JP2006231113A - 光触媒及び光触媒の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 有機ポリマービーズを混合した光触媒含有塗布液を基材に塗布した後に、この基材を加熱処理して光触媒を製造する。
【選択図】 図1
Description
橋本和仁、藤嶋昭、「酸化チタン光触媒のすべて」、1998年7月、株式会社シーエムシー発行
酸化チタンのゾル液(テイカ(株)、TKS−203)とシュウ酸チタニルアンモニウム溶液とを容積比2:1で混合し、酸化チタン換算で固形成分濃度10%の光触媒含有塗布液を得た。これに、アクリル性の発泡済み発泡樹脂(松本樹脂(株)、M−201)を酸化チタン含有量に対して重量比で5%の割合で添加した。このように調製した光触媒含有塗布液を5×5cmのガラス板にディップコート法により塗布し、120℃で20分間熱処理を行った後、さらに500℃で20分間加熱処理を行い、光触媒塗布ガラス板を得た。
酸化チタンのゾル液(テイカ(株)、TKS−203)とシュウ酸チタニルアンモニウム溶液とを容積比2:1で混合し、酸化チタン換算で固形成分濃度10%の光触媒含有塗布液を得た。これに、アクリル性の発泡済み発泡樹脂(松本樹脂(株)、M−201)を酸化チタン含有量に対して重量比で20%の割合で添加した。このように調製した光触媒含有塗布液を5×5cmのガラス板にディップコート法により塗布し、120℃で20分間熱処理を行った後、さらに500℃で20分間加熱処理を行い、光触媒塗布ガラス板を得た。
酸化チタンのゾル液(テイカ(株)、TKS−203)とシュウ酸チタニルアンモニウム溶液とを容積比2:1で混合し、酸化チタン換算で固形成分濃度10%の光触媒含有塗布液を得た。これに、アクリル性の発泡済み発泡樹脂(松本樹脂(株)、M−201)を酸化チタン含有量に対して重量比で5%の割合で添加した。このように調製した光触媒含有塗布液を18×18×2cmのアルミナを主成分とするセラミック多孔体にディップコート法により塗布し、120℃で20分間熱処理を行った後、さらに500℃で20分間加熱処理を行い、光触媒塗布セラミック多孔体を得た。
酸化チタンのゾル液(テイカ(株)、TKS−203)とシュウ酸チタニルアンモニウム溶液とを容積比2:1で混合し、酸化チタン換算で固形成分濃度10%の光触媒含有塗布液を得た。これに、アクリル性の発泡済み発泡樹脂(松本樹脂(株)、M−201)を酸化チタン含有量に対して重量比で5%の割合で添加した。このように調製した光触媒含有塗布液を18×18×2cmのアルミナを主成分とするセラミック多孔体にディップコート法により塗布した。なお、コート回数は2回とした。この光触媒含有塗布液を塗布したセラミック多孔体を120℃で20分間熱処理を行った後、さらに500℃で20分間加熱処理を行い、光触媒塗布セラミック多孔体を得た。
酸化チタンのゾル液(テイカ(株)、TKS−203)とシュウ酸チタニルアンモニウム溶液とを容積比2:1で混合し、酸化チタン換算で固形成分濃度10%の光触媒含有塗布液を得た。これに、アクリル性の発泡済み発泡樹脂(松本樹脂(株)、M−201)を酸化チタン含有量に対して重量比で5%の割合で添加した。このように調製した光触媒含有塗布液を18×18×2cmのアルミナを主成分とするセラミック多孔体にディップコート法により塗布した。なお、コート回数は3回とした。この光触媒含有塗布液を塗布したセラミック多孔体を120℃で20分間熱処理を行った後、さらに500℃で20分間加熱処理を行い、光触媒塗布セラミック多孔体を得た。
酸化チタンのゾル液(テイカ(株)、TKS−203)とシュウ酸チタニルアンモニウム溶液とを容積比2:1で混合し、酸化チタン換算で固形成分濃度10%の光触媒含有塗布液を得た。この光触媒含有塗布液を5×5cmのガラス板にディップコート法により塗布し、120℃で20分間熱処理を行った後、さらに500℃で20分間加熱処理を行い、光触媒塗布ガラス板を得た。
酸化チタンのゾル液(テイカ(株)、TKS−203)とシュウ酸チタニルアンモニウム溶液とを容積比2:1で混合し、酸化チタン換算で固形成分濃度10%の光触媒含有塗布液を得た。この光触媒含有塗布液を18×18×2cmのアルミナを主成分とするセラミック多孔体にディップコート法により塗布し、120℃で20分間熱処理を行った後、さらに500℃で20分間加熱処理を行い、光触媒塗布セラミック多孔体を得た。
図1に光触媒試料1及び比較試料1をSEMを用いて行った表面形態の観察結果を示す。図1(a)及び図1(b)に示すように光触媒試料1のSEM像には2〜3μmの孔が存在しているのが確認できるが、比較試料1のSEM像にはこのような孔の存在は確認できない。つまり、光触媒含有塗布液に発泡済み発泡樹脂を添加して光触媒薄膜を形成することで光触媒薄膜にミクロンオーダーの細孔を形成できることが明らかになった。
光触媒試料1、光触媒試料2、及び比較試料1について光照射を行いながらイソプロパノールを分解する実験を行い、イソプロパノールが分解して生成するアセトンの生成速度の比較を行った。
光触媒試料3、光触媒試料4、光触媒試料5、及び比較試料2について硫化水素ガスを分解する実験を実施し、分解速度の比較から空気浄化性能を比較した。
Claims (7)
- 光触媒反応に必要な波長の光を透過する細孔を有することを特徴とする光触媒。
- 前記細孔の径は、前記光触媒の平均粒子径及び前記光の波長から設計が可能なことを特徴とする請求項1に記載の光触媒。
- 有機ポリマービーズを混合した光触媒含有塗布液を基材に塗布した後に、当該基材を加熱処理して得ることを特徴とする請求項1又は2に記載の光触媒。
- 前記光触媒含有塗布液に含まれる光触媒は平均粒子径が5nm〜2μmの酸化チタンであり、前記有機ポリマービーズの平均粒子径は0.3〜5μmであること特徴とする請求項3に記載の光触媒。
- 有機ポリマービーズを混合した光触媒含有塗布液を基材に塗布した後に、当該基材を加熱処理することにより、光触媒に対して光触媒反応に必要な波長の光を透過する細孔を付与することを特徴とするとする光触媒の製造方法。
- 前記細孔の径は、前記光触媒の平均粒子径及び前記光の波長から設計が可能なことを特徴とする請求項5に記載の光触媒の製造方法。
- 前記光触媒含有塗布液に含まれる光触媒は平均粒子径が5nm〜2μmの酸化チタンであり、前記有機ポリマービーズの平均粒子径は0.3〜5μmであること特徴とする請求項5又は6に記載の光触媒の製造方法。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008142659A (ja) * | 2006-12-12 | 2008-06-26 | Meidensha Corp | 光触媒塗布膜の製造方法及び光触媒部材 |
JP2011104518A (ja) * | 2009-11-17 | 2011-06-02 | Toshiba Corp | 放電型光触媒およびその製造方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07231127A (ja) * | 1994-02-17 | 1995-08-29 | Kanebo Ltd | 多孔質圧電体の電極設置法 |
JPH10151453A (ja) * | 1996-11-22 | 1998-06-09 | Nippon Steel Corp | 紫外線照射水処理装置及び紫外線ランプ並びにその製造方法 |
JP2001070802A (ja) * | 1999-09-03 | 2001-03-21 | Toshiba Corp | 光触媒膜およびその製造方法 |
JP2003238271A (ja) * | 2001-12-07 | 2003-08-27 | Ngk Insulators Ltd | 多孔質セラミック体の製造方法 |
JP2004136178A (ja) * | 2002-10-16 | 2004-05-13 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 光触媒前駆体ゾル及びその製造方法、並びに光触媒体及びその製造方法 |
JP2004315346A (ja) * | 2003-03-28 | 2004-11-11 | Ngk Insulators Ltd | ハニカム構造体 |
-
2005
- 2005-02-22 JP JP2005045741A patent/JP2006231113A/ja active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07231127A (ja) * | 1994-02-17 | 1995-08-29 | Kanebo Ltd | 多孔質圧電体の電極設置法 |
JPH10151453A (ja) * | 1996-11-22 | 1998-06-09 | Nippon Steel Corp | 紫外線照射水処理装置及び紫外線ランプ並びにその製造方法 |
JP2001070802A (ja) * | 1999-09-03 | 2001-03-21 | Toshiba Corp | 光触媒膜およびその製造方法 |
JP2003238271A (ja) * | 2001-12-07 | 2003-08-27 | Ngk Insulators Ltd | 多孔質セラミック体の製造方法 |
JP2004136178A (ja) * | 2002-10-16 | 2004-05-13 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 光触媒前駆体ゾル及びその製造方法、並びに光触媒体及びその製造方法 |
JP2004315346A (ja) * | 2003-03-28 | 2004-11-11 | Ngk Insulators Ltd | ハニカム構造体 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008142659A (ja) * | 2006-12-12 | 2008-06-26 | Meidensha Corp | 光触媒塗布膜の製造方法及び光触媒部材 |
JP2011104518A (ja) * | 2009-11-17 | 2011-06-02 | Toshiba Corp | 放電型光触媒およびその製造方法 |
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