JPS6311543A - 低膨張ガラス - Google Patents
低膨張ガラスInfo
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- JPS6311543A JPS6311543A JP61153064A JP15306486A JPS6311543A JP S6311543 A JPS6311543 A JP S6311543A JP 61153064 A JP61153064 A JP 61153064A JP 15306486 A JP15306486 A JP 15306486A JP S6311543 A JPS6311543 A JP S6311543A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/097—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing phosphorus, niobium or tantalum
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は低膨張ガラスに関し、特に、ディスプレイ用ガ
ラスシート、各種基板等のエレクトロニクス向は材料と
して、さらに高温炉の窓材などに用いられる低膨張ガタ
スに関する。
ラスシート、各種基板等のエレクトロニクス向は材料と
して、さらに高温炉の窓材などに用いられる低膨張ガタ
スに関する。
膨張係数が30X10−7/℃以下の低膨張ガラスにつ
いては、各種文献において、いくつかの組成が知られて
いる。例えば、ガラスハンドブック(朝食書店1982
年出版)には、膨張係数が21 X 10−7/℃の低
膨張ガラスに関する記載がある。その組成は、重量%(
vt%)で5IO283,6、B2038.8 N A
t2O3S、01Na201.4およびBaO1,2で
ある。
いては、各種文献において、いくつかの組成が知られて
いる。例えば、ガラスハンドブック(朝食書店1982
年出版)には、膨張係数が21 X 10−7/℃の低
膨張ガラスに関する記載がある。その組成は、重量%(
vt%)で5IO283,6、B2038.8 N A
t2O3S、01Na201.4およびBaO1,2で
ある。
しかし、実際に上述した組成のガラスを溶解しようとす
ると、1700℃以上の温度が必要となる。
ると、1700℃以上の温度が必要となる。
この1700℃以上という高温を得るためには、溶融炉
の材質および構造、加熱方式あるいは成形装置など、製
造システムのいずれについてもきわめて特殊なものとな
り、量産は非常に困難である。
の材質および構造、加熱方式あるいは成形装置など、製
造システムのいずれについてもきわめて特殊なものとな
り、量産は非常に困難である。
まして、脈も泡もない低膨張ガラスの量産となると、き
わめて困難であるという問題点があった。
わめて困難であるという問題点があった。
更に、従来この溶解性を改良するためにガラス組成を多
成分系にしたシ、アルカリ成分を導入したりして来たが
、特に!気的l縁性を必要とするエレクトロニクス用材
料についてはアルカリ成分を導入することは好ましくな
いという問題点があった。
成分系にしたシ、アルカリ成分を導入したりして来たが
、特に!気的l縁性を必要とするエレクトロニクス用材
料についてはアルカリ成分を導入することは好ましくな
いという問題点があった。
本発明はこのよう力問題点を除去するためKなされたも
のであυ、第1の目的は量産の容易な低膨張ガラスを提
供することであシ、第2の目的は電気的絶縁性の高い低
膨張ガラスを提供することである。
のであυ、第1の目的は量産の容易な低膨張ガラスを提
供することであシ、第2の目的は電気的絶縁性の高い低
膨張ガラスを提供することである。
本発明の低膨張ガラスは、wt%で5i0247〜68
、P2O51〜10(ただし5102+P2O5の合計
量48〜68)、B2O35〜23、At20310〜
30(ただしB203 + At203の合計量25〜
40)およびRO(RはM g r Ca + S r
+ B a HZ 11の少なくとも1つ)0〜15
を含み、かつ上記成分の合計量を95wt%以上とした
ものである。
、P2O51〜10(ただし5102+P2O5の合計
量48〜68)、B2O35〜23、At20310〜
30(ただしB203 + At203の合計量25〜
40)およびRO(RはM g r Ca + S r
+ B a HZ 11の少なくとも1つ)0〜15
を含み、かつ上記成分の合計量を95wt%以上とした
ものである。
5102 はガラスの膨張係数を低下させる。SiO□
の含有率を47wt%未満にすると、ガラスの安定性が
悪くなるばかυでなく、膨張係数が30XICr7/℃
よ)も大きくなってしまう。逆に68vt%を越えた場
合も、ガラスの安定性が悪くなるとともに、 1600
℃以下の温度での溶解が困MKなる。
の含有率を47wt%未満にすると、ガラスの安定性が
悪くなるばかυでなく、膨張係数が30XICr7/℃
よ)も大きくなってしまう。逆に68vt%を越えた場
合も、ガラスの安定性が悪くなるとともに、 1600
℃以下の温度での溶解が困MKなる。
従来、30X10−7/’C以下の膨張係数のガラスを
得るためには、必然的に5in2の含有率を高める方法
が採られた。しかし、その方法では必然的に溶融温度の
上昇を伴う。また、ガラスの電気的絶縁性を高めるため
には、無アルカリガラスとすればよいが、融剤としての
機能をもつアルカリ成分を除去することは、必然的にガ
ラスの溶融温度を高めることになる。そこで、本発明者
は、溶融温度を下げるために、予め5102の含有率を
7゜vt%以下とする制約条件を設定し、その条件下で
30xlO−7/℃以下の膨張係数を有するガラス組成
を調べていった結果、従来の組成とは明らかに異なる組
成領域で30X10−7/’C以下の膨張係数を有し、
アルカリ成分を含まず、しかも量産可能な低膨張係ガラ
スが得られることを見出し、本発明をしたものである。
得るためには、必然的に5in2の含有率を高める方法
が採られた。しかし、その方法では必然的に溶融温度の
上昇を伴う。また、ガラスの電気的絶縁性を高めるため
には、無アルカリガラスとすればよいが、融剤としての
機能をもつアルカリ成分を除去することは、必然的にガ
ラスの溶融温度を高めることになる。そこで、本発明者
は、溶融温度を下げるために、予め5102の含有率を
7゜vt%以下とする制約条件を設定し、その条件下で
30xlO−7/℃以下の膨張係数を有するガラス組成
を調べていった結果、従来の組成とは明らかに異なる組
成領域で30X10−7/’C以下の膨張係数を有し、
アルカリ成分を含まず、しかも量産可能な低膨張係ガラ
スが得られることを見出し、本発明をしたものである。
次にP2O5は、ガラスの溶解性と安定性を改良するが
、1wt%未満ではガラスの液相温度が高くなりすぎて
失透しやすく、逆に10wt%を越えると、溶融温度が
きわめて高くなる。また、5to2とp20Sとの合f
ilを48wt 4未満にすると、ガラスが失透しやす
く、逆に68wt%を越えると溶解温度が高くなりすぎ
る。
、1wt%未満ではガラスの液相温度が高くなりすぎて
失透しやすく、逆に10wt%を越えると、溶融温度が
きわめて高くなる。また、5to2とp20Sとの合f
ilを48wt 4未満にすると、ガラスが失透しやす
く、逆に68wt%を越えると溶解温度が高くなりすぎ
る。
B2O3とAt203のそれぞれの含有率および両者の
合計量は、膨張係数が30X10−7/’C以下のガラ
スを1600℃以下の温度で製造できるようにするため
に非常に重要な意味をもっている。B2O3の含有率を
5wt%未満とすると、膨張係数を30xlQ−7/’
(:、以下にするためにはAt2 Q3の含有量を大き
くしなければならないが、そうするとガラスの安定性が
損われる。B2O3の含有率が23wt%以上では、ガ
ラス化しない。Aj203の含有率をi 0ft%未満
とすると、目的とする低膨張ガラスが得られない。30
wt%を越えると、液相温度が高くなりすぎる。そして
B2O3+AtzO3の合計量が25wt%未満では、
目的とする低膨張ガラスが得られない。逆に40vt%
を越えると、ガラス化しない。なお、ガラスの化学的耐
久性という観点からは、B2O3の上限は15wt%程
度にすることが好ましい。
合計量は、膨張係数が30X10−7/’C以下のガラ
スを1600℃以下の温度で製造できるようにするため
に非常に重要な意味をもっている。B2O3の含有率を
5wt%未満とすると、膨張係数を30xlQ−7/’
(:、以下にするためにはAt2 Q3の含有量を大き
くしなければならないが、そうするとガラスの安定性が
損われる。B2O3の含有率が23wt%以上では、ガ
ラス化しない。Aj203の含有率をi 0ft%未満
とすると、目的とする低膨張ガラスが得られない。30
wt%を越えると、液相温度が高くなりすぎる。そして
B2O3+AtzO3の合計量が25wt%未満では、
目的とする低膨張ガラスが得られない。逆に40vt%
を越えると、ガラス化しない。なお、ガラスの化学的耐
久性という観点からは、B2O3の上限は15wt%程
度にすることが好ましい。
2価の全屈酸化物であるRO酸成分、ガラスの耐失透性
を向上させ、ガラスの溶融温度を下げる。
を向上させ、ガラスの溶融温度を下げる。
しかし、これらのROは、含有率が15wt%以上、と
なるとガラスが失透しやすくなる。
なるとガラスが失透しやすくなる。
本発明の実施例のガラス組成を、転移点(Tg)、屈服
点T3および膨張係数αとともに下の表に示した。
点T3および膨張係数αとともに下の表に示した。
/7・′
\・′
7″
7・・′
2、/
いずれも30xlO−’/’C以下の低い膨張率が得ら
れたが、このうち、−例として実施例1のガラスについ
て、詳細に説明する。
れたが、このうち、−例として実施例1のガラスについ
て、詳細に説明する。
まず、8102の原料としては、珪砂などの天然原料あ
るいは水ガラスから加水分解で製造したシリカなどが使
えるが、粒子の細かいものが溶解性の点で有効である。
るいは水ガラスから加水分解で製造したシリカなどが使
えるが、粒子の細かいものが溶解性の点で有効である。
P2O5の原料としては、パッチの反応速度が遅いため
、揮発が少ないリン酸アルミニウムなどが好適である。
、揮発が少ないリン酸アルミニウムなどが好適である。
At203の原料としては、At(OH)3が反応性と
いう点で好ましい。もちろん、本発明はこれらの原料を
限定するものではない。
いう点で好ましい。もちろん、本発明はこれらの原料を
限定するものではない。
選定した原料を所望の組成に相当する量だけ秤量したも
のを、十分に混合した後、アルミするつほに入れて、1
600℃で2時間溶融し、その後キャスト成形した。溶
融温度がきわめて低いにもかかわらず、膨張係数が29
xlO−7/℃という低膨張ガラスが得られた。
のを、十分に混合した後、アルミするつほに入れて、1
600℃で2時間溶融し、その後キャスト成形した。溶
融温度がきわめて低いにもかかわらず、膨張係数が29
xlO−7/℃という低膨張ガラスが得られた。
実施例5のガラスの場合、溶融温度を1650℃まで昇
温する必要があるが、従来量産が不可能であった20X
10−7/’Cというきわめて低い膨張係数を備えたガ
ラスが得られる。原料などの条件は、実施例1と同じで
よい。
温する必要があるが、従来量産が不可能であった20X
10−7/’Cというきわめて低い膨張係数を備えたガ
ラスが得られる。原料などの条件は、実施例1と同じで
よい。
他の実施例についても、原料などは上述した実施例1お
よび5と同様で、溶融温度は1600℃と1650℃の
間にあった。開成の組成様から明らかな通り、各実施例
はアルカリ成分を含まず、このようにアルカリ成分を導
入しなくても、従来よυも低い温度で溶解することがで
き、しかも安定な低膨張ガラスが得られた。
よび5と同様で、溶融温度は1600℃と1650℃の
間にあった。開成の組成様から明らかな通り、各実施例
はアルカリ成分を含まず、このようにアルカリ成分を導
入しなくても、従来よυも低い温度で溶解することがで
き、しかも安定な低膨張ガラスが得られた。
なお、このアルカリ成分は、ガラスの電気的絶縁性を高
める観点からは添加しないことが望ましいことは先に述
べた通シであるが、特に電気的絶縁性を問題にしない場
合には、3wrt%程度まであれば、添加することも可
能である。また、La2O3やT102% ZrO2あ
るいはTa205といった高原子価酸化物も、ガラスの
安定性は多少落ちるものの、5wt%未満であれば添加
可能である。
める観点からは添加しないことが望ましいことは先に述
べた通シであるが、特に電気的絶縁性を問題にしない場
合には、3wrt%程度まであれば、添加することも可
能である。また、La2O3やT102% ZrO2あ
るいはTa205といった高原子価酸化物も、ガラスの
安定性は多少落ちるものの、5wt%未満であれば添加
可能である。
以上説明したように1本発明によれば、wt%で5S(
h47〜6B、P、051〜10(ただし5i02+P
2O5の合計量50〜68)、B2O33〜23、Az
20310〜30(ただしB203 +Atz o3の
合計i25〜40)およびRO(RはMg、Ca、Sr
+Ba。
h47〜6B、P、051〜10(ただし5i02+P
2O5の合計量50〜68)、B2O33〜23、Az
20310〜30(ただしB203 +Atz o3の
合計i25〜40)およびRO(RはMg、Ca、Sr
+Ba。
Znの少なくとも1つ)0〜15を含み、かつその合計
量を95wt%以上としたことKよシ、従来量産が困離
とされてきた膨張係数が30X10−7/℃以下のガラ
スを無アルカリにもかかわらず、1600℃程度の比較
的低い温度で安価に量産できるようになシ、低膨張でか
つ電気的絶縁性の高いガラスが実現できる。したがって
本発明のガラスは、ディスプレイ用ガラスシート、各種
基板等のエレクトロニクス向は材料、さらに高温炉の窓
材など幅広い分野に利用してきわめて有用である。
量を95wt%以上としたことKよシ、従来量産が困離
とされてきた膨張係数が30X10−7/℃以下のガラ
スを無アルカリにもかかわらず、1600℃程度の比較
的低い温度で安価に量産できるようになシ、低膨張でか
つ電気的絶縁性の高いガラスが実現できる。したがって
本発明のガラスは、ディスプレイ用ガラスシート、各種
基板等のエレクトロニクス向は材料、さらに高温炉の窓
材など幅広い分野に利用してきわめて有用である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 重量%で SiO_2 47〜68 P_2O_5 1〜10 (ただしSiO_2+P_2O_5の合計量 48〜6
8) B_2O_3 5〜23 Al_2O_3 10〜30 (ただしB_2O_3+Al_2O_3の合計量 25
〜40) RO(RはMg、Ca、Sr、Ba、Zn 0〜15)
の少なくとも1つ) を含み、かつ上記成分の合計量が95重量%以上である
ことを特徴とする低膨張ガラス。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61153064A JPS6311543A (ja) | 1986-06-30 | 1986-06-30 | 低膨張ガラス |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61153064A JPS6311543A (ja) | 1986-06-30 | 1986-06-30 | 低膨張ガラス |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6311543A true JPS6311543A (ja) | 1988-01-19 |
JPH0461821B2 JPH0461821B2 (ja) | 1992-10-02 |
Family
ID=15554193
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61153064A Granted JPS6311543A (ja) | 1986-06-30 | 1986-06-30 | 低膨張ガラス |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6311543A (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0714862A1 (en) | 1994-11-30 | 1996-06-05 | Asahi Glass Company Ltd. | Alkali-free glass and flat panel display |
JP2003335548A (ja) * | 2002-05-16 | 2003-11-25 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 無アルカリガラス及びこれを用いたディスプレイ用ガラス基板 |
JP2009525943A (ja) * | 2006-02-10 | 2009-07-16 | コーニング インコーポレイテッド | ガラスを保護するためのガラス組成物およびその製造方法と使用方法 |
JP2010215463A (ja) * | 2009-03-18 | 2010-09-30 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 無アルカリガラス |
US20140335331A1 (en) * | 2013-05-09 | 2014-11-13 | Corning Incorporated | Alkali-free phosphoborosilicate glass |
WO2016088778A1 (ja) * | 2014-12-02 | 2016-06-09 | 旭硝子株式会社 | ガラス板およびそれを用いた加熱器 |
US11168018B2 (en) | 2013-08-15 | 2021-11-09 | Corning Incorporated | Aluminoborosilicate glass substantially free of alkali oxides |
USRE49307E1 (en) | 2013-08-15 | 2022-11-22 | Corning Incorporated | Alkali-doped and alkali-free boroaluminosilicate glass |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6572535B2 (ja) | 2014-12-10 | 2019-09-11 | 株式会社リコー | 画像認識システム、サーバ装置及び画像認識方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61261232A (ja) * | 1985-05-13 | 1986-11-19 | Ohara Inc | 耐火・耐熱性ガラス |
-
1986
- 1986-06-30 JP JP61153064A patent/JPS6311543A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS61261232A (ja) * | 1985-05-13 | 1986-11-19 | Ohara Inc | 耐火・耐熱性ガラス |
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