JP2001029795A - 光触媒用酸化チタン塗膜形成性組成物及びその製法 - Google Patents
光触媒用酸化チタン塗膜形成性組成物及びその製法Info
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- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 119
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 105
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 62
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 41
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 40
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 6
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 title 1
- -1 alkyl silicate Chemical compound 0.000 claims abstract description 44
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 claims abstract description 29
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 25
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims abstract description 24
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 21
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 20
- 239000004135 Bone phosphate Substances 0.000 claims abstract description 17
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims abstract description 14
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims abstract description 14
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 11
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 239000011707 mineral Substances 0.000 claims abstract description 9
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 claims abstract description 8
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 6
- 238000012643 polycondensation polymerization Methods 0.000 claims abstract description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 23
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 16
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 14
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 13
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 claims description 7
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 6
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 claims description 4
- 239000000443 aerosol Substances 0.000 claims description 3
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000007865 diluting Methods 0.000 claims description 3
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 claims description 2
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 claims description 2
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 claims description 2
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 claims description 2
- 239000003380 propellant Substances 0.000 claims description 2
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 abstract 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 abstract 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 abstract 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 28
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 13
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 description 8
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 7
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 7
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 7
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 7
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002585 base Substances 0.000 description 6
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 5
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 5
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 4
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004568 cement Substances 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 description 3
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000010440 gypsum Substances 0.000 description 3
- 229910052602 gypsum Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 3
- 230000033116 oxidation-reduction process Effects 0.000 description 3
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 3
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 3
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003957 anion exchange resin Substances 0.000 description 2
- 229920001429 chelating resin Polymers 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 2
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 2
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 244000005700 microbiome Species 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);titanium(4+) Chemical class [O-2].[O-2].[Ti+4] SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DCKVFVYPWDKYDN-UHFFFAOYSA-L oxygen(2-);titanium(4+);sulfate Chemical compound [O-2].[Ti+4].[O-]S([O-])(=O)=O DCKVFVYPWDKYDN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 2
- LLZRNZOLAXHGLL-UHFFFAOYSA-J titanic acid Chemical compound O[Ti](O)(O)O LLZRNZOLAXHGLL-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910000348 titanium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 2
- BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M (3-methylphenyl)methyl-triphenylphosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC1=CC=CC(C[P+](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100340530 Homo sapiens MTIF3 gene Proteins 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100039649 Translation initiation factor IF-3, mitochondrial Human genes 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical class [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H aluminium sulfate (anhydrous) Chemical compound [Al+3].[Al+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N aluminum;sodium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Na+].[Al+3] ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce] ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 239000013068 control sample Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000011033 desalting Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 239000012470 diluted sample Substances 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 235000013305 food Nutrition 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBOQXIRUPVQLKX-UHFFFAOYSA-N linoleic acid triglyceride Natural products CCCCCC=CCC=CCCCCCCCC(=O)OCC(OC(=O)CCCCCCCC=CCC=CCCCCC)COC(=O)CCCCCCCC=CCC=CCCCCC HBOQXIRUPVQLKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001935 peptisation Methods 0.000 description 1
- 238000007539 photo-oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052573 porcelain Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- XJKVPKYVPCWHFO-UHFFFAOYSA-N silicon;hydrate Chemical compound O.[Si] XJKVPKYVPCWHFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910001388 sodium aluminate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L sulfate group Chemical group S(=O)(=O)([O-])[O-] QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N tetrapropan-2-yl silicate Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229910000349 titanium oxysulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- NLLZTRMHNHVXJJ-UHFFFAOYSA-J titanium tetraiodide Chemical compound I[Ti](I)(I)I NLLZTRMHNHVXJJ-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
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- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
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Abstract
能、親水化現象を示す酸化チタンの微細ゾルとシリケー
ト加水分解物との中性ゾルを提供する。 【解決手段】 中性域のpHで安定な酸化チタンゾル
と、アルキルシリケートを三塩基鉱酸または二塩基もし
くは三塩基の有機酸存在下で縮重合して得られるpH
2.2〜6.5の加水分解物及び溶媒を含む組成物であ
って、該組成物に含まれるチタン及びケイ素(分散安定
剤としてのケイ素分を含む)の重量比が夫々TiO2 及
びSiO2 への換算値で15〜85:85〜15(合計
100)であり、該組成物のpHが4.5〜7.5であ
り、総固形分濃度が20重量%以下である酸化チタン塗
膜形成性組成物。
Description
使用される酸化チタン含有塗膜を形成できる組成物及び
該組成物の製法に関し、また、当該組成物をガラス、ス
テンレスやアルミニウムその他の金属、セメント、壁も
しくは壁紙、石膏ボード、石材、焼物等を含むセラミッ
ク製品または各種のプラスチック製品の表面に適用して
これら基材に酸化チタン含有被膜を形成する方法に関す
る。
り、そのバンドギャップ以上のエネルギーを持つ光、例
えば、390nm以下の紫外線で照射されると伝導帯に
は電子が集積し、価電子帯には正孔(ホール)が生じ
る。この集積電子及び正孔に基づく酸化還元作用により
大気中の有機物を分解し、殺菌効果を示すという光触媒
活性が知られており、この活性作用を工業的に利用する
試みが種々行われている。
のほか、一般に超親水化現象と言われる効果を持つこと
が見出され、この特性を利用したセルフクリーニング性
をもつ商品開発が活発に行われるようになった。
法としては、種々検討されているがその一つに微細な酸
化チタンゾルをシリケート類の加水分解物と混合し、シ
リケートのバインダー効果を利用する方法が知られてい
る。この方法は酸化チタンゾル及びシリケート加水分解
物の何れもが中性域で非常に不安定であり、すぐにゲル
化が生じる傾向にある。酸化チタンの場合、中性域で安
定な分散性を維持するには従来ポリカルボン酸有機系分
散剤等を使用しているが、酸化チタンの光触媒機能によ
り徐々に分解され分散剤としての機能が低下してしまう
問題点があった。また、アルキルシリケートの加水分解
物についても加水分解率が70%未満であるようなシラ
ノール基含有率の低い場合等を別として、中性に近い液
は安定性に欠け、これと中性の酸化チタンゾルと混合す
ると分散粒子が一層凝集し易くなる欠点を有していた。
このためこの様な組成物は通常、酸性域、稀にはアルカ
リ域のものが開発されているが中性域で安定なものはな
かった。
によって有機物の酸化還元機能、親水化効果を示す酸化
チタンを利用して各種の基材表面の汚染を防止するため
の、一般家庭や、特別の予防措置なしで平易に使える中
性域で安定に分散している酸化チタン及びシリケート加
水分解物を含有する塗膜形成性組成物、及びその製法を
提供しようとするものである。
で安定な酸化チタンゾルと、アルキルシリケートを三塩
基鉱酸または二塩基もしくは三塩基の有機酸存在下で縮
重合して得られる加水分解物及び溶媒を含む組成物であ
って、該組成物に含まれるチタン及びケイ素の重量比が
夫々TiO2 及びSiO2 への換算値で15〜85:8
5〜15(合計100)であり、該組成物のpHが4.
5〜7.5であり、総固形分濃度が20重量%以下であ
ることを特徴とする酸化チタン塗膜形成性組成物及びそ
の製法にある。
散安定剤として配合した中性域のpHで安定な酸化チタ
ンゾル水性分散液と、低級アルキルシリケートをアルコ
ール中で三塩基鉱酸または二塩基もしくは三塩基の有機
酸存在下で70〜1500%の加水分解率で縮重合させ
て得たpH2.2〜6.5のアルコール性シリカゾルと
を、組成物中のチタン及びケイ素(分散安定剤としての
ケイ素分を含む)の重量比が夫々TiO2 及びSiO2
への換算値で15〜85:85〜15(合計100)の
割合になるように15〜40℃の温度で混合し、全組成
物中の総固形分濃度が20重量%以下、pHを4.5〜
7.5とした酸化チタン塗膜形成性組成物及びその製法
にある。
チタンゾルと、アルキルシリケートを三塩基鉱酸または
二塩基もしくは三塩基の有機酸存在下で縮重合して得ら
れる加水分解物及び溶媒を含む組成物であって、該組成
物に含まれるチタン及びケイ素の重量比が夫々TiO2
及びSiO2 への換算値で15〜85:85〜15(合
計100)であり、組成物のpHが4.5〜7.5であ
り、総固形分濃度が20重量%以下である酸化チタン含
有組成物を基材表面に塗布し、乾燥することを特徴とす
る酸化チタン及びシリカ成分含有塗膜の形成法にある。
する。本発明に用いられる酸化チタンとは、特定エネル
ギーを持つ光の照射で有機物の酸化還元に対して触媒作
用を示すものであり、化学式TiO2 で表される二酸化
チタンの他、含水酸化チタン、水和酸化チタン、メタチ
タン酸、オルトチタン酸、水酸化チタンと呼ばれている
ものを含む。二酸化チタンの結晶型はアナターゼ型、ル
チル型、ブルッカイト型の何れであってもよく、また、
これらの混合体でもよい。また、酸化チタンの粒子表面
及び/または粒子内部に、銅、銀、金、ランタン、セリ
ウム、亜鉛、バナジウム、鉄、コバルト、ニッケル、ル
テニウム、ロジウム、パラジウム、白金等の金属や、金
属化合物の少なくと1種を存在させてもよい。
その粒径は光触媒活性が強いこと及び可視光に対する散
乱効果が小さくなる、すなわち、透明性が高くなること
から100nm程度以下の微細なものが好ましい。この
ような酸化チタンゾルは、その濃度を0.5重量%と
し、石英セルの光路長を1cmとし、対照試料を水とし
て波長550nmの光で測定した光線透過率が70〜1
00%と高い透明性を示す。従って、透明な酸化チタン
塗膜を得たいときには粒子径が1〜100nm、特に1
〜50nmの範囲のものを用いることが好ましい。
ゾルには、酸化チタン微粒子表面の一部にケイ素及び/
またはアルミニウムの含水酸化物を析出させて安定化さ
せたもの、または、分散安定剤として低級アルキルシリ
ケートもしくはその5量体程度以下の低級オリゴマーを
添加して安定化したものが用いられる。
化チタン微粒子と鉱酸を混合したスラリーを50℃以上
に加熱処理した後に、これにケイ素及び/またはアルミ
ニウムの化合物を添加し、酸またはアルカリを用いて該
スラリーのpHを5〜9.5に調整して、酸化チタン表
面の少なくとも一部にケイ素及び/またはアルミニウム
の含水酸化物を析出させる方法が好ましく用いられる。
使用されるケイ素化合物としてはケイ酸ナトリウム等の
水可溶性塩、コロイダルシリカ等である。また、アルミ
ニウム化合物としては硫酸アルミニウム、硝酸アルミニ
ウム、塩化アルミニウム、アルミン酸ナトリウム等の水
可溶性アルミニウム塩を例示することができる。
て中性の酸化チタンゾルを安定化する方法としては、メ
チル、エチル、プロピル等の低級アルキルシリケートま
たはこれらの加水分解率が70%未満の低レベルの縮合
体(オリゴマー)を、酸化チタンに対しSiO2 換算の
重量比で0.4〜2.0となるように加えるのが好まし
い。これらのアルキルシリケート中、商品名「メチルシ
リケート51」(コルコート(株)製)として市場で入
手できる平均縮合度3(3量体)のオリゴマーが特に好
ましく、酸化チタンに対する混合割合は酸化チタン重量
100に対しSiO2 換算で40〜100重量とするの
が好ましい。
る分散媒に分散している。この分散性が最終的な塗膜の
光触媒機能に大きく影響してくるため、分散を阻害する
ような溶媒等の添加は種々の制限を受けるが、本発明に
おいては親水性有機溶媒を添加しても酸化チタンの分散
安定性は保たれる。このような親水性溶媒にはメタノー
ル、エタノール、2−プロパノール、n−ブタノール、
エチレングリコール等のアルコール類があり、特に制限
無く用いられる。
る。例えば、含水酸化チタン等を一塩基酸またはその
塩で解膠処理したり、四塩化チタンを低温の水に添加
した後透析したり、塩酸水溶液にチタンアルコキシド
を添加したりして得ることが出来る。上記の方法で含
水酸化チタンは、例えば、硫酸チタン、硫酸チタニル、
四塩化チタン等の水溶性無機チタン化合物を加熱加水分
解したり、チタン化合物の水溶液に水酸化ナトリウム等
のアルカリを添加し、中和したりして得ることが出来
る。
加水分解物としては、低級アルキルシリケートの70〜
1500%の加水分解物が用いられる。ここで加水分解
率とはアルキルシリケートをSiO2 に加水分解しうる
理論量の水を加えて反応させた場合を100%としたも
のである。つまり、全く加水分解されていないアルキル
シリケート(モノマー)1モルに対し、水2モルを使用
して加水分解した場合を加水分解率100%の加水分解
液と定義したものである。アルキルシリケートとしては
メチル、エチル、イソプロピルシリケート等の低級アル
キルシリケートが用いられる。これらの原料シリケート
はいずれも単量体または加水分解率が70%未満の部分
加水分解率に相当するオリゴマーの形のものが出発原料
として用いられる。
きの触媒としては、リン酸、硼酸等の無機三塩基酸、ま
たはクエン酸、リンゴ酸、シュウ酸等の有機二塩基酸も
しくは三塩基酸等が用いられ、このような触媒を用いて
低級アルキルシリケートを加水分解するとpH2.2〜
6.5の加水分解物が得られる。通常よく使われる塩
酸、硝酸、硫酸等の一塩基または二塩基の鉱酸を用いる
と得られた加水分解物のpHが2.2以下となってしま
い、中性の酸化チタン分散体を得るには不都合である。
低級アルキルシリケートを加水分解するに際しては炭素
数1〜4のアルコールで希釈して行うのが好ましい。酢
酸エチル等のエステル類は少量の場合は問題ないが、添
加する量が多くなるに従い組成物液を不安定にするので
使用に際しては注意する必要がある。なお、ここで得ら
れる加水分解物は、アルコール等の親水性溶媒が主体で
あるため、測定されるpH値は学問的定義に基づいたも
のではないが、水系溶媒と同様にして測定したpH値を
意味する。
ゾルと低級アルキルシリケート加水分解液との混合は1
5〜40℃の範囲の温度で適宜に出来る。得られる酸化
チタン含有の塗膜形成性組成物中のチタンとケイ素との
割合は夫々二酸化チタンと二酸化ケイ素に換算した重量
比(TiO2 :SiO2 )で15〜85:85〜15と
することが必要である。ケイ素には分散安定剤としての
ケイ素分を含む。ケイ素の割合が85%を超えると酸化
チタンの光触媒機能が発現できず実用性が無くなる。一
方、ケイ素の割合が15%未満であると、基材との、及
び、酸化チタン同士の接着強度が充分でなく指触や、振
動で容易に脱落してしまい塗膜として工業的に使用しに
くいものになる。
中の固形分濃度は、重量で20%以下、好ましくは10
%、さらに好ましくは5%以下である。ここで固形分と
は全組成物中における酸化チタンとシリカの合計量をい
い、酸化チタンは二酸化チタンに、シリカは組成物中の
アルキルシリケートもしくはその加水分解物のケイ素
(Si)分をSiO2 に換算した値を用いている。該組
成物中の他の成分は、水及び/または有機溶媒が主体で
あり、組成物を基材面上へ塗布後、乾燥により実質的に
除去されるものである。最も好ましい固形分濃度は0.
05〜5%であり、5%を超えると組成物の安定性が徐
々に低下し、20%を超えると基材との接着性が悪くな
るばかりでなく、組成物自体の安定性が低下する。固形
分が0.05%未満では形成される酸化チタン含有膜の
膜厚が薄すぎて酸化チタンの光触媒機能が発揮できな
い。
Hは4.5〜7.5であり、酸化チタンゾルとアルキル
シリケート加水分解物の混合時pHがこの範囲外の場
合、酸またはアルカリを添加して調整することができ
る。
各種の基材表面に塗布され、乾燥、場合によって低温焼
成されて塗膜化される。塗布方法は塗布すべき基材の形
状によってスピンコーティング、スプレーコーティン
グ、バーコート、ディップ法等が適宜に使用される。ス
プレーコーティングは基材の形状に関係なく手軽に塗布
できるので好ましいが、本発明組成物を利用する場合は
光触媒効果を高めようとする試みから往々にして、厚く
塗りすぎて塗膜に強固な接着性を持たせることが出来な
い場合が生じる。この様なときはアルコール等の希釈液
を用いて固形分濃度を適当に調節することが必要とな
る。
メチルエーテル(DME)等公知の噴射剤を用いてエア
ゾルタイプとして塗膜を形成することもできる。この場
合、酸化チタン塗膜形成性組成物中の総固形分濃度が1
重量%以下になるように希釈して用いることが好まし
い。
過ぎると塗膜が白化することがあるので、塗膜が厚くな
り過ぎないように注意を要する。形成される塗膜の厚さ
は0.01〜1μm、特に0.02〜0.3μmの範囲
が適当である。この程度の膜厚の場合は基材の持つ種々
の模様、デザインを全く損なう事なく、その表面に光触
媒機能を持つ被膜を形成する事が出来る。
布する基材としては、ガラス、金属、セメント、石膏ボ
ード、石材、木材、セラミックス、プラスチック等の管
状、板状、格子状、球状、ハニカム状部材等があるが、
塗布後に溶剤、水分等を除去するために充分乾燥するこ
とが好ましい。本発明の組成物からの塗膜は常温〜60
℃程度の温度による乾燥によって、爪で擦っても容易に
剥離しない強固な被膜を形成できるが、シリケート加水
分解液の特性から100℃以上の温度で焼成することに
よって、より強固な塗膜を形成することが出来る。必要
に応じてさらに100〜300℃の範囲の温度で焼成し
てもよい。
は部材は極めて広い種々の用途に利用される。例えば、
高速道路の遮音部材として金属またはプラスチック製の
板状または格子状のものが使用されているが、これに付
着する有機物、微生物の分解除去、または、この塗膜の
有する親水性機能で洗い流すのに使われる。塩ビ樹脂等
からなっているプラスチック化粧板に適用すると、これ
を壁材に使用したとき壁面を自己浄化する機能を発揮
し、また、病院、食品工場等では殺菌効果を持つものと
して好適に使用出来る。さらに、一般家庭においては台
所、または手の届くような窓ガラス、網戸等の如き水で
簡単に洗えるような場所、製品、部材にはたとえ耐久性
に不足があっても中性のエアゾルタイプとすることによ
って何度でも塗布可能となるので利用、応用範囲は大き
い。
る。説明中「%」は特に表示のない限り重量%を、
「部」は重量部を示す。なお、評価のため塗膜形成性組
成物を用いて塗膜を形成したときの製膜条件、及び塗膜
の性能評価方法は次の通りである。
件) 被塗布片:ガラス板100×50×2t(m/m) 塗布方法:スピンコーター(ミカサ(株)製:IH−3
60S)を用いて1500rpm、10秒で塗布 乾燥条件:常温乾燥
測定
05%)を、試験片に1000rpm、10秒の条件で
スピンコートし、室温で1時間乾燥した。塗面に0.5
mW/cm2 の強度のブラックライトを照射し、試験板
表面の水との接触角を接触角計(協和界面科学(株)
製:CA−D型)を用いて測定した。
液を、加熱加水分解してメタチタン酸を生成させた。得
られたメタチタン酸をTiO2 換算で30%の水性スラ
リーとし、このスラリーをアンモニア水でpH7に中和
し、その後濾過洗浄して硫酸根を除去した。得られた脱
水ケーキに濃硝酸と水を加えて解膠処理して、HNO3
として2.0%含有し、酸化チタン濃度がTiO2 換算
で30%、pH1.5の酸性酸化チタン水性ゾル(以
下、試料aとする。)を得た。
に、イオン交換水を加えて酸化チタン濃度を20%とし
た。この希釈した試料25部を室温で攪拌しながら、徐
々にエタノール45.4部を添加し、引き続き2−プロ
パノール10部を徐々に添加してアルコールで希釈され
た酸性酸化チタンゾルを得た。希釈倍率は重量比で3.
2倍であった。別に、メチルシリケートとしてメチルシ
リケート51(一般式Sin On-1 (OCH3 )
2n+2(但し、nは3〜5)、コルコート(株)製、商品
名)をメタノールで50%に希釈してメタノールで希釈
されたメチルシリケートを得た。希釈倍率は重量比で2
倍であった。
された酸性酸化チタンゾル80.4部と、メタノールで
希釈されたメチルシリケート19.6部を混合し、これ
に湿潤した陰イオン交換樹脂アンバーライトIRA−9
10(オルガノ(株)製、商品名)396部を攪拌しな
がら添加しイオン交換により中性化した。次いで、イオ
ン交換樹脂を濾過し、pH6.4、固形分5.3%の中
性酸化チタンゾルを得た。この試料は、メチルシリケー
ト中のケイ素をSiO2 に換算した量と酸化チタン中の
チタンをTiO2 に換算した量との重量比(SiO2 /
TiO2 )が1であった。
製 「メチルシリケート51」を40部、イソプロピルアル
コール(IPA)を55部を混合し、これにリン酸0.
18%を含有する水6部を添加し、30℃で3時間反応
して加水分解液を製造した。この加水分解液のpHは
2.3であった。
ト加水分解液の混合 前記の(B)で製造した中性酸化チタンゾルと、(C)
のアルキルシリケート加水分解液を用いて25℃で混合
し、総固形分濃度1%、TiO2 /SiO2 =30/7
0の比の液を調整した。希釈溶媒としてはメタノール/
IPA=2/1のものを用いた。こうして得られた組成
物のpHは5.4で実質的に中性であった。これを用い
て試験片を作成し、そのヘイズ率、接触角を測定した。
結果を表1に示す。
と酸化ケイ素の割合を45:55となるように配合した
ことを除いて、実施例1と同様に操作してpH5.7の
酸化チタン含有膜形成性組成物を作り、これを評価し
た。結果を表1に示す。
リケートの加水分解をクエン酸触媒の存在下で行ったこ
とを除いて実施例1と同様に操作してpH5.6の酸化
チタン含有膜形成性組成物を得た。これを用いて実施例
1と同様にして試験片の測定を行った。結果を表1に示
す。
リケートの加水分解をクエン酸触媒の存在下で行ったこ
とを除いて実施例2と同様に操作してpH5.4の酸化
チタン含有膜形成性組成物を得た。これを用いて実施例
1と同様にして試験片の測定を行った。結果を表1に示
す。
を用いた。
6%とした酸性酸化チタン水性ゾル49部を室温で攪拌
しながら、徐々にメタノール8部を添加し、引き続き2
−プロパノール6.5部を徐々に添加してアルコールで
希釈された酸性酸化チタンゾルを得た。希釈倍率は重量
比で1.3倍であった。次いで、「メチルシリケート5
1」をメタノールで50%に希釈して、メタノールで希
釈されたメチルシリケートを得た。希釈倍率は重量比で
2倍であった。
された酸性酸化チタンゾル63.5部と、メタノールで
希釈されたメチルシリケート38.6部を混合し、これ
に湿潤した陰イオン交換樹脂「アンバーライトIRA−
910」734部を攪拌しながら添加し、イオン交換に
より中性化した。次いで、イオン交換樹脂を濾過し、p
H6.1、固形分13.3%の中性酸化チタンゾルを得
た。この試料は、メチルシリケート中のケイ素をSiO
2 に換算した量と酸化チタン中のチタンをTiO2 に換
算した量との重量比(SiO2 /TiO2 )が0.70
であった。この酸化チタンゾルを用いてアルキルシリケ
ート加水分解物液とを表1に示す比率になるように25
℃で混合して組成物を得た。なお、実施例5〜8のアル
キルシリケート加水分解液の調製は夫々実施例1、2、
3、4の方法に準じて行った。
次のようにして作成した。 (A)酸化チタン微粒子の作成 TiO2 として20%濃度の四塩化チタン水溶液700
mlと、Na2 Oとして10%濃度の水酸化ナトリウム
水溶液を、系のpHを5〜9に維持するように液中に並
行添加した。その後、系のpHを水酸化ナトリウム水溶
液で7に調整した後、濾過し、濾液の導電率が100μ
S/cmとなるまで洗浄し、固形分濃度28.3%の酸
化チタン湿ケーキ1を得た。この酸化チタン微粒子はル
チル型構造を有し、その平均粒径は8nmであった。
希釈して、1モル/lのスラリーを調製した。このスラ
リー1lを3l入りの4つ口フラスコに仕込み、さら
に、1規定の硝酸を酸化チタン/硝酸のモル比が1/1
となるよう1l添加し、95℃の温度に加熱し、この温
度で2時間保持して、酸加熱処理を行った。次いで、酸
加熱処理後のスラリーを室温まで冷却し、28%アンモ
ニア水を用いて中和(pH=6.7)して、濾過した
後、濾液の導電率が100μS/cmとなるまで洗浄
し、固形分濃度25%の酸化チタン湿ケーキ2を得た。
の水酸化ナトリウム水溶液を添加し、リパルプし、その
後、超音波洗浄機(Branson8210:Yama
to社製)で3時間分散して、pH=10.5、固形分
濃度10%のアルカリ性酸化チタンゾルを得た。このア
ルカリ性酸化チタンゾル2lを3l入りの4つ口フラス
コに仕込み、70℃の温度に昇温し、SiO2 として4
32g/lの濃度のケイ酸ナトリウム水溶液69.4m
lを添加し、その後90℃に昇温して1時間熟成した
後、10%の硫酸を添加してpHを6に調整して、酸化
チタンの表面をケイ素の含水酸化物で表面処理した。
し、5.4lの純水を添加し、脱塩濃縮装置(セラフロ
ー:ミクニキカイ(株)製)を用いて、不純物の除去、
及び濃縮を行い、pH=7.3、固形分濃度29%、導
電率1.18mS/cmの中性ルチル型酸化チタンゾル
を得た。試料は、TiO2 に対してSiO 2 基準で1
4.9%のケイ素の含水酸化物を含有していた。このゾ
ル中の酸化チタンの平均粒径は9nmであった。この酸
化チタンゾルを用い、シリケート加水分解液は夫々実施
例1、2、3、4の方法に準じて製造したものを用いて
表1に示す夫々の組成物を得た。これらを用いて実施例
1と同様にして試験片の測定を行った。結果を表1に示
す。
は、pHが4.5〜7.5であるためガラス、金属、セ
メント、石膏ボード、石材、木材、セラミックス、プラ
スチック等の基材からなる管状、板状、格子状、球状、
ハニカム状部材等に、特別の予防措置なしに平易に施す
ことができ、これら基材に形成された塗膜は爪で擦って
も容易に剥離しない強固な被膜を形成する。従って、本
発明によって塗膜が形成された基材、部材、製品は酸化
チタンの有する有機物の酸化還元機能、親水化効果等に
より付着する有機物、微生物の分解除去、汚れの容易な
洗浄除去、殺菌効果による病院等の壁材、一般家庭用厨
房等種々の用途に利用される。
Claims (9)
- 【請求項1】 中性域のpHで安定な酸化チタンゾル
と、アルキルシリケートを三塩基鉱酸または二塩基もし
くは三塩基の有機酸存在下で縮重合して得られる加水分
解物及び溶媒を含む組成物であって、該組成物に含まれ
るチタン及びケイ素の重量比が夫々TiO2 及びSiO
2 への換算値で15〜85:85〜15(合計100)
であり、該組成物のpHが4.5〜7.5であり、総固
形分濃度が20重量%以下であることを特徴とする酸化
チタン塗膜形成性組成物。 - 【請求項2】 酸化チタンゾルがアルキルシリケートを
分散安定剤として配合したものである請求項1の酸化チ
タン塗膜形成性組成物。 - 【請求項3】 溶媒が実質的に炭素数1〜4のアルコー
ルであり、アルキルシリケートの加水分解物の加水分解
率が70〜1500%である請求項1または請求項2の
酸化チタン塗膜形成性組成物。 - 【請求項4】 アルキルシリケート加水分解物が、燐
酸、硼酸等の三塩基酸もしくはクエン酸、シュウ酸等の
有機酸を触媒として用いて縮重合したものである請求項
1ないし請求項3の何れか1項の酸化チタン塗膜形成性
組成物。 - 【請求項5】 中性域のpHで安定な酸化チタンゾル水
性分散液と、低級アルキルシリケートをアルコール中で
三塩基鉱酸または二塩基もしくは三塩基の有機酸存在下
で70〜1500%の加水分解率で縮重合させて得たp
H2.2〜6.5のアルコール性シリカゾルとを、組成
物中に含まれるチタン及びケイ素の重量比が夫々TiO
2 及びSiO2 への換算値で15〜85:85〜15
(合計100)の割合になるように15〜40℃の温度
で混合し、全組成物中の総固形分濃度が20重量%以
下、pHを4.5〜7.5とすることを特徴とする酸化
チタン塗膜形成性組成物の製法。 - 【請求項6】 アルキルシリケートを分散安定剤として
配合した中性域のpHで安定な酸化チタンゾルを用いる
請求項5の酸化チタン塗膜形成性組成物の製法。 - 【請求項7】 中性域のpHで安定な酸化チタンゾル
と、アルキルシリケートを三塩基鉱酸または二塩基もし
くは三塩基の有機酸存在下で縮重合して得られる加水分
解物及び溶媒を含む組成物であって、該組成物に含まれ
るチタン及びケイ素の重量比が夫々TiO2 及びSiO
2 への換算値で15〜85:85〜15(合計100)
であり、組成物のpHが4.5〜7.5であり、総固形
分濃度が20重量%以下である酸化チタン塗膜形成性組
成物を基材表面に塗布し、乾燥することを特徴とする酸
化チタン及びシリカ成分含有塗膜の形成法。 - 【請求項8】 アルキルシリケートを分散安定剤として
配合した中性域のpHで安定な酸化チタンゾルを用いる
請求項7の塗膜の形成法。 - 【請求項9】 酸化チタン塗膜形成性組成物中の総固形
分濃度を1重量%以下になるように希釈し、液化ガス
(LPG)、炭酸ガスもしくはジメチルエーテル(DM
E)等の噴射剤を用いてエアゾールタイプにして基材表
面に塗布する請求項7または請求項8の塗膜の形成法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20384099A JP4343335B2 (ja) | 1999-07-16 | 1999-07-16 | 光触媒用酸化チタン塗膜形成性組成物及びその製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20384099A JP4343335B2 (ja) | 1999-07-16 | 1999-07-16 | 光触媒用酸化チタン塗膜形成性組成物及びその製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001029795A true JP2001029795A (ja) | 2001-02-06 |
JP4343335B2 JP4343335B2 (ja) | 2009-10-14 |
Family
ID=16480580
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20384099A Expired - Lifetime JP4343335B2 (ja) | 1999-07-16 | 1999-07-16 | 光触媒用酸化チタン塗膜形成性組成物及びその製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4343335B2 (ja) |
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- 1999-07-16 JP JP20384099A patent/JP4343335B2/ja not_active Expired - Lifetime
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---|---|
JP4343335B2 (ja) | 2009-10-14 |
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