JPH08224481A

JPH08224481A - 光触媒作用を有する部材

Info

Publication number: JPH08224481A
Application number: JP7322538A
Authority: JP
Inventors: Makoto Hayakawa; 信早川; Keiichiro Norimoto; 圭一郎則本
Original assignee: Toto Ltd
Current assignee: Toto Ltd
Priority date: 1994-11-04
Filing date: 1995-11-02
Publication date: 1996-09-03

Abstract

(57)【要約】【課題】充分な緻密性および膜強度を有する基材表面
に光触媒薄膜を形成した部材において、光触媒薄膜の光
触媒活性を向上させる。【解決手段】基材表面にルチル型ＴｉＯ_２と結晶径
０．０１μｍ未満の酸化スズの混合物からなる薄膜を形
成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はタイル、ガラス
（鏡）あるいは衛生陶器の表面に、抗菌性、防汚性、脱
臭性やＮＯｘ等の有害物質を分解する機能を有する部材
に関する。

【０００２】

【従来の技術】ＴｉＯ_２は紫外線を吸収して特異な化学
反応を誘起する光触媒としての活性を示す。例えば空気
の存在下で紫外線を照射すると、酸素分子の吸着あるい
は脱着が起こり、悪臭の成分である有機化合物の分解を
促進する。また、ＴｉＯ_２にはアナターゼ型、ブルッカ
イト型およびルチル型の異なる結晶型があり、光触媒活
性についてはアナターゼ型が優れており、他の結晶型の
場合には活性がそれほど大きくない。しかし、ルチル型
のＴｉＯ_２であっても、Ｐｔ等の金属を担持させること
で光触媒活性が向上することが雑誌「表面」１９８７、
２５巻に報告されている。

【０００３】そして、タイル等の表面に光触媒薄膜を形
成する従来の方法は、ＴｉＯ_２粒子をバインダーに混練
し、これをタイル等の表面に塗布して熱処理するように
している。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】上記のようにして形成
した光触媒は悪臭除去率、緻密性および密着性の点で充
分ではなかった。光触媒薄膜を形成する際に緻密性を向
上させるためにはＴｉＯ_２薄膜を焼結するのが最も有効
である。また良好な密着性を得るためにはＴｉＯ_２薄膜
の強度を充分に高めることが最も重要であり、その具体
的な方法としては、やはり焼結によるのが最も簡易な方
法である。しかしながら充分な焼結反応を生じるために
は８００℃をこえる温度で焼成することが必要であり、
この温度ではアナターゼはルチルに相転移を起こしてし
まう。したがって悪臭除去率、緻密性および密着性の点
で充分なＴｉＯ_２薄膜を得るには、ルチル型ＴｉＯ_２薄
膜において触媒活性の向上を図らなければならない。

【０００５】

【課題を解決するための手段および作用】本発明では上
記課題を解決するために、基材表面にルチル型ＴｉＯ_２
と結晶径０．０１μｍ未満のＳｎＯ_２の混合物からなる
薄膜を形成した。

【０００６】ここで基材の材質は、陶磁器、セラミッ
ク、ガラス、金属あるいはそれらの複合物等基本的に何
でもよいが、特に高温で焼成する陶磁器、セラミックが
適している。基材の形状は、どのようなものでもよく、
板状、球状などの単純形状のものでも、衛生陶器、洗面
台、浴槽等の複雑形状のものでも構わない。基材表面と
は、最表面およびその近傍をいう。それは一部であって
も全面であってもよい。したがって、基材表面にルチル
型ＴｉＯ_２薄膜がある程度埋設あるいは含浸された場
合、その埋設、含浸部分までを含む。

【０００７】ＳｎＯ_２の結晶径は、粉末Ｘ線回折におけ
る回折線ピークの積分幅からＳｃｈｅｒｒｅｒｒ式によ
り求める。

【０００８】薄膜の形成方法は、下記２つの方法のいず
れかによる。１つはＴｉＯ_２ゾルとＳｎＯ_２ゾルを予め
混合して基材表面に塗布し、焼成する方法である。Ｔｉ
Ｏ_２ゾルとＳｎＯ_２ゾルの混合は、塩基性水溶液中で行
う。両者共に良好な分散を示すのは電気化学的にみてア
ルカリ側だからである。塩基性水溶液としてはアンモニ
ア、アルカリ金属またはアルカリ上類金属を含む水酸化
物があげられるが、熱処理後に金属汚染物が生成しない
ことからアンモニアが特に好ましい。なお、これらの分
散液にさらに有機系、リン酸系の分散剤、表面処理剤、
表面活性剤を添加してもよい。

【０００９】塗布方法としては、上記混合液をスプレー
・コーティング、ディップ・コーティング、ロール・コ
ーティング、スピン・コーティング、ＣＶＤ、電子ビー
ム蒸着、スパッタなどして塗膜する方法があるが、その
いずれでもよいし、それ以外の方法でもよい。ただしス
プレー・コーティング、ディップ・コーティング、ロー
ル・コーティングはＣＶＤ、電子ビーム蒸着、スパッタ
などと比較して特別の設備を必要とせず、安価に塗膜可
能である利点がある。

【００１０】塗布後、焼成する前に膜を乾燥させてもよ
い。乾燥は室温〜１００℃程度で行うのがよい。焼成温
度は、この条件でルチルの生成するのに充分な温度で行
う。その温度は常圧下ではＳｎＯ_２共存下で８３０℃以
上である。ＴｉＯ_２とＳｎＯ_２の固溶体を形成する必要
はない。ＴｉＯ_２とＳｎＯ_２の固溶体を形成するには長
時間高温で保持する必要があり、生産効率が悪くなるか
らである。

【００１１】もう１つの方法はルチル型ＴｉＯ_２薄膜の
形成後、ＳｎＯ_２ゾルをその上から添加し、焼成する方
法である。この方法ではまずチタンを含む出発原料を基
材に塗布する。ここで出発原料としてはＴｉＯ_２ゾル、
チタンアルコキシド、チタンの硫酸塩、チタンの塩化物
溶液等を用いる。ＴｉＯ_２ゾルを用いる場合は、ＴｉＯ
_２の等電点がｐＨ６．５とほぼ中性であることから、酸
またはアルカリで分散した水溶液を用いて基材上に塗布
すると均一に塗布しやすい。このとき基材が金属のとき
は耐蝕性の観点からアルカリ分散液が好ましい。陶磁
器、タイル、セラミック等の場合は酸、アルカリいずれ
の分散液を用いてもよい。酸としては硝酸、硫酸、、塩
酸、酢酸、リン酸、有機酸等があげられる。アルカリ性
水溶液としてはアンモニア、アルカリ金属またはアルカ
リ土類金属を含む水酸化物があげられるが、熱処理後に
金属汚染物が生成しないことからアンモニアが特に好ま
しい。なお、これらの分散液にさらに有機系、リン酸系
の分散剤、表面処理剤、表面活性剤を添加してもよい。
なお出発原料のＴｉＯ_２ゾルの平均粒径は０．０５μｍ
以下、好ましくは０．０１μｍ以下がよい。粒径が小さ
いと初期焼結がより低温で生じるので、低い温度で剥離
強度に優れた光触媒薄膜をを生成しうるからである。基
材への塗布方法は、これらをスプレー・コーティング、
ディップ・コーティング、ロール・コーティング、スピ
ン・コーティング、ＣＶＤ、電子ビーム蒸着、スパッタ
などして塗膜する方法があるが、そのいずれでもよい
し、それ以外の方法でもよい。ただしスプレー・コーテ
ィング、ディップ・コーティング、ロール・コーティン
グはＣＶＤ、電子ビーム蒸着、スパッタなどと比較して
特別の設備を必要とせず、安価に塗膜可能である利点が
ある。塗布後、焼成する前に膜を乾燥させてもよい。乾
燥は室温〜１００℃程度で行うのがよい。

【００１２】次いで塗布した複合部材を焼成する。焼成
はルチルの生成する温度で行う。その温度は常圧下では
９００℃以上である。その後冷却固化した複合部材の上
にさらにＳｎ元素を含む出発原料を塗布し、焼成する。
Ｓｎ元素を含む出発原料としてはＳｎＯ_２ゾル等があ
る。ＳｎＯ_２ゾルには塩基性水溶液を用いるとよい。Ｓ
ｎＯ_２ゾルは電気化学的にみてアルカリ側で安定だから
である。塩基性水溶液としてはアンモニア、アルカリ金
属またはアルカリ土類金属を含む水酸化物があげれる
が、熱処理後に金属汚染物が生成しないことからアンモ
ニアが特に好ましい。なお、これらの分散液にさらに有
機系、リン酸系の分散剤、表面処理剤、表面活性剤を添
加してもよい。基材への塗布方法は、これらをスプレー
・コーティング，ディップ・コーティング、ロール・コ
ーィング、スピン・コーティング、ＣＶＤ、電子ビーム
蒸着、スパッタなどして塗膜する方法があるが、そのい
ずれでもよいし、それ以外の方法でもよい。ただし、ス
プレー・コーティング、ディップ・コーティング、ロー
ル・コーティングはＣＶＤ、電子ビーム蒸着、スパッタ
などと比較して特別の設備を必要とせず、安価に塗膜可
能である利点がある。塗布後、焼成する前に膜を乾燥さ
せてもよい。乾燥は室温〜１００℃程度で行うのがよ
い。焼成温度は、ＳｎＯ_２から有機添加物成分が蒸発す
る温度であればよい。その温度は常圧下では３００℃以
上である。またＴｉＯ_２とＳｎＯ_２の固溶体を形成する
必要はない。ＴｉＯ_２とＳｎＯ_２の固溶体を形成するに
は長時間高温で保持する必要があり、生産効率が悪くな
るからである。

【００１３】また基材表面にルチル型ＴｉＯ_２と結晶径
０．０１μｍ未満のＳｎＯ_２の混合物からなる薄膜を形
成し、さらにその上にＣｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｆｅ、Ｃｏ、
Ｎｉ、Ｐｄのうち少なくとも１種の金属を固定化しても
よい。これらの金属は、電子捕捉作用があり、それによ
りルチル型ＴｉＯ_２と結晶径０．０１μｍ未満のＳｎＯ
_２の混合物からなる薄膜の光触媒活性が向上する。特
に、Ｃｕ、Ａｇではそれ自体に抗菌力があり、抗菌性に
関する暗活性を付与できるので、光照射しなくてもある
程度の抗菌力を持たせることが可能となる。Ｃｕ、Ａ
ｇ、Ｐｔ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｐｄのうち少なくとも１
種の金属の固定化方法は、これら金属のうちの少なくと
も１種の金属塩水溶液を塗布し、この後、光還元法また
は熱処理法により固定化する。

【００１４】金属塩水溶液は、金属種が基本的に陽イオ
ンとして溶解していればよい。具体的には酢酸銅、硝酸
銀、炭酸銅、硫酸銅、塩化第一銅、塩化第二銅、塩化白
金酸、塩化パラジウム、塩化ニッケル、塩化コバルト、
塩化第一鉄、塩化第二鉄などがあげられる。

【００１５】金属塩水溶液の塗布方法は、スプレー・コ
ーティング法またはディップ・コーティング法等がある
が、使用量が少なくてすむこと、均一に塗布できるこ
と、膜厚を制御しやすいこと、裏面に付けたくないとき
にそれが可能であることなどの理由によりスプレー・コ
ーティング法がより好ましい。

【００１６】光還元法の場合には、その後、紫外線を含
む光を照射して金属イオンを還元してルチル型ＴｉＯ_２
と結晶径０．０１μｍ木満のＳｎＯ_２の混合物からなる
薄膜の上にＣｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｐｄ
のうち少なくとも１種の金属を固定化する。紫外線を含
む光を照射する光源は、紫外線を含む光を照射しうるも
のであればよく、具体的には、紫外線ランプ、ＢＬＢラ
ンプ、キセノンランプ、水銀灯、蛍光灯等のいずれでも
よい。紫外線を含む光の照射方法は、照射面に垂直に光
があたるように試料を配置するのが好ましい。照射効率
が最も優れるからである。試料の光源からの距離は１ｃ
ｍ〜３０ｃｍが好ましい。距離が短すぎると試料面全体
にほぼ均一な照度で光が照射されず上記金属種の付着に
ばらつきが生じやすくなる。照射される光の照度は距離
の２乗に反比例するので、距離が長すぎると照度が小さ
くなり金属種を強固に付着することが困難になる。

【００１７】熱処理法の場合には、その後、金属が固着
するのに充分な温度に加熱して固定化する。その温度は
１００℃以上が好ましい。ただし例えば８００℃以上と
いった高温で処理すると金属が酸化されるので、その場
合には酸化されても電子捕捉効果を失わない、あるいは
抗菌性を失わない金属に限定される。すなわちＡｇ、Ｃ
ｕに限定されることになる。Ａｇ、Ｃｕの場合には高温
で焼成しても電子捕捉効果または抗菌性を失わないので
以下に示す製法も可能である。すなわちＴｉＯ_２ゾルと
ＳｎＯ_２ゾルを予め混合して基材表面に塗布し、次いで
金属塩水溶液を塗布した後焼成する方法である。この方
法によれば、焼成工程を１回ですますことが可能とな
り、生産性向上、製造コスト低減に効果がある。

【００１８】光触媒が最表面に露出することにより、悪
臭物質、菌類等の反応物と直接触媒が接することになる
ので、光触媒活性が有効に発揮されると共に、ＴｉＯ_２
が高温安定相のルチルなので、８３０℃以上の高温処理
をしてもアナターゼ型のように他の相に転移することは
ない。ＴｉＯ_２の焼結開始温度は出発原料の粒径に依存
するが、大気中では、アルコキシド法による場合（３〜
１００ｎｍ程度）は６００℃、サブミクロン・オーダー
の粉体を用いた場合でも８００℃程度である。したがっ
て８３０℃以上で熱処理可能となることにより、ＴｉＯ
_２粒子同士を強固に結合でき、膜強度を向上させること
ができ、更に、ルチル型ＴｉＯ_２に結晶径０．０１μｍ
未満のＳｎＯ_２を添加することで光触媒活性が向上す
る。

【００１９】

【発明の実施の形態】

【００２０】

【実施例】

（実施例１）結晶径０．０１μｍのＴｉＯ_２ゾルをｐＨ
１１に調整したアンモニア水溶液に４〜６重量％添加し
て懸濁液Ａを作製した。別の容器に結晶径０．００３５
μｍのＳｎＯ_２ゾルをｐＨ１１に調整したアンモニア水
溶液に１０重量％添加して懸濁液Ｂを作製した。懸濁液
Ａと懸濁液Ｂを所定の割合で混合させた後、１５ｃｍ角
のタイル基材表面にスプレー・コーティング法により塗
布し、乾燥後８５０℃で２時間焼成して試料を得た。得
られた試料におけるＴｉＯ_２の結晶型はルチル型であっ
た。また粉末Ｘ線回折でＴｉＯ_２の格子定数を測定した
ところ、ＴｉＯ_２格子中へのＳｎＯ_２の固溶は認められ
なかった。得られた試料について光触媒活性および耐摩
耗性を評価した。

【００２１】光触媒活性については、試料表面にヨウ化
カリウム水溶液を滴下し、次いで滴下したヨウ化カリウ
ム水溶液に３０分間紫外線を照射し、照射前のヨウ化カ
リウム水溶液のｐＨと照射後のヨウ化カリウム水溶液の
ｐＨとの差（△ｐＨ）により評価した。すなわちこの方
法によれば試料表面の光触媒活性が高ければ下記に示す
ような酸化還元反応がより進行するので照射後のｐＨは
照射前のｐＨより高くなっていく。酸化反応：２Ｉ⁻＋２ｈ^＋→Ｉ_２還元反応：Ｏ_２＋２Ｈ_２Ｏ＋４ｅ⁻→４ＯＨ⁻

【００２２】また耐摩耗性はプラスチック消しゴムを用
いた摺動摩耗を行い、外観の変化を比較し、評価した。
評価指標を下記に示す。 ◎：４０回往復に対して変化なし ○：１０回以上４０回未満の摺動で傷が入り、光触媒層
（ＴｉＯ_２膜）が剥離 △：５回以上１０回未満の摺動で傷が入り、光触媒層
（ＴｉＯ_２膜）が剥離 ×：５回未満の摺動で傷が入り、光触媒層（ＴｉＯ
_２膜）が剥離図１に薄膜中におけるＳｎＯ_２の重量比に対する耐摩耗
性の変化を示す。ＳｎＯ_２の有無にかかわらず耐摩耗性
は良好な結果を示し、◎または○となった。８５０℃と
いう高温で処理したために焼結が生じ、膜中の粒子同士
が強固に結合したためと考えられる。

【００２３】特にＳｎＯ_２が３０％をこえると◎となっ
た。これは出発原料のＴｉＯ_２ゾル（結晶径０．０１μ
ｍ）とＳｎＯ_２ゾル（結晶径０．００３５μｍ）との粒
径比が２以上であることから、微粒のＳｎＯ_２粒子がＴ
ｉＯ_２粒子の間隙を埋めることにより充填性が向上し、
膜がより緻密化したためと考えられる。図２に薄膜中に
おけるＳｎＯ_２の重量比に対する光触媒活性の変化を示
す。比較のため良好な抗菌性および防臭特性を示すルチ
ル型ＴｉＯ_２にＣｕを担持した試料（Ｒ３０（Ｌ）で６
０％）の△ｐＨおよび非常に良好な抗菌性および防臭特
性を示すアナターゼ型ＴｉＯ_２試料（Ｒ３０（Ｌ）で９
７％）の△ｐＨも合わせて示した。Ｒ３０とは、３０分
後における悪臭除去率のことであり、以下に示す試験に
より求める。分解ガスにはメチルメルカプタンを用い、
メチルメルカプタン初期濃度が２ｐｐｍに調整された直
径２６ｃｍ×高さ２１ｃｍの円筒形容器に試料を設置す
る。光照射時の防臭特性Ｒ３０（Ｌ）は、次いで４Ｗの
ＢＬＢ蛍光灯を試料から８ｃｍ離して光を３０分照射
し、メチルメルカプタンの濃度減少率を算出し求める。
また暗時の防臭特性Ｒ３０（Ｄ）は、光を当てずに３０
分経過したときのメチルメルカプタンの濃度減少率を算
出し求める。ＳｎＯ_２を添加したルチル型ＴｉＯ_２の△
ｐＨは、アナターゼ型ＴｉＯ_２には及ばないものの、Ｓ
ｎＯ_２の添加重量比が１０％をこえ８０％未満好ましく
は２０％以上７０％以下ではルチル型ＴｉＯ_２にＣｕを
担持した試料の△ｐＨより大きな値を示し、良好な光触
媒活性があることが判明した。

【００２４】１０％をこえると特に充分な光触媒活性を
生じるのは、添加したＳｎＯ_２粒子がＴｉＯ_２粒子の結
晶粒界に充分な量介在し、焼成時のＴｉＯ_２の粒成長に
基づく比表面積の低下、すなわち触媒活性の低下を有効
に防止するためと考えられる。一方８０％未満の方が効
果が大きいのは、主に２つの原因が考えられる。１つ
は、ＳｎＯ_２量がＴｉＯ_２粒子を覆うぼど多くないた
め、充分な光触媒活性が維持されやすいからである。も
う１つは、ＳｎＯ_２粒子同士が隣接して粒成長する確率
が低いため、ＳｎＯ_２粒子の平均粒径は０．０１μｍ末
満に維持されやすいからである。一般にＳｎＯ_２はＨ_２
発生のためのポテンシャルエネルギーより伝導帯準位下
端が正側にあるため、活性酸素を生成する反応は生じに
くいとされているが、微粒になると界面において伝導帯
準位が上方に移行するため、活性酸素が生成する可能性
が生じる。おそらく、ＳｎＯ_２は粒径が０．０１μｍ未
満になると、Ｈ_２発生のためのポテンシャルエネルギー
よりも界面の伝導帯準位下端の方が負側に大きくなるた
め、ＳｎＯ_２による光触媒活性も付加されるのであろ
う。

【００２５】（比較例）結晶径０．０１μｍのＴｉＯ_２
ゾルをｐＨ１１に調整したアンモニア水溶液に４〜６重
量％添加して懸濁液Ａを作製した。別の容器に結晶径
０．０１μｍのＳｎＯ_２ゾルをｐＨ１１に調整したアン
モニア水溶液に１０重量％添加して懸濁液Ｃを作製し
た。懸濁液Ａと懸濁液Ｃを所定の割合で混合させた後、
１５ｃｍ角のタイル基材表面にスプレー・コーティング
法により塗布し、乾燥後８５０℃で２時間焼成して試料
を得た。得られた試料におけるＴｉＯ_２の結晶型はルチ
ル型であった。また粉末Ｘ線回折でＴｉＯ_２の格子定数
を測定したところ、ＴｉＯ_２格子中へのＳｎＯ_２の固溶
は認められなかった。この試料について光触媒活性およ
び耐摩耗性を評価した。

【００２６】図３に薄膜中におけるＳｎＯ_２の重量比に
対する耐摩耗性の変化を示す。ＳｎＯ_２の有無にかかわ
らず耐摩耗性は良好な結果を示し○となった。８５０℃
という高温で処理したために焼結が生じ、膜中の粒子同
士が強固に結合したためと考られる。ただし、今回はＳ
ｎＯ_２の添加量を増加させてもそれ以上耐摩耗性を向上
させることはできなかった。これは出発原料のＴｉＯ_２
ゾル（結晶径０．０１μｍ）とＳｎＯ_２ゾル（結晶径
０．０１μｍ）との粒径比がほぼ等かったため、ＳｎＯ
_２粒子がＴｉＯ_２粒子の間隙を埋めることによる充填性
の向上がなく、膜が緻密化しなかったためと考えられ
る。

【００２７】図４に薄膜中におけるＳｎＯ_２の重量比に
対する光触媒活性の変化を示す。比較のため良好な抗菌
性および防臭特性を示すルチル型ＴｉＯ_２にＣｕを担持
した試料の△ｐＨおよび非常に良好な抗菌性および防臭
特性を示すアナターゼ型ＴｉＯ_２試料の△ｐＨも合わせ
て示した。ＳｎＯ_２を添加したルチル型ＴｉＯ_２の△ｐ
Ｈは、今回はアナターゼ型ＴｉＯ_２試料の△ｐＨにもル
チル型ＴｉＯ_２にＣｕを担持した試料の△ｐＨにもはる
かに及ばなかった。

【００２８】（実施例２）結晶径０．０１μｍのＴｉＯ
_２ゾルをｐＨ１１に調整したアンモニア水溶液に４〜６
重量％添加して懸濁液Ａを作製した。別の容器に結晶径
０．００３５μｍのＳｎＯ_２ゾルをｐＨ１１に調整した
アンモニア水溶液に１０重量％添加して懸濁液Ｂを作製
した。懸濁液Ａと懸濁液Ｂを所定の割合で混合させた
後、１５ｃｍ角のタイル基材表面にスプレー・コーティ
ング法により塗布し、乾燥後８５０℃で２時間焼成して
部材Ｋを得た。得られた部材ＫにおけるＴｉＯ_２の結晶
型はルチル型であった。また薄膜中のＳｎＯ_２の重量比
は６０％であった。また粉末Ｘ線回折でＴｉＯ_２の格子
定数を測定したところ、ＴｉＯ_２格子中へのＳｎＯ_２の
固溶は認められなかった。さらに部材Ｋに５重量％酢酸
銅水溶液をスプレー・コーティング法により塗布後乾燥
し、この後光還元（光源は２０ワットＢＬＢランプ、光
源から試料までの距離１０ｃｍ、照射時間１分）して試
料を得た。得られた試料について防臭特性Ｒ３０を評価
した。

【００２９】結果を表１に示す。なお比較のため実施例
１および比較例において作製した試料（ＳｎＯ_２の重量
比６０％）についても合わせて試験した。表１よりＣｕ
を添加したことにより以下に示す効果があることが判明
した。

【００３０】

【表１】

【００３１】（１）実施例１の試料と比較してＲ３０
（Ｌ）に若干の向上がみられた。これはＣｕによる電子
捕捉効果によると考えられる。（２）実施例１および比較例の試料と比較してＲ３０
（Ｄ）が著しく向上した。この暗活性の向上は銅の触媒
効果によると解される。

【００３２】

【発明の効果】基材表面に光触媒薄膜を形成した部材に
おいて、光触媒薄膜のＴｉＯ_２成分がルチル型となる焼
成温度で処理することにより、充分な緻密性およびＴｉ
Ｏ_２膜強度を持たせることができる。その際、ルチル型
ＴｉＯ_２以外に結晶径０．０１μｍ未満のＳｎＯ_２があ
ると、光触媒薄膜の光触媒活性を向上させることができ
る。

【００３３】さらに光触媒薄膜上にＣｕ、Ａｇ、Ｐｔ、
Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｐｄのうち少なくとも１種の金属を
固定化することにより、電子捕捉作用により光触媒活性
をさらに向上させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の薄膜中のＳｎＯ_２重量比に対する耐摩
耗性を示すグラフ。

【図２】本発明の薄膜中のＳｎＯ_２重量比に対する光触
媒活性を示すグラフ。

【図３】比較例としての薄膜中のＳｎＯ_２重量比に対す
る耐摩耗性を示すグラフ。

【図４】比較例としての薄膜中のＳｎＯ_２重量比に対す
る光触媒活性を示すグラフ。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基材表面にルチル型ＴｉＯ_２と結晶径
０．０１μｍ未満のＳｎＯ_２の混合物からなる薄膜を形
成することを特徴とする光触媒作用を有する多機能部
材。
【請求項２】基材表面にルチル型ＴｉＯ_２と結晶径
０．０１μｍ未満のＳｎＯ_２の混合物からなる薄膜を形
成し、さらにその上にＣｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｆｅ、Ｃｏ、
Ｎｉ、Ｐｄのうち少なくとも１種の金属を固定化するこ
とを特徴とする光触媒作用を有する多機能部材。
【請求項３】前記薄膜中のＳｎＯ_２の重量比が１０％
をこえ８０％未満であることを特徴とする請求項１また
は２に記載された光触媒作用を有する多機能部材。