JP2003093890A - 光触媒の調製方法 - Google Patents
光触媒の調製方法Info
- Publication number
- JP2003093890A JP2003093890A JP2001290564A JP2001290564A JP2003093890A JP 2003093890 A JP2003093890 A JP 2003093890A JP 2001290564 A JP2001290564 A JP 2001290564A JP 2001290564 A JP2001290564 A JP 2001290564A JP 2003093890 A JP2003093890 A JP 2003093890A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- composite oxide
- photocatalyst
- sol
- slurry
- preparing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 title claims abstract description 51
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 17
- 239000002002 slurry Substances 0.000 claims abstract description 40
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims abstract description 37
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims abstract description 24
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 16
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 6
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims abstract description 5
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 21
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 18
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 9
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 8
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 7
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 6
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- -1 titanium alkoxide Chemical class 0.000 claims description 6
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 claims description 5
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 abstract description 11
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 abstract description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 abstract description 2
- 239000011369 resultant mixture Substances 0.000 abstract 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 21
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 8
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 7
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 7
- 230000000843 anti-fungal effect Effects 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ONDPHDOFVYQSGI-UHFFFAOYSA-N zinc nitrate Chemical compound [Zn+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O ONDPHDOFVYQSGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 5
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 5
- 239000010944 silver (metal) Substances 0.000 description 5
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N Acetaldehyde Chemical compound CC=O IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940121375 antifungal agent Drugs 0.000 description 3
- XTVVROIMIGLXTD-UHFFFAOYSA-N copper(II) nitrate Chemical compound [Cu+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O XTVVROIMIGLXTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 3
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMJMHACKPJBWMC-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropan-1-olate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CC(C)C[O-].CC(C)C[O-].CC(C)C[O-].CC(C)C[O-] YMJMHACKPJBWMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GHDSNRQFECQVII-UHFFFAOYSA-N [Ti].OOO Chemical compound [Ti].OOO GHDSNRQFECQVII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052878 cordierite Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N dimagnesium dioxido-bis[(1-oxido-3-oxo-2,4,6,8,9-pentaoxa-1,3-disila-5,7-dialuminabicyclo[3.3.1]nonan-7-yl)oxy]silane Chemical compound [Mg++].[Mg++].[O-][Si]([O-])(O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2)O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2 JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XGZNHFPFJRZBBT-UHFFFAOYSA-N ethanol;titanium Chemical compound [Ti].CCO.CCO.CCO.CCO XGZNHFPFJRZBBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- DCKVFVYPWDKYDN-UHFFFAOYSA-L oxygen(2-);titanium(4+);sulfate Chemical compound [O-2].[Ti+4].[O-]S([O-])(=O)=O DCKVFVYPWDKYDN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 2
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N tetrapropan-2-yl silicate Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000349 titanium oxysulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000348 titanium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 2
- WRECIMRULFAWHA-UHFFFAOYSA-N trimethyl borate Chemical compound COB(OC)OC WRECIMRULFAWHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WVLBCYQITXONBZ-UHFFFAOYSA-N trimethyl phosphate Chemical compound COP(=O)(OC)OC WVLBCYQITXONBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910017518 Cu Zn Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017752 Cu-Zn Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017943 Cu—Zn Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- TVZPLCNGKSPOJA-UHFFFAOYSA-N copper zinc Chemical compound [Cu].[Zn] TVZPLCNGKSPOJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- ZEIWWVGGEOHESL-UHFFFAOYSA-N methanol;titanium Chemical compound [Ti].OC.OC.OC.OC ZEIWWVGGEOHESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 244000005700 microbiome Species 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 239000011238 particulate composite Substances 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- BSWGGJHLVUUXTL-UHFFFAOYSA-N silver zinc Chemical compound [Zn].[Ag] BSWGGJHLVUUXTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000011973 solid acid Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- LLZRNZOLAXHGLL-UHFFFAOYSA-J titanic acid Chemical compound O[Ti](O)(O)O LLZRNZOLAXHGLL-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- HDUMBHAAKGUHAR-UHFFFAOYSA-J titanium(4+);disulfate Chemical compound [Ti+4].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O HDUMBHAAKGUHAR-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Disinfection, Sterilisation Or Deodorisation Of Air (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 基材に光触媒を強固に付着させることがで
き、かつ高い光触媒活性を有することができる光触媒の
調製方法を提供する。 【解決手段】 チタンが存在する溶液と、ケイ素、アル
ミニウム、ニッケル、鉄、ジルコニウム、リン及びホウ
素からなる群から選ばれた少なくとも1種の元素が存在
する溶液とを混合し、これを温度40〜90℃の範囲で
加水分解することにより得られた複合酸化物スラリー
を、基材に担持させることを特徴とする。
き、かつ高い光触媒活性を有することができる光触媒の
調製方法を提供する。 【解決手段】 チタンが存在する溶液と、ケイ素、アル
ミニウム、ニッケル、鉄、ジルコニウム、リン及びホウ
素からなる群から選ばれた少なくとも1種の元素が存在
する溶液とを混合し、これを温度40〜90℃の範囲で
加水分解することにより得られた複合酸化物スラリー
を、基材に担持させることを特徴とする。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光触媒の調製方法
に関する。
に関する。
【0002】
【従来の技術】光触媒は、紫外線等の光の照射を受け
て、NOXや炭化水素等を酸化分解するとともに、微生
物等も分解する。そのため、このような光触媒の浄化作
用や抗菌作用等を利用した装置や製品等が開発されてき
ている。現在、光触媒として一般的に用いられているア
ナターゼ型のTiO2は、主に、粉末状として存在して
いる。しかしながら、TiO2の調整方法によって、得
られる光触媒の活性の性能が左右されるため、付着強度
を向上させても、高い光触媒活性が得られるとは限らな
いという問題があった。
て、NOXや炭化水素等を酸化分解するとともに、微生
物等も分解する。そのため、このような光触媒の浄化作
用や抗菌作用等を利用した装置や製品等が開発されてき
ている。現在、光触媒として一般的に用いられているア
ナターゼ型のTiO2は、主に、粉末状として存在して
いる。しかしながら、TiO2の調整方法によって、得
られる光触媒の活性の性能が左右されるため、付着強度
を向上させても、高い光触媒活性が得られるとは限らな
いという問題があった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の問題
点を鑑み、基材に光触媒を強固に付着させることがで
き、かつ高い光触媒活性を有することができる光触媒の
調製方法を提供することを目的とする。
点を鑑み、基材に光触媒を強固に付着させることがで
き、かつ高い光触媒活性を有することができる光触媒の
調製方法を提供することを目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明に係る光触媒の調
製方法は、チタンが存在する溶液と、ケイ素、アルミニ
ウム、ニッケル、鉄、ジルコニウム、リン及びホウ素か
らなる群から選ばれた少なくとも1種の元素が存在する
溶液とを混合し、これを温度40〜90℃の範囲で加水
分解することにより得られた複合酸化物スラリーを、基
材に担持させることを特徴とする。上記チタン又は各元
素が存在する溶液としては、アルコキシド、硫酸塩、硝
酸塩、塩化物又は水酸化物の溶液を用いることができ
る。また、上記スラリーを担持した基材は、さらに焼成
することもできる。このように、所定の温度で複合酸化
物系光触媒を調製することによって、高い比表面積で、
かつ多い固体酸点を示す微粒子状の複合酸化物スラリー
を得ることができるため、TiO2単独とするよりも高
い光触媒活性を有することができる。
製方法は、チタンが存在する溶液と、ケイ素、アルミニ
ウム、ニッケル、鉄、ジルコニウム、リン及びホウ素か
らなる群から選ばれた少なくとも1種の元素が存在する
溶液とを混合し、これを温度40〜90℃の範囲で加水
分解することにより得られた複合酸化物スラリーを、基
材に担持させることを特徴とする。上記チタン又は各元
素が存在する溶液としては、アルコキシド、硫酸塩、硝
酸塩、塩化物又は水酸化物の溶液を用いることができ
る。また、上記スラリーを担持した基材は、さらに焼成
することもできる。このように、所定の温度で複合酸化
物系光触媒を調製することによって、高い比表面積で、
かつ多い固体酸点を示す微粒子状の複合酸化物スラリー
を得ることができるため、TiO2単独とするよりも高
い光触媒活性を有することができる。
【0005】上記複合酸化物スラリーをさらに焼成し、
これによって得られた複合酸化物をシリカゾル、アルミ
ナゾル、ジルコニアゾル及びチタニアゾルからなる群か
ら選ばれた少なくとも一種以上のゾル系バインダー及び
水とともに粉砕混合し、これによって得られたTiO2
含有スラリーを、基材に担持させることもできる。この
ように、得られた複合酸化物を焼成して再びスラリー化
させることによって、基材へ均一に触媒をコート可能と
なり、かつ基材へ強固に付着することが可能となる。ま
た、安定したスラリーを基材に担持させることが可能に
なる。
これによって得られた複合酸化物をシリカゾル、アルミ
ナゾル、ジルコニアゾル及びチタニアゾルからなる群か
ら選ばれた少なくとも一種以上のゾル系バインダー及び
水とともに粉砕混合し、これによって得られたTiO2
含有スラリーを、基材に担持させることもできる。この
ように、得られた複合酸化物を焼成して再びスラリー化
させることによって、基材へ均一に触媒をコート可能と
なり、かつ基材へ強固に付着することが可能となる。ま
た、安定したスラリーを基材に担持させることが可能に
なる。
【0006】また、上記複合酸化物スラリーに酸溶液を
さらに添加し、これによって得られたTiO2含有スラ
リーを、基材に担持させることもできる。このように、
酸溶液を添加することによって、スラリー中の複合酸化
物を微粒子化することができる。
さらに添加し、これによって得られたTiO2含有スラ
リーを、基材に担持させることもできる。このように、
酸溶液を添加することによって、スラリー中の複合酸化
物を微粒子化することができる。
【0007】さらに、上記複合酸化物スラリーに、A
g、Cu、Znからなる群から選ばれた少なくとも1つ
以上の金属を含有する溶液を添加することもできる。こ
のように、光触媒にAg、Cu、Znの金属をさらに担
持させることにより、抗菌及び坑カビ作用を向上させる
ことができる。
g、Cu、Znからなる群から選ばれた少なくとも1つ
以上の金属を含有する溶液を添加することもできる。こ
のように、光触媒にAg、Cu、Znの金属をさらに担
持させることにより、抗菌及び坑カビ作用を向上させる
ことができる。
【0008】特に、上記複合酸化物スラリーを焼成して
得られた複合酸化物に、Ag、Cu、Znからなる群か
ら選ばれた少なくとも1つ以上の金属の硝酸塩を添加し
た後、乾燥、焼成し、これによって得られた触媒粉末を
シリカゾル、アルミナゾル、ジルコニアゾル及びチタニ
アゾルからなる群から選ばれた少なくとも一種以上のゾ
ル系バインダー及び水とともに粉砕混合させて、上記T
iO2含有スラリーを調製することもできる。これによ
り、Ag、Cu、Znを担持した触媒を基材へ均一に、
かつ強固にコートすることが可能となり、また、安定し
たスラリーを基材に担持させることが可能となる。
得られた複合酸化物に、Ag、Cu、Znからなる群か
ら選ばれた少なくとも1つ以上の金属の硝酸塩を添加し
た後、乾燥、焼成し、これによって得られた触媒粉末を
シリカゾル、アルミナゾル、ジルコニアゾル及びチタニ
アゾルからなる群から選ばれた少なくとも一種以上のゾ
ル系バインダー及び水とともに粉砕混合させて、上記T
iO2含有スラリーを調製することもできる。これによ
り、Ag、Cu、Znを担持した触媒を基材へ均一に、
かつ強固にコートすることが可能となり、また、安定し
たスラリーを基材に担持させることが可能となる。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、詳細に説明する。本発明は、先ず、チタンが存在す
る溶液と、チタン以外の元素が存在する溶液とを混合
し、これを所定の温度で加水分解して複合酸化物スラリ
ーを得る。チタンが存在する溶液としては、特に限定さ
れないが、チタンのアルコキシド溶液、チタンの硫酸塩
溶液又はチタンの水酸化物溶液を用いることが好まし
い。チタンのアルコキシドとしては、例えば、テトライ
ソプロポキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラメ
トキシチタン、テトライソブトキシチタンなどを用いる
ことができる。また、チタンの硫酸塩としては、硫酸第
二チタン、硫酸チタニルなどを用いることができる。ま
た、チタンの水酸化物としては、オキシ水酸化チタンな
どを用いることができる。
て、詳細に説明する。本発明は、先ず、チタンが存在す
る溶液と、チタン以外の元素が存在する溶液とを混合
し、これを所定の温度で加水分解して複合酸化物スラリ
ーを得る。チタンが存在する溶液としては、特に限定さ
れないが、チタンのアルコキシド溶液、チタンの硫酸塩
溶液又はチタンの水酸化物溶液を用いることが好まし
い。チタンのアルコキシドとしては、例えば、テトライ
ソプロポキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラメ
トキシチタン、テトライソブトキシチタンなどを用いる
ことができる。また、チタンの硫酸塩としては、硫酸第
二チタン、硫酸チタニルなどを用いることができる。ま
た、チタンの水酸化物としては、オキシ水酸化チタンな
どを用いることができる。
【0010】チタン以外の元素のアルコキシドとして
は、ケイ素、アルミニウム、ニッケル、鉄、ジルコニウ
ム、リン及びホウ素からなる群から選ばれた少なくとも
1種の元素が存在する溶液が用いられ、中でもケイ素、
ホウ素、ジルコニウム又はリンのアルコキシドが好まし
く、特に、ケイ素のアルコキシドが好ましい。アルコキ
シドは、特に限定されないが、メチル基、エチル基、プ
ロピル基又はブチル基等を有すものが好ましい。具体例
として、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラ
ン、テトライソプロポキシシラン、テトライソブトキシ
シラン、ジルコニウムテトライソブトキシド、リン酸ト
リメチル、トリメトキシボランなどを用いることができ
る。
は、ケイ素、アルミニウム、ニッケル、鉄、ジルコニウ
ム、リン及びホウ素からなる群から選ばれた少なくとも
1種の元素が存在する溶液が用いられ、中でもケイ素、
ホウ素、ジルコニウム又はリンのアルコキシドが好まし
く、特に、ケイ素のアルコキシドが好ましい。アルコキ
シドは、特に限定されないが、メチル基、エチル基、プ
ロピル基又はブチル基等を有すものが好ましい。具体例
として、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラ
ン、テトライソプロポキシシラン、テトライソブトキシ
シラン、ジルコニウムテトライソブトキシド、リン酸ト
リメチル、トリメトキシボランなどを用いることができ
る。
【0011】チタンとその他元素を混合するときの重量
比は、特に限定されないが、酸化チタン対上記元素の酸
化物の重量比は、約99〜30対約1〜70(合計10
0重量比)の範囲が好ましい。重量比が99%を超える
と、得られる複合酸化物は酸化チタン単独とほぼ同様な
特性になり、複合化した効果が薄れるため好ましくな
い。一方、30%未満だと、光触媒活性が低下する傾向
が現れるため好ましくない。約98〜50対約2〜50
の範囲、特に、約98〜80対約2〜20の範囲が光触
媒活性も高く、より好ましい。
比は、特に限定されないが、酸化チタン対上記元素の酸
化物の重量比は、約99〜30対約1〜70(合計10
0重量比)の範囲が好ましい。重量比が99%を超える
と、得られる複合酸化物は酸化チタン単独とほぼ同様な
特性になり、複合化した効果が薄れるため好ましくな
い。一方、30%未満だと、光触媒活性が低下する傾向
が現れるため好ましくない。約98〜50対約2〜50
の範囲、特に、約98〜80対約2〜20の範囲が光触
媒活性も高く、より好ましい。
【0012】加水分解は、温度約40〜90℃、好まし
くは約60〜90℃、さらに好ましくは約80〜90℃
の範囲であれば特に限定されないが、純水を用いること
が好ましい。温度が約40℃未満だと、均一な複合酸化
物が得られなく、比表面積が低下するため好ましくな
い。また、約90℃を超えると、アルコキシド溶液を加
えたときに沸騰するなど安定した加水分解を行えないた
め好ましくない。
くは約60〜90℃、さらに好ましくは約80〜90℃
の範囲であれば特に限定されないが、純水を用いること
が好ましい。温度が約40℃未満だと、均一な複合酸化
物が得られなく、比表面積が低下するため好ましくな
い。また、約90℃を超えると、アルコキシド溶液を加
えたときに沸騰するなど安定した加水分解を行えないた
め好ましくない。
【0013】本発明は、次に、得られた複合酸化物スラ
リーを、乾燥、焼成した後に粉砕し、再びスラリー化す
るか、また、その代わりに、得られた複合酸化物スラリ
ーに酸溶液を添加するかによって、TiO2含有スラリ
ーを得る。スラリーの乾燥は、特に限定されないが、4
0〜200℃の範囲が好ましく、特に100〜150℃
の範囲が好ましい。乾燥品の焼成は、特に限定されない
が、通常、約200〜600℃、好ましくは約300〜
500℃の温度範囲で、約1〜24時間、好ましくは約
3〜5時間の範囲で行うことができる。焼成温度が20
0℃以下だとTiO2は非晶質、600℃以上だとルチ
ル型となり、それぞれ目的とする光触媒性能を得られな
いため、アナターゼ型が得られる焼成温度範囲が好まし
い。粉砕は、複合酸化物を微粒子状に微細化できれば、
特に限定されないが、水、ゾル系バインダー、又は水と
ゾル系バインダーを加えて粉砕混合することが好まし
い。ゾル系バインダーとしては、シリカゾル、アルミナ
ゾル、ジルコニアゾル、チタニアゾル、又はこれらの組
み合わせを用いることができる。また、ミル等の粉砕機
を用いることができる。酸溶液としては、特に限定され
ないが、硝酸、硫酸、塩酸、酢酸などを用いることがで
きる。添加量は、特に限定されないが、複合酸化物の原
料の体積比で約1〜10倍が好ましい。
リーを、乾燥、焼成した後に粉砕し、再びスラリー化す
るか、また、その代わりに、得られた複合酸化物スラリ
ーに酸溶液を添加するかによって、TiO2含有スラリ
ーを得る。スラリーの乾燥は、特に限定されないが、4
0〜200℃の範囲が好ましく、特に100〜150℃
の範囲が好ましい。乾燥品の焼成は、特に限定されない
が、通常、約200〜600℃、好ましくは約300〜
500℃の温度範囲で、約1〜24時間、好ましくは約
3〜5時間の範囲で行うことができる。焼成温度が20
0℃以下だとTiO2は非晶質、600℃以上だとルチ
ル型となり、それぞれ目的とする光触媒性能を得られな
いため、アナターゼ型が得られる焼成温度範囲が好まし
い。粉砕は、複合酸化物を微粒子状に微細化できれば、
特に限定されないが、水、ゾル系バインダー、又は水と
ゾル系バインダーを加えて粉砕混合することが好まし
い。ゾル系バインダーとしては、シリカゾル、アルミナ
ゾル、ジルコニアゾル、チタニアゾル、又はこれらの組
み合わせを用いることができる。また、ミル等の粉砕機
を用いることができる。酸溶液としては、特に限定され
ないが、硝酸、硫酸、塩酸、酢酸などを用いることがで
きる。添加量は、特に限定されないが、複合酸化物の原
料の体積比で約1〜10倍が好ましい。
【0014】ここで、得られた複合酸化物スラリーに
は、Ag、Cu、Zn又はこれら金属の組み合わせを含
有する溶液を添加することもできる。添加量は、Ti含
有複合酸化物に対して重量比で約0.05%以上が好ま
しく、特に、約0.1〜5%が好ましい。また、これら
金属は、硝酸塩水溶液として添加することが好ましい。
このように、Ag、Cu又はZnを添加することによ
り、抗菌及び坑カビの効果を向上させることができる。
は、Ag、Cu、Zn又はこれら金属の組み合わせを含
有する溶液を添加することもできる。添加量は、Ti含
有複合酸化物に対して重量比で約0.05%以上が好ま
しく、特に、約0.1〜5%が好ましい。また、これら
金属は、硝酸塩水溶液として添加することが好ましい。
このように、Ag、Cu又はZnを添加することによ
り、抗菌及び坑カビの効果を向上させることができる。
【0015】本発明は、最後に、TiO2含有スラリー
を基材に担持させて、これを焼成することにより、光触
媒担持物を得ることができる。基材は、特に限定されな
いが、セラミックス、ガラス、ステンレス又は樹脂など
を用いることができ、これらの表面には、光触媒の膜を
強固に付着させることができる。また、ガス中の悪臭成
分を除去する場合にはガス接触面積の広い球状又はハニ
カム構造の基材を用いることが好ましい。
を基材に担持させて、これを焼成することにより、光触
媒担持物を得ることができる。基材は、特に限定されな
いが、セラミックス、ガラス、ステンレス又は樹脂など
を用いることができ、これらの表面には、光触媒の膜を
強固に付着させることができる。また、ガス中の悪臭成
分を除去する場合にはガス接触面積の広い球状又はハニ
カム構造の基材を用いることが好ましい。
【0016】スラリーを基材に担持させる方法として
は、特に限定されないが、ウォッシュコート法、ディッ
ピングコート法又はスピンコート法などを用いることが
できる。このとき、スラリーのコート量は、特に限定さ
れないが、基材の表面積当たりの複合酸化物換算の重量
で表し、約1〜100g/m2の範囲が好ましい。コー
ト量が約1g/m2未満だと光触媒の膜厚が薄すぎて、
光触媒活性を十分に発揮できないおそれがある。一方、
約100g/m2を超えると膜厚が厚くなりすぎて、光
触媒の膜が剥離するおそれがある。光触媒担持基板の焼
成は、特に限定されないが、通常、約200〜600
℃、好ましくは約300〜500℃の温度範囲で、約1
〜10時間、好ましくは約3〜5時間の範囲で行うこと
ができる。
は、特に限定されないが、ウォッシュコート法、ディッ
ピングコート法又はスピンコート法などを用いることが
できる。このとき、スラリーのコート量は、特に限定さ
れないが、基材の表面積当たりの複合酸化物換算の重量
で表し、約1〜100g/m2の範囲が好ましい。コー
ト量が約1g/m2未満だと光触媒の膜厚が薄すぎて、
光触媒活性を十分に発揮できないおそれがある。一方、
約100g/m2を超えると膜厚が厚くなりすぎて、光
触媒の膜が剥離するおそれがある。光触媒担持基板の焼
成は、特に限定されないが、通常、約200〜600
℃、好ましくは約300〜500℃の温度範囲で、約1
〜10時間、好ましくは約3〜5時間の範囲で行うこと
ができる。
【0017】上記してきたように、チタンを複合酸化物
系の光触媒として調製することにより、光触媒の膜が基
材に強固に付着するとともに、高い光触媒活性を有する
光触媒担持物を得ることができる。このような光触媒担
持物は、例えば、エアコンの室内機又は室外機中に用い
ることで、悪臭成分等を浄化させることができる。ま
た、排水処理装置や焼却炉などにも用いることができ、
悪臭成分の他、NOxや炭化水素等の浄化、さらには抗
菌、防カビ作用も機能させることができる。
系の光触媒として調製することにより、光触媒の膜が基
材に強固に付着するとともに、高い光触媒活性を有する
光触媒担持物を得ることができる。このような光触媒担
持物は、例えば、エアコンの室内機又は室外機中に用い
ることで、悪臭成分等を浄化させることができる。ま
た、排水処理装置や焼却炉などにも用いることができ、
悪臭成分の他、NOxや炭化水素等の浄化、さらには抗
菌、防カビ作用も機能させることができる。
【0018】
【実施例】以下、本発明の実施例及び比較例について説
明する。実施例1 先ず、1125.8gのテトライソプロポキシチタン
(Ti(Oi−C3H7) 4)と57.6gのテトラエト
キシシラン(Si(OC2H5)4)を室温で10分攪拌
して、TiO2/SiO2=95/5重量比の混合液を得
た。そして、この混合液を80〜90℃の水15Lに添
加した後、その温度で2h攪拌、熟成して、TiO2−
SiO2前駆体スラリーを得た。これを遠心分離器にて
洗浄、濾過後、乾燥、焼成(500℃×5h、昇温速
度:100℃/h)することによって、TiO2−Si
O2複合酸化物を得た。
明する。実施例1 先ず、1125.8gのテトライソプロポキシチタン
(Ti(Oi−C3H7) 4)と57.6gのテトラエト
キシシラン(Si(OC2H5)4)を室温で10分攪拌
して、TiO2/SiO2=95/5重量比の混合液を得
た。そして、この混合液を80〜90℃の水15Lに添
加した後、その温度で2h攪拌、熟成して、TiO2−
SiO2前駆体スラリーを得た。これを遠心分離器にて
洗浄、濾過後、乾燥、焼成(500℃×5h、昇温速
度:100℃/h)することによって、TiO2−Si
O2複合酸化物を得た。
【0019】次に、TiO2−SiO2複合酸化物100
gと、シリカゾル(20wt%SiO2含有品)50g
と、水400gを湿式ボールミルにて粉砕混合し、これ
により得られたTiO2−SiO2スラリー(TiO2含
有スラリー1)をコージェライト製ハニカム基材(1.
8mmp、0.3mmt)にウォッシュコートで担持さ
せた。このときのコート量は、基材の単位面積(m2)
当たり100gのTiO2−SiO2複合酸化物とした。
最後に、このコートした触媒を500℃×5h(昇温速
度:100℃/h)の焼成を施してコート型光触媒を得
た。これを実施例1とした。
gと、シリカゾル(20wt%SiO2含有品)50g
と、水400gを湿式ボールミルにて粉砕混合し、これ
により得られたTiO2−SiO2スラリー(TiO2含
有スラリー1)をコージェライト製ハニカム基材(1.
8mmp、0.3mmt)にウォッシュコートで担持さ
せた。このときのコート量は、基材の単位面積(m2)
当たり100gのTiO2−SiO2複合酸化物とした。
最後に、このコートした触媒を500℃×5h(昇温速
度:100℃/h)の焼成を施してコート型光触媒を得
た。これを実施例1とした。
【0020】実施例2
実施例1にて、混合液を80℃〜90℃の水に添加して
2h攪拌、熟成させた後、室温まで放冷後、20mlの
濃硝酸を添加して12h攪拌、熟成させたTiO2含有
スラリー2を用いること以外は、実施例1と同様にし
て、コート型光触媒を得た。これを実施例2とした。
2h攪拌、熟成させた後、室温まで放冷後、20mlの
濃硝酸を添加して12h攪拌、熟成させたTiO2含有
スラリー2を用いること以外は、実施例1と同様にし
て、コート型光触媒を得た。これを実施例2とした。
【0021】実施例3〜12
実施例1及び2のコート型基材の調製において、コージ
ェライト基材の代わりにガラス、SUS304、SUS
310、PE及びPP製の基材を用いること以外は、実
施例1及び2と同様にして、コート型光触媒を得た。こ
れらを実施例3〜12とした。なお、PE及びPP製の
基材を用いた際は、基材に光触媒をウォッシュコートと
した後の焼成工程は除いた。
ェライト基材の代わりにガラス、SUS304、SUS
310、PE及びPP製の基材を用いること以外は、実
施例1及び2と同様にして、コート型光触媒を得た。こ
れらを実施例3〜12とした。なお、PE及びPP製の
基材を用いた際は、基材に光触媒をウォッシュコートと
した後の焼成工程は除いた。
【0022】実施例13〜22
実施例1及び2にて、テトラエトキシシラン(Si(O
C2H5)4)の代わりに、テトラメトキシシラン(Si
(OCH3)4)、テトライソプロポキシシラン(Si
(Oi−C3H7)4)、リン酸トリメチル(PO(OC
H3)3)、トリメトキシボラン(B(OCH3)3)、ジ
ルコニウムテトライソブトキシド(Zr(Oi−C
4H9)4)をそれぞれ用いて得たTiO2含有スラリー3
〜12を用いること以外は、実施例1及び2と同様にし
て、コート型光触媒を得た。これらを実施例13〜22
とした。
C2H5)4)の代わりに、テトラメトキシシラン(Si
(OCH3)4)、テトライソプロポキシシラン(Si
(Oi−C3H7)4)、リン酸トリメチル(PO(OC
H3)3)、トリメトキシボラン(B(OCH3)3)、ジ
ルコニウムテトライソブトキシド(Zr(Oi−C
4H9)4)をそれぞれ用いて得たTiO2含有スラリー3
〜12を用いること以外は、実施例1及び2と同様にし
て、コート型光触媒を得た。これらを実施例13〜22
とした。
【0023】実施例23〜32
実施例1及び2において、TiO2/SiO2の重量比を
90/10、80/20、70/30、60/40及び
50/50に代えたこと以外は、実施例1及び2と同様
にして、コート型光触媒を得た。これらを実施例23〜
32とした。
90/10、80/20、70/30、60/40及び
50/50に代えたこと以外は、実施例1及び2と同様
にして、コート型光触媒を得た。これらを実施例23〜
32とした。
【0024】実施例33〜44
実施例1及び2において、TiO2−SiO2複合酸化物
のコート量を1、2、3、5、10、50g/m2に代
えること以外は、実施例1及び2と同様にして、コート
型光触媒を得た。これらを実施例33〜44とした。
のコート量を1、2、3、5、10、50g/m2に代
えること以外は、実施例1及び2と同様にして、コート
型光触媒を得た。これらを実施例33〜44とした。
【0025】実施例45〜48
実施例1及び2において、各々の焼成温度を300℃、
400℃に代えたこと以外は、実施例1及び2と同様に
して、コート型光触媒を得た。これらを実施例45〜4
8とした。
400℃に代えたこと以外は、実施例1及び2と同様に
して、コート型光触媒を得た。これらを実施例45〜4
8とした。
【0026】実施例49〜58
実施例1及び2にて、テトライソプロポキシチタン(T
i(Oi−C3H7)4)の代わりに、テトラエトキシチ
タン(Ti(OC2H5)4)、テトライソブトキシチタ
ン(Ti(Oi−C4H9)4)、硫酸チタニル(TiO
SO4)、硫酸第二チタン(Ti(SO4)2)、オキシ
水酸化チタン(TiO(OH)2)を用いて得たTiO2
含有スラリー13〜22を用いること以外は、実施例1
及び2と同様にして、コート型光触媒を得た。これらを
実施例49〜58とした。
i(Oi−C3H7)4)の代わりに、テトラエトキシチ
タン(Ti(OC2H5)4)、テトライソブトキシチタ
ン(Ti(Oi−C4H9)4)、硫酸チタニル(TiO
SO4)、硫酸第二チタン(Ti(SO4)2)、オキシ
水酸化チタン(TiO(OH)2)を用いて得たTiO2
含有スラリー13〜22を用いること以外は、実施例1
及び2と同様にして、コート型光触媒を得た。これらを
実施例49〜58とした。
【0027】比較例1、2
実施例1及び2のコート型光触媒の調製にて、混合液を
室温の水に添加すること以外は、実施例1及び2と同様
にして、コート型光触媒を得た。これらを比較例1及び
2とした。
室温の水に添加すること以外は、実施例1及び2と同様
にして、コート型光触媒を得た。これらを比較例1及び
2とした。
【0028】活性評価試験
実施例1〜58及び比較例1、2の光触媒を、反応管内
で表1に示す活性評価条件にてガスと接触させ、反応管
の出口における二酸化炭素の濃度を調べることによっ
て、アセトアルデヒドの分解活性を評価した。その結果
を表2〜4に示す。実施例1〜58の光触媒は、いずれ
も比較例1、2より高い分解活性を示した。実施例1〜
58に示すように、常温より高い温度で加水分解するこ
とで、強い固体酸性を示し、かつ高い比表面積である微
粒子状の複合酸化物スラリーを得られることが確認でき
た。また、複合酸化物スラリーを、焼成して再びスラリ
ー化してから担持させても、酸溶液を添加してから担持
させても、同程度の分解活性であることも確認できた。
で表1に示す活性評価条件にてガスと接触させ、反応管
の出口における二酸化炭素の濃度を調べることによっ
て、アセトアルデヒドの分解活性を評価した。その結果
を表2〜4に示す。実施例1〜58の光触媒は、いずれ
も比較例1、2より高い分解活性を示した。実施例1〜
58に示すように、常温より高い温度で加水分解するこ
とで、強い固体酸性を示し、かつ高い比表面積である微
粒子状の複合酸化物スラリーを得られることが確認でき
た。また、複合酸化物スラリーを、焼成して再びスラリ
ー化してから担持させても、酸溶液を添加してから担持
させても、同程度の分解活性であることも確認できた。
【0029】
【表1】
【0030】
【表2】
【0031】
【表3】
【0032】
【表4】
【0033】実施例59
実施例1にて、焼成して得られたTiO2−SiO2複合
酸化物に硝酸銀水溶液を添加後、蒸発乾固して水分を除
去後、乾燥、焼成(500℃×5h、昇温速度100℃
/h)して得られた5%Ag/TiO2−SiO2触媒粉
末を使用すること以外は、実施例1と同様にしてコート
型光触媒を得た。これを実施例59とした。
酸化物に硝酸銀水溶液を添加後、蒸発乾固して水分を除
去後、乾燥、焼成(500℃×5h、昇温速度100℃
/h)して得られた5%Ag/TiO2−SiO2触媒粉
末を使用すること以外は、実施例1と同様にしてコート
型光触媒を得た。これを実施例59とした。
【0034】実施例60及び61
実施例59にて、Agの担持量を0.1%、1%に振り
分けたこと以外は実施例59と同様にしてコート型光触
媒を得た。これらを実施例60、61とした。
分けたこと以外は実施例59と同様にしてコート型光触
媒を得た。これらを実施例60、61とした。
【0035】実施例62及び63
実施例59にて、硝酸銀の代わりに硝酸銅又は硝酸亜鉛
を用いてTiO2−SiO2複合酸化物に対して5%Cu
又は5%Znを担持させたこと以外は、実施例59と同
様にしてコート型光触媒を得た。これらを実施例62、
63とした。
を用いてTiO2−SiO2複合酸化物に対して5%Cu
又は5%Znを担持させたこと以外は、実施例59と同
様にしてコート型光触媒を得た。これらを実施例62、
63とした。
【0036】実施例64〜67
実施例62及び63にて、硝酸銅又は硝酸亜鉛の担持量
を0.1%、1%に振り分けたこと以外は、実施例62
及び63と同様にしてコート型光触媒を得た。これらを
実施例64〜67とした。
を0.1%、1%に振り分けたこと以外は、実施例62
及び63と同様にしてコート型光触媒を得た。これらを
実施例64〜67とした。
【0037】実施例68〜70
実施例59にて、硝酸銀及び硝酸銅及び硝酸亜鉛のグル
ープから少なくととも2種類の硝酸塩を選択して、Ti
O2−SiO2複合酸化物に対して各金属5%のAg−C
u、Ag−Zn、Cu−Znを担持させたこと以外は、
実施例59と同様にしてコート型光触媒を得た。これら
を実施例68〜70とした。
ープから少なくととも2種類の硝酸塩を選択して、Ti
O2−SiO2複合酸化物に対して各金属5%のAg−C
u、Ag−Zn、Cu−Znを担持させたこと以外は、
実施例59と同様にしてコート型光触媒を得た。これら
を実施例68〜70とした。
【0038】実施例71〜76
実施例68〜70にて、各金属の担持量を0.1%、1
%に振り分けたこと以外は、実施例68〜70と同様に
してコート型光触媒を得た。これらを実施例71〜76
とした。
%に振り分けたこと以外は、実施例68〜70と同様に
してコート型光触媒を得た。これらを実施例71〜76
とした。
【0039】抗菌及び坑カビ評価試験
実施例59〜76及び比較例1、2の光触媒を、表5及
び表6に示す条件にて、抗菌及び坑カビ評価を実施し
た。その結果を表7に示す。また、上記の表2に示すア
セトアルデヒド分解活性も同時に評価し、その結果も表
7に示した。表7に示すように、実施例59〜76の光
触媒は、比較例1、2よりも抗菌、坑カビ効果が格段に
優れていることが分かる。また、実施例59〜76は、
比較例1、2の光触媒よりも分解活性が高いことが分か
る。
び表6に示す条件にて、抗菌及び坑カビ評価を実施し
た。その結果を表7に示す。また、上記の表2に示すア
セトアルデヒド分解活性も同時に評価し、その結果も表
7に示した。表7に示すように、実施例59〜76の光
触媒は、比較例1、2よりも抗菌、坑カビ効果が格段に
優れていることが分かる。また、実施例59〜76は、
比較例1、2の光触媒よりも分解活性が高いことが分か
る。
【0040】
【表5】
【0041】
【表6】
【0042】
【表7】
【0043】
【発明の効果】上記してきたように、本発明によれば、
基材に光触媒を強固に付着させることができ、かつ高い
光触媒活性を有することができる光触媒の調製方法を提
供することができる。
基材に光触媒を強固に付着させることができ、かつ高い
光触媒活性を有することができる光触媒の調製方法を提
供することができる。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考)
B01J 27/18 B01J 27/18 M
// A61L 9/00 A61L 9/00 C
9/20 9/20
Fターム(参考) 4C080 AA07 AA10 BB02 CC02 CC07
HH05 JJ04 KK08 LL03 MM02
NN01 QQ03
4G069 BA02A BA02B BA04A BA04B
BA05A BA05B BA48A BB06A
BB06B BC31A BC31B BC32A
BC32B BC35A BC35B BD03A
BD03B CA01 CA10 CA11
CA13 DA06 EA08 EA19 FB04
FB06 FB09 FB23
Claims (7)
- 【請求項1】 チタンが存在する溶液と、ケイ素、アル
ミニウム、ニッケル、鉄、ジルコニウム、リン及びホウ
素からなる群から選ばれた少なくとも1種の元素が存在
する溶液とを混合し、これを温度40〜90℃の範囲で
加水分解することにより得られた複合酸化物スラリー
を、基材に担持させることを特徴とする光触媒の調製方
法。 - 【請求項2】 上記チタンが存在する溶液は、チタンの
アルコキシド、硫酸塩、硝酸塩、塩化物又は水酸化物の
溶液であることを特徴とする請求項1記載の光触媒の調
整方法。 - 【請求項3】 上記複合酸化物スラリーをさらに焼成
し、これによって得られた複合酸化物をシリカゾル、ア
ルミナゾル、ジルコニアゾル及びチタニアゾルからなる
群から選ばれた少なくとも一種以上のゾル系バインダー
及び水とともに粉砕混合し、これによって得られたTi
O2含有スラリーを、基材に担持させることを特徴とす
る請求項1又は2記載の光触媒の調整方法。 - 【請求項4】 上記複合酸化物スラリーに酸溶液をさら
に添加し、これによって得られたTiO2含有スラリー
を、基材に担持させることを特徴とする請求項1又は2
記載の光触媒の調製方法。 - 【請求項5】 上記複合酸化物スラリーに、Ag、C
u、Znからなる群から選ばれた少なくとも1つの金属
を含有する溶液を添加することを特徴とする請求項1又
は2記載の光触媒の調製方法。 - 【請求項6】 上記複合酸化物を、Ag、Cu、Znか
らなる群から選ばれた少なくとも1つの金属の硝酸塩を
添加し、焼成した後、シリカゾル、アルミナゾル、ジル
コニアゾル及びチタニアゾルから選ばれる少なくとも一
種以上のゾル系バインダー及び水とともに粉砕混合する
ことを特徴とする請求項3記載の光触媒の調製方法。 - 【請求項7】 上記スラリーを担持した基材を、さらに
焼成することを特徴とする請求項1〜6のいずれか1つ
に記載の光触媒の調製方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001290564A JP2003093890A (ja) | 2001-09-25 | 2001-09-25 | 光触媒の調製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001290564A JP2003093890A (ja) | 2001-09-25 | 2001-09-25 | 光触媒の調製方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003093890A true JP2003093890A (ja) | 2003-04-02 |
Family
ID=19112857
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001290564A Pending JP2003093890A (ja) | 2001-09-25 | 2001-09-25 | 光触媒の調製方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003093890A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004026471A1 (ja) * | 2002-09-20 | 2004-04-01 | Andes Electric Co.,Ltd. | 光触媒材料とその製造方法 |
JP2009270040A (ja) * | 2008-05-09 | 2009-11-19 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 非晶質のZr−O系粒子を分散質とするゾル、その製造方法、このゾルをバインダーとする光触媒体コーティング液、およびその光触媒体コーティング液を塗布した光触媒機能製品の製造方法 |
CN103627174A (zh) * | 2013-09-06 | 2014-03-12 | 杭州师范大学 | 一种尺寸可控的银钛纳米颗粒复合材料的制备方法与应用 |
KR101400633B1 (ko) | 2011-09-26 | 2014-05-30 | 금오공과대학교 산학협력단 | 가시광선 감응형 지르코늄 및 실리카 포함 이산화티탄 광촉매 및 그 제조방법 |
KR101502035B1 (ko) | 2014-11-20 | 2015-03-18 | 주식회사 티이애플리케이션 | 수성 세라믹 도료조성물 |
JP2016198704A (ja) * | 2015-04-08 | 2016-12-01 | 株式会社豊田中央研究所 | 触媒 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07303835A (ja) * | 1994-02-07 | 1995-11-21 | Ishihara Sangyo Kaisha Ltd | 光触媒用酸化チタンおよびその製造方法 |
JPH08257399A (ja) * | 1995-03-27 | 1996-10-08 | Chubu Electric Power Co Inc | チタニア系触媒の製造方法 |
JPH09299809A (ja) * | 1996-05-09 | 1997-11-25 | Ishihara Sangyo Kaisha Ltd | 有害物質除去剤およびその製造方法並びにそれを用いた有害物質除去方法 |
JPH10137593A (ja) * | 1996-11-13 | 1998-05-26 | Teika Corp | 高光触媒活性アナタース形微粒子酸化チタンおよびその製造方法 |
JPH1176836A (ja) * | 1997-07-10 | 1999-03-23 | Nok Corp | 複合酸化物薄膜およびその製造法 |
JPH11290696A (ja) * | 1998-04-07 | 1999-10-26 | Sumitomo Chem Co Ltd | 光触媒基材 |
JPH11343426A (ja) * | 1998-06-02 | 1999-12-14 | Toray Ind Inc | 光触媒塗料 |
JP2000051708A (ja) * | 1998-08-10 | 2000-02-22 | Showa Alum Corp | 光触媒皮膜およびその形成方法 |
JP2000153151A (ja) * | 1998-09-18 | 2000-06-06 | Furukawa Co Ltd | 酸化チタン系光触媒微粒子及びその製造方法 |
-
2001
- 2001-09-25 JP JP2001290564A patent/JP2003093890A/ja active Pending
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07303835A (ja) * | 1994-02-07 | 1995-11-21 | Ishihara Sangyo Kaisha Ltd | 光触媒用酸化チタンおよびその製造方法 |
JPH08257399A (ja) * | 1995-03-27 | 1996-10-08 | Chubu Electric Power Co Inc | チタニア系触媒の製造方法 |
JPH09299809A (ja) * | 1996-05-09 | 1997-11-25 | Ishihara Sangyo Kaisha Ltd | 有害物質除去剤およびその製造方法並びにそれを用いた有害物質除去方法 |
JPH10137593A (ja) * | 1996-11-13 | 1998-05-26 | Teika Corp | 高光触媒活性アナタース形微粒子酸化チタンおよびその製造方法 |
JPH1176836A (ja) * | 1997-07-10 | 1999-03-23 | Nok Corp | 複合酸化物薄膜およびその製造法 |
JPH11290696A (ja) * | 1998-04-07 | 1999-10-26 | Sumitomo Chem Co Ltd | 光触媒基材 |
JPH11343426A (ja) * | 1998-06-02 | 1999-12-14 | Toray Ind Inc | 光触媒塗料 |
JP2000051708A (ja) * | 1998-08-10 | 2000-02-22 | Showa Alum Corp | 光触媒皮膜およびその形成方法 |
JP2000153151A (ja) * | 1998-09-18 | 2000-06-06 | Furukawa Co Ltd | 酸化チタン系光触媒微粒子及びその製造方法 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004026471A1 (ja) * | 2002-09-20 | 2004-04-01 | Andes Electric Co.,Ltd. | 光触媒材料とその製造方法 |
JP2009270040A (ja) * | 2008-05-09 | 2009-11-19 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 非晶質のZr−O系粒子を分散質とするゾル、その製造方法、このゾルをバインダーとする光触媒体コーティング液、およびその光触媒体コーティング液を塗布した光触媒機能製品の製造方法 |
KR101400633B1 (ko) | 2011-09-26 | 2014-05-30 | 금오공과대학교 산학협력단 | 가시광선 감응형 지르코늄 및 실리카 포함 이산화티탄 광촉매 및 그 제조방법 |
CN103627174A (zh) * | 2013-09-06 | 2014-03-12 | 杭州师范大学 | 一种尺寸可控的银钛纳米颗粒复合材料的制备方法与应用 |
CN103627174B (zh) * | 2013-09-06 | 2015-10-28 | 杭州师范大学 | 一种尺寸可控的银钛纳米颗粒复合材料的制备方法与应用 |
KR101502035B1 (ko) | 2014-11-20 | 2015-03-18 | 주식회사 티이애플리케이션 | 수성 세라믹 도료조성물 |
JP2016198704A (ja) * | 2015-04-08 | 2016-12-01 | 株式会社豊田中央研究所 | 触媒 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5512934B2 (ja) | 非晶質のZr−O系粒子を分散質とするゾル、その製造方法、このゾルをバインダーとする光触媒体コーティング液、およびその光触媒体コーティング液を塗布した光触媒機能製品の製造方法 | |
US7803972B2 (en) | Shell catalyst, in particular for oxidation of methanol to formaldehyde, and also method for production thereof | |
JP4335446B2 (ja) | 酸化チタンゾル、薄膜およびそれらの製造法 | |
JP3559892B2 (ja) | 光触媒皮膜およびその形成方法 | |
JP3524342B2 (ja) | 薄膜形成用二酸化チタンゾル及び薄膜 | |
CN101340975B (zh) | 特别用于将甲醇氧化成甲醛的壳型催化剂及其制备方法 | |
JP5157561B2 (ja) | 可視光応答型光触媒とその製造方法 | |
JP5597532B2 (ja) | 親水性部材とそれを用いた親水性製品 | |
WO2009116181A1 (ja) | 可視光応答型光触媒とその製造方法 | |
JP5711744B2 (ja) | 光触媒層を備えた無機材料およびその製造方法、並びに無機材料用光触媒コーティング液 | |
JPH08164334A (ja) | 光触媒用酸化チタン塗膜形成性組成物及びその製法 | |
EP2133311B1 (en) | Zirconium oxalate sol | |
JP2002540913A (ja) | 触媒的な酸化および脱臭の効果を有するシランベースのコーティング材料 | |
WO2001023483A1 (en) | Photocatalytic coating composition and product having thin photocatalytic film | |
JP2003093890A (ja) | 光触媒の調製方法 | |
CN114641598A (zh) | 具有光催化涂层的陶瓷粒料及其制备方法 | |
JP3791067B2 (ja) | 光触媒組成物およびガラス物品 | |
JPH05261284A (ja) | 水処理用触媒及びその製造方法 | |
US6803023B1 (en) | Composite structure for deodorization or wastewater treatment | |
JP2010270094A (ja) | 蓚酸ジルコニウムゾル | |
JPH10235191A (ja) | 有機ハロゲン化合物除去用触媒、その調製方法および有機ハロゲン化合物の除去方法 | |
JP2000254518A (ja) | 表面被覆用光触媒並びにこれを用いた表面被覆剤及び光触媒性部材 | |
JP2005022897A (ja) | 異元素含有シリカゲル | |
JPH11157966A (ja) | 光触媒機能を有する陶磁器及びその製造方法 | |
JP2001029795A (ja) | 光触媒用酸化チタン塗膜形成性組成物及びその製法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080808 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100708 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100716 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20110301 |