CN105764865A - 掺杂有碱金属和不含碱金属的硼铝硅酸盐玻璃 - Google Patents

掺杂有碱金属和不含碱金属的硼铝硅酸盐玻璃 Download PDF

Info

Publication number
CN105764865A
CN105764865A CN201480056637.0A CN201480056637A CN105764865A CN 105764865 A CN105764865 A CN 105764865A CN 201480056637 A CN201480056637 A CN 201480056637A CN 105764865 A CN105764865 A CN 105764865A
Authority
CN
China
Prior art keywords
glass
moles
less
mole
cao
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201480056637.0A
Other languages
English (en)
Inventor
A·J·埃利森
J·S·弗兰肯保尔
J·C·莫罗
D·M·小诺尼
N·文卡特拉马尼
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Corning Inc
Original Assignee
Corning Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Corning Inc filed Critical Corning Inc
Priority to CN202110371219.2A priority Critical patent/CN113060935A/zh
Publication of CN105764865A publication Critical patent/CN105764865A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01QANTENNAS, i.e. RADIO AERIALS
    • H01Q1/00Details of, or arrangements associated with, antennas
    • H01Q1/36Structural form of radiating elements, e.g. cone, spiral, umbrella; Particular materials used therewith
    • H01Q1/38Structural form of radiating elements, e.g. cone, spiral, umbrella; Particular materials used therewith formed by a conductive layer on an insulating support
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B17/00Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
    • B32B17/06Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B17/00Forming molten glass by flowing-out, pushing-out, extruding or drawing downwardly or laterally from forming slits or by overflowing over lips
    • C03B17/02Forming molten glass coated with coloured layers; Forming molten glass of different compositions or layers; Forming molten glass comprising reinforcements or inserts
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C13/00Fibre or filament compositions
    • C03C13/04Fibre optics, e.g. core and clad fibre compositions
    • C03C13/045Silica-containing oxide glass compositions
    • C03C13/046Multicomponent glass compositions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/04Glass compositions containing silica
    • C03C3/076Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/089Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
    • C03C3/091Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/04Glass compositions containing silica
    • C03C3/076Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/089Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
    • C03C3/091Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
    • C03C3/093Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium containing zinc or zirconium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/04Glass compositions containing silica
    • C03C3/076Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/095Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing rare earths
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/04Glass compositions containing silica
    • C03C3/076Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/11Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing halogen or nitrogen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/04Glass compositions containing silica
    • C03C3/076Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/11Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing halogen or nitrogen
    • C03C3/112Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing halogen or nitrogen containing fluorine
    • C03C3/115Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing halogen or nitrogen containing fluorine containing boron
    • C03C3/118Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing halogen or nitrogen containing fluorine containing boron containing aluminium
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/66Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/68Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
    • H01L29/76Unipolar devices, e.g. field effect transistors
    • H01L29/772Field effect transistors
    • H01L29/78Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate
    • H01L29/786Thin film transistors, i.e. transistors with a channel being at least partly a thin film
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01QANTENNAS, i.e. RADIO AERIALS
    • H01Q1/00Details of, or arrangements associated with, antennas
    • H01Q1/12Supports; Mounting means
    • H01Q1/22Supports; Mounting means by structural association with other equipment or articles
    • H01Q1/2283Supports; Mounting means by structural association with other equipment or articles mounted in or on the surface of a semiconductor substrate as a chip-type antenna or integrated with other components into an IC package
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01QANTENNAS, i.e. RADIO AERIALS
    • H01Q15/00Devices for reflection, refraction, diffraction or polarisation of waves radiated from an antenna, e.g. quasi-optical devices
    • H01Q15/0006Devices acting selectively as reflecting surface, as diffracting or as refracting device, e.g. frequency filtering or angular spatial filtering devices
    • H01Q15/0013Devices acting selectively as reflecting surface, as diffracting or as refracting device, e.g. frequency filtering or angular spatial filtering devices said selective devices working as frequency-selective reflecting surfaces, e.g. FSS, dichroic plates, surfaces being partly transmissive and reflective
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01QANTENNAS, i.e. RADIO AERIALS
    • H01Q9/00Electrically-short antennas having dimensions not more than twice the operating wavelength and consisting of conductive active radiating elements
    • H01Q9/04Resonant antennas
    • H01Q9/0407Substantially flat resonant element parallel to ground plane, e.g. patch antenna
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2250/00Layers arrangement
    • B32B2250/033 layers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2250/00Layers arrangement
    • B32B2250/40Symmetrical or sandwich layers, e.g. ABA, ABCBA, ABCCBA
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2315/00Other materials containing non-metallic inorganic compounds not provided for in groups B32B2311/00 - B32B2313/04
    • B32B2315/08Glass
    • B32B2315/085Glass fiber cloth or fabric
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B17/00Forming molten glass by flowing-out, pushing-out, extruding or drawing downwardly or laterally from forming slits or by overflowing over lips
    • C03B17/06Forming glass sheets
    • C03B17/064Forming glass sheets by the overflow downdraw fusion process; Isopipes therefor

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)

Abstract

本发明提供掺杂有碱金属的硼铝硅酸盐玻璃。所述玻璃包含网络形成剂SiO2、B2O3和Al2O3。在一些实施方式中,所述玻璃可具有小于大约65GPa的杨氏模量和/或小于大约40×10?7/℃的热膨胀系数。所述玻璃可用作电子装置的盖板玻璃、滤色器基板、薄膜晶体管基板或玻璃层压体的外包层。

Description

掺杂有碱金属和不含碱金属的硼铝硅酸盐玻璃
本申请根据35U.S.C.§119要求2013年8月15日提交的美国临时申请系列第61/866272号的优先权,本文以该申请的内容为基础并通过引用全文将其纳入本文。
背景
本发明涉及不含碱金属或其氧化物的玻璃。更具体而言,本发明涉及含有少量碱金属和/或碱金属氧化物的玻璃、或者涉及掺杂有碱金属和不含碱金属的玻璃,且这些玻璃能够通过例如狭缝拉制和熔合拉制技术的下拉法来成形。更具体而言,本发明涉及含有少量碱金属和/或碱金属氧化物的玻璃、或者涉及掺杂有碱金属和不含碱金属的玻璃,且这些玻璃能够形成玻璃层压体的包层。
发明概述
本发明提供掺杂有碱金属的硼铝硅酸盐玻璃。所述玻璃包含网络形成剂SiO2、B2O3和Al2O3。在一些实施方式中,所述玻璃可具有小于大约65GPa的杨氏模量和/或在大约20℃~大约300℃的温度范围内取平均值小于大约40×10-7/℃的热膨胀系数。所述玻璃可用作电子装置的盖板玻璃、滤色器基板、薄膜晶体管基板或玻璃层压体的外包层。
因此,本发明的一个方面是提供一种玻璃,所述玻璃包含大约50摩尔%~大约70摩尔%的SiO2;大约5摩尔%~大约20摩尔%的Al2O3;大约12摩尔%~大约35摩尔%的B2O3;不超过大约5摩尔%的MgO;不超过大约12摩尔%的CaO;和不超过大约5摩尔%的SrO;其中,碱金属氧化物改性剂的总量小于或等于大约1摩尔%。
本发明的第二方面是提供包含SiO2、B2O3和Al2O3的玻璃。所述玻璃中碱金属氧化物改性剂的总量小于或等于大约1摩尔%。所述玻璃基本上不含P2O5,且具有以下性质中的至少一种:小于大约65GPa的杨氏模量,其在大约20℃~大约300℃的温度范围内取平均值的热膨胀系数小于大约40×10-7/℃,且其努氏划痕阈值至少为大约15N(牛顿)。
本发明的第三方面是提供一种玻璃层压件,所述玻璃层压件包含芯体玻璃和层压于所述芯体玻璃外表面上的包层玻璃。所述包层玻璃包含SiO2、B2O3和Al2O3,且所述包层玻璃中碱金属氧化物改性剂的总量小于或等于大约1摩尔%。所述包层玻璃具有第一热膨胀系数,所述第一热膨胀系数在大约20℃~大约300℃的温度范围内的平均值小于大约40×10-7/℃,所述芯体玻璃具有第二热膨胀系数,所述第二热膨胀系数在大约20℃~大约300℃的温度范围内的平均值大于所述第一热膨胀系数。
本发明的第四方面是提供一种玻璃的制造方法。所述方法包括:提供玻璃熔体,所述玻璃熔体包含SiO2、B2O3和Al2O3,其中,所述玻璃中碱金属氧化物改性剂的总量小于或等于大约1摩尔%;以及对所述玻璃熔体进行下拉以形成玻璃。
从以下详细描述、附图和所附权利要求书能明显地看出本发明的上述及其他方面、优点和显著特征。
附图的简要说明
图1是玻璃层压件的示意性的截面图。
图2a~f是玻璃样品的努氏划痕测试结果的照片。
发明详述
在以下描述中,在所有附图所示的若干视图中,相同的附图标记表示类似或相应的部分。还应理解,除非另外说明,否则,术语如“顶部”、“底部”、“向外”、“向内”等是为了方便起见的用语,不应视为限制性用语。此外,每当将一个组描述为包含一组要素和它们的组合中的至少一种时,应将其理解为所述组可以单个要素或相互组合的形式包含任何数量的这些所列要素,或者主要由任何数量的这些所列要素组成,或者由任何数量的这些所列要素组成。类似地,每当将一个组描述为由一组要素中的至少一个要素或它们的组合组成时,应将其理解为所述组可以单个要素或相互组合的形式由任何数量的这些所列要素组成。除非另有说明,否则,列举的数值范围同时包括所述范围的上限和下限,以及所述范围之间的任意范围。除非另外说明,否则,本文所用的修饰语“一个”或“一种”及其相应的修饰语“该”表示“至少一(个/种)”、或者“一(个/种)或多(个/种)”。还应理解的是,在说明书和附图中揭示的各种特征可以任意和所有的组合方式使用。
如本文所用,术语“玻璃制品”和“多种玻璃制品”以它们最广泛的意义来使用,包括全部或部分由玻璃制成的任何物体。除非另有说明,否则所有组成都以摩尔百分数(摩尔%)的形式表示。热膨胀系数(CTE)的单位是10-7/℃,且除非另有说明,其表示在大约20℃~大约300℃的温度范围内的测量值。
应注意,本文可用术语“基本上”和“大约”表示可由任何定量比较、数值、测量或其它表示方法造成的固有不确定程度。在本文中还使用这些术语表示数量的表示可以与所述的参比值有一定的偏离程度,但是不会导致所针对的对象的基本功能改变。因此,“基本上不含碱金属氧化物”或“基本上不含P2O5”的玻璃是指不向所述玻璃中主动添加或配入这些氧化物,但所述玻璃可含有很少量的作为污染物的这些氧化物。
从总体上参见附图,并具体参见图1,应理解图示是为了描述本发明的具体实施方式,这些图示不构成对本发明的内容或权利要求书的限制。为了清楚和简明起见,附图不一定按比例绘制,附图的某些特征和某些视图可能按比例放大显示或以示意图方式显示。
本发明涉及包含网络形成剂SiO2、B2O3和Al2O3的玻璃及由所述玻璃制得的玻璃制品,且在一些实施方式中,其具有低(例如小于大约40×10-7/℃)热膨胀系数(CTE)。在一些实施方式中,故意在这些玻璃中少量掺杂小于大约1摩尔%的碱金属或碱金属氧化物以降低玻璃熔体的电阻率并避免耐火外壳和加工结构的“烧穿”。在其它实施方式中,这些玻璃不含碱金属和碱金属氧化物(本文中也称作“碱金属氧化物改性剂”)。在一些实施方式中,这些玻璃还具有较低的杨氏模量和剪切模量值,以改善玻璃固有或天然的耐损坏性。
在一些实施方式中,本发明的玻璃能够利用本领域已知的例如狭缝拉制和熔合拉制法的下拉法来成形。熔合拉制法是一种用于大规模制造薄玻璃板的工业技术。相比于例如浮法或狭缝拉制法等其它平板玻璃制造技术,由熔合拉制法制得的薄玻璃板具有优异的平整度和表面品质。结果,熔合拉制法成为了制造用于液晶显示器和例如笔记本电脑、娱乐设备、桌面、便携式电脑等个人电子装置的盖板玻璃的薄玻璃基板的主流制造技术。
熔合法涉及使熔融玻璃从称为“等压槽”的槽中溢出,所述等压槽通常由锆石或另一种耐火材料制成。熔融玻璃从两侧从等压槽顶部溢流,在等压槽的底部汇合以形成单一板,使等压槽只与最终板的内部直接接触。由于在拉制处理过程中,最终玻璃板的两个外露表面都不与等压槽材料相接触,因此玻璃的两个外表面都具有完好的品质而无需后续的精加工。
为了能够进行熔合拉制,玻璃必须具有足够高的液相线粘度(即熔融玻璃在液相线温度下的粘度)。在一些实施方式中,本发明的玻璃的液相线粘度至少为大约100千泊(kpoise),在其它实施方式中,至少为大约120千泊,且在其它实施方式中,这些玻璃的液相线粘度为至少大约300千泊。在那些使用掺杂有碱金属和不含碱金属的玻璃作为玻璃层压件中的包层且芯体玻璃相对于温度的粘度性质与包层玻璃的粘度性质大致相同的例子中,包层玻璃的液相线粘度可大于或等于大约70千泊。
传统的熔合拉制是利用单一等压槽来完成的,得到均匀的玻璃产品。更复杂的层压熔合法利用两个等压槽来形成层压板,所述层压板包含在单侧(或两侧)被外部包层包裹的芯体玻璃组合物。层压熔合法的主要优势之一在于当包层玻璃的热膨胀系数小于芯体层的热膨胀系数时,CTE的差异在外部包层中产生了压缩应力。压缩应力会增加最终玻璃产品的强度而无需进行离子交换处理。与离子交换不同,可实现这种强化而不在玻璃中使用碱金属离子。
因此,在一些实施方式中,本发明的掺杂有碱金属和不含碱金属的玻璃可用于形成示意性地示于图1中的玻璃层压体。玻璃层压件100包含芯体玻璃110,所述芯体玻璃110被本发明所述的由掺杂有碱金属和不含碱金属的玻璃所形成的包层玻璃120或“包层”包裹。芯体玻璃110的CTE大于包层120中掺杂有碱金属和不含碱金属的玻璃的CTE。在一些实施方式中,芯体玻璃可以是碱金属铝硅酸盐玻璃。在一个非限制性的例子中,芯体玻璃是碱金属铝硅酸盐玻璃,所述碱金属铝硅酸盐玻璃的组成为66.9摩尔%的SiO2、10.1摩尔%的Al2O3、0.58摩尔%的B2O3、7.45摩尔%的Na2O、8.39摩尔%的K2O、5.78摩尔%的MgO、0.58摩尔%的CaO、0.2摩尔%的SnO2、0.01摩尔%的ZrO2和0.01摩尔%的Fe2O3,其应变点为572℃,退火点为629℃,软化点为888℃,且CTE=95.5×10-7/℃。
当本发明的掺杂有碱金属和不含碱金属的玻璃组合物被用作层压产品中的包层玻璃时,其可使包层具有高压缩应力。本发明所述的碱金属氧化物含量低/掺杂有碱金属和不含碱金属的能够进行熔合成形的玻璃的CTE通常为大约40×10-7/℃或更小,且在一些实施方式中,为大约35×10-7/℃或更小。当这种玻璃与例如CTE为90×10-7/℃的碱金属铝硅酸盐玻璃(例如康宁股份有限公司(CorningIncorporated)生产的玻璃)进行搭配时,可利用下文中给出的弹性应力公式来计算包层玻璃中的预计的压缩应力,其中,下标1和2分别表示芯体玻璃和包层玻璃:
σ 2 = E 1 ( e 2 - e 1 ) ( E 1 E 2 ( 1 - v 2 ) ) + ( 2 t 2 t 1 ( 1 - v 1 ) )
σ 1 = - 2 t 2 t 1 σ 2
其中E表示杨氏模量,ν表示泊松比,t表示玻璃厚度,σ表示应力,e2-e1表示包层玻璃与芯体玻璃之间热膨胀的差值。使用具有相同弹性模量和泊松比的包层玻璃和芯体玻璃可进一步简化上式。
为了计算包层玻璃与芯体玻璃之间的热膨胀差值,假设将应力设置于包层玻璃和芯体玻璃中较软的玻璃的应变点之下。包层玻璃中的应力可通过使用这些假设和上述公式来估算。对于作为包层玻璃的CTE为30×10-7/℃的典型的显示屏状玻璃和CTE为90×10-7/℃的碱金属铝硅酸盐芯体玻璃而言,其总厚度为0.5~1.0mm,而包层玻璃的厚度为10~100μm,估算包层玻璃的压缩应力在大约200MPa~大约315MPa的范围内。在一些实施方式中,本发明的玻璃的热膨胀系数小于大约40×10-7/℃,而在一些实施方式中,小于大约35×10-7/℃。对于这些玻璃,包层玻璃层的压缩应力至少为大约40MPa,在其它实施方式中,至少为大约80MPa。
本发明的掺杂有碱金属和不含碱金属的玻璃具有特别低的热膨胀系数。在一些实施方式中,本发明的玻璃的CTE小于大约40×10-7/℃,在其它实施方式中,小于大约35×10-7/℃。当与具有更高CTE的芯体玻璃搭配时,本发明的玻璃使最终层压玻璃产品的包层中产生较大的压缩应力。这增加了该玻璃层压件产品的强度。在层压件的包层中使用本发明的玻璃可使室温压缩应力至少为大约40MPa,而在一些实施方式中,至少为大约80MPa。当本发明的玻璃被用作包层时,可降低对其液相线粘度的要求。在那些芯体玻璃相对于温度的粘度性质与包层玻璃的粘度性质大致相同(即“匹配”)的实施方式中,包层玻璃的液相线粘度可大于或等于大约70千泊。
掺杂有碱金属和不含碱金属的玻璃的杨氏模量和剪切模量值明显低于其它市售可得的熔合拉制玻璃的杨氏模量和剪切模量值。在一些实施方式中,杨氏模量小于大约65千兆帕斯卡(GPa),在其它实施方式中,小于大约60GPa。低弹性模量使这些玻璃具有较高的固有耐损坏性。
在一些实施方式中,本发明的玻璃主要由以下物质组成或包含以下物质:大约50摩尔%~大约70摩尔%的SiO2(即50摩尔%≤SiO2≤70摩尔%);大约5摩尔%~大约20摩尔%的Al2O3(即5摩尔%≤Al2O3≤20摩尔%);大约12摩尔%~大约35摩尔%的B2O3(即12摩尔%≤B2O3≤35摩尔%);不超过大约5摩尔%的MgO(即0摩尔%≤MgO≤5摩尔%);不超过大约12摩尔%的CaO(即0摩尔%≤CaO≤12摩尔%);和不超过大约5摩尔%的SrO(即0摩尔%≤SrO≤5摩尔%),其中,碱金属氧化物改性剂的总量小于或等于0.1摩尔%(即0摩尔%≤Li2O+Na2O+K2O≤0.1摩尔%)。在一些实施方式中,4摩尔%≤MgO+CaO+SrO≤Al2O3+1摩尔%。在某些实施方式中,本发明的玻璃基本上不含P2O5和/或碱金属氧化物改性剂,或含有0摩尔%的P2O5和/或碱金属氧化物改性剂。
本发明的玻璃还可包含不超过大约0.5摩尔%的Fe2O3(即0摩尔%≤Fe2O3≤0.5摩尔%);不超过大约0.2摩尔%的ZrO2(即0摩尔%≤ZrO2≤0.2摩尔%);和可选的至少一种澄清剂,例如SnO2、CeO2、As2O3、Sb2O5、Cl-、F-等。在一些实施方式中,至少一种澄清剂可包含不超过大约0.7摩尔%的SnO2(即0摩尔%≤SnO2≤0.5摩尔%);不超过大约0.7摩尔%的CeO2(即0摩尔%≤CeO2≤0.7摩尔%);不超过大约0.5摩尔%的As2O3(即0摩尔%≤As2O3≤0.5摩尔%);和不超过大约0.5摩尔%的Sb2O3(即0摩尔%≤Sb2O3≤0.5摩尔%)。
在具体的实施方式中,本发明的玻璃主要由以下物质组成或包含以下物质:大约55摩尔%~大约70摩尔%的SiO2(即55摩尔%≤SiO2≤70摩尔%);大约6摩尔%~大约10摩尔%的Al2O3(即6摩尔%<Al2O3≤10摩尔%);大约18摩尔%~大约30摩尔%的B2O3(即18摩尔%≤B2O3≤30摩尔%);不超过大约3摩尔%的MgO(即0摩尔%≤MgO≤3摩尔%);大约2摩尔%~大约10摩尔%的CaO(即2摩尔%≤CaO≤10摩尔%);和不超过大约3摩尔%的SrO(即0摩尔%≤SrO≤3摩尔%),其中,碱金属氧化物改性剂的总量小于或等于1摩尔%(即0摩尔%≤Li2O+Na2O+K2O≤1摩尔%)。在一些实施方式中,本发明的玻璃中MgO、CaO和SrO的总量大于或等于大约4摩尔%且小于或等于玻璃中Al2O3的量(即4摩尔%≤MgO+CaO+SrO≤Al2O3)。在一些实施方式中,本发明的玻璃中碱金属氧化物和碱土金属氧化物的总量大于或等于大约4摩尔%且小于或等于玻璃中Al2O3的量(即4摩尔%≤Li2O+Na2O+K2O+MgO+CaO+SrO≤Al2O3)。在某些实施方式中,所述玻璃不含P2O5
所述玻璃还可包含不超过大约0.2摩尔%的ZrO2(即0摩尔%≤ZrO2≤0.2摩尔%);不超过大约0.2摩尔%的Fe2O3(即0摩尔%≤Fe2O3≤0.2摩尔%);和至少一种澄清剂,例如SnO2、CeO2、As2O3、Sb2O5、Cl-、F-等。在一些实施方式中,至少一种澄清剂包含不超过大约0.2摩尔%的SnO2(即0摩尔%≤SnO2≤0.2摩尔%)。
这些玻璃的组成和非限制性例子列入表1。这些玻璃的每一种氧化物组分都具有功能。二氧化硅(SiO2)是主要的玻璃形成氧化物,并为熔融玻璃形成网络骨架。纯SiO2具有低CTE且不含碱金属。但是,因为其极高的熔融温度,纯SiO2与熔合拉制法是不兼容的。其粘度曲线也过高而无法与层压结构中的任何芯体玻璃相匹配。在一些实施方式中,本发明所述玻璃中的SiO2的量在大约50摩尔%~大约70摩尔%的范围内。在其它实施方式中,SiO2的浓度在大约55摩尔%~大约70摩尔%的范围内。
除了二氧化硅以外,本发明的玻璃还包含网络形成剂Al2O3和B2O3以实现稳定的玻璃成形、低CTE、低杨氏模量、低剪切模量并且促进熔化和成形。通过以适当的浓度混合全部的这四种网络形成剂,可以在将对例如碱金属氧化物或碱土金属氧化物的会使CTE和模量上升的网络改性剂的需要降到最低的同时,实现稳定块体玻璃的形成。与SiO2类似、Al2O3可增强玻璃网络的刚度。氧化铝可以四配位或五配位的形式存在于玻璃中。在一些实施方式,本发明的玻璃包含大约5摩尔%~大约12摩尔%的Al2O3,在具体的实施方式中,包含大约6摩尔%~大约10摩尔%的Al2O3
氧化硼(B2O3)也是一种玻璃形成氧化物,其被用于降低粘度,从而改善熔化和形成玻璃的能力。B2O3可以三配位或四配位的形式存在于玻璃网络中。三配位的B2O3是用于降低杨氏模量和剪切模量,从而改善玻璃的固有耐损坏性的最有效的氧化物。因此,在一些实施方式中,本发明的玻璃包含大约12摩尔%~大约35摩尔%的B2O3,在其它实施方式中,包含大约18摩尔%~大约30摩尔%的B2O3
碱土金属氧化物(MgO、CaO和SrO)与B2O3类似,也可改善玻璃的熔化性能。然而,它们也会使CTE和杨氏模量以及剪切模量增大。在一些实施方式中,本发明的玻璃包含不超过大约5摩尔%的MgO、不超过大约12摩尔%的CaO和不超过大约5摩尔%的SrO,在其它实施方式中,包含不超过大约3摩尔%的MgO、大约2摩尔%~大约10摩尔%的CaO和不超过大约3摩尔%的SrO。为了确保玻璃中大部分的B2O3处于三配位的状态从而取得较高的天然耐划痕性,在一些实施方式中,(MgO)+(CaO)+(SrO)≤(Al2O3)+1摩尔%,或者在其它实施方式中,(MgO)+(CaO)+(SrO)≤(Al2O3)。
本发明的玻璃还可以较低的浓度包含至少一种澄清剂,例如SnO2、CeO2、As2O3、Sb2O5、Cl-、F-等,以帮助在熔化过程中去除气态内含物。在一些实施方式中,本发明的玻璃可包含不超过大约0.7摩尔%的SnO2、不超过大约0.7摩尔%的CeO2、不超过大约0.5摩尔%的As2O3和/或不超过大约0.5摩尔%的Sb2O3。在其它实施方式中,至少一种澄清剂可包含不超过大约0.2摩尔%的SnO2
少量的ZrO2也会通过热玻璃与熔化器中基于氧化锆的耐火材料相接触而引入,因此监测其在玻璃中的水平对于判断槽随时间的磨损速率可能是很重要的。在一些实施方式中,本发明的玻璃可包含不超过大约0.1摩尔%的ZrO2。本发明的玻璃可进一步以低浓度包含Fe2O3,由于这种材料是批料中常见的杂质。在一些实施方式中,本发明的玻璃可包含不超过大约0.5摩尔%的Fe2O3,在其它实施方式中,包含不超过大约0.2摩尔%的Fe2O3
表1:玻璃的示例性组成
续表1
续表1
续表1
续表1
续表1
续表1
高含量的硼可使玻璃在不利用离子交换来进行化学强化的条件下具有高水平的固有或“天然”的耐划痕性。耐划痕性通过努氏划痕阈值测试来测量。在努氏划痕阈值测试中,机械测试仪利用努氏金刚石以递增的负荷对玻璃进行划刻,以确定横向裂纹的产生;例如大于原始划痕/凹槽的宽度的两倍的连续裂纹。将该横向裂纹的产生定义为“努氏划痕阈值”。本发明的玻璃的最小努氏划痕阈值为大约15N(牛顿)。在一些实施方式中,努氏划痕阈值至少为20N,而在其它实施方式中,至少为大约25N。
表1中玻璃样品25的努氏划痕测试结果的照片示于图2a~f。该玻璃未在测试前进行过离子交换。在负荷不超过26N(图2a~d)的状态下,未观察到与原始划痕200关联的横向裂纹。在28N(图2e)的负荷下观察到横向裂纹202,但是横向裂纹212的开裂程度小于原始划痕202的宽度的两倍。由于观察到的横向裂纹214大于原始划痕204的宽度的两倍,因此在30N的负荷下达到了该玻璃的努氏划痕阈值(图2f)。
相比于本发明的玻璃,其它碱土金属硼硅酸盐玻璃(Eagle玻璃,由康宁股份有限公司制造)的努氏划痕阈值为8~10N,而经过离子交换的碱金属铝硅酸盐玻璃(玻璃和玻璃3,由康宁股份有限公司制造)的努氏划痕阈值分别为3.9~4.9N和9.8~12N。
本发明还提供了一种玻璃的制造方法,所述方法包括提供玻璃熔体和对所述玻璃熔体进行下拉以形成玻璃,所述玻璃熔体包含SiO2、B2O3,还包含Al2O3和P2O5中的至少一种,其中,所述玻璃熔体基本上不含碱金属氧化物改性剂。在一些实施方式中,对玻璃进行下拉的步骤包括对所述玻璃熔体进行狭缝拉制,而在其它实施方式中,进行玻璃熔体进行熔合拉制。
在某些实施方式中,本方法还包括提供芯体玻璃熔体并熔合拉制所述芯体玻璃熔体以形成芯体玻璃,所述芯体玻璃的热膨胀系数小于包层玻璃的热膨胀系数。然后,熔合拉制所述包层玻璃熔体以形成包层玻璃层,从而包裹住所述芯体玻璃。包层玻璃层处于至少为大约40MPa的压缩应力之下,在一些实施方式中,该压缩应力至少为大约80MPa。
本发明的玻璃由于基本上不含碱金属因而适用于薄膜晶体管(TFT)显示器应用。这些应用需要掺杂有碱金属和不含碱金属的界面,因为碱金属离子的存在会使薄膜晶体管受到毒害。因此,经过离子交换的含碱金属玻璃不适用于这种应用。使用本发明的掺杂有碱金属和不含碱金属的玻璃作为包层的玻璃层压件可提供一种强化玻璃产品和掺杂有碱金属和不含碱金属或掺杂有少量(<1摩尔%)碱金属或碱金属氧化物的界面。在一些实施方式中,掺杂有碱金属和不含碱金属的玻璃还具有高退火点和应变点以降低热紧缩,这是TFT显示器基板所需要的。本发明的玻璃还可被用于各种电子装置的滤色器基板、盖板玻璃或触摸界面中。
虽然为了说明给出了典型的实施方式,但是前面的描述不应被认为是对本说明书或所附权利要求书的范围的限制。因此,在不偏离本说明书或者所附权利要求书的精神和范围的情况下,本领域的技术人员可想到各种改进、修改和替换形式。

Claims (69)

1.一种玻璃,所述玻璃包含:大约50摩尔%~大约70摩尔%的SiO2;大约5摩尔%~大约20摩尔%的Al2O3;大约12摩尔%~大约35摩尔%的B2O3;不超过大约5摩尔%的MgO;不超过大约12摩尔%的CaO;和不超过大约5摩尔%的SrO;其中,碱金属氧化物改性剂的总量小于或等于大约1摩尔%。
2.如权利要求1所述的玻璃,其特征在于,4摩尔%≤MgO+CaO+SrO≤Al2O3+1摩尔%。
3.如权利要求1或2所述的玻璃,其特征在于,所述玻璃的杨氏模量小于大约65GPa。
4.如权利要求3所述的玻璃,其特征在于,所述杨氏模量小于大约60GPa。
5.如权利要求1~4中任一项所述的玻璃,其特征在于,所述玻璃的热膨胀系数小于大约40×10-7/℃。
6.如权利要求5所述的玻璃,其特征在于,所述热膨胀系数小于大约35×10-7/℃。
7.如权利要求1~6中任一项所述的玻璃,其特征在于,所述玻璃还包含至少一种澄清剂。
8.如权利要求7所述的玻璃,其特征在于,所述至少一种澄清剂包含SnO2、CeO2、As2O3、Sb2O5、Cl-和F-中的至少一种。
9.如权利要求8所述的玻璃,其特征在于,所述至少一种澄清剂包含以下物质中的至少一种:不超过大约0.7摩尔%的SnO2、0.7摩尔%的CeO2、不超过大约0.5摩尔%的As2O3和不超过大约0.5摩尔%的Sb2O3
10.如权利要求1~9中任一项所述的玻璃,其特征在于,所述玻璃包含总量大于或等于大约4摩尔%的MgO、CaO和SrO。
11.如权利要求10所述的玻璃,其特征在于,4摩尔%≤MgO+CaO+SrO≤Al2O3
12.如权利要求1~11中任一项所述的玻璃,其特征在于,所述玻璃包含:大约55摩尔%~大约70摩尔%的SiO2;大于6摩尔%至大约10摩尔%的Al2O3;大约18摩尔%~大约30摩尔%的B2O3;不超过大约3摩尔%的MgO;不超过大约10摩尔%的CaO;不超过大约3摩尔%的SrO。
13.如权利要求12所述的玻璃,其特征在于,所述玻璃包含不超过大约0.2摩尔%的SnO2
14.如权利要求1~13中任一项所述的玻璃,其特征在于,所述玻璃形成玻璃层压件中的包层,所述玻璃层压件包含芯体玻璃,且所述玻璃层压件的热膨胀系数大于所述包层的热膨胀系数。
15.如权利要求14所述的方法,其特征在于,所述包层处于至少大约40MPa的压缩应力下。
16.如权利要求1~14中任一项所述的玻璃,其特征在于,所述玻璃的液相线粘度至少为100千泊。
17.如权利要求16所述的玻璃,其特征在于,所述玻璃可进行下拉。
18.如权利要求1~17中任一项所述的玻璃,其特征在于,所述玻璃包含不超过大约0.5摩尔%的Fe2O3和不超过大约0.1摩尔%的ZrO2
19.如权利要求1~18中任一项所述的玻璃,其特征在于,所述玻璃不含碱金属氧化物改性剂。
20.如权利要求1~19中任一项所述的玻璃,其特征在于,所述玻璃的努氏划痕阈值至少为15N。
21.如权利要求20所述的玻璃,其特征在于,所述玻璃的努氏划痕阈值至少为20N。
22.如权利要求1~21中任一项所述的玻璃,其特征在于,所述玻璃形成以下产品的至少一部分:滤色器基板、薄膜晶体管基板、盖板玻璃或触摸界面。
23.一种玻璃,所述玻璃包含SiO2、B2O3和Al2O3,其特征在于,碱金属氧化物改性剂的总量小于或等于大约1摩尔%且所述玻璃基本上不含P2O5,且所述玻璃具有以下性质中的至少一种:小于大约65GPa的杨氏模量和小于大约40×10-7/℃的热膨胀系数。
24.如权利要求23所述的玻璃,其特征在于,所述杨氏模量小于大约60GPa。
25.如权利要求23或24所述的玻璃,其特征在于,所述热膨胀系数小于大约35×10-7/℃。
26.如权利要求23~25中任一项所述的玻璃,其特征在于,所述玻璃包含:大约50摩尔%~大约70摩尔%的SiO2;大约5摩尔%~大约20摩尔%的Al2O3;大约12摩尔%~大约35摩尔%的B2O3;不超过大约5摩尔%的MgO;不超过大约12摩尔%的CaO和不超过大约5摩尔%的SrO;其中,碱金属氧化物改性剂的总量小于或等于大约1摩尔%。
27.如权利要求26所述的玻璃,其特征在于,所述玻璃还包含至少一种澄清剂,所述澄清剂包含SnO2、CeO2、As2O3、Sb2O5、Cl-和F-中的至少一种。
28.如权利要求27所述的玻璃,其特征在于,所述至少一种澄清剂包含以下物质中的至少一种:不超过大约0.7摩尔%的SnO2、不超过大约0.5摩尔%的As2O3和不超过大约0.5摩尔%的Sb2O3
29.如权利要求26~28中任一项所述的玻璃,其特征在于,所述玻璃包含总量大于或等于大约4摩尔%的MgO、CaO和SrO。
30.如权利要求29所述的玻璃,其特征在于,4摩尔%≤MgO+CaO+SrO≤Al2O3+1摩尔%。
31.如权利要求23~30中任一项所述的玻璃,其特征在于,所述玻璃包含:大约55摩尔%~大约70摩尔%的SiO2;大于6摩尔%至大约10摩尔%的Al2O3;大约18摩尔%~大约30摩尔%的B2O3;不超过大约3摩尔%的MgO;不超过大约10摩尔%的CaO;和不超过大约3摩尔%的SrO以及可选的至少一种澄清剂。
32.如权利要求31所述的玻璃,其特征在于,所述至少一种澄清剂包含不超过大约0.2摩尔%的SnO2
33.如权利要求31所述的玻璃,其特征在于,4摩尔%≤MgO+CaO+SrO≤Al2O3
34.如权利要求23~33中任一项所述的玻璃,其特征在于,所述玻璃形成玻璃层压件中的包层,所述玻璃层压件包含芯体玻璃,其中,所述芯体玻璃的热膨胀系数大于所述包层的热膨胀系数。
35.如权利要求34所述的方法,其特征在于,所述包层处于至少大约40MPa的压缩应力下。
36.如权利要求23~35中任一项所述的玻璃,其特征在于,所述玻璃形成滤色器基板、薄膜晶体管基板、盖板玻璃或触摸界面的至少一部分。
37.如权利要求23~36中任一项所述的玻璃,其特征在于,所述玻璃的液相线粘度至少为100千泊。
38.如权利要求37所述的玻璃,其特征在于,所述玻璃可进行下拉。
39.如权利要求23~38中任一项所述的玻璃,其特征在于,所述玻璃的努氏划痕阈值至少为15N。
40.如权利要求39所述的玻璃,其特征在于,所述玻璃的努氏划痕阈值至少为20N。
41.一种玻璃层压件,所述玻璃层压件包含芯体玻璃和层压于所述芯体玻璃外表面上的包层玻璃,所述包层玻璃层包含SiO2、B2O3和Al2O3,其中,所述包层玻璃中的碱金属氧化物改性剂的总量小于或等于大约1摩尔%,且所述包层玻璃具有小于大约40×10-7/℃的第一热膨胀系数,而所述芯体玻璃具有大于所述第一热膨胀系数的第二热膨胀系数。
42.如权利要求41所述的玻璃层压件,其特征在于,所述热膨胀系数小于大约35×10-7/℃。
43.如权利要求41或42所述的玻璃层压件,其特征在于,所述包层玻璃包含:大约50摩尔%~大约70摩尔%的SiO2;大约5摩尔%~大约20摩尔%的Al2O3;大约12摩尔%~大约35摩尔%的B2O3;不超过大约5摩尔%的MgO;不超过大约12摩尔%的CaO;不超过大约5摩尔%的SrO;和可选的至少一种澄清剂,其中,碱金属氧化物改性剂的总量小于或等于大约1摩尔%。
44.如权利要求43所述的玻璃层压件,其特征在于,所述至少一种澄清剂包含SnO2、CeO2、As2O3、Sb2O5、Cl-和F-中的至少一种。
45.如权利要求44所述的玻璃层压件,其特征在于,所述至少一种澄清剂包含以下物质中的至少一种:不超过大约0.7摩尔%的SnO2、不超过大约0.5摩尔%的As2O3和不超过大约0.5摩尔%的Sb2O3
46.如权利要求41~45中任一项所述的玻璃层压件,其特征在于,所述包层玻璃包含总量大于或等于大约4摩尔%的MgO、CaO和SrO。
47.如权利要求41~46中任一项所述的玻璃层压件,其特征在于,所述包层玻璃包含:大约55摩尔%~大约70摩尔%的SiO2;大于6摩尔%~大约10摩尔%的Al2O3;大约18摩尔%~大约30摩尔%的B2O3;不超过大约3摩尔%的MgO;不超过大约10摩尔%的CaO;不超过大约3摩尔%的SrO;和可选的至少一种澄清剂,其中,碱金属氧化物改性剂的总量小于或等于大约0.5摩尔%。
48.如权利要求47所述的玻璃层压件,其特征在于,所述至少一种澄清剂包含大约0.2摩尔%的SnO2
49.如权利要求41~48中任一项所述的玻璃层压件,其特征在于,所述包层玻璃处于至少大约40MPa的压缩应力下。
50.如权利要求41~49中任一项所述的玻璃层压件,其特征在于,所述芯体玻璃包含碱金属铝硅酸盐玻璃。
51.如权利要求41~50中任一项所述的玻璃层压件,其特征在于,所述包层玻璃不含碱金属氧化物改性剂。
52.如权利要求41~51中任一项所述的玻璃层压件,其特征在于,所述玻璃的努氏划痕阈值至少为15N。
53.如权利要求52所述的玻璃层压件,其特征在于,所述玻璃的努氏划痕阈值至少为20N。
54.如权利要求41~53中任一项所述的玻璃层压件,其特征在于,所述包层玻璃的液相线粘度至少为大约70千泊。
55.一种玻璃的制造方法,所述方法包括:
a.提供玻璃熔体,所述玻璃熔体包含SiO2、B2O3和Al2O3,其中,所述玻璃熔体中碱金属氧化物改性剂的总量小于或等于大约1摩尔%;以及
b.对所述玻璃熔体进行下拉以形成玻璃。
56.如权利要求55所述的方法,其特征在于,对所述玻璃熔体进行下拉的操作包括熔合拉制所述玻璃熔体。
57.如权利要求55或56所述的方法,其特征在于,所述玻璃熔体是包层玻璃熔体,且所述方法还包括:
a.提供芯体玻璃熔体;
b.熔合拉制所述芯体玻璃熔体以形成芯体玻璃;以及
c.熔合拉制所述包层玻璃熔体以形成包裹所述芯体玻璃的包层玻璃,其中,所述芯体玻璃的热膨胀系数大于所述包层玻璃的热膨胀系数。
58.如权利要求57所述的方法,其特征在于,所述包层处于至少大约100MPa的压缩应力下。
59.如权利要求55~58中任一项所述的方法,其特征在于,所述包层的热膨胀系数小于大约40×10-7/℃。
60.如权利要求59所述的方法,其特征在于,所述热膨胀系数小于大约35×10-7/℃。
61.如权利要求55~60中任一项所述的方法,其特征在于,所述玻璃的杨氏模量小于大约65GPa。
62.如权利要求51所述的方法,其特征在于,所述杨氏模量小于大约60GPa。
63.如权利要求55~62中任一项所述的方法,其特征在于,所述包层玻璃的液相线粘度至少为大约70千泊。
64.如权利要求55~63中任一项所述的方法,其特征在于,所述包层玻璃包含:其中,所述玻璃包含:大约50摩尔%~大约70摩尔%的SiO2;大约5摩尔%~大约20摩尔%的Al2O3;大约12摩尔%~大约35摩尔%的B2O3;不超过大约5摩尔%的MgO;不超过大约12摩尔%的CaO;不超过大约5摩尔%的SrO;和可选的至少一种澄清剂,其中,碱金属氧化物改性剂的总量小于或等于大约1摩尔%。
65.如权利要求64所述的方法,其特征在于,所述包层玻璃包含:大约55摩尔%~大约70摩尔%的SiO2;大于6摩尔%至大约10摩尔%的Al2O3;大约18摩尔%~大约30摩尔%的B2O3;不超过大约3摩尔%的MgO;不超过大约10摩尔%的CaO;不超过大约3摩尔%的SrO;和可选的至少一种澄清剂,其中,碱金属氧化物改性剂的总量小于或等于大约0.5摩尔%。
66.如权利要求64或65所述的方法,其特征在于,所述包层玻璃包含总量大于或等于大约4摩尔%的MgO、CaO和SrO。
67.如权利要求55~64中任一项所述的方法,其特征在于,所述玻璃不含碱金属氧化物改性剂。
68.如权利要求55~65中任一项所述的方法,其特征在于,所述玻璃的努氏划痕阈值至少为15N。
69.如权利要求68所述的方法,其特征在于,所述玻璃的努氏划痕阈值至少为20N。
CN201480056637.0A 2013-08-15 2014-08-08 掺杂有碱金属和不含碱金属的硼铝硅酸盐玻璃 Pending CN105764865A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202110371219.2A CN113060935A (zh) 2013-08-15 2014-08-08 掺杂有碱金属和不含碱金属的硼铝硅酸盐玻璃

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201361866272P 2013-08-15 2013-08-15
US61/866,272 2013-08-15
PCT/US2014/050279 WO2015023525A1 (en) 2013-08-15 2014-08-08 Alkali-doped and alkali-free boroaluminosilicate glass

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202110371219.2A Division CN113060935A (zh) 2013-08-15 2014-08-08 掺杂有碱金属和不含碱金属的硼铝硅酸盐玻璃

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN105764865A true CN105764865A (zh) 2016-07-13

Family

ID=51398899

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202110371219.2A Pending CN113060935A (zh) 2013-08-15 2014-08-08 掺杂有碱金属和不含碱金属的硼铝硅酸盐玻璃
CN201480056637.0A Pending CN105764865A (zh) 2013-08-15 2014-08-08 掺杂有碱金属和不含碱金属的硼铝硅酸盐玻璃

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202110371219.2A Pending CN113060935A (zh) 2013-08-15 2014-08-08 掺杂有碱金属和不含碱金属的硼铝硅酸盐玻璃

Country Status (7)

Country Link
US (4) US9643884B2 (zh)
EP (2) EP3033310B1 (zh)
JP (1) JP2016528152A (zh)
KR (3) KR20160043026A (zh)
CN (2) CN113060935A (zh)
TW (2) TWI679184B (zh)
WO (1) WO2015023525A1 (zh)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109715576A (zh) * 2016-09-13 2019-05-03 Agc株式会社 高频器件用玻璃基板和高频器件用电路基板
CN110770182A (zh) * 2017-05-26 2020-02-07 日本板硝子株式会社 玻璃组合物、玻璃纤维、玻璃布以及玻璃纤维的制造方法
CN111886210A (zh) * 2018-03-20 2020-11-03 Agc株式会社 基板、液晶天线和高频装置
CN113039163A (zh) * 2018-11-14 2021-06-25 Agc株式会社 高频器件用玻璃基板、液晶天线和高频器件
CN114873911A (zh) * 2019-01-18 2022-08-09 康宁股份有限公司 用于电子装置的低介电损耗玻璃

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9346699B2 (en) 2008-10-06 2016-05-24 Corning Incorporated Method of making a glass laminate having controlled strength
WO2015023525A1 (en) 2013-08-15 2015-02-19 Corning Incorporated Alkali-doped and alkali-free boroaluminosilicate glass
WO2015023561A2 (en) 2013-08-15 2015-02-19 Corning Incorporated Intermediate to high cte glasses and glass articles comprising the same
US20150127753A1 (en) * 2013-11-04 2015-05-07 Meemo, Llc Word Recognition and Ideograph or In-App Advertising System
JP6630287B2 (ja) * 2014-03-27 2020-01-15 コーニング インコーポレイテッド ガラス物品
JP6691315B2 (ja) * 2014-04-03 2020-04-28 日本電気硝子株式会社 ガラス
US10144198B2 (en) 2014-05-02 2018-12-04 Corning Incorporated Strengthened glass and compositions therefor
US10399304B2 (en) 2014-05-07 2019-09-03 Corning Incorporated Laminated glass article and method for forming the same
WO2015179489A1 (en) 2014-05-21 2015-11-26 Corning Incorporated Alkali-doped and alkali-free boroaluminosilicate glass
KR20170015297A (ko) * 2014-06-04 2017-02-08 아사히 가라스 가부시키가이샤 도광판용 유리판
WO2016176171A1 (en) 2015-04-28 2016-11-03 Corning Incorporated Method of laser drilling through holes in substrates using an exit sacrificial cover layer; corresponding workpiece
US10927034B2 (en) * 2015-06-30 2021-02-23 Avanstrate Inc. Glass substrate for display and method for producing same
CN108349218B (zh) * 2015-11-05 2021-04-27 康宁股份有限公司 具有确定模量对比的层压玻璃制品及其形成方法
TWI758263B (zh) 2015-11-19 2022-03-21 美商康寧公司 顯示螢幕保護器
KR20180096723A (ko) 2015-12-21 2018-08-29 코닝 인코포레이티드 낮은 알칼리 함량의 보로실리케이트 유리
US10410883B2 (en) 2016-06-01 2019-09-10 Corning Incorporated Articles and methods of forming vias in substrates
US10134657B2 (en) 2016-06-29 2018-11-20 Corning Incorporated Inorganic wafer having through-holes attached to semiconductor wafer
US10794679B2 (en) 2016-06-29 2020-10-06 Corning Incorporated Method and system for measuring geometric parameters of through holes
US11078112B2 (en) 2017-05-25 2021-08-03 Corning Incorporated Silica-containing substrates with vias having an axially variable sidewall taper and methods for forming the same
US10580725B2 (en) 2017-05-25 2020-03-03 Corning Incorporated Articles having vias with geometry attributes and methods for fabricating the same
US11554984B2 (en) 2018-02-22 2023-01-17 Corning Incorporated Alkali-free borosilicate glasses with low post-HF etch roughness
WO2019181707A1 (ja) * 2018-03-20 2019-09-26 Agc株式会社 ガラス基板、液晶アンテナ及び高周波デバイス
US10188970B1 (en) * 2018-03-26 2019-01-29 Water Solutions, Inc. Rotary drum screen for thin stillage filtration
US11117828B2 (en) * 2019-01-18 2021-09-14 Corning Incorporated Low dielectric loss glasses for electronic devices
US20240228362A9 (en) * 2021-02-05 2024-07-11 Nippon Sheet Glass Company, Limited Glass composition, glass filler, and method for manufacturing the same

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001151534A (ja) * 1999-11-25 2001-06-05 Nippon Electric Glass Co Ltd 液晶ディスプレイ用ガラス基板
CN101400613A (zh) * 2006-02-10 2009-04-01 康宁股份有限公司 层压玻璃制品及其制造方法
CN103249689A (zh) * 2010-11-30 2013-08-14 康宁股份有限公司 碱土铝硼硅酸盐抗裂玻璃

Family Cites Families (138)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3008841A (en) 1959-06-19 1961-11-14 Owens Corning Fiberglass Corp Glass composition
US3737294A (en) 1970-08-28 1973-06-05 Corning Glass Works Method for making multi-layer laminated bodies
US3673049A (en) 1970-10-07 1972-06-27 Corning Glass Works Glass laminated bodies comprising a tensilely stressed core and a compressively stressed surface layer fused thereto
US3849097A (en) 1970-10-07 1974-11-19 Corning Glass Works Method for continuously hot forming strong laminated bodies
US3746526A (en) 1971-03-10 1973-07-17 Corning Glass Works Method for forming subsurface fortified laminates
US3931438A (en) 1971-11-08 1976-01-06 Corning Glass Works Differential densification strengthening of glass-ceramics
US4102664A (en) 1977-05-18 1978-07-25 Corning Glass Works Method for making glass articles with defect-free surfaces
US4214886A (en) 1979-04-05 1980-07-29 Corning Glass Works Forming laminated sheet glass
US4350532A (en) 1980-09-08 1982-09-21 Minnesota Mining And Manufacturing Company Glass composition and articles
JPS6036349A (ja) 1983-08-05 1985-02-25 Ngk Spark Plug Co Ltd ガラス組成物
US4554259A (en) 1984-05-08 1985-11-19 Schott Glass Technologies, Inc. Low expansion, alkali-free borosilicate glass suitable for photomask applications
SU1377250A1 (ru) 1985-12-23 1988-02-28 Предприятие П/Я В-2268 Стекло
JPS6311543A (ja) 1986-06-30 1988-01-19 Hoya Corp 低膨張ガラス
JP2707625B2 (ja) 1987-10-01 1998-02-04 旭硝子株式会社 ディスプレイ基板用無アルカリガラス
DE3882039T2 (de) * 1987-10-01 1994-02-03 Asahi Glass Co Ltd Alkalifreies glas.
JP3144823B2 (ja) 1991-04-26 2001-03-12 旭硝子株式会社 無アルカリガラス
US5116787A (en) 1991-08-12 1992-05-26 Corning Incorporated High alumina, alkaline earth borosilicate glasses for flat panel displays
GB9204537D0 (en) 1992-03-03 1992-04-15 Pilkington Plc Alkali-free glass compositions
US5559060A (en) 1992-05-22 1996-09-24 Corning Incorporated Glass for laminated glass articles
JP3409806B2 (ja) 1993-06-22 2003-05-26 日本電気硝子株式会社 低誘電率ガラス繊維
US5342426A (en) 1993-07-16 1994-08-30 Corning Incorporated Making glass sheet with defect-free surfaces and alkali metal-free soluble glasses therefor
US5489558A (en) 1994-03-14 1996-02-06 Corning Incorporated Glasses for flat panel display
US6169047B1 (en) 1994-11-30 2001-01-02 Asahi Glass Company Ltd. Alkali-free glass and flat panel display
DE69508706T2 (de) 1994-11-30 1999-12-02 Asahi Glass Co. Ltd., Tokio/Tokyo Alkalifreies Glas und Flachbildschirm
JP2719504B2 (ja) 1995-02-27 1998-02-25 ホーヤ株式会社 液晶ディスプレイ基板用ガラス
JP3666608B2 (ja) 1995-04-27 2005-06-29 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス基板
DE19680966T1 (de) 1995-09-28 1998-01-08 Nippon Electric Glass Co Alkalifreies Glassubstrat
KR100262115B1 (ko) 1995-09-28 2000-07-15 기시다 기요사쿠 무알칼리유리기판
JP3858293B2 (ja) 1995-12-11 2006-12-13 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス基板
JP2005263628A (ja) 1996-03-14 2005-09-29 Asahi Glass Co Ltd 基板用ガラス組成物
US5824127A (en) 1996-07-19 1998-10-20 Corning Incorporated Arsenic-free glasses
US5785726A (en) 1996-10-28 1998-07-28 Corning Incorporated Method of reducing bubbles at the vessel/glass interface in a glass manufacturing system
JPH10139467A (ja) * 1996-11-12 1998-05-26 Asahi Glass Co Ltd 無アルカリガラス及びフラットディスプレイパネル
US6060168A (en) 1996-12-17 2000-05-09 Corning Incorporated Glasses for display panels and photovoltaic devices
DE19739912C1 (de) 1997-09-11 1998-12-10 Schott Glas Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendung
US6287674B1 (en) 1997-10-24 2001-09-11 Agfa-Gevaert Laminate comprising a thin borosilicate glass substrate as a constituting layer
JP2000001331A (ja) 1998-06-11 2000-01-07 Nh Techno Glass Kk 液晶ディスプレイ基板用ガラス
US6468933B1 (en) 1998-09-22 2002-10-22 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Alkali-free glass and method of producing the same
US6319867B1 (en) 1998-11-30 2001-11-20 Corning Incorporated Glasses for flat panel displays
DE19916296C1 (de) 1999-04-12 2001-01-18 Schott Glas Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendung
DE19934072C2 (de) 1999-07-23 2001-06-13 Schott Glas Alkalifreies Aluminoborosilicatglas, seine Verwendungen und Verfahren zu seiner Herstellung
JP4576680B2 (ja) 1999-08-03 2010-11-10 旭硝子株式会社 無アルカリガラス
US6537937B1 (en) 1999-08-03 2003-03-25 Asahi Glass Company, Limited Alkali-free glass
DE19939789A1 (de) 1999-08-21 2001-02-22 Schott Glas Alkalifreie Aluminoborosilicatgläser und deren Verwendungen
DE19942259C1 (de) 1999-09-04 2001-05-17 Schott Glas Erdalkalialuminoborosilicatglas und dessen Verwendungen
JP4534282B2 (ja) 1999-12-14 2010-09-01 旭硝子株式会社 液晶ディスプレイ基板用ガラス
DE10000836B4 (de) 2000-01-12 2005-03-17 Schott Ag Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendungen
DE10000837C1 (de) 2000-01-12 2001-05-31 Schott Glas Alkalifreie Aluminoborosilicatgläser und ihre Verwendungen
DE10000838B4 (de) 2000-01-12 2005-03-17 Schott Ag Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendungen
DE10000839C1 (de) 2000-01-12 2001-05-10 Schott Glas Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendungen
DE10005088C1 (de) 2000-02-04 2001-03-15 Schott Glas Alkalihaltiges Aluminoborosilicatglas und seine Verwendung
JP2002003240A (ja) 2000-06-19 2002-01-09 Nippon Electric Glass Co Ltd 液晶ディスプレイ用ガラス基板
DE10064804C2 (de) 2000-12-22 2003-03-20 Schott Glas Alkalifreie Aluminoborosilicatgläser und ihre Verwendung
JP2002308643A (ja) 2001-02-01 2002-10-23 Nippon Electric Glass Co Ltd 無アルカリガラス及びディスプレイ用ガラス基板
JP4924974B2 (ja) 2001-08-13 2012-04-25 日本電気硝子株式会社 フラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板
US7052733B2 (en) 2002-01-10 2006-05-30 Hon Hai Precision Ind. Co., Ltd. Method for making thin film filter having a negative temperature drift coefficient
JP4453240B2 (ja) 2002-05-16 2010-04-21 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス及びこれを用いたディスプレイ用ガラス基板
JP4692915B2 (ja) 2002-05-29 2011-06-01 日本電気硝子株式会社 プラズマディスプレイ装置用前面ガラス基板。
JP4168320B2 (ja) * 2002-08-22 2008-10-22 日本電気硝子株式会社 ガラス基板の製造方法
US6992030B2 (en) * 2002-08-29 2006-01-31 Corning Incorporated Low-density glass for flat panel display substrates
JP2004168597A (ja) 2002-11-20 2004-06-17 Asahi Glass Co Ltd 無鉛ガラスおよび電子回路基板用組成物
JP4305817B2 (ja) 2002-12-11 2009-07-29 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス基板
DE10311802B4 (de) 2003-03-12 2006-03-02 Schott Ag Boroaluminosilikatglas und dessen Verwendung
US20040178734A1 (en) 2003-03-13 2004-09-16 Yoshihisa Nagasaki Fluorescent device, fluorescent lamp and glass composite
CN1764610A (zh) 2003-03-31 2006-04-26 旭硝子株式会社 无碱玻璃
US7514149B2 (en) 2003-04-04 2009-04-07 Corning Incorporated High-strength laminated sheet for optical applications
JP2005089286A (ja) 2003-08-12 2005-04-07 Nippon Electric Glass Co Ltd フラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板
TWI252844B (en) 2003-12-25 2006-04-11 Po-I Kuo Glasses for display panels
KR101035826B1 (ko) 2003-12-30 2011-05-20 코닝 인코포레이티드 고 변형점 유리
JP4737709B2 (ja) * 2004-03-22 2011-08-03 日本電気硝子株式会社 ディスプレイ基板用ガラスの製造方法
US7201965B2 (en) 2004-12-13 2007-04-10 Corning Incorporated Glass laminate substrate having enhanced impact and static loading resistance
JP2006188406A (ja) 2005-01-07 2006-07-20 Asahi Glass Co Ltd 平板ディスプレイ用真空外囲器およびそれを用いた平板ディスプレイ
CN1268567C (zh) 2005-02-06 2006-08-09 河南安彩高科股份有限公司 一种无碱金属的玻璃组合物及其制法和应用
US20060242996A1 (en) 2005-04-27 2006-11-02 Gilbert Deangelis System and method for controlling the environment around one or more vessels in a glass manufacturing system
DE102005019958B4 (de) 2005-04-29 2010-02-18 Schott Ag Blitzlicht-Leuchtquelle mit Hüllenglas
FR2886288B1 (fr) 2005-05-27 2007-07-06 Saint Gobain Substrats de verre pour ecrans plats
DE102006029073B4 (de) 2005-07-06 2009-07-16 Schott Ag Verfahren zum Durchtrennen eines Flachglases unter Verwendung eines Lasertrennstrahls und alkalifreies Flachglas mit besonderer Eignung hierfür
CN101243020A (zh) * 2005-08-15 2008-08-13 日本板硝子株式会社 玻璃组合物以及玻璃组合物的制造方法
CN102249541B (zh) 2005-08-15 2013-03-27 安瀚视特股份有限公司 玻璃组成物
WO2007020824A1 (ja) 2005-08-15 2007-02-22 Nippon Sheet Glass Company, Limited ガラス組成物およびガラス組成物の製造方法
CN1807308A (zh) 2006-01-09 2006-07-26 泰山玻璃纤维股份有限公司 一种显示器用之玻璃基板组成
US7635521B2 (en) 2006-02-10 2009-12-22 Corning Incorporated Glass compositions for protecting glass and methods of making and using thereof
FR2898352B1 (fr) 2006-03-10 2008-05-30 Saint Gobain Substrats de verre pour ecrans plats
JP5013304B2 (ja) 2006-03-17 2012-08-29 日本電気硝子株式会社 ディスプレイ用ガラス基板
DE102006016256B4 (de) 2006-03-31 2013-12-12 Schott Ag Aluminoborosilikatglas und dessen Verwendung
FR2905694A1 (fr) 2006-09-13 2008-03-14 Saint Gobain Ecran de visualisation
US7534734B2 (en) 2006-11-13 2009-05-19 Corning Incorporated Alkali-free glasses containing iron and tin as fining agents
US7829490B2 (en) 2006-12-14 2010-11-09 Ppg Industries Ohio, Inc. Low dielectric glass and fiber glass for electronic applications
US8697591B2 (en) 2006-12-14 2014-04-15 Ppg Industries Ohio, Inc. Low dielectric glass and fiber glass
JP5808069B2 (ja) 2007-02-16 2015-11-10 日本電気硝子株式会社 太陽電池用ガラス基板
JP5483821B2 (ja) * 2007-02-27 2014-05-07 AvanStrate株式会社 表示装置用ガラス基板および表示装置
WO2008143063A1 (ja) 2007-05-14 2008-11-27 Nippon Electric Glass Co., Ltd. 窓用合わせガラス及びガラス窓部材
FR2916198A1 (fr) 2007-05-16 2008-11-21 Saint Gobain Substrats de verre pour ecrans de visualisation
CN101092280B (zh) 2007-06-07 2012-01-18 河南安彩高科股份有限公司 铝硼硅酸盐玻璃组合物及其应用
JP2008308376A (ja) 2007-06-15 2008-12-25 Central Glass Co Ltd ディスプレイ装置用基板ガラス
JP5092564B2 (ja) 2007-06-15 2012-12-05 セントラル硝子株式会社 ディスプレイ装置用基板ガラス
DE102008056323B8 (de) 2007-11-21 2019-01-03 Schott Ag Verwendung von alkalifreien Aluminoborosilikatgläsern für Leuchtmittel mit außen- oder innenliegender Kontaktierung
WO2009070237A1 (en) 2007-11-29 2009-06-04 Corning Incorporated Glasses having improved toughness and scratch resistance
DE102008005857A1 (de) 2008-01-17 2009-07-23 Schott Ag Alkalifreies Glas
JP5392096B2 (ja) 2008-02-27 2014-01-22 旭硝子株式会社 基板用ガラス組成物
JP2010050204A (ja) 2008-08-20 2010-03-04 Oki Semiconductor Co Ltd 半導体素子の製造方法
US8975199B2 (en) 2011-08-12 2015-03-10 Corsam Technologies Llc Fusion formable alkali-free intermediate thermal expansion coefficient glass
US8445394B2 (en) 2008-10-06 2013-05-21 Corning Incorporated Intermediate thermal expansion coefficient glass
JP5757451B2 (ja) 2009-03-18 2015-07-29 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス
TWI494286B (zh) * 2009-03-19 2015-08-01 Nippon Electric Glass Co 無鹼玻璃
US9371247B2 (en) 2009-05-29 2016-06-21 Corsam Technologies Llc Fusion formable sodium free glass
JP5448064B2 (ja) * 2009-10-28 2014-03-19 日本電気硝子株式会社 強化板ガラス及びその製造方法
JP5652742B2 (ja) 2010-02-12 2015-01-14 日本電気硝子株式会社 強化板ガラス及びその製造方法
JP5704395B2 (ja) 2010-03-29 2015-04-22 日本電気硝子株式会社 ガラスロール梱包体
MY177073A (en) 2010-04-27 2020-09-04 Agc Inc Method for producing magnetic disk, and glass substrate for information recording medium
CN102971264B (zh) * 2010-06-29 2018-05-15 康宁股份有限公司 利用溢流下拉熔合法通过共拉制制备的多层玻璃片
JP5732758B2 (ja) 2010-07-13 2015-06-10 旭硝子株式会社 固体撮像装置用カバーガラス
US8486850B2 (en) 2010-09-13 2013-07-16 Schott Corporation Aluminophosphate glass composition
CN102417295A (zh) 2010-09-27 2012-04-18 旭硝子株式会社 基板用玻璃组合物
JP6149284B2 (ja) 2010-10-06 2017-06-21 コーニング インコーポレイテッド 高熱および化学安定性を有する無アルカリガラス組成物
US20120135853A1 (en) * 2010-11-30 2012-05-31 Jaymin Amin Glass articles/materials for use as touchscreen substrates
US9346703B2 (en) 2010-11-30 2016-05-24 Corning Incorporated Ion exchangable glass with deep compressive layer and high damage threshold
JP6104821B2 (ja) 2011-02-18 2017-03-29 ショット アクチエンゲゼルシャフトSchott AG ガラス、特にガラスはんだまたは溶融ガラス
US8785336B2 (en) 2011-03-14 2014-07-22 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Alkali-free glass
JP5935471B2 (ja) 2011-04-25 2016-06-15 日本電気硝子株式会社 液晶レンズ
EP3633740A1 (en) * 2011-08-04 2020-04-08 Corning Incorporated Photovoltaic module package
JP2015006959A (ja) * 2011-10-31 2015-01-15 旭硝子株式会社 ガラス基板、ガラス基板の製造方法、およびカバーガラス
TWI614227B (zh) 2012-02-29 2018-02-11 康寧公司 低cte之無鹼硼鋁矽酸鹽玻璃組成物及包含其之玻璃物件
TWI564262B (zh) 2012-02-29 2017-01-01 康寧公司 高cte之硼矽酸鉀核心玻璃與包含其之玻璃物件
US9393760B2 (en) * 2013-02-28 2016-07-19 Corning Incorporated Laminated glass articles with phase-separated claddings and methods for forming the same
US9527767B2 (en) * 2013-05-09 2016-12-27 Corning Incorporated Alkali-free phosphoborosilicate glass
FR3008695B1 (fr) 2013-07-16 2021-01-29 Corning Inc Verre aluminosilicate dont la composition est exempte de metaux alcalins, convenant comme substrat de plaques de cuisson pour chauffage a induction
WO2015023525A1 (en) 2013-08-15 2015-02-19 Corning Incorporated Alkali-doped and alkali-free boroaluminosilicate glass
WO2015023561A2 (en) 2013-08-15 2015-02-19 Corning Incorporated Intermediate to high cte glasses and glass articles comprising the same
JP6976057B2 (ja) * 2013-11-20 2021-12-01 コーニング インコーポレイテッド 耐スクラッチアルミノホウケイ酸ガラス
WO2015179489A1 (en) * 2014-05-21 2015-11-26 Corning Incorporated Alkali-doped and alkali-free boroaluminosilicate glass
DE102016101090A1 (de) 2015-11-26 2017-06-01 Schott Ag Thermisch vorgespanntes Glaselement und seine Verwendungen
JP6708746B2 (ja) 2016-02-02 2020-06-10 ショット グラス テクノロジーズ (スゾウ) カンパニー リミテッドSchott Glass Technologies (Suzhou) Co., Ltd. ガラスキャリアウェハー用の低cteボロアルミノシリケートガラス
CN115572060A (zh) 2017-06-05 2023-01-06 Agc株式会社 强化玻璃
WO2019119341A1 (en) 2017-12-21 2019-06-27 Schott Glass Technologies (Suzhou) Co. Ltd. Bondable glass and low auto-fluorescence article and method of mak-ing it
WO2019181707A1 (ja) 2018-03-20 2019-09-26 Agc株式会社 ガラス基板、液晶アンテナ及び高周波デバイス
CN108467197A (zh) 2018-06-05 2018-08-31 中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司 一种适用于浮法成型的无碱玻璃配合料
CN108558200A (zh) 2018-06-05 2018-09-21 中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司 一种适用于浮法成型的无磷无碱玻璃配合料

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001151534A (ja) * 1999-11-25 2001-06-05 Nippon Electric Glass Co Ltd 液晶ディスプレイ用ガラス基板
CN101400613A (zh) * 2006-02-10 2009-04-01 康宁股份有限公司 层压玻璃制品及其制造方法
CN103249689A (zh) * 2010-11-30 2013-08-14 康宁股份有限公司 碱土铝硼硅酸盐抗裂玻璃

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109715576A (zh) * 2016-09-13 2019-05-03 Agc株式会社 高频器件用玻璃基板和高频器件用电路基板
CN110770182A (zh) * 2017-05-26 2020-02-07 日本板硝子株式会社 玻璃组合物、玻璃纤维、玻璃布以及玻璃纤维的制造方法
CN111886210A (zh) * 2018-03-20 2020-11-03 Agc株式会社 基板、液晶天线和高频装置
CN113039163A (zh) * 2018-11-14 2021-06-25 Agc株式会社 高频器件用玻璃基板、液晶天线和高频器件
CN114873911A (zh) * 2019-01-18 2022-08-09 康宁股份有限公司 用于电子装置的低介电损耗玻璃
CN114873911B (zh) * 2019-01-18 2024-06-07 康宁股份有限公司 用于电子装置的低介电损耗玻璃

Also Published As

Publication number Publication date
EP3831785A1 (en) 2021-06-09
US20230027062A1 (en) 2023-01-26
TW201920031A (zh) 2019-06-01
TWI679184B (zh) 2019-12-11
US10000409B2 (en) 2018-06-19
USRE49307E1 (en) 2022-11-22
KR20220003632A (ko) 2022-01-10
US20170291845A1 (en) 2017-10-12
TWI650298B (zh) 2019-02-11
KR20160043026A (ko) 2016-04-20
US20150051060A1 (en) 2015-02-19
CN113060935A (zh) 2021-07-02
EP3033310B1 (en) 2021-03-10
EP3033310A1 (en) 2016-06-22
US9643884B2 (en) 2017-05-09
WO2015023525A1 (en) 2015-02-19
JP2016528152A (ja) 2016-09-15
TW201512144A (zh) 2015-04-01
KR20230049133A (ko) 2023-04-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN105764865A (zh) 掺杂有碱金属和不含碱金属的硼铝硅酸盐玻璃
US11168018B2 (en) Aluminoborosilicate glass substantially free of alkali oxides
TWI723298B (zh) 不含鹼之磷硼矽酸鹽玻璃
US11008246B2 (en) Compressively stressed laminated glass article via photosensitive glass and method of making the article
CN106414358A (zh) 耐划痕的硼铝硅酸盐玻璃
US10570055B2 (en) Article with glass layer and glass-ceramic layer and method of making the article
JP6776128B2 (ja) アルカリ添加および無アルカリアルミノホウケイ酸塩ガラス
US10329186B2 (en) Borosilicate glasses with low alkali content
CN106573450B (zh) 中间cte玻璃和包括这种玻璃的玻璃制品

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20160713