CN1846173A - 光致抗蚀剂剥离液组合物、图案的制造方法和显示装置 - Google Patents

光致抗蚀剂剥离液组合物、图案的制造方法和显示装置 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种可以适用于含有银和/或银合金的基板的光致抗蚀剂剥离液组合物，其中含有从下述的式(I)所表示的化合物、下述的式(II)所表示的化合物、下述的式(III)所表示的化合物、邻苯二酚、对苯二酚、连苯三酚、没食子酸、没食子酸酯之中选择的一种、两种或更多种、以及一种、两种或更多种极性有机溶剂，式(I)中，A、B分别相互独立地为直链状或支链状的碳原子数为1～5的亚烷基，Y为NH或O的任一个，Z为NH2、OH、NH－D－NH2，其中，D为直链状或支链状的碳原子数为1～5的亚烷基；式(II)中，A、B与式(I)的相同；式(III)中，R为H、碳原子数为1～5的烷基、碳原子数为1～5的羟基烷基或碳原子数为1～5的氨基烷基。

Description

光致抗蚀剂剥离液组合物、图案的制造方法和显示装置
技术领域
本发明涉及含有银和/或银合金的基板的光致抗蚀剂剥离液组合物，使用该组合物的图案的制造方法以及含有该组合物的显示装置。
背景技术
有机EL显示器具有自发光性，与液晶显示器相比，期待其作为可以低耗电量化、高亮度化、高对比度化的下一代平板显示器。
作为有机发光元件，已知的有例如在基板上隔着TFT(Thin FilmTransistor：薄膜晶体管)和平坦化层等，依次层叠第1电极、含有发光层的有机层和第2电极的元件。由发光层发出的光可以从基板侧射出，也可以从第2电极侧射出。
对于半导体基板一直使用铝和铝合金作为配线材料，而对于平板，近年来TFT的配线也被用作反射型液晶显示器的反射膜(例如，参见专利文献1)。此外，作为有机EL的反射电极，使用了铝、铝合金和铬等材料(例如，参见专利文献2)。
通常，金属反射膜或反射电极通过如下方法形成：通过CVD、溅射、电镀等在基板上堆积形成金属膜后，在该金属膜上涂覆光致抗蚀剂，进行曝光、显影以形成掩模，对该金属膜的非掩模区域通过使用湿法蚀刻液进行湿法蚀刻或进行干法蚀刻而形成图案后，通过光致抗蚀剂剥离液将用作掩模的光致抗蚀剂从该金属膜上剥离。
目前，为了将通过后烘焙等的加热将粘合在基板上的光致抗蚀剂剥离，光致抗蚀剂剥离液使用含有苯酚和卤代烃的液体，并考虑到环境方面的问题，开发了以咪唑啉酮为主成分的组合物(例如，参见专利文献3)，各种烷醇胺与1，3-二甲基-2-咪唑啉酮的混合溶液(例如，参见专利文献4)。
此后，出于采用干法蚀刻剥离与现有不同的变质光致抗蚀剂层的需要，开发了各种烷醇胺、1，3-二甲基-2-咪唑啉酮和二甲亚砜的组合物(例如，参见专利文献5)，和含有各种烷醇胺、极性有机溶剂和各种防腐蚀剂的组合物。
这些组合物可以剥离干法蚀刻后的抗蚀剂变质层和粘合在基板上的光致抗蚀剂，其可以相对于干法蚀刻后和湿法蚀刻后的两种基板作为光致抗蚀剂剥离液使用。
作为防腐蚀剂，报告了邻苯二酚(例如，参见专利文献6)、苯酚与醋酸等弱酸(例如，参见专利文献7)、糖类(例如，参见专利文献8)、邻苯二酚、没食子酸酯或没食子酸的任一种(例如，参见专利文献9)、氨基酸(例如，参见专利文献10)等。
另外，还已知的是，为了增强剥离能力而进一步添加羟基胺的例子，和由于非水剥离液存在(1)必须使用异丙醇进行淋洗，(2)在水洗时金属表面残存氨基化合物和金属被腐蚀等缺点，因此使用由有机氨基化合物、极性溶剂、水和防腐蚀剂构成的水溶性剥离液的例子(例如，参见专利文献11、专利文献12)。
最近，具有比铝和铝合金高的反射率的银和银合金引人注意，已经在反射膜和反射电极等中使用银的单层膜或含有银层的多层膜。在反射膜暴露在空气中的情况下，为了避免湿气等的影响，也为了弥补相对于短波长光的银反射率的降低，在银表面使用形成了稳定的氧化膜的多层膜(例如，参见专利文献13、专利文献14)，在银表面不暴露在空气中的情况下，使用银的单层膜(例如，参见专利文献13、专利文献15)。然而，这些文献对于湿法蚀刻的情况、抗蚀剂发生变质而难以剥离的干法蚀刻、以及在形成银膜的图案中用的抗蚀剂剥离液完全没有公开，作为现有的光致抗蚀剂剥离液，仅有对目前的铝和铝合金没有腐蚀性的光致抗蚀剂剥离液，而至今还没有开发出来可以适用于银和/或银合金的图案形成且对银和/或银合金没有腐蚀的光致抗蚀剂剥离液。
如上述，期望获得对银和/或银合金没有腐蚀性，且对光致抗蚀剂和光致抗蚀剂变质层具有高剥离性的光致抗蚀剂剥离液组合物。
专利文献1：特开2003-57674号公报
专利文献2：特开2002-216976号公报
专利文献3：特开昭63-50838号公报
专利文献4：特开昭63-208043号公报
专利文献5：特开平4-350660号公报
专利文献6：特开平5-281753号公报
专利文献7：特开平6-202345号公报
专利文献8：特开平8-202051号公报
专利文献9：特开平9-296200号公报
专利文献10：特开平7-295240号公报
专利文献11：特开平4-289866号公报
专利文献12：特开平6-266119号公报
专利文献13：特开2000-8184号公报
专利文献14：特开2002-139609号公报
专利文献15：特开2003-228071号公报
发明内容
因此，本发明的目的在于，消除上述的问题点，提供一种可以适用于含有银和/或银合金的基板的光致抗蚀剂剥离液组合物。
在目前的光致抗蚀剂剥离液中使用过的氨基化合物分为具有羟基的氨基化合物(烷醇胺)类、和不具有羟基的氨基化合物类。
作为具有羟基的氨基化合物类，可以列举出：单乙醇胺、单异丙醇胺、N-甲基乙醇胺、N-乙基乙醇胺、N-丁基乙醇胺、2-(2-氨基乙基氨基)乙醇、2-(2-氨基乙基氨基)-2-丙醇、2-(2-氨基乙氧基)乙醇、二乙醇胺、二异丙醇胺、N，N-二甲基乙醇胺、N，N-二乙基乙醇胺、N，N-二丁基乙醇胺、N-甲基二乙醇胺、N-(3-氨基丙基)-N-(2-羟基乙基)-2-氨基乙醇、三乙醇胺、三异丙醇胺。
作为不具有羟基的氨基化合物类，可以列举出：二亚乙基三胺、三亚乙基四胺、二亚丙基三胺、吗啉衍生物等。
但是，在对可以适用于含有银和/或银合金的基板的光致抗蚀剂剥离液组合物的重新思考的过程中，认识到，如果使用以在铝和铝合金时所使用的现有的氨基化合物例如单乙醇胺为主成分的光致抗蚀剂剥离液，会具有高的剥离性，但直接使用发现会对银和银合金产生腐蚀。
另外还发现，在单乙醇胺的氨基上进一步具有取代基的二乙醇胺、三乙醇胺、N，N-二甲基乙醇胺等如后述，对银和银合金的腐蚀少，但光致抗蚀剂的剥离性、特别是光致抗蚀剂变质层的剥离是困难的。
因此，本发明人为了综合地解决上述问题，反复进行了精心的研究，由此认识到，在有机氨基化合物的亚烷基碳链长过长的情况下，剥离性降低，而如果较短，则对银和银合金的腐蚀性增加，而且通过在亚烷基链之间导入杂原子，即使亚烷基的碳链长具有某种程度的长度，也可以防止剥离性的降低，因此发现通过在某些特定的有机氨基化合物以及单乙醇胺中添加某些特定的防腐蚀剂，可以用作光致抗蚀剂剥离液，并且通过进行进一步的研究，结果完成了本发明。
即，本发明涉及一种光抗蚀剂剥离液组合物，该组合物为含有银和/或银合金的基板的光抗蚀剂剥离液组合物，其中含有从下述的式(I)所表示的化合物、下述的式(II)所表示的化合物、下述的式(III)所表示的化合物、邻苯二酚、对苯二酚、连苯三酚、没食子酸和没食子酸酯之中选择的一种、两种或更多种，以及一种、两种或更多种极性有机溶剂，
式(I)
                    NH2-A-Y-B-Z
(式中，A、B分别相互独立地为直链状或支链状的碳原子数为1～5的亚烷基，Y为NH或O的任一个，Z为NH2、OH、NH-D-NH2(其中，D为直链状或支链状的碳原子数为1～5的亚烷基))；
式(II)
               NH2-A-N(-B-OH)2
(式中，A、B与式(I)的相同)；
式(III)
Figure A20048002488900091
(式中，R为H、碳原子数为1～5的烷基、碳原子数为1～5的羟基烷基或碳原子数为1～5的氨基烷基)。
此外，本发明还涉及非水系的上述光致抗蚀剂剥离液组合物。
此外，本发明还涉及在上述光致抗蚀剂剥离液组合物中，式(I)、式(II)或式(III)所表示的化合物是二亚乙基三胺、2-(2-氨基乙基氨基)乙醇、2-(2-氨基乙基氨基)-2-丙醇、N-(3-氨基丙基)-N-(2-羟基乙基)-2-氨基乙醇、2-(2-氨基乙氧基)乙醇、二亚丙基三胺、三亚乙基四胺、吗啉。
此外，本发明还涉及在上述光致抗蚀剂剥离液组合物中，式(I)、式(II)或式(III)所表示的化合物的总含量为20质量％-50质量％。
此外，本发明还涉及在上述光致抗蚀剂剥离液组合物中，含有式(I)、式(II)或式(III)所表示的化合物，且极性有机溶剂是从1，3-二甲基-2-咪唑啉酮、二乙二醇单丁醚、丙二醇、二甲亚砜和N-甲基-2-吡咯烷酮之中选择的一种、两种或更多种。
此外，本发明还涉及在上述光致抗蚀剂剥离液组合物中，进一步含有防腐蚀剂。
此外，本发明还涉及在上述光致抗蚀剂剥离液组合物中，含有单乙醇胺、和从邻苯二酚、对苯二酚、连苯三酚、没食子酸以及没食子酸酯之中选择的一种、两种或更多种。
此外，本发明还涉及在上述光致抗蚀剂剥离液组合物中，含有单乙醇胺、和从邻苯二酚、对苯二酚、连苯三酚、没食子酸以及没食子酸酯之中选择的一种、两种或者更多种，其中极性有机溶剂为N-甲基-2-吡咯烷酮和/或1，3-二甲基-2-咪唑啉酮。
此外，本发明涉及银和/或银合金的图案形成方法，其包括：在基板上的特定区域形成由银和/或银合金构成的金属反射膜或反射电极的工序；在该金属反射膜或反射电极上使用光致抗蚀剂形成掩模，并对非掩模区域的该金属反射膜或反射电极进行蚀刻的工序；和使用上述光致抗蚀剂剥离液组合物将上述光致抗蚀剂从所述金属反射膜或反射电极上剥离的工序。
此外，本发明还涉及在上述银和/或银合金的图案形成方法中，蚀刻工序是干法蚀刻。
此外，本发明涉及具有由银和/或银合金构成的反射膜或反射电极的显示装置，其为在基板上具有多个显示元件的显示装置，上述显示元件通过下列方法形成：在基板上形成含有银和/或银合金的层，然后在该层叠的膜上使用光致抗蚀剂形成掩模，使用该掩模对上述层叠的膜进行蚀刻，通过上述光致抗蚀剂剥离液组合物将形成了上述掩模的光致抗蚀剂剥离。
此外，本发明还涉及在上述显示装置中，显示元件是在由银和/或银合金构成的反射膜或反射电极上，依次层叠含有发光层的有机层和电极，并将该发光层产生的光从电极侧射出的有机发光元件。
此外，本发明涉及在上述显示装置中，显示元件为液晶显示元件，该液晶显示元件是通过下列步骤形成的：在基板上设置像素电极和与该像素电极电连接的驱动元件和配线，在该基板与该驱动元件和配线之间设置银和/或银合金构成的反射膜或反射电极。
本发明的光致抗蚀剂剥离液组合物通过采用使用式(I)、式(II)、式(III)所表示的某种特定的有机氨基化合物或特定的防腐蚀剂的组成，因此可以在含有银和/或银合金的基板被蚀刻后，不腐蚀银和银合金的情况下将光致抗蚀剂剥离。
对于本发明中所使用的有机氨基化合物，其机理还不明确，其在化合物的结构中具有多个某种特定碳原子数的亚烷基，由于在有机氨基化合物的亚烷基碳链长过长的情况下，剥离性降低，而如果较短，则对银和银合金的腐蚀性增加，因此通过采用本发明的结构的某种特定长度，可以适用于含有银和/或银合金的基板。
此外，即使是干法蚀刻后的光致抗蚀剂变质层，也可以在不腐蚀银和/或银合金的情况下良好地剥离，从而能实现以前难以实现的干法蚀刻。
附图说明
图1是本发明的显示装置的第1实施方案的一个剖面示意图。
图2是本发明的显示装置的第2实施方案的一个剖面示意图。
符号说明
11  玻璃基板          12  TFT             12A  层间绝缘膜
12B 配线              13  平坦化层        13A 连接孔
14  电极层            15  绝缘膜          15A 开口部分
16  有机层            17  共用电极        17A 辅助电极
21  密封用基板        30  粘合层          60  驱动面板
61  基板              62  像素电极        63  TFT
63A 配线              63B 保护膜          64  取向膜
65  偏振板            70  对置面板        71  对置基板
72  透明电极          73  滤色片          74  光吸收膜
75  取向膜            76  偏振板          80  液晶
具体实施方案
以下对本发明的实施方案进行详述。
本发明的光致抗蚀剂剥离液组合物含有从下述的式(I)所表示的化合物、下述的式(II)所表示的化合物、下述的式(III)所表示的化合物、邻苯二酚、对苯二酚、连苯三酚、没食子酸和没食子酸酯之中选择的一种、两种或更多种，以及一种、两种或更多种极性有机溶剂，
式(I)
                  NH2-A-Y-B-Z
上式中，A、B分别相互独立地为直链状或支链状的碳原子数为1～5的亚烷基，Y为NH或O的任一个，Z为NH2、OH、NH-D-NH2(其中，D为直链状或支链状的碳原子数为1～5的亚烷基)；
式(II)
                 NH2-A-N(-B-OH)2
上式中，A、B与式(I)的相同；
式(III)
Figure A20048002488900121
上式中，R为H、碳原子数为1～5的烷基、碳原子数为1～5的羟基烷基或碳原子数为1～5的氨基烷基。
本发明中所使用的光致抗蚀剂剥离液组合物优选不含有水，是非水系的。这是由于在含有水的情况下，剥离液中含有的成分会与水发生反应，从而显示出碱性，不仅腐蚀银侧面，还进入晶界产生像素内的腐蚀，缺陷增加。
即判明，从下述的式(I)所表示的化合物、下述的式(II)所表示的化合物和下述的式(III)所表示的化合物之中选择的有机氨基化合物可以用作含有银和/或银合金的基板的光致抗蚀剂剥离液组合物的成分。
式(I)
                    NH2-A-Y-B-Z
上式中，A、B分别相互独立地为直链状或支链状的碳原子数为1～5的亚烷基，Y为NH或O的任一个，Z为NH2、OH、NH-D-NH2(其中，D为直链状或支链状的碳原子数为1～5的亚烷基)；
式(II)
                    NH2-A-N(-B-OH)2
上式中，A、B与式(I)的相同；
式(III)
Figure A20048002488900131
上式中，R为H、碳原子数为1～5的烷基、碳原子数为1～5的羟基烷基或碳原子数为1～5的氨基烷基。
其中，由于在亚烷基碳链长过长的情况下，剥离性降低，而如果较短，则对银和银合金产生腐蚀，因此上式(I)和式(II)的A和B为直链状或支链状的碳原子数为1～5的亚烷基，如果考虑光致抗蚀剂剥离性和对银的腐蚀性，A和B的碳原子数合计优选为2～10个，进一步优选为2～6个。
在这些化合物中，优选二亚乙基三胺、2-(2-氨基乙基氨基)乙醇、2-(2-氨基乙基氨基)-2-丙醇、N-(3-氨基丙基)-N-(2-羟基乙基)-2-氨基乙醇、2-(2-氨基乙氧基)乙醇、二亚丙基三胺、三亚乙基四胺、吗啉。
此外，如果考虑光致抗蚀剂和光致抗蚀剂变质层的剥离性能和对银和银合金的腐蚀性，有机氨基化合物的含量优选为20质量％-50质量％。
此外，与式(I)、式(II)、式(III)所表示的有机氨基化合物混合的极性有机溶剂可以列举出：乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单丙醚、乙二醇单丁醚、二乙二醇单丁醚、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇单丙醚、丙二醇单丁醚、二丙二醇单甲醚、二丙二醇单乙醚、二丙二醇单丙醚、二丙二醇单丁醚、二乙二醇二甲醚、二丙二醇二甲醚等醚类溶剂；甲酰胺、一甲基甲酰胺、二甲基甲酰胺、一乙基甲酰胺、二乙基甲酰胺、乙酰胺、一甲基乙酰胺、二甲基乙酰胺、一乙基乙酰胺、二乙基乙酰胺等酰胺类溶剂；N-甲基-2-吡咯烷酮、N-乙基-2-吡咯烷酮等吡咯烷酮类溶剂；甲醇、乙醇、丙醇、异丙醇、乙二醇、丙二醇等醇类溶剂、二甲亚砜等亚砜溶剂；1，3-二甲基-2-咪唑啉酮、1，3-二乙基-2-咪唑啉酮、1，3-二异丙基-2-咪唑啉酮等咪唑啉酮类溶剂；γ-丁内酯、γ-戊内酯等内酯类溶剂。
在这些化合物中，优选1，3-二甲基-2-咪唑啉酮、1，3-二乙基-2-咪唑啉酮、1，3-二异丙基-2-咪唑啉酮、N-甲基-2-吡咯烷酮、N-乙基-2-吡咯烷酮、二乙二醇单丁醚、丙二醇、二甲亚砜，从光致抗蚀剂变质层的除去性的观点出发，更优选1，3-二甲基-2-咪唑啉酮、二乙二醇单丁醚、丙二醇、二甲亚砜。
此外，含有式(I)、式(II)、式(III)所表示的有机氨基化合物以及极性有机溶剂的本申请的组合物可以进一步添加氨基乙酸、乙酸等有机酸、均苯三酚、间苯二酚、苯酚、苯并三唑、邻苯二酚、对苯二酚、没食子酸、没食子酸酯、连苯三酚等作为防腐蚀剂。
此外，本发明为含有单乙醇胺，一种、两种或者更多种极性有机溶剂，和从邻苯二酚、对苯二酚、连苯三酚、没食子酸以及没食子酸酯之中选择的一种、两种或者更多种所构成的防腐蚀剂的光抗蚀剂剥离液组合物。
然而，与邻苯二酚、对苯二酚、连苯三酚、没食子酸、没食子酸酯类似，即使将目前用作光致抗蚀剂剥离液组合物的防腐蚀剂的均苯三酚(1，3，5-三羟基苯)、间苯二酚(1，3-二羟基苯)、苯酚、或乙酸、氨基乙酸与单乙醇胺一起添加，对银和银合金的腐蚀性也没有改善。
此外，与单乙醇胺混合的极性有机溶剂可以列举出：乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单丙醚、乙二醇单丁醚、二乙二醇单丁醚、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇单丙醚、丙二醇单丁醚、二丙二醇单甲醚、二丙二醇单乙醚、二丙二醇单丙醚、二丙二醇单丁醚、二乙二醇二甲醚、二丙二醇二甲醚等醚类溶剂；甲酰胺、一甲基甲酰胺、二甲基甲酰胺、一乙基甲酰胺、二乙基甲酰胺、乙酰胺、一甲基乙酰胺、二甲基乙酰胺、一乙基乙酰胺、二乙基乙酰胺等酰胺类溶剂；N-甲基-2-吡咯烷酮、N-乙基-2-吡咯烷酮等吡咯烷酮类溶剂；甲醇、乙醇、丙醇、异丙醇、乙二醇、丙二醇等醇类溶剂、二甲亚砜等亚砜溶剂；1，3-二甲基-2-咪唑啉酮、1，3-二乙基-2-咪唑啉酮、1，3-二异丙基-2-咪唑啉酮等咪唑啉酮类溶剂；γ-丁内酯、γ-戊内酯等内酯类溶剂。优选N-甲基-2-吡咯烷酮和/或1，3-二甲基-2-咪唑啉酮。
使用该光致抗蚀剂剥离液制造的显示装置在以下示出。
[第1实施方案]
在图1中示出该显示装置的一个剖面示意图。
在玻璃基板11上形成TFT12、层间绝缘膜12A和配线12B。
接下来，沿着基板11的整个面例如通过旋涂法形成平坦化层13，通过曝光、显影，使平坦化层13按照预定的形状形成图案(布图)，同时形成连接孔13A。之后，为了使聚酰亚胺进行酰亚胺化，在清洁烘焙炉中，在例如320℃的温度下进行烧结。
然后，在平坦化层13上，例如通过溅射法，将银或银合金以例如100nm的膜厚层叠而成为含有Ag的电极层14。
形成含有Ag的电极层14后，例如使用平版印刷技术，制备抗蚀剂掩模，使用该掩模对含有Ag的电极层14进行蚀刻。该蚀刻可以通过湿法蚀刻或干法蚀刻进行。
然后通过光致抗蚀剂剥离液除去抗蚀剂。
接下来，在基板11的整个面上，例如通过CVD(Chemical VaporDeposition；化学气相沉积)法形成绝缘膜15，例如使用平版印刷技术，选择性地除去对应于绝缘膜15中的发光区域的部分以形成开口部分15A。
然后，在绝缘膜15上沿着基板11的整个面形成辅助电极17A，例如使用平版印刷技术进行选择性蚀刻，以形成特定形状的图案。
接着，例如通过蒸镀法形成有机层16。此时，为了对于绝缘膜15的开口部分形成有机层，使用具有开口的金属制蒸镀掩模。
形成有机层16后，沿着基板的整个面例如通过蒸镀法形成共用电极17。共用电极17与已经形成的辅助电极17A和未图示出来的作为母线的干状辅助电极进行电连接。
此后，在基板11形成有机层16的一侧涂布形成由热固性树脂形成的粘合层30，将密封用基板21粘在一起，从而完成显示装置。
在该显示装置中，例如如果在含有Ag的电极层14与共用电极17之间施加预定的电压，则由有机层16引起发光。
通过使用本发明的光致抗蚀剂剥离液，可以在不腐蚀Ag的情况下剥离抗蚀剂。因此，与目前的剥离液相比，Ag腐蚀所引起的像素缺陷可以降低至1/10，显示元件的可靠性提高。
[第2实施方案]
图2表示本发明的第2实施方案的显示装置的剖面结构。
该显示装置可以用作透射型和反射型并用(半透射型)的液晶显示器，相向地设置驱动面板60和对置面板70，在其间设置液晶80。驱动面板60例如是在由玻璃构成的基板61上设置矩阵状的像素电极62。在基板61上形成与像素电极62电连接的含有作为驱动元件的TFT63和配线63A等的有源型驱动电路。
在基板61的面向液晶80的一侧，在整个面上设置取向膜64，在相反侧设置偏振板65。
像素具有像素电极62和含有Ag的电极层14。像素电极62例如由ITO构成，含有Ag的电极层14由含有银或银合金的层构成。含有Ag的电极层14按照与像素电极62的一部分区域重叠的方式形成。形成了含有Ag的电极层14的区域是反射型显示区域，像素电极62的没有与含有Ag的电极层14重叠的区域是透射型显示区域。
TFT63的栅极(未图示出来)与未图示出来的扫描电路相连，源极(未图示出来)与作为信号线的配线63A相连，漏极(未图示出来)与像素电极62相连。配线63A的材料与第1实施方案的配线13B的材料相同。此外，TFT63的结构与第1实施方案的TFT12相同，对其没有特别的限定。TFT63和配线63A被例如由氧化硅(SiO2)或氮化硅(SiN)构成的保护膜63B覆盖。
取向膜64例如使用对聚酰亚胺等有机化合物进行了研磨(取向)处理的膜。其中，通过改变研磨条件以控制预倾斜角。
偏振板65是将来自未图示出来的背面光改变为一定方向的直线偏振光的光学元件，例如包含聚乙烯醇(PVA)薄膜等而构成。
对置面板70位于驱动面板60的像素电极62侧，具有由玻璃等构成的对置基板71。
在对置基板71上，例如以面向像素电极62的方式，从对置基板71的一侧依次层叠设置透明电极72和滤色片73。
此外，在对置基板71上，沿着滤色片73的边界，设置作为黑色矩阵(black matrix)的光吸收膜74。在对置基板71面向液晶80的一侧，在整个面上设置取向膜75，在相反侧设置偏振板76。
透明电极72例如由ITO构成。
光吸收膜74通过将射入对置基板71的外光或由配线64反射的外光的反射光等吸收而提高对比度，例如由混合了黑色着色剂的光学浓度为1或以上的黑色树脂膜、或利用了薄膜干涉的薄膜滤光片构成。薄膜滤光片层叠了1层或多层例如由金属、金属氮化物或金属氧化物构成的薄膜，利用薄膜的干涉而使光衰减。
作为薄膜滤光片，具体地说，可以列举出铬与氧化铬(III)(Cr2O3)交互层叠得到的物质。取向膜75和偏振板76与驱动面板60的取向膜64和偏振板65采用同样的构成。
液晶80通过施加电压改变取向状态而改变透射率。在驱动时，如果液晶分子的倾斜方向不一样，则会产生明暗的不均，因此，为了避免这种现象，预先在液晶80中在一定方向上产生一点预倾斜角。
该显示装置例如按照如下步骤制造。
首先，在基板61上例如通过溅射法形成像素电极62和含有Ag的电极层14。之后，使用照相平版印刷工序形成抗蚀剂的图案
之后，将通过光致抗蚀剂形成的图案作为掩模对含有Ag的电极层14进行蚀刻。蚀刻可以采用使用药液的湿法蚀刻或干法蚀刻。之后，通过第一实施方案描述的光致抗蚀剂剥离液除去抗蚀剂。
另外，为了形成像素电极62的图案，同样地形成抗蚀剂图案，在蚀刻后用上述的光致抗蚀剂剥离液除去抗蚀剂。
接着，形成TFT63和配线63A，用保护膜63B覆盖。之后，沿基板61的整个面形成取向膜64，进行研磨处理。从而形成驱动面板60。
此外，在对置基板71的表面形成透明电极72、光吸收膜74和滤色片73。之后，沿对置基板71的整个面形成取向膜75，进行研磨处理。从而形成对置面板70。
然后，在驱动面板60或对置面板70的周围部分设置例如由环氧树脂等构成的密封材料(未图示出来)，设置球状或柱状的间隔物(未图示出来)。接着，按照像素电极62和透明电极72相面向的方式将驱动面板60和对置面板70的位置进行定位(即对位)，通过使密封材料固化而贴合在一起，向内部注入液晶80并密封。然后，分别在驱动面板60上贴附偏振板65，在对置面板70上贴附偏振板76。通过以上步骤制成图2所示的显示装置。
通过使用本发明的光致抗蚀剂剥离液，对作为反射膜的含有Ag的电极层14的表面没有腐蚀，从而提高由腐蚀等造成的反射率降低所引起的显示装置的可靠性。
实施例
以下列举出实施例和比较例对本发明进行更详细的说明，但本发明并不限定于这些实施例。
1.含有式(I)、式(II)、式(III)所表示的化合物以及极性有机溶剂的非水系的光致抗蚀剂剥离液。
(1)光致抗蚀剂和光致抗蚀剂变质层剥离性评价
在玻璃基板上形成银合金膜，将在银合金上涂布光致抗蚀剂、并通过曝光、显影形成掩模，进行干法蚀刻，形成图案，得到光致抗蚀剂和光致抗蚀剂变质层剥离性评价基板。接着，将该基板在光致抗蚀剂剥离液中在70℃下浸渍10分钟，然后，在用超纯水进行流水淋洗处理后，通过吹氮气流进行干燥，然后使用光学显微镜和电子显微镜进行光致抗蚀剂和光致抗蚀剂变质层剥离性评价。其结果在表1中示出。
(2)对银和银合金的腐蚀性评价
在玻璃基板上形成银合金膜，得到对银合金腐蚀性进行评价的基板。接着，将该基板在光致抗蚀剂剥离液中在70℃下浸渍10分钟，然后，在用超纯水进行流水淋洗处理后，通过吹氮气流进行干燥，然后使用光学显微镜和电子显微镜对银合金进行腐蚀性评价。其结果在表1中示出。
表1  光致抗蚀剂和光致抗蚀剂变质层剥离性评价结果
  光致抗蚀剂剥离液组成(质量％)※1   评价结果
成分① 成分② 成分③   光致抗蚀剂剥离性※2   光致抗蚀剂变质层剥离性※2   对银合金的腐蚀性※3
  实施例1   DGA    50   DMI    50   ◎   ◎   ◎
  实施例2   DGA    40   DMI    60   ◎   ◎   ◎
  实施例3   DGA    30   DMI    70   ◎   ◎   ◎
  实施例4   DGA    20   DMI    80   ◎   ◎   ◎
  实施例5   DGA    10   DMI    90   ◎   ○   ◎
  实施例6   DGA    50   NMP    50   ◎   ◎   ◎
  实施例7   DGA    40   NMP    60   ◎   ○   ◎
  实施例8   DGA    30   BCA    70   ◎   ◎   ◎
  实施例9   DGA    30   PG     70   ◎   ◎   ◎
  实施例10   DGA    30   NMP    70   ◎   ○   ◎
  实施例11   DGA    30   DMSO   70   ◎   ○   ◎
  实施例12   DGA    30   PGM    70   ◎   ○   ◎
  实施例13   DGA    30   DMI    60   NMP  10   ◎   ◎   ◎
  实施例14   DGA    30   DMI    40   NMP  30   ◎   ◎   ◎
  实施例15   DGA    30   DMI    30   NMP  40   ◎   ◎   ◎
  实施例16   DGA    30   DMI    25   NMP  45   ◎   ◎   ◎
  实施例17   DETA   30   DMI    25   NMP  45   ◎   ◎   ◎
  实施例18   AEAE   30   DMI    25   NMP  45   ◎   ◎   ◎
  实施例19   AEIPA  30   DMI    25   NMP  45   ◎   ◎   ◎
  实施例20   APDEA  30   DMI    25   NMP  45   ◎   ◎   ◎
  实施例21   DPTA   30   DMI    25   NMP  45   ◎   ○   ◎
  实施例22   TETA   30   DMI    25   NMP  45   ◎   ○   ◎
  实施例23   MO     30   DMI    25   NMP  45   ◎   ○   ◎
  比较例1   MEA    50   DMI    50   ◎   ◎   ×
  比较例2   MEA    30   DMI    70   ◎   ◎   ×
  比较例3   MEA    10   DMI    90   ◎   ×   ×
  比较例4   MEA    10   DMI    20   DMSO 70   ◎   ×   ○
  比较例5   DEA    30   DMI    70   ○   ×   ◎
  比较例6   TEA    30   DMI    70   ×   ×   ◎
  比较例7   NDMA   30   DMI    70   ◎   ×   ◎
  比较例8   NDEA   30   DMI    70   ○   ×   ◎
  比较例9   DGA    30   DMI    60   水   10   ◎   ×   ×
  ※1 DGA：二甘醇胺＝2-(2-氨基乙氧基)乙醇、AEAE：2-(2-氨基乙基氨基)乙醇、AEIPA：N-(2-氨基乙基)异丙醇胺＝1-(2-氨基乙基氨基)-2-丙醇、APDEA：N-(3-氨基丙基)二乙醇胺＝N-(3-氨基丙基)-N-(2-羟基乙基)-2-氨基乙醇、DEA：二乙醇胺、DETA：二亚乙基三胺、DPTA：二亚丙基三胺、MEA：单乙醇胺、MO：吗啉、NDMA：N，N-二甲基乙醇胺、NDEA：N，N-二乙基乙醇胺、TEA：三乙醇胺、TETA：三亚乙基四胺DM1：1，3-二甲基-2-咪唑啉酮、NMP：N-甲基-2-吡咯烷酮、BCA：丁基卡必醇＝二乙二醇单丁醚、PG：丙二醇、DMSO：二甲亚砜、DMI：1，3-二甲基-2-咪唑啉酮、NMP：N-甲基-2-吡咯烷酮、BCA：丁基卡必醇、PG：丙二醇、DMSO：二甲亚砜※2 ◎：可以除去、○：略有残留、×：不能除去※※3 ◎：没有变化、○：一部分发生变色、×：发生变色、光泽度变化、一部分膜产生剥离
2.非水系的光致抗蚀剂剥离液组合物，其含有单乙醇胺、极性有机溶剂、和从邻苯二酚、对苯二酚、连苯三酚、没食子酸和没食子酸酯之中选择的一种、两种或更多种的防腐蚀剂
对本组合物就光致抗蚀剂的除去性和对银合金腐蚀性进行与上述1相同的实验评价，其结果在表2中示出。
[表2]
  光致抗蚀剂剥离液组成(质量％)   评价结果
成分① 成分② 成分③ 成分④   光致抗蚀剂剥离性   光致抗蚀剂变质层剥离性   对银合金的腐蚀性
  实施例24   MEA  30   NMP  45   DMI  25  邻苯二酚(1)   ◎   ◎   ◎
  实施例25   MEA  30   NMP  45   DMI  25  对苯二酚(1)   ◎   ◎   ◎
  实施例26   MEA  30   NMP  45   DMI  25  没食子酸(1)   ◎   ◎   ◎
  实施例27   MEA  30   NMP  45   DMI  25  没食子酸正十二烷基酯(1)   ◎   ◎   ◎
  实施例28   MEA  30   NMP  45   DMI  25  连苯三酚(1)   ◎   ◎   ◎
  比较例10   MEA  30   NMP  45   DMI  25  -   ◎   ◎   ×
  比较例11   MEA  30   NMP  45   DMI  25  氨基乙酸(1)   ◎   ◎   ×
  比较例12   MEA  30   NMP  45   DMI  25  乙酸(1)   ◎   ◎   ×
  比较例13   MEA  30   NMP  45   DMI  25  均苯三酚(1)   ◎   ◎   ×
  比较例14   MEA  30   NMP  45   DMI  25  间苯二酚(1)   ◎   ◎   ×
  比较例15   MEA  30   NMP  45   DMI  25  苯酚(1)   ◎   ◎   ×
  比较例16   MEA  30   NMP  45   DMI  25  1，2，3-苯并三唑(1)   ◎   ◎   ×
通过使用本发明的光致抗蚀剂剥离液，可以在不对银和银合金产生腐蚀的情况下，将银和银合金蚀刻后的光致抗蚀剂，特别是干法蚀刻后的光致抗蚀剂变质层剥离，因此可以制造将银和银合金用作金属反射膜的有机EL显示器。

Claims (13)

1、一种含有银和/或银合金的基板的光致抗蚀剂剥离液组合物，其中含有从下述的式(I)所表示的化合物、下述的式(II)所表示的化合物、下述的式(III)所表示的化合物、邻苯二酚、对苯二酚、连苯三酚、没食子酸和没食子酸酯之中选择的一种、两种或更多种，以及一种、两种或更多种极性有机溶剂，
式(I)
            NH2-A-Y-B-Z
上式中，A、B分别相互独立地为直链状或支链状的碳原子数为1～5的亚烷基，Y为NH或O的任一个，Z为NH2、OH、NH-D-NH2，其中，D为直链状或支链状的碳原子数为1～5的亚烷基；
式(II)
           NH2-A-N(-B-OH)2
上式中，A、B与式(I)的相同；
式(III)
Figure A2004800248890002C1
上式中，R为H、碳原子数为1～5的烷基、碳原子数为1～5的羟基烷基或碳原子数为1～5的氨基烷基。
2、根据权利要求1所述的光致抗蚀剂剥离液组合物，其为非水系的。
3、根据权利要求1或2所述的光致抗蚀剂剥离液组合物，其中式(I)、式(II)或式(III)所表示的化合物是二亚乙基三胺、2-(2-氨基乙基氨基)乙醇、2-(2-氨基乙基氨基)-2-丙醇、N-(3-氨基丙基)-N-(2-羟基乙基)-2-氨基乙醇、2-(2-氨基乙氧基)乙醇、二亚丙基三胺、三亚乙基四胺、吗啉。
4、根据权利要求1～3任一项所述的光致抗蚀剂剥离液组合物，其中式(I)、式(II)或式(III)所表示的化合物的总含量为20质量％-50质量％。
5、根据权利要求1～4任一项所述的光致抗蚀剂剥离液组合物，其中含有式(I)、式(II)或式(III)所表示的化合物，且极性有机溶剂从1，3-二甲基-2-咪唑啉酮、二乙二醇单丁醚、丙二醇、二甲亚砜和N-甲基-2-吡咯烷酮之中选择的一种、两种或更多种。
6、根据权利要求1～5任一项所述的光致抗蚀剂剥离液组合物，其中进一步含有防腐蚀剂。
7、根据权利要求1或2所述的光致抗蚀剂剥离液组合物，其中含有单乙醇胺，和从邻苯二酚、对苯二酚、连苯三酚、没食子酸和没食子酸酯之中选择的一种、两种或更多种。
8、根据权利要求7所述的光致抗蚀剂剥离液组合物，其中极性有机溶剂为N-甲基-2-吡咯烷酮和/或1，3-二甲基-2-咪唑啉酮。
9、一种银和/或银合金的图案形成方法，其包括：在基板上的预定区域形成由银和/或银合金构成的金属反射膜或反射电极的工序；在该金属反射膜或反射电极上使用光致抗蚀剂形成掩模，并对非掩模区域的所述金属反射膜或反射电极进行蚀刻的工序；和使用权利要求1～8任一项中所述的光致抗蚀剂剥离液组合物将所述光致抗蚀剂从所述金属反射膜或反射电极上剥离的工序。
10、根据权利要求9所述的银和/或银台金的图案形成方法，其中蚀刻工序是干法蚀刻。
11、一种具有由银和/或银合金构成的反射膜或反射电极的显示装置，其为在基板上具有多个显示元件的显示装置，上述显示元件通过下列的方法形成：在基板上形成含有银和/或银合金的层，然后在该层叠的膜上使用光致抗蚀剂形成掩模，使用该掩模对上述层叠的膜进行蚀刻，然后通过权利要求1～8任一项中所述的光致抗蚀剂剥离液组合物将形成了上述掩模的光致抗蚀剂剥离。
12、根据权利要求11所述的显示装置，其中显示元件是在由银和/或银合金构成的反射膜或反射电极上，依次层叠含有发光层的有机层和电极，并将该发光层产生的光从电极侧射出的有机发光元件。
13、根据权利要求11所述的显示装置，其中显示元件是液晶显示元件，该液晶显示元件是通过下列步骤形成的：在基板上设置像素电极和与该像素电极电连接的驱动元件和配线，在该基板与该驱动元件和配线之间设置由银和/或银合金构成的反射膜或反射电极。
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