CN108698967A - 含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质 - Google Patents
含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质 Download PDFInfo
- Publication number
- CN108698967A CN108698967A CN201780012549.4A CN201780012549A CN108698967A CN 108698967 A CN108698967 A CN 108698967A CN 201780012549 A CN201780012549 A CN 201780012549A CN 108698967 A CN108698967 A CN 108698967A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- formula
- fluorine
- integer
- indicates
- following formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
- C10M105/00—Lubricating compositions characterised by the base-material being a non-macromolecular organic compound
- C10M105/50—Lubricating compositions characterised by the base-material being a non-macromolecular organic compound containing halogen
- C10M105/54—Lubricating compositions characterised by the base-material being a non-macromolecular organic compound containing halogen containing carbon, hydrogen, halogen and oxygen
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
- G11B5/725—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction containing a lubricant, e.g. organic compounds
- G11B5/7253—Fluorocarbon lubricant
- G11B5/7257—Perfluoropolyether lubricant
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C43/00—Ethers; Compounds having groups, groups or groups
- C07C43/02—Ethers
- C07C43/03—Ethers having all ether-oxygen atoms bound to acyclic carbon atoms
- C07C43/04—Saturated ethers
- C07C43/13—Saturated ethers containing hydroxy or O-metal groups
- C07C43/137—Saturated ethers containing hydroxy or O-metal groups containing halogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
- C10M107/00—Lubricating compositions characterised by the base-material being a macromolecular compound
- C10M107/38—Lubricating compositions characterised by the base-material being a macromolecular compound containing halogen
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
- G11B5/725—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction containing a lubricant, e.g. organic compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
- C10M2211/00—Organic non-macromolecular compounds containing halogen as ingredients in lubricant compositions
- C10M2211/04—Organic non-macromolecular compounds containing halogen as ingredients in lubricant compositions containing carbon, hydrogen, halogen, and oxygen
- C10M2211/042—Alcohols; Ethers; Aldehydes; Ketones
- C10M2211/0425—Alcohols; Ethers; Aldehydes; Ketones used as base material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
- C10M2211/00—Organic non-macromolecular compounds containing halogen as ingredients in lubricant compositions
- C10M2211/06—Perfluorinated compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
- C10M2213/00—Organic macromolecular compounds containing halogen as ingredients in lubricant compositions
- C10M2213/06—Perfluoro polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
- C10N2040/00—Specified use or application for which the lubricating composition is intended
- C10N2040/14—Electric or magnetic purposes
- C10N2040/18—Electric or magnetic purposes in connection with recordings on magnetic tape or disc
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
- C10N2050/00—Form in which the lubricant is applied to the material being lubricated
- C10N2050/023—Multi-layer lubricant coatings
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Emergency Medicine (AREA)
- Lubricants (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Polyethers (AREA)
Abstract
本发明提供下述式(1)所示的含氟醚化合物。R4CH2R3CH2R2CH2R1CH2R2CH2R3CH2R5(1)(在式(1)中,R1和R3为相同或不同的全氟聚醚链,R2为包含至少1个极性基的连接基,R4与R5中的任一者或两者为包含2个以上极性基的末端基并且R4与R5不同。)。
Description
技术领域
本发明涉及磁记录介质、含氟醚化合物以及磁记录介质用润滑剂。
本申请基于2016年2月22日在日本申请的特愿2016-031473来主张优先权,将其内容援用到本文中。
背景技术
为了提高磁记录再生装置的记录密度,进行了适于高记录密度的磁记录介质的开发。
以往,作为磁记录介质,有在基板上形成记录层,在记录层上形成碳等的保护层的磁记录介质。保护层保护记录于记录层的信息,并且提高磁头的滑动性。然而,仅仅在记录层上设置保护层,不能充分获得磁记录介质的耐久性。因此,一般而言,在保护层的表面涂布润滑剂而形成润滑层。
作为在形成磁记录介质的润滑层时所使用的润滑剂,提出了例如,含有在具有包含CF2的重复结构的氟系聚合物的末端具有羟基等极性基的化合物的润滑剂(例如,参照专利文献1~6)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2010-248463号公报
专利文献2:日本特开2012-184339号公报
专利文献3:日本特开2012-7008号公报
专利文献4:日本专利第4632144号公报
专利文献5:国际公开第2013/054393号
专利文献6:美国专利申请公开第2015/0235664号说明书
发明内容
发明所要解决的课题
在磁记录再生装置中,要求更进一步减小磁头的上浮量。因此,要求使磁记录介质中的润滑层的厚度更薄。
然而,如果减薄润滑层的厚度,则在润滑层易于形成间隙。其结果,被覆保护层表面的润滑层的被覆率降低。如果使污染物质生成的环境物质从被覆率低的润滑层的间隙侵入到润滑层的下层,则环境物质生成离子性杂质等污染磁记录介质的污染物质。
该污染物质(凝集成分)在磁记录再生时,作为异物(污渍)而附着(转印)于磁头,有时使磁头破损、或使磁记录再生装置的磁记录再生特性降低。此外,不与保护层密合(吸附)而存在的润滑剂层中的含氟醚化合物有时凝集而作为异物(污渍)附着于磁头。
此外,关于润滑层,为了使磁记录介质的耐久性提高,需要与保护层的密合性优异。
本发明是鉴于上述情况而提出的,其课题是提供可以适合用作磁记录介质用润滑剂的材料的含氟醚化合物,上述磁记录介质用润滑剂可以形成即使厚度小,也可以以高被覆率被覆保护层表面,与保护层的密合性优异,不易使异物(污渍)产生的润滑层。
此外,本发明的课题是提供包含本发明的含氟醚化合物的磁记录介质用润滑剂以及设置有包含本发明的含氟醚化合物的润滑层的磁记录介质。
用于解决课题的手段
本发明人为了解决上述课题而反复进行了深入研究。
其结果发现,只要制成下述含氟醚化合物即可,该含氟醚化合物是将第1全氟聚醚(以下有时记载为“PFPE”。)链配置在中央,在其两端分别经由包含极性基的连接基而配置第2PFPE链,在各第2PFPE链的外侧(与第1PFPE相反侧)分别配置不同的末端基,一个或两个末端基包含2个以上极性基,从而想到了本发明。
即,本发明涉及以下事项。
[1]一种含氟醚化合物,其特征在于,由下述式(1)表示。
R4-CH2-R3-CH2-R2-CH2-R1-CH2-R2-CH2-R3-CH2-R5 (1)
(在式(1)中,R1和R3为相同或不同的全氟聚醚链,R2为包含至少1个极性基的连接基,R4与R5中的任一者或两者为包含2个以上极性基的末端基并且R4与R5不同。)
[2]根据[1]所述的含氟醚化合物,上述式(1)中的R4和R5为选自羟基、下述式(2-1)~(2-5)中的任一末端基。
(在式(2-1)中,r表示0~4的整数。)
(在式(2-2)中,p表示1~5的整数。)
(在式(2-3)中,s表示2~5的整数。)
(在式(2-4)中,t表示1~5的整数。)
(在式(2-5)中,q表示2~5的整数。)
[3]根据[1]或[2]所述的含氟醚化合物,其特征在于,上述式(1)中的R1与R3中的任一者或两者由下述式(3)表示。
(在式(3)中,m表示1~20的整数,n表示0~10的整数。)
[4]根据[1]或[2]所述的含氟醚化合物,其特征在于,上述式(1)中的R3由下述式(4)或下述式(5)表示。
(在式(4)中,u表示1~30的整数。)
(在式(5)中,v表示1~30的整数。)
[5]根据[1]~[4]中任一项所述的含氟醚化合物,其特征在于,上述式(1)中的R2的碳原子数为1~20。
[6]根据[1]~[5]中任一项所述的含氟醚化合物,其特征在于,上述式(1)中的R2由下述式(6)表示。
(在式(6)中,w表示1~4的整数。)
[7]根据[1]~[6]中任一项所述的含氟醚化合物,其特征在于,上述式(1)中的R4与R5中的一者为羟基。
[8]根据[1]~[7]中任一项所述的含氟醚化合物,其特征在于,上述式(1)所示的化合物由下述式(D)表示,下述式(D)中的Rf1由下述式(RF-1)表示。
(在式(RF-1)中,x表示1~7的整数,y表示1~7的整数。)
[9]根据[1]~[7]中任一项所述的含氟醚化合物,其特征在于,上述式(1)所示的化合物由下述式(G)表示,下述式(G)中的Rf1由式(RF-1)表示。
[10]根据[1]~[7]中任一项所述的含氟醚化合物,其特征在于,上述式(1)所示的化合物由下述式(H)表示,下述式(H)中的Rf1由式(RF-1)表示。
[11]根据[1]~[7]中任一项所述的含氟醚化合物,其特征在于,上述式(1)所示的化合物由下述式(J)表示,下述式(J)中的Rf1由式(RF-1)表示。
[12]根据[1]~[7]中任一项所述的含氟醚化合物,其特征在于,上述式(1)所示的化合物由下述式(K)表示,下述式(K)中的Rf1由式(RF-1)表示。
[13]根据[1]~[7]中任一项所述的含氟醚化合物,其特征在于,上述式(1)所示的化合物由下述式(L)表示,下述式(L)中的Rf1由式(RF-1)表示。
[14]根据[1]~[7]中任一项所述的含氟醚化合物,其特征在于,上述式(1)所示的化合物由下述式(O)表示,下述式(O)中的Rf2由下述式(RF-2)表示。
(在式(RF-2)中,z表示1~9的整数。)
[15]根据[1]~[7]中任一项所述的含氟醚化合物,其特征在于,上述式(1)所示的化合物由下述式(Q)表示,下述式(Q)中的Rf2由式(RF-2)表示。
[16]根据[1]~[7]中任一项所述的含氟醚化合物,其特征在于,上述式(1)所示的化合物由下述式(R)表示,下述式(R)中的Rf2由式(RF-2)表示。
[17]根据[1]~[7]中任一项所述的含氟醚化合物,其特征在于,上述式(1)所示的化合物由下述式(U)表示,下述式(U)中的Rf1由式(RF-1)表示。
[18]根据[1]~[7]中任一项所述的含氟醚化合物,其特征在于,上述式(1)所示的化合物由下述式(X)表示,下述式(X)中的Rf1由式(RF-1)表示。
[19]根据[1]~[7]中任一项所述的含氟醚化合物,其特征在于,上述式(1)所示的化合物由下述式(Z)表示,下述式(Z)中的Rf1由式(RF-1)表示。
[20]根据[1]~[19]中任一项所述的含氟醚化合物,其数均分子量在1000~10000的范围内。
[21]一种磁记录介质用润滑剂,其特征在于,包含[1]~[20]中任一项所述的含氟醚化合物。
[22]一种磁记录介质,其特征在于,在基板上至少依次设置有磁性层、保护层、和润滑层,上述润滑层包含[1]~[20]中任一项所述的含氟醚化合物。
[23]根据[22]所述的磁记录介质,上述润滑层的平均膜厚为0.5nm~3nm。
发明的效果
本发明的含氟醚化合物是上述式(1)所示的化合物,适合作为磁记录介质用润滑剂的材料。
由于本发明的磁记录介质用润滑剂包含本发明的含氟醚化合物,因此可以形成即使减薄厚度,也可以以高被覆率被覆保护层表面,与保护层的密合性优异,不易使异物(污渍)产生的润滑层。
本发明的磁记录介质的润滑层包含本发明的含氟醚化合物。因此,本发明的磁记录介质是保护层表面被润滑层以高被覆率被覆的、沾污被抑制了的磁记录介质。此外,本发明的磁记录介质由于具有与保护层的密合性优异,不易使液滴状或粘土状的异物(污渍)产生的润滑层,因此耐久性优异。
附图说明
图1是表示本发明的磁记录介质的一实施方式的概略截面图。
图2是用于说明重复进行连续LUL动作的环境的图。
图3是实施例1中获得的生成物的1H-NMR光谱。
图4是实施例1中获得的生成物的19F-NMR光谱。
具体实施方式
以下,对本发明的含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂以及磁记录介质详细地说明。另外,本发明不仅仅限定于以下所示的实施方式。
[含氟醚化合物]
本实施方式的含氟醚化合物由下述式(1)表示。
R4-CH2-R3-CH2-R2-CH2-R1-CH2-R2-CH2-R3-CH2-R5 (1)
(在式(1)中,R1和R3为相同或不同的全氟聚醚链,R2为包含至少1个极性基的连接基,R4与R5中的任一者或两者为包含2个以上极性基的末端基并且R4与R5不同。)
这里,对使用包含本实施方式的含氟醚化合物的磁记录介质用润滑剂(以下有时简写为“润滑剂”。),在磁记录介质的保护层上形成了润滑层的情况下,即使减薄厚度,也可以以高被覆率被覆保护层表面,与保护层的密合性优异,不易使异物(污渍)产生的理由进行说明。
本实施方式的含氟醚化合物如式(1)所示,具有:R1所示的第1PFPE链、和在第1PFPE链的两端分别经由R2所示的连接基而配置的R3所示的第2PFPE链。在包含本实施方式的含氟醚化合物的润滑层中,第1PFPE链和第2PFPE链被覆保护层表面,并且使磁头与保护层的摩擦力降低。
此外,式(1)中的R2所示的连接基包含至少1个极性基。R4与R5中的任一者或两者的末端基包含2个以上极性基。在包含本实施方式的含氟醚化合物的润滑层中,连接基和末端基所具有的极性基使含氟醚化合物与保护层密合。
具体而言,如果使用包含本实施方式的含氟醚化合物的润滑剂在保护层上形成润滑层,则第1PFPE链通过在其两侧分别连接的R2与保护层的结合而密合在保护层上。此外,2个第2PFPE链之中,任一者或两者通过连接于第1PFPE链侧的R2与保护层的结合、和连接于外侧(与第1PFPE的相反侧)的R4和/或R5所具有的极性基与保护层的结合,而密合在保护层上。而且,本实施方式的含氟醚化合物中,式(1)中的R4与R5中的任一者或两者包含2个以上极性基。因此,包含本实施方式的含氟醚化合物的润滑层与保护层的密合性优异,与保护层牢固结合。
此外,上述的润滑层中,通过极性基与保护层的结合,含氟醚化合物中的第1PFPE链的两端和、一个或两个第2PFPE链的两端密合在保护层上。因此,第1PFPE链和第2PFPE链在保护层上不易凝集,润滑层中的含氟醚化合物易于在保护层上以沿面方向扩展延伸的状态被配置。其结果推定,包含上述含氟醚化合物的润滑剂可以形成即使减薄厚度,也可以以高被覆率被覆保护层表面的润滑层。
进一步,使用包含本实施方式的含氟醚化合物的润滑剂而形成的润滑层由于式(1)中的R4与R5不同,因此与R4与R5相同的情况相比,含氟醚化合物彼此不易凝集。因此,可以防止不与保护层密合(吸附)而存在的润滑剂层中的含氟醚化合物凝集而作为异物(污渍)附着于磁头。
式(1)中的R4与R5中的任一者或两者为包含2个以上极性基的末端基,R4与R5不同。包含2个以上极性基的末端基有助于包含本实施方式的含氟醚化合物的润滑剂被涂布的保护层、与涂布润滑剂而形成的润滑层的密合性。式(1)中的R4和R5可以根据包含含氟醚化合物的润滑剂所要求的性能等来适当选择。为了获得与保护层的密合性良好的包含含氟醚化合物的润滑层,R4和R5的包含2个以上极性基的末端基中的极性基优选为羟基。
在式(1)中的R4与R5中的任一个末端基包含2个以上极性基的情况下,另一个末端基优选为包含1个极性基的末端基、或不含极性基的末端基。作为包含1个极性基的末端基,可举出例如,羟基、氨基、咪唑基等。
作为不含极性基的末端基,可举出将末端的极性基所具有的活性氢原子进行置换而得的基团,可举出例如将羟基进行烷基化、酯化而得的官能团、或将氨基进行叔氨基化而得的官能团。例如,可举出下述式(2-0)所示的末端基等。
式(1)中的R4和R5优选为羟基、下述式(2-1)~(2-5)中的任一末端基。这样的R4和R5有助于包含本实施方式的含氟醚化合物的润滑剂被涂布的保护层、与涂布润滑剂而形成的润滑层的密合性。
(在式(2-1)中,r表示0~4的整数。)
式(2-1)由于包含2个以上羟基,因此例如,与羟基相比与保护层的密合性优异。在式(2-1)中,在r为0~4的整数的情况下,本实施方式的含氟醚化合物的羟基的数目变得适当,可以形成与保护层的密合性优异,不易使异物(污渍)产生的润滑层。r优选为0~2的整数,最优选为0。
(在式(2-2)中,p表示1~5的整数。)
在式(2-2)中,在p为1~5的整数的情况下,R3侧的羟基与末端的羟基之间的距离变得适当,可以形成与保护层的密合性优异,不易使异物(污渍)产生的润滑层。p优选为1~2的整数,最优选为1。
(在式(2-3)中,s表示2~5的整数。)
在式(2-3)中,在s为2~5的整数的情况下,R3侧的羟基与末端的羟基之间的距离变得适当,可以形成与保护层的密合性优异,不易使异物(污渍)产生的润滑层。s优选为2~3的整数,最优选为2。
(在式(2-4)中,t表示1~5的整数。)
在式(2-4)中,在t为1~5的整数的情况下,R3侧的羟基与末端的羟基之间的距离变得适当,可以形成与保护层的密合性优异,不易使异物(污渍)产生的润滑层。t优选为1~2的整数,最优选为1。
(在式(2-5)中,q表示2~5的整数。)
在式(2-5)中,在q为2~5的整数的情况下,R3侧的羟基与末端的羟基之间的距离变得适当,可以形成与保护层的密合性优异,不易使异物(污渍)产生的润滑层。q优选为2~3的整数。
式(1)中的R4与R5所具有的极性基的合计数为2以上,为了更进一步获得与保护层的密合性优异的润滑层,优选为3以上。此外,式(1)中的R4与R5所具有的极性基的合计数越多,则含氟醚化合物彼此越易于凝集。因此,不与保护层密合(吸附)而存在的润滑剂层中的含氟醚化合物易于凝集而变为异物(污渍)。因此,式(1)中的R4与R5所具有的极性基的合计数优选为5以下,更优选为4以下。
式(1)中,R1(第1PFPE链)为全氟聚醚链。在将包含含氟醚化合物的润滑剂涂布在保护层上而形成润滑层的情况下,第1PFPE链被覆保护层表面,并且对润滑层赋予润滑性而使磁头与保护层的摩擦力降低。
R1没有特别限定,可以根据包含含氟醚化合物的润滑剂所要求的性能等来适当选择。
为了使含氟醚化合物的合成容易,在式(1)中R1优选为下述式(3)所示的PFPE链。
(在式(3)中,m表示1~20的整数,n表示0~10的整数。)
在式(3)中,作为重复单元的(CF2-CF2-O)与(CF2-O)的排列顺序没有特别限制。在式(3)中(CF2-CF2-O)的数m与(CF2-O)的数n可以相同,也可以不同。式(3)可以包含由单体单元(CF2-CF2-O)和(CF2-O)形成的无规共聚物、嵌段共聚物、交替共聚物中的任一种。
在R1为式(3)所示的PFPE链的情况下,更优选式(3)中的m为1~10的整数,n为0~10的整数。在该情况下,第1PFPE链不会变得过长。因此,在将包含含氟醚化合物的润滑剂涂布在保护层上而形成润滑层的情况下,更进一步含氟醚化合物在保护层上不易凝集,更进一步可以以充分的被覆率形成厚度薄的润滑层。
式(3)中的m更优选为1~7的整数,进一步优选为1~3的整数,更优选为1或2,最优选为2。在式(3)中的m为1以上的整数的情况下,第1PFPE链充分变长。因此,在使用包含含氟醚化合物的润滑剂而在保护层上形成润滑层的情况下,可以通过润滑层以高被覆率被覆保护层表面,并可以对润滑层赋予润滑性。
式(3)中的n更优选为1~7的整数,进一步优选为1~5的整数。此外,在n为0的情况下,m优选为1~9的整数。
式(1)中,R3(第2PFPE链)为全氟聚醚链。第2PFPE链与第1PFPE链同样地,在将包含含氟醚化合物的润滑剂涂布在保护层上而形成润滑层的情况下,被覆保护层表面,并且对润滑层赋予润滑性而使磁头与保护层的摩擦力降低。
R3没有特别限定,可以根据包含含氟醚化合物的润滑剂所要求的性能等来适当选择。R3与R1可以为相同的全氟聚醚链,也可以为不同的全氟聚醚链。式(1)中的2个R3相同。
在式(1)中R3优选由上述式(3)、下述式(4)、下述式(5)中的任一式表示。关于式(1)中的R3,上述中,特别优选为式(3)。
在式(1)中的R3为式(3)的情况下,m优选为1~20的整数,更优选为1~10的整数,进一步优选为1~7的整数。在式(1)中R3为式(3)的情况下,n优选为0~10的整数,更优选为1~7的整数。此外,在n为0的情况下,m优选为1~9的整数。
(在式(4)中,u表示1~30的整数。)
在式(4)中,在u为1~30的整数的情况下,本实施方式的含氟醚化合物的数均分子量易于变为优选的范围。u优选为3~20的整数,更优选为4~10的整数。
(在式(5)中,v表示1~30的整数。)
在式(5)中,在v为1~30的整数的情况下,本实施方式的含氟醚化合物的数均分子量易于变为优选的范围。v优选为3~20的整数,更优选为4~10的整数。
在式(1)中的R3为式(3)~式(5)中的任一式的情况下,含氟醚化合物的合成容易,是优选的。此外,在式(1)中的R3为式(3)~式(5)中的任一式的情况下,全氟聚醚链中的氧原子数(醚键(-O-)数)相对于碳原子数的比例是适当的。因此,成为具有适度硬度的含氟醚化合物。因此,涂布在保护层上的含氟醚化合物在保护层上不易凝集,更进一步可以以充分的被覆率形成厚度薄的润滑层。此外,在式(1)中的R3为式(3)的情况下,由于每单位分子量的醚键数变多,因此具有适度的柔软性,因而是更优选的。
式(1)中的R2为包含至少1个极性基的连接基。连接基有助于包含本实施方式的含氟醚化合物的润滑剂被涂布的保护层、与涂布润滑剂而形成的润滑层的密合性。
连接基没有特别限定,可以根据包含含氟醚化合物的润滑剂所要求的性能等来适当选择。作为连接基所包含的极性基,可举出例如,羟基、羧基、氨基、氨基羧基等。
连接基优选包含至少1个羟基。如果连接基包含至少1个羟基,则在润滑剂被涂布的保护层由碳或包含氮的碳形成的情况下,保护层与包含含氟醚化合物的润滑剂的密合性更进一步提高。
连接基所包含的极性基的数目没有特别限定,可以为1个,也可以为多个。关于连接基所包含的极性基的数目,为了防止含氟醚化合物的数均分子量变得过大,优选为4以下。
式(1)中的2个R2相同。
在式(1)中,R2所示的连接基优选为碳原子数为1~20的连接基。如果连接基的碳原子数为20以下,则可以防止含氟醚化合物的数均分子量变得过大。连接基的碳原子数更优选为3~12。
为了使含氟醚化合物的合成容易,优选式(1)中的R2由下述式(6)表示。
(在式(6)中,w表示1~4的整数。)
在式(6)中,如果w为1以上的整数,则连接基包含1个以上羟基,因此保护层与末端基的密合性变得更良好,是优选的。此外,在w为4以下的整数的情况下,可以防止含氟醚化合物的数均分子量变得过大,是优选的。w更优选为1~2的整数,最优选为1。
本实施方式的含氟醚化合物,具体而言,优选为下述式(D)(G)(H)(J)(K)(L)(O)(Q)(R)(U)(X)(Z)所示的任一化合物。式(D)(G)(H)(J)(K)(L)(U)(X)(Z)中的Rf1由下述式(RF-1)表示。式(O)(Q)(R)中的Rf2由下述式(RF-2)表示。
(在式(RF-1)中,x表示1~7的整数,y表示1~7的整数。)
(在式(RF-2)中,z表示1~9的整数。)
如果式(1)所示的化合物为上述式(D)(G)(H)(J)(K)(L)(O)(Q)(R)(U)(X)(Z)所示的任一化合物,则原料易于获得,因此是优选的。此外,下述式(D)(G)(H)(J)(K)(L)(O)(Q)(R)(U)(X)(Z)所示的任一化合物由于被覆性优异,抑制污迹(smear),因此是优选的。
本实施方式的含氟醚化合物的数均分子量优选在1000~10000的范围内。如果数均分子量为1000以上,则包含本实施方式的含氟醚化合物的润滑剂不易蒸发,可以防止润滑剂蒸发而转移到磁头。含氟醚化合物的数均分子量更优选为2000以上。此外,如果数均分子量为10000以下,则含氟醚化合物的粘度变得适当,通过涂布包含该含氟醚化合物的润滑剂,从而可以容易地形成厚度薄的润滑层。关于含氟醚化合物的数均分子量,为了成为在适用于润滑剂的情况下易于操作的粘度,优选为4000以下。
数均分子量为通过采用ブルカー·バイオスピン社制AVANCEIII400的19F-NMR测定的值。在NMR(核磁共振)的测定中,将试样稀释于六氟苯/d-丙酮(1/4v/v)溶剂,用于测定。19F-NMR化学位移的基准是,将六氟苯的峰设为-164.7ppm,1H-NMR化学位移的基准是,将丙酮的峰设为2.2ppm。
“制造方法”
本实施方式的含氟醚化合物的制造方法没有特别限定,可以使用以往公知的制造方法制造,例如,可以使用以下所示的制造方法。
首先,合成在式(1)中的R1的两端具有与-CH2-R2-对应的末端环氧基的环氧化合物。接下来,使合成的环氧化合物、与在两末端具有-CH2OH基且具有与式(1)中的R3对应的全氟聚醚链的化合物,通过上述的环氧化合物所具有的环氧基的开环加成反应进行反应。通过以上方法,可获得式(1)中的两末端为羟基的化合物(HO-CH2-R3-CH2-R2-CH2-R1-CH2-R2-CH2-R3-CH2-OH)。
接下来,例如,通过使所得的化合物与缩水甘油反应,从而生成R4与R5中的一者为式(2-1)所示的末端基且另一者为羟基的化合物、与两末端为式(2-1)所示的末端基的化合物的混合物。R4与R5中的一者为式(2-1)所示的末端基且另一者为羟基的化合物、与两末端为式(2-1)所示的末端基的化合物可以通过例如使用柱色谱的方法来分离。
此外,例如,使用化合物(HO-CH2R3CH2R2CH2R1CH2R2CH2R3CH2-OH)来合成在一个末端具有环氧基的环氧化合物,使其与选自乙二醇、2,2,3,3-氟丁烷-1,4-二醇、丙二醇、丁二醇中的任一种反应。由此,可以生成R4与R5中的一者为式(2-2)(2-3)(2-5)中任一式所示的末端基且另一者为羟基的化合物。
此外,例如,使化合物(HO-CH2R3CH2R2CH2R1CH2R2CH2R3CH2-OH)与由3-丁烷基乙酸酯合成的后述的环氧化合物(I)反应。由此,可以生成R4与R5中的一者为式(2-4)所示的末端基且另一者为羟基的化合物。
本实施方式的含氟醚化合物为上述式(1)所示的化合物。因此,如果使用包含该化合物的润滑剂在保护层上形成润滑层,则通过式(1)中R1所示的第1PFPE链、和R3所示的第2PFPE链被覆保护层表面,并且磁头与保护层的摩擦力被降低。
此外,第1PFPE链通过在第1PFPE链的两侧分别连接的R2所示的连接基所具有的极性基与保护层的结合,而密合在保护层上。此外,2个第2PFPE链之中,任一者或两者通过连接于第2PFPE链的第1PFPE链侧的R2所具有的极性基与保护层的结合、和连接于第2PFPE链的外侧的R4和/或R5所具有的极性基与保护层的结合,而密合在保护层上。由此,润滑层与保护层被牢固地结合。
此外,上述的润滑层中,通过极性基与保护层的结合,含氟醚化合物中的第1PFPE链的两端和、一个或两个第2PFPE链的两端被密合在保护层上。因此,第1PFPE链和第2PFPE链在保护层上不易凝集,润滑层中的含氟醚化合物易于在保护层上以沿面方向扩展延伸的状态被配置。其结果推定,上述的包含含氟醚化合物的润滑剂可以形成即使减薄厚度,也可以以高被覆率被覆保护层表面的润滑层。
进一步,使用包含本实施方式的含氟醚化合物的润滑剂而形成的润滑层由于式(1)中的R4与R5不同,因此和R4与R5相同的情况相比,含氟醚化合物彼此不易凝集。因此,可以防止不与保护层密合(吸附)而存在的润滑剂层中的含氟醚化合物凝集而作为异物(污渍)附着于磁头。
此外,通过使用包含上述的含氟醚化合物的润滑剂在保护层上形成润滑层,可以防止侵入到润滑层下层的环境物质生成液滴状或粘土状的异物(污渍)而污染磁记录介质。
与此相对,在作为含氟醚化合物,例如,使用了在全氟聚醚链的两端具有羟基的化合物的情况下,如果减薄在保护层上形成的润滑层的厚度,则得不到充分的被覆率。推定这是因为,由于没有连接基,因此含氟醚化合物易于在保护层上沿保护层的厚度方向凝集,不易在保护层上沿面方向扩展。此外,在没有连接基的情况下,由于与保护层的密合性变得不充分,因此难以减薄。
[磁记录介质用润滑剂]
本实施方式的磁记录介质用润滑剂包含式(1)所示的含氟醚化合物。
本实施方式的润滑剂,只要在不损害由包含式(1)所示的含氟醚化合物产生的特性的范围内,就可以根据需要混合使用作为润滑剂的材料而使用的公知材料。
作为公知材料的具体例,可举出例如,FOMBLIN(注册商标)ZDIAC、FOMBLIN ZDEAL、FOMBLIN AM-2001(以上Solvey Solexis社制)、Moresco A20H(Moresco社制)等。与本实施方式的润滑剂混合使用的公知材料的数均分子量优选为1000~10000。
在本实施方式的润滑剂包含式(1)所示的含氟醚化合物以外的材料的情况下,本实施方式的润滑剂中的式(1)所示的含氟醚化合物的含量优选为50质量%以上,更优选为70质量%以上。
本实施方式的润滑剂由于包含式(1)所示的含氟醚化合物,因此可以形成即使减薄厚度,也可以以高被覆率被覆保护层表面,与保护层的密合性优异的润滑层。因此,可以抑制对磁记录介质的沾污。其结果,根据本实施方式的润滑剂,可以提供在表面的异物(污渍)等污染物质少的磁记录介质。而且,本实施方式的润滑剂由于包含式(1)所示的含氟醚化合物,因此不与保护层密合(吸附)而存在的润滑剂层中的含氟醚化合物不易凝集。因此,可以防止含氟醚化合物凝集而作为异物(污渍)附着于磁头。
[磁记录介质]
图1为表示本发明的磁记录介质的一实施方式的概略截面图。
本实施方式的磁记录介质10形成下述结构:在基板11上依次设置有附着层12、软磁性层13、第1基底层14、第2基底层15、磁性层16、保护层17、和润滑层18。
“基板”
作为基板11,可以使用例如,在由Al或Al合金等金属或合金材料形成的基体上,形成了由NiP或NiP合金形成的膜的非磁性基板等。
此外,作为基板11,可以使用由玻璃、陶瓷、硅、碳化硅、碳、树脂等非金属材料形成的非磁性基板,也可以使用在由这些非金属材料形成的基体上形成了NiP或NiP合金的膜的非磁性基板。
“附着层”
关于附着层12,在将基板11、与在附着层12上设置的软磁性层13相接配置的情况下,防止基板11的腐蚀的进行。
附着层12的材料可以从例如Cr、Cr合金、Ti、Ti合金等适当选择。附着层12可以通过例如溅射法来形成。
“软磁性层”
软磁性层13优选具有第1软磁性膜、由Ru膜构成的中间层、和第2软磁性膜依次叠层而得的结构。即,软磁性层13优选通过在2层软磁性膜之间夹入由Ru膜构成的中间层,从而具有中间层的上下的软磁性膜进行了反铁磁耦合(AFC)结合的结构。如果软磁性层13具有进行了AFC结合的结构,则可以提高对来自外部的磁场的耐性、以及对作为垂直磁记录特有的问题的WATE(Wide Area Tack Erasure,广域磁道擦除)现象的耐性。
第1软磁性膜和第2软磁性膜优选为由CoFe合金形成的膜。在第1软磁性膜和第2软磁性膜为由CoFe合金形成的膜的情况下,可以实现高的饱和磁通密度Bs(1.4(T)以上)。
此外,优选在用于第1软磁性膜和第2软磁性膜的CoFe合金中,添加Zr、Ta、Nb中的任意种。由此,能够促进第1软磁性膜和第2软磁性膜的非晶质化,使第1基底层(籽晶层)的取向性提高,并且能够降低磁头的上浮量。
软磁性层13可以通过例如溅射法来形成。
“第1基底层”
第1基底层14为用于控制在其上设置的第2基底层15和磁性层16的取向、结晶尺寸的层。第1基底层14是为了增大从磁头产生的磁通的相对于基板面的垂直方向成分,并且将磁性层16的磁化的方向更牢固地固定于与基板11垂直的方向而设置的。
第1基底层14优选为由NiW合金形成的层。在第1基底层14为由NiW合金形成的层的情况下,根据需要也可以在NiW合金中添加B、Mn、Ru、Pt、Mo、Ta等其它元素。
第1基底层14可以通过例如溅射法来形成。
“第2基底层”
第2基底层15为以磁性层16的取向变得良好的方式进行控制的层。第2基底层15优选为由Ru或Ru合金形成的层。
第2基底层15可以为由1层构成的层,也可以由多层构成。在第2基底层15由多层构成的情况下,可以全部层由相同材料构成,也可以至少一层由不同材料构成。
第2基底层15可以通过例如溅射法来形成。
“磁性层”
磁性层16由易磁化轴相对于基板面朝向垂直或水平方向的磁性膜构成。磁性层16为包含Co和Pt的层,进一步为了改善SNR特性,可以为包含氧化物、Cr、B、Cu、Ta、Zr等的层。
作为磁性层16所含有的氧化物,可举出SiO2、SiO、Cr2O3、CoO、Ta2O3、TiO2等。
磁性层16可以由1层构成,也可以由组成不同的材料所形成的多个磁性层构成。
例如,在磁性层16由第1磁性层、第2磁性层和第3磁性层这3层构成的情况下,第1磁性层优选为由包含Co、Cr、Pt、进一步包含氧化物的材料形成的粒状结构。作为第1磁性层所含有的氧化物,优选使用例如,Cr、Si、Ta、Al、Ti、Mg、Co等的氧化物。其中,可以特别适合使用TiO2、Cr2O3、SiO2等。此外,第1磁性层优选包含添加了2种以上氧化物的复合氧化物。其中,可以特别适合使用Cr2O3-SiO2、Cr2O3-TiO2、SiO2-TiO2等。
第1磁性层中除了Co、Cr、Pt、氧化物以外,还可以包含选自B、Ta、Mo、Cu、Nd、W、Nb、Sm、Tb、Ru、Re中的1种以上元素。通过包含1种以上上述元素,可以促进磁性粒子的微细化,或使结晶性、取向性提高,可以获得适于更高密度记录的记录再生特性、热起伏特性。
第2磁性层可以使用与第1磁性层同样的材料。第2磁性层优选为粒状结构。
第3磁性层优选为由包含Co、Cr、Pt、不含氧化物的材料形成的非粒状结构。第3磁性层中除了Co、Cr、Pt以外,还可以包含选自B、Ta、Mo、Cu、Nd、W、Nb、Sm、Tb、Ru、Re、Mn中的1种以上元素。第3磁性层通过除了Co、Cr、Pt以外还包含上述元素,可以促进磁性粒子的微细化,或使结晶性、取向性提高,可获得适于更高密度记录的记录再生特性和热起伏特性。
在磁性层16由多个磁性层形成的情况下,优选在相邻的磁性层之间设置非磁性层。在磁性层16由第1磁性层、第2磁性层和第3磁性层这3层构成的情况下,优选在第1磁性层与第2磁性层之间、以及第2磁性层与第3磁性层之间设置非磁性层。
通过在相邻的磁性层间以适度厚度设置非磁性层,从而各个膜的磁化反转变得容易,可以减小磁性粒子整体的磁化反转的分散,可以使S/N比更加提高。
在磁性层16的相邻的磁性层间所设置的非磁性层可以适合使用例如,Ru、Ru合金、CoCr合金、CoCrX1合金(X1表示选自Pt、Ta、Zr、Re、Ru、Cu、Nb、Ni、Mn、Ge、Si、O、N、W、Mo、Ti、V、Zr、B中的1种或2种以上元素。)等。
在磁性层16的相邻的磁性层间所设置的非磁性层中,优选使用包含氧化物、金属氮化物、或金属碳化物的合金材料。具体而言,作为氧化物,可以使用例如,SiO2、Al2O3、Ta2O5、Cr2O3、MgO、Y2O3、TiO2等。作为金属氮化物,可以使用例如,AlN、Si3N4、TaN、CrN等。作为金属碳化物,可以使用例如,TaC、BC、SiC等。
非磁性层可以通过例如溅射法来形成。
关于磁性层16,为了实现更高的记录密度,优选为易磁化轴相对于基板面朝向垂直方向的垂直磁记录的磁性层,但也可以为面内磁记录。
磁性层16可以通过蒸镀法、离子束溅射法、磁控溅射法等以往的公知的任何方法来形成,但通常通过溅射法来形成。
“保护层”
保护层17为用于保护磁性层16的层。保护层17可以由一层构成,也可以由多层构成。作为保护层17的材料,可举出碳、包含氮的碳、碳化硅等。
作为保护层17的成膜方法,可以使用利用了包含碳的靶材的溅射法、使用乙烯、甲苯等烃原料的CVD(化学蒸镀法)法、IBD(离子束蒸镀)法等。
“润滑层”
润滑层18防止磁记录介质10的污染。此外,润滑层18使在磁记录介质10上滑动的磁记录再生装置的磁头的摩擦力降低,而使磁记录介质10的耐久性提高。
如图1所示,润滑层18在保护层17上相接形成。润滑层18是通过在保护层17上涂布上述实施方式的磁记录介质用润滑剂而形成的。因此,润滑层18包含上述含氟醚化合物。
关于润滑层18,在配置在润滑层18下的保护层17由碳、包含氮的碳、碳化硅形成的情况下,保护层17所包含的碳、包含氮的碳、碳化硅与含氟醚化合物以高的结合力结合。其结果,易于获得即使润滑层18的厚度薄,也以高被覆率被覆了保护层17的表面的磁记录介质10,可以有效地防止磁记录介质10的表面污染。
润滑层18的平均膜厚优选为更优选为
如果润滑层18的平均膜厚为0.5nm以上,则润滑层18不形成岛状或网眼状而以均匀的膜厚形成。因此,通过润滑层18,可以以高被覆率被覆保护层17的表面。此外,通过使润滑层18的平均膜厚为3nm以下,可以充分减小磁头的上浮量,提高磁记录介质10的记录密度。
保护层17的表面未被润滑层18以充分高的被覆率被覆的情况下,吸附在磁记录介质10的表面的环境物质穿过润滑层18的间隙,而侵入到润滑层18下。侵入到润滑层18的下层的环境物质吸附、结合于保护层17而生成污染物质。进而,在磁记录再生时,该污染物质(凝集成分)作为污渍而附着(转印)于磁头,使磁头破损,或使磁记录再生装置的磁记录再生特性降低。
作为使污染物质生成的环境物质,可举出例如,硅氧烷化合物(环状硅氧烷、直链硅氧烷)、离子性化合物、二十八烷等分子量较高的烃、邻苯二甲酸二辛酯等增塑剂等。作为离子性杂质所包含的金属离子,可以举出例如,钠离子、钾离子等。作为离子性杂质所包含的无机离子,可以举出例如,氯离子、溴离子、硝酸根离子、硫酸根离子、铵根离子等。作为离子性杂质所包含的有机物离子,可以举出例如,草酸根离子、甲酸根离子等。
“润滑层的形成方法”
在形成润滑层18时,可举出例如,准备在基板11上形成了直到保护层17为止的各层的制造中途的磁记录介质,在保护层17上涂布润滑层形成用溶液的方法。
润滑层形成用溶液通过将上述实施方式的磁记录介质用润滑剂根据需要用溶剂稀释,制成适于涂布方法的粘度和浓度来获得。
作为润滑层形成用溶液所使用的溶剂,可举出例如,バートレル(注册商标)XF(商品名,三井デュポンフロロケミカル社制)等氟系溶剂等。
润滑层形成用溶液的涂布方法没有特别限定,可举出例如,旋转涂布法、浸渍法等。
在使用浸渍法的情况下,例如,可以使用以下所示的方法。首先,在装入到浸渍涂布装置的浸渍槽的润滑层形成用溶液中,浸渍形成了直到保护层17为止的各层的基板11。接着,以规定的速度从浸渍槽提起基板11。由此,将润滑层形成用溶液涂布在基板11的保护层17上的表面。
通过使用浸渍法,可以将润滑层形成用溶液均匀地涂布在保护层17的表面,可以在保护层17上以均匀的膜厚形成润滑层18。
本实施方式的磁记录介质10在基板11上至少依次设置有磁性层16、保护层17、和润滑层18。本实施方式的磁记录介质10在保护层17上相接形成有包含上述含氟醚化合物的润滑层18。该润滑层18即使厚度薄,也以高被覆率被覆保护层17的表面。因此,本实施方式的磁记录介质10防止使离子性杂质等污染物质生成的环境物质从润滑层18的间隙侵入。因此,本实施方式的磁记录介质10在表面上存在的污染物质少。此外,本实施方式的磁记录介质10中的润滑层18不易使异物(污渍)产生。
实施例
以下,通过实施例和比较例进一步具体地说明本发明。另外,本发明不仅仅限定于以下实施例。
“实施例1”
在500mL的茄型烧瓶中投入1H,1H,11H,11H-十二氟-3,6,9-三氧杂十一烷-1,11-二醇(10g)、丙酮(150mL)、和氢氧化钠水溶液(NaOH/水=3.9g/3.9g)7.8g而制成混合物。将所得的混合物加热,一边在75℃下回流一边搅拌1小时。
接着,在上述的混合物中加入表溴醇(28mL),一边在75℃下回流一边搅拌5小时,冷却直到25℃。然后,在上述的茄型烧瓶中加入乙酸乙酯进行水洗,回收茄型烧瓶内的有机相。接着,在回收的有机相中加入硫酸钠进行脱水,进行过滤器过滤。接着,使用蒸发器,从滤液蒸馏除去溶剂。进一步,通过进行减压蒸馏(130℃,6.7×10-5MPa),获得了无色透明的液状的下述式(A)所示的化合物1a(18g)。
进行所得的化合物1a的1H-NMR和19F-NMR测定,通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=2.60(2H),2.77(2H),3.15(2H),3.56(2H),4.04(6H)
19F-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=-89.63~-89.35(4F),-89.27~-89.13(4F),-79.04~-78.73(4F)
接下来,在氮气气氛下,在100mL的茄型烧瓶中投入式(A)所示的化合物1a(1g)和HOCH2CF2O(CF2CF2O)x(CF2O)yCF2CH2OH所示的氟聚醚(x=1~7,y=1~7,数均分子量800,分子量分布1.1)(28g),将它们进行搅拌直到变得均匀,获得了混合物。接着,在上述的混合物中加入碳酸钾0.8g,一边加热到70℃一边搅拌15小时,冷却直到25℃。
然后,在上述的茄型烧瓶中加入盐酸进行中和,加入氟系溶剂(商品名:アサヒクリン(注册商标)AK-225,旭硝子社制)进行水洗,回收茄型烧瓶内的有机相。接着,在回收的有机相中加入硫酸钠进行脱水,进行过滤器过滤。接着,使用蒸发器,从滤液蒸馏除去溶剂。然后,在60℃、14MPa的条件下进行超临界提取,获得了下述式(B)所示的无色透明的液状的化合物2a(3g)。下述式(B)中的Rf1由下述式(RF-1)表示。
进行所得的化合物2a的1H-NMR和19F-NMR测定,通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=3.74~3.81(4H),3.81~4.02(10H),4.04~4.16(8H)
19F-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=-91.15~-88.51(36F),-83.19(2F),-81.23(2F),-80.61(2F),-78.81~-78.45(6F),-55.65~-51.59(12F)
(在式(RF-1)中,x表示1~7的整数,y表示1~7的整数。)
接下来,在氮气气氛下,在300mL的茄型烧瓶中投入式(B)所示的化合物2a(4g)、和叔丁醇(40mL),将它们进行搅拌直到变得均匀,获得了混合物。接着,在上述的混合物中加入叔丁醇钾(0.1g),一边加热到70℃一边加入缩水甘油(250μL)搅拌8小时,冷却直到25℃。
然后,在上述的茄型烧瓶中加入盐酸进行中和,加入氟系溶剂(商品名:アサヒクリン(注册商标)AK-225,旭硝子社制)进行水洗,回收茄型烧瓶内的有机相。接着,在回收的有机相中加入硫酸钠进行脱水,进行过滤器过滤。接着,使用蒸发器,从滤液蒸馏除去溶剂。然后,通过柱色谱将残渣进行分离。通过以上的工序,获得了下述式(D)所示的无色透明的液状的化合物D;3a(1.8g)。下述式(D)中的Rf1由上述式(RF-1)表示。
进行所得的化合物D;3a的1H-NMR和19F-NMR测定,通过以下的结果鉴定了结构。此外,将测定的1H-NMR和19F-NMR的光谱示于图3、图4中。
(鉴定数据)
1H-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=3.42~3.59(2H),3.61~3.83(7H),3.83~4.04(8H),4.04~4.28(10H)
19F-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=-91.15~-88.51(36F),-83.21(1F),-81.22(1F),-80.60(3F),-78.81~-78.45(7F),-55.65~-51.59(12F)
“实施例2”
(化合物的合成)
在氮气气氛下,在300mL茄型烧瓶中投入式(B)所示的化合物2a(4g)、和叔丁醇(40mL),进行搅拌直到变得均匀,获得了混合物。接着,在上述的混合物中加入表溴醇(2.9mL)、和叔丁醇钾(0.3g),一边加热到70℃一边搅拌9小时,冷却直到25℃。
然后,在上述的茄型烧瓶中,加入氟系溶剂(商品名:アサヒクリン(注册商标)AK-225,旭硝子社制),将上述的反应生成物进行水洗,与式(D)所示的化合物3a同样地操作,进行回收、脱水、过滤,通过柱色谱将残渣进行分离。通过以上的工序,获得了下述式(F)所示的无色透明的液状的化合物F;5a(2g)。下述式(F)中的Rf1由上述式(RF-1)表示。
进行所得的化合物F的1H-NMR和19F-NMR测定,通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=2.59(1H),2.76(1H),3.11(1H),3.56(1H),3.73~3.81(4H),3.81~4.18(19H)
19F-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=-91.15~-88.51(36F),-83.21(1F),-81.22(1F),-80.88~-80.34(3F),-78.93~-78.30(7F),-55.65~-51.59(12F)
在氮气气氛下,在300mL茄型烧瓶中投入式(F)所示的化合物5a(1g)、和叔丁醇(10mL),进行搅拌直到变得均匀,获得了混合物。接着,在上述的混合物中加入乙二醇(1.5mL)、和叔丁醇钾(0.1g),一边加热到70℃一边搅拌9小时,冷却直到25℃。
然后,在上述的茄型烧瓶中,加入氟系溶剂(商品名:アサヒクリン(注册商标)AK-225,旭硝子社制),将上述的反应生成物进行水洗,与式(D)所示的化合物3a同样地操作,进行回收、脱水、过滤,通过柱色谱将残渣进行分离。通过以上的工序,获得了式(G)所示的无色透明的液状的化合物G;7a(0.8g)。另外,下述式(G)中的Rf1由上述式(RF-1)表示。
进行所得的化合物G的1H-NMR和19F-NMR测定,通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=3.46~3.63(5H),3.65.~3.81(7H),3.81~4.18(19H)
19F-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=-91.15~-88.51(36F),-83.21(1F),-81.22(1F),-80.78~-80.38(3F),-78.80~-78.38(7F),-55.65~-51.59(12F)
“实施例3”
在氮气气氛下,在300mL茄型烧瓶中投入式(F)所示的化合物5a(1g)、和叔丁醇(10mL),进行搅拌直到变得均匀,获得了混合物。接着,在上述的混合物中,加入2,2,3,3-氟丁烷-1,4-二醇(3g)、和叔丁醇钾(0.1g),一边加热到70℃一边搅拌9小时,冷却直到25℃。
然后,在上述的茄型烧瓶中,加入氟系溶剂(商品名:アサヒクリン(注册商标)AK-225,旭硝子社制),将上述的反应生成物进行水洗,与式(D)所示的化合物3a同样地操作,进行回收、脱水、过滤,通过柱色谱将残渣进行分离。通过以上的工序,获得了式(H)所示的无色透明的液状的化合物H;9a(1.0g)。另外,下述式(H)中的Rf1由上述式(RF-1)表示。
进行所得的化合物H的1H-NMR和19F-NMR测定,通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=3.67~4.05(19H),4.05~4.22(12H)
19F-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=-125.27(2F),-123.31(2F),-91.15~-88.51(36F),-83.21(1F),-81.22(1F),-80.78~-80.38(3F),-78.80~-78.38(7F),-55.65~-51.59(12F)
“实施例4”
在500mL的茄型烧瓶中投入3-丁烯基乙酸酯(6.0g)、二氯甲烷(100.0mL)、和碳酸氢钠(8.7g),进行搅拌直到变得均匀,获得了混合物。接着,将上述的混合物用冰冷却到0℃,加入间氯过苯甲酸(15.5g)搅拌1小时,进一步在25℃下搅拌6小时,获得了反应生成物。接着,将上述的反应生成物用冰冷却到0℃,加入饱和碳酸氢钠水溶液(20mL)和饱和亚硫酸钠水溶液(20mL),搅拌0.5小时。然后,将所得的反应生成物进行水洗,与式(D)所示的化合物3a同样地操作,进行回收、脱水、过滤,通过柱色谱将残渣进行分离。通过以上的工序,获得了下述式(I)所示的无色透明的液状的化合物11(3.2g)。
进行所得的化合物11的1H-NMR测定,通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=1.73(1H),1.88(1H),2.01(3H),2.41(1H),2.67(1H),2.88(1H),4.12(2H)
在氮气气氛下,在100mL茄型烧瓶中投入式(B)所示的化合物2a(6.3g)、叔丁醇(63mL)、和式(I)所示的化合物11(0.3mL),进行搅拌直到变得均匀,获得了混合物。接着,在上述的混合物中加入叔丁醇钾(0.59g),一边加热到70℃一边搅拌7小时,冷却直到25℃。
然后,在上述的茄型烧瓶中,加入氟系溶剂(商品名:アサヒクリン(注册商标)AK-225,旭硝子社制),将上述的反应生成物进行水洗,与式(D)所示的化合物3a同样地操作,进行回收、脱水、过滤,通过柱色谱将残渣进行分离。通过以上的工序,获得了式(J)所示的无色透明的液状的化合物J;12a(3.4g)。下述式(J)中的Rf1由上述式(RF-1)表示。
进行所得的化合物J的1H-NMR和19F-NMR测定,通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=1.54~1.76(2H),3.42~3.59(2H),3.61~3.83(7H),3.83~4.04(8H),4.04~4.28(10H)
19F-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=-91.15~-88.51(36F),-83.21(1F),-81.22(1F),-80.78~-80.38(3F),-78.80~-78.38(7F),-55.65~-51.59(12F)
“实施例5”
在氮气气氛下,在300mL茄型烧瓶中投入式(F)所示的化合物5a(1g)、和叔丁醇(10mL),进行搅拌直到变得均匀,获得了混合物。接着,在上述的混合物中与丙二醇(1.5mL)一起加入叔丁醇钾(0.1g),一边加热到70℃一边搅拌9小时,冷却直到25℃。
然后,在上述的茄型烧瓶中,加入氟系溶剂(商品名:アサヒクリン(注册商标)AK-225,旭硝子社制),将上述的反应生成物进行水洗,与式(D)所示的化合物3a同样地操作,进行回收、脱水、过滤,通过柱色谱将残渣进行分离。通过以上的工序,获得了式(K)所示的无色透明的液状的化合物K;14a(0.8g)。下述式(K)中的Rf1由上述式(RF-1)表示。
进行所得的化合物K的1H-NMR和19F-NMR测定,通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=1.79(2H),3.46~3.63(5H),3.65.~3.81(7H),3.81~4.18(19H)
19F-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=-91.15~-88.51(36F),-83.21(1F),-81.22(1F),-80.78~-80.38(3F),-78.80~-78.38(7F),-55.65~-51.59(12F)
“实施例6”
代替实施例5中的丙二醇,与叔丁醇钾一起加入丁二醇(1.5mL),除此以外,与实施例5同样地操作,获得了式(L)所示的无色透明的液状的化合物L;16a(0.8g)。下述式(L)中的Rf1由上述式(RF-1)表示。
进行所得的化合物16a的1H-NMR和19F-NMR测定,通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=1.61(2H),1.71(2H),3.46~3.63(5H),3.65~3.81(7H),3.81~4.18(19H)
19F-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=-91.15~-88.51(36F),-83.21(1F),-81.22(1F),-80.78~-80.38(3F),-78.80~-78.38(7F),-55.65~-51.59(12F)
“实施例7”
在氮气气氛下,在100mL的茄型烧瓶中,投入式(A)所示的化合物1a(1g)和HOCH2CF2O(CF2CF2O)mCF2CH2OH所示的氟聚醚(m=1~9,数均分子量800,分子量分布1.02)(28g),将它们进行搅拌直到变得均匀,获得了混合物。接着,在上述的混合物中加入碳酸钾0.8g,一边加热到70℃一边搅拌8小时,冷却直到25℃。
然后,在上述的茄型烧瓶中加入盐酸进行中和,与实施例1中的式(B)所示的化合物2a同样地操作,进行了水洗、回收、脱水、过滤、提取。通过以上的工序,获得了式(M)所示的无色透明的液状的化合物2b(3g)。下述式(M)中的Rf2由下述式(RF-2)表示。
进行所得的化合物2b的1H-NMR和19F-NMR测定,通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=3.71~3.81(4H),3.80~4.02(10H),4.05~4.20(8H)
19F-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=-91.15~-88.51(48F),-81.40~-80.85(4F),-78.81~-78.45(8F)
(在式(RF-2)中,z表示1~9的整数。)
接下来,在氮气气氛下,在50mL的茄型烧瓶中,投入式(M)所示的化合物2b(4g)、和叔丁醇(40mL),将它们进行搅拌直到变得均匀,获得了混合物。接着,在上述的混合物中加入叔丁醇钾(0.5g),一边加热到70℃一边加入缩水甘油(250μL)搅拌8小时,冷却直到25℃。
然后,在上述的茄型烧瓶中加入盐酸进行中和,与实施例1中的式(B)所示的化合物2a同样地操作,进行了水洗、回收、脱水、过滤后,通过柱色谱将残渣进行分离。通过以上的工序,获得了式(O)所示的无色透明的液状的化合物O;3b(1.7g)。下述式(O)中的Rf2由上述式(RF-2)表示。
进行所得的化合物O的1H-NMR和19F-NMR测定,通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=3.71~3.81(8H),3.80~4.02(11H),4.05~4.20(8H)
19F-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=-91.15~-88.51(48F),-81.40~-80.85(2F),-78.81~-78.45(10F)
“实施例8”
代替式(B)所示的化合物2a,使用了式(M)所示的化合物2b,除此以外,与实施例2中的式(F)所示的化合物5a同样地操作,获得了下述式(P)所示的无色透明的液状的化合物5b(2g)。下述式(P)中的Rf2由上述式(RF-2)表示。
进行所得的化合物5b的1H-NMR和19F-NMR测定,通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=2.59(1H),2.76(1H),3.11(1H),3.56(1H),3.71~4.02(15H),4.05~4.20(8H)
19F-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=-91.15~-88.51(48F),-81.40~-80.85(2F),-78.81~-78.45(10F)
代替式(F)所示的化合物5a,使用了式(P)所示的化合物5b,除此以外,与实施例2中的式(G)所示的化合物7a同样地操作,获得了下述式(Q)所示的无色透明的液状的化合物Q;7b(2g)。下述式(Q)中的Rf2由上述式(RF-2)表示。
进行所得的化合物Q的1H-NMR和19F-NMR测定,通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=3.45~3.65(5H),3.70~3.80(7H),3.80~4.20(19H)
19F-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=-91.15~-88.51(48F),-81.40~-80.85(2F),-78.81~-78.45(10F)
“实施例9”
代替式(F)所示的化合物5a,使用式(P)所示的化合物5b,使叔丁醇钾的使用量为(0.15g),除此以外,与实施例3中的式(H)所示的化合物9a同样地操作,获得了下述式(R)所示的无色透明的液状的化合物R;9b(1.0g)。下述式(R)中的Rf2由上述式(RF-2)表示。
进行所得的化合物R的1H-NMR和19F-NMR测定,通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=3.65~4.07(19H),4.07~4.25(12H)
19F-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=-125.27(2F),-123.31(2F),-91.15~-88.51(48F),-81.40~-80.85(2F),-78.81~-78.45(10F)
“实施例10”
代替1H,1H,11H,11H-十二氟-3,6,9-三氧杂十一烷-1,11-二醇,使用了1H,1H,11H,11H-八氟-3,6-二氧杂辛-1,8-二醇,除此以外,与实施例1中的式(A)所示的化合物1a同样地操作,获得了下述式(S)所示的无色透明的液状的化合物1c(18g)。
进行所得的化合物1c的1H-NMR和19F-NMR测定,通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=2.60(2H),2.77(2H),3.15(2H),3.56(2H),4.04(6H)
19F-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=-89.50~-89.00(4F),-79.00~-78.70(4F)
代替式(A)所示的化合物1a,使用了式(S)所示的化合物1c,除此以外,与实施例1中的式(B)所示的化合物2a同样地操作,获得了下述式(T)所示的无色透明的液状的化合物2c(3g)。下述式(T)中的Rf1由上述式(RF-1)表示。
进行所得的化合物2c的1H-NMR和19F-NMR测定,通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=3.74~3.81(4H),3.81~4.02(10H),4.04~4.16(8H)
19F-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=-91.15~-88.51(32F),-83.19(2F),-81.23(2F),-80.61(2F),-78.81~-78.45(6F),-55.65~-51.59(12F)
代替式(B)所示的化合物2a,使用了式(T)所示的化合物2c,除此以外,与实施例1中的式(D)所示的化合物3a同样地操作,获得了下述式(U)所示的无色透明的液状的化合物U;3c(3g)。下述式(U)中的Rf1由上述式(RF-1)表示。
进行所得的化合物U的1H-NMR和19F-NMR测定,通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=3.42~3.59(2H),3.61~3.83(7H),3.83~4.04(8H),4.04~4.28(10H)
19F-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=-91.15~-88.51(32F),-83.21(1F),-81.22(1F),-80.60(3F),-78.81~-78.45(7F),-55.65~-51.59(12F)
“实施例11”
在氮气气氛下,在500mL的茄型烧瓶中,投入HOCH2CF2O(CF2CF2O)m(CF2O)nCF2CH2OH所示的氟聚醚(m=1~7,n=1~7,数均分子量800,分子量分布1.1)(10g)、叔丁醇(15mL)、和叔丁醇钾(1.0g)而制成混合物。将所得的混合物一边加热到70℃一边搅拌1小时。
接着,在上述的混合物中滴加表溴醇(4.0g),进一步一边加热到70℃一边搅拌5小时,冷却直到25℃。然后,在上述的茄型烧瓶中加入氟系溶剂(商品名:アサヒクリン(注册商标)AK-225,旭硝子社制),将上述的反应生成物进行水洗,与式(D)所示的化合物3a同样地操作,进行回收、脱水、过滤,通过柱色谱将残渣进行分离。通过以上的工序,获得了式(V)所示的无色透明的液状的化合物18a(8.0g)。
进行所得的化合物18a的1H-NMR和19F-NMR测定,通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=2.60(2H),2.77(2H),3.12(2H),3.57(2H),3.70~4.29(6H)
19F-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=-91.15~-88.51(14F),-80.61(2F),-78.75(2F),-55.65~-51.59(6F)
(式(V)中,x表示1~7的整数,y表示1~7的整数。)
代替式(A)所示的化合物1a,使用了式(V)所示的化合物18a,以及使HOCH2CF2O(CF2CF2O)x(CF2O)yCF2CH2OH所示的氟聚醚(x=1~7,y=1~7,数均分子量800,分子量分布1.1)的使用量为20g,除此以外,与实施例1中的式(B)所示的化合物2a同样地操作,获得了下述式(W)所示的无色透明的液状的化合物19a(2.4g)。下述式(W)中的Rf1由上述式(RF-1)表示。
进行所得的化合物19a的1H-NMR和19F-NMR测定,通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=3.74~3.81(4H),3.81~4.16(18H)
19F-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=-91.15~-88.51(42F),-83.20(2F),-81.25(2F),-80.61(4F),-78.75(4F)-55.65~-51.59(18F)
代替式(B)所示的化合物2a(4g),使用了式(W)所示的化合物19a(3.5g),除此以外,与实施例1中的式(D)所示的化合物3a同样地操作,获得了下述式(X)所示的无色透明的液状的化合物X;20a(2.0g)。下述式(X)中的Rf1由上述式(RF-1)表示。
进行所得的化合物X的1H-NMR和19F-NMR测定,通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=3.41~3.81(9H),3.81~4.16(18H)
19F-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=-91.15~-88.51(42F),-83.20(1F),-81.25(1F),-80.61(5F),-78.75(5F)-55.65~-51.59(18F)
“实施例12”
代替式(B)所示的化合物2a,使用了式(W)所示的化合物19a,除此以外,与实施例2中的式(F)所示的化合物5a同样地操作,获得了下述式(Y)所示的无色透明的液状的化合物22a(2g)。下述式(Y)中的Rf1由上述式(RF-1)表示。
进行所得的化合物22a的1H-NMR和19F-NMR测定,通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=2.59(1H),2.76(1H),3.11(1H),3.41~3.81(6H),3.81~4.16(18H)
19F-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=-91.15~-88.51(42F),-83.21(1F),-81.22(1F),-80.88~-80.34(5F),-78.93~-78.30(5F),-55.65~-51.59(18F)
代替式(F)所示的化合物5a,使用了式(Y)所示的化合物22a,除此以外,与实施例2中的式(G)所示的化合物7a同样地操作,获得了下述式(Z)所示的无色透明的液状的化合物Z;24a(0.7g)。下述式(Z)中的Rf1由上述式(RF-1)表示。
进行所得的化合物Z的1H-NMR和19F-NMR测定,通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=3.46~3.63(5H),3.65.~3.81(7H),3.81~4.18(19H)
19F-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=-91.15~-88.51(42F),-83.21(1F),-81.22(1F),-80.88~-80.34(5F),-78.93~-78.30(5F),-55.65~-51.59(18F)
“比较例1”
使用了在实施例1中合成的式(B)所示的化合物B;2a。
“比较例2”
在氮气气氛下,在300mL茄型烧瓶中投入式(B)所示的化合物2a(4g)、和叔丁醇(40mL),进行搅拌直到变得均匀,获得了混合物。接着,在上述的混合物中加入叔丁醇钾(0.1g),一边加热到70℃一边加入缩水甘油(250μL),搅拌8小时,冷却直到25℃。
然后,在上述的茄型烧瓶中,加入氟系溶剂(商品名:アサヒクリン(注册商标)AK-225,旭硝子社制),将上述的反应生成物进行水洗,与式(D)所示的化合物3a同样地操作,进行回收、脱水、过滤,通过柱色谱将残渣进行分离。通过以上的工序,获得了下述式(AA)所示的无色透明的液状的化合物AA;4a(0.9g)。下述式(AA)中的Rf1由上述式(RF-1)表示。
进行所得的化合物AA的1H-NMR和19F-NMR测定,通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=3.42~3.59(2H),3.61~3.83(9H),3.83~4.04(9H),4.04~4.28(12H)
19F-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=-91.15~-88.51(36F),-80.60(4F),-78.81~-78.45(8F),-55.65~-51.59(12F)
“比较例3”
在氮气气氛下,在300mL茄型烧瓶中投入式(B)所示的化合物2a(4g)、和叔丁醇(40mL),进行搅拌直到变得均匀,获得了混合物。接着,在上述的混合物中加入表溴醇(2.9mL)、和叔丁醇钾(0.3g),一边加热到70℃一边搅拌9小时,冷却直到25℃。
然后,在上述的茄型烧瓶中,加入氟系溶剂(商品名:アサヒクリン(注册商标)AK-225,旭硝子社制),将上述的反应生成物进行水洗,与式(D)所示的化合物3a同样地操作,进行回收、脱水、过滤,通过柱色谱将残渣进行分离。通过以上的工序,获得了下述式(AB)所示的无色透明的液状的化合物6a(0.7g)。下述式(AB)中的Rf1由上述式(RF-1)表示。
进行所得的化合物6a的1H-NMR和19F-NMR测定,通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=2.59(2H),2.76(2H),3.11(2H),3.56(2H),3.73~3.81(5H),3.81~4.18(19H)
19F-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=-91.15~-88.51(36F),-80.88~-80.34(4F),-78.93~-78.30(8F),-55.65~-51.59(12F)
在氮气气氛下,在300mL茄型烧瓶中投入式(AB)所示的化合物6a(4g)、和叔丁醇(10mL),进行搅拌直到变得均匀,获得了混合物。接着,在上述的混合物中加入乙二醇(2mL)、和叔丁醇钾(0.15g),一边加热到70℃一边搅拌9小时,冷却直到25℃。
然后,在上述的茄型烧瓶中加入盐酸进行中和,与实施例1中的式(B)所示的化合物2a同样地操作,进行了水洗、回收、脱水、过滤后,通过柱色谱将残渣进行分离。通过以上的工序,获得了式(AC)所示的无色透明的液状的化合物AC;8a(0.7g)。下述式(AC)中的Rf1由上述式(RF-1)表示。
进行所得的化合物AC的1H-NMR和19F-NMR测定,通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=3.46~3.63(8H),3.65.~3.81(10H),3.81~4.18(22H)
19F-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=-91.15~-88.51(36F),-80.78~-80.38(4F),-78.80~-78.38(8F),-55.65~-51.59(12F)
“比较例4”
在氮气气氛下,在300mL茄型烧瓶中投入式(AB)所示的化合物6a(4g)、和叔丁醇(10mL),进行搅拌直到变得均匀,获得了混合物。接着,在上述的混合物中加入2,2,3,3-氟丁烷-1,4-二醇(5g)、和叔丁醇钾(0.15g),一边加热到70℃一边搅拌9小时,冷却直到25℃。
然后,在上述的茄型烧瓶中加入盐酸进行中和,与实施例1中的式(B)所示的化合物2a同样地操作,进行了水洗、回收、脱水、过滤后,通过柱色谱将残渣进行分离。通过以上的工序,获得了式(AD)所示的无色透明的液状的化合物AD;10a(0.7g)。下述式(AD)中的Rf1由上述式(RF-1)表示。
进行所得的化合物AD的1H-NMR和19F-NMR测定,通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=3.67~4.05(24H),4.05~4.22(16H)
19F-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=-125.27(4F),-123.31(4F),-91.15~-88.51(36F),-83.21(1F),-81.22(1F),-80.78~-80.38(3F),-78.80~-78.38(7F),-55.65~-51.59(12F)
“比较例5”
在氮气气氛下,在100mL茄型烧瓶中投入式(B)所示的化合物2a(6.3g)、和式(I)所示的化合物11(0.3mL),进行搅拌直到变得均匀,获得了混合物。接着,在上述的混合物中加入叔丁醇钾(0.59g),一边加热到70℃一边搅拌7小时,冷却直到25℃。
然后,在上述的茄型烧瓶中,加入氟系溶剂(商品名:アサヒクリン(注册商标)AK-225,旭硝子社制),将上述的反应生成物进行水洗,与式(D)所示的化合物3a同样地操作,进行回收、脱水、过滤,通过柱色谱将残渣进行分离。通过以上的工序,获得了下述式(AE)所示的无色透明的液状的化合物AE;13a(1.0g)。下述式(AE)中的Rf1由上述式(RF-1)表示。
进行所得的化合物AE的1H-NMR和19F-NMR测定,通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=1.54~1.76(4H),3.42~3.59(2H),3.61~3.83(9H),3.83~4.04(9H),4.04~4.28(12H)
19F-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=-91.15~-88.51(36F),-80.78~-80.38(4F),-78.80~-78.38(8F),-55.65~-51.59(12F)
“比较例6”
在氮气气氛下,在300mL茄型烧瓶中投入(AB)所示的化合物6a(4g)和叔丁醇(10mL),进行搅拌直到变得均匀,获得了混合物。接着,在上述的混合物中加入丙二醇(2mL)、和叔丁醇钾(0.15g),一边加热到70℃一边搅拌9小时,冷却直到25℃。
然后,在上述的茄型烧瓶中加入盐酸进行中和,与实施例1中的式(B)所示的化合物2a同样地操作,进行了水洗、回收、脱水、过滤后,通过柱色谱将残渣进行分离。通过以上的工序,获得了式(AF)所示的无色透明的液状的化合物AF;15a(0.7g)。下述式(AF)中的Rf1由上述式(RF-1)表示。
进行所得的化合物AF的1H-NMR和19F-NMR测定,通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=1.79(4H),3.46~3.63(8H),3.65.~3.81(10H),3.81~4.18(22H)
19F-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=-91.15~-88.51(36F),-80.78~-80.38(4F),-78.80~-78.38(8F),-55.65~-51.59(12F)
“比较例7”
代替比较例6中的丙二醇,与叔丁醇钾一起加入丁二醇,除此以外,与比较例6同样地操作,获得了式(AG)所示的无色透明的液状的化合物AG;17a(0.7g)。下述式(AG)中的Rf1由上述式(RF-1)表示。
进行所得的化合物AG的1H-NMR和19F-NMR测定,通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=1.61(4H),1.71(4H),3.46~3.63(8H),3.65.~3.81(10H),3.81~4.18(22H)
19F-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=-91.15~-88.51(36F),-80.78~-80.38(4F),-78.80~-78.38(8F),
“比较例8”
使用了在实施例7中合成的式(M)所示的化合物M;2b。
“比较例9”
在氮气气氛下,在100mL的茄型烧瓶中,投入式(A)所示的化合物1a(1g)、和1H,1H,11H,11H-十二氟-3,6,9-三氧杂十一烷-1,11-二醇,进行搅拌直到变得均匀,获得了混合物。接着,在上述的混合物中加入碳酸钾(0.8g),一边加热到70℃一边搅拌8小时,冷却直到25℃。
然后,在上述的茄型烧瓶中加入盐酸进行中和,与实施例1中的式(B)所示的化合物2a同样地操作,进行了水洗、回收、脱水、过滤、提取。通过以上的工序,获得了式(AH)所示的无色透明的液状的化合物AH;12b(0.7g)。下述式(AH)中的Rf由(CF2CF2O)2表示。
进行所得的化合物AH的1H-NMR和19F-NMR测定,通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=3.80(4H),3.87(4H),3.95(4H),4.01(2H),4.11(4H),4.14(4H)
19F-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=-89.31(12F),-88.98(12F),-81.12(4F),-78.59(8F)
“比较例10”
在氮气气氛下,在50mL的茄型烧瓶中,投入式(M)所示的化合物2b(4g)、和叔丁醇(40mL),进行搅拌直到变得均匀,获得了混合物。接着,在上述的混合物中加入叔丁醇钾(0.5g),一边加热到70℃一边加入缩水甘油(250μL),搅拌8小时,冷却直到25℃。
然后,在上述的茄型烧瓶中加入盐酸进行中和,与实施例1中的式(B)所示的化合物2a同样地操作,进行了水洗、回收、脱水、过滤后,通过柱色谱将残渣进行分离。通过以上的工序,获得了式(AJ)所示的无色透明的液状的化合物AJ;4b(1.0g)。下述式(AJ)中的Rf2由上述式(RF-2)表示。
进行所得的化合物AJ的1H-NMR和19F-NMR测定,通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=3.71~3.81(12H),3.80~4.02(12H),4.05~4.20(8H)
19F-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=-91.15~-88.51(48F),-78.81~-78.45(12F)
“比较例11”
在氮气气氛下,在300mL的茄型烧瓶中,投入式(M)所示的化合物2b(4g)、和叔丁醇(40mL),将它们进行搅拌直到变得均匀,获得了混合物。接着,在上述的混合物中加入表溴醇(2.9mL)、和叔丁醇钾(0.5g),一边加热到70℃一边搅拌9小时,冷却直到25℃。
然后,在上述的茄型烧瓶中加入盐酸进行中和,与实施例1中的式(B)所示的化合物2a同样地操作,进行了水洗、回收、脱水、过滤后,通过柱色谱将残渣进行分离。通过以上的工序,获得了式(AK)所示的无色透明的液状的化合物6b(0.7g)。下述式(AK)中的Rf2由上述式(RF-2)表示。
进行所得的化合物6b的1H-NMR和19F-NMR测定,通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=2.59(2H),2.76(2H),3.11(2H),3.56(2H),3.71~4.02(16H),4.05~4.20(8H)
19F-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=-91.15~-88.51(48F),-78.81~-78.45(12F)
在氮气气氛下,在300mL的茄型烧瓶中,投入式(AK)所示的化合物6b(1g)、和叔丁醇(10mL),将它们进行搅拌直到变得均匀,获得了混合物。接着,在上述的混合物中加入乙二醇(2mL)、和叔丁醇钾(0.15g),一边加热到70℃一边搅拌9小时,冷却直到25℃。
然后,在上述的茄型烧瓶中加入盐酸进行中和,与实施例1中的式(B)所示的化合物2a同样地操作,进行了水洗、回收、脱水、过滤后,通过柱色谱将残渣进行分离。通过以上的工序,获得了式(AL)所示的无色透明的液状的化合物AL;8b(0.7g)。下述式(AL)中的Rf2由上述式(RF-2)表示。
进行所得的化合物AL的1H-NMR和19F-NMR测定,通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=3.46~3.65(8H),3.65.~3.81(10H),3.81~4.20(22H)
19F-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=-91.15~-88.51(48F),-78.81~-78.45(12F)
“比较例12”
在氮气气氛下,在300mL的茄型烧瓶中,投入式(AK)所示的化合物6b(1g)、和叔丁醇(10mL),将它们进行搅拌直到变得均匀,获得了混合物。接着,在上述的混合物中加入2,2,3,3-氟丁烷-1,4-二醇(5g)、和叔丁醇钾0.1g,一边加热到70℃一边搅拌9小时,冷却直到25℃。
然后,在上述的茄型烧瓶中加入盐酸进行中和,与实施例1中的式(B)所示的化合物2a同样地操作,进行了水洗、回收、脱水、过滤后,通过柱色谱将残渣进行分离。通过以上的工序,获得了式(AM)所示的无色透明的液状的化合物AM;10b(0.9g)。下述式(AM)中的Rf2由上述式(RF-2)表示。
进行所得的化合物AM的1H-NMR和19F-NMR测定,通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=3.65~4.07(24H),4.07~4.25(16H)
19F-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=-125.27(4F),-123.31(4F),-91.15~-88.51(48F),-78.81~-78.45(12F)
“比较例13”
使用了实施例10中合成的式(T)所示的化合物T;2c。
“比较例14”
在氮气气氛下,在50mL的茄型烧瓶中,投入式(T)所示的化合物2c(4g)、和叔丁醇(40mL),将它们进行搅拌直到变得均匀,获得了混合物。接着,在上述的混合物中加入叔丁醇钾(0.1g),一边加热到70℃一边加入缩水甘油(250μL),搅拌8小时,冷却直到25℃。
然后,在上述的茄型烧瓶中加入盐酸进行中和,与实施例1中的式(B)所示的化合物2a同样地操作,进行了水洗、回收、脱水、过滤后,通过柱色谱将残渣进行分离。通过以上的工序,获得了式(AN)所示的无色透明的液状的化合物AN;4c(0.9g)。下述式(AN)中的Rf1由上述式(RF-1)表示。
进行所得的化合物AN的1H-NMR和19F-NMR测定,通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=3.42~3.59(2H),3.61~3.83(9H),3.83~4.04(9H),4.04~4.28(12H)
19F-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=-91.15~-88.51(32F),-80.60(4F),-78.81~-78.45(8F),-55.65~-51.59(12F)
“比较例15”
使用了在实施例11中合成的式(W)所示的化合物W;19a。
“比较例16”
在氮气气氛下,在50mL的茄型烧瓶中,投入式(W)所示的化合物19a(3.5g)、和叔丁醇(40mL),进行搅拌直到变得均匀,获得了混合物。接着,在上述的混合物中加入叔丁醇钾(0.1g),一边加热到70℃一边加入缩水甘油(250μL),搅拌8小时,冷却直到25℃。
然后,在上述的茄型烧瓶中加入盐酸进行中和,与实施例1中的式(B)所示的化合物2a同样地操作,进行了水洗、回收、脱水、过滤后,通过柱色谱将残渣进行分离。通过以上的工序,获得了式(AO)所示的无色透明的液状的化合物AO;21a(0.9g)。下述式(AO)中的Rf1由上述式(RF-1)表示。
进行所得的化合物AO的1H-NMR和19F-NMR测定,通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=3.41~3.81(11H),3.81~4.16(21H)
19F-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=-91.15~-88.51(42F),-80.61(6F),-78.75(6F)-55.65~-51.59(18F)
“比较例17”
在氮气气氛下,在300mL的茄型烧瓶中,投入式(W)所示的化合物19a(4g)、和叔丁醇(40mL),将它们进行搅拌直到变得均匀,获得了混合物。接着,在上述的混合物中加入表溴醇(2.9mL)、和叔丁醇钾(0.1g),一边加热到70℃一边搅拌9小时,冷却直到25℃。
然后,在上述的茄型烧瓶中加入盐酸进行中和,与实施例1中的式(B)所示的化合物2a同样地操作,进行了水洗、回收、脱水、过滤后,通过柱色谱将残渣进行分离。通过以上的工序,获得了式(AP)所示的无色透明的液状的化合物23a(0.8g)。下述式(AP)中的Rf1由上述式(RF-1)表示。
进行所得的化合物23a的1H-NMR和19F-NMR测定,通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=2.59(2H),2.76(2H),3.11(2H),3.41~3.81(8H),3.81~4.16(18H)
19F-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=-91.15~-88.51(42F),-80.88~-80.34(6F),-78.93~-78.30(6F),-55.65~-51.59(18F)
在氮气气氛下,在300mL的茄型烧瓶中,投入式(AP)所示的化合物23a(1g)、和叔丁醇(10mL),将它们进行搅拌直到变得均匀,获得了混合物。接着,在上述的混合物中加入乙二醇(2mL)、和叔丁醇钾(0.15g),一边加热到70℃一边搅拌9小时,冷却直到25℃。
然后,在上述的茄型烧瓶中加入盐酸进行中和,与实施例1中的式(B)所示的化合物2a同样地操作,进行了水洗、回收、脱水、过滤后,通过柱色谱将残渣进行分离。通过以上的工序,获得了式(AQ)所示的无色透明的液状的化合物AQ;25a(0.7g)。下述式(AQ)中的Rf1由上述式(RF-1)表示。
进行所得的化合物AQ的1H-NMR和19F-NMR测定,通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=3.46~3.63(8H),3.65.~3.81(10H),3.81~4.18(22H)
19F-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=-91.15~-88.51(42F),-80.88~-80.34(6F),-78.93~-78.30(6F),-55.65~-51.59(18F)
“比较例18”
使用了Solvey Solexis社制的Fomblin Z-tetraol(分子量约2000,下述式(AR)所示。)。将其设为化合物AR。
(在式(AR)中,x表示1~7的整数,y表示1~7的整数。)
“比较例19、20”
在氮气气氛下,在500mL的茄型烧瓶中,投入HOCH2CF2O(CF2CF2O)m(CF2O)nCF2CH2OH所示的氟聚醚(m=1~7,n=1~7,数均分子量2000,分子量分布1.1)(10g)、和叔丁醇(15mL),将它们进行搅拌直到变得均匀,获得了混合物。接着,在上述的混合物中加入叔丁醇钾(1.5g),一边加热到70℃一边搅拌1小时,进一步滴加表溴醇(8.0g),一边加热到70℃一边搅拌5小时,冷却直到25℃。
然后,在上述的茄型烧瓶中加入盐酸进行中和,与实施例1中的式(B)所示的化合物2a同样地操作,进行了水洗、回收、脱水、过滤后,通过柱色谱将残渣进行分离。通过以上的工序,获得了式(AS)所示的无色透明的液状的化合物1(3.0g)、和式(AT)所示的无色透明的液状的化合物2(1.0g)。
进行所得的化合物1的1H-NMR和19F-NMR测定,通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=2.60(1H),2.77(1H),3.12(1H),3.57(1H),3.70~4.29(5H)
19F-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=-91.15~-88.51(20F),-83.21(1F),-81.22(1F),-80.61(1F),-78.75(1F),-55.65~-51.59(10F)
(在式(AS)中,x表示1~7的整数,y表示1~7的整数。)
进行所得的化合物2的1H-NMR和19F-NMR测定,通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=2.60(2H),2.77(2H),3.12(2H),3.57(2H),3.70~4.29(6H)
19F-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=-91.15~-88.51(20F),-80.61(2F),-78.75(2F),-55.65~-51.59(10F)
(在式(AT)中,x表示1~7的整数,y表示1~7的整数。)
(比较例19)
在氮气气氛下,在300mL的茄型烧瓶中,投入式(AS)所示的化合物1(1g)、和叔丁醇(10mL),将它们进行搅拌直到变得均匀,获得了混合物。接着,在上述的混合物中加入乙二醇(1.5mL)、和叔丁醇钾(0.1g),一边加热到70℃一边搅拌9小时,冷却直到25℃。
然后,在上述的茄型烧瓶中加入盐酸进行中和,与实施例1中的式(B)所示的化合物2a同样地操作,进行了水洗、回收、脱水、过滤后,通过柱色谱将残渣进行分离。通过以上的工序,获得了式(AU)所示的无色透明的液状的化合物AU;3(0.7g)。
进行所得的化合物AU的1H-NMR和19F-NMR测定,通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=3.30~4.50(13H)
19F-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=-91.15~-88.51(20F),-83.21(1F),-81.22(1F),-80.61(1F),-78.75(1F),-55.65~-51.59(10F)
(在式(AU)中,x表示1~7的整数,y表示1~7的整数。)
(比较例20)
在氮气气氛下,在300mL的茄型烧瓶中,投入式(AT)所示的化合物2(1g)、和叔丁醇(10mL),将它们进行搅拌直到变得均匀,获得了混合物。接着,在上述的混合物中加入乙二醇(1.5mL)、叔丁醇钾(0.15g),一边加热到70℃一边搅拌9小时,冷却直到25℃。
然后,在上述的茄型烧瓶中加入盐酸进行中和,与实施例1中的式(B)所示的化合物2a同样地操作,进行了水洗、回收、脱水、过滤后,通过柱色谱将残渣进行分离。通过以上的工序,获得了式(AV)所示的无色透明的液状的化合物AV;4(0.5g)。
进行所得的化合物AV的1H-NMR和19F-NMR测定,通过以下的结果鉴定了结构。
(鉴定数据)
1H-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=3.30~4.50(22H)
19F-NMR(丙酮-D6):δ[ppm]=-91.15~-88.51(20F),-80.61(2F),-78.75(2F),-55.65~-51.59(10F)
(在式(AV)中,x表示1~7的整数,y表示1~7的整数。)
将这样操作而获得的实施例1~12和比较例1~20的化合物中的式(1)中的R1~R5的结构示于表1或表2中。
在表1和表2中,Rf1由上述式(RF-1)表示,Rf2由上述式(RF-2)表示。
[表1]
[表2]
通过上述的19F-NMR的测定求出这样操作而获得的实施例1~12和比较例1~20的化合物的数均分子量。将其结果示于表3或表4中。
此外,使用实施例1~12和比较例1~20中获得的化合物,通过以下所示的方法,进行有机硅沾污耐性试验、润滑层与保护层的密合性(接合率)测定、头污染测定,进行了评价。将其结果示于表3或表4中。
(有机硅沾污耐性试验)
使化合物溶解于バートレル(注册商标)XF(商品名,三井デュポンフロロケミカル社制),以涂布时的膜厚成为的方式,调制出化合物的稀释液。将所得的稀释液通过浸渍法,涂布在图1所示结构的直径65mm的磁记录介质的保护层上,形成了润滑层。稀释液的涂布在浸渍速度10mm/sec、浸渍时间30sec、提起速度1.2mm/sec的条件下进行。
使用FT-IR(商品名:Nicolet iS50,Thermo Fisher Scientific社制)测定所得的润滑层的膜厚。将其结果示于表3或表4中。
接下来,准备LUL(Load/Unload)方式的硬盘驱动器,搭载形成了润滑层的磁记录介质。硬盘驱动器的头使用了垂直磁记录用头。在该硬盘驱动器内,装入市售的硅橡胶凝胶芯片(1cm×1cm×0.5cm),在以下所示的环境下重复进行连续LUL动作,直到主轴电动机的驱动电流超过阈值。连续LUL动作的环境,如图2所示,在干燥环境(相对湿度10%以下)下为25℃→60℃→25℃的5小时周期运转(上升、下降各1小时)。此外,将开始连续LUL动作后,到主轴电动机的驱动电流超过阈值的时刻为止的时间设为耐久时间。
如果润滑层中的化合物在保护层上没有间隙地均匀配置,则防止从硅橡胶凝胶芯片气化了的环状硅氧烷向磁记录介质的附着。因此,硬盘驱动器的主轴电动机不受负荷,耐久时间变长。另一方面,如果润滑剂层中的化合物凝集,则在润滑层形成间隙,气化了的环状硅氧烷附着于磁记录介质。其结果,硬盘驱动器的主轴电动机受到负荷,耐久时间变短。
“有机硅沾污耐性试验评价”
○:耐久时间为150小时以上
△:耐久时间为100小时以上且小于150小时
×:耐久时间小于100小时
(润滑层与保护层的密合性(接合率)测定)
与上述有机硅沾污耐性试验同样地操作,在磁记录介质的保护层上形成润滑层,与有机硅沾污耐性试验同样地操作,测定了润滑层的膜厚。
接下来,将形成了润滑层的磁记录介质在作为溶剂的バートレル中浸渍10分钟,通过提起的方法来洗涤。将磁记录介质在溶剂中浸渍的速度设为10mm/sec,将提起速度设为1.2mm/sec。
然后,通过与在洗涤前进行的润滑层的膜厚的测定相同的方法,测定了润滑层的膜厚。
进而,将洗涤前的润滑层的膜厚设为A,将洗涤后(溶剂浸渍后)的润滑层的膜厚设为B,由B与A的比((B/A)×100(%))算出润滑剂的结合率(接合率)。使用算出的接合率,通过以下所示的基准,评价了润滑层与保护层的密合性。
“密合性(接合率)评价”
○:接合率为50%以上
×:接合率小于50%
(头污染测定)
与上述有机硅沾污耐性试验同样地操作,在磁记录介质的保护层上形成了润滑层。接着,与上述有机硅沾污耐性试验同样地操作,在LUL(Load/Unload)方式的硬盘驱动器上,搭载形成了润滑层的磁记录介质。硬盘驱动器的头使用了垂直磁记录用头。使硬盘驱动器动作10分钟后,从硬盘驱动器取下头部分。
进而,在停止硬盘驱动器的动作后5分钟以内,使用光学显微镜对头部分的表面进行观察。以1000倍的倍率以100μm×100μm的视场对磁头尖(头的磁记录再生元件)周边部进行观察,通过以下所示的基准进行了评价。
“头污染评价”
○:在视场范围内未观察到液滴状或粘土状的异物(污渍)
×:在视场范围内观察到液滴状或粘土状的异物(污渍)
[表3]
[表4]
如表3所示,实施例1~12中,有机硅沾污耐性试验、润滑层与保护层的密合性(接合率)、头污染的评价全部为○。因此可知,通过在磁记录介质的保护层上,形成包含实施例1~12的化合物的润滑层,可获得即使厚度薄至也可以以高被覆率被覆保护层表面,与保护层的密合性优异,不易使异物(污渍)产生的润滑层。
与此相对,如表2和表4所示,R4和R5为羟基的比较例1、8、9、13、15中,润滑层与保护层的密合性不足。
此外,R4和R5为式(2-1)~(2-5)中的任一末端基并且R4与R5相同的比较例2~7、10~12、14、16、17中,由于R4与R5所包含的羟基的合计为4,因此接合率的评价为○,但头污染的评价为×。
此外,没有R2和R3的比较例18~20中,由于被覆率不足,因此有机硅沾污耐性试验的评价为×。此外,比较例18、20中,即使R4与R5所包含的羟基的合计为4,由于没有R2,因此接合率的评价也为×。
产业可利用性
通过使用本发明的磁记录介质用润滑剂,可获得即使减薄厚度,也可以以高被覆率被覆磁记录介质的保护层表面,与保护层的密合性优异,不易使异物(污渍)产生的润滑层。
符号的说明
10···磁记录介质,11···基板,12···附着层,13···软磁性层,14···第1基底层,15···第2基底层,16···磁性层,17···保护层,18···润滑层。
Claims (23)
1.一种含氟醚化合物,其特征在于,由下述式(1)表示,
R4-CH2-R3-CH2-R2-CH2-R1-CH2-R2-CH2-R3-CH2-R5 (1)
式(1)中,R1和R3为相同或不同的全氟聚醚链,R2为包含至少1个极性基的连接基,R4与R5中的任一者或两者为包含2个以上极性基的末端基并且R4与R5不同。
2.根据权利要求1所述的含氟醚化合物,所述式(1)中的R4和R5为选自羟基、下述式(2-1)~(2-5)中的任一末端基,
式(2-1)中,r表示0~4的整数;
式(2-2)中,p表示1~5的整数;
式(2-3)中,s表示2~5的整数;
式(2-4)中,t表示1~5的整数;
式(2-5)中,q表示2~5的整数。
3.根据权利要求1或2所述的含氟醚化合物,其特征在于,所述式(1)中的R1与R3中的任一者或两者由下述式(3)表示,
式(3)中,m表示1~20的整数,n表示0~10的整数。
4.根据权利要求1或2所述的含氟醚化合物,其特征在于,所述式(1)中的R3由下述式(4)或下述式(5)表示,
式(4)中,u表示1~30的整数;
式(5)中,v表示1~30的整数。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的含氟醚化合物,其特征在于,所述式(1)中的R2的碳原子数为1~20。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的含氟醚化合物,其特征在于,所述式(1)中的R2由下述式(6)表示,
式(6)中,w表示1~4的整数。
7.根据权利要求1~6中任一项所述的含氟醚化合物,其特征在于,所述式(1)中的R4与R5中的一者为羟基。
8.根据权利要求1~7中任一项所述的含氟醚化合物,其特征在于,所述式(1)所示的化合物由下述式(D)表示,下述式(D)中的Rf1由下述式(RF-1)表示,
式(RF-1)中,x表示1~7的整数,y表示1~7的整数。
9.根据权利要求1~7中任一项所述的含氟醚化合物,其特征在于,所述式(1)所示的化合物由下述式(G)表示,下述式(G)中的Rf1由式(RF-1)表示,
式(RF-1)中,x表示1~7的整数,y表示1~7的整数。
10.根据权利要求1~7中任一项所述的含氟醚化合物,其特征在于,所述式(1)所示的化合物由下述式(H)表示,下述式(H)中的Rf1由式(RF-1)表示,
式(RF-1)中,x表示1~7的整数,y表示1~7的整数。
11.根据权利要求1~7中任一项所述的含氟醚化合物,其特征在于,所述式(1)所示的化合物由下述式(J)表示,下述式(J)中的Rf1由式(RF-1)表示,
式(RF-1)中,x表示1~7的整数,y表示1~7的整数。
12.根据权利要求1~7中任一项所述的含氟醚化合物,其特征在于,所述式(1)所示的化合物由下述式(K)表示,下述式(K)中的Rf1由式(RF-1)表示,
式(RF-1)中,x表示1~7的整数,y表示1~7的整数。
13.根据权利要求1~7中任一项所述的含氟醚化合物,其特征在于,所述式(1)所示的化合物由下述式(L)表示,下述式(L)中的Rf1由式(RF-1)表示,
式(RF-1)中,x表示1~7的整数,y表示1~7的整数。
14.根据权利要求1~7中任一项所述的含氟醚化合物,其特征在于,所述式(1)所示的化合物由下述式(O)表示,下述式(O)中的Rf2由下述式(RF-2)表示,
式(RF-2)中,z表示1~9的整数。
15.根据权利要求1~7中任一项所述的含氟醚化合物,其特征在于,所述式(1)所示的化合物由下述式(Q)表示,下述式(Q)中的Rf2由式(RF-2)表示,
式(RF-2)中,z表示1~9的整数。
16.根据权利要求1~7中任一项所述的含氟醚化合物,其特征在于,所述式(1)所示的化合物由下述式(R)表示,下述式(R)中的Rf2由式(RF-2)表示,
式(RF-2)中,z表示1~9的整数。
17.根据权利要求1~7中任一项所述的含氟醚化合物,其特征在于,所述式(1)所示的化合物由下述式(U)表示,下述式(U)中的Rf1由式(RF-1)表示,
式(RF-1)中,x表示1~7的整数,y表示1~7的整数。
18.根据权利要求1~7中任一项所述的含氟醚化合物,其特征在于,所述式(1)所示的化合物由下述式(X)表示,下述式(X)中的Rf1由式(RF-1)表示,
式(RF-1)中,x表示1~7的整数,y表示1~7的整数。
19.根据权利要求1~7中任一项所述的含氟醚化合物,其特征在于,所述式(1)所示的化合物由下述式(Z)表示,下述式(Z)中的Rf1由式(RF-1)表示,
式(RF-1)中,x表示1~7的整数,y表示1~7的整数。
20.根据权利要求1~19中任一项所述的含氟醚化合物,其数均分子量在1000~10000的范围内。
21.一种磁记录介质用润滑剂,其特征在于,包含权利要求1~20中任一项所述的含氟醚化合物。
22.一种磁记录介质,其特征在于,在基板上至少依次设置有磁性层、保护层、和润滑层,所述润滑层包含权利要求1~20中任一项所述的含氟醚化合物。
23.根据权利要求22所述的磁记录介质,所述润滑层的平均膜厚为0.5nm~3nm。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202210177105.9A CN114550755B (zh) | 2016-02-22 | 2017-02-20 | 含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016-031473 | 2016-02-22 | ||
JP2016031473 | 2016-02-22 | ||
PCT/JP2017/006182 WO2017145995A1 (ja) | 2016-02-22 | 2017-02-20 | 含フッ素エーテル化合物、磁気記録媒体用潤滑剤および磁気記録媒体 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202210177105.9A Division CN114550755B (zh) | 2016-02-22 | 2017-02-20 | 含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN108698967A true CN108698967A (zh) | 2018-10-23 |
CN108698967B CN108698967B (zh) | 2022-03-04 |
Family
ID=59686649
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202210177105.9A Active CN114550755B (zh) | 2016-02-22 | 2017-02-20 | 含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质 |
CN201780012549.4A Active CN108698967B (zh) | 2016-02-22 | 2017-02-20 | 含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202210177105.9A Active CN114550755B (zh) | 2016-02-22 | 2017-02-20 | 含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11292979B2 (zh) |
JP (1) | JP6830474B2 (zh) |
CN (2) | CN114550755B (zh) |
WO (1) | WO2017145995A1 (zh) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111056927A (zh) * | 2019-12-10 | 2020-04-24 | 清华大学 | 单取代苯乙烯的合成方法 |
CN112778099A (zh) * | 2021-01-27 | 2021-05-11 | 上海橡实化学有限公司 | 一种合成3,6,9,12,15-五氧杂二十八烷-1-醇的方法 |
CN114341094A (zh) * | 2019-09-18 | 2022-04-12 | 昭和电工株式会社 | 含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质 |
CN114845984A (zh) * | 2019-12-23 | 2022-08-02 | 昭和电工株式会社 | 含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质 |
CN114867707A (zh) * | 2019-12-23 | 2022-08-05 | 昭和电工株式会社 | 含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质 |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018116742A1 (ja) * | 2016-12-20 | 2018-06-28 | 昭和電工株式会社 | 含フッ素エーテル化合物、磁気記録媒体用潤滑剤および磁気記録媒体 |
JP6763980B2 (ja) * | 2017-02-10 | 2020-09-30 | 株式会社Moresco | フルオロポリエーテル化合物、これを用いた潤滑剤およびその利用 |
JP7149947B2 (ja) | 2017-08-21 | 2022-10-07 | 昭和電工株式会社 | 含フッ素エーテル化合物、磁気記録媒体用潤滑剤および磁気記録媒体 |
JP7138646B2 (ja) * | 2017-09-07 | 2022-09-16 | 昭和電工株式会社 | 含フッ素エーテル化合物、磁気記録媒体用潤滑剤および磁気記録媒体 |
CN111278797B (zh) * | 2017-09-13 | 2023-06-16 | 株式会社力森诺科 | 含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质 |
CN111212831B (zh) * | 2017-10-31 | 2023-06-16 | 株式会社力森诺科 | 含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质 |
US11767483B2 (en) | 2018-09-12 | 2023-09-26 | Resonac Corporation | Fluorine-containing ether compound, lubricant for magnetic recording medium, and magnetic recording medium |
US11820953B2 (en) | 2019-03-12 | 2023-11-21 | Resonac Corporation | Fluorine-containing ether compound, lubricant for magnetic recording medium and magnetic recording medium |
WO2021132252A1 (ja) | 2019-12-26 | 2021-07-01 | 昭和電工株式会社 | 含フッ素エーテル化合物、磁気記録媒体用潤滑剤および磁気記録媒体 |
JPWO2021157563A1 (zh) * | 2020-02-07 | 2021-08-12 | ||
JPWO2021251335A1 (zh) * | 2020-06-11 | 2021-12-16 | ||
WO2024024781A1 (ja) * | 2022-07-29 | 2024-02-01 | 株式会社レゾナック | 含フッ素エーテル化合物、磁気記録媒体用潤滑剤および磁気記録媒体 |
WO2024048569A1 (ja) * | 2022-08-31 | 2024-03-07 | 株式会社レゾナック | 含フッ素エーテル化合物およびその製造方法、磁気記録媒体用潤滑剤および磁気記録媒体 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101868521A (zh) * | 2007-11-19 | 2010-10-20 | 株式会社Moresco | 润滑剂和磁盘 |
CN102356431A (zh) * | 2009-03-18 | 2012-02-15 | 昭和电工株式会社 | 磁记录介质的检查方法、磁记录介质以及磁记录再生装置 |
WO2015022781A1 (ja) * | 2013-08-15 | 2015-02-19 | コニカミノルタ株式会社 | 細胞検出方法および細胞検出装置 |
US20150235664A1 (en) * | 2014-02-20 | 2015-08-20 | HGST Netherlands B.V. | Ultra-low profile multidentate lubricant for use as a sub-nanometer thick lubricant layer for magnetic media |
EP3225612A1 (en) * | 2014-11-28 | 2017-10-04 | Moresco Corporation | Fluoropolyether compound, lubricant, magnetic disk, and method for producing same |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3223238B2 (ja) * | 1996-11-07 | 2001-10-29 | 昭和電工株式会社 | 磁気記録媒体 |
JP2003113389A (ja) * | 2001-10-04 | 2003-04-18 | Sony Corp | パーフルオロポリエーテル系化合物を含有する潤滑剤、および該潤滑剤を用いた磁気記録媒体。 |
CN1989228A (zh) * | 2004-07-23 | 2007-06-27 | 株式会社松村石油研究所 | 记录介质用润滑剂及磁盘 |
JP2009035075A (ja) * | 2007-07-31 | 2009-02-19 | Asmo Co Ltd | ワイパ装置 |
US10068603B2 (en) | 2007-09-14 | 2018-09-04 | Fuji Electric Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
JP2009211765A (ja) * | 2008-03-04 | 2009-09-17 | Hoya Corp | 磁気ディスク |
JP5315735B2 (ja) * | 2008-03-19 | 2013-10-16 | 富士電機株式会社 | 磁気記録媒体用潤滑剤および該潤滑剤を使用した磁気記録媒体 |
JP5623048B2 (ja) | 2009-03-25 | 2014-11-12 | 富士フイルム株式会社 | 潤滑剤組成物、及びその用途 |
WO2011001985A1 (ja) * | 2009-06-30 | 2011-01-06 | 旭硝子株式会社 | 帯電デバイス用電解液、リチウム二次イオン電池用電解液、および二次電池 |
US8518564B2 (en) * | 2010-04-15 | 2013-08-27 | HGST Netherlands B.V. | Perfluoropolyether lubricant and systems comprising same |
JP5743438B2 (ja) | 2010-06-22 | 2015-07-01 | ダブリュディ・メディア・シンガポール・プライベートリミテッド | 磁気ディスク用潤滑剤、磁気ディスク及びその製造方法 |
JP5523377B2 (ja) | 2011-03-07 | 2014-06-18 | 富士フイルム株式会社 | 潤滑剤組成物、フッ素化合物、及びその用途 |
JP5413394B2 (ja) | 2011-03-28 | 2014-02-12 | 株式会社Gsユアサ | 単電池及び組電池 |
US8685548B2 (en) | 2011-03-31 | 2014-04-01 | Seagate Technology Llc | Lubricant compositions |
WO2013054393A1 (ja) | 2011-10-11 | 2013-04-18 | 株式会社日立製作所 | 潤滑剤、及びそれを用いた磁気ディスク装置 |
JP5909837B2 (ja) * | 2012-02-13 | 2016-04-27 | 株式会社Moresco | フルオロポリエーテル化合物、これを含有する潤滑剤ならびに磁気ディスク |
EP2982702B1 (en) * | 2013-04-04 | 2017-08-09 | Asahi Glass Company, Limited | Fluorine-containing ether compound, fluorine-containing ether composition, and coating solution, as well as substrate having surface layer, and method for manufacturing same |
CN105452333B (zh) * | 2013-08-13 | 2017-08-08 | 旭硝子株式会社 | 含氟聚醚化合物、润滑剂、液状组合物以及物品 |
JP6145423B2 (ja) * | 2014-05-15 | 2017-06-14 | 昭和電工株式会社 | 磁気記録媒体用潤滑剤、磁気記録媒体、磁気記録媒体の製造方法および磁気記録再生装置 |
US10559320B2 (en) * | 2014-12-19 | 2020-02-11 | Showa Denko K.K. | Magnetic recording medium and magnetic recording/reproducing apparatus |
JP5789710B1 (ja) | 2014-12-19 | 2015-10-07 | 昭和電工株式会社 | 磁気記録媒体および磁気記録再生装置 |
-
2017
- 2017-02-20 JP JP2018501674A patent/JP6830474B2/ja active Active
- 2017-02-20 WO PCT/JP2017/006182 patent/WO2017145995A1/ja active Application Filing
- 2017-02-20 CN CN202210177105.9A patent/CN114550755B/zh active Active
- 2017-02-20 US US15/999,837 patent/US11292979B2/en active Active
- 2017-02-20 CN CN201780012549.4A patent/CN108698967B/zh active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101868521A (zh) * | 2007-11-19 | 2010-10-20 | 株式会社Moresco | 润滑剂和磁盘 |
CN102356431A (zh) * | 2009-03-18 | 2012-02-15 | 昭和电工株式会社 | 磁记录介质的检查方法、磁记录介质以及磁记录再生装置 |
WO2015022781A1 (ja) * | 2013-08-15 | 2015-02-19 | コニカミノルタ株式会社 | 細胞検出方法および細胞検出装置 |
US20150235664A1 (en) * | 2014-02-20 | 2015-08-20 | HGST Netherlands B.V. | Ultra-low profile multidentate lubricant for use as a sub-nanometer thick lubricant layer for magnetic media |
EP3225612A1 (en) * | 2014-11-28 | 2017-10-04 | Moresco Corporation | Fluoropolyether compound, lubricant, magnetic disk, and method for producing same |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
X.-C. GUO等: "A multidentate lubricant for use in hard disk drives at sub-nanometer thickness", 《JOURNAL OF APPLIED PHYSICS》 * |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114341094A (zh) * | 2019-09-18 | 2022-04-12 | 昭和电工株式会社 | 含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质 |
CN114341094B (zh) * | 2019-09-18 | 2024-01-12 | 株式会社力森诺科 | 含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质 |
CN111056927A (zh) * | 2019-12-10 | 2020-04-24 | 清华大学 | 单取代苯乙烯的合成方法 |
CN114845984A (zh) * | 2019-12-23 | 2022-08-02 | 昭和电工株式会社 | 含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质 |
CN114867707A (zh) * | 2019-12-23 | 2022-08-05 | 昭和电工株式会社 | 含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质 |
CN114845984B (zh) * | 2019-12-23 | 2023-10-03 | 株式会社力森诺科 | 含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质 |
CN114867707B (zh) * | 2019-12-23 | 2024-03-08 | 株式会社力森诺科 | 含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质 |
CN112778099A (zh) * | 2021-01-27 | 2021-05-11 | 上海橡实化学有限公司 | 一种合成3,6,9,12,15-五氧杂二十八烷-1-醇的方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2017145995A1 (ja) | 2018-12-13 |
JP6830474B2 (ja) | 2021-02-17 |
WO2017145995A1 (ja) | 2017-08-31 |
CN114550755B (zh) | 2023-09-29 |
US11292979B2 (en) | 2022-04-05 |
CN114550755A (zh) | 2022-05-27 |
US20200263104A1 (en) | 2020-08-20 |
CN108698967B (zh) | 2022-03-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN108698967A (zh) | 含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质 | |
CN112201281B (zh) | 含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质 | |
CN109937224A (zh) | 含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂和磁记录介质 | |
CN108698968A (zh) | 含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质 | |
JP7138646B2 (ja) | 含フッ素エーテル化合物、磁気記録媒体用潤滑剤および磁気記録媒体 | |
JPWO2019054148A1 (ja) | 含フッ素エーテル化合物、磁気記録媒体用潤滑剤および磁気記録媒体 | |
CN109963894A (zh) | 含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质 | |
CN109937198A (zh) | 含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂和磁记录介质 | |
CN114341094B (zh) | 含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质 | |
JP2018002673A (ja) | 含フッ素エーテル化合物、磁気記録媒体用潤滑剤および磁気記録媒体 | |
JP5600222B1 (ja) | 磁気記録媒体用潤滑剤、磁気記録媒体、磁気記録媒体の製造方法、および磁気記録再生装置 | |
CN114845984A (zh) | 含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质 | |
JPWO2019039265A1 (ja) | 含フッ素エーテル化合物、磁気記録媒体用潤滑剤および磁気記録媒体 | |
CN110291062A (zh) | 含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质 | |
CN114341121B (zh) | 含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质 | |
WO2021020076A1 (ja) | 含フッ素エーテル化合物、磁気記録媒体用潤滑剤および磁気記録媒体 | |
US11767483B2 (en) | Fluorine-containing ether compound, lubricant for magnetic recording medium, and magnetic recording medium | |
JP7012807B2 (ja) | 含フッ素エーテル化合物、磁気記録媒体用潤滑剤および磁気記録媒体 | |
CN117157272A (zh) | 含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质 | |
CN112672999A (zh) | 含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant | ||
CP01 | Change in the name or title of a patent holder |
Address after: Tokyo, Japan Patentee after: Lishennoco Co.,Ltd. Address before: Tokyo, Japan Patentee before: Showa electrical materials Co.,Ltd. |
|
CP01 | Change in the name or title of a patent holder | ||
TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20230523 Address after: Tokyo, Japan Patentee after: Showa electrical materials Co.,Ltd. Address before: Tokyo, Japan Patentee before: SHOWA DENKO Kabushiki Kaisha |
|
TR01 | Transfer of patent right |