JPH08131841A - 光触媒作用を有する部材 - Google Patents
光触媒作用を有する部材Info
- Publication number
- JPH08131841A JPH08131841A JP6312310A JP31231094A JPH08131841A JP H08131841 A JPH08131841 A JP H08131841A JP 6312310 A JP6312310 A JP 6312310A JP 31231094 A JP31231094 A JP 31231094A JP H08131841 A JPH08131841 A JP H08131841A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- particles
- photocatalyst
- substrate
- photocatalytic
- binder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 title claims abstract description 22
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 32
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims abstract description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 18
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 17
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 claims abstract description 13
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 claims abstract description 13
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 claims abstract description 11
- 238000007540 photo-reduction reaction Methods 0.000 claims abstract description 6
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 5
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 abstract description 36
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 6
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000000463 material Substances 0.000 description 23
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 16
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 13
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 13
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 11
- 230000001877 deodorizing effect Effects 0.000 description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 9
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 9
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 8
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 7
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 5
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 5
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 239000002781 deodorant agent Substances 0.000 description 4
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 4
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 4
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N Methanethiol Chemical compound SC LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WMWLMWRWZQELOS-UHFFFAOYSA-N bismuth(iii) oxide Chemical compound O=[Bi]O[Bi]=O WMWLMWRWZQELOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 229960000355 copper sulfate Drugs 0.000 description 2
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L copper(ii) acetate Chemical compound [Cu+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 2
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 2
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910016003 MoS3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002370 SrTiO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);selenium(2-) Chemical compound [Se-2].[Cd+2] UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L cobalt dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Co+2] GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 229940116318 copper carbonate Drugs 0.000 description 1
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GEZOTWYUIKXWOA-UHFFFAOYSA-L copper;carbonate Chemical compound [Cu+2].[O-]C([O-])=O GEZOTWYUIKXWOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960003280 cupric chloride Drugs 0.000 description 1
- 229940045803 cuprous chloride Drugs 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000004332 deodorization Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229960002089 ferrous chloride Drugs 0.000 description 1
- 238000009408 flooring Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L iron dichloride Chemical compound Cl[Fe]Cl NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003465 moissanite Inorganic materials 0.000 description 1
- TVWWSIKTCILRBF-UHFFFAOYSA-N molybdenum trisulfide Chemical compound S=[Mo](=S)=S TVWWSIKTCILRBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000013032 photocatalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011120 plywood Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 1
- 239000012488 sample solution Substances 0.000 description 1
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010944 silver (metal) Substances 0.000 description 1
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- -1 tiles Substances 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N zinc oxide Inorganic materials [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Catalysts (AREA)
Abstract
活性を有する部材を作製でき、基材表面に汚れが付きに
くく、なおかつ基材表面に光触媒活性と撥水性等の他の
機能を共存させ得る部材構造を提供すること。 【構成】基材表面に金属粒子を光還元法により固定した
光触媒粒子と光触媒活性耐蝕性バインダーとの混合層よ
りなる薄膜が形成されているようにする。
Description
(鏡)、衛生陶器、化粧合板等の基材の表面に、抗菌
性、防汚性、脱臭性やNOx等の有害物質を分解する機
能を有する部材に関する。
性等の機能を付加する方法として、従来より基材表面に
アナターゼTiO2等の光触媒の薄膜を形成する方法が
提案されている。
2粒子をバインダーに混練し、これを基材表面に塗布し
て熱処理する方法が知られている。他の方法として、本
出願人が特開平5−253544号において開示した、
居住空間の壁面、床面或いは天井面を構成する板状部材
の表面にバインダ層を形成し、このバインダ層の表面に
アナターゼ型TiO2を主体とする光触媒微粉末をその
一部がバインダ層から露出するように吹き付けて付着さ
せ、次いで300℃以上900℃未満の範囲で加熱して
バインダ層を溶融せしめた後、冷却してバインダ層を固
化せしめるようにしたことを特徴とする脱臭機能を備え
た板状部材の製造方法がある。
バインダーに混練しこれを基材表面に塗布して熱処理す
る方法では、光触媒の活性なサイトをバインダーが覆っ
てしまうため脱臭性等の光触媒作用による特性が充分で
なかった。また、特開平5−253544号の方法で
は、300℃以上900℃未満で熱処理すれば脱臭性等
が良好だが、300℃未満の低温で良好な脱臭特性が得
られなかった。したがって耐熱性のないプラスチック等
の基材に優れた脱臭特性等の良好な光触媒活性を付加す
ることは困難であった。その理由として基材に光触媒粒
子を塗布する前工程において光触媒微粒子を懸濁液中に
単分散させる必要があるがそのために有機系の分散剤を
添加しており、その分散剤が300℃未満では充分に分
解蒸発せず、光触媒粒子上の活性なサイトを覆うように
残留しているためと考えられる。
は、800℃未満の温度では基材表面を形成する光触媒
層が気孔率40%以上の多孔質であり、そのため汚れが
付きやすい傾向があった。また抗菌性、防汚性の観点か
らいえば、基材表面は撥水性を有することが望ましい
が、光触媒粒子を撥水性を有する樹脂と混練して基材表
面に塗布熱処理する方法では、基材表面は一層撥水性を
有する粒子で覆われるために撥水性はあるが、やはり撥
水性樹脂により光触媒粒子上の活性なサイトが覆われて
しまうために光触媒活性は有しなかった。
であり、300℃未満の低温の熱処理でも良好な光触媒
活性を有する部材を作製でき、基材表面に汚れが付きに
くく、なおかつ基材表面に光触媒活性と撥水性等の他の
機能を共存させ得る部材構造を提供することを目的とす
る。
決すべく、光触媒作用を有する部材において基材表面に
金属粒子を光還元法により固定した光触媒粒子と光触媒
活性耐蝕性バインダーとの混合層よりなる薄膜が形成さ
れているようにした。
ク、金属、ガラス、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂あるい
はその複合物等基本的に何でもよい。基材の形状もどの
ようなものでもよく、球状物、円柱物、円筒物やタイ
ル、壁材、床材等の板状物などの単純形状のものでも、
衛生陶器、洗面台、浴槽、流し台などの複雑形状のもの
でも構わない。また、基材表面は、多孔質でも緻密質で
もよい。
合、光触媒粒子に光が照射され電子と正孔が生成したと
きに電子を捕捉しうる金属粒子をいい、具体的にはA
g、Cu、Pt、Pd、Ni、Co、Fe等をいう。光
還元法による固定とは、金属塩水溶液中に光触媒粒子を
入れ、紫外線を含む光を照射して光触媒粒子に金属を固
定させる方法をいう。
発揮するのに充分なバンド・ギャップを有する半導体粒
子のことである。光触媒粒子が抗菌機能を有する理由と
しては所定以上の電圧が印加されることにより感電死す
るという説(特公平4−29393)もあるが、一般に
は防臭特性と同様に、光照射時に生じる活性酸素のため
と考えられている。活性酸素を生成するためには、半導
体の伝導帯の位置がバンドモデルで表すとき水素発生電
位より上方にあり、かつ価電子帯の上端が酸素発生電位
より下方にあることを要する。この条件を満たす半導体
には、TiO2、SrTiO3、ZnO、SiC、Ga
P、CdS、CdSe、MoS3等がある。また微粒化
すると伝導帯の位置は上方に移動するので、1〜10n
m程度の微粒子ならば、SnO2、WO3、Fe2O
3、Bi2O3等も活性酸素を生成しうる可能性があ
る。このうち化学的に安定で、安価に活性の高い微粒子
を得ることができることから、アナターゼ型TiO2が
特に好ましい。
粒子の作製方法は以下に示す方法で行う。まず、光触媒
ゾル溶液を作製する。光触媒ゾルはなるべく単分散させ
る。例えばアナターゼ型TiO2の場合には等電点がP
H6.5なので酸性またはアルカリ性で分散させる。こ
の際、分散性を向上させるために分散剤(解膠剤)や表
面活性剤若しくは表面処理剤を添加してもよい。光触媒
ゾル溶液に用いる溶媒は基本的に何でもよい。一般的に
は水やエタノールがよく使用される。
した金属溶液を光触媒ゾル溶液に添加する。ここで金属
溶液のPHを光触媒ゾル溶液とほぼ同じにするのは、光
触媒ゾルの溶液中のゼータ電位をなるべく変化させない
ようにすることにより、光触媒ゾルの単分散性を維持す
るためである。ここで金属溶液とは光触媒粒子に光が照
射され電子と正孔が生成したときに電子を捕捉しうる金
属を含む塩と溶媒からなる溶液をいい、より具体的には
Ag、Cu、Pt、Pd、Ni、Co、Fe等を含む塩
と溶媒からなる溶液をいう。Ag、Cu、Pt、Pd、
Ni、Co、Fe等を含む塩としては硝酸銀、酢酸銅、
炭酸銅、硫酸銅、塩化第一銅、塩化第二銅、塩化白金
酸、塩化パラジウム、塩化ニッケル、塩化コバルト、塩
化第一鉄、塩化第二鉄などが挙げられる。また溶媒とし
ては水、エタノール、プロパノール等が使用できるが、
なるべく光触媒ゾルと同じ種類を用いることが望まし
い。
しながら紫外線を含む光を照射する。ここで紫外線を含
む光を照射する光源は、紫外線を含む光を照射しうるも
のであればよく、具体的には紫外線ランプ、BLBラン
プ、キセノンランプ、水銀灯、蛍光灯などが挙げられ
る。紫外線を含む光の照射方法も基本的には問わない
が、第一に容器上方から照射するほうがよい。容器によ
る紫外線の吸収がないからである。第二に光源と容器と
の距離は数cm〜数10cm程度がよい。近すぎると光
源から発する熱により試料溶液の上面が乾くおそれがあ
り、遠すぎると照度が低下するからである。照射時間は
光源の照度により異なるが数秒〜数10分程度照射すれ
ば金属が光触媒粒子に強固に付着する。
反応により分解、変質されにくいバインダーのことをい
い、シロキサン樹脂、シリコン樹脂、フッ素樹脂、釉
薬、ケイ酸ガラス等がその代表的なものである。ここで
用いる光触媒活性耐蝕性バインダーは、混合層中におい
て大部分の光触媒粒子を覆うので、基材表面の光触媒活
性を良好なものにするためには透光性を有したほうがよ
い。尚、汚れが付きにくい点を考慮すると、バインダー
は、シロキサン樹脂、フッ素樹脂等の撥水性を有するも
のが、望ましい。
Pt、Pd、Ni、Co、Fe等の金属粒子で覆ってい
るので、光触媒活性耐蝕性バインダーとの混練時に光触
媒活性耐蝕性バインダーにより光触媒粒子の活性なサイ
トが覆われることがなく、混合層を形成したときに金属
粒子の補足効果により良好な光触媒活性が維持されると
共に多くの光触媒粒子は光触媒活性耐蝕性バインダー中
に埋もれてしまうため、基材表面が比較的平滑であり、
光触媒粒子が基材最表面に露出している場合と比較し
て、汚れが付きにくい。
るシロキサン・クリア・コート樹脂をプロパノールで希
釈した後、硬化剤を添加した溶液を塗布し、さらにその
上に結晶径0.01μmのTiO2ゾルの硝酸分散液
(PH0.8)に硝酸でPHを調整し、PH約0.8と
した酢酸銅水溶液を添加し、溶液上方約8cmの位置に
4ワットのBLBランプからなる光源を配置して15分
光照射してTiO2に銅を担持させた後、撥水性を有す
るシロキサン・クリア・コート樹脂をTiO2ゾルの固
形分の約20重量%添加し、さらに希釈剤のプロパノー
ルと硬化剤を順次添加して得た塗布剤を塗布し、150
℃で熱処理して図1に示すのような試料を得た。図1に
おいて、1は基材、2はシロキサン・クリア・コート樹
脂(光触媒活性耐蝕性バインダー)、3はTiO2粒子
(光触媒粒子)、4は銅粒子(金属粒子)を示すもので
ある。得られた試料について光照射時の防臭特性R30
(L)および耐摩耗性について評価した。
Lのガラス容器内に試料面を光源(BLB蛍光灯4W)
から8cmの距離に配置し、メチルメルカプタンガスを
初期濃度3ppmとなるように容器内に注入し、30分
光照射した後の濃度変化率である。耐摩耗性について
は、プラスチック消しゴムを用いた摺動摩耗を行い、外
観の変化を比較し評価した。評価基準を下記に示す。 ◎:40回往復に対して変化なし ○:10回以上40回未満の摺動で傷が入り、光触媒を
含む層が剥離 △:5回以上10回未満の摺動で傷が入り、光触媒を含
む層が剥離 ×:5回未満の摺動で傷が入り、光触媒を含む層が剥離
%、耐摩耗性も◎と良好な結果を示した。さらに接触角
測定器により基材表面に滴下した水のぬれ角を測定した
結果73%とかなり高い値を示し、撥水性があることが
確認された。この高いぬれ性は基材表面の大部分が撥水
性樹脂で覆われているためと解される。
撥水性を有するシロキサン・クリア・コート樹脂をプロ
パノールで希釈した後、硬化剤を添加した溶液を塗布
し、さらにその上に結晶径0.01μmのTiO2ゾル
の硝酸分散液(PH0.8)に撥水性を有するシロキサ
ン・クリア・コート樹脂をTiO2ゾルの固形分の約2
0重量%添加しさらに希釈剤のプロパノールと硬化剤を
順次添加して得た塗布剤を塗布し、150℃で熱処理し
て試料を得た。得られた試料について光照射時の防臭特
性R30(L)および耐摩耗性について評価した。
したが、防臭特性はR30(L)=18%と光照射して
いるにもかかわらず、防臭特性はよくなかった。さらに
接触角測定器により基材表面に滴下した水のぬれ角を測
定した結果66%とかなり高い値を示し、撥水性がある
ことが確認された。この高いぬれ性は基材表面の大部分
が撥水性樹脂で覆われているためと解される。
にSiO2−Al2O3−PbOフリット(軟化点54
0℃)を塗布して680℃で焼成後、結晶径0.01μ
mのTiO2ゾルの硝酸分散液(PH0.8)に硝酸で
PHを調整しPH約0.8とした硫酸銅水溶液を添加し
溶液上方約8cmの位置に4ワットのBLBランプから
なる光源を配置して15分光照射してTiO2に銅を担
持させた金属担持光触媒ゾルと、SiO2−Al2O3
−PbOフリットの混練物を塗布し、680℃で焼成し
て試料を得た。得られた試料について光照射時の防臭特
性R30(L)、耐摩耗性および汚れの付きにくさにつ
いて評価した。
色の太いマジックインクで線を引き、乾燥後エタノール
でインクを拭き取った後の汚れ具合で評価した。評価指
標を示す。 ◎:完全に跡が消える ○:かすかに跡が残る △:灰青色の跡が残る ×:黒色の跡が残る その結果、R30(L)は82%、耐摩耗性は◎、汚れ
の付きにくさも○と良好な結果を示した。
にSiO2−Al2O3−PbOフリット(軟化点54
0℃)を塗布後、さらにその上に結晶径0.01μmの
TiO2ゾルの硝酸分散液(PH0.8)を塗布し、6
80℃で焼成して試料を得た。得られた試料について光
照射時の防臭特性R30(L)、耐摩耗性および汚れの
付きにくさについて評価した。その結果、R30(L)
は92%、耐摩耗性は○と良好な結果を示したが、汚れ
の付きにくさは×であった。
定した光触媒粒子と光触媒活性耐蝕性バインダーとの混
合層よりなる薄膜が形成されているようにすることによ
り、300℃未満の低温の熱処理でも良好な光触媒活性
を有する部材を作製でき、基材表面に汚れが付きにく
く、耐摩耗性が良好でなおかつ基材表面に光触媒活性と
撥水性等の他の機能を共存させ得る部材構造を提供する
ことができる。
媒粒子、4…金属粒子
Claims (3)
- 【請求項1】 基材表面に金属粒子を光還元法により固
定した光触媒粒子と光触媒活性耐蝕性バインダーとの混
合層よりなる薄膜が形成されていることを特徴とする光
触媒作用を有する部材。 - 【請求項2】 前記光触媒活性耐蝕性バインダーは、撥
水性を有することを特徴とする請求項1に記載の光触媒
作用を有する部材。 - 【請求項3】 前記光触媒活性耐蝕性バインダーは、釉
薬であることを特徴とする請求項1に記載の光触媒作用
を有する部材。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31231094A JP3250394B2 (ja) | 1994-11-10 | 1994-11-10 | 光触媒作用を有する部材、光触媒薄膜形成用組成物、及び光触媒作用を有する部材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31231094A JP3250394B2 (ja) | 1994-11-10 | 1994-11-10 | 光触媒作用を有する部材、光触媒薄膜形成用組成物、及び光触媒作用を有する部材の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08131841A true JPH08131841A (ja) | 1996-05-28 |
JP3250394B2 JP3250394B2 (ja) | 2002-01-28 |
Family
ID=18027714
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31231094A Expired - Lifetime JP3250394B2 (ja) | 1994-11-10 | 1994-11-10 | 光触媒作用を有する部材、光触媒薄膜形成用組成物、及び光触媒作用を有する部材の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3250394B2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09276694A (ja) * | 1996-04-12 | 1997-10-28 | Akira Fujishima | 二酸化チタン光触媒の製造方法 |
WO1998011984A1 (fr) * | 1996-09-20 | 1998-03-26 | Daiken Chemical Co., Ltd. | Photocatalyseur supportant des particules metalliques ultra-fines, materiau a fonctionnalite elevee charge a l'aide de ce photocatalyseur et procede de fabrication de ces derniers |
WO1998012048A1 (en) * | 1996-09-20 | 1998-03-26 | Hitachi, Ltd. | Thin photocatalytic film and articles provided with the same |
JPH1110802A (ja) * | 1997-06-26 | 1999-01-19 | Achilles Corp | 積層シート |
WO2000006300A1 (en) * | 1998-07-30 | 2000-02-10 | Toto Ltd. | Method for producing high-performance material having photocatalytic function and device therefor |
WO2001054811A1 (fr) * | 2000-01-27 | 2001-08-02 | Kabushiki Kaisha Toyota Chuo Kenkyusho | Photo-catalyseur |
WO2004026471A1 (ja) * | 2002-09-20 | 2004-04-01 | Andes Electric Co.,Ltd. | 光触媒材料とその製造方法 |
-
1994
- 1994-11-10 JP JP31231094A patent/JP3250394B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09276694A (ja) * | 1996-04-12 | 1997-10-28 | Akira Fujishima | 二酸化チタン光触媒の製造方法 |
WO1998011984A1 (fr) * | 1996-09-20 | 1998-03-26 | Daiken Chemical Co., Ltd. | Photocatalyseur supportant des particules metalliques ultra-fines, materiau a fonctionnalite elevee charge a l'aide de ce photocatalyseur et procede de fabrication de ces derniers |
WO1998012048A1 (en) * | 1996-09-20 | 1998-03-26 | Hitachi, Ltd. | Thin photocatalytic film and articles provided with the same |
EP0882504A1 (en) * | 1996-09-20 | 1998-12-09 | Daiken Chemical Company | Ultrafine metal particle carrying photocatalyst, highly function material loaded with the photocatalyst, and method of manufacturing them |
EP0882504A4 (en) * | 1996-09-20 | 2000-12-13 | Daiken Chemical Company | PHOTOCATALYZER WITH ULTRAFINE METAL PARTICLES, HIGHLY FUNCTIONAL MATERIAL LOADED WITH THE PHOTOCATALYZER AND METHOD FOR THEIR PRODUCTION |
JPH1110802A (ja) * | 1997-06-26 | 1999-01-19 | Achilles Corp | 積層シート |
WO2000006300A1 (en) * | 1998-07-30 | 2000-02-10 | Toto Ltd. | Method for producing high-performance material having photocatalytic function and device therefor |
US6368668B1 (en) | 1998-07-30 | 2002-04-09 | Toto Ltd. | Method and apparatus for producing a photocatalytic material |
JP3852284B2 (ja) * | 1998-07-30 | 2006-11-29 | 東陶機器株式会社 | 光触媒機能を有する機能材の製造方法およびそのための装置 |
WO2001054811A1 (fr) * | 2000-01-27 | 2001-08-02 | Kabushiki Kaisha Toyota Chuo Kenkyusho | Photo-catalyseur |
US6743749B2 (en) | 2000-01-27 | 2004-06-01 | Kabushiki Kaisha Toyota Chuo Kenkyusho | Photocatalyst |
WO2004026471A1 (ja) * | 2002-09-20 | 2004-04-01 | Andes Electric Co.,Ltd. | 光触媒材料とその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3250394B2 (ja) | 2002-01-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3282184B2 (ja) | 光触媒機能材及びその製造方法 | |
KR100361563B1 (ko) | 광촉매기능을 갖는 다기능 재료 및 그의 제조방법 | |
JP3732247B2 (ja) | 光触媒用酸化チタン塗膜形成性液状組成物及びその製法 | |
CZ295546B6 (cs) | Způsob výroby materiálu s fotokatalytickým účinkem a zařízení k jeho provádění | |
JPH0866635A (ja) | 光触媒薄膜及びその形成方法 | |
JPH06205977A (ja) | 光触媒組成物の製造方法及び光触媒組成物 | |
JPH08131841A (ja) | 光触媒作用を有する部材 | |
JP2001070802A (ja) | 光触媒膜およびその製造方法 | |
JP3261959B2 (ja) | 光触媒材 | |
JPH07155598A (ja) | 光触媒被膜及び光触媒被膜の形成方法 | |
JP3261909B2 (ja) | 金属微粒子を含む触媒を有する部材及びその作製方法 | |
JPH08131842A (ja) | 光触媒作用を有する部材の形成方法 | |
US20110011419A1 (en) | Photocatalytic auto-cleaning process of stains | |
JPH08117606A (ja) | 光触媒機能を有する多機能材及びその製造方法 | |
JP2007117999A (ja) | 酸化チタン系光触媒とその用途 | |
JPH08131834A (ja) | 光触媒用酸化チタンゾルおよび光触媒作用を有する多機能部材 | |
JP2002079109A (ja) | 光半導体金属−有機物質混合体、光半導体金属含有組成物、光触媒性被膜の製造法及び光触媒性部材 | |
JP2000237597A (ja) | 光触媒複合材 | |
JP2000343848A (ja) | 光触媒体を用いた画像形成材料および画像形成方法 | |
TW406031B (en) | Multi-functional material having photo-catalytic function and production method therefor | |
JP4298593B2 (ja) | 光触媒担持体及びその製造方法 | |
JPH08224481A (ja) | 光触媒作用を有する部材 | |
JPH1171138A (ja) | 光触媒薄膜の形成方法、光触媒薄膜形成用型、及び光触媒薄膜 | |
CA2204768C (en) | Photocatalytic functional material and method of production thereof | |
JP2006181490A (ja) | 非水系溶媒を使用した塗料の塗装方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
S201 | Request for registration of exclusive licence |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R314201 |
|
R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
R371 | Transfer withdrawn |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371 |
|
S201 | Request for registration of exclusive licence |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R314201 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R314533 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071116 Year of fee payment: 6 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071116 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081116 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081116 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091116 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091116 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101116 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101116 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111116 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111116 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111116 Year of fee payment: 10 |
|
S211 | Written request for registration of transfer of exclusive licence |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R314211 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111116 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121116 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121116 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121116 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131116 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131116 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131116 Year of fee payment: 12 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |