JP2001070802A - 光触媒膜およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】光触媒膜の多孔質化と比表面積を増加させるこ
とで、効率向上を図った光触媒膜を提供すること。 【解決手段】基材の表面に開気孔率４０％以上８０％以
下の光触媒膜が形成されているので、光触媒膜の比表面
積は従来の光触媒膜と比べて大きくとれる。従って光触
媒膜と各種汚染物質との接触面積が増大することにな
り、より効率的に光触媒反応が進むため、大きな光触媒
性能の向上を達成することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、高い光触媒性能を
有する光触媒膜の構造、およびその製造方法に係わり、
特に空気浄化、水浄化等の環境浄化型装置へ適用可能な
光触媒膜およびその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、空気浄化・脱臭、水浄化・排水処
理、防汚、抗菌・殺菌、防曇等の広い分野で光触媒が注
目されている。光半導体粒子にそのバンドギャップ以上
のエネルギを持つ波長の光を与えた場合、価電子帯に存
在している電子が光励起され伝導帯に移動する。一方、
価電子帯には正孔（ホール）が生成される。ここで生成
された電子（ｅ^- ）は、酸素（Ｏ₂ ）と反応してスーパ
ーオキサイドアニオン（Ｏ₂ ^- ）を生成し、また、正孔
（ｈ⁺ ）は水と反応してヒドロキシラジカル（・ＯＨ）
を生成する。スーパーオキサイドアニオン（Ｏ₂ ^- ）は
強い還元力を示し、一方、ヒドロキシラジカル（・Ｏ
Ｈ）は強い酸化力を示すため、これらを利用して上記の
ような様々な環境浄化分野へ応用しようとする試みがな
されている。

【０００３】光触媒は、応用範囲が極めて広いこと、ま
たエネルギ源として太陽光や蛍光灯の光が直接利用でき
ることなどから、“環境に優しい”という点で大変注目
されている。しかしながら、その触媒反応はそれほど強
力で迅速なものではないため、いかにして効率を上げる
かというのが重要な課題となっている。

【０００４】この効率向上を目的として多くの検討がな
されている。例えば、特開平９−２６２４８２号公報で
は、Ｃｒ，Ｖ，Ｃｕ，Ｆｅ，Ｍｇ，Ａｇ，Ｐｄ，Ｎｉ，
ＭｎおよびＰｔからなる群から選択される１種以上の金
属イオンが１×１０¹⁵イオン／ｇ−ＴｉＯ₂ 以上の割合
で酸化チタンの表面から内部に含有させることが記載さ
れており、この具体的な製造方法については、上記金属
イオンを３０ｋｅＶ以上の高エネルギに加速して、これ
を酸化チタンに照射することにより、金属イオンを酸化
チタンにドーピングすることが記載されている。

【０００５】また、特開平２−１０７３３９号公報で
は、反応ガスおよび光が流通可能な３次元構造を有する
基材上に、光触媒活性成分を担持させて触媒構造体を形
成することが記載されており、これにより、空気中に含
まれる悪臭成分を効率よく除去できるとしている。

【０００６】また、特開平８−１０３６３１号公報で
は、球状の耐熱ガラスを融着して作ったガラスフィルタ
に、チタンのアルコキシドとアルコールアミン類などか
ら調整されたチタニアゾルあるいはそれにポリエチレン
グリコールまたはポリエチレンオキサイドを添加したも
のをコーティングした後、室温から徐々に６００℃から
７００℃の最終温度にまで加熱昇温して製造することが
記載されており、これにより汚染物質を吸着・分解除去
できるとしている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】上記のように効率向上
のための様々な検討がなされているにも拘らず、いずれ
の場合もいまだ効率が十分とは言い難く、さらに効率向
上のための有効な施策が求められていた。

【０００８】本発明は、上記状況に鑑みてなされたもの
で、さらにより大きな効率向上を達成するための光触媒
膜の構造、およびその実用的な製造方法を提供すること
を目的とするものである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、光触媒膜
の効率向上に関し、鋭意研究を重ねた結果、光触媒膜を
多孔質化し、比表面積を増加させた場合、特定の開気孔
率以上の範囲で、見かけ上光触媒性能が急激に向上する
こと、また、このような膜の気孔率、および気孔径を再
現性良く、かつ自由にコントロールする方法を見出し、
本発明を完成したものである。すなわち、本発明の請求
項１は、基材の表面に、開気孔率４０％以上８０％以下
の光触媒膜が形成されていることを特徴とする。

【００１０】請求項１において、基材の表面に形成する
光触媒膜の開気孔率が４０％以上８０％以下に限定した
のは、４０％より小さいと十分な比表面積が得られず、
従って紫外線照射下での光触媒性能も十分でない。ま
た、８０％より大きいと、比表面積は小さくなり、十分
な光触媒性能が得られないと同時に、光触媒膜の強度が
著しく低くなるため実機への適用が困難となる。

【００１１】また、光触媒膜の膜厚は０．０５μｍ以上
２μｍ以下が好ましい。膜厚が薄すぎると光触媒効率が
減少し、一方、膜厚が厚すぎると密着強度や膜の耐久性
が落ち、さらには剥がれ等の問題が発生する場合があ
る。

【００１２】本発明の請求項２は、光触媒膜を構成する
化合物はＴｉＯ₂ 、ＳｒＴｉＯ₃ 、ＣｄＳ、ＣｄＴｅ、
Ｓｉ、ＷＯ₃ 、ＭｏＳ₂ 、Ｂｉ₂ Ｏ₃ 、ＺｎＯ、Ｓｉ
Ｃ、ＧａＰ、ＧａＡｓ、Ｆｅ₂ Ｏ₃ 等の化合物であり、
基材は開気孔率が５０％以上９５％以下であることを特
徴とする。

【００１３】請求項２において、光触媒膜を構成する化
合物としては、ＴｉＯ₂ ，ＳｒＴｉＯ₃ ，ＣｄＳ，Ｃｄ
Ｔｅ，Ｓｉ，ＷＯ₃ ，ＭｏＳ₂ ，Ｂｉ₂ Ｏ₃ ，ＺｎＯ，
ＳｉＣ，ＧａＰ，ＧａＡｓ，Ｆｅ₂ Ｏ₃ 等が挙げられ
る。この中で、特にＴｉＯ₂ は化学的な安定性、安全
性、コスト等の点で最も優れており、さらにＴｉＯ₂ の
中でも特にアナターゼ型結晶を有するものが光触媒活性
の面で最も優れている。また、ここでいうＴｉＯ₂ とは
熱処理等にて最終的にＴｉＯ₂ になるものであれば何で
も良く、例えば、水酸化チタン、過酸化チタン、あるい
は各種チタンの有機金属化合物等が含まれる。

【００１４】また、基材の材質は、セラミックス，金
属，プラスチックのいずれでもよいが、基材の開気孔率
を５０％以上９５％以下に規定することにより、見かけ
の光触媒効率を向上させることができる。ここで開気孔
率を５０％以上としたのは、５０％より小さいと十分な
比表面積が得られず、従って紫外線照射下での光触媒性
能も十分ではない。また、９５％より大きいとこの場合
も比表面積は小さくなり、十分な光触媒効率が得られな
いと同時に、基材の強度が著しく低くなるため、実機へ
の適用が困難となる。

【００１５】本発明の請求項３は、請求項１ないし請求
項２記載のいずれかの光触媒膜において、基材が無機化
合物であることを特徴とする。請求項３において、特に
空気浄化や水浄化等へ適用する場合には、化学的安定性
という点で、基材として無機化合物が好ましい。ここで
いう無機化合物とは、各種酸化物、炭化物、窒化物、ホ
ウ化物、ケイ化物、陶磁器、ガラス、または各種天然鉱
物等が含まれ、特にコーディエライトおよびガラスは基
材として優れている。

【００１６】本発明の請求項４は、請求項１ないし請求
項３記載のいずれかの光触媒膜において、基材がコーデ
ィエライトを主成分とすることを特徴とする。請求項４
において、コーディエライトは化学的安定性でかつ耐久
性があり、しかもコストの面からも基材として好適であ
る。

【００１７】本発明の請求項５は、請求項１ないし請求
項３記載のいずれかの光触媒膜において、基材がガラス
を主成分とすることを特徴とする。請求項５において、
基材としてガラスを用いると、特に光（紫外線）を透過
するため、光を効率よく利用でき、見かけの光触媒効率
を著しく向上させることが可能となる。

【００１８】本発明の請求項６は、請求項１ないし請求
項５記載のいずれかの光触媒膜において、光触媒膜はそ
の一部に吸着剤を含有することを特徴とする。請求項６
において、光触媒膜の一部に吸着剤を含有させることに
より、見かけの光触媒効率を向上させることができる。
空気の流れ等により運ばれてくる汚染物質に対して、光
触媒にはこれを分解する力はあるが、捕らえる力が弱い
ためである。光触媒層に吸着剤を配合することにより、
空気や水により運ばれてくる汚染物質を捕らえることが
可能となり、光触媒反応を効率よく進行させることがで
きる。吸着剤としては、活性炭，ゼオライト，シリカゲ
ル，γ−アルミナ等が挙げられる。

【００１９】また、光触媒膜の一部に白金，ロジウム，
ルテニウム，パラジウム，銀，銅，鉄，亜鉛等の金属、
または酸化ルテニウム，酸化ニッケル等の金属酸化物を
含有させることにより、同様に光触媒の効率を向上させ
ることができる。

【００２０】本発明の請求項７は、光触媒膜の製造方法
を記載したものである。すなわち、触媒粒子に熱処理に
より消失する物質を配合し、これを基材にコーティング
した後、前記物質の消失温度より高い温度にて加熱処理
することにより、光触媒膜に気孔を形成することを特徴
とする。

【００２１】請求項７において、本発明の光触媒膜を得
るためには、例えば次のような製造方法によって作製さ
れる。すなわち、まず、酸化チタン等の光触媒粒子を
水、または有機溶媒に分散したスラリーを作製する。こ
の際スラリーとしてゾルを用いることにより微細で活性
な粉末を担持できるという点で有利である。このスラリ
ー中に不溶の樹脂、またはカーボンの粉末を添加し、成
分が均一になるように良く混合する。この際、樹脂やカ
ーボンの粉末を均一に分散させるために、分散剤，湿潤
剤、あるいはバインダーを添加することが好ましい。次
に基材をこのスラリー中にディッピングすることにより
光触媒粒子および添加物（樹脂、またはカーボン粉末
等）を基材表面にコーティングする。基材に光触媒粒子
をコーティングする方法としては、ディッピングの他に
スプレー、スピンコート等が挙げられる。スラリー中の
溶媒（水、または有機溶媒）を乾燥させた後、例えば５
０℃／ｈの昇温速度で６００℃、２時間程度熱処理する
ことにより、本発明の光触媒膜が得られる。

【００２２】本発明の請求項８は、請求項７記載の光触
媒膜の製造方法において、前記物質はカーボンであるこ
とを特徴とする。請求項８において、熱処理中に樹脂や
カーボンは分散消失する。従って、添加する樹脂やカー
ボン粒子の粒径および添加量をコントロールすることに
より、光触媒膜の気孔率および気孔径（気孔径分布）を
自由にかつ厳密にコントロールすることが可能となる。

【００２３】本発明の請求項９は、請求項７記載の光触
媒膜の製造方法において、前記物質は溶媒に不溶の樹脂
であることを特徴とする。請求項９において、樹脂は溶
媒に不溶のものであれば、特にその種類を限定しない。
溶媒に不溶でなければならない理由は、この添加樹脂が
溶媒に溶けた場合には、樹脂が加熱消失後に形成される
気孔の径が著しく小さくなるため、光触媒効率向上に寄
与しないからである。溶媒に不溶の樹脂としては、例え
ばメラミン・ホルムアルデヒド縮合物、ベンゾグアナミ
ン・ホルムアルデヒド縮合物、ポリスチレン、ＰＭＭ
Ａ、アクリル樹脂、ポリメタクリル酸メチル等が挙げら
れる。酸化チタンの場合、基材への焼き付け温度は一般
に５００℃−７００℃でなされ、これ以上の温度で熱処
理を行った場合には、酸化チタンの結晶形がアナターゼ
型からルチル型へ転移するため、触媒活性が落ちると言
われている。大部分の樹脂は上記６００℃−７００℃以
下で分散消失するため、好適である。また、カーボンに
ついても同様にその種類を限定しない。空気中で熱処理
した場合、ほとんどすべてのカーボンは６００℃以下で
完全に酸化消失する。

【００２４】本発明の請求項１０は請求項７ないし請求
項９記載のいずれかの光触媒膜の製造方法において、前
記物質は平均粒径が６ｎｍ以上１０００ｎｍ以下である
ことを特徴とする。

【００２５】請求項１０において、加熱処理により分散
消失する物質の平均粒径を６ｎｍ以上１０００ｎｍ以下
と規定することにより、光触媒効率と膜強度の両立した
優れた光触媒膜が得られる。すなわち、６ｎｍ以下では
光触媒効率を向上させるための好適な気孔を形成するこ
とができず、また、１０００ｎｍ以上では、十分な膜強
度が得られない。さらに好ましくは平均粒子径１０ｎｍ
以上５００ｎｍ以下の範囲でより優れた光触媒膜の形成
が可能となる。

【００２６】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て具体的に説明する。 第１の実施の形態（請求項１，３〜８，１０対応） 結晶粒子径６ｎｍの酸化チタンゾル（硫酸および塩酸で
解こうした水系ゾル）に結晶粒子径８０ｎｍのカーボン
ブラックを混合し、酸化チタンとカーボンブラックの粉
末が均一に混合されたスラリーを得た。このときのカー
ボン添加量は、酸化チタンとカーボンの総体積を１００
としたときの体積比率が、それぞれ０，２０，４０，６
０，８０，９０となるように配合した。次に、３次元網
目構造を有する開気孔率８５％のコーディエライト焼結
体（外径１２０ｍｍ、内径４０ｍｍ、高さ１５０ｍｍ）
をこのスラリーにディップして、コーディエライト焼結
体の表面に酸化チタンおよびカーボンからなる混合粉末
粒子をコーティングした。これを常温にて１昼夜乾燥し
た後、６００℃で２時間熱処理した。熱処理後、走査型
電子顕微鏡でコーティング面を観察したところ、酸化チ
タンの被膜中にカーボンの酸化消失により形成されたと
推定される気孔が確認された。

【００２７】次に、各担持体について光触媒効率を評価
した。評価装置の主要部は、図１に示したように、Ｔｉ
Ｏ₂ を担持したコーディエライト３の内径側に石英ガラ
ス２を介してブラックライト（平均波長３７０ｎｍ、強
度３ｍＷ／ｃｍ² ）１を配置した構造である。この評価
装置の入口から一定量・一定濃度のアンモニアガスを流
入しながら出口でのアンモニア濃度を測定することで評
価するものである。その結果を図２に示す。なお、入口
のアンモニア濃度は１００ｐｐｍ、流量は０．５ｌ／ｍ
ｉｎである。

【００２８】第２の実施の形態（請求項１，３〜８，１
０対応） 第１の実施の形態の粒子径８０ｎｍのカーボンの代わり
に粒子径３００ｎｍ（０．３μｍ）の樹脂粉末を用いた
他は、第１の実施の形態と全く同じ方法でコーディエラ
イト焼結体の表面に多孔質の酸化チタン膜を形成した。
同様な評価装置を用いて、アンモニアガスの分解性能を
評価した。その結果を図３に示す。

【００２９】第３の実施の形態（請求項１，３，４，
７，８対応） 結晶粒子径６ｎｍの酸化チタンゾル（硫酸および塩酸で
解こうした水系ゾル）に結晶粒子径８０ｎｍのカーボン
ブラックを混合し、酸化チタンとカーボンブラックの粉
末が均一に混合されたスラリーを得た。このときのカー
ボン添加量は、酸化チタンとカーボンの総体積を１００
としたときの体積比率が５０となるように配合した。次
に、３次元網目構造を有するコーディエライト焼結体
（外径１２０ｍｍ、内径４０ｍｍ、高さ１５０ｍｍ）を
このスラリーにディップして、コーディエライト焼結体
の表面に酸化チタンおよびカーボンからなる混合粉末粒
子をコーティングした。このときコーディエライトの開
気孔率を２０％，４０％，５０％，７０％，９０％，９
５％，９８％のそれぞれ異なる開気孔率の焼結体を用意
してコーティングした。コーティング後、常温にて１昼
夜乾燥した後、６００℃で２時間熱処理した。次に、各
担持体について光触媒効率を評価した。評価装置、およ
び評価方法は第１の実施の形態と同じである。その結果
を図４に示す。

【００３０】第４の実施の形態（請求項１，３〜８，１
０対応） 結晶粒子径６ｎｍの酸化チタンゾル（硫酸および塩酸で
解こうした水系ゾル）に結晶粒子径８０ｎｍのカーボン
ブラックを混合し、酸化チタンとカーボンブラックの粉
末が均一に混合されたスラリーを得た。このときのカー
ボン添加量は、酸化チタンとカーボンの総体積を１００
としたときの体積比率が２０となるように配合した。次
に、３次元網目構造を有する開気孔率８５％のコーディ
エライト焼結体（外径１２０ｍｍ、内径４０ｍｍ、高さ
１５０ｍｍ）および同じ形状、同じ開気孔率の石英ガラ
スの焼結体をそれぞれこのスラリーにディップして、コ
ーディエライト焼結体、および石英ガラス焼結体の表面
に酸化チタンおよびカーボンからなる混合粉末粒子をコ
ーティングした。コーティング後、常温にて１昼夜乾燥
した後、６００℃で２時間熱処理した。次に、これらの
担持体について光触媒効率を評価した。評価装置、およ
び評価方法は第１の実施の形態と同じである。その結果
を図５に示す。

【００３１】第５の実施の形態（請求項１，４，６〜１
０対応） 結晶粒子径６ｎｍの酸化チタンゾル（硫酸および塩酸で
解こうした水系ゾル）に結晶粒子径８０ｎｍのカーボン
ブラックを混合し、酸化チタンとカーボンブラックの粉
末が均一に混合されたスラリーを得た。このときのカー
ボン添加量は、酸化チタンとカーボンの総体積を１００
としたときの体積比率が５０となるように配合した。ま
た、結晶粒子径６ｎｍの酸化チタンゾル（硫酸および塩
酸で解こうした水系ゾル）に結晶粒子径８０ｎｍのカー
ボンブラック、および吸着剤としてのゼオライト粉末を
混合し、酸化チタンとカーボンブラック、およびゼオラ
イトの粉末が均一に混合されたスラリーを得た。このと
きの添加割合は、酸化チタン，ゼオライトおよびカーボ
ンの総体積を１００としたときの体積比率が、それぞれ
２５：２５：５０となるように配合した。次に、３次元
網目構造を有する開気孔率４０％のコーディエライト焼
結体（外径１２０ｍｍ、内径４０ｍｍ、高さ１５０ｍ
ｍ）をこれらのスラリーにディップして、コーディエラ
イト焼結体の表面に酸化チタンおよびカーボン、または
酸化チタン，ゼオライト、およびカーボン粉末からなる
混合粉末粒子をコーティングした。コーティング後、常
温にて１昼夜乾燥した後、６００℃で２時間熱処理し
た。次に、これらの担持体について光触媒効率を評価し
た。評価装置、および評価方法は第１の実施の形態と同
じである。その結果を図６に示す。

【００３２】第６の実施の形態（請求項２，７，９，１
０対応） 結晶粒子径６ｎｍの酸化チタンゾル（硫酸および塩酸で
解こうした水系ゾル）に粒子径５，１０，５０，１０
０，５００，１０００，２０００ｎｍの溶媒に樹脂（メ
ラミン・ホルムアルデヒド縮合物）を混合し、酸化チタ
ンと樹脂が均一に混合されたスラリーを得た。このとき
の樹脂添加量は、酸化チタンと樹脂の総体積を１００と
したときの体積比率が５０となるように配合した。次
に、３次元網目構造を有する開気孔率８５％のコーディ
エライト焼結体（外径１２０ｍｍ、内径４０ｍｍ、高さ
１５０ｍｍ）をこのスラリーにディップして、コーディ
エライト焼結体の表面に酸化チタンおよび樹脂からなる
混合粉末粒子をコーティングした。これを常温にて１昼
夜乾燥した後、６００℃で２時間熱処理した。次に、こ
れらの担持体について光触媒効率を評価した。評価装
置、および評価方法は第１の実施の形態と同じである。
その結果を図７に示す。

【００３３】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の光触媒膜
（請求項１〜６対応）によれば、基材に開気孔率が４０
％以上９０％以下の光触媒膜が形成されるため、光触媒
膜の比表面積が大きく、従って各種汚染物質との接触面
積が増大し、より効率的に光触媒反応が進むため、大き
な光触媒性能の向上を達成することができる。

【００３４】また、本発明の光触媒膜の製造方法（請求
項７〜１０対応）によれば、光触媒膜の開気孔率と気孔
径を自由にかつ厳密にコントロールすることが可能とな
るため、品質安定性の優れた光触媒膜を簡単かつ安価に
得ることができる。従って、これを環境浄化装置に適用
することにより実用性の高い浄化システムを製造するこ
とが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光触媒膜の効率を評価するための評価
装置の概略図。

【図２】気孔を形成するために添加した添加剤にカーボ
ンブラックを用いた場合の開気孔率と光触媒効率の関係
を示すグラフ。

【図３】本発明に係わる気孔形成用に添加した添加剤に
樹脂粉末を用いた場合の開気孔率と光触媒効率の関係を
示すグラフ。

【図４】本発明に係わる基材の開気孔率と光触媒効率の
関係を示すグラフ。

【図５】本発明に係わる基材にコーディエライトおよび
石英ガラスを用いた場合の光触媒効率を示すグラフ。

【図６】本発明に係わる光触媒膜に酸化チタンのみの場
合と酸化チタンにゼオライトを配合した場合の光触媒効
率を示すグラフ。

【図７】本発明に係わる気孔を形成するために添加した
添加剤に樹脂を用いた場合の樹脂粒径と光触媒効率の関
係を示すグラフ。

【符号の説明】

１…ブラックライト、２…石英ガラス、３…ＴｉＯ₂ を
担持したコーディエライト多孔質基材。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 伊藤 義康 神奈川県川崎市川崎区浮島町２番１号 株 式会社東芝浜川崎工場内 (72)発明者 須山 章子 神奈川県横浜市鶴見区末広町２丁目４番地 株式会社東芝京浜事業所内 (72)発明者 瀬川 昇 神奈川県横浜市鶴見区末広町２丁目４番地 株式会社東芝京浜事業所内 (72)発明者 池田 誠 神奈川県川崎市川崎区日進町７番地１ 東 芝電子エンジニアリング株式会社内 Ｆターム(参考） 4D037 AA01 AA11 BA18 CA11 4G069 AA02 BA04A BA04B BA13A BA13B BA14A BA14B BA48A BA48C BB06A BB06B BC12A BC12B BC17A BC17B BC25A BC25B BC27A BC27B BC35A BC35B BC36A BC36B BC50A BC50B BC59A BC59B BC60A BC60B BC63A BC63B BC66A BC66B BD04A BD04B BD05A BD05B BD07A BD07B BD08A BD08B EA07 EB12X EB12Y EB18X EB18Y FB36

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基材の表面に、開気孔率４０％以上８０
   ％以下の光触媒膜が形成されていることを特徴とする光
   触媒膜。
2. 【請求項２】 光触媒膜はＴｉＯ₂ 、ＳｒＴｉＯ₃ 、Ｃ
   ｄＳ、ＣｄＴｅ、Ｓｉ、ＷＯ₃ 、ＭｏＳ₂ 、Ｂｉ
   ₂ Ｏ₃ 、ＺｎＯ、ＳｉＣ、ＧａＰ、ＧａＡｓ、Ｆｅ₂ Ｏ
   ₃ 等の化合物であり、基材は開気孔率が５０％以上９５
   ％以下であることを特徴とする光触媒膜。
3. 【請求項３】 請求項２記載の光触媒膜において、基材
   は無機化合物であることを特徴とする光触媒膜。
4. 【請求項４】 請求項１ないし請求項３記載のいずれか
   の光触媒膜において、基材はコーディエライトを主成分
   とすることを特徴とする光触媒膜。
5. 【請求項５】 請求項１ないし請求項３記載のいずれか
   の光触媒膜において、基材はガラスを主成分とすること
   を特徴とする光触媒膜。
6. 【請求項６】 請求項１ないし請求項５記載のいずれか
   の光触媒膜において、光触媒膜はその一部に吸着剤を含
   有することを特徴とする光触媒膜。
7. 【請求項７】 光触媒粒子に加熱処理により消失する物
   質を配合し、これを基材にコーティングした後、前記物
   質の加熱消失温度より高い温度にて加熱処理することに
   より、光触媒膜に形成することを特徴とする光触媒膜の
   製造方法。
8. 【請求項８】 請求項７記載の光触媒膜の製造方法にお
   いて、前記物質はカーボンであることを特徴とする光触
   媒膜の製造方法。
9. 【請求項９】 請求項７記載の光触媒膜の製造方法にお
   いて、前記物質は溶媒に不溶の樹脂であることを特徴と
   する光触媒膜の製造方法。
10. 【請求項１０】 請求項７ないし請求項９記載のいずれ
    かの光触媒膜の製造方法において、前記物質は平均粒径
    が６ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であることを特徴とする
    光触媒膜の製造方法。