | 光触媒被覆金属板の製造方法 | |
KR100631104B1 (ko) | 금속산화물이 코팅된 친수성 유리 및 그 제조방법 | |
JP3649603B2 (ja) | 多孔質光触媒被膜ガラスおよびその被覆方法 | |
TW406031B (en) | Multi-functional material having photo-catalytic function and production method therefor | |
JP2003105262A (ja) | 光触媒性薄膜 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MK4A | Patent expired |
Effective date: 20190730 |