WO2004026471A1 - 光触媒材料とその製造方法 - Google Patents

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WO2004026471A1
WO2004026471A1 PCT/JP2003/012058 JP0312058W WO2004026471A1 WO 2004026471 A1 WO2004026471 A1 WO 2004026471A1 JP 0312058 W JP0312058 W JP 0312058W WO 2004026471 A1 WO2004026471 A1 WO 2004026471A1
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photocatalyst material
base metal
photocatalyst
compound
raw
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Yuko Nakamura
Takeshi Kudo
Azuma Ruike
Fumie Kawanami
Norio Nashirozawa
Yuji Iwasaki
Ken Kuzuhori
Satoshi Teguramori
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Andes Electric Co.,Ltd.
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    • C03C2217/70Properties of coatings
    • C03C2217/71Photocatalytic coatings

Definitions

  • the present invention relates to a photocatalyst material and a method for producing the same, and in particular, an oxide photocatalyst material capable of exhibiting a highly active photocatalytic function at a low cost and reducing a specific odor generated upon irradiation with ultraviolet rays, and a method for producing the same.
  • an oxide photocatalyst material capable of exhibiting a highly active photocatalytic function at a low cost and reducing a specific odor generated upon irradiation with ultraviolet rays, and a method for producing the same.
  • an oxide photocatalyst represented by titanium oxide When an oxide photocatalyst represented by titanium oxide is irradiated with light having a wavelength greater than the band gap, electrons are generated in the conduction band by photoexcitation, holes are generated in the valence band, and the strong It decomposes organic substances and nitrogen oxides coming into contact with the photocatalyst into water and carbon dioxide gas by reducing and oxidizing powers, and has antifouling, deodorizing and antibacterial functions.
  • Various environmental purification methods and devices using such functions have been provided, but in order to achieve even higher performance and higher efficiency of the environmental purification method, high activity of the photocatalytic function of the oxide photocatalyst itself is required. Is required.
  • the oxide photocatalyst material is easy to handle and easy to incorporate into environmental purification equipment. Therefore, it is important to improve both the photocatalytic function and the ease of handling.
  • a vacuum vapor deposition method disclosed in JP-A-8-26610, etc. and a vacuum deposition method disclosed in JP-A-8-309204, etc.
  • Numerous oxide photocatalyst fabrication technologies have been proposed, such as the sputtering method used in this method, and the sol-gel method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. H07-100078, etc. Did not get satisfactory.
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-57991 is disclosed as a technique for controlling the surface state of a photocatalyst.
  • a silicon oxide film is formed porous, or a titanium oxide film or glass substrate is subjected to fine processing to provide irregularities on the surface, thereby increasing the surface area where the photocatalyst is exposed and improving the photocatalytic function.
  • significant improvements could not always be achieved.
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-280843 discloses that the photocatalyst is exposed by making the crystal grains elliptical or semi-elliptical. It is said that the surface area is increased and the photocatalytic function is improved.However, a remarkable functional improvement is not always recognized, and there is a demand for an oxide photocatalyst having a more active photocatalytic function and excellent handleability. I have.
  • the inventors of the present invention focused on increasing the activation of the oxide photocatalyst by controlling the crystal shape, and various manufacturing methods such as a chemical vapor deposition method (CVD method) and a physical vapor deposition method (PVD method), and We studied sol-gel photocatalysts using organometallic or inorganic metal compounds.
  • CVD method chemical vapor deposition method
  • PVD method physical vapor deposition method
  • sol-gel photocatalysts using organometallic or inorganic metal compounds we studied sol-gel photocatalysts using organometallic or inorganic metal compounds.
  • crystal nuclei produced by various methods such as CVD or PVD are put into a sol solution composed of an organometallic compound or an inorganic metal compound, or a sol solution is applied to the crystal nuclei to solidify, A method was found in which heat treatment was performed to grow titanium oxide crystals from the crystal nuclei.
  • the crystal shape of the titanium oxide crystal grown from the crystal nuclei forms a columnar crystal, and the inside of the crystal forms a hollow structure.
  • a crystal having a columnar hollow structure (hereinafter also referred to as a “columnar hollow crystal”). )
  • a new photocatalyst material was invented and disclosed (Reference 1: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-2539975, Reference 2: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-253964) ).
  • the photocatalyst material made of titanium oxide crystals having a columnar hollow structure includes a base for fixing to the surface of the photocatalyst material support, and a base for fixing the photocatalyst support. It is mainly composed of a photocatalytic crystal having a columnar hollow structure, which is a hollow columnar structure that extends.For example, various substrates such as glass, metal, ceramics, or fibers having a network-like structure are used. It has a structure in which a columnar hollow titanium oxide crystal is grown from a base such as a crystal nucleus carried on a photocatalyst material carrier (References 1 and 2).
  • the columnar crystal is a general term including all crystal shapes such as a prism and a columnar shape, a branched dendritic crystal shape, and a shape in which a plurality of columnar crystals are fused during growth. Since the obtained photocatalyst material was fixed to the base material as a carrier, the problem of scattering like a powdery photocatalyst could be solved. In addition, the time required to reduce the concentration of 20 ppm of acetaldehyde gas to 1 ppm or less is about 50% as compared with a powdered photocatalyst, and the decomposition rate of acetaldehyde gas is doubled. As a result, a very effective photocatalyst was obtained, and a very effective one was obtained for its practical use, such as an air purification system. Disclosure of the invention
  • the problem to be solved by the present invention is to provide an oxide photocatalyst material having higher decomposition performance and capable of reducing a peculiar smell generated upon irradiation with ultraviolet rays, and a method for producing the same. That is.
  • the inventors of the present application have conducted intensive studies on the above problems, and as a result, have found that it can be solved by using a photocatalyst material supporting a metal or a compound thereof, and have completed the present invention. That is, the invention claimed in the present application is as follows.
  • a photocatalytic material for constituting a photocatalyst by being carried on a photocatalyst material carrier, wherein the photocatalyst material carries at least one of fine particles of a metal or a metal compound.
  • the photocatalyst is titanium oxide, and the base metal or base metal compound is Cu, Fe, Ni, Zn, Co, V, Zr, Mn, Sn, Cr, W, M
  • the photocatalyst material includes a base for fixing to the surface of the photocatalyst material support, or a base fixed to the surface of the photocatalyst material support; and a columnar photocatalyst crystal extending from the base.
  • a photocatalyst comprising: a photocatalyst material carrier; and the photocatalyst material according to any one of (2) to (8) supported on the photocatalyst material carrier.
  • a raw photocatalyst material preparation step for obtaining a photocatalyst material not carrying a base metal or a compound thereof (hereinafter referred to as “raw photocatalyst material”);
  • a method for producing a photocatalyst material comprising: a base metal supporting step for supporting the base metal, wherein the base metal supporting step includes a step of subjecting the original photocatalytic material to a treatment such as immersion or application using a base metal compound solution; An ultraviolet treatment step of irradiating the photocatalyst material treated in the treatment step with ultraviolet light to cause the base metal or a compound thereof to be reduced and precipitated on the surface of the raw photocatalyst material and supported.
  • Photocatalytic material manufacturing method comprising: a base metal supporting step for supporting the base metal, wherein the base metal supporting step includes a step of subjecting the original photocatalytic material to a treatment such as immersion or application using a base metal compound solution; An ultraviolet treatment step of irradiating the photocat
  • a photocatalyst comprising a step of producing a photocatalyst material in which a base metal or a compound thereof is not supported, and a step of supporting a base metal for supporting fine particles of a base metal or a compound thereof on the surface of the obtained raw photocatalyst material
  • the base metal supporting step includes: a solution treatment step of subjecting the raw photocatalyst material to a treatment such as immersion or coating using a base metal compound solution; and drying the photocatalytic material treated in the solution treatment step. And a heat treatment step of heat-treating the photocatalyst material treated in the drying step.
  • a method for producing a photocatalytic material characterized by:
  • a photocatalyst comprising a step of preparing a photocatalyst material in which a base metal or a compound thereof is not supported, and a step of supporting a base metal for supporting fine particles of a base metal or a compound thereof on the surface of the obtained raw photocatalyst material
  • the base metal supporting step is a chemical vapor deposition method in which a base metal or a compound fine particle thereof is supported on the surface of the raw photocatalytic material by a thermal CVD method, a plasma CVD method, or another chemical vapor deposition method.
  • a method for producing a photocatalytic material characterized in that the method is a process.
  • the base metal supporting step wherein the base metal compound solution is thermally decomposed by spraying the base metal compound solution onto the heated surface of the raw photocatalytic material, whereby the base metal or its compound is deposited on the surface of the raw photocatalytic material.
  • a method for producing a photocatalytic material which is a spray pyrolysis step of carrying.
  • a photocatalyst comprising a step of producing a photocatalyst material in which a base metal or a compound thereof is not supported, and a step of supporting a base metal for supporting fine particles of a base metal or a compound thereof on the surface of the obtained raw photocatalyst material
  • the base metal supporting step includes: a solution treatment step of subjecting the raw photocatalyst material to a treatment such as immersion or coating using a base metal compound solution; and a reduction to the photocatalyst material treated in the solution treatment step.
  • a method for producing a photocatalyst material comprising a step of adding a reducing agent to precipitate a base metal or a compound thereof on the surface of a raw photocatalyst material by adding an agent.
  • a photocatalyst comprising a step of preparing a photocatalyst material in which a base metal or a compound thereof is not supported, and a step of supporting a base metal for supporting base metal or compound fine particles on the surface of the obtained raw photocatalyst material
  • the base metal supporting step comprises the steps of sputtering the base metal or fine particles of the compound on the surface of the base photocatalyst material by sputtering, vacuum evaporation, or other physical vapor deposition.
  • a method for producing a photocatalyst material which is a physical vapor deposition step of supporting the photocatalyst on a surface.
  • the present invention provides a photocatalyst material, particularly a photocatalyst material comprising a titanium oxide photocatalytic crystal having a columnar hollow structure already proposed by the present inventors, by supporting fine particles of a metal or a compound thereof on the surface thereof. It can significantly improve the decomposition performance at low cost, and can also reduce or eliminate the generation of the characteristic odor during ultraviolet irradiation.
  • the titanium oxide photocatalytic crystal is characterized in that crystal nuclei are put in a sol solution of an organometallic compound or an inorganic metal compound, or a sol solution is applied to the crystal nuclei, solidified, heat treated, and grown from the crystal nuclei. I do.
  • the titanium oxide crystal itself having a columnar hollow structure is already very highly active, but by supporting fine particles of a metal or a compound thereof, the activity can be further improved.
  • the decomposition efficiency of organic harmful substances by about twice or more as compared with the photocatalyst material having the columnar hollow structure, and up to about four times as compared with the conventional powdered photocatalyst. Can be improved.
  • one of the typical oxide photocatalyst materials according to the present invention is a titanium oxide crystal having a columnar hollow structure grown from a crystal nucleus, and a surface of a base metal such as Cu or a compound thereof, for example. Particles supported Therefore, the base metal is supported on the photocatalyst material before supporting the base metal or its compound by a method such as a light deposition method, a wet method, a PVD method, a CVD method, and a spray pyrolysis method (SPD method). This is done by causing
  • the columnar shape of the photocatalytic crystal includes all those having a prismatic, columnar, rod-like, or other columnar three-dimensional structure, and the columnar crystal extends vertically in a vertical direction, and is inclined. Includes those that grow in a shape, those that grow while bending, those that branch and expand, and those in which a plurality of columnar crystals grow and fuse in the middle.
  • the crystal nucleus not only the crystal nucleus prepared by the PVD method such as the sputtering method or the vacuum evaporation method, or the crystal nucleus prepared by the CVD method, but also a single crystal, a polycrystal, and others can be widely used. Further, as the crystal nucleus, one that is clearly not recognized as a nucleus as seen in a normal chemical reaction, for example, a scratch on a substrate or the like can be used as a substitute for the nucleus. In a columnar crystal structure, one or more columnar crystals are grown on a crystal nucleus, and the crystal nucleus and the columnar crystal grown thereon grow in the same direction.Typically, the inside of the columnar crystal has a hollow structure. It is characterized by doing. A photocatalyst having a columnar crystal structure has a higher contact efficiency with a decomposition target than conventional ones having other crystal shapes, and the decomposition performance is dramatically improved.
  • the decomposition performance of the photocatalytic material can be further enhanced by the synergistic effect.
  • a dry etching method as a method of exposing the hollow internal structure of the columnar hollow crystal to the outside, a dry etching method, a wet etching method, and a mechanical method are effective.
  • the dry etching method includes a physical etching method and a dangling etching method. Examples of the physical etching method include an ion etching method and a plasma etching method, and examples of the chemical etching method include a gas etching method.
  • the wet etching technique uses an etching solution containing a strong inorganic acid, a strong oxidizing agent, a fluoride and the like as a basic composition.
  • the mechanical method is a method in which the hollow internal structure is exposed on the surface by polishing the columnar hollow crystal.
  • a crystal is formed by performing a heat treatment at a heating rate of 15 ° CZ to 105 ° CZ or 20 ° CZ to 100 / min.
  • the heat conduction velocity which greatly contributes to the increase in the density, and the crystal density of the crystals forming the outer wall of the columnar structure decrease, exposing the hollow internal structure of the columnar hollow crystal, and achieving high photocatalytic function activation. it can.
  • the “base metal supporting step” of the present invention refers to a step of supporting non-metal or fine particles of the compound on the raw photocatalytic material.
  • FIG. 1 is a conceptual diagram showing the appearance of the photocatalyst material of the present invention.
  • FIG. 2 is a conceptual diagram showing the appearance of a photocatalytic material made of a titanium oxide crystal having a columnar hollow structure of the present invention.
  • FIG. 3 is a flowchart showing the configuration of the photocatalytic material production method of the present invention by a photoprecipitation method.
  • FIG. 4 shows an example of the configuration of the raw photocatalyst material manufacturing process in FIG. 3 and the like. It is a flowchart which shows the manufacturing process of the raw photocatalyst material which has a columnar hollow structure.
  • FIG. 5 is a flowchart showing the configuration of the photocatalyst material manufacturing method of the present invention by a wet method.
  • FIG. 6 is a flowchart showing the configuration of the photocatalytic material production method of the present invention by the CVD method.
  • FIG. 7 is a flowchart showing the structure of the photocatalytic material production method of the present invention by the SPD method.
  • FIG. 8 is a flowchart showing the configuration of the photocatalyst material manufacturing method of the present invention using a reducing agent.
  • FIG. 9 is a flowchart showing the configuration of the photocatalytic material production method of the present invention by the PVD method.
  • FIG. 1 is a conceptual diagram showing the appearance of the photocatalyst material of the present invention.
  • the photocatalyst material 8 is, for example, a photocatalyst for forming a photocatalyst 18 by being supported on a photocatalyst material carrier 1 such as various substrates such as glass, metal, ceramics or fibers having a network structure.
  • the main structure of the photocatalyst material 8 is that the photocatalytic material 8 carries at least one of fine particles 4 of a metal or a metal compound.
  • the figure is a conceptual diagram. In particular, the size of the fine particles 4 of the metal or its compound with respect to the photocatalyst material 8 is emphasized, and the distribution state is also conceptually represented.
  • the fine particles 4 include (a) a case where only a fine particle of a specific metal is used, (b) a case where only a compound such as an oxide of a specific metal is used, and (c) a specific metal alone and an oxide of the metal.
  • a compound such as an oxide of a specific metal
  • a specific metal alone and an oxide of the metal In the case of such a compound, etc., is included, and also includes a case where different types of metals and different types of metal compounds are mixed in any mixed state.
  • P t even if the both of the fine particles P t C 1 2 is chloride is carried mixed, and aspects of the present invention Included.
  • a photocatalyst material 8 of the present invention is formed on a photocatalyst material carrier 1 to form a photocatalyst 18, and the photocatalyst material 8 includes at least one of a base metal and a base metal compound.
  • a configuration in which the fine particles 4 are carried can be adopted. Therefore, as the fine particles 4, for example, only Cu can be supported, only the oxide, CuO, can be supported, or both can be mixed and supported.
  • a photocatalyst material 8 of the present invention is formed on a photocatalyst material carrier 1 to form a photocatalyst 18, and the photocatalyst material 8 has fine particles 4 of a base metal, and possibly both compounds of the base metal. Is mixed and supported It can be. Titanium oxide is used as the photocatalyst, and Cu, Fe, Ni, Zn, Co, V, Zr, Mn, Sn, Cr, W , Mo, Nb, Ta or at least one of these compounds can be used. Therefore, for example, it is possible to adopt a configuration in which both Cu and its oxide, CuO, are supported in a mixed state. Also, for example, Ni would Yo of N i and 2 0 5, a single of different that elements ⁇ : and it is also possible to carry any combination of compounds.
  • Each photocatalyst material 8 of the present invention described above with reference to FIG. 1 is supported on a photocatalyst material support 1 such as various substrates such as glass, metal, ceramics, or fibers having a network structure, for example.
  • a photocatalyst # 8 in a form that is easy to handle can be configured.
  • a photocatalyst material 8 of the present invention is fixed on the surface of a photocatalyst material carrier 1, and a state in which fine particles 4 such as a metal such as Cu are carried on the surface.
  • the present photocatalytic material 8 has a unique odor due to the irradiation of the ultraviolet light when the photoexcitation is performed by the ultraviolet light to obtain a photocatalytic effect.
  • Generation of odor is reduced or generation of odor is eliminated.
  • the effect of reducing the generation of odor is effectively recognized even when a noble metal such as Pt is used, but it can be made to act more remarkably by a base metal such as Cu or these compounds.
  • the fine particles 4 of metal or the like are configured to have a smaller particle size, the decomposition of organic harmful substances such as acetoaldehyde is promoted, and the decomposition performance is improved.
  • FIG. 2 is a conceptual diagram showing the appearance of a photocatalytic material made of a titanium oxide crystal having a columnar hollow structure of the present invention.
  • the photocatalyst material 10 is used for fixing to the surface of the photocatalyst material support 1 or the photocatalyst material support 1
  • a photocatalyst comprising a base portion 2 fixed to the surface of the substrate and a columnar photocatalyst crystal body 3 extending from the base portion 2, such as various substrates such as glass, metal, ceramics, or fibers having a network structure.
  • the photocatalyst 20 is supported on the material carrier 1, and the photocatalyst material 10 supports fine particles 5 of at least one of a base metal and a base metal compound. And the main configuration.
  • the figure is a conceptual diagram. In particular, the size of the fine particles 5 of the base metal or its compound with respect to the photocatalyst material 10 is emphasized, and the distribution state is also conceptually shown.
  • the fine particles 5 for example, as described above, they carry only u, only their oxides, CuO, or a mixture of both. You can also.
  • the fine particles 4 of a metal or the like carried on the photocatalyst material 8 of the present invention can be fine particles of a base metal or a base metal compound. Titanium oxide is used as the photocatalyst, and Cu, Fe, Ni, Zn, Co, V, Zr, Mn or a compound of these compounds is used as the base metal or the like. At least one of them can be used.
  • the photocatalyst material 10 of the present invention is, for example, a titanium oxide crystal having a columnar structure grown from a base 2 such as a crystal nucleus supported on the photocatalyst material support 1 as a photocatalyst crystal 3,
  • the surface of the base 2 and the photocatalytic crystal 3 has a structure in which noble metal fine particles 5 such as Cu are supported.
  • the photocatalyst material 10 has a structure in which the base 2 is made of a crystal nucleus or the like, and the photocatalyst crystal 3 has a hollow columnar structure (hereinafter, also referred to as a “columnar hollow structure”).
  • a structure 6 hereinafter, also referred to as “crystal particles” composed of unillustrated photocatalyst particles can be provided inside the photocatalyst crystal 3.
  • crystal nucleus examples include a sputtering method, a PVD method such as a vacuum evaporation method, and the like.
  • a sputtering method a PVD method such as a vacuum evaporation method
  • Crystal nuclei are those that are not clearly recognized as nuclei as seen in normal chemical reactions, such as scratches on a substrate, protrusions of foreign matter, etc. It is possible to use a part with a different state as a nuclear substitute.
  • one or more columnar crystals are grown on a crystal nucleus, and the crystal nucleus and the columnar crystal grown thereon grow in the same direction.
  • the inside of the columnar crystal has a hollow structure. It is characterized by
  • each photocatalyst material 10 of the present invention described above is supported on a photocatalytic material carrier 1 such as various substrates such as glass, metal, ceramics, or fibers having a network structure.
  • a photocatalytic material carrier 1 such as various substrates such as glass, metal, ceramics, or fibers having a network structure.
  • the photocatalyst material 10 of the present invention is fixed to the surface of the photocatalyst material carrier 1 at the base 2, and the photocatalyst crystal 3 extending from the base 2 and the surface of the base 2 such as Cu Fine particles 5 such as a base metal are supported.
  • the photocatalytic crystal 3 has a columnar structure, and its surface area is increased, and the photocatalytic function is already highly active.However, the fine particles 5 such as a base metal are supported on the surface. Accordingly, the decomposition efficiency of organic harmful substances such as acetate aldehyde is further increased, and the decomposition efficiency is about twice as high as when no fine particles such as base metals are supported.
  • the photocatalyst material 1 is formed by using a photocatalyst having an amount of about 0.1 g supported on a photocatalyst material support having a catalyst supporting area of 75 mm ⁇ 75 mm.
  • the time required to reduce the acetic acid gas concentration in the glass container with a volume of 201 from 20 ppm to 1 ppm or less is 10 minutes or less. Below, it can be reduced to 6 minutes depending on the configuration.
  • the photocatalyst material of the columnar hollow structure titanium oxide according to the present invention does not support fine particles such as a base metal
  • the conventional powdery photocatalyst takes about 30 minutes, and it takes less than 1 ppm in about 15 minutes. Since the concentration is reached, the decomposition efficiency under these conditions is about twice as high, and a considerable improvement in the decomposition performance is achieved.
  • the present invention supporting fine particles such as base metal shows a decomposition performance that exceeds this.
  • the photocatalyst material of the present invention when compared with a conventional powdery photocatalyst under the above conditions, the time required for decomposition is reduced from about one-fourth to about one-fifth, and the decomposition efficiency is about four to five times higher. The decomposition performance is greatly improved.
  • the fine particles 5 of base metal or the like are configured to have a smaller particle size, the decomposition of organic harmful substances such as acetoaldehyde is promoted, and the decomposition performance is improved.
  • the high activity of the photocatalyst function by supporting fine particles such as metal on the titanium oxide photocatalyst is due to the fact that excited electrons excited in the conduction band by the absorption of excitation light into the photocatalyst are collected on the fine particles such as metal. Pools, and at the same time, holes move toward organic harmful substances adsorbed on the surface of the photocatalyst, forcing a state where the recombination probability of electron-hole pairs is forcibly reduced. is there.
  • the photocatalyst material 10 has a configuration in which fine particles 5 such as a metal are supported, so that when photoexcitation is performed by ultraviolet rays to obtain a photocatalytic effect, a specific smell due to the ultraviolet irradiation is obtained.
  • the generation of odor is reduced, or the generation of odor is eliminated.
  • the effect of reducing the generation of odor is effectively recognized even when a noble metal such as Pt is used, but it can be made to act more remarkably by a base metal such as Cu or these compounds.
  • FIG. 3 is a flowchart showing a configuration of a production method using a photo-deposition method as one of the photocatalytic material production methods of the present invention.
  • the production method of the present invention comprises a raw photocatalyst material preparation step P1 for obtaining a photocatalyst material on which a base metal or the like is not supported, and a base metal support step P for supporting fine particles such as a base metal on the surface of the obtained photocatalyst material.
  • the base metal supporting step P 3 is performed in a solution processing step P 31 in which a photocatalyst material is subjected to a treatment such as immersion or application using a base metal compound solution, and the solution processing step P 31
  • An ultraviolet treatment step P32 in which a base metal or the like is reduced and precipitated on the surface of the raw photocatalyst material by irradiating the photocatalyst material with ultraviolet light.
  • a drying step P33 for drying the photocatalyst material carrying a base metal or the like in the step P32 can be further provided.
  • a photocatalytic material (raw photocatalytic material) in a state where a base metal or the like is not yet supported on the surface is obtained in the raw light catalytic material preparation step P 1.
  • the base metal supporting step P3 fine particles such as a base metal are supported on the surface of the raw photocatalyst material obtained in the step P1, but the base metal supporting step P3 includes the solution processing step P31.
  • the raw photocatalyst material is subjected to a treatment such as dipping or coating using a base metal compound solution, and then, in an ultraviolet treatment step P32, the photocatalyst material treated in the solution treatment step P31 is exposed to ultraviolet light.
  • a treatment such as dipping or coating using a base metal compound solution
  • an ultraviolet treatment step P32 the photocatalyst material treated in the solution treatment step P31 is exposed to ultraviolet light.
  • base metals and the like are reduced and precipitated on the surface of the photocatalytic material and are supported.
  • the drying step P33 the photocatalyst material supporting the base metal or the like is dried, and the photocatalyst material supporting the fine particles such as the base metal of the present invention is produced.
  • the ultraviolet treatment step P32 By passing through the ultraviolet treatment step P32, the oxidized base metal or other fine particles supported on the photocatalytic material surface by the solution treatment step P31 are reduced, and the decomposition efficiency of harmful organic substances is increased. Improve photocatalytic function Can be. In addition, the generation of a peculiar odor upon irradiation with ultraviolet rays can be reduced, or the odor can be eliminated.
  • FIG. 4 is a flow chart showing a manufacturing process of a raw photocatalyst material having a columnar hollow structure as an example of the configuration of the raw photocatalyst material manufacturing process P1 in FIG.
  • a crystal nucleus S 1 as a base of the photocatalyst material is immersed in a sol solution S 2 containing an organometallic compound or an inorganic metal compound, or A sol solution S 2 containing an organometallic compound or an inorganic metal compound is applied to a crystal nucleus S 1 as a base of the photocatalytic material, and a gelling step for obtaining a photocatalytic material prototype M 3 by gelation 4 1 Drying and solidifying the prototype M3 obtained in the gelling step 41, a solidification step 42 for obtaining a solidified prototype M4, and heat-treating the solidified prototype M4 And a heat treatment step 43 for obtaining a raw photocata
  • the crystal nucleus S 1 as a base of the photocatalytic material is immersed in a sol solution S 2 containing an organometallic compound or an inorganic metal compound by the gelation step 41 or is used as the base of the photocatalytic material.
  • a sol solution S2 containing an organic metal compound or an inorganic metal compound is applied to a crystal nucleus S1 for forming a photocatalytic material prototype M3 by gelation, and then the gelation is performed by a solidification step 42.
  • the prototype M 3 obtained in the curing step 41 is dried and solidified to obtain a solidified prototype M 4.
  • a heat treatment step 43 the solidified prototype M 4 is subjected to heat treatment to form a columnar shape.
  • An original photocatalyst material M5 having a photocatalyst crystal having a structure or a columnar hollow structure is obtained.
  • FIG. 5 is a flow chart showing the composition of the photocatalytic material production method of the present invention by a wet method.
  • the present production method includes an original photocatalyst material manufacturing step P1 for obtaining a photocatalyst material in which a base metal or the like is not supported; A base metal supporting step P5 for supporting fine particles such as a base metal on the surface of the raw photocatalyst material obtained in the above step.
  • the base metal supporting step P5 is performed by dipping or coating the base photocatalytic material with a base metal compound solution.
  • a solution treatment step P51 for performing such treatments as described above a drying step P52 for drying the photocatalyst material treated in the solution treatment step P51, and a photocatalyst material treated in the drying step P52.
  • a heat treatment step P53 for heat treatment a heat treatment step for heat treatment.
  • a reduction step P54 for reducing the oxidized base metal fine particles supported on the surface of the photocatalytic material can be provided after the heat treatment @ P53.
  • the photocatalytic material having a columnar hollow structure is produced by passing through the above-described step shown in FIG. 4 as the raw photocatalytic material manufacturing step P1, and can be used as the raw photocatalytic material.
  • a photocatalyst material in a state where the base metal or the like is not yet supported on the surface is obtained in the raw light catalyst material preparation step P1.
  • fine particles of a base metal or the like are supported on the surface of the raw photocatalyst material obtained in the step P1, but in the base metal supporting step P5, the solution treatment step P51 causes the raw light contact.
  • the medium material is subjected to a treatment such as immersion or application using a base metal compound solution, and then the photocatalytic material treated in the solution treatment step P51 is dried in a drying step P52, and then a heat treatment step P5
  • the photocatalyst material treated in the drying step P52 is heat-treated by 3 to produce a photocatalyst material carrying fine particles such as base metal of the present invention. That is, the decomposition efficiency of harmful organic substances can be increased, and the photocatalytic function can be enhanced. In addition, it is possible to reduce the generation of a peculiar odor upon irradiation with ultraviolet rays, or to provide a photocatalyst material free of such generation.
  • the oxidized base carried on the photocatalytic material surface is reduced.
  • the fine metal particles are returned.
  • FIG. 6 is a flowchart showing the configuration of the photocatalytic material production method of the present invention by the CVD method.
  • the present production method includes a raw photocatalyst material manufacturing step P1 for obtaining a raw photocatalyst material, and a base metal supporting step P6 for supporting fine particles such as a base metal on the surface of the raw photocatalyst material obtained in the step P1.
  • the base metal supporting step P6 is a chemical vapor deposition step of supporting fine particles such as a base metal on the surface of the raw photocatalytic material by a thermal CVD method, a plasma CVD method, or another chemical vapor deposition method. Take.
  • the photocatalyst material having a columnar hollow structure can be produced through the step shown in FIG. 4 as the raw photocatalyst material production step P 1, which can be used as the raw photocatalyst material.
  • the raw photocatalyst material is obtained in the raw photocatalytic material preparation step P1, and then the raw photocatalyst obtained in the base metal supporting step P6 is obtained in the step P1. Fine particles of a base metal or the like are supported on the surface of the material.
  • the chemical vapor deposition step which is the base metal supporting step P6, the fine particles of the base metal or the like are supported on the surface of the raw photocatalyst material.
  • a photocatalyst material carrying fine particles such as a base metal is produced.
  • FIG. 7 is a flowchart showing the configuration of the photocatalytic material production method of the present invention by the SPD method.
  • the present production method comprises a raw photocatalyst material producing step P1 for obtaining a raw photocatalyst material, and a base metal supporting step P7 for supporting fine particles such as a base metal on the surface of the obtained raw photocatalyst material.
  • the base metal supporting step P7 is a spray pyrolysis step in which the base metal compound solution is thermally decomposed by spraying the solution on the heated photocatalytic material surface, thereby supporting the base metal and the like on the surface of the raw photocatalytic material. Take.
  • the raw photocatalytic material is obtained in the raw photocatalytic material preparation step P1, and then the base metal compound solution is applied to the heated photocatalytic material surface in the base metal supporting step P7. Is sprayed This thermally decomposes, whereby the base metal or the like is supported on the surface of the original photocatalyst material, and the photocatalyst material of the present invention supporting the fine particles such as the base metal is produced.
  • FIG. 8 is a flowchart showing the structure of the photocatalyst material manufacturing method of the present invention using a reducing agent.
  • the present production method comprises a raw photocatalyst material producing step P1 for obtaining a raw photocatalyst material, and a base metal supporting step P8 for supporting fine particles such as a base metal on the surface of the obtained raw photocatalyst material.
  • the base metal supporting step P8 is a solution processing step P81 in which the photocatalyst material is subjected to a treatment such as immersion or coating using a base metal compound solution, and the photocatalytic material reduced in the solution processing step P81.
  • a reducing agent addition step P82 in which base metals and the like are precipitated on the surface of the raw photocatalyst material by adding an agent.
  • a drying step P83 for drying the photocatalyst material treated in the step P82 can be provided.
  • the raw photocatalyst material is obtained in the raw photocatalyst material preparation step P1, and then the raw photocatalyst material is obtained in the solution processing step P81 in the base metal supporting step P8
  • the photocatalyst material is subjected to a treatment such as immersion or application using a base metal compound solution, and then a reducing agent is added to the photocatalyst material treated in the solution treatment step P811 in a reducing agent addition step P82.
  • FIG. 9 is a flow chart showing the configuration of the photocatalytic material manufacturing method of the present invention by the PVD method.
  • the present production method includes a raw photocatalyst material producing step P1 for obtaining a raw photocatalyst material, and a base metal supporting step P9 for supporting fine particles such as a base metal on the surface of the obtained raw photocatalyst material.
  • Base metal loading process P9 is performed by sputtering, vacuum evaporation, or other PV
  • the method is a physical vapor deposition process in which fine particles such as a base metal are supported on the surface of the raw photocatalyst material by the method D.
  • the raw photocatalyst material manufacturing method of the present invention by the PVD method is obtained in the raw light catalyst material preparation step P1, and then, in the base metal supporting step P9, the sputtering method, the vacuum evaporation method or Fine particles such as a base metal are supported on the surface of the raw photocatalyst material by the other PVD method, and the photocatalyst material in which the fine particles such as the base metal of the present invention are supported is produced.
  • a sol solution composed of an organometallic compound 35 g of butanediol, 0.4 g of H 2 O, and 0.5 g of nitric acid are mixed to form a solution. 5 g of titanium tetrisopropoxide (TTIP) was added dropwise with stirring, and then stirred at room temperature for 4 hours to obtain a sol solution.
  • TTIP titanium tetrisopropoxide
  • Crystal nuclei prepared by various preparation methods are immersed in the sol solution thus obtained, or crystals prepared on a titanium oxide substrate or a titanium oxide filter by various preparation methods.
  • the sol solution obtained as described above is applied to the nuclei, dried and solidified, and heat-treated to form titanium oxide crystals on the crystal nuclei.
  • the solidification is performed in a dryer at a temperature of 150 ° C. to 200 ° C. and a holding time of 2 hours.
  • the heat treatment is performed in an electric furnace under the conditions of a heating rate of 10 ° C / min, an ultimate temperature of 500 ° C to 600 ° C, and a holding time of 2 hours.
  • the method of producing a titanium oxide crystal film by the SPD method is described in an unpublished patent application by the present inventors (Japanese Patent Application No. 2001-181896). Etc.) and prepare as follows. That is, the raw material liquid is prepared by adding acetylacetyl (Hacac) to TTIP at a molar ratio (Hacac ZT TIP) of 1.0, diluting the mixture with isopropanol, and stirring. . Spray pyrolysis (SPD) equipment (made by Make Co., Ltd.
  • the pressure is 0.3 MPa
  • the spray amount is 1.0 Oml / sec
  • the spray time is 0.5 m1 Z times
  • the substrate temperature is 450 ° C
  • the number of sprays is 200 times.
  • the surface of the titanium oxide crystal film formed by the SPD method was observed with a scanning electron microscope (SEM), and a titanium oxide crystal film composed of crystals with a size of 30 nm to 100 nm was obtained. It can be obtained as the raw photocatalyst material of the present invention.
  • Copper nitrate trihydrate which was diluted with water to prepare a concentration of 2 X 1 0- 5 0 1 Bruno 1 and aqueous copper nitrate solution. Further, 10 wt% of ethanol as a reducing agent is added to this to obtain a Cu raw material solution. Copper nitrate solution concentration 2 x 1 0 - can and Mochiiruko from 6 mo 1/1 degree or more. As the solution concentration is lower, the particle diameter of the metal supported on the surface of the photocatalyst material can be made finer, and improvement in photocatalytic performance can be expected.
  • a titanium oxide filter or the like is immersed in a Cu raw material solution, and ultraviolet light is irradiated from above.
  • Cu ions in the Cu raw material solution are reduced by the photocatalytic reduction action to become Cu, and are deposited on the titanium oxide surface.
  • a Cu raw material solution may be applied to the titanium oxide surface by a spray method or the like, and then the ultraviolet light may be irradiated to support the Cu.
  • the filter After supporting Cu on the titanium oxide filter, the filter is washed with pure water and the photocatalyst material is dried at 150 ° C for 1 hour.
  • Table 1 summarizes the manufacturing methods and the like of the following examples and comparative examples.
  • Diluted copper nitrate trihydrate (C u (N 0 3) 2 '3 H 2 0 manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd. special grade) with distilled water, the concentration 2 X 1 0 - was prepared 5 mol Z l.
  • the titanium oxide filter was immersed in an aqueous solution of copper nitrate and left for 24 hours. By this operation, Cu was adsorbed on the titanium oxide surface until equilibrium adsorption was reached. After carrying Cu on the titanium oxide filter, it was washed with pure water. So After that, it was dried at _50 ° C for 1 hour, and aged in air at 450 ° C for 2 hours. Since the Cu surface was in an oxidized state when heat-treated in air, it was reduced in a hydrogen atmosphere.
  • a quartz glass tube was filled with a titanium oxide filter, and subjected to a reduction treatment at 450 ° C. for 2 hours with a mixed gas of 10 V o 1% hydrogen and argon.
  • the photocatalyst material obtained in this manner was confirmed by S ⁇ observation that Cu fine particles having a particle size of 1 to 50 nm were supported on the surface of the columnar hollow titanium oxide crystal.
  • the sputtering was performed by using an RF magnetron sputtering apparatus (SH-350EL-T06, Japan Vacuum Engineering Co., Ltd.).
  • a substrate supporting a titanium oxide photocatalyst having a columnar hollow structure was set in a film forming chamber so as to face a Cu target.
  • a Cu target having a target purity of 99.9% or more was used as a target. It was evacuated to 10 Pa by an oil rotary pump. Thereafter, evacuation was performed with a turbo-molecular pump, and the inside of the film formation chamber was evacuated to a predetermined degree of vacuum. Next, an argon gas having a purity of 99.999% or more was introduced, and the film formation chamber was set to an argon atmosphere.
  • the flow rate of the introduced gas and the degree of opening and closing of the main valve were adjusted so that the prescribed argon gas pressure (sputter pressure) was obtained.
  • power is applied to the Cu target by a DC power source to perform Cu sputtering, and the Ti oxide substrate is rotated at a rotation speed of 3 rpm, and the Cu fine particles are carried on the surface thereof. I let it.
  • the treatment was performed in a short time of 3 minutes. SEM observation of the obtained photocatalyst material confirmed that fine particles having a particle diameter of about 1 to 50 nm were supported on the surface of the titanium oxide crystal having a columnar hollow structure.
  • Titanium oxide substrate with columnar hollow structure not subjected to the above-mentioned Cu fine particle support treatment was used as Comparative Example 1.
  • a commercially available powdered photocatalytic material (P-25 manufactured by Nippon Air Port Jill) was used as Comparative Example 2. In the surface observation using SEM, it was composed of titanium oxide particles with a particle size of about 20 to 30 nm.
  • acetoaldehyde a harmful substance
  • the test method was as follows. First, the prepared titanium oxide photocatalyst (catalyst carrying area 75 mm X 75 inin, titanium oxide carrying amount about 0.1 lg) was placed in a 20 L glass container, and the inside of the container was artificially prepared. After purging with air, acetaldehyde gas was injected into the container to 20 ppm.
  • a germicidal lamp having a wavelength of 254 nm was irradiated to the titanium oxide photocatalyst, and the time required for the concentration of acetoaldehyde in the container to become 1 ppm or less was measured with a gas monitor.
  • the surface of the fabricated titanium oxide photocatalyst was observed by SEM.
  • the gas composition of the artificial air (available from Nippon Sanso Corporation) was used, nitrogen 7 8% oxygen 2 1%, argon 0.9%, carbon dioxide gas (CO, C_ ⁇ 2, CH 4) 0. 0 3% The rest is moisture.
  • Table 2 shows the results of property evaluation in each of the examples and comparative examples, and Table 3 shows the results of sensory evaluation.
  • the SEM showed that an aggregate composed of photocatalytic crystals, which were columnar hollow crystals having a height of 300 to 500 nm and a width of 300 to 500 nm, was formed. It was confirmed by observation.
  • Comparative Example 2 which was a powdery photocatalyst material, contained a large number of titanium oxide particles having a particle size of 20 to 30 nm.
  • the degradation time of the acetate was 28 minutes.
  • a smell peculiar to the TiO 2 photocatalyst was generated.
  • Examples 1 to 3 are titanium oxide crystal photocatalyst materials having a columnar hollow structure, and were subjected to a base metal supporting treatment to obtain a titanium oxide crystal having a columnar hollow structure.
  • the crystalline photocatalyst carries Cu fine particles having a particle diameter of 1 to 50 nm on the surface thereof.
  • Example 1 Example 1 is a photocatalyst material in which Cu fine particles are supported on a titanium oxide photocatalyst having a columnar hollow structure by a photodeposition method. It is expected that the obtained photocatalyst material has Cu fine particles with a particle diameter of about 1 to 50 nm supported on the surface of the titanium oxide crystal having a columnar hollow structure.
  • the decomposition time of acetate aldehyde is 6 minutes, and the decomposition time can be reduced to 1/4 to 1/5 compared to 28 minutes in Comparative Example 2, and the decomposition efficiency is 4 to 5 minutes. It was improved by more than five times, greatly improving the characteristics of the conventional technology.
  • the decomposition time can be reduced to about two-fifths, the decomposition efficiency has been improved to about 2.5 times, and titanium oxide with a columnar hollow structure
  • the properties of the photocatalyst material were also significantly improved, indicating that the photocatalyst material had extremely high decomposition performance and a high activity photocatalytic function. When irradiated with ultraviolet light, no odor peculiar to the TiO 2 photocatalyst was generated.
  • Example 2 is a photocatalyst material in which Cu fine particles are supported on a titanium oxide photocatalyst having a columnar hollow structure by a wet method including a reduction treatment.
  • the obtained photocatalyst material has a Cu oxide having a particle size of about 1 to 5 Omri on the surface of the titanium oxide crystal having a columnar hollow structure. It is expected that the particles are carried.
  • the decomposition time of acetate aldehyde is 6 minutes, and the decomposition time can be reduced to 1/4 to 1/5 compared to 28 minutes in Comparative Example 2, and the decomposition efficiency is 4 times. Up to 5 times or more, it was possible to greatly improve the characteristics of the conventional technology.
  • the decomposition time can be reduced to about two-fifths, the decomposition efficiency is improved to about 2.5 times, and the oxidation of the columnar hollow structure is improved.
  • the properties of the titanium photocatalyst material were also able to be significantly improved, indicating that the photocatalyst material had extremely high decomposition performance and a highly active photocatalytic function. No odor peculiar to the TiO 2 photocatalyst was generated at the time of UV irradiation.
  • Example 3 is a photocatalyst material in which Cu fine particles are supported on a titanium oxide photocatalyst having a columnar hollow structure by a sputtering method, which is one of the PVD methods. It is expected that the obtained photocatalyst material has Cu fine particles having a particle size of about 1 to 50 nm supported on the surface of the titanium oxide crystal having a columnar hollow structure.
  • the decomposition time of acetate aldehyde is 8 minutes, and the decomposition time can be reduced to 1/3 compared to 28 minutes in Comparative Example 2, and the decomposition efficiency is improved by more than 3 times. Can be greatly improved.
  • the decomposition time can be reduced to about one half, the decomposition efficiency is improved to about twice, and the characteristics of the titanium oxide photocatalyst material with a columnar hollow structure are also improved. It was shown to be a photocatalyst material that could be greatly improved, had extremely high decomposition performance, and had a highly active photocatalytic function. T i 0 2 photocatalyst characteristic odor was irradiated with ultraviolet rays did not occur at all.
  • Examples 1 to 3 Cu was used as the supported base metal, but in addition, even if Fe, Ni, Zn, Co, V, Zr, and Mn were supported on the surface of the photocatalyst, the photocatalytic function could be maintained. Experiments have confirmed that high activation can be achieved. Further, in Examples 1 to 3, Cu was supported by a light deposition method, a wet method, or a physical vapor deposition method, but other than these, a chemical vapor deposition method, a spray pyrolysis method, a chemical precipitation method, or the like was used. The same effect can be obtained even if Cu is carried on the substrate. This has been confirmed by experiments.
  • the photocatalyst function with extremely high activity can be achieved because of the configuration as described above.
  • this can be realized at low cost.
  • the photocatalyst material is easy to handle without scattering or falling off, and can be easily incorporated into an environmental purification device or the like, so that manufacturing costs can be reduced.
  • the photocatalyst material according to the present invention can reduce a peculiar smell generated upon irradiation with ultraviolet rays.
  • the photocatalyst material according to the present invention has a remarkable effect in a cleaning function, an antibacterial function, a deodorizing function, an antifouling function, etc. due to an extremely high activity photocatalytic function. It can be widely applied to various air conditioning equipment or environmental purification equipment such as water purifiers and water purification equipment.

Abstract

本発明は、高活性の光触媒機能を有し、紫外線照射の際の特有の臭い発生を低減できる光触媒材料の製造方法に係る。本方法は、卑金属がまだ表面に担持されていない状態の光触媒材料(原光触媒材料)を得る原光触媒材料作製工程P1と、工程P1により得られた原光触媒材料の表面に卑金属微粒子を担持する卑貴金属担持工程P3により、卑金属が担持された光触媒材料を製造する。卑金属担持工程P3は光析出法により、原光触媒材料を卑金属化合物溶液に浸漬する溶液処理工程P31と、工程P31において卑金属が担持された光触媒材料に紫外光を照射する紫外線処理工程P32と、工程P32により処理された光触媒材料を乾燥する乾燥工程P33と、から構成する。

Description

明 細 書 光) ¾媒材料とその製造方法 技術分野
本発明は光触媒材料とその製造方法に関し、 特に低コス トで高活性の 光触媒機能を発揮することができ、 かつ紫外線照射の際に発生する特有 の臭いを低減できる酸化物光触媒材料とその製造方法に関する。 背景技術 '
酸化チタンに代表される酸化物光触媒は、 そのバン ドギャップ以上の エネルギーを持つ波長の光を照射すると、 光励起によ り伝導帯に電子を 生じ、 価電子帯に正孔を生じ、 それらの強力な還元力や酸化力によ り、 光触媒に接触してく る有機物や窒素酸化物を水や炭酸ガスなどに分解す るものであり、 防汚、 防臭、 抗菌機能等を有している。 係る機能を利用 した環境浄化方法、 装置が種々提供されてきたが、 環境浄化方法のさ ら なる高性能化および高効率化を図るためには、 酸化物光触媒自体の光触 媒機能の高活性化が求められる。 一方では、 酸化物光触媒材料の取扱い 性や、 環境浄化装置への組み込みが容易であることが求められ、 したが つて、 光触媒機能と取扱い性の双方を向上させることが重要である。 特に粉末状酸化物光触媒における上述のよ うな課題を解決するために 、 特開平 8— 2 6 6 9 1 0等に開示される真空蒸着法、 特開平 8 — 3 0 9 2 0 4等に開示されるスパッタ リ ング法、 特開平 7 — 1 0 0 3 7 8等 に開示されるゾルーゲル法など、 数多く の酸化物光触媒の作製技術が提 案されているが、 光触媒機能の高活性化という点からは、 満足なものが 得られてはいなかった。 また、 光触媒体の表面状態を制御する技術と して特開平 9— 5 7 9 1 2等が開示されている。 これらは酸化ケィ素膜を多孔質に形成したり、 酸化チタン膜ゃガラス基板に微細加工を施して表面上に凹凸を設け、 光 触媒が露出する表面の面積を増大させて光触媒機能を向上させるという もの等であるが、 必ずしも顕著な向上は達成できなかった。 また基板の 加工、 膜の加工、 下地層の挿入などコス ト面でも問題があった。
また、 光触媒体表層部を構成する結晶を制御する技術と して特開平 2 0 0 0— 2 8 8 4 0 3では、 結晶粒を楕円形又は半楕円形にすることで 光触媒体の露出する表面積が増加し、 光触媒機能が向上する と している が、 必ずしも顕著な機能向上は認められず、 よ り高活性の光触媒機能を 有し、 かつ取扱い性に優れた酸化物光触媒が求められている。
係る状況下、 本願発明者らは、 結晶形状の制御による酸化物光触媒の 高活性化に主眼を置き、 化学的蒸着法 (C V D法) 、 物理的蒸着法 (P V D法) 等の各種製法、 および有機金属化合物または無機金属化合物を 用いたゾルーゲル法による酸化物光触媒の作製について鋭意検討した。 その結果、 C V D法または P V D法などの各種製法によ り作製した結晶 核を有機金属化合物も しく は無機金属化合物から成るゾル溶液中に入れ 、 または該結晶核にゾル溶液を塗布し、 固化、 熱処理して、 酸化チタン 結晶を該結晶核よ り成長させる方法を見出した。 そして該結晶核よ り成 長させた酸化チタン結晶の結晶形状が柱状結晶を成し、 かつその結晶内 部が中空構造を成す、 柱状中空構造の結晶 (以下 「柱状中空結晶」 と も いう。 ) とすることで、 高活性の光触媒機能が得られるこ とを突き止め た。 そしてこの発見に基づいて新規なる光触媒材料を発明し、 開示した (文献 1 : 特開 2 0 0 2— 2 5 3 9 7 5、 文献 2 : 特開 2 0 0 2— 2 5 3 9 6 4 ) 。 この柱状中空構造を有する酸化チタン結晶による光触媒材 料は、 光触媒材料担持体の表面に固定されるための基部と、 該基部から 伸長する、 中空の柱状構造である柱状中空構造をとる光触媒結晶体とか ら主と して構成されており 、 たとえばガラス、 金属、 セラミ ックスまた は網目状構造を有する繊維等の各種の基板などの光触媒材料担持体上に 担持される、 結晶核などの基部から柱状中空構造の酸化チタン結晶が成 長している構造を有する (文献 1 、 2 ) 。 こ こで柱状の結晶とは、 角柱 、 円柱状等の結晶形状、 または枝分かれした樹枝状の結晶形状、 柱状結 晶が複数本成長する途中で融合した形状などを全て含んだ総称である。 得られた光触媒材料は、 担持体である基材に固着しているため、 紛末 状光触媒のよ うな飛散の問題を解決することができた。 また、 濃度 2 0 p p mのァセ トアルデヒ ドガスを 1 p p m以下にまで減少させるのに要 する時間は、 粉末状光触媒と比較して約 5 0 %となり、 ァセ トアルデヒ ドガス分解速度が約 2倍になるなど、 光触媒と して極めて高活性であり 、 大気浄化システムなどその実用化にも非常に有効なものが得られた。 発明の開示
しかし、 従来に例を見ない極めて高活性を示す高度な実用性を備えた 光触媒材料が得られるよ う になって初めて、 新たな課題が顕在化した。 それは、 酸化チタン表面からある特有の臭いが発生するこ とである。 こ の臭いは、 従来の粉末状酸化チタンでも同様に発生することが実験によ り確認されたため、 酸化チタン表面に吸着された何らかの物質が光触媒 作用によ り酸化または還元されて発生しているものであり、 光触媒特有 のものと も考えられる。 また、 この臭いは酸化チタン光触媒に紫外線を 照射している時は常に発生しており、 特に紫外線を照射した直後ではか なり強い臭いを発すること も明らかとなった。 一方、 環境浄化装置の性 能を向上させ、 その利用範囲を拡大するためには、 さ らなる光触媒の髙 性能化を極めていく こ とが重要である。 本発明の解決しょ う とする課題は、 よ り高い分解性能を有すると とも に、 紫外線照射の際に発生する特有の臭いを低減するこ と のできる酸化 物光触媒材料とその製造方法を提供するこ と である。 本願発明者らは上 記課題について鋭意検討した結果、 金属またはその化合物を担持した光 触媒材料とするこ とによ り解決できるこ とを見出し、 本癸明完成に至つ た。 すなわち、 本願で特許請求される発明は以下のとおり である。
( 1 ) 光触媒材料担持体に担持して光触媒体を構成するための光触媒材 料であって、 該光触媒材料には金属または金属化合物の少なく と もいず れか一方の微粒子が担持されていることを特徴とする、 光触媒材料。
( 2 ) 光触媒材料担持体に担持して光触媒体を構成するための光触媒材 料であつて、 該光触^材料には卑金属または卑金属化合物の少なく とも いずれか一方の微粒子が担持されていることを特徵とする光触媒材料。
( 3 ) 光触媒材料担持体に担持して光触媒体を構成するための光触媒材 料であって、 該光触媒材料には卑金属、 およびその卑金属の化合物双方 の微粒子が混在して担持されていることを特徴とする、 光触媒材料。
( 4 ) 前記光触媒が酸化チタ ンであり、 前記卑金属または卑金属化合物 は C u、 F e 、 N i 、 Z n、 C o、 V、 Z r 、 M n、 S n、 C r 、 W、 M o、 N b、 T a またはこれらの化合物のう ちの少なく と も 1種である こ とを特徴とする、 ( 2 ) または ( 3 ) の光触媒材料。
( 5 ) 前記光触媒材料は、 光触媒材料担持体の表面に固定されるための 基部、 または光触媒材料担持体の表面に固定されている基部と、. 該基部 から伸長する柱状の光触媒結晶体と、 からなる光触媒材料であるこ とを 特徴とする、 ( 2 ) ないし ( 4 ) のいずれかの光触媒材料。
( 6 ) 前記光触媒材料が、 前記基部は結晶核等からな り、 前記柱状の光 触媒結晶体はその内部が中空の柱状構造をとるものであることを特徴と する、 ( 5 ) の光触媒材料。 ( 7 ) 前記光触媒結晶体内部に光触媒微粒子からなる構造が存在してい るこ とを特徴とする、 ( 6 ) の光触媒材料。
( 8 ) ( 2 ) ないし ( 7 ) のいずれかの光触媒材料であって、 触媒担持 面積が 7 5 mm X 7 5 m mの光触媒材料担持体上に担持された担持量約 0 . 1 gの光触媒を用いてなる該光触媒材料を用いてァセ トアルデヒ ド ガスを分解させた場合に、 容積 2 0 1 (リ ッ トル) のガラス製容! §中の ァセ トアルデヒ ドガス濃度を 2 0 p p mから 1 p p m以下にするための 所要時間が 5分以上 1 0分以下であることを特徴とする、 光触媒材料。
( 9 ) 光触媒材料担持体と、 該光触媒材料担持体上に担持された ( 2 ) ないし ( 8 ) のいずれかの光触媒材料と、 からなる光触媒体。
( 1 0 ) 卑金属またはその化合物が担持されていない光触媒材料 (以下 、 「原光触媒材料」 という。 ) を得る原光触媒材料作製工程と、 得られ た原光触媒材料の表面に卑金属またはその化合物微粒子を担持するため の卑金属担持工程とからなる光触媒材料製造方法であつて、 該卑金属担 持工程は、 原光触媒材料に卑金属化合物溶液を用いた浸漬または塗布等 の処理を施す溶液処理工程と、 該溶液処理工程で処理された光触媒材料 に紫外光を照射することによ り卑金属またはその化合物を原光触媒材料 の表面に還元析出させて担持する紫外線処理工程と、 を備えてなること を特徴とする、 光触媒材料製造方法。
( 1 1 ) 卑金属またはその化合物が担持されていない光触媒材料を得る 原光触媒材料作製工程と、 得られた原光触媒材料の表面に卑金属または その化合物微粒子を担持するための卑金属担持工程とからなる光触媒材 料製造方法であって、 該卑金属担持工程は、 原光触媒材料に卑金属化合 物溶液を用いた浸漬または塗布等の処理を施す溶液処理工程と、 該溶液 処理工程で処理された光触媒材料を乾燥する乾燥工程と、 該乾燥工程で 処理された光触媒材料を熱処理する熱処理工程と、 を備えてなるこ とを 特徴とする、 光触媒材料製造方法。
( 1 2 ) 前記熱処理工程の後に、 前記光触媒材料表面に担持された酸化 状態の卑金属微粒子を還元するための還元:] 程を設けるこ とを特徴とす る ( 1 1 ) の光触媒材料製造方法。
( 1 3 ) 卑金属またはその化合物が担持されていない光触媒材料を得る 原光触媒材料作製工程と、 得られた原光触媒材料の表面に卑金属または その化合物微粒子を担持するための卑金属担持工程とからなる光触媒材 料製造方法であって、 該卑金属担持工程は、 熱 C V D法、 プラズマ C V D法またはその他の化学的蒸着法によ り原光触媒材料の表面に卑金属ま たはその化合物微粒子を担持させる化学的蒸着工程であることを特徴と する、 光触媒材料製造方法。
( 1 4 ) 卑金属またはその化合物が担持されていない光触媒材料を得る 原光触媒材料作製工程と、 得られた原光触媒材料の表面に卑金虞または その化合物微粒子を担持するための卑金属担持工程とからなる光触媒材 料製造方法であって、 該卑金属担持工程は、 卑金属化合物溶液を熱した 原光触媒材料表面に噴霧することによって熱分解し、 これによ り卑金属 またはその化合物を原光触媒材料の表面に担持する噴霧熱分解工程であ るこ とを特徴とする、 光触媒材料製造方法。
( 1 5 ) 卑金属またはその化合物が担持されていない光触媒材料を得る 原光触媒材料作製工程と、 得られた原光触媒材料の表面に卑金属または その化合物微粒子を担持するための卑金属担持工程とからなる光触媒材 料製造方法であって、 該卑金属担持工程は、 原光触媒材料に卑金属化合 物溶液を用いた浸漬または塗布等の処理を施す溶液処理工程と、 該溶液 処理工程で処理された光触媒材料に還元剤を加えることによ り卑金属ま たはその化合物を原光触媒材料の表面に析出させる還元剤添加工程を備 えてなること を特徴とする、 光触媒材料製造方法。 ( 1 6 ) 卑金属またはその化合物が担持されていない光触媒材料を得る 原光触媒材料作製工程と、 得られた原光触媒材料の表面に卑金属または その化合物微粒子を担持するための卑金属担持工程とからなる光触媒材 料製造方法であって、 該卑金属担持工程は、 スパッタ リ ング法、 真空蒸 着法、 またはその他の物理的蒸着法によ り原光触媒材料の表面に卑金属 またはその化合物微粒子を原光触媒材料の表面に担持させる物理的蒸着 工程であることを特徴とする、 光触媒材料製造方法。
つま り本発明は、 光触媒材料、 殊に本願発明者らが既に提案した柱状 中空構造を有する酸化チタン光触媒結晶からなる光触媒材料の表面に金 属、 またはその化合物の微粒子を担持させることによ り、 低コス トで分 解性能を大幅に向上させ、 さ らに紫外線照射の際の特有の臭いの発生を 低減、 あるいはその発生をなくすることができる という ものであり、 用 いられる金属等は、 卑金属またはその化合物、 あるいは貴金属またはそ の化合物であってもよい。
前記酸化チタン光触媒結晶は、 有機金属化合物または無機金属化合物 のゾル溶液中に結晶核を入れ、 または結晶核にゾル溶液を塗布し、 固化 、 熱処理して該結晶核よ り成長させることを特徴とする。 柱状中空構造 を有する酸化チタン結晶自体も既に非常に高活性であるが、 これに金属 またはその化合物の微粒子を担持させることでさ らにその活性を向上さ せることができ、 ァセ トアルデヒ ド等の有機有害物質の分解効率を、 前 記柱状中空構造を有する光触媒材料と比較して約 2倍、 あるいはそれ以 上にまで、 従来の粉末状光触媒と比較すれば約 4倍にまで、 大幅に向上 させるこ とができる。
すなわち本発明に係る代表的な酸化物光触媒材料の一つは、 結晶核か ら成長させた柱状中空構造を有する酸化チタン結晶であって、 その表面 に、 たとえば C u等の卑金属またはその化合物の微粒子を担持させたも のであ り 、 その担持は、 卑金属またはその化合物担持前の光触媒材料に 、 光析出法、 湿式法、 P V D法、 C V D法、 噴霧熱分解法 ( S P D法) 等の方法によ り卑金属等を担持させることによ り行う。
本発明において、 光触媒結晶の形状が柱状とは、 角柱状、 円柱状、 棒 状、 その他柱状の立体構造をとるものをすベて含み、 また該柱状結晶は 鉛直方向に真っ直ぐに伸びるもの、 傾斜状に伸びるもの、 湾曲しながら 伸びるもの、 枝状に分岐して伸びるもの、 柱状結晶が複数本成長し途中 で融合したもの等を含む。
結晶核はスパッタ リ ング法、 真空蒸着法等の P V D法、 または C V D 法で作製した結晶核のみならず、 その種類は単結晶、 多結晶体、 その他 を広く用いることができる。 また結晶核と しては、 通常の化学反応に見 られる様に明らかに核と認められないよ うなもの、 たとえば基板上の傷 等を核の代替物とすること も可能である。 柱状結晶構造は、 結晶核上に 一つ以上の柱状結晶を成長させ、 結晶核とその上に成長させる柱状結晶 が同一方位に成長し、 典型的なものでは柱状結晶の内部は中空構造を有 していることを特徴とする。 柱状結晶構造を有する光触媒は、 従来の他 の結晶形状を有するものに比べて分解対象物との接触効率が良く 、 分解 性能が飛躍,的に向上する。
なお本願発明者らは先に、 本発明とは別に、 柱状中空結晶の外壁部を ドライエッチングやウエッ トエッチング等の手法を用いて一部取り除き 、 光触媒微粒子からなる構造を含む中空構造となっている内部を外部に 露出させる技術によ り 、 外壁部を敢り除かない柱状中空結晶と比較して 分解性能を高める方法を、 非公知の特許出願において提案した (特願 2 0 0 1 一 3 9 2 8 0 4 ) 。 この方法と本発明の貴金属微粒子担持の柱状 中空結晶光触媒材料の製造方法とを併用することによ り、 その相乗効果 によって、 さ らに光触媒材料の分解性能を高めることができる。 この場合、 前記柱状中空結晶の中空内部構造を外部に露出させる手法 と しては、 ドライエッチング手法、 ウエッ トエッチング手法、 機械的方 法が有効である。 ドライエッチング手法には物理的エッチング方法とィ匕 学的エッチング方法がある。 物理的エッチング方法と してはイオンエツ チング法、 プラズマエッチング法等があり、 化学的エッチング方法と し てはガスエッチング法等がある。 ウエッ トエッチング手法は、 強無機酸 、 強酸化剤、 フッ化物などを基礎的な組成と して含むエッチング溶液を 用いるものである。 さ らに機械的方法とは、 柱状中空結晶を研磨するこ とによって中空内部構造を表面に露出させる方法である。 これらの方法 によ り、 柱状中空結晶の外壁部が一部取り除かれ、 中空内部構造が外部 に露出し、 高活性の光触媒機能が得られる。'
また柱状中空の酸化チタン結晶作製工程において、 1 5 °C Z分〜 1 0 5 °C Z分、 または 2 0 °C Z分〜 1 0 0 /分の昇温速度で熱処理するこ とによ り結晶形成に大きく寄与する熱伝導速度が上昇し、 柱状構造の外 壁部を構成する結晶の結晶密度が低く なることによって柱状中空結晶の 中空内部構造が露出し、 光触媒機能高活性化を達成すること もできる。 本発明の 「卑金属担持工程」 とは、 原光触媒材料に非金属、 またはそ の化合物の微粒子を担持する工程をいう。 図面の簡単な説明
図 1 は、 本発明の光触媒材料の外観を示す概念図である。
図 2は、 本発明の柱状中空構造を有する酸化チタン結晶による光触媒 材料の外観を示す概念図である。
図 3 は、 光析出法による本発明の光触媒材料製造方法について、 その 構成を示すフロー図である。
図 4は、 図 3等における原光触媒材料作製工程の構成の一例と して、 柱状中空構造を有する原光触媒材料の製造工程を示すフロー図である。 図 5は、 湿式法による本発明の光触媒材料製造方法について、 その構 成を示すフロー図である。
図 6 は、 C VD法による本発明の光触媒材料製造方法について、 その 構成を示すフロー図である。
図 7 は、 S P D法による本発明の光触媒材料製造方法について、 その 構成を示すフロ一図である。
図 8 は、 還元剤使用による本発明の光触媒材料製造方法について、 そ の構成を示すフロー図である。
図 9は、 P V D法による本発明の光触媒材料製造方法について、 その 構成を示すフロー図である。
各図において用いられる符号は、 それぞれ下記を表す。
1 …光触媒材料担持体、 2…基部 (結晶核) 、 3…光触媒結晶体 (柱状 構造の酸化チタン結晶)、 4…金属または金属化合物の微粒子、 5…卑 金属または卑金属化合物微粒子、 8、 1 0…光触媒材料、 1 8、 2 0 …光触媒体、 P 1 …原光触媒材料作製工程、 P 3…卑金属担持工程 (光 析出法) 、 P 3 1 …溶液処理工程、 P 3 2…紫外線照射工程、 P 3 3— 乾燥工程、 P 5 ···卑金属担持工程 (湿式法) 、 P 5 1…溶液処理工程、 P 5 2…乾燥工程、 P 5 3…熱処理工程、 P 5 4…還元工程、 Ρ 6 ···卑 金属担持工程 (C VD法) 、 P 7…卑金属担持工程 ( S P D法) 、 P 8 …卑金属担持工程 (還元剤使用) 、 P 8 1…溶液処理工程、 P 8 2…還 元剤添加工程、 P 8 3…乾燥工程、 P 9…卑金属担持工程 ( P V D法) 、 4 1 ···ゲル化工程、 4 2 …固化工程、 4 3…熱処理工程、 S 1 …結晶 核、 S 2…ゾル溶液、 M 3…光触媒材料の原型、 M 4…固化した原型、 M 5…原光触媒材料 発明を実施するための最良の形態
以下、 本発明を、 図面によ り さ らに詳細に説明する。
図 1は本発明の光触媒材料の外観を示す概念図である。 図において本 光触媒材料 8は、 たとえば、 ガラス、 金属、 セラ ミ ックスまたは網目状 構造を有する繊維等の各種の基板などの光触媒材料担持体 1 に担持して 光触媒体 1 8を構成するための光触媒材料 8であって、 該光触媒材料 8 には金属または金属化合物の少なく ともいずれか一方の微粒子 4が担持 されていることを主たる構成とする。 図は概念図であり、 特に光触媒材 料 8に対する金属またはその化合物の微粒子 4の大き さは強調され、 ま たその分布状態も概念的に表されている。
図において微粒子 4 と しては、 ( a ) 特定の金属の微粒子のみの場合 、 ( b ) 特定の金属の酸化物等の化合物のみの場合、 ( c ) 特定の金属 単体およびその金属の酸化物等の化合物の場合、 が含まれ、 その他異な る種類の金属、 異なる種類の金属化合物があらゆる混合状態で混在して いる場合をも含む。 したがって、 たとえば ( c ) の場合の例と して、 P t と、 その塩化物である P t C 1 2の各微粒子の双方が混在して担持さ れている場合も、 本発明の態様と して含まれる。
図において本発明の光触媒材料 8は、 光触媒材料担持体 1 に担持して 光触媒体 1 8 を構成するものであって、 該光触媒材料 8には卑金属また は卑金属化合物の少なく と もいずれか一方の微粒子 4が担持されている 構成とするこ とができる。 したがって、 微粒子 4 と してはたとえば、 C uのみを担持すること も、 その酸化物である C u Oのみを担持すること も、 あるいはその双方を混在させて担持すること もできる。
図において本発明の光触媒材料 8 は、 光触媒材料担持体 1 に担持して 光触媒体 1 8 を構成するものであって、 該光触媒材料 8には卑金属、 お ょぴその卑金属の化合物双方の微粒子 4が混在して担持されている構成 とすることができる。 また、 該光触媒と しては酸化チタンを用い、 該卑 金属等と しては C u、 F e、 N i 、 Z n、 C o、 V、 Z r 、 Mn、 S n 、 C r 、 W、 M o、 N b、 T a またはこれらの化合物のう ちの少なく と も 1種を用いることができる。 したがってたとえば、 微粒子 4 と して C u、 およびその酸化物である C u Oの双方が混在して担持される構成を と ることができる。 またたとえば、 N i および 2 05のよ う に、 異な る元素の単^:および化合物を任意に組み合わせて担持させること も可能 である。
図 1 において上述した本発明の各光触媒材料 8は、 たとえばガラス、 金属、 セラミ ックスまたは網目状構造を有する繊維等の各種の基板など の光触媒材料担持体 1上に担持されることによ り、 取り扱いやすい形態 の光触媒体 Γ8を構成するこ とができる。
図において、 本発明の光触媒材料 8は、 光触媒材料担持体 1 の表面に 固定されていて、 その表面には C u等の金属等の微粒子 4が担持された 状態となっている。 このよ う に、 金属等の微粒子 4が担持された構成を とるこ とによ り本光触媒材料 8は、 光触媒効果を得るために紫外線によ つて光励起を行う際、 その紫外線照射による特有の臭いの発生が低減さ れ、 あるいは臭いの発生がなく なる。 臭い発生を低減する効果は、 P t 等の貴金属を用いた場合でも有効に認められるが、 C u等の卑金属また はこれらの化合物によって、 よ り顕著に作用させるこ とができる。
また、 金属等の微粒子 4 は、 その粒径がよ り小さ く なるよ うに構成す るこ とによ り、 ァセ トアルデヒ ド等の有機有害物質の分解が促進され、 分解性能が向上する。
図 2は、 本発明の柱状中空構造を有する酸化チタン結晶による光触媒 材料の外観を示す概念図である。 図において本光触媒材料 1 0は、 光触 媒材料担持体 1の表面に固定されるための、 または光触媒材料担持体 1 の表面に固定されている基部 2 と、 該基部 2から伸長する柱状の光触媒 結晶体 3 とからなり、 ガラス、 金属、 セラミ ッ ク スまたは網目状構造を 有する繊維等の各種の基板などの光触媒材料担持体 1 に担持して光触媒 体 2 0を構成するものであって、 該光触媒材料 1 0には卑金属または卑 金属化合物のう ち少なく と もいずれか一方の微粒子 5が担持されている こ とを主たる構成とする。 図は概念図であり、 特に光触媒材料 1 0 に対 する卑金属またはその化合物の微粒子 5の大きさは強調され、 またその 分布状態も概念的に表されている。
したがって微粒子 5 と しては、 たとえば上述したよ う にじ uのみを担 持することも、 その酸化物である C u Oのみを担持することも、 あるい はその双方を混在させて担持することもできる。
図において本発明の光触媒材料 8に担持される金属等の微粒子 4は、 卑金属または卑金属化合物の微粒子とするこ とができる。 また、 該光触 媒と しては酸化チタンを用い、 該卑金属等と しては C u、 F e 、 N i 、 Z n、 C o 、 V、 Z r 、 M nまたはこれらの化合物のう ちの少なく と も 1種を用いることができる。 すなわち本発明の光触媒材料 1 0は、 .たと えば、 該光触媒材料担持体 1上に担持される、 結晶核などの基部 2から 柱状構造の酸化チタン結晶が光触媒結晶体 3 と して成長し、 該基部 2お よび該光触媒結晶体 3の表面には C u等の貴金属微粒子 5が担持されて いる構造を有する。
図において本光触媒材料 1 0は、 前記基部 2が結晶核等からなり、 前 記光触媒結晶体 3は、 中空の柱状構造 (以下 「柱状中空構造」 と もいう 。 ) をとるものとすることができ、 また該光触媒結晶体 3内部には、 図 示しない光触媒粒子からなる構造 6 (以下 「結晶粒子」 と もいう。 ) が 存在している構成とすることができる。
前記結晶核と しては、 スパッタ リ ング法、 真空蒸着法等の P V D法、 または C V D法で作製した結晶核のみならず、 その種類は単結晶、 多結 晶体、 粉体、 セラ ミ ッ クス、 金属の熱酸化膜、 陽極酸化膜のいずれでも 用いるこ とができる。 また結晶核と しては、 通常の化学反応に見られる 様に明らかに核と認められないよ うなもの.、 たとえば基板上の傷、 異物 の突起等のよ うに、 基板上にあって基板とは相違する状態を有する部分 を核の代替物とするこ と も可能である。 柱状結晶構造は、 結晶核上に一 つ以上の柱状結晶を成長させ、 結晶核とその上に成長させる柱状結晶が 同一方位に成長し、 典型的なものでは柱状結晶の内部は中空構造となつ ているこ とを特徴とする。
図 2において、 上述した本発明の各光触媒材料 1 0 は、 たとえばガラ ス、 金属、 セラ ミ ックスまたは網目状構造を有する繊維等の各種の基板 などの光触媒材科担持体 1上に担持されることによ り、 取り扱いやすい 形態の光触媒体 2 0を構成するこ とができる。
図 2において本発明の光触媒材料 1 0は、 基部 2において光触媒材料 担持体 1 の表面に固定されていて、 該基部 2から伸長する光触媒結晶体 3および該基部 2の表面には C u等の卑金属等の微粒子 5が担持された 状態となっている。 光触媒結晶体 3は柱状構造をとることによ りその表 面積が増大しており、 既に光触媒機能が高活性となっているが、 その表 面に卑金属等の微粒子 5が担持されていることによ り、 ァセ トアルデヒ ド等の有機有害物質の分解効率はさ らに高く なり 、 卑金属等の微粒子を 担持しない場合と比較して、 約 2倍の分解効率が得られる。
たとえば、 本発明の光触媒材料 1 0においては、 触媒担持面積が 7 5 m m X 7 5 m mの光触媒材料担持体上に担持された担持量約 0 . 1 g の 光触媒を用いてなる該光触媒材料 1 0を用いてァセ トアルデヒ ドガスを 分解させた場合に、 容積 2 0 1 のガラス製容器中のァセ トアルデヒ ドガ ス濃度を 2 0 p p mから 1 p p m以下にするための所要時間を 1 0分以 下、 さらに構成によっては 6分にまで短縮することができる。
本発明に係る柱状中空構造酸化チタンによる光触媒材料ではたとぇ卑 金属等の微粒子を担持しない場合でも、 従来の粉末状光触媒では約 3 0 分を要すると ころ、 1 5分程度で 1 p p m以下の濃度に達するため、 該 条件での分解効率は約 2倍を示し、 相当の分解性能向上が達成されるが 、 卑金属等微粒子を担持した本発明はこれをさ らに上回る分解性能を示 す。 つま り上記条件で本発明の光触媒材料を従来の粉末状光触媒と比較 すると、 分解所要時間は約 4分の 1 から 5分の 1程度にまで短縮され、 約 4倍〜 5倍の分解効率が得られ、 大幅に分解性能が向上する。
また、 卑金属等の微粒子 5は、 その粒径がよ り小さ く なるよ う に構成 することによ り、 ァセ トアルデヒ ド等の有機有害物質の分解が促進され 、 分解性能が向上する。
酸化チタン光触媒に金属等微粒子を担持することによ り光触媒機能が 高活性になるのは、 光触媒への励起光の吸収によ り伝導帯に励起された 励起電子が金属等微粒子上に集められてプールされ、 同時に正孔が光触 媒表面に吸着している有機有害物質に向かい移動することによって、 強 制的に電子一正孔対の再結合確率が減少する状態が形成されるためであ る。 すなわち電子—正孔対の電荷分離状態の形成によ り これらの再結合 が抑制され、 周囲の酸素およぴ正孔による光触媒反応および有機有害物 質の酸化分解が促進されて、 光触媒活性の高感度化が達成される。
また、 図において本光触媒材料 1 0は、 金属等の微粒子 5が担持され た構成をとることによ り、 光触媒効果を得るために紫外線によって光励 起を行う際、 その紫外線照射による特有の臭いの発生が低減され、 ある いは臭いの発生がなく なる。 臭い発生を低減する効杲は、 P t等の貴金 属を用いた場合でも有効に認められるが、 C u等の卑金属またはこれら の化合物によって、 よ り顕著に作用させることができる。 図 3は、 本発明の光触媒材料製造方法の一つと して光析出法を用いた 製造方法について、 その構成を示すフロー図である。 図において本発明 の製造方法は、 卑金属等が担持されていない光触媒材料を得る原光触媒 材料作製工程 P 1 と、 得られた光触媒材料の表面に卑金属等微粒子を担 持するための卑金属担持工程 P 3 とからなり 、 該卑金属担持工程 P 3は 、 光触媒材料に卑金属化合物溶液を用いた浸漬または塗布等の処理を施 す溶液処理工程 P 3 1 と、 該溶液処理工程 P 3 1 で処理された光触媒材 料に紫外光を照射することによ り卑金属等を原光触媒材料の表面に還元 析出させて担持する紫外線処理工程 P 3 2 と、 を備えて構成される。 図において該紫外線処理工程 P 3 2 の後には、 さ らに、 該工程 P 3 2 によ り卑金属等が担持された光触媒材料を乾燥させるための乾燥工程 P 3 3 を設ける こ とができる。
図において本発明の光析出法を用いた光触媒材料製造方法では、 原光 触媒材料作製工程 P 1 において卑金属等がまだ表面に担持されていない 状態の光触媒材料 (原光触媒材料) が得られ、 次いで卑金属担持工程 P 3において該工程 P 1 によ り得られた原光触媒材料の表面に、 卑金属等 の微粒子が担持されるが、 該卑金属担持工程 P 3のう ち溶液処理工程 P 3 1 によ り、 該原光触媒材料に卑金属化合物溶液を用いた浸漬または塗 布等の処理が施され、 次いで紫外線処理工程 P 3 2によ り、 該溶液処理 工程 P 3 1で処理された光触媒材料に紫外光が照射されて卑金属等が光 触媒材料の表面に還元析出し担持される。 さ らに乾燥工程 P 3 3によ り 、 卑金属等が担持された光触媒材料が乾燥され、 本発明の卑金属等微粒 子が担持された光触媒材料が製造される。
前記紫外線処理工程 P 3 2 を経るこ と によって、 前記溶液処理工程 P 3 1 によ り光触媒材料表面に担持された酸化状態の卑金属等微粒子は還 元され、 有害有機物質の分解効率を高め、 光触媒機能を高性能化するこ とができる。 また、 紫外線照射の際の特有の臭いの発生を低減、 あるい はその癸生をなく することができる。
図 4は、 図 3における原光触媒材料作製工程 P 1 の構成の一例と して 、 柱状中空構造を有する原光触媒材料の製造工程を示すフ ロー図である 。 図 4において、 柱状中空構造を有する原光触媒材料の製造工程は、 光 触媒材料の基部とするための結晶核 S 1 を、 有機金属化合物または無機 金属化合物を含むゾル溶液 S 2に浸漬し、 または光触媒材料の基部とす るための結晶核 S 1 に有機金属化合物または無機金属化合物を含むゾル 溶液 S 2 を塗布して、 ゲル化による光触媒材料の原型 M 3 を得るための ゲル化工程 4 1 と、 該ゲル化工程 4 1 によ り得られた該原型 M 3 を乾燥 して固化し、 固化した原型 M 4を得るための固化工程 4 2 と、 該固化し た原型 M 4を熱処理して、 柱状構造または柱状中空構造をと る光触媒結 晶体を有する原光触媒材料 M 5を得るための熱処理工程 4 3 と、 から主 と して構成される。
図において、 ゲル化工程 4 1 によ り、 光触媒材料の基部とするための 結晶核 S 1 は、 有機金属化合物または無機金属化合物を含むゾル溶液 S 2 に浸漬され、 または光触媒材料の基部とするための結晶核 S 1 に有機 金属化合物または無機金属化合物を含むゾル溶液 S 2が塗布されて、 ゲ ル化による光触媒材料の原型 M 3が得られ、 次いで固化工程 4 2 によ り 、 該ゲル化工程 4 1 で得られた該原型 M 3 は乾燥されて固化し、 固化し た原型 M 4が得られ、 次いで熱処理工程 4 3 によ り、 該固化した原型 M 4は熱処理されて、 柱状構造または柱状中空構造をとる光触媒結晶体を 有する原光触媒材料 M 5が得られる。
図 5は、 湿式法による本発明の光触媒材料製造方法について、 その搆 成を示すフ ロー図である。 図において本製造方法は、 卑金属等が担持さ れていない光触媒材料を得る原光触媒材料作製工程 P 1 と、 該工程 P 1 で得られた原光触媒材料の表面に卑金属等微粒子を担持するための卑金 属担持工程 P 5 とからなり、 該卑金属担持工程 P 5は、 原光触媒材料に 卑金属化合物溶液を用いた浸漬または塗布等の処理を施す溶液処理工程 P 5 1 と、 該溶液処理工程 P 5 1 で処理された光触媒材料を乾燥する乾 燥工程 P 5 2 と、 該乾燥工程 P 5 2で処理された光触媒材料を熱処理す る熱処理工程 P 5 3 と、 を備えて構成される。
図において本製造方法では、 前記熱処理ェ @ P 5 3の後に、 前記光触 媒材料表面に担持された酸化状態の卑金属微粒子を還元するための還元 工程 P 5 4を設けることができる。 前記原光触媒材料作製工程 P 1 と し て、 前述の図 4に示す工程を経るこ とによ り、 柱状中空構造を有する光 触媒材料を作製し、 これを原光触媒材料とすることができる。
図において、 湿式法による本発明の光触媒材料製造方法では、 原光触 媒材料作製工程 P 1 において卑金属等がまだ表面に担持されていない状 態の光触媒材料が得られ、 次いで卑金属担持工程 P 5 において該工程 P 1 によ り得られた原光触媒材料の表面に、 卑金属等の微粒子が担持され るが、 該卑金属担持工程 P 5のう ち、 溶液処理工程 P 5 1 によ り原光触 媒材料に卑金属化合物溶液を用いた浸漬または塗布等の処理が施され、 次いで乾燥工程 P 5 2によ り該溶液処理工程 P 5 1で処理された光触媒 材料が乾燥され、 次いで熱処理工程 P 5 3によ り該乾燥工程 P 5 2で処 理された光触媒材料が熱処理されて、 本発明の卑金属等微粒子が担持さ れた光触媒材料が製造される。 すなわち、 有害有機物質の分解効率を高 め、 光触媒機能を高性能化することができる。 また、 紫外線照射の際の 特有の臭いの発生を低減できる、 あるいはその発生のない光触媒材料と することができる。
図において本製造方法では、 前記熱処理工程 P 5 3の後に設けられる 還元工程 P 5 4によ り、 前記光触媒材料表面に担持された酸化状態の卑 金属微粒子が還 される。
図 6 は、 C V D法による本発明の光触媒材料製造方法について、 その 構成を示すフロー図である。 図において本製造方法は、 原光触媒材料を 得る原光触媒材料作製工程 P 1 と、 該工程 P 1 によ り得られた原光触媒 材料の表面に卑金属等微粒子を担持するための卑金属担持工程 P 6 とか らなり、 該卑金属担持工程 P 6は、 熱 C V D法、 プラズマ C V D法また はその他の化学的蒸着法によ り原光触媒材料の表面に卑金属等微粒子を 担持させる化学的蒸着工程である構成をとる。 該原光触媒材料作製工程 P 1 と して、 前述の図 4に示す工程を経ることによ り、 柱状中空構造を 有する光触媒材料を作製し、 これを原光触媒材料とするこ とができ る。
図において C V D法による本発明の光触媒材料製造方法では、 原光触 媒材料作製工程 P 1 において原光触媒材料が得られ、 次いで卑金属担持 工程 P 6において該工程 P 1 によ り得られた原光触媒材料の表面に、 卑 金属等の微粒子が担持されるが、 該卑金属担持工程 P 6である化学的蒸 着工程によ り、 原光触媒材料の表面に卑金属等微粒子が担持され、 本発 明の卑金属等微粒子が担持された光触媒材料が製造される。
図 7は、 S P D法による本発明の光触媒材料製造方法について、 その 構成を示すフロー図である。 図において本製造方法は、 原光触媒材料を 得る原光触媒材料作製工程 P 1 と、 得られた原光触媒材料の表面に卑金 属等微粒子を担持するための卑金属担持工程 P 7 とからなり、 該卑金属 担持工程 P 7は、 卑金属化合物溶液を熱した光触媒材料表面に噴霧する こ とによって熱分解し、 これによ り卑金属等を原光触媒材料の表面に担 持する噴霧熱分解工程である構成をとる。
図において S P D法による本発明の光触媒材料製造方法では、 原光触 媒材料作製工程 P 1 において原光触媒材料が得られ、 次いで卑金属担持 工程 P 7によ り、 熱した光触媒材料表面に卑金属化合物溶液が噴霧され てこれが熱分解し、 これによ り卑金属等が原光触媒材料の表面に担持さ れ、 本発明の卑金属等微粒子が担持された光触媒材料が製造される。
図 8は、 還元剤使用による本発明の光触媒材料製造方法について、 そ の構成を示すフロ 図である。 図において本製造方法は、 原光触媒材料 を得る原光触媒材料作製工程 P 1 と、 得られた原光触媒材料の表面に卑 金属等微粒子を担持するための卑金属担持工程 P 8 とからな り、 該卑金 属担持工程 P 8は、 光触媒材料に卑金属化合物溶液を用いた浸漬または 塗布等の処理を施す溶液処理工程 P 8 1 と、 該溶液処理工程 P 8 1 で処 理された光触媒材料に還元剤を加えるこ とによ り卑金属等を原光触媒材 料の表面に析出させる還元剤添加工程 P 8 2 を備えて構成される。 該還 元剤添加工程 P 8 2 の後には、 該工程 P 8 2によ り処理された光触媒材 料を乾燥するための乾燥工程 P 8 3 を設けることができる。
図において還元剤使用による本発明の光触媒材料製造方法では、 原光 触媒材料作製工程 P 1 において原光触媒材料が得られ、 次いで卑金属担 持工程 P 8中の溶液処理工程 P 8 1 によ り原光触媒材料に卑金属化合物 溶液を用いた浸漬または塗布等の処理が施され、 次いで還元剤添加工程 P 8 2によ り該溶液処理工程 P 8 1で処理された光触媒材料に還元剤が 加えられて卑金属等が原光触媒材料の表面に析出して担持され、 本発明 の卑金属等微粒子が担持された光触媒材料が製造される。 乾燥工程 P 8 3 を設けた場合、 該還元剤添加工程 P 8 2によ り処理された光触媒材料 が乾燥されて本発明の卑金属等徼粒子が担持された光触媒材料となる。 図 9は、 P V D法による本発明の光触媒材料製造方法について、 その 構成を示すフ ロー図である。 図において本製造方法は、 原光触媒材料を 得る原光触媒材料作製工程 P 1 と、 得られた原光触媒材料の表面に卑金 属等微粒子を担持するための卑金属担持工程 P 9 とからなり 、 該卑金属 担持工程 P 9は、 スパッタ リ ング法、 真空蒸着法、 またはその他の P V D法によ り原光触媒材料の表面に卑金属等微粒子を原光触媒材料の表面 に担持させる物理的蒸着工程である構成をとる。
図において P V D法による本発明の光触媒材料製造方法では、 原光 触媒材料作製工程 P 1 において原光触媒材料が得られ、 次いで卑金属担 持工程 P 9において、 スパ ッ タ リ ング法、 真空蒸着法またはその他の P V D法によ り原光触媒材料の表面に卑金属等微粒子が原光触媒材料の表 面に担持され、 本発明の卑金属等微粒子が担持された光触媒材料が製造 される。
本発明の製造方法によ り光触媒材料に C uを担持する具体例について 、 上述した湿式法、 P V D法および光析出法による各工程の例を説明す る。 湿式法では、 既開発柱状酸化チタン光触媒と記される原光触媒材料 は、 硝酸銅水溶液 ( C u ( N O 3 ) 2 · 3 H 2 O ) に浸漬され、 次いで 1 5 0 °Cで 6 0分間乾燥され、 次いで大気中において 4 2 0 °Cで 1 2 0 分間熱処理され、 次いで選択的に 4 5 0 DC雰囲気中で 1 2 0分間水素還 元処理され、 C u担持柱状酸化チタン光触媒が作製される。 これは、 出 発原料である柱状酸化チタン光触媒に比べ、 約 2倍の分解性能を示すと と もに、 光触媒反応時に発生する特有の臭いが低減される。
一方 P V D法では、 柱状酸化チタン光触媒はスパッタ法によ り C u微 粒子が担持され、 C u担持柱状酸化チタン光触媒が作製される。 これは 出発原料である柱状酸化チタン光触媒に比べ、 約 2倍の分解性能を示す と と もに、 光触媒反応時に発生する特有の臭いが低減される。
光析出法によ り C uを担持させた柱状構造光触媒材料を作製する方法 の一例について、 詳細に説明する。
< 1 > 既開発柱状酸化チタン光触媒と記される原光触媒材料の作製、 すなわち、 結晶核、 柱状中空酸化チタン光触媒の作製
中性洗剤、 イ ソプロ ピルアルコール、 純水で洗浄処理を施した無アル カ リガラス、 またはシリカ繊維フィルター (ア ドバンテック製 Q R— 1 0 0 ) を基板と して用い、 その基板表面において、 有機金属化合物か ら成るゾル溶液中に結'晶核を入れ、 または結晶核にゾル溶液を塗布し、 固化、 熱処理を施すこ とによ り、 結晶核上に柱状中空構造を有する酸化 チタン結晶を形成し、 それぞれ酸化チタン基板、 または酸化チタンフィ ルターとする。 触媒担抟面積は 7 5 mm X 7 5 mmと し、 酸化チタン担 持量は約 0. l g とする。 なお以下においても、 同様の触媒担持面積お ょぴ酸化チタン担持量とする。
有機金属化合物からなるゾル溶液の調整方法例と しては、 ブタンジォ ール : 3 5 g、 H 2 O : 0. 4 g、 硝酸 : 0. 5 g を混合して溶液と し 、 この溶液にチタニウムテ トライ ソプロボキシド( T T I P ) 5 g を攪拌 しながら滴下し、 その後 4時間常温にて攪拌しゾル溶液を得る。
このよ うにして得られるゾル溶液中に、 各種作製法によ り作製した結 晶核を浸漬し、 または各種作製法によ り酸化チタン基板、 または酸化チ タンフ ィ ルタ一上に作製した結晶核に前記のよ う にして得られるゾル溶 液を塗布し、 乾燥固化、 熱処理を施すこ とによ り、 結晶核上に酸化チタ ン結晶を形成する。 固化は乾燥機中で到達温度 1 5 0 °C~ 2 0 0 °C、 保 持時間 2時間の条件で行う。 熱処理は電気炉中で昇温速度 1 0 °C/分、 到達温度 5 0 0 °C〜 6 0 0 °C、 保持時間 2時間の条件で行う。
各種作製法による結晶核の作製のう ち、 S P D法による酸化チタン結 晶膜の作製方法は、 本願発明者らによる非公知の特許出顧 (特願 2 0 0 1 — 1 8 1 9 6 9等) に示されている方法に従い、 次のよ う に調製する 。 すなわち原料液は、 T T I Pにァセチルアセ ト ン (H a c a c と記す 。 ) を m o l 比 (H a c a c ZT T I P ) 1 . 0で添加し、 これをイ ソ プロ ピルアルコールで希釈し、 攪拌することによって調製する。 噴霧熱 分解 ( S P D) 装置 ((株)メイク製 Υ ΚΠ) による成膜条件は、 噴霧 圧力 0 . 3 M P a、 噴霧量 1 . O m l /秒、 嘖霧時間 0 . 5 m 1 Z回、 基板温度 4 5 0 °C、 噴霧回数 2 0 0回、 で行う。 S P D法によ り作製し た酸化チタン結晶膜は、 走査型電子顕微鏡 ( S E M) による表面観察に よ り、 大きさ 3 0 n m〜 l 0 0 n mの結晶から構成される酸化チタン結 晶膜を、 本発明の原光触媒材料と して得るこ とができる。
< 2 > 卑金属の担持 <その 1 >担持する卑金属の原料溶液
C u化合物と して硝酸銅三水和物を用いる場合、 これを水で希釈し、 濃度を 2 X 1 0— 5 0 1 ノ 1 に調製し硝酸銅水溶液とする。 さ らにこれ に還元剤と してエタノールを 1 0 w t %添加し、 C u原料溶液とする。 硝酸銅水溶液濃度は 2 x 1 0 - 6 m o 1 / 1程度以上のものから用いるこ とができる。 溶液濃度が低いほど、 光触媒材料の表面に担持させる金属 の粒子径を微粒子化することができ、 光触媒性能の向上が期待できる。
< 3 > 卑金属の担持 <その 2 >光析出工程
C u原料溶液中に酸化チタンフ ィルタ一等を浸漬し、 その上から紫外 線を照射する。 この操作で C u原料溶液中の C uイオンは光触媒の還元 作用によ り還元されて C u となり、 酸化チタン表面に析出する。 浸漬処 理ではなく 、 スプレー法などで酸化チタ ン表面に C u原料溶液を塗布し た後、 紫外線を照射し C uを担持させてもよい。
< 4 > 卑金属の担持 <その 3 〉乾燥工程
酸化チタンフィルターに C uを担持した後、 純水で洗浄し、 光触媒材料 を 1 5 0 °Cで 1時間乾燥する。
以上の工程によ り C u微粒子が担持され、 C u担持柱状酸化チタン光 触媒が作製される。 これは、 出発原料である柱状酸化チタン光触媒に比 ベ、 約 2倍の分解性能を示すと と もに、 光触媒反応時に発生する特有の 臭いが低減される。 実施例
以下、 実施例と比較例による試験結果について説明するが、 本発明は 以下の実施例に限定されるものではない。
表 1 に、 下記の各実施例および比較例の作製方法等をま とめて記す。
Figure imgf000026_0001
<実施例 1 光析出法による C u担持光触媒材料 >
上述の光析出法によ り、 柱状中空酸化チタン光触媒材料に C uを担持 させ、 酸化チタンフィルターを作製した。 得られた光触媒材料は、 S E M観察によ り酸化チタン結晶表面に粒径 l 〜 5 0 n mの C u微粒子が担 持されていることが確認された。
<実施例 2 湿式法による C u担持光触媒材料 >
硝酸銅三水和物 (C u (N 03 ) 2 ' 3 H 20 和光純薬製 特級) を蒸留水で希釈し、 濃度を 2 X 1 0 - 5 m o l Z l に調製した。 硝酸銅 水溶液中に、 酸化チタ ンフィルターを浸漬し、 2 4時間放置した。 この 操作によ り C uは酸化チタン表面に平衡吸着に達するまで吸着された。 酸化チタンフィルタ一に C uを担持した後、 これを純水で洗浄した。 そ の後、 _ 5 0 °Cで 1時間乾燥させ、 空気中にて 4 5 0 °Cで 2時間熟処理 した。 空気中で熱処理した状態では、 C u表面は酸化状態にあるため、 これを水素雰囲気中で還元した。 石英ガラス管に酸化チタンフィルター を充填して、 4 5 0 ΐ:で 2時間、 1 0 V ο 1 %水素一アルゴン混合ガス で還元処理を行った。 この よ うにして得られた光触媒材料は、 S Ε Μ観 察によ り柱状中空酸化チタン結晶表面に粒径 1 〜 5 0 n mの C u微粒子 が担持されていることが確認された。
<実施例 3 P V D法による C u担持光触媒材料〉
R Fマグネ トロンスパッタ リ ング装置 (日本真空技術 (株) 、 S H— 3 5 0 E L - T 0 6 ) を用いたスパッタ法によ り行った。 成膜室内に柱 状中空構造の酸化チタン光触媒の担持された基板を C uターゲッ トに対 向させて設置した。 ターゲッ トは、 ターゲッ ト純度 9 9. 9 9 %以上の C uターゲッ トを用いた。 油回転ポンプによ り 1 0 P aまで排気した。 その後、 ターボ分子ポンプで排気を行い、 成膜室内を所定の真空度にし た。 次いで、 純度 9 9. 9 9 9 %以上のアルゴンガスを導入して成膜室 內をアルゴン雰囲気と した。 このとき、 所定のァルゴンガス圧力 (スパ ッタ圧力) となるよ う に、 導入ガス流量とメ イ ンバルブの開閉度を調節 した。 そして直流電源によ り C uターゲッ トに電力を印加して C uのス パッタ リ ングを行い、 設置された酸化チタン基板を回転速度 3 r p mで 回転させながら、 その表面に C u微粒子を担持させた。
C u膜の成膜ではなく C u微粒子の担持が目的なので、 3分間の短時 間で処理を行った。 得られた光触媒材料は S EM観察によ り、 柱状中空 構造の酸化チタン結晶表面に粒径 1 〜 5 0 n m程度の微粒子が担持され ていることが確認された。
<比較例 1 >
上述の C u微粒子担持処理を施さない柱状中空構造の酸化チタン基板 を比較例 1 と した。
<比較例 2 >
市販の粉末状光触媒材料 (日本エア口ジル製 P— 2 5 ) を比較例 2 と した。 S E Mを用いた表面観察では、 これは粒径 2 0〜 3 0 n m程度 の酸化チタン粒子から構成されていた。
<特性評価方法 >
光触媒機能の評価と して、 有害物質であるァセ トアルデヒ ドの分解試 験を実施した。 試験方法は、 まず、 作製した酸化チタン光触媒体 (触媒 担持面積 7 5 mm X 7 5 inin、 酸化チタン担持量約 0 . l g ) を容積 2 0 Lのガラス製の容器に入れ、 容器内を人工空気で置換したのち、 ァセ トアルデヒ ドガスを 2 0 p p mとなるよ う に容器内に注入した。 次に、 波長 2 5 4 n mの殺菌灯を酸化チタ ン光触媒体に照射し、 容器内のァセ トアルデヒ ド濃度が 1 p p m以下になるまでに要する時間をガスモニタ 一にて測定した。 作製した酸化チタン光触媒体の表面観察は、 S E Mに よ り行った。 用いた人工空気 (日本酸素(株)製) のガス組成は、 窒素 7 8 %、 酸素 2 1 %、 アルゴン 0 . 9 %、 炭酸ガス ( C O、 C〇 2、 C H 4 ) 0 . 0 3 %、 残りは水分である。
紫外線照射の際の特有の臭い発生の有無は、 5名の試験者による官能 評価で行った。 特有の臭いが明らかに発生したものは 「有り」 、 特有の 臭いが全く認められなかったものは 「無し」 、 「有り」 ほど顕著ではな いがある程度の臭いが認められたものは 「やや有り」 と し、 その結果を 総合して判断すること と した。
表 2に各実施例および比較例における特性評価結果、 表 3に官能評価 結果を示す。
表 2 ァセトアルデヒド分解時間 紫外線照射時に発生する臭い (20ppm-*1ppm以下になるまでの時間)
実施例 1 6mm ?f し
実施例 2 6賺 無し
実施例 3 8mm 7¾し
比較例 1 tSmin 有 y
比較例 2 28min 有リ 表 3 紫外線照射時に発生する臭いの官能評価
Figure imgf000029_0001
表 2の結果から以下のこ とがわかる。
比較例 1 は、 高さ 3 0 0 0 〜 5 0 0 0 n m、 幅 3 0 0 〜 5 0 0 n mの 柱状中空結晶である光触媒結晶体からなる集合体を形成しているこ とが 、 S E M観察によ り確認された。 所定容積空間内における濃度 2 0 p p mのァセ トアルデヒ ドガスを 1 p p m以下に低減するのに要する時間、 すなわちァセ トアルデヒ ドの分解時間 (以下、 「ァセ トアルデヒ ドの分 解時間」 という。 ) は 1 5分間であり、 後述する比較例 2 と比較して約 2分の 1 にまで分解所要時間が短縮され、 分解効率は約 2倍にまで向上 し、 本発明の卑金属微粒子担持技術を適用しない段階のものであっても 、 既に従来技術よ り も充分に分解性能が高く 、 高活性の光触媒機能を有 するものであるこ とが示された。 紫外線を照射したところ T i ◦ 2光触 媒特有の臭いが発生した。
粉末状の光触媒材料である比較例 2は、 粒径 2 0 〜 3 0 n mの酸化チ タン粒子が多数存在していることが S E Mによ り確認された。 ァセ トァ ルデヒ ドの分解時間は 2 8分間だった。 紫外線を照射したと ころ T i O 2光触媒特有の臭いが発生した。
上記比較例 1および 2に対し、 実施例 1 〜 3は、 柱状中空構造を有す る酸化チタン結晶光触媒材料であって、 卑金属担持処理を施すこ とによ り 、 柱状中空構造の酸化チタ ン結晶光触媒の表面に粒径 1 〜 5 0 n mの C u微粒子を担持させたものである。 以下に各実施例の結果を示す。 実施例 1 は、 光析出法によ り柱状中空構造の酸化チタン光触媒に C u 微粒子を担持させた光触媒材料である。 得られた光触媒材料は、 柱状中 空構造の酸化チタン結晶表面に粒径 1 〜 5 0 n m程度の C u微粒子が担 持されていると予想される。
ァセ トアルデヒ ドの分解時間は 6分間であり、 比較例 2の 2 8分間と 比較して分解時間は 4分の 1 〜 5分の 1 にまで短縮することができ、 分 解効率は 4 〜 5倍以上にまで向上し、 従来技術の特性を極めて大き く改 良するこ とができた。
また、 比較例 1 の 1 5分間と比較しても分解時間は約 5分の 2 にまで 短縮することができ、 分解効率は約 2 . 5倍にまで向上し、 柱状中空構 造の酸化チタン光触媒材料の特性をも大幅に改良することができ、 非常 に分解性能が高く 、 高活性の光触媒機能を有する光触媒材料であること が示された。 紫外線を照射したと ころ T i O 2光触媒特有の臭いは全く 発生しなかった。
実施例 2は還元処理を含む湿式法によ り柱状中空構造の酸化チタン光 触媒に C u微粒子を担持させた光触媒材料である。 得られた光触媒材料 は、 柱状中空構造の酸化チタン結晶表面に粒径 1 〜 5 O m ri程度の C u 微粒子が担持させている と予想される。
ァセ トアルデヒ ドの分解時間は 6分間であり、 比較例 2の 2 8分間と 比較して分解時間は 4分の 1 〜 5分の 1 にまで短縮するこ とができ、 分 解効率は 4〜 5倍以上にまで向上し、 従来技術の特性を極めて大き く改 良することができた。
また、 比較例 1 の 1 5分間と比較しても分解時間は約 5分の 2 にまで 短縮するこ と ができ、 分解効率は約 2 . 5倍にまで向上し、 柱状中空構 造の酸化チタン光触媒材料の特性をも大幅に改良することができ、 非常 に分解性能が高く 、 高活性の光触媒機能を有する光触媒材料であること が示された。 紫外線を照射したと ころ T i O 2光触媒特有の臭いは全く ' 発生しなかった。
実施例 3は、 P V D法の一つであるスパッタ法によ り柱状中空構造の 酸化チタン光触媒に C u微粒子を担持させた光触媒材料である。 得られ た光触媒材料は、 柱状中空構造の酸化チタン結晶表面に粒径 1 〜 5 0 n m程度の C u微粒子が担持されていると予想される。
ァセ トアルデヒ ドの分解時間は 8分間であり、 比較例 2の 2 8分間と 比較して分解時間は 3分の 1 にまで短縮でき、 分解効率は 3倍以上にま で向上し、 従来技術の特性を極めて大きく改良することができた。
また、 比較例 1 の 1 5分間と比較しても分解時間は約 2分の 1 にまで 短縮でき、 分解効率は約 2倍にまで向上し、 柱状中空構造の酸化チタン 光触媒材料の特性をも大幅に改良するこ とができ、 非常に分解性能が高 く 高活性の光触媒機能を有する光触媒材料であることが示された。 紫外 線を照射したところ T i 0 2光触媒特有の臭いは全く発生しなかった。 実施例 1 〜 3では C uを担持卑金属と したが、 その他、 F e 、 N i 、 Z n、 C o 、 V、 Z r 、 M nを光触媒の表面に担持させても、 光触媒機 能の高活性化を達成できるこ とを、 実験によ り確認済みである。 ま 、 実施例 1 〜 3では光析出法、 湿式法、 物理的蒸着法を用いて C uを担持したが、 これら以外にも化学的蒸着法、 噴霧熱分解法、 化学折 出法などを用いて C uを担持させても、 同様の効果が得られる。 このこ とは実験によ り確認済みである。
なお、 特性の評価はァセ トアルデヒ ドだけではなく 、 トルエン、 キシ レン、 スチレン、 ト リ メチルァ ミ ン等他の有機化合物でも行い、 本発明 の卑金属担持の光触媒材料はこれらにおいてもァセ トアルデヒ ドの場合 と同様の分解性能、 高活性の光触媒機能を有することが確認された。 産業上の利用可能性
本発明に係る光触媒材料おょぴその製造方法によれば、 以上のよ う に 構成されているため、 極めて高活性の光触媒機能を達成することができ る。 特に卑金属を担持する方法によれば、 これを低コス ト にて実現する ことができる。 また、 光触媒材料の飛散や脱落がなく て取り扱いが容 易であり、 環境浄化装置等にも組み込みやすく 、 製造コス トを低減する ことができる。
また、 これに加えて本発明に係る光触媒材料は、 紫外線照射の際に発 生する特有の臭いを低減することができる。
そして本発明に係る光触媒材料は、 極めて高活性の光触媒機能によ り 、 清浄機能、 抗菌機能、 脱臭機能、 防汚機能等において顕著な効果を有 し、 空気清浄機、 脱臭機、 冷暖房機等の各種空調機器あるいは清水器や 水質浄化機器などの環境浄化装置に、 広く応用するこ とができる。

Claims

請 求 の 範 囲
1 . 光触媒材料担持体に担持して光触媒体を構成するための光触媒材 料であつて、 該光触媒材料には金属または金属化合物の少なく ともいず れか一方の微粒子が担持されていることを特徴とする、 光触媒材料。
2. 光触媒材料担持体に担持して光触媒体を構成するための光触媒材 料であって、 該光触媒材料には卑金属または卑金属化合物の少なく とも いずれか一方の微粒子が担持されていることを特徴とする光触媒材料。
3. 光触媒材料担持体に担持して光触媒体を構成するための光触媒材 料であって、 該光触媒材料には卑金属、 およびその卑金属の化合物双方 の微粒子が混在して担持されていることを特徴とする、 光触媒材料。
4 . 前記光触媒が酸化チタンであ り 、 前記卑金属または卑金属化合物 は C u、 F e 、 N i 、 Z n 、 C o 、 V、 Z r 、 M n、 S n、 C r 、 W、 M o 、 N b 、 T a またはこれらの化合物のう ちの少なく と も 1種である ことを特徴とする、 2 . または 3 . に記載の光触媒材料。
5 . 前記光触媒材料は、 光触媒材料担持体の表面に固定されるための 基部、 または光触媒材料担持体の表面に固定されている基部と、 該基部 から伸長する柱状の光触媒結晶体と、 からなる光触媒材料であるこ とを 特徴とする、 2 . ないし 4 . のいずれかに記載の光触媒材料。
6 . 前記光触媒材料が、 前記基部は結晶核等からなり、 前記柱状の光 触媒結晶体はその内部が中空の柱状構造をと るものである こ とを特徴と する、 5 . に記載の光触媒材料。
7. 前記光触媒結晶体内部に光触媒微粒子からなる構造が存在してい るこ とを特徴とする、 6 . に記載の光触媒材料。
8 . 2 . ないし 7 . のいずれかに記載の光触媒材料であって、 触媒担 持面積が 7 5 m m X 7 5 mmの光触媒材料担持体上に担持された担持量 約 0 , 1 gの光触媒を用いてなる該光触媒材料を用いてァセ トアルデヒ ドガスを分解させた場合に、 容積 2 0 リ ッ トルのガラス製容器中のァセ トアルデヒ ドガス濃度を 2 0 p p mから 1 p p m以下にするための所要 時間が 5分以上 1 0分以下であることを特徴とする、 光触媒材料。
9 . 光触媒材料担持体と、 該光触媒材料担持体上に担持された 2 . な いし 8 . のいずれかに記載の光触媒材料と、 からなる光触媒体。
1 0 . 卑金属またはその化合物が担持されていない光触媒材料 (以下 、 「原光触媒材料」 という。 ) を得る原光触媒材料作製工程と、 得られ た原光触媒材料の表面に卑金属またはその化合物微粒子を担持するため の卑金属担持工程とからなる光触媒材料製造方法であって、 該卑金属担 持工程は、 原光触媒材料に卑金属化合物溶液を用いた浸漬または塗布等 の処理を施す溶液処理:!:程と、 該溶液処理工程で処理された光触媒材料 に紫外光を照射することによ り卑金属またはその化合物を原光触媒材料 の表面に還元析出させて担持する紫外線処理工程と、 を備えてなること を特徴とする、 光触媒材料製造^法。
1 1 . 卑金属またはその化合物が担持されていない光触媒材料を得る 原光触媒材料作製工程と、 得られた原光触媒材料の表面に卑金属または その化合物微粒子を担持するための卑金属担持工程とからなる光触媒材 料製造方法であって、 該卑金属担持工程は、 原光触媒材料に卑金属化合 物溶液を用いた浸漬または塗布等の処理を施す溶液処理工程と、 該溶液 処理工程で処理された光触媒材料を乾燥する乾燥工程と、 該乾燥工程で 処理された光觫媒材料を熱処理する熱処理工程と、 を備えてなるこ とを 特徴とする、 光触媒材料製造方法。
1 2 . 前記熱処理工程の後に、 前記光触媒材料表面に担持された酸化 状態の卑金属微粒子を還元するための還元工程を設けることを特徴とす る、 1 1 . に記載の光触媒材料製造方法。
1 3 . 卑金属またはその化合物が担持されていない光触媒材料を得る 原光触媒材料作製工程と、 得られた原光触媒材料の表面に卑金属または その化合物微粒子を担持するための卑金属担持工程とからなる光触媒材 料製造方法であって、 該卑金属担持工程は、 熱 C V D法、 プラズマ C V D法またはその他の化学的蒸着法によ り原光触媒材料の表面に卑金属ま たはその化合物微粒子を担持させる化学的蒸着工程であるこ とを特徴と する、 光触媒材料製造方法。
1 4 . 卑金属またはその化合物が担持されていない光触媒材料を得る 原光触媒材料作製工程と、 得られた原光触媒材料の表面に卑金属または その化合物微粒子を担持するための卑金属担持工程とからなる光触媒材 料製造方法であって、 該卑金属担持工程は、 卑金属化合物溶液を熱した 原光触媒材料表面に噴霧するこ と によって熱分解し、 これによ り卑金属 またはその化合物を原光触媒材料の表面に担持する噴霧熱分解工程であ るこ とを特徴とする、 光触媒材料製造方法。
1 5 . 卑金属またはその化合物が担持されていない光触媒材料を得る 原光触媒材料作製工程と、 得られた原光触媒材料の表面に卑金属または その化合物微粒子を担持するための卑金属担持工程とからなる光触媒材 料製造方法であって、 該卑金属担持工程は、 原光触媒材料に卑金属化合 物溶液を用いた浸漬または塗布等の処理を施す溶液処理工程と、 該溶液 処理工程で処理された光触媒材料に還元剤を加えることによ り卑金属ま たはその化合物を原光触媒材料の表面に析出させる還元剤添加工程を備 えてなることを特徴とする、 光触媒材料製造方法。
1 6 . 卑金属またはその化合物が担持されていない光触媒材料を得る 原光触媒材料作製工程と、 得られた原光触媒材料の表面に卑金属または その化合物微粒子を担持するための卑金属担持工程とからなる光触媒材 料製造方法であって、 該卑金属担持工程は、 スパッタ リ ング法、 真空蒸 着法、 またはその他の物理的蒸着法によ り原光触媒材料の表面に卑金属 またはその化合物微粒子を原光触媒材料の表面に担持させる物理的蒸着 工程であることを特徴とする、 光触媒材料製造方法。
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