JP3250394B2 - 光触媒作用を有する部材、光触媒薄膜形成用組成物、及び光触媒作用を有する部材の製造方法 - Google Patents

光触媒作用を有する部材、光触媒薄膜形成用組成物、及び光触媒作用を有する部材の製造方法

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【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、タイル、ガラス
(鏡)、衛生陶器、化粧合板等の基材の表面に、抗菌
性、防汚性、脱臭性やNOx等の有害物質を分解する機能
を有する部材、前記部材を形成するための光触媒薄膜形
成用組成物、及び前記部材の製造方法に関する。
【0002】
【従来技術】基材の表面に、抗菌性、防汚性および脱臭
性等の機能を付加する方法として、従来より基材表面に
アナターゼTiO2等の光触媒の薄膜を形成する方法が
提案されている。
【0003】その1つの方法としてアナターゼ型TiO
2粒子をバインダーに混練し、これを基材表面に塗布し
て熱処理する方法が知られている。他の方法として、本
出願人が特開平5−253544号において開示した、
居住空間の壁面、床面或いは天井面を構成する板状部材
の表面にバインダ層を形成し、このバインダ層の表面に
アナターゼ型TiO2を主体とする光触媒微粉末をその
一部がバインダ層から露出するように吹き付けて付着さ
せ、次いで300℃以上900℃未満の範囲で加熱して
バインダ層を溶融せしめた後、冷却してバインダ層を固
化せしめるようにしたことを特徴とする脱臭機能を備え
た板状部材の製造方法がある。
【0004】
【発明が解決すべき課題】アナターゼ型TiO2粒子を
バインダーに混練しこれを基材表面に塗布して熱処理す
る方法では、光触媒の活性なサイトをバインダーが覆っ
てしまうため脱臭性等の光触媒作用による特性が充分で
なかった。また、特開平5−253544号の方法で
は、300℃以上900℃未満で熱処理すれば脱臭性等
が良好だが、300℃未満の低温で良好な脱臭特性が得
られなかった。したがって耐熱性のないプラスチック等
の基材に優れた脱臭特性等の良好な光触媒活性を付加す
ることは困難であった。その理由として基材に光触媒粒
子を塗布する前工程において光触媒微粒子を懸濁液中に
単分散させる必要があるがそのために有機系の分散剤を
添加しており、その分散剤が300℃未満では充分に分
解蒸発せず、光触媒粒子上の活性なサイトを覆うように
残留しているためと考えられる。
【0005】また、特開平5−253544号の方法で
は、800℃未満の温度では基材表面を形成する光触媒
層が気孔率40%以上の多孔質であり、そのため汚れが
付きやすい傾向があった。また抗菌性、防汚性の観点か
らいえば、基材表面は撥水性を有することが望ましい
が、光触媒粒子を撥水性を有する樹脂と混練して基材表
面に塗布熱処理する方法では、基材表面は一層撥水性を
有する粒子で覆われるために撥水性はあるが、やはり撥
水性樹脂により光触媒粒子上の活性なサイトが覆われて
しまうために光触媒活性は有しなかった。
【0006】本発明は以上の事情を鑑みてなされたもの
であり、300℃未満の低温の熱処理でも良好な光触媒
活性を有する部材を作製でき、基材表面に汚れが付きに
くく、なおかつ基材表面に光触媒活性と撥水性等の他の
機能を共存させ得る部材構造を提供することを目的とす
る。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明では上記課題を解
決すべく、光触媒作用を有する部材において、基材表面
に、光触媒活性耐蝕性バインダーと、該バインダーと混
合する前に予めAg、Cu、Pt、Pd、Ni、Co、Feの群から選
ばれる少なくとも1種の金属粒子を光還元法により固定
した光触媒粒子との混合層よりなる薄膜が形成されてい
るようにした。
【0008】ここで基材の材質は、陶磁器、セラミッ
ク、金属、ガラス、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂あるい
はその複合物等基本的に何でもよい。基材の形状もどの
ようなものでもよく、球状物、円柱物、円筒物やタイ
ル、壁材、床材等の板状物などの単純形状のものでも、
衛生陶器、洗面台、浴槽、流し台などの複雑形状のもの
でも構わない。また、基材表面は、多孔質でも緻密質で
もよい。
【0009】金属粒子とは、光触媒粒子に担持した場
合、光触媒粒子に光が照射され電子と正孔が生成したと
きに電子を捕捉しうる金属粒子をいい、具体的にはA
g、Cu、Pt、Pd、Ni、Co、Fe等をいう。光
還元法による固定とは、金属塩水溶液中に光触媒粒子を
入れ、紫外線を含む光を照射して光触媒粒子に金属を固
定させる方法をいう。
【0010】光触媒粒子とは、防臭機能、抗菌機能等を
発揮するのに充分なバンド・ギャップを有する半導体粒
子のことである。光触媒粒子が抗菌機能を有する理由と
しては所定以上の電圧が印加されることにより感電死す
るという説(特公平4−29393)もあるが、一般に
は防臭特性と同様に、光照射時に生じる活性酸素のため
と考えられている。活性酸素を生成するためには、半導
体の伝導帯の位置がバンドモデルで表すとき水素発生電
位より上方にあり、かつ価電子帯の上端が酸素発生電位
より下方にあることを要する。この条件を満たす半導体
には、TiO2、SrTiO3、ZnO、SiC、Ga
P、CdS、CdSe、MoS3等がある。また微粒化
すると伝導帯の位置は上方に移動するので、1〜10n
m程度の微粒子ならば、SnO2、WO3、Fe2O
3、Bi2O3等も活性酸素を生成しうる可能性があ
る。このうち化学的に安定で、安価に活性の高い微粒子
を得ることができることから、アナターゼ型TiO2が
特に好ましい。
【0011】金属粒子を光還元法により固定した光触媒
粒子の作製方法は以下に示す方法で行う。まず、光触媒
ゾル溶液を作製する。光触媒ゾルはなるべく単分散させ
る。例えばアナターゼ型TiO2の場合には等電点がP
H6.5なので酸性またはアルカリ性で分散させる。こ
の際、分散性を向上させるために分散剤(解膠剤)や表
面活性剤若しくは表面処理剤を添加してもよい。光触媒
ゾル溶液に用いる溶媒は基本的に何でもよい。一般的に
は水やエタノールがよく使用される。
【0012】次に光触媒ゾル溶液とほぼ同じPHに調整
した金属溶液を光触媒ゾル溶液に添加する。ここで金属
溶液のPHを光触媒ゾル溶液とほぼ同じにするのは、光
触媒ゾルの溶液中のゼータ電位をなるべく変化させない
ようにすることにより、光触媒ゾルの単分散性を維持す
るためである。ここで金属溶液とは光触媒粒子に光が照
射され電子と正孔が生成したときに電子を捕捉しうる金
属を含む塩と溶媒からなる溶液をいい、より具体的には
Ag、Cu、Pt、Pd、Ni、Co、Fe等を含む塩
と溶媒からなる溶液をいう。Ag、Cu、Pt、Pd、
Ni、Co、Fe等を含む塩としては硝酸銀、酢酸銅、
炭酸銅、硫酸銅、塩化第一銅、塩化第二銅、塩化白金
酸、塩化パラジウム、塩化ニッケル、塩化コバルト、塩
化第一鉄、塩化第二鉄などが挙げられる。また溶媒とし
ては水、エタノール、プロパノール等が使用できるが、
なるべく光触媒ゾルと同じ種類を用いることが望まし
い。
【0013】次に光触媒ゾル溶液と金属塩溶液とを攪拌
しながら紫外線を含む光を照射する。ここで紫外線を含
む光を照射する光源は、紫外線を含む光を照射しうるも
のであればよく、具体的には紫外線ランプ、BLBラン
プ、キセノンランプ、水銀灯、蛍光灯などが挙げられ
る。紫外線を含む光の照射方法も基本的には問わない
が、第一に容器上方から照射するほうがよい。容器によ
る紫外線の吸収がないからである。第二に光源と容器と
の距離は数cm〜数10cm程度がよい。近すぎると光
源から発する熱により試料溶液の上面が乾くおそれがあ
り、遠すぎると照度が低下するからである。照射時間は
光源の照度により異なるが数秒〜数10分程度照射すれ
ば金属が光触媒粒子に強固に付着する。
【0014】光触媒活性耐蝕性バインダーとは、光触媒
反応により分解、変質されにくいバインダーのことをい
い、シロキサン樹脂、シリコン樹脂、フッ素樹脂、釉
薬、ケイ酸ガラス等がその代表的なものである。ここで
用いる光触媒活性耐蝕性バインダーは、混合層中におい
て大部分の光触媒粒子を覆うので、基材表面の光触媒活
性を良好なものにするためには透光性を有したほうがよ
い。尚、汚れが付きにくい点を考慮すると、バインダー
は、シロキサン樹脂、フッ素樹脂等の撥水性を有するも
のが、望ましい。
【0015】
【作用】光触媒粒子の活性なサイトを予めAg、Cu、
Pt、Pd、Ni、Co、Fe等の金属粒子で覆ってい
るので、光触媒活性耐蝕性バインダーとの混練時に光触
媒活性耐蝕性バインダーにより光触媒粒子の活性なサイ
トが覆われることがなく、混合層を形成したときに金属
粒子の補足効果により良好な光触媒活性が維持されると
共に多くの光触媒粒子は光触媒活性耐蝕性バインダー中
に埋もれてしまうため、基材表面が比較的平滑であり、
光触媒粒子が基材最表面に露出している場合と比較し
て、汚れが付きにくい。
【0016】
【実施例】
(実施例1)10cm角のアルミナ基材に撥水性を有す
るシロキサン・クリア・コート樹脂をプロパノールで希
釈した後、硬化剤を添加した溶液を塗布し、さらにその
上に結晶径0.01μmのTiO2ゾルの硝酸分散液
(PH0.8)に硝酸でPHを調整し、PH約0.8と
した酢酸銅水溶液を添加し、溶液上方約8cmの位置に
4ワットのBLBランプからなる光源を配置して15分
光照射してTiO2に銅を担持させた後、撥水性を有す
るシロキサン・クリア・コート樹脂をTiO2ゾルの固
形分の約20重量%添加し、さらに希釈剤のプロパノー
ルと硬化剤を順次添加して得た塗布剤を塗布し、150
℃で熱処理して図1に示すのような試料を得た。図1に
おいて、1は基材、2はシロキサン・クリア・コート樹
脂(光触媒活性耐蝕性バインダー)、3はTiO2粒子
(光触媒粒子)、4は銅粒子(金属粒子)を示すもので
ある。得られた試料について光照射時の防臭特性R30
(L)および耐摩耗性について評価した。
【0017】光照射時の防臭特性R30(L)は、11
Lのガラス容器内に試料面を光源(BLB蛍光灯4W)
から8cmの距離に配置し、メチルメルカプタンガスを
初期濃度3ppmとなるように容器内に注入し、30分
光照射した後の濃度変化率である。耐摩耗性について
は、プラスチック消しゴムを用いた摺動摩耗を行い、外
観の変化を比較し評価した。評価基準を下記に示す。 ◎:40回往復に対して変化なし ○:10回以上40回未満の摺動で傷が入り、光触媒を
含む層が剥離 △:5回以上10回未満の摺動で傷が入り、光触媒を含
む層が剥離 ×:5回未満の摺動で傷が入り、光触媒を含む層が剥離
【0018】その結果、防臭特性はR30(L)=80
%、耐摩耗性も◎と良好な結果を示した。さらに接触角
測定器により基材表面に滴下した水のぬれ角を測定した
結果73%とかなり高い値を示し、撥水性があることが
確認された。この高いぬれ性は基材表面の大部分が撥水
性樹脂で覆われているためと解される。
【0019】(比較例1)10cm角のアルミナ基材に
撥水性を有するシロキサン・クリア・コート樹脂をプロ
パノールで希釈した後、硬化剤を添加した溶液を塗布
し、さらにその上に結晶径0.01μmのTiO2ゾル
の硝酸分散液(PH0.8)に撥水性を有するシロキサ
ン・クリア・コート樹脂をTiO2ゾルの固形分の約2
0重量%添加しさらに希釈剤のプロパノールと硬化剤を
順次添加して得た塗布剤を塗布し、150℃で熱処理し
て試料を得た。得られた試料について光照射時の防臭特
性R30(L)および耐摩耗性について評価した。
【0020】その結果、耐摩耗性は◎と良好な結果を示
したが、防臭特性はR30(L)=18%と光照射して
いるにもかかわらず、防臭特性はよくなかった。さらに
接触角測定器により基材表面に滴下した水のぬれ角を測
定した結果66%とかなり高い値を示し、撥水性がある
ことが確認された。この高いぬれ性は基材表面の大部分
が撥水性樹脂で覆われているためと解される。
【0021】(実施例2)15cm角のタイル基材表面
にSiO2−Al2O3−PbOフリット(軟化点54
0℃)を塗布して680℃で焼成後、結晶径0.01μ
mのTiO2ゾルの硝酸分散液(PH0.8)に硝酸で
PHを調整しPH約0.8とした硫酸銅水溶液を添加し
溶液上方約8cmの位置に4ワットのBLBランプから
なる光源を配置して15分光照射してTiO2に銅を担
持させた金属担持光触媒ゾルと、SiO2−Al2O3
−PbOフリットの混練物を塗布し、680℃で焼成し
て試料を得た。得られた試料について光照射時の防臭特
性R30(L)、耐摩耗性および汚れの付きにくさにつ
いて評価した。
【0022】汚れの付きにくさの評価は、基材表面に黒
色の太いマジックインクで線を引き、乾燥後エタノール
でインクを拭き取った後の汚れ具合で評価した。評価指
標を示す。 ◎:完全に跡が消える ○:かすかに跡が残る △:灰青色の跡が残る ×:黒色の跡が残る その結果、R30(L)は82%、耐摩耗性は◎、汚れ
の付きにくさも○と良好な結果を示した。
【0023】(比較例2)15cm角のタイル基材表面
にSiO2−Al2O3−PbOフリット(軟化点54
0℃)を塗布後、さらにその上に結晶径0.01μmの
TiO2ゾルの硝酸分散液(PH0.8)を塗布し、6
80℃で焼成して試料を得た。得られた試料について光
照射時の防臭特性R30(L)、耐摩耗性および汚れの
付きにくさについて評価した。その結果、R30(L)
は92%、耐摩耗性は○と良好な結果を示したが、汚れ
の付きにくさは×であった。
【0024】
【発明の効果】基材表面に金属粒子を光還元法により固
定した光触媒粒子と光触媒活性耐蝕性バインダーとの混
合層よりなる薄膜が形成されているようにすることによ
り、300℃未満の低温の熱処理でも良好な光触媒活性
を有する部材を作製でき、基材表面に汚れが付きにく
く、耐摩耗性が良好でなおかつ基材表面に光触媒活性と
撥水性等の他の機能を共存させ得る部材構造を提供する
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例を示す図。
【符号の説明】
1…基材、2…光触媒活性耐蝕性バインダー、3…光触
媒粒子、4…金属粒子
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平1−224337(JP,A) 特開 平5−253544(JP,A) 特開 昭63−5301(JP,A) 特開 平4−284851(JP,A) 特開 平4−174679(JP,A) 特開 平7−171408(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B01J 21/00 - 37/36

Claims (14)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基材表面に、光触媒活性耐蝕性バインダ
    ーと、該バインダーと混合する前に予めAg、Cu、Pt、P
    d、Ni、Co、Feの群から選ばれる少なくとも1種の金属
    粒子を光還元法により固定した光触媒粒子との混合層よ
    りなる薄膜が形成されていることを特徴とする光触媒作
    用を有する部材。
  2. 【請求項2】 前記バインダーは、透光性を有すること
    を特徴とする請求項1に記載の光触媒作用を有する部
    材。
  3. 【請求項3】 前記バインダーは、撥水性を有すること
    を特徴とする請求項1又は2に記載の光触媒作用を有す
    る部材。
  4. 【請求項4】 前記バインダーは、シロキサン樹脂であ
    ることを特徴とする請求項1〜3に記載の光触媒作用を
    有する部材。
  5. 【請求項5】 前記バインダーは、フッ素樹脂であるこ
    とを特徴とする請求項1〜3に記載の光触媒作用を有す
    る部材。
  6. 【請求項6】 前記バインダーは、ケイ酸ガラスである
    ことを特徴とする請求項1又は2に記載の光触媒作用を
    有する部材。
  7. 【請求項7】 前記バインダーは、釉薬であることを特
    徴とする請求項1又は2に記載の光触媒作用を有する部
    材。
  8. 【請求項8】 光触媒活性耐蝕性バインダーと、該バイ
    ンダーと混合する前に予めAg、Cu、Pt、Pd、Ni、Co、Fe
    の群から選ばれる少なくとも1種の金属粒子を光還元法
    により固定した光触媒粒子とからなることを特徴とする
    光触媒薄膜形成用組成物。
  9. 【請求項9】 前記バインダーは、撥水性を有すること
    を特徴とする請求項に記載の光触媒薄膜形成用組成
    物。
  10. 【請求項10】 前記バインダーは、シロキサン樹脂を
    有することを特徴とする請求項又はに記載の光触媒
    薄膜形成用組成物。
  11. 【請求項11】 前記バインダーは、フッ素樹脂を有す
    ることを特徴とする請求項又はに記載の光触媒薄膜
    形成用組成物。
  12. 【請求項12】 前記バインダーは、ケイ酸ガラスを有
    することを特徴とする請求項に記載の光触媒薄膜形成
    用組成物。
  13. 【請求項13】 前記バインダーは、釉薬を有すること
    を特徴とする請求項に記載の光触媒薄膜形成用組成
    物。
  14. 【請求項14】 基材表面に、光触媒活性耐蝕性バイン
    ダーと、該バインダーと混合する前に予めAg、Cu、Pt、
    Pd、Ni、Co、Feの群から選ばれる少なくとも1種の金属
    粒子を光還元法により固定した光触媒粒子との混合層よ
    りなる薄膜を形成する工程、300℃未満の低温で熱処
    理する工程を含むことを特徴とする光触媒作用を有する
    部材の製造方法。
JP31231094A 1994-11-10 1994-11-10 光触媒作用を有する部材、光触媒薄膜形成用組成物、及び光触媒作用を有する部材の製造方法 Expired - Lifetime JP3250394B2 (ja)

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